KR19980041532A - 반도체 독성가스의 정화처리시스템 - Google Patents

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KR19980041532A
KR19980041532A KR1019960060835A KR19960060835A KR19980041532A KR 19980041532 A KR19980041532 A KR 19980041532A KR 1019960060835 A KR1019960060835 A KR 1019960060835A KR 19960060835 A KR19960060835 A KR 19960060835A KR 19980041532 A KR19980041532 A KR 19980041532A
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toxic gas
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toxic
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gas
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KR1019960060835A
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이성재
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

여러 독성가스들을 동시에 처리할 수 있도록 개선시킨 반도체 독성가스의 정화처리시스템에 관한 것이다.
본 발명은, 독성가스를 유입받아 일차적으로 정화시키는 건식 스크러버, 상기 건식 스크러버의 잔류독성가스를 유입받아 이차적으로 정화시키는 습식 스크러버 및 상기 습식 스크러버에서 정화배기시키는 독성가스의 정화처리효율을 감시하기 위하여 배기라인 상에 구비되는 모니터를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 독성가스로 인한 안전사고의 방지 및 하나의 시스템 구축으로 작업효율성이 향상되는 효과가 있다.

Description

반도체 독성가스의 정화처리시스템
본 발명은 반도체 독성가스의 정화처리시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 건식방식 및 습식방식을 하나의 시스템(System)으로 구축하여 여러 독성가스들을 동시에 처리할 수 있도록 개선시킨 반도체 독성가스의 정화처리시스템에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체장치의 제조에서는 여러 종류의 가스들을 공정수행에 이용하고, 또한 공정개발을 위한 순도분석용으로 이용하고 있다.
이러한 여러 종류의 가스들 중 독성가스도 다수 포함되어 있기 때문에 사용후에는 항상 정화처리시스템을 이용하여 정화배기시킨다.
여기서 종래의 정화처리시스템은 각 독성가스의 화학적 특성에 따라 개별적으로 처리하는 습식 스크러버(Scrubber) 또는 건식 스크러버를 이용하였다.
즉, 각 독성가스에 적합한 건식 또는 습식 스크러버를 필요할 때 마다 교체하여 정화처리하는 것이었다.
이로 인해 종래에는 공정수행 또는 순도분석 등에 여러 종류의 독성가스들을 동시에 사용할 때에는 그 정화처리기능이 취약하여 독성가스로 인한 안전사고 등의 문제점을 항상 내포하고 있었다.
또한 독성가스를 정화처리할 때마다 스크러버를 교체해야하는 번거로움 뿐만 아니라 이러한 스크러버를 별도로 보관해야하는 공간도 필요하였다.
따라서 종래의 독성가스 정화처리시스템은 안전사고의 유발 및 작업효율을 저하시키는 문제점들이 있었다.
본 발명의 목적은, 정화처리시스템을 하나의 시스템으로 구축하여 안전사고 방지 및 작업효율을 향상시키기 위한 반도체 독성가스의 정화처리시스템을 제공하는 데 있다.
도1은 본 발명에 따른 반도체 독성가스의 정화처리시스템의 실시예를 나타내는 구성도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 독성가스부 12 : 분석부
14 : 정화가스부 16 : 진공펌프
18 : 건식 스크러버 20 : 습식 스크러버
22 : 모니터 24 : N2가스부
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 독성가스의 정화처리시스템은, 독성가스를 유입받아 일차적으로 정화시키는 건식 스크러버, 상기 건식 스크러버의 잔류독성가스를 유입받아 이차적으로 정화시키는 습식 스크러버 및 상기 습식 스크러버에서 정화배기시키는 독성가스의 정화처리효율을 감시하기 위하여 배기라인 상에 구비되는 모니터를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
그리고, 상기 독성가스를 정화시키기 위하여 상기 건식 스크러버에 N2가스를 공급하는 N2가스부가 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 독성가스를 정화처리하기 위하여 상기 습식 스크러버에는 표면활성제를 투입하는 것이 효율적이다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도1은 본 발명에 따른 반도체 독성가스의 정화처리시스템의 실시예를 나타내는 구성도이다.
순도분석용 독성가스를 정화처리하는 시스템으로서 먼저, 독성가스부(10) 및 독성가스의 순도를 분석하는 분석부(12)가 구비된다.
그리고 독성가스부(10)와 분석부(12)사이에 정화가스부(14) 및 펌핑(Pumping)흡입으로 일련의 독성가스 흐름을 유지시키는 진공펌프(16)가 구비된다.
이러한 구성으로 순도분석이 수행된 독성가스를 정화처리하는 본 발명의 정화처리시스템은 먼저, 분석부(12)로 부터 독성가스를 유입받아 일차적으로 정화시키는 건식 스크러버(18) 및 건식 스크러버(18)로 정화처리된 독성가스를 유입받아 이차적으로 정화처리하여 배기시키는 습식 스크러버(20)가 구비된다.
또한 습식 스크러버(20)에서 정화처리된 독성가스를 배기시키는 배기라인 상에는 독성가스의 정화처리효율을 감시하는 모니터(Monitor)(22)가 구비된다.
그리고 본 발명은 정화처리를 효율적으로 수행하기 위하여 건식 스크러버에 N2가스를 공급하는 N2가스부(24) 및 습식 스크러버(20)에는 표면활성제를 투입하면서 정화처리를 수행한다.
이러한 구성으로 이루어지는 본 발명의 정화처리시스템은 순도분석용 독성가스 뿐만 아니라 제조공정에 이용되는 독성가스도 정화처리할 수 있다.
본 발명은 먼저, 분석부(12)의 독성가스를 유입받아 N2가스가 공급되는 건식 스크러버(18)를 이용하여 일차적으로 정화처리한 후 습식 스크러버(20)에 유입시켜 표면활성제를 투입하면서 잔류독성가스를 완전히 정화처리하여 배기시킨다.
여기서 표면활성제는 산성 및 알카리성으로 구분하여 정화처리에 이용하면 보다 효율적이다.
그리고 배기라인 상에 정화처리효율을 감시하는 모니터(22)를 이용하여 정화처리의 효율저하 또는 정화처리시스템의 이상유무를 확인하면서 공정을 수행한다.
이러한 본 발명의 정화처리시스템은 하나의 시스템으로 구축되어 있고, 또한 독성가스로 인한 안전사고를 미연에 방지할 수 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 독성가스로 인한 안전사고의 방지 및 하나의 시스템 구축으로 작업효율성이 향상되는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (3)

  1. 독성가스를 유입받아 일차적으로 정화시키는 건식 스크러버(Scrubber);
    상기 건식 스크러버의 잔류독성가스를 유입받아 이차적으로 정화시키는 습식 스크러버; 및
    상기 습식 스크러버에서 정화배기시키는 독성가스의 정화처리효율을 감시하기 위하여 배기라인 상에 구비되는 모니터;
    를 구비하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 독성가스의 정화처리시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 독성가스를 정화시키기 위하여 상기 건식 스크러버에 N2가스를 공급하는 N2가스부가 더 구비됨을 특징으로 하는 상기 반도체 독성가스의 정화처리시스템.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 독성가스를 정화처리하기 위하여 상기 습식 스크러버에는 표면활성제가 투입됨을 특징으로 하는 상기 반도체 독성가스의 정화처리시스템.
KR1019960060835A 1996-11-30 1996-11-30 반도체 독성가스의 정화처리시스템 KR19980041532A (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100449781B1 (ko) * 2001-03-21 2004-09-22 삼성전자주식회사 반도체 제조 공정에서 퍼플루오르계 화합물의 배출을감소시키기 위한 방법 및 장치
KR100488904B1 (ko) * 2002-05-10 2005-05-10 박수길 습,건식법을 이용한 악취제거방법및 장치

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