KR19990002226U - 자석회전속도 제어장치 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 자석회전속도 제어장치에 관한 것으로, 종래에는 단순히 자석의 회전여부만을 센싱함으로써, 공정의 변화에 민감한 회전속도를 정확하게 인지할 수 없는 문제점과; 회전속도를 변화시키고자 할 때, 그 정도가 확인되지 않아 공정검증에서 많은 시간이 지체되는 문제점이 있었다. 이와같은 문제점을 감안한 본 고안은 전류의 제어에 의해 구동되는 모터부와; 그 모터부에 연결되어 회전이 다음단에 전달되는지를 감시하고, 회전속도를 제어하는 제어부와; 제어부에 연결되어 회전됨으로써, 자장이 발생되는 자석부와; 모터부와 제어부의 사이에 연결되어 모터부의 회전여부를 센싱하는 회전여부센싱부와; 회전여부센싱부에 접속되어 모터부의 회전속도를 수치로 변환하고, 이를 중앙제어부로 출력하는 회전속도처리부로 구성하고, 상기 회전속도처리부는 모터의 회전속도를 센싱하는 회전감지계와; 그 회전감지계에서 센싱된 회전속도를 수치로 변환하여 중앙제어부로 출력하는 카운터보드로 구성하여 화면상에서 자석의 회전속도를 제어하도록 함으로써, 공정검증에서 시간을 단축할 수 있는 효과와 아울러 정확한 회전속도의 설정으로 막의 균일도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Description
본 고안은 자석회전속도 제어장치에 관한 것으로, 특히 자석의 회전속도를 제어하여 스퍼터링공정을 통해 증착되는 막의 균일도를 향상시키기에 적당하도록 한 자석회전속도 제어장치에 관한 것이다.
일반적으로, 스퍼터링이란 글로우 방전에서 음극으로부터 튀어나온 금속분자를 이용하여 웨이퍼의 표면에 금속박막을 증착하는 방법을 말한다. 이러한 스퍼터링법은 내화성 및 비내화성 금속박막을 모두 증착할 수 있고, 박막의 구조와 성질을 용이하게 변화시킬 수 있고, 박막이 잘 증착되고, 스텝커버리지 및 동공커버리지가 좋은 장점이 있는 반면에 비교적 증착속도가 느리고, 2차전자가 발생하는 단점이 있다. 이러한 스퍼터링의 단점들은 자석의 회전에 의한 자장을 이용하는 방식을 사용하여 극복할 수 있다. 이와같은 종래 자석회전속도 제어장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도1은 종래 자석회전속도 제어장치의 블록도로서, 이에 도시한 바와같이 전류의 제어에 의해 구동되는 모터부(1)와; 그 모터부(1)에 연결되어 회전이 다음단에 전달되는지를 감시하고, 회전속도를 제어하는 제어부(2)와; 챔버의 상부에서 그 제어부(2)에 연결되어 회전됨으로써, 자장이 발생되는 자석부(4)와; 모터부(1)와 제어부(2)의 사이에 연결되어 모터부(1)의 회전여부를 센싱하는 회전여부센싱부(3)로 구성된다. 이하, 이와같이 구성된 종래 자석회전속도 제어장치의 동작을 설명한다.
전류의 제어에 의해 모터부(1)가 회전하면, 그 회전은 제어부(2)를 통해 자석부(4)에 전달되어 자석이 회전함으로써, 자장이 형성된다. 이때, 회전여부센싱부(3)는 그 자석의 회전여부를 센싱하며, 제어부(2) 내부의 가변저항을 변화시켜 회전속도의 변화를 꾀할 수 있다.
그러나, 상기한 바와같이 구성 및 동작되는 종래 자석회전속도 제어장치는 단순히 자석의 회전여부만을 센싱함으로써, 공정의 변화에 민감한 회전속도를 정확하게 인지할 수 없는 문제점과; 가변저항을 통해 회전속도를 변화시키고자 할 때, 그 정도가 확인되지 않아 공정검증에서 많은 시간이 지체되는 문제점이 있었다.
이와같은 문제점을 감안한 본 고안의 목적은 화면상에 모터의 회전속도를 표시하고, 이를 제어할 수 있는 자석회전속도 제어장치를 제공함에 있다.
도1은 종래 자석회전속도 제어장치의 블록도.
도2는 본 고안에 의한 자석회전속도 제어장치의 블록도.
***도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명***
1:모터부2:제어부
3:회전여부센싱부4:자석부
10:회전속도처리부11:속도감지계
12:카운터보드
상기한 바와같은 목적은 모터부의 회전을 전달받아 회전됨으로써 자장이 발생되는 자석부와, 모터부의 회전속도를 제어하는 제어부 및 회전여부를 센싱하는 회전여부센싱부로 이루어진 자석회전속도 제어장치에 있어서, 상기 회전여부센싱부에 연결되어 모터부의 회전속도를 수치로 변환하고, 이를 중앙제어부로 출력하는 회전속도처리부를 더 포함하여 구성함으로써 달성되는 것으로, 본 고안에 의한 자석회전속도 제어장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도2는 본 고안에 의한 자석회전속도 제어장치의 블록도로서, 이에 도시한 바와같이 모터부(1), 제어부(2), 회전여부센싱부(3) 및 자석부(4)는 도1에서 상세히 설명한 바와같이 종래와 동일하게 구성되며, 다만 상기 회전여부센싱부(3)에 접속되어 모터부(1)의 회전속도를 수치로 변환하고, 이를 중앙제어부(도면미도시)로 출력하는 회전속도처리부(10)를 포함하여 구성되며, 상기 회전속도처리부(10)는 모터의 회전속도를 센싱하는 회전감지계(tachometer:11)와; 그 회전감지계(11)에서 센싱된 회전속도를 수치로 변환하여 중앙제어부로 출력하는 카운터보드(counter board:12)로 구성된다. 이하, 상기한 바와같이 구성된 본 고안에 의한 자석회전속도 제어장치의 동작을 설명한다.
모터부(1)의 회전은 제어부(2)를 통해 자석부(4)에 전달되어 자장이 형성되고, 제어부(2) 내부의 가변저항을 변화시켜 회전속도의 변화를 꾀할 수 있다. 이때, 회전여부센싱부(3)에서 회전여부를 센싱함과 아울러 그에 접속된 회전감지계(11)가 회전속도를 센싱하게 된다. 그리고, 회전감지계(11)에 접속된 카운터보드(12)가 이를 수치로 변환하고, 이를 중앙제어부로 출력하여 화면상에 회전속도의 수치를 표시하게 된다.
상기에서 상세히 설명한 바와같이 본 고안에 의한 자석회전속도 제어장치는 화면상에서 자석의 회전속도를 제어하도록 함으로써, 공정검증에서 시간을 단축할 수 있는 효과와 아울러 정확한 회전속도의 설정을 통해 증착되는 막의 균일도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Claims (2)
- 모터부의 회전을 전달받아 회전됨으로써 자장이 발생되는 자석부와, 모터부의 회전속도를 제어하는 제어부 및 회전여부를 센싱하는 회전여부센싱부로 이루어진 스퍼터링장비의 속도제어장치에 있어서, 상기 회전여부센싱부에 연결되어 모터부의 회전속도를 수치로 변환하고, 이를 중앙제어부로 출력하는 회전속도처리부를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 자석회전속도 제어장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 회전속도처리부는 모터의 회전속도를 센싱하는 회전감지계(tachometer)와; 그 회전감지계에서 센싱된 회전속도를 수치로 변환하여 중앙제어부로 출력하는 카운터보드(counter board)로 구성된 것을 특징으로 하는 자석회전속도 제어장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019970015774U KR200177269Y1 (ko) | 1997-06-26 | 1997-06-26 | 자석회전속도 제어장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019970015774U KR200177269Y1 (ko) | 1997-06-26 | 1997-06-26 | 자석회전속도 제어장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19990002226U true KR19990002226U (ko) | 1999-01-25 |
KR200177269Y1 KR200177269Y1 (ko) | 2000-04-15 |
Family
ID=19504038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2019970015774U KR200177269Y1 (ko) | 1997-06-26 | 1997-06-26 | 자석회전속도 제어장치 |
Country Status (1)
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KR (1) | KR200177269Y1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040042222A (ko) * | 2002-11-13 | 2004-05-20 | 주식회사 엠엔엠시스 | 등대저속회전장치 |
KR100513396B1 (ko) * | 1999-02-04 | 2005-09-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조용 스퍼터링 장치 |
-
1997
- 1997-06-26 KR KR2019970015774U patent/KR200177269Y1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100513396B1 (ko) * | 1999-02-04 | 2005-09-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조용 스퍼터링 장치 |
KR20040042222A (ko) * | 2002-11-13 | 2004-05-20 | 주식회사 엠엔엠시스 | 등대저속회전장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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KR200177269Y1 (ko) | 2000-04-15 |
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