KR102593053B1 - Semiconductor FOUP cleaning system - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 96
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- REAOZOPEJGPVCB-UHFFFAOYSA-N dioxygen difluoride Chemical compound FOOF REAOZOPEJGPVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
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Abstract
본 발명의 목적은 기판의 보관 및 운반을 위해 사용되는 풉(FOUP)의 세정 및 건조 효율을 향상시키기 위해, 2열 2단 적층 구조로 4개가 설치되어 생산성을 향상시키고, 세정 효율을 상승시킬 수 있으며, 챔버 회전 방식으로 건조 및 분사 효율 상승시킬 수 있고, 램프(IR)를 이용한 건조 방식 및 액티브 노즐 방식으로 성능을 향상시킬 수 있는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템을 제공한다.
이러한 본 발명은 풉 셀(FOUP SHELL)과 풉 커버(FOUP DOOR)로 이루어지는 풉(FOUP)을 세정하기 위한 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템으로, 상기 풉 셀과 풉 커버를 고정할 수 있는 좌우측 휠 플레이트를 포함하는 챔버유닛; 상기 챔버유닛의 내부로 세정액을 분사하여 풉 셀과 풉 커버를 세정할 수 있는 액티브 클리닝유닛; 상기 액티브 클리닝유닛에 의해 세정된 풉 셀과 풉 커버를 고속 회전시켜 원심력에 의해 탈수할 수 있도록 상기 풉 셀과 풉 커버가 고정되는 좌우측 휠 플레이트를 회전시킬 수 있게 결합되는 회전축과 상기 회전축을 회전시킬 수 있는 동력을 제공하는 서보모터를 포함하는 회전유닛; 및 상기 챔버유닛의 내부에 고열을 공급하여 풉 셀과 풉 커버를 포함하는 챔버유닛의 내부를 건조할 수 있는 건조유닛;을 포함한다.The purpose of the present invention is to improve the cleaning and drying efficiency of FOUPs used for storing and transporting substrates. Four FOUPs are installed in a two-row, two-stage stacked structure to improve productivity and increase cleaning efficiency. It provides a wafer carrier box cleaning system that can increase drying and spraying efficiency through a chamber rotation method and improve performance through a drying method using a lamp (IR) and an active nozzle method.
This invention is a wafer carrier box cleaning system for cleaning a FOUP consisting of a FOUP SHELL and a FOUP cover, and includes left and right wheel plates for fixing the FOUP shell and FOUP cover. A chamber unit that does; an active cleaning unit capable of cleaning the foop cell and foop cover by spraying a cleaning liquid into the interior of the chamber unit; A rotary axis coupled to rotate the left and right wheel plates on which the foop cells and foop covers are fixed so that the foop cells and foop covers cleaned by the active cleaning unit can be rotated at high speed and dehydrated by centrifugal force, and the rotary shaft can be rotated. A rotation unit including a servo motor that provides power; and a drying unit that supplies high heat to the interior of the chamber unit to dry the interior of the chamber unit including the foop cell and the foop cover.
Description
본 발명은 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판의 보관 및 운반을 위해 사용되는 반도체 풉(FOUP)(웨이퍼캐리어 박스)의 세정 및 건조 효율을 향상시키기 위해, 2열 2단 적층 구조로 4개가 설치되어 생산성을 향상시키고, 세정 효율을 상승시킬 수 있으며, 챔버 회전 방식으로 건조 및 분사 효율 상승시킬 수 있고, 램프(IR)를 이용한 건조 방식 및 액티브 노즐 방식으로 성능을 향상시킬 수 있는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a wafer carrier box cleaning system, and more specifically, to improve the cleaning and drying efficiency of a semiconductor FOUP (wafer carrier box) used for storage and transportation of substrates, a two-row, two-stage stacking system Four units are installed in a structure to improve productivity and increase cleaning efficiency. Drying and spraying efficiency can be increased with the chamber rotation method, and performance can be improved with the drying method using a lamp (IR) and the active nozzle method. It is about a wafer carrier box cleaning system.
반도체 제조 공정은 반도체 기판을 다양한 방법으로 가공하는 일련의 공정 장비들을 거치게 되는데, 반도체 기판을 보관 및 운반할 때에는 외부의 충격으로부터 손상되지 않도록 주의하여야 하며, 기판의 표면이 수분, 먼지, 각종 유기물 등과 같은 불순물에 의해 오염되지 않도록 관리하여야 한다.The semiconductor manufacturing process involves a series of process equipment that processes semiconductor substrates in various ways. When storing and transporting semiconductor substrates, care must be taken to prevent damage from external shocks, and the surface of the substrate is free from moisture, dust, various organic substances, etc. It must be managed to prevent contamination by the same impurities.
따라서, 반도체 기판을 보관 및 운반할 때에는 별도의 별도의 풉(FOUP; Front opening unified pod)을 사용하게 된다. Therefore, when storing and transporting a semiconductor substrate, a separate FOUP (Front opening unified pod) is used.
이와 같은 용도로 사용되는 풉의 내부에는 고정밀도의 반도체 기판이 수납되므로, 풉은 높은 청정도를 유지하기 위한 관리가 요구되며, 이를 위하여 풉은 풉 세정 장치에서 주기적으로 세정 및 건조된다.Since a high-precision semiconductor substrate is stored inside the pooh used for this purpose, the pooh requires management to maintain high cleanliness, and for this purpose, the pooh is periodically cleaned and dried in a foop cleaning device.
이러한 풉 세정 장치와 관련된 선행기술로서, 공개특허 제10-2013-0095028호, 등록특허 제10-1173987호에는 풉의 표면에 세정액을 분사하여 풉을 세정하는 기술이 개시되어 있다.As prior art related to such a poo cleaning device, Patent Publication No. 10-2013-0095028 and Patent Registration No. 10-1173987 disclose a technique for cleaning a poo by spraying a cleaning liquid on the surface of the poo.
