KR102613808B1 - Package module, method for manufacturing the same, and method for operating the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 기재, 기재의 일면에 형성되는 픽셀부, 기재의 일면에 접합되는 발광 소자, 발광 소자에서 생성되는 광 신호를 픽셀부로 반사시킬 수 있도록, 픽셀부 및 발광 소자를 감싸는 커버부를 포함하는 패키지 모듈과 그 제조 방법 및 동작 방법으로서, 높이를 줄이도록 구조가 개선된 패키지 모듈과 그 제조 방법 및 동작 방법이 제시된다.The present invention includes a substrate, a pixel portion formed on one side of the substrate, a light-emitting device bonded to one side of the substrate, and a cover portion surrounding the pixel portion and the light-emitting device so that the optical signal generated by the light-emitting device can be reflected to the pixel portion. As a package module and its manufacturing method and operating method, a package module with an improved structure to reduce the height and its manufacturing method and operating method are presented.

Description

패키지 모듈, 그 제조 방법 및 그 동작 방법{PACKAGE MODULE, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR OPERATING THE SAME}Package module, its manufacturing method and its operating method {PACKAGE MODULE, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR OPERATING THE SAME}

본 발명은 패키지 모듈, 그 제조 방법 및 그 동작 방법에 관한 것으로서, 크기를 줄이도록 구조가 개선된 패키지 모듈, 그 제조 방법 및 그 동작 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a package module, a method of manufacturing the same, and a method of operating the same, and relates to a package module whose structure has been improved to reduce its size, a method of manufacturing the same, and a method of operating the same.

포토센서 칩은 대상의 이미지를 촬영하는 기능을 가진 반도체 소자이고, 패키지 모듈의 형대로 제작되며 디지털 카메라 및 스마트 폰을 포함하는 각종 모바일 기기에 탑재된다. 이러한 포토센서 칩은 센서 기술이 현저하게 향상됨에 따라 전자 판독 시의 노이즈가 거의 없는 이미지 데이터를 생성할 수 있다. 따라서, 포토센서 칩의 사용이 보안 분야로까지 확대되는 추세이다.A photosensor chip is a semiconductor device that has the function of taking images of an object, is manufactured in the shape of a package module, and is mounted on various mobile devices, including digital cameras and smart phones. As sensor technology has significantly improved, these photosensor chips can generate image data with little noise when read electronically. Therefore, the use of photo sensor chips is expanding to the security field.

즉, 통신 내용의 암호화 및 암호키의 생성 등에 쓰이는 양자난수를 생성하는 것에도 포토센서 칩이 사용된다. 이 외에도, 포토센서 칩은 광 신호를 입력받는 것이 요구되는 각종 기술 분야에서 다양하게 사용되고 있다.In other words, photosensor chips are also used to generate quantum random numbers used for encryption of communication content and generation of encryption keys. In addition, photo sensor chips are used in a variety of technical fields that require receiving optical signals.

한편, 포토센서 칩은 양자난수를 생성하기 위해서 양자난수 생성용 광신호를 입력받아야 한다. 이에, 모바일 기기가 양자난수를 생성하기 위해서는 포토센서 칩 뿐만 아니라 광원 및 광학 장치 등의 추가적인 하드웨어를 더 포함해야 한다. 이때, 포토센서 칩, 광원 및 광학 장치를 모바일 기기에 각각 탑재하기 위해서는 많은 공간이 필요하고, 복잡한 회로가 요구된다.Meanwhile, the photosensor chip must receive an optical signal for quantum random number generation in order to generate quantum random numbers. Accordingly, in order for a mobile device to generate quantum random numbers, it must include not only a photosensor chip but also additional hardware such as a light source and optical devices. At this time, a lot of space is required to mount the photosensor chip, light source, and optical device on the mobile device, and complex circuitry is required.

본 발명의 배경이 되는 기술은 하기의 특허문헌에 게재되어 있다.The technology behind the present invention is published in the following patent documents.

KRKR 10-2014-004523510-2014-0045235 AA KRKR 10-2018-003424210-2018-0034242 AA

본 발명은 크기를 줄일 수 있는 패키지 모듈, 그 제조 방법 및 그 동작 방법을 제공한다.The present invention provides a package module that can be reduced in size, a manufacturing method thereof, and a method of operating the same.

본 발명의 실시 형태에 따른 패키지 모듈은, 기재; 상기 기재의 일면에 형성되는 픽셀부; 상기 기재의 일면에 접합되는 발광 소자; 상기 발광 소자에서 생성되는 광 신호를 상기 픽셀부로 반사시킬 수 있도록, 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 감싸는 커버부;를 포함한다.A package module according to an embodiment of the present invention includes a base material; a pixel portion formed on one side of the substrate; A light emitting device bonded to one surface of the substrate; and a cover unit surrounding the pixel unit and the light-emitting device to reflect the optical signal generated by the light-emitting device to the pixel unit.

상기 기재는 웨이퍼를 포함하고, 상기 픽셀부와 상기 발광 소자는 상기 웨이퍼의 동일면에 이웃하여 배치될 수 있다.The substrate may include a wafer, and the pixel portion and the light emitting device may be disposed adjacent to the same surface of the wafer.

상기 커버부는, 상기 기재의 일면에 형성되고, 내부에 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자가 수용되는 광 투과 부재; 상기 광 투과 부재를 감싸는 광 차단 부재;를 포함하고, 상기 광 신호는 상기 광 투과 부재 및 상기 광 차단 부재의 경계에서 반사되어 상기 픽셀부으로 입사될 수 있다.The cover part includes a light-transmitting member formed on one side of the substrate and accommodating the pixel part and the light-emitting element therein; and a light blocking member surrounding the light transmitting member, wherein the light signal may be reflected at a boundary between the light transmitting member and the light blocking member and be incident on the pixel portion.

상기 커버부는, 상기 기재의 일면상에서 상기 광 투과 부재의 둘레를 따라 연장형성되고, 상기 광 차단 부재의 내부에 수용되는 댐 부재;를 포함할 수 있다.The cover part may include a dam member that extends along the circumference of the light-transmitting member on one surface of the substrate and is accommodated inside the light-blocking member.

상기 광 투과 부재는 광 투과율이 90% 이상 100% 미만의 범위인 투명 에폭시 수지를 포함할 수 있다.The light transmitting member may include a transparent epoxy resin having a light transmittance ranging from 90% to 100%.

상기 광 차단 부재는 외부의 가시광선 및 근적외선을 차단하기 위한 흑색 안료(black pigment)를 함유하는 에폭시 수지를 포함할 수 있다.The light blocking member may include an epoxy resin containing black pigment to block external visible rays and near-infrared rays.

상기 광 차단 부재의 두께는 20㎛ 내지 100㎛의 범위일 수 있다.The thickness of the light blocking member may range from 20㎛ to 100㎛.

상기 커버부는, 상기 기재의 일면으로부터 상방으로 볼록하게 형성되고, 내부에 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자가 수용되는 캡 부재; 광 신호를 반사시킬 수 있도록 상기 캡 부재의 내부면에 형성되는 코팅층;을 포함하고, 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자와 상기 코팅층 사이에 공기층이 형성될 수 있다.The cover portion includes a cap member that is formed to be convex upward from one surface of the substrate and accommodates the pixel portion and the light emitting device therein; and a coating layer formed on the inner surface of the cap member to reflect optical signals, and an air layer may be formed between the pixel portion, the light emitting device, and the coating layer.

상기 커버부는, 상기 캡 부재를 감싸는 몰딩 부재;를 더 포함할 수 있다.The cover part may further include a molding member surrounding the cap member.

상기 캡 부재는 금속 재질을 포함하고, 상기 코팅층은 팔라듐 및 니켈 중 적어도 어느 하나의 재질을 포함할 수 있다.The cap member may include a metal material, and the coating layer may include at least one of palladium and nickel.

상기 발광 소자는 1㎛ 초과 200㎛ 이하의 크기로 형성된 마이크로 LED(Micro Light Emitting Diode)를 포함하고, SMT(Surface Mounting Technology) 공정에 의해 상기 기재의 일면에 접합될 수 있다.The light emitting device includes a micro LED (Micro Light Emitting Diode) formed in a size of more than 1 μm and less than 200 μm, and may be bonded to one side of the substrate through a SMT (Surface Mounting Technology) process.

상기 기재의 일면에 접합되고, 상기 커버부에 수용되는 커패시터;를 더 포함할 수 있다.It may further include a capacitor bonded to one surface of the substrate and accommodated in the cover part.

상기 기재의 일면에 접합되고, 상기 커버부의 외부에 노출되는 솔더볼;을 포함할 수 있다.It may include a solder ball bonded to one surface of the substrate and exposed to the outside of the cover part.

본 발명의 실시 형태에 따른 패키지 모듈 제조 방법은, 기재를 마련하는 과정; 상기 기재의 일면에 픽셀부를 형성하고, 단자부를 형성하는 과정; 상기 단자부에 발광 소자를 접합하는 과정; 상기 기재의 일면상에 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 감싸는 커버부를 형성하는 과정;을 포함한다.A package module manufacturing method according to an embodiment of the present invention includes: preparing a base material; Forming a pixel portion on one side of the substrate and forming a terminal portion; A process of bonding a light emitting device to the terminal portion; and forming a cover portion surrounding the pixel portion and the light emitting device on one surface of the substrate.

상기 커버부를 형성하는 과정은, 상기 기재의 일면상에 상기 픽셀부를 둘러싸는 댐 부재를 형성하는 과정; 상기 댐 부재의 내측에 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자가 잠길 수 있는 높이로 투명 에폭시 수지를 주입하여 광 투과 부재를 형성하는 과정; 흑색 안료를 함유하는 에폭시 수지로 상기 광 투과 부재를 감싸도록 광 차단 부재를 형성하는 과정;을 포함할 수 있다.The process of forming the cover part includes forming a dam member surrounding the pixel part on one surface of the substrate; forming a light-transmitting member by injecting transparent epoxy resin into the dam member to a height at which the pixel portion and the light-emitting device can be immersed; A process of forming a light blocking member to surround the light transmitting member using an epoxy resin containing a black pigment may be included.

상기 커버부를 형성하는 과정은, 상기 기재의 일면에 광 신호를 반사할 수 있는 코팅층이 내부면에 형성된 캡 부재를 접합하여 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 커버하는 과정;을 포함할 수 있다.The process of forming the cover unit may include a process of covering the pixel unit and the light emitting device by bonding a cap member having a coating layer capable of reflecting an optical signal on an inner surface to one surface of the substrate.

상기 커버부를 형성하는 과정은, 상기 캡 부재를 감싸도록 에폭시 수지를 적층하여 몰딩하는 과정;을 포함할 수 있다.The process of forming the cover part may include a process of laminating and molding an epoxy resin to surround the cap member.

본 발명의 실시 형태에 따른 패키지 모듈 동작 방법은, 포토 센서를 포함하는 패키지 모듈의 동작 방법으로서, 발광 소자로부터 광 신호를 방출하는 과정; 커버부에 의하여 광 신호를 반사하는 과정; 픽셀부로 광 신호를 수광하는 과정;을 포함하고, 상기 발광 소자, 상기 커버부 및 상기 픽셀부는 동일한 기재 상에 형성되어 있다.A method of operating a package module according to an embodiment of the present invention is a method of operating a package module including a photo sensor, comprising: emitting an optical signal from a light emitting device; A process of reflecting an optical signal by a cover part; and a process of receiving an optical signal through a pixel unit, wherein the light emitting device, the cover unit, and the pixel unit are formed on the same substrate.

