KR101008678B1 - Unit for collecting liquid and apparatus for treating substrate with the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 회수 유닛 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 개시한 것으로서, 회수통들 중 공정 진행에 사용되는 하나의 회수통으로만 처리액과 기류가 유입되어 배기 효율을 향상시킬 수 있고, 종래의 다단식 회수통들과 비교하여 회수통들의 승강 위치를 높여 비산되는 처리액의 회수 능력을 향상시킬 수 있는 회수 유닛 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.
세정, 회수통, 산 알카리 분리, 캠
The present invention discloses a recovery unit and a substrate processing apparatus having the same, in which the treatment liquid and the airflow flow into only one recovery container used for the process progress among the recovery containers to improve the exhaust efficiency, and the conventional multi-stage recovery. Compared with the cylinders, it is possible to provide a recovery unit and a substrate processing apparatus having the same, which are capable of improving the recovery capability of the treatment liquid scattered by raising the lift position of the recovery containers.
Cleaning, Recovery Bin, Acid Alkali Separation, Cam
Description
본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 매엽식으로 반도체 기판을 세정 및 린스, 그리고 건조하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for processing a substrate, and more particularly, to an apparatus for cleaning, rinsing, and drying a semiconductor substrate in a sheet type.
반도체 디바이스 제조에 있어서는, 기판(반도체 기판, LCD 기판등)의 전면이 세정된 상태에 있는 것을 전제로 하여 미세 가공이 이루어진다. 따라서, 각 가공 처리에 앞서, 또는 각 가공 처리 사이에 기판 표면에 존재하는 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 필수적으로 수반된다.In semiconductor device manufacture, microfabrication is performed on the premise that the entire surface of the substrate (semiconductor substrate, LCD substrate, etc.) is in a cleaned state. Therefore, a cleaning process is essentially accompanied by removing contaminants present on the substrate surface prior to or between each processing.
세정 공정을 수행하는 장치는 다수의 기판을 동시에 세정하는 배치식 세정 장치와, 낱장 단위로 기판을 세정하는 매엽식 세정 장치로 구분된다. 이 중 매엽식 세정 장치는 낱장의 기판을 지지하는 지지 부재와 기판 처리면에 처리 유체들을 공급하는 노즐이 구비된 노즐부를 포함한다. 매엽식 세정 장치의 공정이 개시되면, 지지 부재에 기판이 안착되고, 노즐부는 세정액, 린스액, 그리고 건조 가스를 순차적으로 분사하여 기판을 세정 및 린스, 그리고 건조시킨다.The apparatus for performing the cleaning process is divided into a batch type cleaning apparatus for simultaneously cleaning a plurality of substrates, and a sheet type cleaning apparatus for cleaning substrates in sheets. Among them, the single wafer cleaning apparatus includes a nozzle member having a support member for supporting a sheet of substrate and a nozzle for supplying processing fluids to a substrate processing surface. When the process of the single wafer cleaning apparatus is started, the substrate is seated on the support member, and the nozzle portion is sequentially sprayed with the cleaning liquid, the rinse liquid and the drying gas to clean, rinse and dry the substrate.
본 발명은 배기 효율을 향상시키고, 산성/알카리성 기류를 분리하여 배기할 수 있는 회수 유닛과, 이를 구비한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention aims to provide a recovery unit capable of improving the exhaust efficiency and separating and exhausting the acidic / alkaline airflow, and a substrate processing apparatus having the same.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 회수 유닛은, 기판 처리에 사용된 처리액을 회수하는 회수 유닛에 있어서, 동일한 중심을 가지는 환형의 링 형상들로 제공되는 다수의 회수통들; 및 상기 회수통들을 승하강시키는 회수통 승강 유닛을 포함하되, 상기 회수통 승강 유닛은 상기 회수통들의 중심과 동일한 중심을 가지는 링 형상들로 제공되고, 상기 회수통들로부터 돌출된 돌기가 삽입되는 캠이 형성된 승강 판들; 상기 돌기가 상기 캠을 따라서 이동하도록 상기 승강 판들을 회전시키는 구동 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a recovery unit according to the present invention comprises: a recovery unit for recovering a processing liquid used for substrate processing, comprising: a plurality of recovery containers provided in annular ring shapes having the same center; And a recovery bin lifting unit for lifting up and down the recovery bins, wherein the recovery bin lifting unit is provided in ring shapes having the same center as the centers of the recovery bins, and projections protruding from the recovery bins are inserted. Lifting plates having cams formed thereon; And a drive member for rotating the lifting plates so that the protrusion moves along the cam.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 회수 유닛에 있어서, 상기 각각의 캠들은 상기 승강판들의 원주 방향을 따라 수평하게 연장된 제 1 곡선부와, 상기 제 1 곡선부의 끝단으로부터 경사지게 연장된 경사부와, 상기 경사부의 끝단으로부터 수평하게 연장된 제 2 곡선부를 가지되, 상기 캠들은 상기 승강 판들의 원주 방향을 따라 위상 차를 가질 수 있다.In the recovery unit according to the present invention having the configuration as described above, each of the cams is a first curved portion extending horizontally along the circumferential direction of the elevating plate, the inclined extending obliquely from the end of the first curved portion And a second curved portion extending horizontally from the end of the inclined portion, the cams may have a phase difference along the circumferential direction of the elevating plates.
상기 제 1 곡선부들은 상기 승강판들에 동일한 높이로 제공되고, 상기 제 2 곡선부들은 상기 승강판들에 동일한 높이로 제공되며, 상기 경사부들은 상기 승강판들에 동일한 기울기로 제공될 수 있다.The first curved portions may be provided at the same height on the lifting plates, the second curved portions may be provided at the same height on the lifting plates, and the inclined portions may be provided at the same slopes on the lifting plates. .
상기 회수통들의 하부에 배치되며, 상기 회수통들로 회수된 처리액을 배수하는 배수 부재를 더 포함하되, 상기 배수 부재는 원환체(圓環體) 형상의 제 1 하부 벽; 상기 제 1 하부 벽의 내측 가장자리와 외측 가장자리로부터 상측으로 연장된 내측벽 및 외측벽; 상기 회수통들의 내부 공간에 대응하는 오목한 형상의 공간이 형성되도록 상기 하부 벽의 상면으로부터 돌출된 다수의 돌출부들; 및 상기 오목한 형상의 공간에 연통되도록 상기 하부 벽에 연결된 배수관들을 포함할 수 있다.A drain member disposed under the collection vessels and configured to drain the treatment liquid recovered to the collection vessels, wherein the drain member comprises: a toric shaped first lower wall; Inner and outer walls extending upward from inner and outer edges of the first lower wall; A plurality of protrusions protruding from an upper surface of the lower wall to form a concave shaped space corresponding to the inner space of the recovery containers; And drain pipes connected to the lower wall to communicate with the concave-shaped space.
