KR101008678B1 - Unit for collecting liquid and apparatus for treating substrate with the same - Google Patents

Unit for collecting liquid and apparatus for treating substrate with the same Download PDF

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KR101008678B1 KR1020080111006A KR20080111006A KR101008678B1 KR 101008678 B1 KR101008678 B1 KR 101008678B1 KR 1020080111006 A KR1020080111006 A KR 1020080111006A KR 20080111006 A KR20080111006 A KR 20080111006A KR 101008678 B1 KR101008678 B1 KR 101008678B1
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Abstract

본 발명은 회수 유닛 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 개시한 것으로서, 회수통들 중 공정 진행에 사용되는 하나의 회수통으로만 처리액과 기류가 유입되어 배기 효율을 향상시킬 수 있고, 종래의 다단식 회수통들과 비교하여 회수통들의 승강 위치를 높여 비산되는 처리액의 회수 능력을 향상시킬 수 있는 회수 유닛 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.

Figure R1020080111006

세정, 회수통, 산 알카리 분리, 캠

The present invention discloses a recovery unit and a substrate processing apparatus having the same, in which the treatment liquid and the airflow flow into only one recovery container used for the process progress among the recovery containers to improve the exhaust efficiency, and the conventional multi-stage recovery. Compared with the cylinders, it is possible to provide a recovery unit and a substrate processing apparatus having the same, which are capable of improving the recovery capability of the treatment liquid scattered by raising the lift position of the recovery containers.

Figure R1020080111006

Cleaning, Recovery Bin, Acid Alkali Separation, Cam

Description

회수 유닛 및 이를 구비한 기판 처리 장치{UNIT FOR COLLECTING LIQUID AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE WITH THE SAME}Recovery unit and substrate processing apparatus having the same {UNIT FOR COLLECTING LIQUID AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE WITH THE SAME}

본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 매엽식으로 반도체 기판을 세정 및 린스, 그리고 건조하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for processing a substrate, and more particularly, to an apparatus for cleaning, rinsing, and drying a semiconductor substrate in a sheet type.

반도체 디바이스 제조에 있어서는, 기판(반도체 기판, LCD 기판등)의 전면이 세정된 상태에 있는 것을 전제로 하여 미세 가공이 이루어진다. 따라서, 각 가공 처리에 앞서, 또는 각 가공 처리 사이에 기판 표면에 존재하는 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 필수적으로 수반된다.In semiconductor device manufacture, microfabrication is performed on the premise that the entire surface of the substrate (semiconductor substrate, LCD substrate, etc.) is in a cleaned state. Therefore, a cleaning process is essentially accompanied by removing contaminants present on the substrate surface prior to or between each processing.

세정 공정을 수행하는 장치는 다수의 기판을 동시에 세정하는 배치식 세정 장치와, 낱장 단위로 기판을 세정하는 매엽식 세정 장치로 구분된다. 이 중 매엽식 세정 장치는 낱장의 기판을 지지하는 지지 부재와 기판 처리면에 처리 유체들을 공급하는 노즐이 구비된 노즐부를 포함한다. 매엽식 세정 장치의 공정이 개시되면, 지지 부재에 기판이 안착되고, 노즐부는 세정액, 린스액, 그리고 건조 가스를 순차적으로 분사하여 기판을 세정 및 린스, 그리고 건조시킨다.The apparatus for performing the cleaning process is divided into a batch type cleaning apparatus for simultaneously cleaning a plurality of substrates, and a sheet type cleaning apparatus for cleaning substrates in sheets. Among them, the single wafer cleaning apparatus includes a nozzle member having a support member for supporting a sheet of substrate and a nozzle for supplying processing fluids to a substrate processing surface. When the process of the single wafer cleaning apparatus is started, the substrate is seated on the support member, and the nozzle portion is sequentially sprayed with the cleaning liquid, the rinse liquid and the drying gas to clean, rinse and dry the substrate.

본 발명은 배기 효율을 향상시키고, 산성/알카리성 기류를 분리하여 배기할 수 있는 회수 유닛과, 이를 구비한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention aims to provide a recovery unit capable of improving the exhaust efficiency and separating and exhausting the acidic / alkaline airflow, and a substrate processing apparatus having the same.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 회수 유닛은, 기판 처리에 사용된 처리액을 회수하는 회수 유닛에 있어서, 동일한 중심을 가지는 환형의 링 형상들로 제공되는 다수의 회수통들; 및 상기 회수통들을 승하강시키는 회수통 승강 유닛을 포함하되, 상기 회수통 승강 유닛은 상기 회수통들의 중심과 동일한 중심을 가지는 링 형상들로 제공되고, 상기 회수통들로부터 돌출된 돌기가 삽입되는 캠이 형성된 승강 판들; 상기 돌기가 상기 캠을 따라서 이동하도록 상기 승강 판들을 회전시키는 구동 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a recovery unit according to the present invention comprises: a recovery unit for recovering a processing liquid used for substrate processing, comprising: a plurality of recovery containers provided in annular ring shapes having the same center; And a recovery bin lifting unit for lifting up and down the recovery bins, wherein the recovery bin lifting unit is provided in ring shapes having the same center as the centers of the recovery bins, and projections protruding from the recovery bins are inserted. Lifting plates having cams formed thereon; And a drive member for rotating the lifting plates so that the protrusion moves along the cam.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 회수 유닛에 있어서, 상기 각각의 캠들은 상기 승강판들의 원주 방향을 따라 수평하게 연장된 제 1 곡선부와, 상기 제 1 곡선부의 끝단으로부터 경사지게 연장된 경사부와, 상기 경사부의 끝단으로부터 수평하게 연장된 제 2 곡선부를 가지되, 상기 캠들은 상기 승강 판들의 원주 방향을 따라 위상 차를 가질 수 있다.In the recovery unit according to the present invention having the configuration as described above, each of the cams is a first curved portion extending horizontally along the circumferential direction of the elevating plate, the inclined extending obliquely from the end of the first curved portion And a second curved portion extending horizontally from the end of the inclined portion, the cams may have a phase difference along the circumferential direction of the elevating plates.

상기 제 1 곡선부들은 상기 승강판들에 동일한 높이로 제공되고, 상기 제 2 곡선부들은 상기 승강판들에 동일한 높이로 제공되며, 상기 경사부들은 상기 승강판들에 동일한 기울기로 제공될 수 있다.The first curved portions may be provided at the same height on the lifting plates, the second curved portions may be provided at the same height on the lifting plates, and the inclined portions may be provided at the same slopes on the lifting plates. .

상기 회수통들의 하부에 배치되며, 상기 회수통들로 회수된 처리액을 배수하는 배수 부재를 더 포함하되, 상기 배수 부재는 원환체(圓環體) 형상의 제 1 하부 벽; 상기 제 1 하부 벽의 내측 가장자리와 외측 가장자리로부터 상측으로 연장된 내측벽 및 외측벽; 상기 회수통들의 내부 공간에 대응하는 오목한 형상의 공간이 형성되도록 상기 하부 벽의 상면으로부터 돌출된 다수의 돌출부들; 및 상기 오목한 형상의 공간에 연통되도록 상기 하부 벽에 연결된 배수관들을 포함할 수 있다.A drain member disposed under the collection vessels and configured to drain the treatment liquid recovered to the collection vessels, wherein the drain member comprises: a toric shaped first lower wall; Inner and outer walls extending upward from inner and outer edges of the first lower wall; A plurality of protrusions protruding from an upper surface of the lower wall to form a concave shaped space corresponding to the inner space of the recovery containers; And drain pipes connected to the lower wall to communicate with the concave-shaped space.

상기 내측벽에 형성된 배기 홀들을 통해 배출되는 기류의 흐름 방향을 전환하는 배기 분리 부재; 및 상기 배기 분리 부재를 회전시키는 회전 구동 부재를 더 포함하되, 상기 배기 분리 부재는 상기 배수 부재의 상기 내측벽과 마주보는 링 형상으로 제공되고, 다수의 제 1 홀들이 형성된 측벽; 상기 측벽의 하단로부터 중심을 향해 연장되고, 이웃한 상기 제 1 홀들 중 어느 하나의 제 1 홀에 대응하는 위치에 제 2 홀들이 형성된 제 2 하부 벽; 및 상기 제 1 홀들을 통해 유입되는 기류를 상기 제 2 홀들로 유도하도록 상기 하부 벽 상의 상기 제 2 홀들의 경계로부터 상측으로 연장된 유도 벽을 포함할 수 있다.An exhaust separation member for switching a flow direction of the airflow discharged through the exhaust holes formed in the inner wall; And a rotation driving member for rotating the exhaust separating member, wherein the exhaust separating member is provided in a ring shape facing the inner wall of the drain member and has a plurality of first holes formed therein; A second lower wall extending toward a center from a lower end of the side wall and having second holes formed at positions corresponding to the first hole of any one of the neighboring first holes; And an induction wall extending upward from a boundary of the second holes on the lower wall to guide the airflow flowing through the first holes to the second holes.

상기 배기 분리 부재는 상기 측벽의 상단으로부터 중심을 향해 연장되고, 내주 면에 톱니 모양의 제 1 치형이 형성된 상부 벽을 더 포함하고, 상기 회전 구동 부재는 구동 모터와; 상기 구동 모터의 회전축에 연결되고, 원주 면에 상기 제 1 치형과 맞물리는 제 2 치형이 형성된 회전 판을 포함할 수 있다.The exhaust separation member further includes an upper wall extending from an upper end of the side wall toward the center and having a serrated first tooth formed on an inner circumferential surface thereof, wherein the rotation driving member comprises: a drive motor; It may include a rotary plate connected to the rotary shaft of the drive motor, the second plate is formed on the circumferential surface to engage the first tooth.

상기 배기 분리 부재의 하부에 배치되며, 상기 배기 분리 부재의 상기 유도 벽에 의해 유도되는 기류가 유입되도록 제공되는 제 1 배기통; 및 상기 유도 벽이 제공되지 않은, 상기 측벽의 상기 제 1 홀들을 통해 흐르는 기류가 유입되도록 제공되는 제 2 배기통을 더 포함할 수 있다.A first exhaust pipe disposed under the exhaust separation member and provided to allow the airflow guided by the guide wall of the exhaust separation member to flow in; And a second exhaust pipe provided to allow the airflow flowing through the first holes of the sidewall to which the guide wall is not provided.

상기 제 1 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 1 배기통에 세정액를 분사하는 제 1 세정액 노즐; 및 상기 제 2 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 2 배기통에 세정액을 분사하는 제 2 세정액 노즐을 더 포함할 수 있다.A first cleaning liquid nozzle installed in the first exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the first exhaust cylinder; And a second cleaning liquid nozzle installed in the second exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the second exhaust cylinder.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 기판 처리 장치는 기판이 놓이는 기판 지지 부재; 상기 기판 지지 부재에 놓인 상기 기판으로 처리 유체를 공급하는 처리 유체 공급 부재; 상기 기판 지지 부재를 감싸는 환형의 링 형상들로 제공되고, 상기 처리 유체 공급 부재로부터 상기 기판으로 공급된 처리 유체를 회수하는 회수통들; 및 상기 회수통들을 승하강시키는 회수통 승강 유닛을 포함하되, 상기 회수통 승강 유닛은 상기 회수통들의 중심과 동일한 중심을 가지는 링 형상들로 제공되고, 상기 회수통들로부터 돌출된 돌기가 삽입되는 캠이 형성된 승강 판들; 상기 돌기가 상기 캠을 따라서 이동하도록 상기 승강 판들을 회전시키는 구동 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a substrate processing apparatus according to the present invention includes a substrate support member on which a substrate is placed; A processing fluid supply member for supplying a processing fluid to the substrate placed on the substrate support member; Recovery containers provided in annular ring shapes surrounding the substrate support member and recovering the processing fluid supplied from the processing fluid supply member to the substrate; And a recovery bin lifting unit for lifting up and down the recovery bins, wherein the recovery bin lifting unit is provided in ring shapes having the same center as the centers of the recovery bins, and projections protruding from the recovery bins are inserted. Lifting plates having cams formed thereon; And a drive member for rotating the lifting plates so that the protrusion moves along the cam.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 각각의 캠들은 상기 승강판의 원주 방향을 따라 수평하게 연장된 제 1 곡선부와, 상기 제 1 곡선부의 끝단으로부터 경사지게 연장된 경사부와, 상기 경사부의 끝단으로부터 수평하게 연장된 제 2 곡선부를 가지되, 상기 캠들은 상기 승강 판들 의 원주 방향을 따라 위상 차를 가질 수 있다.In the substrate processing apparatus according to the present invention having the configuration as described above, each of the cams extends horizontally along the circumferential direction of the elevating plate and obliquely extending from the end of the first curved portion. The inclined portion and the second curved portion extending horizontally from the end of the inclined portion, the cams may have a phase difference along the circumferential direction of the lifting plate.

