KR102593222B1 - 진공 코팅 시스템, 및 스트립형 재료의 코팅 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 특히 금속으로 이루어진 스트립형 재료(11)를 코팅하기 위한 방법 및 그 진공 코팅 시스템(10)에 관한 것이다. 이를 위해, 스트립형 재료(11)는 이송 구간(12)에 걸쳐 이송 방향(T)으로 이동되면서 진공이 인가되어 있는 코팅 챔버(14)의 안쪽에서 진공 코팅된다. 스트립형 재료(11)의 이송 방향(T)으로 볼 때, 코팅 챔버(14)의 상류에는, 스트립형 재료(11)가 통과하여 안내될 수 있는 적어도 하나의 평탄도 최적화 장치(39)가 배치된다. 이런 방식으로, 스트립형 재료(11)를 위해 의도하는 평탄도가 생성된다.
Description
본 발명은 청구항 제1항의 전제부에 따른 진공 코팅 시스템, 그리고 청구항 제8항의 전제부에 따른 스트립형 재료의 코팅 방법에 관한 것이다.
강 스트립(steel strip)을 제조할 때, 열간압연 공정 동안뿐만 아니라 냉간압연 공정 동안에도 길이에 걸쳐 스트립의 폭 변화가 발생한다. 이는 이른바 "폭내기 압연(broadside rolling)"을 통해 야기되며, 이런 폭내기 압연은 압연 패스(rolling pass)를 통해 압연된 스트립의 폭을 수 밀리미터만큼 증가시킨다. 강 스트립의 길이에 걸친 상이한 폭내기 압연은 일반적으로 강 스트립을 가공하는 설비의 안쪽에서의 장력 변동에 기인한다.
강 스트립을 압연할 때 또 다른 문제점은, 압연 공정을 통해 횡단면에 걸쳐 상이한 신장을 통한 가장자리 파형(edge wave)들 또는 중심 파형(central wave)들이 발생할 수 있다는 점에 있다.
예컨대 강 스트립의 형태로 스트립형 재료를 제조할 때, 종래 기술에 따르면, 상기 스트립형 재료의 표면들을 아연 도금하는 점이 공지되어 있다. 이는 예컨대 DE 30 35 000 A1호, DE 195 27 515 C1호 또는 DE 197 35 603 C1호에서 공지된 것처럼, 진공 증착 공정을 통해 수행될 수 있다. 이런 진공 증착 공정에는 예컨대 DE 10 2009 053 367 A1호에 설명되어 있는 이른바 PVD 기술 역시도 포함된다.
전술한 진공 증착 공정의 경우, 진공에서 스트립 재료의 코팅이 수행되며, 스트립형 재료는 실링 게이트, 및/또는 셔터 부재들의 시스템을 통과하여 진공이 존재하거나 생성되는 챔버 등으로 공급된다. 주변 환경에 대해 챔버 내에서 생성된 진공의 밀폐는 일반적으로 셔터 부재들의 형태인 실링 수단들을 통해 수행되며, 이는 예컨대 WO 2008/049523 A1호에 스트립 실링 게이트와 관련하여 기술되어 있다. 상기 밀폐는 EP 1 004 369 B1호에 따라 복수의 압연롤(roll)을 포함한 실링 게이트를 통해서도 실현될 수 있으며, 적어도 하나의 압연롤은 적어도 2개의 다른 압연롤에 상대적으로 오프셋 되어 배치되며, 그리고 상기 압연롤들 사이에서 관통 이동되는 스트립형 재료를 위한 밀폐를 달성하기 위해, 상기 2개의 다른 압연롤까지 자신의 거리와 관련하여 조정될 수 있다.
스트립형 재료가 진공 증착 공정의 원리에 따라 코팅되는 경우, 주변 환경에 대한 진공의 밀폐는 매우 중요하다. 이런 목적을 위해, 스트립형 재료의 코팅이 그 내에서 실현되는 진공 챔버는 유입구 측 및 유출구 측에 각각 실링 게이트들을 포함한다. 스트립형 재료가 자신의 스트립 길이에 걸쳐 선행하는 열처리 공정을 통해 발생할 수 있는 평탄도 결함(flatness defect)들을 보유한다면, 이는 진공 챔버의 실링 게이트들의 영역에서 증가된 마모, 또는 심지어는 진공의 저하를 야기할 수 있으며, 그런 까닭에 진공 하에서의 코팅 공정은 방해를 받게 된다. 그 외에도, 상기 평탄도 결함들은 진공 챔버 안쪽에서 코팅할 스트립형 재료의 표면들과 코팅 및 세척 모듈들 간의 이격 간격을 변경하며, 그런 까닭에 진공 코팅 공정은 마찬가지로 저하된다.