상기 광 신호를 반사하는 과정은, 상기 발광 소자 및 상기 픽셀부를 감싸는 상기 커버부의 광 투과 부재 내로 광 신호를 진행시키는 과정; 상기 광 투과 부재를 감싸는 상기 커버부의 광 차단 부재와 상기 광 투과 부재의 계면에서 광 신호를 반사시키는 과정;을 포함할 수 있다.The process of reflecting the optical signal includes: advancing the optical signal into a light-transmitting member of the cover portion surrounding the light-emitting device and the pixel portion; A process of reflecting an optical signal at an interface between a light blocking member of the cover portion surrounding the light transmitting member and the light transmitting member may be included.

상기 광 신호를 반사하는 과정은, 상기 발광 소자 및 상기 픽셀부를 감싸는 상기 커버부의 캡 부재와 상기 기재 사이의 공기층 내에서 광 신호를 진행시키는 과정; 상기 캡 부재의 내부면에 코팅된 상기 커버부의 코팅층에 광 신호를 반사시키는 과정;을 포함할 수 있다.The process of reflecting the optical signal includes: propagating the optical signal in an air layer between the substrate and a cap member of the cover portion surrounding the light-emitting device and the pixel unit; It may include a process of reflecting an optical signal onto a coating layer of the cover portion coated on the inner surface of the cap member.

본 발명의 실시 형태에 따르면, 픽셀부가 형성되어 있는 기재의 일면에 발광 소자를 접합하고, 픽셀부와 발광 소자를 감싸도록 커버부를 형성함으로써, 발광 소자와 픽셀부 및 기재를 웨이퍼 레벨에서 모듈화할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the light emitting device, the pixel portion, and the substrate can be modularized at the wafer level by bonding the light emitting device to one surface of the substrate on which the pixel portion is formed and forming a cover portion to surround the pixel portion and the light emitting device. there is.

즉, 인쇄회로기판을 사용하지 않고, 픽셀부가 형성된 기재에 발광 모듈을 직접 접합하는 방식으로 패키지 모듈을 제조할 수 있다. 따라서, 패키지 모듈의 제조 과정을 간소화시킬 수 있고, 패키지 모듈의 크기 즉, 폭 및 높이를 최소화할 수 있다.That is, the package module can be manufactured by directly bonding the light emitting module to the substrate on which the pixel portion is formed, without using a printed circuit board. Accordingly, the manufacturing process of the package module can be simplified, and the size of the package module, that is, the width and height, can be minimized.

또한, 본 발명의 실시 형태에 따르면, 커버부 내에서 광 신호를 이동시키므로 포토센서의 픽셀부에 외부 광이 송신되는 것을 방지할 수 있다.Additionally, according to an embodiment of the present invention, by moving the optical signal within the cover portion, it is possible to prevent external light from being transmitted to the pixel portion of the photosensor.

도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 패키지 모듈의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 제1실시 예의 변형 예에 따른 패키지 모듈의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 제2실시 예에 따른 패키지 모듈의 개략도이다.
도 4는 본 발명의 제2실시 예의 변형 예에 따른 패키지 모듈의 개략도이다.
도 5 내지 도 12는 본 발명의 실시 예들에 따른 패키지 모듈을 제조하는 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
1 is a schematic diagram of a package module according to a first embodiment of the present invention.
Figure 2 is a schematic diagram of a package module according to a modified example of the first embodiment of the present invention.
Figure 3 is a schematic diagram of a package module according to a second embodiment of the present invention.
Figure 4 is a schematic diagram of a package module according to a modified example of the second embodiment of the present invention.
5 to 12 are schematic diagrams for explaining a method of manufacturing a package module according to embodiments of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니고, 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이다. 단지 본 발명의 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 도면은 과장될 수 있고, 도면상의 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, and will be implemented in various different forms. Only the embodiments of the present invention are provided to ensure that the disclosure of the present invention is complete and to fully inform those skilled in the art of the scope of the invention. The drawings may be exaggerated to explain embodiments of the present invention, and like symbols in the drawings refer to like elements.

본 발명의 실시 예에 따른 패키지 모듈은 예컨대 웨이퍼 레벨 포토센서 쉬링키지 패키지 모듈 혹은 웨이퍼 레벨 QRNG 포터센서 쉬링키지 패키지 모듈이라고 지칭할 수 있다. 이러한 본 발명의 실시 예에 따른 패키지 모듈은 보안 및 양자암호통신과 같은 각종 기술 분야에서 양자난수를 생성하는 것에 사용될 수 있다.The package module according to an embodiment of the present invention may be referred to, for example, as a wafer level photosensor shrinkage package module or a wafer level QRNG photo sensor shrinkage package module. The package module according to this embodiment of the present invention can be used to generate quantum random numbers in various technical fields such as security and quantum cryptography communication.

웨이퍼 레벨은 픽셀부가 형성된 웨이퍼와 발광 소자의 접합 시 인쇄회로기판을 매개로 이들을 접합하여 패키징하지 않고, 픽셀부가 형성된 웨이퍼상에 직접 발광 소자를 접합하여 패키징하는 것을 의미한다.Wafer level means that when bonding a wafer with pixel portions and a light emitting device, the light emitting device is packaged by bonding the light emitting device directly onto the wafer with the pixel portion, rather than bonding them through a printed circuit board.

양자난수('순수난수'라고도 한다)는 예컨대 양자암호통신, 수치 시뮬레이션, 통계분석 등 난수성(randomness)을 필요로 하는 다양한 분야에서 사용된다.Quantum random numbers (also called 'pure random numbers') are used in various fields that require randomness, such as quantum cryptography communication, numerical simulation, and statistical analysis.

양자난수를 생성하는 반도체 소자로 QRNG(Quantum Random Number Generator) 포토센서 칩이 있다. QRNG 포토센서 칩은 양자광학에 기초하여 양자난수를 생성한다. QRNG 포토센서 칩은 광원으로부터 안정적으로 광 신호를 받아야 고품질의 양자난수를 생성할 수 있다. 그렇지 않으면, 광 신호를 입력받은 이후의 후처리 단계의 알고리즘이 복잡해질 수 있고, 생성되는 양자난수의 난수성의 품질이 저하될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서는 예컨대 QRNG 포토센서 칩을 웨이퍼 레벨에서 패키지 모듈로 제조할 수 있다. 이에, 패키지 모듈의 전체 높이를 줄일 수 있고, 패키지 모듈의 제조 과정을 간소화할 수 있다. 또한, QRNG 포토센서 칩의 발광 소자 및 픽셀부가 패키지 모듈의 내부에서 광 신호를 주고 받을 수 있으므로, 발광 소자의 광 신호를 픽셀부에 안정적으로 송신할수 있다.A semiconductor device that generates quantum random numbers is the QRNG (Quantum Random Number Generator) photosensor chip. QRNG photosensor chip generates quantum random numbers based on quantum optics. A QRNG photosensor chip can generate high-quality quantum random numbers only when it receives a stable optical signal from a light source. Otherwise, the algorithm of the post-processing step after receiving the optical signal may become complicated, and the quality of randomness of the generated quantum random number may deteriorate. In an embodiment of the present invention, for example, a QRNG photosensor chip can be manufactured as a package module at the wafer level. Accordingly, the overall height of the package module can be reduced and the manufacturing process of the package module can be simplified. Additionally, since the light emitting device and pixel portion of the QRNG photosensor chip can exchange optical signals inside the package module, the optical signal from the light emitting device can be stably transmitted to the pixel portion.

본 발명의 실시 예에 따른 패키지 모듈은 광 신호를 전기 신호로 변환할 수 있는 다양한 패키지 모듈로서 사용될 수도 있다.The package module according to an embodiment of the present invention may be used as a variety of package modules capable of converting optical signals into electrical signals.

본 발명의 실시 예에 따른 패키지 모듈은 높이를 최소화시킬 수 있고, 제작 과정을 간소화할 수 있고, 외부의 광 신호를 차단할 수 있는 기술적인 특징을 제시한다.The package module according to an embodiment of the present invention presents technical features that can minimize the height, simplify the manufacturing process, and block external optical signals.

도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 패키지 모듈의 개략도이다. 또한, 도 2는 본 발명의 제1실시 예의 변형 예에 따른 패키지 모듈의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a package module according to a first embodiment of the present invention. Additionally, Figure 2 is a schematic diagram of a package module according to a modified example of the first embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제2실시 예에 따른 웨이퍼 레벨 포토센서 쉬링키지 패키지 모듈의 개략도이다. 그리고 도 4는 본 발명의 제2실시 예의 변형 예에 따른 웨이퍼 레벨 포토센서 쉬링키지 패키지 모듈의 개략도이다.Figure 3 is a schematic diagram of a wafer level photo sensor shrinkage package module according to a second embodiment of the present invention. And Figure 4 is a schematic diagram of a wafer level photo sensor shrinkage package module according to a modified example of the second embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 실시 예들에 따른 패키지 모듈은, 기재(100), 기재(100)의 일면에 형성되는 픽셀부(210), 기재(100)의 일면에 접합되는 발광 소자(230), 발광 소자(230)에서 생성되는 광 신호를 픽셀부(210)로 반사시킬 수 있도록, 픽셀부(210) 및 발광 소자(230)를 감싸는 커버부(400A, 400B, 400B')를 포함한다.1 to 4, the package module according to embodiments of the present invention includes a substrate 100, a pixel portion 210 formed on one side of the substrate 100, and a light emitting device bonded to one side of the substrate 100. Cover portions 400A, 400B, and 400B' surrounding the pixel portion 210 and the light emitting device 230 so that the optical signal generated by the device 230 and the light emitting device 230 can be reflected to the pixel portion 210. Includes.

또한, 본 발명의 실시 예들에 따른 패키지 모듈은, 기재(100)의 일면에 형성되고, 기재(100)의 일면상에서 픽셀부(210)의 둘레를 감싸며, 발광 소자(230)가 접합되는 단자부(220), 및 기재(100)의 일면에 접합되고, 커버부(400A, 400B, 400B')의 외부에 노출되는 솔더볼(300)을 포함할 수 있다.In addition, the package module according to embodiments of the present invention is formed on one side of the substrate 100, surrounds the periphery of the pixel portion 210 on one side of the substrate 100, and has a terminal portion to which the light emitting device 230 is bonded. 220), and a solder ball 300 bonded to one surface of the substrate 100 and exposed to the outside of the cover portions 400A, 400B, and 400B'.

또한, 본 발명의 실시 예들에 따른 패키지 모듈은, 단자부(220)에 접합되고, 커버부(400A, 400B, 400B')의 내부에 수용되는 커패시터(500)를 더 포함할 수도 있다.Additionally, the package module according to embodiments of the present invention may further include a capacitor 500 that is bonded to the terminal portion 220 and accommodated inside the cover portions 400A, 400B, and 400B'.

여기서, 픽셀부(210), 단자부(220) 및 발광 소자(230)가 포토센서(200)를 형성할 수 있다. 이러한 포토센서(200)를 포토센서 칩 혹은 QRNG 포토센서 칩이라고 지칭할 수도 있다.Here, the pixel unit 210, the terminal unit 220, and the light emitting device 230 may form the photosensor 200. This photosensor 200 may also be referred to as a photosensor chip or QRNG photosensor chip.

이하, 도 1을 참조하여, 본 발명의 제1실시 예에 따른 패키지 모듈을 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to FIG. 1, a package module according to a first embodiment of the present invention will be described in detail.

기재(100)는 웨이퍼를 포함할 수 있다. 기재(100)는 상하 방향으로 대향하는 일면 및 타면과, 일면 및 타면을 연결하는 측면을 포함할 수 있다. 기재(100)는 수평방향 및 상하방향으로 연장형성되어 소정 면적 및 소정 두께를 가질 수 있다. 기재(100)는 예컨대 사각 플레이트 형상일 수 있다. 물론, 기재(100)의 형상은 다양할 수 있다.The substrate 100 may include a wafer. The substrate 100 may include one side and the other side facing each other in the vertical direction, and a side surface connecting the one side and the other side. The base material 100 may extend horizontally and vertically and have a predetermined area and thickness. The substrate 100 may have a square plate shape, for example. Of course, the shape of the substrate 100 may vary.