상기 회수통들의 하부에 배치되며, 상기 회수통들로 회수된 처리액을 배수하는 배수 부재를 더 포함하되, 상기 배수 부재는 원환체(圓環體) 형상의 제 1 하부 벽; 상기 제 1 하부 벽의 내측 가장자리와 외측 가장자리로부터 상측으로 연장된 내측벽 및 외측벽; 상기 회수통들의 내부 공간에 대응하는 오목한 형상의 공간이 형성되도록 상기 하부 벽의 상면으로부터 돌출된 다수의 돌출부들; 및 상기 오목한 형상의 공간에 연통되도록 상기 하부 벽에 연결된 배수관들을 포함할 수 있다.A drain member disposed under the collection vessels and configured to drain the treatment liquid recovered to the collection vessels, wherein the drain member comprises: a toric shaped first lower wall; Inner and outer walls extending upward from inner and outer edges of the first lower wall; A plurality of protrusions protruding from an upper surface of the lower wall to form a concave shaped space corresponding to the inner space of the recovery containers; And drain pipes connected to the lower wall to communicate with the concave-shaped space.

상기 내측벽에 형성된 배기 홀들을 통해 배출되는 기류의 흐름 방향을 전환하는 배기 분리 부재; 및 상기 배기 분리 부재를 회전시키는 회전 구동 부재를 더 포함하되, 상기 배기 분리 부재는 상기 배수 부재의 상기 내측벽과 마주보는 링 형상으로 제공되고, 다수의 제 1 홀들이 형성된 측벽; 상기 측벽의 하단로부터 중심을 향해 연장되고, 이웃한 상기 제 1 홀들 중 어느 하나의 제 1 홀에 대응하는 위치에 제 2 홀들이 형성된 제 2 하부 벽; 및 상기 제 1 홀들을 통해 유입되는 기류를 상기 제 2 홀들로 유도하도록 상기 하부 벽 상의 상기 제 2 홀들의 경계로부터 상측으로 연장된 유도 벽을 포함할 수 있다.An exhaust separation member for switching a flow direction of the airflow discharged through the exhaust holes formed in the inner wall; And a rotation driving member for rotating the exhaust separating member, wherein the exhaust separating member is provided in a ring shape facing the inner wall of the drain member and has a plurality of first holes formed therein; A second lower wall extending toward a center from a lower end of the side wall and having second holes formed at positions corresponding to the first hole of any one of the neighboring first holes; And an induction wall extending upward from a boundary of the second holes on the lower wall to guide the airflow flowing through the first holes to the second holes.

상기 배기 분리 부재는 상기 측벽의 상단으로부터 중심을 향해 연장되고, 내주 면에 톱니 모양의 제 1 치형이 형성된 상부 벽을 더 포함하고, 상기 회전 구동 부재는 구동 모터와; 상기 구동 모터의 회전축에 연결되고, 원주 면에 상기 제 1 치형과 맞물리는 제 2 치형이 형성된 회전 판을 포함할 수 있다.The exhaust separation member further includes an upper wall extending from an upper end of the side wall toward the center and having a serrated first tooth formed on an inner circumferential surface thereof, wherein the rotation driving member comprises: a drive motor; It may include a rotary plate connected to the rotary shaft of the drive motor, the second plate is formed on the circumferential surface to engage the first tooth.

상기 배기 분리 부재의 하부에 배치되며, 상기 배기 분리 부재의 상기 유도 벽에 의해 유도되는 기류가 유입되도록 제공되는 제 1 배기통; 및 상기 유도 벽이 제공되지 않은, 상기 측벽의 상기 제 1 홀들을 통해 흐르는 기류가 유입되고 제공되는 제 2 배기통을 더 포함할 수 있다.A first exhaust pipe disposed under the exhaust separation member and provided to allow the airflow guided by the guide wall of the exhaust separation member to flow in; And a second exhaust cylinder through which air flows flowing through the first holes of the side wall, into which the induction wall is not provided, is introduced and provided.

상기 제 1 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 1 배기통에 세정액를 분사하는 제 1 세정액 노즐; 및 상기 제 2 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 2 배기통에 세정액을 분사하는 제 2 세정액 노즐을 더 포함할 수 있다.A first cleaning liquid nozzle installed in the first exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the first exhaust cylinder; And a second cleaning liquid nozzle installed in the second exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the second exhaust cylinder.

본 발명에 의하면, 공정 진행에 사용되는 하나의 회수통으로만 처리액과 기류가 유입되므로 배기 효율을 향상시킬 수 있다. According to the present invention, since the treatment liquid and the airflow flow into only one recovery container used in the process, it is possible to improve the exhaust efficiency.

그리고 본 발명에 의하면, 산성 기류와 알카리성 기류를 분리하여 배기할 수 있다.According to the present invention, the acidic air stream and the alkaline air stream can be separated and exhausted.

또한 본 발명에 의하면, 종래의 다단식 회수통들과 비교하여 회수통들의 승강 위치를 높일 수 있으며, 이에 따라 비산되는 처리액의 회수 능력을 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to increase the lifting position of the recovery bins as compared with the conventional multi-stage recovery bins, thereby improving the recovery capacity of the treatment liquid scattered.

또한 본 발명에 의하면, 배기통에 산/알카리의 반응에 의해 염이 발생하더라도 세정액 노즐을 이용하여 배기통을 세정할 수 있다.In addition, according to the present invention, even if salts are generated by the acid / alkali reaction in the exhaust cylinder, the exhaust cylinder can be cleaned using the cleaning liquid nozzle.

또한 본 발명에 의하면, 공정 챔버 내의 공간 활용도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to improve the space utilization in the process chamber.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 회수 유닛 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a recovery unit and a substrate processing apparatus having the same according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are assigned to the same components as much as possible, even if shown on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

( 실시 예 )(Example)

도 1은 본 발명에 따른 매엽식 기판 세정 설비의 구성을 보여주는 도면이다.1 is a view showing the configuration of a single wafer cleaning equipment according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 매엽식 기판 세정 설비는, 기판의 이면을 세정하기 위한 것으로, 로딩/언로딩부(1), 캐리어 이송부(2), 캐리어 테이블(3), 기판 이송부(4), 그리고 세정 처리부(5)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the sheet type substrate cleaning apparatus according to the present invention is for cleaning the back surface of a substrate, and includes a loading / unloading unit 1, a carrier transfer unit 2, a carrier table 3, and a substrate transfer unit ( 4) and the cleaning processing unit 5.

로딩/언로딩부(1)는 기판들이 수용된 캐리어(C)가 놓이는 인/아웃 포트(1-1)를 가진다. 로딩/언로딩부(1)에 인접하게 캐리어 이송부(2)가 배치되고, 캐리어 이송부(2)의 타 측 중앙부에는 기판 이송부(4)가 배치된다. 기판 이송부(4)는 캐리어 이송부(2)에 수직한 방향으로 형성된 이송 로봇(4-3) 이동용 통로(4-1)를 가진다. 통로(4-1)의 내측에는 통로(4-1)의 길이 방향을 따라 이송 가이드(4-2)가 설치되고, 이송 로봇(4-3)이 이송 가이드(4-2)에 의해 안내되어 통로(4-1)의 길이 방향을 따라 이동한다. 통로(4-1)의 양측에는 캐리어 테이블(3)과 세정 처리부(5)가 각각 배치된다. 세정 처리부(5)는 기판 이송부(4)의 통로(410) 양측에 나란하게 배치된 복수 개의 공정 챔버들(5a,5b,5c,5d)을 가진다. 기판 이송부(4), 캐리어 테이블(3) 및 세정 처리부(5)는 상층과 하층의 복층 구조로 배치될 수 있으며, 캐리어 이송부(2) 또한 복층 구조의 캐리어 테이블(3)에 대응하도록 복층 구조를 가질 수 있다. 그리고, 캐리어 이송부(2), 캐리어 테이블(3), 기판 이송부(4) 및 세정 처리부(5)의 상부에는 청정 공기를 공급하는 팬 필터 유닛(Fan Filter Unit)(미도시)이 각각 제공될 수 있다.The loading / unloading portion 1 has an in / out port 1-1 on which a carrier C on which substrates are accommodated is placed. The carrier transfer part 2 is arranged adjacent to the loading / unloading part 1, and the substrate transfer part 4 is arranged at the center of the other side of the carrier transfer part 2. The substrate transfer part 4 has a passage 4-1 for moving the transfer robot 4-3 formed in the direction perpendicular to the carrier transfer part 2. Inside the passage 4-1, a transfer guide 4-2 is provided along the longitudinal direction of the passage 4-1, and the transfer robot 4-3 is guided by the transfer guide 4-2. It moves along the longitudinal direction of the passage 4-1. The carrier table 3 and the washing | cleaning process part 5 are arrange | positioned at the both sides of the passage 4-1, respectively. The cleaning processor 5 has a plurality of process chambers 5a, 5b, 5c, and 5d arranged side by side on both sides of the passage 410 of the substrate transfer part 4. The substrate transfer unit 4, the carrier table 3, and the cleaning processing unit 5 may be arranged in a multilayer structure of an upper layer and a lower layer, and the carrier transfer unit 2 may also have a multilayer structure so as to correspond to the carrier table 3 having a multilayer structure. Can have In addition, a fan filter unit (not shown) for supplying clean air may be provided on the carrier transfer part 2, the carrier table 3, the substrate transfer part 4, and the cleaning processor 5, respectively. have.

로딩/언로딩부(1)의 인/아웃 포트(1-1)에 놓인 캐리어(C)는 캐리어 이송부(2)에 의해 캐리어 테이블(3)로 이송된다. 기판 이송부(4)의 이송 로봇(4-3)은 캐리어 테이블(3)에 놓인 캐리어(C)로부터 세정 처리될 기판을 세정 처리부(5)의 공정 챔버들(5a,5b,5c,5d)로 이송하고, 공정 챔버들(5a,5b,5c,5d)에서는 기판의 세정 처리 공정이 진행된다. 세정 처리부(5)에서 세정 처리된 기판은 이송 로봇(4-3)에 의해 캐리어 테이블(3) 상의 캐리어(C)로 이송되며, 세정 처리된 기판들을 수용하는 캐리어(C)는 캐리어 이송부(2)에 의해 로딩/언로딩부(1)의 인/아웃 포트(1-1)에 놓인다.The carrier C placed in the in / out port 1-1 of the loading / unloading portion 1 is transferred to the carrier table 3 by the carrier transfer portion 2. The transfer robot 4-3 of the substrate transfer part 4 transfers the substrate to be cleaned from the carrier C placed on the carrier table 3 to the process chambers 5a, 5b, 5c, 5d of the cleaning process part 5. In the process chambers 5a, 5b, 5c, and 5d, the substrate is cleaned. The substrate cleaned by the cleaning processor 5 is transferred to the carrier C on the carrier table 3 by the transfer robot 4-3, and the carrier C containing the cleaned substrates is a carrier carrier 2. ) Into the in / out port 1-1 of the loading / unloading section 1.

도 2는 도 1의 공정 챔버의 내부 구성을 보여주는 도면이다.FIG. 2 is a view illustrating an internal configuration of the process chamber of FIG. 1.

도 2를 참조하면, 공정 챔버의 내부에는 기판 지지 부재(10), 용기(20) 및 기판 세정 수단들(30,40,50)이 구비된다. 기판 지지 부재(10)는 기판의 세정 공정 진행 중 기판(W)을 지지하며, 공정이 진행되는 동안 회전될 수 있다. 기판 지지 부재(10)는 용기(20) 안에 수용된다. 용기(20)의 둘레에는 제 1 처리 유체 공급 부재(30), 제 2 처리 유체 공급 부재(40), 그리고 초음파 세정 부재(50)가 배치된다.Referring to FIG. 2, a substrate supporting member 10, a container 20, and substrate cleaning means 30, 40, and 50 are provided inside the process chamber. The substrate support member 10 supports the substrate W during the cleaning process of the substrate and may be rotated while the process is in progress. The substrate support member 10 is accommodated in the vessel 20. The first processing fluid supply member 30, the second processing fluid supply member 40, and the ultrasonic cleaning member 50 are disposed around the vessel 20.

