KR102590927B1 - Plasma surface treatment apparatus and method for plasma surface treatment using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마를 이용하여 대상체의 표면처리를 수행하는 플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법에 관한 것으로서, 특히, 대상체가 포장된 상태로 대상체의 표면처리를 수행함으로써, 시술 전에 손쉽게 표면을 개질시킬 수 있는 플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma surface treatment device that performs surface treatment of an object using plasma and a plasma surface treatment method using the same. In particular, the surface treatment of the object is performed while the object is packaged, so that the surface can be easily cleaned before the procedure. It relates to a plasma surface treatment device capable of reforming and a plasma surface treatment method using the same.

Description

플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법{PLASMA SURFACE TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA SURFACE TREATMENT USING THE SAME}Plasma surface treatment device and plasma surface treatment method using the same {PLASMA SURFACE TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA SURFACE TREATMENT USING THE SAME}

본 발명은 플라즈마를 이용하여 대상체의 표면처리를 수행하는 플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma surface treatment device that performs surface treatment of an object using plasma and a plasma surface treatment method using the same.

플라즈마 표면처리 장치는, 플라즈마 처리를 통해 대상체의 표면을 개질시킨다.A plasma surface treatment device modifies the surface of an object through plasma treatment.

플라즈마 처리를 통한 표면 개질 중 하나로써, 대상체의 표면을 소수성에서 친수성으로 개질시키는 것이 있다. 이러한, 친수성으로의 표면 개질은 임플란트와 같은 인공신체의 의료분야에서 널리 쓰인다.One of the surface modifications through plasma treatment is to modify the surface of an object from hydrophobic to hydrophilic. This hydrophilic surface modification is widely used in the medical field for artificial bodies such as implants.

상세하게 설명하면, 티타늄 또는 티타늄 합금 재질로 이루어진 픽스쳐 등의 임플란트의 경우, 티타늄 표면이 소수성을 가진다. 따라서, 소수성의 수분을 밀어내는 성질로 인해, 임플란트를 식립 후, 혈액 및 단백질을 포함하는 골조직이 융합되는 것을 더디게 하거나, 인체의 면역반응에 의해 염증을 유발하는 문제점이 있다. To explain in detail, in the case of implants such as fixtures made of titanium or titanium alloy, the titanium surface has hydrophobicity. Therefore, due to the hydrophobic nature of repelling moisture, there is a problem of slowing down the fusion of bone tissue containing blood and protein after implant placement or causing inflammation due to the body's immune response.

위와 같은 문제점을 해결하기 위해, 플라즈마 표면처리 장치를 통해 대상체인 임플란트의 표면을 친수성으로 표면 개질시키게 된다.In order to solve the above problems, the surface of the implant, which is the target object, is surface modified to be hydrophilic through a plasma surface treatment device.

종래에는, 대상체인 임플란트의 표면을 개질시키기 위해, 포장재로부터 임플란트를 꺼낸 후 플라즈마 표면처리를 하였다. Conventionally, in order to modify the surface of an implant as an object, plasma surface treatment was performed after the implant was taken out from the packaging material.

그러나, 위와 같이, 표면 개질을 위해 포장재로부터 꺼내어진 임플란트의 표면은 공기중에 노출되어 산화층이 발생하고, 탄화수소 화합물과 같은 오염원이 층작되는 문제점이 있다.However, as described above, there is a problem in that the surface of an implant taken out of the packaging for surface modification is exposed to the air, where an oxidation layer is generated and contaminants such as hydrocarbon compounds accumulate.

또한, 포장재로부터 꺼내어진 임플란트를 표면 개질한 뒤 시술 전까지 보관하는 과정에서 표면에너지가 안정화되어 소수성으로 다시 변하게 된다. 따라서, 임플란트의 표면이 산화되기 전에 시술이 이루어져야 하므로, 임플란트의 보관기관이 짧다는 문제점이 있다.In addition, during the process of surface modification of the implant taken out of the packaging material and storage before the procedure, the surface energy is stabilized and becomes hydrophobic again. Therefore, since the procedure must be performed before the surface of the implant is oxidized, there is a problem that the storage period of the implant is short.

또한, 종래와 같이, 임플란트의 표면처리 후, 포장을 하는 경우 이를 위한 추가적인 비용이 발생하고 많은 시간이 소요되는 문제점이 있다.In addition, as in the past, when packaging an implant after surface treatment, there is a problem in that additional costs are incurred and a lot of time is required for this.

한국등록특허 제10-1439344호Korean Patent No. 10-1439344 한국등록특허 제10-1693335Korean Patent No. 10-1693335

본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 대상체가 포장된 상태로 대상체의 표면처리를 수행함으로써, 시술 전에 손쉽게 표면을 개질시킬 수 있는 플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention was devised to solve the above-mentioned problem, and provides a plasma surface treatment device that can easily modify the surface before the procedure by performing surface treatment of the object in a packaged state, and a plasma surface treatment method using the same. The purpose is to

본 발명의 일 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 플라즈마를 이용하여 대상체의 표면처리를 수행하는 플라즈마 표면처리 장치에 있어서, 제1, 2전극; 및 상기 제1, 2전극 사이에 위치하고, 그 내부 공간에 상기 대상체가 수용되며, 유전체로 구성되는 챔버;를 포함하고, 상기 제1, 2전극의 전압차에 의해 상기 내부 공간에 플라즈마를 형성시킨다.A plasma surface treatment apparatus according to one aspect of the present invention performs surface treatment of an object using plasma, comprising: first and second electrodes; and a chamber located between the first and second electrodes, accommodating the object in the inner space, and made of a dielectric; forming plasma in the inner space by a voltage difference between the first and second electrodes. .

또한, 상기 내부 공간의 공기를 배기하는 진공펌프;를 더 포함한다.In addition, it further includes a vacuum pump for exhausting air from the internal space.

또한, 상기 챔버의 상부에 설치되며, 상기 내부 공간을 개폐하고, 상기 제2전극이 구비된 개폐부;를 더 포함한다.Additionally, it further includes an opening/closing unit installed at an upper part of the chamber, opening/closing the internal space, and having the second electrode.

또한, 상기 개폐부는, 베이스에 연결된 프레임에 설치되는 회동부; 상기 회동부에 의해 회동 가능하게 설치되며, 그 하부에 상기 제2전극이 구비되는 도어부재; 및 상기 도어부재 및 상기 제2전극을 감싸되, 상기 제2전극의 하면을 제외한 면을 감싸는 커버;를 포함하고, 상기 베이스, 상기 프레임, 상기 도어부재 및 상기 회동부는 금속 재질로 이루어지고, 상기 커버는 절연 재질로 이루어진다.In addition, the opening and closing part includes a rotating part installed on a frame connected to the base; a door member rotatably installed by the rotating unit and having the second electrode provided at a lower portion of the door member; and a cover that surrounds the door member and the second electrode, but covers a surface excluding the bottom of the second electrode, wherein the base, the frame, the door member, and the rotating portion are made of a metal material, and The cover is made of insulating material.

또한, 상기 제1전극은 상기 내부 공간의 하부에 위치하도록 상기 챔버의 하부에 구비되고, 상기 제1전극의 하부에 구비된 전원부가 상기 제1전극에 전기를 인가한다.Additionally, the first electrode is provided at the lower part of the chamber so as to be located at the lower part of the internal space, and a power supply unit provided at the lower part of the first electrode applies electricity to the first electrode.

또한, 상기 챔버의 상부에는, 상기 챔버와 상기 개폐부를 실링하는 실링부재가 구비되되, 상기 실링부재의 상면은 상기 개폐부의 하면과 선 접촉한다.Additionally, a sealing member is provided at the top of the chamber to seal the chamber and the opening and closing portion, and the upper surface of the sealing member is in line contact with the lower surface of the opening and closing portion.

또한, 상기 내부 공간에는, 상기 대상체의 포장재의 돌출부가 삽입되는 홈이 구비된다.In addition, the internal space is provided with a groove into which the protrusion of the packaging material of the object is inserted.

또한, 상기 제1전극은 상기 내부 공간의 하부에 위치하도록 상기 챔버의 하부에 구비되며, 상기 홈의 바닥부에만 상기 제1전극이 위치하도록 상기 제1전극의 면적은 상기 홈의 바닥부 면적과 동일하거나 작다.In addition, the first electrode is provided at the bottom of the chamber to be located at the bottom of the internal space, and the area of the first electrode is equal to the area of the bottom of the groove so that the first electrode is located only at the bottom of the groove. Same or smaller.

또한, 상기 제1전극은 상기 내부 공간의 하부에 위치하도록 상기 챔버의 하부에 구비되되, 상기 내부 공간의 바닥면에 상기 제1전극이 노출되지 않도록 상기 제1전극은 상기 내부 공간의 바닥면의 내부에 매립되어 있다.In addition, the first electrode is provided at the bottom of the chamber so as to be located at the bottom of the interior space, and the first electrode is located on the bottom of the interior space so that the first electrode is not exposed to the bottom of the interior space. It is buried inside.