상기 내측벽에 형성된 배기 홀들을 통해 배출되는 기류의 흐름 방향을 전환하는 배기 분리 부재; 및 상기 배기 분리 부재를 회전시키는 회전 구동 부재를 더 포함하되, 상기 배기 분리 부재는 상기 배수 부재의 상기 내측벽과 마주보는 링 형상으로 제공되고, 다수의 제 1 홀들이 형성된 측벽; 상기 측벽의 하단로부터 중심을 향해 연장되고, 이웃한 상기 제 1 홀들 중 어느 하나의 제 1 홀에 대응하는 위치에 제 2 홀들이 형성된 제 2 하부 벽; 및 상기 제 1 홀들을 통해 유입되는 기류를 상기 제 2 홀들로 유도하도록 상기 하부 벽 상의 상기 제 2 홀들의 경계로부터 상측으로 연장된 유도 벽을 포함할 수 있다.An exhaust separation member for switching a flow direction of the airflow discharged through the exhaust holes formed in the inner wall; And a rotation driving member for rotating the exhaust separating member, wherein the exhaust separating member is provided in a ring shape facing the inner wall of the drain member and has a plurality of first holes formed therein; A second lower wall extending toward a center from a lower end of the side wall and having second holes formed at positions corresponding to the first hole of any one of the neighboring first holes; And an induction wall extending upward from a boundary of the second holes on the lower wall to guide the airflow flowing through the first holes to the second holes.
상기 배기 분리 부재는 상기 측벽의 상단으로부터 중심을 향해 연장되고, 내주 면에 톱니 모양의 제 1 치형이 형성된 상부 벽을 더 포함하고, 상기 회전 구동 부재는 구동 모터와; 상기 구동 모터의 회전축에 연결되고, 원주 면에 상기 제 1 치형과 맞물리는 제 2 치형이 형성된 회전 판을 포함할 수 있다.The exhaust separation member further includes an upper wall extending from an upper end of the side wall toward the center and having a serrated first tooth formed on an inner circumferential surface thereof, wherein the rotation driving member comprises: a drive motor; It may include a rotary plate connected to the rotary shaft of the drive motor, the second plate is formed on the circumferential surface to engage the first tooth.
상기 배기 분리 부재의 하부에 배치되며, 상기 배기 분리 부재의 상기 유도 벽에 의해 유도되는 기류가 유입되도록 제공되는 제 1 배기통; 및 상기 유도 벽이 제공되지 않은, 상기 측벽의 상기 제 1 홀들을 통해 흐르는 기류가 유입되도록 제공되는 제 2 배기통을 더 포함할 수 있다.A first exhaust pipe disposed under the exhaust separation member and provided to allow the airflow guided by the guide wall of the exhaust separation member to flow in; And a second exhaust pipe provided to allow the airflow flowing through the first holes of the sidewall to which the guide wall is not provided.
상기 제 1 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 1 배기통에 세정액를 분사하는 제 1 세정액 노즐; 및 상기 제 2 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 2 배기통에 세정액을 분사하는 제 2 세정액 노즐을 더 포함할 수 있다.A first cleaning liquid nozzle installed in the first exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the first exhaust cylinder; And a second cleaning liquid nozzle installed in the second exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the second exhaust cylinder.
상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 기판 처리 장치는 기판이 놓이는 기판 지지 부재; 상기 기판 지지 부재에 놓인 상기 기판으로 처리 유체를 공급하는 처리 유체 공급 부재; 상기 기판 지지 부재를 감싸는 환형의 링 형상들로 제공되고, 상기 처리 유체 공급 부재로부터 상기 기판으로 공급된 처리 유체를 회수하는 회수통들; 및 상기 회수통들을 승하강시키는 회수통 승강 유닛을 포함하되, 상기 회수통 승강 유닛은 상기 회수통들의 중심과 동일한 중심을 가지는 링 형상들로 제공되고, 상기 회수통들로부터 돌출된 돌기가 삽입되는 캠이 형성된 승강 판들; 상기 돌기가 상기 캠을 따라서 이동하도록 상기 승강 판들을 회전시키는 구동 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a substrate processing apparatus according to the present invention includes a substrate support member on which a substrate is placed; A processing fluid supply member for supplying a processing fluid to the substrate placed on the substrate support member; Recovery containers provided in annular ring shapes surrounding the substrate support member and recovering the processing fluid supplied from the processing fluid supply member to the substrate; And a recovery bin lifting unit for lifting up and down the recovery bins, wherein the recovery bin lifting unit is provided in ring shapes having the same center as the centers of the recovery bins, and projections protruding from the recovery bins are inserted. Lifting plates having cams formed thereon; And a drive member for rotating the lifting plates so that the protrusion moves along the cam.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 각각의 캠들은 상기 승강판의 원주 방향을 따라 수평하게 연장된 제 1 곡선부와, 상기 제 1 곡선부의 끝단으로부터 경사지게 연장된 경사부와, 상기 경사부의 끝단으로부터 수평하게 연장된 제 2 곡선부를 가지되, 상기 캠들은 상기 승강 판들 의 원주 방향을 따라 위상 차를 가질 수 있다.In the substrate processing apparatus according to the present invention having the configuration as described above, each of the cams extends horizontally along the circumferential direction of the elevating plate and obliquely extending from the end of the first curved portion. The inclined portion and the second curved portion extending horizontally from the end of the inclined portion, the cams may have a phase difference along the circumferential direction of the lifting plate.
상기 회수통들의 하부에 배치되며, 상기 회수통들로 회수된 처리액을 배수하는 배수 부재를 더 포함하되, 상기 배수 부재는 원환체(圓環體) 형상의 제 1 하부 벽; 상기 제 1 하부 벽의 내측 가장자리와 외측 가장자리로부터 상측으로 연장된 내측벽 및 외측벽; 상기 회수통들의 내부 공간에 대응하는 오목한 형상의 공간이 형성되도록 상기 하부 벽의 상면으로부터 돌출된 다수의 돌출부들; 및 상기 오목한 형상의 공간에 연통되도록 상기 하부 벽에 연결된 배수관들을 포함할 수 있다.A drain member disposed under the collection vessels and configured to drain the treatment liquid recovered to the collection vessels, wherein the drain member comprises: a toric shaped first lower wall; Inner and outer walls extending upward from inner and outer edges of the first lower wall; A plurality of protrusions protruding from an upper surface of the lower wall to form a concave shaped space corresponding to the inner space of the recovery containers; And drain pipes connected to the lower wall to communicate with the concave-shaped space.
상기 내측벽에 형성된 배기 홀들을 통해 배출되는 기류의 흐름 방향을 전환하는 배기 분리 부재; 및 상기 배기 분리 부재를 회전시키는 회전 구동 부재를 더 포함하되, 상기 배기 분리 부재는 상기 배수 부재의 상기 내측벽과 마주보는 링 형상으로 제공되고, 다수의 제 1 홀들이 형성된 측벽; 상기 측벽의 하단로부터 중심을 향해 연장되고, 이웃한 상기 제 1 홀들 중 어느 하나의 제 1 홀에 대응하는 위치에 제 2 홀들이 형성된 제 2 하부 벽; 및 상기 제 1 홀들을 통해 유입되는 기류를 상기 제 2 홀들로 유도하도록 상기 하부 벽 상의 상기 제 2 홀들의 경계로부터 상측으로 연장된 유도 벽을 포함할 수 있다.An exhaust separation member for switching a flow direction of the airflow discharged through the exhaust holes formed in the inner wall; And a rotation driving member for rotating the exhaust separating member, wherein the exhaust separating member is provided in a ring shape facing the inner wall of the drain member and has a plurality of first holes formed therein; A second lower wall extending toward a center from a lower end of the side wall and having second holes formed at positions corresponding to the first hole of any one of the neighboring first holes; And an induction wall extending upward from a boundary of the second holes on the lower wall to guide the airflow flowing through the first holes to the second holes.