WO 2012/034587 A1호, US 2003/221618 A1호 및 US 2004/159285 A1호로부터는, 각각, 청구항 제1항의 전제부에 따른 진공 코팅 시스템, 및 청구항 제3항의 전제부에 따른 스트립형 재료의 코팅 방법이 공지되어 있다.
US 2016/0340776 A1호는 가공 압연롤 상류 내지 그 전방에 롤러 몸체가 배치되는 진공 챔버를 포함한 진공 코팅 시스템을 개시하고 있다. 상기 롤러 몸체의 둘레에서는 스트립형 재료가 일 측면에서부터 부분적으로 그 둘레를 따라 안내되며, 그리고 이와 함께 롤러 몸체에 의해 원하는 온도로 가열되며, 그런 후에 스트립형 재료는 그에 뒤이어 가공 압연롤과 접촉한다.
WO 2012/034587 A1호, US 2003/221618 A1호 및 US 2004/159285 A1호로부터는, 각각, 청구항 제1항의 전제부에 따른 진공 코팅 시스템, 및 청구항 제3항의 전제부에 따른 스트립형 재료의 코팅 방법이 공지되어 있다.
US 2016/0340776 A1호는 가공 압연롤 상류 내지 그 전방에 롤러 몸체가 배치되는 진공 챔버를 포함한 진공 코팅 시스템을 개시하고 있다. 상기 롤러 몸체의 둘레에서는 스트립형 재료가 일 측면에서부터 부분적으로 그 둘레를 따라 안내되며, 그리고 이와 함께 롤러 몸체에 의해 원하는 온도로 가열되며, 그런 후에 스트립형 재료는 그에 뒤이어 가공 압연롤과 접촉한다.
따라서, 본 발명의 과제는, 간단한 수단들로 진공 조건에서 스트립형 재료의 코팅을 최적화하고 이를 위해 개선된 공정 안전을 달성하는 것에 있다.
상기 과제는 청구항 제1항에 따른 진공 코팅 시스템을 통해, 그리고 청구항 제8항에 명시된 특징들을 갖는 방법을 통해 해결된다. 본 발명의 바람직한 개선예들은 종속 청구항들에 정의되어 있다.
본 발명에 따른 진공 코팅 시스템은 특히 금속으로 이루어진 스트립형 재료를 코팅하기 위해 이용되며, 그리고 특히 스트립형 재료가 그들 상에서 이송 방향으로 이동될 수 있는 것인 압연롤들의 형태인 이송 수단들을 구비한 이송 구간; 및 진공이 그 내에서 생성될 수 있는 코팅 챔버이며, 유입구 영역과 유출구 영역을 포함하고 그렇게 하여 스트립형 재료가 이송 구간을 따라 또는 이송 구간 상에서 이송 방향으로 통과할 수 있는 상기 코팅 챔버;를 포함한다. 스트립형 재료의 이송 방향으로 볼 때, 코팅 챔버의 상류에는, 결과적으로 의도하는 평탄도를 생성하기 위해, 스트립형 재료가 그를 통과하여 안내될 수 있는 적어도 하나의 평탄도 최적화 장치(flatness optimization device)가 배치된다. 평탄도 최적화 장치는, 굽힘 교정 장치와 신장 교정기가 신장/굽힘 교정 장치로 조합되어 있는 콤팩트 유닛으로서 형성된다.
동일한 방식으로, 본 발명은 특히 금속으로 이루어진 스트립형 재료를 코팅하기 위한 방법에도 관한 것이며, 상기 방법의 경우 스트립형 재료는 이송 구간에 걸쳐서 이송 방향으로 이동되면서 진공이 인가되는 코팅 챔버 안쪽에서 진공 코팅된다. 이를 위해, 스트립형 재료는 -스트립형 재료의 이송 방향으로 볼 때- 코팅 챔버의 상류에서 자신의 평탄도와 관련하여 평탄도 최적화 장치를 통해 최적화된다. 이는 조질 압연 장치, (예컨대 다중 롤러 교정기의 형태인) 굽힘 교정 장치, 신장 교정기(stretch straightener) 및/또는 신장/굽힘 교정 장치를 포함할 수 있는 평탄도 최적화 장치를 통해 수행된다. 이는 신장/굽힘 교정 장치를 포함하는 평탄도 최적화 장치를 통해 수행된다.
본 발명은, 스트립형 재료가 진공 코팅 시스템의 진공화된 코팅 챔버 내로 유입되기 전에 자신의 평탄도와 관련하여 최적화된다는 주요 지식을 기초로 한다. 이런 목적을 위해, 스트립형 재료는, -스트립형 재료의 이송 방향으로 볼 때- 진공 코팅 시스템의 코팅 챔버 상류에 위치되는 영역에서, 평탄도 최적화 장치를 통과하며, 그럼으로써 스트립형 재료의 표면들 상에 의도하는 평탄도가 설정되고 어느 경우든 가능한 평탄도 결함들이 제거될 수 있게 된다. 그 결과로서, 스트립형 재료는 자신의 표면들 상에서 최적화된 평탄도를 가지면서 그에 뒤이어 진공화된 코팅 챔버 내로 유입된다. 또한, 스트립형 재료의 표면들 상에서 최적화된 평탄도는 코팅 챔버의 유입구 영역 및 유출구 영역, 그리고 이들에 제공되는 실링 게이트들을 통과할 때 진공의 요구되는 밀폐와 관련하여 바람직하게 작용한다.
이런 관점에서, 평탄도 최적화 장치와 관련하여 별도로 주지할 사항은, 상기 평탄도 최적화 장치가 본 발명에 따라서 예컨대 다중 롤러 교정기의 형태인 굽힘 교정 장치, 및/또는 조질 압연 장치를 포함할 수 있다는 점이다.
본 발명의 바람직한 개선예에서, 평탄도 최적화 장치에 의해 스트립형 재료의 표면들 상에는 필요한 평탄도뿐만 아니라 기결정 거칠기 역시도 설정될 수 있다. 이런 목적을 위해, 특히 평탄도 최적화 장치의 구성요소일 수 있는 조질 압연 장치가 적합하다.
평탄도 최적화 장치에 의해, 0.15% 내지 12%의 범위에서 스트립형 재료를 위한 스트립 신장, 다시 말하면 스트립의 길이방향 연장부에서 스트립의 신장이 달성된다. 이런 목적을 위해, 평탄도 최적화 장치는 이 평탄도 최적화 장치의 구성요소인 신장/굽힘 교정 장치를 포함한다. 상기 스트립 신장을 통해, 결과적으로 스트립형 재료에 대해 두께 공차들의 미세 조정이 달성되며, 이는 특히 열간압연 스트립들의 가공 시 바람직하다.
상기 스트립 신장에 대해 가능한 하한은 언급한 0.15% 외에 하기 값들 역시도 가능하다. - 0.2%, 0.25%, 0.3%, 0.35%, 0.4%, 0.45%, 0.5%, 0.55%, 0.6%, 0.65%, 0.7%, 0.75%, 0.8%, 0.85%, 0.9%, 0.95%, 1.0%, 1.05%, 1.1%, 1.15%, 1.2%, 1.25%, 1.3%, 1.35%, 1.4%, 1.45%, 1.5%, 1.65%, 1.7%, 1.75%, 1.8%, 1.85%, 1.9%, 2.0%, 2.05%, 2.1%, 2.15%, 2.2%, 2.25%, 2.3%, 2.35%, 2.4%, 2.45%, 2.5%, 2.55%, 2.6%, 2.65%, 2.7%, 2.75%, 2.8%, 2.85%, 2.9%, 2.95%, 3.0%, 3.05% 등. 또 다른 하한은 11%까지 가능하며, 바로 위에서 3.05%의 한계까지 예시로 언급한 것처럼, 각각 0.05%의 중간 값들도 가능하다.
상기 스트립 신장에 대해 가능한 상한은 언급한 12% 외에 하기 값들 역시도 가능하다. - 11.95%, 11.9%, 11.85%, 11.8%, 11.75%, 11.7%, 11.65%, 11.6%, 11.55%, 11.5%, 11.45%, 11.4%, 11.35%, 11.3%, 11.25%, 11.2%, 11.15%, 11.1%, 11.05%, 11.0%, 10.95%, 10.9%, 10.85%, 10.8%, 10.75%, 10.7%, 10.65%, 10.6%, 10.55%, 10.5%, 10.45%, 10.4%, 10.35%, 10.3%, 10.25%, 10.2%, 10.15%, 10.1%, 10.05%, 10.0%, 9.95%, 9.9%, 9.85%, 9.8%, 9.75%, 9.7%, 9.65%, 9.6%, 9.55%, 9.5%, 9.45%, 9.4%, 9.35%, 9.3%, 9.25%, 9.2%, 9.15%, 9.1%, 9.0%, 8.95% 등. 또 다른 상한은 1%까지 가능하며, 바로 위에서 8.95%의 한계까지 예시로 언급한 것처럼 각각 0.05%의 중간 값들도 가능하다.
본 발명에 의해, 바람직하게는, 진공 조건에서, 강 스트립으로 구성되고 최소한 10%의 마르텐사이트의 미세조직 성분을 함유하는 스트립형 재료의 코팅이 실현된다. 또한, 상기 강 스트립은 0.1 ~ 0.4%의 탄소, 0.5 ~ 2.0%의 규소 및/또는 1.5 ~ 3.0%의 망간을 함유할 수 있다. 상기 강재는, 각각 상이한 함량의 마르텐사이트(최소한 10%)를 함유하는 "2상 조직강(dual phase steel)"(DP), "복합 조직강(complex phase steel)"(CP) 및 "담금질 및 분할 강(quenching & partitioning steel)"(Q&P)으로서, 또는 "마르텐사이트 강"(MS)으로서 존재할 수 있다.
하기에서는 본 발명의 바람직한 실시형태가 개략적으로 간소화된 도면에 따라서 상세하게 기술된다.
도 1은 본 발명에 따른 방법 역시도 실행할 수 있게 하는 본 발명에 따른 진공 코팅 시스템을 개략적으로 간소화하여 도시한 측면도이다.
도 2는 도 1의 진공 코팅 시스템의 부분인 신장/굽힘 교정 장치를 개략적으로 간소화하여 도시한 측면도이다.
도 2는 도 1의 진공 코팅 시스템의 부분인 신장/굽힘 교정 장치를 개략적으로 간소화하여 도시한 측면도이다.
본 발명은, 스트립형 재료(11)가 적어도 하나의 면에, 바람직하게는 두 면(상면 및 하면)에 코팅층을 구비하게 할 수 있는데 이용되는 진공 코팅 시스템(10)을 제공한다. 그에 상응하게, 상기 진공 코팅 시스템(10)에 의해, 스트립형 재료(11)를 특히 코팅하기 위한 방법 역시도 실행될 수 있다. 도면의 두 도에서 동일한 특징들에는 각각 동일한 도면부호들이 부여된다. 이와 관련하여, 별도로 주지할 사항은, 도면이 오직 간소화된 방식으로만, 그리고 특히 일정한 축척 비율 없이 도시되어 있다는 점이다.
스트립형 재료(11)는 금속으로, 특히 강재 또는 고급강 또는 이들의 상응하는 합금들로 구성될 수 있다. 또한, 주지할 사항은, 진공 코팅 시스템(10)에 의해 코팅되는 스트립형 재료(11)가 열간압연 스트립 또는 냉간압연 스트립일 수 있다는 점이다.
하기에서는 진공 코팅 시스템(10), 이 진공 코팅 시스템의 개별 컴포넌트들, 및 이들의 작동 원리가 상세하게 설명된다.
진공 코팅 시스템(10)은 예컨대 스트립형 재료가 그들 상에서 이송 방향(T)으로 이동되는 것인 압연롤들의 형태인 (미도시한) 이송 수단들을 구비한 이송 구간(12)을 포함한다. 이런 경우, 스트립형 재료(11)는 이송 구간(12)의 유입부에서 제1 권취 장치(46)로부터 권출되며, 스트립형 재료(11)는 -의도되는 코팅의 실행 내지 종료 후에- 이송 구간(12)의 유출부에서 제2 권취 장치(48)에 의해 다시 권취된다. 제1 권취 장치(46) 직후에, 그리고 제2 권취 장치(48) 이전에, 저장소(스트립 저장소)(44)들이 제공될 수 있으며, 이들 저장소에 의해, 또는 저장소들 내에 스트립형 재료(11)가 저장될 수 있다. 이송 구간(12)의 안쪽에서 스트립형 재료(11)는 이동 방향(T)으로, 요컨대 제1 권취 장치(46)에서부터 제2 권취 장치(48)의 방향으로 이동되거나 이송된다.
코팅 챔버(14)는 이송 구간(12)을 따라 배치되며, 스트립형 재료(11)는 코팅 챔버를 통과하여 이동된다. 이런 목적을 위해, 코팅 챔버(14)는 유입구 영역(16)과 유출구 영역(18)을 포함하며, 유입구 영역(16) 내에는 유입 실링 게이트(20)가 제공되고 유출구 영역(18) 내에는 유출 실링 게이트(22)가 제공된다. 코팅 챔버(14) 내에서는 진공이 생성된다. 이런 경우, 유입 실링 게이트(20)와 유출 실링 게이트(22)는 외부 환경에 대해 상기 진공의 적합한 밀폐를 보장하며, 이와 동시에 스트립형 재료(11)는 이송 구간(12)을 따라서, 그리고 상기 두 실링 게이트(20, 22)를 통과하여 이동된다.
코팅 챔버(14)는 다중 부재형으로 형성되고 코팅 부재(26)와 세척 부재(28)를 포함한다. 이들 두 부재(26 및 28) 모두는 -앞에서 이미 설명한 것처럼- 진공화된다. 코팅 부재(26) 내에는 예컨대 "PVD"(= 물리적 증기 증착)의 원리에 따라서, 스트립형 재료의 하나의 면에서, 또는 그의 양쪽 면에서 스트립형 재료(11)의 실질적인 코팅이 실행된다.
코팅 챔버(14) 안쪽에는, 적어도 하나의 스트립 위치 조절 장치(24)가 배치될 수 있으며, 예컨대 도 1에 도시된 것처럼 코팅 부재(26) 안쪽에 배치될 수 있다. 그에 보충하는 방식으로, 또는 그 대안으로, 상기 스트립 위치 조절 장치(24)를 세척 부재(28) 내에 배치할 수도 있다.
진공 코팅 시스템(10)은, (유선으로, 또는 무선으로, 예컨대 무선 링크 등을 통해) 적어도 하나의 위치 센서(36)와 신호로 연결되어 있는 (도 1에서 간소화되어서만 도면부호 "34"를 갖는 블록 심벌을 통해 도시되어 있는) 제어 장치를 포함한다. 상기 위치 센서(36)는, 특히 이송 구간의 중심 영역에 상대적으로 이송 구간(12) 상에서의 스트립형 재료(11)의 위치 측정을 목적으로 코팅 챔버(14) 내에 배치될 수 있다.
스트립 위치 조절 장치(24)에 의해서는, 이송 구간(12)의 중심에 상대적으로 스트립형 재료(11)의 위치를 조정하고 정렬할 수 있다. 이는, 이송 구간(12) 상에서의 스트립형 재료(11)의 위치가 코팅 챔버(14) 안쪽의 위치 센서(36)를 통해 검출되되, 그에 뒤이어 -필요한 경우- 이송 구간(12)의 중심에 상대적으로, 그리고 이송 방향(T)에 대해 수직으로 스트립형 재료(11)를 정렬하기 위해, 스트립 위치 조절 장치(24)의 (미도시한) 작동 부재들이 제어 장치(34)를 통해 제어되는 것을 통해 수행된다. 그에 상응하게, 스트립형 재료(11)는 진공화된 코팅 챔버(14)의 안쪽에서 항상 최적으로 포지셔닝될 수 있으며, 그럼으로써 이송 구간(12)을 따른 스트립형 재료(11)의 이동 동안 예컨대 코팅 챔버(14) 내지 코팅 부재(26)의 측벽부들과 스트립형 재료(11)의 "모서리 부딪침" 내지 접촉은 방지되게 된다.
또한, 유입 실링 게이트(20) 안쪽에, 그리고/또는 유출 실링 게이트(22) 안쪽에 추가 스트립 위치 조절 장치(24.3, 24.4)들이 배치될 수 있다. 마찬가지로, 추가 스트립 위치 조절 장치(24.2)는 -스트립형 재료(11)의 이송 방향(T)으로 볼 때- 유입 실링 게이트(20)의 상류에 배치될 수 있고, 그리고/또는 추가 스트립 위치 조절 장치(24.5)는 -스트립형 재료(11)의 이송 방향(T)으로 볼 때- 유출 실링 게이트(22)의 하류에 배치될 수 있다.
스트립형 재료(11)의 이송 방향(T)으로 볼 때, 유입 실링 게이트(20)의 상류에는, 스트립형 재료(11)가 코팅 챔버(14) 내로 유입되기 전에 통과하는 추가의 화학적 세척 장치(42)가 배치될 수 있다. 이를 통해, 스트립형 재료(11)의 표면들은, 스트립형 재료가 세척 부재(28) 내에서 (진공 조건에서) 정밀 세척으로 처리되기 전에, 예비적으로 정화되고 세척된다.
진공 코팅 시스템(10)은 적어도 하나의 평탄도 최적화 장치(39)를 포함하고, 이 평탄도 최적화 장치는 조질 압연 장치(40)를 포함하여 - 스트립형 재료(11)의 이송 방향(T)으로 볼 때- 유입 실링 게이트(20)의 상류에 배치된다. 스트립형 재료(11)는 조질 압연 장치(40)를 통과하고, 그런 후에 뒤이어 코팅 챔버(14) 내로 유입된다. 조질 압연 장치(40)의 압연롤들과의 접촉을 통해, 스트립형 재료(11)의 표면들 상에서의 평탄도는 의도되는 값으로 조정되며, 이와 동시에 스트립형 재료(11)의 표면들 상에서 가능한 평탄도 결함들은 제거된다.
도 2에는, 본 발명의 또 다른 실시형태에 따라, 전술한 조질 압연 장치(40)에 보충되거나 그 대안으로, 평탄도 최적화 장치(39)의 구성요소일 수 있는 신장/굽힘 교정 장치(41)의 간소화된 측면도가 도시되어 있다. 도 1에서는 도면부호 "K" 및 할당된 파선의 직사각형을 통해, 평탄도 최적화 장치(39)가, 조질 압연 장치(40)뿐만 아니라 신장/굽힘 교정 장치(41)도 포함하는 콤팩트 유닛으로서 형성될 수 있는 점이 간소화되어 상징적으로 도시되어 있다.
신장/굽힘 교정 장치(41), 그리고 도 2에 상응하는 수직 화살표들을 통해 상징적으로 도시되어 있는, 상기 교정 장치의 압연롤들의 압착에 의해, 스트립형 재료(11)의 평탄도는 재료의 표면들 상에서 추가로 개선될 수 있으며, 그리고 경우에 따라 스트립형 재료의 길이 방향으로 스트립형 재료(11)의 스트립 신장, 다시 말해 길이 신장 역시도 달성될 수 있다. 이런 목적을 위해, 신장/굽힘 교정 장치(41)에 인접하는 방식으로 롤러(R)들이 제공될 수 있으며, 그에 따라 스트립형 재료(11)는 상기 롤러들의 둘레에 감기면서 안내되며, 상기 롤러(R)들에 의해서는 목표하는 스트립 장력이 스트립형 재료(11) 상에 인가될 수 있다. 이를 위해, 예컨대 각각 바깥쪽에 배치되는 롤러(R)들은 예컨대 수평으로 병진 이동될 수 있으며, 이는 도 2에 상응하는 수평 양방향 화살표들을 통해 알 수 있다.
진공 코팅 시스템(10)은 스트립형 재료(11)의 이송 방향(T)으로 볼 때 코팅 챔버(14)의 유입 실링 게이트(20)의 상류에 적어도 하나의 트리밍 전단기(38)(trimming shear)를 포함한다. 이에 인접하여, 적어도 하나의 추가 위치 센서(36)가 제공되며, 이 추가 위치 센서에 의해서는 이송 구간(12) 상에서 스트립형 재료(11)의 위치가 코팅 챔버(14)의 상류 영역에서, 그리고 그에 따라 트리밍 전단기(38)의 영역에서도 결정될 수 있다. 상기 위치 센서(36)는 마찬가지로 신호 기술 측면에서 제어 장치(34)와 연결된다. 그에 상응하게, 제어 장치(34)에 의해, 위치 센서(36)의 신호들에 따라서 트리밍 전단기(38)를 작동시키거나 작동하게 할 수 있다.
일측에서의 제어 장치(34)와 타측에서의 위치 센서(36)들, 스트립 위치 조절 장치(24)들 및 트리밍 전단기(38) 사이의 신호 기술적 연결은 도 1에 간소화되어 일점쇄선으로 상징적으로 도시되어 있다.
트리밍 전단기(38)는, 스트립형 재료의 스트립 에지부 상에서, 또는 선택적으로 양쪽 스트립 에지부들 상에서(다시 말해 스트립형 재료(11)의 좌측 및 우측 측면 가장자리 상에서) 스트립형 재료(11)를 트리밍할 목적으로, 다시 말하면 해당 위치에서 절단하는 것을 통해 보다 더 협폭으로 만들고 그렇게 하여 이송 방향(T)에 대해 수직으로 스트립형 재료(11)의 폭을 감소시킬 목적으로 이용된다. 트리밍 전단기(38)는, 진공 코팅 시스템(10)의 작동 중에, 그리고 이송 구간(12)을 따라서 스트립형 재료(11)를 그에 상응하게 이동시킬 때, 위치 센서(36)를 통해 스트립형 재료(11)의 폭이 기결정 설정값과 다르고 예컨대 폭내기 압연의 결과로 너무 큰 것으로 검출된다면 작동된다. 트리밍을 통해, 스트립형 재료(11)는 유입 실링 게이트(20)의 상류 영역에서, 그리고 그에 따라 코팅 챔버(14) 안쪽으로 유입되기 전에, 자신의 길이에 걸쳐 변함없는 폭을 확보하고, 이런 폭은 유입 실링 게이트(20)의 폭에도 최적으로 매칭되는 점이 달성된다.
코팅 챔버(14)를 통해 스트립형 재료(11)를 통과시키는 것을 통해, 적어도 스트립형 재료(11)의 하나의 표면 상에, 바람직하게는 그 두 표면 상에 코팅층, 예컨대 아연층이 적층된다. 이런 코팅은, PVD의 원리에 따라서, 코팅 부재(26)의 안쪽에서 수행될 수 있다. 스트립형 재료(11)의 적어도 하나의 표면에 코팅층, 예컨대 아연층이 구비된 후에, 스트립형 재료(11)는 그 다음 설명한 것처럼 제2 권취 장치(12)에 의해 다시 권취된다.
따라서 본 발명에 의해, 스트립형 재료(11)의 재료 특성들이 변경 내지 저하되지 않으면서, 단순히 낮은 온도에서 스트립형 재료(11)의 표면 또는 표면들 상에 코팅층이 적층될 수 있다. 이는, 특히 스트립형 재료가 최소한 10%의 마르텐사이트의 미세조직 성분을 함유하는, 특히 열간압연 스트립의 형태인 강 스트립일 때 바람직하다.
10: 진공 코팅 시스템
11: 스트립형 재료
12: 이송 구간
14: 코팅 챔버
16: 유입구 영역
18: 유출구 영역
20: 유입 실링 게이트
22: 유출 실링 게이트
24: 스트립 위치 조절 장치
24.2: 스트립 위치 조절 장치
24.3: 스트립 위치 조절 장치
24.4: 스트립 위치 조절 장치
26: 코팅 부재
28: 세척 부재
34: 제어 장치
36: 위치 센서
38: 트리밍 전단기
39: 평탄도 최적화 장치
40: 조질 압연 장치
41: 신장/굽힘 교정 장치
42: 화학적 세척 장치
44: 저장소
46: 제1 권취 장치(유입부)
48: 제2 권취 장치(유출부)
K: 콤팩트 유닛
(= 조질 압연 장치(40) + 신장/굽힘 교정 장치(41))
R: (스트립 장력 생성용) 롤러
T: (스트립 재료(11)를 위한) 이송 방향
11: 스트립형 재료
12: 이송 구간
14: 코팅 챔버
16: 유입구 영역
18: 유출구 영역
20: 유입 실링 게이트
22: 유출 실링 게이트
24: 스트립 위치 조절 장치
24.2: 스트립 위치 조절 장치
24.3: 스트립 위치 조절 장치
24.4: 스트립 위치 조절 장치
26: 코팅 부재
28: 세척 부재
34: 제어 장치
36: 위치 센서
38: 트리밍 전단기
39: 평탄도 최적화 장치
40: 조질 압연 장치
41: 신장/굽힘 교정 장치
42: 화학적 세척 장치
44: 저장소
46: 제1 권취 장치(유입부)
48: 제2 권취 장치(유출부)
K: 콤팩트 유닛
(= 조질 압연 장치(40) + 신장/굽힘 교정 장치(41))
R: (스트립 장력 생성용) 롤러
T: (스트립 재료(11)를 위한) 이송 방향
Claims (12)
- 금속으로 이루어진 스트립형 재료(11)를 코팅하기 위한 진공 코팅 시스템(10)으로서, 상기 진공 코팅 시스템은
