KR102622790B1 - Display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 소비 전력을 감소시킬 수 있는 표시장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 제1 서브 화소 및 제2 서브 화소를 구비한 기판, 기판 상에서 제1 서브 화소 및 제2 서브 화소 각각에 구비된 제1 전극, 제1 전극 상에 구비되어 제1 색의 광을 발광하는 제1 발광층, 제1 발광층 상에 구비된 제2 전극, 제2 전극 상에 구비되어 제2 색의 광을 발광하는 제2 발광층, 및 제2 발광층 상에 구비된 제3 전극을 포함한다. 제2 전극은 제1 서브 화소와 제2 서브 화소 사이에서 단절되고, 제1 서브 화소의 제2 전극은 제3 전극과 전기적으로 연결되고, 제2 서브 화소의 제2 전극은 제1 전극과 전기적으로 연결된다.The present invention provides a display device capable of reducing power consumption. A display device according to an embodiment of the present invention includes a substrate having a first sub-pixel and a second sub-pixel, a first electrode provided in each of the first sub-pixel and the second sub-pixel on the substrate, and a first electrode. a first light-emitting layer that emits light of a first color, a second electrode provided on the first light-emitting layer, a second light-emitting layer provided on the second electrode and emitting light of a second color, and a second electrode provided on the second light-emitting layer. It includes a third electrode. The second electrode is disconnected between the first sub-pixel and the second sub-pixel, the second electrode of the first sub-pixel is electrically connected to the third electrode, and the second electrode of the second sub-pixel is electrically connected to the first electrode. It is connected to

Description

표시장치{DISPLAY DEVICE}Display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 영상을 표시하는 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device that displays images.

정보화 사회가 발전함에 따라 영상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있다. 이에 따라, 최근에는 액정표시장치(LCD, Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(PDP, Plasma Display Panel), 유기발광 표시장치(OLED, Organic Light Emitting Display)와 같은 여러 가지 표시장치가 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices for displaying images is increasing in various forms. Accordingly, recently, various display devices such as liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), and organic light emitting display (OLED) have been used.

최근에는 이와 같은 표시장치를 포함한 헤드 장착형 디스플레이(Head Mounted Display, HMD)가 개발되고 있다. 헤드 장착형 디스플레이(HMD)는 안경이나 헬멧 형태로 착용하여 사용자의 눈앞 가까운 거리에 초점이 형성되는 가상현실(Virtual Reality, VR) 또는 증강현실(Augmented Reality)의 안경형 모니터 장치이다.Recently, a head mounted display (HMD) including such a display device has been developed. A head-mounted display (HMD) is a virtual reality (VR) or augmented reality glasses-type monitor device that is worn in the form of glasses or a helmet and focuses on a distance near the user's eyes.

이러한 헤드 장착형 디스플레이는 고해상도의 조밀한 화소 간격으로 인해 서브 화소 별로 상이한 색의 발광층을 정밀하게 패턴 형성하는데 어려움이 있다. 이를 해결하기 위하여, 헤드 장착형 디스플레이는 서로 상이한 색상의 광을 발광하는 복수의 스택들로 이루어진 백색 발광층을 공통층으로 형성하고, 서브 화소 별로 컬러필터를 배치하여 상이한 색을 구현할 수 있다. 이러한 경우, 헤드 장착형 디스플레이는 정밀한 마스크 제작이나 정밀한 마스크 얼라인 공정이 필요하지 않다는 장점이 있으나, 복수의 스택들로 인하여 전력이 많이 소비된다는 문제가 있다.In such head-mounted displays, it is difficult to precisely pattern different-colored light emitting layers for each sub-pixel due to the high resolution and tight pixel spacing. To solve this problem, a head-mounted display forms a common layer of a white light-emitting layer composed of a plurality of stacks that emit light of different colors, and can implement different colors by arranging color filters for each sub-pixel. In this case, the head-mounted display has the advantage of not requiring precise mask manufacturing or a precise mask alignment process, but has the problem of consuming a lot of power due to the plurality of stacks.

본 발명은 소비 전력을 감소시킬 수 있는 표시장치를 제공한다.The present invention provides a display device capable of reducing power consumption.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 제1 서브 화소 및 제2 서브 화소를 구비한 기판, 기판 상에서 제1 서브 화소 및 제2 서브 화소 각각에 구비된 제1 전극, 제1 전극 상에 구비되어 제1 색의 광을 발광하는 제1 발광층, 제1 발광층 상에 구비된 제2 전극, 제2 전극 상에 구비되어 제2 색의 광을 발광하는 제2 발광층, 및 제2 발광층 상에 구비된 제3 전극을 포함한다. 제2 전극은 제1 서브 화소와 제2 서브 화소 사이에서 단절되고, 제1 서브 화소의 제2 전극은 제3 전극과 전기적으로 연결되고, 제2 서브 화소의 제2 전극은 제1 전극과 전기적으로 연결된다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a substrate having a first sub-pixel and a second sub-pixel, a first electrode provided in each of the first sub-pixel and the second sub-pixel on the substrate, and a first electrode. a first light-emitting layer that emits light of a first color, a second electrode provided on the first light-emitting layer, a second light-emitting layer provided on the second electrode and emitting light of a second color, and a second electrode provided on the second light-emitting layer. It includes a third electrode. The second electrode is disconnected between the first sub-pixel and the second sub-pixel, the second electrode of the first sub-pixel is electrically connected to the third electrode, and the second electrode of the second sub-pixel is electrically connected to the first electrode. It is connected to

본 발명의 다른 실시예에 따른 표시장치는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소를 구비한 기판, 기판 상에서 제1 서브 화소, 제2 서브 화소, 및 제3 서브 화소 각각에 구비된 제1 전극, 제1 전극 상에 구비되어 제1 색의 광을 발광하는 제1 발광층, 제1 발광층 상에 구비된 제2 전극, 제2 전극 상에 구비되어 제2 색의 광을 발광하는 제2 발광층, 및 제2 발광층 상에 구비된 제3 전극을 포함한다. 제1 서브 화소 및 제3 서브 화소는 제2 전극과 제3 전극에 동일한 전압이 인가되고, 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 제1 발광층이 발광한다. 제2 서브 화소는 제1 전극과 제2 전극에 동일한 전압이 인가되고, 제2 전극과 제3 전극 사이에 구비된 제2 발광층이 발광한다.A display device according to another embodiment of the present invention includes a substrate having a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel, and each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel on the substrate. a first electrode, a first light-emitting layer provided on the first electrode and emitting light of a first color, a second electrode provided on the first light-emitting layer, and a first light-emitting layer provided on the second electrode and emitting light of a second color. It includes a second light-emitting layer and a third electrode provided on the second light-emitting layer. The same voltage is applied to the second and third electrodes of the first and third sub-pixels, and the first light-emitting layer provided between the first and second electrodes emits light. The same voltage is applied to the first and second electrodes of the second sub-pixel, and the second light emitting layer provided between the second and third electrodes emits light.

본 발명에 따르면, 서브 화소들에 제1 발광층 및 제2 발광층을 마스크 없이 전면에 형성함으로써, 마스크를 이용하여 서브 화소 별로 상이한 발광층들을 패턴 형성함에 따른 문제점을 해결할 수 있다. 즉, 본 발명은 정밀한 마스크 제작이나 정밀한 마스크 얼라인 공정이 필요하지 않으며, 조밀한 화소 간격을 가지는 고해상도의 표시장치에도 적용이 가능하다.According to the present invention, by forming the first light emitting layer and the second light emitting layer on the entire surface of the sub-pixels without a mask, it is possible to solve the problem of forming different light emitting layers for each sub-pixel using a mask. In other words, the present invention does not require precise mask manufacturing or a precise mask alignment process, and can be applied to high-resolution display devices with tight pixel spacing.

또한, 본 발명은 제1 발광층 및 제2 발광층을 전면에 형성함에도 불구하고, 서브 화소들 각각에서 제1 발광층 및 제2 발광층 중 어느 하나만 발광시킬 수 있다. 이에 따라, 본 발명은 제1 발광층 및 제2 발광층을 모두 발광시키는 것과 비교하여 전력 소비를 현저하게 줄일 수 있다.In addition, in the present invention, although the first light emitting layer and the second light emitting layer are formed on the entire surface, only one of the first light emitting layer and the second light emitting layer can emit light from each sub-pixel. Accordingly, the present invention can significantly reduce power consumption compared to making both the first light emitting layer and the second light emitting layer emit light.

또한, 본 발명은 가림 패턴을 이용하여 제2 전극이 서브 화소들 사이에서 단절되고, 서브 화소들 각각의 제2 전극이 제1 전원 라인, 제2 전원 라인 및 제2 연결 전극 중 어느 하나에 접속될 수 있다. 본 발명은 별도의 마스크를 제작할 필요가 없으며, 가림 패턴을 제1 전극과 동시에 형성함으로써 별도의 공정이 추가되지 않는다.In addition, in the present invention, the second electrode is disconnected between sub-pixels using a blocking pattern, and the second electrode of each sub-pixel is connected to any one of the first power line, the second power line, and the second connection electrode. It can be. In the present invention, there is no need to manufacture a separate mask, and by forming the masking pattern at the same time as the first electrode, no separate process is added.

본 발명에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects that can be obtained from the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the description below. .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치를 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 제1 기판, 소스 드라이브 IC, 연성필름, 회로보드, 및 타이밍 제어부를 보여주는 평면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 제1 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 3의 I-I의 일 예를 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 3의 II-II의 일 예를 보여주는 단면도이다.
도 6은 제1 서브 화소 및 제2 서브 화소의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 7은 도 6의 변형된 예를 보여주는 평면도이다.
도 8은 제3 서브 화소의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 9는 도 8의 변형된 예를 보여주는 평면도이다.
도 10은 도 4의 A 영역의 일 예를 보여주는 확대도이다.
도 11은 도 3의 III-III의 일 예를 보여주는 단면도이다.
도 12는 도 3의 Ⅳ-Ⅳ의 일 예를 보여주는 단면도이다.
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널의 제1 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 14는 도 13의 Ⅴ-Ⅴ의 일 예를 보여주는 단면도이다.
도 15는 제1 서브 화소 및 제2 서브 화소의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 16은 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 17a 내지 도 17j는 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 18a내지 도 18c는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시장치에 관한 것으로서, 이는 헤드 장착형 표시(HMD) 장치에 관한 것이다.
1 is a perspective view showing a display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing the first substrate, source drive IC, flexible film, circuit board, and timing control unit of FIG. 1.
Figure 3 is a plan view schematically showing a first substrate according to the first embodiment of the present invention.
Figure 4 is a cross-sectional view showing an example of II in Figure 3.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of line II-II of FIG. 3.
6 is a plan view schematically showing an example of a first sub-pixel and a second sub-pixel.
Figure 7 is a plan view showing a modified example of Figure 6.
Figure 8 is a plan view schematically showing an example of a third sub-pixel.
Figure 9 is a plan view showing a modified example of Figure 8.
FIG. 10 is an enlarged view showing an example of area A of FIG. 4.
FIG. 11 is a cross-sectional view showing an example of line III-III of FIG. 3.
FIG. 12 is a cross-sectional view showing an example of line IV-IV of FIG. 3.
13 is a plan view schematically showing the first substrate of a display panel according to another embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a cross-sectional view showing an example of line V-V of FIG. 13.
15 is a plan view schematically showing an example of a first sub-pixel and a second sub-pixel.
Figure 16 is a flowchart for explaining a method of manufacturing a display device according to the first embodiment of the present invention.
17A to 17J are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a display device according to the first embodiment of the present invention.
18A to 18C relate to a display device according to another embodiment of the present invention, which relates to a head mounted display (HMD) device.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. The advantages and features of the present invention and methods for achieving them will become clear by referring to the embodiments described in detail below along with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and will be implemented in various different forms. These embodiments only serve to ensure that the disclosure of the present invention is complete, and those skilled in the art It is provided to fully inform the person of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시 예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining embodiments of the present invention are illustrative, and the present invention is not limited to the matters shown. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. Additionally, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.

본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. When 'includes', 'has', 'consists of', etc. mentioned in this specification are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, the plural is included unless specifically stated otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.When interpreting a component, it is interpreted to include the margin of error even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of a positional relationship, for example, if the positional relationship of two parts is described as 'on top', 'on the top', 'on the bottom', 'next to', etc., 'immediately' Alternatively, there may be one or more other parts placed between the two parts, unless 'directly' is used.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if a temporal relationship is described as 'after', 'successfully after', 'after', 'before', etc., 'immediately' or 'directly' Unless used, non-consecutive cases may also be included.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are merely used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may also be the second component within the technical spirit of the present invention.

"X축 방향", "Y축 방향" 및 "Z축 방향"은 서로 간의 관계가 수직으로 이루어진 기하학적인 관계만으로 해석되어서는 아니 되며, 본 발명의 구성이 기능적으로 작용할 수 있는 범위 내에서보다 넓은 방향성을 가지는 것을 의미할 수 있다. “X-axis direction,” “Y-axis direction,” and “Z-axis direction” should not be interpreted as only geometrical relationships in which the relationship between each other is vertical, and should not be interpreted as a wider range within which the configuration of the present invention can function functionally. It can mean having direction.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제 1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다. The term “at least one” should be understood to include all possible combinations from one or more related items. For example, “at least one of the first, second, and third items” means each of the first, second, or third items, as well as two of the first, second, and third items. It can mean a combination of all items that can be presented from more than one.

본 발명의 여러 실시 예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시 예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention can be partially or fully combined or combined with each other, various technical interconnections and operations are possible, and each embodiment can be implemented independently of each other or together in a related relationship. It may be possible.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치를 보여주는 사시도이다. 도 2는 도 1의 제1 기판, 소스 드라이브 IC, 연성필름, 회로보드, 및 타이밍 제어부를 보여주는 평면도이다.1 is a perspective view showing a display device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing the first substrate, source drive IC, flexible film, circuit board, and timing control unit of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(100)는 표시패널(110), 소스 드라이브 집적회로(integrated circuit, 이하 "IC"라 칭함)(140), 연성필름(150), 회로보드(160), 및 타이밍 제어부(170)를 포함한다.1 and 2, a display device 100 according to an embodiment of the present invention includes a display panel 110, a source drive integrated circuit (hereinafter referred to as “IC”) 140, and a flexible film. It includes 150, a circuit board 160, and a timing control unit 170.

표시패널(110)은 제1 기판(111)과 제2 기판(112)을 포함한다. 제2 기판(112)은 봉지 기판일 수 있다. 제1 기판(111)은 플라스틱 필름(plastic film), 유리 기판(glass substrate), 또는 반도체 공정을 이용하여 형성된 실리콘 웨이퍼 기판일 수 있다. 제2 기판(112)은 플라스틱 필름, 유리 기판, 또는 봉지 필름일 수 있다.The display panel 110 includes a first substrate 111 and a second substrate 112. The second substrate 112 may be an encapsulation substrate. The first substrate 111 may be a plastic film, a glass substrate, or a silicon wafer substrate formed using a semiconductor process. The second substrate 112 may be a plastic film, a glass substrate, or an encapsulation film.

제2 기판(112)과 마주보는 제1 기판(111)의 일면 상에는 게이트 라인들, 데이터 라인들, 및 서브 화소들이 형성된다. 서브 화소들은 게이트 라인들과 데이터 라인들의 교차 구조에 의해 정의되는 영역에 마련된다.Gate lines, data lines, and sub-pixels are formed on one side of the first substrate 111 facing the second substrate 112. Sub-pixels are provided in an area defined by the intersection structure of gate lines and data lines.

서브 화소들 각각은 박막 트랜지스터와 애노드 전극, 발광층, 및 캐소드 전극을 구비하는 발광소자를 포함할 수 있다. 서브 화소들 각각은 박막 트랜지스터를 이용하여 게이트 라인으로부터 게이트 신호가 입력되는 경우 데이터 라인의 데이터 전압에 따라 발광소자에 소정의 전류를 공급한다. 이로 인하여 애노드 전극에 고전위 전압이 인가되고 캐소드 전극에 저전위 전압이 인가되면, 서브 화소들 각각의 발광층은 소정의 전류에 따라 소정의 밝기로 발광할 수 있다.Each of the sub-pixels may include a thin film transistor and a light-emitting element including an anode electrode, a light-emitting layer, and a cathode electrode. Each of the sub-pixels uses a thin film transistor to supply a predetermined current to the light emitting device according to the data voltage of the data line when a gate signal is input from the gate line. For this reason, when a high potential voltage is applied to the anode electrode and a low potential voltage is applied to the cathode electrode, the light emitting layer of each sub-pixel can emit light with a predetermined brightness according to a predetermined current.

표시패널(110)은 서브 화소들이 형성되어 화상을 표시하는 표시 영역(DA)과 화상을 표시하지 않는 비표시 영역(NDA)으로 구분될 수 있다. 표시 영역(DA)에는 게이트 라인들, 데이터 라인들, 및 서브 화소들이 형성될 수 있다. 비표시 영역(NDA)에는 게이트 구동부 및 패드들이 형성될 수 있다.The display panel 110 may be divided into a display area (DA) in which sub-pixels are formed to display images, and a non-display area (NDA) in which images are not displayed. Gate lines, data lines, and sub-pixels may be formed in the display area DA. A gate driver and pads may be formed in the non-display area NDA.

게이트 구동부는 타이밍 제어부(170)로부터 입력되는 게이트 제어신호에 따라 게이트 라인들에 게이트 신호들을 공급한다. 게이트 구동부는 표시패널(110)의 표시영역(DA)의 일측 또는 양측 바깥쪽의 비표시 영역(DA)에 GIP(gate driver in panel) 방식으로 형성될 수 있다. 또는, 게이트 구동부는 구동 칩으로 제작되어 연성필름에 실장되고 TAB(tape automated bonding) 방식으로 표시패널(110)의 표시영역(DA)의 일측 또는 양측 바깥쪽의 비표시영역(DA)에 부착될 수도 있다.The gate driver supplies gate signals to the gate lines according to the gate control signal input from the timing control unit 170. The gate driver may be formed in the non-display area (DA) outside the display area (DA) on one or both sides of the display panel 110 using a gate driver in panel (GIP) method. Alternatively, the gate driver may be manufactured as a driving chip, mounted on a flexible film, and attached to the non-display area (DA) outside one or both sides of the display area (DA) of the display panel 110 using a TAB (tape automated bonding) method. It may be possible.

소스 드라이브 IC(140)는 타이밍 제어부(170)로부터 디지털 비디오 데이터와 소스 제어신호를 입력받는다. 소스 드라이브 IC(140)는 소스 제어신호에 따라 디지털 비디오 데이터를 아날로그 데이터전압들로 변환하여 데이터 라인들에 공급한다. 소스 드라이브 IC(140)가 구동 칩으로 제작되는 경우, COF(chip on film) 또는 COP(chip on plastic) 방식으로 연성필름(150)에 실장될 수 있다.The source drive IC 140 receives digital video data and source control signals from the timing control unit 170. The source drive IC 140 converts digital video data into analog data voltages according to the source control signal and supplies them to the data lines. When the source drive IC 140 is manufactured as a driving chip, it may be mounted on the flexible film 150 using a chip on film (COF) or chip on plastic (COP) method.

표시패널(110)의 비표시 영역(NDA)에는 데이터 패드들과 같은 패드들이 형성될 수 있다. 연성필름(150)에는 패드들과 소스 드라이브 IC(140)를 연결하는 배선들, 패드들과 회로보드(160)의 배선들을 연결하는 배선들이 형성될 수 있다. 연성필름(150)은 이방성 도전 필름(antisotropic conducting film)을 이용하여 패드들 상에 부착되며, 이로 인해 패드들과 연성필름(150)의 배선들이 연결될 수 있다.Pads such as data pads may be formed in the non-display area NDA of the display panel 110. Wires connecting the pads and the source drive IC 140 and wires connecting the pads and the wires of the circuit board 160 may be formed in the flexible film 150. The flexible film 150 is attached to the pads using an anisotropic conducting film, so that the pads and the wiring of the flexible film 150 can be connected.

회로보드(160)는 연성필름(150)들에 부착될 수 있다. 회로보드(160)는 구동 칩들로 구현된 다수의 회로들이 실장될 수 있다. 예를 들어, 회로보드(160)에는 타이밍 제어부(170)가 실장될 수 있다. 회로보드(160)는 인쇄회로보드(printed circuit board) 또는 연성 인쇄회로보드(flexible printed circuit board)일 수 있다.The circuit board 160 may be attached to the flexible films 150. The circuit board 160 may be equipped with multiple circuits implemented with driving chips. For example, the timing control unit 170 may be mounted on the circuit board 160. The circuit board 160 may be a printed circuit board or a flexible printed circuit board.

타이밍 제어부(170)는 회로보드(160)의 케이블을 통해 외부의 시스템 보드로부터 디지털 비디오 데이터와 타이밍 신호를 입력 받는다. 타이밍 제어부(170)는 타이밍 신호에 기초하여 게이트 구동부의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 제어신호와 소스 드라이브 IC(140)들을 제어하기 위한 소스 제어신호를 발생한다. 타이밍 제어부(170)는 게이트 제어신호를 게이트 구동부에 공급하고, 소스 제어신호를 소스 드라이브 IC(140)들에 공급한다.The timing control unit 170 receives digital video data and timing signals from an external system board through a cable of the circuit board 160. The timing control unit 170 generates a gate control signal for controlling the operation timing of the gate driver and a source control signal for controlling the source drive ICs 140 based on the timing signal. The timing control unit 170 supplies a gate control signal to the gate driver and a source control signal to the source drive ICs 140.

제1 실시예Embodiment 1

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시 패널의 제1 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 4는 도 3의 I-I의 일 예를 보여주는 단면도이고, 도 5는 도 3의 II-II의 일 예를 보여주는 단면도이다. 도 6은 제1 서브 화소 및 제2 서브 화소의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 7은 도 6의 변형된 예를 보여주는 평면도이다. 도 8은 제3 서브 화소의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 9는 도 8의 변형된 예를 보여주는 평면도이다. 도 10은 도 4의 A 영역의 일 예를 보여주는 확대도이다. 도 11은 도 3의 III-III의 일 예를 보여주는 단면도이고, 도 12는 도 3의 Ⅳ-Ⅳ의 일 예를 보여주는 단면도이다.FIG. 3 is a plan view schematically showing the first substrate of the display panel according to the first embodiment of the present invention, FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of II-I of FIG. 3, and FIG. 5 is of II-II of FIG. 3. This is a cross-sectional view showing an example. FIG. 6 is a plan view schematically showing an example of a first sub-pixel and a second sub-pixel, and FIG. 7 is a plan view showing a modified example of FIG. 6 . FIG. 8 is a plan view schematically showing an example of a third sub-pixel, and FIG. 9 is a plan view showing a modified example of FIG. 8. FIG. 10 is an enlarged view showing an example of area A of FIG. 4. FIG. 11 is a cross-sectional view showing an example of line III-III in FIG. 3, and FIG. 12 is a cross-sectional view showing an example of line IV-IV of FIG. 3.

도 3 내지 도 12를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시 패널(110)은 제1 기판(111), 차광층(210), 제1 절연막(220), 구동 박막 트랜지스터(230), 제1 연결 전극(241, 242, 360), 제2 연결 전극(250), 제2 절연막(260), 평탄화막(270), 가림 패턴(281, 282, 283), 제1 전극(311, 312, 313), 뱅크(315), 제1 발광층(321, 322, 323), 제2 전극(331, 332, 333), 제2 발광층(340), 및 제3 전극(350)을 포함한다.3 to 12, the display panel 110 according to the first embodiment of the present invention includes a first substrate 111, a light blocking layer 210, a first insulating film 220, and a driving thin film transistor 230. , first connection electrodes 241, 242, 360, second connection electrode 250, second insulating film 260, planarization film 270, shielding patterns 281, 282, 283, first electrode 311, 312 and 313, a bank 315, a first light emitting layer (321, 322, 323), a second electrode (331, 332, 333), a second light emitting layer (340), and a third electrode (350).

제1 기판(111)은 유리 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 실리콘 웨이퍼와 같은 반도체 물질로 이루어질 수도 있다. 제1 기판(111)은 투명한 재료로 이루어질 수도 있고 불투명한 재료로 이루어질 수도 있다.The first substrate 111 may be made of glass or plastic, but is not necessarily limited thereto, and may be made of a semiconductor material such as a silicon wafer. The first substrate 111 may be made of a transparent material or an opaque material.

제1 기판(111)은 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)으로 구분된다. 제1 기판(111)의 표시 영역(DA)에는 제1 서브 화소(P1), 제2 서브 화소(P2), 및 제3 서브 화소(P3)가 구비될 수 있다. 제1 서브 화소(P1)는 적색 광을 방출하고, 제2 서브 화소(P2)는 녹색 광을 방출하고, 제3 서브 화소(P3)는 청색 광을 방출하도록 구비될 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 기판(111)의 표시 영역(DA)에는 백색(W)의 광을 발광하는 제4 서브 화소가 더 구비될 수 있다. 또한, 각각의 서브 화소(P1, P2, P3)의 배열 순서는 다양하게 변경될 수 있다.The first substrate 111 is divided into a display area (DA) and a non-display area (NDA). The display area DA of the first substrate 111 may be provided with a first sub-pixel (P1), a second sub-pixel (P2), and a third sub-pixel (P3). The first sub-pixel (P1) may be configured to emit red light, the second sub-pixel (P2) may be configured to emit green light, and the third sub-pixel (P3) may be configured to emit blue light, but are not necessarily limited thereto. That is not the case. The display area DA of the substrate 111 may further include a fourth sub-pixel that emits white (W) light. Additionally, the arrangement order of each sub-pixel (P1, P2, and P3) can be changed in various ways.

본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치는 발광된 광이 하부쪽으로 방출되는 소위 하부 발광(bottom emission) 방식으로 이루어질 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치가 하부 발광 방식으로 이루어지는 경우, 제1 기판(111)은 투명한 재료가 이용될 수 있다. 한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치가 발광된 광이 상부쪽으로 방출되는 상부 발광(top emission) 방식으로 이루어지는 경우, 제1 기판(111)은 투명한 재료뿐만 아니라 불투명한 재료가 이용될 수도 있다.The display device according to the first embodiment of the present invention may be configured with a so-called bottom emission method in which the emitted light is emitted downward, but is not necessarily limited to this. When the display device according to the first embodiment of the present invention is made of a bottom emission method, the first substrate 111 may be made of a transparent material. Meanwhile, when the display device according to the first embodiment of the present invention is made of a top emission method in which the emitted light is emitted upward, the first substrate 111 may be made of an opaque material as well as a transparent material. It may be possible.

제1 기판(111) 상에는 각종 신호 라인들, 박막 트랜지스터(230), 및 커패시터 등을 포함하는 회로 소자가 서브 화소(P1, P2, P3) 별로 구비된다. 신호 라인들은 게이트 라인, 데이터 라인, 전원 라인, 및 기준 라인을 포함하여 이루어질 수 있다. Circuit elements including various signal lines, thin film transistors 230, and capacitors are provided on the first substrate 111 for each sub-pixel (P1, P2, and P3). Signal lines may include gate lines, data lines, power lines, and reference lines.

박막 트랜지스터(230)는 게이트 라인에 게이트 신호가 입력되는 경우 데이터 라인의 데이터 전압에 따라 제1 전극(311, 312, 313)에 소정의 전압을 공급한다. 이러한 박막 트랜지스터(230)는 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함한다.When a gate signal is input to the gate line, the thin film transistor 230 supplies a predetermined voltage to the first electrodes 311, 312, and 313 according to the data voltage of the data line. This thin film transistor 230 includes an active layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode.

제1 기판(111) 상에는 액티브층이 형성된다. 액티브층은 실리콘계 반도체 물질 또는 산화물계 반도체 물질로 형성될 수 있다. 제1 기판(111)과 액티브층 사이에는 도 4에 도시된 바와 같이 액티브층으로 입사되는 외부광을 차단하기 위한 차광층(210)이 형성될 수 있다. 차광층(210)이 금속 물질로 형성되는 경우, 액티브층과 차광층(210) 사이에 제1 절연막(220)이 형성될 수 있다.An active layer is formed on the first substrate 111. The active layer may be formed of a silicon-based semiconductor material or an oxide-based semiconductor material. As shown in FIG. 4, a light blocking layer 210 may be formed between the first substrate 111 and the active layer to block external light incident on the active layer. When the light blocking layer 210 is made of a metal material, the first insulating film 220 may be formed between the active layer and the light blocking layer 210.

액티브층 상에는 게이트 절연막이 형성될 수 있다. 게이트 절연막은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.A gate insulating film may be formed on the active layer. The gate insulating film may be formed of an inorganic film, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a multilayer thereof.

게이트 절연막 상에는 게이트 전극이 형성될 수 있다. 게이트 전극은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.A gate electrode may be formed on the gate insulating film. The gate electrode is made of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu) or an alloy thereof. It may be a single layer or multiple layers, but is not limited thereto.

게이트 전극 상에는 층간 절연막이 형성될 수 있다. 층간 절연막은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.An interlayer insulating film may be formed on the gate electrode. The interlayer insulating film may be formed of an inorganic film, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a multilayer thereof.

층간 절연막 상에는 소스 전극과 드레인 전극이 형성될 수 있다. 소스 전극과 드레인 전극 각각은 게이트 절연막과 층간 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 액티브층에 접속될 수 있다. 소스 전극과 드레인 전극 각각은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.A source electrode and a drain electrode may be formed on the interlayer insulating film. Each of the source electrode and drain electrode may be connected to the active layer through a contact hole penetrating the gate insulating film and the interlayer insulating film. Each of the source electrode and drain electrode is made of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). It may be a single layer or a multi-layer made of an alloy thereof, but is not limited thereto.

제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 제2 연결 전극(250)은 제1 기판(111) 상에 형성된다.The first connection electrodes 241, 242, and 360 and the second connection electrode 250 are formed on the first substrate 111.

제1 연결 전극(241, 242, 360)은 제1 서브 화소(P1) 및 제2 서브 화소(P2) 각각의 제2 전극(331, 332)과 제3 전극(350)을 전기적으로 연결한다. 보다 구체적으로, 제1 연결 전극(241, 242, 360)은 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 보조 전원 라인(360)을 포함할 수 있다.The first connection electrodes 241, 242, and 360 electrically connect the second electrodes 331, 332 and the third electrode 350 of the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2), respectively. More specifically, the first connection electrodes 241, 242, and 360 may include a first power line 241, a second power line 242, and an auxiliary power line 360.

보조 전원 라인(360)은 비표시 영역(NDA)에서 제1 방향(X축 방향)으로 연장 형성된다. 보조 전원 라인(360)은 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이 일부가 제1 절연막(220), 제2 절연막(260), 평탄화막(270)에 의하여 덮이지 않고 노출되고, 노출된 영역에서 제3 전극(350)과 접속할 수 있다.The auxiliary power line 360 extends from the non-display area NDA in the first direction (X-axis direction). As shown in FIGS. 11 and 12, a portion of the auxiliary power line 360 is exposed without being covered by the first insulating film 220, the second insulating film 260, and the planarization film 270, and in the exposed area It can be connected to the third electrode 350.

이러한 보조 전원 라인(360)은 차광층(210)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지는 않는다. 보조 전원 라인(360)은 박막 트랜지스터(230)의 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극 중 어느 하나와 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수도 있다.This auxiliary power line 360 may be formed in the same layer as the light blocking layer 210 and made of the same material, but is not necessarily limited thereto. The auxiliary power line 360 may be formed of the same material on the same layer as any one of the active layer, gate electrode, source electrode, and drain electrode of the thin film transistor 230.

제1 전원 라인(241)은 표시 영역(DA)에서 제1 서브 화소(P1)의 일 측에 배치되어, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)과 접속한다. 도 4 내지 도 7에서는 제1 전원 라인(241)이 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 배치되는 것으로 도시하고 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 제1 전원 라인(241)은 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에 배치될 수도 있다.The first power line 241 is disposed on one side of the first sub-pixel P1 in the display area DA and is connected to the second electrode 331 of the first sub-pixel P1. 4 to 7 show that the first power line 241 is disposed between the first sub-pixel (P1) and the third sub-pixel (P3), but the present invention is not necessarily limited to this. The first power line 241 may be disposed between the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2).

제1 전원 라인(241)은 표시 영역(DA)에서 제2 방향(Y축 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 복수의 제1 서브 화소(P1)들은 제1 전원 라인(241)과 나란하게 제2 방향을 따라 배치될 수 있다. 이러한 경우, 제1 전원 라인(241)은 나란하게 배치된 복수의 제1 서브 화소(P1)들 모두의 제2 전극(331)과 접속하거나, 복수의 제1 서브 화소(P1)들 중 일부의 제2 전극(331)과 접속할 수 있다.The first power line 241 may extend from the display area DA in the second direction (Y-axis direction). The plurality of first sub-pixels P1 may be arranged along the second direction and parallel to the first power line 241. In this case, the first power line 241 is connected to the second electrode 331 of all of the plurality of first sub-pixels (P1) arranged in parallel, or of some of the plurality of first sub-pixels (P1). It can be connected to the second electrode 331.

한편, 복수의 제1 서브 화소(P1)들은 제2 방향을 따라 복수의 제2 서브 화소(P2)들과 교대로 배치될 수도 있다. 이러한 경우, 제1 전원 라인(241)은 복수의 제1 서브 화소(P1)들 모두의 제2 전극(331)과 접속하거나, 복수의 제1 서브 화소(P1)들 중 일부의 제2 전극(331)과 접속할 수 있다. 또는 제1 전원 라인(241)은 복수의 제1 서브 화소(P1)들 및 복수의 제2 화소(P2)들 모두의 제2 전극(331, 332)과 접속하거나, 복수의 제1 서브 화소(P1)들 및 복수의 제2 화소(P2)들 중 일부의 제2 전극(331, 332)과 접속할 수 있다.Meanwhile, the plurality of first sub-pixels P1 may be alternately arranged with the plurality of second sub-pixels P2 along the second direction. In this case, the first power line 241 is connected to the second electrode 331 of all of the plurality of first sub-pixels (P1), or the second electrode (331) of some of the plurality of first sub-pixels (P1). 331) can be accessed. Alternatively, the first power line 241 is connected to the second electrodes 331 and 332 of both the plurality of first sub-pixels P1 and the plurality of second pixels P2, or is connected to the plurality of first sub-pixels (P1) and the second electrodes 331 and 332 of all of the plurality of second pixels (P2). P1) and some of the second electrodes 331 and 332 of the plurality of second pixels P2.

제1 전원 라인(241)은 일단이 보조 전원 라인(360)에 접속된다. 제1 전원 라인(241)은 도 11에 도시된 바와 같이 콘택홀을 통해 보조 전원 라인(360)에 접속될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지는 않는다.One end of the first power line 241 is connected to the auxiliary power line 360. The first power line 241 may be connected to the auxiliary power line 360 through a contact hole as shown in FIG. 11, but is not necessarily limited thereto.

이러한 제1 전원 라인(241)은 박막 트랜지스터(230)의 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극 중 어느 하나와 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있다.This first power line 241 may be formed of the same material in the same layer as any one of the active layer, gate electrode, source electrode, and drain electrode of the thin film transistor 230.

상술한 바에 따라, 제1 서브 화소(P1)는 제1 전원 라인(241) 및 보조 전원 라인(360)을 통하여 제2 전극(331)과 제3 전극(350)이 전기적으로 연결된다. 즉, 제3 전극(350)에 저전위 전압이 인가되면, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)은 제3 전극(350)과 동일한 저전위 전압이 인가된다.As described above, the second electrode 331 and the third electrode 350 of the first sub-pixel P1 are electrically connected to each other through the first power line 241 and the auxiliary power line 360. That is, when a low potential voltage is applied to the third electrode 350, the same low potential voltage as that of the third electrode 350 is applied to the second electrode 331 of the first sub-pixel (P1).

제2 전원 라인(242)은 표시 영역(DA)에서 제2 서브 화소(P2)의 일 측에 배치되어, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)과 접속한다. 도 4 내지 도 7에서는 제2 전원 라인(242)이 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에 배치되는 것으로 도시하고 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 제2 전원 라인(242)은 제2 서브 화소(P2)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 배치될 수도 있다.The second power line 242 is disposed on one side of the second sub-pixel P2 in the display area DA and is connected to the second electrode 332 of the second sub-pixel P2. 4 to 7 show that the second power line 242 is disposed between the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2), but the present invention is not necessarily limited thereto. The second power line 242 may be disposed between the second sub-pixel (P2) and the third sub-pixel (P3).

제2 전원 라인(242)은 표시 영역(DA)에 배치되고, 제2 방향(Y축 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 복수의 제2 서브 화소(P2)들은 제2 전원 라인(242)과 나란하게 제2 방향을 따라 배치될 수 있다. 이러한 경우, 제2 전원 라인(242)은 나란하게 배치된 복수의 제2 서브 화소(P2)들 모두의 제2 전극(332)과 접속하거나, 복수의 제2 서브 화소(P2)들 중 일부의 제2 전극(332)과 접속할 수 있다.The second power line 242 may be disposed in the display area DA and extend in a second direction (Y-axis direction). The plurality of second sub-pixels P2 may be arranged along the second direction and parallel to the second power line 242. In this case, the second power line 242 is connected to the second electrodes 332 of all of the plurality of second sub-pixels (P2) arranged in parallel, or of some of the plurality of second sub-pixels (P2). It can be connected to the second electrode 332.

한편, 복수의 제2 서브 화소(P2)들은 제2 방향을 따라 복수의 제1 서브 화소(P1)들과 교대로 배치될 수도 있다. 이러한 경우, 제2 전원 라인(242)은 복수의 제2 서브 화소(P2)들 모두의 제2 전극(332)과 접속하거나, 복수의 제2 서브 화소(P2)들 중 일부의 제2 전극(332)과 접속할 수 있다. 또는 제2 전원 라인(242)은 복수의 제1 서브 화소(P1)들 및 복수의 제2 화소(P2)들 모두의 제2 전극(331, 332)과 접속하거나, 복수의 제1 서브 화소(P1)들 및 복수의 제2 화소(P2)들 중 일부의 제2 전극(331, 332)과 접속할 수 있다Meanwhile, the plurality of second sub-pixels P2 may be alternately arranged with the plurality of first sub-pixels P1 along the second direction. In this case, the second power line 242 is connected to the second electrode 332 of all of the plurality of second sub-pixels P2, or the second electrode of some of the plurality of second sub-pixels P2 ( 332) can be accessed. Alternatively, the second power line 242 is connected to the second electrodes 331 and 332 of both the plurality of first sub-pixels P1 and the plurality of second pixels P2, or is connected to the plurality of first sub-pixels (P1) and the second electrodes 331 and 332 of all of the plurality of second pixels (P2). P1) and some of the second electrodes 331 and 332 of the plurality of second pixels P2.

제2 전원 라인(242)은 일단이 보조 전원 라인(360)에 접속된다. 제2 전원 라인(242)은 도 11에 도시된 바와 같이 콘택홀을 통해 보조 전원 라인(360)에 접속될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지는 않는다.One end of the second power line 242 is connected to the auxiliary power line 360. The second power line 242 may be connected to the auxiliary power line 360 through a contact hole as shown in FIG. 11, but is not necessarily limited thereto.

이러한 제2 전원 라인(242)은 박막 트랜지스터(230)의 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극 중 어느 하나와 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있다.This second power line 242 may be formed of the same material on the same layer as any one of the active layer, gate electrode, source electrode, and drain electrode of the thin film transistor 230.

상술한 바에 따라, 제2 서브 화소(P2)는 제2 전원 라인(242) 및 보조 전원 라인(360)을 통하여 제2 전극(332)과 제3 전극(350)이 전기적으로 연결된다. 즉, 제3 전극(350)에 저전위 전압이 인가되면, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)은 제3 전극(350)과 동일한 저전위 전압이 인가된다.As described above, the second sub-pixel P2 has the second electrode 332 and the third electrode 350 electrically connected to each other through the second power line 242 and the auxiliary power line 360. That is, when a low potential voltage is applied to the third electrode 350, the same low potential voltage as that of the third electrode 350 is applied to the second electrode 332 of the second sub-pixel P2.

제2 연결 전극(250)은 제3 서브 화소(P3)의 제1 전극(313)과 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)을 전기적으로 연결한다.The second connection electrode 250 electrically connects the first electrode 313 of the third sub-pixel (P3) and the second electrode 333 of the third sub-pixel (P3).

제2 연결 전극(250)은 표시 영역(DA)에서 제3 서브 화소(P3)의 일 측에 배치되어, 제3 서브 화소(P3)의 제1 전극(313) 및 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)과 접속한다.The second connection electrode 250 is disposed on one side of the third sub-pixel P3 in the display area DA, and connects the first electrode 313 of the third sub-pixel P3 and the third sub-pixel P3. It is connected to the second electrode 333.

도 4, 도 5, 도 8에서는 제2 연결 전극(250)이 제2 서브 화소(P2)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 배치되는 것으로 도시하고 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 제2 연결 전극(250)은 제3 서브 화소(P3)와 제1 서브 화소(P1) 사이에 배치될 수도 있다.4, 5, and 8 show that the second connection electrode 250 is disposed between the second sub-pixel P2 and the third sub-pixel P3, but the present invention is not limited thereto. The second connection electrode 250 may be disposed between the third sub-pixel (P3) and the first sub-pixel (P1).

또한, 도 4, 도 5, 도 8에서는 제2 연결 전극(250)이 제3 서브 화소(P3)의 일 측에만 배치되는 것으로 도시하고 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 제2 연결 전극(250)은 제3 서브 화소(P3)의 복수의 측에 배치될 수도 있다. 예컨대, 제3 서브 화소(P3)가 평면상에서 4개의 측을 포함하는 경우, 제2 연결 전극(250)은 도 9에 도시된 바와 같이 제3 서브 화소(P3)의 4개의 측 모두에 배치될 수도 있다. 즉, 제2 연결 전극(250)은 제3 서브 화소(P3)의 4개의 측들 중 적어도 하나에 배치될 수 있다.Additionally, in FIGS. 4, 5, and 8, the second connection electrode 250 is shown as being disposed only on one side of the third sub-pixel P3, but the present invention is not necessarily limited thereto. The second connection electrode 250 may be disposed on multiple sides of the third sub-pixel P3. For example, when the third sub-pixel P3 includes four sides on a plane, the second connection electrode 250 may be disposed on all four sides of the third sub-pixel P3 as shown in FIG. 9. It may be possible. That is, the second connection electrode 250 may be disposed on at least one of the four sides of the third sub-pixel P3.

제2 연결 전극(250)은 복수의 제3 서브 화소(P3)들 각각에 대응되도록 패턴 형성될 수 있다. 이때, 복수의 제3 서브 화소(P3)들 각각에 대응되도록 형성된 제2 연결 전극(250)들은 서로 전기적으로 연결되지 않도록 도 3에 도시된 바와 같이 이격 배치된다. 하나의 제3 서브 화소(P3)는 하나의 제2 연결 전극(251)과 연결될 수 있고, 다른 하나의 제3 서브 화소(P3)는 다른 하나의 제2 연결 전극(252)과 연결될 수 있다. 이때, 하나의 제2 연결 전극(251) 및 다른 하나의 제2 연결 전극(252)은 패턴 형성되고, 서로 전기적으로 연결되지 않도록 이격 배치될 수 있다.The second connection electrode 250 may be patterned to correspond to each of the plurality of third sub-pixels P3. At this time, the second connection electrodes 250 formed to correspond to each of the plurality of third sub-pixels P3 are spaced apart as shown in FIG. 3 so as not to be electrically connected to each other. One third sub-pixel (P3) may be connected to one second connection electrode 251, and another third sub-pixel (P3) may be connected to another second connection electrode 252. At this time, one second connection electrode 251 and the other second connection electrode 252 may be patterned and spaced apart so as not to be electrically connected to each other.

이러한 제2 연결 전극(250)은 박막 트랜지스터(230)의 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극 중 어느 하나와 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있다.This second connection electrode 250 may be formed of the same material on the same layer as any one of the active layer, gate electrode, source electrode, and drain electrode of the thin film transistor 230.

상술한 바에 따라, 제3 서브 화소(P3)는 제2 연결 전극(250)을 통하여 제1 전극(313)과 제2 전극(333)이 전기적으로 연결된다. 즉, 제3 서브 화소(P3)의 제1 전극(313)에 제3 고전위 전압이 인가되면, 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)은 제3 서브 화소(P3)의 제1 전극(313)과 동일한 제3 고전위 전압이 인가된다.As described above, the first electrode 313 and the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 are electrically connected through the second connection electrode 250. That is, when the third high potential voltage is applied to the first electrode 313 of the third sub-pixel (P3), the second electrode 333 of the third sub-pixel (P3) A third high potential voltage equal to that of the first electrode 313 is applied.

제2 절연막(260)은 박막 트랜지스터(230), 제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 제2 연결 전극(250) 상에 형성되어 박막 트랜지스터(230)를 보호한다. 제2 절연막(260)은 박막 트랜지스터(230)를 덮는 동시에 제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 제2 연결 전극(250)의 일부를 노출시킨다.The second insulating film 260 is formed on the thin film transistor 230, the first connection electrodes 241, 242, and 360, and the second connection electrode 250 to protect the thin film transistor 230. The second insulating film 260 covers the thin film transistor 230 and exposes a portion of the first connection electrodes 241, 242, 360 and the second connection electrode 250.

보다 구체적으로, 제2 절연막(260)은 제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 제2 연결 전극(250)의 일부를 노출시키는 개구 영역(OA1, OA2, OA3, OA4)들을 포함한다.More specifically, the second insulating film 260 includes opening areas OA1, OA2, OA3, and OA4 that expose portions of the first connection electrodes 241, 242, and 360 and the second connection electrode 250.

제2 절연막(260)은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 제1 전원 라인(241)의 일부를 노출시키는 제1 개구 영역(OA1)를 포함할 수 있다. 제1 개구 영역(OA1)는 제1 전원 라인(241)을 따라 형성될 수 있다. 이때, 제1 개구 영역(OA1)는 하나의 제1 전원 라인(241) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 소정의 길이를 가진 하나 또는 복수개의 패턴으로 형성될 수 있다.The second insulating layer 260 may include a first opening area OA1 exposing a portion of the first power line 241 as shown in FIGS. 4 and 5 . The first opening area OA1 may be formed along the first power line 241 . At this time, the first opening area OA1 may be formed as one or more patterns having a predetermined length in the second direction (Y-axis direction) on one first power line 241.

또한, 제2 절연막(260)은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 제2 전원 라인(242)의 일부를 노출시키는 제2 개구 영역(OA2)를 포함할 수 있다. 제2 개구 영역(OA2)는 제2 전원 라인(242)을 따라 형성될 수 있다. 이때, 제2 개구 영역(OA2)는 하나의 제2 전원 라인(242) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 소정의 길이를 가진 하나 또는 복수개의 패턴으로 형성될 수 있다.Additionally, the second insulating layer 260 may include a second opening area OA2 exposing a portion of the second power line 242 as shown in FIGS. 4 and 5 . The second opening area OA2 may be formed along the second power line 242 . At this time, the second opening area OA2 may be formed as one or more patterns having a predetermined length in the second direction (Y-axis direction) on one second power line 242.

또한, 제2 절연막(260)은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 제2 연결 전극(250)의 일부를 노출시키는 제3 개구 영역(OA3)를 포함할 수 있다. 제3 개구 영역(OA3)는 제3 서브 화소(P3)를 둘러싸도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 제3 개구 영역(OA3)은 제2 연결 전극(250)이 형성된 영역에서 제2 연결 전극(250)의 일부를 노출시키고, 제2 연결 전극(250)이 형성되지 않은 영역에서 제1 절연막(220)을 노출시킨다.Additionally, the second insulating layer 260 may include a third opening area OA3 exposing a portion of the second connection electrode 250, as shown in FIGS. 4 and 5 . The third opening area OA3 may be formed to surround the third sub-pixel P3. Accordingly, the third opening area OA3 exposes a portion of the second connection electrode 250 in the area where the second connection electrode 250 is formed, and exposes a portion of the second connection electrode 250 in the area where the second connection electrode 250 is not formed. The insulating film 220 is exposed.

또한, 제2 절연막(260)은 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이 보조 전원 라인(360)의 일부를 노출시키는 제4 개구 영역(OA4)를 포함할 수 있다. 보조 전원 라인(360)은 제1 절연막(220)에 의하여 일부가 노출되어 있으며, 제4 개구 영역(OA4)는 노출된 보조 전원 라인(360) 상에 형성될 수 있다.Additionally, the second insulating layer 260 may include a fourth opening area OA4 exposing a portion of the auxiliary power line 360, as shown in FIGS. 11 and 12 . The auxiliary power line 360 is partially exposed by the first insulating film 220, and the fourth opening area OA4 may be formed on the exposed auxiliary power line 360.

이러한 제2 절연막(260)은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.This second insulating layer 260 may be formed of an inorganic layer, for example, a silicon oxide layer, a silicon nitride layer, or a multilayer thereof.

평탄화막(270)은 제2 절연막(260) 상에 형성되어 박막 트랜지스터(230)로 인한 단차를 평탄화시킨다. 이때, 평탄화막(270)은 제2 절연막(260)의 개구 영역(OA1, OA2, OA3, OA4)들 상에 형성되지 않는다. 이에 따라, 제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 제2 연결 전극(250)의 일부가 여전히 노출될 수 있다.The planarization film 270 is formed on the second insulating film 260 to flatten the level difference caused by the thin film transistor 230. At this time, the planarization film 270 is not formed on the opening areas OA1, OA2, OA3, and OA4 of the second insulating film 260. Accordingly, a portion of the first connection electrodes 241, 242, and 360 and the second connection electrode 250 may still be exposed.

평탄화막(270)은 제2 절연막(260) 보다 작은 형성 면적을 가질 수 있다. 이에 따라, 평탄화막(270)은 제2 절연막(260)의 일부를 노출시킬 수 있다. 이때, 제2 절연막(260)은 개구 영역(OA1, OA2, OA3, OA4)들과 인접한 영역에서 평탄화막(270)에 의하여 덮이지 않고 노출될 수 있다.The planarization film 270 may have a smaller formation area than the second insulating film 260 . Accordingly, the planarization film 270 may expose a portion of the second insulating film 260. At this time, the second insulating film 260 may be exposed without being covered by the planarization film 270 in areas adjacent to the opening areas OA1, OA2, OA3, and OA4.

이러한 평탄화막(270)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다.This planarization film 270 may be formed of an organic film such as acryl resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamide resin, or polyimide resin. You can.

제1 전극(311, 312, 313)은 평탄화막(270) 상에서 서브 화소(P1, P2, P3) 별로 패턴 형성된다. 제1 서브 화소(P1)에 하나의 제1 전극(311)이 형성되고, 제2 서브 화소(P2)에 다른 하나의 제1 전극(312)이 형성되고, 제3 서브 화소(P3)에 또 다른 하나의 제1 전극(313)이 형성된다.The first electrodes 311, 312, and 313 are patterned for each sub-pixel (P1, P2, and P3) on the planarization film 270. One first electrode 311 is formed in the first sub-pixel (P1), another first electrode 312 is formed in the second sub-pixel (P2), and another first electrode 312 is formed in the third sub-pixel (P3). Another first electrode 313 is formed.

제1 전극(311, 312, 313)은 제2 절연막(260)과 평탄화막(270)을 관통하는 콘택홀(CH1, CH2, CH3)을 통해 박막 트랜지스터(230)의 소스 전극 또는 드레인 전극에 접속된다. 제1 서브 화소(P1)의 제1 전극(311)은 콘택홀(CH1)을 통해 박막 트랜지스터(230)의 소스 전극 또는 드레인 전극에 접속되어, 제1 고전위 전압이 인가된다. 제2 서브 화소(P2)의 제1 전극(312)은 콘택홀(CH2)을 통해 박막 트랜지스터(230)의 소스 전극 또는 드레인 전극에 접속되어, 제2 고전위 전압이 인가된다. 제3 서브 화소(P3)의 제1 전극(313)은 콘택홀(CH3)을 통해 박막 트랜지스터(230)의 소스 전극 또는 드레인 전극에 접속되어, 제3 고전위 전압이 인가된다.The first electrodes 311, 312, and 313 are connected to the source or drain electrode of the thin film transistor 230 through contact holes (CH1, CH2, CH3) penetrating the second insulating film 260 and the planarization film 270. do. The first electrode 311 of the first sub-pixel P1 is connected to the source electrode or drain electrode of the thin film transistor 230 through the contact hole CH1, and a first high potential voltage is applied. The first electrode 312 of the second sub-pixel P2 is connected to the source electrode or drain electrode of the thin film transistor 230 through the contact hole CH2, and a second high potential voltage is applied. The first electrode 313 of the third sub-pixel P3 is connected to the source electrode or drain electrode of the thin film transistor 230 through the contact hole CH3, and a third high potential voltage is applied.

한편, 제3 서브 화소(P3)의 제1 전극(313)은 제2 절연막(260)을 관통하는 콘택홀(CH4)을 통해 제2 연결 전극(250)에 접속된다.Meanwhile, the first electrode 313 of the third sub-pixel P3 is connected to the second connection electrode 250 through the contact hole CH4 penetrating the second insulating film 260.

제1 전극(311, 312, 313)은 투명한 금속물질, 반투과 금속물질 또는 반사율이 높은 금속물질로 이루어질 수 있다. 표시장치(100)가 하부 발광 방식으로 이루어지는 경우, 제1 전극(311, 312, 313)은 광을 투과시킬 수 있는 ITO, IZO와 같은 투명한 금속물질(TCO, Transparent Conductive Material), 또는 마그네슘(Mg), 은(Ag), 또는 마그네슘(Mg)과 은(Ag)의 합금과 같은 반투과 금속물질(Semi-transmissive Conductive Material)로 형성될 수 있다. 표시장치(100)가 상부 발광 방식으로 이루어지는 경우, 제1 전극(311, 312, 313)은 알루미늄과 티타늄의 적층 구조(Ti/Al/Ti), 알루미늄과 ITO의 적층 구조(ITO/Al/ITO), Ag 합금, 및 Ag 합금과 ITO의 적층 구조(ITO/Ag 합금/ITO)과 같은 반사율이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. Ag 합금은 은(Ag), 팔라듐(Pd), 및 구리(Cu) 등의 합금일 수 있다. 이러한 제1 전극(311, 312, 313)은 애노드 전극일 수 있다.The first electrodes 311, 312, and 313 may be made of a transparent metal material, a translucent metal material, or a highly reflective metal material. When the display device 100 is made of a bottom-emitting type, the first electrodes 311, 312, and 313 are made of a transparent conductive material (TCO) such as ITO or IZO that can transmit light, or magnesium (Mg). ), silver (Ag), or an alloy of magnesium (Mg) and silver (Ag). When the display device 100 is made of a top-emitting type, the first electrodes 311, 312, and 313 have a stacked structure of aluminum and titanium (Ti/Al/Ti) or a stacked structure of aluminum and ITO (ITO/Al/ITO). ), Ag alloy, and a laminated structure of Ag alloy and ITO (ITO/Ag alloy/ITO). The Ag alloy may be an alloy of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu). These first electrodes 311, 312, and 313 may be anode electrodes.

가림 패턴(281, 282, 283)은 제2 절연막(260) 상에서 제2 절연막(260)의 개구 영역(OA1, OA2, OA3)들의 일부를 가리도록 형성된다. 가림 패턴(281, 282, 283)은 제1 가림 패턴(281), 제2 가림 패턴(282) 및 제3 가림 패턴(283)을 포함한다.The covering patterns 281, 282, and 283 are formed on the second insulating layer 260 to cover portions of the opening areas OA1, OA2, and OA3 of the second insulating layer 260. The blocking patterns 281, 282, and 283 include a first blocking pattern 281, a second blocking pattern 282, and a third blocking pattern 283.

제1 가림 패턴(281)은 평탄화막(270)에 덮이지 않고 노출된 제2 절연막(260) 상에 형성되고, 제1 전원 라인(241)의 일부를 노출시키는 제1 개구 영역(OA1)의 일부를 가리도록 돌출된 돌출부(281a)를 포함한다. 이때, 제1 가림 패턴(281)의 돌출부(281a)는 제1 전원 라인(241)과 이격되어, 제1 전원 라인(241)과의 사이에 공간을 형성한다.The first blocking pattern 281 is formed on the second insulating film 260 that is exposed and not covered by the planarization film 270, and is formed on the first opening area OA1 exposing a portion of the first power line 241. It includes a protrusion 281a that protrudes to partially cover the part. At this time, the protrusion 281a of the first blocking pattern 281 is spaced apart from the first power line 241 to form a space between it and the first power line 241.

제1 가림 패턴(281)은 제1 개구 영역(OA1)를 사이에 두고 제1 서브 화소(P1)와 인접하게 배치된 서브 화소에 가깝게 형성된다. 제1 전원 라인(241)을 노출시키는 제1 개구 영역(OA1)는 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 배치될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.The first blocking pattern 281 is formed close to a sub-pixel disposed adjacent to the first sub-pixel P1 with the first opening area OA1 in between. The first opening area OA1 exposing the first power line 241 may be disposed between the first sub-pixel P1 and the third sub-pixel P3, but is not necessarily limited thereto.

제2 절연막(260)의 제1 개구 영역(OA1)이 제3 서브 화소(P3)와 제1 서브 화소(P1) 사이에 배치되는 경우, 제1 가림 패턴(281)은 돌출부(281a)가 제3 서브 화소(P3)에서 제1 개구 영역(OA1)을 향하는 방향으로 돌출될 수 있다. 이에 따라, 제1 개구 영역(OA1) 중 제3 서브 화소(P3)에 인접한 일부 영역이 제1 가림 패턴(281)에 의하여 가려지고, 제1 전원 라인(241) 역시 제1 가림 패턴(281)에 의하여 가려진다. 제1 개구 영역(OA1) 중 제1 서브 화소(P1)에 인접한 나머지 영역은 여전히 제1 전원 라인(241)을 노출시킨다.When the first opening area OA1 of the second insulating layer 260 is disposed between the third sub-pixel P3 and the first sub-pixel P1, the first blocking pattern 281 has the protrusion 281a 3 The sub-pixel P3 may protrude in a direction toward the first opening area OA1. Accordingly, a portion of the first opening area OA1 adjacent to the third sub-pixel P3 is covered by the first blocking pattern 281, and the first power line 241 is also covered by the first blocking pattern 281. covered by The remaining area of the first opening area OA1 adjacent to the first sub-pixel P1 still exposes the first power line 241.

제1 가림 패턴(281)은 제1 개구 영역(OA1)과 마찬가지로 제1 전원 라인(241)을 따라 형성될 수 있다. 이때, 제1 가림 패턴(281)은 도 6에 도시된 바와 같이 하나의 제1 전원 라인(241) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 소정의 길이를 가진 복수개의 패턴으로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 제1 가림 패턴(281)은 도 7에 도시된 바와 같이 하나의 제1 전원 라인(241) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 연장된 하나의 라인 패턴으로 형성될 수도 있다.The first blocking pattern 281 may be formed along the first power line 241 like the first opening area OA1. At this time, the first blocking pattern 281 may be formed as a plurality of patterns with a predetermined length in the second direction (Y-axis direction) on one first power line 241, as shown in FIG. It is not necessarily limited to this. As shown in FIG. 7 , the first blocking pattern 281 may be formed as a single line pattern extending in the second direction (Y-axis direction) on one first power line 241.

한편, 제1 가림 패턴(281)은 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.Meanwhile, the first blocking pattern 281 may be formed of the same material in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313, but is not necessarily limited thereto.

제1 가림 패턴(281)은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있다. 이때, 제1 가림 패턴(281)은 제1 전극(311, 312, 313)과 이격 형성될 수 있다.The first blocking pattern 281 may be formed of the same material in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313, as shown in FIGS. 4 and 5. At this time, the first blocking pattern 281 may be formed to be spaced apart from the first electrodes 311, 312, and 313.

제2 절연막(260)의 제1 개구 영역(OA1)이 제3 서브 화소(P3)와 제1 서브 화소(P1) 사이에 배치되는 경우, 제1 가림 패턴(281)은 제3 서브 화소(P3)의 제1 전극(313)과 이격 배치되어, 제3 서브 화소(P3)의 제1 전극(313)과 서로 전기적으로 연결되지 않도록 한다. 제1 가림 패턴(281)은 평탄화막(270)에 의하여 덮이지 않고 노출된 제2 절연막(260)은 물론 평탄화막(270) 상에도 형성될 수 있다.When the first opening area OA1 of the second insulating layer 260 is disposed between the third sub-pixel P3 and the first sub-pixel P1, the first blocking pattern 281 is located between the third sub-pixel P3 ) is spaced apart from the first electrode 313 of the third sub-pixel P3 and is not electrically connected to the first electrode 313 of the third sub-pixel P3. The first blocking pattern 281 may be formed on the planarization film 270 as well as the second insulating film 260 that is exposed and not covered by the planarization film 270 .

이와 같은 경우, 표시장치는 제1 가림 패턴(281)을 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성함으로써, 별도의 공정을 추가하지 않고 제1 가림 패턴(281)이 형성된다.In this case, the display device forms the first blocking pattern 281 in the same layer and with the same material as the first electrodes 311, 312, and 313, so that the first blocking pattern 281 is formed without adding a separate process. is formed

그러나 반드시 이에 한정되지 않으며, 제1 가림 패턴(281)은 제1 전극(311, 312, 313)과 다른 층에 형성될 수도 있다. 제1 가림 패턴(281)은 제2 절연막(260)과 평탄화막(270) 사이에 형성될 수 있다.However, it is not necessarily limited to this, and the first blocking pattern 281 may be formed on a different layer from the first electrodes 311, 312, and 313. The first blocking pattern 281 may be formed between the second insulating film 260 and the planarization film 270.

제2 가림 패턴(282)은 평탄화막(270)에 덮이지 않고 노출된 제2 절연막(260) 상에 형성되고, 제2 전원 라인(242)의 일부를 노출시키는 제2 개구 영역(OA2)의 일부를 가리도록 돌출된 돌출부(282a)를 포함한다. 이때, 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a)는 제2 전원 라인(242)과 이격되어, 제2 전원 라인(242)과의 사이에 공간을 형성한다.The second blocking pattern 282 is formed on the second insulating film 260 that is exposed and not covered by the planarization film 270, and is formed on the second opening area OA2 exposing a portion of the second power line 242. It includes a protrusion 282a that protrudes to partially cover the part. At this time, the protrusion 282a of the second blocking pattern 282 is spaced apart from the second power line 242 to form a space between the second power line 242 and the second power line 242 .

제2 가림 패턴(282)은 제2 개구 영역(OA2)를 사이에 두고 제2 서브 화소(P2)와 인접하게 배치된 서브 화소에 가깝게 형성된다. 제2 전원 라인(242)을 노출시키는 제2 개구 영역(OA2)는 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에 배치될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.The second blocking pattern 282 is formed close to the sub-pixel disposed adjacent to the second sub-pixel P2 with the second opening area OA2 in between. The second opening area OA2 exposing the second power line 242 may be disposed between the first sub-pixel P1 and the second sub-pixel P2, but is not necessarily limited thereto.

제2 절연막(260)의 제2 개구 영역(OA2)이 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에 배치되는 경우, 제2 가림 패턴(282)은 돌출부(282a)가 제1 서브 화소(P1)에서 제2 개구 영역(OA2)을 향하는 방향으로 돌출될 수 있다. 이에 따라, 제2 개구 영역(OA2) 중 제1 서브 화소(P1)에 인접한 일부 영역이 제2 가림 패턴(282)에 의하여 가려지고, 제2 전원 라인(242) 역시 제2 가림 패턴(282)에 의하여 가려진다. 제2 개구 영역(OA2) 중 제2 서브 화소(P12에 인접한 나머지 영역은 여전히 제2 전원 라인(242)을 노출시킨다.When the second opening area OA2 of the second insulating layer 260 is disposed between the first sub-pixel P1 and the second sub-pixel P2, the second blocking pattern 282 has the protrusion 282a 1 The sub-pixel P1 may protrude in a direction toward the second opening area OA2. Accordingly, a portion of the second opening area OA2 adjacent to the first sub-pixel P1 is covered by the second blocking pattern 282, and the second power line 242 is also covered by the second blocking pattern 282. covered by The remaining area of the second opening area OA2 adjacent to the second sub-pixel P12 still exposes the second power line 242.

제2 가림 패턴(282)은 제2 개구 영역(OA2)과 마찬가지로 제2 전원 라인(242)을 따라 형성될 수 있다. 이때, 제2 가림 패턴(282)은 도 6에 도시된 바와 같이 하나의 제2 전원 라인(242) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 소정의 길이를 가진 복수개의 패턴으로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 제2 가림 패턴(282)은 도 7에 도시된 바와 같이 하나의 제2 전원 라인(242) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 연장된 하나의 라인 패턴으로 형성될 수도 있다.The second blocking pattern 282 may be formed along the second power line 242 like the second opening area OA2. At this time, the second blocking pattern 282 may be formed as a plurality of patterns with a predetermined length in the second direction (Y-axis direction) on one second power line 242, as shown in FIG. 6. It is not necessarily limited to this. As shown in FIG. 7 , the second blocking pattern 282 may be formed as a single line pattern extending in the second direction (Y-axis direction) on one second power line 242.

한편, 제2 가림 패턴(282)은 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.Meanwhile, the second shielding pattern 282 may be formed of the same material in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313, but is not necessarily limited thereto.

제2 가림 패턴(282)은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있다. 이때, 제2 가림 패턴(282)은 제1 전극(311, 312, 313)과 이격 형성될 수 있다.The second blocking pattern 282 may be formed of the same material in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313, as shown in FIGS. 4 and 5. At this time, the second blocking pattern 282 may be formed to be spaced apart from the first electrodes 311, 312, and 313.

제2 절연막(260)의 제2 개구 영역(OA2)이 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에 배치되는 경우, 제2 가림 패턴(282)은 제1 서브 화소(P1)의 제1 전극(311)과 이격 배치되어, 제1 서브 화소(P1)의 제1 전극(311)과 서로 전기적으로 연결되지 않도록 한다. 제2 가림 패턴(282)은 평탄화막(270)에 의하여 덮이지 않고 노출된 제2 절연막(260)은 물론 평탄화막(270) 상에도 형성될 수 있다.When the second opening area OA2 of the second insulating layer 260 is disposed between the first sub-pixel P1 and the second sub-pixel P2, the second blocking pattern 282 is located between the first sub-pixel P1 and the second opening area OA2. ) is spaced apart from the first electrode 311 of the first sub-pixel P1 and is not electrically connected to the first electrode 311 of the first sub-pixel P1. The second blocking pattern 282 may be formed on the planarization film 270 as well as the second insulating film 260 that is exposed and not covered by the planarization film 270 .

이와 같은 경우, 표시장치는 제2 가림 패턴(282)을 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성함으로써, 별도의 공정을 추가하지 않고 제2 가림 패턴(282)이 형성된다.In this case, the display device forms the second blocking pattern 282 in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313 with the same material, so that the second blocking pattern 282 is formed without adding a separate process. is formed

그러나 반드시 이에 한정되지 않으며, 제2 가림 패턴(282)은 제1 전극(311, 312, 313)과 다른 층에 형성될 수도 있다. 제2 가림 패턴(282)은 제2 절연막(260)과 평탄화막(270) 사이에 형성될 수 있다.However, it is not necessarily limited to this, and the second shielding pattern 282 may be formed on a different layer from the first electrodes 311, 312, and 313. The second shielding pattern 282 may be formed between the second insulating film 260 and the planarization film 270.

제3 가림 패턴(283)은 평탄화막(270)에 덮이지 않고 노출된 제2 절연막(260) 상에 형성되고, 제2 연결 전극(250)의 일부를 노출시키는 제3 개구 영역(OA3)의 일부를 가리도록 돌출된 돌출부(283a)를 포함한다. 이때, 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a)는 제2 연결 전극(250)과 이격되어, 제2 연결 전극(250)과의 사이에 공간을 형성한다.The third shielding pattern 283 is formed on the second insulating film 260 that is exposed and not covered by the planarization film 270, and is formed on the third opening area OA3 exposing a portion of the second connection electrode 250. It includes a protrusion 283a that protrudes to partially cover the part. At this time, the protrusion 283a of the third shielding pattern 283 is spaced apart from the second connection electrode 250 to form a space between the second connection electrode 250 and the second connection electrode 250 .

제3 가림 패턴(283)은 제3 개구 영역(OA3)을 사이에 두고 제3 서브 화소(P3)와 인접하게 배치된 서브 화소에 가깝게 형성된다. 제2 연결 전극(250)을 노출시키는 제3 개구 영역(OA3)은 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이 및 제2 서브 화소(P2)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 배치될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.The third blocking pattern 283 is formed close to a sub-pixel disposed adjacent to the third sub-pixel P3 with the third opening area OA3 in between. The third opening area OA3 exposing the second connection electrode 250 is between the first sub-pixel P1 and the third sub-pixel P3 and between the second sub-pixel P2 and the third sub-pixel P3. It may be placed in between, but is not necessarily limited to this.

제2 절연막(260)의 제3 개구 영역(OA3)이 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 배치되는 경우, 제3 가림 패턴(283)은 돌출부(283a)가 제1 서브 화소(P1)에서 제3 개구 영역(OA3)을 향하는 방향으로 돌출될 수 있다. 이에 따라, 제3 개구 영역(OA3) 중 제1 서브 화소(P1)에 인접한 일부 영역이 제3 가림 패턴(283)에 의하여 가려지고, 제2 연결 전극(250) 또는 제1 절연막(220) 역시 제3 가림 패턴(283)에 의하여 가려진다. 제3 개구 영역(OA2) 중 제3 서브 화소(P3)에 인접한 나머지 영역은 여전히 제2 연결 전극(250) 또는 제1 절연막(220)을 노출시킨다.When the third opening area OA3 of the second insulating film 260 is disposed between the first sub-pixel P1 and the third sub-pixel P3, the third blocking pattern 283 has the protrusion 283a. 1 The sub-pixel P1 may protrude in a direction toward the third opening area OA3. Accordingly, a portion of the third opening area OA3 adjacent to the first sub-pixel P1 is covered by the third blocking pattern 283, and the second connection electrode 250 or the first insulating film 220 is also covered. It is covered by the third blocking pattern 283. The remaining area of the third opening area OA2 adjacent to the third sub-pixel P3 still exposes the second connection electrode 250 or the first insulating layer 220.

또한, 제2 절연막(260)의 제3 개구 영역(OA3)이 제2 서브 화소(P2)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 배치되는 경우, 제3 가림 패턴(283)은 돌출부(283a)가 제2 서브 화소(P2)에서 제3 개구 영역(OA3)을 향하는 방향으로 돌출될 수 있다. 이에 따라, 제3 개구 영역(OA3) 중 제2 서브 화소(P2)에 인접한 일부 영역이 제3 가림 패턴(283)에 의하여 가려지고, 제2 연결 전극(250) 또는 제1 절연막(220) 역시 제3 가림 패턴(283)에 의하여 가려진다. 제3 개구 영역(OA2) 중 제3 서브 화소(P3)에 인접한 나머지 영역은 여전히 제2 연결 전극(250) 또는 제1 절연막(220)을 노출시킨다.Additionally, when the third opening area OA3 of the second insulating film 260 is disposed between the second sub-pixel P2 and the third sub-pixel P3, the third blocking pattern 283 has a protrusion 283a. may protrude from the second sub-pixel P2 in a direction toward the third opening area OA3. Accordingly, a portion of the third opening area OA3 adjacent to the second sub-pixel P2 is covered by the third blocking pattern 283, and the second connection electrode 250 or the first insulating film 220 is also covered. It is covered by the third blocking pattern 283. The remaining area of the third opening area OA2 adjacent to the third sub-pixel P3 still exposes the second connection electrode 250 or the first insulating layer 220.

제3 가림 패턴(283)은 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이 제3 개구 영역(OA3)과 마찬가지로 제3 서브 화소(P3)를 둘러싸도록 형성될 수 있다. 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)은 제3 가림 패턴(283)에 의하여 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331) 및 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)과 단절될 수 있다. 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치는 제3 가림 패턴(283)이 제3 서브 화소(P3)를 둘러싸도록 형성함으로써 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)이 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331) 및 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)이 서로 전기적으로 연결되지 않도록 한다.As shown in FIGS. 8 and 9 , the third blocking pattern 283 may be formed to surround the third sub-pixel P3 like the third opening area OA3. The second electrode 333 of the third sub-pixel (P3) is connected to the second electrode 331 of the first sub-pixel (P1) and the second electrode of the second sub-pixel (P2) by the third blocking pattern 283. It can be disconnected from (332). In the display device according to the first embodiment of the present invention, the third blocking pattern 283 is formed to surround the third sub-pixel (P3), so that the second electrode 333 of the third sub-pixel (P3) is connected to the first sub-pixel (P3). The second electrode 331 of the pixel P1 and the second electrode 332 of the second sub-pixel P2 are not electrically connected to each other.

한편, 제3 가림 패턴(283)은 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.Meanwhile, the third shielding pattern 283 may be formed of the same material in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313, but is not necessarily limited thereto.

제3 가림 패턴(283)은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있다. 이때, 제3 가림 패턴(283)은 제1 전극(311, 312, 313)과 이격 형성될 수 있다.The third blocking pattern 283 may be formed of the same material in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313, as shown in FIGS. 4 and 5. At this time, the third shielding pattern 283 may be formed to be spaced apart from the first electrodes 311, 312, and 313.

제2 절연막(260)의 제3 개구 영역(OA3)이 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 배치되는 경우, 제3 가림 패턴(283)은 제1 서브 화소(P1)의 제1 전극(311)과 이격 배치되어, 제1 서브 화소(P1)의 제1 전극(311)과 서로 전기적으로 연결되지 않도록 한다. 제3 가림 패턴(283)은 평탄화막(270)에 의하여 덮이지 않고 노출된 제2 절연막(260)은 물론 평탄화막(270) 상에도 형성될 수 있다.When the third opening area OA3 of the second insulating layer 260 is disposed between the first sub-pixel P1 and the third sub-pixel P3, the third blocking pattern 283 is located between the first sub-pixel P1 and P3. ) is spaced apart from the first electrode 311 of the first sub-pixel P1 and is not electrically connected to the first electrode 311 of the first sub-pixel P1. The third shielding pattern 283 may be formed on the planarization film 270 as well as the second insulating film 260 that is exposed and not covered by the planarization film 270 .

또한, 제2 절연막(260)의 제3 개구 영역(OA3)이 제2 서브 화소(P2)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 배치되는 경우, 제3 가림 패턴(283)은 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(312)과 이격 배치되어, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(312)과 서로 전기적으로 연결되지 않도록 한다. 제3 가림 패턴(283)은 평탄화막(270)에 의하여 덮이지 않고 노출된 제2 절연막(260)은 물론 평탄화막(270) 상에도 형성될 수 있다.Additionally, when the third opening area OA3 of the second insulating film 260 is disposed between the second sub-pixel P2 and the third sub-pixel P3, the third blocking pattern 283 is located between the second sub-pixel P2 and the third sub-pixel P3. It is disposed to be spaced apart from the second electrode 312 of (P2) and is not electrically connected to the second electrode 312 of the second sub-pixel (P2). The third shielding pattern 283 may be formed on the planarization film 270 as well as the second insulating film 260 that is exposed and not covered by the planarization film 270 .

이와 같은 경우, 표시장치는 제3 가림 패턴(283)을 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성함으로써, 별도의 공정을 추가하지 않고 제3 가림 패턴(283)이 형성된다.In this case, the display device forms the third blocking pattern 283 in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313 with the same material, so that the third blocking pattern 283 is formed without adding a separate process. is formed

그러나 반드시 이에 한정되지 않으며, 제3 가림 패턴(283)은 제1 전극(311, 312, 313)과 다른 층에 형성될 수도 있다. 제3 가림 패턴(283)은 제2 절연막(260)과 평탄화막(270) 사이에 형성될 수 있다.However, it is not necessarily limited to this, and the third shielding pattern 283 may be formed on a different layer from the first electrodes 311, 312, and 313. The third shielding pattern 283 may be formed between the second insulating film 260 and the planarization film 270.

뱅크(315)는 평탄화막(270) 상에서 제1 전극(311, 312, 313)의 끝단을 덮도록 형성될 수 있다. 그에 따라, 제1 전극(311, 312, 313)의 끝단에 전류가 집중되어 발광효율이 저하되는 문제가 방지될 수 있다. The bank 315 may be formed on the planarization film 270 to cover the ends of the first electrodes 311, 312, and 313. Accordingly, the problem of lowering luminous efficiency due to current concentration at the ends of the first electrodes 311, 312, and 313 can be prevented.

한편, 뱅크(315)는 제2 절연막(260)의 개구 영역(OA1, OA2, OA3, OA4)들 상에는 형성되지 않는다. 이에 따라, 제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 제2 연결 전극(250)의 일부가 여전히 노출될 수 있다.Meanwhile, the bank 315 is not formed on the opening areas OA1, OA2, OA3, and OA4 of the second insulating film 260. Accordingly, a portion of the first connection electrodes 241, 242, and 360 and the second connection electrode 250 may still be exposed.

또한, 뱅크(315)는 가림 패턴(281, 282, 283)들 상에도 형성될 수 있다. 이때, 뱅크(315)는 가림 패턴(281, 282, 283)들 각각의 돌출부(281a, 282a, 283a)가 덮이지 않고 노출될 수 있도록 형성될 수 있다. Additionally, the bank 315 may also be formed on the blocking patterns 281, 282, and 283. At this time, the bank 315 may be formed so that the protrusions 281a, 282a, and 283a of each of the blocking patterns 281, 282, and 283 are exposed without being covered.

뱅크(315)가 가림 패턴(281, 282, 283)들 각각의 돌출부(281a, 282a, 283a)를 덮도록 형성하게 되면, 서브 화소(P1, P2, P3)들 각각의 제1 발광층(321, 322, 323)이 단절되지 않고 서로 연결될 수 있다. 또한, 서브 화소(P1, P2, P3)들 각각의 제2 전극(331, 332, 333)이 단절되지 않고 서로 연결될 수 있다. 이에 따라, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)이 제1 전원 라인(241)에 접속되지 못하고, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)이 제2 전원 라인(242)에 접속되지 못하며, 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)이 제2 연결 전극(250)에 접속되지 못하는 문제가 발생할 수 있다.When the bank 315 is formed to cover the protrusions 281a, 282a, and 283a of each of the blocking patterns 281, 282, and 283, the first light emitting layer 321 of each of the sub-pixels P1, P2, and P3 322, 323) can be connected to each other without being disconnected. Additionally, the second electrodes 331, 332, and 333 of each of the sub-pixels P1, P2, and P3 may be connected to each other without being disconnected. Accordingly, the second electrode 331 of the first sub-pixel (P1) is not connected to the first power line 241, and the second electrode 332 of the second sub-pixel (P2) is not connected to the second power line (241). 242), and a problem may occur in which the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 cannot be connected to the second connection electrode 250.

본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치는 이러한 문제가 발생하지 않도록 뱅크(315)가 가림 패턴(281, 282, 283)들 각각의 돌출부(281a, 282a, 283a)를 덮지 않고 노출시키도록 형성되어야 한다.In the display device according to the first embodiment of the present invention, the bank 315 is formed to expose the protrusions 281a, 282a, and 283a of each of the blocking patterns 281, 282, and 283 without covering them to prevent this problem from occurring. It has to be.

뱅크(315)는 복수의 서브 화소(P1, P2, P3) 각각에 발광 영역을 정의한다. 즉, 각각의 서브 화소(P1, P2, P3)에서 뱅크(315)가 형성되지 않고 노출된 제1 전극(311, 312, 313)의 노출 영역이 발광 영역이 된다. 뱅크(315)는 상대적으로 얇은 두께의 무기 절연막으로 이루어질 수 있지만, 상대적으로 두꺼운 두께의 유기 절연막으로 이루어질 수도 있다.The bank 315 defines a light-emitting area in each of the plurality of sub-pixels (P1, P2, and P3). That is, the exposed area of the first electrodes 311, 312, and 313 where the bank 315 is not formed in each sub-pixel (P1, P2, and P3) becomes the light emitting area. The bank 315 may be made of a relatively thin inorganic insulating film, but may also be made of a relatively thick organic insulating film.

제1 발광층(321, 322, 323)은 제1 전극(311, 312, 313) 상에 형성된다. 제1 발광층(321, 322, 323)은 뱅크(315) 상에 형성될 수 있다. 제1 발광층(321, 322, 323)은 정공 수송층(hole transporting layer), 발광층(light emitting layer), 및 전자 수송층(electron transporting layer)을 포함할 수 있다. 이 경우, 제1 발광층(321, 322, 323)은 정공과 전자가 각각 정공 수송층과 전자 수송층을 통해 발광층으로 이동하게 되며, 발광층에서 서로 결합하여 소정의 색으로 발광하게 된다.The first light emitting layers 321, 322, and 323 are formed on the first electrodes 311, 312, and 313. The first light emitting layers 321, 322, and 323 may be formed on the bank 315. The first light emitting layers 321, 322, and 323 may include a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer. In this case, holes and electrons in the first light-emitting layers 321, 322, and 323 move to the light-emitting layer through the hole transport layer and the electron transport layer, respectively, and combine with each other in the light-emitting layer to emit light in a predetermined color.

제1 발광층(321, 322, 323)은 적색 광을 발광하는 적색 발광층, 녹색 광을 발광하는 녹색 발광층, 청색 광을 발광하는 청색 발광층 및 황색 광을 발광하는 황색 발광층 중 어느 하나 일 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.The first light-emitting layer (321, 322, 323) may be any one of a red light-emitting layer that emits red light, a green light-emitting layer that emits green light, a blue light-emitting layer that emits blue light, and a yellow light-emitting layer that emits yellow light, but must be It is not limited to this.

제1 발광층(321, 322, 323)은 제1 서브 화소(P1), 제2 서브 화소(P2) 및 제3 서브 화소(P3) 사이에서 단절된다. 제1 서브 화소(P1), 제2 서브 화소(P2) 및 제3 서브 화소(P3) 사이에는 가림 패턴(281, 282, 283)들이 구비되어 있다. 제1 발광층(321, 322, 323)은 가림 패턴(281, 282, 283)들에 의하여 서로 단절될 수 있다.The first light emitting layers 321, 322, and 323 are disconnected between the first sub-pixel (P1), the second sub-pixel (P2), and the third sub-pixel (P3). Masking patterns 281, 282, and 283 are provided between the first sub-pixel (P1), the second sub-pixel (P2), and the third sub-pixel (P3). The first light emitting layers 321, 322, and 323 may be separated from each other by the blocking patterns 281, 282, and 283.

보다 구체적으로, 제1 발광층(321, 322, 323)은 제2 가림 패턴(282)에 의하여 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에서 단절될 수 있다. 제1 발광층(321, 322, 323)을 마스크 없이 전면 증착하게 되면, 제1 서브 화소(P1)에 증착되는 제1 발광층(321)은 도 4 및 도 10에 도시된 바와 같이 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a)과 제2 전원 라인(242) 간의 단차로 인하여 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a) 상에서 끊어질 수 있다. 제2 서브 화소(P2)에 증착되는 제1 발광층(322)은 도 4 및 도 10에 도시된 바와 같이 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a)과 제2 전원 라인(242) 사이의 공간으로 유입되어, 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a) 아래에 형성될 수 있다.More specifically, the first light emitting layers 321, 322, and 323 may be separated between the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2) by the second blocking pattern 282. When the first light-emitting layer 321, 322, and 323 is deposited on the entire surface without a mask, the first light-emitting layer 321 deposited on the first sub-pixel P1 has a second blocking pattern (as shown in FIGS. 4 and 10). Due to the step between the protrusion 282a of the second power line 242 and the protrusion 282a of the second shielding pattern 282, the second power line 242 may be broken on the protrusion 282a of the second shielding pattern 282. The first light emitting layer 322 deposited on the second sub-pixel P2 is formed in the space between the protrusion 282a of the second blocking pattern 282 and the second power line 242, as shown in FIGS. 4 and 10. may flow into and be formed under the protrusion 282a of the second blocking pattern 282.

본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치는 제1 서브 화소(P1)의 제1 발광층(321)과 제2 서브 화소(P2)의 제1 발광층(322)이 서로 접하지 않고 단절되는 것이 바람직하다. 이로 인하여, 제1 발광층(321, 322, 323) 상에 제2 전극(331, 332, 333)을 전면 증착하는 경우, 제2 서브 화소(P2)에 증착되는 제2 전극(332)이 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a)와 제2 서브 화소(P2)의 제1 발광층(322) 사이로 유입될 수 있는 공간을 확보할 수 있다.In the display device according to the first embodiment of the present invention, it is preferable that the first light emitting layer 321 of the first sub-pixel (P1) and the first light emitting layer 322 of the second sub-pixel (P2) are disconnected from each other without contacting each other. do. For this reason, when the second electrodes 331, 332, and 333 are entirely deposited on the first light emitting layers 321, 322, and 323, the second electrode 332 deposited on the second sub-pixel P2 is the second electrode 332. A space for inflow can be secured between the protrusion 282a of the blocking pattern 282 and the first light emitting layer 322 of the second sub-pixel P2.

또한, 제1 발광층(321, 322, 323)은 제3 가림 패턴(283)에 의하여 제2 서브 화소(P2)와 제3 서브 화소(P3) 사이에서 단절될 수 있다. 제1 발광층(321, 322, 323)을 마스크 없이 전면 증착하게 되면, 제2 서브 화소(P2)에 증착되는 제1 발광층(322)은 도 4 및 도 10에 도시된 바와 같이 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a)과 제2 연결 전극(250) 간의 단차로 인하여 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a) 상에서 끊어질 수 있다. 제3 서브 화소(P3)에 증착되는 제1 발광층(323)은 도 4 및 도 10에 도시된 바와 같이 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a)과 제2 연결 전극(250) 사이의 공간으로 유입되어, 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a) 아래에 형성될 수 있다.Additionally, the first light emitting layers 321, 322, and 323 may be separated between the second sub-pixel P2 and the third sub-pixel P3 by the third blocking pattern 283. When the first light-emitting layer 321, 322, and 323 is deposited on the entire surface without a mask, the first light-emitting layer 322 deposited on the second sub-pixel P2 has a third blocking pattern (as shown in FIGS. 4 and 10). Due to the step between the protrusion 283a of the third shielding pattern 283 and the second connection electrode 250, the protrusion 283a of the third shielding pattern 283 may be broken. The first light emitting layer 323 deposited on the third sub-pixel P3 is formed in the space between the protrusion 283a of the third blocking pattern 283 and the second connection electrode 250, as shown in FIGS. 4 and 10. may flow into and be formed under the protrusion 283a of the third blocking pattern 283.

본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치는 제2 서브 화소(P2)의 제1 발광층(322)과 제3 서브 화소(P3)의 제1 발광층(323)이 서로 접하지 않고 단절되는 것이 바람직하다. 이로 인하여, 제1 발광층(321, 322, 323) 상에 제2 전극(331, 332, 333)을 전면 증착하는 경우, 제3 서브 화소(P3)에 증착되는 제2 전극(333)이 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a)와 제3 서브 화소(P3)의 제1 발광층(323) 사이로 유입될 수 있는 공간을 확보할 수 있다.In the display device according to the first embodiment of the present invention, it is preferable that the first light emitting layer 322 of the second sub-pixel (P2) and the first light emitting layer 323 of the third sub-pixel (P3) are disconnected from each other without contacting each other. do. For this reason, when the second electrodes 331, 332, and 333 are entirely deposited on the first light emitting layers 321, 322, and 323, the second electrode 333 deposited on the third sub-pixel P3 is the third electrode 333. A space for inflow can be secured between the protrusion 283a of the blocking pattern 283 and the first light emitting layer 323 of the third sub-pixel P3.

또한, 제1 발광층(321, 322, 323)은 제3 가림 패턴(283) 및 제1 가림 패턴(281)에 의하여 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에서 단절될 수 있다. 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에는 도 5에 도시된 바와 같이 제3 가림 패턴(283) 및 제1 가림 패턴(281)이 이격하여 형성될 수 있다. 이때, 제1 가림 패턴(281)은 제3 서브 화소(P3)에서 제1 서브 화소(P1) 방향으로 돌출되어 제1 개구 영역(OA1)의 일부를 가리는 돌출부(281a)를 포함한다. 제3 가림 패턴(283)은 제1 서브 화소(P1)에서 제3 서브 화소(P3) 방향으로 돌출되어 제3 개구 영역(OA3)의 일부를 가리는 돌출부(283a)를 포함한다.Additionally, the first light emitting layers 321, 322, and 323 may be disconnected between the first sub-pixel (P1) and the third sub-pixel (P3) by the third blocking pattern 283 and the first blocking pattern 281. there is. As shown in FIG. 5 , a third blocking pattern 283 and a first blocking pattern 281 may be formed to be spaced apart between the first sub-pixel (P1) and the third sub-pixel (P3). At this time, the first blocking pattern 281 includes a protrusion 281a that protrudes from the third sub-pixel P3 toward the first sub-pixel P1 and covers a portion of the first opening area OA1. The third blocking pattern 283 includes a protrusion 283a that protrudes from the first sub-pixel P1 toward the third sub-pixel P3 and blocks a portion of the third opening area OA3.

제1 발광층(321, 322, 323)을 마스크 없이 전면 증착하게 되면, 제3 서브 화소(P3)에 증착되는 제1 발광층(323)은 도 5 및 도 10에 도시된 바와 같이 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a)과 제1 절연막(220) 사이의 공간으로 유입되어, 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a) 아래에 형성될 수 있다. 제1 서브 화소(P1)에 증착되는 제1 발광층(321)은 도 5 및 도 10에 도시된 바와 같이 제1 가림 패턴(281)의 돌출부(281a)과 제1 전원 라인(241) 사이의 공간으로 유입되어, 제1 가림 패턴(281)의 돌출부(281a) 아래에 형성될 수 있다.When the first light-emitting layer 321, 322, and 323 is deposited on the entire surface without a mask, the first light-emitting layer 323 deposited on the third sub-pixel P3 has a third blocking pattern (as shown in FIGS. 5 and 10). 283) may flow into the space between the protrusion 283a and the first insulating film 220, and may be formed under the protrusion 283a of the third shielding pattern 283. The first light emitting layer 321 deposited on the first sub-pixel P1 is formed in the space between the protrusion 281a of the first blocking pattern 281 and the first power line 241, as shown in FIGS. 5 and 10. may flow into and be formed under the protrusion 281a of the first blocking pattern 281.

제2 전극(331, 332, 333)은 제1 발광층(321, 322, 323) 상에 형성된다. 제2 전극(331, 332, 333)은 제1 서브 화소(P1), 제2 서브 화소(P2) 및 제3 서브 화소(P3) 사이에서 단절된다. 제1 서브 화소(P1), 제2 서브 화소(P2) 및 제3 서브 화소(P3) 사이에는 가림 패턴(281, 282, 283)들이 구비되어 있다. 제2 전극(331, 332, 333)은 가림 패턴(281, 282, 283)들에 의하여 서로 단절될 수 있다.The second electrodes 331, 332, and 333 are formed on the first light emitting layers 321, 322, and 323. The second electrodes 331, 332, and 333 are disconnected between the first sub-pixel (P1), the second sub-pixel (P2), and the third sub-pixel (P3). Masking patterns 281, 282, and 283 are provided between the first sub-pixel (P1), the second sub-pixel (P2), and the third sub-pixel (P3). The second electrodes 331, 332, and 333 may be separated from each other by the shielding patterns 281, 282, and 283.

보다 구체적으로, 제2 전극(331, 332, 333)은 제2 가림 패턴(282)에 의하여 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에서 단절될 수 있다. 제2 전극(331, 332, 333)을 전면 증착하게 되면, 제1 서브 화소(P1)에 증착되는 제2 전극(331)은 도 4 및 도 10에 도시된 바와 같이 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a)와 제2 전원 라인(242) 간의 단차로 인하여 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a) 상에서 끊어질 수 있다.More specifically, the second electrodes 331, 332, and 333 may be separated between the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2) by the second blocking pattern 282. When the second electrodes 331, 332, and 333 are deposited on the entire surface, the second electrode 331 deposited on the first sub-pixel P1 has a second covering pattern 282 as shown in FIGS. 4 and 10. The second shielding pattern 282 may be broken on the protrusion 282a due to a step difference between the protrusion 282a and the second power line 242.

제2 서브 화소(P2)에 증착되는 제2 전극(332)은 도 4 및 도 10에 도시된 바와 같이 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a)와 제1 발광층(322) 사이의 공간으로 유입되어, 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a) 아래에 형성될 수 있다. 이때, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)은 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a) 아래에서 제1 발광층(322) 보다 넓은 면적으로 증착될 수 있다. 이에 따라, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)은 제2 전원 라인(242)에 접속될 수 있다.The second electrode 332 deposited on the second sub-pixel P2 is located in the space between the protrusion 282a of the second blocking pattern 282 and the first light emitting layer 322, as shown in FIGS. 4 and 10. It may flow in and be formed under the protrusion 282a of the second blocking pattern 282. At this time, the second electrode 332 of the second sub-pixel P2 may be deposited under the protrusion 282a of the second shielding pattern 282 to have a larger area than the first light emitting layer 322. Accordingly, the second electrode 332 of the second sub-pixel P2 may be connected to the second power line 242.

제2 서브 화소(P2)는 제2 전극(332)이 제2 전원 라인(242)에 접속되므로, 제2 전원 라인(242) 및 보조 전원 라인(360)을 통하여 제2 전극(332)과 제3 전극(350)이 전기적으로 연결될 수 있다. 이로 인하여, 제3 전극(350)에 저전위 전압이 인가되면, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)은 제3 전극(350)과 동일한 저전위 전압이 인가될 수 있다. 이때, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)은 캐소드 전극일 수 있다.Since the second electrode 332 of the second sub-pixel P2 is connected to the second power line 242, the second electrode 332 and the second sub-pixel P2 are connected to each other through the second power line 242 and the auxiliary power line 360. The three electrodes 350 may be electrically connected. For this reason, when a low potential voltage is applied to the third electrode 350, the same low potential voltage as that of the third electrode 350 may be applied to the second electrode 332 of the second sub-pixel P2. At this time, the second electrode 332 of the second sub-pixel P2 may be a cathode electrode.

도 4 및 도 10에서는 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)과 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)이 서로 접하지 않고 단절되는 것으로 도시하고 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 제1 서브 화소(P1) 및 제2 서브 화소(P2) 각각의 제2 전극(331, 332)은 모두 캐소드 전극으로서, 공통 전압이 인가될 수 있다. 제1 서브 화소(P1) 및 제2 서브 화소(P2) 각각의 제2 전극(331, 332)은 서로 접하도록 형성되어 전기적으로 서로 연결될 수 있다.4 and 10 show that the second electrode 331 of the first sub-pixel (P1) and the second electrode 332 of the second sub-pixel (P2) are disconnected rather than in contact with each other, but this is not necessarily limited to this. It doesn't work. The second electrodes 331 and 332 of each of the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2) serve as cathode electrodes, and a common voltage may be applied thereto. The second electrodes 331 and 332 of the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2) are formed to be in contact with each other and may be electrically connected to each other.

또한, 제2 전극(331, 332, 333)은 제3 가림 패턴(283)에 의하여 제2 서브 화소(P2)와 제3 서브 화소(P3) 사이에서 단절될 수 있다. 제2 전극(331, 332, 333)을 전면 증착하게 되면, 제2 서브 화소(P2)에 증착되는 제2 전극(332)은 도 4 및 도 10에 도시된 바와 같이 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a)와 제1 발광층(323) 간의 단차로 인하여 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a) 상에서 끊어질 수 있다.Additionally, the second electrodes 331, 332, and 333 may be separated between the second sub-pixel P2 and the third sub-pixel P3 by the third blocking pattern 283. When the second electrodes 331, 332, and 333 are deposited on the entire surface, the second electrode 332 deposited on the second sub-pixel P2 has a third covering pattern 283 as shown in FIGS. 4 and 10. The third shielding pattern 283 may be broken on the protrusion 283a due to a step between the protrusion 283a and the first light emitting layer 323.

제3 서브 화소(P3)에 증착되는 제2 전극(333)은 도 4 및 도 10에 도시된 바와 같이 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a)와 제1 발광층(323) 사이의 공간으로 유입되어, 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a) 아래에 형성될 수 있다. 이때, 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)은 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a) 아래에서 제1 발광층(323) 보다 넓은 면적으로 증착될 수 있다. 이에 따라, 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)은 제2 연결 전극(250)에 접속될 수 있다.The second electrode 333 deposited on the third sub-pixel P3 is located in the space between the protrusion 283a of the third blocking pattern 283 and the first light-emitting layer 323, as shown in FIGS. 4 and 10. It may flow in and be formed under the protrusion 283a of the third blocking pattern 283. At this time, the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 may be deposited under the protrusion 283a of the third shielding pattern 283 over an area larger than that of the first light emitting layer 323. Accordingly, the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 may be connected to the second connection electrode 250.

제3 서브 화소(P3)는 제2 전극(333)이 제2 연결 전극(250)에 접속되므로, 제2 연결 전극(250)을 통하여 제2 전극(333)과 제1 전극(313)이 전기적으로 연결될 수 있다. 이로 인하여, 제1 전극(313)에 제3 고전위 전압이 인가되면, 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)은 제1 전극(313)과 동일한 제3 고전위 전압이 인가될 수 있다. 이때, 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)은 애노드 전극일 수 있다.Since the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 is connected to the second connection electrode 250, the second electrode 333 and the first electrode 313 are electrically connected to each other through the second connection electrode 250. It can be connected to . Due to this, when the third high potential voltage is applied to the first electrode 313, the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 will be applied with the same third high potential voltage as the first electrode 313. You can. At this time, the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 may be an anode electrode.

본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치는 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)과 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)이 서로 접하지 않고 단절되는 것이 바람직하다. 앞서 설명한 바와 같이, 제2 서브 화소(P2)는 제2 전극(332)이 캐소드 전극이고, 제3 서브 화소(P3)는 제2 전극(333)이 애노드 전극이다. 이러한 경우, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)과 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)이 접하게 되면, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)과 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333) 간에 단락이 발생하여 표시장치가 정상적으로 구동하지 못하게 된다.In the display device according to the first embodiment of the present invention, it is preferable that the second electrode 332 of the second sub-pixel (P2) and the second electrode 333 of the third sub-pixel (P3) are disconnected without contacting each other. do. As previously described, the second electrode 332 of the second sub-pixel P2 is a cathode electrode, and the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 is an anode electrode. In this case, when the second electrode 332 of the second sub-pixel (P2) and the second electrode 333 of the third sub-pixel (P3) come into contact, the second electrode 332 of the second sub-pixel (P2) A short circuit occurs between and the second electrode 333 of the third sub-pixel P3, preventing the display device from operating normally.

또한, 제2 전극(331, 332, 333)은 제3 가림 패턴(283) 및 제1 가림 패턴(281)에 의하여 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에서 단절될 수 있다. Additionally, the second electrodes 331, 332, and 333 may be disconnected between the first sub-pixel (P1) and the third sub-pixel (P3) by the third blocking pattern 283 and the first blocking pattern 281. there is.

제2 전극(331, 332, 333)을 전면 증착하게 되면, 제3 서브 화소(P3)에 증착되는 제2 전극(333)은 도 5 및 도 10에 도시된 바와 같이 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a)과 제1 발광층(323) 사이의 공간으로 유입되어, 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a) 아래에 형성될 수 있다.When the second electrodes 331, 332, and 333 are deposited on the entire surface, the second electrode 333 deposited on the third sub-pixel P3 has a third covering pattern 283 as shown in FIGS. 5 and 10. may flow into the space between the protrusion 283a and the first light emitting layer 323 and be formed under the protrusion 283a of the third blocking pattern 283.

이때, 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)은 제3 가림 패턴(283)의 돌출부(283a) 아래에서 제1 발광층(323) 보다 넓은 면적으로 증착될 수 있다. 도 5에서는 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 제2 연결 전극(250)이 형성되지 않는 것으로 도시하고 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 도 9에 도시된 바와 같이 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에 제2 연결 전극(250)이 형성될 수 있다. 이러한 경우, 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)은 제1 서브 화소(P1)와 제3 서브 화소(P3) 사이에서 제2 연결 전극(250)에 접속될 수 있다.At this time, the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 may be deposited under the protrusion 283a of the third shielding pattern 283 over an area larger than that of the first light emitting layer 323. Although FIG. 5 shows that the second connection electrode 250 is not formed between the first sub-pixel (P1) and the third sub-pixel (P3), the present invention is not necessarily limited to this. As shown in FIG. 9, a second connection electrode 250 may be formed between the first sub-pixel (P1) and the third sub-pixel (P3). In this case, the second electrode 333 of the third sub-pixel (P3) may be connected to the second connection electrode 250 between the first sub-pixel (P1) and the third sub-pixel (P3).

제1 서브 화소(P1)에 증착되는 제2 전극(331)은 도 5 및 도 10에 도시된 바와 같이 제1 가림 패턴(281)의 돌출부(281a)과 제1 발광층(321) 사이의 공간으로 유입되어, 제1 가림 패턴(281)의 돌출부(281a) 아래에 형성될 수 있다.The second electrode 331 deposited on the first sub-pixel P1 is located in the space between the protrusion 281a of the first blocking pattern 281 and the first light emitting layer 321, as shown in FIGS. 5 and 10. It may flow in and be formed under the protrusion 281a of the first blocking pattern 281.

이때, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)은 제1 가림 패턴(281)의 돌출부(281a) 아래에서 제1 발광층(321) 보다 넓은 면적으로 증착될 수 있다. 이에 따라, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)은 제1 전원 라인(241)에 접속될 수 있다.At this time, the second electrode 331 of the first sub-pixel P1 may be deposited under the protrusion 281a of the first shielding pattern 281 over an area larger than that of the first light emitting layer 321. Accordingly, the second electrode 331 of the first sub-pixel P1 may be connected to the first power line 241.

제1 서브 화소(P1)는 제2 전극(331)이 제1 전원 라인(241)에 접속되므로, 제1 전원 라인(241) 및 보조 전원 라인(360)을 통하여 제2 전극(331)과 제3 전극(350)이 전기적으로 연결될 수 있다. 이로 인하여, 제3 전극(350)에 저전위 전압이 인가되면, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)은 제3 전극(350)과 동일한 저전위 전압이 인가될 수 있다. 이때, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)은 캐소드 전극일 수 있다.Since the second electrode 331 of the first sub-pixel P1 is connected to the first power line 241, the second electrode 331 and the second electrode 331 are connected through the first power line 241 and the auxiliary power line 360. The three electrodes 350 may be electrically connected. For this reason, when a low potential voltage is applied to the third electrode 350, the same low potential voltage as that of the third electrode 350 may be applied to the second electrode 331 of the first sub-pixel (P1). At this time, the second electrode 331 of the first sub-pixel (P1) may be a cathode electrode.

제2 전극(331, 332, 333)은 광을 투과시킬 수 있는 ITO, IZO와 같은 투명한 금속물질(TCO, Transparent Conductive Material), 또는 마그네슘(Mg), 은(Ag), 또는 마그네슘(Mg)과 은(Ag)의 합금과 같은 반투과 금속물질(Semi-transmissive Conductive Material)로 형성될 수 있다.The second electrodes 331, 332, and 333 are made of a transparent metal material (TCO, Transparent Conductive Material) such as ITO or IZO, which can transmit light, or magnesium (Mg), silver (Ag), or magnesium (Mg). It may be formed of a semi-transmissive conductive material such as an alloy of silver (Ag).

제2 발광층(340)은 제2 전극(331, 332, 333) 상에 형성된다. 제2 발광층(340)은 정공 수송층(hole transporting layer), 발광층(light emitting layer), 및 전자 수송층(electron transporting layer)을 포함할 수 있다. 이 경우, 제2 발광층(340)은 정공과 전자가 각각 정공 수송층과 전자 수송층을 통해 발광층으로 이동하게 되며, 발광층에서 서로 결합하여 소정의 색으로 발광하게 된다.The second light emitting layer 340 is formed on the second electrodes 331, 332, and 333. The second light emitting layer 340 may include a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer. In this case, holes and electrons in the second light-emitting layer 340 move to the light-emitting layer through the hole transport layer and the electron transport layer, respectively, and combine with each other in the light-emitting layer to emit light in a predetermined color.

제2 발광층(340)은 적색 광을 발광하는 적색 발광층, 녹색 광을 발광하는 녹색 발광층, 청색 광을 발광하는 청색 발광층 및 황색 광을 발광하는 황색 발광층 중 어느 하나 일 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.The second light-emitting layer 340 may be any one of a red light-emitting layer that emits red light, a green light-emitting layer that emits green light, a blue light-emitting layer that emits blue light, and a yellow light-emitting layer that emits yellow light, but is not necessarily limited thereto. .

다만, 제2 발광층(340)은 제1 발광층(321, 322, 323)과 상이한 색의 광을 발광할 수 있다. 제1 발광층(321, 322, 323)이 제1 색의 광을 발광하는 발광층일 경우, 제2 발광층(340)은 제1 색과 다른 제2 색의 광을 발광하는 발광층일 수 있다. 예컨대, 제1 발광층(321, 322, 323)은 황색 광을 발광하는 황색 발광층이고, 제2 발광층(340)은 청색 광을 발광하는 청색 발광층일 수 있다.However, the second light-emitting layer 340 may emit light of a different color from the first light-emitting layer 321, 322, and 323. When the first light-emitting layers 321, 322, and 323 are light-emitting layers that emit light of a first color, the second light-emitting layer 340 may be a light-emitting layer that emits light of a second color different from the first color. For example, the first light-emitting layer 321, 322, and 323 may be a yellow light-emitting layer that emits yellow light, and the second light-emitting layer 340 may be a blue light-emitting layer that emits blue light.

제2 발광층(340)은 제1 발광층(321, 322, 323)과 달리 제1 서브 화소(P1), 제2 서브 화소(P2) 및 제3 서브 화소(P3) 사이에서 서로 연결된다. 제2 발광층(340)은 가림 패턴(281, 282, 283)과 제2 전극(331, 332, 333) 사이의 공간을 일부 채우면서 형성될 수 있다. 이때, 가림 패턴(281, 282, 283)과 제2 전극(331, 332, 333) 사이에 제2 발광층(340)이 채워지지 않은 공간에는 에어 갭(AG)이 형성될 수 있다.Unlike the first emission layers 321, 322, and 323, the second light-emitting layer 340 is connected between the first sub-pixel (P1), the second sub-pixel (P2), and the third sub-pixel (P3). The second light emitting layer 340 may be formed while partially filling the space between the blocking patterns 281, 282, and 283 and the second electrodes 331, 332, and 333. At this time, an air gap AG may be formed in the space not filled with the second light emitting layer 340 between the blocking patterns 281, 282, and 283 and the second electrodes 331, 332, and 333.

제3 전극(350)은 제2 발광층(340) 상에 형성된다. 제3 전극(350)은 투명한 금속물질, 반투과 금속물질 또는 반사율이 높은 금속물질로 이루어질 수 있다. 표시장치(100)가 하부 발광 방식으로 이루어지는 경우, 제3 전극(350)은 알루미늄과 티타늄의 적층 구조(Ti/Al/Ti), 알루미늄과 ITO의 적층 구조(ITO/Al/ITO), Ag 합금, 및 Ag 합금과 ITO의 적층 구조(ITO/Ag 합금/ITO)과 같은 반사율이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. Ag 합금은 은(Ag), 팔라듐(Pd), 및 구리(Cu) 등의 합금일 수 있다. 표시장치(100)가 상부 발광 방식으로 이루어지는 경우, 제3 전극(350)은 광을 투과시킬 수 있는 ITO, IZO와 같은 투명한 금속물질(TCO, Transparent Conductive Material), 또는 마그네슘(Mg), 은(Ag), 또는 마그네슘(Mg)과 은(Ag)의 합금과 같은 반투과 금속물질(Semi-transmissive Conductive Material)로 형성될 수 있다. 이러한 제3 전극(350)은 캐소드 전극일 수 있다.The third electrode 350 is formed on the second light emitting layer 340. The third electrode 350 may be made of a transparent metal material, a translucent metal material, or a highly reflective metal material. When the display device 100 is made of a bottom-emitting type, the third electrode 350 has a stacked structure of aluminum and titanium (Ti/Al/Ti), a stacked structure of aluminum and ITO (ITO/Al/ITO), and Ag alloy. , and a laminated structure of Ag alloy and ITO (ITO/Ag alloy/ITO). The Ag alloy may be an alloy of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu). When the display device 100 is made of a top-emitting type, the third electrode 350 is made of a transparent conductive material (TCO) such as ITO or IZO, which can transmit light, or magnesium (Mg) or silver ( It may be formed of a semi-transmissive conductive material such as Ag) or an alloy of magnesium (Mg) and silver (Ag). This third electrode 350 may be a cathode electrode.

본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치는 서브 화소(P1, P2, P3) 각각에서 제1 발광층(321, 322, 323) 및 제2 발광층(340) 중 하나만 발광하는 것을 특징으로 한다.The display device according to the first embodiment of the present invention is characterized in that only one of the first emission layers 321, 322, and 323 and the second emission layer 340 emits light in each of the sub-pixels P1, P2, and P3.

보다 구체적으로, 제1 서브 화소(P1)는 제1 발광층(321)이 발광한다. 제1 서브 화소(P1)는 제2 전극(331)이 제1 전원 라인(241)에 접속되므로, 제1 전원 라인(241) 및 보조 전원 라인(360)을 통하여 제2 전극(331)과 제3 전극(350)이 전기적으로 연결된다. 제3 전극(350)에 저전위 전압이 인가되면, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)은 제3 전극(350)과 동일한 저전위 전압이 인가된다. 이에 따라, 제1 서브 화소(P1)는 제2 전극(331)과 제3 전극(350) 사이에 구비된 제2 발광층(340)이 발광하지 않는다.More specifically, the first light emitting layer 321 of the first sub-pixel P1 emits light. Since the second electrode 331 of the first sub-pixel P1 is connected to the first power line 241, the second electrode 331 and the second electrode 331 are connected through the first power line 241 and the auxiliary power line 360. 3 Electrodes 350 are electrically connected. When a low potential voltage is applied to the third electrode 350, the same low potential voltage as that of the third electrode 350 is applied to the second electrode 331 of the first sub-pixel (P1). Accordingly, the second light emitting layer 340 provided between the second electrode 331 and the third electrode 350 of the first sub-pixel P1 does not emit light.

한편, 제1 서브 화소(P1)는 제1 전극(311)에 제1 고전위 전압이 인가되고, 제2 전극(331)에 저전위 전압이 인가되면, 제1 전극(311)과 제2 전극(331) 사이에 구비된 제1 발광층(321)이 소정의 전류에 따라 소정의 밝기로 발광한다.Meanwhile, when a first high-potential voltage is applied to the first electrode 311 and a low-potential voltage is applied to the second electrode 331, the first sub-pixel P1 is connected to the first electrode 311 and the second electrode 311. The first light emitting layer 321 provided between 331 emits light with a predetermined brightness according to a predetermined current.

제2 서브 화소(P2)는 제1 발광층(322)이 발광한다. 제2 서브 화소(P2)는 제2 전극(332)이 제2 전원 라인(242)에 접속되므로, 제2 전원 라인(242) 및 보조 전원 라인(360)을 통하여 제2 전극(332)과 제3 전극(350)이 전기적으로 연결된다. 제3 전극(350)에 저전위 전압이 인가되면, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)은 제3 전극(350)과 동일한 저전위 전압이 인가된다. 이에 따라, 제2 서브 화소(P2)는 제2 전극(332)과 제3 전극(350) 사이에 구비된 제2 발광층(340)이 발광하지 않는다.The first light emitting layer 322 emits light in the second sub-pixel P2. Since the second electrode 332 of the second sub-pixel P2 is connected to the second power line 242, the second electrode 332 and the second sub-pixel P2 are connected to each other through the second power line 242 and the auxiliary power line 360. 3 Electrodes 350 are electrically connected. When a low potential voltage is applied to the third electrode 350, the same low potential voltage as that of the third electrode 350 is applied to the second electrode 332 of the second sub-pixel P2. Accordingly, the second light emitting layer 340 provided between the second electrode 332 and the third electrode 350 of the second sub-pixel P2 does not emit light.

한편, 제2 서브 화소(P2)는 제1 전극(312)에 제2 고전위 전압이 인가되고, 제2 전극(332)에 저전위 전압이 인가되면, 제1 전극(312)과 제2 전극(332) 사이에 구비된 제1 발광층(322)이 소정의 전류에 따라 소정의 밝기로 발광한다.Meanwhile, when a second high-potential voltage is applied to the first electrode 312 and a low-potential voltage is applied to the second electrode 332, the second sub-pixel P2 is connected to the first electrode 312 and the second electrode. The first light emitting layer 322 provided between 332 emits light with a predetermined brightness according to a predetermined current.

즉, 제1 서브 화소(P1) 및 제2 서브 화소(P2)는 둘다 제1 발광층(321, 322)에서 동일한 색의 광이 발광된다. 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치는 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2)에서 서로 다른 색의 광이 방출되도록 하기 위하여 컬러필터(미도시)가 더 구비될 수 있다.That is, the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2) both emit light of the same color from the first emission layers 321 and 322. The display device according to the first embodiment of the present invention may be further equipped with a color filter (not shown) to emit light of different colors from the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2). .

컬러필터(미도시)는 제1 서브 화소(P1)에 대응되도록 배치된 제1 컬러필터와 제2 서브 화소(P2)에 대응되도록 배치된 제2 컬러필터를 포함할 수 있다. 제1 컬러필터와 제2 컬러필터는 서로 다른 색의 광을 투과시킬 수 있다.The color filter (not shown) may include a first color filter arranged to correspond to the first sub-pixel P1 and a second color filter arranged to correspond to the second sub-pixel P2. The first color filter and the second color filter may transmit light of different colors.

예컨대, 제1 발광층(321, 322, 323)은 황색 광을 발광하는 황색 발광층일 수 있다. 제1 컬러필터는 적색 광을 투과시키는 적색 컬러필터일 수 있으며, 제2 컬러필터는 녹색 광을 투과시키는 녹색 컬러필터일 수 있다. 이에 따라, 제1 서브 화소(P1)는 적색 광을 방출하고, 제2 서브 화소(P2)는 녹색 광을 방출할 수 있다.For example, the first light-emitting layer 321, 322, and 323 may be a yellow light-emitting layer that emits yellow light. The first color filter may be a red color filter that transmits red light, and the second color filter may be a green color filter that transmits green light. Accordingly, the first sub-pixel (P1) can emit red light, and the second sub-pixel (P2) can emit green light.

이러한 컬러필터는 표시장치(100)의 발광 방식에 따라 제1 전극(311, 312, 313) 아래에 또는 제3 전극(350) 위에 배치될 수 있다. 표시장치(100)가 하부 발광 방식인 경우, 컬러필터는 제1 전극(311, 312, 313) 하에 구비될 수 있다. 표시장치(100)가 상부 발광 방식인 경우, 컬러필터는 제3 전극(350) 상에 구비될 수 있다.This color filter may be placed below the first electrodes 311, 312, and 313 or above the third electrode 350, depending on the light emission method of the display device 100. When the display device 100 is a bottom-emitting type, a color filter may be provided under the first electrodes 311, 312, and 313. When the display device 100 is a top-emitting type, a color filter may be provided on the third electrode 350.

제3 서브 화소(P3)는 제2 발광층(340)이 발광한다. 제3 서브 화소(P3)는 제2 전극(333)이 제2 연결 전극(250)에 접속되므로, 제2 연결 전극(250)을 통하여 제1 전극(313)과 제2 전극(333)이 전기적으로 연결된다. 제1 전극(313)에 제3 고전위 전압이 인가되면, 제3 서브 화소(P3)의 제2 전극(333)은 제1 전극(313)과 동일한 제3 고전위 전압이 인가된다. 이에 따라, 제3 서브 화소(P3)는 제1 전극(313)과 제2 전극(333) 사이에 구비된 제1 발광층(323)이 발광하지 않는다.The second light emitting layer 340 emits light in the third sub-pixel P3. Since the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 is connected to the second connection electrode 250, the first electrode 313 and the second electrode 333 are electrically connected to each other through the second connection electrode 250. It is connected to When the third high potential voltage is applied to the first electrode 313, the same third high potential voltage as that of the first electrode 313 is applied to the second electrode 333 of the third sub-pixel P3. Accordingly, the first light emitting layer 323 provided between the first electrode 313 and the second electrode 333 of the third sub-pixel P3 does not emit light.

한편, 제3 서브 화소(P3)는 제2 전극(333)에 제3 고전위 전압이 인가되고, 제3 전극(350)에 저전위 전압이 인가되면, 제2 전극(333)과 제3 전극(350) 사이에 구비된 제2 발광층(340)이 소정의 전류에 따라 소정의 밝기로 발광한다.Meanwhile, when the third high-potential voltage is applied to the second electrode 333 and the low-potential voltage is applied to the third electrode 350, the third sub-pixel P3 is connected to the second electrode 333 and the third electrode. The second light emitting layer 340 provided between 350 emits light with a predetermined brightness according to a predetermined current.

예컨대, 제3 서브 화소(P3)는 청색 광을 발광하는 청색 발광층일 수 있다. 이러한 경우, 표시장치(100)는 제3 서브 화소(P3)에 대응되는 위치에 별도의 컬러필터를 구비하지 않고, 청색 서브 화소를 구현할 수 있다.For example, the third sub-pixel P3 may be a blue light-emitting layer that emits blue light. In this case, the display device 100 can implement a blue sub-pixel without providing a separate color filter at a position corresponding to the third sub-pixel P3.

상술한 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 제1 서브 화소(P1) 및 제2 서브 화소(P2)에서 제1 발광층(321, 322, 323)만 발광시키고, 제3 서브 화소(P3)에서 제2 발광층(340)만 발광시킬 수 있다. 이로 인하여, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 모든 서브 화소에서 제1 발광층(321, 322, 323) 및 제2 발광층(340)을 모두 발광시키는 것과 비교하여 전력 소비를 현저하게 줄일 수 있다.As described above, the display device 100 according to the first embodiment of the present invention causes only the first light emitting layers 321, 322, and 323 to emit light in the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2), Only the second light emitting layer 340 may emit light in the third sub-pixel P3. For this reason, the display device 100 according to the first embodiment of the present invention significantly reduces power consumption compared to a case where all the first light-emitting layers 321, 322, 323 and the second light-emitting layer 340 emit light in all sub-pixels. It can be reduced significantly.

또한, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 서브 화소(P1, P2, P3)들에 제1 발광층(321, 322, 323) 및 제2 발광층(340)을 마스크 없이 전면에 형성한다. 이에 따라, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 마스크를 이용하여 서브 화소(P1, P2, P3) 별로 상이한 발광층들을 패턴 형성함에 따른 문제점을 해결할 수 있다.In addition, the display device 100 according to the first embodiment of the present invention has the first emission layer 321, 322, 323 and the second emission layer 340 in the sub-pixels P1, P2, and P3 on the front surface without a mask. form Accordingly, the display device 100 according to the first embodiment of the present invention can solve the problem of forming different light-emitting layers in patterns for each sub-pixel (P1, P2, and P3) using a mask.

또한, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 가림 패턴(281, 282, 283)을 이용하여 제2 전극(331, 332, 333)이 서브 화소(P1, P2, P3)들 사이에서 단절될 수 있도록 한다. 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 가림 패턴(281, 282, 283)을 형성하고, 가림 패턴(281, 282, 283)이 형성된 제1 기판(111) 상에 제1 발광층(321, 322, 323) 및 제2 전극(331, 332, 333)이 마스크 없이 전면에 형성된다. 제1 발광층(321, 322, 323) 및 제2 전극(331, 332, 333)은 가림 패턴(281, 282, 283)에 의하여 서브 화소(P1, P2, P3)들 사이에서 단절된다. 특히, 제2 전극(331, 332, 333)은 가림 패턴(281, 282, 283)의 돌출부(281a, 282a, 283a) 아래에서 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 제2 연결 전극(250) 중 어느 하나에 접속된다.In addition, the display device 100 according to the first embodiment of the present invention uses the blocking patterns 281, 282, and 283 so that the second electrodes 331, 332, and 333 are connected to the sub-pixels (P1, P2, and P3). Make sure there is a disconnect between them. The display device 100 according to the first embodiment of the present invention forms blocking patterns 281, 282, and 283, and includes a first light emitting layer on the first substrate 111 on which the blocking patterns 281, 282, and 283 are formed. (321, 322, 323) and second electrodes (331, 332, 333) are formed on the front surface without a mask. The first light-emitting layers 321, 322, and 323 and the second electrodes 331, 332, and 333 are separated from the sub-pixels P1, P2, and P3 by the blocking patterns 281, 282, and 283. In particular, the second electrodes 331, 332, and 333 are connected to the first power line 241, the second power line 242, and the first power line 241 below the protrusions 281a, 282a, and 283a of the blocking patterns 281, 282, and 283. It is connected to one of the two connection electrodes 250.

도 10을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 제2 전극(331, 332, 333)이 서브 화소(P1, P2, P3)들 사이에서 단절되고, 제2 발광층(340)이 서브 화소(P1, P2, P3)들 사이에서 단절되지 않고 연결될 수 있도록 제2 절연막(260)의 두께(T1)가 설계될 수 있다. 이때, 제2 절연막(260)의 두께(T1)는 가림 패턴(281, 282, 283)의 돌출부(281a, 282a, 283a)와 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 제2 연결 전극(250) 중 어느 하나 간의 이격 거리에 상응할 수 있다. Referring to FIG. 10, the display device 100 according to the first embodiment of the present invention has the second electrodes 331, 332, and 333 disconnected between the sub-pixels P1, P2, and P3, and the second light emitting layer. The thickness T1 of the second insulating film 260 may be designed so that the sub-pixels 340 can be connected without being disconnected between the sub-pixels P1, P2, and P3. At this time, the thickness T1 of the second insulating film 260 is the protrusions 281a, 282a, and 283a of the blocking patterns 281, 282, and 283, the first power line 241, the second power line 242, and the second power line 242. It may correspond to the separation distance between any one of the two connection electrodes 250.

제2 절연막(260)의 두께(T1)는 제1 발광층(321, 322, 323)의 두께(T3)와 제2 전극(331, 332, 333)의 두께(T2)를 합한 것 보다 크게 설계될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 제2 전극(331, 332, 333)이 서브 화소(P1, P2, P3)들 사이에서 서로 연결되는 것을 방지할 수 있다.The thickness T1 of the second insulating film 260 is designed to be greater than the sum of the thickness T3 of the first light emitting layer 321, 322, and 323 and the thickness T2 of the second electrodes 331, 332, and 333. You can. Accordingly, the display device 100 according to the first embodiment of the present invention can prevent the second electrodes 331, 332, and 333 from being connected to each other between the sub-pixels (P1, P2, and P3).

제2 절연막(260)의 두께(T1)는 제1 발광층(321, 322, 323)의 두께(T3), 제2 전극(331, 332, 333)의 두께(T2), 및 제2 발광층(340)의 두께(T4)를 합한 것 보다 작게 설계될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 제2 발광층(340)이 서브 화소(P1, P2, P3)들 사이에서 단절되는 것을 방지할 수 있다. The thickness T1 of the second insulating film 260 is the thickness T3 of the first light-emitting layers 321, 322, and 323, the thickness T2 of the second electrodes 331, 332, and 333, and the second light-emitting layer 340. ) can be designed to be smaller than the sum of the thicknesses (T4). Accordingly, the display device 100 according to the first embodiment of the present invention can prevent the second light emitting layer 340 from being disconnected between the sub-pixels P1, P2, and P3.

한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 가림 패턴(281, 282, 283)의 돌출부(281a, 282a, 283a)의 길이(L1)가 적절하게 설계될 수 있다. 가림 패턴(281, 282, 283)의 돌출부(281a, 282a, 283a)의 길이(L1)가 너무 길어지면 무게로 인하여 아래로 쳐질 수 있다. 이러한 경우, 가림 패턴(281, 282, 283)의 돌출부(281a, 282a, 283a) 아래에 제1 발광층(321, 322, 323)과 제2 전극(331, 332, 333)이 형성되기에 충분한 공간이 확보되지 않을 수 있다.Meanwhile, in the display device 100 according to the first embodiment of the present invention, the length L1 of the protrusions 281a, 282a, and 283a of the blocking patterns 281, 282, and 283 can be appropriately designed. If the length L1 of the protrusions 281a, 282a, and 283a of the covering patterns 281, 282, and 283 becomes too long, they may sag downward due to their weight. In this case, there is enough space for the first light emitting layer (321, 322, 323) and the second electrode (331, 332, 333) to be formed under the protrusions (281a, 282a, 283a) of the blocking pattern (281, 282, 283). This may not be secured.

한편, 가림 패턴(281, 282, 283)의 돌출부(281a, 282a, 283a)의 길이(L1)가 너무 짧아지면, 제2 전극(331, 332, 333)과 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 제2 연결 전극(250) 중 어느 하나와의 접촉 면적이 줄어들 수 있다. 이러한 경우, 제2 전극(331, 332, 333)과 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 제2 연결 전극(250) 중 어느 하나 간에 저항이 커질 수 있다.On the other hand, if the length L1 of the protrusions 281a, 282a, and 283a of the blocking patterns 281, 282, and 283 is too short, the second electrodes 331, 332, and 333, the first power line 241, and the 2 The contact area with either the power line 242 or the second connection electrode 250 may be reduced. In this case, resistance may increase between the second electrodes 331, 332, and 333 and any one of the first power line 241, the second power line 242, and the second connection electrode 250.

제2 실시예Second embodiment

도 13은 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시 패널의 제1 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 14는 도 13의 Ⅴ-Ⅴ의 일 예를 보여주는 단면도이고, 도 15는 제1 서브 화소 및 제2 서브 화소의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이다.FIG. 13 is a plan view schematically showing the first substrate of the display panel according to the second embodiment of the present invention, FIG. 14 is a cross-sectional view showing an example of V-V of FIG. 13, and FIG. 15 is a first sub-pixel and This is a plan view schematically showing an example of a second sub-pixel.

도 13 내지 도 15를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시 패널(110)은 제1 기판(111), 차광층(210), 제1 절연막(220), 구동 박막 트랜지스터(230), 제1 연결 전극(241, 242, 360), 제2 연결 전극(250), 제2 절연막(260), 평탄화막(270), 가림 패턴(281, 282, 283), 제1 전극(311, 312, 313), 뱅크(315), 제1 발광층(321, 322, 323), 제2 전극(331, 332, 333), 제2 발광층(340), 및 제3 전극(350)을 포함한다.13 to 15, the display panel 110 according to the second embodiment of the present invention includes a first substrate 111, a light blocking layer 210, a first insulating film 220, and a driving thin film transistor 230. , first connection electrodes 241, 242, 360, second connection electrode 250, second insulating film 260, planarization film 270, shielding patterns 281, 282, 283, first electrode 311, 312 and 313, a bank 315, a first light emitting layer (321, 322, 323), a second electrode (331, 332, 333), a second light emitting layer (340), and a third electrode (350).

본 발명의 제2 실시예에 따른 표시 패널(110)은 제1 연결 전극의 제1 전원 라인(241) 및 제2 전원 라인(242)이 일체로 형성된다는 점에서 도 3 내지 도 12에 도시된 본 발명의 제1 실시에에 따른 표시 패널(110)과 차이가 있다. 이에 따라, 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시 패널(110)은 제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 가림 패턴(281, 282, 283)을 제외한 구성들이 도 3 내지 도 12에 도시된 본 발명의 제1 실시에에 따른 표시 패널(110)의 구성들과 실질적으로 동일하다. 이하에서는 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시 패널(110)의 제1 기판(111), 차광층(210), 제1 절연막(220), 구동 박막 트랜지스터(230), 제2 절연막(260), 평탄화막(270), 제1 전극(311, 312, 313), 뱅크(315), 제1 발광층(321, 322, 323), 제2 전극(331, 332, 333), 제2 발광층(340), 및 제3 전극(350)에 대한 구체적인 설명은 생략하도록 한다.The display panel 110 according to the second embodiment of the present invention is as shown in FIGS. 3 to 12 in that the first power line 241 and the second power line 242 of the first connection electrode are formed integrally. There is a difference from the display panel 110 according to the first embodiment of the present invention. Accordingly, the display panel 110 according to the second embodiment of the present invention has the configurations shown in FIGS. 3 to 12 excluding the first connection electrodes 241, 242, and 360 and the blocking patterns 281, 282, and 283. The configurations of the display panel 110 according to the first embodiment of the present invention are substantially the same. Hereinafter, the first substrate 111, the light blocking layer 210, the first insulating film 220, the driving thin film transistor 230, and the second insulating film 260 of the display panel 110 according to the second embodiment of the present invention. , planarization film 270, first electrodes (311, 312, 313), bank 315, first light emitting layer (321, 322, 323), second electrode (331, 332, 333), second light emitting layer (340) ), and the third electrode 350 will be omitted.

제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 제2 연결 전극(250)은 제1 기판(111) 상에 형성된다.The first connection electrodes 241 , 242 , and 360 and the second connection electrode 250 are formed on the first substrate 111 .

제1 연결 전극(241, 242, 360)은 제1 서브 화소(P1) 및 제2 서브 화소(P2) 각각의 제2 전극(331, 332)과 제3 전극(350)을 전기적으로 연결한다. 보다 구체적으로, 제1 연결 전극(241, 242, 360)은 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 보조 전원 라인(360)을 포함할 수 있다.The first connection electrodes 241, 242, and 360 electrically connect the second electrodes 331, 332 and the third electrode 350 of the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2), respectively. More specifically, the first connection electrodes 241, 242, and 360 may include a first power line 241, a second power line 242, and an auxiliary power line 360.

보조 전원 라인(360)은 비표시 영역(NDA)에서 제1 방향(X축 방향)으로 연장 형성된다. 보조 전원 라인(360)은 일부가 제1 절연막(220), 제2 절연막(260), 평탄화막(270)에 의하여 덮이지 않고 노출되고, 노출된 영역에서 제3 전극(350)과 접속할 수 있다.The auxiliary power line 360 extends from the non-display area NDA in the first direction (X-axis direction). A portion of the auxiliary power line 360 is exposed without being covered by the first insulating film 220, the second insulating film 260, and the planarization film 270, and can be connected to the third electrode 350 in the exposed area. .

제1 전원 라인(241)은 표시 영역(DA)에서 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에 배치되어, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)과 접속된다. 제2 전원 라인(242)은 표시 영역(DA)에서 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에 배치되어, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)과 접속한다. 이때, 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시장치(100)는 제1 전원 라인(241) 및 제2 전원 라인(242)가 일체로 형성되는 것을 특징으로 한다.The first power line 241 is disposed between the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2) in the display area (DA) and is connected to the second electrode 331 of the first sub-pixel (P1). do. The second power line 242 is disposed between the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2) in the display area (DA) and is connected to the second electrode 332 of the second sub-pixel (P2). do. At this time, the display device 100 according to the second embodiment of the present invention is characterized in that the first power line 241 and the second power line 242 are formed integrally.

제1 전원 라인(241) 및 제2 전원 라인(242)은 표시 영역(DA)에서 제2 방향(Y축 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 제1 전원 라인(241) 및 제2 전원 라인(242)은 일단이 보조 전원 라인(360)에 접속된다. 이때, 제1 전원 라인(241) 및 제2 전원 라인(242)은 콘택홀을 통해 보조 전원 라인(360)에 접속될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지는 않는다.The first power line 241 and the second power line 242 may extend from the display area DA in a second direction (Y-axis direction). One end of the first power line 241 and the second power line 242 is connected to the auxiliary power line 360. At this time, the first power line 241 and the second power line 242 may be connected to the auxiliary power line 360 through a contact hole, but are not necessarily limited to this.

이러한 제1 전원 라인(241) 및 제2 전원 라인(242)은 박막 트랜지스터(230)의 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극 중 어느 하나와 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있다.The first power line 241 and the second power line 242 may be formed of the same material in the same layer as any one of the active layer, gate electrode, source electrode, and drain electrode of the thin film transistor 230.

상술한 바에 따라, 제1 서브 화소(P1)는 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 보조 전원 라인(360)을 통하여 제2 전극(331)과 제3 전극(350)이 전기적으로 연결된다. 즉, 제3 전극(350)에 저전위 전압이 인가되면, 제1 서브 화소(P1)의 제2 전극(331)은 제3 전극(350)과 동일한 저전위 전압이 인가된다.As described above, the first sub-pixel (P1) is connected to the second electrode 331 and the third electrode 350 through the first power line 241, the second power line 242, and the auxiliary power line 360. This is electrically connected. That is, when a low potential voltage is applied to the third electrode 350, the same low potential voltage as that of the third electrode 350 is applied to the second electrode 331 of the first sub-pixel (P1).

제2 서브 화소(P2)는 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 보조 전원 라인(360)을 통하여 제2 전극(332)과 제3 전극(350)이 전기적으로 연결된다. 즉, 제3 전극(350)에 저전위 전압이 인가되면, 제2 서브 화소(P2)의 제2 전극(332)은 제3 전극(350)과 동일한 저전위 전압이 인가된다.In the second sub-pixel P2, the second electrode 332 and the third electrode 350 are electrically connected through the first power line 241, the second power line 242, and the auxiliary power line 360. . That is, when a low potential voltage is applied to the third electrode 350, the same low potential voltage as that of the third electrode 350 is applied to the second electrode 332 of the second sub-pixel P2.

가림 패턴(281, 282, 283)은 제2 절연막(260) 상에서 제2 절연막(260)의 개구 영역(OA1, OA2, OA3)들의 일부를 가리도록 형성된다. 가림 패턴(281, 282, 283)은 제1 가림 패턴(281), 제2 가림 패턴(282) 및 제3 가림 패턴(283)을 포함한다.The covering patterns 281, 282, and 283 are formed on the second insulating layer 260 to cover portions of the opening areas OA1, OA2, and OA3 of the second insulating layer 260. The blocking patterns 281, 282, and 283 include a first blocking pattern 281, a second blocking pattern 282, and a third blocking pattern 283.

제1 가림 패턴(281)은 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에 구비된다. 특히, 제1 가림 패턴(281)은 제1 전원 라인(241)의 일부를 노출시키는 제1 개구 영역(OA1)과 제2 전원 라인(242)의 일부를 노출시키는 제2 개구 영역(OA2) 사이에 형성된 제2 절연막(260) 상에 형성된다.The first blocking pattern 281 is provided between the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2). In particular, the first blocking pattern 281 is formed between the first opening area OA1 exposing a part of the first power line 241 and the second opening area OA2 exposing a part of the second power line 242. It is formed on the second insulating film 260 formed in .

제1 가림패턴(281)은 제1 개구 영역(OA1)의 일부를 가리도록 돌출된 돌출부(281a)를 포함한다. 이때, 제1 가림 패턴(281)의 돌출부(281a)는 제1 전원 라인(241)과 이격되어, 제1 전원 라인(241)과의 사이에 공간을 형성한다.The first blocking pattern 281 includes a protrusion 281a that protrudes to cover a portion of the first opening area OA1. At this time, the protrusion 281a of the first blocking pattern 281 is spaced apart from the first power line 241 to form a space between it and the first power line 241.

제1 가림 패턴(281)은 돌출부(281a)가 제2 서브 화소(P2)에서 제1 서브 화소(P1)를 향하는 방향으로 돌출될 수 있다. 이에 따라, 제1 개구 영역(OA1) 중 제2 서브 화소(P2)에 인접한 일부 영역이 제1 가림 패턴(281)에 의하여 가려지고, 제1 전원 라인(241) 역시 제1 가림 패턴(281)에 의하여 가려진다. 제1 개구 영역(OA1) 중 제1 서브 화소(P1)에 인접한 나머지 영역은 여전히 제1 전원 라인(241)을 노출시킨다.The protrusion 281a of the first blocking pattern 281 may protrude in a direction from the second sub-pixel P2 toward the first sub-pixel P1. Accordingly, a portion of the first opening area OA1 adjacent to the second sub-pixel P2 is covered by the first blocking pattern 281, and the first power line 241 is also covered by the first blocking pattern 281. covered by The remaining area of the first opening area OA1 adjacent to the first sub-pixel P1 still exposes the first power line 241.

제1 가림 패턴(281)은 제1 개구 영역(OA1)과 마찬가지로 제1 전원 라인(241)을 따라 형성될 수 있다. 이때, 제1 가림 패턴(281)은 제1 전원 라인(241) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 소정의 길이를 가진 복수개의 패턴으로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 제1 가림 패턴(281)은 하나의 제1 전원 라인(241) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 연장된 하나의 라인 패턴으로 형성될 수도 있다.The first blocking pattern 281 may be formed along the first power line 241 like the first opening area OA1. At this time, the first blocking pattern 281 may be formed as a plurality of patterns having a predetermined length in the second direction (Y-axis direction) on the first power line 241, but is not necessarily limited thereto. The first blocking pattern 281 may be formed as a single line pattern extending in the second direction (Y-axis direction) on one first power line 241.

한편, 제1 가림 패턴(281)은 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.Meanwhile, the first blocking pattern 281 may be formed of the same material in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313, but is not necessarily limited thereto.

제2 가림 패턴(282)은 제1 서브 화소(P1)와 제2 서브 화소(P2) 사이에 구비된다. 특히, 제2 가림 패턴(282)은 제1 전원 라인(241)의 일부를 노출시키는 제1 개구 영역(OA1)과 제2 전원 라인(242)의 일부를 노출시키는 제2 개구 영역(OA2) 사이에 형성된 제2 절연막(260) 상에 형성된다. 이때, 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시장치(100)는 제1 가림 패턴(281) 및 제2 가림 패턴(282)이 일체로 형성될 수 있다.The second blocking pattern 282 is provided between the first sub-pixel (P1) and the second sub-pixel (P2). In particular, the second blocking pattern 282 is formed between the first opening area OA1 exposing a part of the first power line 241 and the second opening area OA2 exposing a part of the second power line 242. It is formed on the second insulating film 260 formed in . At this time, in the display device 100 according to the second embodiment of the present invention, the first blocking pattern 281 and the second blocking pattern 282 may be formed integrally.

제2 가림 패턴(282)은 제2 개구 영역(OA2)의 일부를 가리도록 돌출된 돌출부(282a)를 포함한다. 이때, 제2 가림 패턴(282)의 돌출부(282a)는 제2 전원 라인(242)과 이격되어, 제2 전원 라인(242)과의 사이에 공간을 형성한다.The second blocking pattern 282 includes a protrusion 282a that protrudes to cover a portion of the second opening area OA2. At this time, the protrusion 282a of the second blocking pattern 282 is spaced apart from the second power line 242 to form a space between the second power line 242 and the second power line 242 .

제2 가림 패턴(282)은 돌출부(282a)가 제1 서브 화소(P1)에서 제2 서브 화소(P2)를 향하는 방향으로 돌출될 수 있다. 이에 따라, 제2 개구 영역(OA2) 중 제1 서브 화소(P1)에 인접한 일부 영역이 제2 가림 패턴(282)에 의하여 가려지고, 제2 전원 라인(242) 역시 제2 가림 패턴(282)에 의하여 가려진다. 제2 개구 영역(OA2) 중 제2 서브 화소(P2)에 인접한 나머지 영역은 여전히 제2 전원 라인(242)을 노출시킨다.The protrusion 282a of the second blocking pattern 282 may protrude in a direction from the first sub-pixel P1 to the second sub-pixel P2. Accordingly, a portion of the second opening area OA2 adjacent to the first sub-pixel P1 is covered by the second blocking pattern 282, and the second power line 242 is also covered by the second blocking pattern 282. covered by The remaining area of the second opening area OA2 adjacent to the second sub-pixel P2 still exposes the second power line 242.

제2 가림 패턴(282)은 제2 개구 영역(OA2)과 마찬가지로 제2 전원 라인(242)을 따라 형성될 수 있다. 이때, 제2 가림 패턴(282)은 제2 전원 라인(242) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 소정의 길이를 가진 복수개의 패턴으로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 제2 가림 패턴(282)은 하나의 제2 전원 라인(242) 상에서 제2 방향(Y축 방향)으로 연장된 하나의 라인 패턴으로 형성될 수도 있다.The second blocking pattern 282 may be formed along the second power line 242 like the second opening area OA2. At this time, the second blocking pattern 282 may be formed as a plurality of patterns having a predetermined length in the second direction (Y-axis direction) on the second power line 242, but is not necessarily limited thereto. The second blocking pattern 282 may be formed as a single line pattern extending in the second direction (Y-axis direction) on one second power line 242.

한편, 제2 가림 패턴(282)은 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.Meanwhile, the second shielding pattern 282 may be formed of the same material in the same layer as the first electrodes 311, 312, and 313, but is not necessarily limited thereto.

도 16은 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 흐름도이고, 도 17a 내지 도 17j는 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 단면도들이다.FIG. 16 is a flowchart for explaining the manufacturing method of the display device according to the first embodiment of the present invention, and FIGS. 17A to 17J are cross-sectional views for explaining the manufacturing method for the display device according to the first embodiment of the present invention. .

먼저, 도 17a과 같이 제1 기판(111) 상에 박막 트랜지스터(230), 제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 제2 연결 전극(250)을 형성한다(S1601).First, the thin film transistor 230, the first connection electrodes 241, 242, and 360, and the second connection electrode 250 are formed on the first substrate 111 as shown in FIG. 17A (S1601).

보다 구체적으로, 제1 기판(111) 상에 차광층(210)을 형성한다. 차광층(210)은 서브 화소(P1, P2, P3) 별로 배치될 박막 트랜지스터(230)의 액티브층으로 입사되는 외부광을 차단하기 위한 것이므로, 박막 트랜지스터(230)의 액티브층과 대응되는 위치에 형성된다. 차광층(210)은 금속 물질로 형성될 수 있다. 차광층(210)이 금속 물질로 형성되는 경우, 제1 기판(111) 상에 보조 전원 라인(360)을 차광층(210)과 동일한 층에 동일한 물질로 형성할 수도 있다.More specifically, a light blocking layer 210 is formed on the first substrate 111. The light blocking layer 210 is intended to block external light incident on the active layer of the thin film transistor 230 to be arranged for each sub-pixel (P1, P2, and P3), and is located at a position corresponding to the active layer of the thin film transistor 230. is formed The light blocking layer 210 may be formed of a metal material. When the light blocking layer 210 is formed of a metal material, the auxiliary power line 360 may be formed on the first substrate 111 on the same layer as the light blocking layer 210 and made of the same material.

그리고 나서, 차광층(210) 상에 제1 절연막(220)을 형성한다. 제1 절연막(220)은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx), 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.Then, the first insulating film 220 is formed on the light blocking layer 210. The first insulating layer 220 may be formed of an inorganic layer, for example, a silicon oxide layer (SiOx), a silicon nitride layer (SiNx), or a multilayer thereof.

그리고 나서, 제1 절연막(220) 상에 박막 트랜지스터(230), 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 제2 연결 전극(250)을 형성한다.Then, a thin film transistor 230, a first power line 241, a second power line 242, and a second connection electrode 250 are formed on the first insulating film 220.

제1 절연막(220) 상에 액티브층을 형성한다. 액티브층은 실리콘계 반도체 물질 또는 산화물계 반도체 물질로 형성될 수 있다.An active layer is formed on the first insulating film 220. The active layer may be formed of a silicon-based semiconductor material or an oxide-based semiconductor material.

액티브층 상에는 게이트 절연막이 형성될 수 있다. 게이트 절연막은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.A gate insulating film may be formed on the active layer. The gate insulating film may be formed of an inorganic film, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a multilayer thereof.

게이트 절연막 상에는 게이트 전극이 형성될 수 있다. 게이트 전극은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.A gate electrode may be formed on the gate insulating film. The gate electrode is made of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu) or an alloy thereof. It may be a single layer or multiple layers, but is not limited thereto.

게이트 전극 상에는 층간 절연막이 형성될 수 있다. 층간 절연막은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.An interlayer insulating film may be formed on the gate electrode. The interlayer insulating film may be formed of an inorganic film, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a multilayer thereof.

층간 절연막 상에는 소스 전극과 드레인 전극이 형성될 수 있다. 소스 전극과 드레인 전극 각각은 게이트 절연막과 층간 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 액티브층에 접속될 수 있다. 소스 전극과 드레인 전극 각각은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.A source electrode and a drain electrode may be formed on the interlayer insulating film. Each of the source electrode and drain electrode may be connected to the active layer through a contact hole penetrating the gate insulating film and the interlayer insulating film. Each of the source electrode and drain electrode is made of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). It may be a single layer or a multi-layer made of an alloy thereof, but is not limited thereto.

한편, 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 제2 연결 전극(250)은 소스 전극과 드레인 전극과 동일한 층에 동일한 물질로 형성될 수 있다.Meanwhile, the first power line 241, the second power line 242, and the second connection electrode 250 may be formed of the same material on the same layer as the source electrode and the drain electrode.

다음, 도 17b와 같이 제2 절연막(260)을 형성한다(S1602).Next, the second insulating film 260 is formed as shown in FIG. 17B (S1602).

보다 구체적으로, 박막 트랜지스터(230), 제1 연결 전극(241, 242, 360) 및 제2 연결 전극(250) 상에 제2 절연막(260)을 형성한다.More specifically, a second insulating film 260 is formed on the thin film transistor 230, the first connection electrodes 241, 242, and 360, and the second connection electrode 250.

제2 절연막(260)은 박막 트랜지스터(230)의 소스 전극 또는 드레인 전극의 일부를 노출시키는 콘택홀이 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 콘택홀은 이후 공정을 통하여 형성될 수도 있다. The second insulating film 260 may have a contact hole that exposes a portion of the source electrode or drain electrode of the thin film transistor 230, but is not necessarily limited thereto. The contact hole may be formed through a later process.

제2 절연막(260)은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx), 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.The second insulating film 260 may be formed of an inorganic film, for example, a silicon oxide film (SiOx), a silicon nitride film (SiNx), or a multilayer thereof, but is not limited thereto.

다음, 도 17c와 같이 평탄화막(270)을 형성한다(S1603).Next, a planarization film 270 is formed as shown in FIG. 17C (S1603).

보다 구체적으로, 제2 절연막(260) 상에 평탄화막(270)을 형성한다. 평탄화막(270)은 제2 절연막(260) 상에 형성되어 박막 트랜지스터(230)로 인한 단차를 평탄화시킨다. 평탄화막(270)은 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 제2 연결 전극(250)이 형성된 영역에 배치된 제2 절연막(260)의 일부가 노출될 수 있도록 패턴 형성될 수 있다.More specifically, a planarization film 270 is formed on the second insulating film 260. The planarization film 270 is formed on the second insulating film 260 to flatten the level difference caused by the thin film transistor 230. The planarization film 270 is patterned to expose a portion of the second insulating film 260 disposed in the area where the first power line 241, the second power line 242, and the second connection electrode 250 are formed. It can be.

평탄화막(270)은 박막 트랜지스터(230)의 소스 전극 또는 드레인 전극의 일부를 노출시키는 콘택홀이 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 콘택홀은 이후 공정을 통하여 형성될 수도 있다. The planarization film 270 may have a contact hole that exposes a portion of the source electrode or drain electrode of the thin film transistor 230, but is not necessarily limited thereto. The contact hole may be formed through a later process.

평탄화막(270)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다.The planarization film 270 may be formed of an organic film such as acryl resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamide resin, or polyimide resin. there is.

다음, 도 17d와 같이 제1 전극(311, 312, 313) 및 가림 패턴(281, 282, 283)을 형성한다(S1604).Next, first electrodes 311, 312, and 313 and shielding patterns 281, 282, and 283 are formed as shown in FIG. 17D (S1604).

보다 구체적으로, 평탄화막(270) 상에서 서브 화소(P1, P2, P3) 별로 제1 전극(311, 312, 313)을 형성한다. 제1 전극(311, 312, 313)은 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터(230)의 소스 전극 또는 드레인 전극에 접속된다. More specifically, first electrodes 311, 312, and 313 are formed for each sub-pixel (P1, P2, and P3) on the planarization film 270. The first electrodes 311, 312, and 313 are connected to the source electrode or drain electrode of the thin film transistor 230 through a contact hole.

제1 전극(311, 312, 313)은 투명한 금속물질, 반투과 금속물질 또는 반사율이 높은 금속물질로 이루어질 수 있다. 표시장치(100)가 하부 발광 방식으로 이루어지는 경우, 제1 전극(311, 312, 313)은 광을 투과시킬 수 있는 ITO, IZO와 같은 투명한 금속물질(TCO, Transparent Conductive Material), 또는 마그네슘(Mg), 은(Ag), 또는 마그네슘(Mg)과 은(Ag)의 합금과 같은 반투과 금속물질(Semi-transmissive Conductive Material)로 형성될 수 있다. 표시장치(100)가 상부 발광 방식으로 이루어지는 경우, 제1 전극(311, 312, 313)은 알루미늄과 티타늄의 적층 구조(Ti/Al/Ti), 알루미늄과 ITO의 적층 구조(ITO/Al/ITO), Ag 합금, 및 Ag 합금과 ITO의 적층 구조(ITO/Ag 합금/ITO)과 같은 반사율이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. Ag 합금은 은(Ag), 팔라듐(Pd), 및 구리(Cu) 등의 합금일 수 있다. 이러한 제1 전극(311, 312, 313)은 애노드 전극일 수 있다.The first electrodes 311, 312, and 313 may be made of a transparent metal material, a translucent metal material, or a highly reflective metal material. When the display device 100 is made of a bottom-emitting type, the first electrodes 311, 312, and 313 are made of a transparent conductive material (TCO) such as ITO or IZO that can transmit light, or magnesium (Mg). ), silver (Ag), or an alloy of magnesium (Mg) and silver (Ag). When the display device 100 is made of a top-emitting type, the first electrodes 311, 312, and 313 have a stacked structure of aluminum and titanium (Ti/Al/Ti) or a stacked structure of aluminum and ITO (ITO/Al/ITO). ), Ag alloy, and a laminated structure of Ag alloy and ITO (ITO/Ag alloy/ITO). The Ag alloy may be an alloy of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu). These first electrodes 311, 312, and 313 may be anode electrodes.

평탄화막(270) 상에서 제1 전극(311, 312, 313)과 이격되도록 가림 패턴(281, 282, 283)을 형성한다. 가림 패턴(281, 282, 283)은 평탄화막(270)에 의하여 덮이지 않고 노출된 제2 절연막(260)의 일부 상에도 형성된다.Shielding patterns 281, 282, and 283 are formed on the planarization film 270 to be spaced apart from the first electrodes 311, 312, and 313. Masking patterns 281, 282, and 283 are also formed on a portion of the second insulating film 260 that is exposed and not covered by the planarization film 270.

가림 패턴(281, 282, 283)은 제1 전극(311, 312, 313)과 동일한 물질로 동시에 형성될 수 있다.The covering patterns 281, 282, and 283 may be formed simultaneously with the same material as the first electrodes 311, 312, and 313.

다음, 도 17e와 같이 뱅크(315)를 형성한다(S1605).Next, a bank 315 is formed as shown in FIG. 17e (S1605).

보다 구체적으로, 제1 전극(311, 312, 313) 각각의 끝단을 가리도록 뱅크(315)를 형성한다. 뱅크(315)는 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 제2 연결 전극(250)이 형성된 영역에 배치된 제2 절연막(260) 및 가림 패턴(281, 282, 283)의 일부가 노출될 수 있도록 패턴 형성될 수 있다.More specifically, a bank 315 is formed to cover the ends of each of the first electrodes 311, 312, and 313. The bank 315 includes a second insulating film 260 and shielding patterns 281, 282, and 283 disposed in an area where the first power line 241, the second power line 242, and the second connection electrode 250 are formed. A pattern may be formed so that a portion of is exposed.

다음, 도 17f와 같이 제2 절연막(260)에 개구 영역(OA1, OA2, OA3)을 형성한다(S1606).Next, opening areas OA1, OA2, and OA3 are formed in the second insulating film 260 as shown in FIG. 17F (S1606).

보다 구체적으로, 식각 공정을 실시하여 제2 절연막(260)에 개구 영역(OA1, OA2, OA3)을 형성한다. 이때, 식각 공정은 습식 식각(wet etch) 공정일 수 있으며, 제2 절연막(260)을 식각할 수 있으나, 가림 패턴(281, 282, 283)을 식각할 수 없는 식각액을 이용할 수 있다. 이에 따라, 가림 패턴(281, 282, 283)은 식각되지 않고, 노출되는 제2 절연막(260)만 식각되면서 언더컷 구조가 형성될 수 있다.More specifically, an etching process is performed to form opening areas OA1, OA2, and OA3 in the second insulating film 260. At this time, the etching process may be a wet etch process, and an etchant that can etch the second insulating film 260 but cannot etch the covering patterns 281, 282, and 283 may be used. Accordingly, the covering patterns 281, 282, and 283 are not etched, and only the exposed second insulating film 260 is etched, thereby forming an undercut structure.

제2 절연막(260)은 식각 공정을 통하여 제1 전원 라인(241)의 일부를 노출시키는 제1 개구 영역(OA1), 제2 전원 라인(242)의 일부를 노출시키는 제2 개구 영역(OA2), 및 제2 연결 전극(250)의 일부를 노출시키는 제3 개구 영역(OA3)이 형성될 수 있다.The second insulating film 260 includes a first opening area (OA1) exposing a portion of the first power line 241 and a second opening area (OA2) exposing a portion of the second power line 242 through an etching process. , and a third opening area OA3 exposing a portion of the second connection electrode 250 may be formed.

다음, 17g와 같이 제1 발광층(321, 322, 323)을 형성한다(S1607).Next, the first light emitting layers 321, 322, and 323 are formed as in 17g (S1607).

보다 구체적으로, 제1 전극(311, 312, 313) 및 가림 패턴(281, 282, 283) 상에 제1 발광층(321, 322, 323)을 형성한다. 제1 발광층(321, 322, 323)은 증착 공정 또는 용액 공정으로 형성될 수 있다. 제1 발광층(321, 322, 323)이 증착 공정으로 형성되는 경우, 증발 증착법(Evaporation)을 이용하여 형성될 수 있다.More specifically, first light emitting layers 321, 322, and 323 are formed on the first electrodes 311, 312, and 313 and the shielding patterns 281, 282, and 283. The first light emitting layers 321, 322, and 323 may be formed through a deposition process or a solution process. When the first light emitting layers 321, 322, and 323 are formed through a deposition process, they may be formed using an evaporation method.

제1 발광층(321, 322, 323)은 가림 패턴(281, 282, 283)들에 의하여 제1 서브 화소(P1), 제2 서브 화소(P2) 및 제3 서브 화소(P3) 사이에서 단절된다. 제1 발광층(321, 322, 323)은 가림 패턴(281, 282, 283) 상에서 끊어질 수 있다. 또한, 제1 발광층(321, 322, 323)은 가림 패턴(281, 282, 283) 아래에 형성된 공간에 유입되어 가림 패턴(281, 282, 283) 아래에 형성될 수도 있다.The first light emitting layer (321, 322, 323) is separated between the first sub-pixel (P1), the second sub-pixel (P2), and the third sub-pixel (P3) by the blocking patterns (281, 282, 283). . The first light emitting layers 321, 322, and 323 may be broken on the blocking patterns 281, 282, and 283. Additionally, the first light emitting layers 321, 322, and 323 may be formed under the blocking patterns 281, 282, and 283 by flowing into the space formed below the blocking patterns 281, 282, and 283.

제1 발광층(321, 322, 323)은 적색 광을 발광하는 적색 발광층, 녹색 광을 발광하는 녹색 발광층, 청색 광을 발광하는 청색 발광층 및 황색 광을 발광하는 황색 발광층 중 어느 하나 일 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.The first light-emitting layer (321, 322, 323) may be any one of a red light-emitting layer that emits red light, a green light-emitting layer that emits green light, a blue light-emitting layer that emits blue light, and a yellow light-emitting layer that emits yellow light, but must be It is not limited to this.

다음, 도 17h와 같이 제2 전극(331, 332, 333)을 형성한다(S1608).Next, second electrodes 331, 332, and 333 are formed as shown in FIG. 17h (S1608).

보다 구체적으로, 제1 발광층(321, 322, 323) 상에 제2 전극(331, 332, 333)을 형성한다. 제2 전극(331, 332, 333)은 가림 패턴(281, 282, 283)들에 의하여 제1 서브 화소(P1), 제2 서브 화소(P2) 및 제3 서브 화소(P3) 사이에서 단절된다. 제2 전극(331, 332, 333)은 가림 패턴(281, 282, 283) 상에서 끊어질 수 있다. 또한, 제2 전극(331, 332, 333)은 가림 패턴(281, 282, 283) 아래에 형성된 공간에 유입되어 가림 패턴(281, 282, 283) 아래에 형성될 수도 있다.More specifically, second electrodes 331, 332, and 333 are formed on the first light emitting layer (321, 322, and 323). The second electrodes 331, 332, and 333 are separated between the first sub-pixel (P1), the second sub-pixel (P2), and the third sub-pixel (P3) by the blocking patterns 281, 282, and 283. . The second electrodes 331, 332, and 333 may be broken on the covering patterns 281, 282, and 283. Additionally, the second electrodes 331, 332, and 333 may be formed under the blocking patterns 281, 282, and 283 by flowing into the space formed below the blocking patterns 281, 282, and 283.

제2 전극(331, 332, 333)은 스퍼터링법(sputtering)과 같은 물리적 기상 증착법(physics vapor deposition)으로 형성될 수 있다. 스퍼터링법과 같은 물리적 기상 증착법으로 형성된 막은 스텝 커버리지(step coverage) 특성이 우수하다. 따라서, 제2 전극(331, 332, 333)은 증발 증착법(Evaporation)을 이용하여 형성되는 제1 발광층(321, 322, 323) 보다 넓은 면적으로 형성될 수 있다. 이에 따라, 제2 전극(331, 332, 333)은 가림 패턴(281, 282, 283) 아래에서 제1 전원 라인(241), 제2 전원 라인(242) 및 제2 연결 전극(250) 중 어느 하나에 접속될 수 있다.The second electrodes 331, 332, and 333 may be formed by a physical vapor deposition method such as sputtering. A film formed by a physical vapor deposition method such as sputtering has excellent step coverage characteristics. Accordingly, the second electrodes 331, 332, and 333 may be formed with a larger area than the first light emitting layers 321, 322, and 323 formed using evaporation. Accordingly, the second electrodes 331, 332, and 333 are connected to any of the first power line 241, the second power line 242, and the second connection electrode 250 under the blocking patterns 281, 282, and 283. Can be connected to one.

제2 전극(331, 332, 333)은 광을 투과시킬 수 있는 ITO, IZO와 같은 투명한 금속물질(TCO, Transparent Conductive Material), 또는 마그네슘(Mg), 은(Ag), 또는 마그네슘(Mg)과 은(Ag)의 합금과 같은 반투과 금속물질(Semi-transmissive Conductive Material)로 형성될 수 있다.The second electrodes 331, 332, and 333 are made of a transparent metal material (TCO, Transparent Conductive Material) such as ITO or IZO, which can transmit light, or magnesium (Mg), silver (Ag), or magnesium (Mg). It may be formed of a semi-transmissive conductive material such as an alloy of silver (Ag).

다음, 도 17i와 같이 제2 발광층(340)을 형성한다(S1609).Next, the second light emitting layer 340 is formed as shown in Figure 17i (S1609).

보다 구체적으로, 제2 전극(331, 332, 333) 상에 제2 발광층(340)을 형성한다. 제2 발광층(340)은 증착 공정 또는 용액 공정으로 형성될 수 있다. 제2 발광층(340)이 증착 공정으로 형성되는 경우, 증발 증착법(Evaporation)을 이용하여 형성될 수 있다.More specifically, the second light emitting layer 340 is formed on the second electrodes 331, 332, and 333. The second light emitting layer 340 may be formed through a deposition process or a solution process. When the second light emitting layer 340 is formed through a deposition process, it may be formed using an evaporation method.

제2 발광층(340)은 제1 서브 화소(P1), 제2 서브 화소(P2) 및 제3 서브 화소(P3) 사이에서 서로 연결된다. 제2 발광층(340)은 가림 패턴(281, 282, 283)과 제2 전극(331, 332, 333) 사이의 공간을 일부 채우면서 형성될 수 있다. 이때, 가림 패턴(281, 282, 283)과 제2 전극(331, 332, 333) 사이에 제2 발광층(340)이 채워지지 않은 공간에는 에어 갭(AG)이 형성될 수 있다.The second light emitting layer 340 is connected between the first sub-pixel (P1), the second sub-pixel (P2), and the third sub-pixel (P3). The second light emitting layer 340 may be formed while partially filling the space between the blocking patterns 281, 282, and 283 and the second electrodes 331, 332, and 333. At this time, an air gap AG may be formed in the space not filled with the second light emitting layer 340 between the blocking patterns 281, 282, and 283 and the second electrodes 331, 332, and 333.

제2 발광층(340)은 적색 광을 발광하는 적색 발광층, 녹색 광을 발광하는 녹색 발광층, 청색 광을 발광하는 청색 발광층 및 황색 광을 발광하는 황색 발광층 중 어느 하나 일 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.The second light-emitting layer 340 may be any one of a red light-emitting layer that emits red light, a green light-emitting layer that emits green light, a blue light-emitting layer that emits blue light, and a yellow light-emitting layer that emits yellow light, but is not necessarily limited thereto. .

다만, 제2 발광층(340)은 제1 발광층(321, 322, 323)과 상이한 색의 광을 발광할 수 있다. 제1 발광층(321, 322, 323)이 제1 색의 광을 발광하는 발광층일 경우, 제2 발광층(340)은 제1 색과 다른 제2 색의 광을 발광하는 발광층일 수 있다. 예컨대, 제1 발광층(321, 322, 323)은 황색 광을 발광하는 황색 발광층이고, 제2 발광층(340)은 청색 광을 발광하는 청색 발광층일 수 있다.However, the second light-emitting layer 340 may emit light of a different color from the first light-emitting layer 321, 322, and 323. When the first light-emitting layers 321, 322, and 323 are light-emitting layers that emit light of a first color, the second light-emitting layer 340 may be a light-emitting layer that emits light of a second color different from the first color. For example, the first light-emitting layer 321, 322, and 323 may be a yellow light-emitting layer that emits yellow light, and the second light-emitting layer 340 may be a blue light-emitting layer that emits blue light.

다음, 도 17j와 같이 제3 전극(350)을 형성한다(S1610).Next, the third electrode 350 is formed as shown in Figure 17j (S1610).

보다 구체적으로 제2 발광층(340) 상에 제3 전극(350)을 형성한다. 제3 전극(350)은 스퍼터링법(sputtering)과 같은 물리적 기상 증착법(physics vapor deposition)으로 형성될 수 있다. 또는 제3 전극(350)은 증발 증착법(Evaporation)을 이용하여 형성될 수도 있다.More specifically, the third electrode 350 is formed on the second light emitting layer 340. The third electrode 350 may be formed by a physical vapor deposition method such as sputtering. Alternatively, the third electrode 350 may be formed using evaporation.

제3 전극(350)은 투명한 금속물질, 반투과 금속물질 또는 반사율이 높은 금속물질로 이루어질 수 있다. 표시장치(100)가 하부 발광 방식으로 이루어지는 경우, 제3 전극(350)은 알루미늄과 티타늄의 적층 구조(Ti/Al/Ti), 알루미늄과 ITO의 적층 구조(ITO/Al/ITO), Ag 합금, 및 Ag 합금과 ITO의 적층 구조(ITO/Ag 합금/ITO)과 같은 반사율이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. Ag 합금은 은(Ag), 팔라듐(Pd), 및 구리(Cu) 등의 합금일 수 있다. 표시장치(100)가 상부 발광 방식으로 이루어지는 경우, 제3 전극(350)은 광을 투과시킬 수 있는 ITO, IZO와 같은 투명한 금속물질(TCO, Transparent Conductive Material), 또는 마그네슘(Mg), 은(Ag), 또는 마그네슘(Mg)과 은(Ag)의 합금과 같은 반투과 금속물질(Semi-transmissive Conductive Material)로 형성될 수 있다. 이러한 제3 전극(350)은 캐소드 전극일 수 있다.The third electrode 350 may be made of a transparent metal material, a translucent metal material, or a highly reflective metal material. When the display device 100 is made of a bottom-emitting type, the third electrode 350 has a stacked structure of aluminum and titanium (Ti/Al/Ti), a stacked structure of aluminum and ITO (ITO/Al/ITO), and Ag alloy. , and a laminated structure of Ag alloy and ITO (ITO/Ag alloy/ITO). The Ag alloy may be an alloy of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu). When the display device 100 is made of a top-emitting type, the third electrode 350 is made of a transparent conductive material (TCO) such as ITO or IZO, which can transmit light, or magnesium (Mg) or silver ( It may be formed of a semi-transmissive conductive material such as Ag) or an alloy of magnesium (Mg) and silver (Ag). This third electrode 350 may be a cathode electrode.

도 18a내지 도 18c는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시장치에 관한 것으로서, 이는 헤드 장착형 표시(HMD) 장치에 관한 것이다. 도 18a는 개략적인 사시도이고, 도 18b는 VR(Virtual Reality) 구조의 개략적인 평면도이고, 도 18c는 AR(Augmented Reality) 구조의 개략적인 단면도이다. 18A to 18C relate to a display device according to another embodiment of the present invention, which relates to a head mounted display (HMD) device. FIG. 18A is a schematic perspective view, FIG. 18B is a schematic plan view of a VR (Virtual Reality) structure, and FIG. 18C is a schematic cross-sectional view of an AR (Augmented Reality) structure.

도 18a에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 헤드 장착형 표시 장치는 수납 케이스(10), 및 헤드 장착 밴드(30)를 포함하여 이루어진다. As can be seen in FIG. 18A, the head-mounted display device according to the present invention includes a storage case 10 and a head-mounted band 30.

수납 케이스(10)는 그 내부에 표시 장치, 렌즈 어레이, 및 접안 렌즈 등의 구성을 수납하고 있다. The storage case 10 stores components such as a display device, a lens array, and an eyepiece lens therein.

헤드 장착 밴드(30)는 수납 케이스(10)에 고정된다. 헤드 장착밴드(30)는 사용자의 머리 상면과 양 측면들을 둘러쌀 수 있도록 형성된 것을 예시하였으나, 이에 한정되지 않는다. 헤드 장착 밴드(30)는 사용자의 머리에 헤드 장착형 디스플레이를 고정하기 위한 것으로, 안경테 형태 또는 헬멧 형태의 구조물로 대체될 수 있다.The head mounting band 30 is fixed to the storage case 10. The head mounting band 30 is illustrated as being formed to surround the upper surface and both sides of the user's head, but is not limited thereto. The head mounting band 30 is used to secure the head mounted display to the user's head, and can be replaced with a structure in the form of a glasses frame or a helmet.

도 18b에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 VR(Virtual Reality) 구조의 헤드 장착형 표시 장치는 좌안용 표시 장치(12)와 우안용 표시 장치(11), 렌즈 어레이(13), 및 좌안 접안 렌즈(20a)와 우안 접안 렌즈(20b)를 포함하여 이루어진다. As can be seen in Figure 18b, the head-mounted display device with a VR (Virtual Reality) structure according to the present invention includes a display device 12 for the left eye, a display device 11 for the right eye, a lens array 13, and a left eyepiece lens ( 20a) and a right eyepiece 20b.

좌안용 표시 장치(12)와 우안용 표시 장치(11), 렌즈 어레이(13), 및 좌안 접안 렌즈(20a)와 우안 접안 렌즈(20b)는 전술한 수납 케이스(10)에 수납된다. The display device 12 for the left eye and the display device 11 for the right eye, the lens array 13, and the left eyepiece 20a and right eyepiece lens 20b are stored in the storage case 10 described above.

좌안용 표시 장치(12)와 우안용 표시 장치(11)는 동일한 영상을 표시할 수 있으며, 이 경우 사용자는 2D 영상을 시청할 수 있다. 또는, 좌안용 표시 장치(12)는 좌안 영상을 표시하고 우안용 표시장치(11)는 우안 영상을 표시할 수 있으며, 이 경우 사용자는 입체 영상을 시청할 수 있다. 좌안용 표시 장치(12)와 우안용 표시 장치(11) 각각은 전술한 도 1 내지 도 14에 따른 표시 장치로 이루어질 수 있다. 이때, 도 1 내지 도 14에서 화상이 표시되는 면에 해당하는 상측 부분, 예로서 컬러 필터층(미도시)이 상기 렌즈 어레이(13)와 마주하게 된다. The display device 12 for the left eye and the display device 11 for the right eye can display the same image, and in this case, the user can watch a 2D image. Alternatively, the display device 12 for the left eye may display the left eye image and the display device 11 for the right eye may display the right eye image. In this case, the user may view a three-dimensional image. Each of the display device 12 for the left eye and the display device 11 for the right eye may be made of the display device shown in FIGS. 1 to 14 described above. At this time, the upper portion corresponding to the surface on which the image is displayed in FIGS. 1 to 14, for example, a color filter layer (not shown), faces the lens array 13.

렌즈 어레이(13)는 좌안 접안 렌즈(20a)와 좌안용 표시 장치(12) 각각과 이격되면서 좌안 접안 렌즈(20a)와 좌안용 표시 장치(12) 사이에 구비될 수 있다. 즉, 렌즈 어레이(13)는 좌안 접안 렌즈(20a)의 전방 및 좌안용 표시 장치(12)의 후방에 위치할 수 있다. 또한, 렌즈 어레이(13)는 우안 접안 렌즈(20b)와 우안용 표시 장치(11) 각각과 이격되면서 우안 접안 렌즈(20b)와 우안용 표시 장치(11) 사이에 구비될 수 있다. 즉, 렌즈 어레이(13)는 우안 접안 렌즈(20b)의 전방 및 우안용 표시 장치(11)의 후방에 위치할 수 있다.The lens array 13 may be provided between the left eyepiece lens 20a and the left eye display device 12 while being spaced apart from each other. That is, the lens array 13 may be located in front of the left eye eyepiece 20a and behind the display device 12 for the left eye. Additionally, the lens array 13 may be provided between the right eyepiece lens 20b and the right eye display device 11 while being spaced apart from each of the right eyepiece lens 20b and the right eye display device 11. That is, the lens array 13 may be located in front of the right eye eyepiece 20b and behind the display device 11 for the right eye.

렌즈 어레이(13)는 마이크로 렌즈 어레이(Micro Lens Array)일 수 있다. 렌즈 어레이(13)는 핀홀 어레이(Pin Hole Array)로 대체될 수 있다. 렌즈 어레이(13)로 인해 좌안용 표시장치(12) 또는 우안용 표시장치(11)에 표시되는 영상은 사용자에게 확대되어 보일 수 있다. The lens array 13 may be a micro lens array. The lens array 13 can be replaced with a pin hole array. Due to the lens array 13, the image displayed on the left-eye display device 12 or the right-eye display device 11 may be enlarged and visible to the user.

좌안 접안 렌즈(20a)에는 사용자의 좌안(LE)이 위치하고, 우안 접안 렌즈(20b)에는 사용자의 우안(RE)이 위치할 수 있다. The user's left eye (LE) may be located in the left eyepiece lens 20a, and the user's right eye (RE) may be located in the right eyepiece lens 20b.

도 18c에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 AR(Augmented Reality) 구조의 헤드 장착형 표시 장치는 좌안용 표시 장치(12), 렌즈 어레이(13), 좌안 접안 렌즈(20a), 투과 반사부(14), 및 투과창(15)을 포함하여 이루어진다. 도 18c에는 편의상 좌안쪽 구성만을 도시하였으며, 우안쪽 구성도 좌안쪽 구성과 동일하다. As can be seen in FIG. 18C, the head-mounted display device with an AR (Augmented Reality) structure according to the present invention includes a left-eye display device 12, a lens array 13, a left-eye eyepiece 20a, and a transmission reflector 14. , and a transmission window 15. In Figure 18c, only the left inner configuration is shown for convenience, and the right inner configuration is also the same as the left inner configuration.

좌안용 표시 장치(12), 렌즈 어레이(13), 좌안 접안 렌즈(20a), 투과 반사부(14), 및 투과창(15)은 전술한 수납 케이스(10)에 수납된다. The left-eye display device 12, lens array 13, left-eye eyepiece 20a, transmission reflector 14, and transmission window 15 are stored in the storage case 10 described above.

좌안용 표시 장치(12)는 투과창(15)을 가리지 않으면서 투과 반사부(14)의 일측, 예로서 상측에 배치될 수 있다. 이에 따라서, 좌안용 표시 장치(12)가 투과창(15)을 통해 보이는 외부 배경을 가리지 않으면서 투과 반사부(14)에 영상을 제공할 수 있다. The display device 12 for the left eye may be disposed on one side, for example, on the upper side of the transmission reflection portion 14 without blocking the transmission window 15. Accordingly, the left-eye display device 12 can provide an image to the transparent reflector 14 without blocking the external background seen through the transparent window 15.

좌안용 표시 장치(12)는 전술한 도 1 내지 도 14에 따른 표시 장치로 이루어질 수 있다. 이때, 도 1 내지 도 14에서 화상이 표시되는 면에 해당하는 상측 부분, 예로서 컬러필터(미도시)가 투과 반사부(14)와 마주하게 된다. The display device 12 for the left eye may be made of the display device according to FIGS. 1 to 14 described above. At this time, the upper portion corresponding to the surface on which the image is displayed in FIGS. 1 to 14, for example, a color filter (not shown), faces the transmission and reflection portion 14.

렌즈 어레이(13)는 좌안 접안 렌즈(20a)와 투과반사부(14) 사이에 구비될 수 있다. The lens array 13 may be provided between the left eyepiece lens 20a and the transmission and reflection unit 14.

좌안 접안 렌즈(20a)에는 사용자의 좌안이 위치한다. The user's left eye is located in the left eye eyepiece 20a.

투과 반사부(14)는 렌즈 어레이(13)와 투과창(15) 사이에 배치된다. 투과 반사부(14)는 광의 일부를 투과시키고, 광의 다른 일부를 반사시키는 반사면(14a)을 포함할 수 있다. 반사면(14a)은 좌안용 표시 장치(12)에 표시된 영상이 렌즈 어레이(13)로 진행하도록 형성된다. 따라서, 사용자는 투과층(15)을 통해서 외부의 배경과 좌안용 표시 장치(12)에 의해 표시되는 영상을 모두 볼 수 있다. 즉, 사용자는 현실의 배경과 가상의 영상을 겹쳐 하나의 영상으로 볼수 있으므로, 증강현실(Augmented Reality, AR)이 구현될 수 있다.The transmission reflection portion 14 is disposed between the lens array 13 and the transmission window 15. The transmission reflection unit 14 may include a reflection surface 14a that transmits part of the light and reflects another part of the light. The reflective surface 14a is formed so that the image displayed on the left eye display device 12 progresses to the lens array 13. Accordingly, the user can view both the external background and the image displayed by the left eye display device 12 through the transmission layer 15. In other words, since the user can view the real background and the virtual image as one image by overlapping them, Augmented Reality (AR) can be implemented.

투과층(15)은 투과 반사부(14)의 전방에 배치되어 있다.The transmission layer 15 is disposed in front of the transmission reflection portion 14.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made without departing from the technical spirit of the present invention. . Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but are for illustrative purposes, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, the embodiments described above should be understood in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of protection of the present invention should be interpreted in accordance with the claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of rights of the present invention.

100: 표시장치 110: 표시패널
111: 제1 기판 112: 제2 기판
140: 소스 드라이브 IC 150: 연성필름
160: 회로보드 170: 타이밍 제어부
210: 차광층 220: 제1 절연막
230: 박막 트랜지스터 241: 제1 전원 라인
242: 제2 전원 라인 250: 제2 연결 전극
260: 제2 절연막 270: 평탄화막
281, 282, 283: 가림 패턴 311, 312, 313: 제1 전극
321, 322, 323: 제1 발광층 331, 332, 333: 제2 전극
340: 제2 발광층 350: 제3 전극
100: display device 110: display panel
111: first substrate 112: second substrate
140: Source drive IC 150: Flexible film
160: circuit board 170: timing control unit
210: light blocking layer 220: first insulating film
230: thin film transistor 241: first power line
242: second power line 250: second connection electrode
260: second insulating film 270: planarization film
281, 282, 283: Shielding pattern 311, 312, 313: First electrode
321, 322, 323: first light emitting layer 331, 332, 333: second electrode
340: second light emitting layer 350: third electrode

Claims (40)

제1 서브 화소 및 제2 서브 화소가 배치된 표시 영역 및 상기 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 구비한 기판;
상기 기판 상에서 상기 제1 서브 화소 및 상기 제2 서브 화소 각각에 구비된 제1 전극;
상기 제1 전극 상에 구비되어 제1 색의 광을 발광하는 제1 발광층;
상기 제1 발광층 상에 구비된 제2 전극;
상기 제2 전극 상에 구비되어 제2 색의 광을 발광하는 제2 발광층;
상기 제2 발광층 상에 구비된 제3 전극; 및
상기 제1 서브 화소의 제2 전극과 상기 제1 서브 화소의 제3 전극을 전기적으로 연결하는 제1 연결 전극을 포함하고,
상기 제2 전극은 상기 제1 서브 화소와 상기 제2 서브 화소 사이에서 단절되고,
상기 제1 서브 화소의 제2 전극은 상기 제3 전극과 전기적으로 연결되고, 상기 제2 서브 화소의 제2 전극은 상기 제1 전극과 전기적으로 연결되고,
상기 제1 연결 전극은,
상기 제1 서브 화소의 제2 전극과 접속하는 제1 전원 라인; 및
상기 비표시 영역에 배치되고, 상기 제1 전원 라인과 상기 제1 서브 화소의 제3 전극 각각과 접속하는 보조 전원 라인을 포함하며,
상기 제1 전원 라인은 상기 표시 영역에 배치되어 상기 제1 서브 화소의 제2 전극과 접속하고, 상기 표시 영역으로부터 상기 비표시 영역에 배치된 상기 보조전원 라인까지 연장되어 일단이 상기 보조 전원 라인에 접속하는 표시장치.
a substrate having a display area on which first and second sub-pixels are arranged and a non-display area surrounding the display area;
a first electrode provided in each of the first sub-pixel and the second sub-pixel on the substrate;
a first light emitting layer provided on the first electrode and emitting light of a first color;
a second electrode provided on the first light emitting layer;
a second light emitting layer provided on the second electrode and emitting light of a second color;
a third electrode provided on the second light emitting layer; and
It includes a first connection electrode electrically connecting a second electrode of the first sub-pixel and a third electrode of the first sub-pixel,
The second electrode is disconnected between the first sub-pixel and the second sub-pixel,
The second electrode of the first sub-pixel is electrically connected to the third electrode, and the second electrode of the second sub-pixel is electrically connected to the first electrode,
The first connection electrode is,
a first power line connected to a second electrode of the first sub-pixel; and
an auxiliary power line disposed in the non-display area and connected to each of the first power line and a third electrode of the first sub-pixel;
The first power line is disposed in the display area and connected to the second electrode of the first sub-pixel, extends from the display area to the auxiliary power line disposed in the non-display area, and has one end connected to the auxiliary power line. Connected display device.
제1항에 있어서,
상기 제1 서브 화소는 상기 제1 발광층이 발광하고, 상기 제2 서브 화소는 상기 제2 발광층이 발광하는 표시장치.
According to paragraph 1,
A display device in which the first sub-pixel emits light from the first light-emitting layer, and the second sub-pixel emits light from the second light-emitting layer.
제2항에 있어서,
상기 제2 발광층은 청색의 광을 발광하는 표시장치.
According to paragraph 2,
The second light emitting layer is a display device that emits blue light.
제1항에 있어서,
상기 제1 발광층은 상기 제1 서브 화소와 상기 제2 서브 화소 사이에서 단절되는 표시장치.
According to paragraph 1,
The first light emitting layer is disconnected between the first sub-pixel and the second sub-pixel.
제1항에 있어서,
상기 제2 발광층은 상기 제1 서브 화소와 상기 제2 서브 화소 사이에서 연결되는 표시장치.
According to paragraph 1,
The second light emitting layer is connected between the first sub-pixel and the second sub-pixel.
제1항에 있어서,
상기 제3 전극은 상기 제1 서브 화소와 상기 제2 서브 화소 사이에서 연결되는 표시장치.
According to paragraph 1,
The third electrode is connected between the first sub-pixel and the second sub-pixel.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 서브 화소 및 상기 제2 서브 화소 각각에 구비되고, 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 구동 트랜지스터를 더 포함하고,
상기 제1 전원 라인은 상기 액티브층, 상기 게이트 전극, 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극 중 하나와 동일한 층에 형성되는 표시장치.
According to paragraph 1,
It is provided in each of the first sub-pixel and the second sub-pixel, and further includes a driving transistor including an active layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode,
The first power line is formed on the same layer as one of the active layer, the gate electrode, the source electrode, and the drain electrode.
제10항에 있어서,
상기 구동 트랜지스터 및 상기 제1 전원 라인 상에 구비되고, 상기 제1 전원 라인의 일부를 노출시키는 제1 개구 영역이 형성된 제1 절연막을 더 포함하고,
상기 제1 서브 화소의 제2 전극은 상기 제1 개구 영역에서 상기 제1 전원 라인과 접속하는 표시장치.
According to clause 10,
It further includes a first insulating film provided on the driving transistor and the first power line, and having a first opening area exposing a portion of the first power line,
A display device wherein the second electrode of the first sub-pixel is connected to the first power line in the first opening area.
제11항에 있어서,
상기 제1 절연막 상에 구비되고, 상기 제1 개구 영역의 일부를 가리도록 돌출된 돌출부가 형성된 제1 가림 패턴을 더 포함하는 표시장치.
According to clause 11,
The display device further includes a first blocking pattern provided on the first insulating film and having a protruding protrusion formed to cover a portion of the first opening area.
제12항에 있어서,
상기 제1 가림 패턴은 상기 제1 전극과 동일한 물질로 동시에 형성되는 표시장치.
According to clause 12,
A display device in which the first blocking pattern is formed simultaneously with the same material as the first electrode.
제13항에 있어서,
상기 제1 가림 패턴은 상기 제1 전극과 이격되는 표시장치.
According to clause 13,
The first blocking pattern is spaced apart from the first electrode.
제12항에 있어서,
상기 제1 가림 패턴은 상기 표시 영역에서 상기 제1 전원 라인을 따라 형성되는 표시장치.
According to clause 12,
The first blocking pattern is formed along the first power line in the display area.
제12항에 있어서,
상기 제1 서브 화소의 제2 전극은 상기 제1 가림 패턴 아래에서 상기 제1 전원 라인에 접속하는 표시장치.
According to clause 12,
A display device wherein the second electrode of the first sub-pixel is connected to the first power line under the first blocking pattern.
제1항에 있어서,
상기 제2 서브 화소의 제1 전극과 상기 제2 서브 화소의 제2 전극을 전기적으로 연결하는 제2 연결 전극을 더 포함하는 표시장치.
According to paragraph 1,
The display device further includes a second connection electrode electrically connecting the first electrode of the second sub-pixel to the second electrode of the second sub-pixel.
제17항에 있어서,
상기 제2 연결 전극은 상기 제1 서브 화소와 상기 제2 서브 화소 사이에 구비되는 표시장치.
According to clause 17,
The second connection electrode is provided between the first sub-pixel and the second sub-pixel.
제17항에 있어서,
상기 제1 서브 화소 및 상기 제2 서브 화소 각각에 구비되고, 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 구동 트랜지스터를 더 포함하고,
상기 제2 연결 전극은 상기 액티브층, 상기 게이트 전극, 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극 중 하나와 동일한 층에 형성되는 표시장치.
According to clause 17,
It is provided in each of the first sub-pixel and the second sub-pixel, and further includes a driving transistor including an active layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode,
The second connection electrode is formed on the same layer as one of the active layer, the gate electrode, the source electrode, and the drain electrode.
제19항에 있어서,
상기 구동 트랜지스터 및 상기 제2 연결 전극 상에 구비되고, 상기 제2 연결 전극의 일부를 노출시키는 제2 개구 영역이 형성된 제1 절연막을 더 포함하고,
상기 제2 서브 화소의 제2 전극은 상기 제2 개구 영역에서 상기 제2 연결 전극과 접속하는 표시장치.
According to clause 19,
It further includes a first insulating film provided on the driving transistor and the second connection electrode and having a second opening area exposing a portion of the second connection electrode,
A display device wherein the second electrode of the second sub-pixel is connected to the second connection electrode in the second opening area.
제20항에 있어서,
상기 제2 서브 화소의 제1 전극은 상기 제1 절연막을 관통하는 컨택홀을 통해 상기 제2 연결 전극에 접속하는 표시장치.
According to clause 20,
A display device wherein the first electrode of the second sub-pixel is connected to the second connection electrode through a contact hole penetrating the first insulating film.
제20항에 있어서,
상기 제1 절연막 상에 구비되고, 상기 제2 개구 영역의 일부를 가리도록 돌출된 돌출부가 형성된 제2 가림 패턴을 더 포함하는 표시장치.
According to clause 20,
The display device further includes a second blocking pattern provided on the first insulating film and having a protruding protrusion to cover a portion of the second opening area.
제22항에 있어서,
상기 제2 가림 패턴은 상기 제1 전극과 동일한 물질로 동시에 형성되는 표시장치.
According to clause 22,
A display device in which the second blocking pattern is formed simultaneously with the same material as the first electrode.
제23항에 있어서,
상기 제2 가림 패턴은 상기 제1 전극과 이격되는 표시장치.
According to clause 23,
The second blocking pattern is spaced apart from the first electrode.
제22항에 있어서,
상기 제2 가림 패턴은 상기 제2 서브 화소를 둘러싸도록 형성되는 표시장치.
According to clause 22,
The second blocking pattern is formed to surround the second sub-pixel.
제22항에 있어서,
상기 제1 발광층은 상기 제2 가림 패턴에 의하여 상기 제1 서브 화소와 상기 제2 서브 화소 사이에서 단절되는 표시장치.
According to clause 22,
The display device wherein the first light emitting layer is disconnected between the first sub-pixel and the second sub-pixel by the second blocking pattern.
제22항에 있어서,
상기 제2 전극은 상기 제2 가림 패턴에 의하여 상기 제1 서브 화소와 상기 제2 서브 화소 사이에서 단절되는 표시장치.
According to clause 22,
The display device wherein the second electrode is disconnected between the first sub-pixel and the second sub-pixel by the second blocking pattern.
제27항에 있어서,
상기 제2 서브 화소의 제2 전극은 상기 제2 가림 패턴 아래에서 상기 제2 연결 전극에 접속하는 표시장치.
According to clause 27,
A display device wherein the second electrode of the second sub-pixel is connected to the second connection electrode under the second blocking pattern.
제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소가 배치된 표시 영역 및 상기 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 구비한 기판;
상기 기판 상에서 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소, 및 상기 제3 서브 화소 각각에 구비된 제1 전극;
상기 제1 전극 상에 구비되어 제1 색의 광을 발광하는 제1 발광층;
상기 제1 발광층 상에 구비된 제2 전극;
상기 제2 전극 상에 구비되어 제2 색의 광을 발광하는 제2 발광층;
상기 제2 발광층 상에 구비된 제3 전극;
상기 제1 서브 화소의 제2 전극, 상기 제3 서브 화소의 제2 전극 및 상기 제3 전극을 전기적으로 연결하는 제1 연결 전극; 및
상기 제2 서브 화소의 제1 전극과 상기 제2 서브 화소의 제2 전극을 전기적으로 연결하는 제2 연결 전극을 포함하고,
상기 제1 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소는 상기 제2 전극과 상기 제3 전극에 동일한 제1 전압이 인가되고,
상기 제2 서브 화소는 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 동일한 제2 전압이 인가되고,
상기 제1 연결 전극은,
상기 제1 서브 화소의 제2 전극과 접속하는 제1 전원 라인;
상기 제3 서브 화소의 제2 전극과 접속하는 제2 전원 라인; 및
상기 비표시 영역에 배치되고, 상기 제1 전원 라인, 상기 제2 전원 라인, 및 상기 제3 전극 각각과 접속하는 보조 전원 라인을 포함하고,
상기 제1 전원 라인은 상기 표시 영역에 배치되어 상기 제1 서브 화소의 제2 전극과 접속하고, 상기 표시 영역으로부터 상기 보조 전원 라인까지 연장되어 일단이 상기 보조 전원 라인과 접속하고,
상기 제2 전원 라인은 상기 표시 영역에서 상기 제1 전원 라인과 나란하게 배치되어 상기 제3 서브 화소의 제2 전극과 접속하고, 상기 표시 영역으로부터 상기 보조 전원 라인까지 연장되어 일단이 상기 보조 전원 라인과 접속하는 표시장치.
a substrate having a display area on which a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel are arranged, and a non-display area surrounding the display area;
a first electrode provided in each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel on the substrate;
a first light emitting layer provided on the first electrode and emitting light of a first color;
a second electrode provided on the first light emitting layer;
a second light emitting layer provided on the second electrode and emitting light of a second color;
a third electrode provided on the second light emitting layer;
a first connection electrode electrically connecting the second electrode of the first sub-pixel, the second electrode of the third sub-pixel, and the third electrode; and
A second connection electrode electrically connects the first electrode of the second sub-pixel to the second electrode of the second sub-pixel,
The same first voltage is applied to the second electrode and the third electrode of the first sub-pixel and the third sub-pixel,
The second sub-pixel has the same second voltage applied to the first electrode and the second electrode,
The first connection electrode is,
a first power line connected to a second electrode of the first sub-pixel;
a second power line connected to a second electrode of the third sub-pixel; and
an auxiliary power line disposed in the non-display area and connected to each of the first power line, the second power line, and the third electrode;
The first power line is disposed in the display area and connected to a second electrode of the first sub-pixel, extends from the display area to the auxiliary power line, and has one end connected to the auxiliary power line,
The second power line is arranged in parallel with the first power line in the display area, connects to the second electrode of the third sub-pixel, extends from the display area to the auxiliary power line, and has one end of the auxiliary power line. A display device connected to.
제29항에 있어서,
상기 제1 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소는 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비된 제1 발광층이 발광되고,
상기 제2 서브 화소는 상기 제2 전극과 상기 제3 전극 사이에 구비된 제2 발광층이 발광되는 표시장치.
According to clause 29,
The first sub-pixel and the third sub-pixel emit light from a first light-emitting layer provided between the first electrode and the second electrode,
The second sub-pixel is a display device in which a second light-emitting layer provided between the second electrode and the third electrode emits light.
제29항에 있어서,
상기 제2 전극은 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소, 및 상기 제3 서브 화소 사이에서 단절되는 표시장치.
According to clause 29,
The second electrode is disconnected between the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel.
제29항에 있어서,
상기 제1 발광층은 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소, 및 상기 제3 서브 화소 사이에서 단절되는 표시장치.
According to clause 29,
The first light emitting layer is disconnected between the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel.
제29항에 있어서,
상기 제2 발광층은 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소, 및 상기 제3 서브 화소 사이에서 연결되는 표시장치.
According to clause 29,
The second light emitting layer is connected between the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel.
제29항에 있어서,
상기 제1 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소 각각의 제2 전극은 상기 제3 전극과 전기적으로 연결되고,
상기 제2 서브 화소의 제2 전극은 상기 제1 전극과 전기적으로 연결되는 표시장치.
According to clause 29,
A second electrode of each of the first sub-pixel and the third sub-pixel is electrically connected to the third electrode,
A display device wherein the second electrode of the second sub-pixel is electrically connected to the first electrode.
제29항에 있어서,
상기 제2 발광층은 청색의 광을 발광하는 표시장치.
According to clause 29,
The second light emitting layer is a display device that emits blue light.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제29항에 있어서,
상기 제1 전원 라인 및 상기 제2 전원 라인은 이격 배치되고, 상기 제1 전원 라인 및 상기 제2 전원 라인 사이에는 제1 서브 화소 또는 제3 서브 화소가 배치되는 표시장치.
According to clause 29,
A display device in which the first power line and the second power line are spaced apart from each other, and a first sub-pixel or a third sub-pixel is disposed between the first power line and the second power line.
제29항에 있어서,
상기 제1 전원 라인 및 상기 제2 전원 라인은 제1 서브 화소와 제3 서브 화소 사이에 배치되고, 일체로 형성된 표시장치.
According to clause 29,
The first power line and the second power line are disposed between the first sub-pixel and the third sub-pixel and are formed as one body.
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