KR102605846B1 - Substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

기판 처리장치에 관한 발명이 개시된다. 개시된 기판 처리장치는, 기판을 지지하며, 기판을 회전시키는 기판회전부와, 기판에 처리액을 공급하는 처리액공급부와, 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스를 회수하는 회수부를 포함하고, 회수부는, 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스가 유입되며 이동 가능하게 구비되는 이동회수부와, 이동회수부로부터 전달받은 처리액과 배기가스를 분리하는 분리부와, 분리부에 연결되어 처리액을 배출하는 처리액배출부와, 분리부에 연결되어 배기가스를 배출하는 배기부를 포함하는 것을 특징으로 한다.An invention relating to a substrate processing apparatus is disclosed. The disclosed substrate processing apparatus includes a substrate rotating unit that supports the substrate and rotates the substrate, a processing liquid supply unit that supplies processing liquid to the substrate, and a recovery unit that recovers the processing liquid and exhaust gas processed from the substrate, and the recovery unit , a mobile recovery unit that allows the processing liquid and exhaust gas processed on the substrate to flow in and is movable, a separator that separates the processing liquid and exhaust gas received from the mobile recovery unit, and is connected to the separator to discharge the processing liquid. It is characterized in that it includes a treatment liquid discharge part that discharges exhaust gas and is connected to the separation part.

Description

기판 처리장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}Substrate processing device {SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은 기판 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기판 처리 과정에서 발생되는 처리액 및 배기가스 등을 분리하여 배출할 수 있는 기판 처리장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more specifically, to a substrate processing apparatus that can separate and discharge processing liquid and exhaust gas generated during the substrate processing process.

일반적으로, 발광 다이오드(LED) 소자 또는 반도체 소자 등이 고밀도, 고집적화, 고성능화되고, 회로 패턴의 미세화가 급속히 진행됨에 따라, 기판 표면을 식각하거나, 기판 표면에 잔류하는 파티클(Particle), 유기 오염물, 금속 오염물 등의 오염물질을 세정하기 위한 기판 처리공정의 중요성이 커지고 있다. In general, as light emitting diode (LED) devices or semiconductor devices become more dense, highly integrated, and performant, and circuit patterns are rapidly refined, the substrate surface is etched, particles remaining on the substrate surface, organic contaminants, The importance of substrate processing processes for cleaning contaminants such as metal contaminants is increasing.

기판을 식각하거나, 기판을 세정하는 기판 처리장치는 건식(Dry) 또는 습식(Wet) 처리방식 중 어느 하나의 방식으로 기판 표면을 처리한다. 특히, 습식 처리방식은 약액 등의 처리액을 이용한 처리방식으로써, 복수의 기판을 동시에 세정하는 배치식과 기판을 낱장 단위로 세정하는 매엽식으로 구분될 수 있다.A substrate processing device that etches or cleans a substrate processes the substrate surface using either a dry or wet processing method. In particular, the wet processing method is a processing method using a treatment liquid such as a chemical solution, and can be divided into a batch method that cleans a plurality of substrates simultaneously and a single wafer method that cleans the substrates by sheet.

종래의 매엽식 기판 처리장치는, 기판회전부에 의해 지지된 상태에서 고속으로 회전되는 기판의 표면에 처리액을 분사하는 방식으로 기판을 처리하게 되는데, 기판 처리과정에서 배출되는 처리액과 배기가스 등이 섞인 상태로 회수되기 때문에, 처리액과 배기가스를 분리하는 과정이 추가로 필요하고, 순차적으로 주입되는 처리액 등이 혼입되는 문제점이 있다. 따라서 이를 개선할 필요성이 요청된다. Conventional single-wafer substrate processing equipment processes substrates by spraying a processing liquid on the surface of a substrate that rotates at high speed while supported by a substrate rotating unit. The processing liquid and exhaust gases discharged during the substrate processing process are processed. Since these are recovered in a mixed state, an additional process of separating the treatment liquid and the exhaust gas is required, and there is a problem in that sequentially injected treatment liquids are mixed. Therefore, there is a need to improve this.

본 발명의 배경 기술은, 대한민국 공개특허공보 제10-2013-0142033호(2013.12.27 공개, 발명의 명칭: 기판 처리 장치)에 개시되어 있다. The background technology of the present invention is disclosed in Korean Patent Publication No. 10-2013-0142033 (published on December 27, 2013, title of the invention: Substrate processing apparatus).

본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하기 위해 안출된 것으로, 기판을 처리하면서 발생되는 배기가스와 처리액의 배출을 원활하게 하고, 배기가스와 처리액을 분리하며, 이종의 처리액 등의 혼입을 방지할 수 있는 기판 처리장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention was developed to improve the problems described above. It smoothens the discharge of exhaust gas and processing liquid generated while processing a substrate, separates exhaust gas and processing liquid, and prevents mixing of different processing liquids. The purpose is to provide a substrate processing device that can prevent

본 발명에 따른 기판 처리장치는: 기판을 지지하며, 상기 기판을 회전시키는 기판회전부; 상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액공급부; 및 상기 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스를 회수하는 회수부;를 포함하고, 상기 회수부는, 상기 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스가 유입되며, 이동 가능하게 구비되는 이동회수부; 상기 이동회수부로부터 전달받은 처리액과 배기가스를 분리하는 분리부; 상기 분리부에 연결되어 처리액을 배출하는 처리액배출부; 및 상기 분리부에 연결되어 배기가스를 배출하는 배기부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. A substrate processing apparatus according to the present invention includes: a substrate rotating unit that supports a substrate and rotates the substrate; a processing liquid supply unit that supplies processing liquid to the substrate; and a recovery unit for recovering the processing liquid and exhaust gas processed on the substrate, wherein the recovery unit includes a movable recovery unit into which the processing liquid and exhaust gas processed on the substrate flow, and which is movable. a separation unit that separates the treatment liquid received from the mobile recovery unit and the exhaust gas; a processing liquid discharge unit connected to the separation unit to discharge the processing liquid; and an exhaust unit connected to the separation unit to discharge exhaust gas.

본 발명에서 상기 이동회수부는, 상기 기판회전부를 둘러싸며, 상기 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스의 이동 방향을 전환하는 전환부; 및 상기 전환부에 연결되어 처리액과 배기가스의 이동을 상기 분리부 측으로 안내하는 회수배출부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the moving recovery unit includes a switching unit surrounding the substrate rotating unit and switching the direction of movement of the processing liquid and exhaust gas processed on the substrate; and a recovery discharge unit connected to the switching unit to guide the movement of the treatment liquid and exhaust gas toward the separation unit.

본 발명에서 상기 전환부는, 상기 기판회전부의 회전중심 측으로 상향 경사지게 형성되는 전환안내부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the switching unit is characterized in that it includes a switching guide formed to be inclined upward toward the rotation center of the substrate rotating unit.

본 발명에서 상기 전환안내부는, 상기 기판회전부의 회전중심 측으로 상향 경사지게 형성되는 전환안내바디; 및 상기 전환안내바디의 내주면에 돌출 형성되어, 상기 기판에서 배출되는 처리액 또는 배기가스가 상기 기판 측으로 역류하는 것을 방지하는 역류방지부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the switching guide unit includes: a switching guide body formed to be inclined upward toward the rotation center of the substrate rotating unit; and a backflow prevention portion protruding from the inner peripheral surface of the switching guide body to prevent the processing liquid or exhaust gas discharged from the substrate from flowing back toward the substrate.

본 발명에서 상기 전환부와 상기 회수배출부는 일체로서 이동되는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the conversion unit and the recovery discharge unit are moved as one body.

본 발명에서 상기 분리부는, 상기 이동회수부가 이동 가능하게 삽입되어, 상기 이동회수부로부터 처리액과 배기가스를 전달받고, 상기 처리액배출부와 연결되는 분리수용부; 및 상기 분리수용부에 수용되는 처리액이 상기 배기부 측으로 이동하는 것을 제한하여 처리액과 배기가스를 분리하는 분리처리부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the separation unit includes a separation receiving part in which the mobile recovery unit is movably inserted, receives the treatment liquid and exhaust gas from the mobile recovery unit, and is connected to the treatment liquid discharge unit; and a separation processing unit that separates the treatment liquid and the exhaust gas by restricting the movement of the treatment liquid accommodated in the separation receiving unit toward the exhaust unit.

본 발명에서 상기 분리수용부는, 하단면이 상기 처리액배출부 측으로 하향 경사지게 형성되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the separate receiving part is characterized in that the lower surface is formed to be inclined downward toward the treatment liquid discharge part.

본 발명에서 상기 분리처리부는, 상기 분리수용부와 상기 배기부를 연통시키는 분리연통부; 및 상기 분리연통부의 내측으로 돌출되어 처리액의 이동을 제한하는 처리액이동제한부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the separation processing unit includes a separation communication unit that communicates the separation receiving unit and the exhaust unit; and a treatment liquid movement limiter that protrudes inside the separation communication unit to restrict movement of the treatment liquid.

본 발명에서 상기 처리액이동제한부는, 상기 분리연통부의 제1면에서 돌출되는 제1처리액이동제한부; 및 상기 분리연통부의 제2면에서 돌출되는 제2처리액이동제한부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the treatment liquid movement limiter includes: a first treatment liquid movement limiter protruding from the first surface of the separation communication unit; and a second treatment liquid movement restriction unit protruding from the second surface of the separation communication unit.