기재(100)는 일면의 소정 위치에 소정 면적으로 픽셀 영역(S1)이 형성될 수 있다. 또한, 기재(100)는 일면의 소정 위치에 소정 면적으로 단자 영역(S2)이 형성될 수 있다. 픽셀 영역(S1)은 기재(100)의 일면의 중심으로부터 소정 거리 이격될 수 있다. 물론, 픽셀 영역(S1)은 기재(100)의 일면의 중심에 형성될 수도 있다. 단자 영역(S2)은 픽셀 영역(S1)의 주위를 감쌀 수 있다. 즉, 픽셀 영역(S1)을 제외한 기재(100)의 일면의 나머지 면적이 단자 영역(S2)으로 형성될 수 있다. 이때, 픽셀 영역(S1)에는 픽셀부(210)가 형성될 수 있고, 단자 영역(S2)에는 단자부(220)가 형성될 수 있다. 단자부(220)에는 발광 소자(230)가 접합될 수 있다. 따라서, 픽셀부(210)와 발광 소자(230)가 기재(100) 즉, 웨이퍼의 동일면에 이웃하여 배치될 수 있다. 즉, 웨이퍼의 동일면상에서 하나의 포토센서(200)의 구조가 완성될 수 있다. 이로부터 패키지 모듈의 크기 예컨대 패키지 모듈의 높이 및 폭을 줄여줄 수 있다. 예컨대 웨이퍼의 동일면상에 하나의 포토센서(200)의 구조를 완성하도록 제조된 패키지 모듈은 그렇지 않은 패키지 모듈보다 높이가 절반 수준으로 줄어듬으로써, 400㎛ 내지 500㎛의 높이로 제조될 수 있다. 또한, 웨이퍼의 동일면상에 하나의 포토센서(200)의 구조를 완성함에 의해 패키지 모듈의 높이의 감소량의 절반 수준에 해당하는 소정의 크기만큼 패키지 모듈의 폭도 줄여줌으로써, 패키지 모듈의 폭을 100㎛ 내지 200㎛의 크기만큼 줄여줄 수 있다.A pixel area S1 may be formed at a predetermined location on one side of the substrate 100 with a predetermined area. Additionally, a terminal area S2 may be formed at a predetermined location on one surface of the substrate 100 with a predetermined area. The pixel area S1 may be spaced a predetermined distance from the center of one side of the substrate 100. Of course, the pixel area S1 may be formed at the center of one side of the substrate 100. The terminal area S2 may surround the pixel area S1. That is, the remaining area of one side of the substrate 100 excluding the pixel area S1 may be formed as the terminal area S2. At this time, the pixel portion 210 may be formed in the pixel area S1, and the terminal portion 220 may be formed in the terminal area S2. A light emitting device 230 may be bonded to the terminal portion 220. Accordingly, the pixel unit 210 and the light emitting device 230 may be disposed adjacent to the same surface of the substrate 100, that is, the wafer. That is, the structure of one photosensor 200 can be completed on the same side of the wafer. From this, the size of the package module, such as the height and width of the package module, can be reduced. For example, a package module manufactured to complete the structure of one photosensor 200 on the same side of the wafer can be manufactured with a height of 400㎛ to 500㎛ by reducing the height by half compared to other package modules. In addition, by completing the structure of one photosensor 200 on the same side of the wafer, the width of the package module is reduced by a predetermined amount corresponding to half the amount of reduction in the height of the package module, thereby reducing the width of the package module to 100㎛. It can be reduced to a size of 200㎛.

픽셀부(210)는 포토센서(200)의 수광부로서, 기재(100)의 일면에 형성된 복수개의 포토 다이오드와, 포토 다이오드상에 마련된 컬러 필터, 및 컬러 필터상에 마련된 마이크로 렌즈를 포함할 수 있다. 픽셀부(210)는 커버부(400A)의 내부에 수용될 수 있다. 픽셀부(210)는 커버부(400A)의 내부에서 진행되는 광 신호를 입력받을 수 있다.The pixel unit 210 is a light receiving unit of the photosensor 200 and may include a plurality of photo diodes formed on one surface of the substrate 100, a color filter provided on the photo diode, and a micro lens provided on the color filter. . The pixel unit 210 may be accommodated inside the cover unit 400A. The pixel unit 210 can receive an optical signal traveling inside the cover unit 400A.

픽셀부(210)은 발광 소자(220)에서 생성된 광 신호를 수신하고, 양자난수 생성을 위한 전기 신호를 생성할 수 있다. 픽셀부(210)은 기재(100)의 일면상에 형성된 소정의 박막 패턴(미도시)를 통하여 단자부(220)와 전기적으로 연결될 수 있다. 픽셀부(210)는 단자부(220)에 접합된 솔더볼(300)을 통하여 외부로 양자난수 생성을 위한 전기 신호를 송신할 수 있다.The pixel unit 210 may receive an optical signal generated by the light emitting device 220 and generate an electrical signal for generating quantum random numbers. The pixel unit 210 may be electrically connected to the terminal unit 220 through a predetermined thin film pattern (not shown) formed on one surface of the substrate 100. The pixel unit 210 may transmit an electrical signal for generating quantum random numbers to the outside through the solder ball 300 bonded to the terminal unit 220.

단자부(220)는 픽셀부(210)에서 생성된 전기 신호를 외부로 송신할 수 있고, 외부의 제어 신호를 발광 소자(220)로 송신할 수 있고, 외부 혹은 커패시터(500)로부터 공급되는 전력을 픽셀부(210) 및 발광 소자(220)로 전달해줄 수 있다.The terminal unit 220 can transmit the electrical signal generated in the pixel unit 210 to the outside, transmit an external control signal to the light emitting element 220, and receive power supplied from the outside or the capacitor 500. It can be delivered to the pixel unit 210 and the light emitting device 220.

단자부(220)는 표면실장패턴(221), 입출력패턴(222), 제1패시베이션막(223), 제1접합패턴(224), 제2접합패턴(225), 및 제2패시베이션막(226)을 포함할 수 있다. 이때, 표면실장패턴(221), 입출력패턴(222), 제1접합패턴(224), 제2접합패턴(225)은 금속 재질 예컨대 구리 재질을 포함할 수 있다. 제1패시베이션막(223), 제2패시베이션막(226)은 폴리머(polymer) 재질을 포함할 수 있다.The terminal unit 220 includes a surface mounting pattern 221, an input/output pattern 222, a first passivation film 223, a first bonding pattern 224, a second bonding pattern 225, and a second passivation film 226. may include. At this time, the surface mounting pattern 221, the input/output pattern 222, the first bonding pattern 224, and the second bonding pattern 225 may include a metal material, such as copper. The first passivation film 223 and the second passivation film 226 may include a polymer material.

표면실장패턴(221)은 픽셀 영역(S1)과 가까운 단자 영역(S2)의 소정 위치에 형성될 수 있다. 또한, 입출력 패턴(222)은 기재(100)의 일면의 가장자리에 가까운 단자 영역(S2)의 소정 위치에 형성될 수 있다. 이때, 표면실장패턴(221) 및 입출력 패턴(222)은 일면이 기재(100)의 일면과 동일 높이일 수 있고, 타면이 기재(100)의 일면보다 낮은 높이일 수 있다. 높이는 기재(100)의 일면으로부터의 높이일 수 있다.The surface mounting pattern 221 may be formed at a predetermined location in the terminal area S2 close to the pixel area S1. Additionally, the input/output pattern 222 may be formed at a predetermined position in the terminal area S2 close to the edge of one surface of the substrate 100. At this time, one side of the surface mounting pattern 221 and the input/output pattern 222 may be at the same height as one side of the substrate 100, and the other side may be at a lower height than one side of the substrate 100. The height may be the height from one side of the substrate 100.

물론, 표면실장패턴(221) 및 입출력 패턴(222)은 기재(100)의 일면으로부터 상방으로 볼록하게 형성되거나, 하방으로 오목하게 형성될 수도 있다.Of course, the surface mounting pattern 221 and the input/output pattern 222 may be formed to be convex upward from one surface of the substrate 100, or may be formed to be concave downward.

제1패시베이션막(223)은 단자 영역(S2)에서, 기재(100)의 일면과 표면실장패턴(221) 및 입출력 패턴(222)을 덮도록 형성될 수 있다. 이때, 기재(100)의 일면의 픽셀 영역(S1)은 제1패시베이션막(223)의 상방으로 노출될 수 있다. 또한, 제1패시베이션막(223)에는 복수개의 홀이 형성될 수 있고, 홀을 통하여 표면실장패턴(221) 및 입출력 패턴(222)의 각각의 일면이 제1패시베이션막(223)의 상방으로 노출될 수 있다.The first passivation film 223 may be formed to cover one side of the substrate 100, the surface mounting pattern 221, and the input/output pattern 222 in the terminal area S2. At this time, the pixel area S1 on one side of the substrate 100 may be exposed above the first passivation film 223. In addition, a plurality of holes may be formed in the first passivation film 223, and one side of each of the surface mounting pattern 221 and the input/output pattern 222 is exposed above the first passivation film 223 through the holes. It can be.

제1접합패턴(224)은 표면실장패턴(221)의 일면의 노출된 부위에 형성될 수 있다. 제2접합패턴(225)은 하부가 입출력 패턴(222)의 일면의 노출된 부위에 형성될 수 있고, 상부가 제1패시베이션막(223)의 일면을 따라 소정 면적으로 연장될 수 있다.The first bonding pattern 224 may be formed on an exposed portion of one surface of the surface mounting pattern 221. The lower portion of the second bonding pattern 225 may be formed on an exposed portion of one side of the input/output pattern 222, and the upper portion may extend to a predetermined area along one side of the first passivation film 223.

제2패시베이션막(226)은 단자 영역(S2)에서, 제1패시베이션막(223)의 일면과 제2접합패턴(225)을 덮도록 형성될 수 있다. 이때, 제1접합패턴(224)의 일면과 제1접합패턴(224) 주위의 제1패시베이션막(223)의 소정 면적은 제2패시베이션막(226)의 상부로 노출될 수 있다. 또한, 제2패시베이션막(226)에는 복수개의 홀이 형성될 수 있다. 제2패시베이션막(226)의 홀을 통하여 제2접합패턴(225)의 일면이 제2패시베이션막(226)의 상방으로 노출될 수 있다.The second passivation film 226 may be formed to cover one surface of the first passivation film 223 and the second bonding pattern 225 in the terminal area S2. At this time, one surface of the first bonding pattern 224 and a predetermined area of the first passivation film 223 around the first bonding pattern 224 may be exposed to the top of the second passivation film 226. Additionally, a plurality of holes may be formed in the second passivation film 226. One side of the second bonding pattern 225 may be exposed above the second passivation film 226 through the hole in the second passivation film 226 .

발광 소자(230)는 1㎛ 초과 200㎛ 이하의 크기로 형성된 마이크로 LED(Micro Light Emitting Diode)를 포함할 수 있다. 발광 소자(230)는 단자부(220)를 통하여 광 신호를 생성하기 위한 소정의 전력 및 제어 신호를 공급받을 수 있다. 발광 소자(230)는 커버부(400A)의 내부에 수용될 수 있다. 발광 소자(230)에서 생성된 광 신호는 커버부(400A)의 내부에서 진행되어 픽셀부(210)에 입사할 수 있다.The light emitting device 230 may include a micro LED (Micro Light Emitting Diode) formed in a size of more than 1 μm and less than or equal to 200 μm. The light emitting device 230 may receive a predetermined power and control signal for generating an optical signal through the terminal unit 220. The light emitting device 230 may be accommodated inside the cover portion 400A. The optical signal generated by the light emitting device 230 may proceed inside the cover portion 400A and enter the pixel portion 210.