제 1 처리 유체 공급 부재(30)는 스캔 방식으로 직선 왕복 운동하며 기판상에 처리액을 공급한다. 처리액으로는 산성 처리액과 알카리성 처리액이 사용될 수 있다.The first processing fluid supply member 30 linearly reciprocates in a scan manner and supplies the processing liquid onto the substrate. As the treatment liquid, an acid treatment liquid and an alkaline treatment liquid can be used.

제 2 처리 유체 공급 부재(40)는 붐 스윙 방식으로 회전 운동하며 기판상에 린스액 또는 건조 가스를 공급한다. 린스액으로는 초순수(DIW:Deionized Water)가 사용될 수 있다. 건조 가스로는 이소프로필 알코올 가스(IPA:Isopropyl alcohol gas)가 사용될 수 있다.The second processing fluid supply member 40 rotates in a boom swing manner and supplies rinse liquid or dry gas onto the substrate. Ultra rinse water (DIW) may be used as the rinse liquid. Isopropyl alcohol gas (IPA) may be used as the drying gas.

초음파 세정 부재(50)는 기판(W)상에 공급되는 처리액에 초음파 진동을 인가한다. 처리액에 인가된 초음파 진동은 처리액과 기판(W)상의 오염 물질의 화학 반응을 촉진시켜 기판(W)상의 오염 물질의 제거 효율을 향상시킨다.The ultrasonic cleaning member 50 applies ultrasonic vibration to the processing liquid supplied on the substrate W. As shown in FIG. Ultrasonic vibration applied to the treatment liquid promotes the chemical reaction of the treatment liquid and the contaminants on the substrate W to improve the removal efficiency of the contaminants on the substrate W.

도 3은 도 2의 처리 용기 내부를 보여주는 종방향으로 절단된 용기의 사시도이고, 도 4는 도 2의 처리 용기 내부를 보여주는 종방향으로 절단된 용기의 단면도이다.3 is a perspective view of a longitudinally cut container showing the interior of the processing container of FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view of a longitudinally cut container showing the interior of the processing container of FIG. 2.

도 3 및 도 4를 참조하면, 기판 지지 부재(10)는 용기(20) 안에 수용된다. 기판 지지 부재(10)는 스핀 헤드(12), 회전축(14) 및 회전 구동부(16)를 포함한다. 스핀 헤드(12)는 원판 형상을 갖고, 상면이 기판(W)과 마주한다. 스핀 헤드(12)에는 스핀 헤드(12)의 상면으로부터 기판(W)을 이격시켜 지지하는 다수의 핀 부재들(13a,13b)이 구비된다. 지지 핀(13a)은 기판(W)의 하면을 지지하고, 척킹 핀(13b)은 기판의 측면을 지지한다. 회전축(14)은 스핀 헤드(12)의 하면에 결합된 다. 회전 축(14)은 용기(20)의 바닥면에 형성된 개구를 통해 용기(20) 외부까지 돌출된다. 회전축(14)은 회전 구동부(16)에 결합되고, 회전 구동부(16)의 회전력에 의해 자기 중심축을 기준으로 회전한다. 회전축(14)의 회전력은 스핀 헤드(12)에 전달되어 스핀 헤드(12)가 회전하고, 이로써 스핀 헤드(12)에 고정된 기판(W)이 회전된다.3 and 4, the substrate support member 10 is housed in a vessel 20. The substrate support member 10 includes a spin head 12, a rotation shaft 14, and a rotation driver 16. The spin head 12 has a disk shape, and its upper surface faces the substrate W. As shown in FIG. The spin head 12 is provided with a plurality of fin members 13a and 13b spaced apart from and supported by the upper surface of the spin head 12. The support pin 13a supports the lower surface of the substrate W, and the chucking pin 13b supports the side surface of the substrate. The rotating shaft 14 is coupled to the lower surface of the spin head 12. The axis of rotation 14 projects out of the vessel 20 through an opening formed in the bottom surface of the vessel 20. The rotary shaft 14 is coupled to the rotary drive unit 16 and rotates about the magnetic center axis by the rotational force of the rotary drive unit 16. The rotational force of the rotating shaft 14 is transmitted to the spin head 12 to rotate the spin head 12, thereby rotating the substrate W fixed to the spin head 12.

용기(20)는 공정에 사용된 처리액들을 분리하여 회수할 수 있는 구조를 가진다. 이는 처리액들의 재사용이 가능하게 한다. 용기(20)는 복수의 회수통들(220, 240, 260)과, 내벽(210) 및 외벽(270)을 가진다. 각각의 회수통(220, 240, 260)은 공정에 사용된 처리액들 중 서로 상이한 종류의 처리액 즉, 산성 처리액과 알카리성 처리액을 분리하여 회수한다. 본 실시 예에서 용기(20)는 3개의 회수통들을 가진다. 각각의 회수통들을 내부 회수통(220), 중간 회수통(240), 그리고 외부 회수통(260)이라 칭한다.The vessel 20 has a structure capable of separating and recovering the treatment liquids used in the process. This makes it possible to reuse the treatment liquids. The vessel 20 has a plurality of recovery containers 220, 240, 260, an inner wall 210 and an outer wall 270. Each recovery container 220, 240, and 260 separates and recovers different types of treatment liquids, that is, acid treatment liquids and alkaline treatment liquids, from among the treatment liquids used in the process. In this embodiment, the vessel 20 has three recovery bins. Each recovery container is referred to as an internal recovery container 220, an intermediate recovery container 240, and an external recovery container 260.

내벽(210)은 스핀 헤드(12)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부 회수통(220)은 내벽(210)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 중간 회수통(240)은 내부 회수통(220)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되며, 외부 회수통(260)은 중간 회수통(240)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 외벽(270)은 외부 회수통(260)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다.The inner wall 210 is provided in an annular ring shape surrounding the spin head 12. The inner recovery container 220 is provided in an annular ring shape surrounding the inner wall 210, and the intermediate recovery container 240 is provided in an annular ring shape surrounding the inner recovery container 220, and the outer recovery container 260 is provided. Is provided in an annular ring shape surrounding the intermediate recovery container 240. The outer wall 270 is provided in an annular ring shape surrounding the outer recovery container 260.

도 5에 도시된 바와 같이, 내부 회수통(220)은 외벽(222), 바닥벽(224), 내 벽(226), 그리고 안내벽(228)을 가진다. 외벽(222), 바닥벽(224), 내벽(226), 그리고 안내벽(228) 각각은 링 형상을 가진다. 외벽(222)은 스핀 헤드(40)로부터 멀어지는 방향으로 하향 경사진 경사벽(222a)과 이의 하단으로부터 아래 방향으로 수직하게 연장되는 수직벽(222b)을 가진다.As shown in FIG. 5, the inner recovery container 220 has an outer wall 222, a bottom wall 224, an inner wall 226, and a guide wall 228. Each of the outer wall 222, the bottom wall 224, the inner wall 226, and the guide wall 228 has a ring shape. The outer wall 222 has an inclined wall 222a inclined downward in a direction away from the spin head 40 and a vertical wall 222b extending vertically downward from its lower end.

내벽(210)은 경사벽(212)과 수직벽(214)을 가진다. 경사벽(212)과 수직벽(214) 각각은 링 형상을 가진다. 경사벽(212)은 스핀 헤드(12)로부터 멀어지는 방향으로 하향 경사진다. 경사벽(212)의 상단은 스핀 헤드(12)의 측면에 인접한 위치까지 연장된다. 수직벽(214)은 경사벽(212)의 하단으로부터 아래 방향으로 수직하게 연장된다.The inner wall 210 has an inclined wall 212 and a vertical wall 214. Each of the inclined wall 212 and the vertical wall 214 has a ring shape. The inclined wall 212 is inclined downward in a direction away from the spin head 12. The top of the inclined wall 212 extends to a position adjacent to the side of the spin head 12. The vertical wall 214 extends vertically downward from the bottom of the inclined wall 212.

내부 회수통(220)은 경사벽(222)과 수직벽(224)를 가진다. 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 및 수직벽(224)은 내벽(210)의 경사벽(212) 및 수직벽(214)과 대체로 유사한 형상을 가지나, 내부 회수통(220)이 내벽(210)을 감싸도록 내벽(210)에 비해 큰 크기를 가진다. 내부 회수통(220)과 내벽(210) 사이에는 내부 회수통(220)으로 회수되는 처리액이 흐르는 공간(221)이 형성된다. 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 상단은 내벽(210)의 경사벽(212) 상단 위쪽에 위치하며, 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 하면과 내벽(210)의 경사벽(212) 상면은 서로 접촉할 수 있다.The internal recovery container 220 has an inclined wall 222 and a vertical wall 224. The inclined wall 222 and the vertical wall 224 of the inner recovery container 220 have a shape that is generally similar to the inclined wall 212 and the vertical wall 214 of the inner wall 210, but the inner recovery container 220 has an inner wall. It has a larger size than the inner wall 210 to surround 210. A space 221 is formed between the inner recovery container 220 and the inner wall 210 in which the processing liquid recovered to the internal recovery container 220 flows. The upper end of the inclined wall 222 of the inner recovery container 220 is positioned above the inclined wall 212 of the inner wall 210, and the inclined wall of the inclined wall 222 of the inner recovery container 220 and the inner wall 210. The top surfaces of the walls 212 may contact each other.

중간 회수통(240)은 경사벽(242)과 수직벽(244)를 가진다. 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 및 수직벽(244)은 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 및 수직벽(224)과 대체로 유사한 형상을 가지나, 중간 회수통(240)이 내부 회수통(220)을 감싸도록 내부 회수통(220)에 비해 큰 크기를 가진다. 중간 회수통(240)과 내부 회수 통(220) 사이에는 중간 회수통(240)으로 회수되는 처리액이 흐르는 공간(241)이 형성된다. 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 상단은 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 상단 위쪽에 위치하며, 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 하면과 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 상면은 서로 접촉할 수 있다.The intermediate recovery container 240 has an inclined wall 242 and a vertical wall 244. The inclined wall 242 and the vertical wall 244 of the intermediate recovery container 240 have a shape that is generally similar to the inclined wall 222 and the vertical wall 224 of the internal recovery container 220, but the intermediate recovery container 240 is used. It has a larger size than the internal recovery container 220 to surround the internal recovery container 220. Between the intermediate recovery container 240 and the internal recovery container 220, a space 241 through which the processing liquid recovered to the intermediate recovery container 240 flows is formed. An upper end of the inclined wall 242 of the intermediate recovery container 240 is positioned above the upper end of the inclined wall 222 of the internal recovery container 220, and a lower surface of the inclined wall 242 of the intermediate recovery container 240 and the internal recovery container ( The top surfaces of the inclined walls 222 of 220 may contact each other.

외부 회수통(260)은 경사벽(262)과 수직벽(264)를 가진다. 외부 회수통(260)의 경사벽(262) 및 수직벽(264)은 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 및 수직벽(244)과 대체로 유사한 형상을 가지나, 외부 회수통(260)이 중간 회수통(240)을 감싸도록 중간 회수통(240)에 비해 큰 크기를 가진다. 외부 회수통(260)과 중간 회수통(240) 사이에는 외부 회수통(260)으로 회수되는 처리액이 흐르는 공간(261)이 형성된다. 외부 회수통(260)의 경사벽(262) 상단은 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 상단 위쪽에 위치하며, 외부 회수통(260)의 경사벽(262) 하면과 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 상면은 서로 접촉할 수 있다.The outer recovery container 260 has an inclined wall 262 and a vertical wall 264. The inclined wall 262 and the vertical wall 264 of the outer recovery container 260 have a shape substantially similar to the inclined wall 242 and the vertical wall 244 of the intermediate recovery container 240, but the outer recovery container 260 It has a larger size than the intermediate recovery container 240 so as to surround the intermediate recovery container 240. A space 261 is formed between the external recovery container 260 and the intermediate recovery container 240 through which the processing liquid recovered to the external recovery container 260 flows. The upper end of the inclined wall 262 of the outer recovery container 260 is located above the top of the inclined wall 242 of the intermediate recovery container 240, and the lower surface of the inclined wall 262 of the outer recovery container 260 and the intermediate recovery container ( Top surfaces of the inclined wall 242 of the 240 may contact each other.

외벽(270)은 외부 회수통(260)을 감싸는 링 형상의 수직벽으로 제공될 수 있다. 외벽(270)은 외부 회수통(260)을 감싸도록 외부 회수통(260)에 비해 큰 크기를 가진다.The outer wall 270 may be provided as a ring-shaped vertical wall surrounding the outer recovery container 260. The outer wall 270 has a larger size than the outer container 260 to surround the outer container 260.