또한, 공개특허 제10-2015-0078657호에 나타난 바와 같이, 풉 내부에는 풉 내부에 수납되는 기판을 퍼지하기 위한 발포 다공질의 스노클 노즐(Snorkel nozzle)이 구비되는데, 풉의 세정 과정에서 세정액이 흡수된 스노클 노즐을 완전하게 건조시켜 원래의 성능을 회복시키는데 많은 시간이 소요되고, 스노클 노즐의 완전 건조에 소요되는 시간 만큼 풉을 재사용할 수 없어 공정 손실이 발생하게 되는 문제점이 있다. 따라서, 풉의 세정 후에 스노클 노즐을 신속하게 건조시켜 원래의 성능을 회복시키는데 소요되는 시간을 단축할 수 있는 풉 세정 장치의 개발이 요구된다.In addition, as shown in Patent Publication No. 10-2015-0078657, the inside of the pooh is provided with a foam porous snorkel nozzle for purging the substrate stored inside the pooh, and the cleaning liquid is absorbed during the cleaning process of the pooh. It takes a lot of time to completely dry the snorkel nozzle to restore its original performance, and there is a problem in that the poof cannot be reused for the time required to completely dry the snorkel nozzle, resulting in process loss. Therefore, there is a need for the development of a pooh cleaning device that can quickly dry the snorkel nozzle after cleaning the pooh and shorten the time required to restore the original performance.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판의 보관 및 운반을 위해 사용되는 웨이퍼캐리어 박스의 세정 및 건조 효율을 향상시키기 위해, 2열 2단 적층 구조로 4개가 설치되어 생산성을 향상시키고, 세정 효율을 상승시킬 수 있으며, 챔버 회전 방식으로 건조 및 분사 효율 상승시킬 수 있고, 램프(IR)를 이용한 건조 방식 및 액티브 노즐 방식으로 성능을 향상시킬 수 있는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템을 제공하는데 있다. The present invention was created to solve the problems of the prior art described above. The purpose of the present invention is to improve the cleaning and drying efficiency of the wafer carrier box used for storing and transporting the substrate, using a two-row, two-stage stacked structure. Four furnaces are installed to improve productivity and cleaning efficiency. The chamber rotation method can increase drying and spraying efficiency. The drying method using a lamp (IR) and the active nozzle method can improve performance. The purpose is to provide a wafer carrier box cleaning system.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 풉 셀(FOUP SHELL)과 풉 커버(FOUP DOOR)를 세정하기 위한 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템으로, 상기 풉 셀과 풉 커버를 고정할 수 있는 좌우측 휠 플레이트를 포함하는 챔버유닛; 상기 챔버유닛의 내부로 세정액을 분사하여 풉 셀과 풉 커버를 세정할 수 있는 액티브 클리닝유닛; 상기 액티브 클리닝유닛에 의해 세정된 풉 셀과 풉 커버를 고속 회전시켜 원심력에 의해 탈수할 수 있도록 상기 풉 셀과 풉 커버가 고정되는 좌우측 휠 플레이트를 회전시킬 수 있게 결합되는 회전축과 상기 회전축을 회전시킬 수 있는 동력을 제공하는 서보모터를 포함하는 회전유닛; 및 상기 챔버유닛의 내부에 고열을 공급하여 풉 셀과 풉 커버를 포함하는 챔버유닛의 내부를 건조할 수 있는 건조유닛;을 포함하는 것이 바람직하다.The present invention for achieving the above object is a wafer carrier box cleaning system for cleaning the FOUP SHELL and the FOUP DOOR, which includes left and right wheel plates capable of fixing the FOUP SHELL and the FOUP cover. Chamber unit; an active cleaning unit capable of cleaning the foop cell and foop cover by spraying a cleaning liquid into the interior of the chamber unit; A rotary axis coupled to rotate the left and right wheel plates on which the foop cells and foop covers are fixed so that the foop cells and foop covers cleaned by the active cleaning unit can be rotated at high speed and dehydrated by centrifugal force, and the rotary shaft can be rotated. A rotation unit including a servo motor that provides power; and a drying unit capable of supplying high heat to the interior of the chamber unit to dry the interior of the chamber unit including the FOOF cell and the FOOF cover.
상기 챔버유닛과 액티브 클리닝유닛, 회전유닛 및 건조유닛을 포함하는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템은, 2단 적층 구조로 설치되는 것이 바람직하다. The wafer carrier box cleaning system including the chamber unit, active cleaning unit, rotation unit, and drying unit is preferably installed in a two-stage stacked structure.
상기 챔버유닛은: 지지프레임에 설치되며, 배수포트와 배기포트를 구비하는 원통 형상의 챔버몸체부; 상기 챔버몸체부에 개폐 가능하게 설치되는 챔버도어부; 상기 챔버도어부를 개폐시킬 수 있게 설치되는 챔버도어 개폐부; 상기 챔버몸체부의 내부에 설치되는 좌우측 휠 플레이트의 어느 일측에 마련되어 상기 챔버몸체부의 내부로 삽입되는 풉 셀이 안착 고정될 수 있는 풉 셀 고정부; 및 상기 풉 셀 고정부의 반대측으로 위치하는 좌우측 휠 플레이트의 다른 일측에 마련되어 상기 챔버몸체부의 내부로 삽입되는 풉 커버가 안착 고정될 수 있는 풉 커버 고정부;를 포함하는 것이 바람직하다.The chamber unit includes: a cylindrical chamber body portion installed on a support frame and having a drain port and an exhaust port; A chamber door portion installed to be openable and closed on the chamber body; A chamber door opening and closing unit installed to open and close the chamber door unit; A FOOP cell fixing part provided on either side of the left and right wheel plates installed inside the chamber body and capable of seating and fixing the FOOP cell inserted into the chamber body. and a foop cover fixing part provided on the other side of the left and right wheel plates located on the opposite side of the foop cell fixing part, on which the foop cover inserted into the chamber body part can be seated and fixed.
상기 풉 셀 고정부는: 상기 챔버몸체부의 내부로 삽입되는 풉 셀의 하단부가 안착되도록 좌우측 휠 플레이트의 사이에 설치되는 풉 셀 하단 지지대; 상기 풉 셀 하단 지지대에 안착되는 풉 셀을 지지하도록 좌우측 휠 플레이트의 어느 일단부에 내측으로 돌출되게 설치되어 좌우측 휠 플레이트가 회전될 때 풉 셀이 튀어나오는 것을 방지하는 풉 셀 홀드 핑거; 상기 풉 셀 홀드 핑거에 지지되는 풉 셀이 상기 풉 셀 하단 지지대에 정위치로 안착될 수 있도록 상기 풉 셀 하단 지지대로부터 돌출되게 설치되는 풉 셀 가이드 핀; 상기 풉 셀 가이드 핀에 의해 정위치로 안착되는 풉 셀을 고정할 수 있는 클램프; 상기 클램프를 잠그는 클램프 잠금 실린더; 및 상기 클램프의 잠금을 해제하는 클램프 잠금 해제 실린더;를 포함하는 것이 바람직하다.The FOOP cell fixing part includes: a FOOP cell lower support bar installed between the left and right wheel plates to seat the lower end of the FOOP cell inserted into the chamber body portion; A pooper cell hold finger installed to protrude inward on one end of the left and right wheel plates to support the pooper cell seated on the bottom support of the pooper cell and prevent the pooper cell from popping out when the left and right wheel plates are rotated; a FOOP cell guide pin installed to protrude from the FOOP cell lower support so that the FOOP cell supported by the FOOP cell hold finger can be seated in the correct position on the FOOP cell lower support; A clamp capable of fixing the pooh cell seated in the correct position by the fooh cell guide pin; a clamp lock cylinder that locks the clamp; and a clamp unlocking cylinder that unlocks the clamp.
상기 풉 커버 고정부는: 상기 챔버몸체부의 내부로 삽입되는 풉 커버가 안착되도록 좌우측 휠 플레이트에 고정되는 풉 셀의 반대측으로 위치하도록 좌우측 휠 플레이트의 다른 일단부에 설치되는 케이지; 및 상기 케이지를 좌우측 휠 플레이트에 고정하기 위한 고정나사;를 포함하는 것이 바람직하다.The foop cover fixing part includes: a cage installed on the other end of the left and right wheel plates to be located on the opposite side of the foop cell fixed to the left and right wheel plates so that the foop cover inserted into the chamber body portion is seated; and fixing screws for fixing the cage to the left and right wheel plates.
상기 챔버도어 개폐부는: 상기 챔버도어부를 구성하는 챔버도어 커버; 상기 챔버도어 커버의 양단에 어느 일단이 고정되며, 다른 일단을 중심으로 소정 각도만큼 회동되게 설치되어 챔버도어를 개폐시킬 수 있는 챔버도어 암; 상기 챔버도어 암을 소정 각도 만큼 회동시킬 수 있는 동력을 제공하는 제1 로드리스 실린더; 상기 제1 로드리스 실린더에 의해 챔버도어 암이 소정 각도만큼 회전되도록 상기 챔버도어 암의 어느 일단부에 설치되는 챔버도어 베어링; 상기 챔버도어 베어링을 덮는 챔버도어 베어링 하우징; 상기 챔버도어 암과 챔버도어 베어링 하우징을 연결하는 챔버도어 암 스페이서; 및 상기 챔버도어 암과 챔버도어 커버를 연결하는 챔버도어 커버 고정 스페이서;를 포함하는 것이 바람직하다.The chamber door opening and closing unit includes: a chamber door cover constituting the chamber door unit; a chamber door arm that has one end fixed to both ends of the chamber door cover and is installed to rotate at a predetermined angle about the other end to open and close the chamber door; a first rodless cylinder that provides power to rotate the chamber door arm by a predetermined angle; a chamber door bearing installed on one end of the chamber door arm so that the chamber door arm is rotated by a predetermined angle by the first rodless cylinder; A chamber door bearing housing covering the chamber door bearing; A chamber door arm spacer connecting the chamber door arm and the chamber door bearing housing; and a chamber door cover fixing spacer connecting the chamber door arm and the chamber door cover.
