KR20220118722A - Plasma surface treatment apparatus and method for plasma surface treatment using the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a plasma surface treatment apparatus for performing surface treatment on an object using plasma, and a plasma surface treatment method using the same, and more particularly, to a plasma surface treatment apparatus which performs surface treatment on an object in a state in which the object is wrapped, to easily reform the surface before a procedure, and a plasma surface treatment method using the same.

Description

플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법{PLASMA SURFACE TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA SURFACE TREATMENT USING THE SAME}Plasma surface treatment apparatus and plasma surface treatment method using the same

본 발명은 플라즈마를 이용하여 대상체의 표면처리를 수행하는 플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma surface treatment apparatus for performing surface treatment of an object using plasma and a plasma surface treatment method using the same.

플라즈마 표면처리 장치는, 플라즈마 처리를 통해 대상체의 표면을 개질시킨다.The plasma surface treatment apparatus modifies the surface of the object through plasma treatment.

플라즈마 처리를 통한 표면 개질 중 하나로써, 대상체의 표면을 소수성에서 친수성으로 개질시키는 것이 있다. 이러한, 친수성으로의 표면 개질은 임플란트와 같은 인공신체의 의료분야에서 널리 쓰인다.One of the surface modification through plasma treatment is to modify the surface of an object from hydrophobicity to hydrophilicity. This hydrophilic surface modification is widely used in the medical field of artificial bodies such as implants.

상세하게 설명하면, 티타늄 또는 티타늄 합금 재질로 이루어진 픽스쳐 등의 임플란트의 경우, 티타늄 표면이 소수성을 가진다. 따라서, 소수성의 수분을 밀어내는 성질로 인해, 임플란트를 식립 후, 혈액 및 단백질을 포함하는 골조직이 융합되는 것을 더디게 하거나, 인체의 면역반응에 의해 염증을 유발하는 문제점이 있다. In detail, in the case of an implant such as a fixture made of titanium or a titanium alloy material, the titanium surface has hydrophobicity. Therefore, due to the hydrophobic nature of repelling moisture, there is a problem of slowing the fusion of bone tissue including blood and protein after implantation, or causing inflammation due to the body's immune response.

위와 같은 문제점을 해결하기 위해, 플라즈마 표면처리 장치를 통해 대상체인 임플란트의 표면을 친수성으로 표면 개질시키게 된다.In order to solve the above problems, the surface of the implant, which is an object, is modified to be hydrophilic through a plasma surface treatment apparatus.

종래에는, 대상체인 임플란트의 표면을 개질시키기 위해, 포장재로부터 임플란트를 꺼낸 후 플라즈마 표면처리를 하였다. Conventionally, in order to modify the surface of the implant, which is the object, the implant was taken out from the packaging material and then plasma surface treatment was performed.

그러나, 위와 같이, 표면 개질을 위해 포장재로부터 꺼내어진 임플란트의 표면은 공기중에 노출되어 산화층이 발생하고, 탄화수소 화합물과 같은 오염원이 층작되는 문제점이 있다.However, as described above, the surface of the implant taken out from the packaging material for surface modification is exposed to the air to generate an oxide layer, and there is a problem in that contaminants such as hydrocarbon compounds are layered.

또한, 포장재로부터 꺼내어진 임플란트를 표면 개질한 뒤 시술 전까지 보관하는 과정에서 표면에너지가 안정화되어 소수성으로 다시 변하게 된다. 따라서, 임플란트의 표면이 산화되기 전에 시술이 이루어져야 하므로, 임플란트의 보관기관이 짧다는 문제점이 있다.In addition, the surface energy is stabilized in the process of surface-modifying the implant taken out of the packaging material and storing it before the procedure, so that it becomes hydrophobic again. Therefore, since the operation must be performed before the surface of the implant is oxidized, there is a problem in that the storage organ of the implant is short.

또한, 종래와 같이, 임플란트의 표면처리 후, 포장을 하는 경우 이를 위한 추가적인 비용이 발생하고 많은 시간이 소요되는 문제점이 있다.In addition, as in the prior art, after surface treatment of the implant, when packaging is performed, there is a problem in that an additional cost is incurred and a lot of time is required for this.

한국등록특허 제10-1439344호Korean Patent No. 10-1439344 한국등록특허 제10-1693335Korean Patent Registration No. 10-1693335

본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 대상체가 포장된 상태로 대상체의 표면처리를 수행함으로써, 시술 전에 손쉽게 표면을 개질시킬 수 있는 플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been devised to solve the above problems, and by performing surface treatment of an object in a state in which the object is packaged, a plasma surface treatment apparatus capable of easily modifying the surface prior to a procedure and a plasma surface treatment method using the same aim to do

본 발명의 일 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 플라즈마를 이용하여 대상체의 표면처리를 수행하는 플라즈마 표면처리 장치에 있어서, 제1, 2전극; 및 상기 제1, 2전극 사이에 위치하고, 그 내부 공간에 상기 대상체가 수용되며, 유전체로 구성되는 챔버;를 포함하고, 상기 제1, 2전극의 전압차에 의해 상기 내부 공간에 플라즈마를 형성시킨다.A plasma surface treatment apparatus according to one aspect of the present invention is a plasma surface treatment apparatus for performing surface treatment of an object using plasma, comprising: first and second electrodes; and a chamber positioned between the first and second electrodes, the object is accommodated in the inner space, and a chamber composed of a dielectric, and forms plasma in the inner space by the voltage difference between the first and second electrodes .

또한, 상기 내부 공간의 공기를 배기하는 진공펌프;를 더 포함한다.In addition, it further includes; a vacuum pump for exhausting the air in the inner space.

또한, 상기 챔버의 상부에 설치되며, 상기 내부 공간을 개폐하고, 상기 제2전극이 구비된 개폐부;를 더 포함한다.In addition, it is installed on the upper portion of the chamber, opening and closing the inner space, the opening and closing portion provided with the second electrode; further includes.

또한, 상기 개폐부는, 베이스에 연결된 프레임에 설치되는 회동부; 상기 회동부에 의해 회동 가능하게 설치되며, 그 하부에 상기 제2전극이 구비되는 도어부재; 및 상기 도어부재 및 상기 제2전극을 감싸되, 상기 제2전극의 하면을 제외한 면을 감싸는 커버;를 포함하고, 상기 베이스, 상기 프레임, 상기 도어부재 및 상기 회동부는 금속 재질로 이루어지고, 상기 커버는 절연 재질로 이루어진다.In addition, the opening and closing unit, a rotating unit installed on the frame connected to the base; a door member rotatably installed by the rotating part and having the second electrode at a lower portion thereof; and a cover that surrounds the door member and the second electrode and covers a surface except for a lower surface of the second electrode, wherein the base, the frame, the door member and the rotating part are made of a metal material, and the The cover is made of an insulating material.

또한, 상기 제1전극은 상기 내부 공간의 하부에 위치하도록 상기 챔버의 하부에 구비되고, 상기 제1전극의 하부에 구비된 전원부가 상기 제1전극에 전기를 인가한다.In addition, the first electrode is provided at a lower portion of the chamber to be positioned below the inner space, and a power supply provided under the first electrode applies electricity to the first electrode.

또한, 상기 챔버의 상부에는, 상기 챔버와 상기 개폐부를 실링하는 실링부재가 구비되되, 상기 실링부재의 상면은 상기 개폐부의 하면과 선 접촉한다.In addition, a sealing member for sealing the chamber and the opening/closing unit is provided at an upper portion of the chamber, and an upper surface of the sealing member is in line contact with a lower surface of the opening/closing unit.

또한, 상기 내부 공간에는, 상기 대상체의 포장재의 돌출부가 삽입되는 홈이 구비된다.In addition, the inner space is provided with a groove into which the protrusion of the packaging material of the object is inserted.

또한, 상기 제1전극은 상기 내부 공간의 하부에 위치하도록 상기 챔버의 하부에 구비되며, 상기 홈의 바닥부에만 상기 제1전극이 위치하도록 상기 제1전극의 면적은 상기 홈의 바닥부 면적과 동일하거나 작다.In addition, the first electrode is provided at a lower portion of the chamber to be positioned below the inner space, and an area of the first electrode is equal to an area of the bottom of the groove so that the first electrode is positioned only at the bottom of the groove. equal or smaller

또한, 상기 제1전극은 상기 내부 공간의 하부에 위치하도록 상기 챔버의 하부에 구비되되, 상기 내부 공간의 바닥면에 상기 제1전극이 노출되지 않도록 상기 제1전극은 상기 내부 공간의 바닥면의 내부에 매립되어 있다.In addition, the first electrode is provided in the lower part of the chamber to be located in the lower part of the inner space, so that the first electrode is not exposed on the bottom surface of the inner space, the first electrode is located on the bottom of the inner space. embedded inside.

본 발명의 다른 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 그 내부 공간에 대상체가 수용되고, 유전체로 구성된 챔버; 및 상기 내부 공간을 개폐하도록 상기 챔버에 설치되고, 그 내부에 전극이 구비된 개폐부;를 포함하고, 상기 전극에 전기를 인가하거나 접지하여 상기 내부 공간에 플라즈마를 형성시켜 상기 대상체의 표면처리를 수행한다.A plasma surface treatment apparatus according to another aspect of the present invention includes: a chamber in which an object is accommodated in the inner space, and made of a dielectric; and an opening/closing unit installed in the chamber to open and close the internal space and having an electrode therein, and apply electricity to or ground the electrode to form plasma in the internal space to perform surface treatment of the object do.

