JP3375836B2 - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents

基板処理装置および基板処理方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示器やプ
ラズマディスプレイなどの製造に用いられるガラス基板
などの基板をほぼ直立した姿勢のまま上下方向に搬送す
る基板処理装置および基板処理方法に関する。
【０００２】
【発明の背景】基板に対して洗浄や現像などといった処
理を施す場合、従来より基板はその処理される面の法線
がほぼ鉛直方向に伸びる状態（以下、「水平姿勢」とい
う。）にて搬送、保持、および、処理が行われてきた。
これは、基板を水平姿勢にすることにより重力を利用し
た基板の保持、搬送が可能となり、容易に基板を取り扱
うことができるからである。
【０００３】しかし、液晶表示器の製造に用いられるガ
ラス基板のように大型の基板を取り扱う場合、基板を水
平姿勢にて保持したのでは装置が水平方向に大きくな
り、装置が占有する床面積も大きくなってしまう。その
結果、基板の大型化に伴い工場内の限られた領域に装置
が設置できなくなったり、合理的な維持管理が困難とな
るという問題が生じている。
【０００４】そこで、基板をその処理面の法線がほぼ水
平方向に伸びる状態（以下、「縦姿勢」という。）に保
持したまま搬送、処理を行う装置の開発が進められてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】基板を縦姿勢のまま保
持して上下方向へ搬送して処理を行う場合、従来、水平
方向に配置されていた装置の各構成要素は鉛直上下方向
に配置されることとなる。したがって、基板の大型化に
伴い装置の高さが高くなってしまう。
【０００６】具体的に図７を用いて説明すると、基板９
０９を縦姿勢にて保持して基板の搬送および処理を行う
には基板９０９を図７(a)の位置から図７(b)の位置まで
搬送可能なアーム９１０が必要となる。すなわち、基板
９０９に処理を施す処理部９０２に対して基板９０９の
ほぼ全体が通過するように搬送する手段が必要となる。
このとき、図７に示すように基板９０９を上あるいは下
方向から伸びるアーム９１０を用いて保持するならば、
装置の全高は少なくとも基板９０９の高さＬ１と処理部
の高さＬ２の和の２倍（Ｌ１×２＋Ｌ２×２）となって
しまう。
【０００７】また、このような装置の高さの問題を少し
でも解決すべく、図８に示すように、処理部９０２に対
して側方よりアーム９１１を伸ばすことにより基板９０
９を保持し、装置全高を（Ｌ１×２＋Ｌ２）に抑えよう
とした場合、アーム９１１が伸びる側方に上下方向に伸
びる開口部９１２が不可欠になり、この開口部９１２よ
り処理部９０２で用いられる処理液が漏れるという問題
を生じる。
【０００８】さらに、図７や図８に示される基板処理装
置では、基板９０９の保持される部位に対して処理を施
すことができず、その結果、基板９０９全体に処理を施
すことができないという課題を有している。
【０００９】そこで、この発明は上記課題に鑑みなされ
たもので、可能な限り装置の高さを抑えるとともに、基
板全面において処理を施すことができる基板処理装置お
よび基板処理方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、処理
が施される処理面の法線がほぼ水平方向を向くような縦
姿勢に基板を保持し、前記基板を上下方向に搬送しなが
ら所定の処理を施す基板処理装置であって、前記基板を
上下方向に搬送する搬送手段と、搬送される前記基板に
前記所定の処理を施す処理部と、を備え、前記搬送手段
が、前記処理部の下方に設けられて基板を保持する第１
の保持部と、前記処理部の上方に設けられて基板を保持
する第２の保持部と、前記第１および第２の保持部を上
下方向に移動させる移動手段と、を有し、前記第１およ
び第２の保持部が前記基板の受渡を行うことにより前記
基板を前記処理部を通過するように搬送する。
【００１１】請求項２の発明は、請求項１記載の基板処
理装置であって、前記移動手段が、前記第１および第２
の保持部による前記基板の前記受渡において、前記第１
および第２の保持部を一定間隔を保ちながら移動させ
る。
【００１２】請求項３の発明は、請求項２記載の基板処
