KR102697741B1 - Door baffle and heat treatment apparatus including the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 도어 배플 내외측의 단열 성능을 향상시켜, 도어 외측의 온도를 낮추고, 도어 내측의 유니포미티(Uniformity) 컨트롤이 용이한 열처리 챔버 및 도어 배플을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 프로세스 튜브의 적어도 일단을 개폐하기 위해 배치되는 도어 배플에 있어서, 상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 형성되는 배플부; 및 상기 배플부의 가장자리와 연결되며, 상기 프로세스 튜브의 길이방향을 따라 관 형상으로 연장 형성되는 조립부; 를 포함하고, 상기 배플부는, 상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 배치되는 외측배플 및 상기 외측배플보다 상기 프로세스 튜브의 내측에 배치되는 내측배플을 포함하여 복수 개의 레이어로 형성될 수 있다.The purpose of the present invention is to provide a heat treatment chamber and a door baffle that improve the insulation performance of the inner and outer sides of the door baffle, thereby lowering the temperature of the outer side of the door and facilitating uniformity control of the inner side of the door.
In one embodiment of the present invention, a door baffle arranged to open and close at least one end of a process tube comprises: a baffle portion formed to block an end of the process tube; and an assembly portion connected to an edge of the baffle portion and formed to extend in a tube shape along the longitudinal direction of the process tube; wherein the baffle portion may be formed of a plurality of layers, including an outer baffle arranged to block an end of the process tube and an inner baffle arranged further inside the process tube than the outer baffle.
Description
본 발명은 열처리 공정에서 확산 가스가 분사되도록 구성되는 열처리 챔버(Chamber) 및 그 도어 배플에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 챔버 내의 열이 외부로 확산되지 않도록 열처리 챔버의 일측 또는 양측을 폐쇄하도록 설치되는 도어 배플과 이를 포함하는 열처리 챔버에 관한 것이다.The present invention relates to a heat treatment chamber configured to inject a diffusion gas in a heat treatment process and a door baffle thereof, and more specifically, to a door baffle installed to close one or both sides of a heat treatment chamber so that heat within the chamber does not diffuse to the outside, and a heat treatment chamber including the same.
본 발명은 열처리 챔버(Chamber)는 실리콘 웨이퍼를 고온에서 열처리하기 위한 것으로, 열처리 공정이 진행되는 프로세스 튜브와, 프로세스 튜브의 일단 또는 양단을 개폐하는 도어 구조를 포함하고 있다.The present invention relates to a heat treatment chamber for heat treating a silicon wafer at a high temperature, and includes a process tube in which a heat treatment process is performed, and a door structure for opening and closing one or both ends of the process tube.
보다 상세하게 설명하면, 도 1에는 종래 도어 배플 설치 구조의 단면도 및 도어 배플의 사시도가 도시되어 있다. 이를 참고하면, 열처리 공정이 진행되는 프로세스 튜브(1)와, 프로세스 튜브(1)의 일단 또는 양단 외측에 배치되는 단열부(2)와, 프로세스 튜브(1)를 감싸도록 배치되며 전기를 이용하여 열을 발생시키는 히터(3)를 포함할 수 있다. 단열부(2)는 프로세스 튜브(1) 밖으로 열이 빠져나가거나, 도어 구조에 과도한 열이 전달되는 것을 방지하기 위한 구성이다. 또한 프로세스 튜브(1)의 일단 또는 양단은 도어 배플에 의해 개폐 가능하여, 개방 상태에서 웨이퍼를 입출입시킬 수 있고, 폐쇄 상태에서 열처리 공정을 진행할 수 있다. 나아가 프로세스 튜브(1) 내측에는 노즐(5)이 설치되어 있어, 노즐(5)을 통해 열처리에 필요한 확산 가스가 분사된다. 노즐(5)은 도어 배플을 향하는 방향으로 설치되고, 확산 가스는 분사된 후 도어 배플(4)이나 프로세스 튜브(1) 내벽의 부딪히면서 프로세스 튜브(1) 내부 전체로 확산된다.More specifically, FIG. 1 illustrates a cross-sectional view of a conventional door baffle installation structure and a perspective view of a door baffle. Referring to this, the process tube (1) in which a heat treatment process is performed, an insulating member (2) arranged on the outer side of one end or both ends of the process tube (1), and a heater (3) arranged to surround the process tube (1) and generates heat using electricity may be included. The insulating member (2) is configured to prevent heat from escaping out of the process tube (1) or excessive heat from being transferred to the door structure. In addition, one end or both ends of the process tube (1) can be opened and closed by the door baffle, so that wafers can be input and output in the open state and the heat treatment process can be performed in the closed state. Furthermore, a nozzle (5) is installed inside the process tube (1), so that a diffusion gas required for the heat treatment is sprayed through the nozzle (5). The nozzle (5) is installed in a direction toward the door baffle, and the diffusion gas is sprayed and then diffuses throughout the inside of the process tube (1) by hitting the door baffle (4) or the inner wall of the process tube (1).
프로세스 튜브(1)와 도어 배플(4)의 배치 구조를 더욱 상세히 설명하면, 도 1 (a)와 같이 프로세스 튜브(1)의 단부는 끝단으로 갈수록 턱을 형성하며 확장되도록 형성된다. 또한 도어 배플(4)은 상기 프로세스 튜브(1)의 턱에 걸리며, 프로세스 튜브의 개방면을 막도록 형성되는 폐쇄부(4a)와, 폐쇄부로부터 프로세스튜브의 길이 방향으로 연장되는 결합부(4b)를 포함할 수 있다. 결합부(4b)의 내측에는 도어(미도시)가 결합될 수 있는 결합구조가 형성될 수 있다.If the arrangement structure of the process tube (1) and the door baffle (4) is described in more detail, as shown in Fig. 1 (a), the end of the process tube (1) is formed to form a protrusion and expand toward the end. In addition, the door baffle (4) may include a closing portion (4a) that is formed to be caught on the protrusion of the process tube (1) and block the open surface of the process tube, and a joining portion (4b) that extends in the longitudinal direction of the process tube from the closing portion. A joining structure to which a door (not shown) can be joined may be formed on the inside of the joining portion (4b).
한편 도어와 도어 배플 사이에는 테프론 등의 실링재가 삽입되는데, 최근 새로운 태양전지, 예컨대 TOPCon(Tunnel Oxide Passivated Contact) 태양전지를 제조하는 공정이 1000℃ 내지 1050℃의 고온에서 진행됨으로 인해, 테플론 등의 실링재가 녹아버리는 문제가 발생하고 있다. 또한 도어 부분에서 단열 효과가 떨어져 튜브 내측 대비 유니포미티(Uniformity) 컨트롤이 어려운 문제가 있다.Meanwhile, a sealant such as Teflon is inserted between the door and the door baffle. However, recently, since the manufacturing process of new solar cells, such as TOPCon (Tunnel Oxide Passivated Contact) solar cells, is carried out at high temperatures of 1000℃ to 1050℃, there is a problem of the sealant such as Teflon melting. In addition, there is a problem that the insulation effect is low in the door area, making it difficult to control uniformity compared to the inside of the tube.
전술한 배경 기술은 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지 기술이라 할 수는 없다.The background technology described above is technical information that the inventor possessed for deriving the present invention or acquired during the process of deriving the present invention, and cannot necessarily be considered as publicly known technology disclosed to the general public prior to the application of the present invention.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 구체적으로는 도어 배플 내외측의 단열 성능을 향상시켜, 도어 외측의 온도를 낮추고, 도어 내측의 유니포미티(Uniformity) 컨트롤이 용이한 열처리 챔버 및 도어 배플을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is intended to solve the problems of the prior art as described above, and specifically, to provide a heat treatment chamber and door baffle that improve the insulation performance of the inner and outer sides of the door baffle, thereby lowering the temperature of the outer side of the door, and facilitating uniformity control of the inner side of the door.