회수통 승강 유닛(300)은 처리 공정의 진행에 따라 회수통들(220,240,260)을 상하 방향으로 이동시킨다. 회수통 승강 유닛(300)은 제 1 승강판(320), 제 2 승강 판(340), 제 3 승강판(360), 구동판(370), 그리고 구동 부재(380)를 포함한다. The recovery container lifting unit 300 moves the recovery containers 220, 240, and 260 in the vertical direction as the processing process proceeds. The recovery container lifting unit 300 includes a first lifting plate 320, a second lifting plate 340, a third lifting plate 360, a driving plate 370, and a driving member 380.

제 1 승강판(320)은 내부 회수통(220)을 감싸는 링 형상의 수직벽으로 제공 되고, 제 2 승강판(340)은 중간 회수통(240)을 감싸는 링 형상의 수직벽으로 제공되며, 제 3 승강판(360)은 외부 회수통(260)을 감싸는 링 형상의 수직벽으로 제공된다. 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 하단은 구동판(370)에 연결된다.The first lifting plate 320 is provided as a ring-shaped vertical wall surrounding the inner recovery container 220, the second lifting plate 340 is provided as a ring-shaped vertical wall surrounding the intermediate recovery container 240, The third lifting plate 360 is provided as a ring-shaped vertical wall surrounding the outer recovery container 260. Lower ends of the first to third lifting plates 320, 340, and 360 are connected to the driving plate 370.

구동판(370)은 'ㄷ' 자의 단면을 가지는 링 형상으로 제공된다. 구동판(370)은 상부벽(372), 측벽(374), 그리고 하부 벽(376)을 가진다. 상부 벽(372)은 수평 방향으로 제공되며, 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 하단이 상부 벽(372)에 연결된다. 제 1 승강판(320)과 제 2 승강판(340) 사이의 상부벽(372)에는 개구부(372a)가 형성되고, 제 2 승강판(340)과 제 3 승강판(360) 사이의 상부벽(372)에는 개구부(372b)가 형성된다. 측벽(374)은 상부벽(372)의 가장자리로부터 수직하게 아래 방향으로 연장된다. 하부 벽(376)은 측벽(374)의 하단으로부터 스핀 헤드(12)를 향하는 방향으로 연장되고, 하부 벽(376)의 끝단(내주 면)에는 톱니 모양의 치형(378)이 형성된다. The driving plate 370 is provided in a ring shape having a cross-section of the letter 'c'. The drive plate 370 has an upper wall 372, a side wall 374, and a lower wall 376. The upper wall 372 is provided in the horizontal direction, and lower ends of the first to third lifting plates 320, 340, and 360 are connected to the upper wall 372. An opening 372a is formed in the upper wall 372 between the first elevating plate 320 and the second elevating plate 340, and an upper wall between the second elevating plate 340 and the third elevating plate 360. An opening 372b is formed in 372. Sidewall 374 extends downwardly vertically from the edge of top wall 372. The lower wall 376 extends from the lower end of the side wall 374 toward the spin head 12, and a sawtooth tooth 378 is formed at an end (inner peripheral surface) of the lower wall 376.

구동 부재(380)는 구동판(370)을 회전시키고, 구동판(370)의 회전에 의해 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 회전한다. 구동 부재(380)는 구동 모터(382), 회전축(384), 그리고 회전판(386)을 가진다. 회전축(384)의 일단은 구동 모터(382)에 연결되고, 회전축(384)의 타단은 회전판(386)에 연결된다. 회전판(386)은 구동판(370)의 하부 벽(376)에 나란하게 수평 방향으로 제공되고, 회전판(386)의 원주면에는 톱니 모양의 치형(386a)이 형성된다. 회전판(386)의 치형(386a)은 구동판(370)의 하부 벽(376)의 치형(378)과 맞물린다.The driving member 380 rotates the driving plate 370, and the first to third lifting plates 320, 340, and 360 rotate by the rotation of the driving plate 370. The drive member 380 has a drive motor 382, a rotating shaft 384, and a rotating plate 386. One end of the rotating shaft 384 is connected to the drive motor 382, and the other end of the rotating shaft 384 is connected to the rotating plate 386. The rotating plate 386 is provided in a horizontal direction parallel to the lower wall 376 of the driving plate 370, and the toothed tooth 386a is formed on the circumferential surface of the rotating plate 386. Teeth 386a of turntable 386 engage teeth 378 of lower wall 376 of drive plate 370.

구동판(370)의 측벽(374) 및 하부 벽(376)과 외벽(270)의 사이에는 저 마찰 안내 부재(272a,272b,272c)가 설치될 수 있다. 저 마찰 안내 부재(272a,272b,272c)는 일종의 베어링과 유사한 구조를 가진다. 구동판(370)과 외벽(270)에는 반원 모양의 홈(미도시)이 형성되고, 홈(미도시)에 볼 형상의 저 마찰 안내 부재(272a,272b,272c)가 삽입된다. 저 마찰 안내 부재(272a,272b,272c)는 구동판(370)의 회전시 구동판(370)과 외벽(270) 사이의 마찰을 저감시킨다.Low friction guide members 272a, 272b, and 272c may be installed between the side wall 374 of the driving plate 370 and the lower wall 376 and the outer wall 270. The low friction guide members 272a, 272b and 272c have a structure similar to a kind of bearing. Semicircular grooves (not shown) are formed in the driving plate 370 and the outer wall 270, and ball-shaped low friction guide members 272a, 272b, and 272c are inserted into the grooves (not shown). The low friction guide members 272a, 272b, and 272c reduce friction between the driving plate 370 and the outer wall 270 when the driving plate 370 rotates.

도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제 1 승강판(320)에는 제 1 캠(322)이 형성되고, 제 2 승강판(340)에는 제 2 캠(342)이 형성되며, 제 3 승강판(36)에는 제 3 캠(362)이 형성된다. 캠들(322,342,362)은 길이가 긴 홀의 형태로 형성될 수 있다. 각각의 승강판(320,340,360)에는 하나 또는 그 이상의 캠들(322,342,362)이 형성될 수 있다.As shown in FIGS. 6 and 7, a first cam 322 is formed on the first lifting plate 320, a second cam 342 is formed on the second lifting plate 340, and a third lifting The third cam 362 is formed on the steel plate 36. The cams 322, 342 and 362 may be formed in the form of long holes. Each lifting plate 320, 340, 360 may be formed with one or more cams 322, 342, 362.

제 1 캠(322)은 제 1 곡선부(322a), 경사부(322b), 그리고 제 2 곡선부(322c)를 가진다. 제 1 곡선부(322a)는 제 1 승강판(320)의 하단에 인접한 위치에 수평 방향으로 길게 형성된다. 경사부(322b)는 제 1 곡선부(322a)의 끝단으로부터 제 1 승강판(320)의 상단에 인접한 위치까지 상향 경사지게 연장 형성된다. 제 2 곡선부(322c)는 경사부(322b)의 끝단으로부터 수평 방향으로 길게 연장 형성된다.The first cam 322 has a first curved portion 322a, an inclined portion 322b, and a second curved portion 322c. The first curved portion 322a is elongated in the horizontal direction at a position adjacent to the lower end of the first elevating plate 320. The inclined portion 322b extends upwardly inclined from the end of the first curved portion 322a to a position adjacent to the upper end of the first elevating plate 320. The second curved portion 322c extends in the horizontal direction from the end of the inclined portion 322b.

제 2 캠(342)은 제 2 승강판(340)에 형성된다. 제 2 캠(3420은 제 1 곡선부(342a), 경사부(342b), 그리고 제 2 곡선부(342c)를 가진다. 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a), 경사부(342b), 그리고 제 2 곡선부(342c)는 제 1 캠(322)의 제 1 곡선부(322a), 경사부(322b), 그리고 제 2 곡선부(322c)와 유사한 형상을 가진다. 그러나 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a)는 제 1 캠(322)의 제 1 곡선부(322a)보다 짧은 길이를 가지도록 형성되고, 제 2 캠(342)의 제 2 곡선부(342c)는 제 1 캠(322)의 제 2 곡선부(322c) 보다 긴 길이를 가지도록 형성된다.The second cam 342 is formed on the second lifting plate 340. The second cam 3420 has a first curved portion 342a, an inclined portion 342b, and a second curved portion 342c. The first curved portion 342a and the inclined portion 342b of the second cam 342. And the second curved portion 342c have a shape similar to the first curved portion 322a, the inclined portion 322b, and the second curved portion 322c of the first cam 322. However, the second cam portion 342c has a shape similar to that of the second cam portion 322c. The first curved portion 342a of 342 is formed to have a length shorter than the first curved portion 322a of the first cam 322, and the second curved portion 342c of the second cam 342 is It is formed to have a longer length than the second curved portion 322c of the first cam 322.

제 3 캠(362)은 제 3 승강판(360)에 형성된다. 제 3 캠(362)은 제 1 곡선부(362a), 경사부(362b), 그리고 제 2 곡선부(362c)를 가진다. 제 3 캠(362)의 제 1 곡선부(362a), 경사부(362b), 그리고 제 2 곡선부(362c)는 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a), 경사부(342b), 그리고 제 2 곡선부(342c)와 유사한 형상을 가진다. 그러나 제 3 캠(362)의 제 1 곡선부(362a)는 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a)보다 짧은 길이를 가지도록 형성되고, 제 3 캠(362)의 제 2 곡선부(362c)는 제 2 캠(342)의 제 2 곡선부(342c) 보다 긴 길이를 가지도록 형성된다.The third cam 362 is formed on the third elevating plate 360. The third cam 362 has a first curved portion 362a, an inclined portion 362b, and a second curved portion 362c. The first curved portion 362a, the inclined portion 362b, and the second curved portion 362c of the third cam 362 are the first curved portion 342a and the inclined portion 342b of the second cam 342. And, it has a shape similar to the second curved portion 342c. However, the first curved portion 362a of the third cam 362 is formed to have a length shorter than the first curved portion 342a of the second cam 342, and the second curved portion of the third cam 362 is provided. 362c is formed to have a length longer than the second curved portion 342c of the second cam 342.

제 1 내지 제 3 캠(322,342,362)의 제 1 곡선부들(322a,342a,362a)은 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360) 상의 동일한 높이에 제공된다. 제 1 곡선부들(322a,342a,362a)의 시작 위치는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 중심으로부터 외측을 향한 가상의 연장 선상에 위치한다. 제 2 곡선부들(322c,342c,362c)은 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360) 상의 동일한 높이에 제공되고, 제 2 곡선부들(322c,342c,362c)의 끝 위치는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 중심으로부터 외측을 향한 가상의 연장 선상에 위치한다.The first curved portions 322a, 342a, 362a of the first to third cams 322, 342, 362 are provided at the same height on the first to third lifting plates 320, 340, 360. The starting positions of the first curved portions 322a, 342a and 362a are located on imaginary extension lines facing outward from the centers of the first to third lifting plates 320, 340 and 360. The second curved portions 322c, 342c and 362c are provided at the same height on the first to third lifting plates 320, 340 and 360, and the end positions of the second curved portions 322c, 342c and 362c are first to third raised. Located on the imaginary extension line facing outward from the center of the steel plate (320, 340, 360).

다시 도 5를 참조하면, 내부 회수통(220)의 수직벽(224) 하단에는 제 1 돌기(226)가 돌출된다. 제 1 돌기(226)는 제 1 승강판(320)에 형성된 제 1 캠(322)의 제 1 곡선부(322a)에 대응하는 높이에 돌출된다. 제 1 돌기(226)는 제 1 캠(322)의 제 1 곡선부(322a)에 삽입되며, 초기 상태에서 제 1 돌기(226)는 제 1 곡선부(322a)의 시작 위치에 위치한다.Referring back to FIG. 5, the first protrusion 226 protrudes from the lower end of the vertical wall 224 of the inner recovery container 220. The first protrusion 226 protrudes at a height corresponding to the first curved portion 322a of the first cam 322 formed on the first lifting plate 320. The first protrusion 226 is inserted into the first curved portion 322a of the first cam 322, and in the initial state, the first protrusion 226 is located at the start position of the first curved portion 322a.

중간 회수통(240)의 수직벽(244) 하단에는 제 2 돌기(246)가 돌출된다. 제 2 돌기(246)는 제 2 승강판(340)에 형성된 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a)에 대응하는 높이에 돌출된다. 제 2 돌기(246)는 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a)에 삽입되며, 초기 상태에서 제 2 돌기(246)는 제 1 곡선부(342a)의 시작 위치에 위치한다.The second protrusion 246 protrudes from the lower end of the vertical wall 244 of the intermediate recovery container 240. The second protrusion 246 protrudes at a height corresponding to the first curved portion 342a of the second cam 342 formed on the second lifting plate 340. The second protrusion 246 is inserted into the first curved portion 342a of the second cam 342, and in the initial state, the second protrusion 246 is positioned at the start position of the first curved portion 342a.

외부 회수통(260)의 수직벽(264) 하단에는 제 3 돌기(266)가 돌출된다. 제 3 돌기(266)는 제 3 승강판(360)에 형성된 제 3 캠(362)의 제 1 곡선부(362a)에 대응하는 높이에 돌출된다. 제 3 돌기(266)는 제 3 캠(362)의 제 1 곡선부(362a)에 삽입되며, 초기 상태에서 제 3 돌기(266)는 제 1 곡선부(362a)의 시작 위치에 위치한다.The third protrusion 266 protrudes from the lower end of the vertical wall 264 of the outer recovery container 260. The third protrusion 266 protrudes at a height corresponding to the first curved portion 362a of the third cam 362 formed on the third lifting plate 360. The third protrusion 266 is inserted into the first curved portion 362a of the third cam 362, and in the initial state, the third protrusion 266 is positioned at the start position of the first curved portion 362a.

구동 부재(380)에 의해 구동판(370)이 회전하면, 구동판(370)에 연결된 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 회전한다. 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 회전함에 따라, 제 1 내지 제 3 돌기(226,246,266)가 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 캠들(322,342,362)을 따라 이동하고, 이에 의해 회수통 들(220,240,260)이 상하 방향으로 이동한다.When the driving plate 370 is rotated by the driving member 380, the first to third lifting plates 320, 340, and 360 connected to the driving plate 370 rotate. As the first to third lifting plates 320, 340, 360 rotate, the first to third protrusions 226, 246, 266 move along the cams 322, 342, 362 of the first to third lifting plates 320, 340, 360, thereby recovering the containers. 220, 240, and 260 move in the vertical direction.

도 7에 도시된 바와 같이, 돌기들(226,246,266)이 제 1 곡선부들(322a,342a,362a)의 초기 위치에 위치한 상태에서, 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 회전하면, 돌기들(226,246,266)은 제 1 곡선부들(322a,342a,362a)을 따라 이동한다.As shown in FIG. 7, when the protrusions 226, 246, and 266 are positioned at the initial positions of the first curved portions 322a, 342a, and 362a, when the first to third lifting plates 320, 340, and 360 rotate, the protrusions ( 226, 246, and 266 move along the first curved portions 322a, 342a, and 362a.

제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 계속 회전하면, 제 3 돌기(266)는 경사부(362b)를 따라 이동하고, 제 1 및 제 2 돌기(226,246)은 제 1 곡선부(322a,342a)를 따라 이동한다. 제 3 돌기(266)가 경사부(362b)를 따라 상향 이동하면, 제 3 돌기(266)가 형성된 외부 회수통(260)이 승강한다.When the first to third lifting plates 320, 340, and 360 continue to rotate, the third protrusion 266 moves along the inclined portion 362b, and the first and second protrusions 226 and 246 move the first curved portions 322a and 342a. Move along When the third protrusion 266 moves upward along the inclined portion 362b, the external recovery container 260 on which the third protrusion 266 is formed moves up and down.

제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 계속 회전하면, 제 3 돌기(266)는 제 2 곡선부(362c)를 따라 이동하고, 제 2 돌기(246)는 경사부(342b)를 따라 이동하며, 제 1 돌기(226)는 제 1 곡선부(322a)를 따라 이동한다. 제 2 돌기(246)가 경사부(342b)를 따라 상향 이동하면, 제 2 돌기(266)가 형성된 중간 회수통(240)이 승강한다. 이때, 제 3 돌기(266)는 제 2 곡선부(362c)를 따라 이동하므로 외부 회수통(260)은 승강된 위치를 유지하고, 제 1 돌기(226)는 제 1 곡선부(322a)를 따라 이동하므로 내부 회수통(220)은 승강되지 않은 위치를 유지한다.When the first to third lifting plates 320, 340, and 360 continue to rotate, the third protrusion 266 moves along the second curved portion 362c, and the second protrusion 246 moves along the inclined portion 342b. The first protrusion 226 moves along the first curved portion 322a. When the second protrusion 246 moves upward along the inclined portion 342b, the intermediate recovery container 240 in which the second protrusion 266 is formed is lifted. At this time, since the third protrusion 266 moves along the second curved portion 362c, the external recovery container 260 maintains the elevated position, and the first protrusion 226 is along the first curved portion 322a. Since the inner recovery container 220 maintains a position that is not elevated.

제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 계속 회전하면, 제 2 및 제 3 돌기(246,266)는 제 2 곡선부(342c,362c)를 따라 이동하고, 제 1 돌기(226)는 경사부(322b)를 따라 이동한다. 제 1 돌기(226)가 경사부(322b)를 따라 상향 이동하면, 제 1 돌기(226)가 형성된 내부 회수통(220)이 승강한다. 이때, 제 2 및 제 3 돌 기(246,266)는 제 2 곡선부(342c,362c)를 따라 이동하므로, 외부 회수통(260)과 중간 회수통(240)은 승강된 위치를 유지한다.If the first to third lifting plates 320, 340, and 360 continue to rotate, the second and third protrusions 246 and 266 move along the second curved portions 342c and 362c, and the first protrusions 226 are inclined portions 322b. Move along When the first protrusion 226 moves upward along the inclined portion 322b, the inner recovery container 220 in which the first protrusion 226 is formed moves up and down. In this case, since the second and third protrusions 246 and 266 move along the second curved portions 342c and 362c, the external recovery container 260 and the intermediate recovery container 240 maintain their elevated positions.

제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 상기의 방향과 반대 방향으로 회전하면, 내부 회수통(220), 중간 회수통(240), 그리고 외부 회수통(260)이 순차적으로 하강된 위치로 이동한다.When the first to third lifting plates 320, 340, and 360 rotate in the opposite directions to the above directions, the inner recovery container 220, the intermediate recovery container 240, and the external recovery container 260 are moved to the lowered positions sequentially. do.

도 8을 참조하면, 구동판(370)의 상부 벽(372) 아래에는 배수 부재(280)가 구비된다. 배수 부재(280)는 상부가 개방된 구조를 가진다. 배수 부재(280)는 하부 벽(282)과, 하부 벽(282)의 내측 및 외측 일단으로부터 상측으로 수직하게 연장된 측벽(284,286)을 포함한다. 측벽(284,286)은 환형의 링 형상을 가진다.Referring to FIG. 8, a drain member 280 is provided below the upper wall 372 of the driving plate 370. The drain member 280 has a structure in which the upper portion is open. The drain member 280 includes a lower wall 282 and sidewalls 284 and 286 extending vertically upwardly from the inner and outer ends of the lower wall 282. Side walls 284 and 286 have an annular ring shape.

하부 벽(282)의 상면에는 제 1 및 제 2 돌출부(282a,282b)가 돌출 형성된다. 제 1 돌출부(282a)는 내부 회수통(220)과 제 1 승강판(320)에 대응하는 위치에 형성되고, 제 2 돌출부(282b)는 중간 회수통(240)과 제 2 승강판(340)에 대응하는 위치에 형성된다. First and second protrusions 282a and 282b protrude from the upper surface of the lower wall 282. The first protrusion 282a is formed at a position corresponding to the internal recovery container 220 and the first lifting plate 320, and the second protrusion 282b is the intermediate recovery container 240 and the second lifting plate 340. Is formed at a position corresponding to the.

내측벽(284)과 제 1 돌출부(282a)의 사이에는 제 1 공간(283a)이 형성되고, 제 1 공간(283a)은 용기(20)의 내벽(210)과 내부 회수통(220) 사이의 공간에 대응한다. 하부 벽(282)에는 제 1 공간(283a)과 통하도록 제 1 배수관(도 3의 도면 번호 290a)이 연결된다.A first space 283a is formed between the inner wall 284 and the first protrusion 282a, and the first space 283a is formed between the inner wall 210 of the container 20 and the inner recovery container 220. Corresponds to the space. A first drain pipe (No. 290a in FIG. 3) is connected to the lower wall 282 so as to communicate with the first space 283a.

제 1 돌출부(282a)와 제 2 돌출부(282b)의 사이에는 제 2 공간(283b)이 형성되고, 제 2 공간(283b)는 용기(20)의 내부 회수통(220)과 중간 회수통(240) 사이의 공간에 대응한다. 하부 벽(282)에는 제 2 공간(283b)과 통하도록 제 2 배수관(도 3의 도면 번호 290b)이 연결된다.A second space 283b is formed between the first protrusion 282a and the second protrusion 282b, and the second space 283b includes an internal recovery container 220 and an intermediate recovery container 240 of the container 20. Corresponds to the space between). A second drain pipe (No. 290b in FIG. 3) is connected to the lower wall 282 so as to communicate with the second space 283b.

제 2 돌출부(282b)와 외측벽(286) 사이에는 제 3 공간(283c)가 형성되고, 제 3 공간(283c)은 용기(20)의 중간 회수통(240)과 외부 회수통(260) 사이의 공간에 대응한다. 하부 벽(282)에는 제 3 공간(283c)과 통하도록 제 3 배수관(도 3의 도면 번호 290c)이 연결된다. 그리고 제 1 및 제 2 돌출부(282a,282b)의 상부에는 제 1 내지 제 3 공간(283a,283b,283c)과 연통되는 배기 공간(285)이 형성된다. A third space 283c is formed between the second protrusion 282b and the outer wall 286, and the third space 283c is formed between the intermediate recovery container 240 and the external recovery container 260 of the container 20. Corresponds to the space. A third drain pipe (No. 290c in FIG. 3) is connected to the lower wall 282 so as to communicate with the third space 283c. An exhaust space 285 communicating with the first to third spaces 283a, 283b, and 283c is formed on the first and second protrusions 282a and 282b.

배수 부재(280)의 내측벽(284)에는 배기 홀(284a)이 형성된다. 배기 홀(284a)은 후술할 배기 유닛(400)의 배기 분리 부재(410)에 형성된 홀들(415a,415b)에 대응하도록 형성된다.An exhaust hole 284a is formed in the inner wall 284 of the drain member 280. The exhaust hole 284a is formed to correspond to the holes 415a and 415b formed in the exhaust separation member 410 of the exhaust unit 400 which will be described later.

배기 유닛(400)은 배기 분리 부재(410), 구동 부재(420), 제 1 배기통(430), 그리고 제 2 배기통(440)을 포함한다. 배기 분리 부재(410)는, 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 상부 벽(412), 측벽(414) 및 하부 벽(416)을 가지는 'ㄷ' 자 단면의 링 형상으로 제공된다. 상부 벽(412)은 수평 방향으로 제공되며, 상부 벽(412)의 내주 면에는 톱니 모양의 치형(412a)이 형성된다. 측벽(414)은 상부 벽(412)의 외측 가장자리로부터 아래로 연장되고, 하부 벽(416)은 측벽(414)의 하단으로부터 내측 중심을 향하는 방향으로 수평하게 연장된다.The exhaust unit 400 includes an exhaust separation member 410, a driving member 420, a first exhaust cylinder 430, and a second exhaust cylinder 440. The exhaust separating member 410 is provided in a ring shape of the letter 'C' cross section having an upper wall 412, a side wall 414 and a lower wall 416, as shown in FIGS. 9 and 10. The upper wall 412 is provided in the horizontal direction, and a toothed tooth 412a is formed on the inner circumferential surface of the upper wall 412. Sidewall 414 extends downward from the outer edge of top wall 412, and bottom wall 416 extends horizontally from the bottom of sidewall 414 toward the inner center.

