KR19990002584U - Semiconductor package - Google Patents

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semiconductor chip
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semiconductor
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박상욱
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김영환
현대전자산업 주식회사
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Abstract

본 고안은 반도체 패키지를 개시한다. 개시된 본 고안에 따른 반도체 패키지는 전극들이 구비된 반도체 칩; 상기 반도체 칩이 부착되는 다이 패드와, 상기 반도체 칩의 전극들과 연결되어 상기 반도체 칩과 외부와의 전기적 신호 전달 경로를 이루는 인너리드 및 아웃리드로 이루어진 리드 프레임; 및 상기 반도체 칩 및 이에 전기적으로 연결된 인너리드를 포함한 공간적 영역을 봉지하는 에폭시 수지로 이루어진 패키지 몸체를 포함하는 반도체 패키지에 있어서, 상기 리드 프레임의 다이 패드는 그의 하부면에 에폭시 수지와 결합력을 향상시키기 위한 버퍼층이 구비된 것을 특징으로 한다.The present invention discloses a semiconductor package. A semiconductor package according to the disclosed subject matter includes a semiconductor chip having electrodes; A lead frame including an die pad to which the semiconductor chip is attached, and an inner lead and an out lead connected to electrodes of the semiconductor chip to form an electrical signal transmission path between the semiconductor chip and the outside; And a package body made of an epoxy resin for encapsulating a spatial region including the semiconductor chip and an inner lead electrically connected thereto, wherein the die pad of the lead frame is adapted to improve bonding strength with an epoxy resin on a lower surface thereof. Characterized in that the buffer layer is provided for.

Description

반도체 패키지Semiconductor package

본 고안은 반도체 패키지에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 리드 프레임의 다이 패드 하부에 Si 또는 Si 화합물을 코팅시킨 반도체 패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor package, and more particularly, to a semiconductor package coated with a Si or Si compound on the lower die pad of the lead frame.

일반적으로, 집적회로가 형성된 각각의 반도체 칩들은 조립공정으로 보내져 칩절단, 칩부착, 와이어 본딩, 몰딩 및 트림/포밍 등의 공정을 거쳐 패키지화되며, 이러한, 반도체 패키지는 반도체 칩의 외부로의 신호 전달 경로인 리드 프레임의 아웃리드가 패키지 몸체의 외측으로 돌출된 형상을 하고 있다.In general, each semiconductor chip in which an integrated circuit is formed is packaged through an assembly process such as chip cutting, chip attaching, wire bonding, molding, and trimming / forming, and the semiconductor package is signaled to the outside of the semiconductor chip. The outlead of the lead frame which is a transmission path has the shape which protruded out of the package body.

상기에서, 리드 프레임은 반도체 칩이 부착되는 다이 패드와 반도체 칩의 전극들과 연결되어 전기적 신호 전달 경로를 이루는 인너리드 및 패키지 몸체의 외부로 노출되어 접속 리드의 역할을 하는 아웃리드로 이루어진다. 따라서, 리드 프레임은 패키지의 골격을 형성하고, 반도체 칩과 외부와의 전기적 신호 전달 경로를 이룸과 동시에 반도체 칩에서 발생되는 열을 외부로 발산시키는 경로를 제공한다.In the above description, the lead frame includes an die pad to which the semiconductor chip is attached, an inner lead connected to the electrodes of the semiconductor chip to form an electrical signal transmission path, and an out lead exposed to the outside of the package body to serve as a connection lead. Accordingly, the lead frame forms a skeleton of the package and provides a path for dissipating heat generated in the semiconductor chip to the outside while forming an electrical signal transmission path between the semiconductor chip and the outside.

도 1은 종래 기술에 따른 반도체 패키지를 도시한 도면으로서, 도시된 바와 같이, 다수개의 전극들(1a)이 구비된 반도체 칩(1)은 다운셋(down set)된 다이 패드(2a) 상에 부착되며, 반도체 칩(1)의 전극들(1a)은 인너리드(2b)와 금속 와이어(3)를 통해 연결된다. 또한, 반도체 칩(1) 및 이에 와이어 본딩된 인너리드를 포함한 공간적 영역이 에폭시 수지에 의해 봉지되어 패키지 몸체(4)가 형성되고, 패키지 몸체(4)의 외측으로는 리드 프레임의 아웃리드(2c)가 노출된다.1 illustrates a semiconductor package according to the prior art, and as shown, a semiconductor chip 1 having a plurality of electrodes 1a is disposed on a down-set die pad 2a. The electrodes 1a of the semiconductor chip 1 are attached to each other via the inner lead 2b and the metal wire 3. In addition, the spatial region including the semiconductor chip 1 and the inner lead wire-bonded thereto is sealed by an epoxy resin to form the package body 4, and the outer lead 2c of the lead frame is formed outside the package body 4. ) Is exposed.

그러나, 상기와 같은 반도체 패키지는 다이 패드와 에폭시 수지간의 낮은 접착력으로 인하여, 그들의 접착 부위에서 디라미네이션(Delamination) 현상이 발생하게 되며, 패키지 몸체의 내부로 흡습이 일어날 경우에는 디라미네이션된 부분에 습기가 집중됨으로써 크랙이 발생되어 결국 패키지가 파괴되는 문제점이 있었다.However, due to the low adhesion between the die pad and the epoxy resin, such a semiconductor package may cause delamination at their bonding sites, and when moisture is absorbed into the inside of the package body, moisture may be accumulated in the delaminated portion. There was a problem that the crack is generated by the concentration of the package is eventually destroyed.

따라서, 본 고안은 다이 패드의 하부에 에폭시 수지와의 결합력이 우수한 Si 또는 Si 화합물을 코팅하여 다이 패드와 에폭시 수지간의 낮은 접착력으로 인한 디라미네이션 현상을 방지하며, 또한, 디라미네이션 현상에 기인된 패키지 몸체 내부의 균열 방생을 방지할 수 있는 반도체 패키지를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, the present invention coats the lower surface of the die pad with Si or Si compound having excellent bonding force to the epoxy resin to prevent the delamination caused by the low adhesion between the die pad and the epoxy resin, and also the package due to the delamination phenomenon. An object of the present invention is to provide a semiconductor package capable of preventing crack generation inside the body.

도 1은 종래 기술에 따른 반도체 패키지를 설명하기 위한 단면도.1 is a cross-sectional view for explaining a semiconductor package according to the prior art.

도 2는 본 고안의 제 1 실시예에 다른 반도체 패키지를 설명하기 위한 개략도.2 is a schematic view for explaining a semiconductor package according to the first embodiment of the present invention;

도 3은 본 고안의 제 2 실시예에 따른 반도체 패키지를 설명하기 위한 개략도.3 is a schematic view illustrating a semiconductor package according to a second embodiment of the present invention.

도 4는 본 고안의 제 3 실시예에 따른 반도체 패키지를 설명하기 위한 개략도.4 is a schematic diagram illustrating a semiconductor package according to a third embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10, 20, 30 : 반도체 칩11, 21, 31 : 다이 패드10, 20, 30: semiconductor chip 11, 21, 31: die pad

12, 22, 33 : 코팅 물질층13, 23, 34 : 패키지 몸체12, 22, 33: coating material layer 13, 23, 34: the package body

32 : 접착 테이프32: adhesive tape

상기와 같은 목적은, 전극들이 구비된 반도체 칩; 상기 반도체 칩이 부착되는 다이 패드와, 상기 반도체 칩의 전극들과 연결되어 상기 반도체 칩과 외부와의 전기적 신호 전달 경로를 이루는 인너리드 및 아웃리드로 이루어진 리드 프레임; 및 상기 반도체 칩 및 이에 전기적으로 연결된 인너리드를 포함한 공간적 영역을 봉지하는 에폭시 수지로 이루어진 패키지 몸체를 포함하는 반도체 패키지에 있어서, 상기 리드 프레임의 다이 패드는 그의 하부면에 에폭시 수지와 결합력을 향상시키기 위한 버퍼층이 구비된 것을 특징으로 하는 본 고안에 따른 반도체 패키지에 의하여 달성된다.The above object is a semiconductor chip provided with electrodes; A lead frame including an die pad to which the semiconductor chip is attached, and an inner lead and an out lead connected to electrodes of the semiconductor chip to form an electrical signal transmission path between the semiconductor chip and the outside; And a package body made of an epoxy resin for encapsulating a spatial region including the semiconductor chip and an inner lead electrically connected thereto, wherein the die pad of the lead frame is adapted to improve bonding strength with an epoxy resin on a lower surface thereof. It is achieved by a semiconductor package according to the present invention characterized in that the buffer layer is provided for.

본 고안에 따르면, 다이 패드의 하부에 Si 또는 Si 화합물을 코팅함으로써, 몰딩 공정시에 다이 패드와 에폭시 수지간의 낮은 접착력으로 인하여 디라미네이션 현상이 발생되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, by coating a Si or Si compound on the lower portion of the die pad, it is possible to prevent the delamination due to the low adhesion between the die pad and the epoxy resin during the molding process.

[실시예]EXAMPLE

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 2는 본 고안의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지를 설명하기 위한 개략도로서, 전극들이 구비된 반도체 칩(10)은 리드 프레임의 다이 패드(11) 상에 부착되며, 반도체 칩(10) 및 그 하부의 다이 패드(11)는 에폭시 수지(13)에 의해 몰딩된다. 여기서, 다이 패드(11)의 하부면 및 측면 상에는 에폭시 수지와의 접착력을 향상시키기 위한 버퍼층으로서 CVD 또는 플라즈마 스프레이 등의 방법에 의해 Si 또는 Si 화합물, 예를 들어, SiC, SiN 또는 Si3N4중에서 선택되는 하나로 이루어진 코팅 물질층(12)이 형성되며, 이러한 코팅 물질층(12)에 의해 다이 패드(11)와 에폭시 수지(13)간의 낮은 접합력으로 인하여 발생되는 디라미네이션 현상을 방지할 수 있다.2 is a schematic diagram illustrating a semiconductor package according to a first embodiment of the present invention, in which a semiconductor chip 10 having electrodes is attached on a die pad 11 of a lead frame, and the semiconductor chip 10 and The lower die pad 11 is molded by the epoxy resin 13. Here, on the lower surface and the side surface of the die pad 11, as a buffer layer for improving the adhesion with the epoxy resin, a Si or Si compound, for example, SiC, SiN or Si 3 N 4 by a method such as CVD or plasma spraying. The coating material layer 12 is formed of one selected from among, and the coating material layer 12 can prevent the delamination caused by the low bonding force between the die pad 11 and the epoxy resin 13. .

자세하게, 일반적으로 리드 프레임은 Ni, Fe 또는 Cu 금속으로 이루어지게 되는데, 이러한 물질로 이루어진 리드 프레임은 에폭시 수지와의 접착력이 매우 낮기 때문에 반도체 칩이 부착되는 다이 패드와 에폭시 수지간의 접합면, 즉, 다이 패드의 하부면에서 디라미네이션 현상이 발생하게 된다. 또한, 다이 패드 하부면에 디라미네이션 현상이 발생된 상태에서 패키지 몸체 내부로의 흡습이 일어날 경우에는 디라미네이션된 부분에 흡습된 습기가 집중됨으로써 이 부분에서 흡습된 습기로 인한 균열이 발생하게 되며, 결국 패키지의 파괴가 일어나게 된다.In detail, the lead frame is generally made of Ni, Fe, or Cu metal. Since the lead frame made of such a material has a very low adhesive force with the epoxy resin, the bonding surface between the die pad to which the semiconductor chip is attached and the epoxy resin, that is, Delamination occurs on the bottom surface of the die pad. In addition, when moisture is absorbed into the package body in a state in which the delamination phenomenon occurs on the bottom surface of the die pad, moisture absorbed in the delaminated portion is concentrated and cracks due to moisture absorbed in this portion occur. Eventually package destruction occurs.

이에 반해, Si 및 Si계 화합물은 에폭시 수지와 화학 결합을 하기 때문에 결합력이 매우 우수하며, 이에 따라, 코팅 물질과 에폭시 수지간에는 디라미네이션 현상이 발생하지 않음으로써, 다이 패드와 에폭시간의 접합을 용이하게 할 수 있다. 또한, Si 또는 Si 화합물의 코팅을 다이 패드의 하부면 및 측면에만 실시함으로써, 리드 프레임의 전기적 특성에는 영향을 미치지 않게 된다.On the other hand, Si and Si-based compounds have a very good bonding strength because they chemically bond with the epoxy resin, so that the lamination between the coating material and the epoxy resin does not occur, thereby facilitating the bonding between the die pad and the epoxy. can do. In addition, the coating of Si or the Si compound is applied only to the lower surface and the side surface of the die pad, thereby not affecting the electrical characteristics of the lead frame.

도 3은 본 고안의 제 2 실시예에 따른 반도체 패키지를 설명하기 위한 개략도로서, 도시된 바와 같이, 반도체 칩이 부착되는 다이 패드(21)의 하부면에 이온 빔스퍼터링(Ion Beam Sputtering)방법을 이용하여 Si 또는 Si 화합물로 이루어진 코팅 물질(22)층 형성한다. 즉, CVD 방법을 이용할 경우에는 다이 패드의 하부면 및 측면상에 코팅 물질층이 형성되지만, 이 경우에는 다이 패드 하부면에 Si 이온이 박히게 되며, 전술된 바와 마찬가지로, 코팅 물질층(22)이 에폭시 수지(23)와의 결합력이 우수하기 때문에 다이 패드 하부면에서의 디라미네이션 현상이 발생되지 않는다.FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a semiconductor package according to a second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, an ion beam sputtering method is applied to a lower surface of a die pad 21 to which a semiconductor chip is attached. By using a layer of coating material 22 made of Si or a Si compound. That is, when the CVD method is used, a coating material layer is formed on the bottom and side surfaces of the die pad, but in this case, Si ions are deposited on the bottom surface of the die pad, and as described above, the coating material layer 22 Since the bonding force with the epoxy resin 23 is excellent, the delamination phenomenon in the die pad lower surface does not occur.

도 4는 본 고안의 제 3 실시예에 따른 반도체 패키지를 설명하기 위한 개략도로서, 본 고안의 제 1 및 제 2 실시예에서와 같이 PVD 또는 CVD 방법을 이용하여 다이 패드(31)의 하부면에 코팅 물질층을 형성하는 대신에 Si 또는 Si 화합물이 코팅되거나 전체적으로 같이 포함되어 있는 접착 테이프(32) 또는 커플링(Coupling)물질을 상기 다이 패드의 하부면에 부착시켜 코팅 물질층(33)을 형성한다. 이 경우, 본 고안의 제 1 및 제 2 실시예에서는 코팅 물질층을 형성하기 위한 코팅 공정이 필요한데 반하여, 접착 성분을 갖는 접착 테이프(32) 내에 Si 또는 Si 화합물 입자를 뿌리는 방법을 이용하여 코팅 물질층(33)을 형성하기 때문에 상기 코팅 물질층(33)을 형성하기 위한 비용을 절감시킬 수 있다.4 is a schematic diagram illustrating a semiconductor package according to a third embodiment of the present invention, which is formed on the bottom surface of the die pad 31 by using a PVD or CVD method as in the first and second embodiments of the present invention. Instead of forming a coating material layer, an adhesive tape 32 or a coupling material having Si or a Si compound coated thereon or entirely included thereon is attached to the bottom surface of the die pad to form a coating material layer 33. do. In this case, the first and second embodiments of the present invention require a coating process for forming a coating material layer, whereas coating is performed by spraying Si or Si compound particles into the adhesive tape 32 having an adhesive component. Since the material layer 33 is formed, the cost for forming the coating material layer 33 can be reduced.

도면에서, 미설명부호 (30)은 반도체 칩이고, (34)는 에폭시 수지이다.In the figure, reference numeral 30 denotes a semiconductor chip, and 34 denotes an epoxy resin.

이상에서와 같이, 본 고안의 반도체 패키지는 리드 프레임의 다이 패드 하부면에 에폭시 수지와 결합력이 우수한 Si 또는 Si 화합물로 이루어진 코팅 물질층을 형성함으로써, 다이 패드와 에폭시 수지간의 낮은 접착력으로 인한 디라미네이션 현상을 방지할 수 있으며, 이에 따라, 반도체 패키지의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.As described above, the semiconductor package of the present invention forms a coating material layer made of Si or Si compound having excellent bonding strength with the epoxy resin on the lower surface of the die pad of the lead frame, thereby de-lamination due to low adhesion between the die pad and the epoxy resin. The phenomenon can be prevented and, accordingly, the reliability of the semiconductor package can be improved.

한편, 여기에서는 본 고안의 특정 실시예에 대하여 설명하고 도시하였지만, 당업자에 의하여 이에 대한 수정과 변형을 할 수 있다. 따라서, 이하, 실용신안등록청구의 범위는 본 고안의 진정한 사상과 범위에 속하는 한 모든 수정과 변형을 포함하는 것으로 이해할 수 있다.Meanwhile, although specific embodiments of the present invention have been described and illustrated, modifications and variations can be made by those skilled in the art. Therefore, hereinafter, the scope of the utility model registration request can be understood to include all modifications and variations as long as they fall within the true spirit and scope of the present invention.

Claims (4)

전극들이 구비된 반도체 칩; 상기 반도체 칩이 부착되는 다이 패드와, 상기 반도체 칩의 전극들과 연결되어 상기 반도체 칩과 외부와의 전기적 신호 전달 경로를 이루는 인너리드 및 아웃리드로 이루어진 리드 프레임; 및 상기 반도체 칩 및 이에 전기적으로 연결된 인너리드를 포함한 공간적 영역을 봉지하는 에폭시 수지로 이루어진 패키지 몸체를 포함하는 반도체 패키지에 있어서,A semiconductor chip having electrodes; A lead frame including an die pad to which the semiconductor chip is attached, and an inner lead and an out lead connected to electrodes of the semiconductor chip to form an electrical signal transmission path between the semiconductor chip and the outside; And a package body made of an epoxy resin encapsulating a spatial region including the semiconductor chip and an inner lead electrically connected thereto. 상기 리드 프레임의 다이 패드는 그의 하부면에 에폭시 수지와 결합력을 향상시키기 위한 버퍼층이 구비된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The die pad of the lead frame is a semiconductor package, characterized in that the bottom surface is provided with a buffer layer for improving the bonding force with the epoxy resin. 제 1 항에 있어서, 상기 버퍼층은 Si 또는 Si 화합물로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package of claim 1, wherein the buffer layer is made of Si or a Si compound. 제 2 항에 있어서, 상기 Si 화합물은 SiC, SiN 또는 Si3N4중에서 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package of claim 2, wherein the Si compound is one selected from SiC, SiN, or Si 3 N 4 . 제 1 항에 있어서, 상기 버퍼층은 Si 또는 Si 화합물을 포함하는 접착 테이프인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package of claim 1, wherein the buffer layer is an adhesive tape containing Si or a Si compound.
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