理装置であって、前記移動手段が、前記第１および第２
の保持部の間に間隔調整部材を介挿させることにより前
記基板の前記受渡における前記一定の間隔が維持され
る。
【００１３】請求項４の発明は、請求項１ないし３のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記移動手段
が、前記第１および第２の保持手段の双方を移動させる
１つの駆動源、を有する。
【００１４】請求項５の発明は、請求項１ないし４のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記第１の保持
部が、前記基板の下部を保持するものであり、前記第２
の保持部が、前記基板の上部を保持するものである。
【００１５】請求項６の発明は、請求項１ないし５のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記基板の前記
第１の保持部が、前記基板の下端に接して前記基板を保
持する接触保持部、を有し、前記第２の保持部が、前記
基板の一方の面の上部を吸着して保持する吸着保持部、
を有する。
【００１６】請求項７の発明は、請求項１ないし６のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記第２の保持
部が、前記基板の前記受渡において前記第２の保持部の
上下方向移動とともに前記吸着保持部を前記基板に接触
させるカム機構、をさらに有する。
【００１７】請求項８の発明は、請求項１ないし７のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記移動手段
が、直動駆動源と、前記直動駆動源に連結され、前記第
１および第２の保持部の間に介挿することにより前記第
１および第２の保持部の双方を前記受渡において一定間
隔を保ちながら移動させる間隔調整部材とを有し、前記
基板の前記受渡において前記間隔調整部材の下端および
上端に前記第１および第２の保持部を接触させることに
より前記第１および第２の保持部の間隔を一定に保った
まま前記第１のおよび第２の保持部を同時に移動させ
る。
【００１８】請求項９の発明は、請求項８記載の基板処
理装置であって、前記処理部から流出する処理液を受け
る上方が開口した容器、を前記処理部の下方にさらに備
え、前記第１の保持部が、前記容器の外部において前記
間隔調整部材との接触部位における上下方向の運動を回
転運動に変換する手段と、前記容器の壁面を貫通し、前
記回転運動を前記容器の内部に伝達する軸と、前記軸が
前記壁面を貫通する部位に設けられた軸シールと、前記
基板を上下方向に搬送するために前記容器内部において
前記回転運動を前記接触保持部の上下運動に変換する手
段と、をさらに有する。
【００１９】請求項１０の発明は、請求項６に記載の基
板処理装置であって、前記処理部内部においては、前記
処理に伴って下向きの力が前記基板に与えられる。
【００２０】請求項１１の発明は、基板を保持する第１
および第２の保持部ならびに前記基板に所定の処理を施
す処理部を有する基板処理装置において、前記基板の処
理面の法線がほぼ水平方向に向くような縦姿勢に前記基
板を保持し、前記基板を前記処理面に沿って上下方向に
搬送しながら前記処理面に前記所定の処理を施す基板処
理方法であって、前記第１の保持部を用いて前記基板を
前記処理部内部へと搬送する第１の搬送工程と、前記第
１の搬送工程における搬送途上の前記基板を前記第２の
保持部に受け渡す受渡工程と、前記第２の保持部を用い
て前記基板を前記処理部を通過するように前記第１の搬
送工程と同一の方向へさらに搬送する第２の搬送工程
と、前記処理部を通過する前記基板に対して前記処理部
が前記所定の処理を施す処理工程と、を有する。
【００２１】請求項１２の発明は、請求項１１記載の基
板処理方法であって、前記受渡工程において前記第１お
よび第２の保持部を一定の間隔を保持したまま移動させ
る。
【００２２】
【発明の実施の形態】
＜１．全体の構成および動作＞図１はこの発明に係る一
の実施の形態である基板処理装置１の全体を示す斜視図
であり、図２は図１における基板処理装置１の搬送系３
の構成を示す斜視図である。また、図３は装置１の動作
を示す側方断面図であり、図１のＹ−Ｚ面に平行な平面
を用いて装置中央における断面を示したものである。
【００２３】この基板処理装置１は基板９をその処理面
