KR19980081043A - 화장품용 세정제 조성물 및 그 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 화장품용으로 허용되는 매질 내에서 하기의 성분으로 이루어진 새로운 세제 조성물 및 상기 조성물을 피부 및 모발과 같은 케라틴 물질의 세정(cleaning) 및 보호에 사용하는 것과 관련된 것이다:
(A) 1종 이상의 에테르 술페이트 음이온성 계면 활성제 및 1종 이상의 알킬 베타인(alkylbetain) 형 계면 활성제로 이루어진 세정 기초제(washing base) 및 ,
(B) 1종 이상의 디메틸디알릴 암모늄 양이온성 고분자(cationic polymer) 및 1종 이상의 아미노 실리콘으로 이루어진 컨디셔닝 시스템.

Description

화장품용 세정제 조성물 및 그 용도
본 발명은 향상된 특성을 지닌 새로운 화장품용 조성물에 관련된 것으로 상기 조성물은 케라틴 물질의 세정 및 컨디셔닝을 위해 고안되었고, 화장품용으로 허용되는 운반체 내에 세정력이 우수한 계면 활성제로 구성된 세정 기초제로 이루어져 있으며, 또한 상기 조성물 내에는 아미노 실리콘들과 함께 양이온성 고분자들이 컨디셔너로서 존재한다. 본 발명은 또한 앞서 언급된 화장품용 응용에 있어서 상기 조성물의 용도와도 관련되어 있다.
음이온성, 비이온성 및/또는 특히 양쪽 이온성(amphoteric), 보다 특히 음이온성 표준 계면 활성제를 필수적으로 함유한 세정제 조성물을 사용하여 피부 또는 모발을 청결히 하는 것 및/또는 세정하는 것은 보편적인 일이다. 상기 조성물들을 젖은 상태의 모발 또는 피부에 바르고, 손으로 맛사지하거나 문질러 발생된 거품이, 물로 헹군 후, 피부 또는 모발에 존재하고 있던 여러 가지 형태의 오염물(soiling)을 제거한다.
명백하게, 상기의 기초 조성물(base composition)들은 우수한 세정력을 가지고 있으나, 그럼에도 불구하고 이러한 세정 처리의 비교적 공격적인 성질은 결국 모발 섬유에 다소 뚜렷한 손상을 가져온다는 사실 때문에, 상기 조성물들의 고유 미용 특성(cosmetic properties)은 상당히 나쁜데, 이러한 손상은 섬유 표면 상 또는 내부에 함유된 지질 또는 단백질의 점진적 제거와 관련되어 있다.
따라서 상기 세정제 조성물, 특히 민감성 모발(sensitized hair)(즉, 특히 대기제(atmospheric agent)의 화학 작용 및/또는 웨이브 파마, 염색 또는 탈색(bleaching)과 같은 헤어 트리트먼트로 인해 손상되거나 약해진 모발)에 적용될 세정제 조성물의 미용 특성을 개선하기 위해서 컨디셔너라고 알려진 첨가 미용제(additional cosmetic agent)를 도입하는 것이 현재 보편화되어 있는데, 상기 컨디셔너들은 주로 모발 섬유에 다소 반복적으로 가해지는 각종 트리트먼트 또는 공격에 의해 유도된 해롭거나 바람직하지 못한 효과를 보수하거나 제한하기 위한 것이다. 물론, 상기 컨디셔너들은 천연 모발의 미용적 거동(cosmetic behavior)을 향상시킬 수 있다.
샴푸에서 가장 보편적으로 사용되기 시작한 컨디셔너들은 양이온성 고분자, 실리콘 및/또는 실리콘 유도체들로서, 상기의 컨디셔너들은 세정된, 건조 또는 습윤 상태의 모발의 엉킴을 풀기 쉽게 하고, 컨디셔너가 빠진 세정 조성물에서 얻을 수 있는 것보다 향상된 부드러움 및 매끄러움을 모발에 제공한다.
민감성 모발에서, 모발 섬유 전체 길이에 걸쳐 실리콘의 미용 효과를 얻기 위해서는 실리콘 및 양이온성 고분자의 조합이 바람직하게 사용된다.
그러나, 최근 실리콘과 양이온성 고분자에 기초한 샴푸 분야에서의 발전에도 불구하고, 상기 샴푸들은 실질적으로는 완전히 만족스럽지는 않으며, 앞서 언급된 하나 이상의 미용 특성에 대하여 더 좋은 기능을 제공하는 새로운 제품을 제공할 수 있는 것에 관하여 강한 요구가 현재에도 여전히 존재한다.
본 발명은 이러한 요구를 만족시키기 위한 것이다.
그래서, 본 문제에 대한 상당한 연구 끝에, 본 발명자들은 매우 놀랍게도 (A) 특정한 세정 기초제(washing base) 및 (B) 하기에 정의된 1종 이상의 특정 양이온성 고분자 및 1종 이상의 아미노 실리콘으로 이루어진 컨디셔닝 시스템을 사용함으로써, 미용 특성, 특히 처리된 모발의 엉킴을 푸는 것(디스인텡글링; disentangling), 부드러움, 유연함(suppleness) 및 볼륨에 관한 훌륭한 미용 특성을 가지는 동시에 우수한 고유의 세정력을 유지하는 세정제 성분을 얻을 수 있는 사실을 알아내었다.