상기 배기 분리 부재는 상기 측벽의 상단으로부터 중심을 향해 연장되고, 내주 면에 톱니 모양의 제 1 치형이 형성된 상부 벽을 더 포함하고, 상기 회전 구동 부재는 구동 모터와; 상기 구동 모터의 회전축에 연결되고, 원주 면에 상기 제 1 치형과 맞물리는 제 2 치형이 형성된 회전 판을 포함할 수 있다.The exhaust separation member further includes an upper wall extending from an upper end of the side wall toward the center and having a serrated first tooth formed on an inner circumferential surface thereof, wherein the rotation driving member comprises: a drive motor; It may include a rotary plate connected to the rotary shaft of the drive motor, the second plate is formed on the circumferential surface to engage the first tooth.
상기 배기 분리 부재의 하부에 배치되며, 상기 배기 분리 부재의 상기 유도 벽에 의해 유도되는 기류가 유입되도록 제공되는 제 1 배기통; 및 상기 유도 벽이 제공되지 않은, 상기 측벽의 상기 제 1 홀들을 통해 흐르는 기류가 유입되고 제공되는 제 2 배기통을 더 포함할 수 있다.A first exhaust pipe disposed under the exhaust separation member and provided to allow the airflow guided by the guide wall of the exhaust separation member to flow in; And a second exhaust cylinder through which air flows flowing through the first holes of the side wall, into which the induction wall is not provided, is introduced and provided.
상기 제 1 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 1 배기통에 세정액를 분사하는 제 1 세정액 노즐; 및 상기 제 2 배기통의 내부에 설치되며, 상기 제 2 배기통에 세정액을 분사하는 제 2 세정액 노즐을 더 포함할 수 있다.A first cleaning liquid nozzle installed in the first exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the first exhaust cylinder; And a second cleaning liquid nozzle installed in the second exhaust cylinder and injecting a cleaning liquid into the second exhaust cylinder.
본 발명에 의하면, 공정 진행에 사용되는 하나의 회수통으로만 처리액과 기류가 유입되므로 배기 효율을 향상시킬 수 있다. According to the present invention, since the treatment liquid and the airflow flow into only one recovery container used in the process, it is possible to improve the exhaust efficiency.
그리고 본 발명에 의하면, 산성 기류와 알카리성 기류를 분리하여 배기할 수 있다.According to the present invention, the acidic air stream and the alkaline air stream can be separated and exhausted.
또한 본 발명에 의하면, 종래의 다단식 회수통들과 비교하여 회수통들의 승강 위치를 높일 수 있으며, 이에 따라 비산되는 처리액의 회수 능력을 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to increase the lifting position of the recovery bins as compared with the conventional multi-stage recovery bins, thereby improving the recovery capacity of the treatment liquid scattered.
또한 본 발명에 의하면, 배기통에 산/알카리의 반응에 의해 염이 발생하더라도 세정액 노즐을 이용하여 배기통을 세정할 수 있다.In addition, according to the present invention, even if salts are generated by the acid / alkali reaction in the exhaust cylinder, the exhaust cylinder can be cleaned using the cleaning liquid nozzle.
또한 본 발명에 의하면, 공정 챔버 내의 공간 활용도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to improve the space utilization in the process chamber.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 회수 유닛 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a recovery unit and a substrate processing apparatus having the same according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are assigned to the same components as much as possible, even if shown on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.
( 실시 예 )(Example)
도 1은 본 발명에 따른 매엽식 기판 세정 설비의 구성을 보여주는 도면이다.1 is a view showing the configuration of a single wafer cleaning equipment according to the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 매엽식 기판 세정 설비는, 기판의 이면을 세정하기 위한 것으로, 로딩/언로딩부(1), 캐리어 이송부(2), 캐리어 테이블(3), 기판 이송부(4), 그리고 세정 처리부(5)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the sheet type substrate cleaning apparatus according to the present invention is for cleaning the back surface of a substrate, and includes a loading /
로딩/언로딩부(1)는 기판들이 수용된 캐리어(C)가 놓이는 인/아웃 포트(1-1)를 가진다. 로딩/언로딩부(1)에 인접하게 캐리어 이송부(2)가 배치되고, 캐리어 이송부(2)의 타 측 중앙부에는 기판 이송부(4)가 배치된다. 기판 이송부(4)는 캐리어 이송부(2)에 수직한 방향으로 형성된 이송 로봇(4-3) 이동용 통로(4-1)를 가진다. 통로(4-1)의 내측에는 통로(4-1)의 길이 방향을 따라 이송 가이드(4-2)가 설치되고, 이송 로봇(4-3)이 이송 가이드(4-2)에 의해 안내되어 통로(4-1)의 길이 방향을 따라 이동한다. 통로(4-1)의 양측에는 캐리어 테이블(3)과 세정 처리부(5)가 각각 배치된다. 세정 처리부(5)는 기판 이송부(4)의 통로(410) 양측에 나란하게 배치된 복수 개의 공정 챔버들(5a,5b,5c,5d)을 가진다. 기판 이송부(4), 캐리어 테이블(3) 및 세정 처리부(5)는 상층과 하층의 복층 구조로 배치될 수 있으며, 캐리어 이송부(2) 또한 복층 구조의 캐리어 테이블(3)에 대응하도록 복층 구조를 가질 수 있다. 그리고, 캐리어 이송부(2), 캐리어 테이블(3), 기판 이송부(4) 및 세정 처리부(5)의 상부에는 청정 공기를 공급하는 팬 필터 유닛(Fan Filter Unit)(미도시)이 각각 제공될 수 있다.The loading /
로딩/언로딩부(1)의 인/아웃 포트(1-1)에 놓인 캐리어(C)는 캐리어 이송부(2)에 의해 캐리어 테이블(3)로 이송된다. 기판 이송부(4)의 이송 로봇(4-3)은 캐리어 테이블(3)에 놓인 캐리어(C)로부터 세정 처리될 기판을 세정 처리부(5)의 공정 챔버들(5a,5b,5c,5d)로 이송하고, 공정 챔버들(5a,5b,5c,5d)에서는 기판의 세정 처리 공정이 진행된다. 세정 처리부(5)에서 세정 처리된 기판은 이송 로봇(4-3)에 의해 캐리어 테이블(3) 상의 캐리어(C)로 이송되며, 세정 처리된 기판들을 수용하는 캐리어(C)는 캐리어 이송부(2)에 의해 로딩/언로딩부(1)의 인/아웃 포트(1-1)에 놓인다.The carrier C placed in the in / out port 1-1 of the loading /
도 2는 도 1의 공정 챔버의 내부 구성을 보여주는 도면이다.FIG. 2 is a view illustrating an internal configuration of the process chamber of FIG. 1.
