KR19990006342A - 방전가공장치 - Google Patents

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KR19990006342A
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기타오카 다카시
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Abstract

가공중의 전극의 축 진동에 기인하는 불필요한 단락회피 동작을 억제하고, 가공의 안정화를 기도하는 동시에 가공속도, 가공 정밀도를 현저하게 개선할 수 있도록 하는 것을 과제로 한다.
가공때에 단락 판별 기준 시간 변경수단(11)에 의해 회전하는 전극(1)의 회전수 또는 회전속도에 따라서 변수 메모리(10)에 저장된 단락 판별 기준 시간을 변경하고, 단락 지속시간 판별기(9)에 의해 극간에서 검출되는 단락의 단락 지속 시간을 계측해서 그 단락 지속시간이 단락 판별 기준 시간을 초과 하였을때에 단락 백 제어기(8)에 의해 단락 회피 동작을 한다.

Description

방전가공장치
가공중의 전극의 축 진동에 기인하는 불필요한 단락회피 동작을 억제해서 가공의 안정화를 도모할 수가 있고, 나아가서는 가공속도, 가공 정밀도를 현저하게 개선하는 것이 가능한 방전 가공장치를 얻는 것을 목적으로 한다
본 발명은 방전 가공장치에 관해 상세하게는 단순형상의 전극을 이용해서 공작물의 방전가공을 하는 방전 가공장치에 관한 것이다.
도 8은 종래예에 의한 방전 가공장치의 원리를 표시하는 구성도 이다. 도 8에서 21은 파이프상으로 형성된 전극, 22는 방전가공에 의한 공작 대상이 되는 공작물, 23은 전원을 공급하는 가공전원, 24는 전극(21)을 회전 시키는 회전장치, 27은 극간에서의 단락의 발생을 검출하는 단락 검출회로, 28은 단락 검출회로(27)에 의해 전극(21)의 단락 회피동작을 하는 단락 백 제어회로이다.또는 H는 전극(21)의 X Y방향의 가공이송,V는 전극(21)의 소모를 보정하는 Z방향의 이송이다.
다음의 동작에 대하여 설명한다. 도 8에 표시한 방전 가공장치에서는 서로 대향하는 전극(21)과 공작물(22) 사이에 전압을 인가하는 동시에 전극의 길이 방향 소모량을 보정하는 Z축 방향성분의 이송 V와 X Y 방향성분의 이송 H를 합성하면서 윤곽형상의 가공을 함으로써 전극형상이 정상상태로 정착된 상태로 가공이 된다. 이결과 측면 소모를 보상하는 일 없이 일정한 윤곽형상을 얻을 수 있다.
상술한 방전 가공장치에서는 가공의 개시와 함께 회전장치(24)에 의해 전극(21)을 회전 시켜서 가공을 하나, 특히 소경의 전극(21)을 콜렛척 등으로 유지해서 사용하는 경우에는 도 9(a),(b)에 표시한 바와 같이 수평 방향으로 전극(21)의 축 진동이 발생하기 쉽게 된다.
즉, 축 진동이 없는 상태에서 회전하는 전극(21)의 외주를 W1이라고 하였을 때 축 진동이 e로 표시된 부분만 바깥쪽으로 어긋나 있어 외주는 W2까지 넓혀진다. 실제로는 도 10에 표시한바와 같이 예를들면 A점,B점,C점,D점의 방향으로 축의 어긋남이 발생한다. 이축 진동에 의해 전극(21)과 공작물(22)의 사이에는 단락이 발생된다.
도 11에는 축 진동에 의한 단락의 발생이 시간축에 표시되어 있다. 각 단락의 발생은 단락 검출회로(27)에 의해 검출된다, 도 10의 B점과 같이 단락이 발생한 상태에서의 Ts(t)가 소정치 이상의 시간이 되면 단락백 제어회로(28)은 단락 회피를 위해 단락백 동작을 실행한다.
일반적으로 회전 전극에 의한 가공에서는 축 진동을 0으로 하는 것은 곤란 하므로 1 회전하는 동안에 단락이 계속하는 구간 Ts가 생긴다. 전극 회전의 속도가 충분히 높은 경우에는(수천 ~ 수만회전/min이상), 단락 발생시간 Ts는 단락판별 기준 시간보다 짧아지고 단락회피 동작은 되지 않는다.