한편, 발광 소자(230)의 크기가 1㎛ 미만이면 제작이 어려울 수 있다. 또한, 발광 소자(230)의 크기가 200㎛ 초과이면 패키지 모듈의 전체 높이가 원하는 소정의 높이보다 높아질 수 있다. 바람직하게, 발광 소자(230)의 크기는 100㎛일 수 있다. 이에, 패키지 모듈의 전체 높이를 원하는 높이로 제조할 수 있다. 한편, 상술한 크기는 높이를 의미할 수 있다. 한편, 발광 소자(230)는 픽셀부(210)로부터 100㎛ 내지 150㎛의 거리만큼 이격될 수 있다.On the other hand, if the size of the light emitting device 230 is less than 1㎛, manufacturing may be difficult. Additionally, if the size of the light emitting device 230 exceeds 200㎛, the overall height of the package module may be higher than the desired height. Preferably, the size of the light emitting device 230 may be 100㎛. Accordingly, the overall height of the package module can be manufactured to a desired height. Meanwhile, the above-mentioned size may mean height. Meanwhile, the light emitting device 230 may be spaced apart from the pixel portion 210 by a distance of 100 μm to 150 μm.

발광 소자(230)는 예컨대 SMT(Surface Mounting Technology) 공정에 의해 기재(100)의 일면에 접합될 수 있다. 즉, 발광 소자(230)의 하부에는 금속패턴(231)이 구비될 수 있다. 또한, 금속패턴(231)이 제1접합패턴(224)의 일면에 SMT 공정에 의해 접합될 수 있다. 따라서, 발광 소자(230)가 제1접합패턴(224)과 접합될 수 있다.The light emitting device 230 may be bonded to one side of the substrate 100 by, for example, a Surface Mounting Technology (SMT) process. That is, a metal pattern 231 may be provided on the lower part of the light emitting device 230. Additionally, the metal pattern 231 may be bonded to one surface of the first bonding pattern 224 through an SMT process. Accordingly, the light emitting device 230 can be bonded to the first bonding pattern 224.

한편, 발광 소자(230)는 양자난수를 생성하는 것에 사용되는 광의 종류에 따라 마이크로 LED 외에도 다양한 종류가 적용될 수 있다.Meanwhile, various types of light emitting devices 230 other than micro LEDs may be applied depending on the type of light used to generate quantum random numbers.

솔더볼(300)은 기재(100)의 일면에 접합되고, 커버부(400A)의 외부에 노출될 수 있다. 솔더볼(300)은 패키지 모듈을 모바일 기기에 접합시키는 역할을 한다. 솔더볼(300)은 소정 직경으로 형성되는 구 형상의 부재일 수 있다. 솔더볼(300)은 단자부(220)의 제2접합패턴(225)에 접합될 수 있다.The solder ball 300 may be bonded to one surface of the substrate 100 and exposed to the outside of the cover portion 400A. The solder ball 300 serves to bond the package module to the mobile device. The solder ball 300 may be a spherical member formed with a predetermined diameter. The solder ball 300 may be bonded to the second bonding pattern 225 of the terminal portion 220.

솔더볼(300)은 주석-은-구리 합금(Sn-Ag-Cu)을 포함할 수 있다. 이러한 솔더볼(300)은 최적의 피치(fine pitch)와 높은 프로파일(high profile)을 위한 코어 볼(core ball) 구조일 수 있다. 여기서, 코어 볼은 상대적으로 높은 융점의 금속을 중심부에 코어로 가지는 구조를 의미한다. 이때, 코어는 주석-은-구리 합금보다 높은 융점을 가진 금속을 포함할 수 있고, 예컨대 구리(copper)를 포함할 수 있다.The solder ball 300 may include tin-silver-copper alloy (Sn-Ag-Cu). This solder ball 300 may have a core ball structure for optimal pitch (fine pitch) and high profile. Here, the core ball refers to a structure that has a metal with a relatively high melting point as a core in the center. At this time, the core may include a metal with a higher melting point than the tin-silver-copper alloy, for example, copper.

커버부(400A)는 픽셀부(210) 및 발광 소자(230)를 감싸도록 기재(100)의 일면에 형성될 수 있다. 이에, 커버부(400A)는 발광 소자(230)에서 생성되는 광 신호를 픽셀부(210)로 반사시킬 수 있다.The cover portion 400A may be formed on one side of the substrate 100 to surround the pixel portion 210 and the light emitting device 230. Accordingly, the cover unit 400A can reflect the optical signal generated by the light emitting device 230 to the pixel unit 210.

커버부(400A)는, 기재(100)의 일면에 형성되고, 내부에 픽셀부(210) 및 발광 소자(230)가 수용되는 광 투과 부재(420), 광 투과 부재(420)를 감싸는 광 차단 부재(430)를 포함할 수 있다. 또한, 커버부(400A)는, 기재(100)의 일면상에서 광 투과 부재(420)의 둘레를 따라 연장형성되고, 광 차단 부재(430)의 내부에 수용되는 댐 부재(410)를 포함할 수 있다.The cover portion 400A is formed on one side of the substrate 100, includes a light-transmitting member 420 in which the pixel portion 210 and the light-emitting device 230 are accommodated, and blocks light surrounding the light-transmitting member 420. It may include a member 430. In addition, the cover portion 400A may include a dam member 410 that extends along the circumference of the light transmitting member 420 on one surface of the substrate 100 and is accommodated inside the light blocking member 430. there is.

댐 부재(410)는 패키지 모듈을 제조하는 과정에서 광 투과 부재(420)를 형성하기 위해 픽셀부(210)와 발광 소자(230)상에 투명 에폭시 수지를 도포할 때, 투명 에폭시 수지가 원하지 않는 영역으로 침범하는 것을 막아주는 역할을 한다. 즉, 댐 부재(410)에 의하여, 픽셀부(210)와 발광 소자(230)가 잠길 수 있는 충분한 소정의 높이까지 기재(100)의 일면상에 투명 에폭시 수지를 도포해줄 수 있다.The dam member 410 is used to prevent unwanted transparent epoxy resin from being applied on the pixel portion 210 and the light emitting device 230 to form the light transmitting member 420 in the process of manufacturing a package module. It serves to prevent invasion into the area. That is, by the dam member 410, a transparent epoxy resin can be applied on one surface of the substrate 100 to a predetermined height sufficient to submerge the pixel portion 210 and the light emitting device 230.

광 투과 부재(420)는 댐 부재(410)의 내측에서 소정 높이로 형성될 수 있다. 이에, 광 투과 부재(420)의 내부에 픽셀부(210)와 발광 소자(230)가 수용될 수 있다. 광 투과 부재(420)는 광 투과율이 90% 이상 100% 미만의 범위인 투명 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 광 투과율이 90% 미만이면 픽셀부(210)로 충분한 광 신호를 전달하기 어렵다. 광 투과 부재(420)는 광 투과율이 100%에 가까울수록 광 신호의 손실을 최소화하면서 그 내부에서 광 신호를 진행시킬 수 있다.The light transmitting member 420 may be formed at a predetermined height inside the dam member 410. Accordingly, the pixel portion 210 and the light emitting device 230 may be accommodated inside the light transmitting member 420. The light transmitting member 420 may include transparent epoxy resin having a light transmittance ranging from 90% to 100%. If the light transmittance is less than 90%, it is difficult to transmit a sufficient light signal to the pixel unit 210. As the light transmittance of the light transmitting member 420 approaches 100%, the light transmitting member 420 can transmit the light signal therein while minimizing the loss of the light signal.

한편, 광 투과 부재(420)는 일면 예컨대 상면이 상방으로 볼록한 형상일 수 있다. 예컨대 투명 에폭시 수지의 도포 시에 투명 에폭시 수지의 표면 장력을 이용하여 광 투과 부재(420)의 상면을 상방으로 볼록하게 형성해줄 수 있다.Meanwhile, one side of the light transmitting member 420, for example, an upper surface, may be convex upward. For example, when applying a transparent epoxy resin, the upper surface of the light transmitting member 420 can be formed to be convex upward using the surface tension of the transparent epoxy resin.

이에, 광 투과 부재(420)와 광 차단 부재(430)의 계면에서 광 신호가 반사되면서 픽셀부(210)에 집중될 수 있다.Accordingly, the light signal may be reflected at the interface between the light transmitting member 420 and the light blocking member 430 and concentrated on the pixel portion 210.

광 차단 부재(430)는 광 투과 부재(420)를 덮도록 기재(100)의 일면상에 형성될 수 있다. 이때, 광 차단 부재(430)는 기재(100)의 일면 전체를 덮도록 형성될 수 있다. 물론, 광 차단 부재(430)는 광 투과 부재(420)의 전부와, 기재(100)의 일면의 일부를 덮도록 형성될 수도 있다. 이때, 광 차단 부재(430)의 일면 예컨대 상면의 높이는 광 투과 부재(420)의 일면의 높이보다 높고, 솔더볼(300)의 높이보다 낮을 수 있다.The light blocking member 430 may be formed on one surface of the substrate 100 to cover the light transmitting member 420. At this time, the light blocking member 430 may be formed to cover the entire surface of the substrate 100. Of course, the light blocking member 430 may be formed to cover the entire light transmitting member 420 and a portion of one surface of the substrate 100. At this time, the height of one surface of the light blocking member 430, for example, the upper surface, may be higher than the height of one surface of the light transmitting member 420 and lower than the height of the solder ball 300.

광 차단 부재(430)는 외부로부터의 광 신호를 차단하는 역할을 하고, 광 투과 부재(420)와의 사이에 광 신호를 반사시키기 위한 소정의 계면을 형성하는 역할을 한다. 광 차단 부재(430)는 외부의 가시광선 및 근적외선을 차단하기 위한 흑색 안료(black pigment)를 함유하는 에폭시 수지 예컨대 흑색 안료를 함유하는 언더필 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 물론, 에폭시 수지의 종류는 다양할 수 있다.The light blocking member 430 serves to block optical signals from the outside and serves to form a predetermined interface for reflecting the optical signals between the light blocking member 420 and the light transmitting member 420. The light blocking member 430 may include an epoxy resin containing a black pigment for blocking external visible light and near-infrared rays, such as an underfill epoxy resin containing a black pigment. Of course, the types of epoxy resin may vary.

이때, 외부로부터 광 차단 부재(430)로 입사되는 가시광선 및 근적외선을 차단할 수 있는 것을 만족하는 범주 내에서 광 차단 부재(430)에 함유되는 흑색 안료의 종류는 다양할 수 있다.At this time, the types of black pigment contained in the light blocking member 430 may vary within the range that satisfies the ability to block visible rays and near-infrared rays incident on the light blocking member 430 from the outside.

광 차단 부재(430)의 상하방향으로의 두께(t)는 20㎛ 내지 100㎛의 범위일 수 있다. 광 차단 부재(430)의 최소 두께가 20㎛보다 작으면 가시광선 및 근적외선 중의 소정 파장의 광 신호가 외부로부터 광 투과 부재(420) 내로 입사될 수 있다. 광 차단 부재(430)의 최대 두께가 100㎛이 되면 외부로부터 입사되는 가시광선 및 근적외선의 전 파장 영역의 광 신호를 차단할 수 있다. 이에, 광 차단 부재(430)의 최대 두께를 100㎛보다 크게 하지 않아도 된다.The thickness t of the light blocking member 430 in the vertical direction may be in the range of 20 μm to 100 μm. If the minimum thickness of the light blocking member 430 is less than 20㎛, an optical signal of a certain wavelength among visible light and near-infrared light may be incident into the light transmitting member 420 from the outside. When the maximum thickness of the light blocking member 430 becomes 100㎛, it is possible to block optical signals in all wavelength ranges of visible light and near-infrared light incident from the outside. Accordingly, the maximum thickness of the light blocking member 430 does not need to be greater than 100㎛.

