KR102627143B1 - 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 플라즈마 반응기에 온도 조절 장치를 통합하여 플라즈마 반응기의 온도를 용이하게 조절할 수 있도록 구현한 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템에 관한 것으로, 플라즈마 반응기의 가스 배출구에 설치되어 상기 가스 배출구를 통해 배출되는 가스를 냉각시켜 주는 가스 냉각부; 및 상기 가스 냉각부 및 상기 가스 배출구를 따라 설치되어 자신이 설치된 위치에서의 온도를 측정하는 다수 개의 온도 센서;를 포함한다.
Description
본 발명은 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 반응기에 온도 조절 장치를 통합하여 플라즈마 반응기의 온도를 용이하게 조절할 수 있도록 구현한 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템에 관한 것이다.
플라즈마는 같은 수의 음이온(positive ions)과 전자(electrons)를 포함하는 고도로 이온화된 가스이다. 플라즈마 방전은 이온, 자유 라디컬, 원자, 분자를 포함하는 활성 가스를 발생하기 위한 가스 여기에 사용되고 있다.
활성 가스는 다양한 분야에서 널리 사용되고 있으며 대표적으로 반도체 제조 공정 예들 들어, 식각(etching), 증착(deposition), 세정(cleaning), 에싱(ashing) 등에 다양하게 사용될 수 있다.
이러한, 플라즈마는 직류(DC)방전, 고주파(RF)방전, 및 극초단파방전을 포함하는 다양한 방법으로 생성될 수 있다. 직류 방전은 가스 내의 두 전극 사이에 전위를 인가하여 발생되며, 고주파 방전은 전력 공급원으로부터의 에너지를 플라즈마에 용량적으로(capacitively) 또는 유도적으로 결합시킴으로써 발생될 수 있다.
유도 결합 플라즈마 소스는 프로세스 챔버의 외부에서 발생된 플라즈마를 프로세스 챔버로 주입하는 원격 플라즈마(또는 다운스트림) 구조, 마그네틱 코어가 결합된 외부 방전 브리지를 구비한 구조, 프로세스 챔버의 상부에 플라즈마 방전 챔버가 결합된 구조 등의 여러 형태가 사용되고 있다.
한편, 전술한 배경 기술은 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.
본 발명의 일측면은 플라즈마 반응기에 냉매를 이용한 배출 가스를 냉각시킬 수 있는 온도 조절 장치를 통합하여 플라즈마 반응기의 온도를 용이하게 조절할 수 있도록 구현한 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템을 제공한다.
본 발명의 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템은, 플라즈마 반응기의 가스 배출구에 설치되어 상기 가스 배출구를 통해 배출되는 가스를 냉각시켜 주는 가스 냉각부; 및 상기 가스 냉각부 및 상기 가스 배출구를 따라 설치되어 자신이 설치된 위치에서의 온도를 측정하는 다수 개의 온도 센서;를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템은, 상기 다수 개의 온도 센서로부터 전달되는 각 온도 측정값을 이용하여 냉각을 위해 상기 가스 냉각부로 공급되는 냉매의 공급을 제어하는 온도 제어부;를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 가스 냉각부는, 상기 가스 배출구의 외측 테두리를 따라 설치될 수 있도록 상기 가스 배출구의 형상에 대응하는 루프 형상으로 이루어지며, 내측을 따라 냉매가 흐르기 위한 냉매 채널을 형성하는 냉각관; 상기 냉각관에 설치되어 상기 냉각관으로 냉매를 전달하는 냉매 전달부; 및 상기 냉각관에 설치되어 상기 냉각관으로부터 냉매를 배출하는 냉매 배출부;를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 냉매 전달부는, 원형 배관 형태로 형성되어 상기 냉각관에 설치되는 공급관; 냉매 공급 장치로부터 냉매가 공급되는 상기 공급관의 입구의 내주면을 따라 원형의 링 형태로 돌출 형성되는 주입턱; 및 상기 주입턱을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되며, 상기 주입턱에 의해 형성되는 냉매가 공급되는 주입구의 형상을 가변시켜 주입구를 통해 주입되는 냉매의 양을 조절하는 다수 개의 유량 조절부;를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 유량 조절부는, 상기 주입턱의 내주면으로 개구부를 형성하면서 상기 주입턱의 내측에 형성되는 구체 안착홈; 상기 구체 안착홈의 개구부의 직경에 대응하는 지름으로 형성되면서 상기 구체 안착홈의 내측에 배치되는 조절 구체; 상기 구체 안착홈의 내부 공간의 전단에 설치되며, 자성을 이용하여 상기 조절 구체를 체결하여 지지하며, 상기 구체 안착홈의 내부 공간을 따라 후진 이동됨에 따라 상기 조절 구체를 하강 이동시켜 상기 조절 구체의 하부가 상기 구체 안착홈의 개구부를 통해 냉매가 주입되는 주입구로 노출되도록 하고, 다시 전진 이동되어 상기 구체 안착홈의 내부 공간의 전단으로 복귀함에 따라 하강 이동되었던 상기 조절 구체를 상기 구체 안착홈의 내부 공간으로 상승 이동시켜 주는 구체 이동 블록; 및 외부로 노출되는 상기 주입턱의 전단에 설치되며, 상기 구체 안착홈으로 노출되는 단부가 상기 구체 이동 블록의 전단에 회전 가능하도록 연결 설치되며, 정방향 또는 역방향으로 회전됨에 따라 상기 구체 안착홈으로 노출되는 정도가 늘어나거나 줄어듦에 따라 상기 구체 이동 블록을 후진 이동 또는 전진 이동시켜 주는 블록 이동 볼트;를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 구체 안착홈의 개구부는, 상기 조절 구체가 분리되는 것을 방지할 수 있도록 하단을 따라 상기 조절 구체의 지름보다 작은 내경을 형성하는 원형의 링 형상의 분리 방지턱이 형성될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 구체 이동 블록은, 자성을 이용하여 상기 조절 구체를 체결할 수 있도록 자성을 형성하는 재질로 제작되며, 상기 구체 안착홈을 따라 전후 방향으로 슬라이딩 이동할 수 있도록 상기 구체 안착홈의 단면의 형상에 대응하는 단면을 형성하는 육면체 블록 형상으로 이루어지는 블록 바디; 및 상기 조절 구체가 밀착되는 상기 블록 바디의 후면에 형성되는 경사면;을 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 블록 이동 볼트는, 상기 주입턱의 전단을 통해 삽입되어 후단이 상기 구체 안착홈으로 노출되어 상기 블록 바디의 전단에 회전 가능하도록 연결 설치되며, 외측을 따라 나사산을 형성하여 상기 주입턱의 전단으로부터 상기 구체 안착홈까지 연통 형성되는 연통홀의 내주면을 따라 형성되는 나사산과 나사 결합에 의해 맞물려 연결 설치되는 볼트 바디; 및 사용자가 정방향 또는 역방향으로 상기 볼트 바디를 회전시킬 수 있도록 상기 주입턱의 전방으로 노출되는 상기 볼트 바디의 전단에 설치되는 볼트 헤드;를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 구체 이동 블록은, 상기 블록 바디의 양측면, 상면 및 하면을 따라 연장 형성되는 제1 안착홈; 상기 구체 안착홈과 상기 블록 바디의 간격을 통해 냉매가 유출되는 것을 방지할 수 있도록 상기 제1 안착홈을 따라 설치되는 제1 오링; 상기 볼트 바디의 후단을 둘러싸고 상기 블록 바디의 전면을 따라 연장 형성되는 제2 안착홈; 및 상기 블록 바디가 상기 구체 안착홈의 전단에 밀착될 경우 상기 볼트 바디가 설치되는 연통홀을 통해 냉매가 유출되는 것을 방지할 수 있도록 상기 제2 안착홈을 따라 설치되는 제2 오링;을 더 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 블록 이동 볼트는, 상기 볼트 바디를 둘러싸고 상기 볼트 바디의 후면을 따라 연장 형성되는 제3 안착홈; 및 상기 볼트 헤드가 상기 주입턱의 전단에 형성되는 헤드 안착홈에 밀착 안착될 경우 상기 볼트 바디가 설치되는 연통홀을 통해 냉매가 유출되는 것을 방지할 수 있도록 상기 제3 안착홈을 따라 설치되는 제3 오링;을 더 포함할 수 있다.
상술한 본 발명의 일측면에 따르면, 플라즈마 반응기에 냉매를 이용한 배출 가스를 냉각시킬 수 있는 온도 조절 장치를 통합하여 플라즈마 반응기의 온도를 용이하게 조절할 수 있다.
본 발명의 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 이하에서 설명할 내용으로부터 통상의 기술자에게 자명한 범위 내에서 다양한 효과들이 포함될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템의 개략적인 구성이 도시된 도면이다.
도 2 내지 도 3은 도 1의 가스 냉각부를 보여주는 도면들이다.
도 4는 도 2의 냉매 전달부의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 5 내지 도 7은 도 4의 유량 조절부를 보여주는 도면들이다.
도 8은 도 5의 구체 이동 블록을 보여주는 도면이다.
도 2 내지 도 3은 도 1의 가스 냉각부를 보여주는 도면들이다.
도 4는 도 2의 냉매 전달부의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 5 내지 도 7은 도 4의 유량 조절부를 보여주는 도면들이다.
도 8은 도 5의 구체 이동 블록을 보여주는 도면이다.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.
이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템의 개략적인 구성이 도시된 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템(10)은, 가스 냉각부(100) 및 다수 개의 온도 센서(300-1, 300-2)를 포함한다.
가스 냉각부(100)는, 플라즈마 반응기(20)의 가스 배출구(21)에 설치되어 가스 배출구(21)를 통해 배출되는 가스(G)를 냉각시켜 준다.
다수 개의 온도 센서(300-1, 300-2)는, 가스 냉각부(100) 및 가스 배출구(21)를 따라 설치되어 자신이 설치된 위치에서의 온도를 측정한 뒤 온도 제어부(400)로 전달한다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템(10)은, 온도 제어부(400)를 더 포함할 수 있다.
온도 제어부(400)는, 다수 개의 온도 센서(300-1, 300-2)로부터 전달되는 각 온도 측정값을 이용하여 냉각을 위해 냉매 공급 장치(30)로부터 가스 냉각부(100)로 공급되는 냉매(C)의 공급을 제어한다.
원자로 하부 본체 바닥면의 외부 표면 온도는 재료 한계보다 낮은 국부 원자로 본체 온도를 유지하기 위해 300C 미만이어야 한다.
이에 따라, 플라즈마 반응기(20)에는 작동 범위 내에서 원자로 온도를 유지하기 위해 냉각제 흐름을 제어하는 온도 센서 및 흐름 컨트롤러가 있을 수 있으며, 온도 센서는 반응기 소년, 냉각 장치, 제품 가스 튜브 또는 냉각수 튜브에 있을 수 있다.
이에 따라, 본 발명에 따른 상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템(10)은, 플라즈마 반응기에 냉매(C)을 이용한 배출 가스를 냉각시킬 수 있는 온도 조절 장치를 통합하여 플라즈마 반응기의 온도를 용이하게 조절할 수 있다.
도 2 내지 도 3은 도 1의 가스 냉각부를 보여주는 도면들이다.
도 2 내지 도 3을 참조하면, 가스 냉각부(100)는, 냉각관(110), 냉매 전달부(120) 및 냉매 배출부(130)를 포함한다.
냉각관(110)은, 플라즈마 반응기(20)의 가스 배출구(21)의 외측 테두리를 따라 설치될 수 있도록 가스 배출구(21)의 형상에 대응하는 루프 형상으로 이루어지며, 내측을 따라 냉매 전달부(120)를 통해 공급되는 냉매(C)가 흐르기 위한 냉매 채널(M)을 형성하며, 내측에 가스(C)가 배출되기 위한 공간(111)을 형성한다.
냉매 전달부(120)는, 냉각관(110)에 설치되어 냉각관(110)으로 냉매 공급 장치(30)로부터 공급되는 냉매(C)를 전달한다.
냉매 배출부(130)는, 냉각관(110)에 설치되어 냉각관(110)으로부터 냉매(C)를 배출한 뒤 냉매 공급 장치(30)로 전달한다.
도 4는 도 3의 냉매 전달부를 보여주는 도면이다.
도 4를 참조하면, 냉매 전달부(120)는, 공급관(121), 주입턱(122) 및 다수 개의 유량 조절부(200)를 포함한다.
공급관(121)은, 원형 배관 형태로 형성되어 냉각관(110)에 설치된다.
주입턱(122)은, 냉매 공급 장치(30)로부터 냉매(C)가 공급되는 공급관(121)의 입구의 내주면을 따라 원형의 링 형태로 돌출 형성된다.
다수 개의 유량 조절부(200)는, 주입턱(122)을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되며, 주입턱(122)에 의해 형성되는 냉매(C)가 공급되는 주입구(1221)의 형상을 가변시켜 주입구(1221)를 통해 주입되는 냉매(C)의 양을 조절한다.
도 4는 도 2의 냉매 전달부의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 4를 참조하면, 일 실시예에 따른 냉매 전달부(120)는, 공급관(121), 주입턱(122) 및 다수 개의 유량 조절부(200)를 포함한다.
공급관(121)는, 원형 배관 형태로 형성되어 냉각관(110)에 설치된다.
주입턱(122)은, 냉매 공급 장치(30)로부터 냉매(C)가 공급되는 공급관(121)의 입구의 내주면을 따라 원형의 링 형태로 돌출 형성되며, 다수 개의 유량 조절부(200)가 설치된다.
다수 개의 유량 조절부(200)는, 주입턱(122)을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되며, 주입턱(122)에 의해 형성되는 냉매가 주입되는 주입구(1221)의 형상을 가변시켜 주입구(1221)를 통해 주입되는 냉매의 양을 조절한다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 일 실시예에 따른 냉매 전달부(120)은, 냉매 공급 장치(30)로부터 공급되는 냉매가 동일한 경우에도 주입구(1221)의 형상을 가변시켜 주입구(1221)를 통해 주입되는 냉매의 양을 자유롭게 조절할 수 있다.
도 5 내지 도 7은 도 4의 유량 조절부를 보여주는 도면들이다.
도 5 내지 도 7을 참조하면, 유량 조절부(200)는, 구체 안착홈(210), 조절 구체(220), 구체 이동 블록(230) 및 블록 이동 볼트(240)를 포함한다.
구체 안착홈(210)은, 주입턱(122)의 내주면으로 개구부를 형성하면서 주입턱(122)의 내측에 형성된다.
일 실시예에서, 구체 안착홈(210)의 개구부는, 조절 구체(220)가 분리되는 것을 방지할 수 있도록 하단을 따라 조절 구체(220)의 지름보다 작은 내경을 형성하는 원형의 링 형상의 분리 방지턱(211)이 형성될 수 있다.
조절 구체(220)는, 구체 안착홈(210)의 개구부의 직경에 대응하는 지름으로 형성되면서 구체 안착홈(210)의 내측에 배치되며, 구체 이동 블록(230)이 후진 이동함에 따라 하강 이동되고, 구체 이동 블록(230)가 전진 이동함에 따라 다시 상승 이동된다.
여기서, 조절 구체(220)는, 구체 이동 블록(230)과 자성에 의해 체결될 수 있도록 철 등으로 이루어짐이 바람직할 것이다.
구체 이동 블록(230)은, 구체 안착홈(210)의 내부 공간의 전단에 설치되며, 영구 자성과 같은 재질로서 자성을 이용하여 조절 구체(220)를 체결하여 지지하며, 구체 안착홈(210)의 내부 공간을 따라 후진 이동됨에 따라 조절 구체(220)를 하강 이동시켜 조절 구체(220)의 하부가 구체 안착홈(210)의 개구부를 통해 냉매가 주입되는 주입구(1221)로 노출되도록 하고, 다시 전진 이동되어 구체 안착홈(210)의 내부 공간의 전단으로 복귀함에 따라 하강 이동되었던 조절 구체(220)를 구체 안착홈(210)의 내부 공간으로 상승 이동시켜 준다.
일 실시예에서, 구체 이동 블록(230)은, 블록 바디(231) 및 경사면(232)을 포함할 수 있다.
블록 바디(231)는, 자성을 이용하여 조절 구체(220)를 체결할 수 있도록 자성을 형성하는 재질로 제작되며, 구체 안착홈(210)을 따라 전후 방향으로 슬라이딩 이동할 수 있도록 구체 안착홈(210)의 단면의 형상에 대응하는 단면을 형성하는 육면체 블록 형상으로 이루어진다.
경사면(232)은, 도 8에 도시된 바와 같이 상단이 하단보다 후방으로 노출되도록 경사 각도를 형성하면서 조절 구체(220)가 밀착되는 블록 바디(231)의 후면에 형성된다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 구체 이동 블록(230)은, 제1 안착홈(233), 제1 오링(234), 제2 안착홈(235) 및 제2 오링(236)을 더 포함할 수 있다.
제1 안착홈(233)은, 블록 바디(231)의 양측면, 상면 및 하면을 따라 연장 형성된다.
제1 오링(234)은, 구체 안착홈(210)과 블록 바디(231)의 간격을 통해 냉매가 유출되는 것을 방지할 수 있도록 제1 안착홈(233)을 따라 설치된다.
제2 안착홈(235)은, 볼트 바디(241)의 후단을 둘러싸고 블록 바디(231)의 전면을 따라 연장 형성된다.
제2 오링(236)은, 블록 바디(231)가 구체 안착홈(210)의 전단에 밀착될 경우 볼트 바디(241)가 설치되는 연통홀(S1)을 통해 냉매가 유출되는 것을 방지할 수 있도록 제2 안착홈(235)을 따라 설치된다.
블록 이동 볼트(240)는, 외부로 노출되는 주입턱(122)의 전단에 설치되며, 구체 안착홈(210)으로 노출되는 단부가 구체 이동 블록(230)의 전단에 회전 가능하도록 연결 설치되며, 정방향 또는 역방향으로 회전됨에 따라 구체 안착홈(210)으로 노출되는 정도가 늘어나거나 줄어듦에 따라 구체 이동 블록(230)을 후진 이동 또는 전진 이동시켜 준다.
일 실시예에서, 블록 이동 볼트(240)는, 볼트 바디(241) 및 볼트 헤드(242)를 포함할 수 있다.
볼트 바디(241)는, 주입턱(122)의 전단을 통해 삽입되어 후단이 구체 안착홈(210)으로 노출되어 블록 바디(231)의 전단에 회전 가능하도록 연결 설치되며, 외측을 따라 나사산을 형성하여 주입턱(122)의 전단으로부터 구체 안착홈(210)까지 연통 형성되는 연통홀(S1)의 내주면을 따라 형성되는 나사산과 나사 결합에 의해 맞물려 연결 설치된다.
볼트 헤드(242)는, 사용자가 정방향 또는 역방향으로 볼트 바디(241)를 회전시킬 수 있도록 주입턱(122)의 전방으로 노출되는 볼트 바디(241)의 전단에 설치된다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 블록 이동 볼트(240)는, 제3 안착홈(243) 및 제3 오링(244)을 더 포함할 수 있다.
제3 안착홈(243)은, 볼트 바디(241)를 둘러싸고 볼트 바디(241)의 후면을 따라 연장 형성된다.
제3 오링(244)은, 볼트 헤드(242)가 주입턱(122)의 전단에 형성되는 헤드 안착홈에 밀착 안착될 경우 볼트 바디(241)가 설치되는 연통홀(S1)을 통해 냉매가 유출되는 것을 방지할 수 있도록 제3 안착홈(243)을 따라 설치된다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 유량 조절부(200)는, 조절 구체(220)의 노출 정보를 정밀하게 조절하여 냉매의 주입을 효과적으로 제어할 수 있음은 물론, 냉매의 조절 과정에서 발생될 수 있는 냉매의 유출을 효과적으로 방지할 수 있다.
상술된 실시예들은 예시를 위한 것이며, 상술된 실시예들이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 상술된 실시예들이 갖는 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 상술된 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 명세서를 통해 보호받고자 하는 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태를 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
10: 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템
20: 플라즈마 반응기
30: 냉매 공급 장치
100: 가스 냉각부
300: 온도 센서
400: 온도 제어부
20: 플라즈마 반응기
30: 냉매 공급 장치
100: 가스 냉각부
300: 온도 센서
400: 온도 제어부
Claims (3)
- 플라즈마 반응기의 가스 배출구에 설치되어 상기 가스 배출구를 통해 배출되는 가스를 냉각시켜 주는 가스 냉각부; 및
상기 가스 냉각부 및 상기 가스 배출구를 따라 설치되어 자신이 설치된 위치에서의 온도를 측정하는 다수 개의 온도 센서;를 포함하며,
상기 가스 냉각부는,
상기 가스 배출구의 외측 테두리를 따라 설치될 수 있도록 상기 가스 배출구의 형상에 대응하는 루프 형상으로 이루어지며, 내측을 따라 냉매가 흐르기 위한 냉매 채널을 형성하는 냉각관;
상기 냉각관에 설치되어 상기 냉각관으로 냉매를 전달하는 냉매 전달부; 및
상기 냉각관에 설치되어 상기 냉각관으로부터 냉매를 배출하는 냉매 배출부;를 포함하며,
상기 냉매 전달부는,
원형 배관 형태로 형성되어 상기 냉각관에 설치되는 공급관;
냉매 공급 장치로부터 냉매가 공급되는 상기 공급관의 입구의 내주면을 따라 원형의 링 형태로 돌출 형성되는 주입턱; 및
상기 주입턱을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되며, 상기 주입턱에 의해 형성되는 냉매가 공급되는 주입구의 형상을 가변시켜 주입구를 통해 주입되는 냉매의 양을 조절하는 다수 개의 유량 조절부;를 포함하며,
상기 유량 조절부는,
상기 주입턱의 내주면으로 개구부를 형성하면서 상기 주입턱의 내측에 형성되는 구체 안착홈;
상기 구체 안착홈의 개구부의 직경에 대응하는 지름으로 형성되면서 상기 구체 안착홈의 내측에 배치되는 조절 구체;
상기 구체 안착홈의 내부 공간의 전단에 설치되며, 자성을 이용하여 상기 조절 구체를 체결하여 지지하며, 상기 구체 안착홈의 내부 공간을 따라 후진 이동됨에 따라 상기 조절 구체를 하강 이동시켜 상기 조절 구체의 하부가 상기 구체 안착홈의 개구부를 통해 냉매가 주입되는 주입구로 노출되도록 하고, 다시 전진 이동되어 상기 구체 안착홈의 내부 공간의 전단으로 복귀함에 따라 하강 이동되었던 상기 조절 구체를 상기 구체 안착홈의 내부 공간으로 상승 이동시켜 주는 구체 이동 블록; 및
외부로 노출되는 상기 주입턱의 전단에 설치되며, 상기 구체 안착홈으로 노출되는 단부가 상기 구체 이동 블록의 전단에 회전 가능하도록 연결 설치되며, 정방향 또는 역방향으로 회전됨에 따라 상기 구체 안착홈으로 노출되는 정도가 늘어나거나 줄어듦에 따라 상기 구체 이동 블록을 후진 이동 또는 전진 이동시켜 주는 블록 이동 볼트;를 포함하며,
상기 구체 안착홈의 개구부는,
상기 조절 구체가 분리되는 것을 방지할 수 있도록 하단을 따라 상기 조절 구체의 지름보다 작은 내경을 형성하는 원형의 링 형상의 분리 방지턱이 형성되며,
상기 구체 이동 블록은,
자성을 이용하여 상기 조절 구체를 체결할 수 있도록 자성을 형성하는 재질로 제작되며, 상기 구체 안착홈을 따라 전후 방향으로 슬라이딩 이동할 수 있도록 상기 구체 안착홈의 단면의 형상에 대응하는 단면을 형성하는 육면체 블록 형상으로 이루어지는 블록 바디; 및
상기 조절 구체가 밀착되는 상기 블록 바디의 후면에 형성되는 경사면;을 포함하며,
상기 블록 이동 볼트는,
상기 주입턱의 전단을 통해 삽입되어 후단이 상기 구체 안착홈으로 노출되어 상기 블록 바디의 전단에 회전 가능하도록 연결 설치되며, 외측을 따라 나사산을 형성하여 상기 주입턱의 전단으로부터 상기 구체 안착홈까지 연통 형성되는 연통홀의 내주면을 따라 형성되는 나사산과 나사 결합에 의해 맞물려 연결 설치되는 볼트 바디; 및
사용자가 정방향 또는 역방향으로 상기 볼트 바디를 회전시킬 수 있도록 상기 주입턱의 전방으로 노출되는 상기 볼트 바디의 전단에 설치되는 볼트 헤드;를 포함하는, 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템.
- 제1항에 있어서,
상기 다수 개의 온도 센서로부터 전달되는 각 온도 측정값을 이용하여 냉각을 위해 상기 가스 냉각부로 공급되는 냉매의 공급을 제어하는 온도 제어부;를 더 포함하는, 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템.
- 삭제
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020230094619A KR102627143B1 (ko) | 2023-07-20 | 2023-07-20 | 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020230094619A KR102627143B1 (ko) | 2023-07-20 | 2023-07-20 | 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR102627143B1 true KR102627143B1 (ko) | 2024-01-23 |
Family
ID=89713627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR1020230094619A KR102627143B1 (ko) | 2023-07-20 | 2023-07-20 | 플라즈마 반응기용 온도 조절 시스템 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102627143B1 (ko) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20120077512A (ko) * | 2010-12-30 | 2012-07-10 | 세메스 주식회사 | 배기 부재 및 기판 처리 장치 |
| KR20200048982A (ko) | 2018-10-31 | 2020-05-08 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 다중 온도 제어형 플라즈마 반응기 |
| KR20210110416A (ko) * | 2014-02-14 | 2021-09-07 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 안정화된 고온 증착을 위한 가스 냉각식 기판 지지부 |
-
2023
- 2023-07-20 KR KR1020230094619A patent/KR102627143B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
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