즉, 전극(21)의 이송 V,H는 통상의 극간 전압 서보에 의해 제어된다. 한편, 회전속도가 늦을때(수십 ~ 수백 회전/min), 단락 발생시간 Ts는 단락 판별 기준 시간보다 길어지므로 1 회전마다에 단락회피 동작 즉, 단락 백 동작을 일으키게 된다. 이런 상태에서는 가공은 극히 불안정한 헌팅 상태가 되고 가공속도는 현저히 저하된다.
종래의 방전 가공장치는 상기와 같이 구성되어 있으므로 회전속도가 늦을때는 1 회전마다 단락회피 동작 즉, 단락백 동작을 일으켜 버려 가공이 헌팅 상태가 되는 것에서 가공 속도가 현저히 저하해 버린다는 문제가 있었다. 이 때문에 회전속도를 높일 필요가 있으나 이 경우에는 회전장치(4)의 고가에 연결되는 동시에 고속 회전시의 발열등에 의해 기계가 변형해서 가공 정밀도가 현저히 저하해 버린다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 종래예에 의한 과제를 해소하기 위해 단순형상의 전극을 회전 시키면서 윤곽가공을 하는 방전가공에서 가공중의 전극의 축 진동에 기인하는 불 필요한 단락회피 동작을 억제해서 가공의 안정화를 도모할 수 있고 나아가서는 가공속도, 가공 정밀도를 현저히 개선할 수 있는 방전 가공장치를 얻는 것을 목적으로 한다.
상술한 과제를 해결하고, 목적을 달성하기 위해 이 발명에 관한 방전 가공장치는 대향하는 원주 또는 파이프상의 전극을 회전시켜 전극과 공작물 사이에 전압을 인가 함으로써 방전가공을 하는 방전 가공장치에서 단락을 판별하기 위한 단락판별 기준시간을 기억하는 기억수단과 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 기억수단에 기억된 단락판별 시간을 변경하는 변경수단과, 극간에서의 단락을 검출하는 단락 검출수단과 단락 검출수단에 의해 검출되는 단락 지속시간을 계측해서 그 단락 지속시간과 기억수단에 기억된 단락판별 기준 시간을 비교하고, 단락 지속시간이 단락판별 기준 시간을 초과 하였는지의 여부를 판별하는 판별수단과 판별수단에 의해 단락 지속시간이 단락판별 기준 시간을 초과 하였다는 판별 결과가 얻어진 경우에 단락회피 동작을 하는 단락백 제어수단을 구비한 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면 가공때 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 단락판별 기준 시간을 변경하고,극간에서 검출되는 단락의 단락 지속시간을 계측해서 그 단락 지속시간이 단락판별 기준 시간을 초과한 경우에 단락회피 동작을 하도록 하였으므로 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 단락판별 기준시간을 변경 하면서 방전가공이 되고 이에의해 가공중의 전극의 축 진동에 기인하는 불필요한 단락 회피 동작을 억제하고, 가공의 안정화를 도모할 수가 있고 나아가서는 가공속도, 가공 정밀도를 현저히 개선할 수 가 있다.
다음의 발명에 관한 방전 가공장치는 변경수단은 회전수 또는 회전속도의 저하에 따라 기억수단에 기억된 단락판별 기준 시간을 더욱 길게되도록 변경하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면 회전수 또는 회전속도의 저하에 따라 단락판별 기준 시간을 더욱 길게 되도록 변경 하도록 하였으므로 축 진동에 의해 1회전마다 발생하는 단락은 무시되고, 헌팅이 없는 안정된 가공을 할 수가 있고 이와같이 1 회전 마다의 미소한 단락을 무시해도 전극이송 제어는 극간의 평균 전압을 기초로 적정하게 할 수가 있다.
다음의 발명에 관한 방전 가공장치는 대향하는 원주 또는 파이프상의 전극을 회전시켜 전극과 공작물 사이에 전압을 인가 함으로써 방전가공을 하는 방전 가공장치에서 단락을 판별하기 위한 단락판별 기준 시간을 기억하는 제 1 기억 수단과 전극의 단락 회피 동작속도 또는 단락백 게인을 기억하는 제 2 기억수단과 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 제 2 기억수단에 기억된 단락회피 동작속도 또는 단락백 게인을 변경하는 변경 수단과 극간에서의 단락을 검출하는 단락 검출수단과 단락 검출수단에 의해 검출되는 단락 지속시간을 계측해서 그 단락 지속시간과 제 1 기억 수단에 기억된 단락판별 기준 시간을 비교해 단락 지속시간이 단락판별 기준 시간을 초과 하였는지의 여부를 판별하는 판별수단과 판별수단에 의해 단락지속 시간이 단락판별 기준 시간을 초과 하였다고 판별결과가 나오면 제 2 기억 수단에 기억된 단락 회피 동작속도 또는 단락백 게인에 따라 단락회피 동작을 하는 단락백 제어수단을 구비한 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면 가공때 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 단락회피 동작속도 또는 단락백 게인을 변경하고, 극간에서 검출된 단락의 단락 지속시간을 계측해서 그 단락 지속시간이 단락판별 기준을 초과 했을 때 단락회피 동작속도 또는 단락백 게인에 따라 단락회피 동작을 하도록하였으므로 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 단락백 게인을 변경 하면서 가공이 되고 이로 인해 가공중의 전극의 축 진동에 기인하는 불 필요한 단락회피 동작을 억제하고, 가공의 안정화를 도모할 수 가 있고 나아가서는 가공속도, 가공 정밀도를 현저하게 개선하는 것이 가능하다.
도 1 은 본 발명의 실시의 형태 1에 의한 방전 가공장치를 표시하는구성도,
도 2 는 본 발명의 실시의 형태 1에 의한 가공속도와 회전속도와의 관계를 그래프화 해서 표시하는 도면,
도 3 은 본 발명의 실시의 형태 1에 의한 동작을 설명하는 플로차트,
도 4 는 본 발명의 실시의 형태 2에 의한 방전 가공장치를 표시하는구성도 ,
도 5 는 본 발명의 실시의 형태 2에 의한 가공속도와 회전속도의 관계를 표시하는 도면,
도 6 은 본 발명의 실시의 형태 2에 의한 동작을 설명하는 플로차트,
도 7 은 본 발명의 실시의 형태 3에 의한 방전 가공장치를 표시하는 구성도,
도 8 은 종래에서의 방전 가공장치를 표시하는 구성도,
도 9 는 종래에서의 방전 가공장치 축 진동을 설명하는 도면,
도 10 은 종래에서의 방전 가공장치 축 진동을 설명하는 도면,,
도 11 은 종래에서의 방전 가공장치의 축 진동에 의한 단락발생을 설명하는 도면,
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 전극
2 : 공작물
3 : 가공전원
4 : 회전장치
7 : 단락 검출회로
8 : 단락백 제어기
9 : 단락지속시간 판별기
10 : 단락판별 기준 시간용 변수 메모리
11 : 단락판별 기준치 변경수단
12 : 단락백 게인용 변수 메모리
13 : 단락백 게인 변경수단
14 : 단락동작 감도 자동 조정수단
아래에 첨부 도면을 참조해서 본 발명에 관한 방전 가공장치의 호적한 실시의 형태에 대해 설명한다.
실시의 형태 1
우선, 구성에 대하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에 의한 방전 가공장치를 표시하는 구성도이고, 동 도면에서 1은 파이프상의 전극, 2는 공작대상이 되는 공작물, 3은 전원을 공급하는 가공전원, 4는 전극(1)을 회전 시키는 회전장치, 7은 극간에서의 가공중의 단락을 검출하는 단락 검출회로, 9는 단락 검출회로(7)의 출력이 소정시간 계속 하였는가를 판별하는 단락 지속시간 판별기, 8은 단락 지속시간이 소정의 시간을 초과 하였을때에 전극(1)의 단락회피 동작을 하는 단락백 제어기, 10은 즉 단락 판별 기준시간(단락 지속시간을 판별하기 위한 소정치)을 설정하는 변수 메모리, 11은 전극(1)의 회전수(또는 회전속도 도가함)에 따라 단락 판별 기준시간을 변경하는 단락 판별기준치 변경 수단이다.
다음 동작에 대하여 설명한다. 도 2는 실시의 형태 1에 의한 가공속도와 회전속도의 관계를 표시하는 도면이고, 도 3은 실시의 형태 1에 의한 동작을 설명하는 플로차트이다. 종래와 같이 가공의 개시와 함께 회전장치 4에 의해 전극(1)이 회전제어 되고, 가공이 된다.
이때, 이 실시의 형태 1에서는 단락 판별 기준치 변경수단(11)은 전극의 회전수에 따라 적정한 단락판별 기준시간을 설정한다.
도 2에는 단락판별 기준 시간을 변화 시킨 경우에서의 회전속도에 대한 가공속도의 변화가 표시되어 있다. 도 2에서 회전수가 1000rpm인 경우에는 1회전중에 단락 계속시간 Ts가 작기 때문에 단락판별 기준 시간을 20ms 로 짧게하는 쪽이 가공속도가 빨라진다.
한편, 회전수가 300rpm 정도로 낮은 경우에는 1 회전중에 단락 계속시간 Ts가 커지므로 단락판별 기준 시간이 짧으면 1 회전마다 단락회피 동작을 하게 되어 가공이 헌팅 상태가 되고, 가공속도 현저히 저하된다.
이 때문에 우선 단락 판별 기준시간 변경수단(11)에 의해 전극(1)의 회전수를 검출해서(스텝S31), 이 검출된 회전수가 전번보다 저하된 경우에(스텝S32), 변수 메모리(10)에 저장되어 있는 단락판별 기준 시간을 더욱 긴 기준 시간이 되도록 변경되는 처리가 실행된다(스텝S33), 그후 처리는 스텝 S34로 이행한다.
또, 회전수의 저하가 없는 경우에는 (스텝S32), 처리는 스텝S34로 이행한다.
스텝S34에서 단락검출회로(7)에 의해 단락발생이 검출되면 단락 지속시간 판별기(9)에 의해 그 단락의 지속시간 즉, 단락지속 시간이 측정되고, 또 그 단락지속 시간과 변수 메모리(10)에 저장된 단락판별 기준시간이 비교 된다. 이 비교에 의해 단락 지속시간이 단락판별 시간을 초과한 경우에는 (스텝S35), 그 요지가 단락 지속시간 판별기(9)로부터 단락백 제어기(8)에 전달되고, 단락백 제어기(8)에 의해 회전방치(4)의 단락 회피동작이 제어 된다(스텝S36).
그 후 처리는 스텝S31로 되돌아 간다. 또 단락 지속시간 판별기(9)의 판별중, 단락 지속시간이 단락판별 기준 시간을 초과 하기전에 단락이 종료된 경우에는(스텝S37), 단락 회피가 필요치 않으므로 처리는 스텝 S31로 되돌아가고, 상술한 처리를 반복 실행한다.
또는 스텝 S34에서 단락 발생이 검출되지 않았을 때는 방전가공 처리 아니면(스텝S38), 다시 스텝 S31로 부터의 동작이 반복 실행된다.
이와같이 단락판별 기준치 변경수단 11은 전극(1)의 회전수에 따라 변수 메모리(10)에 저장되어 있는 단락판별 기준 시간을 변경 하므로 단락 지속시간 판별기(9)는 그 변경된 단락판별 기준시간을 단락 지속시간이 초과 되었을 때 단락백 제어기(8)를 동작시켜 전극(1)의 단락회피 동작을 하게 된다.
이상 설명한 바와 같이 실시의 형태 1에 의하면 회전수(또는 회전속도라도 무방)의 저하에 따라 단락판별 기준 시간을 더욱 긴 시간으로 변경 함으로써 축 진동에 의해 1 회전 마다 발생하는 단락은 무시되고, 헌팅이 없는 안정된 가공을 할 수 가 있다. 또 이와같이 1 회전 마다의 미소한 단락을 무시해도 전극 이송제어는 극간의 평균 전압을 기초로 적정되게 할 수가 있다.
통상, 단락 판별 기준 시간의 변경은 회전수의 변화에 연동해서 자동적으로 행 하여지나 최초로부터 회전수가 알고 있을때는 미리 수동 또는 프로그램으로 변수 메모리(10)의 내용을 변경해서 전환해도 된다.
실시의 형태 2.