다만 이러한 과제는 예시적인 것으로, 본 발명의 해결하고자 하는 과제는 이에 한정되지 않는다.However, these tasks are exemplary, and the tasks to be solved by the present invention are not limited to these.
본 발명의 실시예는 상기와 같은 과제를 해결하고자, 다음과 같은 를 제공한다.To solve the above problems, an embodiment of the present invention provides the following.
본 발명의 일 실시예에 따른 프로세스 튜브의 적어도 일단을 개폐하기 위해 배치되는 도어 배플에 있어서, 상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 형성되는 배플부; 및 상기 배플부의 가장자리와 연결되며, 상기 프로세스 튜브의 길이방향을 따라 관 형상으로 연장 형성되는 조립부; 를 포함하고, 상기 배플부는, 상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 배치되는 외측배플 및 상기 외측배플보다 상기 프로세스 튜브의 내측에 배치되는 내측배플을 포함하여 복수 개의 레이어로 형성될 수 있다.In one embodiment of the present invention, a door baffle arranged to open and close at least one end of a process tube comprises: a baffle portion formed to block an end of the process tube; and an assembly portion connected to an edge of the baffle portion and formed to extend in a tube shape along the longitudinal direction of the process tube; wherein the baffle portion may be formed of a plurality of layers, including an outer baffle arranged to block an end of the process tube and an inner baffle arranged further inside the process tube than the outer baffle.
또한 상기 외측배플은 폐쇄된 평면 형상으로 형성되고, 상기 내측배플은 배플홀이 관통 형성된 평면 형상으로 형성될 수 있다.In addition, the outer baffle may be formed in a closed plane shape, and the inner baffle may be formed in a plane shape with a baffle hole formed therethrough.
또한 상기 조립부는 상기 프로세스 튜브보다 지름이 작게 형성되며, 상기 프로세스 튜브의 내측벽과 상기 조립부의 외측벽 사이가 이격되도록 형성되고, 상기 내측배플의 단면적이 상기 프로세스 튜브의 단면적보다 작게 형성될 수 있다.In addition, the assembly part may be formed to have a diameter smaller than that of the process tube, and may be formed so that there is a gap between the inner wall of the process tube and the outer wall of the assembly part, and the cross-sectional area of the inner baffle may be formed to be smaller than the cross-sectional area of the process tube.
또한 상기 조립부의 지름은 상기 프로세스 튜브의 지름의 0.7배 내지 0.95배로 형성될 수 있다.Additionally, the diameter of the assembly part can be formed to be 0.7 to 0.95 times the diameter of the process tube.
또한 상기 내측배플은, 상기 외측배플 측에 형성되는 제1내측배플 및 상기 제1내측배플보다 상기 프로세스 튜브의 내측에 배치되는 제2내측배플을 포함하고, 상기 제1내측배플에는 제1홀이 관통 형성되고, 상기 제2내측배플에는 제2홀이 관통 형성될 수 있다.In addition, the inner baffle includes a first inner baffle formed on the outer baffle side and a second inner baffle arranged inside the process tube more than the first inner baffle, and a first hole may be formed penetrating through the first inner baffle and a second hole may be formed penetrating through the second inner baffle.
또한 상기 제1홀 및 상기 제2홀은 상기 프로세스 튜브의 길이 방향과 나란한 방향으로 서로 중첩되지 않는 위치에 형성될 수 있다.Additionally, the first hole and the second hole may be formed at positions that do not overlap each other in a direction parallel to the longitudinal direction of the process tube.
또한 상기 제1홀 및 상기 제2홀은 복수 개 형성될 수 있고, 복수 개의 상기 제1홀 면적을 모두 더한 것보다, 복수 개의 상기 제2홀의 면적을 모두 더한 것이 크게 형성될 수 있다.In addition, the first hole and the second hole may be formed in plurality, and the sum of the areas of the second holes may be formed to be larger than the sum of the areas of the first holes.
또한 상기 제1홀 및 상기 제2홀은 복수 개 형성될 수 있고, 상기 제1홀의 개수보다, 상기 제2홀의 개수가 더 크게 형성될 수 있다.In addition, the first hole and the second hole may be formed in plural, and the number of the second holes may be formed to be greater than the number of the first holes.
본 발명의 일 실시예에 따른 도어 배플을 포함하는 열처리 챔버에 있어서, 상기 프로세스 튜브; 및 상기 프로세스 튜브 내측에 배치되며 가스를 상기 내측배플을 향하여 분사하도록 배치되는 노즐; 을 더 포함하고, 상기 외측배플 및 내측배플 사이의 거리는, 상기 외측배플 및 상기 노즐 사이의 거리의 0.4배 내지 0.6배로 형성될 수 있다.A heat treatment chamber including a door baffle according to one embodiment of the present invention further includes: the process tube; and a nozzle disposed inside the process tube and arranged to inject gas toward the inner baffle; wherein the distance between the outer baffle and the inner baffle can be formed to be 0.4 to 0.6 times the distance between the outer baffle and the nozzle.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점은 이하의 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용, 청구범위 및 도면으로부터 명확해질 것이다.Other aspects, features and advantages other than those described above will become apparent from the following detailed description, claims and drawings for practicing the invention.
이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명의 과제 해결 수단에 의하면 다음과 같은 사항을 포함하는 다양한 효과를 기대할 수 있다. 다만, 본 발명이 하기와 같은 효과를 모두 발휘해야 성립되는 것은 아니다.According to the problem solving means of the present invention as examined above, various effects including the following can be expected. However, the present invention is not established only when all of the following effects are exhibited.
본 발명의 일 실시예에 따른 열처리 챔버 및 도어 배플은, 적용 시 도어 배플 구조로 인해 챔버의 단열 효과가 향상되는 효과가 있다. The heat treatment chamber and door baffle according to one embodiment of the present invention have the effect of improving the insulation effect of the chamber due to the door baffle structure when applied.
더욱 상세하게는, 종래 단일 배플 구조를 사용할 때에 비하여, 챔버 외부 온도가 60℃ 내지 90℃ 정도 저감되는 효과가 있다. 따라서 1000℃ 이상에서 공정을 진행하더라도 도어와 도어 배플 사이에 배치되는 실링재가 녹는 문제를 해결할 수 있다. 또한 튜브 단부에서의 온도가 더욱 균일하게 유지될 수 있어, 제품 불량률을 낮추고 생산성을 향상시킬 수 있다.More specifically, compared to when using a conventional single baffle structure, the chamber external temperature is reduced by about 60℃ to 90℃. Therefore, even if the process is performed at 1000℃ or higher, the problem of the sealant placed between the door and the door baffle melting can be solved. In addition, the temperature at the end of the tube can be maintained more uniformly, thereby reducing the product defect rate and improving productivity.
또한 프로세스 튜브와의 사이에 유격부를 형성하고 도어 배플에 배플홀을 형성함으로써, 외측배플 및 내측배플 사이의 공기 팽창에 의해 도어 배플이 깨지거나 프로세스 튜브가 파손되는 것을 방지할 수 있다.In addition, by forming a clearance between the process tube and the door baffle and forming a baffle hole in the door baffle, it is possible to prevent the door baffle from breaking or the process tube from being damaged due to air expansion between the outer baffle and the inner baffle.