본 발명에서 상기 제1처리액이동제한부 및 상기 제2처리액이동제한부는 상기 분리연통부의 길이 방향을 따라 배열되는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the first treatment liquid movement limiting part and the second treatment liquid movement limiting part are arranged along the longitudinal direction of the separation communication part.

본 발명에서 상기 제1처리액이동제한부와 상기 제2처리액이동제한부는 상기 분리연통부의 길이 방향을 따라 교호로 배열되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the first treatment liquid movement limiting part and the second treatment liquid movement limiting part are arranged alternately along the longitudinal direction of the separation communication part.

본 발명에서 상기 제1처리액이동제한부 또는 상기 제2처리액이동제한부에는 처리액통과부가 관통 형성되어 처리액이 상기 처리액배출부 측으로 배출되도록 하는 것을 특징으로 한다. In the present invention, a processing liquid passing portion is formed through the first processing liquid movement limiting portion or the second processing liquid movement limiting portion to discharge the processing liquid toward the processing liquid discharging portion.

본 발명에서 상기 제1처리액이동제한부 또는 상기 제2처리액이동제한부에는, 배기가스 또는 처리액이 유입되는 방향으로 돌출되어 처리액의 이동을 제한하는 처리액제한돌기;가 형성되는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the first processing liquid movement limiting part or the second processing liquid movement limiting part is formed with a processing liquid limiting protrusion that protrudes in the direction in which the exhaust gas or processing liquid flows and restricts the movement of the processing liquid. It is characterized by

본 발명에서 상기 제1처리액이동제한부가 상기 제1면에서 돌출된 길이와, 상기 제2처리액이동제한부가 상기 제2면에서 돌출된 길이의 합은, 상기 제1면과 상기 제2면 사이의 거리보다 긴 것을 특징으로 한다. In the present invention, the sum of the length of the first treatment liquid movement limiting part protruding from the first surface and the length of the second treatment liquid movement limiting part protruding from the second surface is the It is characterized by being longer than the distance between them.

본 발명에서 상기 이동회수부 및 상기 분리부는 복수 개가 구비되며, 복수 개의 상기 이동회수부는, 각각의 상기 이동회수부에 대응되게 구비되는 상기 분리부에 이동 가능하게 삽입되는 것을 특징으로 한다. In the present invention, a plurality of the movable recovery units and the separation units are provided, and the plurality of movable recovery units are movably inserted into the separation units provided corresponding to each of the movable recovery units.

본 발명에 따른 기판 처리장치는, 기판을 처리하면서 발생되는 배기가스와 처리액의 배출을 원활하게 하고, 배기가스와 처리액을 분리하며, 이종의 처리액 등의 혼입을 방지할 수 있다. The substrate processing apparatus according to the present invention can smoothly discharge exhaust gas and processing liquid generated while processing a substrate, separate exhaust gas and processing liquid, and prevent mixing of different types of processing liquid, etc.

또한, 본 발명은 이동회수부를 분리부와 구분하여 이동시키고, 고정된 상태의 분리부에 처리액배출부 등을 연결하므로 장치의 구성이 간단하여 조립 및 관리가 용이하고 내구성이 향상된다. In addition, the present invention moves the movable recovery part separately from the separation part, and connects the treatment liquid discharge part to the fixed separation part, so the structure of the device is simple, easy to assemble and manage, and durability is improved.

또한, 본 발명은 분리연통부에 돌출 형성되는 처리액이동제한부로 처리액과 배기가스를 분리하므로, 구성이 간단하며, 복잡한 구동 장치 등의 적용 없이, 처리액과 배기가스를 분리할 수 있다. In addition, the present invention separates the processing liquid and the exhaust gas with a processing liquid movement limiter protruding from the separation communication unit, so the configuration is simple and the processing liquid and the exhaust gas can be separated without applying a complicated driving device.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1의 'A'를 나타내는 도면이다.
도 3은 도 2의 'B'를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치에서 전환부를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치에서 이동회수부가 모두 상승한 상태를 나타내는 도면이다.
도 6은 도 5의 'C'를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치에서 제1이동회수부가 하강하고, 제2이동회수부 및 제3이동회수부가 상승한 상태를 나타내는 도면이다.
도 8은 도 7의 'D'를 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치에서 제1이동회수부와 제2이동회수부가 하강하고, 제3이동회수부가 상승한 상태를 나타내는 도면이다.
도 10은 도 9의 'E'를 나타내는 도면이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a diagram showing 'A' in Figure 1.
Figure 3 is a diagram showing 'B' in Figure 2.
Figure 4 is a diagram showing a switching unit in a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a diagram showing a state in which all mobile recovery units are raised in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 6 is a diagram showing 'C' in Figure 5.
Figure 7 is a diagram showing a state in which the first mobile recovery unit is lowered and the second mobile recovery unit and the third mobile recovery unit are raised in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 8 is a diagram showing 'D' in Figure 7.
Figure 9 is a diagram showing a state in which the first mobile recovery unit and the second mobile recovery unit are lowered and the third mobile recovery unit is raised in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 10 is a diagram showing 'E' in Figure 9.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 기판 처리장치의 일 실시예를 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다. Hereinafter, an embodiment of a substrate processing apparatus according to the present invention will be described with reference to the attached drawings. In this process, the thickness of lines or sizes of components shown in the drawing may be exaggerated for clarity and convenience of explanation.

또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.In addition, the terms described below are terms defined in consideration of functions in the present invention, and may vary depending on the intention or custom of the user or operator. Therefore, definitions of these terms should be made based on the content throughout this specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치를 개략적으로 나타내는 단면도이고, 도 2는 도 1의 'A'를 나타내는 도면이며, 도 3은 도 2의 'B'를 나타내는 도면이다. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view showing 'A' in FIG. 1, and FIG. 3 is a view showing 'B' in FIG. 2.

도 1 내지 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 기판 처리장치(1)는 기판회전부(100), 처리액공급부(200) 및 회수부(300)를 포함하여, 기판(10)에서 분리되는 처리액 및 배기가스 등을 분리하여 회수한다. Referring to FIGS. 1 to 3, the substrate processing apparatus 1 according to this embodiment includes a substrate rotating unit 100, a processing liquid supply unit 200, and a recovery unit 300, and processes separated from the substrate 10. Separate and recover liquid and exhaust gas.

처리액은 기판(10)의 식각, 세정 등을 수행하기 위하여 처리액공급부(200), 예를 들어 노즐로부터 기판(10)에 공급될 수 있다. 이러한 노즐은 기판(10)의 형상, 처리 공정 등에 따라 분사되는 위치, 각도 등이 달라질 수 있다. The processing liquid may be supplied to the substrate 10 from the processing liquid supply unit 200, for example, a nozzle, in order to perform etching, cleaning, etc. of the substrate 10. The spraying position and angle of these nozzles may vary depending on the shape of the substrate 10, the processing process, etc.

예를 들어 노즐은 기판(10)의 대략 중앙에서 상측으로 이격되게 위치하며, 소정 각도 기울어진 상태에서 기판(10)에 처리액을 분사하는 방식으로, 기판(10)에 처리액을 공급할 수 있다. For example, the nozzle is positioned to be spaced upward from approximately the center of the substrate 10, and can supply the processing liquid to the substrate 10 by spraying the processing liquid onto the substrate 10 at a predetermined angle. .

기판(10)에 분사되는 처리액은 복수 종류의 약액, 즉 제1약액과 제2약액, 그리고 순수 등으로 예시될 수 있으며, 제1약액, 제2약액 및 순수 등의 순서로 기판(10)에 공급될 수 있다. The treatment liquid sprayed on the substrate 10 may be exemplified by a plurality of types of chemical liquid, that is, a first chemical liquid, a second chemical liquid, and pure water, and the substrate 10 is applied in the order of the first chemical liquid, the second chemical liquid, and pure water. can be supplied to

본 실시예에서 노즐은 복수 개가 구비되어, 순차적으로 공급되는 처리액이 섞이는 것을 방지할 수 있으며, 각각의 처리액을 기판(10)의 소정 위치에 분사하기 위하여 노즐이동부(미도시) 등에 의하여 기판(10)과 이격된 상태에서, 기판(10)에 대하여 이동 가능하게 구비될 수 있다.In this embodiment, a plurality of nozzles are provided to prevent the sequentially supplied processing liquids from mixing. In order to spray each processing liquid at a predetermined position on the substrate 10, a nozzle moving unit (not shown), etc. In a state spaced apart from the substrate 10, it may be provided to be movable with respect to the substrate 10.

기판회전부(100)는 기판(10)을 대략 수평 상태로 지지하며, 기판(10)을 회전시킨다. 본 실시예에서 기판회전부(100)는 기판안착부(110) 및 안착회전부(130)를 포함한다. The substrate rotating unit 100 supports the substrate 10 in a substantially horizontal state and rotates the substrate 10. In this embodiment, the substrate rotating unit 100 includes a substrate seating unit 110 and a seating rotating unit 130.