그래서, 본 발명에서는 화장품용으로 허용되는 매질 내에 (A) 1종 이상의 알킬 에테르 술페이트형 음이온성 계면 활성제 및 1종 이상의 C8∼C20의 알킬 베타인 형 양쪽 이온성 계면 활성제로 이루어진 세정 기초제 및 (B) 1종 이상의 아미노 실리콘 및 사슬의 주된 구성 요소로써 하기 일반식 (I) 및/또는 (I′)에 해당하는 단위를 함유하는 단일 중합체로부터 선택된, 1종 이상의 양이온성 공중합체로 구성된 컨디셔닝 시스템으로 이루어진 새로운 세정제 조성물이 제안되었다.
단 식 중, k 및 t는 0 또는 1이며, 이때, 합 k＋t는 1이고; R3은 수소 원자 또는 메틸기이며; R1및 R2는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 22의 알킬기, 알킬기가 바람직하게는 1 내지 5개의 탄소 원자를 가지는 하이드록시 알킬기, 저급(탄소수가 1 내지 5) 아미도 알킬기를 나타내거나, 또는 R1및 R2는, 피페리딜(piperidyl) 또는 몰포리닐(morpholinyl)과 같이, 이들이 결합되어 있는 질소 원자와 함께 헤테로사이클기를 나타낼 수 있고; Y-는 브롬 이온, 염소 이온, 아세테이트, 보레이트(borate), 시트레이트(citrate), 타르트레이트(tartrate), 바이술페이트(bisulphate), 바이술파이트(bisulphite), 술페이트, 또는 포스페이트와 같은 음이온이다.
또한, 본 발명의 주제는 모발 및 피부와 같은 케라틴 물질의 세정 및 컨디셔닝을 위해 상기의 조성물을 화장품용으로 사용하는 것이다.
예를 들어, 조성물들은 피부(예를 들어 얼굴, 목 또는 입술), 속눈썹 또는 눈썹과 같은 케라틴 물질로부터 화장(make-up)을 지우기 위해 사용될 수 있다.
그러나, 본 발명의 또다른 특징, 양상 및 이점은 하기의 상술 뿐만 아니라, 제한적이지 않으며 설명을 위한 구체적 실시예에 의해 보다 명확히 드러날 것이다.
앞서 지적한 바와 같이, 본 발명의 모발 제품 조성물의 부분을 형성하는 필수 구성요소는 (A) 세정 기초제, (B) (i) 1종 이상의 아미노 실리콘 및 (ii) 1종 이상의 특정 양이온성 고분자로 이루어진 컨디셔닝 시스템이다.
(A)세정 기초제:
본 발명에 따른 조성물은 반드시 세정 기초제를 함유하며, 상기 기초제는 일반적으로 수성이고, 1종 이상의 알킬 에테르 술페이트형 음이온성 계면 활성제들 및 1종 이상의 C8∼C20의 알킬 베타인형 양쪽 이온성 계면 활성제들로 이루어져 있다.
세정 기초제의 최소량은 최종 조성물에 만족할만한 거품 형성능 및/또는 세정력을 제공하기에 충분한 양이며, 과량의 세정 기초제는 사실상 별도의 이점을 제공하지 않는다.
따라서, 본 발명에 따라서, 세정 기초제는 최종 조성물 총 중량의 2 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 35 중량%, 심지어 보다 바람직하게는 12 내지 25 중량%로 나타날 수 있다.
(i)알킬 에테르 술페이트형 음이온성 계면 활성제 (들):
본 발명과 관련하여, 단독 또는 혼합물로 사용될 수 있는 알킬 에테르 술페이트형 음이온성 계면 활성제들은 알킬 에테르 술페이트, 알킬 아미도 에테르 술페이트, 알킬아릴 에테르 술페이트; 알킬 에테르 술포숙시네이트의 염(특히 알칼리성 염, 무엇보다 나트륨 염, 암모늄 염, 아민염, 아미노 알콜염 또는 마그네슘 염들)이며, 상기의 모든 각종 화합물의 알킬 또는 아실기는 바람직하게는 8 내지 24 개의 탄소 원자를 함유하고, 아릴기는 바람직하게는 페닐 또는 벤질기로 표시될 수 있다.
에틸렌 옥사이드 또는 프로필렌 옥사이드기의 평균 개수는 특히 2 내지 50, 무엇보다, 2 내지 10의 범위에 있을 수 있다.
상기의 음이온성 계면 활성제들 중에서, C8∼C14및 특히 C12∼C14의 알킬 에테르 술페이트염들이 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 염들은 특히 2 내지 5개의 에틸렌 옥사이드기들로 이루어져 있다.
음이온성 계면 활성제들은 일반적으로 조성물의 총 중량에 대하여 1 내지 50 중량%, 바람직하게는 5 내지 20 중량%의 비율로 존재한다.
(ii)양쪽 이온성 계면 활성제(들):
본 발명에 따르면, 양쪽 이온성 계면 활성제들은 하기 일반식의 (C8∼C20) 알킬 베타인들로부터 선택되어야 한다.