또한 내측배플이 외측배플로부터 프로세스 튜브 내측으로 돌출되는 형상으로 형성됨에 따라, 돌출된 길이만큼 노즐과 도어 배플 사이의 거리가 줄어들게 된다. 이에 따라 가스의 확산 속도가 향상되고 가스 흐름이 보다 원활해져 공정 효율이 향상될 수 있다. 또한 내측튜브가 외측배플로부터 돌출된 부피만큼 프로세스 튜브의 체적이 줄어들게 된다. 이에 따라 공정 시간이 줄어들어 생산성이 향상되는 효과가 있다.In addition, since the inner baffle is formed in a shape that protrudes from the outer baffle into the process tube, the distance between the nozzle and the door baffle is reduced by the protruding length. Accordingly, the gas diffusion speed is improved and the gas flow is made smoother, so that the process efficiency can be improved. In addition, the volume of the process tube is reduced by the volume of the inner tube protruding from the outer baffle. Accordingly, the process time is reduced, which has the effect of improving productivity.
도 1은 종래 도어 배플 설치 구조의 단면도 및 도어 배플의 사시도,
도 2는 본 발명 도어 배플의 측면도 및 이를 포함하는 열처리 챔버의 일부 구성을 도시하는 단면도,
도 3은 본 발명 도어 배플의 사시도,
도 4는 본 발명 도어 배플의 종단면도
도 5는 본 발명 도어 배플과 도어가 결합된 상태의 단면도,
도 6은 본 발명 도어 배플에서 제1내측배플에 형성된 제1홀 패턴의 일 실시예를 도시한 A-A' 단면도,
도 7은 본 발명 도어 배플에서 제2내측배플에 형성된 제2홀 패턴의 일 실시예를 도시한 B-B' 단면도,
도 8은 본 발명 도어 배플에서 제1홀 및 제2홀 패턴의 다른 실시예를 도시한 도면이다.Figure 1 is a cross-sectional view of a conventional door baffle installation structure and a perspective view of the door baffle.
Figure 2 is a side view of the door baffle of the present invention and a cross-sectional view showing a part of the configuration of a heat treatment chamber including the same;
Figure 3 is a perspective view of the door baffle of the present invention;
Figure 4 is a cross-sectional view of the door baffle of the present invention.
Figure 5 is a cross-sectional view of the door baffle and door of the present invention combined.
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line AA' showing one embodiment of a first hole pattern formed in a first inner baffle in a door baffle of the present invention.
FIG. 7 is a BB' cross-sectional view showing one embodiment of a second hole pattern formed in a second inner baffle in a door baffle of the present invention.
FIG. 8 is a drawing illustrating another embodiment of the first hole and second hole patterns in the door baffle of the present invention.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 발명의 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시예로 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 다른 실시예에 도시되어 있다 하더라도, 동일한 구성요소에 대하여서는 동일한 식별부호를 사용한다.The present invention can be modified in various ways and has various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the description of the invention. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, but should be understood to include all modifications, equivalents, or substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention. In describing the present invention, the same identification numbers are used for the same components even though they are illustrated in different embodiments.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. When describing with reference to the drawings, identical or corresponding components are given the same drawing reference numerals and redundant descriptions thereof are omitted.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. In the examples below, the terms first, second, etc. are not used in a limiting sense but are used for the purpose of distinguishing one component from another.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수 개의 표현을 포함한다. In the examples below, singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. In the examples below, terms such as “include” or “have” mean that a feature or component described in the specification is present, and do not exclude in advance the possibility that one or more other features or components may be added.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. In the drawings, the sizes of components may be exaggerated or reduced for convenience of explanation. For example, the sizes and thicknesses of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, and therefore the present invention is not necessarily limited to what is shown.
이하의 실시예에서, x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다. In the following examples, the x-axis, y-axis, and z-axis are not limited to three axes on an orthogonal coordinate system, and may be interpreted in a broad sense that includes them. For example, the x-axis, y-axis, and z-axis may be orthogonal to each other, but may also refer to different directions that are not orthogonal to each other.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.In some embodiments, where the implementation is otherwise feasible, a particular process sequence may be performed in a different order than the one described. For example, two processes described in succession may be performed substantially simultaneously, or in a reverse order from the one described.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used in this application is only used to describe specific embodiments and is not intended to limit the present invention. In this application, the terms "comprise" or "have" and the like are intended to specify the presence of a feature, number, step, operation, component, part or combination thereof described in the specification, but should be understood to not exclude in advance the possibility of the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 2는 본 발명 도어 배플의 측면도 및 이를 포함하는 열처리 챔버의 일부 구성을 도시하는 단면도, 도 3은 본 발명 도어 배플의 사시도, 도 4는 본 발명 도어 배플의 종단면도, 도 5는 본 발명 도어 배플과 도어가 결합된 상태의 단면도, 도 6은 본 발명 도어 배플에서 제1내측배플에 형성된 제1홀 패턴의 일 실시예를 도시한 A-A' 단면도, 도 7은 본 발명 도어 배플에서 제2내측배플에 형성된 제2홀 패턴의 일 실시예를 도시한 B-B' 단면도, 도 8은 본 발명 도어 배플에서 제1홀 및 제2홀 패턴의 다른 실시예를 도시한 도면이다. FIG. 2 is a side view of the door baffle of the present invention and a cross-sectional view showing a part of the configuration of a heat treatment chamber including the same, FIG. 3 is a perspective view of the door baffle of the present invention, FIG. 4 is a longitudinal cross-sectional view of the door baffle of the present invention, FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which the door baffle of the present invention and the door are combined, FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line A-A' showing an embodiment of a first hole pattern formed in a first inner baffle of the door baffle of the present invention, FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line B-B' showing an embodiment of a second hole pattern formed in a second inner baffle of the door baffle of the present invention, and FIG. 8 is a view showing another embodiment of the first hole and second hole patterns in the door baffle of the present invention.
이들 도면을 참고하면, 본 발명 열처리 챔버는, 실질적으로 챔버 역할을 하는 프로세스 튜브(10)와, 프로세스 튜브(10)의 외측에 배치되어, 프로세스 튜브(10)의 내부를 가열하는 히터(20)와, 프로세스 튜브(10)의 단부 및 외측에서 내부의 열이 빠져나가는 것을 방지하기 위해 배치되는 단열부(30)와, 프로세스 튜브(10)의 내측에서 반응 가스를 분사하는 노즐(40)을 포함할 수 있다. 그리고 프로세스 튜브(10)의 일단 또는 양단에는 프로세스 튜브(10)를 개폐하기 위한 도어 배플(100)과 도어(50)가 조립될 수 있다. 노즐(40)은 도어 배플(100)을 향하는 방향으로 배치될 수 있다.Referring to these drawings, the heat treatment chamber of the present invention may include a process tube (10) that substantially functions as a chamber, a heater (20) that is arranged on the outside of the process tube (10) to heat the inside of the process tube (10), an insulating member (30) that is arranged to prevent heat inside the process tube (10) from escaping from the end and the outside, and a nozzle (40) that injects a reaction gas from the inside of the process tube (10). In addition, a door baffle (100) and a door (50) for opening and closing the process tube (10) may be assembled to one or both ends of the process tube (10). The nozzle (40) may be arranged in a direction toward the door baffle (100).