기판안착부(110)는 회전테이블(111) 및 기판고정부(113)를 포함하여 기판(10)을 지지한다. 회전테이블(111)은 기판(10)의 형상에 대응하는 형상으로 형성되며 기판(10)과 이격되게 구비된다. 기판고정부(113)는 회전테이블(111)에 구비되며 기판(10)에 접하여 기판(10)을 고정한다. The substrate mounting portion 110 includes a rotation table 111 and a substrate fixing portion 113 and supports the substrate 10. The rotation table 111 is formed in a shape corresponding to the shape of the substrate 10 and is provided to be spaced apart from the substrate 10. The substrate fixing part 113 is provided on the rotary table 111 and comes into contact with the substrate 10 to fix the substrate 10.

안착회전부(130)는 전원이 인가되면 회전력을 발생시키는 회전구동부(131)와, 회전구동부(131)와 회전테이블(111)을 연결하여, 회전구동부(131)의 구동 시 회전테이블(111)이 회전되도록 하는 회전축부(133)를 포함하여 기판(10)이 안착된 상태에서 기판안착부(110)를 회전시킨다. The seated rotary unit 130 connects the rotary drive unit 131, which generates rotational force when power is applied, and the rotary drive unit 131 and the rotary table 111, so that the rotary table 111 moves when the rotary drive unit 131 is driven. The substrate seating portion 110 is rotated while the substrate 10 is seated, including the rotation axis portion 133 that rotates.

처리액이 기판(10)의 하측에서 기판(10)에 분사되는 경우, 노즐은 기판안착부(110) 또는 안착회전부(130)에 구비될 수 있다. When the processing liquid is sprayed onto the substrate 10 from the lower side of the substrate 10, a nozzle may be provided on the substrate seating unit 110 or the seating rotation unit 130.

처리액공급부(200)는 기판(10)에 처리액을 공급한다. 본 실시예에서 처리액공급부(200)는 노즐로 예시되며 복수 종류의 처리액을 개별적으로 공급하기 위하여 처리액의 종류에 대응하여 복수 개 구비될 수 있다. The processing liquid supply unit 200 supplies processing liquid to the substrate 10 . In this embodiment, the processing liquid supply unit 200 is illustrated as a nozzle and may be provided in plural numbers corresponding to the types of processing liquids in order to individually supply multiple types of processing liquids.

기판(10)이 회전되는 상태에서 처리액공급부(200)에 의하여 기판(10)의 대략 중심에 처리액이 공급되므로 기판(10)에 공급된 처리액은 기판(10)의 중심부로부터 기판(10)의 반경 방향으로 분산 이동되면서 기판(10)의 식각, 세정 등을 수행하게 된다. Since the processing liquid is supplied to approximately the center of the substrate 10 by the processing liquid supply unit 200 while the substrate 10 is rotated, the processing liquid supplied to the substrate 10 flows from the center of the substrate 10 to the substrate 10. ) is dispersed and moved in the radial direction to perform etching, cleaning, etc. of the substrate 10.

회수부(300)는 기판(10)에서 분리되는 처리액과 배기가스를 회수하고 이를 분리한다. 본 실시예에서 회수부(300)는 이동회수부(310), 분리부(330), 처리액배출부(350) 및 배기부(370)를 포함한다. The recovery unit 300 recovers and separates the processing liquid and exhaust gas separated from the substrate 10. In this embodiment, the recovery unit 300 includes a mobile recovery unit 310, a separation unit 330, a treatment liquid discharge unit 350, and an exhaust unit 370.

이동회수부(310)에는 기판(10)에서 분리되는 처리액과 배기가스가 유입되며, 분리부(330)에 대하여 이동 가능하게 구비된다. 본 실시예에서 이동회수부(310)는 전환부(311) 및 회수배출부(313)를 포함한다. The processing liquid and exhaust gas separated from the substrate 10 flow into the movable recovery unit 310, and are provided to be movable relative to the separation unit 330. In this embodiment, the mobile recovery unit 310 includes a switching unit 311 and a recovery discharge unit 313.

전환부(311)는 기판회전부(100)를 둘러싸며, 기판(10)에서 분리되는 처리액과 배기가스의 이동 방향을 전환하여 기판(10)에서 분리되는 처리액과, 처리 과정에서 발생되는 배기가스가 장치의 외측으로 비산되는 것을 방지하고, 처리액 및 배기가스의 이동 방향을 하측으로 전환한다. 본 실시예에서 전환부(311)는 기판회전부(100)의 회전중심(101) 측으로 상향 경사지게 형성되는 전환안내부(3111)를 포함한다. The switching unit 311 surrounds the substrate rotating unit 100 and switches the direction of movement of the processing liquid and exhaust gas separated from the substrate 10 to divert the processing liquid separated from the substrate 10 and the exhaust gas generated during the processing process. Prevents gas from scattering to the outside of the device and switches the direction of movement of the treatment liquid and exhaust gas downward. In this embodiment, the switching unit 311 includes a switching guide unit 3111 formed to be inclined upward toward the rotation center 101 of the substrate rotating unit 100.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치에서 전환부를 나타내는 도면이다. 도 2 및 4를 참조하면, 전환안내부(3111)는 기판회전부(100)의 회전중심(101) 측으로 상향 경사지게 형성되어 기판(10)에서 분리되는 처리액 및 배기가스의 비산을 방지한다. 본 실시예에서 전환안내부(3111)는 전환안내바디(3112) 및 역류방지부(3113)를 포함한다. Figure 4 is a diagram showing a switching unit in a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to Figures 2 and 4, the switching guide 3111 is formed to be inclined upward toward the rotation center 101 of the substrate rotating unit 100 to prevent the processing liquid and exhaust gas separated from the substrate 10 from scattering. In this embodiment, the switching guide unit 3111 includes a switching guide body 3112 and a backflow prevention unit 3113.

전환안내바디(3112)는 기판회전부(100)의 회전중심 측으로 상향 경사지게 형성되어 전환안내부(3111)의 골격을 형성한다. 역류방지부(3113)는 전환안내바디(3112)의 내주면에 돌출 형성되어, 기판(10)에서 배출되는 처리액 또는 배출가스가 기판(10) 측으로 역류하는 것을 방지한다. The switching guide body 3112 is formed to be inclined upward toward the rotation center of the substrate rotating unit 100 to form the skeleton of the switching guide unit 3111. The backflow prevention unit 3113 protrudes from the inner peripheral surface of the switching guide body 3112 and prevents the processing liquid or exhaust gas discharged from the substrate 10 from flowing back toward the substrate 10.

예를 들어 처리액 또는 배기가스가 기판(10)의 회전 시 발생되는 원심력 또는, 외부에서 공급되는 유체의 흐름 등에 의하여 전환부(311)에 전달된 이후에도, 이동회수부(310)의 이동에 따른 압력변화, 처리액배출부(350) 또는 배기부(370)의 압력 변화 등에 의하여 처리액 또는 배기가스가 상향 이동될 수 있다. For example, even after the processing liquid or exhaust gas is delivered to the switching unit 311 due to the centrifugal force generated when the substrate 10 rotates or the flow of fluid supplied from the outside, the movement of the mobile recovery unit 310 The processing liquid or exhaust gas may move upward due to a change in pressure or a change in the pressure of the processing liquid discharge unit 350 or the exhaust unit 370.

이때 역류방지부(3113)는 역류하는 배기가스 또는 처리액이 역류방지부(3113)에 걸리도록 하여 이동을 제한, 방향을 전환하거나, 배기가스 등이 역류방지부(3113)에 접촉할 때, 액화되어 처리액배출부(350) 측으로 이동할 수 있도록 한다. At this time, the backflow prevention unit 3113 causes the backflowing exhaust gas or treatment liquid to be caught in the backflow prevention unit 3113 to limit its movement or change direction, or when the exhaust gas, etc. contacts the backflow prevention unit 3113. It is liquefied and allowed to move toward the treatment liquid discharge unit 350.

또한, 역류방지부(3113)는 이웃하는 전환안내부(3111)가 함께 상승위치에 있거나, 함께 하강위치에 있는 경우, 이웃하는 전환안내부(3111) 사이의 간극을 줄여 처리액, 배기가스 등이 해당 간극으로 유입되는 것을 줄일 수 있다. In addition, the backflow prevention unit 3113 reduces the gap between the neighboring switching guides 3111 when the neighboring switching guides 3111 are in an upward position together or in a downward position together, thereby preventing treatment liquid, exhaust gas, etc. This can reduce the inflow into the gap.

이러한 역류방지부(3113)는 기판회전부(100)와의 간격, 배출되는 처리액 및 배기가스의 성분, 유량 등을 고려하여 형상, 배열 등이 달라질 수 있으며, 복수 개가 구비되어 전환안내바디(3112)의 내측면을 따라 배열될 수도 있다(도 4의 (b) 참조). The shape and arrangement of these backflow prevention units 3113 may vary in consideration of the distance from the substrate rotating unit 100, the components of the discharged processing liquid and exhaust gas, the flow rate, etc., and a plurality of them are provided to form the switching guide body 3112. It may be arranged along the inner side of (see (b) of FIG. 4).

