KR19990035445A - 마그넷을 포함하는 스퍼터링 장치 - Google Patents

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KR19990035445A
KR19990035445A KR1019970057247A KR19970057247A KR19990035445A KR 19990035445 A KR19990035445 A KR 19990035445A KR 1019970057247 A KR1019970057247 A KR 1019970057247A KR 19970057247 A KR19970057247 A KR 19970057247A KR 19990035445 A KR19990035445 A KR 19990035445A
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노현우
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윤종용
삼성전자 주식회사
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Abstract

위치 가변형 마그넷(magnet)을 포함하는 스퍼터링 장치에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 스퍼터링 장치는 RF 플라즈마의 방향성 및 집중성을 제어하는 마그넷을 구비하고, 상기 마그넷은 위치 가변적으로 설치된 복수의 자석을 구비하고, 상기 자석은 자석 본체와, 상기 자석 본체의 위치를 변동 시킬 수 있도록 상기 자석 본체의 상면에 부착된 손잡이를 구비한다.

Description

마그넷을 포함하는 스퍼터링 장치
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 특히 플라즈마를 이용한 스퍼터링 장치에 관한 것이다.
반도체 장치 제조를 위하여 사용되는 일반적인 스퍼터링 장치의 식각 챔버의 내부 구조가 도 1에 간략하게 도시되어 있다.
도 1을 참조하면, 플라즈마를 이용한 스퍼터링 장치의 식각 챔버(10)는 하부에 설치된 히터 테이블(15) 위에 웨이퍼(25)가 로딩되고, 클램프 어셈블리(30)의 상부에 설치된 탑 플레이트(40) 위에 RF 플라즈마의 방향성 및 집중성을 제어하는 마그넷(20)이 설치되어 있다.
도 2a 및 도 2b는 각각 상기 마그넷(20)의 구성을 개략적으로 도시한 평면도 및 단면도이다. 도 2a 및 도 2b에 도시한 바와 같이, 종래의 마그넷(20)에는 여러 개의 작은 자석(27)들이 일정한 배열로 고정적으로 부착되어 있다.
종래의 스퍼터링 장치의 식각 챔버에서는 마그넷에 설치된 자석이 상기한 바와 같이 위치가 고정되도록 부착되어 있으므로, RF 플라즈마의 방향성 및 집중성이 불량하게 되고, 그에 따라 식각 공정의 균일성이 불량하게 되어 차후 공정에 불안정한 요소로 작용하게 된다.
본 발명의 목적은 반도체 제조에 사용되는 장치로서, 식각 챔버에서 RF 플라즈마의 방향성 및 집중성 제어를 효율적으로 행할 수 있는 마그넷을 갖춘 스퍼터링 장치를 제공하는 것이다.
도 1은 일반적인 스퍼터링 장치의 식각 챔버의 내부 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 각각 종래의 마그넷의 구성을 개략적으로 도시한 평면도 및 단면도이다.
도 3a는 본 발명에 따른 스퍼터링 장치에 구비된 마그넷의 구성을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 3b는 본 발명에 따른 스퍼터링 장치에 구비된 자석을 확대하여 도시한 측면도이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 스퍼터링 장치는 RF 플라즈마의 방향성 및 집중성을 제어하는 마그넷을 구비하고, 상기 마그넷은 위치 가변적으로 설치된 복수의 자석을 구비하고, 상기 자석은 자석 본체와, 상기 자석 본체의 위치를 변동 시킬 수 있도록 상기 자석 본체의 상면에 부착된 손잡이를 구비한다.
본 발명에 의하면, 스퍼터링 장치를 사용한 식각 공정시에 RF 플라즈마의 방향성과 집중성을 효율적으로 제어할 수 있다.
다음에, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3a는 본 발명에 따른 스퍼터링 장치에 구비된 마그넷(120)의 구성을 개략적으로 도시한 평면도이다. 도 3a에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 스퍼터링 장치의 마그넷(120)에는 복수개의 작은 자석(127)들이 그 위치가 가변될 수 있도록 설치되어 있다.
도 3b는 상기 자석(127)을 확대하여 도시한 측면도이다. 도 3b에 도시한 바와 같이, 상기 자석(127)은 자석 본체(127a)와, 상기 자석 본체(127a)의 위치를 변동 시킬 수 있도록 상기 자석 본체(127a)의 상면에 부착된 손잡이(127b)를 구비한다.
본 발명에 따른 스퍼터링 장치는 마그넷에 구비된 자석들이 위치 가변적으로 고정되어 있으므로, 필요에 따라 RF 플라즈마의 방향성과 집중성을 효율적으로 제어할 수 있다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 따르면 스퍼터링 장치를 사용한 식각 공정시에 RF 플라즈마의 방향성과 집중성을 효율적으로 제어할 수 있다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형이 가능하다.

Claims (1)

  1. RF 플라즈마의 방향성 및 집중성을 제어하는 마그넷을 구비한 스퍼터링 장치에 있어서,
    상기 마그넷은 위치 가변적으로 설치된 복수의 자석을 구비하고,
    상기 자석은 자석 본체와, 상기 자석 본체의 위치를 변동 시킬 수 있도록 상기 자석 본체의 상면에 부착된 손잡이를 구비하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.
KR1019970057247A 1997-10-31 1997-10-31 마그넷을 포함하는 스퍼터링 장치 KR19990035445A (ko)

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