の法線が水平方向を向くような、すなわちその処理面が
鉛直線を含む平面となるような姿勢（以下、単に「縦姿
勢」といい、ここではそのときの処理面をＸ−Ｚ面と定
義し、Ｘ−Ｚ面内の水平方向をＸ方向、鉛直方向をＺ方
向、Ｘ−Ｚ面に垂直な方向をＹ方向とする）に保持しつ
つ鉛直上下方向（Ｚ方向）に搬送し、基板９に洗浄処理
を施す装置であり、大きく分けて基板９に所定の洗浄処
理を行う処理部２、基板９を処理部２を通過するように
搬送する搬送系３、および、搬送される基板９をセット
する投入部４から構成される。
【００２４】投入部４は処理部２の下方に設けられた容
器４１１を有しており、図３(a)に示すように、まず、
基板９はこの容器４１１に矢印Thrに沿って投入されて
２点鎖線にて示す位置に到達する。その後、矢印Rotに
示すように回転移動して実線にて示す基板９の位置に配
置される。
【００２５】なお、実際には基板９が図３の矢印Thrに
沿って２点鎖線に示す状態に投入された時点で、基板９
は図４に示すガイド枠部４２にセットされる。ガイド枠
部４２はガイド枠４２１に複数のローラ４２２が縦に２
列に設けられた構成となっており、基板９は２列のロー
ラ４２２に挟まれながら矢印Gid方向にガイドされなが
ら移動可能となっている。このガイド枠部４２が軸Ｊ２
を中心に回転することにより、基板９が矢印Rotに沿っ
て回転移動するようになっている。
【００２６】また、図３において太実線で示される箇所
は装置本体に固定された構成要素を示している。すなわ
ち、前述の処理部２、容器４１１、後述する直動アクチ
ュエータ３０１、および、ストッパ３０４、３０５は装
置本体に固定されている。
【００２７】処理部２の下方に配置された基板９を搬送
する搬送系３は図２に示すように、駆動系３０、第１保
持部３１、および、第２保持部３２から構成される。
【００２８】まず、所定位置に配置された基板９は第１
保持部３１により図３(b)に示すように上方の処理部２
の内部へと搬送される。そして、基板９の上端が処理部
２を通過した時点で第２保持部３２が基板９の上部を吸
着してさらに上方へ基板９を搬送する（図３(c)、(d)参
照）。すなわち、搬送系３は第１および第２保持部３
１、３２を用いて基板９を処理部２の内部を通過するよ
うに下方から上方へと搬送する。このとき、処理部２は
基板９に対して洗浄処理を施す。
【００２９】処理部２は図５に示すように下方から上方
への搬送中の基板の処理面の両側にそれぞれ沿うように
１つずつ下から対をなすように配置されたブラシ２０
１、純水噴射ノズル２０２、超音波洗浄ノズル２０３、
および、エアナイフ２０４の洗浄ツールがカバー２１１
に覆われるような構成となっている。それぞれの洗浄ツ
ールは図５の紙面に垂直な方向（Ｘ方向）に基板の幅方
向にほぼ相当する長さを持っており、基板９が下方から
上方へ向けて処理部２内部を搬送されることにより、基
板９の両面に対してブラシ洗浄、純水噴射洗浄、超音波
洗浄、および、乾燥処理が施されるようになっている。
【００３０】以上のような構成および動作により、基板
９は第１および第２保持部３１、３２を用いて処理部２
を通過するように下方から上方へ向けて搬送され、これ
により、基板９の表裏両面に洗浄処理が施されることと
なる。
【００３１】＜２．搬送系の構成および動作＞次に、こ
の基板処理装置１の搬送系３の構成および動作について
詳説する。
【００３２】搬送系３は前述の通り、駆動系３０、第１
保持部３１、および、第２保持部３２から構成されてお
り、駆動系３０は第１および第２保持部３１、３２を移
動させる駆動源である直動アクチュエータ３０１、直動
アクチュエータ３０１により直接上下方向に移動される
上下に伸びる棒状の間隔調整部材３０２、および、第１
および第２保持部３１、３２の移動範囲を制限するスト
ッパ３０４、３０５からなる。
【００３３】また、第１保持部３１は図２に示すよう
に、間隔調整部材３０２の下端に接して直動アクチュエ
ータ３０１による間隔調整部材３０２の縦運動である上
下運動を伝達するプレート３１１、プレート３１１の両
端に接続された１対のベルト３１２、１対のベルト３１
２のそれぞれが取り付けられるプーリ３１３とプーリ３
１４との組合せをそれぞれ１対有し、１対のベルト３１
２のそれぞれにはプレート３１１の取り付け位置と対向
する位置にそれぞれ重り３１５が取り付けられている。