한편, 광 차단 부재(430)가 최소 두께를 가지는 부위는 광 투과 부재(420)의 볼록한 일면의 중심의 상측에 위치하는 소정 부위일 수 있다.Meanwhile, the portion where the light blocking member 430 has the minimum thickness may be a predetermined portion located above the center of the convex surface of the light transmitting member 420.

본 발명의 제1실시 예에 따르면, 발광 소자(230)에서 생성된 광 신호는 광 투과 부재(420)의 내부에서 진행되면서, 광 투과 부재(420) 및 광 차단 부재(430)의 경계에서 반사되어 픽셀부(210)로 입사될 수 있다.According to the first embodiment of the present invention, the optical signal generated by the light-emitting device 230 travels inside the light-transmitting member 420 and is reflected at the boundary between the light-transmitting member 420 and the light blocking member 430. may be incident on the pixel unit 210.

도 2를 참조하여, 본 발명의 제1실시 예의 변형 예에 따른 패키지 모듈을 설명한다.Referring to FIG. 2, a package module according to a modified example of the first embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 제1실시 예의 변형 예에 따르면, 패키지 모듈이 커패시터(500)를 더 포함할 수 있다. 커패시터(500)는 기재(100)의 일면에 형성된 단자부(220)에 접합될 수 있고, 커버부(400A)의 광 투과 부재(420)에 수용될 수 있다.According to a modified example of the first embodiment of the present invention, the package module may further include a capacitor 500. The capacitor 500 may be bonded to the terminal portion 220 formed on one surface of the substrate 100 and may be accommodated in the light transmitting member 420 of the cover portion 400A.

이때, 단자부(220)는 커패시터(500)의 접합을 위한 제1 및 제2 금속막(227, 228)을 더 포함할 수 있고, 커패시터(500)의 하부에 제3 금속막(510)이 구비될 수 있다. 기재(100)의 일면의 단자 영역(S2)에 제1 금속막(227)이 형성되고, 제1 금속막(227)의 일면에 제2 금속막(228)이 형성될 수 있다. 이때, 제1패시베이션막(223)에는 제2 금속막(228)을 상방으로 노출시킬 수 있는 홀이 형성될 수 있다. 제2 금속막(228)에 제3 금속막(510)이 접합될 수 있다. 커패시터(500)는 발광 소자(230)로 전원을 공급해줄 수 있다.At this time, the terminal portion 220 may further include first and second metal films 227 and 228 for bonding the capacitor 500, and a third metal film 510 is provided on the lower part of the capacitor 500. It can be. A first metal film 227 may be formed in the terminal area S2 on one side of the substrate 100, and a second metal film 228 may be formed on one side of the first metal film 227. At this time, a hole may be formed in the first passivation film 223 to expose the second metal film 228 upward. The third metal film 510 may be bonded to the second metal film 228 . The capacitor 500 can supply power to the light emitting device 230.

도 3을 참조하여, 본 발명의 제2실시 예에 따른 패키지 모듈을 설명한다.Referring to FIG. 3, a package module according to a second embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 제2실시 예에 따른 패키지 모듈은 커버부(400B)의 구성이 제1실시 예에 따른 패키지 모듈의 커버부(400A)와 상이할 수 있다.The configuration of the cover portion 400B of the package module according to the second embodiment of the present invention may be different from the cover portion 400A of the package module according to the first embodiment of the present invention.

본 발명의 제2실시 예에 따른 패키지 모듈의 커버부(400B)는, 기재(100)의 일면으로부터 상방으로 볼록하게 형성되고, 내부에 픽셀부(210) 및 발광 소자(230)가 수용된 캡 부재(440), 캡 부재(440)를 기재(100)에 접합시키는 접합 부재(450) 광 신호를 반사시킬 수 있도록 캡 부재(440)의 내부면에 형성되는 코팅층(미도시)을 포함할 수 있다.The cover portion 400B of the package module according to the second embodiment of the present invention is formed to be convex upward from one side of the substrate 100 and includes a cap member inside which the pixel portion 210 and the light emitting device 230 are accommodated. (440), the bonding member 450 for bonding the cap member 440 to the substrate 100 may include a coating layer (not shown) formed on the inner surface of the cap member 440 to reflect the optical signal. .

캡 부재(440)는 기재(100)의 일면으로부터 상방으로 볼록하게 형성되고, 내부가 하방으로 개방될 수 있다. 캡 부재(440)는 내부가 하방으로 개방된 사각통 형상일 수 있다. 물론, 캡 부재(440)의 형상은 다양할 수 있다. 한편, 캡 부재(440)는 금속 재질을 포함할 수 있다. 캡 부재(440)는 픽셀부(210)와 발광 소자(230)를 보호할 수 있다. 또한, 캡 부재(440)는 외부로부터의 광 신호를 차단할 수 있다.The cap member 440 is formed to be convex upward from one surface of the substrate 100, and its interior may be open downward. The cap member 440 may have a rectangular cylinder shape with the interior open downward. Of course, the shape of the cap member 440 may vary. Meanwhile, the cap member 440 may include a metal material. The cap member 440 may protect the pixel unit 210 and the light emitting device 230. Additionally, the cap member 440 may block optical signals from the outside.

캡 부재(440)는 가장자리에 접합 부재(450) 예컨대 접합 에폭시 수지가 부착될 수 있고, 접합 부재(450)를 통하여 기재(100)의 일면의 제2패시베이션막(226)에 접합될 수 있다. 즉, 캡 부재(440)는 가장자리가 기재(100)의 일면에 접합될 수 있다.The cap member 440 may have a bonding member 450, such as a bonding epoxy resin, attached to its edge, and can be bonded to the second passivation film 226 on one side of the substrate 100 through the bonding member 450. That is, the edge of the cap member 440 may be bonded to one surface of the substrate 100.

이때, 캡 부재(440)의 내부면에는 광 신호를 반시시킬 수 있는 코팅층(미도시)이 형성될 수 있다. 코팅층은 팔라듐 및 니켈 중 적어도 어느 하나의 재질을 포함할 수 있다. 이에, 코팅층은 발광 소자(230)에서 생성된 광 신호를 픽셀부(210)로 반사시켜줄 수 있다. 코팅층은 예컨대 도금 방식으로 형성될 수 있다.At this time, a coating layer (not shown) that can reflect the optical signal may be formed on the inner surface of the cap member 440. The coating layer may include at least one material selected from palladium and nickel. Accordingly, the coating layer can reflect the optical signal generated by the light emitting device 230 to the pixel unit 210. The coating layer may be formed, for example, by plating.

픽셀부(210) 및 발광 소자(230)와 코팅층 사이에 공기층이 형성될 수 있다. 이에, 광 신호는 캡 부재(440)의 내부에서 공기층 내를 진행하며, 코팅층에서 반사되어 픽셀부(210)로 입사될 수 있다.An air layer may be formed between the pixel unit 210 and the light emitting device 230 and the coating layer. Accordingly, the optical signal travels through the air layer inside the cap member 440, is reflected from the coating layer, and may be incident on the pixel portion 210.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제2실시 예의 변형 예에서는 커버부(400B')가 몰딩 부재(460)를 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, in a modified example of the second embodiment of the present invention, the cover portion 400B' may further include a molding member 460.

몰딩 부재(460)는 캡 부재(440)를 감싸도록 기재(100)의 일면상에 형성될 수 있다. 이때, 몰딩 부재(460)는 캡 부재(440)만 감싸거나, 캡 부재(440)를 포함하여 기재(100)의 일면상에 형성된 단자부(220)와 솔더볼(300)을 모두 감싸도록 형성될 수 있다. 여기서, 솔더볼(300)의 일면 예컨대 상면은 몰딩 부재(460)의 상방으로 돌출될 수 있다. 이러한 몰딩 부재(460)는 에폭시 수지 예컨대 언더필 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 물론, 몰딩 부재(460)의 재질은 다양할 수 있다.The molding member 460 may be formed on one side of the substrate 100 to surround the cap member 440. At this time, the molding member 460 may be formed to surround only the cap member 440 or both the terminal portion 220 and the solder ball 300 formed on one surface of the substrate 100, including the cap member 440. there is. Here, one surface of the solder ball 300, for example, the upper surface, may protrude upward from the molding member 460. This molding member 460 may include an epoxy resin, such as an underfill epoxy resin. Of course, the material of the molding member 460 may vary.

도 5 내지 도 12는 본 발명의 실시 예들에 따른 패키지 모듈을 제조하는 방법을 설명하기 위한 모식도이다.5 to 12 are schematic diagrams for explaining a method of manufacturing a package module according to embodiments of the present invention.

이하, 도 5 내지 도 12를 참조하여, 본 발명의 실시 예들에 따른 패키지 모듈 제조 방법을 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to FIGS. 5 to 12, a method of manufacturing a package module according to embodiments of the present invention will be described in detail.

본 발명의 실시 예들에 따른 패키지 모듈 제조 방법은, 기재(100)를 마련하는 과정, 기재(100)의 일면에 픽셀부(210)를 형성하고, 단자부(220)를 형성하는 과정, 단자부(220)에 발광 소자(230)를 접합하는 과정 및 기재(100)의 일면상에 픽셀부(210) 및 발광 소자(230)를 감싸는 커버부(400A, 400B, 400B')를 형성하는 과정을 포함한다.The package module manufacturing method according to embodiments of the present invention includes a process of preparing a substrate 100, forming a pixel portion 210 on one side of the substrate 100, forming a terminal portion 220, and forming a terminal portion 220. ) and forming cover parts 400A, 400B, and 400B' surrounding the pixel part 210 and the light emitting element 230 on one side of the substrate 100. .

우선, 기재(100)를 마련하는 과정을 수행한다. 여기서, 기재(100)는 웨이퍼를 포함할 수 있다. 즉, 기재(100)를 마련하는 과정은 소정 면적과 소정 두께의 웨이퍼를 마련하는 과정을 포함할 수 있다.First, a process of preparing the substrate 100 is performed. Here, the substrate 100 may include a wafer. That is, the process of preparing the substrate 100 may include preparing a wafer with a predetermined area and a predetermined thickness.

이후, 기재(100)의 일면에 픽셀부(210)를 형성하는 과정을 수행한다. 예컨대 기재(100)의 일면의 소정 위치에 소정 면적으로 복수개의 포토 다이오드의 층을 형성하고, 포토 다이오드의 층상에 컬러 필터의 층을 형성한다. 그리고 컬러 필터의 층 상에 복수개의 마이크로 렌즈의 층을 형성한다. 이때, 픽셀부(210)가 형성되는 기재(100)의 일면의 소정 영역을 픽셀 영역(S1)이라고 지칭할 수 있다.Afterwards, a process of forming the pixel portion 210 on one side of the substrate 100 is performed. For example, a plurality of photo diode layers are formed with a predetermined area at a predetermined position on one surface of the substrate 100, and a color filter layer is formed on the photo diode layer. Then, a plurality of microlens layers are formed on the color filter layer. At this time, a predetermined area on one side of the substrate 100 where the pixel portion 210 is formed may be referred to as a pixel area S1.