상기 액티브 클리닝유닛은: 상기 챔버몸체부의 내부로 물과 질소(또는 클린에어)가 분사되도록 상기 챔버몸체부의 외주면에 개구를 형성한 후, 그 개구를 통해 상기 챔버몸체부의 내부로 왕복 이동되도록 설치되는 액티브 암 노즐; 상기 액티브 암 노즐을 왕복 이동시키기 위한 제2 로드리스 실린더; 상기 제2 로드리스 실린더의 동작을 상기 액티브 암 노즐로 전달하도록 설치되는 모션 샤프트; 상기 모션 샤프트와 제2 로드리스 실린더를 감싸게 설치되는 액티브 암 커버; 및 상기 액티브 암 커버와 챔버몸체부의 사이에 설치되는 실리콘 가스켓;을 포함하는 것이 바람직하다.The active cleaning unit is: an opening is formed on the outer peripheral surface of the chamber body so that water and nitrogen (or clean air) are sprayed into the chamber body, and then is installed to reciprocate into the inside of the chamber body through the opening. Active arm nozzle; a second rodless cylinder for reciprocating the active arm nozzle; a motion shaft installed to transmit the motion of the second rodless cylinder to the active arm nozzle; an active arm cover installed to surround the motion shaft and the second rodless cylinder; and a silicone gasket installed between the active arm cover and the chamber body.
상기 건조유닛은: 상기 챔버몸체부의 내부 온도를 높이도록 상기 챔버몸체부의 외주면에 개구를 형성한 후, 그 개구를 통해 고온을 공급하도록 설치되는 적외선 램프; 상기 적외선 램프를 고정하기 위한 석영 하우징; 상기 석영 하우징을 설치하기 위한 램프 하우징; 및 상기 램프 하우징을 덮도록 챔버몸체부의 외주면에 설치되어 열원 부품을 보호하며, 방열판 역할을 하는 하우징 덮개;를 포함하는 것이 바람직하다.The drying unit includes: an infrared lamp installed to form an opening on the outer peripheral surface of the chamber body to increase the internal temperature of the chamber body and then supply high temperature through the opening; a quartz housing for fixing the infrared lamp; a lamp housing for installing the quartz housing; and a housing cover installed on the outer peripheral surface of the chamber body to cover the lamp housing, protects the heat source component, and serves as a heat sink.
본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 의하면, 2열 2단 적층 구조로 4개가 설치되어 생산성을 향상시키고, 세정 효율을 상승시킬 수 있으며, 챔버 회전 방식으로 건조 및 분사 효율 상승시킬 수 있고, 램프(IR)를 이용한 건조 방식 및 액티브 노즐 방식으로 성능을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. According to the wafer carrier box cleaning system according to the present invention, four units are installed in a two-row, two-stage stacked structure to improve productivity and increase cleaning efficiency, and the drying and spraying efficiency can be increased by using a chamber rotation method. There is an effect of improving performance through a drying method using (IR) and an active nozzle method.
도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템을 정면에서 보아 도시한 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템을 후면에서 보아 도시한 도면이고,
도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에서 챔버도어부를 분리한 상태를 보인 도면이고,
도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 챔버도어 개폐부의 구성을 보인 도면이고,
도 5는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 풉 셀 고정부와 풉 커버 고정부가 좌우측 휠 플레이트에 설치된 상태를 보인 도면이고,
도 6은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 풉 셀 고정부의 구조를 보인 도면이고,
도 7은 도 6표시의 풉 셀 고정부에서 클램프를 보인 도면이고,
도 8은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 풉 커버 고정부의 구조를 보인 도면이고,
도 9는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 액티브 클리닝유닛의 구조를 보인 도면이고,
도 10은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 건조유닛의 구조를 보인 도면이고,
도 11은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 챔버몸체부의 내부에 풉 셀과 풉 커버가 고정된 상태를 보인 도면이고,
도 12a 내지 도 12d는 도 11표시에서 노즐을 통해 세정하는 예를 보인 도면이고,
도 13은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템이 2열 2단으로 4개가 설치되는 예를 보인 도면이고,
도 14는 도 13표시와 같이 다단으로 4개 설치된 본 발명의 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 풉을 로봇에 의해 공급 및 배출하는 예를 보인 도면이다. 1 is a view showing the wafer carrier box cleaning system according to the present invention as seen from the front,
Figure 2 is a view showing the wafer carrier box cleaning system according to the present invention as seen from the rear,
Figure 3 is a view showing a state in which the chamber door part is separated from the wafer carrier box cleaning system according to the present invention;
Figure 4 is a diagram showing the configuration of the chamber door opening and closing part provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention;
Figure 5 is a diagram showing the state in which the foop cell fixture and foop cover fixture provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention are installed on the left and right wheel plates;
Figure 6 is a diagram showing the structure of the pooh cell fixture provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention;
Figure 7 is a view showing the clamp in the pooh cell fixing part shown in Figure 6;
Figure 8 is a diagram showing the structure of the foop cover fixing part provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention;
Figure 9 is a diagram showing the structure of an active cleaning unit provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention.
Figure 10 is a diagram showing the structure of a drying unit provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention.
Figure 11 is a view showing the FOOK cell and the FOOK cover fixed inside the chamber body provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention;
Figures 12a to 12d are diagrams showing an example of cleaning through the nozzle shown in Figure 11;
Figure 13 is a diagram showing an example in which four wafer carrier box cleaning systems according to the present invention are installed in two rows and two stages;
Figure 14 is a diagram showing an example of supplying and discharging FOOP by a robot to the wafer carrier box cleaning system of the present invention, which is installed in four multi-stages as shown in Figure 13.
이하에서는, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in more detail with reference to the attached drawings.
본 발명의 설명에 앞서, 이하의 특정한 구조 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 개념에 따른 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며, 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니된다.Prior to the description of the present invention, the following specific structural and functional descriptions are merely illustrative for the purpose of explaining embodiments according to the concept of the present invention, and the embodiments according to the concept of the present invention may be implemented in various forms. , should not be construed as being limited to the embodiments described herein.
또한, 본 발명의 개념에 따른 실시예는 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본 명세서에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시예들을 특정한 개시 형태에 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경물, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. In addition, since the embodiments according to the concept of the present invention can make various changes and have various forms, specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in this specification. However, this is not intended to limit the embodiments according to the concept of the present invention to a specific disclosed form, and should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention.
또한, 본 발명의 구성들은 직접적인 접촉이나 연결뿐만 아니라 구성과 구성 사이에 다른 구성을 통해 접촉이나 연결된 것도 같은 범위로 해석하도록 한다. In addition, the configurations of the present invention are to be interpreted to the same extent not only by direct contact or connection, but also by contact or connection through other configurations between the configurations.
첨부된 도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템을 정면에서 보아 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템을 후면에서 보아 도시한 도면이고, 도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에서 챔버도어부를 분리한 상태를 보인 도면이고, 도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 챔버도어 개폐부의 구성을 보인 도면이고, 도 5는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 풉 셀 고정부와 풉 커버 고정부가 좌우측 휠 플레이트에 설치된 상태를 보인 도면이고, 도 6은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 풉 셀 고정부의 구조를 보인 도면이고, 도 7은 도 6표시의 풉 셀 고정부에서 클램프를 보인 도면이고, 도 8은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 풉 커버 고정부의 구조를 보인 도면이고, 도 9는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 액티브 클리닝유닛의 구조를 보인 도면이고, 도 10은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 건조유닛의 구조를 보인 도면이고, 도 11은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 구비되는 챔버몸체부의 내부에 풉 셀과 풉 커버가 고정된 상태를 보인 도면이고, 도 12a 내지 도 12d는 도 11표시에서 노즐을 통해 세정하는 예를 보인 도면이고, 도 13은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템이 2열 2단으로 4개가 설치되는 예를 보인 도면이고, 도 14는 도 13표시와 같이 다단으로 4개 설치된 본 발명의 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템에 풉을 로봇에 의해 공급 및 배출하는 예를 보인 도면이다. The attached Figure 1 is a view showing the wafer carrier box cleaning system according to the present invention as seen from the front, Figure 2 is a view showing the wafer carrier box cleaning system according to the present invention as seen from the rear, and Figure 3 is a view showing the wafer carrier box cleaning system according to the present invention. It is a diagram showing the state in which the chamber door part is separated in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention, Figure 4 is a diagram showing the configuration of the chamber door opening and closing part provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention, and Figure 5 is a diagram showing the configuration of the chamber door opening and closing part according to the present invention. It is a diagram showing the state where the FOOP cell fixture and FOOP cover fixture provided in the wafer carrier box cleaning system are installed on the left and right wheel plates, and Figure 6 shows the structure of the FOOP cell fixture provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention. Figure 7 is a diagram showing the clamp in the foop cell fixture shown in Figure 6, Figure 8 is a diagram showing the structure of the foop cover fixture provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention, and Figure 9 is a diagram showing the structure of an active cleaning unit provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention, Figure 10 is a diagram showing the structure of a drying unit provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention, and Figure 11 is a diagram showing the structure of the active cleaning unit provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention. It is a diagram showing a state in which the foop cell and foop cover are fixed inside the chamber body provided in the wafer carrier box cleaning system according to the present invention, and Figures 12A to 12D are diagrams showing an example of cleaning through the nozzle shown in Figure 11. 13 is a diagram showing an example in which four wafer carrier box cleaning systems according to the present invention are installed in two rows and two stages, and FIG. 14 is a wafer carrier box cleaning system of the present invention installed four times in multiple stages as shown in FIG. 13. This is a diagram showing an example of supplying and discharging poo to the system by a robot.
이들 도면에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템은 풉 셀(FOUP SHELL)(12)과 풉 커버(FOUP DOOR)(14)로 이루어지는 ㅇ웨이퍼캐리어 박스(10)을 세정하기 위한 것으로, 본 발명은 챔버유닛(100)과 액티브 클리닝유닛(200), 회전유닛(300) 및 건조유닛(400)을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 챔버유닛(100)과 액티브 클리닝유닛(200), 회전유닛(300) 및 건조유닛(400)을 포함하는 본 발명의 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템이 2열 2단 적층 구조로 4개사 설치되어 생산성을 향상시키고, 세정 효율을 상승시킬 수 있도록 하는 것이 바람직하다. As shown in these drawings, the wafer carrier box cleaning system according to the present invention cleans the wafer carrier box 10, which consists of a FOUP SHELL 12 and a FOUP DOOR 14. For this purpose, the present invention preferably includes a chamber unit 100, an active cleaning unit 200, a rotation unit 300, and a drying unit 400. In addition, the wafer carrier box cleaning system of the present invention, which includes a chamber unit 100, an active cleaning unit 200, a rotation unit 300, and a drying unit 400, is installed at four companies in a two-row, two-stage stacked structure to increase productivity. It is desirable to improve and increase cleaning efficiency.
도시된 바와 같이, 상기 챔버유닛(100)은 풉 셀(12)과 풉 커버(14)를 고정할 수 있는 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)가 내부에 설치되는 것이 바람직하다. As shown, the chamber unit 100 preferably has left and right wheel plates 102a and 102b installed inside the foop cell 12 and the foop cover 14.
이러한 챔버유닛(100)은 지지프레임(104)에 설치되며, 배수포트(112)와 배기포트(114)를 구비하는 원통 형상의 챔버몸체부(110)가 구비되고, 상기 챔버몸체부(110)에 개폐 가능하게 챔버도어부(120)가 설치되며, 상기 챔버도어부(120)를 개폐시킬 수 있도록 챔버도어 개폐부(130)가 설치되는 것이 바람직하다. This chamber unit 100 is installed on the support frame 104 and is provided with a cylindrical chamber body 110 having a drain port 112 and an exhaust port 114, and the chamber body 110 A chamber door 120 is installed to be able to open and close, and a chamber door opening and closing part 130 is preferably installed to open and close the chamber door 120.
또한, 상기 챔버몸체부(110)의 내부에 설치되는 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 어느 일측에는 상기 챔버몸체부(110)의 내부로 삽입되는 풉 셀(12)이 안착 고정될 수 있는 풉 셀 고정부(140)가 마련되고, 상기 풉 셀 고정부(140)의 반대측으로 위치하는 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 다른 일측에는 상기 챔버몸체부(110)의 내부로 삽입되는 풉 커버(14)가 안착 고정될 수 있는 풉 커버 고정부(150)가 마련되는 것이 바람직하다. In addition, on either side of the left and right wheel plates 102a and 102b installed inside the chamber body 110, a pouf cell 12 inserted into the chamber body 110 can be seated and fixed. A cell fixing part 140 is provided, and on the other side of the left and right wheel plates 102a and 102b located on the opposite side of the foop cell fixing part 140, a foop cover ( It is desirable to provide a foop cover fixing part 150 on which 14) can be seated and fixed.
도시된 바와 같이, 상기 챔버몸체부(110)의 내부에 마련되는 풉 셀 고정부(140)는 상기 챔버몸체부(110)의 내부로 삽입되는 풉 셀(12)의 하단부가 안착되도록 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 사이에 설치되는 풉 셀 하단 지지대(142)와, 상기 풉 셀 하단 지지대(142)에 안착되는 풉 셀(12)을 지지하도록 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 어느 일단부에 내측으로 돌출되게 설치되어 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)가 회전될 때 풉 셀(12)이 튀어나오는 것을 방지하는 풉 셀 홀드 핑거(144)와, 상기 풉 셀 홀드 핑거(144)에 지지되는 풉 셀(12)이 상기 풉 셀 하단 지지대(142)에 정위치로 안착될 수 있도록 상기 풉 셀 하단 지지대(142)로부터 돌출되게 설치되는 풉 셀 가이드 핀(146)과, 상기 풉 셀 가이드 핀(146)에 의해 정위치로 안착되는 풉 셀을 고정할 수 있는 클램프(148)와, 상기 클램프(148)를 잠그는 클램프 잠금 실린더(149a) 및 상기 클램프(148)의 잠금을 해제하는 클램프 잠금 해제 실린더(149b)를 포함하는 것이 바람직하다. As shown, the foop cell fixing part 140 provided inside the chamber body portion 110 has left and right wheel plates so that the lower end of the foop cell 12 inserted into the chamber body portion 110 is seated. One end of the left and right wheel plates (102a, 102b) to support the foop cell lower support 142 installed between (102a, 102b) and the foop cell 12 seated on the foop cell lower support 142. A pull cell hold finger 144 is installed to protrude inward to prevent the push cell 12 from protruding when the left and right wheel plates 102a and 102b are rotated, and a pull cell hold finger 144 supported on the pull cell hold finger 144 A pooh cell guide pin 146 installed to protrude from the pooh cell lower support 142 so that the pooh cell 12 can be seated in the correct position on the pooh cell lower support 142, and a pooh cell guide pin ( A clamp 148 capable of fixing the pooch cell seated in position by 146), a clamp lock cylinder 149a that locks the clamp 148, and a clamp unlock cylinder that unlocks the clamp 148. It is preferable to include (149b).
이때, 상기 클램프(148)는 래크(148a)와 피니언(148b)의 구조로 작동되는 2개의 클램프 로드(148c,148d)에 설치되는 것이 바람직하고, 2개의 클램프 로드(148c,148d) 중 어느 하나의 클램프 로드는 클램프 잠금 실린더(149a)에 의해 전후진 되도록 설치하고, 다른 하나의 클램프 로드는 클램프 잠금 해제 실린더(149b)에 의해 전후진 되도록 설치하여, 2개의 클램프 로드(148c,148d)에 설치되는 클램프(148)에 의해 풉 셀(12)을 고정 및 해제할 수 있다. At this time, the clamp 148 is preferably installed on two clamp rods 148c and 148d that operate in the structure of a rack 148a and a pinion 148b, and one of the two clamp rods 148c and 148d The clamp rod is installed to move forward and backward by the clamp locking cylinder (149a), and the other clamp rod is installed to move forward and backward by the clamp unlocking cylinder (149b) and is installed on the two clamp rods (148c and 148d). The pooh cell 12 can be fixed and released by the clamp 148.
도시된 바와 같이, 상기 챔버몸체부(110)의 내부에 마련되는 풉 커버 고정부(150)는 상기 챔버몸체부(110)의 내부로 삽입되는 풉 커버(14)가 안착되도록 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)에 고정되는 풉 셀(12)의 반대측으로 위치하도록 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 다른 일단부에 설치되는 케이지(152)와, 상기 케이지(152)를 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)에 고정하기 위한 고정나사(154)를 포함하는 것이 바람직하다. As shown, the foop cover fixing part 150 provided inside the chamber body portion 110 is mounted on the left and right wheel plates 102a so that the foop cover 14 inserted into the chamber body portion 110 is seated. A cage 152 installed on the other end of the left and right wheel plates 102a and 102b to be located on the opposite side of the pooh cell 12 fixed to 102b), and the cage 152 is connected to the left and right wheel plates 102a and 102b. ) It is desirable to include a fixing screw 154 for fixing to the.
본 발명의 실시예는, 상기 풉 셀 고정부(140)와 풉 커버 고정부(150)가 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 양단에 각각 설치되어, 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 회전에 의해 풉 셀 고정부(140)가 챔버도어부(120) 측으로 위치하면 풉 셀(12)을 삽입하여 고정하고, 다시 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 회전에 의해 풉 커버 고정부(150)가 챔버도어부(120)측으로 위치하면 풉 커버(14)를 삽입하여 고정할 수 있다. 이와 반대로 세정이 완료된 풉 셀과 풉 커버를 챔버몸체부(110)로부터 빼내고자하는 경우에도 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 회전에 의해 챔버도어부(120) 측으로 풉 셀 고정부(140) 혹은 풉 커버 고정부(150)가 위치되게 하여 빼낼 수 있다. In an embodiment of the present invention, the foop cell fixing part 140 and the foop cover fixing part 150 are installed at both ends of the left and right wheel plates 102a and 102b, respectively, to rotate the left and right wheel plates 102a and 102b. When the foop cell fixing part 140 is located toward the chamber door part 120, the foop cell 12 is inserted and fixed, and the foop cover fixing part 150 is again rotated by the left and right wheel plates 102a and 102b. When located toward the chamber door 120, the poof cover 14 can be inserted and fixed. Conversely, even when attempting to remove the cleaned pooh cell and foop cover from the chamber body portion 110, the foop cell fixing portion 140 or The cover fixing part 150 can be positioned and removed.
또한, 상기 챔버몸체부(110)의 내부로 풉 셀(12)과 풉 커버(14)를 삽입하거나 빼내는 경우 통상의 로봇을 이용하는 것이 바람직하다. In addition, when inserting or removing the foop cell 12 and the foop cover 14 into the chamber body 110, it is preferable to use an ordinary robot.
도시된 바와 같이, 상기 챔버도어 개폐부(130)는 챔버도어부를 개폐하기 위한 것으로, 상기 챔버도어부를 구성하는 챔버도어 커버(131)와, 상기 챔버도어 커버(131)의 양단에 어느 일단이 고정되며, 다른 일단을 중심으로 소정 각도만큼 회동되게 설치되어 챔버도어를 개폐시킬 수 있는 챔버도어 암(132)과, 상기 챔버도어 암(132)을 소정 각도 만큼 회동시킬 수 있는 동력을 제공하는 제1 로드리스 실린더(133)와, 상기 제1 로드리스 실린더(133)에 의해 챔버도어 암(132)이 소정 각도만큼 회전되도록 상기 챔버도어 암(132)의 어느 일단부에 설치되는 챔버도어 베어링(134)과, 상기 챔버도어 베어링(134)을 덮는 챔버도어 베어링 하우징(135), 및 상기 챔버도어 암(132)과 챔버도어 베어링 하우징(135)을 연결하는 챔버도어 암 스페이서(136), 상기 챔버도어 암(132)과 챔버도어 커버(131)를 연결하는 챔버도어 커버 고정 스페이서(137)를 포함하는 것이 바람직하다. As shown, the chamber door opening and closing unit 130 is for opening and closing the chamber door unit, and one end is fixed to the chamber door cover 131 constituting the chamber door unit and both ends of the chamber door cover 131. , a chamber door arm 132 that is installed to rotate at a predetermined angle around the other end to open and close the chamber door, and a first rod that provides power to rotate the chamber door arm 132 by a predetermined angle. A chamber door bearing 134 installed on one end of the chamber door arm 132 so that the chamber door arm 132 is rotated by a predetermined angle by the leased cylinder 133 and the first rodless cylinder 133. and a chamber door bearing housing 135 covering the chamber door bearing 134, and a chamber door arm spacer 136 connecting the chamber door arm 132 and the chamber door bearing housing 135, the chamber door arm. It is preferable to include a chamber door cover fixing spacer 137 connecting the chamber door cover 132 and the chamber door cover 131.
이러한 구성을 갖는 상기 챔버도어 개폐부(130)에 의해 챔버도어부(120)가 작동되어 챔버몸체부(110)의 챔버도어를 개폐할 수 있다. 즉, 상기 제1 로드리스 실린더(133)가 작동되면, 챔버도어 베어링(134)을 중심으로 상기 챔버도어 암(132)이 소정 각도만큼 회전되면서 챔버도어 커버(131)를 개폐할 수 있다. The chamber door opening and closing unit 130 having this configuration operates the chamber door unit 120 to open and close the chamber door of the chamber body unit 110. That is, when the first rodless cylinder 133 is operated, the chamber door arm 132 rotates by a predetermined angle around the chamber door bearing 134 to open and close the chamber door cover 131.
도시된 바와 같이, 상기 액티브 클리닝유닛(200)은 챔버유닛(100)의 내부로 세정액을 분사하여 풉 셀(12)과 풉 커버(14)를 세정할 수 있는 것으로, 이러한 액티브 클리닝유닛(200)은 상기 챔버몸체부(110)의 내부로 물과 질소(또는 클린에어)가 분사되도록 상기 챔버몸체부(110)의 외주면에 개구를 형성한 후, 그 개구를 통해 상기 챔버몸체부(110)의 내부로 왕복 이동되도록 설치되는 액티브 암 노즐(210)과, 상기 액티브 암 노즐(210)을 왕복 이동시키기 위한 제2 로드리스 실린더(220)와, 상기 제2 로드리스 실린더(220)의 동작을 상기 액티브 암 노즐(210)로 전달하도록 설치되는 모션 샤프트(230), 및 상기 모션 샤프트(230)와 제2 로드리스 실린더(220)를 감싸게 설치되는 액티브 암 커버(240)를 포함하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 액티브 암 커버(240)와 챔버몸체부(110)의 사이에 실리콘 가스켓(250)을 설치하여 밀폐성을 향상시키는 것이 바람직하다. As shown, the active cleaning unit 200 is capable of cleaning the FOOF cell 12 and the FOOF cover 14 by spraying a cleaning liquid into the interior of the chamber unit 100. This active cleaning unit 200 After forming an opening on the outer peripheral surface of the chamber body 110 so that water and nitrogen (or clean air) are sprayed into the interior of the chamber body 110, the chamber body 110 is formed through the opening. An active arm nozzle 210 installed to reciprocate inside, a second rodless cylinder 220 for reciprocating the active arm nozzle 210, and the operation of the second rodless cylinder 220 as described above. It is preferable to include a motion shaft 230 installed to transmit to the active arm nozzle 210, and an active arm cover 240 installed to surround the motion shaft 230 and the second rodless cylinder 220. At this time, it is desirable to install a silicone gasket 250 between the active arm cover 240 and the chamber body 110 to improve airtightness.
본 발명의 실시예는, 상기 액티브 암 노즐(210)을 상기 챔버몸체부(110)의 내부로 왕복 이동시켜 상기 챔버몸체부(110)의 내부에 고정되는 풉 셀(12)과 풉 커버(14)를 세정할 수 있다. 이때, 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)를 회전시켜 상기 액티브 암 노즐(210)이 설치된 위치로 상기 풉 셀(12)과 풉 커버(14)가 위치되도록 하여 노즐을 통해 분사되는 물과 질소(또는 클린에어)에 의해 세정을 할 수 있다. In an embodiment of the present invention, the active arm nozzle 210 is reciprocated into the inside of the chamber body 110, and the foop cell 12 and the foop cover 14 are fixed to the inside of the chamber body 110. ) can be cleaned. At this time, the left and right wheel plates (102a, 102b) are rotated to position the foop cell (12) and foop cover (14) at the position where the active arm nozzle (210) is installed, so that water and nitrogen (or It can be cleaned with clean air.
도시된 바와 같이, 상기 회전유닛(300)은 액티브 클리닝유닛(200)에 의해 세정된 풉 셀(12)과 풉 커버(14)를 고속 회전시켜 원심력에 의해 탈수할 수 있도록 구비되는 것으로, 이러한 회전유닛(300)은 상기 풉 셀(12)과 풉 커버(14)가 고정되는 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)를 회전시킬 수 있게 결합되는 회전축(310)과, 상기 회전축(310)을 회전시킬 수 있는 동력을 제공하는 서보모터(320)를 포함하는 것이 바람직하다. As shown, the rotation unit 300 is provided to rotate the foop cell 12 and the foop cover 14 cleaned by the active cleaning unit 200 at high speed to dehydrate them by centrifugal force. This rotation The unit 300 has a rotation axis 310 coupled to rotate the left and right wheel plates 102a and 102b on which the foop cell 12 and the foop cover 14 are fixed, and the rotary shaft 310 can be rotated. It is desirable to include a servo motor 320 that provides power.
상기 회전유닛(300)에 의해 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)를 고속 회전시키게 되면, 풉 셀(12)과 풉 커버(14)가 고속 회전되면서 배수포트(112)를 통해 탈수될 수 있다. When the left and right wheel plates 102a and 102b are rotated at high speed by the rotation unit 300, the foop cell 12 and the foop cover 14 are rotated at high speed and can be dehydrated through the drain port 112.
또한, 상기 회전유닛(300)에 의해 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)를 회전시켜 풉 셀 고정부(140)와 풉 커버 고정부(150)가 챔버도어부(120)에 위치되게 하여 풉 셀 및 풉 커버를 챔버몸체부(110)의 내부로 삽입하거나 빼낼 수 있다. In addition, the left and right wheel plates 102a and 102b are rotated by the rotation unit 300 so that the pooh cell fixing part 140 and the pooh cover fixing part 150 are positioned on the chamber door part 120, so that the pooh cell and The cover can be inserted into or removed from the chamber body 110.
도시된 바와 같이, 상기 건조유닛(400)은 챔버유닛(100)의 내부에 고열을 공급하여 풉 셀(12)과 풉 커버(14)를 포함하는 챔버유닛(100)의 내부를 건조할 수 있는 것으로, 이러한 건조유닛(400)은 상기 챔버몸체부(110)의 내부 온도를 높이도록 상기 챔버몸체부(110)의 외주면에 개구를 형성한 후, 그 개구를 통해 고온을 공급하도록 설치되는 적외선 램프(IR 램프)(410)와, 상기 적외선 램프(410)를 고정하기 위한 석영 하우징(420)과, 상기 석영 하우징(420)을 설치하기 위한 램프 하우징(430), 및 상기 램프 하우징(430)을 덮도록 챔버몸체부(110)의 외주면에 설치되어 열원 부품을 보호하며, 방열판 역할을 하는 하우징 덮개(440)를 포함하는 것이 바람직하다. As shown, the drying unit 400 supplies high heat to the interior of the chamber unit 100 to dry the interior of the chamber unit 100 including the foop cell 12 and the foop cover 14. In this way, this drying unit 400 forms an opening on the outer peripheral surface of the chamber body 110 to increase the internal temperature of the chamber body 110, and then an infrared lamp is installed to supply high temperature through the opening. (IR lamp) 410, a quartz housing 420 for fixing the infrared lamp 410, a lamp housing 430 for installing the quartz housing 420, and the lamp housing 430. It is preferable to include a housing cover 440 that is installed on the outer peripheral surface of the chamber body 110 to protect the heat source component and serves as a heat sink.
이러한 건조유닛(400)의 적외선 램프(410)에서 발생되는 고열이 챔버몸체부(110)의 내부로 공급되어 챔버몸체부(110)의 내부에 고정되어 회전되는 풉 셀과 풉 커버를 건조할 수 있다. High heat generated from the infrared lamp 410 of the drying unit 400 is supplied to the inside of the chamber body 110 to dry the foop cell and foop cover that are fixed and rotated inside the chamber body portion 110. there is.
본 발명에 따르면, 챔버몸체부(110)의 내부에 회전 가능하게 설치되는 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 일측과 다른 일측에 풉 셀 고정부(140)와 풉 커버 고정부(150)가 설치되고, 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 회전에 의해 챔버도어부(120)측으로 풉 셀 고정부(140)와 풉 커버 고정부(150)가 위치되게 한 상태에서 풉 셀과 풉 커버를 챔버도어부(120)의 내부로 삽입하거나 빼낼 수 있다. According to the present invention, a foop cell fixing part 140 and a foop cover fixing part 150 are installed on one side and the other side of the left and right wheel plates 102a and 102b rotatably installed inside the chamber body 110. In a state where the foop cell fixing part 140 and the foop cover fixing part 150 are positioned toward the chamber door 120 by rotating the left and right wheel plates 102a and 102b, the foop cell and foop cover are placed in the chamber. It can be inserted into or removed from the inside of the fisherman 120.
또한, 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)의 회전에 의해 풉 셀 고정부(140)에 고정되는 풉 셀(12)과 풉 커버 고정부(150)에 고정되는 풉 커버(14)가 액티브 암 노즐(210) 측으로 위치되게 한 상태에서 물과 질소(또는 클린에어)가 노즐을 통해 분사되어 세정할 수 있다. In addition, the pooh cell 12, which is fixed to the foop cell fixing part 140 by the rotation of the left and right wheel plates 102a and 102b, and the foop cover 14, which is fixed to the foop cover fixing part 150, are connected to the active arm nozzle ( 210), water and nitrogen (or clean air) can be sprayed through the nozzle for cleaning.
이후, 상기 회전유닛(300)에 의해 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)를 고속으로 회전시키게 되면 좌우측 휠 플레이트(102a,102b)에 고정된 풉 셀과 풉 커버가 고속으로 회전되어 탈수될 수 있으며, 건조유닛(400)에 의해 빠른 건조가 이루어지게 할 수 있다. Thereafter, when the left and right wheel plates (102a, 102b) are rotated at high speed by the rotation unit (300), the foop cells and foop covers fixed to the left and right wheel plates (102a, 102b) can be rotated at high speed and dehydrated, Fast drying can be achieved by the drying unit 400.
본 발명은 상기 챔버몸체부(110)의 내부에서 풉 셀과 풉 커버를 회전시키면서 세정 및 건조, 탈수 할 수 있게 함으로, 챔버몸체부(110)를 좌우로 열과 행을 이루며 다단으로 설치할 수 있다. 즉, 풉 셀과 풉 커버를 분리하고, 풉 셀과 풉 커버를 이송시키는 로봇의 작동 범위 내에서 챔버몸체부를 다단으로 설치할 수 있다. 예를 들어, 챔버몸체부를 2열, 2단으로 4개를 설치할 수 있고, 4개의 챔버몸체부에서 각각 개별적으로 세정 및 건조를 할 수 있게 하여 작업 효율성을 높일 수 있다. The present invention allows cleaning, drying, and dehydration while rotating the foop cell and foop cover inside the chamber body portion 110, so that the chamber body portion 110 can be installed in multiple stages, forming columns and rows left and right. In other words, the foop cell and foop cover can be separated, and the chamber body can be installed in multiple stages within the operating range of the robot that transports the foop cell and foop cover. For example, four chamber bodies can be installed in two rows and two stages, and work efficiency can be increased by allowing each of the four chamber bodies to be individually cleaned and dried.
본 발명의 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템은 2열 2단 적층 구조로 4개서 설치되어 생산성을 향상시키고, 세정 효율을 상승시킬 수 있다. 또한, 챔버 회전 방식으로 건조 및 분사 효율 상승시킬 수 있고, 램프(IR)를 이용한 건조 방식 및 액티브 노즐 방식으로 성능을 향상시킬 수 있다. The wafer carrier box cleaning system of the present invention can be installed in four units in a two-row, two-stage stacked structure to improve productivity and increase cleaning efficiency. In addition, drying and spraying efficiency can be increased using the chamber rotation method, and performance can be improved using the drying method using a lamp (IR) and the active nozzle method.
이상에서와 같은 기술적 구성에 의해 본 발명의 기술적 과제가 달성되는 것이며, 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나 여기에 한정되지 않고 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능한 것임은 물론이다.The technical object of the present invention is achieved by the technical configuration as described above, and although it has been described with limited examples and drawings, it is not limited thereto and the present invention can be understood by those skilled in the art to which the present invention pertains. Of course, various modifications and variations are possible within the scope of equivalence of the technical idea and scope of the patent claims described below.
10 - 웨이퍼캐리어 박스 12 - 풉 셀(FOUP SHELL)
14 - 풉 커버(FOUP DOOR) 100 - 챔버유닛
102a,102b - 좌우측 휠 플레이트 104 - 지지프레임
110 - 챔버 몸체부 112 - 배수포트
114 - 배기포트 120 - 챔버 도어부
130 - 챔버도어 개폐부 131 - 챔버도어 커버
132 - 챔버도어 암 133 - 제1 로드리스 실린더
134 - 챔버도어 베어링 135 - 챔버도어 베어링 하우징
136 - 챔버도어 암 스페이서 138 - 챔버도어 커버 고정 스페이서
140 - 풉 셀 고정부 142 - 풉 셀 하단 지지대
144 - 풉 셀 홀드 핑거 146 - 풉 셀 가이드 핀
148 - 클램프 149a - 클램프 잠금 실린더
149b - 클램프 잠금 해제 실린더 150 - 풉 커버 고정부
152 - 케이지 154 - 고정나사
200 - 액티브 클리닝유닛 210 - 액티브 암 노즐
220 - 제2 로드리스 실린더 230 - 모션 샤프트
240 - 액티브 암 커버 250 - 실리콘 가스켓
300 - 회전유닛 310 - 회전축
320 - 서보모터 400 - 건조유닛
410 - 적외선 램프 420 - 석영 하우징
430 - 램프 하우징 440 - 하우징 덮개10 - Wafer carrier box 12 - FOUP SHELL
14 - FOUP DOOR 100 - Chamber unit
102a, 102b - Left and right wheel plates 104 - Support frame
110 - Chamber body 112 - Drain port
114 - exhaust port 120 - chamber door part
130 - Chamber door opening and closing part 131 - Chamber door cover
132 - Chamber door arm 133 - First rodless cylinder
134 - Chamber door bearing 135 - Chamber door bearing housing
136 - Chamber door arm spacer 138 - Chamber door cover fixing spacer
140 - Poop cell fixing part 142 - Poop cell bottom supporter
144 - Poop cell hold finger 146 - Poop cell guide pin
148 - Clamp 149a - Clamp lock cylinder
149b - Clamp unlocking cylinder 150 - Poop cover fixing part
152 - Cage 154 - Fixing screw
200 - Active cleaning unit 210 - Active arm nozzle
220 - second rodless cylinder 230 - motion shaft
240 - Active arm cover 250 - Silicone gasket
300 - Rotation unit 310 - Rotation axis
320 - Servo motor 400 - Drying unit
410 - Infrared lamp 420 - Quartz housing
430 - Lamp housing 440 - Housing cover
Claims (7)
상기 풉 셀과 풉 커버를 고정할 수 있는 좌우측 휠 플레이트를 포함하는 챔버유닛;
상기 챔버유닛의 내부로 세정액을 분사하여 풉 셀과 풉 커버를 세정할 수 있는 액티브 클리닝유닛;
상기 액티브 클리닝유닛에 의해 세정된 풉 셀과 풉 커버를 고속 회전시켜 원심력에 의해 탈수할 수 있도록 상기 풉 셀과 풉 커버가 고정되는 좌우측 휠 플레이트를 회전시킬 수 있게 결합되는 회전축과 상기 회전축을 회전시킬 수 있는 동력을 제공하는 서보모터를 포함하는 회전유닛; 및
상기 챔버유닛의 내부에 고열을 공급하여 풉 셀과 풉 커버를 포함하는 챔버유닛의 내부를 건조할 수 있는 건조유닛;을 포함하며,
상기 챔버유닛은:
지지프레임에 설치되며, 배수포트와 배기포트를 구비하는 원통 형상의 챔버몸체부;
상기 챔버몸체부에 개폐 가능하게 설치되는 챔버도어부;
상기 챔버도어부를 개폐시킬 수 있게 설치되는 챔버도어 개폐부;
상기 챔버몸체부의 내부에 설치되는 좌우측 휠 플레이트의 어느 일측에 마련되어 상기 챔버몸체부의 내부로 삽입되는 풉 셀이 안착 고정될 수 있는 풉 셀 고정부; 및
상기 풉 셀 고정부의 반대측으로 위치하는 좌우측 휠 플레이트의 다른 일측에 마련되어 상기 챔버몸체부의 내부로 삽입되는 풉 커버가 안착 고정될 수 있는 풉 커버 고정부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템.
In the wafer carrier box cleaning system for cleaning the FOUP SHELL and FOUP DOOR,
A chamber unit including left and right wheel plates capable of fixing the foop cell and the foop cover;
an active cleaning unit capable of cleaning the foop cell and foop cover by spraying a cleaning liquid into the interior of the chamber unit;
A rotary axis coupled to rotate the left and right wheel plates on which the foop cells and foop covers are fixed so that the foop cells and foop covers cleaned by the active cleaning unit can be rotated at high speed and dehydrated by centrifugal force, and the rotary shaft can be rotated. A rotation unit including a servo motor that provides power; and
It includes a drying unit that supplies high heat to the interior of the chamber unit to dry the interior of the chamber unit, including the foop cell and the foop cover,
The chamber unit:
A cylindrical chamber body portion installed on a support frame and having a drain port and an exhaust port;
A chamber door portion installed to be openable and closed on the chamber body;
A chamber door opening and closing unit installed to open and close the chamber door unit;
A FOOP cell fixing part provided on either side of the left and right wheel plates installed inside the chamber body and capable of seating and fixing the FOOP cell inserted into the chamber body. and
A wafer carrier box cleaning comprising: a foop cover fixing part provided on the other side of the left and right wheel plates located on the opposite side of the foop cell fixing part, on which the foop cover inserted into the chamber body can be seated and fixed; system.
상기 챔버유닛과 액티브 클리닝유닛, 회전유닛 및 건조유닛을 포함하는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템은, 2단 적층 구조로 설치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템,
According to paragraph 1,
The wafer carrier box cleaning system including the chamber unit, active cleaning unit, rotation unit, and drying unit is installed in a two-stage stacked structure,
상기 풉 셀 고정부는:
상기 챔버몸체부의 내부로 삽입되는 풉 셀의 하단부가 안착되도록 좌우측 휠 플레이트의 사이에 설치되는 풉 셀 하단 지지대;
상기 풉 셀 하단 지지대에 안착되는 풉 셀을 지지하도록 좌우측 휠 플레이트의 어느 일단부에 내측으로 돌출되게 설치되어 좌우측 휠 플레이트가 회전될 때 풉 셀이 튀어나오는 것을 방지하는 풉 셀 홀드 핑거;
상기 풉 셀 홀드 핑거에 지지되는 풉 셀이 상기 풉 셀 하단 지지대에 정위치로 안착될 수 있도록 상기 풉 셀 하단 지지대로부터 돌출되게 설치되는 풉 셀 가이드 핀;
상기 풉 셀 가이드 핀에 의해 정위치로 안착되는 풉 셀을 고정할 수 있는 클램프;
상기 클램프를 잠그는 클램프 잠금 실린더; 및
상기 클램프의 잠금을 해제하는 클램프 잠금 해제 실린더;를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템.
According to paragraph 1,
The pooch cell fixing part is:
a support bar for the bottom of the foop cell installed between the left and right wheel plates so that the lower end of the foop cell inserted into the chamber body portion is seated;
A pooper cell hold finger installed to protrude inward on one end of the left and right wheel plates to support the pooper cell seated on the bottom support of the pooper cell and prevent the pooper cell from popping out when the left and right wheel plates are rotated;
a FOOP cell guide pin installed to protrude from the FOOP cell lower support so that the FOOP cell supported by the FOOP cell hold finger can be seated in the correct position on the FOOP cell lower support;
A clamp capable of fixing the pooh cell seated in the correct position by the fooh cell guide pin;
a clamp lock cylinder that locks the clamp; and
A wafer carrier box cleaning system comprising a clamp unlocking cylinder that unlocks the clamp.
상기 풉 커버 고정부는:
상기 챔버몸체부의 내부로 삽입되는 풉 커버가 안착되도록 좌우측 휠 플레이트에 고정되는 풉 셀의 반대측으로 위치하도록 좌우측 휠 플레이트의 다른 일단부에 설치되는 케이지; 및
상기 케이지를 좌우측 휠 플레이트에 고정하기 위한 고정나사;를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템.
According to paragraph 1,
The pooch cover fixing part is:
A cage installed on the other end of the left and right wheel plates to be located on the opposite side of the foop cell fixed to the left and right wheel plates so that the foop cover inserted into the chamber body portion is seated; and
A wafer carrier box cleaning system comprising: fixing screws for fixing the cage to the left and right wheel plates.
상기 챔버도어 개폐부는:
상기 챔버도어부를 구성하는 챔버도어 커버;
상기 챔버도어 커버의 양단에 어느 일단이 고정되며, 다른 일단을 중심으로 소정 각도만큼 회동되게 설치되어 챔버도어를 개폐시킬 수 있는 챔버도어 암;
상기 챔버도어 암을 소정 각도 만큼 회동시킬 수 있는 동력을 제공하는 제1 로드리스 실린더;
상기 제1 로드리스 실린더에 의해 챔버도어 암이 소정 각도만큼 회전되도록 상기 챔버도어 암의 어느 일단부에 설치되는 챔버도어 베어링;
상기 챔버도어 베어링을 덮는 챔버도어 베어링 하우징;
상기 챔버도어 암과 챔버도어 베어링 하우징을 연결하는 챔버도어 암 스페이서; 및
상기 챔버도어 암과 챔버도어 커버를 연결하는 챔버도어 커버 고정 스페이서;를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템.
According to paragraph 1,
The chamber door opening and closing part:
A chamber door cover constituting the chamber door portion;
a chamber door arm that has one end fixed to both ends of the chamber door cover and is installed to rotate at a predetermined angle about the other end to open and close the chamber door;
a first rodless cylinder that provides power to rotate the chamber door arm by a predetermined angle;
a chamber door bearing installed on one end of the chamber door arm so that the chamber door arm is rotated by a predetermined angle by the first rodless cylinder;
A chamber door bearing housing covering the chamber door bearing;
A chamber door arm spacer connecting the chamber door arm and the chamber door bearing housing; and
A wafer carrier box cleaning system comprising a chamber door cover fixing spacer connecting the chamber door arm and the chamber door cover.
상기 액티브 클리닝유닛은:
상기 챔버몸체부의 내부로 물과 질소 또는 클린에어가 분사되도록 상기 챔버몸체부의 외주면에 개구를 형성한 후, 그 개구를 통해 상기 챔버몸체부의 내부로 왕복 이동되도록 설치되는 액티브 암 노즐;
상기 액티브 암 노즐을 왕복 이동시키기 위한 제2 로드리스 실린더;
상기 제2 로드리스 실린더의 동작을 상기 액티브 암 노즐로 전달하도록 설치되는 모션 샤프트;
상기 모션 샤프트와 제2 로드리스 실린더를 감싸게 설치되는 액티브 암 커버; 및
상기 액티브 암 커버와 챔버몸체부의 사이에 설치되는 실리콘 가스켓;을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템.
According to paragraph 1,
The active cleaning unit:
An active arm nozzle is installed to form an opening on the outer circumferential surface of the chamber body so that water, nitrogen, or clean air is sprayed into the chamber body, and then move back and forth into the inside of the chamber body through the opening;
a second rodless cylinder for reciprocating the active arm nozzle;
a motion shaft installed to transmit the motion of the second rodless cylinder to the active arm nozzle;
an active arm cover installed to surround the motion shaft and the second rodless cylinder; and
A wafer carrier box cleaning system comprising a silicon gasket installed between the active arm cover and the chamber body.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220062327A KR102593053B1 (en) | 2022-05-20 | 2022-05-20 | Semiconductor FOUP cleaning system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220062327A KR102593053B1 (en) | 2022-05-20 | 2022-05-20 | Semiconductor FOUP cleaning system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR102593053B1 true KR102593053B1 (en) | 2023-10-25 |
Family
ID=88515577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020220062327A KR102593053B1 (en) | 2022-05-20 | 2022-05-20 | Semiconductor FOUP cleaning system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102593053B1 (en) |
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| KR20210045673A (en) * | 2019-10-17 | 2021-04-27 | (주)에스티아이 | FOUP cleaning device |
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2022
- 2022-05-20 KR KR1020220062327A patent/KR102593053B1/en active IP Right Grant
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |