KR19980033238A - 기판처리장치 및 기판처리방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 장치의 높이를 억제하면서 기판 전면에 처리를 행할 수 있는 종형(縱型)의 기판처리장치에 관한 것으로, 직립자세의 기판(9)을 상측으로 반송하면서 처리부(2)가 기판(9)에 소정의 처리를 행하는 기판처리장치에 있어서, 제1지지부(31)의 접촉지지대(316)상에 재치된 기판(9)(공정(a))을 상측으로 반송하고 제2지지부(32)의 흡착부재(323)를 이용하여 흡착해서 수취하고(공정(b),(c)), 기판(9)을 좀더 위로 반송한다(공정(d)). 또, 제1 및 제2지지부(31, 32)에 의한 기판(9)의 수수에 있어서(공정((b), (c)) 간격조정부재(302)가 제1 및 제2지지부(31, 32)의 간격을 일정하게 유지한다. 이에 따라, 기판(9)의 안정한 수수 및 속도편의가 없는 반송이 실현됨과 동시에, 장치의 높이를 기판(9)의 높이(L1)의 2배와 처리부(2)의 높이(L2)의 합 정도로 억제할 수 있다.

Description

기판처리장치 및 기판처리방법

본 발명은 액정표시기나 플라즈마 디스플레이 등의 제조에 사용하는 유리기판 등의 기판을 대체로 직립 자세에서 상하방향으로 반송하는 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것이다.

기판에 대해 세정이나 현상처리 등을 가할 경우, 종래부터 기판은 그 처리되는 면의 법선이 대체로 연직방향으로 뻗은 상태(이하, 「수평자세」라고 한다)로 반송, 지지 및 처리가 행해져 왔다. 이것은 기판을 수평자세로 함으로써 중력을 이용한 기판의 지지, 반송이 가능해져서 기판을 쉽게 취급할 수 있기 때문이다.

그러나, 액정표시기의 제조에 사용되는 유리기판과 같이 대형 기판을 취급하는 경우, 기판을 수평자세로 지지한 것은 장치가 수평방향으로 커지고, 장치가 점유하는 바닥면적도 커져 버린다. 그 결과, 기판의 대형화에 따라 공장내의 한정된 영역에 장치를 설치할 수 없게 되거나, 합리적인 유지관리가 곤란해진다는 문제가 생기고 있다.

그래서, 기판을 그 처리면의 법선이 대체로 수평방향으로 뻗은 상태(이하, 「종자세」라고 한다.)로 지지한 채로 반송, 처리를 하는 장치의 개발이 진행되고 있다.

기판을 종자세대인 채로 유지하여 상하방향으로 반송하여 처리를 하는 경우, 종래 수평방향으로 배치되어 있는 장치의 각 구성요소는 연직상하방향으로 배치되게 된다. 따라서, 기판의 대형화에 따라 장치의 높이가 높아진다.

구체적으로 도 7을 이용해서 설명하면, 기판(909)을 종자세로 지지하여 기판의 반송 및 처리를 행하려면, 기판(909)을 도 7(a)의 위치에서 도 7(b)의 위치까지 반송가능한 아암(910)이 필요해진다. 즉, 기판(909)에 처리를 행하는 처리부(902)에 대해 기판(909)의 거의 전체가 통과하도록 반송하는 수단이 필요해진다. 이 때 도 7에 도시한 바와 같이, 기판(909)을 상측 혹은 하측방향으로부터 뻗은 아암(910)을 이용하여 지지하면, 장치의 전체높이는 적어도 기판(909)의 높이(L1)와 처리부 높이(L2)의 합의 2배(L1×2+L2×2)가 되어 버린다.

또, 이러한 장치의 높이 문제를 조금이라도 해결하기 위해 도 8에 도시한 바와 같이, 처리부(902)에 대해 측방으로부터 아암(911)을 연장시킴으로써 기판(909)을 지지하고, 장치전체높이를 (L1×2+L2)로 억제하고자 하는 경우, 아암(911)이 뻗는 측방에 상하방향으로 뻗은 개구부(912)가 필수불가결해지며, 이 개구부(912)로부터 처리부(902)에서 사용되는 처리액이 누설된다는 문제가 생긴다.

또, 도 7이나 도 8에 도시된 기판처리장치는 기판(909)의 지지되는 부위에 대해 처리를 가할 수 없으며, 그 결과 기판(909) 전체에 처리를 가할 수 없다는 과제를 가지고 있다.