도 2를 참조하면, 공정 챔버의 내부에는 기판 지지 부재(10), 용기(20) 및 기판 세정 수단들(30,40,50)이 구비된다. 기판 지지 부재(10)는 기판의 세정 공정 진행 중 기판(W)을 지지하며, 공정이 진행되는 동안 회전될 수 있다. 기판 지지 부재(10)는 용기(20) 안에 수용된다. 용기(20)의 둘레에는 제 1 처리 유체 공급 부재(30), 제 2 처리 유체 공급 부재(40), 그리고 초음파 세정 부재(50)가 배치된다.Referring to FIG. 2, a
제 1 처리 유체 공급 부재(30)는 스캔 방식으로 직선 왕복 운동하며 기판상에 처리액을 공급한다. 처리액으로는 산성 처리액과 알카리성 처리액이 사용될 수 있다.The first processing
제 2 처리 유체 공급 부재(40)는 붐 스윙 방식으로 회전 운동하며 기판상에 린스액 또는 건조 가스를 공급한다. 린스액으로는 초순수(DIW:Deionized Water)가 사용될 수 있다. 건조 가스로는 이소프로필 알코올 가스(IPA:Isopropyl alcohol gas)가 사용될 수 있다.The second processing
초음파 세정 부재(50)는 기판(W)상에 공급되는 처리액에 초음파 진동을 인가한다. 처리액에 인가된 초음파 진동은 처리액과 기판(W)상의 오염 물질의 화학 반응을 촉진시켜 기판(W)상의 오염 물질의 제거 효율을 향상시킨다.The
도 3은 도 2의 처리 용기 내부를 보여주는 종방향으로 절단된 용기의 사시도이고, 도 4는 도 2의 처리 용기 내부를 보여주는 종방향으로 절단된 용기의 단면도이다.3 is a perspective view of a longitudinally cut container showing the interior of the processing container of FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view of a longitudinally cut container showing the interior of the processing container of FIG. 2.
도 3 및 도 4를 참조하면, 기판 지지 부재(10)는 용기(20) 안에 수용된다. 기판 지지 부재(10)는 스핀 헤드(12), 회전축(14) 및 회전 구동부(16)를 포함한다. 스핀 헤드(12)는 원판 형상을 갖고, 상면이 기판(W)과 마주한다. 스핀 헤드(12)에는 스핀 헤드(12)의 상면으로부터 기판(W)을 이격시켜 지지하는 다수의 핀 부재들(13a,13b)이 구비된다. 지지 핀(13a)은 기판(W)의 하면을 지지하고, 척킹 핀(13b)은 기판의 측면을 지지한다. 회전축(14)은 스핀 헤드(12)의 하면에 결합된 다. 회전 축(14)은 용기(20)의 바닥면에 형성된 개구를 통해 용기(20) 외부까지 돌출된다. 회전축(14)은 회전 구동부(16)에 결합되고, 회전 구동부(16)의 회전력에 의해 자기 중심축을 기준으로 회전한다. 회전축(14)의 회전력은 스핀 헤드(12)에 전달되어 스핀 헤드(12)가 회전하고, 이로써 스핀 헤드(12)에 고정된 기판(W)이 회전된다.3 and 4, the
용기(20)는 공정에 사용된 처리액들을 분리하여 회수할 수 있는 구조를 가진다. 이는 처리액들의 재사용이 가능하게 한다. 용기(20)는 복수의 회수통들(220, 240, 260)과, 내벽(210) 및 외벽(270)을 가진다. 각각의 회수통(220, 240, 260)은 공정에 사용된 처리액들 중 서로 상이한 종류의 처리액 즉, 산성 처리액과 알카리성 처리액을 분리하여 회수한다. 본 실시 예에서 용기(20)는 3개의 회수통들을 가진다. 각각의 회수통들을 내부 회수통(220), 중간 회수통(240), 그리고 외부 회수통(260)이라 칭한다.The
내벽(210)은 스핀 헤드(12)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부 회수통(220)은 내벽(210)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 중간 회수통(240)은 내부 회수통(220)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되며, 외부 회수통(260)은 중간 회수통(240)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 외벽(270)은 외부 회수통(260)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다.The
도 5에 도시된 바와 같이, 내부 회수통(220)은 외벽(222), 바닥벽(224), 내 벽(226), 그리고 안내벽(228)을 가진다. 외벽(222), 바닥벽(224), 내벽(226), 그리고 안내벽(228) 각각은 링 형상을 가진다. 외벽(222)은 스핀 헤드(40)로부터 멀어지는 방향으로 하향 경사진 경사벽(222a)과 이의 하단으로부터 아래 방향으로 수직하게 연장되는 수직벽(222b)을 가진다.As shown in FIG. 5, the
내벽(210)은 경사벽(212)과 수직벽(214)을 가진다. 경사벽(212)과 수직벽(214) 각각은 링 형상을 가진다. 경사벽(212)은 스핀 헤드(12)로부터 멀어지는 방향으로 하향 경사진다. 경사벽(212)의 상단은 스핀 헤드(12)의 측면에 인접한 위치까지 연장된다. 수직벽(214)은 경사벽(212)의 하단으로부터 아래 방향으로 수직하게 연장된다.The
내부 회수통(220)은 경사벽(222)과 수직벽(224)를 가진다. 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 및 수직벽(224)은 내벽(210)의 경사벽(212) 및 수직벽(214)과 대체로 유사한 형상을 가지나, 내부 회수통(220)이 내벽(210)을 감싸도록 내벽(210)에 비해 큰 크기를 가진다. 내부 회수통(220)과 내벽(210) 사이에는 내부 회수통(220)으로 회수되는 처리액이 흐르는 공간(221)이 형성된다. 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 상단은 내벽(210)의 경사벽(212) 상단 위쪽에 위치하며, 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 하면과 내벽(210)의 경사벽(212) 상면은 서로 접촉할 수 있다.The
중간 회수통(240)은 경사벽(242)과 수직벽(244)를 가진다. 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 및 수직벽(244)은 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 및 수직벽(224)과 대체로 유사한 형상을 가지나, 중간 회수통(240)이 내부 회수통(220)을 감싸도록 내부 회수통(220)에 비해 큰 크기를 가진다. 중간 회수통(240)과 내부 회수 통(220) 사이에는 중간 회수통(240)으로 회수되는 처리액이 흐르는 공간(241)이 형성된다. 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 상단은 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 상단 위쪽에 위치하며, 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 하면과 내부 회수통(220)의 경사벽(222) 상면은 서로 접촉할 수 있다.The
외부 회수통(260)은 경사벽(262)과 수직벽(264)를 가진다. 외부 회수통(260)의 경사벽(262) 및 수직벽(264)은 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 및 수직벽(244)과 대체로 유사한 형상을 가지나, 외부 회수통(260)이 중간 회수통(240)을 감싸도록 중간 회수통(240)에 비해 큰 크기를 가진다. 외부 회수통(260)과 중간 회수통(240) 사이에는 외부 회수통(260)으로 회수되는 처리액이 흐르는 공간(261)이 형성된다. 외부 회수통(260)의 경사벽(262) 상단은 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 상단 위쪽에 위치하며, 외부 회수통(260)의 경사벽(262) 하면과 중간 회수통(240)의 경사벽(242) 상면은 서로 접촉할 수 있다.The
외벽(270)은 외부 회수통(260)을 감싸는 링 형상의 수직벽으로 제공될 수 있다. 외벽(270)은 외부 회수통(260)을 감싸도록 외부 회수통(260)에 비해 큰 크기를 가진다.The
회수통 승강 유닛(300)은 처리 공정의 진행에 따라 회수통들(220,240,260)을 상하 방향으로 이동시킨다. 회수통 승강 유닛(300)은 제 1 승강판(320), 제 2 승강 판(340), 제 3 승강판(360), 구동판(370), 그리고 구동 부재(380)를 포함한다. The recovery