본 실시예에서 전환부(311)와 회수배출부(313)는 브라켓, 볼팅 결합, 일체 제작 등의 방식으로 연결되거나, 하나의 승강장치에 연결되어, 일체로서 이동함으로써, 장치의 구성 및 제어를 용이하게 할 수 있다. In this embodiment, the switching unit 311 and the recovery discharge unit 313 are connected by brackets, bolting, or manufactured as an integrated unit, or are connected to a single lifting device and move as one unit to configure and control the device. It can be done easily.

회수배출부(313)는 전환부(311)에 연결되어, 처리액과 배기가스의 이동을 분리부(330) 측으로 안내한다. 본 실시예에서 회수배출부(313)는 전환부(311)의 하단부에서 하측으로 연장 형성되며, 하단부가 분리부(330)의 내측으로 수용됨으로써, 전환부(311)에서 전달받은 처리액 및 배기가스가 분리부(330)에 전달되는 과정에서 누출되는 것을 방지한다. The recovery discharge unit 313 is connected to the conversion unit 311 and guides the movement of the treatment liquid and exhaust gas toward the separation unit 330. In this embodiment, the recovery discharge unit 313 extends downward from the lower end of the conversion unit 311, and the lower end is accommodated inside the separation unit 330, so that the treatment liquid and exhaust discharged from the conversion unit 311 Prevents gas from leaking during delivery to the separator 330.

즉, 회수배출부(313)의 하단부는 분리부(330)의 상단부보다 낮게 위치하여 분리부(330)에 수용되는 처리액 등이 분리부(330)에서 외부로 배출되는 것을 방지한다. That is, the lower end of the recovery discharge unit 313 is located lower than the upper end of the separation unit 330 to prevent the treatment liquid contained in the separation unit 330 from being discharged to the outside from the separation unit 330.

분리부(330)는 이동회수부(310)로부터 전달받은 처리액과 배기가스를 분리하여 각각 처리액배출부(350) 및 배기부(370)에 전달되도록 한다. 본 실시예에서 분리부(330)는 분리수용부(331) 및 분리처리부(333)를 포함한다. The separation unit 330 separates the treatment liquid and exhaust gas received from the mobile recovery unit 310 and delivers them to the treatment liquid discharge unit 350 and the exhaust unit 370, respectively. In this embodiment, the separation unit 330 includes a separation receiving unit 331 and a separation processing unit 333.

분리수용부(331)는 이동회수부(310)가 이동 가능하게 삽입되어, 이동회수부(310)로부터 처리액과 배기가스를 전달받고, 처리액배출부(350)와 연결된다. The separate receiving unit 331 is movably inserted into the movable recovery unit 310, receives the treatment liquid and exhaust gas from the mobile recovery unit 310, and is connected to the treatment liquid discharge unit 350.

본 실시예에서 분리수용부(331)는 하단면(332), 구체적으로 내측 바닥면이 처리액배출부(350) 측으로 하향 경사지게 형성되어 처리액이 처리액배출부(350) 측으로 원활하게 이동될 수 있도록 한다. In this embodiment, the bottom surface 332 of the separate receiving part 331, specifically the inner bottom surface, is formed to be inclined downward toward the treatment liquid discharge unit 350, so that the treatment liquid can be smoothly moved toward the treatment liquid discharge unit 350. make it possible

분리처리부(333)는 분리수용부(331)에 수용되는 처리액이 배기부(370) 측으로 이동하는 것을 제한하는 방식으로 처리액과 배기가스를 분리한다. 본 실시예에서 분리처리부(333)는 분리연통부(334) 및 처리액이동제한부(336)를 포함한다. The separation processing unit 333 separates the treatment liquid from the exhaust gas in a manner that limits the movement of the treatment liquid contained in the separation receiving unit 331 toward the exhaust unit 370 . In this embodiment, the separation processing unit 333 includes a separation communication unit 334 and a treatment liquid movement restriction unit 336.

분리연통부(334)는 분리수용부(331)와 배기부(370)를 연통시켜 분리수용부(331)의 배기가스가 분리연통부(334)를 통하여 배기부(370)에 전달되도록 한다. The separation communication unit 334 communicates the separation accommodation unit 331 and the exhaust unit 370 so that the exhaust gas of the separation reception unit 331 is delivered to the exhaust unit 370 through the separation communication unit 334.

본 실시예에서 분리연통부(334)는 기판회전부(100)를 둘러싸는 제1면(3341)과, 제1면(3341)을 이격되게 둘러싸는 제2면(3343)을 포함하여 제1면(3341)과 제2면(3343)의 사이에 형성되는 공간으로 배기가스가 이동되도록 한다. In this embodiment, the separation communication part 334 includes a first surface 3341 surrounding the substrate rotating unit 100 and a second surface 3343 spaced apart from the first surface 3341. Exhaust gas is allowed to move into the space formed between 3341 and the second surface 3343.

이러한 분리연통부(334)는 주변 장치와의 배치 등을 고려하여, 대략 수평하게 형성되거나, 배기부(370) 측으로 진행하면서 상향 경사지게 구비되어 처리액이 분리연통부(334)를 통하여 배기부(370)에 유입되는 것을 방지한다. Considering the arrangement with surrounding devices, the separation communication unit 334 is formed approximately horizontally or is inclined upward as it progresses toward the exhaust unit 370 so that the processing liquid passes through the separation communication unit 334 to the exhaust unit ( 370).

처리액이동제한부(336)는 분리연통부(334)의 내측에서 돌출 형성되어 처리액의 이동을 제한함으로써, 배기가스는 배기부(370) 측으로 전달되되, 배기가스와 섞여 이동하는 처리액은 배기부(370)로 이동되는 것을 방지한다. 본 실시예에서 처리액이동제한부(336)는 제1처리액이동제한부(3361) 및 제2처리액이동제한부(3363)를 포함한다. The processing liquid movement limiter 336 is formed to protrude from the inside of the separation communication unit 334 to limit the movement of the processing liquid, so that the exhaust gas is delivered to the exhaust unit 370, but the processing liquid that moves mixed with the exhaust gas is Prevents movement to the exhaust unit 370. In this embodiment, the processing liquid movement limiting unit 336 includes a first processing liquid movement limiting unit 3361 and a second processing liquid movement limiting unit 3363.

제1처리액이동제한부(3361)는 분리연통부(334)의 제1면(3341)에서 돌출되어 처리액이 제1면(3341)을 따라 배기부(370) 측으로 이동되는 것을 방지한다. 제2처리액이동제한부(3363)는 분리연통부(334)의 제2면(3343)에서 돌출되어 처리액이 제2면(3343)을 따라 배기부(370) 측으로 전달되는 것을 방지한다. The first processing liquid movement limiter 3361 protrudes from the first surface 3341 of the separation communication unit 334 and prevents the processing liquid from moving toward the exhaust unit 370 along the first surface 3341. The second treatment liquid movement limiter 3363 protrudes from the second surface 3343 of the separation communication unit 334 and prevents the treatment liquid from being transferred to the exhaust unit 370 along the second surface 3343.

본 실시예에서 제1처리액이동제한부(3361)와 제2처리액이동제한부(3363)는 분리연통부(334)의 길이 방향으로 배열되어 처리액의 이동을 다단으로 차단함으로써, 배기부(370)에 회수되는 배기가스에 처리액이 혼입되는 정도를 줄인다. In this embodiment, the first treatment liquid movement limiting part 3361 and the second treatment liquid movement limiting part 3363 are arranged in the longitudinal direction of the separation communication part 334 to block the movement of the treatment liquid in multiple stages, thereby blocking the exhaust part. Reduce the extent to which the treatment liquid is mixed into the exhaust gas recovered at (370).

또한, 본 실시예에서 제1처리액이동제한부(3361)와 제2처리액이동제한부(3363)는 분리연통부(334)의 길이 방향을 따라 교호로 배치되어 배기가스의 이동 경로를 지그재그 형태로 함으로써, 처리액이 분리되는 경로 및 시간을 최대한 증대시켜, 배기가스로부터 처리액이 확실히 분리되도록 할 수 있다. In addition, in this embodiment, the first treatment liquid movement limiter 3361 and the second treatment liquid movement limiter 3363 are alternately arranged along the longitudinal direction of the separation communication part 334 to zigzag the movement path of the exhaust gas. By using this form, the path and time for separating the processing liquid can be maximized to ensure that the processing liquid is separated from the exhaust gas.

또한, 본 실시예에서 제1처리액이동제한부(3361) 또는 제2처리액이동제한부(3363)에는 처리액통과부(3365)가 관통 형성되어 배기가스에서 분리된 처리액이 처리액배출부(350) 측으로 이동될 수 있도록 한다. In addition, in this embodiment, a processing liquid passing part 3365 is formed through the first processing liquid movement limiting part 3361 or the second processing liquid movement limiting part 3363, so that the processing liquid separated from the exhaust gas is discharged. So that it can be moved to the sub 350 side.

즉, 배기가스가 분리연통부(334)를 지나는 과정에서 분리된 처리액은 복수개의 제1처리액이동제한부(3361) 또는 제2처리액이동제한부(3363)의 사이에 위치할 수 있는데, 이러한 처리액이 처리액배출부(350) 측으로 이동될 수 있도록 제1처리액이동제한부(3361) 또는 제2처리액이동제한부(3363)를 관통하는 처리액통과부(3365)를 구성하여 처리액이 원활히 배출되도록 한다. That is, the processing liquid separated in the process of the exhaust gas passing through the separation communication unit 334 may be located between the plurality of first processing liquid movement limiting units 3361 or second processing liquid movement limiting units 3363. , A processing liquid passage portion 3365 is formed that penetrates the first processing liquid movement limiting portion 3361 or the second processing liquid movement limiting portion 3363 so that the processing liquid can move toward the processing liquid discharge unit 350. This ensures that the treatment liquid is discharged smoothly.