따라서, 본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 가능한 장치의 높이를 억제함과 동시에, 기판 전면에서 처리를 가할 수 있는 기판처리장치 및 기판처리방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

도 1은 본 발명에 관한 기판처리장치의 전체를 도시한 사시도,

도 2는 도 1에 있어서의 기판처리장치의 반송시스템을 도시한 사시도,

도 3은 도 1에 있어서의 기판처리장치의 반송동작을 도시한 측방단면도,

도 4는 가이드 프레임 등을 도시한 사시도,

도 5는 처리부의 구성을 도시한 측방단면도,

도 6은 이동본체부 및 캠기구의 구성 및 동작의 개략을 도시한 도면,

도 7은 종래의 기판처리장치의 일례를 도시한 측방단면도,

도 8은 종래의 기판처리장치의 또다른 예를 도시한 사시도.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

1 : 기판처리장치2 : 처리부

3 : 반송시스템4 : 투입부

9 : 기판30 : 구동부

31 : 제1지지부32 : 제2지지부

91 : 기판처리면92 : 기판 이면

201 : 브러시301 : 직동 액튜에이터

302 : 간격조정부재304, 305 : 스토퍼

312, 317 : 벨트313, 314, 318, 319 : 풀리

315 : 추316 : 접촉지지대

322 : 흡착부323 : 흡착부재

326 : 캠기구330 : 축시일

411 : 용기J1 : 축

청구항 1의 발명은, 처리가 행해지는 처리면의 법선이 대체로 수평방향을 향하는 종자세로 기판을 지지하고, 상기 기판을 상하방향으로 반송하면서 소정의 처리를 행하는 기판처리장치에 있어서, 상기 기판을 상하방향으로 반송하는 반송수단과, 반송되는 상기 기판에 상기 소정의 처리를 행하는 처리부를 구비하며, 상기 반송수단이 상기 처리부의 하측에 배설되어 기판을 지지하는 제1지지부와, 상기 처리부의 상측에 배설되어 기판을 지지하는 제2지지부와, 상기 제1 및 제2지지부를 상하방향으로 이동시키는 이동수단을 가지고, 상기 제1 및 제2지지부가 상기 기판의 수수를 행함으로써, 상기 기판을 상기 처리부를 통과하도록 반송한다.

청구항 2의 발명은 청구항 1 기재의 기판처리장치에 있어서, 상기 이동수단이 상기 제1 및 제2지지부에 의한 상기 기판의 상기 수수에 있어서 상기 제1 및 제2지지부를 일정간격을 유지하면서 이동시킨다.

청구항 3의 발명은 청구항 2 기재의 기판처리장치에 있어서, 상기 이동 수단이 상기 제1 및 제2지지부 사이에 간격조정부재를 삽입시킴으로써 상기 기판의 상기 수수에 있어서의 상기 일정한 간격이 유지된다.

청구항 4의 발명은 청구항 1 내지 3중 어느 하나에 기재된 기판처리장치에 있어서, 상기 이동 수단이 상기 제1 및 제2지지수단의 쌍방을 이동시키는 하나의 구동원을 갖는다.

청구항 5의 발명은 청구항 1 내지 4중 어느 하나에 기재된 기판처리장치에 있어서, 상기 제1지지부가 상기 기판의 하부를 지지함으로써, 상기 제2지지부가 상기 기판의 상부를 지지하는 것이다.

청구항 6의 발명은 청구항 1 내지 5중 어느 하나에 기재된 기판처리장치에 있어서, 상기 기판의 상기 제1지지부가 상기 기판의 하단에 접하여 상기 기판을 지지하는 접촉지지부를 가지며, 상기 제2지지부가 상기 기판 한쪽면의 상부를 흡착하여 유지하는 흡착지지부를 갖는다.

청구항 7의 발명은 청구항 1 내지 6중 어느 하나에 기재된 기판처리장치에 있어서, 상기 제2지지부가 상기 기판의 상기 수수에 있어서 상기 제2지지부의 상하방향이동과 함께 상기 흡착지지부를 상기 기판에 접촉시키는 캠기구를 추가로 갖는다.

청구항 8의 발명은 청구항 1 내지 7중 어느 하나에 기재된 기판처리장치에 있어서, 상기 이동수단이 직동구동원과, 상기 직동구동원에 연결되고, 상기 제1 및 제2지지부 사이에 삽입됨으로써 상기 제1 및 제2지지부의 쌍방을 상기 수수에 있어서 일정 간격을 유지하면서 이동시키는 간격조정부재를 가지며, 상기 기판의 상기 수수에 있어서 상기 간격조정부재의 하단 및 상단에 상기 제1 및 제2지지부를 접촉시킴으로써 상기 제1 및 제2지지부의 간격을 일정하게 유지한 채 상기 제1 및 제2지지부를 동시에 이동시킨다.

청구항 9의 발명은 청구항 8 기재의 기판처리장치에 있어서 상기 처리부에서 유출되는 처리액을 받아들이는 상측이 개구된 용기를 상기 처리부의 하측에 추가로 구비하고, 상기 제1지지부가 상기 용기의 외부에서 상기 간격 조정부재와의 접촉부위에 있어서 상하방향의 운동을 회전운동으로 변환하는 수단과, 상기 용기의 벽면을 관통하고, 상기 회전운동을 상기 용기의 내부에 전달하는 축과, 상기 축이 상기 벽면을 관통하는 부위에 배설된 축 시일과, 상기 기판을 상하방향으로 반송하기 위해 상기 용기 내부에서 상기 회전운동을 상기 접촉지지부의 상하운동으로 변환하는 수단을 추가로 갖는다.

청구항 10의 발명은 청구항 6에 기재된 기판처리장치에 있어서 상기 처리부 내부에서는 상기 처리에 따라 하향력이 상기 기판에 주어진다.

청구항 11의 발명은 기판을 지지하는 제1 및 제2지지부 및 상기 기판에 소정의 처리를 행하는 처리부를 가진 기판처리장치에 있어서, 상기 기판처리면의 법선이 대체로 수평방향을 향하는 종자세로 상기 기판을 지지하고, 상기 기판을 상기 처리면을 상하방향으로 반송하면서 상기 처리면에 상기 소정의 처리를 행하는 기판처리방법에 있어서, 상기 제1지지부를 이용하여 상기 기판을 상기 처리부 내부에 반송하는 제1반송공정과, 상기 제1반송공정에 있어서의 반송 도상의 상기 기판을 상기 제2지지부에 주고받는 수수공정과, 상기 제2지지부를 이용하여 상기 기판을 상기 처리부를 통과하도록 상기 제1반송공정과 동일한 방향으로 추가로 반송하는 제2반송공정과, 상기 처리부를 통과하는 상기 기판에 대해 상기 처리부가 상기 소정의 처리를 행하는 처리공정을 갖는다.

청구항 12의 발명은, 청구항 11 기재의 기판처리방법에 있어서, 상기 수수공정에서 상기 제1 및 제2지지부를 일정한 간격을 유지한 채로 이동시킨다.

[1. 전체의 구성 및 동작]

도 1은 본 발명에 관한 일실시형태인 기판처리장치(1)의 전체를 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1에 있어서 기판처리장치(1)의 반송시스템(3)의 구성을 도시한 사시도이다. 또, 도 3은 장치(1)의 동작을 도시한 측방단면도로서, 도 1의 Y-Z면에 평행한 평면을 이용하여 장치중앙에 있어서의 단면을 도시한 것이다.

이 기판처리장치(1)는 기판(9)을 그 처리면의 법선이 수평방향을 향하는, 즉 그 처리면이 연직선을 포함하는 평면이 되는 자세(이하, 간단히 「종자세」라 하고, 여기서는 그 때의 처리면을 X-Z면이라 정의하고, X-Z면 내의 수평방향을 X방향, 연직방향을 Z방향, X-Z면에 수직한 방향을 Y방향이라 한다)로 유지하면서 연직상하방향(Z방향)으로 반송하고, 기판(9)에 세정처리를 행하는 장치이며, 크게 나누어 기판(9)에 소정의 세정처리를 하는 처리부(2), 기판(9)을 처리부(2)를 통과하도록 반송하는 반송시스템(3) 및 반송되는 기판(9)을 세트하는 투입부(4)로 구성된다.

투입부(4)는 처리부(2)의 하측에 배설된 용기(411)을 가지고 있으며, 도 3(a)에 도시한 바와 같이, 먼저 기판(9)은 이 용기(411)에 화살표(Thr)를 따라 투입되어 2점쇄선으로 표시한 위치에 도달한다. 그 후, 화살표(Rot)로 나타낸 바와 같이 회전이동하여 실선으로 표시한 기판(9)의 위치에 배치된다.

또, 실제로는 기판(9)이 도 3의 화살표(Thr)를 따라 2점쇄선으로 나타낸 상태에 투입된 시점에서 기판(9)은 도 4에 도시한 가이드 프레임부(42)에 세트된다. 가이드 프레임부(42)는 가이드 프레임(421)에 다수의 롤러(422)가 세트로 2열로 배설된 구성으로 되어 있으며, 기판(9)은 2열의 롤러(422)에 삽입되면서 화살표(Gid)방향으로 가이드되면서 이동가능해지고 있다. 이 가이드 프레임부(42)가 축(J2)을 중심으로 회전함으로써, 기판(9)이 화살표(Rot)를 따라 회전이동하도록 되어 있다.

또, 도 3에 있어서 굵은 실선으로 표시된 부분은 장치 본체에 고정된 구성요소를 나타낸다. 즉, 상술한 처리부(2), 용기(411), 후술하는 직동 액튜에이터(301) 및 스토퍼(304, 305)는 장치 본체에 고정되어 있다.

처리부(2)의 하측에 배치된 기판(9)을 반송하는 반송시스템(3)은 도 2에 도시한 바와 같이, 구동시스템(30), 제1지지부(31) 및 제2지지부(32)로 구성된다.

우선, 소정 위채에 배치된 기판(9)은 제1지지부(31)에 의해 도 3(b)에 도시한 바와 같이 상측 처리부(2)의 내부로 반송된다. 그리고, 기판(9)의 상단이 처리부(2)를 통과한 시점에서 제2지지부(32)가 기판(9)의 상부를 흡착하며 추가로 상측으로 기판(9)을 반송한다(도 3(c), (d) 참조). 즉, 반송시스템(3)은 제1 및 제2지지부(31, 32)를 이용하여 기판(9)을 처리부(2)의 내부를 통과하도록 하측으로부터 상측으로 반송한다. 이 때, 처리부(2)는 기판(9)에 대해 세정처리를 가한다.