여기서 전술한 실시의 형태 1에서는 단락판별 기준 시간을 변경 함으로써 단락 회피 동작을 제어 하도록 하였으나 아래에 설명하는 실시의 형태 2와 같이 단락백 게인을 변경함으로써 단락회피 동작을 제어 하도록 해도 된다.
우선, 구성에 대하여 설명한다. 이 실시의 형태 2에서는 전술한 실시의 형태 1과 같은 구성에 대해서는 도 1과 같은 번호를 붙여서 그 설명을 생략한다. 도 4는 이 발명의 실시의 형태 2에 의한 방전 가공장치를 표시하는 구성도이다. 도 4에 표시한 방전 가공장치에서는 실시의 형태 1에 의한 단락판별 기준시간 변경수단(11)은 없고, 변수 메모리(10)에 셋되는 단락판별 기준 시간은 회전수에 관계없이 일정하게 된다. 회전수에 따라 가변하는 구성은 단락백 제어기(8)에 접속되는 단락백 게인용 변수 메모리(12) 및 단락백 게인 변경수단(13)이 된다.
단락백 게인용 변수 메모리(12)는 단락백 게인의 값(단락회피 동작의 속도 정보)를 설정하는 메모리이고, 단락백 게인 변경수단(13)은 전극(1)의 회전수에 따라 단락백 게인용 변수 메모리(12)의 단락백 게인의 값을 변경한다.
다음의 동작에 대하여 설명한다. 도 5는 실시의 형태 2에 의한 가공속도와 회전속도의 관계를 표시하는 도면이고, 도 6은 실시의 형태 2에 의한 동작을 설명하는 플로차트이다. 전술한 실시의 형태 1과 같이 가공의 개시와 함께 회전장치(4)에 의해 전극(1)에 회전제어되고, 방전가공이 된다.
이 실시의 형태 2에서 그때 단락백 게인 변경수단(13)은 전극(1)의 회전수(또는 회전속도라도 무방)에 따라 적정한 단락백 속도를 설정하게 된다.
도 5에서는 단락백 게인을 변화 시킨경우의 회전속도에 대한 가공속도의 변화가 표시되어 있다. 도 5에서 회전수가 1000rpm의 경우에는 1 회전중의 단락계속 시간 Ts가 작아 지므로 단락백의 빈도는 적고, 단락백 속도가 200mm/min와 같이 빨라도 가공은 안정되고 높은 가공속도가 얻어진다.
한편, 회전수가 300rpm 정도로 낮은 경우에는 1 회전중에서의 단락계속시간 Ts가 크고, 단락백의 빈도도 커지므로 단락백 속도가 200mm/min과 같이 1 회전 마다의 단락백량이 많아진다. 이 결과 가공이 헌팅상태가 되어 가공 속도는 현저히 저하된다.
이 실시의 형태 2의 동작은 기본적인 흐름을 전술한 실시의 형태 1 과 같게 하고 있으므로 차이가 나는 동작에 대해서만 설명한다.
이 실시의 형태 2에서는 우선, 단락백 게인 변경수단(13)에 의해 전극(1)의 회전수를 검출해서(스텝S61), 이 검출된 회전수가 전번보다 저하한 경우에(스텝S62), 단락백 게인용 변수 메모리(12)에 저장되어 있는 단락백 게인을 더욱 작은 값이 되도록 변경하는 처리가 실행된다(스텝S63),
그 후 처리는 스텝S34로 이행한다. 또 회전수의 저하가 없는 경우에는 (스텝S62), 처리는 스텝S34으로 이행한다.
이후 전술한 실시의 형태 1과 같은 처리가 실행된다.
이와같이 단락백 게인 변경수단(13)은 전극(1)의 회전수에 따라 단락백 게인용 변수 메모리(12)에 저장되어 있는 단락백 게인을 변경 하므로 단락백 제어기(8)는 그 변경된 단락백 게인에 따라 단락회피 동작을 억제하게 된다.(실시의 형태 1의 스텝 S36에 상당한다).
이상 설명한 바와 같이 실시의 형태 2에 의하면 회전수(또는 회전속도 라도 가함)의 저하에 따라 단락백 게인을 작은 값으로 변경함으로써 축 진동에 의해 1 회전마다 발생하는 단락에 의한 단락회피를 위한 동작량이 억제되고,헌팅이 없는 안정한 가공을 할 수가 있다. 또 이와같이 1회전마다의 미소한 단락을 무시해도 전극 이송제어는 극간의 평균 전압을 기초로 적정하게 시행할 수가 있다.