스트립형 재료(11)가 그들 상에서 이송 방향(T)으로 이동될 수 있는 것인 압연롤들의 형태인 이송 수단들을 구비한 이송 구간(12); 및
진공이 그 내에서 생성될 수 있는 코팅 챔버(14)이며, 유입구 영역(16)과 유출구 영역(18)을 포함하고 그렇게 하여 스트립형 재료(11)가 이송 구간(12)을 따라 또는 이송 구간(12) 상에서 이송 방향(T)으로 통과할 수 있는 상기 코팅 챔버(14);를 포함하는 상기 진공 코팅 시스템에 있어서,
-상기 스트립형 재료(11)의 이송 방향(T)으로 볼 때- 상기 코팅 챔버(14)의 상류에는, 결과적으로 의도하는 평탄도를 생성하기 위해, 상기 스트립형 재료(11)가 그를 통과하여 안내될 수 있는 적어도 하나의 평탄도 최적화 장치(39)가 배치되어, 상기 유입구 영역(16) 및 상기 유출구 영역(18)에 마련되는 실링 게이트들에서 상기 코팅 챔버(14)의 상기 유입구 영역(16)과 상기 유출구 영역(18) 통과 동안 상기 스트립형 재료(11)의 표면의 최적화된 평탄도에 의한 상기 코팅 챔버(14) 내 진공의 밀폐가 제공되고,
상기 평탄도 최적화 장치(39)는, 조질 압연 장치(40)를 가지고, 신장/굽힘 교정 장치(41)를 형성하도록 굽힘 교정 장치(41)와 신장 교정기가 조합된 콤팩트 유닛(K)의 형태로 형성되고, 상기 신장/굽힘 교정 장치(41)는 다중 롤러 교정기의 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 진공 코팅 시스템(10). - 삭제
- 금속으로 이루어진 스트립형 재료(11)를 코팅하기 위한 방법으로서, 스트립형 재료(11)는 이송 구간(12)에 걸쳐서 이송 방향(T)으로 이동되면서 진공이 인가되고, 유입구 영역(16)과 유출구 영역(18)을 포함하는 코팅 챔버(14) 안쪽에서 진공 코팅되는, 상기 스트립형 재료의 코팅 방법에 있어서,
스트립형 재료(11)는 -스트립형 재료(11)의 이송 방향(T)으로 볼 때- 코팅 챔버(14)의 상류에서 자신의 평탄도와 관련하여 평탄도 최적화 장치(39)를 통해 최적화되어, 상기 유입구 영역(16) 및 상기 유출구 영역(18)에 마련되는 실링 게이트들에서 상기 코팅 챔버(14)의 상기 유입구 영역(16)과 상기 유출구 영역(18) 통과 동안 상기 스트립형 재료(11)의 표면의 최적화된 평탄도에 의한 상기 코팅 챔버(14) 내 진공의 밀폐가 제공되고,
상기 평탄도 최적화 장치(39)는, 조질 압연 장치(40)을 가지고, 스트립형 재료의 길이 방향으로 상기 스트립형 재료(11)의 스트립 신장이 생성되게 하는데 이용되는 신장/굽힘 교정 장치(41)를 형성하도록 굽힘 교정 장치(41)와 신장 교정기가 조합된 콤팩트 유닛(K)을 포함하고, 상기 신장/굽힘 교정 장치(41)는 다중 롤러 교정기의 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 스트립형 재료의 코팅 방법. - 제3항에 있어서, 상기 생성된 스트립 신장은 0.15 ~ 12%의 범위인 것을 특징으로 하는 스트립형 재료의 코팅 방법.
- 삭제
- 제3항에 있어서, 상기 조질 압연 장치(40)에 의해 상기 스트립형 재료(11)에 대해 기결정 표면 거칠기가 생성되고 설정되는 것을 특징으로 하는 스트립형 재료의 코팅 방법.
- 제3항 또는 제4항에 있어서, 스트립형 재료(11)로서, 금속 또는 강재로 이루어진 열간압연 스트립이 처리되는 것을 특징으로 하는 스트립형 재료의 코팅 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
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