これにより、プレート３１１にはベルト３１２を介して
上方向に力が加わり、プレート３１１が間隔調整部材３
０２の下端に接するようになっている。なお、プレート
３１１は図３(c),(d)に示すように、ストッパ３０５に
より一定の高さ以上には上昇しないようになっている。
【００３４】さらに、第１保持部３１は図１に示すよう
に、基板９を下方より接触して保持する接触保持台３１
６、接触保持台３１６の両端に接続された１対のベルト
３１７、１対のベルト３１７のそれぞれが取り付けられ
るプーリ３１８とプーリ３１９の組合せをそれぞれ１対
有し、１対のプーリ３１９のそれぞれは１対のプーリ３
１４の対応するものに１対の軸Ｊ１（形状図示省略）を
介して接続されている。なお、１対の軸Ｊ１は図１に示
すように容器４１１を貫通しており、この貫通位置にて
容器４１１内に受けられる洗浄液が漏れないように１対
の軸シール３３０が設けられている。
【００３５】以上のような第１保持部３１の構成によ
り、プレート３１１が間隔調整部材３０２の下端に下方
から接している状態において、間隔調整部材３０２の上
下運動がプレート３１１とそれぞれが対をなすベルト３
１２、プーリ３１４を介して１対の軸Ｊ１の回転運動と
なり、１対の軸Ｊ１の回転運動がそれぞれが対をなすプ
ーリ３１９、ベルト３１７、を介して接触保持台３１６
の縦運動である上下運動に変換される。
【００３６】なお、この実施の形態では、全てのプーリ
の大きさは同じであり、かつ、プレート３１１と接触保
持台３１６とは両者の相対的位置関係が変わることなく
移動するようになっている。また、基板９が図３(a)に
示すように処理部２の下方にほぼ直立した状態に配置さ
れたときに、接触保持台３１６が図４に示すように基板
９の下に入り込むようになっており、基板９が接触保持
台３１６に押し上げられることにより、基板９はローラ
４２２にガイドされながら上昇するようになっている。
また、処理部２内部においても基板９をガイドするロー
ラが設けられており、これにより、基板９は安定して処
理部２内部へと搬送されるようになっている。さらに、
図５に示されるように処理部２内部の１対のブラシ２０
１は基板９の表面を下方に向けて擦るように回転してお
り、これにより基板９は下向きの力を受け、基板９が安
定して接触保持台３１６に接触するようになっている。
【００３７】第２保持部３２は図２に示すように矢印Pu
lに沿って上下に移動可能な移動本体部３２１、基板９
を吸着して保持する吸着部材３２３が設けられた吸着部
３２２、吸着部３２２を移動本体部３２１と接続する軸
３２４、および、カム機構３２６を有している。なお、
図１および図２では、移動本体部３２１の上下移動をガ
イドする部材の図示を省略している。
【００３８】第２保持部３２は図３(b)および(c)に示す
ように第１保持部３１により処理部２の下方から上方へ
向けて搬送される基板９を受け取って、基板９を処理部
２の上方へ引き上げるものであるが、基板９を受け取る
際に吸着部３２２を基板９から退避した状態から接触す
る状態に移動させることにより、基板９を吸着部材３２
３を用いて吸着保持するようになっている。
【００３９】この吸着保持動作は図２に示される装置本
体に固定されたカム機構３２６により実現されている。
なお、図１および図２ではカム機構３２６を模式的に直
方体にてその位置を示している。
【００４０】図６はこのカム機構３２６の構成の概略を
示すとともに、吸着部材３２３の移動の様子を示す図で
ある。この図において移動本体部３２１の内部は詳細な
形状を省略して示している。図６(a)は第２保持部３２
がストッパ３０４に接して下限位置にある状態を示す図
であり、図６(b)は第２保持部３２が間隔調整部材３０
２により押し上げられるとともに吸着部材３２３が基板
９を吸着しようとしている状態を示す図である。
【００４１】カム機構３２６は装置本体に固定されたカ
ム板３２７およびローラ形状をしたカム従動子３２８か
ら構成されており、カム従動子３２８は軸３２４に接続
されている。図６(a)の状態では、移動本体部３２１の
内部に設けられた引張ばね３２５が軸３２４を介してカ
ム従動子３２８を基板９側へ引きつけており、これによ
りカム従動子３２８がカム板３２７から離れないように
なっている。ここで、図６(b)に示すように移動本体部
３２１が矢印Ｃ１の方向に上昇すると、カム従動子３２
８はカム板３２７と接しながら矢印Ｃ２に示すように移
動する。これにより、軸３２４を介して吸着部材３２３
が移動本体部３２１に対して基板９側へ（矢印Ｃ３の方
向へ）移動し、基板９と接する。このとき、図示しない
吸着駆動手段により吸着部材３２３の先端からエアを吸
い込ませ、吸着部材３２３が基板９を吸着保持する。そ
の後、移動本体部３２１はさらに上昇してカム従動子３
２８はカム板３２７から離れ、基板９は処理部２から上
方へ引き抜かれるように搬送される。なお、軸３２４に
はストッパ（図示省略）が設けられており、図６(b)に
示される位置よりも基板９側へ移動しないようになって
いる。したがって、基板９は大きな振動が与えられるこ
となく吸着され搬送されるようになっている。
【００４２】以上、搬送系３の構成および各構成要素の
動作について説明してきたが、次に、これらの構成要素
による第１保持部３１から第２保持部３２への基板９の
受渡動作について図３を参照しながら詳説する。
【００４３】図３(a)に示すように第１保持部３１の接
触保持台３１６上に縦姿勢に載置された基板９は先に説
明したように直動アクチュエータ３０１による間隔調整
部材３０２の上昇とともにプレート３１１と動作をとも
にする接触保持台３１６により押し上げられる。
【００４４】間隔調整部材３０２はやがて図３(b）に示
すようにその上端が第２保持部３２の移動本体部３２１
に接触する。これにより、移動本体部３２１はストッパ
３０４から離れて上昇を開始する。また、前述のカム機
構３２６の作用により吸着部材３２３が基板９に向けて
移動し基板９を吸着する（図３(c)）。このとき、移動
本体部３２１とプレート３１１との間隔は間隔調整部材
３０２の上端と下端との距離を保つので、プレート３１
１とともに移動する接触保持台３１６は移動本体部３２
１と相対的に一定の位置関係を保ったまま移動する。し
たがって、第１保持部３１に押し上げられる基板９と第
２保持部３２の吸着部材３２３との上下方向における相
対的位置関係は変化せず、吸着部材３２３は基板９に対
して擦れることなくなめらかに吸着することができる。
【００４５】さらに、間隔調整部材３０２が上昇すると
図３(c)に示すようにプレート３１１および接触保持台
３１６はストッパ３０５の作用により上昇が妨げられ
る。プレート３１１は図２に示すように重り３１５によ
り上方に持ち上げられて間隔調整部材３０２の下端に接
触しているにすぎないので、プレート３１１は間隔調整
部材３０２から離れて接触保持台３１６とともに上昇が
停止する。
【００４６】その後、基板９は第２保持部３２のみによ
り保持されて搬送され、図３(d)に示すように処理部２
から上方へ引き上げられる。
【００４７】以上、基板処理装置１の間隔調整部材３０
２を有する搬送系３による基板搬送動作について説明し
てきたが、このように間隔調整部材３０２を利用して基
板９を搬送することにより、基板９の移動は間隔調整部
材３０２の移動に従うこととなる。その結果、基板９の
第１および第２保持部３１、３２による受渡をなめらか
に安定して行うことができる。また、間隔調整部材３０
２を直動アクチュエータ３０１を用いて一定の速度で上
昇させることにより、基板９を一定の速度で搬送するこ
とも可能となる。その結果、基板９は受渡が行われるに
も拘わらず送りむらのない安定した搬送が実現される。
【００４８】また、洗浄される基板９の処理面は、液晶
表示素子の薄膜電極等を形成すべき素子面９１と、その
裏面側である裏面９２とがあるが、以上のように基板９
の下端面に接触して保持する第１保持部３１と、基板９
の裏面９２の上端部を吸着して保持する第２保持部３２
とで基板９を受け渡すことにより、基板９の保持位置が
変更され、特に、第２保持部３２による基板９の吸着位
置を図３(d)に示すように裏面９２としているので、特
に清浄に洗浄すべき素子面９１の全面を洗浄することが
できるとともに洗浄後に素子面９１を汚染することもな
い。
【００４９】また、図３(d)と図７に示される装置とを
比較すると、図７の装置では装置全高が基板９の高さＬ
１の２倍と処理部２の高さＬ２の２倍との和程度となる
のに対し、図３(d)では基板９の高さＬ１の２倍と処理
部２の高さＬ２との和程度に抑えられていることが分か
る。
【００５０】さらに、この装置１では、接触保持台３１
６の上下運動は容器４１１外部からの軸Ｊ１の回転運動
を変換することにより実現されているので、図８に示さ
れるような開口部９１２を設けた場合に生じる処理液の
漏れを軸シール３３０を用いることにより容易に防止す
ることができる。
【００５１】＜３．変形例＞以上この発明に係る一の実
施の形態である基板処理装置１について説明してきた
が、この発明は上記実施の形態に限定されるものではな
い。
【００５２】上記実施の形態では、基板処理装置１とし
て洗浄装置を例に説明したが、他の処理を行う装置であ
ってもよい。例えば、処理部２に現像液塗布ノズルを設
けることにより現像装置とすることができる。
【００５３】また、上記実施の形態では、プレート３１
１を間隔調整部材３０２に接触させるために重り３１５
を用いているが、プーリ３１３やプーリ３１４などにト
ルクモータを用いてトルクを与えることにより同様の作
用を実現することができる。
【００５４】また、上記実施の形態では、プレート３１
１の上下運動をベルト３１２、プーリ３１３、３１４な
どを用いて回転運動に変換しているが、ラックピニオン
機構などのように直線運動を回転運動に変換できるもの
であればどのようなものであってもよい。
【００５５】また、上記実施の形態ではカム機構３２６
として、カム板３２７、カム従動子３２８を用いている
が、図示される形態に限定されるものではなく、同様の
吸着部材３２３の移動が実現されるのであればどのよう
なものであってもよい。
【００５６】また、上記実施の形態では、基板投入方法
としてガイド枠部４２を回転移動させているが、基板９
が処理部２の下方にほぼ直立して配置されるのであれば
どのような方法であってもよい。例えば、ガイド枠部４
２を平行移動させるようにしてもよい。
【００５７】また、上記実施の形態では、処理部２にお
いて１対のブラシ２０１を基板９に対して下方向に擦れ
るように回転しているが、これに限るものではない。好
ましくは、基板９が処理部２を通過する間に基板９が処
理部２から上方向の力を受けなければよく、例えば、処
理部２において２対のブラシが存在する場合に基板９に
対して上方向に擦れるブラシが１組存在するとしても他
の１組が反対方向に回転してブラシ全体では基板９に下
方の力を与えるのであれば安定した基板９の搬送が実現
される。
【００５８】また、上記実施の形態では、洗浄処理を施
すために処理部２はそれぞれが対をなすブラシ２０１、
ノズル２０２、超音波洗浄ノズル２０３、および、エア
ナイフ２０４を有しているが、不要であればなくてもよ
く、また、対をなしている必要もない。
【００５９】また、上記実施の形態では基板９を縦姿勢
でその処理面に沿って鉛直上下方向へ搬送するが、実質
的に基板が縦姿勢であれば、基板の姿勢や搬送方向が多
少鉛直から斜めに傾いているものであってもよい。この
ような場合であっても例えば吸着部材３２３を多数設け
ることにより基板搬送は可能であり、同様の効果が得ら
れる。
【００６０】さらに、上記実施の形態では、基板９を下
方より上方に向けて搬送しているが、逆の動作をさせる
ことにより上方から下方への搬送も可能である。
【００６１】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明では、第１および第２の保持部を用いて基板を受け渡
して搬送するので、基板処理装置の高さを基板の高さの
２倍と処理部の高さとの和程度に抑えることができる。
また、基板の受渡により基板の保持位置が変わり、基板
全面を処理することができる。
【００６２】請求項２記載の発明では、基板の受渡にお
いて第１および第２の保持部の間隔を一定に保つので、
安定した基板の受け渡しができ、さらに、速度むらのな
い安定した基板の搬送が実現される。
【００６３】請求項３記載の発明では、基板の受渡にお
いて間隔調整部材を用いることにより第１および第２の
保持部の間隔を容易に一定に保つことができる。これに
より、安定した基板の受渡、および、速度むらのない安
定した基板の搬送が容易に実現される。
【００６４】請求項４記載の発明では、第１および第２
の保持部の双方を移動させる駆動源が１つであるので、
第１および第２の保持部の受渡を容易に実現することが
できる。
【００６５】請求項５記載の発明では、基板の下部を保
持する第１の保持部から基板の上部を保持する第２の保
持部へ、処理部をはさんで基板を確実かつ容易に受け渡
しして搬送し処理できる。
【００６６】請求項６記載の発明では、接触保持部およ
び吸着保持部を用いて基板を搬送するので、基板を縦方
向に容易に搬送することができる。
【００６７】請求項７記載の発明では、カム機構によ
り、第２の保持部の移動に伴って吸着部を基板に接触さ
せることが容易に実現される。
【００６８】請求項８記載の発明では、間隔調整部材の
下端および上端に第１および第２の保持部を接触させる
ことにより、第１および第２の保持部を間隔を一定に保
ったまま移動させることが容易に実現される。
【００６９】請求項９記載の発明では、間隔調整部材の
縦運動を回転運動にして容器内部に軸を介して伝達し、
容器の軸が貫通する部位に軸シールを設けるので、容器
からの液漏れを容易に防止することができる。
【００７０】請求項１０記載の発明では、処理部の処理
に伴って基板に下向きの力が加えられるので、基板の安
定した搬送が実現される。
【００７１】請求項１１記載の発明では、第１および第
２の保持部を用いて基板を受け渡して搬送するので、基
板処理装置の高さを基板の高さの２倍と処理部の高さと
の和程度に抑えることができる。また、基板の受渡によ
り基板の保持位置が変わり、基板全面を処理することが
できる。
【００７２】請求項１２記載の発明では、基板の受渡に
おいて第１および第２の保持部の間隔を一定に保つの
で、安定した基板の受け渡しができ、さらに、速度むら
のない安定した基板の搬送が実現される。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る基板処理装置の全体を示す斜視
図である。
【図２】図１における基板処理装置の搬送系を示す斜視
図である。
【図３】図１における基板処理装置の搬送動作を示す側
方断面図である。
【図４】ガイド枠などを示す斜視図である。
【図５】処理部の構成を示す側方断面図である。
【図６】移動本体部およびカム機構の構成および動作の
概略を示す図である。
【図７】従来の基板処理装置の一例を示す側方断面図で
ある。
【図８】従来の基板処理装置の他の例を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】
１ 基板処理装置 ２ 処理部 ３ 搬送系 ４ 投入部 ９ 基板 ３０ 駆動部 ３１ 第１保持部 ３２ 第２保持部 ９１ 基板処理面 ９２ 基板裏面 ２０１ ブラシ ３０１ 直動アクチュエータ ３０２ 間隔調整部材 ３０４、３０５ ストッパ ３１２、３１７ ベルト ３１３、３１４、３１８、３１９ プーリ ３１５ 重り ３１６ 接触保持台 ３２２ 吸着部 ３２３ 吸着部材 ３２６ カム機構 ３３０ 軸シール ４１１ 容器 Ｊ１ 軸

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 処理が施される処理面の法線がほぼ水平
    方向を向くような縦姿勢に基板を保持し、前記基板を上
    下方向に搬送しながら所定の処理を施す基板処理装置で
    あって、 前記基板を上下方向に搬送する搬送手段と、 搬送される前記基板に前記所定の処理を施す処理部と、
    を備え、 前記搬送手段が、 前記処理部の下方に設けられて基板を保持する第１の保
    持部と、 前記処理部の上方に設けられて基板を保持する第２の保
    持部と、 前記第１および第２の保持部を上下方向に動させる移動
    手段と、を有し、 前記第１および第２の保持部が前記基板の受渡を行うこ
    とにより前記基板を前記処理部を通過するように搬送す
    ることを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置であって、 前記移動手段が、前記第１および第２の保持部による前
    記基板の前記受渡において、前記第１および第２の保持
    部を一定間隔を保ちながら移動させることを特徴とする
    基板処理装置。
  3. 【請求項３】 請求項２記載の基板処理装置であって、 前記移動手段が、 前記第１および第２の保持部の間に間隔調整部材を介挿
    させることにより前記基板の前記受渡における前記一定
    の間隔が維持されることを特徴とする基板処理装置。
  4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の基