통상, 단락판별 기준의 변경은 회전수의 변화에 연동해서 자동적으로 시행되나 처음부터 회전수를 알고 있을때는 미리 수동 또는 프로그램으로 단락백 게인용 변수 메모리(12)의 내용을 변경해서 전환해도 된다.
실시의 형태 3
전술한 실시의 형태 1 및 실시의 형태 2를 응용해서 아래 설명하는 실시의 형태 3과 같이 가공중의 전극 이송속도 정보, 방전 주파수 또는 평균 전류가 최대가 되도록 단락판별 기준 시간 또는 단락백 게인을 자동 조정 하면서 가공을 해도 된다.이 경우에는 회전수(또는 회전속도 라도 무방)나 축 진동량의 변화에 대해 항상 최적한 상태로 자동조정 하면서 가공을 하는 것이 가능하다.
다음은 구성에 대하여 설명한다. 이 실시의 형태 3에서는 전술한 실시의 형태 1 및 2와 같은 구성에 대해서는 도 1 및 도 4와 같은 번호를 붙여서 그 설명을 생략한다. 도 7은 본 발명의 실시의 형태 3에 의한 방전가공장치를 표시하는 구성도이다. 도 7에 표시한 방전 가공장치는 실시의 형태 1의 요부와 실시의 형태 2의 요부를 혼재 시킨 구성이다.
즉, 이 방전 가공장치는 회전수에 따라 단락백 게인을 변경하는 처리계(단락백 게인 변경수단13,단락백 게인용 변수 메모리12, 단락백 제어수단8)과 회전수에 따라 단락판별 기준 시간을 변경하는 처리계(단락판별 기준시간 변경수단11, 변수 메모리10, 단락 지속시간 판별기9)와의 2 계통을 갖고 있다.
이 방전 가공장치에서는 새로히 단락 동작감도 자동 조정수단(14)이 부가되어 단락백 게인 변경수단(13) 및 단락판별 기준시간 변경수단(11)에 접속된다. 이 단락 동작감도 자동 조정수단(14)은 가공전원(3) 또는 도시되지 않은 제어장치에서 얻어지는 가공중의 이송 속도정보, 방전 주파수, 평균전류등 가공속도, 가공효율에 상당하는 정보를 기초로 가공효율이 최대가 되도록 단락판별 기준 시간 변경수단(11) 및 단락백 게인 변경수단(13)의 자동조정을 하는 것이다.
다음의 동작에 대하여 설명한다. 도 7에 표시한 방전 가공장치는 단락동작 감도 자동 조정수단(14)에 의해 전극(1)의 회전수 (또는 회전속도라도 가함)의 변화를 검출하고, 그 회전수가 저하한 경우에는 실시의 형태 1과 같이 단락판별 기준 시간을 더욱 길게 되도록 변경하고, 또는 단락백 게인의 값을 더욱 작게 되도록 변경한다. 이 변경 대상은 단락동작 감도 자동 조정수단(14)이 자동적으로 조정하는 것이고, 단락판별 기준 시간과 단락백 게인의 어느 것이던 한쪽 또는 그 양측 이라도 무방하다.
이상 설명한 바와 같이 실시의 형태 3에 의하면 전극(1)의 회전수 또는 회전속도의 변화에 따라 가공효율이 최대가 되도록 단락판별 기준 시간이나 단락백 게인을 자동 조정 하면서 방전 가공을 하도록 하였으므로 축 진동량이나 가공조건이 변화된 경우에도 가공중의 전극의 축 진동에 기인하는 불 필요한 단락회피 동작을 억제하고 가공의 안정화를 도모할 수가 있고, 나아가서는 가공속도 가공정밀도를 현저하게 개선 할 수가 있다.