제 1 승강판(320)은 내부 회수통(220)을 감싸는 링 형상의 수직벽으로 제공 되고, 제 2 승강판(340)은 중간 회수통(240)을 감싸는 링 형상의 수직벽으로 제공되며, 제 3 승강판(360)은 외부 회수통(260)을 감싸는 링 형상의 수직벽으로 제공된다. 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 하단은 구동판(370)에 연결된다.The
구동판(370)은 'ㄷ' 자의 단면을 가지는 링 형상으로 제공된다. 구동판(370)은 상부벽(372), 측벽(374), 그리고 하부 벽(376)을 가진다. 상부 벽(372)은 수평 방향으로 제공되며, 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 하단이 상부 벽(372)에 연결된다. 제 1 승강판(320)과 제 2 승강판(340) 사이의 상부벽(372)에는 개구부(372a)가 형성되고, 제 2 승강판(340)과 제 3 승강판(360) 사이의 상부벽(372)에는 개구부(372b)가 형성된다. 측벽(374)은 상부벽(372)의 가장자리로부터 수직하게 아래 방향으로 연장된다. 하부 벽(376)은 측벽(374)의 하단으로부터 스핀 헤드(12)를 향하는 방향으로 연장되고, 하부 벽(376)의 끝단(내주 면)에는 톱니 모양의 치형(378)이 형성된다. The driving
구동 부재(380)는 구동판(370)을 회전시키고, 구동판(370)의 회전에 의해 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 회전한다. 구동 부재(380)는 구동 모터(382), 회전축(384), 그리고 회전판(386)을 가진다. 회전축(384)의 일단은 구동 모터(382)에 연결되고, 회전축(384)의 타단은 회전판(386)에 연결된다. 회전판(386)은 구동판(370)의 하부 벽(376)에 나란하게 수평 방향으로 제공되고, 회전판(386)의 원주면에는 톱니 모양의 치형(386a)이 형성된다. 회전판(386)의 치형(386a)은 구동판(370)의 하부 벽(376)의 치형(378)과 맞물린다.The driving
구동판(370)의 측벽(374) 및 하부 벽(376)과 외벽(270)의 사이에는 저 마찰 안내 부재(272a,272b,272c)가 설치될 수 있다. 저 마찰 안내 부재(272a,272b,272c)는 일종의 베어링과 유사한 구조를 가진다. 구동판(370)과 외벽(270)에는 반원 모양의 홈(미도시)이 형성되고, 홈(미도시)에 볼 형상의 저 마찰 안내 부재(272a,272b,272c)가 삽입된다. 저 마찰 안내 부재(272a,272b,272c)는 구동판(370)의 회전시 구동판(370)과 외벽(270) 사이의 마찰을 저감시킨다.Low
도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제 1 승강판(320)에는 제 1 캠(322)이 형성되고, 제 2 승강판(340)에는 제 2 캠(342)이 형성되며, 제 3 승강판(36)에는 제 3 캠(362)이 형성된다. 캠들(322,342,362)은 길이가 긴 홀의 형태로 형성될 수 있다. 각각의 승강판(320,340,360)에는 하나 또는 그 이상의 캠들(322,342,362)이 형성될 수 있다.As shown in FIGS. 6 and 7, a
제 1 캠(322)은 제 1 곡선부(322a), 경사부(322b), 그리고 제 2 곡선부(322c)를 가진다. 제 1 곡선부(322a)는 제 1 승강판(320)의 하단에 인접한 위치에 수평 방향으로 길게 형성된다. 경사부(322b)는 제 1 곡선부(322a)의 끝단으로부터 제 1 승강판(320)의 상단에 인접한 위치까지 상향 경사지게 연장 형성된다. 제 2 곡선부(322c)는 경사부(322b)의 끝단으로부터 수평 방향으로 길게 연장 형성된다.The
제 2 캠(342)은 제 2 승강판(340)에 형성된다. 제 2 캠(3420은 제 1 곡선부(342a), 경사부(342b), 그리고 제 2 곡선부(342c)를 가진다. 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a), 경사부(342b), 그리고 제 2 곡선부(342c)는 제 1 캠(322)의 제 1 곡선부(322a), 경사부(322b), 그리고 제 2 곡선부(322c)와 유사한 형상을 가진다. 그러나 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a)는 제 1 캠(322)의 제 1 곡선부(322a)보다 짧은 길이를 가지도록 형성되고, 제 2 캠(342)의 제 2 곡선부(342c)는 제 1 캠(322)의 제 2 곡선부(322c) 보다 긴 길이를 가지도록 형성된다.The
제 3 캠(362)은 제 3 승강판(360)에 형성된다. 제 3 캠(362)은 제 1 곡선부(362a), 경사부(362b), 그리고 제 2 곡선부(362c)를 가진다. 제 3 캠(362)의 제 1 곡선부(362a), 경사부(362b), 그리고 제 2 곡선부(362c)는 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a), 경사부(342b), 그리고 제 2 곡선부(342c)와 유사한 형상을 가진다. 그러나 제 3 캠(362)의 제 1 곡선부(362a)는 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a)보다 짧은 길이를 가지도록 형성되고, 제 3 캠(362)의 제 2 곡선부(362c)는 제 2 캠(342)의 제 2 곡선부(342c) 보다 긴 길이를 가지도록 형성된다.The
제 1 내지 제 3 캠(322,342,362)의 제 1 곡선부들(322a,342a,362a)은 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360) 상의 동일한 높이에 제공된다. 제 1 곡선부들(322a,342a,362a)의 시작 위치는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 중심으로부터 외측을 향한 가상의 연장 선상에 위치한다. 제 2 곡선부들(322c,342c,362c)은 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360) 상의 동일한 높이에 제공되고, 제 2 곡선부들(322c,342c,362c)의 끝 위치는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 중심으로부터 외측을 향한 가상의 연장 선상에 위치한다.The first
다시 도 5를 참조하면, 내부 회수통(220)의 수직벽(224) 하단에는 제 1 돌기(226)가 돌출된다. 제 1 돌기(226)는 제 1 승강판(320)에 형성된 제 1 캠(322)의 제 1 곡선부(322a)에 대응하는 높이에 돌출된다. 제 1 돌기(226)는 제 1 캠(322)의 제 1 곡선부(322a)에 삽입되며, 초기 상태에서 제 1 돌기(226)는 제 1 곡선부(322a)의 시작 위치에 위치한다.Referring back to FIG. 5, the
중간 회수통(240)의 수직벽(244) 하단에는 제 2 돌기(246)가 돌출된다. 제 2 돌기(246)는 제 2 승강판(340)에 형성된 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a)에 대응하는 높이에 돌출된다. 제 2 돌기(246)는 제 2 캠(342)의 제 1 곡선부(342a)에 삽입되며, 초기 상태에서 제 2 돌기(246)는 제 1 곡선부(342a)의 시작 위치에 위치한다.The
외부 회수통(260)의 수직벽(264) 하단에는 제 3 돌기(266)가 돌출된다. 제 3 돌기(266)는 제 3 승강판(360)에 형성된 제 3 캠(362)의 제 1 곡선부(362a)에 대응하는 높이에 돌출된다. 제 3 돌기(266)는 제 3 캠(362)의 제 1 곡선부(362a)에 삽입되며, 초기 상태에서 제 3 돌기(266)는 제 1 곡선부(362a)의 시작 위치에 위치한다.The
구동 부재(380)에 의해 구동판(370)이 회전하면, 구동판(370)에 연결된 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 회전한다. 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 회전함에 따라, 제 1 내지 제 3 돌기(226,246,266)가 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)의 캠들(322,342,362)을 따라 이동하고, 이에 의해 회수통 들(220,240,260)이 상하 방향으로 이동한다.When the driving
도 7에 도시된 바와 같이, 돌기들(226,246,266)이 제 1 곡선부들(322a,342a,362a)의 초기 위치에 위치한 상태에서, 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 회전하면, 돌기들(226,246,266)은 제 1 곡선부들(322a,342a,362a)을 따라 이동한다.As shown in FIG. 7, when the