    板処理装置であって、 前記移動手段が、 前記第１および第２の保持手段の双方を移動させる１つ
    の駆動源、を有することを特徴とする基板処理装置。
  5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の基
    板処理装置であって、 前記第１の保持部が、前記基板の下部を保持するもので
    あり、 前記第２の保持部が、前記基板の上部を保持するもので
    ある、ことを特徴とする基板処理装置。
  6. 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかに記載の基
    板処理装置であって、 前記第１の保持部が、 前記基板の下端に接して前記基板を保持する接触保持
    部、を有し、 前記第２の保持部が、 前記基板の一方の面の上部を吸着して保持する吸着保持
    部、を有することを特徴とする基板処理装置。
  7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかに記載の基
    板処理装置であって、 前記第２の保持部が、 前記基板の前記受渡において前記第２の保持部の上下方
    向移動とともに前記吸着保持部を前記基板に接触させる
    カム機構、をさらに有することを特徴とする基板処理装
    置。
  8. 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれかに記載の基
    板処理装置であって、 前記移動手段が、 直動駆動源と、 前記直動駆動源に連結され、前記第１および第２の保持
    部の間に介挿することにより前記第１および第２の保持
    部の双方を前記受渡において一定間隔を保ちながら移動
    させる間隔調整部材とを有し、 前記基板の前記受渡において前記間隔調整部材の下端お
    よび上端に前記第１および第２の保持部を接触させるこ
    とにより前記第１および第２の保持部の間隔を一定に保
    ったまま前記第１のおよび第２の保持部を同時に移動さ
    せることを特徴とする基板処理装置。
  9. 【請求項９】 請求項８記載の基板処理装置であって、 前記処理部から流出する処理液を受ける上方が開口した
    容器、を前記処理部の下方にさらに備え、 前記第１の保持部が、 前記容器の外部において前記間隔調整部材との接触部位
    における上下方向の運動を回転運動に変換する手段と、 前記容器の壁面を貫通し、前記回転運動を前記容器の内
    部に伝達する軸と、 前記軸が前記壁面を貫通する部位に設けられた軸シール
    と、 前記基板を上下方向に搬送するために前記容器内部にお
    いて前記回転運動を前記接触保持部の上下運動に変換す
    る手段と、をさらに有することを特徴とする基板処理装
    置。
  10. 【請求項１０】 請求項６記載の基板処理装置であっ
    て、 前記処理部内部においては、前記処理に伴って下向きの
    力が前記基板に与えられることを特徴とする基板処理装
    置。
  11. 【請求項１１】 基板を保持する第１および第２の保持
    部ならびに前記基板に所定の処理を施す処理部を有する
    基板処理装置において、前記基板の処理面の法線がほぼ
    水平方向に向くような縦姿勢に前記基板を保持し、前記
    基板を前記処理面に沿って上下方向に搬送しながら前記
    処理面に前記所定の処理を施す基板処理方法であって、 前記第１の保持部を用いて前記基板を前記処理部内部へ
    と搬送する第１の搬送工程と、 前記第１の搬送工程における搬送途上の前記基板を前記
    第２の保持部に受け渡す受渡工程と、 前記第２の保持部を用いて前記基板を前記処理部を通過
    するように前記第１の搬送工程と同一の方向へさらに搬
    送する第２の搬送工程と、 前記処理部を通過する前記基板に対して前記処理部が前
    記所定の処理を施す処理工程と、を有することを特徴と
    する基板処理方法。
  12. 【請求項１２】 請求項１１記載の基板処理方法であっ
    て、 前記受渡工程において前記第１および第２の保持部を一
    定の間隔を保持したまま移動させることを特徴とする基
    板処理方法。
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