KR19980702384A - Method of producing a protective coating layer on the surface of glass or ceramic products - Google Patents

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KR19980702384A
KR19980702384A KR1019970705783A KR19970705783A KR19980702384A KR 19980702384 A KR19980702384 A KR 19980702384A KR 1019970705783 A KR1019970705783 A KR 1019970705783A KR 19970705783 A KR19970705783 A KR 19970705783A KR 19980702384 A KR19980702384 A KR 19980702384A
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tin
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oxide
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KR1019970705783A
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린데르트 코르넬리스 호에크만
스테펜 더블유. 카르손
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씨. 에프. 브라아크만
엘프 아토켐 브리싱엔 비.브이
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Abstract

본 발명은 유리 또는 세라믹 제품의 표면위에 보호코팅층의 제조 방법에 관한 것이고, 상기 코팅층은 부식성의 세척 처리에 대한 향상된 저항성을 갖는다. 본 발명의 방법을 수행하는데 있어서, 주석산화물(SnO2)의 열분해성 전구체(증발된 형태로)와 실리콘산화물(SiO2)의 열분해성 전구체(증발된 형태로 존재)를 포함하고( 후자에 대한 전자의 몰비가 0.6 내지 3.0 ) 및 추가로 담채가스 100 몰당 적어도 1몰의 양으로 수증기를 함유하는 산소성의 담채가스의 스트림이 주석산화물 및 실리콘산화물로 이루어진 혼합된 산화물 보호코팅층을 증착시키도록, 상기 전구체의 분해온도 이상이고 적어도 550 ℃ 가 되는 온도를 가지는 상기 제품의 표면에 균일하게 부딪치게 되고, 상기 증착이 240 내지 1,500 Å 의 코팅두께가 얻어질 때까지 계속된다.The present invention relates to a process for producing a protective coating layer on the surface of a glass or ceramic article, said coating layer having improved resistance to corrosive cleaning treatments. In carrying out the process of the invention, it comprises a pyrolytic precursor (in evaporated form) of tin oxide (SnO 2 ) and a pyrolytic precursor (in evaporated form) of silicon oxide (SiO 2 ) (for the latter So that the stream of oxygenous tint gas containing water vapor in an amount of from 0.6 to 3.0) and additionally at least 1 mol per 100 moles of tint gas deposits a mixed oxide protective coating layer of tin oxide and silicon oxide, It uniformly hits the surface of the article having a temperature above the decomposition temperature of the precursor and at least 550 ° C., and the deposition is continued until a coating thickness of 240-1,500 kPa is obtained.

Description

유리 또는 세라믹 제품의 표면위에 보호코팅층의 제조 방법Method of producing a protective coating layer on the surface of glass or ceramic products

내마모성을 향상시키기 위해 유리 제품의 표면을 처리하는 것은 공지되어있다. 예를 들면, US-A-4 144 362 에는 주석산화물의 얇은 필름으로 유리병을 코팅하는것이 기재되어 있다. 주석산화물 코팅층은 유기 주석 화합물에 대해 공기등의 산소성 대기중 증기 형태나 미세하게 분할된 형태로 450 ℃내지 600 ℃의 온도에서 가열하면서 유리표면을 노출시킴에 의해 얻어진다. 주석 화합물은 고온 유리표면과 접촉하여 주석산화물 코팅층을 형성하기 위해 분해 및 산화된다. US-A-4 144 362 에 기재 및 예시되어 있는 코팅 기술은 결과적으로 45 내지 120 Å 정도의 두께를 갖는 주석산화물 코팅층을 생성한다.It is known to treat the surface of glass articles to improve their wear resistance. For example, US-A-4 144 362 describes coating glass bottles with thin films of tin oxide. The tin oxide coating layer is obtained by exposing the glass surface to the organic tin compound while heating at a temperature of 450 ° C. to 600 ° C. in the form of an oxygenous atmosphere such as air or finely divided. The tin compound decomposes and oxidizes in contact with the hot glass surface to form a tin oxide coating layer. The coating technique described and exemplified in US-A-4 144 362 results in a tin oxide coating layer having a thickness on the order of 45-120 mm 3.

US-A-4 130 673 에 따르면, 주석산화물 표면 코팅된 제품을 350 ℃ 또는 그 이하의 온도로 냉각시킨 후, 천연 왁스 또는 합성 폴리머의 얇은 층을 앞에서 상기한 바와 같이 제조된 주석산화물 표면코팅의 선단에 적용시킨다. 상기 두 코팅층의 결합이 처리 및 가공 중 유리제품의 긁힘과 깨짐을 감소시키는 것으로 설명된다.According to US-A-4 130 673, after cooling a tin oxide surface-coated product to a temperature of 350 ° C. or lower, a thin layer of natural wax or synthetic polymer can be used as described above for tin oxide surface coatings. Apply to the tip. The combination of the two coating layers is described as reducing the scratches and cracks of the glassware during processing and processing.

유리병 등의 유리용기를 반복적으로 사용하는 경향이 증가된다. 상기 용기들은 다시 채워질 수 있기 전에, 그들은 예를 들면 부식성의 용액을 사용하여 강한 세척 처리로 처리된다. 1-4 % 의 부식성 용액을 사용하여 80 ℃ 에서 5 내지 15 번 세척 사이클 후에, 상기한 바와 같이 제조되었던 주석 산화물 코팅층은 완전히 제거된다. 우선 몇번의 세척 순환후에 주석산화물코팅층의 두꺼운 부분은 허용 가능하지 않은 강항 푸른빛색을 나타낸다. 반복적인 세척 사이클 중에 상기 코팅층은 회색의 점을 나타내고, 최종적으로 사라진다.The tendency to use glass containers, such as glass bottles, repeatedly is increased. Before the containers can be refilled, they are subjected to a strong cleaning treatment, for example using a caustic solution. After 5 to 15 wash cycles at 80 ° C. using 1-4% caustic solution, the tin oxide coating layer prepared as described above is completely removed. First, after several wash cycles, the thick portion of the tin oxide coating layer exhibits an unacceptable strong blue color. During repeated washing cycles the coating shows gray spots and finally disappears.

EP-A-0 485646 호는 80 ℃의 4% 부식성 용액으로 8 시간 처리하는데 견뎌내는 금속 산화물 코팅층으로 제공되는 재충전 가능한 유리병 제조를 목적으로 한다. 상기 코팅은 주석 산화물과 티타늄 산화물로 이루어고 400 내지 1,000 Å 의 두께를 갖는다. 상기 코팅은 주석 테트라클로라이드 또는 디메틸 주석 디클로라이드 같은 주석 화합물 또는 티타늄 테트라클로라이드 같은 티타늄화합물을 550 내지 700 ℃ 의 외부표면온도를 가지는 유리병과 접촉시켜 만들어진다.EP-A-0 485646 is intended for the production of rechargeable glass bottles provided with a metal oxide coating which withstands 8 hours of treatment with a 4% caustic solution at 80 ° C. The coating consists of tin oxide and titanium oxide and has a thickness of 400 to 1,000 mm 3. The coating is made by contacting a tin compound such as tin tetrachloride or dimethyl tin dichloride or a titanium compound such as titanium tetrachloride with a glass bottle having an external surface temperature of 550 to 700 ° C.

EP-A-0 485 646 호에 따라 제조되는 더욱 두꺼운 주석 산화물 코팅층은 상기한 바와 같은 미국 특허들로 부터 공지된 더 얇은 코팅층 보다 부식성 세척에 대해 더 나은 보호를 제공한다. 그러나 본 발명에 의해 수행된 테스트는 이들 두꺼운 코팅층은 2 내지 6 시간의 세척( 80 ℃ 에서 4 % 의 부식성 용액을 사용)후에 반복된 사용에 오래 지속되기에 덜 바람직한 병을 만들며, 다소 흐려짐을 보인다. 티타늄 산화물 코팅층을 고려한다면, 티타늄 시작 화합물은 다루기 어렵고 힘들며 사용에 비효과적이라는 것이 관찰될 수 있다.Thicker tin oxide coating layers made according to EP-A-0 485 646 provide better protection against corrosive cleaning than thinner coating layers known from the above US patents. However, the tests conducted by the present invention show that these thick coatings make the bottles less desirable to last longer for repeated use after 2-6 hours of cleaning (using 4% caustic solution at 80 ° C.) and are somewhat cloudy. . Considering the titanium oxide coating layer, it can be observed that the titanium starting compound is difficult to handle, difficult and ineffective for use.

WO 93/13393 호는 주석 산화물 전구체, 실리콘 산화물 전구체 및 촉매, 바람직하게 트리에틸 포스파이트로 이루어진 조성물을 사용한 화학적 증착(CVD)에 의해 유리를 코팅하는 방법을 나타낸다. 상기 조성물은 실시예에 따라 2,000 내지 4,930 Å 의 두께를 갖는 코팅층을 형성하도록 약 350 Å/sec 보다 큰 비율로 증착된다. 이렇게 얻어진 상기 코팅층은 조절된 방출능, 굴절률, 내마모성 또는 외관처럼 특이한 특성을 가지는 제품을 제조하기 위해 다른 층과 결합 될 수 있다. 실시예 7 에서 맑은 유리병은 실리콘 산화물 전구체에 대한 주석 산화물 전구체의 몰비가 0.2 인 주석 산화물 전구체, 실리콘 산화물 전구체 및 촉매, 트리에틸 포스파이트 및 고온 공기로 이루어진 증기 혼합물로 코팅된다. 상기 증기 혼합물은 약 2,000 Å 의 두께를 가지는 마젠타-블루 색의 필름을 제조하기 위해서 약 200Å/sec 의 평가된 증착비율로 10 초 동안 증착된다. 트리에틸 포스파이트 없이 증착비율은 약 50 Å/sec 이다.WO 93/13393 shows a method of coating a glass by chemical vapor deposition (CVD) using a composition consisting of a tin oxide precursor, a silicon oxide precursor and a catalyst, preferably triethyl phosphite. The composition is deposited at a rate greater than about 350 mW / sec to form a coating layer having a thickness of 2,000 to 4,930 mm 3 according to an embodiment. The coating layer thus obtained can be combined with other layers to produce products having specific properties such as controlled release, refractive index, wear resistance or appearance. The clear glass bottle in Example 7 is coated with a vapor mixture consisting of tin oxide precursor, silicon oxide precursor and catalyst, triethyl phosphite and hot air, with a molar ratio of tin oxide precursor to silicon oxide precursor of 0.2. The vapor mixture was deposited for 10 seconds at an estimated deposition rate of about 200 mW / sec to produce a magenta-blue colored film having a thickness of about 2,000 mW. The deposition rate without triethyl phosphite is about 50 mW / sec.

본 발명은 유리 또는 세라믹 제품을 위한 보호코팅층 제조방법을 제공하고, 상기 코팅층은 부식성의 세척 처리에 대해 높은 저항성을 가진다.The present invention provides a method for producing a protective coating layer for glass or ceramic products, the coating layer has a high resistance to corrosive cleaning treatment.

본 발명의 방법은 또한 유리 용기를 위해 향상된 코팅층을 제공하고, 상기 코팅층은 유리용기가 그것의 다음번 사용의 준비로서 부식성 세척 처리에 여러번 처리되는 경우 깨끗하고 실질적으로 변함없이 남아있는다.The method of the present invention also provides an improved coating layer for the glass container, which remains clean and substantially unchanged when the glass container is subjected to the corrosive cleaning process several times in preparation for its next use.

본 발명의 또다른 목적에 따르면, 왁스코팅층을 보호코팅층의 위에 적용시키고 유리 또는 세라믹 제품이 긁힘에 대해 더 강하게 저항하도록 만든다.According to another object of the invention, a wax coating layer is applied on top of the protective coating layer and makes the glass or ceramic article more resistant to scratching.

본 발명은 또한 유리 또는 세라믹 제품의 표면위에 향상된 보호코팅층을 제조하기 위한 단순하고 효과적이며 확실한 향상된 방법을 제공하고, 여기에서 다루기 쉬운 열분해성 전구체가 사용된다.The present invention also provides a simple, effective and reliable improved method for producing an improved protective coating layer on the surface of a glass or ceramic article, wherein a pyrolytic precursor that is easy to handle is used.

본 발명은 부식성 용액으로 세척된 후에 반복되어 사용되는 것을 목적으로 하는 표면 코팅 유리 또는 세라믹 제품, 특히 병과 같은 유리용기에 관한 것이다.The present invention relates to surface coated glass or ceramic articles, in particular glass containers such as bottles, which are intended for repeated use after being washed with a caustic solution.

본 발명에 따라 유리 또는 세라믹 제품의 표면위에 보호코팅층을 제조하는 방법에 있어서, 주석산화물(SnO2)의 열분해성 전구체(증발된 형태로 존재)와 실리콘산화물(SiO2)의 열분해성 전구체(증발된 형태로 존재)를 포함하고( 후자에 대한 전자의 몰비가 0.6 내지 3.0 ) 및 추가로 담채가스 100 몰당 적어도 1몰의 양으로 수증기를 함유하는 산소성의 담채가스의 스트림이 주석산화물 및 실리콘산화물로 이루어진 혼합된 산화물 보호코팅층을 증착시키도록, 상기 전구체의 분해온도 이상이고 적어도 550 ℃ 가 되는 온도를 가지는 상기 제품의 표면에 균일하게 부딪치게 되고, 상기 증착이 240 내지 1,500 Å 의 코팅두께가 얻어질 때까지 계속된다.In the method for producing a protective coating layer on the surface of a glass or ceramic product according to the present invention, a thermally decomposable precursor of tin oxide (SnO 2 ) (present in evaporated form) and a thermally decomposable precursor of silicon oxide (SiO 2 ) (evaporation) And a stream of oxygenated tin gas containing water vapor in an amount of at least 1 mole per 100 mol of tin gas, and the tin oxide and silicon oxide When depositing a mixed oxide protective coating layer is made to uniformly hit the surface of the product having a temperature of at least 550 ℃ above the decomposition temperature of the precursor, when the deposition is obtained coating thickness of 240 to 1500 Pa Continue until.

CTU (코팅층두께단위) 는 코팅두께를 정의하기 위해 유리산업에서 사용되는 단위이고 입사광선의 반사측정법에 기초를 둔다. 본 발명에 따르는 산화물코팅층을 위하여 1 CTU 의 두께는 약 3 Å에 해당하는 것으로 평가될 수 있다. 이 기술분야에 있어 사용되는 실제적인 이유를 위하여, CTU 두께 단위는 일반적으로 다음의 설명과 실시예를 통하여 채택될 것이다.CTU (Coating Layer Thickness Unit) is a unit used in the glass industry to define the coating thickness and is based on the reflection measurement of incident light. For the oxide coating layer according to the invention the thickness of 1 CTU can be estimated to correspond to about 3 kPa. For practical reasons used in the art, CTU thickness units will generally be employed through the following description and examples.

본 발명에 따라 제조된 보호코팅층이 같은 CTU 두께를 갖는 공지된 코팅층과 비교되어지는 경우, 본 발명의 코팅층은 부식성의 세척 처리에 대해 상당히 향상된 저항성을 두드러지게 나타내는 반면 깨끗한 외관을 유지한다. 예를 들면 8 내지 10 분의 50 회 및 그 이상의 세척사이클에 대한 좋은 저항성과 같은 입증된 뛰어난 특성들이 또한 도자기와 같은 세라믹 제품을 보호하기 위해 매우 적합한 본 발명의 코팅층을 만든다. 또한, 일반적인 왁스코팅층을 본 발명의 코팅층의 선단에 적용시킨 후에 뛰어난 긁힘 저항성이 얻어진다.When the protective coating layer prepared according to the present invention is compared with known coating layers having the same CTU thickness, the coating layer of the present invention exhibits significantly improved resistance to corrosive cleaning treatments while maintaining a clean appearance. Proven outstanding properties, such as good resistance to, for example, 50 to 8 to 10 and more cleaning cycles, also make the coating layer of the invention very suitable for protecting ceramic products such as ceramics. In addition, excellent scratch resistance is obtained after applying a general wax coating layer to the tip of the coating layer of the present invention.

본 발명에 따라 제조된 보호코팅층의 뛰어난 특성들을 위해 가능한 설명들은 상기 코팅 중 만들어진 실리콘 산화물과 적어도 부분적으로 코팅된 기질 중 함유된 포함된 실리콘 옥사이드가 접착면에서 함께 용융되고, 및/또는 실리콘옥사이드의 혼성-존재가 발생할 수 있는 부식성의 침해가 일어날 수 있는 것을 통하여 거의 틈이 없는 더 견고한 코팅층 또는 필름을 얻고, 및/또는 실리콘옥사이드의 혼성-존재가 칼 등의 접촉 또는 세척도구에서 발생하는 물리적인 충격에 대한 코팅층의 저항성을 증가하는 것이다. 최근, 향상을 일으키는 메카니즘이 아직 이해되지 않았고, 그러므로 앞에서 기술된 가능한 설명이 단지 가설로 여겨져야만 하고 그것에 의해 한정되지는 않는다.Possible explanations for the superior properties of the protective coating layer produced according to the invention are that the silicon oxide made during the coating and the contained silicon oxide contained in the at least partially coated substrate are melted together at the adhesive side, and / or Corrosion infringement can occur where hybrid-presence can occur, resulting in a harder coating or film with almost no gaps, and / or physical presence of hybrid-presence of silicon oxide in contact or cleaning tools such as knives. It is to increase the resistance of the coating layer to impact. In recent years, the mechanisms causing improvement have not yet been understood, and therefore the possible explanations described above should only be considered hypotheses and not limited thereto.

주석 산화물과 실리콘 산화물로 이루어진 보호 코팅층을 제조하는 본 방법은 제품의 표면이 분해시키려고 하는 전구체가 충분히 가열되는 동안 유리 또는 세라믹 제품을 제조하기 위한 공정라인의 고온마무리 과정에서 바람직하게 수행된다. 게다가, 요구되는 우수한 성질을 가지는 코팅층을 제조하기 위해서 최소한 550 ℃의 표면온도가 필요하다. 전구체의 분해 및 산화에 의한 코팅층의 제조는 코팅시키려는 뜨거운 표면과 접촉하여 증기 형태의 전구체를 초래하는 것으로 이루어진 CVD(화학적 증착) 수단에 의해 수행 될 수 있다.The present method for producing a protective coating layer consisting of tin oxide and silicon oxide is preferably carried out in the hot finishing process of a process line for producing a glass or ceramic product while the precursor to which the surface of the product is intended to decompose is sufficiently heated. In addition, a surface temperature of at least 550 ° C. is required to produce a coating layer having the required superior properties. The preparation of the coating layer by decomposition and oxidation of the precursor can be carried out by means of CVD (chemical vapor deposition) consisting of contacting the hot surface to be coated to result in the precursor in vapor form.

CVD 방법에 따르면 상기 전구체는 코팅시키려는 표면을 때리고 증발된 형태의 전구체를 함유하는 담채가스(보통 공기)의 스트림으로 부터 적용된다. 짧은 증착시간, 예를들면 약 10초 미만의 시간 동안 증착비율은 증착시간에 비례한다. 그러나 긴 증착시간이 적용되는 경우, 표면의 온도는 감소하고 이에 대한 결과로 증착비율 및 코팅방법의 효율이 상당히 감소할 것이다. 그러므로 바람직한 코팅두께에 의존하여, 다소 높은 표면 온도에서 코팅을 시작하는 것 또는 그 자체를 코팅하는 동안 코팅시키려는 표면에 추가적인 열을 제공하는 것이 필요할 수 있다. 코팅시키려는 표면의 다소 높은 온도는 하기에 논의하게 되는 것과 같이 것처럼 다른 이유로 또한 유리하다.According to the CVD method, the precursor is applied from a stream of leach gas (usually air) that strikes the surface to be coated and contains the precursor in evaporated form. For short deposition times, for example less than about 10 seconds, the deposition rate is proportional to the deposition time. However, if a long deposition time is applied, the surface temperature will decrease and consequently the deposition rate and the efficiency of the coating method will be significantly reduced. Therefore, depending on the desired coating thickness, it may be necessary to start the coating at a rather high surface temperature or to provide additional heat to the surface to be coated during the coating itself. The somewhat higher temperature of the surface to be coated is also advantageous for other reasons, as discussed below.

본 발명에 따라서 전구체로서 사용되는 주석 화합물은 코팅시키려는 유리 또는 세라믹 제품 표면의 온도에서 열적으로 분해가능한 어떤 주석 화합물일 수 있다. 담채가스 중 산소와의 분해반응 동안 주석산화물의 증착이 일어난다. 적합한 열분해성 주석화합물은 모노메틸 주석 트리클로라이드 및 모노부틸 주석 트리클로라이드 같은 모노알킬 주석 트리클로라이드, 모노알킬 주석 트리브로마이드, 디메틸 주석 디클로라이드 같은 디알킬 주석 디클로라이드, 디알킬 주석 디브로마이드, 및 주석 테트라클로라이드로 부터 선택될 수 있다. 모노부틸 주석 트리클로라이드는 사용하는데 다루기 쉽고 매우 효과적이기 때문에 주석 산화물의 전구체로서 사용하기에 가장 바람직하다.The tin compound used as a precursor according to the present invention may be any tin compound thermally degradable at the temperature of the glass or ceramic article surface to be coated. The deposition of tin oxide occurs during the decomposition reaction with oxygen in the leach gas. Suitable pyrolytic tin compounds include monoalkyl tin trichlorides such as monomethyl tin trichloride and monobutyl tin trichloride, dialkyl tin dichlorides such as monoalkyl tin tribromide, dimethyl tin dichloride, dialkyl tin dibromide, and tin tetra Can be selected from chlorides. Monobutyl tin trichloride is most preferred for use as a precursor of tin oxide because it is easy to handle and very effective to use.

전구체로서 사용하는 실리콘 화합물은 또한 열적으로 분해될 수 있고 주석 화합물을 고려하여 상기한 바와 같이 실리콘 산화물을 제조할 수 있다. 적합한 실리콘 화합물은 식 RnSiX(4-n)( R 이 알킬, 알케닐, 알키닐 또는 1 개 내지 5 개의 탄소원자를 갖는 알콕시 그룹, 또는 페닐그룹; X 가 할로겐 원자 또는 히드록시기 : 및 n 이 0 내지 4 의 숫자) 을 갖는 화합물이다. 테트라메톡시 실란, 테트라에톡시 실란 및 테트라 프로폭시실란은 적합한 실란 화합물의 예이다.Silicon compounds used as precursors can also be thermally decomposed and silicon oxides can be prepared as described above taking into account tin compounds. Suitable silicone compounds are those of the formula R n SiX (4-n) where R is alkyl, alkenyl, alkynyl or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group; X is a halogen atom or a hydroxyl group: and n is 0 To numbers 4 to 4). Tetramethoxy silane, tetraethoxy silane and tetra propoxysilane are examples of suitable silane compounds.

주석 화합물은 바람직하게 담채가스 1 몰당 0.5 x 10-4- 2 x 10-2몰의 양이 존재한다. 실리콘 화합물에 대한 주석화합물의 몰 비율이 목적한 높은 부식성세척저항의 관점에서 0.6 내지 3.0 사이에서 선택된다. 지시된 범위내에서 상기 몰 비율이 최대 2.0 및 바람직하게 최대 1.5 일때 최선의 결과를 얻는것이 입증되었다. 담채가스, 바람직하게 상기한 바와 같이 공기는 담채가스 100 몰당 1 내지 50 몰의 양이 존재하는 수증기를 함유하는 것이 추가로 필수적이다. 수증기의 충분한 양이 바람직한 구현예에 따른 대기압 CVD 에 의해 본 발명의 보호코팅층을 제조하는 경우 일반적으로 산소성의 담채가스로 사용하는 공기중에 함유된다. 담채가스는 전구체가 증발된 형태로 존재하는 온도에서 존재하는 것이 명확하다. 일반적으로 담채가스의 온도는 100 ℃ 내지 210 ℃ 이고 바람직한 온도 범위는 120 ℃ 내지 180 ℃이다. 코팅시키려는 표면에 부딪치는 상기한 성분을 함유하는 가스 스트림의 속도는 일반적으로 1 내지 10 m/s 및 가장 바람직하게 3 내지 5 m/s 의 범위내에서 선택된다.The tin compound is preferably present in an amount of 0.5 x 10 -4-2 x 10 -2 moles per mole of immersion gas. The molar ratio of tin compound to silicon compound is chosen between 0.6 and 3.0 in view of the desired high corrosive cleaning resistance. It has been demonstrated that the best results are obtained when the molar ratio is at most 2.0 and preferably at most 1.5 within the indicated ranges. It is further essential that the immersion gas, preferably as described above, contain water vapor in an amount of 1 to 50 moles per 100 moles of immersion gas. Sufficient amounts of water vapor are generally contained in the air used as an oxygen quenching gas when the protective coating layer of the present invention is prepared by atmospheric CVD according to a preferred embodiment. It is clear that the immersion gas is present at a temperature at which the precursor is present in evaporated form. In general, the temperature of the immersion gas is 100 ℃ to 210 ℃ and the preferred temperature range is 120 ℃ to 180 ℃. The velocity of the gas stream containing the above-mentioned components that hit the surface to be coated is generally selected within the range of 1 to 10 m / s and most preferably 3 to 5 m / s.

코팅시키려는 유리 또는 세라믹 표면의 온도가 사용된 전구체의 분해 온도이상이지만, 분명히 코팅제품의 연화온도 이하인 것이 필수적이다. 일반적으로 보호코팅층은, 예를 들면 유리병의 공정라인의 고온마무리에서 적용된다. 다소 높은 온도의 코팅된 표면은 상기한 바와 같이 증착비율이 증가할 뿐만 아니라 특히 부식성의 세척에 대해 코팅된 표면의 저항성을 실질적으로 향상시키는 것이 확인되었다. 그러므로, 제품 표면온도는 코팅하는 동안 최소한 550 ℃, 바람직한 온도는 적어도 570 ℃ 및 가장 바람직한 온도는 작어도 600 ℃ 특히, 600 ℃ 내지 650 ℃ 여야만 한다. 추가적인 열은 바람직한 높은 값의 표면온도를 유지하기 위해 코팅층층과정 동안 제품에 제공될 수 있다. 추가의 열을 제공하기 위한 어떤 적합한 수단은 불꽃투사 등과 같은 통상적인 수단이다.Although the temperature of the glass or ceramic surface to be coated is above the decomposition temperature of the precursor used, it is clearly necessary to be below the softening temperature of the coated product. In general, the protective coating layer is applied, for example, at the high temperature finish of the process line of glass bottles. It has been found that rather high temperature coated surfaces not only increase the deposition rate as described above but also substantially improve the resistance of the coated surface, particularly to corrosive cleaning. Therefore, the product surface temperature should be at least 550 ° C., the preferred temperature is at least 570 ° C. and the most preferred temperature at least 600 ° C., in particular 600 ° C. to 650 ° C. during coating. Additional heat may be provided to the product during the coating layer process to maintain the desired high surface temperature. Any suitable means for providing additional heat is conventional means such as pyrotechnics and the like.

코팅처리는 바람직한 코팅두께를 얻을 때 까지 계속된다. 실제로 실리콘 화합물에 대한 주석 화합물의 몰비율 및 상기한 바와 같이 충분히 높은 코팅온도와 결합하여 코팅두께는 부식성의 세척에 대해 우수한 저항을 제공는 반면 상기 코팅은 깨끗한 외관을 얻는다. 본 발명에 따라 보호코팅층의 두께는 최소한 80 CTU 여야 한다. 최소한 150 CTU 의 두께 및 바람직하게 최소한 180 CTU 의 두께에서 코팅시키려는 표면의 온도가 충분히 높게 제공된다면 상기 코팅층은 어떤 흐릿함이나 원하지 않는 색깔을 보이지 않고 80 ℃에서 4 % 부식성 용액으로 12 시간 강한 세척 처리를 견뎌냄이 밝혀졌다. 바람직하게 코팅두께는 150 CTU ( 450 Å ) 내지 900 Å 이다.The coating process is continued until the desired coating thickness is obtained. Indeed, in combination with a molar ratio of tin compound to silicone compound and a sufficiently high coating temperature as described above, the coating thickness provides excellent resistance to corrosive cleaning while the coating gives a clean appearance. According to the invention the thickness of the protective coating layer should be at least 80 CTU. If the temperature of the surface to be coated is provided sufficiently high at a thickness of at least 150 CTU and preferably at least 180 CTU, the coating layer does not show any blurring or undesired color and undergoes a strong washing treatment for 12 hours with 4% corrosive solution at 80 ° C. It was found to endure. Preferably the coating thickness is 150 CTU (450 kPa) to 900 kPa.

이하, 실시예로 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

단지 서술된 방법에만 의하여 주어진 하기한 실시예에서 주석 및 실리콘의 화합물은 이 화합물들을 증발시키기 위하여 주입기의 수단에 의해 뜨거운 공기 스트림으로 인가된다. 공기의 온도는 약 150 ℃ 이다. 상기 가스 혼합물은 잘 알려져 있듯이, 관의 수단으로 처리하려고 하는 유리제품의 표면을 향하게 했다. 하기 실시예에서 관의 입구는 15 x 35 mm 이다. 50 ml 의 유리병은 높이의 2/3 이상으로 처리된다. 그들은 오븐안에서 바람직한 온도까지 가열된다. 상기온도는 병 안쪽에 배치된 열전지에 의해 측정된다. 상기 병들은 어떤 적합한 수단, 예를 들면 병들이 처리하려고 하는 병들을 단속하는 막대수단에 의해 고정되고, 처리가스 스트림내에서 노출하는 동안 회전된다. 코팅층 형성을 시작할 때 유리의 온도는 0.93 의 방출능, 4 내지 13 μm 범위의 파장 이상의 감지로 보정된 원적외선 온도계(type CHINO IR-AHOT/-50℃ 내지 +1000℃) 세트의 수단에 의해 측정된다.In the following examples given only by the method described, the compounds of tin and silicon are applied to the hot air stream by means of an injector to evaporate these compounds. The temperature of the air is about 150 ° C. The gas mixture, as is well known, is directed to the surface of the glass article to be treated by means of a tube. In the following examples the inlet of the tube is 15 x 35 mm. 50 ml vials are treated to at least 2/3 of the height. They are heated in the oven to the desired temperature. The temperature is measured by a thermocell placed inside the bottle. The bottles are fixed by any suitable means, for example rod means for intercepting the bottles they wish to treat, and rotated during exposure in the process gas stream. The temperature of the glass at the start of the coating layer formation is measured by means of a set of far infrared thermometers (type CHINO IR-AHOT / -50 ° C. to + 1000 ° C.) calibrated with an emission capability of 0.93, sensing above a wavelength in the range of 4 to 13 μm. .

긁힘 저항 측정 테스트Scratch resistance measurement test

똑같이 처리된 두병을 수평한 위치로 하나를 다른것의 선단에 놓고 서로 미끄러짐을 일으킬 동안 서로 눌렀다. 압력이 증가될 때, 긁힘이 생기는 순간은 명확하게 상기 병들이 서로 미끄러짐을 계속하기 위해 적용되는 힘을 증가시킴이 필요한 순간이었다. 적용되는 힘은 하나 또는 두병의 부서짐을 이끄는 힘 이상 이상으로 450 N 까지 한정되었다. 적합한 코팅층을 가진 병들은 긁히지 않고 450 N 의 힘을 견뎌냈다.Two equally treated bottles were placed in the horizontal position, one at the tip of the other and pressed against each other while causing them to slip. When the pressure increased, the moment of scratching was clearly the moment when the bottles needed to increase the force applied to continue sliding with each other. The force applied was limited to 450 N above the force that led to the breaking of one or two bottles. Bottles with a suitable coating layer survived a force of 450 N without scratching.

부식성 용액으로 세척에 대한 저항성 측정 테스트Resistance measurement test for cleaning with corrosive solutions

상기 테스트 조건은 주유소 병들의 조건과 일치한다.The test conditions match those of gas station bottles.

병을 80 ℃로 유지된 4 % 수산화나트륨 용액에 담갔다. 테스트하는 동안 부식성 용액을 담는 용기는 둘러싼 공기 존재하에 이산화탄소 존재의 결과로서 수산화나트륨이 탄산나트륨으로 변환하는 것을 피하기 위해 질소로 씻겨져야만 한다. 같은 이유로 각각의 테스트를 위해 신선하게 준비된 수산화나트륨 용액은 탄산나트륨이 코팅층에 피해를 덜 주게 하는 것으로 사용되었다. 테스트를 위해 150 mm 의 2 리터 보로실리케이트 유리용기가 사용되었다. 이 용기는 4 개의 병을 담을 수 있다. 병들을 용기 바닥으로부터 20 mm 에 배치된 판 위에 놓았다. 각각의 병은 지름이 6 mm 이고 길이가 15 mm 인 세개의 핀에 의해 유지되었고, 이 핀들은 판안에 구멍에 고정되었다. 상기 판은 그 가운데에 30 mm 직경의 구멍 한개와 그 원주를 따라서 15 mm 직경의 8 개의 구멍을 갖는다. 부식성의 용액을 40 mm 길이, 10 mm 직경의 스티어를 사용하여 마그네틱 스티어링 가열판에 의해 500 rpm 속도로 휘저었다. 코팅층의 두께는 American Glass Research Co. (AGR) 의 장치를 사용하여 측정했다. 일반적으로 유리제조 산업에 사용되는 이 장치는 처리된 유리 표면의 반사를 측정하고, 그 반사값은 CTU( Coating Thickness Units)로 변환했다. 상기한 바와 같이 CVD 방법에 의해서 얻어진 1 CTU 는 본 발명에 따른 주석산화물/실리콘산화물 혼합 코팅층으로서 약 3Å에 해당했다.The bottle was immersed in 4% sodium hydroxide solution maintained at 80 ° C. During testing, the vessel containing the corrosive solution must be flushed with nitrogen to avoid the conversion of sodium hydroxide to sodium carbonate as a result of the presence of carbon dioxide in the presence of surrounding air. For the same reason freshly prepared sodium hydroxide solution for each test was used to make sodium carbonate less damaging to the coating layer. A 150 mm 2 liter borosilicate glass jar was used for the test. This container can hold four bottles. The bottles were placed on a plate placed 20 mm from the bottom of the vessel. Each bottle was held by three pins 6 mm in diameter and 15 mm in length, which were held in holes in the plate. The plate has one hole in the center of 30 mm diameter and eight holes of 15 mm diameter along its circumference. The caustic solution was agitated at 500 rpm speed by a magnetic steering hot plate using a 40 mm long, 10 mm diameter steer. The thickness of the coating layer is American Glass Research Co. It measured using the apparatus of (AGR). Commonly used in the glassmaking industry, the device measures the reflections of treated glass surfaces, which are converted into coating thickness units (CTUs). As described above, 1 CTU obtained by the CVD method corresponded to about 3 kPa as the tin oxide / silicon oxide mixed coating layer according to the present invention.

다음의 한정되지 않은 실시예는 본 발명을 설명한다.The following non-limiting examples illustrate the invention.

실시예 1 과 2 는 비교예이다.Examples 1 and 2 are comparative examples.

실시예 1 에서 병들을 미국특허 제 4,130,673 호의 가르침에 따라서 주석산화물 코팅층과 왁스 코팅층으로 칠했다.In Example 1 the bottles were painted with a tin oxide coating layer and a wax coating layer according to the teachings of US Pat. No. 4,130,673.

실시예 2 에서 병들은 더 두꺼운 주석산화물 코팅층을 제공하여 처리했다. 허용할 수 없는 흐릿함을 피하기 위해서, 이 코팅층들은 더 높은 주석 산화물 농도와 더 높은 담채가스의 속도를 사용하여 만들었다.The bottles in Example 2 were treated by providing a thicker tin oxide coating. To avoid unacceptable blurring, these coatings were made using higher tin oxide concentrations and higher tint gas rates.

실시예 1 (비교예)Example 1 (Comparative Example)

상기한 모노부틸 주석 트리클로라이드로 부터 출발한 전구체을 사용하여 주석산화물 코팅층을 4 개의 병위에 증착시켰다. 이것의 마무리에서, 담채가스로서 공기, 공기 1 몰당 1.5 x 10-4의 비율의 주석 산화물 및 공기 100 몰당 2.3 몰 농도의 수증기로 이루어진 가스 혼합물을 600 ℃ 의 온도를 초래하는 유리병의 표면에 부딪치게 했다. 공기의 속도는 3 m/sec 였다. 2.5 초 이내에 상기의 증착이 일어났다. 약 35 CTU 의 두께를 가지는 주석산화물 코팅층이 얻어졌다. 상기 병들중 두개는 미국 특허 제 4.130,673 호에 기술된 공정에 따른 폴리(에틸렌 산화물)의 수성 현탁액의 분쇄를 통해서 왁스 코팅으로 칠하여 처리되었다. 이들 두 개의 병은 450 뉴톤의 긁힘에 대한 저항성을 보였다. 각 하기의 실시예에서 기술된 것처럼 코팅된 병들은 같은 방법으로 왁스코팅으로 칠한 후에, 긁힘에 대해 똑같은 우수한 저항력을 나타냈다. 다른 두 개의 병들은 80 ℃에서 4 % 의 부식성 용액에서 몇가지 세척 테스트를 수행 하였다. 주석산화물 코팅층은 15 분의 세척후에 많이 손상 되었고 30 분의 세척후에는 완전히 제거 되었다.A tin oxide coating layer was deposited on four bottles using precursors starting from monobutyl tin trichloride as described above. At the conclusion of this, a gas mixture consisting of air as tint gas, tin oxide at a rate of 1.5 x 10 -4 per mole of air, and water vapor at a 2.3 mole concentration per 100 moles of air, hits the surface of the glass bottle resulting in a temperature of 600 ° C. did. The speed of air was 3 m / sec. The deposition took place within 2.5 seconds. A tin oxide coating layer having a thickness of about 35 CTU was obtained. Two of these bottles were treated with wax coating through grinding of an aqueous suspension of poly (ethylene oxide) according to the process described in US Pat. No. 4.130,673. These two bottles showed scratch resistance of 450 Newtons. The coated bottles, as described in each of the following examples, showed the same excellent resistance to scratching after wax coating in the same manner. The other two bottles were subjected to several cleaning tests in 4% caustic solution at 80 ° C. The tin oxide coating layer was much damaged after 15 minutes of washing and completely removed after 30 minutes of washing.

실시예 2 (비교예)Example 2 (Comparative Example)

유리병 표면에서 600 ℃ 의 온도를 포함하여 실시예 1 에 기술되어 있는 일반적인 코팅 과정을 사용하였다. 100 CTU, 150 CTU 및 200 CTU 의 두께를 가진 주석산화물 코팅층이 공기 1 몰당 1 x 10-3몰 비율인 모노부틸 주석 트리클로라이드와 공기 100 몰당 2.3 몰 농도인 수증기를 포함하는 가스 혼합물로 부터 출발하여 형성되었다. 상기 공기의 속도는 5 m/sec 였다. 상기 증착간격은 각각 3 초, 4.5 초, 6 초 였다. 상기 코팅층 두께는 실시예 1 의 코팅층 두께보다 컸다. 실시예 1 의 조건하에 한시간의 세척후에 모든 주석산화물은 손상되고 부분적으로 제거되었다.The general coating procedure described in Example 1 was used including a temperature of 600 ° C. at the vial surface. The tin oxide coating layer having a thickness of 100 CTU, 150 CTU and 200 CTU starts from a gas mixture containing monobutyl tin trichloride at a ratio of 1 x 10 -3 moles per mole of air and water vapor at 2.3 moles per 100 moles of air. Formed. The velocity of the air was 5 m / sec. The deposition intervals were 3 seconds, 4.5 seconds and 6 seconds, respectively. The coating layer thickness was greater than the coating layer thickness of Example 1. After an hour of washing under the conditions of Example 1 all tin oxide was damaged and partially removed.

실시예 3Example 3

유리병 표면에서 600 ℃ 의 온도를 포함하여 실시예 1 에 기술되어 있는 일반적인 코팅층 과정을 사용하였다. 본 실시예에서 두 개의 다른 코팅층 두께를 가진 병을 준비하였다. 병에 코팅층을 형성하는데 사용되는 가스 혼합물은 공기 1 몰당 1 x 10-3몰 비율인 모노부틸 주석 트리클로라이드, 두 개의 금속 화합물의 혼합물이 50 몰% 비율인 테트라에톡시 실란, 및 공기 100 몰당 2.3 몰의 농도인 수증기로 이루어졌다. 공기의 속도는 5 m/sec 였다. 상기 증착 간격은 각각 4.5 초, 6 초 였다. 얻어진 코팅층은 150 CTU 및 200 CTU 의 두께를 가졌다. 그들은 어떤 흐릿함도 보이지 않았다. 상기한 실시예의 조건에서 실현된 것처럼 부식성의 용액으로 세척에 대한 저항성에 관해 말하자면, 12 시간 세척한 후에 150 CTU 의 두께를 가지는 코팅층은 단지 약간의 흐릿함을 보이고 200 CTU 의 코팅층은 어떠한 손상도 보이지 않았다.The general coating layer procedure described in Example 1 was used including a temperature of 600 ° C. at the vial surface. In this example, bottles with two different coating layer thicknesses were prepared. The gas mixture used to form the coating layer on the bottle is monobutyl tin trichloride at 1 x 10 -3 mole ratio per mole of air, tetraethoxy silane at a 50 mole percent ratio of the mixture of two metal compounds, and 2.3 per 100 moles of air. It consisted of water vapor, the concentration of moles. The speed of air was 5 m / sec. The deposition intervals were 4.5 seconds and 6 seconds, respectively. The obtained coating layer had a thickness of 150 CTU and 200 CTU. They showed no blur. As for the resistance to washing with a corrosive solution as realized under the conditions of the above embodiment, after 12 hours of washing, the coating layer having a thickness of 150 CTU only showed a slight blur and the coating layer of 200 CTU showed no damage. .

실시예 4Example 4

실시예 3 에서 처럼 병위에 코팅층을 형성하고, 단 테트라에톡시 실란 대신 테트라프로폭시 실란을 사용했다. 실시예 3 에서와 비숫한 결과가 얻어졌다.A coating layer was formed on the bottle as in Example 3, except that tetrapropoxy silane was used instead of tetraethoxy silane. Results similar to those in Example 3 were obtained.

실시예 5Example 5

실시예 3 에 기술된 것처럼 150 CTU 두께의 코팅층을 형성했다. 그러나 사용된 가스 혼합물내에 수증기 농도는 다양했다. 상기 농도는 각각 공기 100 몰당 8 몰과 14 몰 이었다. 얻어진 모든 코팅층은 실시예 3 의 200 CTU 코팅층의 저항성처럼 부식성 용액 세척에 대해 똑같이 우수한 저항성을 보였다.A 150 CTU thick coating layer was formed as described in Example 3. However, the water vapor concentration in the gas mixture used varied. The concentrations were 8 moles and 14 moles per 100 moles of air, respectively. All of the coatings obtained showed equally good resistance to caustic solution cleaning as the resistance of the 200 CTU coating of Example 3.

실시예 6Example 6

모노부틸 주석 산화물 대신에 주석 테트라 클로라이드 또는 모노부틸 주석 트리클로라이드가 사용되는 것을 제외하고는 실시예 3 과 같은 공정이었다. 두 가지 경우에 실시예 3 과 같은 결과를 얻었다.The process was the same as in Example 3 except that tin tetrachloride or monobutyl tin trichloride was used instead of monobutyl tin oxide. In both cases, the same results as in Example 3 were obtained.

실시예 7Example 7

유리병 표면의 다른 온도가 사용되는 것을 제외하고( 즉 575 ℃ 과 625 ℃) 실시예 3 과 같은 공정이었다. 상기 높은 온도에서 증착 속도가 거의 같기 때문에 증착간격은 각각 150 CTU 의 코팅층 두께는 4.5 초 였고 200 CTU 의 코팅층층 두께는 6 초였다. 두 가지 코팅층 두께의 경우에, 부식성 용액으로 세척에 대한 저항성은 유리표면의 온도가 575 ℃인 경우 매우 만족스럽고, 유리표면의 온도가 625 ℃ 일 경우 우수하였다.The process was the same as in Example 3 except that different temperatures on the glass bottle surface were used (ie 575 ° C. and 625 ° C.). Since the deposition rates were almost the same at the high temperature, the deposition intervals were 150 CTU for the coating layer thickness of 4.5 seconds and 200 CTU for the coating layer thickness of 6 seconds. In the case of two coating layers, the resistance to washing with corrosive solutions was very satisfactory when the glass surface temperature was 575 ° C., and was excellent when the glass surface temperature was 625 ° C.

실시예 8Example 8

유리병 표면에서 600 ℃ 의 온도로 이루어진 실시예 3 에 기술된 일반적인 코팅층 과정이 사용되었다. 본 실시예에서 200 CTU 의 두께를 가진 코팅층이 준비 되었고, 반면에 실리콘 화합물에 대한 주석 산화물의 다양한 비율이 코팅층의 형성에 사용되었다. 모노부틸 주석 트리클로라이드는 공기 1 몰당 1 x 10-3몰의 비율로 사용되었다. 테트라에톡시 실란의 농도는 다양했다. 수증기는 11.5 의 주석산화물 + 실리콘 화합물의 몰비율에서 존재했고, 이것은 공기 100 몰당 1.3- 3.45 몰의 수증기 양에 해당한다. 코팅층된 병은 앞의 예에서 기술된 바와 같이 부식성 용액으로 6시간 세척에 맡겨졌다. 상기 주석 화합물/실리콘 화합물 비율과 세척 테스트의 결과가 아래의 표1에 주어졌다.The general coating layer procedure described in Example 3 with a temperature of 600 ° C. on the glass bottle surface was used. In this example, a coating layer having a thickness of 200 CTU was prepared, while various ratios of tin oxide to silicon compound were used to form the coating layer. Monobutyl tin trichloride was used at a rate of 1 x 10 -3 moles per mole of air. The concentration of tetraethoxy silanes varied. Water vapor was present at a molar ratio of tin oxide plus silicon compound of 11.5, which corresponds to 1.3 to 3.45 moles of water vapor per 100 moles of air. The coated layer was left to rinse for 6 hours with a caustic solution as described in the previous example. The tin compound / silicon compound ratio and the results of the wash test are given in Table 1 below.

몰 비율주석화합물/실리콘화합물Molar Ratio Tin Compound / Silicon Compound 세척테스트Cleaning test 0.5(비교예)0.5 (comparative) 매우 흐릿함;코팅층이 심하게 손상됨Very blurry; coating layer badly damaged 0.60.6 약간 흐릿함Slightly blurred 0.90.9 흐릿함 없음(=매우 깨끗함)No blur (= very clean) 1.21.2 약간 흐릿함Slightly blurred 1.51.5 약간 흐릿함Slightly blurred 3.4(비교예)3.4 (Comparative Example) 흐릿함;코팅층이 손상됨Blurry; coating layer damaged 10.1(비교예)10.1 (Comparative Example) 매우 흐릿함;코팅층이 심하게 손상됨Very blurry; coating layer badly damaged

흐릿함 없음 이 가장 바람직한 결과이고 약간 흐릿함 이 막족스러운 결과이기 때문에, 실리콘에 대한 주석 화합물의 몰 비율이 바람직하게 0.6 내지 1.5 범위내에서 선택되어지는 것이 명백할 것이다.Since no haze is the most desirable result and a little hazy is a satisfactory result, it will be evident that the molar ratio of tin compound to silicon is preferably selected within the range of 0.6 to 1.5.

Claims (14)

주석산화물(SnO2)의 열분해성 전구체(증발된 형태로 존재)와 실리콘산화물(SiO2)의 열분해성 전구체(증발된 형태로 존재)를 포함하고( 후자에 대한 전자의 몰비가 0.6 내지 3.0 ) 및 추가로 담채가스 100 몰당 적어도 1몰의 양으로 수증기를 함유하는 산소성의 담채가스의 스트림이 주석산화물 및 실리콘산화물로 이루어진 혼합된 산화물 보호코팅층을 증착시키도록, 상기 전구체의 분해온도 이상이고 적어도 550 ℃ 가 되는 온도를 가지는 상기 제품의 표면에 균일하게 부딪치게 되고, 상기 증착이 240 내지 1,500 Å 의 코팅두께가 얻어질 때까지 계속되는 유리 또는 세라믹 제품의 표면에 보호코팅층을 제조하는 방법.Pyrolytic precursor (in evaporated form) of tin oxide (SnO 2 ) and pyrolytic precursor (in evaporated form) of silicon oxide (SiO 2 ) (the former molar ratio of the latter to 0.6) And further wherein the stream of oxygenous tint gas containing water vapor in an amount of at least 1 mol per 100 moles of tint gas deposits a mixed oxide protective coating layer of tin oxide and silicon oxide and is at least 550 in decomposition temperature of the precursor. A method of producing a protective coating layer on a surface of a glass or ceramic article, which hits the surface of the article with a temperature of < RTI ID = 0.0 > C < / RTI > uniformly and continues until the deposition is achieved with a coating thickness of 240-1,500 Pa. 제 1 항에 있어서, 실리콘산화물의 전구체에 대해 주석산화물의 전구체의 몰비율이 최대 2.0 인 방법.The method of claim 1 wherein the molar ratio of the precursor of tin oxide to the precursor of silicon oxide is at most 2.0. 제 2 항에 있어서, 실리콘산화물의 전구체에 대해 주석산화물의 전구체의 몰비율이 최대 1.5 인 방법.The method of claim 2 wherein the molar ratio of the precursor of tin oxide to the precursor of silicon oxide is at most 1.5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한항에 있어서, 담채가스가 담채가스 1 몰당 주석산화물의 전구체 0.5 x 10-4내지 2 x 10-2몰을 함유하는 방법.The process according to any one of claims 1 to 3, wherein the immersion gas contains 0.5 x 10 -4 to 2 x 10 -2 moles of precursor of tin oxide per mole of immersion gas. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한항에 있어서, 담채가스가 100 ℃ 내지 210 ℃, 바람직하게 120 ℃ 내지 180 ℃ 의 온도를 갖는 방법.5. The process according to claim 1, wherein the tinted gas has a temperature of 100 ° C. to 210 ° C., preferably 120 ° C. to 180 ° C. 6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한항에 있어서, 가스 스트림을 제품표면에 코팅시키기 위해 1-10 m/s 의 속도로 부딪치는 방법.The method of claim 1, wherein the gas stream impinges at a rate of 1-10 m / s to coat the product surface. 7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한항에 있어서, 코팅시키려는 표면의 온도를 코팅공정동안 적어도 570 ℃의 값으로 유지시키는 방법.The method of claim 1, wherein the temperature of the surface to be coated is maintained at a value of at least 570 ° C. during the coating process. 제 7 항에 있어서, 코팅시키려는 표면의 온도를 코팅공정동안 적어도 600 ℃의 값으로 유지시키는 방법.The method of claim 7, wherein the temperature of the surface to be coated is maintained at a value of at least 600 ° C. during the coating process. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한항에 있어서, 주석산화물의 열분해성 전구체는 모노알킬 주석 트리클로라이드, 모노알킬 주석 트리브로마이드, 디알킬 주석 디클로라이드, 디알킬 주석 디브로마이드 및 주석 테트라클로라이드로 부터 선택되어지는 방법.The thermally degradable precursor of tin oxide is selected from monoalkyl tin trichloride, monoalkyl tin tribromide, dialkyl tin dichloride, dialkyl tin dibromide and tin tetrachloride. How is it done. 제 9 항에 있어서, 주석산화물의 열분해성 전구체는 모노메틸 주석 트리클로라이드, 모노부틸 주석 트리클로라이드 및 디메틸 주석 디클로라이드로 부터 선택되어지는 방법.10. The process of claim 9, wherein the pyrolytic precursor of tin oxide is selected from monomethyl tin trichloride, monobutyl tin trichloride and dimethyl tin dichloride. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 10, 실리콘 화합물의 열분해성 전구체는 식 RnSiX(4-n)( R 이 알킬, 알케닐, 알키닐 또는 1 개 내지 5 개의 탄소원자를 갖는 알콕시 그룹, 또는 페닐그룹; X 가 할로겐 원자 또는 히드록시기 : 및 n 이 0 내지 4 의 숫자) 을 갖는 화합물인 방법.Pyrolytic precursors of silicone compounds are of the formula R n SiX (4-n) where R is alkyl, alkenyl, alkynyl or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group; X is a halogen atom or a hydroxyl group: and n is a number having from 0 to 4). 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한항에 있어서, 상기증착은 450 Å내지 900Å 의 코팅두께가 얻어질 때까지 계속되는 방법.The method according to claim 1, wherein the deposition is continued until a coating thickness of 450 kPa to 900 kPa is obtained. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한항에 있어서, 상기증착은 담채가스로서 공기를 사용하는 대기압력 CVD 에 의해 실행되는 방법.13. The method according to any one of claims 1 to 12, wherein the deposition is carried out by atmospheric pressure CVD using air as the soak gas. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한항에 있어서, 상기 보호코팅층은 반복 사용을 목적으로 하는 유리용기 또는 도자기의 외부표면 위에 생성되는 방법.14. A method according to any one of the preceding claims, wherein said protective coating layer is produced on the outer surface of a glass container or porcelain for repeated use.
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