이후, 기재(100)의 일면에 단자부(220)를 형성한다. 이때, 단자부(220)는 픽셀 영역(S1)을 제외한 기재(100)의 일면의 나머지에 형성될 수 있다. 단자부(200)가 형성되는 기재(100)의 일면의 소정 영역을 단자 영역(S2)이라고 한다.Afterwards, a terminal portion 220 is formed on one side of the substrate 100. At this time, the terminal portion 220 may be formed on the remaining surface of the substrate 100 excluding the pixel area S1. A predetermined area on one surface of the substrate 100 where the terminal portion 200 is formed is referred to as a terminal region S2.

예컨대 도 5 및 도 6을 참조하면, 기재(100)의 일면의 단자 영역(S2)의 소정 위치에 표면실장패턴(221)을 형성한다. 이때, 표면실장패턴(221)은 픽셀부(210)와 가까운 소정 위치에 형성할 수 있다. 또한, 표면실장패턴(221)으로부터 이격된 기재(100)의 일면의 단자 영역(S2)의 소정 위치에 입출력 패턴(222)을 형성한다. 여기서, 입출력 패턴(222)은 픽셀부(210)로부터 멀리 이격되고, 기재(100)의 가장자리와 가까운 소정의 위치에 형성될 수 있다. 이때, 기재(100)의 일면의 단자 영역(S2)의 소정 위치에 제1 금속막(227)을 더 형성할 수도 있다.For example, referring to FIGS. 5 and 6, a surface mounting pattern 221 is formed at a predetermined position in the terminal area S2 on one surface of the substrate 100. At this time, the surface mounting pattern 221 may be formed at a predetermined location close to the pixel portion 210. Additionally, an input/output pattern 222 is formed at a predetermined position in the terminal area S2 on one side of the substrate 100 spaced from the surface mounting pattern 221. Here, the input/output pattern 222 may be formed at a predetermined location that is far away from the pixel portion 210 and close to the edge of the substrate 100. At this time, the first metal film 227 may be further formed at a predetermined position in the terminal area S2 on one surface of the substrate 100.

또한, 도 7을 참조하면, 기재(100)의 일면의 단자 영역(S2)에서, 기재(100)의 일면과 표면실장패턴(221) 및 입출력 패턴(222)을 덮도록 제1패시베이션막(223)을 형성하고, 제1패시베이션막(223)에 복수의 홀을 형성하여 표면실장패턴(221) 및 입출력 패턴(222)의 각각의 일면을 상방으로 노출시킨다.In addition, referring to FIG. 7, in the terminal area S2 on one side of the substrate 100, a first passivation film 223 is formed to cover one side of the substrate 100, the surface mounting pattern 221, and the input/output pattern 222. ) is formed, and a plurality of holes are formed in the first passivation film 223 to expose one surface of each of the surface mounting pattern 221 and the input/output pattern 222 upward.

이후, 도 8을 참조하면, 표면실장패턴(221)의 일면의 노출된 부위에 제1접합패턴(224)을 형성하고, 입출력 패턴(222)의 일면의 노출된 부위에 제2접합패턴(225)을 형성한다. 이때, 제2접합패턴(225)의 일부를 제1패시베이션막(223)의 일면을 따라 소정 면적으로 연장시킬 수 있다.Thereafter, referring to FIG. 8, a first bonding pattern 224 is formed on an exposed portion of one side of the surface mounting pattern 221, and a second bonding pattern 225 is formed on an exposed portion of one side of the input/output pattern 222. ) is formed. At this time, a portion of the second bonding pattern 225 may be extended to a predetermined area along one side of the first passivation film 223.

이후, 도 9에 도시된 바와 같이, 기재(100)의 일면의 단자 영역(S2)에서, 제1패시베이션막(223)과 제1접합패턴(224)과 제2접합패턴(225)을 덮도록 제2패시베이션막(226)을 형성하고, 제2패시베이션막(226)에 복수의 홀을 형성하여 제1접합패턴(224)의 일면과 제2접합패턴(225)의 일면을 상방으로 노출시킨다.Thereafter, as shown in FIG. 9, in the terminal area S2 on one side of the substrate 100, the first passivation film 223, the first bonding pattern 224, and the second bonding pattern 225 are covered. A second passivation film 226 is formed, and a plurality of holes are formed in the second passivation film 226 to expose one side of the first bonding pattern 224 and one side of the second bonding pattern 225 upward.

이때, 기재(100)의 일면에 표면실장패턴(221)과 입출력패턴(222)를 형성하면서 제1 금속막(227)을 함께 형성하는 경우에는, 기재(100)의 일면의 단자 영역(S2)에서, 기재(100)의 일면과 표면실장패턴(221)과 입출력 패턴(222) 및 제1 금속막(227)을 덮도록 제1패시베이션막(223)을 형성한다. 이후, 제1패시베이션막(223)에 복수의 홀을 형성하여, 표면실장패턴(221)과 입출력 패턴(222) 및 제1 금속막(227)을 제1패시베이션막(223)의 상방으로 노출시킨다. 이후, 표면실장패턴(221)상에 제1접합패턴(224)를 형성하고, 입출력패턴(222)상에 제2접합패턴(225)를 형성하고, 제1 금속막(227)상에 제2 금속막(228)을 형성한다. 이후, 기재(100)의 일면의 단자 영역(S2)에서, 제1패시베이션막(223)과 제1접합패턴(224)과 제2접합패턴(225)과 제2 금속막(228)을 덮도록 제2패시베이션막(226)을 형성하고, 제2패시베이션막(226)에 복수의 홀을 형성하여, 제1접합패턴(224)과 제2접합패턴(225)과 제2 금속막(228)을 상방으로 노출시킬 수 있다(도 2 참조).At this time, when forming the surface mounting pattern 221 and the input/output pattern 222 on one side of the substrate 100 and forming the first metal film 227 together, the terminal area S2 on one side of the substrate 100 In, a first passivation film 223 is formed to cover one side of the substrate 100, the surface mounting pattern 221, the input/output pattern 222, and the first metal film 227. Afterwards, a plurality of holes are formed in the first passivation film 223 to expose the surface mounting pattern 221, the input/output pattern 222, and the first metal film 227 above the first passivation film 223. . Thereafter, a first bonding pattern 224 is formed on the surface mounting pattern 221, a second bonding pattern 225 is formed on the input/output pattern 222, and a second bonding pattern 225 is formed on the first metal film 227. A metal film 228 is formed. Thereafter, in the terminal area S2 on one side of the substrate 100, the first passivation film 223, the first bonding pattern 224, the second bonding pattern 225, and the second metal film 228 are covered. A second passivation film 226 is formed, and a plurality of holes are formed in the second passivation film 226 to form a first bonding pattern 224, a second bonding pattern 225, and a second metal film 228. It can be exposed upward (see Figure 2).

이러한 과정을 통하여 기재(100)의 일면상에 단자부(220)를 형성할 수 있다.Through this process, the terminal portion 220 can be formed on one side of the substrate 100.

이후, 도 10을 참조하면, 단자부(220)에 발광 소자(230)를 접합하는 과정을 수행한다. 우선, 소정 크기의 마이크로 LED를 발광 소자(230)로서 준비하고, 발광 소자(230)의 하부에 금속패턴(231)을 형성한다. 그리고 플립 칩 본딩 방식으로 금속패턴(231)을 제1접합패턴(224)에 접합시킨으로써, 단자부(220)에 발광 소자(230)를 접합할 수 있다.Next, referring to FIG. 10 , a process of bonding the light emitting device 230 to the terminal portion 220 is performed. First, a micro LED of a predetermined size is prepared as the light emitting device 230, and a metal pattern 231 is formed on the lower part of the light emitting device 230. Additionally, the light emitting device 230 can be bonded to the terminal portion 220 by bonding the metal pattern 231 to the first bonding pattern 224 using a flip chip bonding method.

이어서, 도 11을 참조하면, 단자부(220)에 솔더볼(300)을 접합하는 과정을 수행할 수 있다. 즉, 구 형상의 솔더볼(300)을 플립 칩 본딩 방식으로 단자부(220)의 제2접합패턴(225)에 접합시킬 수 있다.Next, referring to FIG. 11 , a process of joining the solder ball 300 to the terminal portion 220 can be performed. That is, the spherical solder ball 300 can be bonded to the second bonding pattern 225 of the terminal portion 220 using a flip chip bonding method.

한편, 기재(100)의 일면의 단자부(220)에 제2 금속막(228)이 형성되는 경우, 솔더볼(300)을 접합하는 과정 이후에, 제2 금속막(228)상에 커패시터(500)를 접합하는 과정을 더 수행할 수도 있다.Meanwhile, when the second metal film 228 is formed on the terminal portion 220 on one side of the substrate 100, after the process of joining the solder ball 300, the capacitor 500 is formed on the second metal film 228. A further joining process may be performed.

이후, 기재(100)의 일면상에 픽셀부(210) 및 발광 소자(230)를 감싸는 커버부(400A, 400B, 400B')를 형성하는 과정을 수행한다.Thereafter, a process of forming cover parts 400A, 400B, and 400B' surrounding the pixel part 210 and the light emitting device 230 is performed on one side of the substrate 100.

우선, 도 12 및 도 13을 참조하면, 제1실시 예에 따른, 커버부(400A)를 형성하는 과정은, 에폭시 수지를 이용하여, 기재(100)의 일면상에 픽셀부(210)와 발광 소자(230)를 둘러싸는 링 형상의 댐 부재(410)를 형성한다. 이후, 댐 부재(410)의 내측에 픽셀부(210) 및 발광 소자(230)가 잠길 수 있는 소정의 높이로 투명 에폭시 수지를 주입하여 광 투과 부재(420)를 형성한다. 이후, 외부의 가시광선 및 근적외선을 차단하기 위한 흑색 안료를 함유하는 언더필 에폭시 수지로 광 투과 부재(420)를 감싸도록 광 차단 부재(430)를 형성할 수 있다. 이때, 각각의 에폭시 수지는 진공 적층(vacuum lamination) 방식으로 기재(100)의 일면상에 형성될 수 있다. 또한, 각각의 과정 사이마다 에폭시 수지의 경화를 위한 베이킹 과정을 수행할 수 있다.First, referring to FIGS. 12 and 13, the process of forming the cover portion 400A according to the first embodiment involves forming a pixel portion 210 and a light emitting surface on one side of the substrate 100 using an epoxy resin. A ring-shaped dam member 410 surrounding the element 230 is formed. Thereafter, a transparent epoxy resin is injected into the dam member 410 to a predetermined height at which the pixel portion 210 and the light emitting device 230 can be immersed to form the light transmitting member 420. Thereafter, the light blocking member 430 may be formed to surround the light transmitting member 420 with an underfill epoxy resin containing a black pigment for blocking external visible rays and near-infrared rays. At this time, each epoxy resin may be formed on one side of the substrate 100 by vacuum lamination. Additionally, a baking process for curing the epoxy resin may be performed between each process.

이러한 과정을 통하여 픽셀부(210)와 발광 소자(230)을 감싸는 커버부(400A)를 형성할 수 있고, 픽셀부(210)와 발광 소자(230)의 상측에 광 투과 부재(420) 및 광 차단 부재(430)의 계면을 위치시킬 수 있다.Through this process, a cover portion 400A surrounding the pixel portion 210 and the light emitting device 230 can be formed, and a light transmitting member 420 and a light transmitting member 420 are formed on the upper side of the pixel portion 210 and the light emitting device 230. The interface of the blocking member 430 can be positioned.

이때, 광 투과 부재(420)와 광 차단 부재(430)의 광 투과율 차이 때문에, 이들의 계면에서 광 신호가 반사될 수 있다. 이에, 이들의 계면은 패키지 모듈의 작동 시에 광 신호를 반사시키는 것에 활용될 수 있다.At this time, due to the difference in light transmittance between the light transmitting member 420 and the light blocking member 430, the light signal may be reflected at their interface. Accordingly, these interfaces can be used to reflect optical signals during operation of the package module.

한편, 본 발명의 제2실시 예에 따르면, 커버부(400B)를 형성하는 과정은, 기재(100)의 일면에 광 신호를 반사할 수 있는 코팅층(미도시)이 내부면에 형성된 캡 부재(440)를 접합하여 픽셀부(210) 및 발광 소자(230)를 커버하는 과정을 포함할 수 있다(도 3 참조). 예컨대 캡 부재(440)의 가장자리에 접합 에폭시 수지를 부착시키고, 접합 에폭시 수지를 통하여 캡 부재(440)를 기재(100)의 일면에 접합시킬 수 있다.Meanwhile, according to the second embodiment of the present invention, the process of forming the cover part 400B includes a cap member ( A process of covering the pixel unit 210 and the light emitting device 230 by bonding 440 may be included (see FIG. 3). For example, a bonding epoxy resin may be attached to the edge of the cap member 440, and the cap member 440 may be bonded to one surface of the substrate 100 through the bonding epoxy resin.

한편, 본 발명의 제2실시 예의 변형 예에 따른 커버부(400B')를 형성하는 과정은, 기재(100)의 일면에 캡 부재(440)를 접합하는 과정 이후에, 캡 부재(440)를 감싸도록 언더필 에폭시 수지를 진공 적층 방식으로 적층하여 몰딩하는 과정을 더 포함할 수 있다. 이 과정에 의해, 캡 부재(440)상에 몰딩 부재(460)이 형성될 수 있다.Meanwhile, in the process of forming the cover portion 400B' according to a modified example of the second embodiment of the present invention, after the process of bonding the cap member 440 to one surface of the substrate 100, the cap member 440 is It may further include a process of laminating and molding the underfill epoxy resin using a vacuum lamination method to surround it. Through this process, the molding member 460 can be formed on the cap member 440.

한편, 본 발명의 실시 예들에 따른 패키지 모둘 제조 방법은, 커버부를 형성하는 과정 이후에, 기재(100)의 타면을 그라인딩하여 기재의 두께를 조절하는 과정을 더 포함할 수도 있다. 이에, 패키지 모듈의 전체 높이를 원하는 높이로 조절할 수 있다. 이때, 상술한 패키지 모듈의 제조 과정들은 웨이퍼 레벨에서 수행될 수 있다.Meanwhile, the package module manufacturing method according to embodiments of the present invention may further include a process of adjusting the thickness of the substrate by grinding the other side of the substrate 100 after forming the cover portion. Accordingly, the overall height of the package module can be adjusted to a desired height. At this time, the manufacturing processes of the above-described package module may be performed at the wafer level.

이하, 본 발명의 실시 예들에 따른 포토 센서를 포함하는 패키지 모듈의 동작 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of operating a package module including a photo sensor according to embodiments of the present invention will be described.

본 발명의 실시 예들에 따른 패키지 모듈의 동작 방법은, 발광 소자(230)로부터 광 신호를 방출하는 과정과, 커버부(400A, 400B, 400B')에 의하여 광 신호를 반사하는 과정과, 픽셀부(210)로 광 신호를 수광하는 과정을 포함한다.A method of operating a package module according to embodiments of the present invention includes a process of emitting an optical signal from the light-emitting device 230, a process of reflecting the optical signal by the cover parts 400A, 400B, and 400B', and a pixel part. It includes a process of receiving an optical signal at (210).

여기서, 발광 소자(230), 커버부(400A, 400B, 400B') 및 픽셀부(210)는 동일한 기재(100) 상에 형성되어 있다.Here, the light emitting device 230, the cover portions 400A, 400B, and 400B', and the pixel portion 210 are formed on the same substrate 100.

우선, 발광 소자로부터 광 신호를 방출한다. 즉, 외부로부터 제어 신호를 생성하고, 솔더볼(300)과 단자부(220)를 통하여 발광 소자(230)에 제어 신호를 입력한다. 이에, 발광 소자(230)를 작동시켜 광 신호를 생성한다. 이때, 광 신호 생성에 필요한 전력은 외부 혹은 커패시터(500)로부터 공급받을 수 있다.First, an optical signal is emitted from the light emitting element. That is, a control signal is generated from the outside, and the control signal is input to the light emitting device 230 through the solder ball 300 and the terminal portion 220. Accordingly, the light emitting device 230 is operated to generate an optical signal. At this time, the power required to generate the optical signal can be supplied from the outside or the capacitor 500.

이에, 발광 소자(230)에서 광 신호가 생성되고, 생성된 광 신호(230)는 커버부(400A, 400B, 400B')의 내부에서 방사상으로 진행될 수 있다.Accordingly, an optical signal is generated in the light emitting device 230, and the generated optical signal 230 may proceed radially within the cover portions 400A, 400B, and 400B'.

이후, 커버부(400A, 400B, 400B') 에 의하여 광 신호를 반사한다.Afterwards, the optical signal is reflected by the cover parts 400A, 400B, and 400B'.

즉, 본 발명의 제1실시 예에 따르면, 발광 소자(230) 및 픽셀부(210)를 감싸는 커버부(400A)의 광 투과 부재(420) 내로 광 신호를 진행시키고, 광 투과 부재(420)를 감싸도록 마련된 광 차단 부재(430)와 광 투과 부재(420)의 계면에서 광 신호를 반사시킨다.That is, according to the first embodiment of the present invention, an optical signal progresses into the light-transmitting member 420 of the cover portion 400A surrounding the light-emitting device 230 and the pixel portion 210, and the light-transmitting member 420 An optical signal is reflected at the interface between the light blocking member 430 and the light transmitting member 420 provided to surround the .

또한, 본 발명의 제1실시 예에 따르면, 발광 소자(230) 및 픽셀부(210)를 감싸는 커버부(400B, 400B')의 캡 부재(440)와 기재(100) 사이의 공기층 내에서 광 신호를 진행시키고, 캡 부재(440)의 내부면에 코팅된 코팅층에 광 신호를 반사시킨다.In addition, according to the first embodiment of the present invention, light is transmitted within the air layer between the cap member 440 of the cover portions 400B and 400B' surrounding the light emitting device 230 and the pixel portion 210 and the substrate 100. The signal is advanced, and the optical signal is reflected on the coating layer coated on the inner surface of the cap member 440.

이후, 픽셀부(210)로 광 신호를 수광한다. 즉, 광 차단 부재(430)와 광 투과 부재(420)의 계면 또는 캡 부재(440)의 내부면의 코팅층으로부터 반사된 광 신호를 픽셀부(210)에서 수광할 수 있다. 픽셀부(210)는 광 신호를 입력받아서 전기 신호를 생성하고, 생성된 전기 신호를 단자부(200)와 솔더볼(300)을 통하여 외부로 송신할 수 있다. 외부로 송신된 전기 신호는 양자난수 생성에 사용될 수 있다.Afterwards, the optical signal is received by the pixel unit 210. That is, the pixel unit 210 may receive an optical signal reflected from the interface between the light blocking member 430 and the light transmitting member 420 or from the coating layer on the inner surface of the cap member 440. The pixel unit 210 may receive an optical signal, generate an electrical signal, and transmit the generated electrical signal to the outside through the terminal unit 200 and the solder ball 300. Electrical signals transmitted externally can be used to generate quantum random numbers.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 패키지 모듈은 웨이퍼 레벨에서 패키지 모듈을 제조함으로써, 인쇄회로기판을 사용하지 않고, 패키지 모듈을 제조할 수 있고, 이에, 패키지 모듈의 전체 구조와 크기를 컴팩트하게 줄일 수 있다.As described above, the package module according to an embodiment of the present invention can be manufactured without using a printed circuit board by manufacturing the package module at the wafer level, and thus the overall structure and size of the package module can be changed. It can be reduced to a compact size.

또한, 패키지 모듈은 커버부의 내부에서 광 신호를 송신함으로써, 포토센서의 픽셀부가 외부의 광 신호에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다. 이에, 패키지 모듈을 구비하는 모바일 기기에서 고품질의 양자난수를 생성할 수 있다.Additionally, the package module can prevent the pixel part of the photosensor from being polluted by external light signals by transmitting an optical signal from inside the cover part. Accordingly, high-quality quantum random numbers can be generated in a mobile device equipped with a package module.

본 발명의 상기 실시 예는 본 발명의 설명을 위한 것이고, 본 발명의 제한을 위한 것이 아니다. 본 발명의 상기 실시 예에 개시된 구성과 방식은 서로 결합하거나 교차하여 다양한 형태로 조합 및 변형될 것이고, 이에 의한 변형 예들도 본 발명의 범주로 볼 수 있음을 주지해야 한다. 즉, 본 발명은 청구범위 및 이와 균등한 기술적 사상의 범위 내에서 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 본 발명이 해당하는 기술 분야에서의 업자는 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 실시 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.The above embodiments of the present invention are for illustrative purposes only and are not intended to limit the present invention. It should be noted that the configurations and methods disclosed in the above embodiments of the present invention may be combined or modified into various forms by combining or crossing each other, and the resulting modifications may also be considered within the scope of the present invention. In other words, the present invention will be implemented in a variety of different forms within the scope of the claims and equivalent technical ideas, and various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention by those skilled in the art to which the present invention pertains. You will be able to understand.

100: 기재 200: 포토센서
210: 픽셀부 220: 단자부
230: 발광 소자 231: 금속패턴
300: 솔더볼 400A, 400B, 400B': 커버부
410: 댐 부재 420: 광 투과 부재
430: 광 차단 부재 440: 캡 부재
450: 접합 부재 460: 몰딩 부재
500: 커패시터
100: base material 200: photo sensor
210: pixel portion 220: terminal portion
230: light emitting device 231: metal pattern
300: Solder ball 400A, 400B, 400B': Cover part
410: dam member 420: light transmission member
430: light blocking member 440: cap member
450: joining member 460: molding member
500: capacitor

Claims (20)

기재;
상기 기재의 일면에 형성되는 픽셀부;
상기 기재의 일면에 접합되는 발광 소자; 및
상기 발광 소자에서 생성되는 광 신호를 상기 픽셀부로 반사시킬 수 있도록, 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 감싸는 커버부;를 포함하고,
상기 커버부는,
상기 기재의 일면에 형성되고, 내부에 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자가 수용되는 광 투과 부재; 및
상기 광 투과 부재를 감싸는 광 차단 부재;를 포함하고,
상기 광 신호는 상기 광 투과 부재 및 상기 광 차단 부재의 경계에서 반사되어 상기 픽셀부으로 입사되고,
상기 광 차단 부재는 외부의 가시광선 및 근적외선을 차단하기 위한 흑색 안료(black pigment)를 함유하는 에폭시 수지를 포함하고,
상기 광 차단 부재의 두께는 20㎛ 내지 100㎛의 범위인 패키지 모듈.
write;
a pixel portion formed on one side of the substrate;
A light emitting device bonded to one surface of the substrate; and
A cover unit surrounding the pixel unit and the light-emitting device to reflect the optical signal generated by the light-emitting device to the pixel unit,
The cover part,
a light-transmitting member formed on one side of the substrate and accommodating the pixel portion and the light-emitting device therein; and
It includes a light blocking member surrounding the light transmitting member,
The optical signal is reflected at the boundary of the light transmitting member and the light blocking member and is incident on the pixel portion,
The light blocking member includes an epoxy resin containing black pigment to block external visible rays and near-infrared rays,
A package module wherein the thickness of the light blocking member ranges from 20㎛ to 100㎛.
청구항 1에 있어서,
상기 기재는 웨이퍼를 포함하고,
상기 픽셀부와 상기 발광 소자는 상기 웨이퍼의 동일면에 이웃하여 배치되는 패키지 모듈.
In claim 1,
The substrate includes a wafer,
A package module in which the pixel portion and the light emitting device are disposed adjacent to each other on the same surface of the wafer.
청구항 1에 있어서,
상기 커버부는,
상기 기재의 일면상에서 상기 광 투과 부재의 둘레를 따라 연장형성되고, 상기 광 차단 부재의 내부에 수용되는 댐 부재;를 포함하는 패키지 모듈.
In claim 1,
The cover part,
A package module comprising: a dam member extending along the circumference of the light-transmitting member on one surface of the substrate and accommodated inside the light-blocking member.
청구항 1에 있어서,
상기 광 투과 부재는 광 투과율이 90% 이상 100% 미만의 범위인 투명 에폭시 수지를 포함하는 패키지 모듈.
In claim 1,
The light transmitting member is a package module comprising a transparent epoxy resin having a light transmittance in the range of 90% to 100%.
기재;
상기 기재의 일면에 형성되는 픽셀부;
상기 기재의 일면에 접합되는 발광 소자; 및
상기 발광 소자에서 생성되는 광 신호를 상기 픽셀부로 반사시킬 수 있도록, 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 감싸는 커버부;를 포함하고,
상기 커버부는,
상기 기재의 일면으로부터 상방으로 볼록하게 형성되고, 내부에 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자가 수용되는 캡 부재; 및
광 신호를 반사시킬 수 있도록 상기 캡 부재의 내부면에 형성되는 코팅층;을 포함하고,
상기 픽셀부 및 상기 발광 소자와 상기 코팅층 사이에 공기층이 형성되는 패키지 모듈.
write;
a pixel portion formed on one side of the substrate;
A light emitting device bonded to one surface of the substrate; and
A cover unit surrounding the pixel unit and the light-emitting device to reflect the optical signal generated by the light-emitting device to the pixel unit,
The cover part,
a cap member that is formed to be convex upward from one side of the substrate and accommodates the pixel portion and the light emitting device therein; and
A coating layer formed on the inner surface of the cap member to reflect optical signals,
A package module in which an air layer is formed between the pixel portion, the light emitting device, and the coating layer.
청구항 5에 있어서,
상기 커버부는,
상기 캡 부재를 감싸는 몰딩 부재;를 더 포함하는 패키지 모듈.
In claim 5,
The cover part,
A package module further comprising a molding member surrounding the cap member.
청구항 5에 있어서,
상기 캡 부재는 금속 재질을 포함하고,
상기 코팅층은 팔라듐 및 니켈 중 적어도 어느 하나의 재질을 포함하는 패키지 모듈.
In claim 5,
The cap member includes a metal material,
A package module wherein the coating layer includes at least one material selected from palladium and nickel.
청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 발광 소자는 1㎛ 초과 200㎛ 이하의 크기로 형성된 마이크로 LED(Micro Light Emitting Diode)를 포함하고, SMT(Surface Mounting Technology) 공정에 의해 상기 기재의 일면에 접합되는 패키지 모듈.
The method of any one of claims 1 to 7,
A package module in which the light emitting device includes a micro LED (Micro Light Emitting Diode) formed in a size of more than 1 μm and less than 200 μm, and is bonded to one side of the substrate by a SMT (Surface Mounting Technology) process.
청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기재의 일면에 접합되고, 상기 커버부에 수용되는 커패시터;를 더 포함하는 패키지 모듈.
The method of any one of claims 1 to 7,
A package module further comprising a capacitor bonded to one surface of the substrate and accommodated in the cover portion.
청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기재의 일면에 접합되고, 상기 커버부의 외부에 노출되는 솔더볼;을 포함하는 패키지 모듈.
The method of any one of claims 1 to 7,
A package module including a solder ball bonded to one surface of the substrate and exposed to the outside of the cover part.
기재;
상기 기재의 일면에 형성되는 픽셀부;
상기 기재의 일면에 접합되는 발광 소자; 및
상기 발광 소자에서 생성되는 광 신호를 상기 픽셀부로 반사시킬 수 있도록, 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 감싸는 커버부;를 포함하고,
상기 발광 소자는 1㎛ 초과 200㎛ 이하의 크기로 형성된 마이크로 LED(Micro Light Emitting Diode)를 포함하고, SMT(Surface Mounting Technology) 공정에 의해 상기 기재의 일면에 접합되는 패키지 모듈.
write;
a pixel portion formed on one side of the substrate;
A light emitting device bonded to one surface of the substrate; and
A cover unit surrounding the pixel unit and the light-emitting device to reflect the optical signal generated by the light-emitting device to the pixel unit,
A package module in which the light emitting device includes a micro LED (Micro Light Emitting Diode) formed in a size of more than 1 μm and less than 200 μm, and is bonded to one side of the substrate by a SMT (Surface Mounting Technology) process.
기재;
상기 기재의 일면에 형성되는 픽셀부;
상기 기재의 일면에 접합되는 발광 소자;
상기 발광 소자에서 생성되는 광 신호를 상기 픽셀부로 반사시킬 수 있도록, 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 감싸는 커버부; 및
상기 기재의 일면에 접합되고, 상기 커버부의 외부에 노출되는 솔더볼;을 포함하는 패키지 모듈.
write;
a pixel portion formed on one side of the substrate;
A light emitting device bonded to one surface of the substrate;
a cover unit surrounding the pixel unit and the light-emitting device to reflect the optical signal generated by the light-emitting device to the pixel unit; and
A package module including a solder ball bonded to one surface of the substrate and exposed to the outside of the cover part.
청구항 11 또는 청구항 12에 있어서,
상기 기재의 일면에 접합되고, 상기 커버부에 수용되는 커패시터;를 더 포함하는 패키지 모듈.
In claim 11 or claim 12,
A package module further comprising a capacitor bonded to one surface of the substrate and accommodated in the cover portion.
삭제delete 기재를 마련하는 과정;
상기 기재의 일면에 픽셀부를 형성하고, 단자부를 형성하는 과정;
상기 단자부에 발광 소자를 접합하는 과정; 및
상기 발광 소자에서 생성되는 광 신호를 상기 픽셀부로 반사시킬 수 있도록 상기 기재의 일면상에 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 감싸는 커버부를 형성하는 과정;을 포함하고,
상기 커버부를 형성하는 과정은,
상기 기재의 일면상에 상기 픽셀부를 둘러싸는 댐 부재를 형성하는 과정;
상기 댐 부재의 내측에 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자가 잠길 수 있는 높이로 투명 에폭시 수지를 주입하여 광 투과 부재를 형성하는 과정;
외부의 가시광선 및 근적외선을 차단하기 위한 흑색 안료를 함유하는 에폭시 수지로 상기 광 투과 부재를 감싸도록 20㎛ 내지 100㎛의 범위의 두께로 광 차단 부재를 형성하는 과정;을 포함하고,
상기 광 신호는 상기 광 투과 부재 및 상기 광 차단 부재의 경계에서 반사되어 상기 픽셀부으로 입사되는 패키지 모듈 제조 방법.
The process of preparing materials;
Forming a pixel portion on one side of the substrate and forming a terminal portion;
A process of bonding a light emitting device to the terminal portion; and
A process of forming a cover portion surrounding the pixel portion and the light emitting device on one surface of the substrate so that the optical signal generated by the light emitting device can be reflected to the pixel portion,
The process of forming the cover part is,
forming a dam member surrounding the pixel portion on one surface of the substrate;
forming a light-transmitting member by injecting transparent epoxy resin into the dam member to a height at which the pixel portion and the light-emitting device can be immersed;
A process of forming a light blocking member with a thickness in the range of 20㎛ to 100㎛ to surround the light transmitting member with an epoxy resin containing a black pigment for blocking external visible rays and near-infrared rays,
The optical signal is reflected at a boundary between the light transmitting member and the light blocking member and is incident on the pixel portion.
기재를 마련하는 과정;
상기 기재의 일면에 픽셀부를 형성하고, 단자부를 형성하는 과정;
상기 단자부에 발광 소자를 접합하는 과정;
상기 기재의 일면상에 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 감싸는 커버부를 형성하는 과정;을 포함하고,
상기 커버부를 형성하는 과정은,
상기 기재의 일면에 광 신호를 반사할 수 있는 코팅층이 내부면에 형성된 캡 부재를 접합하여 상기 픽셀부 및 상기 발광 소자를 커버하는 과정; 및
상기 캡 부재를 감싸도록 에폭시 수지를 적층하여 몰딩하는 과정;을 포함하는 패키지 모듈 제조 방법.
The process of preparing materials;
Forming a pixel portion on one side of the substrate and forming a terminal portion;
A process of bonding a light emitting device to the terminal portion;
A process of forming a cover portion surrounding the pixel portion and the light emitting device on one surface of the substrate,
The process of forming the cover part is,
A process of covering the pixel portion and the light emitting device by bonding a cap member formed on an inner surface of a coating layer capable of reflecting an optical signal to one surface of the substrate; and
A package module manufacturing method comprising: laminating and molding an epoxy resin to surround the cap member.
삭제delete 삭제delete 포토 센서를 포함하는 패키지 모듈의 동작 방법으로서,
발광 소자로부터 광 신호를 방출하는 과정;
커버부에 의하여 광 신호를 반사하는 과정;
픽셀부로 광 신호를 수광하는 과정;을 포함하고,
상기 발광 소자, 상기 커버부 및 상기 픽셀부는 동일한 기재 상에 형성되어 있고,
상기 광 신호를 반사하는 과정은,
상기 발광 소자 및 상기 픽셀부를 감싸는 상기 커버부의 광 투과 부재 내로 광 신호를 진행시키는 과정;
상기 광 투과 부재를 감싸는 상기 커버부의 광 차단 부재와 상기 광 투과 부재의 계면에서 광 신호를 반사시키는 과정;을 포함하는 패키지 모듈의 동작 방법.
A method of operating a package module including a photo sensor, comprising:
A process of emitting an optical signal from a light emitting device;
A process of reflecting an optical signal by a cover part;
Including a process of receiving an optical signal into the pixel unit,
The light emitting element, the cover part, and the pixel part are formed on the same substrate,
The process of reflecting the optical signal is,
A process of advancing an optical signal into a light-transmitting member of the cover portion surrounding the light-emitting device and the pixel portion;
A method of operating a package module comprising: reflecting an optical signal at an interface between a light-blocking member of the cover portion surrounding the light-transmitting member and the light-transmitting member.
포토 센서를 포함하는 패키지 모듈의 동작 방법으로서,
발광 소자로부터 광 신호를 방출하는 과정;
커버부에 의하여 광 신호를 반사하는 과정;
픽셀부로 광 신호를 수광하는 과정;을 포함하고,
상기 발광 소자, 상기 커버부 및 상기 픽셀부는 동일한 기재 상에 형성되어 있고,
상기 광 신호를 반사하는 과정은,
상기 발광 소자 및 상기 픽셀부를 감싸는 상기 커버부의 캡 부재와 상기 기재 사이의 공기층 내에서 광 신호를 진행시키는 과정;
상기 캡 부재의 내부면에 코팅된 상기 커버부의 코팅층에 광 신호를 반사시키는 과정;을 포함하는 패키지 모듈의 동작 방법.
A method of operating a package module including a photo sensor, comprising:
A process of emitting an optical signal from a light emitting device;
A process of reflecting an optical signal by a cover part;
Including a process of receiving an optical signal into the pixel unit,
The light emitting element, the cover part, and the pixel part are formed on the same substrate,
The process of reflecting the optical signal is,
A process of propagating an optical signal in an air layer between the substrate and a cap member of the cover portion surrounding the light emitting device and the pixel portion;
A method of operating a package module comprising: reflecting an optical signal to a coating layer of the cover portion coated on an inner surface of the cap member.
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