처리부(2)는 도 5에 도시한 바와 같이 하측에서 상측으로 반송중인 기판 처리면의 양측을 각각 따르도록 1개씩 아래에서 쌍을 이루도록 배치된 브러시(201), 순수분사노즐(202), 초음파 세정노즐(203) 및 에어 나이프(204)의 세정 공구가 커버(211)로 덮인 구성으로 되어 있다. 각각의 세정 공구는 도 5의 지면에 수직한 방향(X방향)으로 기판의 폭방향과 거의 상당하는 길이를 가지고 있고, 기판(9)이 하측에서 상측쪽으로 처리부(2) 내부를 반송함으로써, 기판(9)의 양면에 대해 브러시세정, 순수분사세정, 초음파 세정 및 건조처리가 가해지도록 되어 있다.

이상과 같은 구성 및 동작에 의해, 기판(9)은 제1 및 제2지지부(31, 32)를 이용하여 처리부(2)를 통과하도록 하측에서 상측쪽으로 반송되며, 이에 따라 기판(9)의 표리 양면에 세정처리가 가해지게 된다.

[2. 반송시스템의 구성 및 동작]

다음에, 이 기판처리장치(1)의 반송시스템(3)의 구성 및 동작에 대해 상설한다.

반송시스템(3)은 상술한 대로, 구동시스템(30), 제1지지부(31) 및 제2지지부(32)로 구성되어 있으며, 구동시스템(30)은 제1 및 제2지지부(31, 32)를 이동시키는 구동원인 직동 액튜에이터(301), 직동 액튜에이터(301)에 의해 직접 상하방향으로 이동되는 상하에 뻗는 봉 형상의 간격조정부재(302) 및 제1 및 제2지지부(31, 32)의 이동범위를 제한하는 스토퍼(304, 305)로 이루어진다.

또, 제1지지부(31)는 도 2에 도시한 바와 같이, 간격조정부재(302)의 하단에 접하여 직동 액튜에이터(311)에 의한 간격조정부재(302)의 세로운동인 상하운동을 전달하는 플레이트(311), 플레이트(311)의 양단에 접속된 1쌍의 벨트(312), 1쌍의 벨트(312) 각각이 부착되는 풀리(313)와 풀리(314)의 조합을 각각 1쌍 가지며, 1쌍의 벨트(312) 각각에는 플레이트(311)의 장착위치와 대향하는 위치에 각각 추(315)가 장착되어 있다. 이에 따라, 플레이트(311)에는 벨트(312)를 통해 상측방향으로 힘이 가해져서 플레이트(311)가 간격조정부재(302)의 하단에 접하게 되어 있다. 또, 플레이트(311)는 도 3(c), 도 3(d)에 도시된 바와 같이, 스토퍼(305)에 의해 일정한 높이 이상으로는 상승하지 않게 되어 있다.

또, 제1지지부(31)는 도 1에 도시한 바와 같이, 기판(9)을 하측으로부터 접촉하여 지지하는 접촉지지대(316), 접촉지지대(316)의 양단에 접속된 1쌍의 벨트(317), 1쌍의 벨트(317) 각각이 장착되는 풀리(318)와 풀리(319)의 조합을 각각 1쌍 가지며, 1쌍의 풀리(319) 각각은 1쌍의 풀리(314)가 대응하는 것에 1쌍의 축(J1)(형상도시생략)을 통해 접속되어 있다. 또, 1쌍의 축(J1)은 도 1에 도시한 바와 같이, 용기(411)를 관통하고 있으며, 이 관통위치에서 용기(411)내에 받아들여지는 세정액이 새지 않도록 1쌍의 축 시일(330)이 배설된다.

이상과 같은 제1지지부(31)의 구성에 의해, 플레이트(311)가 간격조정부재(302)의 하단에 하측으로부터 접하고 있는 상태에서, 간격조정부재(302)의 상하운동이 플레이트(311)와 각각이 쌍을 이루는 벨트(312), 풀리(314)를 통해 1쌍의 축(J1)의 회전운동이 되고, 1쌍의 축(J1)의 회전운동이 각각이 쌍을 이루는 풀리(319), 벨트(317)를 통해 접촉지지대(316)의 세로운동인 상하운동으로 변환된다.

또, 이 실시형태에서는 모든 풀리의 크기는 동일하며, 또 플레이트(311)와 접촉지지대(316)는 양자의 상대적 위치관계가 바뀌는 일 없이 이동하게 되어 있다. 또, 기판(9)이 도 3(a)에 도시한 바와 같이 처리부(2)의 하측에 대체로 직립한 상태로 배치되었을 때, 접촉지지대(316)가 도 4에 도시한 바와 같이 기판(9) 밑으로 들어가게 되어 있으며, 기판(9)이 접촉지지대(316)에 밀려들어감으로써, 기판(9)은 롤러(422)에 가이드되면서 상승하게 되어 있다. 또, 처리부(2) 내부에서도 기판(9)을 가이드하는 롤러가 배설되어 있으며, 이에 따라, 기판(9)은 안정하게 처리부(2)내부로 반송되게 되어 있다. 또, 도 5에 도시된 바와 같이 처리부(2) 내부의 1쌍의 브러시(201)는 기판(9) 표면을 하측쪽으로 문지르듯이 회전하고 있으며, 이에 따라 기판(9)은 하향력을 받아 기판(9)이 안정하게 접촉지지대(316)에 접촉하게 되어 있다.