단, 식 중 R은 C8∼C20의, 바람직하게 C10∼C14및, 보다 바람직하게는 C12∼C14의 직쇄 또는 측쇄 알킬기이다.
특히, 헨켈사에서 Dehyton AB 30이라는 상품명으로 시판되는 코코베타인이 바람직하게 사용된다.
양쪽 이온성 계면 활성제는 일반적으로 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 50중량%, 바람직하게는 1 내지 20 중량%의 비율로 존재한다.
(B)컨디셔닝 시스템
(i) -아미노 실리콘:
본 발명에 따른 세정제 조성물의 필수 특징에 따라서, 상기 조성물들은 추가로 1종 이상의 아미노 실리콘을 함유한다.
일반적으로 받아들여지는 정의에 따라서, 상기 및 하기의 용어, 실리콘 또는 폴리 실록산은 직쇄 또는 고리, 측쇄 또는 가교된 구조를 가진, 여러 가지 분자량의 임의의 유기 실리콘 고분자 또는 올리고머를 나타내는 것으로, 상기의 고분자 또는 올리고머는 적절한 관능기를 가진 실란의 중합 및/또는 중축합(polycondensation)으로 얻어지며, 실리콘 원자들이 산소 원자들에 의해 서로 연결되어 있고(실록산 결합 ≡Si-O-Si≡), 임의로 치환된 탄화수소가 탄소 원자를 통하여 상기 실리콘 원자에 연결된, 주요 반복 단위들로 반드시 이루어져 있다. 가장 보편적인 탄화수소기는 알킬기, 특히 C1∼C10알킬기, 특히 메틸, 플루오로알킬기, 아릴기, 특히 페닐, 및 알케닐기, 특히 비닐기이고; 직접 또는 탄화수소기를 통하여 실록산 쇄에 연결 가능한 다른 형태의 기들은 특히, 수소, 할로겐, 특히 염소, 브롬 또는 불소, 티올, 알콕시기, 폴리옥시알키렌(또는 폴리 에테르)기들, 특히 폴리 옥시에틸렌 및/또는 폴리옥시프로필렌, 하이드록실 또는 하이드록시 알킬기들, 아마이드기들, 아실옥시 또는 아실옥시알킬기들, 양쪽 이온성 또는 베타인기들, 카르복실레이트, 티오글리콜레이트, 술포숙시네이트, 티오술페이트, 포스페이트 및 술페이트와 같은 음이온기들이지만, 상기의 목록이 명확히 한정된 것은 아니다(이른바, 유기 변성된(organomodified) 실리콘).
본 발명에 따르면, 아미노 실리콘이라는 용어는 1종 이상의 1급, 2급 또는 3급 아민 또는 4급 암모늄기를 함유한 임의의 실리콘을 나타낸다. 따라서 다음과 같이 말할 수 있다.:
(a) CTFA 사전에 아모디메티콘(amodimethicone)으로 언급된, 하기의 일반식에 해당하는 폴리 실록산:
단, 식 중, x′ 및 y′은 분자량에 따른 정수이며, 일반적으로 상기 무게 평균 분자량이 대략 5,000 내지 500,000 사이인 정수이다.
(b) 하기 일반식에 따른 아미노 실리콘:
R′aG3-a-Si(OSiG2)n-(OSiGbR′2-b)m-O-SiG3-a-R′a(Ⅲ)
단 식 중, G는 수소 원자 또는 페닐, OH 또는 C1∼C8의 알킬기, 예를 들어 메틸이며, a는 숫자 0 또는 1 내지 3의 정수, 특히 0을 나타내고, b는 0 또는 1, 및 특히 1을 나타내며, m 및 n은 합(n＋m)이 1 내지 2000, 특히 50 내지 150 의 범위인 숫자일 수 있는데, 여기서, n은 0 내지 1999 의 수, 특히 49 내지 149 의 수를 나타낼 수 있고, m은 1 내지 2000 및 특히 1 내지 10 의 수를 나타낼 수 있다; R＇은 일반식 -CqH2qL 의 1가 기(monovalent radical)로, 여기서 q는 2 내지 8의 수이고, L은 하기의 군으로부터 선택된, 임의로 4가화된 아민기이다.
-NR″-CH2-CH2-N＇(R″)2
-N(R″)2
-N＋(R″)3A-
-NH＋(R″)2A-
-NH2 ＋(R″)A-
-N(R″)-CH2-CH2-N＋R″H2A-
단, 식 중, R″는 수소, 페닐, 벤질, 또는 포화된 1가(monovalent)의 탄화수소기, 예를 들어 탄소수 1 내지 20의 알킬기이며, A-는 예를 들어 불소 이온, 염소 이온, 브롬 이온 또는 요오드 이온와 같은 할로겐 이온이다.
상기 정의에 의한 생성물은 트리메틸시릴아모디메티콘 (trimethylsilylamodi methicone)이라고 알려진 하기의 일반식에 해당하는 것이다.
단, 식 중, n과 m은 상기에서 주어진 바(cf. 일반식(Ⅲ))와 같다.
상기의 고분자들은, 예를 들어, 특허 출원 EP-A-95238에 서술되어 있다.
(c) 하기의 일반식에 해당하는 아미노 실리콘:
단, 식 중, R5는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기, 특히 C1∼C18의 알킬 또는 C2∼C18의 알케닐기, 예를 들어 메틸을 나타내며; R6은 2가(divalent)의 탄화수소기, 특히 C1∼C18의 알킬렌기 또는 SiC 결합에 의해 Si에 연결된, 2가의 C1∼C18,예를 들어 C1∼C8의 알킬렌옥시기를 나타내고; Q-는 할로겐 이온, 특히 염소 이온 또는 유기산염(아세테이트 등)과 같은 음이온이며; r은 2 내지 20, 특히 2 내지 8 사이의 평균 통계값(average statistical value)을 나타내고; s는 20 내지 200, 특히 20 내지 50 의 평균 통계값을 나타낸다.
이러한 아미노실리콘들은 특히 미국 특허 4,185,087에 서술되어 있다.
상기 분류에 해당하는 실리콘은 유니온 카바이드(Union Carbide)사의 상품명 Ucar Silicone ALE 56으로 판매되고 있다.
(d) 하기 일반식의 4급 암모늄 실리콘:
식 중, R7은 동일하거나 다를수 있고, 탄소수 1 내지 18의 1가 탄화수소기, 특히 C1∼C18의 알킬기, C2∼C18의 알케닐기, 또는 5 또는 6개의 탄소로 이루어진 고리로, 예를 들면 메틸이고; R6은 2가의 탄화수소기, 특히 C1∼C18의 알킬렌기 또는 SiC 결합에 의해 Si에 연결되어 있는, 2가의 C1∼C18,예를 들어 C1∼C8의, 알킬렌옥시기를 나타낸다. R8은 동일하거나 다를 수 있으며, 수소 원자, 1 내지 18개의 탄소 원자를 가지는 1가의 탄화수소기 및, 특히 C1∼C18의 알킬 또는 C2∼C18의 알케닐기 또는 -R6-NHCOR7기를 나타낼 수 있고; X-는 할로겐 이온, 특히 염소 이온, 또는 유기산염 (아세테이트, 등)이며; r은 2 내지 200, 특히 5 내지 100의 평균 통계치를 나타낸다.
상기 실리콘들은 예를 들어 출원 EP-A-0,530,974에 서술되어 있다.
상기 분류에 해당하는 실리콘은 골드슈미트사(company Goldschmidt)의 상품명 Abil Quat 3270, Abil Quat 3272, 및 Abil Quat 3474로 시판되고 있다.
(e) 일반식 (Ⅶ)의 아미노 실리콘 :
단, 식 중, R1,R2,R3및 R4는 동일하거나 다를 수 있으며, C1∼C4의 알킬 또는 페닐기를 나타내며; R5는 C1∼C4의 알킬기 또는 하이드록시기이고; n은 1 내지 5의 정수이며; m은 1 내지 5의 정수이고; x는 아민수(amine number)가 0.01 내지 1 meq/g이 되도록 선택된다.
본 발명에 따르면, 아미노 실리콘은 오일 형태, 수성, 알콜성 또는 수성-알콜 용액의 형태, 분산액 또는 유화액의 형태일 수 있다.
특별히 유용한 임의의 구현예는 유화액의 형태, 특히 마이크로에멀젼 또는 나노에멀젼(nanoemulsion)의 형태로 사용하는 것이다.
예를 들어, 다우 코닝(Dow Corning)사의 상품명 케타이오닉 에멀젼(Cationic Emulsion) DC 929로 판매되는 제품이 사용 가능한데, 상기 제품은 아모디메티콘 이외에도, 논옥시놀(Nonoxynol) 10이라는 이름으로 알려진 비이온성 계면 활성제와 함께, 탈로트리모니움(tallotrimonium)(CTFA)이라고 인용되는 수지(tallow) 지방산으로부터 유도된 양이온성 계면 활성제로 이루어진다.
예를 들어, 다우 코닝사의 케타이오닉 에멀젼(Cationic Emulsion) DC 939라는 상품명으로 시판되는 제품이 사용 가능한데, 상기 제품은 아모디메티콘 이외에도, 비이온성 계면 활성제인 트리데세쓰 (trideceth)-12와 함께 양이온성 계면 활성제인 트리메틸세틸암모늄 클로라이드로 이루어진다.
본 발명에 따라서 사용 가능한 또다른 시판 제품은 다우 코닝사의 상품명 다우 코닝(Dow Corning) Q2 7224로 시판되는 제품으로, 상기 제품은 일반식(Ⅳ)의 트리메틸시릴아모디메티콘, 옥트옥시놀(octoxynol)-40이라고 알려진 일반식 C8H17-C6H4-(OCH2CH2)n-OH (이때 n은 40)의 비이온성 계면활성제, 이소라우레쓰(isolaureth)-6으로 알려진 일반식 C12H25(OCH2CH2)n-OH(이때 n은 6)의 또다른 비이온성 계면 활성제, 및 글라이콜을 함께 함유한다.
(ii)양이온성 고분자(들):
본 발명의 목적을 위해, 양이온성 고분자라는 표현은 양이온기 및/또는 양이온기로 이온화 가능한 기를 함유하는 임의의 고분자를 나타낸다.
또한, 본 발명에 따른 조성물들은 반드시 하기의 일반식(I) 또는 (I＇) 에 해당하는 단위를 사슬의 주된 구성 요소로서 함유하는 단일 중합체로부터 선택된 양이온성 고분자로 이루어져 있다.
단, 식 중, k 및 t는 0 또는 1이고, 합 k＋t는 1이며; R3은 수소 원자 또는 메틸기이고; R1및R2는 각각 독립적으로, 탄소수가 1 내지 22인 알킬기, 알킬기의 탄소수가 바람직하게는 1 내지 5인 하이드록시알킬기, 저급(탄소수가 1 내지 5) 아미도 알킬기를 나타내거나, 또는 피페리딜 또는 몰포리닐과 같이 R1및R2는 양자가 붙어 있는 질소와 함께 헤테로사이클기를 나타낼 수 있으며; Y-는 브롬, 염소, 아세테이트, 보레이트, 시트레이트, 타르트레이트, 바이술페이트, 바이술파이트, 술페이트 또는 포스페이트와 같이 음이온이다.
상기의 고분자들은 특히 프랑스 특허 2,080,759, 첨가 인증서(Certifaicate of Addition) 2,190,406 또는 미국 특허 3,996,146 및 3,288,770에 서술되어 있다.
바람직하게, R1및 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸을 나타내고, R3은 수소 원자를 나타낸다.
일반적으로 사용되는 양이온성 고분자는 무게-평균 분자량이 5000 내지 대략 5×106이며, 바람직하게는 104내지 대략 5×105이다.
상기에 정의된 고분자 중에서, 특히 칼곤(Calgon)사의 상호명 메르켓 (Merquatⓡ)100으로 시판되고 있는 디메틸디알릴암모늄 클로라이드의 단독 중합체를 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 상기 정의된 아미노 실리콘들을 조성물의 총 중량에 대하여 0.05% 내지 10%, 바람직하게는 0.1% 내지 5%, 보다 바람직하게는 0.2% 내지 3%로 함유할 수 있다.
본 발명에 따르면, 양이온성 중합체는 최종 조성물 중량의 0.001% 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.005% 내지 5 중량%, 보다 바람직하게는 0.01% 내지 3중량%로 나타낼 수 있다.
본 발명에 따른 세정제 조성물을 위한 운반체, 또는 지지체(support)는 바람직하게는 물 또는, 에탄올, 이소프로판올 또는 부탄올과 같은 C1∼C6저급 알콜의 수성-알콜성 용액, 또는 물과 프로필렌 글라이콜 및 글라이콜 에테르 등과 같은 알킬렌 글라이콜의 혼합물이다.
본 발명에 따른 세정제 조성물은 일반적으로 3 내지 10의 최종 pH를 가진다. 바람직하게는 상기 pH는 5.5 내지 8 사이이다. pH는 보통 염기(유기 또는 무기) 예를 들어 수성 암모니아 또는 모노에탄올 아민, 디에탄올 아민, 트리에탄올 아민, 이소프로판올 아민 또는 1,3-프로판디아민과 같은 1차, 2차 또는 3차 (폴리)아민을 조성물에 첨가함에 의해서 조정하거나, 또는, 대신으로 산, 바람직하게는 예를 들어 시트르산과 같은 카르복시산을 첨가함에 의해 필요한 값으로 조정할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 상기에 정의된 조합에 덧붙여, 전해질제(electrolyte), 또는 증점제(thickener)와 같은 점도 조절제(viscosity modifyer)를 함유할 수 있다. 특히 염화나트륨, 나트륨 자이렌술포네이트, 스크레로글루칸(scleroglucans), 잔탄검(xanthan gum), 지방산 알카놀아마이드, 켐(Chem) Y사의 상품명 아미놀(Aminol) A 15로 시판되고 있는 제품과 같이 5몰 이하의 에틸렌 옥사이드로 임의로 옥시에틸렌화된 카르복시산 알킬 에테르의 알카놀아마이드, 가교된 폴리아크릴산 및 아크릴산/C10∼C30의 알킬아크릴레이트의 가교된 공중합체를 언급할 수 있다. 상기 점도 조절제는 본 발명에 따른 조성물 내에서 조성물의 총 중량에 대하여 10%이하 범위의 비율로 사용 가능하다.
또한 본 발명에 따른 조성물은 5% 이하의 진주 광택제(pealescent agent) 또는 불투명화제(opacifier)를 함유할 수 있는데, 상기 화합물은 예를 들어 나트륨 또는 마그네슘 팔미테이트(palmitate), 나트륨 또는 마그네슘 스테아레이트 또는 하이드록시 스테아레이트, 에틸렌 글라이콜 또는 폴리에틸렌 글라이콜의 모노스테아레이트 또는 디스테아레이트와 같이 지방족 사슬을 함유하는 아실 유도체들, 디스테아릴 에테르 또는 1-헥사데실옥시옥타도데카놀과 같은 지방족 에테르(fatty-chain ether)들 등과 같이 당해 분야에서 공지된 화합물들이다.