본 발명의 일 특징에 따른 플라즈마 표면처리 방법은, 대상체를 유전체로 둘러 쌓인 챔버의 내부 공간에 수납하는 단계; 진공펌프를 통해, 상기 내부 공간의 공기를 배기하는 단계; 및 상기 챔버에 인접한 전극의 전압차를 발생하여, 상기 내부 공간에 플라즈마를 발생시키는 단계;를 포함한다.Plasma surface treatment method according to one aspect of the present invention comprises the steps of accommodating an object in an internal space of a chamber surrounded by a dielectric; exhausting air in the inner space through a vacuum pump; and generating a voltage difference between electrodes adjacent to the chamber to generate plasma in the inner space.

또한, 상기 수납하는 단계는, 상기 대상체를 포장재로 포장된 상태로 상기 내부 공간에 수납하는 단계이다.In addition, the receiving step is a step of receiving the object in the inner space in a state in which it is packaged with a packaging material.

또한, 상기 배기하는 단계는, 상기 챔버의 내부가 플라즈마 처리를 위해 저압상태가 될 때 상기 포장재의 내부도 함께 저압상태가 되어, 상기 포장재를 개봉하지 않고 상기 포장재로 포장된 상태에서 상기 대상체의 표면을 플라즈마 처리한다.In addition, in the step of evacuating, when the inside of the chamber is in a low pressure state for plasma treatment, the inside of the packaging material is also in a low pressure state, so that the surface of the object in a state packaged with the packaging material without opening the packaging material is plasma treated.

본 발명의 또 다른 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 수용 공간이 마련된 제1유전체 블록; 상기 제1유전체 블록의 개방 단부를 밀폐하거나 개방하는 제2유전체 블록; 상기 제1유전체 블록에 매립되는 제1전극; 및 상기 제2유전체 블록에 매립되는 제2전극;을 포함한다.A plasma surface treatment apparatus according to another aspect of the present invention includes: a first dielectric block having an accommodation space; a second dielectric block sealing or opening an open end of the first dielectric block; a first electrode embedded in the first dielectric block; and a second electrode embedded in the second dielectric block.

본 발명의 또 다른 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 대상체의 출입이 가능하도록 도어부재를 구비하는 유전체 재질의 챔버; 및 상기 대상체와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치되는 제1전극; 상기 제1전극과 대향되게 설치되며 상기 대상체와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치되는 제2전극;을 포함하고, 상기 제2전극은 상기 도어부재에 구비된다.A plasma surface treatment apparatus according to another aspect of the present invention includes: a chamber made of a dielectric material having a door member to allow an object to enter and exit; and a first electrode disposed such that a dielectric is provided between the first electrode and the object. and a second electrode disposed to face the first electrode and disposed to provide a dielectric between the first electrode and the object, wherein the second electrode is provided on the door member.

본 발명의 또 다른 특징에 따른 플라즈마 표면처리 장치는, 수용 공간이 마련된 유전체 재질의 챔버; 및 상기 수용 공간 외측에 배치되어 상기 수용 공간의 내부에 전기장을 생성하는 2개의 전극;을 포함하고, 대상체가 포장된 상태로 상기 수용 공간에 수용되어 상기 대상체의 적어도 일부 표면은 상기 전기장에 의해 상기 수용 공간 내부에 생성된 멸균 플라즈마로 처리된다.A plasma surface treatment apparatus according to another aspect of the present invention includes: a chamber made of a dielectric material provided with an accommodating space; and two electrodes disposed outside the accommodating space to generate an electric field inside the accommodating space, wherein the object is accommodated in the accommodating space in a packaged state so that at least a portion of the surface of the object is generated by the electric field It is treated with a sterile plasma generated inside the receiving space.

또한, 상기 수용 공간에 수용된 포장재의 투과성 막과 상기 챔버의 내벽 사이가 서로 이격되도록 상기 챔버 내부에 형성된 배기 공간; 및 상기 배기 공간과 연통되도록 상기 챔버에 형성된 배기홀을 더 포함한다.In addition, an exhaust space formed inside the chamber to be spaced apart from each other between the permeable membrane of the packaging material accommodated in the accommodating space and the inner wall of the chamber; and an exhaust hole formed in the chamber to communicate with the exhaust space.

이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.According to the plasma surface treatment apparatus of the present invention and the plasma surface treatment method using the same as described above, the following effects are obtained.

임플란트와 임플란트 포장재를 포함하는 대상체 자체를 챔버의 내부 공간에 수용시킨 채로 플라즈마 처리를 행하게 됨으로써, 시술전에 수술장에서 임플란트의 표면처리를 행할 때까지 임플란트의 일반 공기노출을 최소화할 수 있다. 따라서, 임플란트의 공기노출에 따라 임플란트의 표면이 소수성을 가지게 되는 종래의 문제점을 해결할 수 있다.By performing plasma treatment while accommodating the implant itself and the object including the implant packaging material in the internal space of the chamber, it is possible to minimize the general air exposure of the implant until the surface treatment of the implant is performed in the operating room before the procedure. Therefore, it is possible to solve the conventional problem that the surface of the implant has hydrophobicity according to the air exposure of the implant.

포장재의 내부 공기는 투과성 막에 의해 투과되어 포장재의 내부가 진공상태가 될 수 있으므로, 포장재 내부에 플라즈마가 용이하게 생성되어 인공 대용물의 표면처리가 효과적으로 이루어질 수 있다.Since the air inside the packaging material is transmitted through the permeable membrane and the inside of the packaging material is in a vacuum state, plasma is easily generated inside the packaging material, so that the surface treatment of the artificial substitute can be effectively performed.

투과성 막에 의해 세균 등 이물질이 포장재 내부로 들어가지 못해, 인공 대용물의 멸균 상태가 유지될 수 있다.The permeable membrane prevents foreign substances such as bacteria from entering the packaging material, so that the sterile state of the artificial substitute can be maintained.

포장재의 돌출부 형상에 맞게 내부 공간에 홈이 구비됨으로써, 대상체가 고정된 채로 수용되고, 하부 전극의 형상을 임플란트 및 포장재의 돌출부의 형상과 유사하게 형성시켜, 원하는 영역에 표면처리를 집중적으로 수행할 수 있다.By providing a groove in the inner space to match the shape of the protrusion of the packaging material, the object is accommodated in a fixed state, and the shape of the lower electrode is formed similar to the shape of the protrusion of the implant and the packaging material, so that the surface treatment can be intensively performed on the desired area. can

제2전극 및 도어부재의 무게로 인해, 실링부재를 통한 개폐부의 실링이 더욱 효과적으로 이루어질 수 있다.Due to the weight of the second electrode and the door member, sealing of the opening/closing portion through the sealing member can be made more effectively.

제1전극의 하부에 전원부가 구비되고, 전원부가 제1전극에 전기를 인가하며, 개폐부가 절연성 커버에 의해 절연되므로, 사용자가 개폐부를 파지하여도, 감전되지 않아 높은 안전성이 보장된다.A power supply unit is provided under the first electrode, the power supply unit applies electricity to the first electrode, and the opening/closing unit is insulated by an insulating cover.

임플란트 포장시 플라즈마 표면처리를 수행하지 않고, 시술 전에 표면처리를 수행함으로써, 포장시 소요되는 시간을 단축시킬 수 있다.By not performing plasma surface treatment during implant packaging, but performing surface treatment prior to surgery, the time required for packaging can be shortened.

도 1은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 사시도.
도 2는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 개폐부를 개방한 것을 도시한 사시도.
도 3은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치에 수용되는 대상체를 꺼낸 것을 도시한 사시도.
도 4는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 내부를 도시한 사시도.
도 5는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버와 챔버에 수용되는 대상체를 도시한 사시도.
도 6은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버 및 개폐부의 단면을 도시한 단면도.
도 7은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 개폐부를 도시한 사시도.
도 8은 도 7의 개폐부의 분해 사시도.
도 9는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버의 평면도.
도 10는 도 9의 챔버의 저면을 도시한 사시도.
도 11은 다른 형상의 홈을 갖는 플라즈마 표면처리 장치의 챔버의 사시도.
도 12는 본 발명의 플라즈마 표면처리 방법의 개략도.1 is a perspective view of a plasma surface treatment apparatus of the present invention.
Figure 2 is a perspective view showing the opening and closing of the plasma surface treatment apparatus of the present invention is opened.
3 is a perspective view showing an object accommodated in the plasma surface treatment apparatus of the present invention is taken out.
4 is a perspective view showing the inside of the plasma surface treatment apparatus of the present invention.
5 is a perspective view illustrating a chamber of the plasma surface treatment apparatus of the present invention and an object accommodated in the chamber;
6 is a cross-sectional view illustrating a chamber and an opening/closing unit of the plasma surface treatment apparatus of the present invention.
7 is a perspective view showing the opening and closing part of the plasma surface treatment apparatus of the present invention.
8 is an exploded perspective view of the opening and closing part of FIG. 7 ;
9 is a plan view of the chamber of the plasma surface treatment apparatus of the present invention.
10 is a perspective view showing the bottom of the chamber of FIG.
11 is a perspective view of a chamber of a plasma surface treatment apparatus having grooves of different shapes;
12 is a schematic diagram of a plasma surface treatment method of the present invention.

본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.The specific structural or functional description of the embodiments according to the concept of the present invention disclosed in this specification is only illustrated for the purpose of explaining the embodiments according to the concept of the present invention, and the embodiments according to the concept of the present invention are It may be implemented in various forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.Since the embodiments according to the concept of the present invention may have various changes and may have various forms, the embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail herein. However, this is not intended to limit the embodiments according to the concept of the present invention to specific disclosed forms, and includes all modifications, equivalents, or substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

본 명세서에서 사용한 기술적 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The technical terms used herein are used only to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present specification, terms such as "comprises" or "comprises" are intended to designate that the features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described herein exist, and include one or more other It should be understood that it does not preclude the possibility of addition or presence of features or numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

이하, 도 1 내지 도 10을 참조하여 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10)에 대해 설명한다.Hereinafter, the plasma surface treatment apparatus 10 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 10 .