제2지지부(32)는 도 2에 도시한 바와 같이 화살표(Pu1)를 따라 상하로 이동가능한 이동본체부(321), 기판(9)을 흡착하여 지지하는 흡착부재(323)가 배설된 흡착부(322), 흡착부(322)를 이동본체부(321)와 접속하는 축(324) 및 캠기구(326)를 가지고 있다. 또, 도 1 및 도 2에서는 이동본체부(321)의 상하이동을 가이드하는 부재의 도시를 생략하고 있다.

제2지지부(32)는 도 3(b) 및 도 3(c)에 도시한 바와 같이, 제1지지부(31)에 의해 처리부(2)의 하측에서 상측쪽으로 반송되는 기판(9)을 받아들여서 기판(9)을 처리부(2)의 상측으로 끌어올리는 것이지만, 기판(9)을 받아들일 때 흡착부(322)를 기판(9)으로부터 퇴피한 상태에서 접촉하는 상태로 이동시킴으로써, 기판(9)을 흡착부재(323)를 이용하여 흡착지지하게 되어 있다.

이 흡착지지동작은 도 2에 도시된 장치 본체에 고정된 캠기구(326)에 의해 실현된다. 또, 도 1 및 도 2에서는 캠기구(326)를 모식적으로 직방체에 의해 그 위치를 나타내고 있다.

도 6은 이 캠기구(326)의 구성의 개략을 나타냄과 동시에, 흡착부재(323)의 이동 모습을 나타낸 도면이다. 이 도면에 있어서 이동본체부(321)의 내부는 상세한 형상을 생략해서 나타낸 것이다. 도 6(a)는 제2지지부(32)가 스토퍼(304)에 접하여 하한위치에 있는 상태를 나타낸 도면이고, 도 6(b)는 제2지지부(32)가 간격조정부재(302)에 의해 밀어 올려짐과 동시에 흡착부재(323)가 기판(9)을 흡착하려고 하는 상태를나타낸 도면이다.

캠기구(326)는 장치 본체에 고정된 캠판(327) 및 롤러 형상을 한 캠 종동자(328)로 구성되어 있으며, 캠 종동자(328)는 축(324)에 접속되어 있다. 도 6(a)의 상태에서는 이동본체부(321)의 내부에 배설된 인장스프링(325)이 축(324)을 통해 캠 종동자(328)를 기판(9)쪽으로 끌어 당기고 있고, 이에 따라 캠 종동자(328)가 캠판(327)으로부터 떨어지지 않게 되어 있다. 여기서, 도 6(b)에 도시한 바와 같이, 이동본체부(321)가 화살표(C1) 방향으로 상승하면, 캠 종동자(328)는 캠판(327)과 접하면서 화살표(C2)로 나타낸 바와 같이 이동한다. 이에 따라, 축(324)을 통해 흡착부재(323)가 이동본체부(321)에 대해 기판(9)쪽으로 (화살표 C3의 방향으로) 이동하여 기판(9)과 접한다. 이 때, 도시하지 않은 흡착구동수단에 의해 흡착부재(323)의 선단에서 공기를 빨아 들이게 하여 흡착부재(323)가 기판(9)을 흡착지지한다. 그 후, 이동본체부(321)는 좀더 상승하여 캠 종동자(328)는 캠판(327)으로부터 떨어지고, 기판(90은 처리부(2)로부터 상측으로 방출되도록 반송한다. 또, 축(324)에는 스토퍼(도시생략)가 설정되어 있으며, 도 6(b)에 표시된 위치보다 기판(9)쪽으로 이동하지 않게 되어 있다. 따라서, 기판(9)은 커다란 진동이 주어지는 일 없이 흡착되어 반송하게 된다.

이상, 반송시스템(3)의 구성 및 각 구성요소의 동작에 대해 설명하였으나, 다음에는 이들 구성요소에 의한 제1지지부(31)로부터 제2지지부(32)에 대한 기판(9)의 수수동작에 관해 도 3을 참조하면서 상술한다.

도 3(a)에 도시한 바와 같이 제1지지부(31)의 접촉지지대(316)상에 종 자세로 재치된 기판(9)은 앞서 설명한 바와 같이 직동 액튜에이터(301)에 의한 간격조정부재(302)의 상승과 함께 플레이트(311)와 동작을 함께 하는 접촉지지대(316)에 의해 밀어 올려진다.

간격조정부재(302)는 얼마 안 있어 도 3(b)에 도시한 바와 같이 그 상단이 제2지지부(32)의 이동본체부(321)에 접촉한다. 이에 따라, 이동본체부(321)는 스토퍼(304)로부터 떨어져서 상승을 개시한다. 또, 상술한 캠기구(326)의 작용에 의해 흡착부재(323)가 기판(9)쪽으로 이동하며 기판(9)을 흡착한다(도 3(c)). 이 때 이동본체부(312)와 플레이트(311)의 간격은 간격조정부재(302)의 상단과 하단의 거리를 유지하기 때문에, 플레이트(311)과 함께 이동하는 접촉지지대(316)는 이동본체부(321)와 상대적으로 일정한 위치관계를 유지한 채 이동한다. 따라서, 제1지지부(31)로 밀어 올려진 기판(9)과 제2지지부(32)의 흡착부재(323)의 상하방향에 있어서 상대적 위치관계는 변화하지 않으며, 흡착부재(323)는 기판(9)에 대해 스치는 일 없이 매끄럽게 흡착할 수 있다.

또, 간격조정부재(302)가 상승하면 도 3(c)에 도시한 바와 같이 플레이트(311) 및 접촉지지대(316)는 스토퍼(305)의 작용에 의해 상승이 방해된다. 플레이트(311)는 도 2에 도시한 바와 같이 추(315)에 의해 상측으로 들어 올려져서 간격조정부재(302)의 하단에 접촉되어 있는데 불과하므로, 플레이트(311)는 간격조정부재(302)로부터 떨어져서 접촉지지대(316)와 함께 상승이 정지된다.

그 후, 기판(9)은 제2지지부(32)에 의해서만 지지되어 반송되고, 도 3(d)에 도시한 바와 같이 처리부(2)로부터 상측으로 끌려올라간다.

이상, 기판처리장치(1)의 간격조정부재(302)를 가진 반송시스템(3)에 의한 기판반송동작에 대해 설명하였으나, 이와 같이 간격조정부재(302)를 이용하여 기판(9)을 반송함으로써, 기판(9)의 이동은 간격조정부재(302)의 이동에 따르게 된다. 그 결과, 기판(9)의 제1 및 제2지지부(31, 32)에 의한 수수를 매끄럽고 안정하게 할 수 있다. 또, 간격조정부재(302)를 직동 액튜에이터(301)를 이용하여 일정한 속도로 상승시킴으로써 기판(9)을 일정한 속도로 반송하는 것도 가능해진다. 그 결과, 기판(9)은 수수가 행해짐에도 불구하고 이송편의가 없는 안정한 반송이 실현된다.

또, 세정되는 기판(9)의 처리면은 액정표시소자의 박막 전극 등을 형성해야 할 소자면(91)과 그 이면측인 이면(92)이 있는데, 이상과 같이 기판(9)의 하단면에 접촉하여 지지하는 제1지지부(31)와, 기판(9) 이면(92)의 상단부를 흡착하여 지지하는 제2지지부(32)에서 기판(9)을 주고받음으로써 기판(9)의 지지위치가 변경되는데, 특히 제2지지부(32)에 의한 기판(90의 흡착위치를 도 3(d)에 도시한 바와 같이 이면(92)으로 하고 있기 때문에, 특별히 청정하게 세정해야 할 소자면(91)의 전면을 세정할 수 있음과 동시에 세정후에 소자면(91)을 오염시키는 일도 없다.

또, 도 3(d)와 도 7에 도시된 장치를 비교하면, 도 7의 장치에서는 장치 전체높이가 기판(9) 높이(L1)의 2배와 처리부(2) 높이(L2)의 2배의 합 정도가 되는데 반해, 도 3(d)에서는 기판(9) 높이(L1)의 2배와 처리부(2) 높이(L2)의 합 정도로 억제되어 있음을 알 수 있다.

또, 이 장치(1)에서는 접촉지지대(316)의 상하운동은 용기(411) 외부로부터의 축(J1)의 회전운동을 변환함으로써 실현되고 있으므로, 도 8에 도시된 것과 같은 개구부(912)를 형성한 경우에 발생하는 처리액의 누설을 축 시일(330)을 사용함으로써 쉽게 방지할 수 있다.

[3. 변형예]

이상 본 발명에 관한 일실시형태인 기판처리장치(1)에 대해 설명했으나, 본 발명은 상기 실시형태에만 한정되는 것은 아니다.

상기 실시형태에서는 기판처리장치(1)로서 세정장치를 예로 들어 설명하였으나, 다른 처리를 하는 장치여도 된다. 예를 들면, 처리부(2)에 현상액 도포노즐을 배설함으로써 현상장치로 할 수 있다.

또, 상기 실시형태에서는, 플레이트(311)를 간격조정부재(302)에 접촉시키기 위해 추(315)를 사용하고 있으나, 풀리(313)나 풀리(314) 등에 토크모터를 이용하여 토크를 줌으로써 같은 작용을 실현할 수 있다.

또, 상기 실시형태에서는 플레이트(311)의 상하운동을 벨트(312), 풀리(313, 314) 등을 이용하여 회전운동으로 변환하고 있으나, 래크 피니언기구 등과 같이 직선운동을 회전운동으로 변환할 수 있는 것이라면 어떠한 것이라도 상관없다.

또, 상기 실시형태에서는 캠기구(326)로서 캠판(327), 캠 종동자(328)를 이용하고 있으나, 도시된 형태에 한정되는 것은 아니며, 같은 흡착부재(323)의 이동이 실현되는 것이라면 어떠한 것이라도 상관없다.