이상 설명한바와 같이 이 발명에 의하면 가공때에 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 단락 판별기준 시간을 변경하고, 극간에서 검출되는 단락의 단락 지속시간을 계측해서 그 단락 지속시간이 단락판별 기준 시간을 초과한 경우에 단락회피 동작을 하도록 하였으므로 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 단락판별 기준 시간을 변경 하면서 방전가공이 되고 이로 인해 가공중의 전극의 축 진동에 기인하는 불 필요한 단락회피 동작을 억제하고, 가공의 안정화를 도모할 수가 있고 나아가서는 가공속도, 가공 정밀도를 현저하게 개선하는 것이 가능한 방전 가공장치가 얻어진다는 효과를 나타낸다.
다음의 발명에 의하면 회전수 또는 회전속도의 저하에 따라 단락 판별 기준 시간을 더욱 길어 지도록 변경 하도록 하였으므로 축 진동에 위해 1 회전 마다에 발생하는 단락은 무시되고, 헌팅이 없는 안정된 가공을 할 수가 있고, 이와같이 1 회전마다의 미소한 단락을 무시해도 전극 이송제어는 국간의 평균 전압을 기초로 적정하게 할 수 있는 방전 가공장치가 얻어 진다는 효과를 나타낸다.
다음의 발명에 의하면 가공때 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 단락회피 동작속도 또는 단락백 게인을 변경하고, 극간에서 검출된 단락의 단락 지속 시간을 계측해서 그 단락 지속시간이 단락판별 기준 시간을 초과 하였을 때 단락회피 동작속도 또는 단락백 게인에 따라 단락회피 동작을 하도록 하였으므로 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 단락백 게인을 변경 하면서 가공이 행하여지고 이로 인해 가공중의 전극의 축 진동에 기인하는 불 필요한 단락회피 동작을 억제하고 가공의 안정화를 도모할 수가 있고, 나아가서는 가공속도, 가공 정밀도를 현저하게 개선 할 수 있는 방전 가공장치가 얻어 진다는 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 대향하는 원주 또는 파이프상의 전극을 회전시켜 상기 전극과 공작물 사이에 전압을 인가 함으로써 방전가공을 하는 방전 가공장치에서 단락을 판별하기 위한 단락판별 기준 시간을 기억하는 기억수단과, 상기 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 상기 기억수단에 기억된 단락판별 기준 시간을 변경하는 변경수단과, 극간에서의 단락을 검출하는 단락 검출수단과, 상기 단락 검출수단에 의해 검출되는 단락 지속시간을 계측해서 그 단락 지속시간과 상기 기억수단에 기억된 단락판별 기준 시간을 비교해서 상기 단락지속 시간이 상기 단락판별 기준시간을 초월 하였는지를 판별하는 수단과,상기 판별수단에 의해 상기 단락지속 시간이 상기 단락판별 기준 시간을 초과 하였다는 판별결과가 얻어졌을때에 단락회피 동작을 하는 단락백 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 방전 가공장치.
  2. 제 1 항에 있어서.
    변경수단은 회전수 또는 회전속도의 저하에 따라 기억수단에 기억된 단락판별 기준 시간을 다시금 길게 되도록 변경하는 것을 특징으로 하는 방전 가공장치.
  3. 대향하는 원주 또는 파이프상 전극을 회전시켜 상기 전극과 공작물 사이에 전압을 인가 함으로써 방전가공을 하는 방전 가공장치에서 단락을 판별하기 위한 단락판별 기준 시간을 기억하는 제 1 기억 수단과, 상기 전극의 단락회피 동작속도 또는 단락백 게인을 기억하는 제 2 기억수단과, 상기 회전하는 전극의 회전수 또는 회전속도에 따라 상기 제 2 기억수단에 기억된 단락회피 동작속도 또는 단락백 게인을 변경하는 변경수단과, 근간에서의 단락을 검출하는 단락검출수단과 상기 단락 검출 수단에 의해 검출되는 단락 지속시간을 계측해서 그 단락 지속시간과 상기 제 1 기억수단에 기억된 단락판별 기준 시간을 비교해서 상기 단락 지속시간이 상기 단락판별 기준 시간을 초월 하였는지의 여부를 판별하는 판별수단과, 상기 판별 수단에 의해 상기 단락 지속시간이 상기 단락 판별 기준 시간을 초과 하였다는 판별 결과가 얻어졌을때에 상기 제 2 기억 수단에 기억된 단락회피 동작속도 또는 단락백 게인에 따라 단락회피 동작을 하는 단락백 제어 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 방전 가공장치.
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