프로세스 튜브(10) 내에는 도핑 또는 기타 열처리가 필요한 웨이퍼가 수납될 수 있으며, 보트에 복수 개의 웨이퍼를 싣고 보트를 프로세스 튜브(10) 내로 진입시켜 복수 개의 웨이퍼를 동일한 조건 하에서 동시에 열처리할 수 있다. 웨이퍼가 적재된 보트를 프로세스 튜브(10) 내에 위치시키고, 히터(20)로 프로세스 튜브(10) 내부를 가열하면서, 노즐(40)을 통해 분위기 가스를 분사함으로써 웨이퍼 가공이 가능하다. 예를 들어 노즐(40)은 도어 배플(100) 및 도어(50)와 인접한 영역에 위치하는 분사구를 포함할 수 있고, 프로세스 튜브(10)의 일측 방향으로 가스를 분사할 수 있다. 또한, 프로세스 튜브(10)의 타측 상에는 튜브(10) 내부 가스 배출을 위한 배기부(미도시)가 배치될 수 있다. 이에 따라 노즐(40)을 통해 프로세스 튜브(10) 내로 공급된 가스는 튜브(10)의 일측에서 타측 방향으로 유동할 수 있고 이 과정에 웨이퍼에 공급될 수 있다.Wafers requiring doping or other heat treatment can be accommodated in the process tube (10), and multiple wafers can be loaded onto a boat and the boat can be introduced into the process tube (10) to simultaneously heat-treat multiple wafers under the same conditions. The wafer processing is possible by positioning the boat loaded with wafers in the process tube (10), heating the inside of the process tube (10) with a heater (20), and spraying atmospheric gas through a nozzle (40). For example, the nozzle (40) can include a spray hole positioned in an area adjacent to the door baffle (100) and the door (50), and spraying gas in one direction of the process tube (10). In addition, an exhaust port (not shown) for exhausting gas inside the tube (10) can be arranged on the other side of the process tube (10). Accordingly, gas supplied into the process tube (10) through the nozzle (40) can flow from one side of the tube (10) to the other side, and can be supplied to the wafer during this process.
한편 프로세스 튜브(10)는 일단 또는 양단에 개구를 구비하며, 단부에는 도어 배플(100) 및 도어(50)의 조립을 위해 내측에 단차가 형성될 수 있다. 프로세스 튜브(10)의 외측 단부의 지름은 그보다 내측의 지름보다 크게 형성되어, 프로세스 튜브(10) 단부의 지름 차이에 의해 단부에 단차가 형성될 수 있다. 즉, 턱은 프로세스 튜브(10) 내측에서 돌출되는 방향으로 형성될 수 있다.Meanwhile, the process tube (10) has an opening at one or both ends, and a step may be formed on the inside of the end for assembling the door baffle (100) and the door (50). The diameter of the outer end of the process tube (10) may be formed to be larger than the diameter of the inner end, so that a step may be formed on the end due to the difference in diameter of the ends of the process tube (10). That is, the protrusion may be formed in a direction protruding from the inside of the process tube (10).
도어 배플(100)은 상술한 프로세스 튜브(10)의 단차 부분에 걸리도록 조립될 수 있다. 즉, 도어 배플(100)은 프로세스 튜브(10)의 일단 또는 양단에 배치되어, 프로세스 튜브(10)의 단부에 형성되는 개구를 개폐할 수 있도록 형성된다.The door baffle (100) can be assembled to be caught on the step portion of the process tube (10) described above. That is, the door baffle (100) is arranged at one or both ends of the process tube (10) and is formed to be able to open and close an opening formed at the end of the process tube (10).
도어 배플(100)은, 프로세스 튜브(10)의 개구 부분을 가로질러 막도록 배치되는 배플부(110)와, 프로세스 튜브(10)의 길이 방향으로 연장 형성되어 프로세스 튜브(10)에 삽입되는 조립부를 포함할 수 있다. 배플부(110)의 가장자리는 조립부의 내측면에 결합될 수 있다.The door baffle (100) may include a baffle portion (110) arranged to block across an opening portion of a process tube (10), and an assembly portion that extends in the longitudinal direction of the process tube (10) and is inserted into the process tube (10). An edge of the baffle portion (110) may be joined to an inner surface of the assembly portion.
조립부는, 프로세스 튜브(10)에 형성되는 턱에 대응되도록 형성될 수 있다. 즉, 프로세스 튜브(10)의 턱을 기준으로 내측에 배치되는 내측조립부(120) 및 외측에 배치되는 외측조립부(130)를 포함하여 다단 형상으로 형성될 수 있다. 또는 프로세스 튜브(10)의 길이 방향으로 내측조립부(120)와 외측조립부(130)가 직렬 연결될 수 있다. 프로세스 튜브(10) 및 내측조립부(120) 및 외측조립부(130)의 중앙은 일치하도록 연결될 수 있다. 즉, 프로세스 튜브(10) 및 내측조립부(120) 및 외측조립부(130)는 동심으로 배치될 수 있다. 조립부 및 프로세스 튜브(10)가 원형 관 형상으로 형성되는 경우, 프로세스 튜브(10) 및 내측조립부(120) 및 외측조립부(130)는 단면이 동심원을 이루는 원기둥 형상으로 형성될 수 있다.The assembly part may be formed to correspond to a protrusion formed in the process tube (10). That is, it may be formed in a multi-stage shape including an inner assembly part (120) positioned on the inner side and an outer assembly part (130) positioned on the outer side based on the protrusion of the process tube (10). Alternatively, the inner assembly part (120) and the outer assembly part (130) may be connected in series in the longitudinal direction of the process tube (10). The centers of the process tube (10), the inner assembly part (120), and the outer assembly part (130) may be connected to coincide. That is, the process tube (10), the inner assembly part (120), and the outer assembly part (130) may be arranged concentrically. When the assembly part and the process tube (10) are formed in a circular tube shape, the process tube (10) and the inner assembly part (120) and the outer assembly part (130) can be formed in a cylindrical shape with concentric cross sections.
프로세스 튜브(10)와 조립부 사이에는 유격부(121)가 형성될 수 있다. 특히 프로세스 튜브(10)와 내측조립부(120) 사이에 유격부(121)가 형성될 수 있다. 본 명세서에서 유격부(121)는 내측조립부(120)의 외측면 및 프로세스 튜브(10)의 내측면 사이의 이격된 부분을 뜻하며, 따라서 유격부(121)는 조립부 외측면의 둘레 방향을 따라 형성될 수 있다. 유격부(121)를 통해 도어 배플(100)과 프로세스 튜브(10)를 용이하게 조립할 수 있다. 또한 유격부(121)에 의해 후술하는 바와 같이 외측배플(111)과 내측배플 사이에서 고온에 의해 공기가 팽창하더라도 도어 배플(100) 전체의 조립성에 영향을 미치지 않을 수 있다.A clearance (121) may be formed between the process tube (10) and the assembly part. In particular, a clearance (121) may be formed between the process tube (10) and the inner assembly part (120). In this specification, the clearance (121) means a spaced portion between the outer surface of the inner assembly part (120) and the inner surface of the process tube (10), and therefore, the clearance (121) may be formed along the circumferential direction of the outer surface of the assembly part. The door baffle (100) and the process tube (10) may be easily assembled through the clearance (121). In addition, even if air expands due to high temperature between the outer baffle (111) and the inner baffle as described later due to the clearance (121), the assembly of the entire door baffle (100) may not be affected.
유격부(121)를 형성하기 위해 조립부는 프로세스 튜브(10)보다 지름이 작게 형성될 수 있다. 더욱 상세하게는, 프로세스 튜브(10)의 단차를 기준으로, 프로세스 튜브(10)의 단부측 지름은 외측조립부(130)보다 지름이 크고, 프로세스 튜브(10)의 내측 지름은 내측조립부(120)보다 지름이 크게 형성될 수 있다. 조립부의 지름은 프로세스 튜브(10)의 지름의 0.7배 내지 0.95배로 형성될 수 있다. 더욱 바람직하게는 조립부의 지름은 프로세스 튜브(10)의 지름의 0.8배 내지 0.9배로 형성될 수 있다. In order to form the clearance (121), the assembly may be formed to have a diameter smaller than that of the process tube (10). More specifically, based on the step of the process tube (10), the diameter of the end side of the process tube (10) may be larger than that of the outer assembly (130), and the inner diameter of the process tube (10) may be formed to have a diameter larger than that of the inner assembly (120). The diameter of the assembly may be formed to be 0.7 to 0.95 times the diameter of the process tube (10). More preferably, the diameter of the assembly may be formed to be 0.8 to 0.9 times the diameter of the process tube (10).