도 1은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 사시도이고, 도 2는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 개폐부를 개방한 것을 도시한 사시도이고, 도 3은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치에 수용되는 대상체를 꺼낸 것을 도시한 사시도이고, 도 4는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 내부를 도시한 사시도이고, 도 5는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버와 챔버에 수용되는 대상체를 도시한 사시도이고, 도 6은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버 및 개폐부의 단면을 도시한 단면도이고, 도 7은 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 개폐부를 도시한 사시도이고, 도 8은 도 7의 개폐부의 분해 사시도이고, 도 9는 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치의 챔버의 평면도이고, 도 10는 도 9의 챔버의 저면을 도시한 사시도이고, 도 11은 다른 형상의 홈을 갖는 플라즈마 표면처리 장치의 챔버의 사시도이다.1 is a perspective view of the plasma surface treatment apparatus of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing the opening and closing part of the plasma surface treatment apparatus of the present invention is opened, and FIG. 3 is an object accommodated in the plasma surface treatment apparatus of the present invention. 4 is a perspective view showing the inside of the plasma surface treatment apparatus of the present invention, and FIG. 5 is a perspective view showing the chamber of the plasma surface treatment apparatus of the present invention and an object accommodated in the chamber, FIG. 6 is a cross-sectional view showing a cross section of a chamber and an opening/closing unit of the plasma surface treatment apparatus of the present invention, FIG. 7 is a perspective view illustrating an opening/closing unit of the plasma surface treatment apparatus of the present invention, and FIG. 8 is an exploded perspective view of the opening/closing unit of FIG. , FIG. 9 is a plan view of the chamber of the plasma surface treatment apparatus of the present invention, FIG. 10 is a perspective view showing the bottom of the chamber of FIG. 9, and FIG. 11 is a perspective view of the chamber of the plasma surface treatment apparatus having grooves of different shapes .

도 1 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10)는, 베이스(110)와, 프레임(120)과, 제1전극(230)과, 제2전극(350)과, 챔버(200)와, 진공펌프(400)와, 개폐부(300)를 포함하여 구성될 수 있다.1 to 10 , the plasma surface treatment apparatus 10 of the present invention includes a base 110 , a frame 120 , a first electrode 230 , a second electrode 350 , and , a chamber 200 , a vacuum pump 400 , and an opening/closing unit 300 .

프레임(120)은 베이스(110)의 상면에 설치된다. 프레임(120)의 상부에는 챔버(200)가 설치된다. 프레임(120)에는 케이스(130)가 설치되며, 케이스(130)는 플라즈마 표면처리 장치(10)의 전방측 면, 후방측 면, 좌측 면 및 우측 면을 이루게 된다.The frame 120 is installed on the upper surface of the base 110 . A chamber 200 is installed in the upper portion of the frame 120 . A case 130 is installed in the frame 120 , and the case 130 forms a front side, a rear side, a left side, and a right side of the plasma surface treatment apparatus 10 .

챔버(200)의 내부에는 내부 공간(210)이 형성된다. 내부 공간(210)에는 대상체(800)가 수용된다. An inner space 210 is formed inside the chamber 200 . The object 800 is accommodated in the internal space 210 .

챔버(200)의 내부 공간(210)은 대상체(800)가 수용되는 수용 공간이다. 이처럼, 챔버(200)에는 대상체(800)가 수용되는 수용 공간이 마련된다.The inner space 210 of the chamber 200 is an accommodation space in which the object 800 is accommodated. As such, an accommodation space in which the object 800 is accommodated is provided in the chamber 200 .

대상체(800)는 플라즈마 표면처리가 행해지는 물건으로서, 본 발명에서는 대상체(800)는 인공 대용물(810)과 인공 대용물(810)을 포장하는 포장재(830)를 포함하여 구성될 수 있다.The object 800 is an object subjected to plasma surface treatment, and in the present invention, the object 800 may include an artificial substitute 810 and a packaging material 830 for packaging the artificial substitute 810 .

인공 대용물(810)은, 생체를 구성하는 적어도 일부를 대체하기 위하여 생체에 이식되는 부품으로서, 인공 관절(인공 고관절, 인공 슬관절), 임플란트 등을 포함하여 구성될 수 있으며, 포장재(830)에 의해 포장된다.The artificial substitute 810 is a part implanted in the living body to replace at least a part of the living body, and may include an artificial joint (artificial hip joint, artificial knee joint), implant, etc. packed by

인공 대용물(810)은 치과용 임플란트 픽스쳐, 치과용 임플란트 어버트먼트, 치과용 임플란트 크라운일 수 있다.The artificial substitute 810 may be a dental implant fixture, a dental implant abutment, or a dental implant crown.

인공 대용물(810)은 후술할 투과성 막(850)이 구비된 포장재(830)에 수납되어, 챔버(200)에 수용된다. 이 경우, 챔버(200)는 복수의 포장재(830)가 수납되도록 구획되어 복수의 수용 공간(또는 복수의 내부 공간(210))이 마련될 수 있다.The artificial substitute 810 is accommodated in a packaging material 830 provided with a permeable membrane 850 to be described later, and is accommodated in the chamber 200 . In this case, the chamber 200 may be partitioned to accommodate a plurality of packaging materials 830 to provide a plurality of accommodating spaces (or a plurality of internal spaces 210 ).

포장재(830)에는 투과성 막(850)이 구비될 수 있다. The packaging material 830 may be provided with a permeable membrane 850 .

투과성 막(850)은 물, 세균 및 이물질 등은 투과시키지 않고 공기는 투과시키는 미세 기공을 갖는 재질로 구성되어 공기만을 선택적으로 투과시킨다.The permeable membrane 850 is made of a material having micropores that does not permeate water, bacteria, foreign substances, and the like, but transmits air, and selectively transmits only air.

투과성 막(850)은 섬유 구조가 고열 및 고압 환경에서 방사되어 결합됨으로써, 열가소성 수지가 될 수 있다. 따라서, 투과성 막(850)은 액체가 스며들지 못하는 고밀도, 반고형 상태가 될 수 있다. 또한, 투과성 막(850)은 바인더 없이 결합되어 미세한 구멍을 갖을 수 있으며, 수증기는 투과성 막(850)에 스며드나, 물이나 다른 액체는 통과하지 못한다. 따라서, 투과성 막(850)은 높은 방수성과 동시에 높은 통기성을 갖을 수 있다. The permeable membrane 850 may be a thermoplastic resin as the fiber structure is spun and bonded in a high temperature and high pressure environment. Accordingly, the permeable membrane 850 may be in a high-density, semi-solid state that is impermeable to liquid. In addition, the permeable membrane 850 may be bonded without a binder to have fine pores, and water vapor permeates the permeable membrane 850 but does not allow water or other liquids to pass therethrough. Accordingly, the permeable membrane 850 may have high waterproofness and high air permeability at the same time.

투과성 막(850)은 장섬유의 연속 구조를 갖을 수 있으며, 이를 통해, 자체 미생물 장벽 기능을 갖게 된다. 따라서, 석면, 곰팡이, 섬유 유리, 납 같은 이물질이 통과하지 못한다.The permeable membrane 850 may have a continuous structure of long fibers, through which it has its own microbial barrier function. Therefore, foreign substances such as asbestos, mold, fiber glass, and lead cannot pass through.

위와 같이, 포장재(830)에 의해 인공 대용물(810)이 포장되면, 투과성 막(850)으로 인해, 인공 대용물(810) 내부로, 액체 및 이물질은 통과하지 못하나, 공기는 통과할 수 있다. 즉, 포장재(830)는 높은 방수성 높은 통기성 및 이물질 차단 기능을 갖음으로써, 물질을 선택적으로 투과시킬 수 있는 것이다.As above, when the artificial substitute 810 is packaged by the packaging material 830, due to the permeable membrane 850, into the artificial substitute 810, liquid and foreign substances do not pass, but air can pass . That is, the packaging material 830 has high waterproofness, high air permeability, and a foreign material blocking function, so that the material can selectively permeate.

포장재(830)는 인공 대용물(810)의 외형과 대응되는 형상을 갖는 돌출부(831)가 형성될 수 있다. 인공 대용물(810)은 돌출부(831) 내부에 수용되어 투과성 막(850)에 의해 포장된다.The packaging material 830 may be formed with a protrusion 831 having a shape corresponding to the outer shape of the artificial substitute 810 . The prosthetic surrogate 810 is accommodated inside the protrusion 831 and is wrapped by a permeable membrane 850 .

돌출부(831)는 PVC 등과 같은 합성수지재로 이루어질 수 있으며, 인공 대용물(810)에 충격이 가해지는 것을 방지할 수 있다.The protrusion 831 may be made of a synthetic resin material such as PVC, and may prevent an impact from being applied to the artificial substitute 810 .

챔버(200)의 내부 공간(210)에는 대상체(800)의 포장재(830)의 돌출부(831)가 삽입되는 홈(211)이 구비된다. A groove 211 into which the protrusion 831 of the packaging material 830 of the object 800 is inserted is provided in the inner space 210 of the chamber 200 .