측벽(414)에는 그 둘레를 따라 다수의 홀들(415a,415b)이 관통 형성된다. 이웃한 홀들(415a,415b) 중 어느 하나의 홀(415b)에 대응하는, 하부 벽(416) 상의 위 치에는 홀(416a)이 관통 형성된다. 하부 벽(416) 상의, 홀(416a)이 형성된 위치에는 홀(415b)을 통해 유입되는 기류를 홀(416a)로 유도하는 유도 벽(418)이 제공된다. 유도 벽(418)은 하부 벽(416)의 상부로부터 바라볼 때 'U' 자 형상을 가진다. 유도 벽(418)은 개구된 부분이 하부 벽(416)의 외측을 향하도록 제공된다. 유도 벽(418)이 제공되지 않은, 측벽(414)의 홀들(415a) 통해 유입되는 기류는 배기 분리 부재(410)의 중심을 향하는 방향으로 흐른다.A plurality of holes 415a and 415b are formed through the sidewall 414 along the circumference thereof. A hole 416a is penetrated at a position on the lower wall 416, corresponding to one of the neighboring holes 415a and 415b. On the lower wall 416, the position where the hole 416a is formed is provided with an induction wall 418 that directs airflow flowing through the hole 415b into the hole 416a. Guide wall 418 has a 'U' shape when viewed from the top of bottom wall 416. The induction wall 418 is provided such that the opened portion faces the outside of the lower wall 416. The airflow flowing through the holes 415a of the sidewall 414, where no induction wall 418 is provided, flows in the direction toward the center of the exhaust separating member 410.

다시 도 8을 참조하면, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시킨다. 구동 부재(420)는 구동 모터(422), 회전축(424), 그리고 회전판(426)을 가진다. 회전축(424)의 일단은 구동 모터(422)에 연결되고, 회전축(424)의 타단은 회전판(426)에 연결된다. 회전판(426)은 배기 분리 부재(410)의 상부 벽(412)에 나란하게 수평 방향으로 제공되고, 회전판(426)의 원주면에는 톱니 모양의 치형(426a)이 형성된다. 회전판(426)의 치형(426a)은 배기 분리 부재(410)의 상부 벽(412)에 형성된 치형(412a)과 맞물린다.Referring back to FIG. 8, the driving member 420 rotates the exhaust separating member 410. The drive member 420 has a drive motor 422, a rotating shaft 424, and a rotating plate 426. One end of the rotating shaft 424 is connected to the drive motor 422, and the other end of the rotating shaft 424 is connected to the rotating plate 426. The rotating plate 426 is provided in a horizontal direction parallel to the upper wall 412 of the exhaust separating member 410, and a toothed tooth 426a is formed on the circumferential surface of the rotating plate 426. Teeth 426a of turntable 426 engage teeth 412a formed on upper wall 412 of exhaust separating member 410.

배기 분리 부재(410)의 하부에는 제 1 및 제 2 배기통(430,440)이 제공된다. 제 1 배기통(430)은 배기 분리 부재(410)의 유도 벽(418)에 의해 유도되는 기류가 유입되도록 제공된다. 그리고, 제 1 배기통(430)은 제 1 배기관(도 4의 도면 번호 470)에 연결된다. 제 1 배기통(430)의 내부에는 제 1 세정액 노즐(450)이 제공되고, 제 1 세정액 노즐(450)은 제 1 배기통(430) 내부로 세정을 분사하여 제 1 배기통(430)을 세정한다. First and second exhaust cylinders 430 and 440 are provided under the exhaust separation member 410. The first exhaust pipe 430 is provided to allow the airflow guided by the guide wall 418 of the exhaust separation member 410 to flow in. In addition, the first exhaust pipe 430 is connected to the first exhaust pipe (No. 470 of FIG. 4). The first cleaning liquid nozzle 450 is provided inside the first exhaust cylinder 430, and the first cleaning liquid nozzle 450 cleans the first exhaust cylinder 430 by spraying cleaning into the first exhaust cylinder 430.

제 2 배기통(440)은 배기 분리 부재(410)의 유도 벽(418)이 제공되지 않은, 측벽(414)의 홀들(415a) 통해 흐르는 기류가 유입되도록 제공된다. 그리고, 제 2 배기통(440)은 제 2 배기관(도 4의 도면 번호 480)에 연결된다. 제 2 배기통(440)의 내부에는 제 2 세정액 노즐(460)이 제공될 수 있다. 제 2 세정액 노즐(460)은 제 2 배기통(440) 내부로 세정액을 분사하여 제 2 배기통(440)을 세정한다. The second exhaust pipe 440 is provided to allow the airflow flowing through the holes 415a of the side wall 414 to which the guide wall 418 of the exhaust separation member 410 is not provided. The second exhaust pipe 440 is connected to the second exhaust pipe (No. 480 of FIG. 4). The second cleaning liquid nozzle 460 may be provided in the second exhaust cylinder 440. The second cleaning liquid nozzle 460 cleans the second exhaust cylinder 440 by spraying the cleaning liquid into the second exhaust cylinder 440.

제 1 처리 유체 공급 부재(도 1의 도면 번호 30)로부터 기판으로 공급되는 처리액은 산성 처리액 또는 알카리성 처리액일 수 있다. 그리고, 제 2 처리 유체 공급 부재(도 1의 도면 번호 40)로부터 기판에 공급되어 린스 공정이 진행된 후의 린스액(탈이온수)은 린스 공정 이전 단계에서 사용된 처리액에 따라 산성 또는 알카리성의 성질을 갖는다. The treatment liquid supplied to the substrate from the first treatment fluid supply member (see FIG. 1 of FIG. 1) may be an acid treatment liquid or an alkaline treatment liquid. Then, the rinse liquid (deionized water) supplied to the substrate from the second processing fluid supply member (see FIG. 1 in FIG. 1) after the rinsing process proceeds has an acidic or alkaline property depending on the treating liquid used in the step before the rinsing process. Have

배수 부재(280)로 유입되는 처리액 또는 린스액이 산성인 경우, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 산성의 성질을 갖는다. 이 경우, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시켜, 배기 분리 부재(410)의 홀(도 10의 도면 번호 415b)이 배수 부재(280)의 내측벽(284)에 형성된 배기 홀(284a)에 연통되도록 한다. 그러면, 배기 공간(285) 내의 기류는 유도 벽(도 10의 도면 번호 418)에 의해 홀(도 10의 도면 번호 416a)로 유도되어, 제 1 배기통(430)으로 유입된다. 제 1 배기통(430)으로 유입된 기류는 제 1 배기관(도 4의 도면 번호 470)을 통해 외부로 배기된다.When the treatment liquid or the rinse liquid flowing into the drain member 280 is acidic, the airflow flowing through the exhaust space 285 of the drain member 280 has an acidic property. In this case, the driving member 420 rotates the exhaust separating member 410 so that the exhaust hole 415b of FIG. 10 is formed in the inner wall 284 of the drain member 280. It communicates with the hole 284a. Then, the air flow in the exhaust space 285 is led to the hole (number 416a in FIG. 10) by the guide wall (number 418 in FIG. 10), and flows into the first exhaust cylinder 430. The airflow introduced into the first exhaust pipe 430 is exhausted to the outside through the first exhaust pipe (No. 470 of FIG. 4).

배수 부재(280)로 유입되는 처리액 또는 린스액이 알카리성인 경우, 배수 부 재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 알카리성의 성질을 갖는다. 이 경우, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시켜, 배기 분리 부재(410)의 홀(도 10의 도면 번호 415a)이 배수 부재(280)의 내측벽(284)에 형성된 배기 홀(284a)에 연통되도록 한다. 그러면, 배기 공간(285) 내의 기류는 홀(도 10의 도면 번호 415a)과, 배기 분리 분재(410)의 내부 공간을 통해 제 2 배기통(440)으로 유입된다. 제 2 배기통(440)으로 유입된 기류는 제 2 배기관(도 4의 도면 번호 480)을 통해 외부로 배기된다.When the treatment liquid or the rinse liquid flowing into the drain member 280 is alkaline, the airflow flowing through the exhaust space 285 of the drain member 280 has an alkaline property. In this case, the drive member 420 rotates the exhaust separating member 410 so that the exhaust hole 415a of FIG. 10 is formed in the inner wall 284 of the drain member 280. It communicates with the hole 284a. Then, the airflow in the exhaust space 285 flows into the second exhaust cylinder 440 through the hole (No. 415a in FIG. 10) and the internal space of the exhaust separation bonsai 410. The airflow introduced into the second exhaust pipe 440 is exhausted to the outside through the second exhaust pipe (No. 480 of FIG. 4).

도 11a 내지 도 11f는 본 발명에 따른 기판 세정 설비의 공정 챔버 내에서 진행되는 세정 공정을 보여주는 도면들이다.11A-11F illustrate a cleaning process performed in a process chamber of a substrate cleaning apparatus according to the present invention.

도 11a 내지 도 11f를 참조하면, 회수통들(220,240,260)은 하강된 상태의 초기 위치를 유지하고, 스핀 헤드(12)에는 기판(W)이 로딩된다. 로딩된 기판(W)의 하면은 지지 핀(13a)에 의해 지지되고, 기판(W)의 측면은 척킹 핀(13b)에 의해 지지된다.(도 11a)11A to 11F, the recovery bins 220, 240, and 260 maintain their initial positions in the lowered state, and the spin head 12 is loaded with the substrate W. As shown in FIG. The lower surface of the loaded substrate W is supported by the support pins 13a, and the side surface of the substrate W is supported by the chucking pins 13b (FIG. 11A).

기판(W)이 스핀 헤드(12)상에 고정되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 회전시켜 외부 회수통(260)을 공정 위치로 승강시킨다. 스핀 헤드(12)는 회전 구동부(16)에 의해 회전되고, 스핀 헤드(12)의 회전에 의해 기판(W)이 회전한다. When the substrate W is fixed on the spin head 12, the driving member 380 rotates the first to third lifting plates 320, 340, and 360 to raise and lower the external recovery container 260 to a process position. The spin head 12 is rotated by the rotation driver 16, and the substrate W is rotated by the rotation of the spin head 12.

제 1 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 산성 처리액을 공급하여 기판을 처리한다. 기판에 공급된 산성 처리액은 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산되고, 중간 회수통(240)과 외부 회수통(260) 사이에 형성된 공간을 통해 외부 회수통(260)으로 유입된다. 외부 회수통(260)으로 유입된 산성 처리액은 배수 부재(280)의 제 3 공간(283c)으로 낙하하고, 제 3 공간(283c)에 연결된 제 3 배수관(290c)을 통해 배수된다. The first processing fluid supply member (not shown) supplies an acidic treatment liquid to the substrate W to treat the substrate. The acid treatment liquid supplied to the substrate is scattered by the centrifugal force of the rotating substrate, and flows into the external recovery container 260 through a space formed between the intermediate recovery container 240 and the external recovery container 260. The acid treatment liquid introduced into the external recovery container 260 falls into the third space 283c of the drain member 280 and is drained through the third drain pipe 290c connected to the third space 283c.

산성의 처리액이 사용되면, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 산성의 성질을 갖는다. 이 경우, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시켜, 배기 분리 부재(410)의 홀(도 10의 도면 번호 415b)이 배수 부재(280)의 내측벽(284)에 형성된 배기 홀(284a)에 연통되도록 한다. 그러면, 배기 공간(285) 내의 기류는 유도 벽(도 10의 도면 번호 418)에 의해 홀(도 10의 도면 번호 416a)로 유도되어, 제 1 배기통(430)으로 유입된다. 제 1 배기통(430)으로 유입된 기류는 제 1 배기관(도 4의 도면 번호 470)을 통해 외부로 배기된다.(도 11b)When an acidic treatment liquid is used, the airflow flowing through the exhaust space 285 of the drain member 280 has an acidic nature. In this case, the driving member 420 rotates the exhaust separating member 410 so that the exhaust hole 415b of FIG. 10 is formed in the inner wall 284 of the drain member 280. It communicates with the hole 284a. Then, the air flow in the exhaust space 285 is led to the hole (number 416a in FIG. 10) by the guide wall (number 418 in FIG. 10), and flows into the first exhaust cylinder 430. The airflow flowing into the first exhaust pipe 430 is exhausted to the outside through the first exhaust pipe (No. 470 of FIG. 4) (FIG. 11B).

산성 처리액을 이용한 기판 처리가 완료되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 회전시켜 내부 회수통(220)과 중간 회수통(240)을 공정 위치로 승강시킨다.When the substrate treatment using the acid treatment liquid is completed, the driving member 380 rotates the first to third lifting plates 320, 340, and 360 to elevate the inner recovery container 220 and the intermediate recovery container 240 to the process position.

제 2 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 린스액(탈이온수)를 공급한다. 기판에 공급된 린스액(탈이온수)은 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산되고, 내부 회수통(220)과 용기(20)의 내벽(210) 사이에 형성된 공간을 통해 내부 회수통(220)으로 유입된다. 내부 회수통(220)으로 유입된 린스액(탈이온수)는 배수 부재(280)의 제 1 공간(283a)으로 낙하하고, 제 1 공간(283a)에 연결된 제 1 배수관(290a)을 통해 배수된다. The second processing fluid supply member (not shown) supplies the rinse liquid (deionized water) to the substrate W. FIG. The rinse liquid (deionized water) supplied to the substrate is scattered by the centrifugal force of the rotating substrate, and passes through the space formed between the inner recovery container 220 and the inner wall 210 of the container 20 to the internal recovery container 220. Inflow. The rinse liquid (deionized water) introduced into the internal recovery container 220 falls into the first space 283a of the drain member 280 and is drained through the first drain pipe 290a connected to the first space 283a. .