본 발명의 다른 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 그 내부 공간에 대상체가 수용되고, 유전체로 구성된 챔버; 및 상기 내부 공간을 개폐하도록 상기 챔버에 설치되고, 그 내부에 전극이 구비된 개폐부;를 포함하고, 상기 전극에 전기를 인가하거나 접지하여 상기 내부 공간에 플라즈마를 형성시켜 상기 대상체의 표면처리를 수행한다.A plasma surface treatment apparatus according to another feature of the present invention includes a chamber configured to accommodate an object in its interior space and made of a dielectric; and an opening and closing unit installed in the chamber to open and close the internal space, and having an electrode therein, and performing surface treatment of the object by applying electricity to or grounding the electrode to form plasma in the internal space. do.

본 발명의 일 특징에 따른 플라즈마 표면처리 방법은, 대상체를 유전체로 둘러 쌓인 챔버의 내부 공간에 수납하는 단계; 진공펌프를 통해, 상기 내부 공간의 공기를 배기하는 단계; 및 상기 챔버에 인접한 전극의 전압차를 발생하여, 상기 내부 공간에 플라즈마를 발생시키는 단계;를 포함한다.A plasma surface treatment method according to an aspect of the present invention includes storing an object in an inner space of a chamber surrounded by a dielectric; Exhausting air from the interior space through a vacuum pump; and generating plasma in the internal space by generating a voltage difference between electrodes adjacent to the chamber.

또한, 상기 수납하는 단계는, 상기 대상체를 포장재로 포장된 상태로 상기 내부 공간에 수납하는 단계이다.Additionally, the storing step is a step of storing the object in the internal space while being packaged with packaging material.

또한, 상기 배기하는 단계는, 상기 챔버의 내부가 플라즈마 처리를 위해 저압상태가 될 때 상기 포장재의 내부도 함께 저압상태가 되어, 상기 포장재를 개봉하지 않고 상기 포장재로 포장된 상태에서 상기 대상체의 표면을 플라즈마 처리한다.In addition, in the exhausting step, when the inside of the chamber is in a low pressure state for plasma treatment, the inside of the packaging material is also in a low pressure state, so that the surface of the object in a state packed with the packaging material is not opened. is plasma treated.

본 발명의 또 다른 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 수용 공간이 마련된 제1유전체 블록; 상기 제1유전체 블록의 개방 단부를 밀폐하거나 개방하는 제2유전체 블록; 상기 제1유전체 블록에 매립되는 제1전극; 및 상기 제2유전체 블록에 매립되는 제2전극;을 포함한다.A plasma surface treatment device according to another feature of the present invention includes a first dielectric block provided with a receiving space; a second dielectric block sealing or opening an open end of the first dielectric block; a first electrode embedded in the first dielectric block; and a second electrode embedded in the second dielectric block.

본 발명의 또 다른 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 대상체의 출입이 가능하도록 도어부재를 구비하는 유전체 재질의 챔버; 및 상기 대상체와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치되는 제1전극; 상기 제1전극과 대향되게 설치되며 상기 대상체와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치되는 제2전극;을 포함하고, 상기 제2전극은 상기 도어부재에 구비된다.A plasma surface treatment apparatus according to another feature of the present invention includes a chamber made of a dielectric material and provided with a door member to allow entry and exit of an object; and a first electrode disposed such that a dielectric is provided between the object and the object; and a second electrode installed to face the first electrode and disposed to have a dielectric between the object and the object, wherein the second electrode is provided on the door member.

본 발명의 또 다른 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 수용 공간이 마련된 유전체 재질의 챔버; 및 상기 수용 공간 외측에 배치되어 상기 수용 공간의 내부에 전기장을 생성하는 2개의 전극;을 포함하고, 대상체가 포장된 상태로 상기 수용 공간에 수용되어 상기 대상체의 적어도 일부 표면은 상기 전기장에 의해 상기 수용 공간 내부에 생성된 멸균 플라즈마로 처리된다.A plasma surface treatment device according to another feature of the present invention includes a chamber made of a dielectric material and provided with a receiving space; and two electrodes disposed outside the receiving space and generating an electric field inside the receiving space, wherein the object is received in the receiving space in a packaged state and at least a portion of the surface of the object is exposed to the electric field by the electric field. It is treated with sterilizing plasma generated inside the receiving space.

또한, 상기 수용 공간에 수용된 포장재의 투과성 막과 상기 챔버의 내벽 사이가 서로 이격되도록 상기 챔버 내부에 형성된 배기 공간; 및 상기 배기 공간과 연통되도록 상기 챔버에 형성된 배기홀을 더 포함한다.In addition, an exhaust space formed inside the chamber such that the permeable membrane of the packaging material accommodated in the receiving space and the inner wall of the chamber are spaced apart from each other; and an exhaust hole formed in the chamber to communicate with the exhaust space.

이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.According to the plasma surface treatment device and the plasma surface treatment method using the same of the present invention as discussed above, the following effects are achieved.

임플란트와 임플란트 포장재를 포함하는 대상체 자체를 챔버의 내부 공간에 수용시킨 채로 플라즈마 처리를 행하게 됨으로써, 시술전에 수술장에서 임플란트의 표면처리를 행할 때까지 임플란트의 일반 공기노출을 최소화할 수 있다. 따라서, 임플란트의 공기노출에 따라 임플란트의 표면이 소수성을 가지게 되는 종래의 문제점을 해결할 수 있다.By performing plasma treatment while the object itself, including the implant and the implant packaging material, is accommodated in the internal space of the chamber, the exposure of the implant to general air can be minimized until surface treatment of the implant is performed in the operating room before the procedure. Therefore, the conventional problem of the surface of the implant becoming hydrophobic due to exposure of the implant to air can be solved.

포장재의 내부 공기는 투과성 막에 의해 투과되어 포장재의 내부가 진공상태가 될 수 있으므로, 포장재 내부에 플라즈마가 용이하게 생성되어 인공 대용물의 표면처리가 효과적으로 이루어질 수 있다.Since the air inside the packaging material can be transmitted through the permeable membrane and the inside of the packaging material can be in a vacuum state, plasma can be easily generated inside the packaging material, allowing effective surface treatment of the artificial substitute.

투과성 막에 의해 세균 등 이물질이 포장재 내부로 들어가지 못해, 인공 대용물의 멸균 상태가 유지될 수 있다.The permeable membrane prevents foreign substances such as bacteria from entering the packaging material, so the sterile state of the artificial substitute can be maintained.

포장재의 돌출부 형상에 맞게 내부 공간에 홈이 구비됨으로써, 대상체가 고정된 채로 수용되고, 하부 전극의 형상을 임플란트 및 포장재의 돌출부의 형상과 유사하게 형성시켜, 원하는 영역에 표면처리를 집중적으로 수행할 수 있다.By providing a groove in the internal space to match the shape of the protrusion of the packaging material, the object is received while fixed, and the shape of the lower electrode is formed similar to the shape of the protrusion of the implant and packaging material, allowing surface treatment to be concentrated on the desired area. You can.

제2전극 및 도어부재의 무게로 인해, 실링부재를 통한 개폐부의 실링이 더욱 효과적으로 이루어질 수 있다.Due to the weight of the second electrode and the door member, sealing of the opening and closing portion through the sealing member can be performed more effectively.

제1전극의 하부에 전원부가 구비되고, 전원부가 제1전극에 전기를 인가하며, 개폐부가 절연성 커버에 의해 절연되므로, 사용자가 개폐부를 파지하여도, 감전되지 않아 높은 안전성이 보장된다.A power supply unit is provided below the first electrode, the power supply unit applies electricity to the first electrode, and the opening and closing unit is insulated by an insulating cover, so even when the user holds the opening and closing unit, there is no electric shock, ensuring high safety.

임플란트 포장시 플라즈마 표면처리를 수행하지 않고, 시술 전에 표면처리를 수행함으로써, 포장시 소요되는 시간을 단축시킬 수 있다.By performing surface treatment before the procedure rather than performing plasma surface treatment when packaging an implant, the time required for packaging can be shortened.

도 1은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 사시도.
도 2는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 개폐부를 개방한 것을 도시한 사시도.
도 3은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치에 수용되는 대상체를 꺼낸 것을 도시한 사시도.
도 4는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 내부를 도시한 사시도.
도 5는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버와 챔버에 수용되는 대상체를 도시한 사시도.
도 6은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버 및 개폐부의 단면을 도시한 단면도.
도 7은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 개폐부를 도시한 사시도.
도 8은 도 7의 개폐부의 분해 사시도.
도 9는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버의 평면도.
도 10는 도 9의 챔버의 저면을 도시한 사시도.
도 11은 다른 형상의 홈을 갖는 플라즈마 표면처리 장치의 챔버의 사시도.
도 12는 본 발명의 플라즈마 표면처리 방법의 개략도.
1 is a perspective view of the plasma surface treatment device of the present invention.
Figure 2 is a perspective view showing the opening and closing portion of the plasma surface treatment device of the present invention opened.
Figure 3 is a perspective view showing an object accommodated in the plasma surface treatment apparatus of the present invention taken out.
Figure 4 is a perspective view showing the interior of the plasma surface treatment device of the present invention.
Figure 5 is a perspective view showing a chamber of the plasma surface treatment apparatus of the present invention and an object accommodated in the chamber.
Figure 6 is a cross-sectional view showing a cross section of the chamber and the opening and closing portion of the plasma surface treatment device of the present invention.
Figure 7 is a perspective view showing the opening and closing portion of the plasma surface treatment device of the present invention.
Figure 8 is an exploded perspective view of the opening and closing part of Figure 7.
Figure 9 is a plan view of the chamber of the plasma surface treatment device of the present invention.
Fig. 10 is a perspective view showing the bottom of the chamber of Fig. 9;
Figure 11 is a perspective view of a chamber of a plasma surface treatment device having grooves of different shapes.
12 is a schematic diagram of the plasma surface treatment method of the present invention.

본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.Specific structural or functional descriptions of the embodiments according to the concept of the present invention disclosed in this specification are merely illustrative for the purpose of explaining the embodiments according to the concept of the present invention, and the embodiments according to the concept of the present invention are It may be implemented in various forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.Since the embodiments according to the concept of the present invention can make various changes and have various forms, the embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in this specification. However, this is not intended to limit the embodiments according to the concept of the present invention to specific disclosed forms, and includes all changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention.

본 명세서에서 사용한 기술적 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Technical terms used in this specification are only used to describe specific embodiments and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as “comprise” or “comprise” are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in this specification, but are intended to indicate the presence of one or more other It should be understood that this does not exclude in advance the presence or addition of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

이하, 도 1 내지 도 10을 참조하여 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10)에 대해 설명한다.Hereinafter, the plasma surface treatment device 10 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 10.

도 1은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 사시도이고, 도 2는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 개폐부를 개방한 것을 도시한 사시도이고, 도 3은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치에 수용되는 대상체를 꺼낸 것을 도시한 사시도이고, 도 4는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 내부를 도시한 사시도이고, 도 5는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버와 챔버에 수용되는 대상체를 도시한 사시도이고, 도 6은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버 및 개폐부의 단면을 도시한 단면도이고, 도 7은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 개폐부를 도시한 사시도이고, 도 8은 도 7의 개폐부의 분해 사시도이고, 도 9는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버의 평면도이고, 도 10는 도 9의 챔버의 저면을 도시한 사시도이고, 도 11은 다른 형상의 홈을 갖는 플라즈마 표면처리 장치의 챔버의 사시도이다.Figure 1 is a perspective view of the plasma surface treatment device of the present invention, Figure 2 is a perspective view showing the opening and closing portion of the plasma surface treatment device of the present invention opened, and Figure 3 is an object accommodated in the plasma surface treatment device of the present invention. It is a perspective view showing what is taken out, Figure 4 is a perspective view showing the inside of the plasma surface treatment apparatus of the present invention, Figure 5 is a perspective view showing the chamber of the plasma surface treatment apparatus of the present invention and the object accommodated in the chamber, Figure 6 is a cross-sectional view showing the chamber and the opening and closing part of the plasma surface treatment apparatus of the present invention, Figure 7 is a perspective view showing the opening and closing part of the plasma surface treatment apparatus of the present invention, and Figure 8 is an exploded perspective view of the opening and closing part of Figure 7. , FIG. 9 is a plan view of the chamber of the plasma surface treatment device of the present invention, FIG. 10 is a perspective view showing the bottom of the chamber of FIG. 9, and FIG. 11 is a perspective view of the chamber of the plasma surface treatment device having a groove of another shape. .

도 1 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10)는, 베이스(110)와, 프레임(120)과, 제1전극(230)과, 제2전극(350)과, 챔버(200)와, 진공펌프(400)와, 개폐부(300)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIGS. 1 to 10, the plasma surface treatment device 10 of the present invention includes a base 110, a frame 120, a first electrode 230, a second electrode 350, and , it may be configured to include a chamber 200, a vacuum pump 400, and an opening/closing unit 300.

프레임(120)은 베이스(110)의 상면에 설치된다. 프레임(120)의 상부에는 챔버(200)가 설치된다. 프레임(120)에는 케이스(130)가 설치되며, 케이스(130)는 플라즈마 표면처리 장치(10)의 전방측 면, 후방측 면, 좌측 면 및 우측 면을 이루게 된다.The frame 120 is installed on the upper surface of the base 110. A chamber 200 is installed on the upper part of the frame 120. A case 130 is installed on the frame 120, and the case 130 forms the front, rear, left, and right sides of the plasma surface treatment device 10.

챔버(200)의 내부에는 내부 공간(210)이 형성된다. 내부 공간(210)에는 대상체(800)가 수용된다. An internal space 210 is formed inside the chamber 200. An object 800 is accommodated in the internal space 210.

챔버(200)의 내부 공간(210)은 대상체(800)가 수용되는 수용 공간이다. 이처럼, 챔버(200)에는 대상체(800)가 수용되는 수용 공간이 마련된다.The internal space 210 of the chamber 200 is a receiving space in which the object 800 is accommodated. In this way, a receiving space in which the object 800 is accommodated is provided in the chamber 200.

대상체(800)는 플라즈마 표면처리가 행해지는 물건으로서, 본 발명에서는 대상체(800)는 인공 대용물(810)과 인공 대용물(810)을 포장하는 포장재(830)를 포함하여 구성될 수 있다.The object 800 is an object on which plasma surface treatment is performed. In the present invention, the object 800 may include an artificial substitute 810 and a packaging material 830 for packaging the artificial substitute 810.

인공 대용물(810)은, 생체를 구성하는 적어도 일부를 대체하기 위하여 생체에 이식되는 부품으로서, 인공 관절(인공 고관절, 인공 슬관절), 임플란트 등을 포함하여 구성될 수 있으며, 포장재(830)에 의해 포장된다.The artificial substitute 810 is a part that is implanted into a living body to replace at least a part of the living body, and may include an artificial joint (artificial hip joint, artificial knee joint), an implant, etc., and is included in the packaging material 830. is packaged by

인공 대용물(810)은 치과용 임플란트 픽스쳐, 치과용 임플란트 어버트먼트, 치과용 임플란트 크라운일 수 있다.The artificial substitute 810 may be a dental implant fixture, a dental implant abutment, or a dental implant crown.

인공 대용물(810)은 후술할 투과성 막(850)이 구비된 포장재(830)에 수납되어, 챔버(200)에 수용된다. 이 경우, 챔버(200)는 복수의 포장재(830)가 수납되도록 구획되어 복수의 수용 공간(또는 복수의 내부 공간(210))이 마련될 수 있다.The artificial substitute 810 is stored in a packaging material 830 equipped with a permeable membrane 850, which will be described later, and stored in the chamber 200. In this case, the chamber 200 may be divided to accommodate a plurality of packaging materials 830 to provide a plurality of accommodation spaces (or a plurality of internal spaces 210).

포장재(830)에는 투과성 막(850)이 구비될 수 있다. The packaging material 830 may be provided with a permeable membrane 850.

투과성 막(850)은 물, 세균 및 이물질 등은 투과시키지 않고 공기는 투과시키는 미세 기공을 갖는 재질로 구성되어 공기만을 선택적으로 투과시킨다.The permeable membrane 850 is made of a material with micropores that allow air to pass through without allowing water, bacteria, and foreign substances to pass through, and thus selectively allows only air to pass through.

투과성 막(850)은 섬유 구조가 고열 및 고압 환경에서 방사되어 결합됨으로써, 열가소성 수지가 될 수 있다. 따라서, 투과성 막(850)은 액체가 스며들지 못하는 고밀도, 반고형 상태가 될 수 있다. 또한, 투과성 막(850)은 바인더 없이 결합되어 미세한 구멍을 갖을 수 있으며, 수증기는 투과성 막(850)에 스며드나, 물이나 다른 액체는 통과하지 못한다. 따라서, 투과성 막(850)은 높은 방수성과 동시에 높은 통기성을 갖을 수 있다. The permeable membrane 850 can be made of a thermoplastic resin by combining fiber structures that are spun in a high-temperature and high-pressure environment. Accordingly, the permeable membrane 850 may be in a high-density, semi-solid state in which liquid cannot permeate. Additionally, the permeable membrane 850 may be bonded without a binder and have fine pores, and water vapor may permeate into the permeable membrane 850, but water or other liquids may not pass through. Accordingly, the permeable membrane 850 can have high waterproofness and high breathability at the same time.

투과성 막(850)은 장섬유의 연속 구조를 갖을 수 있으며, 이를 통해, 자체 미생물 장벽 기능을 갖게 된다. 따라서, 석면, 곰팡이, 섬유 유리, 납 같은 이물질이 통과하지 못한다.The permeable membrane 850 may have a continuous structure of long fibers, through which it has its own microbial barrier function. Therefore, foreign substances such as asbestos, mold, fiberglass, and lead cannot pass through.

위와 같이, 포장재(830)에 의해 인공 대용물(810)이 포장되면, 투과성 막(850)으로 인해, 인공 대용물(810) 내부로, 액체 및 이물질은 통과하지 못하나, 공기는 통과할 수 있다. 즉, 포장재(830)는 높은 방수성 높은 통기성 및 이물질 차단 기능을 갖음으로써, 물질을 선택적으로 투과시킬 수 있는 것이다.As above, when the artificial substitute 810 is packaged by the packaging material 830, liquid and foreign substances cannot pass through the artificial substitute 810 due to the permeable membrane 850, but air can pass through. . In other words, the packaging material 830 has high waterproofing, high breathability, and foreign matter blocking functions, allowing substances to selectively pass through.

포장재(830)는 인공 대용물(810)의 외형과 대응되는 형상을 갖는 돌출부(831)가 형성될 수 있다. 인공 대용물(810)은 돌출부(831) 내부에 수용되어 투과성 막(850)에 의해 포장된다.The packaging material 830 may be formed with a protrusion 831 having a shape corresponding to the external shape of the artificial substitute 810. Artificial substitute 810 is received within protrusion 831 and wrapped by permeable membrane 850.

돌출부(831)는 PVC 등과 같은 합성수지재로 이루어질 수 있으며, 인공 대용물(810)에 충격이 가해지는 것을 방지할 수 있다.The protrusion 831 may be made of a synthetic resin material such as PVC, and can prevent impact from being applied to the artificial substitute 810.

챔버(200)의 내부 공간(210)에는 대상체(800)의 포장재(830)의 돌출부(831)가 삽입되는 홈(211)이 구비된다. The internal space 210 of the chamber 200 is provided with a groove 211 into which the protrusion 831 of the packaging material 830 of the object 800 is inserted.

돌출부(831)가 홈(211)에 용이하게 안착되기 위해, 홈(211)의 면적은 돌출부(831)의 면적보다 크거나 같게 형성될 수 있다. 또한, 홈(211)의 내부 형상은 돌출부(831)의 외부 형상과 대응되는 형상으로 구성될 수 있다. 위와 같이, 돌출부(831)의 외부 형상과 대응되는 형상으로 홈(211)이 구비됨에 따라 포장재(830)의 돌출부(831)는 홈(211)에 삽입된 채로, 대상체(800)가 챔버(200)의 내부 공간(210)에 안착될 수 있다. 나아가, 홈(211)의 형상이 돌출부(831)의 형상과 실질적으로 동일할 경우, 돌출부(831)가 홈(211)에 삽입 시, 대상체(800)는 내부 공간(210)에 흔들림이 최소화되어 고정된 채로 수용될 수 있다.In order for the protrusion 831 to be easily seated in the groove 211, the area of the groove 211 may be formed to be larger than or equal to the area of the protrusion 831. Additionally, the internal shape of the groove 211 may be configured to correspond to the external shape of the protrusion 831. As above, since the groove 211 is provided in a shape corresponding to the external shape of the protrusion 831, the protrusion 831 of the packaging material 830 is inserted into the groove 211 and the object 800 is inserted into the chamber 200. ) can be seated in the internal space 210 of. Furthermore, when the shape of the groove 211 is substantially the same as the shape of the protrusion 831, when the protrusion 831 is inserted into the groove 211, the object 800 has minimal shaking in the internal space 210. It can be accommodated fixed.

챔버(200)의 하부에는 제1전극(230)이 구비된다. 제1전극(230)은 내부 공간(210)의 하부에 위치하도록 챔버(200)의 하부에 구비된다.A first electrode 230 is provided at the bottom of the chamber 200. The first electrode 230 is provided at the lower part of the chamber 200 so as to be located at the lower part of the internal space 210.

챔버(200)의 상부에는 내부 공간(210)을 개폐시키는 개폐부(300)가 설치된다. 제2전극(350)은 개폐부(300)에 구비된다. An opening and closing part 300 is installed at the top of the chamber 200 to open and close the internal space 210. The second electrode 350 is provided in the opening and closing part 300.

따라서, 챔버(200)는 제1전극(230)과 제2전극(350) 사이에 위치한다. Accordingly, the chamber 200 is located between the first electrode 230 and the second electrode 350.

챔버(200)는 유전체 재질로 구성된다. 여기서의 유전체 재질은 유리(Glass), 석영(Quartz), 세라믹(알루미나), 폴리머 계열(폴리이미드, 폴리프로필렌 등) 등을 포함할 수 있다. 폴리머 계열은 유리(Glass), 석영(Quartz), 세라믹(알루미나)등과 같은 재질에 비해 상대적으로 절연파괴에 취약하여 유전 상수 또한 상대적으로 낮고 플라즈마가 발생함으로 인해 챔버의 표면이 산화되어 손상될 수 있는 단점이 있으나 폴리머 계열이 특정 볼륨감 있는 챔버 형상을 제작하는 것이 용이하다는 점에서 본 실시예에서는 보다 바람직하다 할 것이다. Chamber 200 is made of dielectric material. Here, the dielectric material may include glass, quartz, ceramic (alumina), polymer series (polyimide, polypropylene, etc.). Polymers are relatively vulnerable to insulation breakdown compared to materials such as glass, quartz, and ceramics (alumina), so their dielectric constant is relatively low and the surface of the chamber can be oxidized and damaged due to the generation of plasma. Although there are disadvantages, the polymer series is more preferable in this embodiment in that it is easier to manufacture a specific voluminous chamber shape.

전원부는 챔버(200)의 하부에 구비되고, 보다 바람직하게는 제1전극(230)의 하부에 구비되어 제1전극(230)에 연결된다. The power supply unit is provided at the bottom of the chamber 200, and more preferably is provided at the bottom of the first electrode 230 and connected to the first electrode 230.

위와 같이, 제1전극(230)의 하부에 전원부가 구비되고, 전원부가 제1전극(230)에 전기를 인가하며, 개폐부(300)가 커버(370)에 의해 절연되므로, 사용자가 내부 공간(210)의 개폐를 위해 개폐부(300)를 착오로 파지하여도, 감전되지 않아 높은 안전성이 보장된다.As above, the power supply unit is provided below the first electrode 230, the power supply unit applies electricity to the first electrode 230, and the opening/closing unit 300 is insulated by the cover 370, so that the user can access the internal space ( Even if the opening/closing part 300 is held by mistake to open/close 210), there is no electric shock, ensuring high safety.

제1전극(230)이 챔버(200)의 하부에 구비되고, 제2전극(350)이 개폐부(300)에 구비되며, 제1전극(230) 및 제2전극(350) 사이에 구비되는 챔버(200)가 유전체로 구성되므로, 전원부가 제1전극(230)에 전기를 인가하게 되면, 제1전극(230)과 제2전극(350)의 전압차에 의해 내부 공간(210)에 플라즈마가 형성된다.The first electrode 230 is provided in the lower part of the chamber 200, the second electrode 350 is provided in the opening and closing part 300, and the chamber is provided between the first electrode 230 and the second electrode 350. Since (200) is composed of a dielectric, when the power supply unit applies electricity to the first electrode 230, plasma is generated in the internal space 210 due to the voltage difference between the first electrode 230 and the second electrode 350. is formed

제1전극(230)은 홈(211)의 바닥부 위치에 표면 전극의 형태로 구비된다.The first electrode 230 is provided in the form of a surface electrode at the bottom of the groove 211.

플라즈마를 통한 인공 대용물(810)의 표면처리는 인공 대용물(810)의 적어도 일부 영역에 필수적으로 수행되어야 한다. Surface treatment of the artificial substitute 810 through plasma must necessarily be performed on at least some areas of the artificial substitute 810.

제1전극(230)의 형상은 표면처리가 필요한 일부 영역에 대응되게 형성된다. 다만, 표면처리가 필요한 일부 영역에 대응되게 제1전극(230)을 형성할 경우에는, 표면처리 하고자 하는 인공 대용물(810)의 형상이 달라지게 되면, 제1전극(230)의 형상 또한 달라져야 하므로, 호환성이 떨어지는 문제점이 있다. 따라서, 포장재(830)의 돌출부(831) 형상이 인공 대용물(810)의 다양한 형상에 대응될 수 있는 형상으로 제작되고, 홈(211)의 형상 또한 이러한 돌출부(831)의 형상과 대응되게 형성되는 구성에 있어서, 제1전극(230)의 형상은 홈(211)의 바닥면의 형상에 대응되게 형성되는 것이 바람직하다. 이를 통해, 인공 대용물(810)의 형상이 다양 해지거나 표면처리가 필요한 부분이 어느 한 부분으로 특정되지 않더라도 인공 대용물(819)의 표면처리가 가능하게 된다.The shape of the first electrode 230 is formed to correspond to a partial area requiring surface treatment. However, when forming the first electrode 230 to correspond to a partial area requiring surface treatment, if the shape of the artificial substitute 810 to be surface treated changes, the shape of the first electrode 230 must also change. Therefore, there is a problem of poor compatibility. Therefore, the shape of the protrusion 831 of the packaging material 830 is manufactured into a shape that can correspond to various shapes of the artificial substitute 810, and the shape of the groove 211 is also formed to correspond to the shape of the protrusion 831. In this configuration, the shape of the first electrode 230 is preferably formed to correspond to the shape of the bottom surface of the groove 211. Through this, surface treatment of the artificial substitute 819 is possible even if the shape of the artificial substitute 810 is varied or the part requiring surface treatment is not specified as a single part.

다양한 형상의 인공 대용물(810)이 포장재(830)에 의해 용이하게 포장되도록 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적은 인공 대용물(810)의 수평 면적보다 실질적으로 큰 것이 바람직하고, 돌출부(831)가 홈(211)에 용이하게 삽입되도록 홈(211)의 바닥부의 수평 면적은 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적보다 실질적으로 큰 것이 바람직하며, 제1전극(230)의 수평 면적은 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적보다 실질적으로 크고, 홈(211)의 바닥부의 수평 면적과 실질적으로 동일하거나 작은 것이 바람직하다.It is preferable that the horizontal area of the bottom of the protrusion 831 is substantially larger than the horizontal area of the artificial substitute 810 so that the artificial substitute 810 of various shapes can be easily packaged by the packaging material 830, and the protrusion 831 ) is preferably inserted into the groove 211, the horizontal area of the bottom of the groove 211 is preferably substantially larger than the horizontal area of the bottom of the protrusion 831, and the horizontal area of the first electrode 230 is greater than the horizontal area of the protrusion 831. It is preferable that it is substantially larger than the horizontal area of the bottom of the groove 831 and is substantially equal to or smaller than the horizontal area of the bottom of the groove 211.

홈(211)의 바닥부의 수평 면적, 제1전극(230)의 수평면적, 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적 및 인공 대용물(810)의 수평 면적은 '홈(211)의 바닥부의 수평 면적 ≥ 제1전극(230)의 수평면적 > 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적 > 인공 대용물(810)의 수평 면적' 관계를 만족하는 것이 바람직하다.The horizontal area of the bottom of the groove 211, the horizontal area of the first electrode 230, the horizontal area of the bottom of the protrusion 831, and the horizontal area of the artificial substitute 810 are 'the horizontal area of the bottom of the groove 211. It is desirable to satisfy the following relationship: ≥ horizontal area of the first electrode 230 > horizontal area of the bottom of the protrusion 831 > horizontal area of the artificial substitute 810.

챔버(200)는 홈(211)이 구비된 영역이 교체 가능하게 구비되는 것이 바람직하다. 이는, 플라즈마 표면처리를 반복적으로 수행함에 따라, 유전체 재질의 챔버(200)의 표면은 산화되어 손상될 수 있다. 따라서 챔버(200)의 적어도 일부를 분리 가능하게 결합하는 구성을 채택하여 산화되어 손상된 일부분을 교체함으로써 유지보수가 쉽게 달성될 수 있도록 할 수 있다. It is preferable that the chamber 200 has an area where the groove 211 is replaceable. As plasma surface treatment is repeatedly performed, the surface of the chamber 200 made of a dielectric material may be oxidized and damaged. Accordingly, a configuration in which at least part of the chamber 200 is detachably coupled can be adopted so that maintenance can be easily achieved by replacing the oxidized and damaged part.

이상에서 설명한 챔버(200)의 형상과는 달리, 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10)는, 도 11에 도시된 바와 같이, 다른 형상의 홈(211')을 갖는 챔버(200')를 구비할 수 있다.Unlike the shape of the chamber 200 described above, the plasma surface treatment device 10 of the present invention is provided with a chamber 200' having a groove 211' of a different shape, as shown in FIG. 11. can do.

이 경우, 챔버(200')의 홈(211')은 복수개의 포장재(830)를 한꺼번에 수용하는 것이 가능하고, 다양한 형상의 포장재(830)에 높은 호환성을 갖도록 어느 한 포장재의 돌출 형상에 대응되지 않고, 홈(211')의 바닥부가 넓은 수평 면적을 갖을 수도 있다. 또한, 홈(211')의 형상이 간단한 형상으로 형성됨으로써, 챔버(200')의 교환시 비용이 절감될 수 있다.In this case, the groove 211' of the chamber 200' is capable of accommodating a plurality of packaging materials 830 at once and does not correspond to the protruding shape of any one packaging material to ensure high compatibility with packaging materials 830 of various shapes. Alternatively, the bottom of the groove 211' may have a large horizontal area. Additionally, since the shape of the groove 211' is simple, the cost when replacing the chamber 200' can be reduced.

제1전극(230)이 내부 공간(210)의 바닥면에 노출되지 않도록, 제1전극(230)은 내부 공간(210)의 바닥면의 내부에 매립되어 있는 것이 바람직하다. It is preferable that the first electrode 230 is embedded in the bottom surface of the internal space 210 so that the first electrode 230 is not exposed to the bottom surface of the internal space 210.

제1전극 커버(290)는 제1전극(230)을 감싸도록 구비된다. 제1전극 커버(290)는 제1전극(230)의 상면을 제외한 면을 감싸도록 제1전극(230)의 챔버(200)의 하부에 설치된다. 제1전극 커버(290)에 의해 제1전극(230)이 감쌈으로써, 플라즈마 형성 시 누전이 방지되어 높은 안전성이 보장된다.The first electrode cover 290 is provided to surround the first electrode 230. The first electrode cover 290 is installed at the lower part of the chamber 200 of the first electrode 230 to cover the surface of the first electrode 230 except for the top surface. By covering the first electrode 230 with the first electrode cover 290, electrical leakage is prevented during plasma formation, ensuring high safety.

제1전극 커버(290)는 챔버(200)와 분리 결합되는 구조일 수 있고, 인서트 사출성형에 의해 제1전극(230)은 유전체 내부에 매립되어 일체적으로 제작되는 구조일 수 있다.The first electrode cover 290 may be separately coupled to the chamber 200, and the first electrode 230 may be integrally manufactured by being embedded within the dielectric through insert injection molding.

개폐부(300)는 챔버(200)를 밀폐 또는 개방시킨다. 개폐부(300)는 프레임(120)의 상부 좌측에 회동 가능하게 설치됨으로써, 챔버(200)의 내부 공간(210)을 개폐시킨다.The opening/closing unit 300 closes or opens the chamber 200. The opening/closing unit 300 is rotatably installed on the upper left side of the frame 120 to open and close the internal space 210 of the chamber 200.

개폐부(300)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 베이스(110)에 연결된 프레임(120)에 설치되는 회동부(330)와, 회동부(330)에 의해 회동 가능하게 설치는 도어부재(310)와, 도어부재(310)의 하부에 설치되어 구비되는 제2전극(350)과, 도어부재(310) 및 제2전극(350)을 감싸되, 제2전극(350)의 하면을 제외한 면을 감싸는 커버(370)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIG. 8, the opening and closing unit 300 includes a rotating unit 330 installed on the frame 120 connected to the base 110, and a door member 310 that is rotatably installed by the rotating unit 330. ) and a second electrode 350 installed at the lower part of the door member 310, and surrounding the door member 310 and the second electrode 350, excluding the lower surface of the second electrode 350. It may be configured to include a cover 370 surrounding the .

도어부재(310)는 회동부(330)에 의해 프레임(120)에 설치된다. 도어부재(310)는 희동부(330)을 통해 회동 가능하며, 이를 통해, 개폐부(300)는 내부 공간(210)을 개폐시킬 수 있다.The door member 310 is installed on the frame 120 by the rotating part 330. The door member 310 can rotate through the heel portion 330, and through this, the opening and closing portion 300 can open and close the internal space 210.

제2전극(350)은 도어부재(310)의 하부에 설치된다.The second electrode 350 is installed on the lower part of the door member 310.

베이스(110), 프레임(120), 도어부재(310) 및 회동부(330)는 금속 재질로 이루어지고, 서로 전기적으로 연결가능한 구조로 배치된다. 따라서 제1전극(230)은 도어부재(310), 회동부(330), 베이스(110) 및 프레임(120)을 통해 접지된다.The base 110, frame 120, door member 310, and rotating portion 330 are made of metal and are arranged in a structure that can be electrically connected to each other. Accordingly, the first electrode 230 is grounded through the door member 310, the rotating part 330, the base 110, and the frame 120.

커버(370)는 절연 재질(또는 비금속 재질)로 이루어진다. The cover 370 is made of an insulating material (or non-metallic material).

절연재질의 커버(370)는 도어부재(310) 및 제2전극(350)을 전체적으로 감싸므로, 사용자가 내부 공간(210)을 개방 또는 폐쇄하기 위해 개폐부(300)를 파지할 때, 사용자가 감전되는 것을 방지할 수 있다.Since the cover 370 made of insulating material entirely surrounds the door member 310 and the second electrode 350, when the user holds the opening/closing part 300 to open or close the internal space 210, the user may receive an electric shock. You can prevent it from happening.

커버(370)는 도어부재(310) 및 제2전극(350)을 감쌀 때, 제2전극(350)의 하면을 제외한 면을 감싸고, 제2전극(350)의 하면은 노출될 수 있다. 이와는 다르게 제2전극(350)의 하면은 유전체 재질로 감싸는 구성을 채택하여 제2전극(350)의 외부로 노출되지 않도록 할 수 있다. When covering the door member 310 and the second electrode 350, the cover 370 covers the surface excluding the lower surface of the second electrode 350, and the lower surface of the second electrode 350 may be exposed. In contrast, the lower surface of the second electrode 350 may be wrapped with a dielectric material so that it is not exposed to the outside of the second electrode 350.

개폐부(300)는, 전술한 바와 같이, 회동 방식으로 개폐되는 도어부재(310)를 포함할 수 있으며, 이와 달리, 슬라이드 방식으로 개폐되는 도어부재를 포함할 수도 있다. 다만 이하에서 설명하는 실링 효과를 고려한다면 회동 방식이 본 실시예에서는 보다 바람직할 수 있다. As described above, the opening and closing unit 300 may include a door member 310 that opens and closes in a rotating manner. Alternatively, it may include a door member that opens and closes in a sliding manner. However, considering the sealing effect described below, the rotation method may be more preferable in this embodiment.

도 5에 도시된 바와 같이, 챔버(200)의 상부에는 챔버(200)와 개폐부(300)를 실링하는 실링부재(250)가 구비될 수 있다.As shown in FIG. 5, a sealing member 250 may be provided on the upper part of the chamber 200 to seal the chamber 200 and the opening and closing portion 300.

실링부재(250)의 상면에는 상부로 돌출된 돌기(251)가 형성된다. 이러한 돌기(251)를 통해, 개폐부(300)의 하면과 실링부재(250)의 상면이 서로 선 접촉하게 된다. 실링부재(250)가 돌기(251)를 통해, 개폐부(300)와 선 접촉하게 됨으로써, 개폐부(300)의 도어부재(310), 제2전극(350) 및 커버(370)의 무게로 내부 공간(210)을 쉽게 밀폐시킬 수 있다. 이처럼, 내부 공간(210)이 실링부재(250)에 의해 완전히 밀폐되면, 진공펌프(400)를 통해, 내부 공간(210)을 보다 빠르게 진공 상태로 만들 수 있다. 여기서 진공 상태라 함은 내부 공간(210)의 공기가 외부로 배기되어 저압 상태가 됨을 의미하며 고 진공일 필요는 없다. A protrusion 251 protruding upward is formed on the upper surface of the sealing member 250. Through these protrusions 251, the lower surface of the opening and closing part 300 and the upper surface of the sealing member 250 come into line contact with each other. As the sealing member 250 comes into line contact with the opening and closing unit 300 through the protrusion 251, the weight of the door member 310, the second electrode 350 and the cover 370 of the opening and closing unit 300 expands the internal space. (210) can be easily sealed. In this way, when the internal space 210 is completely sealed by the sealing member 250, the internal space 210 can be brought into a vacuum state more quickly through the vacuum pump 400. Here, the vacuum state means that the air in the internal space 210 is exhausted to the outside and becomes a low pressure state, and does not need to be a high vacuum state.

전술한 챔버(200)는, 수용 공간이 마련된 제1유전체 블록일 수 있다.The above-described chamber 200 may be a first dielectric block provided with a receiving space.

개폐부(300)는 제1유전체 블록의 개방 단부를 밀폐하거나 개방하는 제2유전체 블록일 수 있다.The opening/closing unit 300 may be a second dielectric block that seals or opens the open end of the first dielectric block.

제1유전체 블록의 상부에는 제2유전체 블록이 배치되고, 제1유전체 블록의 수용 공간, 즉, 제1유전체 블록의 내부 공간(210)에는 대상체(800)가 수용될 수 있다.A second dielectric block is disposed on top of the first dielectric block, and the object 800 can be accommodated in the accommodation space of the first dielectric block, that is, the internal space 210 of the first dielectric block.

제1전극(230)은 제1유전체 블록에 매립되는 하부 전극일 수 있으며, 제2전극(350)은 제2유전체 블록에 매립되는 상부 전극일 수 있다.The first electrode 230 may be a lower electrode embedded in the first dielectric block, and the second electrode 350 may be an upper electrode embedded in the second dielectric block.

제1유전체 블록과 제2유전체 블록 사이에는 전술한 실링부재(250)와 같이, 제1유전체 블록과 제2유전체 블록을 상호 밀폐시키는 실링부재(250)가 구비될 수 있다.Like the sealing member 250 described above, a sealing member 250 may be provided between the first dielectric block and the second dielectric block to mutually seal the first dielectric block and the second dielectric block.

본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10)는 그 내부 공간(210)에 대상체(800)가 수용되고 유전체로 구성되며 내부 공간(210)의 바닥면의 하부 내부에 하부 전극이 구비된 챔버(200)와, 챔버(200)의 상부에서 내부 공간(210)을 개폐하도록 챔버(200)에 설치되고 그 내부에 상부 전극이 구비된 개폐부(300)를 포함하고, 하부 전극에 전기를 인가하거나 접지하여 내부 공간(210)에 플라즈마를 형성시켜 대상체(800)의 표면처리를 수행한다. 이 경우, 상부 전극은 전술한 제1전극(230)이고, 하부 전극은 전술한 제2전극(350)이다.The plasma surface treatment device 10 of the present invention includes a chamber 200 in which an object 800 is accommodated in an internal space 210, a chamber 200 made of a dielectric, and a lower electrode provided inside the bottom of the internal space 210. and an opening/closing unit 300 installed in the chamber 200 to open and close the internal space 210 at the top of the chamber 200 and having an upper electrode therein, and applying electricity to or grounding the lower electrode to open and close the internal space 210. Plasma is formed in the space 210 to perform surface treatment on the object 800. In this case, the upper electrode is the above-described first electrode 230, and the lower electrode is the above-described second electrode 350.

제1전극(230) 및 제2전극(350), 즉, 하부 전극 및 상부 전극은 유전체 재질의 수용 공간 외측에서 수용 공간을 기준으로 서로 대향되게 구비된다.The first electrode 230 and the second electrode 350, that is, the lower electrode and the upper electrode, are provided opposite to each other with respect to the accommodation space outside the dielectric material accommodation space.

제1전극(230)은 대상체(800)와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치된다.The first electrode 230 is disposed so that a dielectric is provided between it and the object 800.

제2전극(350)은 제1전극과 대향되게 설치되며, 대상체(800)와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치된다. The second electrode 350 is installed to face the first electrode and is arranged to have a dielectric between it and the object 800.

유전체 재질의 챔버(200)에는 대상체(800)의 출입이 가능하도록 도어부재(310)가 구비되고, 도어부재(310)에는 제2전극(350)이 구비된다.The chamber 200 made of a dielectric material is provided with a door member 310 to allow entry and exit of the object 800, and the door member 310 is provided with a second electrode 350.

진공펌프(400)는 챔버(200)의 내부 공간(210)과 연통되어 내부 공간(210)의 공기를 배기하는 기능을 한다. The vacuum pump 400 communicates with the internal space 210 of the chamber 200 and functions to exhaust air from the internal space 210.

진공펌프(400)를 이용하여 내부 공간(210)의 공기를 배기하여 내부 공간(210)은 진공 상태로 된 채로, 내부 공간(210)에 수용된 대상체(800)의 플라즈마 표면처리가 수행된다.Plasma surface treatment is performed on the object 800 accommodated in the internal space 210 while the internal space 210 is in a vacuum state by exhausting the air in the internal space 210 using the vacuum pump 400.

플라즈마 표면처리 장치(10)는, 대상체(800)가 수용된 내부 공간(210)이 구비되고, 내부 공간(210)을 유전체로 둘러싼 챔버(200)의 상, 하부 상, 하부 각각에 상, 하부 전극이 배치되고, 진공펌프(400)를 통해 내부 공간(210)의 공기를 배기하여 내부 공간(210)을 진공 상태로 만든 후, 상, 하부 전극의 전압차를 이용하여 내부 공간에 플라즈마를 발생시켜 대상체의 표면처리를 수행하게 된다.The plasma surface treatment device 10 is provided with an internal space 210 in which the object 800 is accommodated, and upper and lower electrodes are provided on the upper, lower, and upper sides of the chamber 200, respectively, surrounding the internal space 210 with a dielectric. is placed, the air in the internal space 210 is exhausted through the vacuum pump 400 to make the internal space 210 into a vacuum state, and then plasma is generated in the internal space using the voltage difference between the upper and lower electrodes. Surface treatment of the object is performed.

2개의 전극(즉, 제1, 2전극(230, 350) 또는 상, 하부 전극)은 각각 챔버(200)의 내부 공간(210)(즉, 수용 공간) 외측에 배치되어 내부 공간(210)(즉, 수용 공간)의 내부에 전기장을 생성한다. 이렇게 생성된 전기장은 플라즈마를 형성하여 대상체(800)를 플라즈마 처리하게 된다.Two electrodes (i.e., first and second electrodes 230 and 350 or upper and lower electrodes) are respectively disposed outside the internal space 210 (i.e., receiving space) of the chamber 200 to form the internal space 210 ( That is, an electric field is generated inside the receiving space. The electric field generated in this way forms plasma and processes the object 800 with plasma.

따라서, 인체 내부에 삽입되는 인공 대용물(810)은 포장재(830)로 포장된 상태로 챔버(200)의 내부 공간(210)(즉, 수용 공간)에 수용되어 인공 대용물(810)의 적어도 일부 표면이 멸균 플라즈마 처리가 된다.Accordingly, the artificial substitute 810 inserted into the human body is packaged with packaging material 830 and accommodated in the internal space 210 (i.e., receiving space) of the chamber 200 to contain at least the artificial substitute 810. Some surfaces are treated with sterilizing plasma.

플라즈마에 의해 멸균처리 및 표면처리된 인공 대용물(810)의 표면은 그 표면이 개질되어 친수성을 가지게 된다. 따라서, 인공 대용물(810)의 식립시 골조직의 융합이 용이하게 이루어져 염증이 발생되는 것을 방지할 수 있다.The surface of the artificial substitute 810 sterilized and surface treated by plasma is modified to become hydrophilic. Therefore, when the artificial substitute 810 is implanted, bone tissue is easily fused, thereby preventing inflammation from occurring.

진공펌프(400)를 통해 내부 공간(210)을 배기하게 되면, 내부 공간(210)은 저압 또는 진공 상태가 된다. 또한, 포장재(830)의 내부 공기는 투과성 막(850)에 의해 투과되어 포장재(830)의 내부가 진공상태가 될 수 있다. 따라서, 포장재(830) 내부에 플라즈마가 용이하게 생성되어 인공 대용물(810)의 표면처리가 효과적으로 이루어질 수 있다.When the internal space 210 is evacuated through the vacuum pump 400, the internal space 210 becomes a low pressure or vacuum state. Additionally, the air inside the packaging material 830 may be transmitted through the permeable membrane 850 so that the inside of the packaging material 830 may be in a vacuum state. Therefore, plasma is easily generated inside the packaging material 830, so that the surface treatment of the artificial substitute 810 can be effectively performed.

플라즈마 표면처리 장치(10)는, 챔버(200)의 내부 공간(즉, 수용 공간)에 수용된 포장재(830)의 투과성 막(850)과 챔버(200)의 내벽 사이가 서로 이격되도록 챔버(200) 내부에 형성된 배기 공간(270)과, 배기 공간(270)과 연통되도록 챔버(200)에 형성된 배기홀(231)을 더 포함하여 구성될 수 있다.The plasma surface treatment device 10 is installed in the chamber 200 so that the inner wall of the chamber 200 and the permeable membrane 850 of the packaging material 830 accommodated in the internal space (i.e., receiving space) of the chamber 200 are spaced apart from each other. It may further include an exhaust space 270 formed therein, and an exhaust hole 231 formed in the chamber 200 to communicate with the exhaust space 270.

배기 공간(270)은 포장재(830)의 투과성 막(850)의 상부에 위치한다. The exhaust space 270 is located on top of the permeable membrane 850 of the packaging material 830.

배기홀(231)은 진공펌프(400)와 연통된다. The exhaust hole 231 communicates with the vacuum pump 400.

배기홀(231)은 대상체(800)가 내부 공간(210)에 수용되더라도, 포장재(830) 또는 투과성 막(850)에 의해 구멍이 막히지 않은 채로 노출되어 있다. 다시 말해, 배기홀(231)은 대상체(800)가 내부 공간(210)에 수용되더라도 대상체(800)(즉, 포장재(830) 또는 투과성 막(850) 등)에 의해 구멍이 막히지 않고, 배기 공간(270)과 연통된 상태를 유지한다.Even if the object 800 is accommodated in the internal space 210, the exhaust hole 231 is exposed without being blocked by the packaging material 830 or the permeable membrane 850. In other words, the exhaust hole 231 is not blocked by the object 800 (i.e., the packaging material 830 or the permeable membrane 850, etc.) even if the object 800 is accommodated in the internal space 210, and the exhaust hole 231 is an exhaust space. Maintain communication with (270).

진공펌프(400)가 가동되면, 포장재(830) 내부의 공기는 투과성 막(850), 내부 공간(210), 배기 공간(270), 배기홀(231) 순으로 유동되어 배기됨으로써, 포장재(830) 내부 및 챔버(200)의 내부가 진공상태가 된다.When the vacuum pump 400 is operated, the air inside the packaging material 830 flows and is exhausted through the permeable membrane 850, the internal space 210, the exhaust space 270, and the exhaust hole 231 in the order of the packaging material 830. ) The interior and the interior of the chamber 200 are in a vacuum state.

또한, 배기 공간(270)이 형성됨으로써, 챔버(200) 및 포장재(830) 내부의 공기가 용이하게 배기될 수 있다. 따라서, 더욱 쉽게 포장재(830) 내부 및 챔버(200)의 내부가 진공상태가 될 수 있다.In addition, by forming the exhaust space 270, the air inside the chamber 200 and the packaging material 830 can be easily exhausted. Accordingly, the inside of the packaging material 830 and the inside of the chamber 200 can be more easily brought to a vacuum state.

위와 같이, 챔버(200) 내부의 내부 공간(210), 즉, 수용 공간에 대상체(800)가 포장재(830)에 포장된 상태로 수용되므로, 챔버(200) 내부가 플라즈마 처리를 위해 저압상태가 될 때 포장재(830) 내부도 함께 저압상태가 되어, 포장재(830)를 개봉하지 않고, 포장재(830)로 포장된 상태에서 인공 대용물(810)의 표면을 플라즈마 처리시킬 수 있다.As above, since the object 800 is received in the internal space 210 inside the chamber 200, that is, in the receiving space, while being packed in the packaging material 830, the inside of the chamber 200 is in a low pressure state for plasma processing. When this happens, the inside of the packaging material 830 is also in a low pressure state, so the surface of the artificial substitute 810 can be plasma treated while it is packed with the packaging material 830, without opening the packaging material 830.

이하, 도 12를 참조하여, 본 발명의 플라즈마 표면처리 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, with reference to FIG. 12, the plasma surface treatment method of the present invention will be described.

도 12는 본 발명의 플라즈마 표면처리 방법의 개략도이다.Figure 12 is a schematic diagram of the plasma surface treatment method of the present invention.

도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 표면처리 방법은, As shown in Figure 12, the plasma surface treatment method of the present invention,

포장재(830)로 포장된 상태의 대상체(800)를 유전체로 둘러 쌓인 챔버(200)의 내부 공간(210)에 수납하는 단계(S10)와, 진공펌프(400)를 통해, 챔버(200)의 내부 공간(210)의 공기를 배기하는 단계(S20)와, 챔버(200)에 인접한 전극(230, 350)의 전압차를 발생하여, 챔버(200)의 내부 공간(210)에 플라즈마를 발생시키는 단계(S30)를 포함하여 구성될 수 있다.A step (S10) of storing the object 800 packaged with the packaging material 830 in the internal space 210 of the chamber 200 surrounded by a dielectric, through the vacuum pump 400, A step of exhausting the air in the internal space 210 (S20) and generating a voltage difference between the electrodes 230 and 350 adjacent to the chamber 200 to generate plasma in the internal space 210 of the chamber 200. It may be configured to include step (S30).

이 경우, 수납하는 단계(S10)는, 대상체(800)를 포장재(830)로 포장된 상태로 상기 내부 공간(210)에 수납한다. 따라서, 배기하는 단계(S20)는, 챔버(200)의 내부가 플라즈마 처리를 위해 저압상태가 될 때 포장재(830)의 내부도 함께 저압상태가 되어, 포장재(830를 개봉하지 않고 포장재(830)로 포장된 상태에서 대상체(800)의 표면을 플라즈마 처리하게 된다.In this case, in the storing step (S10), the object 800 is stored in the internal space 210 while being packaged with packaging material 830. Therefore, in the exhausting step (S20), when the inside of the chamber 200 is in a low pressure state for plasma treatment, the inside of the packaging material 830 is also in a low pressure state, so that the packaging material 830 is removed without opening the packaging material 830. The surface of the object 800 is plasma treated while it is packaged.

전술한 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10) 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법은, 유전체로 이루어진 챔버(200)의 내부 공간(210)에 인공 대용물(810)을 포장재(830)로 포장된 상태로 수용시키고, 진공 상태에서 플라즈마 처리를 통해, 인공 대용물(810)의 일부 표면을 친수성으로 표면 개질시킴과 동시에, 인공 대용물(810)을 멸균시키게 된다.As described above, the plasma surface treatment device 10 of the present invention and the plasma surface treatment method using the same include an artificial substitute 810 as a packaging material 830 in the internal space 210 of the chamber 200 made of a dielectric. It is received in a packaged state, and through plasma treatment in a vacuum, a portion of the surface of the artificial substitute 810 is surface modified to be hydrophilic, and at the same time, the artificial substitute 810 is sterilized.

따라서, 인공 대용물(810) 시술 전에 수술실에서 포장재(830)에 포장된 인공 대용물(810)을 곧바로 표면처리시킬 수 있어 시간이 지남에 따라 소수성이 되어 식립시 염증이 발생하는 종래의 문제점을 해결할 수 있다.Therefore, the artificial substitute 810 packed in the packaging material 830 can be surface treated immediately in the operating room before the artificial substitute 810 procedure, thereby eliminating the conventional problem of inflammation occurring during implantation as it becomes hydrophobic over time. It can be solved.

또한, 내부 공간(210)이 유전체로 이루어진 챔버(200)에 둘러싸여 있어, 별도의 유전체가 필요 없다. Additionally, since the internal space 210 is surrounded by the chamber 200 made of a dielectric, there is no need for a separate dielectric.

또한, 챔버(200) 내부의 공간 확보가 용이하여, 포장재(830)로 포장된 상태의 인공 대용물(810)을 쉽게 수용시킬 수 있으며, 이를 통해, 포장된 인공 대용물(810)의 일부 표면에 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.In addition, it is easy to secure space inside the chamber 200, so that the artificial substitute 810 packed with the packaging material 830 can be easily accommodated, and through this, some surfaces of the packed artificial substitute 810 Plasma treatment can be performed on .

한편, 플라즈마 표면처리 장치(10)는 개폐부(300)의 개폐를 감지하는 센서(미도시)와, 플라즈마 표면처리 수행 중 개폐부(300)의 개방시 플라즈마 생성을 차단시키는 제어부(미도시)를 더 포함하여 구성될 수 있다.Meanwhile, the plasma surface treatment device 10 further includes a sensor (not shown) that detects the opening and closing of the opening and closing unit 300, and a control unit (not shown) that blocks plasma generation when the opening and closing unit 300 is opened during plasma surface treatment. It can be configured to include.

제어부는 전원부 및 센서와 연결된다. 따라서, 전원부가 제1전극(230)에 전기가 인가함으로써, 챔버(200)의 내부 공간(210)에 플라즈마가 생성되어 표면처리를 수행할 때, 센서를 통해 개폐부(300)가 개방된 것이 측정되면, 제어부(미도시)는, 전원부를 차단시킨다. 이처럼, 제어부 및 센서를 통해, 플라즈마 표면처리 수행 중 의도치 않게 개폐부(300)가 개방되어 안전사고가 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있다.The control unit is connected to the power unit and sensors. Therefore, when the power supply applies electricity to the first electrode 230, plasma is generated in the internal space 210 of the chamber 200 to perform surface treatment, and the openness of the opening and closing unit 300 is measured through the sensor. When this happens, the control unit (not shown) turns off the power supply. In this way, through the control unit and sensor, it is possible to prevent a safety accident from occurring due to unintentional opening of the opening/closing unit 300 during plasma surface treatment.

본 발명은 도면에 도시된 실시 예들을 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are merely illustrative, and those skilled in the art will understand that various modifications and other equivalent embodiments are possible therefrom. Therefore, the true scope of technical protection of the present invention should be determined by the technical spirit of the attached registration claims.

10: 플라즈마 표면처리 장치
110: 베이스 120: 프레임
130: 케이스
200: 챔버 210: 내부 공간
211: 홈 230: 제1전극
231: 배기홀 250: 실링부재
251: 돌기 270: 배기 공간
290: 제1전극 커버
300: 개폐부 310: 도어부재
330: 회동부 350: 제2전극
370: 커버
400: 진공펌프
800: 대상체 810: 임플란트
830: 포장재 831: 돌출부
850: 투과성 막
10: Plasma surface treatment device
110: base 120: frame
130: case
200: Chamber 210: Internal space
211: groove 230: first electrode
231: exhaust hole 250: sealing member
251: projection 270: exhaust space
290: First electrode cover
300: opening and closing part 310: door member
330: Rotating part 350: Second electrode
370: cover
400: Vacuum pump
800: object 810: implant
830: packaging material 831: protrusion
850: permeable membrane

Claims (24)

밀폐부의 내부에 피처리물이 수납된 포장 용기를 상기 밀폐부의 내부에 형상에 맞춰 수납하는 단계;
상기 밀폐부의 내부를 외부 환경에 대해 밀폐하는 단계;
상기 밀폐부의 내부 대기를 배기하여 상기 포장 용기의 내부를 배기하고, 상기 밀폐부의 내부에 저압 상태인 대기를 형성하는 단계; 및
상기 밀폐부의 내부에 전기장을 형성하여 상기 저압 상태인 대기를 방전하여 상기 포장 용기 내부의 피처리물을 처리하는 단계;를 포함하고,
상기 밀폐부의 내부에 저압 상태인 대기를 형성하는 단계는, 상기 포장 용기 내부의 공기가 상기 밀폐부의 내부로 유동되고, 상기 밀폐부의 내부로 유동된 공기가 상기 밀폐부의 외부로 유동되는 것에 의해, 상기 포장 용기의 내부를 배기하는 단계인, 플라즈마 처리 방법.
Storing the packaging container containing the object to be treated inside the sealing portion according to its shape inside the sealing portion;
sealing the interior of the sealing unit against the external environment;
exhausting the interior of the packaging container by exhausting the atmosphere inside the closure, and forming a low-pressure atmosphere inside the closure; and
Comprising: forming an electric field inside the sealing unit to discharge the low-pressure atmosphere to treat the object inside the packaging container,
The step of forming an atmosphere in a low-pressure state inside the sealing unit involves the air inside the packaging container flowing into the sealing unit, and the air flowing inside the sealing unit flowing to the outside of the sealing unit, A plasma treatment method that involves exhausting the interior of a packaging container.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 밀폐하는 단계는, 상기 포장 용기를 수납하기 위해 개방되는 상기 밀폐부의 단부를 실링하는 실링부재에 의해 상기 밀폐부의 내부가 밀폐되는 단계를 더 포함하는, 플라즈마 처리 방법.
According to claim 1,
The sealing step further includes the step of sealing the inside of the sealing portion by a sealing member that seals an end of the sealing portion that is opened to accommodate the packaging container.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 방전하는 단계는, 상기 포장 용기 내부의 저압 상태인 대기를 방전하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 처리 방법.
According to claim 1,
The discharging step is characterized in that the low-pressure atmosphere inside the packaging container is discharged.
삭제delete 피처리물이 수납된 포장 용기의 형상 중 적어도 일부와 대응하는 수용부를 포함하는 내부가 외부 환경에 대해 밀폐된 밀폐부;
상기 밀폐부의 내부 대기를 배기하여 상기 포장 용기의 내부를 배기하고, 상기 밀폐부의 내부에 저압 상태인 대기를 형성하는 배기부; 및
상기 밀폐부의 내부에 전기장을 형성하여 상기 저압 상태인 대기를 방전하여 상기 포장 용기 내부의 피처리물을 처리하는 전극부;를 포함하고,
상기 포장 용기의 내부는 상기 포장 용기 내부의 공기가 상기 밀폐부의 내부로 유동되고, 상기 밀폐부의 내부로 유동된 공기가 상기 밀폐부의 외부로 유동되는 것에 의해 배기되는, 플라즈마 처리 장치.
a sealing portion whose interior is sealed against the external environment and includes a receiving portion corresponding to at least a portion of the shape of the packaging container in which the object to be treated is stored;
an exhaust unit configured to exhaust the interior of the packaging container by exhausting the atmosphere inside the closure, and forming a low-pressure atmosphere inside the closure; and
It includes an electrode unit that forms an electric field inside the sealing unit to discharge the low-pressure atmosphere to treat the object inside the packaging container,
The interior of the packaging container is exhausted by air inside the packaging container flowing into the sealing portion, and air flowing inside the sealing portion flowing outside the sealing portion.
삭제delete 제11 항에 있어서,
상기 수용부는, 상기 포장 용기 중 적어도 일부가 삽입되는 내측으로 함몰된 형상을 가진 홈부;를 포함하는, 플라즈마 처리 장치.
According to claim 11,
The receiving portion includes a groove portion having an inwardly depressed shape into which at least a portion of the packaging container is inserted.
제13 항에 있어서,
상기 홈부의 함몰된 형상은, 상기 홈부에 삽입되는 상기 포장 용기 중 적어도 일부의 외부 형상과 대응하는, 플라즈마 처리 장치
According to claim 13,
The depressed shape of the groove corresponds to the external shape of at least a portion of the packaging container inserted into the groove.
제14 항에 있어서,
상기 홈부는, 상기 홈부의 내벽과 상기 홈부에 삽입되는 상기 포장 용기 중 적어도 일부 사이에 이격된 공간을 가지는, 플라즈마 처리 장치.
According to claim 14,
The groove portion has a space spaced apart between an inner wall of the groove portion and at least a portion of the packaging container inserted into the groove portion.
삭제delete 삭제delete 제11 항에 있어서,
상기 전극부는, 상기 수용부에 배치된 적어도 하나의 전극을 포함하는, 플라즈마 처리 장치.
According to claim 11,
The electrode unit includes at least one electrode disposed in the receiving unit.
제18 항에 있어서,
상기 전극은, 상기 수용부에 수납된 상기 피처리물의 위치에 대응하도록 배치되는, 플라즈마 처리 장치.
According to clause 18,
The plasma processing apparatus is wherein the electrode is arranged to correspond to the position of the object to be processed stored in the accommodation unit.
삭제delete 제18 항에 있어서,
상기 전극이 배치된 상기 수용부의 적어도 일부는 유전체이고,
상기 전극부는 상기 저압 상태인 대기를 유전체 장벽 방전하는, 플라즈마 처리 장치.
According to clause 18,
At least a portion of the receiving portion where the electrode is disposed is a dielectric,
A plasma processing device wherein the electrode unit discharges a dielectric barrier into the low-pressure atmosphere.
제18 항에 있어서,
상기 전극은, 상기 수용부에 배치된 제1 전극; 및 상기 제1 전극과 이면에 배치된 제2전극;을 포함하고,
상기 수용부의 내부에 전기장을 형성하는, 플라즈마 처리 장치.
According to clause 18,
The electrode includes: a first electrode disposed in the receiving portion; And a second electrode disposed behind the first electrode,
A plasma processing device that forms an electric field inside the receiving portion.
제11 항에 있어서,
상기 밀폐부는, 상기 수용부를 포함하는 하부 부재; 상기 수용부의 개방 단부를 폐쇄하는 상부 부재; 및 상기 하부 부재와 상기 상부 부재 사이를 실링하는 실링 부재를 포함하는, 플라즈마 처리 장치.
According to claim 11,
The sealing portion includes a lower member including the receiving portion; an upper member closing the open end of the receiving portion; and a sealing member sealing between the lower member and the upper member.
제23 항에 있어서,
상기 배기부는, 상기 밀폐부의 내부를 배기하는 진공펌프를 더 포함하고,
상기 밀폐부는, 상기 진공펌프와 연통되는 배기홀을 더 포함하고,
상기 진공펌프는 상기 배기홀과 연결되어 상기 실링 부재로 실링되는 내측의 대기를 배기하는, 플라즈마 처리 장치.
According to clause 23,
The exhaust unit further includes a vacuum pump that exhausts the interior of the sealing unit,
The sealing part further includes an exhaust hole in communication with the vacuum pump,
The vacuum pump is connected to the exhaust hole and exhausts the inner atmosphere sealed by the sealing member.
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