또한, 본 실시예에서 제1처리액이동제한부(3361)가 제1면(3341)에서 돌출된 길이와, 제2처리액이동제한부(3363)가 제2면(3343)에서 돌출된 길이의 합은 제1면(3341)과 제2면(3343) 사이의 거리보다 길게 형성될 수 있다. In addition, in this embodiment, the length of the first treatment liquid movement limiter 3361 protrudes from the first surface 3341, and the length of the second treatment liquid movement limiter 3363 protrudes from the second surface 3343. The sum of may be formed to be longer than the distance between the first surface 3341 and the second surface 3343.

이로써 배기가스가 분리연통부(334)를 통과할 때 직선 경로를 따라 분리연통부(334)를 통과하는 것을 방지하여 배기가스와 함께 이동되는 처리액이 배기부(370)에 전달되는 정도를 줄일 수 있다. As a result, when the exhaust gas passes through the separation communication unit 334, it is prevented from passing through the separation communication unit 334 along a straight path, thereby reducing the extent to which the treatment liquid moving with the exhaust gas is delivered to the exhaust unit 370. You can.

본 실시예에서 제1처리액이동제한부(3361) 또는 제2처리액이동제한부(3363)에는 배기가스 또는 처리액이 유입되는 방향으로 돌출되어 처리액의 이동을 제한하는 처리액제한돌기(3366)가 구비될 수 있다. In this embodiment, the first processing liquid movement limiting part 3361 or the second processing liquid movement limiting part 3363 has a processing liquid limiting protrusion ( 3366) may be provided.

처리액제한돌기(3366)는 제1처리액이동제한부(3361) 또는 제2처리액이동제한부(3363)에 돌출 형성되어 제1처리액이동제한부(3361) 또는 제2처리액이동제한부(3363)의 측면을 따라 처리액이 배기부(370) 측으로 이동되는 것을 차단한다. The processing liquid limiting protrusion 3366 is formed to protrude from the first processing liquid movement limiting unit 3361 or the second processing liquid movement limiting unit 3363, thereby limiting the first processing liquid movement limiting unit 3361 or the second processing liquid movement limiting unit 3363. The treatment liquid is blocked from moving toward the exhaust unit 370 along the side of the unit 3363.

처리액배출부(350)는 분리부(330)에 연결되어 처리액을 배출한다. 본 실시예에서 처리액배출부(350)는 분리부(330)의 하단면(332)을 통하여 분리수용부(331)에 연통되며, 상술한 바와 같이 하단면(332)은 처리액배출부(350) 측으로 하향 경사지게 형성되므로, 하단면(332)을 따라 이동되는 처리액을 효율적으로 회수할 수 있게 된다. The treatment liquid discharge unit 350 is connected to the separation unit 330 and discharges the treatment liquid. In this embodiment, the processing liquid discharge unit 350 is in communication with the separation receiving unit 331 through the lower surface 332 of the separation unit 330, and as described above, the lower surface 332 is the processing liquid discharge unit ( Since it is formed to be inclined downward toward the bottom surface 350), the treatment liquid moving along the bottom surface 332 can be efficiently recovered.

본 실시예에서 처리액배출부(350)는 처리액이 이동될 수 있도록 내부에 유로가 형성되는 관, 파이프 등으로 예시되며 처리액의 이동을 처리액회수장치(미도시) 등으로 안내한다. In this embodiment, the treatment liquid discharge unit 350 is exemplified as a tube or pipe with a flow path formed therein to allow the treatment liquid to move, and guides the movement of the treatment liquid to a treatment liquid recovery device (not shown).

배기부(370)는 분리부(330)에 연결되어 배기가스를 배출한다. 본 실시예에서 배기부(370)는 분리부(330), 구체적으로 분리연통부(334)와 연통되며, 음압을 형성하여, 배기가스의 배출을 원활하게 함으로써, 배기가스의 비산, 배기가스의 역류에 의한 기판(10)의 오염 등을 방지한다. The exhaust unit 370 is connected to the separation unit 330 and discharges exhaust gas. In this embodiment, the exhaust unit 370 communicates with the separation unit 330, specifically the separation communication unit 334, and forms a negative pressure to facilitate the discharge of exhaust gas, thereby preventing scattering of exhaust gas and exhaust gas. Prevents contamination of the substrate 10 due to backflow.

본 실시예에서 이동회수부(310)는 복수 개 구비된다. 예를 들어 이동회수부(310)는 제1약액을 회수하는 제1이동회수부(310a), 제2약액을 회수하는 제2이동회수부(310b) 및 순수를 회수하는 제3이동회수부(310c)를 포함하여, 기판회전부(100)의 회전중심(101)으로부터 가까운 순서대로 제1이동회수부(310a), 제2이동회수부(310b) 및 제3이동회수부(310c)가 배열될 수 있다. In this embodiment, a plurality of mobile recovery units 310 are provided. For example, the mobile recovery unit 310 includes a first mobile recovery unit 310a for recovering the first chemical solution, a second mobile recovery unit 310b for recovering the second chemical solution, and a third mobile recovery unit for recovering pure water ( Including 310c), the first mobile recovery unit 310a, the second mobile recovery unit 310b, and the third mobile recovery unit 310c are arranged in the order closest to the rotation center 101 of the substrate rotating unit 100. You can.

또한, 분리부(330)는 이동회수부(310)의 개수에 대응하여 복수 개 구비되어, 복수 개의 이동회수부(310) 각각을 개별적으로 수용할 수 있다. In addition, a plurality of separation units 330 are provided corresponding to the number of movable recovery units 310, so that each of the plurality of movable recovery units 310 can be individually accommodated.

상술한 바와 같이 이동회수부(310)가 제1이동회수부(310a), 제2이동회수부(310b) 및 제3이동회수부(310c)와 같이 3개인 경우, 복수 개의 분리부(330)는 제1이동회수부(310a)와 연통되는 제1분리부(330a), 제2이동회수부(310b)와 연통되는 제2분리부(330b)와, 제3이동회수부(310c)와 연통되는 제3분리부(330c)로 예시될 수 있다. As described above, when there are three mobile recovery units 310, such as the first mobile recovery unit 310a, the second mobile recovery unit 310b, and the third mobile recovery unit 310c, a plurality of separation units 330 A first separator (330a) in communication with the first mobile recovery unit (310a), a second separator (330b) in communication with the second mobile recovery unit (310b), and a third mobile recovery unit (310c) It can be exemplified by the third separator 330c.

따라서 본 실시예에서 기판 처리장치(1)는 제1이동회수부(310a)가 회수한 제1약액과 배기가스를 제1분리부(330a)에서 수용하고, 제2이동회수부(310b)가 회수한 제2약액과 배기가스를 제2분리부(330b)에서 수용하며, 제3이동회수부(310c)가 회수한 순수와 배기가스를 제3분리부(330c)에서 수용하므로 서로 다른 종류의 약액이 분리부(330)에 혼입되는 것을 방지할 수 있다. Therefore, in this embodiment, the substrate processing apparatus 1 receives the first chemical liquid and the exhaust gas recovered by the first mobile recovery unit 310a in the first separation unit 330a, and the second mobile recovery unit 310b The recovered second chemical liquid and exhaust gas are received in the second separator (330b), and the pure water and exhaust gas recovered by the third mobile recovery unit (310c) are received in the third separator (330c), so that different types of It is possible to prevent the chemical solution from being mixed into the separation unit 330.

또한, 제1분리부(330a), 제2분리부(330b) 및 제3분리부(330c)는 각각 제1처리액배출부(350a), 제2처리액배출부(350b) 및 제3처리액배출부(350c)에 연결되고, 또한 제1배기홀부(371), 제2배기홀부(372) 및 제3배기홀부(373)를 통하여 배기부(370)에 연결되므로 각각의 분리부(330)에서 분리된 처리액을 종류를 달리하여 배출할 수 있다. In addition, the first separator 330a, the second separator 330b, and the third separator 330c are a first treatment liquid discharge unit 350a, a second treatment liquid discharge unit 350b, and a third treatment liquid discharge unit 350a, respectively. It is connected to the liquid discharge part 350c and is also connected to the exhaust part 370 through the first exhaust hole part 371, the second exhaust hole part 372, and the third exhaust hole part 373, so each separation part 330 ) can be discharged in different types.

또한, 본 실시예에서 제1분리부(330a), 제2분리부(330b) 및 제3분리부(330c)는 이동회수부(310)와 분리되어 고정 설치되며, 복수 개의 처리액배출부(350)는 각각 대응되는 분리부(330)에 결합 고정되므로 분리부(330) 및 처리액배출부(350)의 구성이 간단하고, 내구성이 향상되며, 관리가 용이하다. In addition, in this embodiment, the first separator 330a, the second separator 330b, and the third separator 330c are fixedly installed and separated from the mobile recovery unit 310, and a plurality of treatment liquid discharge units ( Since the 350 is fixed to the corresponding separator 330, the separator 330 and the treatment liquid discharge portion 350 are simple to construct, have improved durability, and are easy to manage.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치(1)의 작동원리 및 효과를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operating principle and effects of the substrate processing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention will be described as follows.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치에서 이동회수부가 모두 상승한 상태를 나타내는 도면이다. 도 5를 참조하면, 기판(10)을 기판회전부(100)에 안착시킨 상태에서, 승강장치를 구동시켜 제1이동회수부(310a), 제2이동회수부(310b) 및 제3이동회수부(310c)를 모두 상승 이동시킴으로써 기판(10)에서 분리되는 처리액 등이 제1이동회수부(310a)에 전달될 수 있도록 한다. Figure 5 is a diagram showing a state in which all mobile recovery units are raised in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, with the substrate 10 seated on the substrate rotating unit 100, the lifting device is driven to move the first mobile recovery unit 310a, the second mobile recovery unit 310b, and the third mobile recovery unit (310a). By moving all of 310c) upward, the processing liquid separated from the substrate 10 can be delivered to the first moving recovery unit 310a.

도 6은 도 5의 'C'를 나타내는 도면이다. 도 6을 참조하면, 이동회수부(310)가 모두 상승한 상태에서 기판(10)을 회전시키면서 처리액공급부(200)를 통하여 제1약액을 기판(10)의 대략 중간부에 분사한다. Figure 6 is a diagram showing 'C' in Figure 5. Referring to FIG. 6, while the substrate 10 is rotated in a state in which the mobile recovery unit 310 is fully raised, the first chemical liquid is sprayed to approximately the middle portion of the substrate 10 through the processing liquid supply unit 200.

기판(10)의 회전에 의하여 발생되는 원심력에 의하여 제1약액은 기판(10)의 중심부에서 기판(10)의 반경 방향으로 이동되고, 기판(10)으로부터 분리되어 기판(10)의 외측으로 배출된다. Due to the centrifugal force generated by the rotation of the substrate 10, the first chemical liquid moves from the center of the substrate 10 in the radial direction of the substrate 10, is separated from the substrate 10, and is discharged to the outside of the substrate 10. do.

기판(10)의 외측으로 분리되는 제1약액과, 제1약액의 처리 과정에서 발생되는 배기가스는 제1이동회수부(310a)의 전환부(311)에 의하여 외측 방향으로의 이동이 제한된다. The first chemical liquid separated to the outside of the substrate 10 and the exhaust gas generated during the processing of the first chemical liquid are restricted from moving in the outward direction by the switching unit 311 of the first mobile recovery unit 310a. .

제1약액은 제1이동회수부(310a)의 전환부(311) 및 회수배출부(313)를 따라 분리부(330)로 이동된다. 상술한 바와 같이 분리부(330)의 하단부는 제1이동회수부(310a)가 상승한 상태에서도 분리부(330)의 상단부보다 낮게 위치하므로 제1약액이 분리부(330)에 전달되는 과정에서 외부로 누출되는 것이 차단된다. The first chemical liquid is moved to the separation unit 330 along the switching unit 311 and the recovery discharge unit 313 of the first mobile recovery unit 310a. As described above, the lower end of the separator 330 is located lower than the upper end of the separator 330 even when the first mobile recovery unit 310a is raised, so that during the process of transferring the first chemical liquid to the separator 330, Leakage is blocked.

분리부(330), 구체적으로 분리수용부(331)에 수용되는 배기가스는 배기부(370)의 음압에 의하여 분리처리부(333)를 거쳐 배기부(370)에 회수된다. The exhaust gas contained in the separation unit 330, specifically the separation receiving unit 331, is recovered to the exhaust unit 370 through the separation processing unit 333 by the negative pressure of the exhaust unit 370.

처리액이 분리부(330)로 이동되는 수직방향의 유로는 넓은 공간이 생성되도록 하는 구조여서, 처리액의 빠른 이동이 가능하도록 하고 신속한 배기의 효율 상승에 도움이 된다. 종래 기술에서는 최대한 공간을 적게 하는 방법을 사용하는데 비해, 본 실시예에서 기판 처리장치(1)는 넓은 공간을 이용하여 배기의 효율을 높이는 방법에 해당하는 점에서 종래 기술과 다르다.The vertical flow path through which the processing liquid moves to the separation unit 330 is structured to create a wide space, allowing rapid movement of the processing liquid and helping to increase the efficiency of rapid exhaust. While the prior art uses a method of reducing space as much as possible, the substrate processing apparatus 1 in this embodiment differs from the prior art in that it corresponds to a method of increasing exhaust efficiency by using a large space.

배기가스가 이동되는 과정에서 배기가스에 섞이거나, 배기가스에 밀려 이동되는 제1약액은 처리액이동제한부(336)에 의하여 배기부(370) 측으로의 이동이 제한되므로 배기가스와 분리되며, 경사면인 하단면(332)을 따라 제1처리액배출부(350a)로 전달되어 배출된다. In the process of moving the exhaust gas, the first chemical liquid mixed with the exhaust gas or moved by the exhaust gas is separated from the exhaust gas because its movement toward the exhaust unit 370 is restricted by the treatment liquid movement limiter 336, It is delivered to the first treatment liquid discharge unit 350a along the inclined bottom surface 332 and discharged.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치에서 제1이동회수부가 하강하고, 제2이동회수부 및 제3이동회수부가 상승한 상태를 나타내는 도면이다. 도 7을 참조하면, 제1약액에 의한 처리 및, 배기가스와 제1약액의 배출이 완료되면, 승강장치에 의하여 제1이동회수부(310a)가 하강한다.Figure 7 is a diagram showing a state in which the first mobile recovery unit is lowered and the second mobile recovery unit and the third mobile recovery unit are raised in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 7, when treatment with the first chemical liquid and discharge of the exhaust gas and the first chemical liquid are completed, the first mobile recovery unit 310a is lowered by the lifting device.

제1이동회수부(310a)가 하강하면 제1이동회수부(310a)와 제2이동회수부(310b) 사이의 유로가 확장된다. 제1이동회수부(310a)와 제2이동회수부(310b) 사이의 유로가 확장된 상태에서, 기판(10)이 회전될 때 제2약액이 기판(10)에 공급될 수 있도록 한다. When the first mobile recovery unit 310a descends, the flow path between the first mobile recovery unit 310a and the second mobile recovery unit 310b expands. With the flow path between the first mobile recovery unit 310a and the second mobile recovery unit 310b expanded, the second chemical solution can be supplied to the substrate 10 when the substrate 10 is rotated.

도 8은 도 7의 'D'를 나타내는 도면이다. 도 7 및 8을 참조하면, 제2이동회수부(310b) 및 제3이동회수부(310c)가 상승하고, 제1이동회수부(310a)가 하강한 상태에서 기판(10)을 회전시키면서 처리액공급부(200)를 통하여 제2약액을 기판(10)의 대략 중간부에 분사한다. Figure 8 is a diagram showing 'D' in Figure 7. Referring to FIGS. 7 and 8, processing is performed while rotating the substrate 10 while the second mobile recovery unit 310b and the third mobile recovery unit 310c are raised and the first mobile recovery unit 310a is lowered. The second chemical liquid is sprayed to approximately the middle of the substrate 10 through the liquid supply unit 200.

기판(10)의 회전에 의하여 발생되는 원심력에 의하여 제2약액은 기판(10)의 중심부에서 기판(10)의 반경 방향으로 이동되고, 기판(10)으로부터 분리되어 기판(10)의 외측으로 배출된다. Due to the centrifugal force generated by the rotation of the substrate 10, the second chemical liquid moves from the center of the substrate 10 in the radial direction of the substrate 10, is separated from the substrate 10, and is discharged to the outside of the substrate 10. do.

기판(10)의 외측으로 분리되는 제2약액과, 제2약액의 처리 과정에서 발생되는 배기가스는 제2이동회수부(310b)의 전환부(311)에 의하여 외측 방향으로의 이동이 제한된다. The movement of the second chemical liquid separated to the outside of the substrate 10 and the exhaust gas generated during the processing of the second chemical liquid is restricted by the switching unit 311 of the second mobile recovery unit 310b. .

제2약액은 제2이동회수부(310b)의 전환부(311) 및 회수배출부(313)를 따라 분리부(330)로 이동된다. 상술한 바와 같이 분리부(330)의 하단부는 제2이동회수부(310b)가 상승한 상태에서도 분리부(330)의 상단부보다 낮게 위치하므로 제2약액이 분리부(330)에 전달되는 과정에서 외부로 누출되는 것이 차단된다. The second chemical liquid is moved to the separation unit 330 along the switching unit 311 and the recovery discharge unit 313 of the second mobile recovery unit 310b. As described above, the lower end of the separator 330 is located lower than the upper end of the separator 330 even when the second moving recovery unit 310b is raised, so that during the process of transferring the second chemical liquid to the separator 330, the external Leakage is blocked.

분리부(330), 구체적으로 분리수용부(331)에 수용되는 배기가스는 배기부(370)의 음압에 의하여 분리처리부(333)를 거쳐 배기부(370)에 회수된다. The exhaust gas contained in the separation unit 330, specifically the separation receiving unit 331, is recovered to the exhaust unit 370 through the separation processing unit 333 by the negative pressure of the exhaust unit 370.

배기가스가 이동되는 과정에서 배기가스에 섞이거나, 배기가스에 밀려 이동되는 제2약액은 처리액이동제한부(336)에 의하여 배기부(370) 측으로의 이동이 제한되므로 배기가스와 분리되며, 경사면인 하단면(332)을 따라 제2처리액배출부(350b)로 전달되어 배출된다.In the process of moving the exhaust gas, the second chemical liquid mixed with the exhaust gas or moved by the exhaust gas is separated from the exhaust gas because its movement toward the exhaust unit 370 is restricted by the treatment liquid movement limiter 336, It is delivered to the second treatment liquid discharge unit 350b along the inclined bottom surface 332 and discharged.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치에서 제1이동회수부와 제2이동회수부가 하강하고, 제3이동회수부가 상승한 상태를 나타내는 도면이다. 도 9를 참조하면, 제2약액에 의한 처리 및, 배기가스와 제2약액의 배출이 완료되면, 승강장치에 의하여 제2이동회수부(310b)가 하강한다.FIG. 9 is a diagram illustrating a state in which the first mobile recovery unit and the second mobile recovery unit are lowered and the third mobile recovery unit is raised in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 9, when processing with the second chemical liquid and discharge of the exhaust gas and the second chemical liquid are completed, the second mobile recovery unit 310b is lowered by the lifting device.

제2이동회수부(310b)가 하강하면 제2이동회수부(310b)와 제3이동회수부(310c) 사이의 유로가 확장된다. 제2이동회수부(310b)와 제3이동회수부(310c) 사이의 유로가 확장된 상태에서, 기판(10)이 회전될 때 순수가 기판(10)에 공급될 수 있도록 한다. When the second mobile recovery unit 310b descends, the flow path between the second mobile recovery unit 310b and the third mobile recovery unit 310c is expanded. With the flow path between the second mobile recovery unit 310b and the third mobile recovery unit 310c expanded, pure water can be supplied to the substrate 10 when the substrate 10 is rotated.

도 10은 도 9의 'E'를 나타내는 도면이다. 도 9 및 10을 참조하면, 제3이동회수부(310c)가 상승하고, 제1이동회수부(310a) 및 제2이동회수부(310b)가 하강한 상태에서 기판(10)을 회전시키면서 처리액공급부(200)를 통하여 순수를 기판(10)의 대략 중간부에 분사한다. Figure 10 is a diagram showing 'E' in Figure 9. Referring to FIGS. 9 and 10, processing is performed while rotating the substrate 10 while the third mobile recovery unit 310c is raised and the first mobile recovery unit 310a and the second mobile recovery unit 310b are lowered. Pure water is sprayed to approximately the middle of the substrate 10 through the liquid supply unit 200.

기판(10)의 회전에 의하여 발생되는 원심력에 의하여 순수는 기판(10)의 중심부에서 기판(10)의 반경 방향으로 이동되고, 기판(10)으로부터 분리되어 기판(10)의 외측으로 배출된다. Due to the centrifugal force generated by the rotation of the substrate 10, pure water is moved from the center of the substrate 10 in the radial direction of the substrate 10, is separated from the substrate 10, and is discharged to the outside of the substrate 10.

기판(10)의 외측으로 분리되는 순수와, 순수에 의한 세정 등의 처리 과정에서 발생되는 배기가스는 제3이동회수부(310c)의 전환부(311)에 의하여 외측 방향으로의 이동이 제한된다. The pure water separated to the outside of the substrate 10 and the exhaust gas generated during processing such as cleaning with pure water are restricted from moving in the outward direction by the switching unit 311 of the third mobile recovery unit 310c. .

순수는 제3이동회수부(310c)의 전환부(311) 및 회수배출부(313)를 따라 분리부(330)로 이동된다. 상술한 바와 같이 분리부(330)의 하단부는 제3이동회수부(310c)가 상승한 상태에서도 분리부(330)의 상단부보다 낮게 위치하므로 순수가 분리부(330)에 전달되는 과정에서 외부로 누출되는 것이 차단된다. Pure water is moved to the separation unit 330 along the switching unit 311 and the recovery discharge unit 313 of the third mobile recovery unit 310c. As described above, the lower end of the separator 330 is located lower than the upper end of the separator 330 even when the third mobile recovery unit 310c is raised, so pure water leaks to the outside during the process of being delivered to the separator 330. What happens is blocked.

분리부(330), 구체적으로 분리수용부(331)에 수용되는 배기가스는 배기부(370)의 음압에 의하여 분리처리부(333)를 거쳐 배기부(370)에 회수된다. The exhaust gas contained in the separation unit 330, specifically the separation receiving unit 331, is recovered to the exhaust unit 370 through the separation processing unit 333 by the negative pressure of the exhaust unit 370.

배기가스가 이동되는 과정에서 배기가스에 섞이거나, 배기가스에 밀려 이동되는 순수는 처리액이동제한부(336)에 의하여 배기부(370) 측으로의 이동이 제한되므로 배기가스와 분리되며, 경사면인 하단면(332)을 따라 제3처리액배출부(350b)로 전달되어 배출된다.In the process of moving the exhaust gas, pure water that is mixed with the exhaust gas or is moved by the exhaust gas is separated from the exhaust gas because its movement toward the exhaust unit 370 is restricted by the treatment liquid movement limiter 336, and is separated from the exhaust gas by the inclined surface. It is delivered to the third treatment liquid discharge unit 350b along the bottom surface 332 and discharged.

이로써, 본 실시예에 따른 기판 처리장치(1)는, 기판(10)을 처리하면서 발생되는 배기가스와 처리액의 배출을 원활하게 하고, 배기가스와 처리액을 분리하며, 이종의 처리액 등의 혼입을 방지할 수 있다. As a result, the substrate processing apparatus 1 according to this embodiment smoothly discharges the exhaust gas and processing liquid generated while processing the substrate 10, separates the exhaust gas and the processing liquid, and separates the exhaust gas and the processing liquid, etc. Mixing of can be prevented.

또한, 본 실시예에 따른 기판 처리장치(1)는 이동회수부(310)를 분리부(330)와 구분하여 이동시키고, 고정된 상태의 분리부(330)에 처리액배출부(350) 등을 연결하므로 장치의 구성이 간단하여 조립 및 관리가 용이하고 내구성이 향상된다. In addition, the substrate processing apparatus 1 according to the present embodiment moves the mobile recovery unit 310 separately from the separation unit 330, and includes a processing liquid discharge unit 350, etc. in the fixed separation unit 330. Since the device is connected, the configuration of the device is simple, making assembly and management easier, and durability is improved.

또한, 본 실시예에 따른 기판 처리장치(1)는 분리연통부(334)에 돌출 형성되는 처리액이동제한부(336)로 처리액과 배기가스를 분리하므로, 구성이 간단하며, 복잡한 구동 장치 등의 적용 없이, 처리액과 배기가스를 분리할 수 있다.In addition, the substrate processing apparatus 1 according to the present embodiment separates the processing liquid and the exhaust gas with the processing liquid movement limiting portion 336 protruding from the separation communication portion 334, and thus has a simple configuration and does not require a complicated driving device. The treatment liquid and the exhaust gas can be separated without the application of the like.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 기술적 보호범위는 아래의 청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are merely exemplary, and those skilled in the art will recognize that various modifications and other equivalent embodiments are possible therefrom. You will understand. Therefore, the scope of technical protection of the present invention should be determined by the claims below.

1: 기판 처리장치 10: 기판
100: 기판회전부 101: 회전중심
110: 기판안착부 111: 회전테이블
113: 기판고정부 130: 안착회전부
131: 회전구동부 133: 회전축부
200: 처리액공급부 300: 회수부
310: 이동회수부 311: 전환부
3111: 전환안내부 3112: 전환안내바디
3113: 역류방지부 313: 회수배출부
310a: 제1이동회수부 310b: 제2이동회수부
310c: 제3이동회수부 330: 분리부
331: 분리수용부 332: 하단면
333: 분리처리부 334: 분리연통부
3341: 제1면 3343: 제2면
336: 처리액이동제한부 3361: 제1처리액이동제한부
3363: 제2처리액이동제한부 3365: 처리액통과부
3366: 처리액제한돌기 330a: 제1분리부
330b: 제2분리부 330c: 제3분리부
350: 처리액배출부 350a: 제1처리액배출부
350b: 제2처리액배출부 350c: 제3처리액배출부
370: 배기부 371: 제1배기홀부
372: 제2배기홀부 373: 제3배기홀부 1: Substrate processing device 10: Substrate
100: substrate rotating part 101: rotation center
110: substrate seating portion 111: rotary table
113: substrate fixing part 130: seating rotating part
131: Rotation drive unit 133: Rotation shaft unit
200: Treatment liquid supply unit 300: Recovery unit
310: mobile recovery unit 311: conversion unit
3111: Conversion guide 3112: Conversion guide body
3113: backflow prevention unit 313: recovery discharge unit
310a: first mobile recovery unit 310b: second mobile recovery unit
310c: third mobile recovery unit 330: separation unit
331: Separated receiving portion 332: Bottom side
333: Separation processing unit 334: Separation communication unit
3341: Page 1 3343: Page 2
336: Treatment liquid movement limiting unit 3361: First treatment liquid movement limiting unit
3363: Second treatment liquid movement restriction unit 3365: Treatment liquid passage unit
3366: Processing liquid limiting protrusion 330a: First separator
330b: second separator 330c: third separator
350: Treatment liquid discharge unit 350a: First treatment liquid discharge unit
350b: second treatment liquid discharge unit 350c: third treatment liquid discharge unit
370: exhaust part 371: first exhaust hole part
372: 2nd exhaust hole 373: 3rd exhaust hole

Claims (15)

기판을 지지하며, 상기 기판을 회전시키는 기판회전부;
상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액공급부; 및
상기 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스를 회수하는 회수부;를 포함하고,
상기 회수부는, 상기 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스가 유입되며, 이동 가능하게 구비되는 이동회수부;
상기 이동회수부로부터 전달받은 처리액과 배기가스를 분리하는 분리부;
상기 분리부에 연결되어 처리액을 배출하는 처리액배출부; 및
상기 분리부에 연결되어 배기가스를 배출하는 배기부;를 포함하고,
상기 분리부는,
상기 이동회수부가 이동 가능하게 삽입되어, 상기 이동회수부로부터 처리액과 배기가스를 전달받고, 상기 처리액배출부와 연결되는 분리수용부; 및
상기 분리수용부에 수용되는 처리액이 상기 배기부 측으로 이동하는 것을 제한하여 처리액과 배기가스를 분리하는 분리처리부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
A substrate rotating unit that supports the substrate and rotates the substrate;
a processing liquid supply unit that supplies processing liquid to the substrate; and
It includes a recovery unit that recovers the processing liquid and exhaust gas processed on the substrate,
The recovery unit includes a movable recovery unit through which the processing liquid and exhaust gas processed on the substrate flow, and is movable;
a separation unit that separates the treatment liquid received from the mobile recovery unit and the exhaust gas;
a processing liquid discharge unit connected to the separation unit to discharge the processing liquid; and
It includes an exhaust unit connected to the separation unit to discharge exhaust gas,
The separation part,
a separate receiving portion movably inserted into the mobile recovery unit, receiving the treatment liquid and exhaust gas from the mobile recovery unit, and connected to the treatment liquid discharge unit; and
A substrate processing apparatus comprising: a separation processing unit that separates the processing liquid and exhaust gas by restricting the processing liquid accommodated in the separation receiving unit from moving toward the exhaust unit.
 제 1항에 있어서, 상기 이동회수부는,
상기 기판회전부를 둘러싸며, 상기 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스의 이동 방향을 전환하는 전환부; 및
상기 전환부에 연결되어 처리액과 배기가스의 이동을 상기 분리부 측으로 안내하는 회수배출부;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 1, wherein the mobile recovery unit,
a switching unit surrounding the substrate rotating unit and switching the direction of movement of the processing liquid and exhaust gas processed on the substrate; and
a recovery discharge unit connected to the switching unit and guiding the movement of the treatment liquid and exhaust gas toward the separation unit;
A substrate processing device comprising:
 제 2항에 있어서, 상기 전환부는,
상기 기판회전부의 회전중심 측으로 상향 경사지게 형성되는 전환안내부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 2, wherein the switching unit,
A substrate processing apparatus comprising: a switching guide formed to be inclined upward toward the rotation center of the substrate rotating unit.
 제 3항에 있어서, 상기 전환안내부는,
상기 기판회전부의 회전중심 측으로 상향 경사지게 형성되는 전환안내바디; 및
상기 전환안내바디의 내주면에 돌출 형성되어, 상기 기판에서 배출되는 처리액 또는 배기가스가 상기 기판 측으로 역류하는 것을 방지하는 역류방지부;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 3, wherein the conversion information unit,
a switching guide body formed to be inclined upward toward the rotation center of the substrate rotating unit; and
a backflow prevention portion protruding from the inner peripheral surface of the switching guide body to prevent the processing liquid or exhaust gas discharged from the substrate from flowing backward toward the substrate;
A substrate processing device comprising:
 제 2항에 있어서, 상기 전환부와 상기 회수배출부는 일체로서 이동되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the switching unit and the recovery discharge unit are moved as one unit.
 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 분리수용부는,
하단면이 상기 처리액배출부 측으로 하향 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 1, wherein the separate receiving unit,
A substrate processing device, characterized in that the bottom surface is formed to be inclined downward toward the processing liquid discharge portion.
 제 1항에 있어서, 상기 분리처리부는,
상기 분리수용부와 상기 배기부를 연통시키는 분리연통부; 및
상기 분리연통부의 내측으로 돌출되어 처리액의 이동을 제한하는 처리액이동제한부;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 1, wherein the separation processing unit,
a separate communication part communicating with the separate receiving part and the exhaust part; and
a treatment liquid movement limiter protruding inside the separation communication unit to restrict movement of the treatment liquid;
A substrate processing device comprising:
 제 8항에 있어서, 상기 처리액이동제한부는,
상기 분리연통부의 제1면에서 돌출되는 제1처리액이동제한부; 및
상기 분리연통부의 제2면에서 돌출되는 제2처리액이동제한부;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 8, wherein the treatment liquid movement limiter,
a first treatment liquid movement restriction unit protruding from the first surface of the separation communication unit; and
a second treatment liquid movement restriction unit protruding from the second surface of the separation communication unit;
A substrate processing device comprising:
 제 9항에 있어서, 상기 제1처리액이동제한부 및 상기 제2처리액이동제한부는 상기 분리연통부의 길이 방향을 따라 배열되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The substrate processing apparatus of claim 9, wherein the first processing liquid movement limiting part and the second processing liquid movement limiting part are arranged along the longitudinal direction of the separation communication part.
 제 10항에 있어서, 상기 제1처리액이동제한부와 상기 제2처리액이동제한부는 상기 분리연통부의 길이 방향을 따라 교호로 배열되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The substrate processing apparatus of claim 10, wherein the first processing liquid movement limiting part and the second processing liquid movement limiting part are alternately arranged along the longitudinal direction of the separation communication part.
 제 9항에 있어서, 상기 제1처리액이동제한부 또는 상기 제2처리액이동제한부에는 처리액통과부가 관통 형성되어 처리액이 상기 처리액배출부 측으로 배출되도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The substrate processing apparatus of claim 9, wherein a processing liquid passing portion is formed through the first processing liquid movement limiting portion or the second processing liquid movement limiting portion to discharge the processing liquid toward the processing liquid discharge portion. .
 제 9항에 있어서, 상기 제1처리액이동제한부 또는 상기 제2처리액이동제한부에는, 배기가스 또는 처리액이 유입되는 방향으로 돌출되어 처리액의 이동을 제한하는 처리액제한돌기;
가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 9, wherein the first processing liquid movement limiting unit or the second processing liquid movement limiting unit includes a processing liquid limiting protrusion that protrudes in a direction in which exhaust gas or processing liquid flows to restrict movement of the processing liquid;
A substrate processing device characterized in that a is formed.
 제 9항에 있어서, 상기 제1처리액이동제한부가 상기 제1면에서 돌출된 길이와, 상기 제2처리액이동제한부가 상기 제2면에서 돌출된 길이의 합은, 상기 제1면과 상기 제2면 사이의 거리보다 긴 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 9, wherein the sum of the length of the first processing liquid movement limiting portion protruding from the first surface and the length of the second processing liquid movement limiting portion protruding from the second surface are equal to the sum of the length of the first processing liquid movement limiting portion protruding from the second surface. A substrate processing device characterized in that it is longer than the distance between the second surfaces.
 기판을 지지하며, 상기 기판을 회전시키는 기판회전부;
상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액공급부; 및
상기 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스를 회수하는 회수부;를 포함하고,
상기 회수부는, 상기 기판에서 처리되는 처리액과 배기가스가 유입되며, 이동 가능하게 구비되는 이동회수부;
상기 이동회수부로부터 전달받은 처리액과 배기가스를 분리하는 분리부;
상기 분리부에 연결되어 처리액을 배출하는 처리액배출부; 및
상기 분리부에 연결되어 배기가스를 배출하는 배기부;를 포함하고,
상기 이동회수부 및 상기 분리부는 복수 개가 구비되며,
복수 개의 상기 이동회수부는, 각각의 상기 이동회수부에 대응되게 구비되는 상기 분리부에 이동 가능하게 삽입되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치. A substrate rotating unit that supports the substrate and rotates the substrate;
a processing liquid supply unit that supplies processing liquid to the substrate; and
It includes a recovery unit that recovers the processing liquid and exhaust gas processed on the substrate,
The recovery unit includes a movable recovery unit through which the processing liquid and exhaust gas processed on the substrate flow and is movable;
a separation unit that separates the treatment liquid received from the mobile recovery unit and the exhaust gas;
a processing liquid discharge unit connected to the separation unit to discharge the processing liquid; and
It includes an exhaust unit connected to the separation unit to discharge exhaust gas,
The mobile recovery unit and the separation unit are provided in plural pieces,
A substrate processing apparatus, wherein the plurality of movable recovery units are movably inserted into the separation unit provided to correspond to each of the movable recovery units.
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