린스 공정 이전 단계에서 산성의 처리액이 사용되면, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 산성의 성질을 갖는다. 배기 공간(285) 내의 기류는 유도 벽(도 10의 도면 번호 418)에 의해 홀(도 10의 도면 번호 416a)로 유도되어, 제 1 배기통(430)으로 유입된다. 제 1 배기통(430)으로 유입된 기류는 제 1 배기관(도 4의 도면 번호 470)을 통해 외부로 배기된다.(도 11c)If an acidic treatment liquid is used in the step before the rinsing process, the airflow flowing through the exhaust space 285 of the drain member 280 has an acidic nature. The air flow in the exhaust space 285 is led to the hole (number 416a in FIG. 10) by the guide wall (number 418 in FIG. 10) and flows into the first exhaust cylinder 430. The airflow flowing into the first exhaust pipe 430 is exhausted to the outside through the first exhaust pipe (No. 470 of FIG. 4) (FIG. 11C).

린스액(탈이온수)을 이용한 기판 처리가 완료되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 도 11c의 경우와 반대 방향으로 회전시켜 내부 회수통(220)을 초기 위치로 하강시킨다.When the substrate processing using the rinse liquid (deionized water) is completed, the driving member 380 rotates the first to third lifting plates 320, 340, and 360 in the opposite direction as in FIG. 11C to move the internal recovery container 220 to an initial position. Descend to

제 1 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 알카리성 처리액을 공급하여 기판을 처리한다. 기판에 공급된 알카리성 처리액은 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산되고, 내부 회수통(220)과 중간 회수통(240) 사이에 형성된 공간을 통해 중간 회수통(240)으로 유입된다. 중간 회수통(240)으로 유입된 알카리성 처리액은 배수 부재(280)의 제 2 공간(283b)으로 낙하하고, 제 2 공간(283b)에 연결된 제 2 배수관(290b)을 통해 배수된다. The first processing fluid supply member (not shown) supplies an alkaline processing liquid to the substrate W to process the substrate. The alkaline treatment liquid supplied to the substrate is scattered by the centrifugal force of the rotating substrate, and flows into the intermediate recovery container 240 through a space formed between the internal recovery container 220 and the intermediate recovery container 240. The alkaline treatment liquid introduced into the intermediate recovery container 240 falls into the second space 283b of the drain member 280 and is drained through the second drain pipe 290b connected to the second space 283b.

알카리성의 처리액이 사용되면, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 알카리성의 성질을 갖는다. 이 경우, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시켜, 배기 분리 부재(410)의 홀(도 10의 도면 번호 415a)이 배수 부재(280)의 내측벽(284)에 형성된 배기 홀(284a)에 연통되도록 한다. 그러면, 배기 공간(285) 내의 기류는 홀(도 10의 도면 번호 415a)과, 배기 분리 분재(410)의 내부 공간을 통해 제 2 배기통(440)으로 유입된다. 제 2 배기통(440)으로 유입된 기류는 제 2 배기관(도 4의 도면 번호 480)을 통해 외부로 배기된다.(도 11d)When an alkaline treatment liquid is used, the airflow flowing through the exhaust space 285 of the drain member 280 has an alkaline property. In this case, the drive member 420 rotates the exhaust separating member 410 so that the exhaust hole 415a of FIG. 10 is formed in the inner wall 284 of the drain member 280. It communicates with the hole 284a. Then, the airflow in the exhaust space 285 flows into the second exhaust cylinder 440 through the hole (No. 415a in FIG. 10) and the internal space of the exhaust separation bonsai 410. The airflow flowing into the second exhaust pipe 440 is exhausted to the outside through the second exhaust pipe (No. 480 in FIG. 4) (FIG. 11D).

알카리성 처리액을 이용한 기판 처리가 완료되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 도 11d의 경우와 반대 방향으로 회전시켜 내부 회수통(220)을 공정 위치로 승강시킨다. When the substrate processing using the alkaline treatment liquid is completed, the driving member 380 rotates the first to third lifting plates 320, 340, and 360 in the opposite direction as in FIG. 11D to raise and lower the inner recovery container 220 to a process position. .

제 2 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 린스액(탈이온수)를 공급한다. 기판에 공급된 린스액(탈이온수)은 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산되고, 내부 회수통(220)과 용기(20)의 내벽(210) 사이에 형성된 공간을 통해 내부 회수통(220)으로 유입된다. 내부 회수통(220)으로 유입된 린스액(탈이온수)은 배수 부재(280)의 제 1 공간(283a)으로 낙하하고, 제 1 공간(283a)에 연결된 제 1 배수관(290a)을 통해 배수된다. The second processing fluid supply member (not shown) supplies the rinse liquid (deionized water) to the substrate W. FIG. The rinse liquid (deionized water) supplied to the substrate is scattered by the centrifugal force of the rotating substrate, and passes through the space formed between the inner recovery container 220 and the inner wall 210 of the container 20 to the internal recovery container 220. Inflow. The rinse liquid (deionized water) introduced into the internal recovery container 220 falls into the first space 283a of the drain member 280 and is drained through the first drain pipe 290a connected to the first space 283a. .

린스 공정 이전 단계에서 알카리성의 처리액이 사용되면, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 알카리성의 성질을 갖는다. 배기 공간(285) 내의 기류는 홀(도 10의 도면 번호 415a)과, 배기 분리 분재(410)의 내부 공간을 통해 제 2 배기통(440)으로 유입된다. 제 2 배기통(440)으로 유입된 기류는 제 2 배기관(도 4의 도면 번호 480)을 통해 외부로 배기된다.(도 11e)If an alkaline treatment liquid is used in the step before the rinsing process, the airflow flowing through the exhaust space 285 of the drain member 280 has an alkaline property. The airflow in the exhaust space 285 flows into the second exhaust cylinder 440 through the hole (No. 415a in FIG. 10) and the internal space of the exhaust separation bonsai 410. The airflow flowing into the second exhaust pipe 440 is exhausted to the outside through the second exhaust pipe (No. 480 of FIG. 4) (FIG. 11E).

린스 공정이 완료되면, 제 2 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 건조 가스를 공급하여 기판을 건조시킨다. 건조 공정에 사용된 건조 가스는 도 11e의 경우와 동일한 경로를 거쳐 배기된다.(도 11f)When the rinse process is completed, the second processing fluid supply member (not shown) supplies a dry gas to the substrate W to dry the substrate. The drying gas used in the drying process is exhausted through the same path as in the case of FIG. 11E (FIG. 11F).

건조 공정이 완료되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 도 11e 경우와 반대 방향으로 회전시켜, 회수통들(220,240,260)을 초기 위치로 하강시킨다.(도 11g)When the drying process is completed, the driving member 380 rotates the first to third lifting plates 320, 340, and 360 in the opposite directions as in FIG. 11E, and lowers the recovery containers 220, 240, and 260 to their initial positions. (FIG. 11G)

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.The drawings described below are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.

도 1은 본 발명에 따른 매엽식 기판 세정 설비의 구성을 보여주는 도면이다.1 is a view showing the configuration of a single wafer cleaning equipment according to the present invention.

도 2는 도 1의 공정 챔버의 내부 구성을 보여주는 도면이다.FIG. 2 is a view illustrating an internal configuration of the process chamber of FIG. 1.

도 3은 도 2의 처리 용기 내부를 보여주는 종방향으로 절단된 용기의 사시도이다.3 is a perspective view of a longitudinally cut container showing the interior of the processing container of FIG. 2.

도 4는 도 2의 처리 용기 내부를 보여주는 종방향으로 절단된 용기의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the longitudinally cut vessel showing the interior of the treatment vessel of FIG. 2.

도 5는 도 4의 회수통들과 회수통 승강 유닛의 확대도이다.5 is an enlarged view of the recovery bins and the recovery container lifting unit of FIG. 4.

도 6은 도 5의 승강판들의 사시도이다.6 is a perspective view of the lifting plates of FIG. 5.

도 7은 도 6의 승강판들에 형성된 캠의 궤적을 보여주는 도면이다.FIG. 7 is a view illustrating a trajectory of a cam formed on the lifting plates of FIG. 6.

도 8은 배수 부재와 배기 유닛의 확대도이다.8 is an enlarged view of the drain member and the exhaust unit.

도 9는 도 8의 배기 분리 부재의 사시도이다.9 is a perspective view of the exhaust separating member of FIG. 8.

도 10은 도 9의 A 부분의 확대도이다.FIG. 10 is an enlarged view of a portion A of FIG. 9.

도 11a 내지 도 11g는 본 발명에 따른 기판 세정 설비의 공정 챔버 내에서 진행되는 세정 공정을 보여주는 도면들이다.11A-11G illustrate a cleaning process performed in a process chamber of a substrate cleaning installation in accordance with the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

20 : 용기 220,240,260 : 회수통20: container 220,240,260: recovery container

226,246,266 : 돌기 280 : 배수 부재226,246,266: protrusion 280: drain member

300 : 회수통 승강 유닛 320,340,360 : 승강판300: recovery container lifting unit 320,340,360: lifting plate

322,342,362: 캠 400 : 배기 유닛322,342,362: Cam 400: exhaust unit

410 : 배기 분리 부재 430, 440 : 배기통410: exhaust separation member 430, 440: exhaust cylinder

450,460 : 세정액 노즐450,460: Cleaning Liquid Nozzle

Claims (15)