또한, 상기 실시형태에서의 기판투입방법으로서 가이드 프레임부(42)를 회전이동시키고 있으나, 기판(9)이 처리부(2)의 하측에 대체로 직립하여 배치되는 것이라면 어떠한 방법이어도 상관없다. 예를 들면, 가이드 프레임부(42)를 평행이동시키도록 해도 된다.

또, 상기 실시형태에서는 처리부(2)에 있어서 1쌍의 브러시(201)를 기판(9)에 대해 하측방향으로 스치도록 회전하고 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는, 기판(9)이 처리부(2)를 통과하는 사이에 기판(9)이 처리부(2)로부터 상측방향의 힘을 받지 않으면 되는데, 예를 들면, 처리부(2)에 있어서 2쌍의 브러시가 존재하는 경우에 기판(9)에 대해 상측방향으로 스치는 브러시가 1그룹 존재한다고 해도 다른 1그룹이 반대방향으로 회전하여 브러시 전체적으로는 기판(9)에 하측의 힘을 주는 것이라면 안정한 기판(9)의 반송이 실현된다.

또한, 상기 실시형태에서는 세정처리를 가하기 위해 처리부(2)는 각각이 쌍을 이루는 브러시(201), 노즐(202), 초음파 세정노즐(203) 및 에어 나이프(204)를 가지고 있지만, 불필요하면 없어도 되고, 또 쌍을 이루고 있을 필요도 없다.

또, 상기 실시형태에서는 기판(9)을 종자세로 그 처리면을 따라 수직상하방향으로 반송하지만, 실질적으로 기판이 종자세이면 기판의 자세나 반송방향이 다소 연직으로부터 비스듬하게 기운 것이라도 상관없다. 이러한 경우에도 예를 들면 흡착부재(323)를 다수 배설함으로써 기판반송은 가능하며, 동일한 효과를 얻을 수 있다.

또, 상기 실시형태에서는 기판(9)을 하측보다 상측쪽으로 반송하고 있으나, 반대의 동작을 하게 함으로써 상측으로부터 하측으로의 반송도 가능하다.

이상 설명한 바와 같이, 청구항 1 기재의 발명에서는 제1 및 제2지지부를 이용하여 기판을 주고받으며 반송하기 때문에, 기판처리장치의 높이를 기판 높이의 2배와 처리부 높이의 합 정도로 억제할 수 있다. 또, 기판의 수수에 의해 기판지지위치가 바뀌어서 기판 전면을 처리할 수 있다.

청구항 2 기재의 발명에서는, 기판의 수수에 있어서 제1 및 제2지지부의 간격을 일정하게 유지하기 때문에, 안정한 기판의 수수가 가능하며, 거기다 속도편의가 없은 안정한 기판의 반송이 실현된다.

청구항 3 기재의 발명에서는, 기판의 수수에 있어서 간격조정부재를 사용함으로써 제1 및 제2지지부의 간격을 쉽고 일정하게 유지할 수 있다. 이에 따라, 안정한 기판의 수수 및 속도편의가 없는 안정한 기판의 반송이 쉽게 실현된다.

청구항 4 기재의 발명에서는, 제1 및 제2지지부의 쌍방을 이동시키는 구동원이 1개이기 때문에, 제1 및 제2지지부의 수수를 쉽게 실혀할 수 있다.

청구항 5 기재의 발명에서는, 기판의 하부를 유지하는 제1지지부로부터 기판의 상부를 유지하는 제2지지부에 처리부를 끼워서 기판을 확실하고 쉽게 주고 받으며 반송하여 처리할 수 있다.

청구항 6 기재의 발명에서는, 접촉지지부 및 흡착지지부를 이용하여 기판을 반송하기 때문에, 기판을 종방향으로 쉽게 반송할 수 있다.

청구항 7 기재의 발명에서는, 캠기구에 의해 제2지지부의 이동에 따라 흡착부를 기판에 접촉시키는 일이 쉽게 실현된다.

청구항 8 기재의 발명에서는, 간격조정부재의 하단 및 상단에 제1 및 제2지지부를 접촉시킴으로써, 제1 및 제2지지부를 간격을 일정하게 유지한 채로 이동시키는 것이 쉽게 실현된다.

청구항 9 기재의 발명에서는, 간격조정부재의 종운동을 회전운동으로서 용기 내부에 축을 통해 전달하고, 용기의 축이 관통하는 부위에 축 시일을 배설하기 때문에, 용기로부터의 액누설을 쉽게 방지하는 것을 할 수 있다.

청구항 10 기재의 발명에서는, 처리부의 처리에 따라 기판에 하향의 힘이 가해지므로, 기판의 안정한 반송이 실현된다.

청구항 11 기재의 발명에서는, 제1 및 제2지지부를 이용하여 기판을 주고받으며 반송하기 때문에, 기판처리장치의 높이를 기판 높이의 2배와 처리부 높이의 합 정도로 억제할 수 있다. 또, 기판의 수수에 의해 기판지지 위치가 바뀌어서 기판 전면을 처리할 수 있다.

청구항 12 기재의 발명에서는, 기판의 수수에 있어서 제1 및 제2지지부의 간격을 일정하게 유지하기 때문에, 안정한 기판의 수수를 할 수 있으며, 또 속도편의가 없는 안정한 기판의 반송이 실현된다.

Claims (12)

1. 처리가 행해지는 처리면의 법선이 대체로 수평방향을 향하는 종자세로 기판을 유지하고, 상기 기판을 상하방향으로 반송하면서 소정의 처리를 행하는 기판처리장치에 있어서,

   상기 기판을 상하방향으로 반송하는 반송수단과,

   반송되는 상기 기판에 상기 소정의 처리를 행하는 처리부를 구비하고,

   상기 반송수단이,

   상기 처리부의 하측에 설치되어 기판을 지지하는 제1지지부와, 상기 처리부의 상측에 설치되어 기판을 지지하는 제2지지부와, 상기 제1 및 제2지지부를 상하방향으로 움직이게 하는 이동수단을 가지며,

   상기 제1 및 제2지지부가 상기 기판의 수수를 행함으로써 상기 기판을 상기 처리부를 통과하도록 반송하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 이동수단이 상기 제1 및 제2지지부에 의한 상기 기판의 상기 수수에 있어서, 상기 제1 및 제2지지부를 일정 간격을 유지하면서 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 이동수단이 상기 제1 및 제2지지부 사이에 간격조정부재를 삽입시킴으로써 상기 기판의 상기 수수에 있어서의 상기 일정한 간격이 유지되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
4. 제1항 내지 제3항의 어느 한 항에 있어서, 상기 이동수단이 제1 및 제2지지수단의 쌍방을 이동시키는 1개의 구동원을 가진 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
5. 제1항 내지 제4항의 어느 한 항에 있어서, 상기 제1지지부가 상기 기판의 하부를 지지하고,

   상기 제2지지부가 상기 기판의 상부를 지지하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
6. 제1항 내지 제5항의 어느 한 항에 있어서, 상기 제1지지부가 상기 기판의 하단에 접하여 상기 기판을 지지하는 접촉지지부를 가지며,

   상기 제2지지부가 상기 기판의 한쪽 면의 상부를 흡착하여 지지하는 흡착지지부를 가진 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
7. 제1항 내지 제6항의 어느 한 항에 있어서, 상기 제2지지부가 상기 기판의 상기 수수에 있어서 상기 제2지지부의 상하방향이동과 함께 상기 흡착지지부를 상기 기판에 접촉시키는 캠기구를 추가로 가진 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
8. 제1항 내지 제7항의 어느 한 항에 있어서, 상기 이동수단이 직동구동원과,

   상기 직동구동원에 연결되고, 상기 제1 및 제2지지부 사이에 삽입함으로써 상기 제1 및 제2지지부의 쌍방을 상기 수수에 있어서 일정 간격을 유지하면서 이동시키는 간격조정부재를 가지며,

   상기 기판의 상기 수수에 있어서 상기 간격조정부재의 하단 및 상단에 상기 제1 및 제2지지부를 접촉시킴으로써 상기 제1 및 제2지지부의 간격을 일정하게 유지한 채로 상기 제1 및 제2지지부를 동시에 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
9. 제8항에 있어서, 상기 처리부로부터 유출되는 처리액을 받아들이는 상측이 개구된 용기를 상기 처리부의 하측에 추가로 구비하고,

   상기 제1지지부가 상기 용기의 외부에 있어서 상기 간격조정부재의 접촉부위에 있어서의 상하방향의 운동을 회전운동으로 변환하는 수단과,

   상기 용기의 벽면을 관통하고, 상기 회전운동을 상기 용기의 내부에 전달하는 축과, 상기 축이 상기 벽면을 관통하는 부위에 설정된 축 시일과,

   상기 기판을 상하방향으로 반송하기 위해서 상기 용기 내부에 있어서 상기 회전운동을 상기 접촉지지부의 상하운동으로 변환하는 수단을 추가로 가진 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
10. 제6항에 있어서, 상기 처리부 내부에서는 상기 처리에 따라 하향의 힘이 상기 기판에 주어지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
11. 기판을 유지하는 제1 및 제2지지부 및 상기 기판에 소정의 처리를 행하는 처리부를 가진 기판처리장치에 있어서, 상기 기판의 처리면의 법선이 대체로 수평방향을 향하는 종자세로 상기 기판을 지지하고, 상기 기판을 상기 처리면을 따라 상하방향으로 반송하면서 상기 처리면에 상기 소정의 처리를 행하는 기판처리방법으로서,

    상기 제1지지부를 이용하여 상기 기판을 상기 처리부 내부로 반송하는 제1의 반송공정과,

    상기 제1반송공정에서의 반송 도중의 상기 기판을 상기 제2지지부에서 주고받는 수수공정과,

    상기 제2지지부를 이용하여 상기 기판을 상기 처리부를 통과하도록 상기 제1의 반송공정과 동일한 방향으로 추가로 반송되는 제2반송공정과,

    상기 처리부를 통과하는 상기 기판에 대해 상기 처리부가 상기 소정의 처리를 행하는 처리공정을 가진 것을 특징으로 하는 기판처리방법.
12. 제11항에 있어서, 상기 수수공정에서 상기 제1 및 제2지지부를 일정한 간격을 유지한 채로 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판처리방법.