돌출부(831)가 홈(211)에 용이하게 안착되기 위해, 홈(211)의 면적은 돌출부(831)의 면적보다 크거나 같게 형성될 수 있다. 또한, 홈(211)의 내부 형상은 돌출부(831)의 외부 형상과 대응되는 형상으로 구성될 수 있다. 위와 같이, 돌출부(831)의 외부 형상과 대응되는 형상으로 홈(211)이 구비됨에 따라 포장재(830)의 돌출부(831)는 홈(211)에 삽입된 채로, 대상체(800)가 챔버(200)의 내부 공간(210)에 안착될 수 있다. 나아가, 홈(211)의 형상이 돌출부(831)의 형상과 실질적으로 동일할 경우, 돌출부(831)가 홈(211)에 삽입 시, 대상체(800)는 내부 공간(210)에 흔들림이 최소화되어 고정된 채로 수용될 수 있다.In order for the protrusion 831 to be easily seated in the groove 211 , the area of the groove 211 may be greater than or equal to the area of the protrusion 831 . In addition, the inner shape of the groove 211 may be configured to have a shape corresponding to the outer shape of the protrusion 831 . As described above, as the groove 211 is provided in a shape corresponding to the external shape of the protrusion 831 , the protrusion 831 of the packaging material 830 remains inserted into the groove 211 , and the object 800 moves into the chamber 200 . ) may be seated in the inner space 210 of the . Furthermore, when the shape of the groove 211 is substantially the same as the shape of the protrusion 831 , when the protrusion 831 is inserted into the groove 211 , the object 800 is shaken in the internal space 210 is minimized. It can be accommodated fixedly.

챔버(200)의 하부에는 제1전극(230)이 구비된다. 제1전극(230)은 내부 공간(210)의 하부에 위치하도록 챔버(200)의 하부에 구비된다.A first electrode 230 is provided at a lower portion of the chamber 200 . The first electrode 230 is provided in the lower part of the chamber 200 to be positioned in the lower part of the internal space 210 .

챔버(200)의 상부에는 내부 공간(210)을 개폐시키는 개폐부(300)가 설치된다. 제2전극(350)은 개폐부(300)에 구비된다. An opening and closing part 300 for opening and closing the inner space 210 is installed at the upper portion of the chamber 200 . The second electrode 350 is provided in the opening and closing part 300 .

따라서, 챔버(200)는 제1전극(230)과 제2전극(350) 사이에 위치한다. Accordingly, the chamber 200 is positioned between the first electrode 230 and the second electrode 350 .

챔버(200)는 유전체 재질로 구성된다. 여기서의 유전체 재질은 유리(Glass), 석영(Quartz), 세라믹(알루미나), 폴리머 계열(폴리이미드, 폴리프로필렌 등) 등을 포함할 수 있다. 폴리머 계열은 유리(Glass), 석영(Quartz), 세라믹(알루미나)등과 같은 재질에 비해 상대적으로 절연파괴에 취약하여 유전 상수 또한 상대적으로 낮고 플라즈마가 발생함으로 인해 챔버의 표면이 산화되어 손상될 수 있는 단점이 있으나 폴리머 계열이 특정 볼륨감 있는 챔버 형상을 제작하는 것이 용이하다는 점에서 본 실시예에서는 보다 바람직하다 할 것이다. The chamber 200 is made of a dielectric material. Here, the dielectric material may include glass, quartz, ceramic (alumina), polymer-based material (polyimide, polypropylene, etc.). Polymer series is relatively vulnerable to dielectric breakdown compared to materials such as glass, quartz, ceramic (alumina), etc., so the dielectric constant is also relatively low. Although there are disadvantages, the polymer series is more preferable in this embodiment in that it is easy to manufacture a specific volumetric chamber shape.

전원부는 챔버(200)의 하부에 구비되고, 보다 바람직하게는 제1전극(230)의 하부에 구비되어 제1전극(230)에 연결된다. The power supply unit is provided under the chamber 200 , and more preferably, provided under the first electrode 230 and connected to the first electrode 230 .

위와 같이, 제1전극(230)의 하부에 전원부가 구비되고, 전원부가 제1전극(230)에 전기를 인가하며, 개폐부(300)가 커버(370)에 의해 절연되므로, 사용자가 내부 공간(210)의 개폐를 위해 개폐부(300)를 착오로 파지하여도, 감전되지 않아 높은 안전성이 보장된다.As described above, the power supply unit is provided under the first electrode 230 , the power supply unit applies electricity to the first electrode 230 , and the opening and closing unit 300 is insulated by the cover 370 , so that the user can use the internal space ( Even if the opening and closing unit 300 is erroneously gripped to open and close the 210 , high safety is ensured without an electric shock.

제1전극(230)이 챔버(200)의 하부에 구비되고, 제2전극(350)이 개폐부(300)에 구비되며, 제1전극(230) 및 제2전극(350) 사이에 구비되는 챔버(200)가 유전체로 구성되므로, 전원부가 제1전극(230)에 전기를 인가하게 되면, 제1전극(230)과 제2전극(350)의 전압차에 의해 내부 공간(210)에 플라즈마가 형성된다.The first electrode 230 is provided in the lower part of the chamber 200 , the second electrode 350 is provided in the opening and closing part 300 , and the chamber is provided between the first electrode 230 and the second electrode 350 . Since 200 is made of a dielectric, when the power supply unit applies electricity to the first electrode 230 , plasma is generated in the internal space 210 by the voltage difference between the first electrode 230 and the second electrode 350 . is formed

제1전극(230)은 홈(211)의 바닥부 위치에 표면 전극의 형태로 구비된다.The first electrode 230 is provided in the form of a surface electrode at the bottom portion of the groove 211 .

플라즈마를 통한 인공 대용물(810)의 표면처리는 인공 대용물(810)의 적어도 일부 영역에 필수적으로 수행되어야 한다. The surface treatment of the artificial substitute 810 through plasma must be essentially performed on at least a partial region of the artificial substitute 810 .

제1전극(230)의 형상은 표면처리가 필요한 일부 영역에 대응되게 형성된다. 다만, 표면처리가 필요한 일부 영역에 대응되게 제1전극(230)을 형성할 경우에는, 표면처리 하고자 하는 인공 대용물(810)의 형상이 달라지게 되면, 제1전극(230)의 형상 또한 달라져야 하므로, 호환성이 떨어지는 문제점이 있다. 따라서, 포장재(830)의 돌출부(831) 형상이 인공 대용물(810)의 다양한 형상에 대응될 수 있는 형상으로 제작되고, 홈(211)의 형상 또한 이러한 돌출부(831)의 형상과 대응되게 형성되는 구성에 있어서, 제1전극(230)의 형상은 홈(211)의 바닥면의 형상에 대응되게 형성되는 것이 바람직하다. 이를 통해, 인공 대용물(810)의 형상이 다양 해지거나 표면처리가 필요한 부분이 어느 한 부분으로 특정되지 않더라도 인공 대용물(819)의 표면처리가 가능하게 된다.The shape of the first electrode 230 is formed to correspond to a partial area requiring surface treatment. However, when the first electrode 230 is formed to correspond to a partial area requiring surface treatment, if the shape of the artificial substitute 810 to be surface treated is changed, the shape of the first electrode 230 must also be changed. Therefore, there is a problem of poor compatibility. Therefore, the shape of the protrusion 831 of the packaging material 830 is manufactured in a shape that can correspond to various shapes of the artificial substitute 810 , and the shape of the groove 211 is also formed to correspond to the shape of the protrusion 831 . In this configuration, the shape of the first electrode 230 is preferably formed to correspond to the shape of the bottom surface of the groove 211 . Through this, even if the shape of the artificial substitute 810 is diversified or the part requiring surface treatment is not specified as any one part, the surface treatment of the artificial substitute 819 is possible.

다양한 형상의 인공 대용물(810)이 포장재(830)에 의해 용이하게 포장되도록 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적은 인공 대용물(810)의 수평 면적보다 실질적으로 큰 것이 바람직하고, 돌출부(831)가 홈(211)에 용이하게 삽입되도록 홈(211)의 바닥부의 수평 면적은 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적보다 실질적으로 큰 것이 바람직하며, 제1전극(230)의 수평 면적은 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적보다 실질적으로 크고, 홈(211)의 바닥부의 수평 면적과 실질적으로 동일하거나 작은 것이 바람직하다.The horizontal area of the bottom of the protrusion 831 is preferably substantially larger than the horizontal area of the artificial substitute 810 so that the artificial substitute 810 of various shapes is easily packed by the packaging material 830 , and the protrusion 831 is preferably larger than the horizontal area of the artificial substitute 810 . ) to be easily inserted into the groove 211 , the horizontal area of the bottom of the groove 211 is preferably substantially larger than the horizontal area of the bottom of the protrusion 831 , and the horizontal area of the first electrode 230 is equal to that of the protrusion ( It is preferable that the horizontal area of the bottom of the groove 831 is substantially larger than the horizontal area of the bottom of the groove 211 and that the horizontal area of the bottom of the groove 211 is substantially equal to or smaller than the horizontal area.

홈(211)의 바닥부의 수평 면적, 제1전극(230)의 수평면적, 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적 및 인공 대용물(810)의 수평 면적은 '홈(211)의 바닥부의 수평 면적 ≥ 제1전극(230)의 수평면적 > 돌출부(831)의 바닥부의 수평 면적 > 인공 대용물(810)의 수평 면적' 관계를 만족하는 것이 바람직하다.The horizontal area of the bottom of the groove 211 , the horizontal area of the first electrode 230 , the horizontal area of the bottom of the protrusion 831 , and the horizontal area of the artificial substitute 810 are 'horizontal area of the bottom of the groove 211 . It is preferable to satisfy the relationship ≥ horizontal area of the first electrode 230 > horizontal area of the bottom of the protrusion 831 > horizontal area of the artificial substitute 810 .