삭제delete 기판 처리에 사용된 처리액을 회수하는 회수 유닛에 있어서,A recovery unit for recovering a processing liquid used for substrate processing, 동일한 중심을 가지는 환형의 링 형상들로 제공되는 다수의 회수통들; 및A plurality of recovery bins provided in annular ring shapes having the same center; And 상기 회수통들을 승하강시키는 회수통 승강 유닛을 포함하되,Including a recovery container lifting unit for lifting the recovery bins, 상기 회수통 승강 유닛은, 상기 회수통들의 중심과 동일한 중심을 가지는 링 형상들로 제공되고, 상기 회수통들로부터 돌출된 돌기가 삽입되는 캠이 형성된 승강 판들; 및 상기 돌기가 상기 캠을 따라서 이동하도록 상기 승강 판들을 회전시키는 구동 부재를 포함하고,The recovery container lifting unit includes: lifting plates provided in ring shapes having the same center as the centers of the recovery containers, and cams in which protrusions protruding from the recovery containers are inserted; And a drive member for rotating the lifting plates so that the protrusion moves along the cam, 상기 각각의 캠들은 상기 승강판들의 원주 방향을 따라 수평하게 연장된 제 1 곡선부와, 상기 제 1 곡선부의 끝단으로부터 경사지게 연장된 경사부와, 상기 경사부의 끝단으로부터 수평하게 연장된 제 2 곡선부를 가지며,The cams each include a first curved portion extending horizontally along the circumferential direction of the lifting plates, an inclined portion extending obliquely from the end of the first curved portion, and a second curved portion extending horizontally from the end of the inclined portion. Has, 상기 캠들은 상기 승강 판들의 원주 방향을 따라 위상 차를 가지는 것을 특징으로 하는 회수 유닛.And the cams have a phase difference along the circumferential direction of the elevating plates. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제 1 곡선부들은 상기 승강판들에 동일한 높이로 제공되고,The first curved portions are provided at the same height on the lifting plates, 상기 제 2 곡선부들은 상기 승강판들에 동일한 높이로 제공되며,The second curved portions are provided at the same height on the lifting plates, 상기 경사부들은 상기 승강판들에 동일한 기울기로 제공되는 것을 특징으로 하는 회수 유닛.And the inclined portions are provided at the same inclination on the lifting plates. 기판 처리에 사용된 처리액을 회수하는 회수 유닛에 있어서,A recovery unit for recovering a processing liquid used for substrate processing, 동일한 중심을 가지는 환형의 링 형상들로 제공되는 다수의 회수통들;A plurality of recovery bins provided in annular ring shapes having the same center; 상기 회수통들을 승하강시키는 회수통 승강 유닛; 및A recovery bin lifting unit for lifting up and down the recovery bins; And 상기 회수통들의 하부에 배치되며, 상기 회수통들로 회수된 처리액을 배수하는 배수 부재를 포함하되,Is disposed below the collection bins, including a drain member for draining the treatment liquid recovered to the recovery bins, 상기 회수통 승강 유닛은, 상기 회수통들의 중심과 동일한 중심을 가지는 링 형상들로 제공되고, 상기 회수통들로부터 돌출된 돌기가 삽입되는 캠이 형성된 승강 판들; 및 상기 돌기가 상기 캠을 따라서 이동하도록 상기 승강 판들을 회전시키는 구동 부재를 포함하고,The recovery container lifting unit includes: lifting plates provided in ring shapes having the same center as the centers of the recovery containers, and cams in which protrusions protruding from the recovery containers are inserted; And a drive member for rotating the lifting plates so that the protrusion moves along the cam, 상기 배수 부재는, 원환체(圓環體) 형상의 제 1 하부 벽; 상기 제 1 하부 벽의 내측 가장자리와 외측 가장자리로부터 상측으로 연장된 내측벽 및 외측벽; 상기 회수통들의 내부 공간에 대응하는 오목한 형상의 공간이 형성되도록 상기 하부 벽의 상면으로부터 돌출된 다수의 돌출부들; 및 상기 오목한 형상의 공간에 연통되도록 상기 하부 벽에 연결된 배수관들을 포함하는 것을 특징으로 하는 회수 유닛.The drain member includes: a toric first lower wall; Inner and outer walls extending upward from inner and outer edges of the first lower wall; A plurality of protrusions protruding from an upper surface of the lower wall to form a concave shaped space corresponding to the inner space of the recovery containers; And drain pipes connected to the lower wall to communicate with the concave shaped space. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 내측벽에 형성된 배기 홀들을 통해 배출되는 기류의 흐름 방향을 전환하는 배기 분리 부재; 및An exhaust separation member for switching a flow direction of the airflow discharged through the exhaust holes formed in the inner wall; And 상기 배기 분리 부재를 회전시키는 회전 구동 부재를 더 포함하되,Further comprising a rotation drive member for rotating the exhaust separation member, 상기 배기 분리 부재는,The exhaust separation member, 상기 배수 부재의 상기 내측벽과 마주보는 링 형상으로 제공되고, 다수의 제 1 홀들이 형성된 측벽;A side wall provided in a ring shape facing the inner wall of the drain member and having a plurality of first holes formed therein; 상기 측벽의 하단로부터 중심을 향해 연장되고, 이웃한 상기 제 1 홀들 중 어느 하나의 제 1 홀에 대응하는 위치에 제 2 홀들이 형성된 제 2 하부 벽; 및A second lower wall extending toward a center from a lower end of the side wall and having second holes formed at positions corresponding to the first hole of any one of the neighboring first holes; And 상기 제 1 홀들을 통해 유입되는 기류를 상기 제 2 홀들로 유도하도록 상기 하부 벽 상의 상기 제 2 홀들의 경계로부터 상측으로 연장된 유도 벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 회수 유닛.And a guide wall extending upwardly from a boundary of the second holes on the bottom wall to guide the airflow flowing through the first holes to the second holes. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 배기 분리 부재는 상기 측벽의 상단으로부터 중심을 향해 연장되고, 내주 면에 톱니 모양의 제 1 치형이 형성된 상부 벽을 더 포함하고,The exhaust separation member further includes an upper wall extending from an upper end of the side wall toward the center and having a serrated first tooth formed on an inner circumferential surface thereof, 상기 회전 구동 부재는 구동 모터와; 상기 구동 모터의 회전축에 연결되고, 원주 면에 상기 제 1 치형과 맞물리는 제 2 치형이 형성된 회전 판을 포함하는 것을 특징으로 하는 회수 유닛.The rotary drive member includes a drive motor; And a rotating plate connected to the rotary shaft of the drive motor, the rotating plate having a second tooth formed on the circumferential surface thereof to engage the first tooth. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 배기 분리 부재의 하부에 배치되며, 상기 배기 분리 부재의 상기 유도 벽에 의해 유도되는 기류가 유입되도록 제공되는 제 1 배기통; 및A first exhaust pipe disposed under the exhaust separation member and provided to allow the airflow guided by the guide wall of the exhaust separation member to flow in; And 상기 유도 벽이 제공되지 않은, 상기 측벽의 상기 제 1 홀들을 통해 흐르는 기류가 유입되도록 제공되는 제 2 배기통을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회수 유닛.And a second exhaust cylinder provided to allow an airflow flowing through the first holes of the sidewall to which the guide wall is not provided. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 1 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 1 배기통에 세정액를 분사하는 제 1 세정액 노즐; 및A first cleaning liquid nozzle installed in the first exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the first exhaust cylinder; And 상기 제 2 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 2 배기통에 세정액을 분사하는 제 2 세정액 노즐을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회수 유닛.And a second cleaning liquid nozzle disposed in the second exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the second exhaust cylinder. 삭제delete 기판이 놓이는 기판 지지 부재;A substrate support member on which the substrate is placed; 상기 기판 지지 부재에 놓인 상기 기판으로 처리 유체를 공급하는 처리 유체 공급 부재; A processing fluid supply member for supplying a processing fluid to the substrate placed on the substrate support member; 상기 기판 지지 부재를 감싸는 환형의 링 형상들로 제공되고, 상기 처리 유체 공급 부재로부터 상기 기판으로 공급된 처리 유체를 회수하는 회수통들; 및Recovery containers provided in annular ring shapes surrounding the substrate support member and recovering the processing fluid supplied from the processing fluid supply member to the substrate; And 상기 회수통들을 승하강시키는 회수통 승강 유닛을 포함하되,Including a recovery container lifting unit for lifting the recovery bins, 상기 회수통 승강 유닛은, 상기 회수통들의 중심과 동일한 중심을 가지는 링 형상들로 제공되고, 상기 회수통들로부터 돌출된 돌기가 삽입되는 캠이 형성된 승강 판들; 및 상기 돌기가 상기 캠을 따라서 이동하도록 상기 승강 판들을 회전시키는 구동 부재를 포함하고,The recovery container lifting unit includes: lifting plates provided in ring shapes having the same center as the centers of the recovery containers, and cams in which protrusions protruding from the recovery containers are inserted; And a drive member for rotating the lifting plates so that the protrusion moves along the cam, 상기 각각의 캠들은 상기 승강판의 원주 방향을 따라 수평하게 연장된 제 1 곡선부와, 상기 제 1 곡선부의 끝단으로부터 경사지게 연장된 경사부와, 상기 경사부의 끝단으로부터 수평하게 연장된 제 2 곡선부를 가지며,The cams each include a first curved portion extending horizontally along the circumferential direction of the lifting plate, an inclined portion extending obliquely from the end of the first curved portion, and a second curved portion extending horizontally from the end of the inclined portion. Has, 상기 캠들은 상기 승강 판들의 원주 방향을 따라 위상 차를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And the cams have a phase difference along the circumferential direction of the lifting plates. 기판이 놓이는 기판 지지 부재;A substrate support member on which the substrate is placed; 상기 기판 지지 부재에 놓인 상기 기판으로 처리 유체를 공급하는 처리 유체 공급 부재; A processing fluid supply member for supplying a processing fluid to the substrate placed on the substrate support member; 상기 기판 지지 부재를 감싸는 환형의 링 형상들로 제공되고, 상기 처리 유체 공급 부재로부터 상기 기판으로 공급된 처리 유체를 회수하는 회수통들;Recovery containers provided in annular ring shapes surrounding the substrate support member and recovering the processing fluid supplied from the processing fluid supply member to the substrate; 상기 회수통들을 승하강시키는 회수통 승강 유닛; 및A recovery bin lifting unit for lifting up and down the recovery bins; And 상기 회수통들의 하부에 배치되며, 상기 회수통들로 회수된 처리액을 배수하는 배수 부재를 포함하되,Is disposed below the collection bins, including a drain member for draining the treatment liquid recovered to the recovery bins, 상기 회수통 승강 유닛은, 상기 회수통들의 중심과 동일한 중심을 가지는 링 형상들로 제공되고, 상기 회수통들로부터 돌출된 돌기가 삽입되는 캠이 형성된 승강 판들; 및 상기 돌기가 상기 캠을 따라서 이동하도록 상기 승강 판들을 회전시키는 구동 부재를 포함하고,The recovery container lifting unit includes: lifting plates provided in ring shapes having the same center as the centers of the recovery containers, and cams in which protrusions protruding from the recovery containers are inserted; And a drive member for rotating the lifting plates so that the protrusion moves along the cam, 상기 배수 부재는, 원환체(圓環體) 형상의 제 1 하부 벽; 상기 제 1 하부 벽의 내측 가장자리와 외측 가장자리로부터 상측으로 연장된 내측벽 및 외측벽; 상기 회수통들의 내부 공간에 대응하는 오목한 형상의 공간이 형성되도록 상기 하부 벽의 상면으로부터 돌출된 다수의 돌출부들; 및 상기 오목한 형상의 공간에 연통되도록 상기 하부 벽에 연결된 배수관들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The drain member includes: a toric first lower wall; Inner and outer walls extending upward from inner and outer edges of the first lower wall; A plurality of protrusions protruding from an upper surface of the lower wall to form a concave shaped space corresponding to the inner space of the recovery containers; And drain pipes connected to the lower wall to communicate with the concave-shaped space. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 내측벽에 형성된 배기 홀들을 통해 배출되는 기류의 흐름 방향을 전환하는 배기 분리 부재; 및An exhaust separation member for switching a flow direction of the airflow discharged through the exhaust holes formed in the inner wall; And 상기 배기 분리 부재를 회전시키는 회전 구동 부재를 더 포함하되,Further comprising a rotation drive member for rotating the exhaust separation member, 상기 배기 분리 부재는,The exhaust separation member, 상기 배수 부재의 상기 내측벽과 마주보는 링 형상으로 제공되고, 다수의 제 1 홀들이 형성된 측벽;A side wall provided in a ring shape facing the inner wall of the drain member and having a plurality of first holes formed therein; 상기 측벽의 하단로부터 중심을 향해 연장되고, 이웃한 상기 제 1 홀들 중 어느 하나의 제 1 홀에 대응하는 위치에 제 2 홀들이 형성된 제 2 하부 벽; 및A second lower wall extending toward a center from a lower end of the side wall and having second holes formed at positions corresponding to the first hole of any one of the neighboring first holes; And 상기 제 1 홀들을 통해 유입되는 기류를 상기 제 2 홀들로 유도하도록 상기 하부 벽 상의 상기 제 2 홀들의 경계로부터 상측으로 연장된 유도 벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And an induction wall extending upwardly from a boundary of the second holes on the lower wall to direct airflow flowing through the first holes into the second holes. 제 12 항에 있어서,13. The method of claim 12, 상기 배기 분리 부재는 상기 측벽의 상단으로부터 중심을 향해 연장되고, 내주 면에 톱니 모양의 제 1 치형이 형성된 상부 벽을 더 포함하고,The exhaust separation member further includes an upper wall extending from an upper end of the side wall toward the center and having a serrated first tooth formed on an inner circumferential surface thereof, 상기 회전 구동 부재는 구동 모터와; 상기 구동 모터의 회전축에 연결되고, 원주 면에 상기 제 1 치형과 맞물리는 제 2 치형이 형성된 회전 판을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The rotary drive member includes a drive motor; And a rotating plate connected to the rotating shaft of the drive motor and having a second tooth formed on a circumferential surface thereof to engage the first tooth. 제 12 항에 있어서,13. The method of claim 12, 상기 배기 분리 부재의 하부에 배치되며, 상기 배기 분리 부재의 상기 유도 벽에 의해 유도되는 기류가 유입되도록 제공되는 제 1 배기통; 및A first exhaust pipe disposed under the exhaust separation member and provided to allow the airflow guided by the guide wall of the exhaust separation member to flow in; And 상기 유도 벽이 제공되지 않은, 상기 측벽의 상기 제 1 홀들을 통해 흐르는 기류가 유입되고 제공되는 제 2 배기통을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치And a second exhaust cylinder, through which air flows flowing through the first holes of the side wall, into which the guide wall is not provided, is introduced and provided. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 제 1 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 1 배기통에 세정액를 분사하는 제 1 세정액 노즐; 및A first cleaning liquid nozzle installed in the first exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the first exhaust cylinder; And 상기 제 2 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 2 배기통에 세정액을 분사하는 제 2 세정액 노즐을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And a second cleaning liquid nozzle disposed in the second exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the second exhaust cylinder.
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