제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 계속 회전하면, 제 3 돌기(266)는 경사부(362b)를 따라 이동하고, 제 1 및 제 2 돌기(226,246)은 제 1 곡선부(322a,342a)를 따라 이동한다. 제 3 돌기(266)가 경사부(362b)를 따라 상향 이동하면, 제 3 돌기(266)가 형성된 외부 회수통(260)이 승강한다.When the first to
제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 계속 회전하면, 제 3 돌기(266)는 제 2 곡선부(362c)를 따라 이동하고, 제 2 돌기(246)는 경사부(342b)를 따라 이동하며, 제 1 돌기(226)는 제 1 곡선부(322a)를 따라 이동한다. 제 2 돌기(246)가 경사부(342b)를 따라 상향 이동하면, 제 2 돌기(266)가 형성된 중간 회수통(240)이 승강한다. 이때, 제 3 돌기(266)는 제 2 곡선부(362c)를 따라 이동하므로 외부 회수통(260)은 승강된 위치를 유지하고, 제 1 돌기(226)는 제 1 곡선부(322a)를 따라 이동하므로 내부 회수통(220)은 승강되지 않은 위치를 유지한다.When the first to
제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 계속 회전하면, 제 2 및 제 3 돌기(246,266)는 제 2 곡선부(342c,362c)를 따라 이동하고, 제 1 돌기(226)는 경사부(322b)를 따라 이동한다. 제 1 돌기(226)가 경사부(322b)를 따라 상향 이동하면, 제 1 돌기(226)가 형성된 내부 회수통(220)이 승강한다. 이때, 제 2 및 제 3 돌 기(246,266)는 제 2 곡선부(342c,362c)를 따라 이동하므로, 외부 회수통(260)과 중간 회수통(240)은 승강된 위치를 유지한다.If the first to
제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)이 상기의 방향과 반대 방향으로 회전하면, 내부 회수통(220), 중간 회수통(240), 그리고 외부 회수통(260)이 순차적으로 하강된 위치로 이동한다.When the first to
도 8을 참조하면, 구동판(370)의 상부 벽(372) 아래에는 배수 부재(280)가 구비된다. 배수 부재(280)는 상부가 개방된 구조를 가진다. 배수 부재(280)는 하부 벽(282)과, 하부 벽(282)의 내측 및 외측 일단으로부터 상측으로 수직하게 연장된 측벽(284,286)을 포함한다. 측벽(284,286)은 환형의 링 형상을 가진다.Referring to FIG. 8, a
하부 벽(282)의 상면에는 제 1 및 제 2 돌출부(282a,282b)가 돌출 형성된다. 제 1 돌출부(282a)는 내부 회수통(220)과 제 1 승강판(320)에 대응하는 위치에 형성되고, 제 2 돌출부(282b)는 중간 회수통(240)과 제 2 승강판(340)에 대응하는 위치에 형성된다. First and
내측벽(284)과 제 1 돌출부(282a)의 사이에는 제 1 공간(283a)이 형성되고, 제 1 공간(283a)은 용기(20)의 내벽(210)과 내부 회수통(220) 사이의 공간에 대응한다. 하부 벽(282)에는 제 1 공간(283a)과 통하도록 제 1 배수관(도 3의 도면 번호 290a)이 연결된다.A
제 1 돌출부(282a)와 제 2 돌출부(282b)의 사이에는 제 2 공간(283b)이 형성되고, 제 2 공간(283b)는 용기(20)의 내부 회수통(220)과 중간 회수통(240) 사이의 공간에 대응한다. 하부 벽(282)에는 제 2 공간(283b)과 통하도록 제 2 배수관(도 3의 도면 번호 290b)이 연결된다.A
제 2 돌출부(282b)와 외측벽(286) 사이에는 제 3 공간(283c)가 형성되고, 제 3 공간(283c)은 용기(20)의 중간 회수통(240)과 외부 회수통(260) 사이의 공간에 대응한다. 하부 벽(282)에는 제 3 공간(283c)과 통하도록 제 3 배수관(도 3의 도면 번호 290c)이 연결된다. 그리고 제 1 및 제 2 돌출부(282a,282b)의 상부에는 제 1 내지 제 3 공간(283a,283b,283c)과 연통되는 배기 공간(285)이 형성된다. A
배수 부재(280)의 내측벽(284)에는 배기 홀(284a)이 형성된다. 배기 홀(284a)은 후술할 배기 유닛(400)의 배기 분리 부재(410)에 형성된 홀들(415a,415b)에 대응하도록 형성된다.An
배기 유닛(400)은 배기 분리 부재(410), 구동 부재(420), 제 1 배기통(430), 그리고 제 2 배기통(440)을 포함한다. 배기 분리 부재(410)는, 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 상부 벽(412), 측벽(414) 및 하부 벽(416)을 가지는 'ㄷ' 자 단면의 링 형상으로 제공된다. 상부 벽(412)은 수평 방향으로 제공되며, 상부 벽(412)의 내주 면에는 톱니 모양의 치형(412a)이 형성된다. 측벽(414)은 상부 벽(412)의 외측 가장자리로부터 아래로 연장되고, 하부 벽(416)은 측벽(414)의 하단으로부터 내측 중심을 향하는 방향으로 수평하게 연장된다.The
측벽(414)에는 그 둘레를 따라 다수의 홀들(415a,415b)이 관통 형성된다. 이웃한 홀들(415a,415b) 중 어느 하나의 홀(415b)에 대응하는, 하부 벽(416) 상의 위 치에는 홀(416a)이 관통 형성된다. 하부 벽(416) 상의, 홀(416a)이 형성된 위치에는 홀(415b)을 통해 유입되는 기류를 홀(416a)로 유도하는 유도 벽(418)이 제공된다. 유도 벽(418)은 하부 벽(416)의 상부로부터 바라볼 때 'U' 자 형상을 가진다. 유도 벽(418)은 개구된 부분이 하부 벽(416)의 외측을 향하도록 제공된다. 유도 벽(418)이 제공되지 않은, 측벽(414)의 홀들(415a) 통해 유입되는 기류는 배기 분리 부재(410)의 중심을 향하는 방향으로 흐른다.A plurality of
다시 도 8을 참조하면, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시킨다. 구동 부재(420)는 구동 모터(422), 회전축(424), 그리고 회전판(426)을 가진다. 회전축(424)의 일단은 구동 모터(422)에 연결되고, 회전축(424)의 타단은 회전판(426)에 연결된다. 회전판(426)은 배기 분리 부재(410)의 상부 벽(412)에 나란하게 수평 방향으로 제공되고, 회전판(426)의 원주면에는 톱니 모양의 치형(426a)이 형성된다. 회전판(426)의 치형(426a)은 배기 분리 부재(410)의 상부 벽(412)에 형성된 치형(412a)과 맞물린다.Referring back to FIG. 8, the driving
배기 분리 부재(410)의 하부에는 제 1 및 제 2 배기통(430,440)이 제공된다. 제 1 배기통(430)은 배기 분리 부재(410)의 유도 벽(418)에 의해 유도되는 기류가 유입되도록 제공된다. 그리고, 제 1 배기통(430)은 제 1 배기관(도 4의 도면 번호 470)에 연결된다. 제 1 배기통(430)의 내부에는 제 1 세정액 노즐(450)이 제공되고, 제 1 세정액 노즐(450)은 제 1 배기통(430) 내부로 세정을 분사하여 제 1 배기통(430)을 세정한다. First and
제 2 배기통(440)은 배기 분리 부재(410)의 유도 벽(418)이 제공되지 않은, 측벽(414)의 홀들(415a) 통해 흐르는 기류가 유입되도록 제공된다. 그리고, 제 2 배기통(440)은 제 2 배기관(도 4의 도면 번호 480)에 연결된다. 제 2 배기통(440)의 내부에는 제 2 세정액 노즐(460)이 제공될 수 있다. 제 2 세정액 노즐(460)은 제 2 배기통(440) 내부로 세정액을 분사하여 제 2 배기통(440)을 세정한다. The
제 1 처리 유체 공급 부재(도 1의 도면 번호 30)로부터 기판으로 공급되는 처리액은 산성 처리액 또는 알카리성 처리액일 수 있다. 그리고, 제 2 처리 유체 공급 부재(도 1의 도면 번호 40)로부터 기판에 공급되어 린스 공정이 진행된 후의 린스액(탈이온수)은 린스 공정 이전 단계에서 사용된 처리액에 따라 산성 또는 알카리성의 성질을 갖는다. The treatment liquid supplied to the substrate from the first treatment fluid supply member (see FIG. 1 of FIG. 1) may be an acid treatment liquid or an alkaline treatment liquid. Then, the rinse liquid (deionized water) supplied to the substrate from the second processing fluid supply member (see FIG. 1 in FIG. 1) after the rinsing process proceeds has an acidic or alkaline property depending on the treating liquid used in the step before the rinsing process. Have
배수 부재(280)로 유입되는 처리액 또는 린스액이 산성인 경우, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 산성의 성질을 갖는다. 이 경우, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시켜, 배기 분리 부재(410)의 홀(도 10의 도면 번호 415b)이 배수 부재(280)의 내측벽(284)에 형성된 배기 홀(284a)에 연통되도록 한다. 그러면, 배기 공간(285) 내의 기류는 유도 벽(도 10의 도면 번호 418)에 의해 홀(도 10의 도면 번호 416a)로 유도되어, 제 1 배기통(430)으로 유입된다. 제 1 배기통(430)으로 유입된 기류는 제 1 배기관(도 4의 도면 번호 470)을 통해 외부로 배기된다.When the treatment liquid or the rinse liquid flowing into the
배수 부재(280)로 유입되는 처리액 또는 린스액이 알카리성인 경우, 배수 부 재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 알카리성의 성질을 갖는다. 이 경우, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시켜, 배기 분리 부재(410)의 홀(도 10의 도면 번호 415a)이 배수 부재(280)의 내측벽(284)에 형성된 배기 홀(284a)에 연통되도록 한다. 그러면, 배기 공간(285) 내의 기류는 홀(도 10의 도면 번호 415a)과, 배기 분리 분재(410)의 내부 공간을 통해 제 2 배기통(440)으로 유입된다. 제 2 배기통(440)으로 유입된 기류는 제 2 배기관(도 4의 도면 번호 480)을 통해 외부로 배기된다.When the treatment liquid or the rinse liquid flowing into the
도 11a 내지 도 11f는 본 발명에 따른 기판 세정 설비의 공정 챔버 내에서 진행되는 세정 공정을 보여주는 도면들이다.11A-11F illustrate a cleaning process performed in a process chamber of a substrate cleaning apparatus according to the present invention.
도 11a 내지 도 11f를 참조하면, 회수통들(220,240,260)은 하강된 상태의 초기 위치를 유지하고, 스핀 헤드(12)에는 기판(W)이 로딩된다. 로딩된 기판(W)의 하면은 지지 핀(13a)에 의해 지지되고, 기판(W)의 측면은 척킹 핀(13b)에 의해 지지된다.(도 11a)11A to 11F, the
기판(W)이 스핀 헤드(12)상에 고정되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 회전시켜 외부 회수통(260)을 공정 위치로 승강시킨다. 스핀 헤드(12)는 회전 구동부(16)에 의해 회전되고, 스핀 헤드(12)의 회전에 의해 기판(W)이 회전한다. When the substrate W is fixed on the
제 1 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 산성 처리액을 공급하여 기판을 처리한다. 기판에 공급된 산성 처리액은 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산되고, 중간 회수통(240)과 외부 회수통(260) 사이에 형성된 공간을 통해 외부 회수통(260)으로 유입된다. 외부 회수통(260)으로 유입된 산성 처리액은 배수 부재(280)의 제 3 공간(283c)으로 낙하하고, 제 3 공간(283c)에 연결된 제 3 배수관(290c)을 통해 배수된다. The first processing fluid supply member (not shown) supplies an acidic treatment liquid to the substrate W to treat the substrate. The acid treatment liquid supplied to the substrate is scattered by the centrifugal force of the rotating substrate, and flows into the
산성의 처리액이 사용되면, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 산성의 성질을 갖는다. 이 경우, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시켜, 배기 분리 부재(410)의 홀(도 10의 도면 번호 415b)이 배수 부재(280)의 내측벽(284)에 형성된 배기 홀(284a)에 연통되도록 한다. 그러면, 배기 공간(285) 내의 기류는 유도 벽(도 10의 도면 번호 418)에 의해 홀(도 10의 도면 번호 416a)로 유도되어, 제 1 배기통(430)으로 유입된다. 제 1 배기통(430)으로 유입된 기류는 제 1 배기관(도 4의 도면 번호 470)을 통해 외부로 배기된다.(도 11b)When an acidic treatment liquid is used, the airflow flowing through the
산성 처리액을 이용한 기판 처리가 완료되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 회전시켜 내부 회수통(220)과 중간 회수통(240)을 공정 위치로 승강시킨다.When the substrate treatment using the acid treatment liquid is completed, the driving
제 2 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 린스액(탈이온수)를 공급한다. 기판에 공급된 린스액(탈이온수)은 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산되고, 내부 회수통(220)과 용기(20)의 내벽(210) 사이에 형성된 공간을 통해 내부 회수통(220)으로 유입된다. 내부 회수통(220)으로 유입된 린스액(탈이온수)는 배수 부재(280)의 제 1 공간(283a)으로 낙하하고, 제 1 공간(283a)에 연결된 제 1 배수관(290a)을 통해 배수된다. The second processing fluid supply member (not shown) supplies the rinse liquid (deionized water) to the substrate W. FIG. The rinse liquid (deionized water) supplied to the substrate is scattered by the centrifugal force of the rotating substrate, and passes through the space formed between the
린스 공정 이전 단계에서 산성의 처리액이 사용되면, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 산성의 성질을 갖는다. 배기 공간(285) 내의 기류는 유도 벽(도 10의 도면 번호 418)에 의해 홀(도 10의 도면 번호 416a)로 유도되어, 제 1 배기통(430)으로 유입된다. 제 1 배기통(430)으로 유입된 기류는 제 1 배기관(도 4의 도면 번호 470)을 통해 외부로 배기된다.(도 11c)If an acidic treatment liquid is used in the step before the rinsing process, the airflow flowing through the
린스액(탈이온수)을 이용한 기판 처리가 완료되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 도 11c의 경우와 반대 방향으로 회전시켜 내부 회수통(220)을 초기 위치로 하강시킨다.When the substrate processing using the rinse liquid (deionized water) is completed, the driving
제 1 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 알카리성 처리액을 공급하여 기판을 처리한다. 기판에 공급된 알카리성 처리액은 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산되고, 내부 회수통(220)과 중간 회수통(240) 사이에 형성된 공간을 통해 중간 회수통(240)으로 유입된다. 중간 회수통(240)으로 유입된 알카리성 처리액은 배수 부재(280)의 제 2 공간(283b)으로 낙하하고, 제 2 공간(283b)에 연결된 제 2 배수관(290b)을 통해 배수된다. The first processing fluid supply member (not shown) supplies an alkaline processing liquid to the substrate W to process the substrate. The alkaline treatment liquid supplied to the substrate is scattered by the centrifugal force of the rotating substrate, and flows into the
알카리성의 처리액이 사용되면, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 알카리성의 성질을 갖는다. 이 경우, 구동 부재(420)는 배기 분리 부재(410)를 회전시켜, 배기 분리 부재(410)의 홀(도 10의 도면 번호 415a)이 배수 부재(280)의 내측벽(284)에 형성된 배기 홀(284a)에 연통되도록 한다. 그러면, 배기 공간(285) 내의 기류는 홀(도 10의 도면 번호 415a)과, 배기 분리 분재(410)의 내부 공간을 통해 제 2 배기통(440)으로 유입된다. 제 2 배기통(440)으로 유입된 기류는 제 2 배기관(도 4의 도면 번호 480)을 통해 외부로 배기된다.(도 11d)When an alkaline treatment liquid is used, the airflow flowing through the
알카리성 처리액을 이용한 기판 처리가 완료되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 도 11d의 경우와 반대 방향으로 회전시켜 내부 회수통(220)을 공정 위치로 승강시킨다. When the substrate processing using the alkaline treatment liquid is completed, the driving
제 2 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 린스액(탈이온수)를 공급한다. 기판에 공급된 린스액(탈이온수)은 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산되고, 내부 회수통(220)과 용기(20)의 내벽(210) 사이에 형성된 공간을 통해 내부 회수통(220)으로 유입된다. 내부 회수통(220)으로 유입된 린스액(탈이온수)은 배수 부재(280)의 제 1 공간(283a)으로 낙하하고, 제 1 공간(283a)에 연결된 제 1 배수관(290a)을 통해 배수된다. The second processing fluid supply member (not shown) supplies the rinse liquid (deionized water) to the substrate W. FIG. The rinse liquid (deionized water) supplied to the substrate is scattered by the centrifugal force of the rotating substrate, and passes through the space formed between the
린스 공정 이전 단계에서 알카리성의 처리액이 사용되면, 배수 부재(280)의 배기 공간(285)을 흐르는 기류는 알카리성의 성질을 갖는다. 배기 공간(285) 내의 기류는 홀(도 10의 도면 번호 415a)과, 배기 분리 분재(410)의 내부 공간을 통해 제 2 배기통(440)으로 유입된다. 제 2 배기통(440)으로 유입된 기류는 제 2 배기관(도 4의 도면 번호 480)을 통해 외부로 배기된다.(도 11e)If an alkaline treatment liquid is used in the step before the rinsing process, the airflow flowing through the
린스 공정이 완료되면, 제 2 처리 유체 공급 부재(미도시)는 기판(W)으로 건조 가스를 공급하여 기판을 건조시킨다. 건조 공정에 사용된 건조 가스는 도 11e의 경우와 동일한 경로를 거쳐 배기된다.(도 11f)When the rinse process is completed, the second processing fluid supply member (not shown) supplies a dry gas to the substrate W to dry the substrate. The drying gas used in the drying process is exhausted through the same path as in the case of FIG. 11E (FIG. 11F).
건조 공정이 완료되면, 구동 부재(380)는 제 1 내지 제 3 승강판(320,340,360)을 도 11e 경우와 반대 방향으로 회전시켜, 회수통들(220,240,260)을 초기 위치로 하강시킨다.(도 11g)When the drying process is completed, the driving
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.The drawings described below are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.
도 1은 본 발명에 따른 매엽식 기판 세정 설비의 구성을 보여주는 도면이다.1 is a view showing the configuration of a single wafer cleaning equipment according to the present invention.
도 2는 도 1의 공정 챔버의 내부 구성을 보여주는 도면이다.FIG. 2 is a view illustrating an internal configuration of the process chamber of FIG. 1.
도 3은 도 2의 처리 용기 내부를 보여주는 종방향으로 절단된 용기의 사시도이다.3 is a perspective view of a longitudinally cut container showing the interior of the processing container of FIG. 2.
도 4는 도 2의 처리 용기 내부를 보여주는 종방향으로 절단된 용기의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the longitudinally cut vessel showing the interior of the treatment vessel of FIG. 2.
도 5는 도 4의 회수통들과 회수통 승강 유닛의 확대도이다.5 is an enlarged view of the recovery bins and the recovery container lifting unit of FIG. 4.
도 6은 도 5의 승강판들의 사시도이다.6 is a perspective view of the lifting plates of FIG. 5.
도 7은 도 6의 승강판들에 형성된 캠의 궤적을 보여주는 도면이다.FIG. 7 is a view illustrating a trajectory of a cam formed on the lifting plates of FIG. 6.
도 8은 배수 부재와 배기 유닛의 확대도이다.8 is an enlarged view of the drain member and the exhaust unit.
도 9는 도 8의 배기 분리 부재의 사시도이다.9 is a perspective view of the exhaust separating member of FIG. 8.
도 10은 도 9의 A 부분의 확대도이다.FIG. 10 is an enlarged view of a portion A of FIG. 9.
도 11a 내지 도 11g는 본 발명에 따른 기판 세정 설비의 공정 챔버 내에서 진행되는 세정 공정을 보여주는 도면들이다.11A-11G illustrate a cleaning process performed in a process chamber of a substrate cleaning installation in accordance with the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
20 : 용기 220,240,260 : 회수통20: container 220,240,260: recovery container
226,246,266 : 돌기 280 : 배수 부재226,246,266: protrusion 280: drain member
300 : 회수통 승강 유닛 320,340,360 : 승강판300: recovery container lifting unit 320,340,360: lifting plate
322,342,362: 캠 400 : 배기 유닛322,342,362: Cam 400: exhaust unit
410 : 배기 분리 부재 430, 440 : 배기통410:
450,460 : 세정액 노즐450,460: Cleaning Liquid Nozzle
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