만약 조립부와 프로세스 튜브(10) 지름의 비율이 0.7배보다 작은 경우 실질적으로 단일 배플의 구조를 가진것과 마찬가지로 단열 효과가 낮아질 수 있다. 반면에 조립부와 프로세스 튜브(10) 지름의 비율이 0.95배보다 크게 형성되는 경우, 고온에 의한 도어 배플(100) 변형에 따라 조립성이 저하될 수 있다.If the ratio of the diameter of the assembly part and the process tube (10) is less than 0.7 times, the insulation effect may be reduced, as if it had a structure of a single baffle. On the other hand, if the ratio of the diameter of the assembly part and the process tube (10) is formed to be greater than 0.95 times, the assembly performance may be reduced due to deformation of the door baffle (100) due to high temperature.
외측조립부(130)의 외측면은 프로세스 튜브(10)의 내측면에 대면하고, 내측에는 도어(50)가 조립될 수 있다. 외측조립부(130)의 내측면에는 도어(50)의 조립을 위해 조립리브(131)가 돌출 형성될 수 있다. 조립리브(131)는 외측조립부(130)의 내부 둘레를 따라 연장 형성되며, 둘레방향으로 복수 개가 형성될 수 있다. 조립리브(131)의 일단은 개방되어 도어(50)가 조립될 수 있으며, 도어(50)는 조립리브(131)를 따라 회전 가능하고, 조립리브(131)의 타단은 폐쇄되어 도어(50)의 회전 정도를 제한할 수 있다.The outer surface of the outer assembly (130) faces the inner surface of the process tube (10), and a door (50) can be assembled on the inner surface. An assembly rib (131) can be formed protruding on the inner surface of the outer assembly (130) for assembling the door (50). The assembly rib (131) is formed to extend along the inner circumference of the outer assembly (130), and a plurality of assembly ribs can be formed in the circumferential direction. One end of the assembly rib (131) is open so that the door (50) can be assembled, and the door (50) can rotate along the assembly rib (131), and the other end of the assembly rib (131) is closed so that the degree of rotation of the door (50) can be limited.
또한 외측조립부(130)의 내측면에는 후술하는 지지바디(60)의 이탈을 방지하기 위해 이탈방지리브(132)가 돌출 형성될 수 있다. 이탈방지리브(132)는 조립리브(131)보다 더 내측에 형성될 수 있다. 나아가 이탈방지리브(132)는 외측조립부(130)의 내측 둘레 전체를 따라 연장 형성될 수도 있고, 복수 개가 이격되어 형성될 수도 있다.In addition, a separation prevention rib (132) may be formed protrudingly on the inner surface of the outer assembly part (130) to prevent separation of the support body (60) described later. The separation prevention rib (132) may be formed further inward than the assembly rib (131). Furthermore, the separation prevention rib (132) may be formed to extend along the entire inner circumference of the outer assembly part (130), or may be formed in multiple pieces spaced apart from each other.
나아가 외측조립부(130)의 외측면에는 도어 배플(100)의 기밀성을 향상시키기 위해 단열리브(133)가 돌출 형성될 수 있다. 단열리브(133)는 후술하는 외측배플(111)의 가장자리로부터 연장되어 형성되는 것도 가능하다. 단열리브(133) 또한 외측조립부(130)의 외측 둘레 전체를 따라 연장 형성될 수도 있고, 복수 개가 이격되어 형성될 수도 있다. 바람직하게는 단열리브(133)는 기밀성을 위해서는 외측 둘레 전체를 따라 연장 형성될 수 있다.In addition, an insulating rib (133) may be formed protrudingly on the outer surface of the outer assembly (130) to improve the airtightness of the door baffle (100). The insulating rib (133) may also be formed to extend from the edge of the outer baffle (111) described later. The insulating rib (133) may also be formed to extend along the entire outer perimeter of the outer assembly (130), or may be formed in multiple pieces spaced apart from each other. Preferably, the insulating rib (133) may be formed to extend along the entire outer perimeter for airtightness.
배플부(110)는 조립부 내측을 가로질러 배치되어 조립부 내측을 폐쇄하는 패널 형상일 수 있다. 본 발명에서 배플부(110)는 프로세스 튜브(10)의 단부를 막도록 배치되는 외측배플(111) 및 외측배플(111)보다 프로세스 튜브(10)의 내측에 배치되는 내측배플을 포함하여 복수 개의 레이어로 형성될 수 있다.The baffle part (110) may be a panel shape that is arranged across the inside of the assembly part to close the inside of the assembly part. In the present invention, the baffle part (110) may be formed of a plurality of layers, including an outer baffle (111) arranged to block the end of the process tube (10) and an inner baffle arranged further inside the process tube (10) than the outer baffle (111).
외측배플(111)은 조립부 내측 및 프로세스 튜브(10)의 내측을 폐쇄하도록 형성될 수 있다. 도어 배플(100)이 프로세스 튜브(10)에 조립 시, 외측배플(111)의 일면이 프로세스 튜브(10)의 상술한 단차에 걸리도록 조립될 수 있다. 외측배플(111)은 폐쇄된 평면 형상으로 형성되어 실제 배플의 역할을 할 수 있다. 또한 외측배플(111)은 상술한 프로세스 튜브(10)의 단차의 내측 지름보다 크게 형성될 수 있다. 본 발명에서 외측배플(111)은 종래의 도어 배플(100)과 동일한 구성으로 이해될 수 있다. The outer baffle (111) may be formed to close the inner side of the assembly and the inner side of the process tube (10). When the door baffle (100) is assembled to the process tube (10), one side of the outer baffle (111) may be assembled to be caught on the above-described step of the process tube (10). The outer baffle (111) may be formed in a closed plane shape to function as an actual baffle. In addition, the outer baffle (111) may be formed to be larger than the inner diameter of the step of the process tube (10) described above. In the present invention, the outer baffle (111) may be understood to have the same configuration as the conventional door baffle (100).
반면에 후술하는 내측배플은 본 발명의 특징적인 구성으로 이해될 수 있다. 내측배플은 내측조립부(120)와 함께 외측배플(111)로부터 프로세스 튜브(10)의 내측을 향하여 돌출 형성되는 캡 형상으로 형성될 수 있다. 외측배플(111)과 내측배플은 내측조립부(120)에 의해 연결되며, 외측배플(111)과 내측배플은 서로 이격되도록 배치될 수 있다.On the other hand, the inner baffle described later can be understood as a characteristic configuration of the present invention. The inner baffle can be formed in a cap shape that protrudes toward the inside of the process tube (10) from the outer baffle (111) together with the inner assembly (120). The outer baffle (111) and the inner baffle are connected by the inner assembly (120), and the outer baffle (111) and the inner baffle can be arranged to be spaced apart from each other.