또한, 본 발명에 따른 조성물들은, 임의로 모발 또는 피부에 미용 특성을 향상시키는 효과가 있는 다른 보조제를 함유할 수 있다. 상기와 관련하여, 양이온성 계면 활성제, 음이온성, 비이온성, 양이온성, 또는 양쪽 이온성 고분자, 단백질, 프로테인 하이드로리세이트(proteinhydrolysate), 세라마이드(ceramide), 유사 세라마이드(pseudoceramide), 하이드록시 산, 비타민, 판테놀(panthenol), 식물성, 동물성, 광물성, 또는 합성 오일들, 및 수용성 또는 지용성 태양광 차단제(sunscreen)들을 언급할 수 있다.
상기의 조성물들은 또한 방향제, 방부제, 이온 봉쇄제(sequestering agent), 거품 안정화제 및 산성화제 또는 염기성화제 등 화장품 산업에서 널리 알려져 있고 통상적으로 사용되는 여러 가지의 보조제를 함유할 수 있다.
말할 필요도 없이, 당해 분야의 전문가들은 상기의 선택적 보조 화합물 및 /또는 상기 화합물의 양을 주의깊게 선택하여, 본 발명에 의한 조합(세정 기초제 ＋ 특정 양이온성 고분자 ＋ 아미노 실리콘)과 관련된 고유의 유리한 성질이 상기 보조 화합물의 첨가에 의해 해로운 영향을 전혀 받지 않거나, 실질적으로 영향을 받지 않도록 한다.
상기 조성물들은 비교적 증점(增粘)된 액체, 크림 또는 겔의 형태이며, 이들은 주로 피부 또는 모발과 같은 케라틴을 세정하고 보호하기 위해 적당하다.
본 발명에 따른 조성물들은 바람직하게는 모발의 세정 및 컨디셔닝을 위한 샴프로서 사용되며, 이 점에서 이들을 세정 유효량으로 젖은 상태의 모발에 바른 후, 물로 헹궈낸다.
본 발명에 의한 조성물들은 또한 모발 및 피부의 수세 및 컨디셔닝을 위한 샤워 겔로써 사용 가능한데, 상기의 경우, 조성물들을 젖은 상태의 모발 또는 피부에 바르고, 바른 후에 헹궈낸다.
본 발명에 따른 조성물들은 또한, 피부, 속눈썹 또는 눈썹과 같은 케라틴 물질로부터 메이크-업을 지우기 위한 약제로서 사용될 수 있다.
본 발명의 또다른 주제는 모발과 같은 케라틴 물질을 수세 및 컨디셔닝하는 방법으로, 상기 방법은 앞서 정의된 조성물의 유효량을 바르고 이어서, 임의로 잠시 동안 조성물을 케라틴 물질 위에 놓아 둔 후, 물로 헹구어 내는 것으로 구성되어 있다.
구체적이나, 한정적이지 않은 본 발명의 실시예들이 하기에 주어진다.
실시예 1
두가지 조성물, 즉, 본 발명에 따른 한가지 조성물(조성물 A) 및 다른 비교 조성물(조성물 B)이 제조되었다.
A 발명 B 비교예
- 2.2 몰의 에틸렌 옥사이드를 함유한 나트륨 라우릴 에테르 술페이트 (70/30 C12/C14)(활성 물질(AM:Active Material)을 70% 함유한 수용액) 15.5 g A.M. 15.5g A.M.
-32%의 활성 물질을 함유한 코코베타인(*) 3.2 g A.M. -
-코코암포디아세테이트(Cocoamphodiacetate)[RP 로부터 미라놀(miranol) C2M Conc.] - 3.2 g A.M.
-양이온성 폴리머(**) 0.6 g 0.6g
-아미노 실리콘(***) 2.45 g A.M. 2.45 g A.M.
-나트륨 세토스테아릴 술페이트 (Sodium cetostearyl sulphate) 0.75 g 0. 75 g
-1헥사데실-옥시옥타도데카놀 및 세틸(cetyl) 알콜의 혼합물 2.5 g 2.5 g
-옥시에틸렌화 데실 알콜 (C10/C12/C14) 0.5g 0.5g
-시트르산 qs pH 5 5
-방향제, 방부제 qs qs
-탈염수(dimineralized water) qs 100g 100g
(*) :데하이톤ⓡAB 30 (헨켈)(**): 디메틸디알릴 암모늄 클로라이드 단일 중합체 (칼곤사의 상품명 Merquatⓡ100 (MW 400,000))(***): 35%의 활성 물질을 함유한 양이온성 에멀젼으로 판매되는 아모디메티콘(다우 코닝사 상품명 플루이드(FLUID DC 939))
미리 젖어있는 모발에 약 12 g의 조성물 A를 발라서 샴푸한다. 샴푸를 거품상으로 하고 이어서, 물로 충분히 헹군다.
상기와 같은 방법을 비교 조성물 B를 가지고 행한다.
전문 시험자들이 젖은 모발의 디스인텡글링(disentangling), 건조된 습윤 모발의 디스인텡글링 및 건조 모발의 부드러움 및 매끄러움을 평가한다.
모든 시험자들이 본 발명에 따른 조성 A로 처리된 모발의 상기 특성들이 현저히 향상됨을 지적하였다.
실시예 2
하기 조성의 샴푸를 제조한다.
-2.2 몰의 에틸렌 옥사이드를 함유한 나트륨 라우릴 에테르 술페이트 (70/30 C12/C14)(28%의 A.M.을 함유한 수용액) 14 g A.M.
-활성 물질(A.M.)을 32% 함유한 코코베타인(*) 3.2 g A.M.
-양이온성 고분자(**) 0.1 g
-아미노 실리콘(***) 1.05 g A.M.
-1-헥사데실옥시 옥타도데칸올 및 세틸 알콜의 혼합물 2.5 g
-코코넛 에시드 모노 이소프로판올아마이드 0.6 g
-2-아미노-2-메틸-1-프로판올 0.125 g
-시트르산 qs pH 5.2
-탈염수 qs 100 g
(*) 디하이톤ⓡAB 30 (헨켈사)
(**) : 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단독 중합체 (칼곤사 상품명 메르켓ⓡ(MW 400,000)으로 시판)
(***): 35%의 활성 물질을 함유한 양이온성 에멀젼으로 판매되는 아모디메티콘 (다우 코닝사 상품명 플루이드(Fluid) DC 939로 시판)
본 발명은 피부 또는 모발과 같은 케라틴 물질의 세정 및 보호에 사용되는 새로운 조성물에 관련된 것으로, 상기의 조성물에 의한 케라틴 물질의 세정에 있어서, 상기 물질의 미용 특성이 현저히 향상된 세정 효과를 가져 온다.

Claims (23)

  1. 화장품용으로 허용되는 매질 내에서, 하기의 성분들로 이루어진 것을 특징으로 하는 세정제 조성물:
    (A) 1종 이상의 알킬 에테르 술페이트형 음이온성 계면 활성제 및 1종 이상의 C8∼C20의 알킬 베타인형 양쪽 이온성 계면 활성제로 이루어진 세정 기초제; 및
    (B) 1종 이상의 아미노 실리콘 및 하기 일반식 (I) 및/또는 (I′)에 해당하는 단위를 사슬의 주된 구성 요소로써 함유하는 단일 중합체로부터 선택된, 1종 이상의 양이온성 공중합체로 이루어진 컨디셔닝 시스템;
    [ 식 중, k 및 t는 0 또는 1이며, 이때, 합 k＋t는 1이고; R3은 수소 원자 또는 메틸기이며; R1및 R2는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 22의 알킬기, 하이드록시 알킬기, 저급(탄소수가 1 내지 5) 아미도 알킬기를 나타내거나, 또는 R1및 R2는 피페리딜 또는 몰포리닐과 같이, 이들이 결합되어 있는 질소 원자와 함께 헤테로사이클기를 나타낼 수 있고; Y-는 브롬 이온, 염소 이온, 아세테이트, 보레이트, 시트레이트, 타르트레이트, 바이술페이트, 바이술파이트, 술페이트, 또는 포스페이트와 같은 음이온이다].
  2. 제 1항에 있어서, R1및 R2은 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸을 나타내며, R3은 수소 원자를 나타내는 조성물.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 양이온성 고분자는 디메틸디알릴 암모늄 클로라이드 단일 중합체들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 알킬 에테르 술페이트형의 음이온성 계면 활성제는 알킬 에테르 술페이트, 알킬아미도 에테르 술페이트, 알킬아릴 에테르 술페이트; 알킬 에테르 술포숙시네이트의 염들인 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 알킬 에테르 술페이트형의 음이온성 계면 활성제는 C10∼ C14의 알킬 에테르 술페이트염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 양쪽 이온성 계면 활성제는 C10∼ C14의 알킬 베타인형인 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 아미노 실리콘이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
    (a) CTFA 사전에 아모디메티콘으로 언급된, 하기의 일반식에 해당하는 폴리 실록산:
    [식 중, x′ 및 y′은 일반적으로 무게 평균 분자량이 5,000 내지 500,000 사이가 되도록 하는 분자량에 따른 정수이다].
    (b) 하기 일반식에 따른 아미노 실리콘:
    R′aG3-a-Si(OSiG2)n-(OSiGbR′2-b)m-O-SiG3-a-R′a(Ⅲ)
    [식 중, G는 수소 원자 또는 페닐, OH 또는 C1∼C8의 알킬기이며, a는 숫자 0 또는 1 내지 3의 정수를 나타내고, b는 0 또는 1을 나타내며, m 및 n은 합(n＋m)이 1 내지 2000 의 범위인 숫자일 수 있으며, 여기서, n은 0 내지 1999의 수를 나타낼 수 있고, m은 1 내지 2000 을 나타낼 수 있다; R＇은 일반식 -CqH2qL 의 1가 기로, 여기서 q는 2 내지 8 의 수이고 L은 하기의 군으로부터 선택된, 4가화될 수 있는 아민기이다:
    -NR″-CH2-CH2-N＇(R″)2
    -N(R″)2
    -N＋(R″)3A-
    -NH＋(R″)2A-
    -NH2 ＋(R″)A-
    -N(R″)-CH2-CH2-N＋R″H2A-
    (식 중, R″는 수소, 페닐, 벤질, 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기와 같이 포화된 1가의 탄화수소기이며, A-는 불소 이온, 염소 이온, 브롬 이온 또는 요오드 이온과 같은 할로겐 이온이다) ].
    (c) 하기의 일반식에 해당하는 아미노 실리콘:
    [식 중, R5는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기를 나타내며; R6은 2가의 탄화수소기 또는 SiC 결합에 의해 Si에 연결된, 2가의 C1∼C18의 알킬렌옥시기를 나타내고; Q-는 할로겐 이온 또는 유기산염과 같은 음이온이며; r은 2 내지 20 사이의 평균 통계값을 나타내고; s는 20 내지 200 사이의 평균 통계값을 나타낸다].
    (d) 하기 일반식의 4급 암모늄 실리콘:
    [식 중, R7은 동일하거나 다를 수 있고, 탄소수 1 내지 18의 1가의 탄화수소기이고; R6은 2가의 탄화수소기 또는 SiC 결합에 의해 Si에 연결된, 2가의 C1∼C18의 알킬렌옥시기를 나타낸다. R8은 동일하거나 다를 수 있으며, 수소 원자, 1 내지 18개의 탄소 원자를 가지는 1가의 탄화수소기 또는 -R6-NHCOR7기를 나타내고; X-는 할로겐 이온 또는 유기산염과 같은 음이온이며; r은 2 내지 200의 평균 통계치를 나타낸다].
    (e) 일반식 (Ⅶ)의 아미노 실리콘
    [식 중, R1,R2,R3및 R4는 동일하거나 다를 수 있으며, C1∼C4의 알킬기 또는 페닐기를 나타내며; R5는 C1∼C4의 알킬기 또는 하이드록시기이고; n은 1 내지 5의 정수이며; m은 1 내지 5의 정수이고; x는 아민수가 0.01 내지 1 meq/g이 되도록 선택된다].
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기의 음이온성 계면 활성제(들)는(은) 조성물의 총 중량에 대하여 1 내지 50 중량%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기의 양쪽 이온성 계면 활성제(들)는(은) 조성물의 총 중량에 대하여 1 내지 50 중량%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기의 양이온성 고분자는 조성물의 총 중량에 대하여 0.001% 내지 10 중량%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기의 아미노 실리콘은 조성물의 총 중량에 대하여 0.05 내지 10 중량%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 세정 및/또는 컨디셔닝 및/또는 케라틴 물질로부터 메이크 업 제거를 위해 사용되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 1 항에 있어서, 하이드록시 알킬기는 알킬기가 1 내지 5 개의 탄소 원자를 가지는 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 4 항에 있어서, 모든 각종 화합물의 알킬기 또는 아실기는 8 내지 24의 탄소 원자를 함유하고, 아릴기는 페닐 또는 벤질기를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 5 항에 있어서, 알킬 에테르 술페이트형의 음이온성 계면 활성제는 C12∼C14알킬 에테르 술페이트염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 7 항에 있어서, (b)의 식(Ⅲ) 중, G는 메틸기이고, a는 0을 나타내고; b는 1을 나타내며; 합 (m＋n)은 50 내지 150 범위의 숫자일 수 있으며; 여기서 n은 49 내지 149의 수를 나타낼 수 있고, m은 1 내지 10의 수를 나타낼 수 있으며,
    (c)의 식 (Ⅴ) 중, R5는 메틸기와 같은, C1∼C18의 알킬기 또는 C2∼C18의 알케닐기를 나타내고; R6은 C1∼C18의 알킬렌기 또는 SiC결합에 의해 Si에 연결된, 2가의 C1∼C8의 알킬렌옥시기를 나타내며; Q-는 염소 이온 또는 아세테이트 이온이고; r은 2 내지 8 사이의 평균 통계값을 나타내며; s는 20 내지 50 의 평균 통계값을 나타내고,
    (d)의 식 (Ⅵ)에서 R7은 메틸기와 같은, C1∼C18의 알킬기, C2∼C18의 알케닐기 또는 5 또는 6개의 탄소 원자로 이루어진 고리이고; R6은 C1∼C18의 알킬렌기 또는 SiC결합에 의해 Si에 연결된, 2가의 C1∼C8의 알킬렌옥시기를 나타내며; R8은 C1∼C18의 알킬기, C2∼C18의 알케닐기를 나타내고; X-는 염소 이온 또는 아세테이트 이온이며; r은 5 내지 100 의 평균 통계치를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 8 항에 있어서, 음이온성 계면 활성제(들)는(은) 조성물의 총 중량에 대하여 5 내지 20 중량%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 9 항에 있어서, 양쪽 이온성 계면 활성제(들)는(은) 조성물의 총 중량에 대하여 1 내지 20 중량%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 10 항에 있어서, 양이온성 고분자는 조성물의 총 중량에 대하여 0.005 내지 5 중량%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 19 항에 있어서, 양이온성 고분자는 조성물의 총 중량에 대하여 0.01 내지 3 중량%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 11항에 있어서, 아미노 실리콘은 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 내지 5 중량%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 1 항에서 정의된 조성물의 유효량을 젖은 상태의 케라틴 물질들에 바르고, 물로 헹구어 내는 것을 특징으로 하는, 모발과 같은 케라틴 물질들의 세정 및 컨디셔닝 방법.
  23. 제 22항에 있어서, 조성물의 유효량을 젖은 상태의 케라틴 물질들에 바르고, 이어서 케라틴 물질 위에 상기 조성물을 적당한 시간 동안 놓아 둔 후, 물로 헹구어 내는 것을 특징으로 하는 모발과 같은 케라틴 물질들의 세정 및 컨디셔닝 방법.
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