챔버(200)는 홈(211)이 구비된 영역이 교체 가능하게 구비되는 것이 바람직하다. 이는, 플라즈마 표면처리를 반복적으로 수행함에 따라, 유전체 재질의 챔버(200)의 표면은 산화되어 손상될 수 있다. 따라서 챔버(200)의 적어도 일부를 분리 가능하게 결합하는 구성을 채택하여 산화되어 손상된 일부분을 교체함으로써 유지보수가 쉽게 달성될 수 있도록 할 수 있다. It is preferable that the chamber 200 is provided so that the region provided with the groove 211 is replaceable. As the plasma surface treatment is repeatedly performed, the surface of the chamber 200 made of a dielectric material may be oxidized and damaged. Accordingly, by adopting a configuration for separably coupling at least a portion of the chamber 200 and replacing the damaged and oxidized portion, maintenance can be easily achieved.

이상에서 설명한 챔버(200)의 형상과는 달리, 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10)는, 도 11에 도시된 바와 같이, 다른 형상의 홈(211')을 갖는 챔버(200')를 구비할 수 있다.Unlike the shape of the chamber 200 described above, the plasma surface treatment apparatus 10 of the present invention includes a chamber 200' having a groove 211' having a different shape, as shown in FIG. 11 . can do.

이 경우, 챔버(200')의 홈(211')은 복수개의 포장재(830)를 한꺼번에 수용하는 것이 가능하고, 다양한 형상의 포장재(830)에 높은 호환성을 갖도록 어느 한 포장재의 돌출 형상에 대응되지 않고, 홈(211')의 바닥부가 넓은 수평 면적을 갖을 수도 있다. 또한, 홈(211')의 형상이 간단한 형상으로 형성됨으로써, 챔버(200')의 교환시 비용이 절감될 수 있다.In this case, the groove 211' of the chamber 200' is capable of accommodating a plurality of packaging materials 830 at once, and does not correspond to the protrusion shape of any one packaging material so as to have high compatibility with the packaging materials 830 of various shapes. Alternatively, the bottom of the groove 211 ′ may have a large horizontal area. In addition, since the shape of the groove 211 ′ is formed in a simple shape, the cost when replacing the chamber 200 ′ can be reduced.

제1전극(230)이 내부 공간(210)의 바닥면에 노출되지 않도록, 제1전극(230)은 내부 공간(210)의 바닥면의 내부에 매립되어 있는 것이 바람직하다. The first electrode 230 is preferably embedded in the bottom surface of the inner space 210 so that the first electrode 230 is not exposed to the bottom surface of the inner space 210 .

제1전극 커버(290)는 제1전극(230)을 감싸도록 구비된다. 제1전극 커버(290)는 제1전극(230)의 상면을 제외한 면을 감싸도록 제1전극(230)의 챔버(200)의 하부에 설치된다. 제1전극 커버(290)에 의해 제1전극(230)이 감쌈으로써, 플라즈마 형성 시 누전이 방지되어 높은 안전성이 보장된다.The first electrode cover 290 is provided to surround the first electrode 230 . The first electrode cover 290 is installed in the lower portion of the chamber 200 of the first electrode 230 so as to cover the surface except for the upper surface of the first electrode 230 . By wrapping the first electrode 230 by the first electrode cover 290 , leakage is prevented during plasma formation, thereby ensuring high safety.

제1전극 커버(290)는 챔버(200)와 분리 결합되는 구조일 수 있고, 인서트 사출성형에 의해 제1전극(230)은 유전체 내부에 매립되어 일체적으로 제작되는 구조일 수 있다.The first electrode cover 290 may have a structure in which it is separated and coupled to the chamber 200 , and the first electrode 230 may be integrally manufactured by being embedded in a dielectric material by insert injection molding.

개폐부(300)는 챔버(200)를 밀폐 또는 개방시킨다. 개폐부(300)는 프레임(120)의 상부 좌측에 회동 가능하게 설치됨으로써, 챔버(200)의 내부 공간(210)을 개폐시킨다.The opening/closing unit 300 closes or opens the chamber 200 . The opening and closing unit 300 is rotatably installed on the upper left side of the frame 120 to open and close the inner space 210 of the chamber 200 .

개폐부(300)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 베이스(110)에 연결된 프레임(120)에 설치되는 회동부(330)와, 회동부(330)에 의해 회동 가능하게 설치는 도어부재(310)와, 도어부재(310)의 하부에 설치되어 구비되는 제2전극(350)과, 도어부재(310) 및 제2전극(350)을 감싸되, 제2전극(350)의 하면을 제외한 면을 감싸는 커버(370)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIG. 8 , the opening and closing unit 300 includes a rotating unit 330 installed on the frame 120 connected to the base 110 , and a door member 310 rotatably installed by the rotating unit 330 . ), the second electrode 350 installed and provided under the door member 310 , and the door member 310 and the second electrode 350 are wrapped around the second electrode 350 , except for the lower surface of the second electrode 350 . It may be configured to include a cover 370 surrounding the.

도어부재(310)는 회동부(330)에 의해 프레임(120)에 설치된다. 도어부재(310)는 희동부(330)을 통해 회동 가능하며, 이를 통해, 개폐부(300)는 내부 공간(210)을 개폐시킬 수 있다.The door member 310 is installed on the frame 120 by the rotating part 330 . The door member 310 can be rotated through the moving part 330 , and through this, the opening and closing part 300 can open and close the inner space 210 .

제2전극(350)은 도어부재(310)의 하부에 설치된다.The second electrode 350 is installed under the door member 310 .

베이스(110), 프레임(120), 도어부재(310) 및 회동부(330)는 금속 재질로 이루어지고, 서로 전기적으로 연결가능한 구조로 배치된다. 따라서 제1전극(230)은 도어부재(310), 회동부(330), 베이스(110) 및 프레임(120)을 통해 접지된다.The base 110 , the frame 120 , the door member 310 , and the rotating part 330 are made of a metal material and are disposed in a structure electrically connectable to each other. Accordingly, the first electrode 230 is grounded through the door member 310 , the rotating part 330 , the base 110 , and the frame 120 .

커버(370)는 절연 재질(또는 비금속 재질)로 이루어진다. The cover 370 is made of an insulating material (or a non-metal material).

절연재질의 커버(370)는 도어부재(310) 및 제2전극(350)을 전체적으로 감싸므로, 사용자가 내부 공간(210)을 개방 또는 폐쇄하기 위해 개폐부(300)를 파지할 때, 사용자가 감전되는 것을 방지할 수 있다.Since the cover 370 made of an insulating material completely surrounds the door member 310 and the second electrode 350 , when the user grips the opening and closing part 300 to open or close the internal space 210 , the user may receive an electric shock. can be prevented from becoming

커버(370)는 도어부재(310) 및 제2전극(350)을 감쌀 때, 제2전극(350)의 하면을 제외한 면을 감싸고, 제2전극(350)의 하면은 노출될 수 있다. 이와는 다르게 제2전극(350)의 하면은 유전체 재질로 감싸는 구성을 채택하여 제2전극(350)의 외부로 노출되지 않도록 할 수 있다. When the cover 370 covers the door member 310 and the second electrode 350 , the cover 370 may cover a surface except for the lower surface of the second electrode 350 , and the lower surface of the second electrode 350 may be exposed. Alternatively, the lower surface of the second electrode 350 may be covered with a dielectric material so as not to be exposed to the outside of the second electrode 350 .

개폐부(300)는, 전술한 바와 같이, 회동 방식으로 개폐되는 도어부재(310)를 포함할 수 있으며, 이와 달리, 슬라이드 방식으로 개폐되는 도어부재를 포함할 수도 있다. 다만 이하에서 설명하는 실링 효과를 고려한다면 회동 방식이 본 실시예에서는 보다 바람직할 수 있다. As described above, the opening/closing unit 300 may include the door member 310 that opens and closes in a rotational manner. Alternatively, it may include a door member that opens and closes in a sliding manner. However, in consideration of the sealing effect described below, the rotation method may be more preferable in this embodiment.

도 5에 도시된 바와 같이, 챔버(200)의 상부에는 챔버(200)와 개폐부(300)를 실링하는 실링부재(250)가 구비될 수 있다.As shown in FIG. 5 , a sealing member 250 for sealing the chamber 200 and the opening/closing unit 300 may be provided at an upper portion of the chamber 200 .

실링부재(250)의 상면에는 상부로 돌출된 돌기(251)가 형성된다. 이러한 돌기(251)를 통해, 개폐부(300)의 하면과 실링부재(250)의 상면이 서로 선 접촉하게 된다. 실링부재(250)가 돌기(251)를 통해, 개폐부(300)와 선 접촉하게 됨으로써, 개폐부(300)의 도어부재(310), 제2전극(350) 및 커버(370)의 무게로 내부 공간(210)을 쉽게 밀폐시킬 수 있다. 이처럼, 내부 공간(210)이 실링부재(250)에 의해 완전히 밀폐되면, 진공펌프(400)를 통해, 내부 공간(210)을 보다 빠르게 진공 상태로 만들 수 있다. 여기서 진공 상태라 함은 내부 공간(210)의 공기가 외부로 배기되어 저압 상태가 됨을 의미하며 고 진공일 필요는 없다. A protrusion 251 protruding upward is formed on the upper surface of the sealing member 250 . Through these protrusions 251, the lower surface of the opening and closing part 300 and the upper surface of the sealing member 250 come into line contact with each other. As the sealing member 250 is brought into line contact with the opening and closing unit 300 through the protrusion 251 , the weight of the door member 310 , the second electrode 350 , and the cover 370 of the opening and closing unit 300 causes the internal space. 210 can be easily sealed. As such, when the inner space 210 is completely sealed by the sealing member 250 , through the vacuum pump 400 , the inner space 210 can be made into a vacuum state more quickly. Here, the vacuum state means that the air in the internal space 210 is exhausted to the outside to become a low pressure state, and it is not necessary to have a high vacuum.

전술한 챔버(200)는, 수용 공간이 마련된 제1유전체 블록일 수 있다.The aforementioned chamber 200 may be a first dielectric block in which an accommodation space is provided.

개폐부(300)는 제1유전체 블록의 개방 단부를 밀폐하거나 개방하는 제2유전체 블록일 수 있다.The opening/closing part 300 may be a second dielectric block sealing or opening an open end of the first dielectric block.

제1유전체 블록의 상부에는 제2유전체 블록이 배치되고, 제1유전체 블록의 수용 공간, 즉, 제1유전체 블록의 내부 공간(210)에는 대상체(800)가 수용될 수 있다.A second dielectric block is disposed above the first dielectric block, and the object 800 may be accommodated in the accommodating space of the first dielectric block, that is, the internal space 210 of the first dielectric block.

제1전극(230)은 제1유전체 블록에 매립되는 하부 전극일 수 있으며, 제2전극(350)은 제2유전체 블록에 매립되는 상부 전극일 수 있다.The first electrode 230 may be a lower electrode embedded in the first dielectric block, and the second electrode 350 may be an upper electrode embedded in the second dielectric block.

제1유전체 블록과 제2유전체 블록 사이에는 전술한 실링부재(250)와 같이, 제1유전체 블록과 제2유전체 블록을 상호 밀폐시키는 실링부재(250)가 구비될 수 있다.A sealing member 250 for sealing the first dielectric block and the second dielectric block to each other may be provided between the first dielectric block and the second dielectric block, like the aforementioned sealing member 250 .

본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10)는 그 내부 공간(210)에 대상체(800)가 수용되고 유전체로 구성되며 내부 공간(210)의 바닥면의 하부 내부에 하부 전극이 구비된 챔버(200)와, 챔버(200)의 상부에서 내부 공간(210)을 개폐하도록 챔버(200)에 설치되고 그 내부에 상부 전극이 구비된 개폐부(300)를 포함하고, 하부 전극에 전기를 인가하거나 접지하여 내부 공간(210)에 플라즈마를 형성시켜 대상체(800)의 표면처리를 수행한다. 이 경우, 상부 전극은 전술한 제1전극(230)이고, 하부 전극은 전술한 제2전극(350)이다.In the plasma surface treatment apparatus 10 of the present invention, the object 800 is accommodated in the internal space 210, the chamber 200 is made of a dielectric, and the lower electrode is provided inside the lower part of the bottom surface of the internal space 210. and an opening and closing part 300 installed in the chamber 200 to open and close the inner space 210 at the upper part of the chamber 200 and having an upper electrode therein. The surface treatment of the object 800 is performed by forming plasma in the space 210 . In this case, the upper electrode is the aforementioned first electrode 230 , and the lower electrode is the aforementioned second electrode 350 .

제1전극(230) 및 제2전극(350), 즉, 하부 전극 및 상부 전극은 유전체 재질의 수용 공간 외측에서 수용 공간을 기준으로 서로 대향되게 구비된다.The first electrode 230 and the second electrode 350 , that is, the lower electrode and the upper electrode are provided to face each other on the basis of the accommodation space outside the accommodation space made of a dielectric material.

제1전극(230)은 대상체(800)와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치된다.The first electrode 230 is disposed such that a dielectric is provided between the first electrode 230 and the object 800 .

제2전극(350)은 제1전극과 대향되게 설치되며, 대상체(800)와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치된다. The second electrode 350 is installed to face the first electrode, and a dielectric is disposed between the second electrode 350 and the object 800 .

유전체 재질의 챔버(200)에는 대상체(800)의 출입이 가능하도록 도어부재(310)가 구비되고, 도어부재(310)에는 제2전극(350)이 구비된다.A door member 310 is provided in the chamber 200 made of dielectric material to allow the object 800 to enter and exit, and the door member 310 is provided with a second electrode 350 .

진공펌프(400)는 챔버(200)의 내부 공간(210)과 연통되어 내부 공간(210)의 공기를 배기하는 기능을 한다. The vacuum pump 400 communicates with the internal space 210 of the chamber 200 and functions to exhaust air in the internal space 210 .

진공펌프(400)를 이용하여 내부 공간(210)의 공기를 배기하여 내부 공간(210)은 진공 상태로 된 채로, 내부 공간(210)에 수용된 대상체(800)의 플라즈마 표면처리가 수행된다.Plasma surface treatment of the object 800 accommodated in the internal space 210 is performed while the internal space 210 is in a vacuum state by exhausting air in the internal space 210 using the vacuum pump 400 .

플라즈마 표면처리 장치(10)는, 대상체(800)가 수용된 내부 공간(210)이 구비되고, 내부 공간(210)을 유전체로 둘러싼 챔버(200)의 상, 하부 상, 하부 각각에 상, 하부 전극이 배치되고, 진공펌프(400)를 통해 내부 공간(210)의 공기를 배기하여 내부 공간(210)을 진공 상태로 만든 후, 상, 하부 전극의 전압차를 이용하여 내부 공간에 플라즈마를 발생시켜 대상체의 표면처리를 수행하게 된다.The plasma surface treatment apparatus 10 includes an internal space 210 in which the object 800 is accommodated, and upper, lower, upper, and lower electrodes respectively on the upper, lower, upper, and lower portions of the chamber 200 surrounding the inner space 210 with a dielectric. After this arrangement, the air in the inner space 210 is exhausted through the vacuum pump 400 to make the inner space 210 in a vacuum state, and then plasma is generated in the inner space using the voltage difference between the upper and lower electrodes. The surface treatment of the object is performed.

2개의 전극(즉, 제1, 2전극(230, 350) 또는 상, 하부 전극)은 각각 챔버(200)의 내부 공간(210)(즉, 수용 공간) 외측에 배치되어 내부 공간(210)(즉, 수용 공간)의 내부에 전기장을 생성한다. 이렇게 생성된 전기장은 플라즈마를 형성하여 대상체(800)를 플라즈마 처리하게 된다.The two electrodes (that is, the first and second electrodes 230 and 350 or the upper and lower electrodes) are disposed outside the inner space 210 (ie, the receiving space) of the chamber 200, respectively, and the inner space 210 ( That is, it creates an electric field inside the receiving space). The electric field thus generated forms plasma to plasma-treat the object 800 .

따라서, 인체 내부에 삽입되는 인공 대용물(810)은 포장재(830)로 포장된 상태로 챔버(200)의 내부 공간(210)(즉, 수용 공간)에 수용되어 인공 대용물(810)의 적어도 일부 표면이 멸균 플라즈마 처리가 된다.Accordingly, the artificial substitute 810 to be inserted into the human body is accommodated in the inner space 210 (ie, the receiving space) of the chamber 200 in a state of being packaged with the packaging material 830 to at least the artificial substitute 810 . Some surfaces are treated with sterile plasma.

플라즈마에 의해 멸균처리 및 표면처리된 인공 대용물(810)의 표면은 그 표면이 개질되어 친수성을 가지게 된다. 따라서, 인공 대용물(810)의 식립시 골조직의 융합이 용이하게 이루어져 염증이 발생되는 것을 방지할 수 있다.The surface of the artificial substitute 810 that has been sterilized and surface-treated by plasma is modified to have hydrophilicity. Therefore, when the artificial substitute 810 is implanted, the fusion of the bone tissue is facilitated, thereby preventing inflammation from occurring.

진공펌프(400)를 통해 내부 공간(210)을 배기하게 되면, 내부 공간(210)은 저압 또는 진공 상태가 된다. 또한, 포장재(830)의 내부 공기는 투과성 막(850)에 의해 투과되어 포장재(830)의 내부가 진공상태가 될 수 있다. 따라서, 포장재(830) 내부에 플라즈마가 용이하게 생성되어 인공 대용물(810)의 표면처리가 효과적으로 이루어질 수 있다.When the internal space 210 is exhausted through the vacuum pump 400 , the internal space 210 is in a low pressure or vacuum state. In addition, the air inside the packaging material 830 may be transmitted through the permeable membrane 850 so that the inside of the packaging material 830 is in a vacuum state. Therefore, plasma is easily generated inside the packaging material 830, so that the surface treatment of the artificial substitute 810 can be effectively performed.

플라즈마 표면처리 장치(10)는, 챔버(200)의 내부 공간(즉, 수용 공간)에 수용된 포장재(830)의 투과성 막(850)과 챔버(200)의 내벽 사이가 서로 이격되도록 챔버(200) 내부에 형성된 배기 공간(270)과, 배기 공간(270)과 연통되도록 챔버(200)에 형성된 배기홀(231)을 더 포함하여 구성될 수 있다.The plasma surface treatment apparatus 10 is a chamber 200 such that the inner wall of the chamber 200 and the permeable film 850 of the packaging material 830 accommodated in the inner space (ie, the receiving space) of the chamber 200 are spaced apart from each other. An exhaust space 270 formed therein and an exhaust hole 231 formed in the chamber 200 to communicate with the exhaust space 270 may be further included.

배기 공간(270)은 포장재(830)의 투과성 막(850)의 상부에 위치한다. The exhaust space 270 is located on top of the permeable membrane 850 of the packaging material 830 .

배기홀(231)은 진공펌프(400)와 연통된다. The exhaust hole 231 communicates with the vacuum pump 400 .

배기홀(231)은 대상체(800)가 내부 공간(210)에 수용되더라도, 포장재(830) 또는 투과성 막(850)에 의해 구멍이 막히지 않은 채로 노출되어 있다. 다시 말해, 배기홀(231)은 대상체(800)가 내부 공간(210)에 수용되더라도 대상체(800)(즉, 포장재(830) 또는 투과성 막(850) 등)에 의해 구멍이 막히지 않고, 배기 공간(270)과 연통된 상태를 유지한다.Even if the object 800 is accommodated in the internal space 210 , the exhaust hole 231 is exposed without being blocked by the packaging material 830 or the permeable membrane 850 . In other words, the exhaust hole 231 is not blocked by the object 800 (ie, the packaging material 830 or the permeable membrane 850 , etc.) even if the object 800 is accommodated in the internal space 210 , and the exhaust space Keep in communication with (270).

진공펌프(400)가 가동되면, 포장재(830) 내부의 공기는 투과성 막(850), 내부 공간(210), 배기 공간(270), 배기홀(231) 순으로 유동되어 배기됨으로써, 포장재(830) 내부 및 챔버(200)의 내부가 진공상태가 된다.When the vacuum pump 400 is operated, the air inside the packaging material 830 flows and exhausts in the order of the permeable membrane 850, the inner space 210, the exhaust space 270, and the exhaust hole 231, so that the packaging material 830 ) and the inside of the chamber 200 is in a vacuum state.

또한, 배기 공간(270)이 형성됨으로써, 챔버(200) 및 포장재(830) 내부의 공기가 용이하게 배기될 수 있다. 따라서, 더욱 쉽게 포장재(830) 내부 및 챔버(200)의 내부가 진공상태가 될 수 있다.In addition, since the exhaust space 270 is formed, the air inside the chamber 200 and the packaging material 830 may be easily exhausted. Accordingly, the inside of the packaging material 830 and the inside of the chamber 200 may be in a vacuum state more easily.

위와 같이, 챔버(200) 내부의 내부 공간(210), 즉, 수용 공간에 대상체(800)가 포장재(830)에 포장된 상태로 수용되므로, 챔버(200) 내부가 플라즈마 처리를 위해 저압상태가 될 때 포장재(830) 내부도 함께 저압상태가 되어, 포장재(830)를 개봉하지 않고, 포장재(830)로 포장된 상태에서 인공 대용물(810)의 표면을 플라즈마 처리시킬 수 있다.As above, since the object 800 is accommodated in the inner space 210 inside the chamber 200, that is, in the accommodation space in a state packaged in the packaging material 830, the inside of the chamber 200 is in a low pressure state for plasma processing. When the packaging material 830 is also in a low pressure state, the surface of the artificial substitute 810 can be plasma-treated in a state packaged with the packaging material 830 without opening the packaging material 830 .

이하, 도 12를 참조하여, 본 발명의 플라즈마 표면처리 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a plasma surface treatment method of the present invention will be described with reference to FIG. 12 .

도 12는 본 발명의 플라즈마 표면처리 방법의 개략도이다.12 is a schematic diagram of a plasma surface treatment method of the present invention.

도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 표면처리 방법은, As shown in Figure 12, the plasma surface treatment method of the present invention,

포장재(830)로 포장된 상태의 대상체(800)를 유전체로 둘러 쌓인 챔버(200)의 내부 공간(210)에 수납하는 단계(S10)와, 진공펌프(400)를 통해, 챔버(200)의 내부 공간(210)의 공기를 배기하는 단계(S20)와, 챔버(200)에 인접한 전극(230, 350)의 전압차를 발생하여, 챔버(200)의 내부 공간(210)에 플라즈마를 발생시키는 단계(S30)를 포함하여 구성될 수 있다.The step (S10) of accommodating the object 800 in the state of being packaged with the packaging material 830 in the inner space 210 of the chamber 200 surrounded by the dielectric, and through the vacuum pump 400, the chamber 200 A step of evacuating the air of the internal space 210 (S20) and generating a voltage difference between the electrodes 230 and 350 adjacent to the chamber 200 to generate plasma in the internal space 210 of the chamber 200 It may be configured to include step (S30).

이 경우, 수납하는 단계(S10)는, 대상체(800)를 포장재(830)로 포장된 상태로 상기 내부 공간(210)에 수납한다. 따라서, 배기하는 단계(S20)는, 챔버(200)의 내부가 플라즈마 처리를 위해 저압상태가 될 때 포장재(830)의 내부도 함께 저압상태가 되어, 포장재(830를 개봉하지 않고 포장재(830)로 포장된 상태에서 대상체(800)의 표면을 플라즈마 처리하게 된다.In this case, in the receiving step ( S10 ), the object 800 is accommodated in the inner space 210 in a state in which it is packaged with the packaging material 830 . Therefore, in the step of evacuating (S20), when the inside of the chamber 200 is in a low pressure state for plasma processing, the inside of the packaging material 830 is also in a low pressure state, and the packaging material 830 is not opened without opening the packaging material 830. The surface of the object 800 is plasma-treated in a state in which it is packaged.

전술한 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 표면처리 장치(10) 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리 방법은, 유전체로 이루어진 챔버(200)의 내부 공간(210)에 인공 대용물(810)을 포장재(830)로 포장된 상태로 수용시키고, 진공 상태에서 플라즈마 처리를 통해, 인공 대용물(810)의 일부 표면을 친수성으로 표면 개질시킴과 동시에, 인공 대용물(810)을 멸균시키게 된다.As described above, in the plasma surface treatment apparatus 10 of the present invention and the plasma surface treatment method using the same, the artificial substitute 810 is used as a packaging material 830 in the inner space 210 of the chamber 200 made of a dielectric material. It is accommodated in a packaged state, and through plasma treatment in a vacuum state, some surfaces of the artificial substitute 810 are surface-modified to be hydrophilic, and the artificial substitute 810 is sterilized at the same time.

따라서, 인공 대용물(810) 시술 전에 수술실에서 포장재(830)에 포장된 인공 대용물(810)을 곧바로 표면처리시킬 수 있어 시간이 지남에 따라 소수성이 되어 식립시 염증이 발생하는 종래의 문제점을 해결할 수 있다.Therefore, the artificial substitute 810 packaged in the packaging material 830 can be directly surface-treated in the operating room before the artificial substitute 810 procedure, so that it becomes hydrophobic over time and inflammation occurs during implantation. can be solved

또한, 내부 공간(210)이 유전체로 이루어진 챔버(200)에 둘러싸여 있어, 별도의 유전체가 필요 없다. In addition, since the inner space 210 is surrounded by the chamber 200 made of a dielectric, a separate dielectric is not required.

또한, 챔버(200) 내부의 공간 확보가 용이하여, 포장재(830)로 포장된 상태의 인공 대용물(810)을 쉽게 수용시킬 수 있으며, 이를 통해, 포장된 인공 대용물(810)의 일부 표면에 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.In addition, since it is easy to secure the space inside the chamber 200, it is possible to easily accommodate the artificial substitute 810 in the packaged state with the packaging material 830, and through this, some surface of the packaged artificial substitute 810 may be subjected to plasma treatment.

한편, 플라즈마 표면처리 장치(10)는 개폐부(300)의 개폐를 감지하는 센서(미도시)와, 플라즈마 표면처리 수행 중 개폐부(300)의 개방시 플라즈마 생성을 차단시키는 제어부(미도시)를 더 포함하여 구성될 수 있다.On the other hand, the plasma surface treatment apparatus 10 further includes a sensor (not shown) for detecting the opening and closing of the opening/closing unit 300, and a control unit (not shown) for blocking plasma generation when the opening/closing unit 300 is opened during plasma surface treatment. may be included.

제어부는 전원부 및 센서와 연결된다. 따라서, 전원부가 제1전극(230)에 전기가 인가함으로써, 챔버(200)의 내부 공간(210)에 플라즈마가 생성되어 표면처리를 수행할 때, 센서를 통해 개폐부(300)가 개방된 것이 측정되면, 제어부(미도시)는, 전원부를 차단시킨다. 이처럼, 제어부 및 센서를 통해, 플라즈마 표면처리 수행 중 의도치 않게 개폐부(300)가 개방되어 안전사고가 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있다.The control unit is connected to the power supply and the sensor. Accordingly, when electricity is applied to the first electrode 230 by the power supply unit, plasma is generated in the inner space 210 of the chamber 200 and surface treatment is performed, the opening/closing unit 300 is measured to be opened through the sensor. When done, the control unit (not shown) cuts off the power supply. In this way, through the control unit and the sensor, it is possible to prevent in advance that the opening/closing unit 300 is unintentionally opened during plasma surface treatment and a safety accident occurs.

본 발명은 도면에 도시된 실시 예들을 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, these are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Accordingly, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

10: 플라즈마 표면처리 장치
110: 베이스 120: 프레임
130: 케이스
200: 챔버 210: 내부 공간
211: 홈 230: 제1전극
231: 배기홀 250: 실링부재
251: 돌기 270: 배기 공간
290: 제1전극 커버
300: 개폐부 310: 도어부재
330: 회동부 350: 제2전극
370: 커버
400: 진공펌프
800: 대상체 810: 임플란트
830: 포장재 831: 돌출부
850: 투과성 막10: plasma surface treatment device
110: base 120: frame
130: case
200: chamber 210: interior space
211: groove 230: first electrode
231: exhaust hole 250: sealing member
251: projection 270: exhaust space
290: first electrode cover
300: opening and closing part 310: door member
330: rotating part 350: second electrode
370: cover
400: vacuum pump
800: object 810: implant
830: packaging material 831: protrusion
850: permeable membrane

Claims (17)

플라즈마를 이용하여 대상체의 표면처리를 수행하는 플라즈마 표면처리 장치에 있어서,
제1, 2전극; 및
상기 제1, 2전극 사이에 위치하고, 그 내부 공간에 상기 대상체가 수용되며, 유전체로 구성되는 챔버;를 포함하고,
상기 제1, 2전극의 전압차에 의해 상기 내부 공간에 플라즈마를 형성시키는, 플라즈마 표면처리 장치.In the plasma surface treatment apparatus for performing surface treatment of an object using plasma,
first and second electrodes; and
It is located between the first and second electrodes, the object is accommodated in the internal space, and a chamber composed of a dielectric material;
A plasma surface treatment apparatus for forming plasma in the inner space by a voltage difference between the first and second electrodes. 제1항에 있어서,
상기 내부 공간의 공기를 배기하는 진공펌프;를 더 포함하는, 플라즈마 표면처리 장치.According to claim 1,
The plasma surface treatment apparatus further comprising; a vacuum pump for exhausting the air in the inner space. 제1항에 있어서,
상기 챔버의 상부에 설치되며, 상기 내부 공간을 개폐하고, 상기 제2전극이 구비된 개폐부;를 더 포함하는, 플라즈마 표면처리 장치.According to claim 1,
Plasma surface treatment apparatus further comprising a; installed in the upper portion of the chamber, opening and closing the inner space, the opening and closing portion provided with the second electrode. 제3항에 있어서,
상기 개폐부는,
베이스에 연결된 프레임에 설치되는 회동부;
상기 회동부에 의해 회동 가능하게 설치되며, 그 하부에 상기 제2전극이 구비되는 도어부재; 및
상기 도어부재 및 상기 제2전극을 감싸되, 상기 제2전극의 하면을 제외한 면을 감싸는 커버;를 포함하고,
상기 베이스, 상기 프레임, 상기 도어부재 및 상기 회동부는 금속 재질로 이루어지고, 상기 커버는 절연 재질로 이루어진, 플라즈마 표면처리 장치.4. The method of claim 3,
The opening and closing part,
a rotating part installed on the frame connected to the base;
a door member rotatably installed by the rotating part and having the second electrode at a lower portion thereof; and
and a cover covering the door member and the second electrode except for the lower surface of the second electrode.
The base, the frame, the door member and the rotating part are made of a metal material, and the cover is made of an insulating material, plasma surface treatment apparatus. 제3항에 있어서,
상기 제1전극은 상기 내부 공간의 하부에 위치하도록 상기 챔버의 하부에 구비되고,
상기 제1전극의 하부에 구비된 전원부가 상기 제1전극에 전기를 인가하는, 플라즈마 표면처리 장치.4. The method of claim 3,
The first electrode is provided in the lower part of the chamber so as to be located in the lower part of the inner space,
A plasma surface treatment apparatus for applying electricity to the first electrode by a power supply provided under the first electrode. 제3항에 있어서,
상기 챔버의 상부에는, 상기 챔버와 상기 개폐부를 실링하는 실링부재가 구비되되, 상기 실링부재의 상면은 상기 개폐부의 하면과 선 접촉하는, 플라즈마 표면처리 장치.4. The method of claim 3,
A sealing member for sealing the chamber and the opening/closing unit is provided at an upper portion of the chamber, and an upper surface of the sealing member is in line contact with a lower surface of the opening/closing unit. 제1항에 있어서,
상기 내부 공간에는, 상기 대상체의 포장재의 돌출부가 삽입되는 홈이 구비되는, 플라즈마 표면처리 장치.According to claim 1,
The inner space, the plasma surface treatment apparatus is provided with a groove into which the protrusion of the packaging material of the object is inserted. 제7항에 있어서,
상기 제1전극은 상기 내부 공간의 하부에 위치하도록 상기 챔버의 하부에 구비되며,
상기 홈의 바닥부에만 상기 제1전극이 위치하도록 상기 제1전극의 면적은 상기 홈의 바닥부 면적과 동일하거나 작은, 플라즈마 표면처리 장치.8. The method of claim 7,
The first electrode is provided in the lower part of the chamber to be located in the lower part of the inner space,
An area of the first electrode is equal to or smaller than an area of the bottom of the groove so that the first electrode is located only at the bottom of the groove. 제1항에 있어서,
상기 제1전극은 상기 내부 공간의 하부에 위치하도록 상기 챔버의 하부에 구비되되, 상기 내부 공간의 바닥면에 상기 제1전극이 노출되지 않도록 상기 제1전극은 상기 내부 공간의 바닥면의 내부에 매립되어 있는, 플라즈마 표면처리 장치.According to claim 1,
The first electrode is provided in the lower part of the chamber to be located in the lower part of the internal space, and the first electrode is disposed inside the bottom of the internal space so that the first electrode is not exposed on the bottom of the internal space. Embedded, plasma surface treatment device. 그 내부 공간에 대상체가 수용되고, 유전체로 구성된 챔버; 및
상기 내부 공간을 개폐하도록 상기 챔버에 설치되고, 그 내부에 전극이 구비된 개폐부;를 포함하고,
상기 전극에 전기를 인가하거나 접지하여 상기 내부 공간에 플라즈마를 형성시켜 상기 대상체의 표면처리를 수행하는, 플라즈마 표면처리 장치.a chamber in which an object is accommodated and made of a dielectric; and
and an opening/closing unit installed in the chamber to open and close the inner space, and having an electrode therein;
Plasma surface treatment apparatus for performing surface treatment of the object by applying electricity or grounding the electrode to form plasma in the inner space. 대상체를 유전체로 둘러 쌓인 챔버의 내부 공간에 수납하는 단계;
진공펌프를 통해, 상기 내부 공간의 공기를 배기하는 단계; 및
상기 챔버에 인접한 전극의 전압차를 발생하여, 상기 내부 공간에 플라즈마를 발생시키는 단계;를 포함하는, 플라즈마 표면처리 방법.accommodating the object in an internal space of a chamber surrounded by a dielectric;
exhausting air in the inner space through a vacuum pump; and
Plasma surface treatment method comprising a; generating a voltage difference between the electrodes adjacent to the chamber to generate plasma in the inner space. 제11항에 있어서,
상기 수납하는 단계는, 상기 대상체를 포장재로 포장된 상태로 상기 내부 공간에 수납하는 단계인, 플라즈마 표면처리 방법.12. The method of claim 11,
The receiving step is a step of receiving the object in the inner space in a state of being packaged with a packaging material, plasma surface treatment method. 제12항에 있어서,
상기 배기하는 단계는, 상기 챔버의 내부가 플라즈마 처리를 위해 저압상태가 될 때 상기 포장재의 내부도 함께 저압상태가 되어, 상기 포장재를 개봉하지 않고 상기 포장재로 포장된 상태에서 상기 대상체의 표면을 플라즈마 처리하는, 플라즈마 표면처리 방법.13. The method of claim 12,
In the evacuating step, when the inside of the chamber is in a low pressure state for plasma treatment, the inside of the packaging material is also in a low pressure state, and the surface of the object is plasma in a state packaged with the packaging material without opening the packaging material. Plasma surface treatment method to treat. 수용 공간이 마련된 제1유전체 블록;
상기 제1유전체 블록의 개방 단부를 밀폐하거나 개방하는 제2유전체 블록;
상기 제1유전체 블록에 매립되는 제1전극; 및
상기 제2유전체 블록에 매립되는 제2전극;을 포함하는, 플라즈마 표면처리 장치.a first dielectric block having an accommodation space;
a second dielectric block sealing or opening an open end of the first dielectric block;
a first electrode embedded in the first dielectric block; and
A plasma surface treatment apparatus comprising a; a second electrode embedded in the second dielectric block. 대상체의 출입이 가능하도록 도어부재를 구비하는 유전체 재질의 챔버; 및
상기 대상체와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치되는 제1전극;
상기 제1전극과 대향되게 설치되며 상기 대상체와의 사이에 유전체가 구비되도록 배치되는 제2전극;을 포함하고,
상기 제2전극은 상기 도어부재에 구비되는, 플라즈마 표면처리 장치.a chamber made of a dielectric material having a door member to allow entry and exit of the object; and
a first electrode disposed such that a dielectric is provided between the first electrode and the object;
a second electrode installed to face the first electrode and disposed to provide a dielectric between the first electrode and the object;
The second electrode is provided on the door member, plasma surface treatment apparatus. 수용 공간이 마련된 유전체 재질의 챔버; 및
상기 수용 공간 외측에 배치되어 상기 수용 공간의 내부에 전기장을 생성하는 2개의 전극;을 포함하고,
대상체가 포장된 상태로 상기 수용 공간에 수용되어 상기 대상체의 적어도 일부 표면은 상기 전기장에 의해 상기 수용 공간 내부에 생성된 멸균 플라즈마로 처리되는, 플라즈마 표면처리 장치.A chamber made of a dielectric material provided with an accommodating space; and
including; two electrodes disposed outside the accommodation space to generate an electric field inside the accommodation space;
The object is accommodated in the accommodation space in a packaged state, and at least a partial surface of the object is treated with sterile plasma generated in the accommodation space by the electric field. 제16항에 있어서,
상기 수용 공간에 수용된 포장재의 투과성 막과 상기 챔버의 내벽 사이가 서로 이격되도록 상기 챔버 내부에 형성된 배기 공간; 및
상기 배기 공간과 연통되도록 상기 챔버에 형성된 배기홀을 더 포함하는, 플라즈마 표면처리 장치.17. The method of claim 16,
an exhaust space formed inside the chamber to be spaced apart from each other between the permeable membrane of the packaging material accommodated in the accommodating space and the inner wall of the chamber; and
The plasma surface treatment apparatus further comprising an exhaust hole formed in the chamber to communicate with the exhaust space.
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