나아가 내측배플과 내측조립부(120)가 프로세스 튜브(10) 내측을 향해 돌출됨으로써 본 발명은 도어 배플(100)과 노즐(40) 사이의 거리가 종래에 비해 줄어들게 된다. 또한, 본 발명의 도어 배플(100)이 단열 및 열에 의한 파손에 강한 성능을 보임에 따라 고온의 가스를 도어 배플(100)에 더욱 근접한 위치에서 분사하는 것도 가능하다. Furthermore, since the inner baffle and the inner assembly (120) protrude toward the inside of the process tube (10), the distance between the door baffle (100) and the nozzle (40) is reduced compared to the conventional one. In addition, since the door baffle (100) of the present invention exhibits performances that are strong against heat damage and insulation, it is also possible to spray high-temperature gas at a location closer to the door baffle (100).
따라서 외측배플(111) 및 내측배플 사이의 거리는, 외측배플(111) 및 노즐(40) 사이의 거리의 0.4배 내지 0.6배로 형성될 수 있다. 이 수치에 따라 도어 배플(100)을 형성하고 노즐(40)을 배치하는 경우, 가스의 확산 거리가 짧아지고 가스 분사 시 가스가 도어 배플(100)에 부딪히고 반사되면서 확산이 더욱 빠르게 될 수 있다. 따라서 공정 효율이 증가하는 유리한 효과가 있다. 반면 상기 외측배플(111)과 내측배플 및 노즐(40) 사이의 거리 비율이 0.4 보다 작은 경우 가스 확산 속도가 빨라지는 효과가 적어진다. 또한 해당 비율이 0.6보다 큰 경우에는 노즐(40)과 배플 사이가 과도하게 좁아져 가스가 오히려 고르게 확산되지 못하는 문제가 발생할 수 있다.Therefore, the distance between the outer baffle (111) and the inner baffle can be formed to be 0.4 to 0.6 times the distance between the outer baffle (111) and the nozzle (40). When the door baffle (100) is formed and the nozzle (40) is arranged according to this value, the gas diffusion distance becomes shorter, and when the gas is injected, it can be diffused more quickly when it hits the door baffle (100) and is reflected. Therefore, there is a beneficial effect of increasing process efficiency. On the other hand, when the distance ratio between the outer baffle (111) and the inner baffle and the nozzle (40) is less than 0.4, the effect of increasing the gas diffusion speed is reduced. In addition, when the ratio is greater than 0.6, the distance between the nozzle (40) and the baffle becomes excessively narrow, which may cause a problem in which the gas is not evenly diffused.
또한 내측조립부(120)의 지름이 외측조립부(130)의 지름보다 작게 형성됨에 따라, 내측배플은 외측배플(111)보다 작게 형성될 수 있다. 이는 상기 유격부(121)에 관한 기재와도 연관되는 부분이다.In addition, since the diameter of the inner assembly part (120) is formed smaller than the diameter of the outer assembly part (130), the inner baffle can be formed smaller than the outer baffle (111). This is also related to the description regarding the clearance part (121).
또한 도면에 도시된 바와 같이 내측배플은 복수 개의 레이어로 형성될 수 있다. 즉, 내측배플은 외측배플(111) 측에 형성되는 제1내측배플(112) 및 제1내측배플(112)보다 프로세스 튜브(10)의 내측에 배치되는 제2내측배플(113)을 포함할 수 있다. 물론 내측배플이 세 개 이상 형성되는 것도 가능하다.In addition, as shown in the drawing, the inner baffle may be formed of multiple layers. That is, the inner baffle may include a first inner baffle (112) formed on the side of the outer baffle (111) and a second inner baffle (113) positioned further inside the process tube (10) than the first inner baffle (112). Of course, it is also possible to form three or more inner baffles.
내측배플은 외측배플(111)과 마찬가지로 폐쇄된 평면 형상으로 형성되어 단열성을 향상시킬 수 있다. 다만, 내측배플이 폐쇄된 형상인 경우 외측배플(111)과 내측배플 사이의 공기가 고온에서 팽창함에 따라 도어 배플(100)이 파손되는 문제가 발생할 수 있다. 이에 따라 본 발명은 내측배플에 배플홀(150)을 형성할 수 있다. The inner baffle may be formed in a closed flat shape like the outer baffle (111) to improve insulation. However, if the inner baffle is in a closed shape, the door baffle (100) may be damaged as the air between the outer baffle (111) and the inner baffle expands at high temperatures. Accordingly, the present invention may form a baffle hole (150) in the inner baffle.
만약 내측배플이 복수 개의 레이어로 형성되는 경우, 일부 내측배플에만 배플홀(150)이 형성되는 것도 가능하다. 이 경우 열에 의한 파손을 방지하기 위해 외측배플(111) 측이 아닌 프로세스 튜브(10) 내측 방향에 위치한 내측배플에 배플홀(150)을 형성하는 것이 바람직하다.If the inner baffle is formed of multiple layers, it is also possible for the baffle hole (150) to be formed only in some inner baffles. In this case, it is preferable to form the baffle hole (150) in the inner baffle located in the inner direction of the process tube (10) rather than on the outer baffle (111) side to prevent damage due to heat.
도 6 내지 도 8에는 실시예로서 제1내측배플(112)에 제1홀(151)이 관통 형성되고 제2내측배플(113)에 제2홀(152)이 관통 형성된 것이 도시되어 있다. 프로세스 튜브(10)의 연장 방향과 나란한 방향으로 바라볼 때, 제1홀(151)과 제2홀(152)은 서로 중첩되지 않는 위치에 형성될 수 있다. 이러한 구조는 열의 전달 경로를 복잡하게 함으로써 단열 성능을 높일 수 있다. 일 실시예로서 도 6 및 도 7을 참고하면, 제1홀(151)은 제1내측배플(112)의 중앙부에 배치되고, 제2홀(152)은 상대적으로 제2내측배플(113)의 외곽에 배치될 수 있다.FIGS. 6 to 8 illustrate an embodiment in which a first hole (151) is formed penetrating a first inner baffle (112) and a second hole (152) is formed penetrating a second inner baffle (113). When viewed in a direction parallel to the extension direction of the process tube (10), the first hole (151) and the second hole (152) may be formed in positions that do not overlap each other. This structure may increase the insulation performance by complicating the heat transfer path. As an embodiment, referring to FIGS. 6 and 7, the first hole (151) may be arranged in the center of the first inner baffle (112) and the second hole (152) may be arranged relatively on the outer side of the second inner baffle (113).
또 다른 실시예로서 도 8을 참고하면, 제1홀(151)은 및 제2홀(152)은 복수 개 형성될 수 있고, 복수 개의 제1홀(151) 면적을 모두 더한 것보다, 복수 개의 제2홀(152)의 면적을 모두 더한 것이 크게 형성될 수 있다. 또는 제1홀(151)보다 제2홀(152)이 더 많이 형성될 수 있다. 이는 마찬가지로 제1내측배플(112)에 과도한 열이 한번에 전달되는 것을 방지하기 위함이다. 이 경우, 도 8에 나타낸 바와 같이, 평면에서 보았을 때 제1홀(151)은 인접하는 제2홀(152)의 사이에 배치될 수 있다.As another example, referring to FIG. 8, the first hole (151) and the second hole (152) may be formed in multiple numbers, and the combined area of the multiple second holes (152) may be formed to be larger than the combined area of the multiple first holes (151). Alternatively, the multiple second holes (152) may be formed in larger numbers than the multiple first holes (151). This is to similarly prevent excessive heat from being transferred to the first inner baffle (112) at once. In this case, as shown in FIG. 8, the first hole (151) may be arranged between adjacent second holes (152) when viewed in a plan view.
일 실시예로 복수 개의 제1홀(151) 및 복수 개의 제2홀(152)은 도어 배플(100)의 중심에서 등각도를 이루도록 배치될 수 있다. 또한 복수 개의 제2홀(152)은 도어 배플(100)의 중심에서 방사상으로 연장되는 복수 개의 가상선 상에 배치될 수 있다. 그리고 복수 개의 제2홀(152)은 복수 개의 동심원을 이루도록 배치될 수 있다.In one embodiment, a plurality of first holes (151) and a plurality of second holes (152) may be arranged to form an equiangular angle from the center of the door baffle (100). In addition, a plurality of second holes (152) may be arranged on a plurality of virtual lines extending radially from the center of the door baffle (100). In addition, a plurality of second holes (152) may be arranged to form a plurality of concentric circles.
제1홀(151) 및 제2홀(152)의 개수는 특별히 한정하지 않는다. 도 6 및 도 7에는 각각 제1홀(151) 및 제2홀(152)이 6개씩 형성되는 것으로 나타냈으나, 제1홀(151) 및 제2홀(152)은 5개 이하 또는 7개 이상 배치될 수 있다.The number of the first hole (151) and the second hole (152) is not particularly limited. In FIG. 6 and FIG. 7, it is shown that six first holes (151) and six second holes (152) are formed, respectively, but five or fewer or seven or more first holes (151) and second holes (152) may be arranged.
도어(50)는 도어 배플(100)의 외측에서 조립될 수 있다. 도어(50)와 도어 배플(100) 사이에는 테플론 등의 실링재가 배치될 수 있다. 도어 배플(100)과 도어(50)의 조립 구조는 도 5에 도시되어 있다. 이를 참고하면, 도어(50)는 프로세스 튜브(10)를 최종 폐쇄하는 기능을 하며, 외측면은 도어(50) 개폐를 위한 액추에이터와 연결되고, 내측면은 도어 배플(100)을 향하여 배치되게 된다. 도어(50)의 내측면에는 스프링지지부(51)가 형성되며, 스프링지지부(51)의 단부에는 스프링누름부(52)가 형성될 수 있다. 스프링누름부(52)는 스프링지지부(51)에 힌지결합할 수 있다. 힌지결합된 부분에는 지지바디(60)를 가압하는 방향으로 토션스프링이 구비되어 스프링누름부(52)의 단부가 도어(50)와 멀어지는 것에 저항하도록 설치될 수 있다. 스프링누름부(52)의 단부는 도어(50) 회전에 의해 상술한 조립리브(131)에 삽입되며, 이에 따라 도어(50)가 고정될 수 있다.The door (50) can be assembled on the outer side of the door baffle (100). A sealing material such as Teflon can be placed between the door (50) and the door baffle (100). The assembly structure of the door baffle (100) and the door (50) is illustrated in FIG. 5. Referring to this, the door (50) has a function of finally closing the process tube (10), and the outer side is connected to an actuator for opening and closing the door (50), and the inner side is arranged toward the door baffle (100). A spring support (51) is formed on the inner side of the door (50), and a spring pressing part (52) can be formed at an end of the spring support (51). The spring pressing part (52) can be hinge-coupled to the spring support (51). A torsion spring may be installed in the hinged portion in a direction that presses the support body (60) so as to resist the end of the spring pressing portion (52) from moving away from the door (50). The end of the spring pressing portion (52) is inserted into the assembly rib (131) described above by the rotation of the door (50), and thus the door (50) can be fixed.
도어(50)의 내측, 이탈방지리브(132)의 내측에는 패널 형상의 지지바디(60)가 배치될 수 있다. 지지바디(60)는 외측조립부(130)의 내측, 즉 이탈방지리브(132)의 내측에 구획되는 영역에 배치되는 원판 형상의 부재로서, 도어(50)를 지지한다. 보다 구체적으로 도 5에 나타낸 바와 같이, 지지바디(60)는 외측조립부(130)와 동일 또는 그보다 작은 지름을 갖는 원판 형상의 부재로서, 일면은 이탈방지리브(132)의 내측면과 접촉하고, 타면은 외측조립부(130)와 내측조립부(120)의 경계면에서 소정의 거리만큼 이격된다. 그리고 지지바디(60)의 외측면이 스프링누름부(52)와 접촉함으로써, 도어(50)와 도어 배플(100)이 가압 지지될 수 있다.A panel-shaped support body (60) may be arranged on the inner side of the door (50), on the inner side of the detachment prevention rib (132). The support body (60) is a disc-shaped member arranged in an area defined on the inner side of the outer assembly (130), that is, on the inner side of the detachment prevention rib (132), and supports the door (50). More specifically, as shown in FIG. 5, the support body (60) is a disc-shaped member having a diameter equal to or smaller than that of the outer assembly (130), one surface of which is in contact with the inner surface of the detachment prevention rib (132), and the other surface of which is spaced apart from the boundary surface between the outer assembly (130) and the inner assembly (120) by a predetermined distance. And, by the outer surface of the support body (60) coming into contact with the spring pressing portion (52), the door (50) and the door baffle (100) can be supported under pressure.
이와 같이 도면에 도시된 실시예를 참고로 본 발명을 설명하였으나, 이는 예시에 불과하다. 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 갖는 자라면 실시예로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 충분히 이해할 수 있다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 청구범위에 기초하여 정해져야 한다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments illustrated in the drawings, these are merely examples. Those skilled in the art will readily understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from the embodiments. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined based on the appended claims.
실시예에서 설명하는 특정 기술 내용은 일 실시예들로서, 실시예의 기술 범위를 한정하는 것은 아니다. 발명의 설명을 간결하고 명확하게 기재하기 위해, 종래의 일반적인 기술과 구성에 대한 기재는 생략될 수 있다. 또한, 도면에 도시된 구성 요소들 간의 선들의 연결 또는 연결 부재는 기능적인 연결 및/또는 물리적 또는 회로적 연결들을 예시적으로 나타낸 것으로서, 실제 장치에서는 대체 가능하거나 추가의 다양한 기능적인 연결, 물리적인 연결, 또는 회로 연결들로 표현될 수 있다. 또한, "필수적인", "중요하게" 등과 같이 구체적인 언급이 없다면 본 발명의 적용을 위하여 반드시 필요한 구성 요소가 아닐 수 있다.Specific technical details described in the embodiments are examples only and do not limit the technical scope of the embodiments. In order to describe the invention concisely and clearly, descriptions of conventional general techniques and configurations may be omitted. In addition, the connection or absence of connection of lines between components illustrated in the drawings is an example of functional connections and/or physical or circuit connections, and may be expressed as various functional connections, physical connections, or circuit connections that are replaceable or additional in an actual device. In addition, if there is no specific mention such as “essential” or “importantly,” it may not be a component that is absolutely necessary for the application of the present invention.
발명의 설명 및 청구범위에 기재된 "상기" 또는 이와 유사한 지시어는 특별히 한정하지 않는 한, 단수 및 복수 모두를 지칭할 수 있다. 또한, 실시 예에서 범위(range)를 기재한 경우 상기 범위에 속하는 개별적인 값을 적용한 발명을 포함하는 것으로서(이에 반하는 기재가 없다면), 발명의 설명에 상기 범위를 구성하는 각 개별적인 값을 기재한 것과 같다. 또한, 실시예에 따른 방법을 구성하는 단계들에 대하여 명백하게 순서를 기재하거나 반하는 기재가 없다면, 상기 단계들은 적당한 순서로 행해질 수 있다. 반드시 상기 단계들의 기재 순서에 따라 실시예들이 한정되는 것은 아니다. 실시예에서 모든 예들 또는 예시적인 용어(예들 들어, 등등)의 사용은 단순히 실시예를 상세히 설명하기 위한 것으로서 청구범위에 의해 한정되지 않는 이상, 상기 예들 또는 예시적인 용어로 인해 실시예의 범위가 한정되는 것은 아니다. 또한, 통상의 기술자는 다양한 수정, 조합 및 변경이 부가된 청구범위 또는 그 균등물의 범주 내에서 설계 조건 및 팩터에 따라 구성될 수 있음을 알 수 있다.The words "above" or similar designators described in the description and claims of the invention can refer to both singular and plural unless specifically limited. In addition, when a range is described in an embodiment, it is intended that the invention includes an individual value that falls within the range (unless otherwise stated), and each individual value constituting the range is described in the description of the invention. In addition, unless there is an explicit description or contrary description regarding the steps constituting the method according to the embodiment, the steps can be performed in any appropriate order. The embodiments are not necessarily limited by the order in which the steps are described. The use of all examples or exemplary terms (e.g., "for example," etc.) in the embodiments is merely intended to describe the embodiments in detail, and the scope of the embodiments is not limited by the examples or exemplary terms, unless otherwise limited by the claims. In addition, those skilled in the art will recognize that various modifications, combinations, and changes can be made according to design conditions and factors within the scope of the appended claims or their equivalents.
10 프로세스 튜브 20 히터
30 단열부 40 노즐
50 도어 51 스프링지지부
52 스프링누름부 60 지지바디
100 도어 배플 110 배플부
111 외측배플 112 제1내측배플
113 제2내측배플 120 내측조립부
121 유격부 130 외측조립부
131 조립리브 132 이탈방지리브
133 단열리브 150 배플홀
151 제1홀 152 제2홀10
30
50
52
100
111
113 2nd
121
131
133 Insulating ribs 150 Baffle holes
151 Hole 1 152
Claims (9)
상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 형성되는 배플부; 및
상기 배플부의 가장자리와 연결되며, 상기 프로세스 튜브의 길이방향을 따라 연장되고 내부 공간을 포함하는 조립부;
를 포함하고,
상기 배플부는 상기 조립부의 내부에 있으며, 상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 배치되는 외측배플 및 상기 외측배플에서 상기 프로세스 튜브의 내측을 향해 이격되는 내측배플을 포함하여 복수 개의 레이어로 형성되는 도어 배플.In a door baffle arranged to open and close at least one end of a process tube,
A baffle portion formed to block the end of the above process tube; and
An assembly portion connected to the edge of the above baffle portion, extending along the length of the process tube and including an internal space;
Including,
The baffle section is located inside the assembly section, and is a door baffle formed of a plurality of layers, including an outer baffle arranged to block an end of the process tube and an inner baffle spaced apart from the outer baffle toward the inside of the process tube.
상기 외측배플은 폐쇄된 평면 형상으로 형성되고,
상기 내측배플은 배플홀이 관통 형성된 평면 형상으로 형성되는 도어 배플.In the first paragraph,
The above outer baffle is formed in a closed plane shape,
The above inner baffle is a door baffle formed in a flat shape with a baffle hole formed through it.
상기 조립부는 상기 프로세스 튜브보다 지름이 작게 형성되며,
상기 프로세스 튜브의 내측벽과 상기 조립부의 외측벽 사이가 이격되도록 형성되고,
상기 내측배플의 단면적이 상기 프로세스 튜브의 단면적보다 작게 형성되는 도어 배플.In the first paragraph,
The above assembly is formed with a diameter smaller than the above process tube,
It is formed so that there is a gap between the inner wall of the above process tube and the outer wall of the above assembly,
A door baffle in which the cross-sectional area of the inner baffle is formed smaller than the cross-sectional area of the process tube.
상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 형성되는 배플부; 및
상기 배플부와 연결되며, 상기 프로세스 튜브의 길이방향을 따라 연장되는 조립부;
를 포함하고,
상기 배플부는, 상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 배치되는 외측배플 및 상기 외측배플보다 상기 프로세스 튜브의 내측에 배치되는 내측배플을 포함하여 복수 개의 레이어로 형성되고,
상기 조립부의 지름은 상기 프로세스 튜브의 지름의 0.7배 내지 0.95배로 형성되는 도어 배플.In a door baffle arranged to open and close at least one end of a process tube,
A baffle portion formed to block the end of the above process tube; and
An assembly portion connected to the above baffle portion and extending along the length of the process tube;
Including,
The above baffle portion is formed of a plurality of layers, including an outer baffle arranged to block an end of the process tube and an inner baffle arranged inside the process tube more than the outer baffle.
A door baffle formed with a diameter of the above assembly being 0.7 to 0.95 times the diameter of the above process tube.
상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 형성되는 배플부; 및
상기 배플부와 연결되며, 상기 프로세스 튜브의 길이방향을 따라 연장되는 조립부;
를 포함하고,
상기 배플부는, 상기 프로세스 튜브의 단부를 막도록 배치되는 외측배플 및 상기 외측배플보다 상기 프로세스 튜브의 내측에 배치되는 내측배플을 포함하여 복수 개의 레이어로 형성되고,
상기 내측배플은, 상기 외측배플 측에 형성되는 제1내측배플 및 상기 제1내측배플보다 상기 프로세스 튜브의 내측에 배치되는 제2내측배플을 포함하고,
상기 제1내측배플에는 제1홀이 관통 형성되고, 상기 제2내측배플에는 제2홀이 관통 형성되는 도어 배플.In a door baffle arranged to open and close at least one end of a process tube,
A baffle portion formed to block the end of the above process tube; and
An assembly portion connected to the above baffle portion and extending along the length of the process tube;
Including,
The above baffle portion is formed of a plurality of layers, including an outer baffle arranged to block an end of the process tube and an inner baffle arranged inside the process tube more than the outer baffle.
The inner baffle includes a first inner baffle formed on the outer baffle side and a second inner baffle positioned further inside the process tube than the first inner baffle.
A door baffle in which a first hole is formed through the first inner baffle and a second hole is formed through the second inner baffle.
상기 제1홀 및 상기 제2홀은 상기 프로세스 튜브의 길이 방향과 나란한 방향으로 서로 중첩되지 않는 위치에 형성되는 도어 배플.In paragraph 5,
A door baffle in which the first hole and the second hole are formed at positions that do not overlap each other in a direction parallel to the longitudinal direction of the process tube.
상기 제1홀 및 상기 제2홀은 복수 개 형성될 수 있고,
복수 개의 상기 제1홀의 면적을 모두 더한 것보다, 복수 개의 상기 제2홀의 면적을 모두 더한 것이 크게 형성되는 도어 배플.In paragraph 5,
The above first hole and the above second hole can be formed in multiple numbers,
A door baffle in which the sum total of the areas of the plurality of second holes is formed larger than the sum total of the areas of the plurality of first holes.
상기 제1홀 및 상기 제2홀은 복수 개 형성될 수 있고,
상기 제2홀의 개수가 상기 제1홀의 개수보다 많은, 도어 배플.In paragraph 5,
The above first hole and the above second hole can be formed in multiple numbers,
A door baffle wherein the number of the second holes is greater than the number of the first holes.
상기 프로세스 튜브; 및
상기 프로세스 튜브 내측에 배치되며 가스를 상기 내측배플을 향하여 분사하도록 배치되는 노즐;
을 더 포함하고,
상기 외측배플 및 내측배플 사이의 거리는, 상기 외측배플 및 상기 노즐 사이의 거리의 0.4배 내지 0.6배로 형성되는 열처리 챔버.In a heat treatment chamber including a door baffle according to any one of claims 1 to 8,
the above process tube; and
A nozzle disposed inside the process tube and arranged to inject gas toward the inner baffle;
Including more,
A heat treatment chamber in which the distance between the outer baffle and the inner baffle is formed to be 0.4 to 0.6 times the distance between the outer baffle and the nozzle.
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |