KR102577181B1 - Adhesive compositions and structures - Google Patents

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Abstract

(a) 우레탄 결합을 갖는 열가소성 수지와, (b) 라디칼 중합성 화합물과, (c) 라디칼 중합 개시제와, (d) 폴리우레탄 비즈와, (e) 비도전성 무기 미립자를 함유하는, 접착제 조성물.An adhesive composition containing (a) a thermoplastic resin having a urethane bond, (b) a radically polymerizable compound, (c) a radical polymerization initiator, (d) polyurethane beads, and (e) non-conductive inorganic fine particles.

Description

접착제 조성물 및 구조체Adhesive compositions and structures

본 개시는, 접착제 조성물 및 구조체에 관한 것이다.This disclosure relates to adhesive compositions and structures.

반도체 소자 및 액정 표시 소자(디스플레이 표시 소자)에 있어서, 소자 중의 다양한 부재를 결합시킬 목적으로 종래부터 여러가지 접착제가 사용되고 있다. 접착제에 요구되는 특성은, 접착성을 비롯하여, 내열성, 고온 고습 상태에 있어서의 신뢰성 등, 여러가지에 걸친다. 또한, 접착에 사용되는 피착체로서는, 프린트 배선판, 유기 기재(폴리이미드 기재 등), 금속(티타늄, 구리, 알루미늄 등), ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), SiNX, SiO2 등의 표면 상태를 갖는 기재 등이 사용되고, 각 피착체에 맞춘 접착제의 분자 설계가 필요하다.In semiconductor devices and liquid crystal display devices (display display devices), various adhesives have been conventionally used for the purpose of bonding various members in the devices. The properties required for an adhesive cover a variety of things, including adhesiveness, heat resistance, and reliability under high temperature and high humidity conditions. Additionally, the adherends used for adhesion include printed wiring boards, organic substrates (polyimide substrates, etc.), metals (titanium, copper, aluminum, etc.), ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), and IGZO (Indium Gallium). Substrates with surface states such as Zinc Oxide, SiN

종래, 반도체 소자용 또는 액정 표시 소자용의 접착제에서는, 고접착성 및 고신뢰성을 나타내는 열경화성 수지(에폭시 수지, 아크릴 수지 등)가 사용되어 왔다. 에폭시 수지를 사용한 접착제의 구성 성분으로서는, 에폭시 수지, 및 에폭시 수지에 대한 반응성을 갖는 양이온종 또는 음이온종을 열 또는 광에 의해 발생시키는 잠재성 경화제가 일반적으로 사용되고 있다. 잠재성 경화제는, 경화 온도 및 경화 속도를 결정하는 중요한 인자이며, 상온에서의 저장 안정성 및 가열 시의 경화 속도의 관점에서, 여러가지 화합물이 사용되어 왔다. 실제의 공정에서는, 예를 들어, 온도 170 내지 250℃, 10초 내지 3시간의 경화 조건에서 경화함으로써 원하는 접착성을 얻고 있었다.Conventionally, thermosetting resins (epoxy resins, acrylic resins, etc.) that exhibit high adhesiveness and high reliability have been used in adhesives for semiconductor devices or liquid crystal display devices. As components of adhesives using epoxy resins, epoxy resins and latent curing agents that generate cationic or anionic species reactive to the epoxy resin by heat or light are generally used. The latent curing agent is an important factor that determines the curing temperature and curing speed, and various compounds have been used from the viewpoint of storage stability at room temperature and curing speed when heated. In the actual process, the desired adhesiveness was obtained by, for example, curing under curing conditions of 170 to 250°C and 10 seconds to 3 hours.

또한, 근년, 반도체 소자의 고집적화 및 액정 표시 소자의 고정밀화에 수반하여, 소자 간 및 배선 간 피치가 협소화하여, 경화 시의 열에 의해, 주변 부재에 악영향을 미칠 우려가 있다. 또한, 저비용화를 위해서는 스루풋을 향상시킬 필요가 있고, 저온(90 내지 170℃) 또한 단시간(1시간 이내, 바람직하게는 10초 이내, 보다 바람직하게는 5초 이내)의 접착, 바꾸어 말하면, 저온 단시간 경화(저온 속경화)의 접착이 요구되고 있다. 이 저온 단시간 경화를 달성하기 위해서는, 활성화 에너지가 낮은 열잠재성 촉매를 사용할 필요가 있지만, 상온 부근에서의 저장 안정성을 겸비하는 것이 매우 어려운 것이 알려져 있다.Additionally, in recent years, with the increased integration of semiconductor elements and the higher precision of liquid crystal display elements, the pitch between elements and interconnections has become narrower, and there is a risk of adversely affecting surrounding members due to heat during curing. In addition, in order to reduce cost, it is necessary to improve throughput, and low temperature (90 to 170°C) and short-time (within 1 hour, preferably within 10 seconds, more preferably within 5 seconds) adhesion, in other words, low temperature bonding. Adhesion that cures in a short period of time (fast cure at low temperature) is required. In order to achieve this low-temperature, short-time curing, it is necessary to use a thermal potential catalyst with low activation energy, but it is known that it is very difficult to achieve storage stability at around room temperature.

그 때문에, 근년, (메트)아크릴레이트 유도체와, 라디칼 중합 개시제인 과산화물을 병용한 라디칼 경화계의 접착제 등이 주목받고 있다. 라디칼 경화계는, 반응 활성종인 라디칼이 매우 반응성이 많기 때문에, 단시간 경화가 가능하고, 또한 라디칼 중합 개시제의 분해 온도 이하에서는, 과산화물이 안정적으로 존재하기 때문에, 저온 단시간 경화와 저장 안정성(예를 들어, 상온 부근에서의 저장 안정성)을 양립한 경화계이다. 예를 들어, 하기 특허문헌 1 내지 3에 나타낸 바와 같은 라디칼 경화계의 접착제 조성물이 알려져 있다.Therefore, in recent years, radical curing adhesives using a combination of (meth)acrylate derivatives and peroxide, which is a radical polymerization initiator, have been attracting attention. In the radical curing system, short-time curing is possible because radicals, which are reactive species, are very reactive, and because peroxides exist stably below the decomposition temperature of the radical polymerization initiator, low-temperature, short-time curing and storage stability (e.g. , storage stability at around room temperature). For example, radical curing adhesive compositions as shown in Patent Documents 1 to 3 below are known.

일본 특허 공개 제2006-22231호 공보Japanese Patent Publication No. 2006-22231 일본 특허 공개 제2009-1765호 공보Japanese Patent Publication No. 2009-1765 국제 공개 제2009/063827호International Publication No. 2009/063827

근년, 반도체 소자 및 액정 표시 소자의 접속 부분의 축소화가 더욱 진행하여, 보다 작은 접속 면적으로도 충분한 접착 강도를 갖는 접착제가 요구되고 있다. 그러나, 종래의 접착제로는 충분한 접착 강도를 얻을 수 없음을 알았다.In recent years, the size of the connection portions of semiconductor elements and liquid crystal display elements has further progressed, and adhesives with sufficient adhesive strength even with smaller connection areas have been required. However, it was found that sufficient adhesive strength could not be obtained with conventional adhesives.

그래서, 본 개시는, 저온 단시간 접속(저온 단시간 경화)이 가능한 라디칼 경화계 접착제에 있어서, 접속 면적이 작은 경우에 있어서도 충분한 접착 강도가 얻어지는 접착제 조성물, 및 그것을 사용한 구조체를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, the present disclosure aims to provide a radical curing adhesive capable of low-temperature, short-time connection (low-temperature, short-time curing), an adhesive composition that provides sufficient adhesive strength even when the connection area is small, and a structure using the same.

본 발명자들은, 검토를 진행시키는 중에 폴리우레탄 비즈에 착안하였다. 그리고, 본 발명자들은, 폴리우레탄 비즈를 배합한 접착제 조성물의 검토를 진행시키는 중에, 특히 열가소성 수지로서, 우레탄 결합을 함유하는 수지를 사용한 경우에 특히 접착 강도가 높아지는 것을 알아냈다. 또한, 폴리우레탄 비즈와 조합하여, 비도전성 무기 미립자를 사용함으로써 접착 강도가 보다 높아지는 것을 알아냈다.The present inventors focused on polyurethane beads while conducting research. And while the present inventors were examining an adhesive composition containing polyurethane beads, they found that the adhesive strength was particularly high when a resin containing a urethane bond was used as a thermoplastic resin. Additionally, it was found that the adhesive strength was further increased by using non-conductive inorganic fine particles in combination with polyurethane beads.

즉, 본 개시의 일 측면은, (a) 우레탄 결합을 갖는 열가소성 수지와, (b) 라디칼 중합성 화합물과, (c) 라디칼 중합 개시제와, (d) 폴리우레탄 비즈와, (e) 비도전성 무기 미립자를 함유하는 접착제 조성물을 제공한다.That is, one aspect of the present disclosure includes (a) a thermoplastic resin having a urethane bond, (b) a radically polymerizable compound, (c) a radical polymerization initiator, (d) polyurethane beads, and (e) a non-conductive An adhesive composition containing inorganic fine particles is provided.

본 개시의 접착제 조성물에 의하면, 접속 면적이 작은 경우에도 높은 접착력을 얻을 수 있다. 본 개시의 접착제 조성물에 있어서, 특히 (a) 우레탄 결합을 갖는 열가소성 수지와, (d) 폴리우레탄 비즈와, (e) 비도전성 무기 미립자를 조합하여 사용함으로써, 접속 면적이 작은 경우에도 높은 접착력을 얻을 수 있는 이유에 대해서, 본 발명자들은 이하와 같이 추정한다. 즉, 폴리우레탄 비즈가 갖는 유연성 및 극성에 의해 피착체와의 밀착성이 향상되고, 또한 비도전성 무기 미립자에 의해 접착제 조성물 및 그의 경화물이 충분한 강도를 가짐으로써, 접속 면적이 작은 경우에도 높은 접착력을 얻을 수 있다고 생각하고 있다. 또한, (a) 우레탄 결합을 갖는 열가소성 수지는 (d) 폴리우레탄 비즈와의 친화성이 높기 때문에, 이들을 조합하여 사용함으로써 접착제 조성물 중에서의 (d) 폴리우레탄 비즈의 분산성이 크게 향상되어, 접속 면적이 작은 경우에 있어서도 우수한 접착 강도가 얻어지는 것이라고 생각하고 있다.According to the adhesive composition of the present disclosure, high adhesive strength can be obtained even when the connection area is small. In the adhesive composition of the present disclosure, especially by using a combination of (a) a thermoplastic resin having a urethane bond, (d) polyurethane beads, and (e) non-conductive inorganic fine particles, high adhesive strength is achieved even when the connection area is small. Regarding the possible reasons, the present inventors estimate as follows. In other words, the flexibility and polarity of the polyurethane beads improve adhesion to the adherend, and the non-conductive inorganic fine particles provide sufficient strength to the adhesive composition and its cured product, resulting in high adhesion even when the connection area is small. I think I can get it. In addition, since the thermoplastic resin (a) having a urethane bond has a high affinity with the (d) polyurethane beads, by using them in combination, the dispersibility of the (d) polyurethane beads in the adhesive composition is greatly improved, enabling connection. It is believed that excellent adhesive strength can be obtained even when the area is small.

본 개시의 접착제 조성물에 있어서의 상기 (a) 우레탄 결합을 갖는 열가소성 수지의 함유량은, 질량 기준으로, 상기 (d) 폴리우레탄 비즈의 함유량 이상이어도 된다.The content of the thermoplastic resin having a urethane bond (a) in the adhesive composition of the present disclosure may be greater than or equal to the content of the polyurethane beads (d) on a mass basis.

본 개시의 접착제 조성물은, (f) 도전 입자를 더 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition of the present disclosure may further contain (f) conductive particles.

본 개시의 접착제 조성물은, 회로 접속용(회로 접속용 접착제 조성물)이어도 된다.The adhesive composition of the present disclosure may be used for circuit connection (adhesive composition for circuit connection).

본 개시의 다른 측면은, 상기 본 개시의 일 측면에 관한 접착제 조성물 또는 그의 경화물을 구비하는, 구조체를 제공한다.Another aspect of the present disclosure provides a structure comprising the adhesive composition or a cured product thereof according to one aspect of the present disclosure.

본 개시의 다른 측면은, 제1 회로 전극을 갖는 제1 회로 부재와, 제2 회로 전극을 갖는 제2 회로 부재와, 상기 제1 회로 부재 및 상기 제2 회로 부재 사이에 배치된 회로 접속 부재를 구비하고, 상기 제1 회로 전극 및 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속되어 있고, 상기 회로 접속 부재가 상기 본 개시의 일 측면에 관한 접착제 조성물 또는 그의 경화물을 포함하는 구조체를 제공한다.Another aspect of the present disclosure includes a first circuit member having a first circuit electrode, a second circuit member having a second circuit electrode, and a circuit connection member disposed between the first circuit member and the second circuit member. and wherein the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected, and the circuit connection member includes the adhesive composition according to one aspect of the present disclosure or a cured product thereof.

본 개시에 의하면, 저온 단시간 접속(저온 단시간 경화)이 가능한 라디칼 경화계 접착제에 있어서, 접속 면적이 작은 경우에도 높은 접착력을 얻을 수 있는 접착제 조성물, 및 그것을 사용한 구조체를 제공할 수 있다.According to the present disclosure, in a radical curing adhesive capable of low-temperature short-time connection (low-temperature short-time curing), an adhesive composition capable of obtaining high adhesive strength even when the connection area is small, and a structure using the same can be provided.

본 개시에 의하면, 구조체 또는 그의 제조에의 접착제 조성물 또는 그의 경화물의 응용을 제공할 수 있다. 본 개시에 의하면, 회로 접속에의 접착제 조성물 또는 그의 경화물의 응용을 제공할 수 있다. 본 개시에 의하면, 회로 접속 구조체 또는 그의 제조에의 접착제 조성물 또는 그의 경화물의 응용을 제공할 수 있다.According to the present disclosure, application of the adhesive composition or its cured product to a structure or its production can be provided. According to the present disclosure, application of the adhesive composition or its cured product to circuit connections can be provided. According to the present disclosure, application of the adhesive composition or its cured product to a circuit connection structure or its production can be provided.

도 1은 본 개시의 구조체의 일 실시 형태를 도시하는 모식 단면도이다.
도 2는 본 개시의 구조체의 다른 일 실시 형태를 도시하는 모식 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the structure of the present disclosure.
Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the structure of the present disclosure.

이하, 본 개시의 실시 형태에 대하여 설명하지만, 본 개시는 이들 실시 형태에 전혀 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described, but the present disclosure is not limited to these embodiments at all.

본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴레이트」란, 아크릴레이트, 및 그에 대응하는 메타크릴레이트 중 적어도 한쪽을 의미한다. 「(메트)아크릴로일」, 「(메트)아크릴산」 등의 다른 유사한 표현에 있어서도 마찬가지이다. 이하에서 예시하는 재료는, 특별히 언급하지 않는 한, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 조성물 중의 각 성분의 함유량은, 조성물 중에 각 성분에 해당하는 물질이 복수 존재하는 경우, 특별히 언급하지 않는 한, 조성물 중에 존재하는 당해 복수의 물질의 합계량을 의미한다. 「내지」를 사용하여 나타난 수치 범위는, 「내지」의 전후로 기재되는 수치를 각각 최솟값 및 최대값으로서 포함하는 범위를 나타낸다. 「A 또는 B」란, A 및 B 중 어느 한쪽을 포함하고 있으면 되고, 양쪽 모두 포함하고 있어도 된다. 「상온」이란 25℃를 의미한다.In this specification, “(meth)acrylate” means at least one of acrylate and the corresponding methacrylate. The same applies to other similar expressions such as “(meth)acryloyl” and “(meth)acrylic acid.” Unless otherwise specified, the materials illustrated below may be used individually or in combination of two or more types. The content of each component in the composition means the total amount of the plurality of substances present in the composition, unless otherwise specified, when multiple substances corresponding to each component exist in the composition. The numerical range indicated using “to” indicates a range that includes the numerical values written before and after “to” as the minimum and maximum values, respectively. “A or B” may include either A or B, and may include both. “Room temperature” means 25°C.

본 명세서 중에 단계적으로 기재되어 있는 수치 범위에 있어서, 어떤 단계의 수치 범위의 상한값 또는 하한값은, 다른 단계의 수치 범위의 상한값 또는 하한값으로 치환해도 된다. 또한, 본 명세서 중에 기재되어 있는 수치 범위에 있어서, 그 수치 범위의 상한값 또는 하한값은, 실시예에 나타나 있는 값으로 치환해도 된다.In the numerical range described in stages in this specification, the upper or lower limit of the numerical range at a certain level may be replaced with the upper or lower limit of the numerical range at another level. In addition, in the numerical range described in this specification, the upper or lower limit of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.

<접착제 조성물><Adhesive composition>

본 실시 형태의 접착제 조성물은, (a) 우레탄 결합을 갖는 열가소성 수지(이하, (a) 성분이라고도 한다), (b) 라디칼 중합성 화합물(이하, (b) 성분이라고도 한다), (c) 라디칼 중합 개시제(이하, (c) 성분이라고도 한다), (d) 폴리우레탄 비즈(이하, (d) 성분이라고도 한다), 및 (e) 비도전성 무기 미립자(이하, (e) 성분이라고도 한다)를 함유하는 접착제 조성물이다. 본 실시 형태의 접착제 조성물은, (f) 도전 입자(이하, (f) 성분이라고도 한다)를 더 함유하고 있어도 된다. 본 실시 형태의 접착제 조성물은, 회로 접속용 접착제 조성물로서 적합하게 사용할 수 있다. 이하, 각 성분에 대하여 설명한다.The adhesive composition of this embodiment includes (a) a thermoplastic resin having a urethane bond (hereinafter also referred to as component (a)), (b) a radically polymerizable compound (hereinafter also referred to as component (b)), and (c) a radical Contains a polymerization initiator (hereinafter also referred to as component (c)), (d) polyurethane beads (hereinafter also referred to as component (d)), and (e) non-conductive inorganic fine particles (hereinafter also referred to as component (e)). It is an adhesive composition that The adhesive composition of this embodiment may further contain (f) conductive particles (hereinafter also referred to as (f) component). The adhesive composition of this embodiment can be suitably used as an adhesive composition for circuit connection. Below, each component is explained.

(열가소성 수지)(thermoplastic resin)

본 실시 형태로 사용하는 (a) 우레탄 결합을 갖는 열가소성 수지(이하, 폴리우레탄 수지라고 칭한다)는 예를 들어, 폴리올과 디이소시아네이트 등의 이소시아네이트 성분의 반응에 의해 얻을 수 있다. 폴리우레탄 수지의 중량 평균 분자량으로서는, 5,000 내지 150,000이 바람직하고, 10,000 내지 80,000이 보다 바람직하다. 이 값이 5,000 이상이면 접착제 조성물을 필름상으로 사용하는 경우에 필름 형성성이 양호해지는 경향이 있고, 또한 150,000 이하이면 다른 성분과의 상용성이 양호해지는 경향이 있다.The thermoplastic resin (a) having a urethane bond (hereinafter referred to as polyurethane resin) used in this embodiment can be obtained, for example, by reaction of a polyol and an isocyanate component such as diisocyanate. The weight average molecular weight of the polyurethane resin is preferably 5,000 to 150,000, and more preferably 10,000 to 80,000. If this value is 5,000 or more, film forming properties tend to be good when the adhesive composition is used in the form of a film, and if this value is 150,000 or less, compatibility with other components tends to be good.

폴리우레탄 수지의 합성에 사용되는 폴리올로서는, 예를 들어, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카르보네이트폴리올, 아크릴폴리올, 폴리우레탄폴리올, 방향족계 폴리올(프탈산계 폴리올) 등을 들 수 있다. 구체적으로는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 트리에틸렌글리콜 등을 기본 골격으로 한 것 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 또는 복수를 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of polyols used in the synthesis of polyurethane resins include polyester polyol, polyether polyol, polycarbonate polyol, acrylic polyol, polyurethane polyol, and aromatic polyol (phthalic acid polyol). Specifically, those with ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, triethylene glycol, etc. as the basic skeleton can be mentioned. These can be used individually or in combination of multiple types.

이소시아네이트 성분으로서는, 방향족 디이소시아네이트, 지방족 디이소시아네이트, 지환족 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 톨릴렌디이소시아네이트(TDI), 트리메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 3-이소시아네이토메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥실이소시아네이트(IPDI) 등을 들 수 있다. 또한, 이소시아네이트 성분으로서, 상기 디이소시아네이트 모노머로 형성한 이소시아누레이트 화합물(3관능) 또는 우레트디온 화합물(2관능)을 사용할 수도 있다. 또한, 이소시아네이트 성분으로서, 말단 이소시아네이트기 폴리이소시아네이트(예를 들어, 어덕트형 폴리이소시아네이트, 뷰렛형 폴리이소시아네이트 등)를 사용할 수도 있다. 이들은 1종을 단독으로 또는 복수를 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the isocyanate component include diisocyanate compounds such as aromatic diisocyanate, aliphatic diisocyanate, and alicyclic diisocyanate. Specifically, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolylene diisocyanate (TDI), trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), and 3-isocyanatomethyl. -3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate (IPDI), etc. can be mentioned. Additionally, as the isocyanate component, an isocyanurate compound (trifunctional) or a urethedione compound (bifunctional) formed from the diisocyanate monomer can be used. Additionally, as the isocyanate component, terminal isocyanate group polyisocyanate (for example, adduct type polyisocyanate, biuret type polyisocyanate, etc.) can also be used. These can be used individually or in combination of multiple types.

접착제 조성물에 있어서의 폴리우레탄 수지의 함유량은, 질량 기준으로, (d) 폴리우레탄 비즈의 함유량 이상인 것이 바람직하다. 폴리우레탄 수지의 함유량이 폴리우레탄 비즈의 함유량 이상인 경우, 폴리우레탄 비즈와의 친화성이 높은 폴리우레탄 수지가 상대적으로 많이 존재함으로써 접착제 조성물 중에서의 폴리우레탄 비즈의 분산성이 보다 향상되는 경향이 있다. 그리고, 폴리우레탄 수지의 함유량은, 접착제 조성물의 접착제 성분(접착제 조성물 중의 (f) 도전 입자 이외의 고형분. 이하 마찬가지)의 전체 질량을 기준으로 하여, 5 내지 90질량%인 것이 바람직하고, 6 내지 80질량%인 것이 보다 바람직하고, 8 내지 70질량%인 것이 더욱 바람직하고, 10 내지 60질량%인 것이 특히 바람직하다. 폴리우레탄 수지의 함유량이 5질량% 이상이면 폴리우레탄 비즈의 분산성이 향상되어 접착 강도가 보다 향상되는 경향이 있고, 90질량% 이하이면, 접착제 조성물의 유동성을 양호하게 할 수 있는 경향이 있다.The content of the polyurethane resin in the adhesive composition is preferably greater than or equal to the content of (d) polyurethane beads on a mass basis. When the content of the polyurethane resin is greater than the content of the polyurethane beads, the dispersibility of the polyurethane beads in the adhesive composition tends to be further improved due to the presence of a relatively large amount of polyurethane resin with high affinity to the polyurethane beads. The content of the polyurethane resin is preferably 5 to 90% by mass, based on the total mass of the adhesive component of the adhesive composition (solid content other than (f) conductive particles in the adhesive composition; the same applies hereinafter), and is preferably 6 to 90% by mass. It is more preferable that it is 80 mass %, it is still more preferable that it is 8-70 mass %, and it is especially preferable that it is 10-60 mass %. If the content of the polyurethane resin is 5% by mass or more, the dispersibility of the polyurethane beads improves and the adhesive strength tends to be further improved, and if the content is 90% by mass or less, the fluidity of the adhesive composition tends to be improved.

본 실시 형태의 접착제 조성물은 폴리우레탄 수지 이외의 공지된 열가소성 수지를 병용할 수 있다. 폴리우레탄 수지 이외의 열가소성 수지로서는, 예를 들어, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 페녹시 수지, 폴리(메트)아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 및 폴리비닐부티랄 수지 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 수지를 들 수 있다.The adhesive composition of this embodiment can use a combination of known thermoplastic resins other than polyurethane resins. Thermoplastic resins other than polyurethane resins include, for example, one or two types selected from polyimide resin, polyamide resin, phenoxy resin, poly(meth)acrylic resin, polyester resin, and polyvinyl butyral resin. The above resins can be mentioned.

이러한 열가소성 수지의 중량 평균 분자량은, 5000 내지 400000이 바람직하고, 5000 내지 200000이 보다 바람직하고, 10000 내지 150000이 더욱 바람직하다. 이러한 열가소성 수지의 중량 평균 분자량이 5000 이상이면 접착제 조성물의 접착 강도를 양호하게 할 수 있는 경향이 있고, 중량 평균 분자량이 400000 이하이면, 다른 성분과의 상용성이 양호해서, 접착제의 유동성 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다.The weight average molecular weight of this thermoplastic resin is preferably 5,000 to 400,000, more preferably 5,000 to 200,000, and still more preferably 10,000 to 150,000. If the weight average molecular weight of such a thermoplastic resin is 5000 or more, the adhesive strength of the adhesive composition tends to be good, and if the weight average molecular weight is 400000 or less, compatibility with other components is good, thereby suppressing the decrease in fluidity of the adhesive. There is a tendency to do it.

열가소성 수지로서, 응력 완화 및 접착성 향상을 목적으로 하여, 고무 성분을 사용할 수도 있다. 고무 성분으로서는, 예를 들어, 아크릴 고무, 폴리이소프렌, 폴리부타디엔, 카르복실기 말단 폴리부타디엔, 수산기 말단 폴리부타디엔, 1,2-폴리부타디엔, 카르복실기 말단 1,2-폴리부타디엔, 수산기 말단 1,2-폴리부타디엔, 스티렌-부타디엔 고무, 수산기 말단 스티렌-부타디엔 고무, 카르복실화 니트릴 고무, 수산기 말단 폴리(옥시프로필렌), 알콕시실릴기 말단 폴리(옥시프로필렌), 폴리(옥시테트라메틸렌)글리콜, 폴리올레핀글리콜 및 폴리-ε-카프로락톤을 들 수 있다. 고무 성분은, 접착성 향상의 관점에서, 고극성기인 시아노기 또는 카르복실기를 측쇄기 또는 말단기로서 갖는 것이 바람직하다. 이들 고무 성분은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As a thermoplastic resin, a rubber component may be used for the purpose of relieving stress and improving adhesion. Rubber components include, for example, acrylic rubber, polyisoprene, polybutadiene, carboxyl terminal polybutadiene, hydroxyl terminal polybutadiene, 1,2-polybutadiene, carboxyl terminal 1,2-polybutadiene, hydroxyl terminal 1,2-poly. Butadiene, styrene-butadiene rubber, hydroxyl-terminated styrene-butadiene rubber, carboxylated nitrile rubber, hydroxyl-terminated poly(oxypropylene), alkoxysilyl-terminated poly(oxypropylene), poly(oxytetramethylene) glycol, polyolefin glycol, and poly -ε-caprolactone can be mentioned. From the viewpoint of improving adhesion, the rubber component preferably has a highly polar group, such as a cyano group or a carboxyl group, as a side chain group or terminal group. These rubber components can be used individually or in combination of two or more types.

접착제 조성물에 있어서의 열가소성 수지 전체의 함유량은, 접착제 조성물의 접착제 성분의 전체 질량을 기준으로 하여, 20 내지 90질량%인 것이 바람직하고, 20 내지 80질량%인 것이 보다 바람직하고, 30 내지 70질량%인 것이 더욱 바람직하다. (a) 열가소성 수지의 함유량이 20질량% 이상이면 접착 강도를 양호하게 하면서, 접착제 조성물의 필름 형성성을 향상할 수 있는 경향이 있고, 90질량% 이하이면, 접착제 조성물의 유동성을 양호하게 할 수 있는 경향이 있다.The total content of the thermoplastic resin in the adhesive composition is preferably 20 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and 30 to 70% by mass, based on the total mass of the adhesive components of the adhesive composition. It is more preferable that it is %. (a) If the content of the thermoplastic resin is 20% by mass or more, the adhesive strength tends to be good while the film forming property of the adhesive composition tends to be improved, and if the content of the thermoplastic resin is 90% by mass or less, the fluidity of the adhesive composition can be improved. There tends to be.

(라디칼 중합성 화합물)(Radically polymerizable compound)

(b) 라디칼 중합성 화합물은, 라디칼 중합 가능한 관능기를 갖는 화합물이다. 이러한 라디칼 중합성 화합물로서는, (메트)아크릴레이트 화합물, 말레이미드 화합물, 시트라콘 이미드 수지, 나디이미드 수지 등을 들 수 있다. 「(메트)아크릴레이트 화합물」이란, (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 의미한다. 라디칼 중합성 화합물은, 모노머 또는 올리고머의 상태에서 사용해도 되고, 모노머와 올리고머를 병용할 수도 있다. 라디칼 중합성 화합물은, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.(b) A radically polymerizable compound is a compound having a functional group capable of radical polymerization. Examples of such radically polymerizable compounds include (meth)acrylate compounds, maleimide compounds, citracone imide resin, and nadiimide resin. “(meth)acrylate compound” means a compound having a (meth)acryloyl group. The radically polymerizable compound may be used in the form of a monomer or oligomer, or a combination of a monomer and an oligomer may be used. A radically polymerizable compound may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types.

(메트)아크릴레이트 화합물의 구체예로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-1,3-디(메트)아크릴옥시프로판, 2,2-비스[4-((메트)아크릴옥시메톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-((메트)아크릴옥시폴리에톡시)페닐]프로판, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데카닐(메트)아크릴레이트, 트리스((메트)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산 EO 변성 디(메트)아크릴레이트, 9,9-비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 등을 들 수 있다. (메트)아크릴레이트 화합물 이외의 라디칼 중합성 화합물로서는, 예를 들어, 특허문헌 3(국제 공개 제2009/063827호)에 기재된 화합물을 적합하게 사용할 수 있다. (메트)아크릴레이트 화합물은, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of (meth)acrylate compounds include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, and di(meth)acrylate. Ethylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethane tetra(meth)acrylate, 2-hydroxy-1,3-di(meth)acryloxypropane, 2,2 -bis[4-((meth)acryloxymethoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-((meth)acryloxypolyethoxy)phenyl]propane, dicyclopentenyl (meth)acrylate, Tricyclodecanyl (meth)acrylate, tris((meth)acryloyloxyethyl)isocyanurate, urethane (meth)acrylate, isocyanuric acid EO modified di(meth)acrylate, 9,9- Bis[4-(2-(meth)acryloyloxyethoxy)phenyl]fluorene, etc. can be mentioned. As a radically polymerizable compound other than a (meth)acrylate compound, for example, a compound described in Patent Document 3 (International Publication No. 2009/063827) can be suitably used. A (meth)acrylate compound may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types.

라디칼 중합성 화합물로서는, 더욱 우수한 보존 안정성을 얻는 관점에서, (메트)아크릴레이트 화합물이 바람직하고, 우레탄(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다. (메트)아크릴레이트 화합물은, 내열성이 향상되는 관점에서, 디시클로펜테닐기, 트리시클로데카닐기 및 트리아진환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 치환기를 갖는 것이 바람직하다.As a radically polymerizable compound, a (meth)acrylate compound is preferable and urethane (meth)acrylate is more preferable from the viewpoint of obtaining more excellent storage stability. From the viewpoint of improving heat resistance, the (meth)acrylate compound preferably has at least one substituent selected from the group consisting of a dicyclopentenyl group, a tricyclodecanyl group, and a triazine ring.

또한, 라디칼 중합성 화합물로서, 하기 일반식 (1)로 표시되는 인산에스테르 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 사용하는 것이 바람직하고, (메트)아크릴레이트 화합물 등의 상기 라디칼 중합성 화합물과, 식 (1)로 표시되는 인산에스테르 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 병용하는 것이 보다 바람직하다. 이들의 경우, 무기물(금속 등)의 표면에 대한 접착 강도가 향상되기 때문에, 예를 들어, 회로 전극끼리의 접착에 바람직하다.Additionally, as the radically polymerizable compound, it is preferable to use a radically polymerizable compound having a phosphate ester structure represented by the following general formula (1), and the radically polymerizable compound such as a (meth)acrylate compound and the formula ( It is more preferable to use together a radically polymerizable compound having a phosphate ester structure represented by 1). In these cases, since the adhesive strength to the surface of an inorganic material (metal, etc.) is improved, they are suitable for, for example, adhesion between circuit electrodes.

[식 중, p는 1 내지 3의 정수를 나타내고, R은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.][Wherein, p represents an integer of 1 to 3, and R represents a hydrogen atom or a methyl group.]

상기 인산에스테르 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물은, 예를 들어, 무수 인산과 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트를 반응시킴으로써 얻어진다. 상기 인산에스테르 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 구체예로서는, 모노(2-(메트)아크릴로일옥시에틸)애시드포스페이트, 디(2-(메트)아크릴로일옥시에틸)애시드포스페이트 등을 들 수 있다. 식 (1)로 표시되는 인산에스테르 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물은, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The radically polymerizable compound having the phosphoric acid ester structure is obtained, for example, by reacting phosphoric acid anhydride with 2-hydroxyethyl (meth)acrylate. Specific examples of the radically polymerizable compound having the phosphoric acid ester structure include mono(2-(meth)acryloyloxyethyl)acid phosphate, di(2-(meth)acryloyloxyethyl)acid phosphate, etc. . The radically polymerizable compound having a phosphate ester structure represented by Formula (1) may be used individually or in combination of two or more types.

식 (1)로 표시되는 인산에스테르 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 더욱 우수한 접착성을 얻는 관점에서, 라디칼 중합성 화합물(라디칼 중합성 화합물에 해당하는 성분의 총량. 이하 마찬가지)의 전체 질량을 기준으로 하여, 1 내지 100질량%가 바람직하고, 1 내지 50 질량%가 보다 바람직하고, 1 내지 10 질량%가 더욱 바람직하다. 식 (1)로 표시되는 인산에스테르 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 더욱 우수한 접착성을 얻는 관점에서, 라디칼 중합성 화합물 및 필름 형성재(필요에 따라 사용되는 성분)의 합계 질량을 기준으로 하여, 0.01 내지 50질량%가 바람직하고, 0.5 내지 10 질량%가 보다 바람직하고, 0.5 내지 5 질량%가 더욱 바람직하다.The content of the radically polymerizable compound having a phosphoric acid ester structure represented by formula (1) is the total amount of the radically polymerizable compound (total amount of components corresponding to the radically polymerizable compound. The same applies hereinafter) from the viewpoint of obtaining better adhesive properties. Based on mass, 1 to 100 mass% is preferable, 1 to 50 mass% is more preferable, and 1 to 10 mass% is still more preferable. The content of the radically polymerizable compound having a phosphate ester structure represented by formula (1) is based on the total mass of the radically polymerizable compound and the film forming material (components used as necessary) from the viewpoint of obtaining better adhesiveness. Thus, 0.01 to 50 mass% is preferable, 0.5 to 10 mass% is more preferable, and 0.5 to 5 mass% is still more preferable.

상기 라디칼 중합성 화합물은, 알릴(메트)아크릴레이트를 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 알릴(메트)아크릴레이트의 함유량은, 라디칼 중합성 화합물 및 필름 형성재(필요에 따라 사용되는 성분)의 합계 질량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10질량%가 바람직하고, 0.5 내지 5 질량%가 보다 바람직하다.The radically polymerizable compound may contain allyl (meth)acrylate. In this case, the content of allyl (meth)acrylate is preferably 0.1 to 10% by mass, and 0.5 to 5% by mass, based on the total mass of the radically polymerizable compound and the film forming material (components used as necessary). % is more preferable.

라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 더욱 우수한 접착성을 얻는 관점에서, 접착제 조성물의 접착제 성분의 전체 질량을 기준으로 하여 하기의 범위가 바람직하다. 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 20질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 30질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 40질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 80질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 70질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 60질량% 이하인 것이 특히 바람직하고, 50질량% 이하인 것이 매우 바람직하다. 이들 관점에서, 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 10 내지 90질량%인 것이 바람직하고, 20 내지 80질량%인 것이 보다 바람직하고, 30 내지 70질량%인 것이 더욱 바람직하고, 40 내지 60질량%인 것이 특히 바람직하고, 40 내지 50질량%인 것이 매우 바람직하다.The content of the radically polymerizable compound is preferably within the following range based on the total mass of the adhesive components of the adhesive composition from the viewpoint of obtaining better adhesive properties. The content of the radically polymerizable compound is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and even more preferably 40% by mass or more. The content of the radically polymerizable compound is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, further preferably 70% by mass or less, particularly preferably 60% by mass or less, and very preferably 50% by mass or less. do. From these viewpoints, the content of the radically polymerizable compound is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, further preferably 30 to 70% by mass, and 40 to 60% by mass. It is especially preferable, and it is very preferable that it is 40 to 50 mass %.

(라디칼 중합 개시제)(radical polymerization initiator)

(c) 라디칼 중합 개시제로서는, 열(가열)에 의해 유리 라디칼을 발생하는 개시제, 광에 의해 유리 라디칼을 발생하는 개시제, 초음파, 전자파 등에 의해 유리 라디칼을 발생하는 개시제 등을 사용할 수 있다.(c) As the radical polymerization initiator, an initiator that generates free radicals by heat (heating), an initiator that generates free radicals by light, an initiator that generates free radicals by ultrasonic waves, electromagnetic waves, etc. can be used.

열에 의해 유리 라디칼을 발생하는 개시제는, 열에 의해 분해되어 유리 라디칼을 발생하는 화합물이다. 이러한 화합물로서는, 과산화물(유기 과산화물 등), 아조계 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 라디칼 중합 개시제는, 목적으로 하는 접속 온도, 접속 시간, 가용 시간 등에 따라 적절히 선정된다. 안정성, 반응성 및 상용성의 관점에서, 1분간 반감기 온도가 90 내지 175℃이고, 또한 분자량이 180 내지 1000인 과산화물이 바람직하다. 「1분간 반감기 온도」란, 과산화물의 반감기가 1분인 온도를 말한다. 「반감기」란, 소정의 온도에 있어서 화합물의 농도가 초기값의 절반으로 감소할 때까지의 시간을 말한다. 1분간 반감기 온도는, 니찌유 가부시끼가이샤 발행의 카탈로그(유기 과산화물(제10판, 2015년 2월))에 게재된 값으로 한다.An initiator that generates free radicals by heat is a compound that decomposes by heat and generates free radicals. Examples of such compounds include peroxides (organic peroxides, etc.) and azo compounds. This radical polymerization initiator is appropriately selected depending on the intended connection temperature, connection time, pot life, etc. From the viewpoint of stability, reactivity and compatibility, peroxides with a 1-minute half-life temperature of 90 to 175°C and molecular weights of 180 to 1000 are preferable. “1-minute half-life temperature” refers to the temperature at which the half-life of peroxide is 1 minute. “Half-life” refers to the time until the concentration of a compound decreases to half the initial value at a given temperature. The half-life temperature for 1 minute is the value published in the catalog (Organic Peroxides (10th edition, February 2015)) published by Nichiyu Corporation.

열에 의해 유리 라디칼을 발생하는 개시제의 구체예로서는, 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르, 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드, 하이드로퍼옥사이드, 실릴퍼옥사이드 등을 들 수 있다.Specific examples of initiators that generate free radicals by heat include diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxy ester, peroxy ketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, and silyl peroxide.

라디칼 중합 개시제로서는, 전극(회로 전극 등)의 부식을 억제하는 관점에서, 함유되는 염소 이온 및 유기산의 농도가 5000ppm 이하인 개시제가 바람직하고, 열분해 후에 발생하는 유기산이 적은 개시제가 보다 바람직하다. 이러한 개시제의 구체예로서는, 퍼옥시에스테르, 디알킬퍼옥사이드, 하이드로퍼옥사이드, 실릴퍼옥사이드 등을 들 수 있고, 고반응성이 얻어지는 관점에서, 퍼옥시에스테르가 보다 바람직하다.As a radical polymerization initiator, from the viewpoint of suppressing corrosion of electrodes (circuit electrodes, etc.), an initiator whose concentration of chlorine ions and organic acids contained is 5000 ppm or less is preferable, and an initiator with less organic acid generated after thermal decomposition is more preferable. Specific examples of such initiators include peroxyester, dialkyl peroxide, hydroperoxide, silyl peroxide, etc., and peroxyester is more preferable from the viewpoint of obtaining high reactivity.

라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들어, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 디라우로일퍼옥사이드, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시네오헵타노에이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디-t-부틸퍼옥시헥사히드로테레프탈레이트, t-아밀퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, 3-히드록시-1,1-디메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-아밀퍼옥시네오데카노에이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 3-메틸벤조일퍼옥사이드, 4-메틸벤조일퍼옥사이드, 디(3-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 1,1'-아조비스(1-아세톡시-1-페닐에탄), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산), 1,1'-아조비스(1-시클로헥산카르보니트릴), t-헥실퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시말레산, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, 2,5-디메틸-2,5-디(3-메틸벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카르보네이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 디부틸퍼옥시트리메틸아디페이트, t-아밀퍼옥시노르말옥토에이트, t-아밀퍼옥시이소노나노에이트 및 t-아밀퍼옥시벤조에이트로부터 선택되는 1 이상의 화합물이다.As a radical polymerization initiator, for example, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, di(2-ethylhexyl) Peroxydicarbonate, cumyl peroxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, dilauroyl peroxide, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneo Decanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexa Noate, 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate , t-butylperoxyneoheptanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-amylperoxy-3,5,5-trimethylhexa. Noate, 3-hydroxy-1,1-dimethylbutylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxyneodecano ate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, 3-methylbenzoyl peroxide, 4-methylbenzoyl peroxide, di(3-methylbenzoyl)peroxide, dibenzoyl peroxide, di(4-methylbenzoyl) ) Peroxide, 2,2'-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 1,1'-azobis(1-acetoxy-1-phenylethane), 2,2'-azobisisobutyro Nitrile, 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), dimethyl-2,2'-azobisisobutyronitrile, 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid), 1, 1'-azobis(1-cyclohexanecarbonitrile), t-hexylperoxyisopropylmonocarbonate, t-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate , t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di(3-methylbenzoylperoxy)hexane, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexylperoxy Benzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane, t-butylperoxybenzoate, dibutylperoxytrimethyl adipate, t-amylperoxynormal octoate, t-amylper It is one or more compounds selected from oxyisononanoate and t-amylperoxybenzoate.

광에 의해 유리 라디칼을 발생하는 개시제는, 광에 의해 분해되어 유리 라디칼을 발생하는 화합물이다. 이러한 개시제로서는, 파장 150 내지 750㎚의 광 조사에 의해 유리 라디칼을 발생하는 화합물을 사용할 수 있다. 이러한 화합물로서는, 예를 들어, 광 조사에 대한 감도가 높은 관점에서, Photoinitiation, Photopolymerization, and Photocuring, J.-P. Fouassier, Hanser Publishers(1995년), p17 내지 p35에 기재되어 있는 α-아세토아미노페논 유도체 및 포스핀옥사이드 유도체가 바람직하다.An initiator that generates free radicals by light is a compound that is decomposed by light and generates free radicals. As such an initiator, a compound that generates free radicals when irradiated with light with a wavelength of 150 to 750 nm can be used. As such compounds, for example, from the viewpoint of high sensitivity to light irradiation, Photoinitiation, Photopolymerization, and Photocuring, J.-P. The α-acetoaminophenone derivatives and phosphine oxide derivatives described in Fouassier, Hanser Publishers (1995), pages 17 to 35 are preferred.

라디칼 중합 개시제는, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 개시제와, 분해 촉진제, 분해 억제제 등을 병용해도 된다. 또한, 개시제를 폴리우레탄계 또는 폴리에스테르계의 고분자 물질 등으로 피복하여 마이크로캡슐화해도 된다. 마이크로캡슐화한 개시제는, 가사 시간이 연장되기 때문에 바람직하다.A radical polymerization initiator may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types. An initiator, a decomposition accelerator, a decomposition inhibitor, etc. may be used together. Additionally, the initiator may be microencapsulated by coating it with a polyurethane-based or polyester-based polymer material. Microencapsulated initiators are preferred because their pot life is extended.

라디칼 중합 개시제의 함유량은 (a) 성분 및 (b) 성분의 총량 100질량부에 대하여 1 내지 15질량부인 것이 바람직하고, 2.5 내지 10질량부인 것이 보다 바람직하다.The content of the radical polymerization initiator is preferably 1 to 15 parts by mass, and more preferably 2.5 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of component (a) and component (b).

(폴리우레탄 비즈)(polyurethane beads)

본 실시 형태에서 사용하는 (d) 폴리우레탄 비즈는, 가교된 우레탄 수지를 포함하는 구상의 유기 미립자이다.The (d) polyurethane beads used in this embodiment are spherical organic fine particles containing crosslinked urethane resin.

폴리우레탄 비즈는 폴리올 성분 및 이소시아네이트 성분을 반응시켜서 합성할 수 있다. 폴리올은 주로 2관능의 것이 사용되지만, 3관능 이상의 것을 병용해도 된다. 3관능 이상의 것을 병용한 경우에는, 폴리우레탄 비즈의 가교도를 높게 할 수 있다.Polyurethane beads can be synthesized by reacting a polyol component and an isocyanate component. Polyols are mainly difunctional, but trifunctional or higher polyols may be used in combination. When trifunctional or more functional substances are used together, the degree of crosslinking of polyurethane beads can be increased.

폴리올 성분으로서는, 예를 들어, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카르보네이트폴리올, 아크릴폴리올, 폴리우레탄폴리올, 방향족계 폴리올(프탈산계 폴리올) 등을 들 수 있다. 이들 중, 내가수분해성이 향상되는 점에서는, 폴리카르보네이트폴리올 또는 방향족계 폴리올이 바람직하다. 또한, 폴리올로서는, 폴리우레탄 비즈의 가교도를 높게 하고, 탄성 회복성이 높아지는 점에서는, 다관능 폴리올이 바람직하다. 다관능 폴리올로서는, 예를 들어, 3관능 폴리카프로락톤계 폴리올 등을 들 수 있다. 다관능 폴리올은 중량 평균 분자량이 클수록 유연성이 높아진다. 이들은 1종을 단독으로 또는 복수를 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the polyol component include polyester polyol, polyether polyol, polycarbonate polyol, acrylic polyol, polyurethane polyol, aromatic polyol (phthalic acid polyol), etc. Among these, polycarbonate polyol or aromatic polyol is preferable in terms of improved hydrolysis resistance. Additionally, as the polyol, a polyfunctional polyol is preferred because it increases the degree of crosslinking of the polyurethane beads and improves elastic recovery. Examples of polyfunctional polyols include trifunctional polycaprolactone-based polyols. The greater the weight average molecular weight of a multifunctional polyol, the higher the flexibility. These can be used individually or in combination of multiple types.

이소시아네이트 성분은, 황변형, 무황변형, 난황변형 중 어느 것이어도 된다. 이소시아네이트 성분으로서는, 방향족 디이소시아네이트, 지방족 디이소시아네이트, 지환족 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 톨릴렌디이소시아네이트(TDI), 트리메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 3-이소시아네이토메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥실이소시아네이트(IPDI) 등을 들 수 있다. 또한, 이소시아네이트 성분으로서, 상기 디이소시아네이트 모노머로 형성한 이소시아누레이트 화합물(3관능) 또는 우레트디온 화합물(2관능)을 사용할 수도 있다. 또한, 이소시아네이트 성분으로서, 말단 이소시아네이트기 폴리이소시아네이트(예를 들어, 어덕트형 폴리이소시아네이트, 뷰렛형 폴리이소시아네이트 등)를 사용할 수도 있다. 이들은 1종을 단독으로 또는 복수를 혼합하여 사용할 수 있다.The isocyanate component may be any of yellow-modified, non-yellowing-modified, or egg-yolk-modified. Examples of the isocyanate component include diisocyanate compounds such as aromatic diisocyanate, aliphatic diisocyanate, and alicyclic diisocyanate. Specifically, for example, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolylene diisocyanate (TDI), trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), 3-iso Cyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate (IPDI), etc. can be mentioned. Additionally, as the isocyanate component, an isocyanurate compound (trifunctional) or a urethedione compound (bifunctional) formed from the diisocyanate monomer can be used. Additionally, as the isocyanate component, terminal isocyanate group polyisocyanate (for example, adduct type polyisocyanate, biuret type polyisocyanate, etc.) can also be used. These can be used individually or in combination of multiple types.

폴리우레탄 비즈의 평균 입자경은 특별히 제한되지 않지만, 50㎚ 내지 10㎛인 것이 바람직하고, 70㎚ 내지 6㎛인 것이 보다 바람직하고, 70㎚ 내지 5㎛인 것이 더욱 바람직하다. 50㎚ 미만의 폴리우레탄 비즈를 제작하는 것은 기술적으로 어려울 경우가 있기 때문에, 입수 용이성의 관점에서 50㎚ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 10㎛ 이하의 경우, 다른 접착제 조성물과 배합한 때에 응집이 발생하기 어렵고, 또한 응집이 발생하더라도 여과성의 악화를 억제할 수 있는 경향이 있다. 평균 입자경은 예를 들어 SEM에 의해 확인할 수 있다.The average particle diameter of the polyurethane beads is not particularly limited, but is preferably 50 nm to 10 μm, more preferably 70 nm to 6 μm, and still more preferably 70 nm to 5 μm. Since it may be technically difficult to produce polyurethane beads less than 50 nm, it is preferable that they are 50 nm or more from the viewpoint of ease of availability. In addition, in the case of 10 μm or less, aggregation is unlikely to occur when mixed with other adhesive compositions, and even if aggregation occurs, deterioration of filterability tends to be suppressed. The average particle diameter can be confirmed by, for example, SEM.

폴리우레탄 비즈의 함유량은, (a) 성분인 폴리우레탄 수지의 함유량 미만인 것이 바람직하다. 그리고, 접착제 조성물의 접착제 성분의 전체 질량을 기준으로 하여, 3 내지 50질량%인 것이 바람직하고, 4 내지 40질량%인 것이 보다 바람직하고, 5 내지 30질량%인 것이 더욱 바람직하고, 8 내지 25질량%인 것이 특히 바람직하다. 함유량이 3질량% 이상인 경우, 충분한 접착 강도가 얻어지기 쉬운 경향이 있고, 50질량% 이하인 경우, 접착제의 유동성 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다.The content of polyurethane beads is preferably less than the content of polyurethane resin as component (a). And, based on the total mass of the adhesive components of the adhesive composition, it is preferably 3 to 50% by mass, more preferably 4 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and 8 to 25% by mass. It is especially preferable that it is mass %. When the content is 3% by mass or more, sufficient adhesive strength tends to be easily obtained, and when the content is 50% by mass or less, there is a tendency to suppress a decrease in the fluidity of the adhesive.

(비도전성 무기 미립자)(Non-conductive inorganic particles)

(e) 성분의 비도전성 무기 미립자로서는, 공지된 비도전성 무기 미립자를 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 비도전성 무기 미립자로서는, 예를 들어, 실리카 미립자, 알루미나 미립자, 실리카-알루미나 미립자, 티타니아 미립자, 지르코니아 미립자 등의 금속 산화물 미립자 등의 비도전성 무기 미립자를 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서, (e) 비도전성 무기 미립자는 도전성을 갖지 않는 것이며, 후술하는 (f) 도전 입자에는 속하지 않는 것이다.As the non-conductive inorganic fine particles of component (e), known non-conductive inorganic fine particles can be used without particular restrictions. Examples of non-conductive inorganic fine particles include non-conductive inorganic fine particles such as metal oxide fine particles such as silica fine particles, alumina fine particles, silica-alumina fine particles, titania fine particles, and zirconia fine particles. These can be used individually or in combination of two or more types. In addition, in this embodiment, the (e) non-conductive inorganic fine particles do not have conductivity and do not belong to the (f) conductive particles described later.

비도전성 무기 미립자의 평균 입자경은, 1㎛ 미만인 것이 바람직하고, 0.1 내지 0.5㎛인 것이 보다 바람직하다. 또한, 여기에서 말하는 평균 입자경이란, 회로 접속 재료 중에 존재할 때의 장축 방향의 모드 직경이다. 또한, (e) 성분의 평균 1차 입자경은, 100㎚ 이하인 것이 바람직하고, 10 내지 30㎚인 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 평균 입자경 및 평균 1차 입자경은, 화상 해석에 의해 측정되는 값을 나타낸다.The average particle diameter of the non-conductive inorganic fine particles is preferably less than 1 μm, and more preferably 0.1 to 0.5 μm. In addition, the average particle diameter referred to here is the mode diameter in the major axis direction when present in the circuit connection material. Moreover, the average primary particle diameter of component (e) is preferably 100 nm or less, and more preferably 10 to 30 nm. In addition, in this specification, the average particle diameter and average primary particle diameter represent values measured by image analysis.

비도전성 무기 미립자로서는, 분산성이 우수한 점에서, 표면을 유기기로 수식한 미립자를 적합하게 사용할 수 있다. 유기기로서는, 예를 들어, 디메틸실록산기, 디페닐실록산기 등을 들 수 있다.As non-conductive inorganic fine particles, fine particles whose surface has been modified with an organic group can be suitably used because they have excellent dispersibility. Examples of organic groups include dimethylsiloxane group and diphenylsiloxane group.

비도전성 무기 미립자의 함유량은, 접착제 성분의 전체 질량을 기준으로 하여, 1 내지 30질량%인 것이 바람직하고, 2 내지 25질량%인 것이 보다 바람직하고, 5 내지 20질량%인 것이 더욱 바람직하다. (e) 성분의 함유량이 상기 범위이면, 본 개시의 효과가 일층 현저하게 발휘된다.The content of non-conductive inorganic fine particles is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 2 to 25% by mass, and even more preferably 5 to 20% by mass, based on the total mass of the adhesive components. (e) If the content of the component is within the above range, the effect of the present disclosure is more significantly exhibited.

(도전 입자)(conductive particle)

본 실시 형태의 접착제 조성물은, (f) 도전 입자를 더 함유하고 있어도 된다. 도전 입자의 구성 재료로서는, 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 구리(Cu), 땜납 등의 금속, 카본 등을 들 수 있다. 또한, 비도전성의 수지, 유리, 세라믹, 플라스틱 등을 핵으로 하고, 이 핵에 상기 금속(금속 입자 등) 또는 카본을 피복한 피복 도전 입자여도 된다. 피복 도전 입자 또는 열용융 금속 입자는, 가열 가압에 의해 변형성을 갖기 때문에, 접속 시에 회로 전극의 높이 변동을 해소하여, 접속 시에 전극과의 접촉 면적이 증가하는 것으로부터 신뢰성이 향상되기 때문에 바람직하다.The adhesive composition of this embodiment may further contain (f) conductive particles. Constituent materials of the conductive particles include metals such as gold (Au), silver (Ag), nickel (Ni), copper (Cu), solder, and carbon. Additionally, coated conductive particles may be formed by using a non-conductive resin, glass, ceramic, plastic, etc. as the core and covering the core with the metal (metal particles, etc.) or carbon. Covered conductive particles or heat-fused metal particles are preferable because they have deformability by heating and pressurizing, so they eliminate fluctuations in the height of the circuit electrodes when connected, and the contact area with the electrodes increases during connection, thereby improving reliability. do.

도전 입자의 평균 입경은, 분산성 및 도전성이 우수한 관점에서, 1 내지 30㎛인 것이 바람직하고, 2 내지 25㎛인 것이 보다 바람직하고, 3 내지 20㎛인 것이 더욱 바람직하다. 도전 입자의 평균 입경은, 예를 들어, 레이저 회절법 등의 기기분석을 사용하여 측정할 수 있다.From the viewpoint of excellent dispersibility and conductivity, the average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 to 30 μm, more preferably 2 to 25 μm, and still more preferably 3 to 20 μm. The average particle diameter of the conductive particles can be measured, for example, using instrumental analysis such as laser diffraction.

도전 입자의 함유량은, 도전성이 우수한 관점에서, 접착제 조성물의 접착제 성분의 전체 체적 100체적부에 대하여 0.1체적부 이상이 바람직하고, 1체적부 이상이 보다 바람직하다. 도전 입자의 함유량은, 전극(회로 전극 등)의 단락을 억제하기 쉬운 관점에서, 접착제 조성물의 접착제 성분의 전체 체적을 기준으로 하여, 50체적부 이하가 바람직하고, 20체적부 이하가 보다 바람직하고, 10체적부 이하가 더욱 바람직하고, 5체적부 이하가 특히 바람직하고, 3체적부 이하가 매우 바람직하다. 이들 관점에서, 도전 입자의 함유량은, 0.1 내지 50체적부가 바람직하고, 0.1 내지 20체적부가 보다 바람직하고, 1 내지 20체적부가 더욱 바람직하고, 1 내지 10체적부가 특히 바람직하고, 1 내지 5체적부가 매우 바람직하고, 1 내지 3체적부가 대단히 바람직하다. 또한, 「체적부」는, 23℃의 경화 전의 각 성분의 체적을 바탕으로 결정되는데, 각 성분의 체적은, 비중을 이용하여 질량으로부터 체적으로 환산할 수 있다. 또한, 대상 성분을 용해하거나 팽윤시키거나 하지 않고 또한 대상 성분을 잘 적시는 적당한 용제(물, 알코올 등)를 메스실린더 등에 넣은 용기에 대상 성분을 투입하여 증가한 체적을 대상 성분의 체적으로서 구할 수도 있다.From the viewpoint of excellent conductivity, the content of the conductive particles is preferably 0.1 part by volume or more, and more preferably 1 volume part or more with respect to 100 parts by volume of the total volume of the adhesive component of the adhesive composition. The content of the conductive particles is preferably 50 parts by volume or less, and more preferably 20 parts by volume or less, based on the total volume of the adhesive component of the adhesive composition, from the viewpoint of easily suppressing short circuit of electrodes (circuit electrodes, etc.). , 10 volume parts or less is more preferable, 5 volume parts or less is particularly preferable, and 3 volume parts or less is very preferable. From these viewpoints, the content of the conductive particles is preferably 0.1 to 50 parts by volume, more preferably 0.1 to 20 parts by volume, more preferably 1 to 20 parts by volume, particularly preferably 1 to 10 parts by volume, and particularly preferably 1 to 5 parts by volume. Very preferred, with 1 to 3 parts by volume being highly preferred. In addition, the “volume part” is determined based on the volume of each component before curing at 23°C, and the volume of each component can be converted from mass to volume using specific gravity. In addition, the target component can be added to a container containing a measuring cylinder or the like with an appropriate solvent (water, alcohol, etc.) that well wets the target component without dissolving or swelling the target component, and the increased volume can be obtained as the volume of the target component. .

(실란 커플링제)(Silane coupling agent)

본 실시 형태에 따른 접착제 조성물은, 실란 커플링제를 함유하고 있어도 된다. 실란 커플링제는, 바람직하게는, 하기 식 (2)로 표시되는 화합물이다.The adhesive composition according to this embodiment may contain a silane coupling agent. The silane coupling agent is preferably a compound represented by the following formula (2).

식 (2) 중, R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시카르보닐기 또는 아릴기를 나타낸다. R1, R2 및 R3 중 적어도 하나는 알콕시기이다. R4는 (메트)아크릴로일기, (메트)아크릴로일옥시기, 비닐기, 이소시아네이트기, 이미다졸기, 머캅토기, 아미노알킬기로 치환되어 있어도 되는 아미노기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 벤질아미노기, 페닐아미노기, 시클로헥실아미노기, 모르폴리노기, 피페라지노기, 우레이도기, 글리시딜기 또는 글리시독시기를 나타낸다. a는 0 내지 10의 정수를 나타낸다.In formula (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 5 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group with 1 to 5 carbon atoms, or an aryl group. At least one of R 1 , R 2 and R 3 is an alkoxy group. R 4 is (meth)acryloyl group, (meth)acryloyloxy group, vinyl group, isocyanate group, imidazole group, mercapto group, amino group which may be substituted with aminoalkyl group, methylamino group, dimethylamino group, benzylamino group, phenyl It represents an amino group, cyclohexylamino group, morpholino group, piperazino group, ureido group, glycidyl group, or glycidoxy group. a represents an integer from 0 to 10.

식 (2)의 실란 커플링제로서는, 예를 들어, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 및 3-이소시아네이토프로필트리에톡시실란을 들 수 있다.As the silane coupling agent of formula (2), for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3- (meth)acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-(meth)acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-(meth)acryloxypropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.

실란 커플링제의 함유량은, (a) 성분 및 (b) 성분의 총량 100질량부에 대하여 0.1 내지 10질량부인 것이 바람직하고, 0.25 내지 5질량부인 것이 보다 바람직하다. 실란 커플링제의 함유량이 0.1질량부 이상이면, 회로 부재와 회로 접속 재료 계면의 박리, 및 기포의 발생을 억제하는 효과가 보다 커지는 경향이 있고, 실란 커플링제의 함유량이 10질량부 이하이면, 접착제 조성물의 가용 시간이 길어지는 경향이 있다.The content of the silane coupling agent is preferably 0.1 to 10 parts by mass, and more preferably 0.25 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of component (a) and component (b). If the content of the silane coupling agent is 0.1 parts by mass or more, the effect of suppressing peeling at the interface between the circuit member and the circuit connection material and the generation of bubbles tends to be greater, and if the content of the silane coupling agent is 10 parts by mass or less, the adhesive The pot life of the composition tends to be prolonged.

(그 밖의 성분)(Other ingredients)

본 실시 형태의 접착제 조성물은, 필요에 따라, 하이드로퀴논, 메틸에테르 하이드로퀴논류 등의 중합 금지제를 적절히 함유해도 된다.The adhesive composition of this embodiment may contain a polymerization inhibitor, such as hydroquinone and methyl ether hydroquinone, as needed.

본 실시 형태의 접착제 조성물은, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산에스테르 및 아크릴로니트릴로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 모노머 성분을 중합시켜 얻어지는 단독중합체 또는 공중합체를 더 함유하고 있어도 된다. 본 실시 형태의 접착제 조성물은, 응력 완화가 우수한 관점에서, 글리시딜에테르기를 갖는 글리시딜(메트)아크릴레이트를 중합시켜 얻어지는 공중합체인 아크릴 고무 등을 함유하는 것이 바람직하다. 상기 아크릴 고무의 중량 평균 분자량은, 접착제 조성물의 응집력을 높이는 관점에서, 20만 이상이 바람직하다.The adhesive composition of this embodiment may further contain a homopolymer or copolymer obtained by polymerizing at least one monomer component selected from the group consisting of (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid ester, and acrylonitrile. The adhesive composition of this embodiment preferably contains acrylic rubber, etc., which is a copolymer obtained by polymerizing glycidyl (meth)acrylate having a glycidyl ether group, from the viewpoint of excellent stress relaxation. The weight average molecular weight of the acrylic rubber is preferably 200,000 or more from the viewpoint of increasing the cohesion of the adhesive composition.

본 실시 형태의 접착제 조성물은, 상기 도전 입자의 표면을 고분자 수지 등으로 피복한 피복 미립자를 함유해도 된다. 이러한 피복 미립자를 상기 도전 입자와 병용한 경우, 도전 입자의 함유량이 증가한 경우에도, 도전 입자끼리의 접촉에 의한 단락을 억제하기 쉽기 때문에, 인접한 회로 전극 간의 절연성을 향상시킬 수 있다. 도전 입자를 사용하지 않고 상기 피복 미립자를 단독으로 사용해도 되고, 피복 미립자와 도전 입자를 병용해도 된다. 또한, 접착제 조성물이 피복 미립자를 포함하는 경우, 본 명세서에 있어서의 「접착제 조성물의 접착제 성분」은, 접착제 조성물 중의 도전 입자 및 피복 미립자 이외의 고형분을 의미한다.The adhesive composition of this embodiment may contain coated fine particles in which the surfaces of the conductive particles are coated with a polymer resin or the like. When such coated fine particles are used in combination with the above-described conductive particles, even when the content of conductive particles increases, short-circuiting due to contact between conductive particles is easily suppressed, and the insulation between adjacent circuit electrodes can be improved. The above-mentioned coated fine particles may be used alone without using conductive particles, or the coated fine particles and conductive particles may be used together. In addition, when the adhesive composition contains coated fine particles, the "adhesive component of the adhesive composition" in this specification means the solid content other than the conductive particles and the coated fine particles in the adhesive composition.

본 실시 형태의 접착제 조성물은, 고무 미립자, 충전제, 연화제, 촉진제, 노화 방지제, 착색제, 난연화제, 틱소트로픽제 등을 함유할 수도 있다. 또한, 본 실시 형태의 접착제 조성물은, 증점제, 레벨링제, 내후성 향상제 등의 첨가제를 적절히 함유해도 된다.The adhesive composition of this embodiment may contain rubber particles, fillers, softeners, accelerators, anti-aging agents, colorants, flame retardants, thixotropic agents, etc. In addition, the adhesive composition of this embodiment may contain additives such as a thickener, a leveling agent, and a weather resistance improver as appropriate.

고무 미립자는, 도전 입자의 평균 입경의 2배 이하의 평균 입경을 갖고, 또한 상온에서의 저장 탄성률이, 도전 입자 및 접착제 조성물의 상온에서의 저장 탄성률의 1/2 이하인 입자가 바람직하다. 특히, 고무 미립자의 재질이 실리콘, 아크릴 에멀션, SBR(Styrene-Butadiene Rubber), NBR(Nitril-Butadiene Rubber) 또는 폴리부타디엔 고무일 경우, 고무 미립자는, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다. 3차원 가교한 고무 미립자는, 내용제성이 우수하고, 접착제 조성물 중에 용이하게 분산된다.The rubber fine particles are preferably particles that have an average particle diameter of 2 times or less than that of the conductive particles and a storage elastic modulus at room temperature of 1/2 or less of the storage elastic modulus at room temperature of the conductive particles and the adhesive composition. In particular, when the material of the rubber particles is silicone, acrylic emulsion, SBR (Styrene-Butadiene Rubber), NBR (Nitril-Butadiene Rubber), or polybutadiene rubber, the rubber particles should be used alone or in a mixture of two or more types. desirable. Three-dimensional crosslinked rubber fine particles have excellent solvent resistance and are easily dispersed in the adhesive composition.

충전제는, 회로 전극 간의 전기 특성(접속 신뢰성 등)을 향상시킬 수 있다. 충전제로서는, 예를 들어, 도전 입자의 평균 입경의 1/2 이하의 평균 입경을 갖는 입자를 적합하게 사용할 수 있다. 도전성을 갖지 않는 입자를 충전제와 병용하는 경우, 도전성을 갖지 않는 입자의 평균 입경 이하의 입자를 충전제로서 사용할 수 있다. 충전제의 함유량은, 접착제 조성물의 접착제 성분 전량을 기준으로 하여, 0.1 내지 60질량%인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 60질량% 이하인 것에 의해, 접속 신뢰성의 향상 효과를 더욱 충분히 얻을 수 있는 경향이 있다. 상기 함유량이 0.1질량% 이상인 것에 의해, 충전제의 첨가 효과를 충분히 얻을 수 있는 경향이 있다.Fillers can improve electrical characteristics (connection reliability, etc.) between circuit electrodes. As the filler, for example, particles having an average particle diameter of 1/2 or less of the average particle diameter of the conductive particles can be suitably used. When non-conductive particles are used in combination with a filler, particles with an average particle diameter smaller than that of the non-conductive particles can be used as the filler. The content of the filler is preferably 0.1 to 60% by mass based on the total amount of adhesive components in the adhesive composition. When the content is 60% by mass or less, the effect of improving connection reliability tends to be more fully achieved. When the content is 0.1% by mass or more, the effect of adding the filler tends to be sufficiently obtained.

본 실시 형태의 접착제 조성물은, 상온에서 액상일 경우에는 페이스트상으로 사용할 수 있다. 접착제 조성물이 상온에서 고체상일 경우에는, 가열하여 사용하는 외에, 용제를 사용하여 페이스트화해도 된다. 사용할 수 있는 용제로서는, 접착제 조성물 중의 성분에 대하여 반응성이 없고, 또한 충분한 용해성을 나타내는 용제이면, 특별히 제한은 없다. 용제는, 상압에서의 비점이 50 내지 150℃인 용제가 바람직하다. 비점이 50℃ 이상이면 상온에서의 용제의 휘발성이 적기 때문에, 개방계에서도 사용할 수 있다. 비점이 150℃ 이하이면, 용제를 휘발시키는 것이 용이하기 때문에, 접착 후에 양호한 신뢰성이 얻어진다.The adhesive composition of this embodiment can be used in paste form when it is liquid at room temperature. When the adhesive composition is in a solid state at room temperature, it may be used by heating or may be made into a paste using a solvent. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it is not reactive with the components in the adhesive composition and shows sufficient solubility. The solvent is preferably one with a boiling point of 50 to 150°C at normal pressure. If the boiling point is 50°C or higher, the solvent has little volatility at room temperature, so it can be used even in an open system. If the boiling point is 150°C or lower, it is easy to volatilize the solvent, so good reliability is obtained after adhesion.

본 실시 형태의 접착제 조성물은, 필름상이어도 된다. 필요에 따라 용제 등을 함유하는 접착제 조성물을, 예를 들어, 불소 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 또는 박리성 기재(이형지 등) 상에 도포한 후, 용제 등을 제거함으로써 필름상의 접착제 조성물을 얻을 수 있다. 또한, 부직포 등의 기재에 상기 용액을 함침시켜서 박리성 기재 상에 적재한 후, 용제 등을 제거함으로써 필름상의 접착제 조성물을 얻을 수 있다. 접착제 조성물을 필름상으로 사용하면, 취급성 등이 우수하다.The adhesive composition of this embodiment may be in a film form. If necessary, an adhesive composition containing a solvent, etc. is applied onto, for example, a fluororesin film, polyethylene terephthalate film, or a peelable substrate (release paper, etc.), and then the solvent, etc. is removed to obtain a film-like adhesive composition. You can. Additionally, a film-like adhesive composition can be obtained by impregnating a substrate such as a non-woven fabric with the solution, placing it on a peelable substrate, and then removing the solvent. When the adhesive composition is used in film form, handling properties, etc. are excellent.

본 실시 형태의 접착제 조성물은, 가열 또는 광 조사와 함께 가압함으로써 접착시킬 수 있다. 가열 및 광 조사를 병용함으로써 더욱 저온 단시간에 접착할 수 있다. 광 조사는, 150 내지 750㎚의 파장 영역의 광을 조사하는 것이 바람직하다. 광원은, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등(초고압 수은등 등), 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프 등을 사용할 수 있다. 조사량은, 0.1 내지 10J/㎠이면 된다. 가열 온도는, 특별히 제한은 없지만, 50 내지 170℃의 온도가 바람직하다. 압력은, 피착체에 손상을 끼치지 않는 범위이면, 특별히 제한은 없지만, 0.1 내지 10MPa가 바람직하다. 가열 및 가압은, 0.5초 내지 3시간의 범위에서 행하는 것이 바람직하다.The adhesive composition of this embodiment can be bonded by applying pressure along with heating or light irradiation. By using a combination of heating and light irradiation, bonding can be achieved at a lower temperature and in a shorter time. Light irradiation is preferably irradiated with light in a wavelength range of 150 to 750 nm. As a light source, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp (extra-high pressure mercury lamp, etc.), a xenon lamp, a metal halide lamp, etc. can be used. The irradiation amount may be 0.1 to 10 J/cm2. There is no particular limitation on the heating temperature, but a temperature of 50 to 170°C is preferable. The pressure is not particularly limited as long as it is within a range that does not damage the adherend, but is preferably 0.1 to 10 MPa. Heating and pressurization are preferably performed within the range of 0.5 seconds to 3 hours.

본 실시 형태의 접착제 조성물은, 동일종의 피착체의 접착제로서 사용해도 되고, 열팽창 계수가 상이한 이종의 피착체의 접착제로서 사용해도 된다. 구체적으로는, 이방 도전 접착제, 은 페이스트, 은 필름 등으로 대표되는 회로 접속 재료; CSP(Chip Size Package)용 엘라스토머, CSP용 언더필재, LOC(Lead on Chip) 테이프 등으로 대표되는 반도체 소자 접착 재료 등으로서 사용할 수 있다.The adhesive composition of this embodiment may be used as an adhesive for the same type of adherend, or may be used as an adhesive for different types of adherends with different thermal expansion coefficients. Specifically, circuit connection materials such as anisotropic conductive adhesive, silver paste, silver film, etc.; It can be used as an elastomer for CSP (Chip Size Package), an underfill material for CSP, and semiconductor device adhesive materials such as LOC (Lead on Chip) tape.

<구조체 및 그의 제조 방법><Structure and its manufacturing method>

본 실시 형태의 구조체는, 본 실시 형태의 접착제 조성물 또는 그의 경화물을 구비한다. 본 실시 형태의 구조체는, 예를 들어, 회로 접속 구조체 등의 반도체 장치이다. 본 실시 형태의 구조체의 일 형태로서, 회로 접속 구조체는, 제1 회로 전극을 갖는 제1 회로 부재와, 제2 회로 전극을 갖는 제2 회로 부재와, 제1 회로 부재 및 제2 회로 부재 사이에 배치된 회로 접속 부재를 구비한다. 제1 회로 부재는, 예를 들어, 제1 기판과, 당해 제1 기판 상에 배치된 제1 회로 전극을 갖는다. 제2 회로 부재는, 예를 들어, 제2 기판과, 당해 제2 기판 상에 배치된 제2 회로 전극을 갖는다. 제1 회로 전극 및 제2 회로 전극은, 서로 대향함과 함께 전기적으로 접속되어 있다. 회로 접속 부재는, 본 실시 형태의 접착제 조성물 또는 그의 경화물을 포함하고 있다. 본 실시 형태에 따른 구조체는, 본 실시 형태에 따른 접착제 조성물 또는 그의 경화물을 구비하고 있으면 되고, 상기 회로 접속 구조체의 회로 부재 대신에, 회로 전극을 갖고 있지 않은 부재(기판 등)를 사용해도 된다.The structure of the present embodiment includes the adhesive composition of the present embodiment or a cured product thereof. The structure of this embodiment is, for example, a semiconductor device such as a circuit connection structure. As one form of the structure of this embodiment, the circuit connection structure includes a first circuit member having a first circuit electrode, a second circuit member having a second circuit electrode, and between the first circuit member and the second circuit member. It has an arranged circuit connection member. The first circuit member has, for example, a first substrate and a first circuit electrode disposed on the first substrate. The second circuit member has, for example, a second substrate and a second circuit electrode disposed on the second substrate. The first circuit electrode and the second circuit electrode face each other and are electrically connected. The circuit connection member contains the adhesive composition of this embodiment or its cured product. The structure according to the present embodiment may be provided with the adhesive composition according to the present embodiment or a cured product thereof, and a member (substrate, etc.) without a circuit electrode may be used instead of the circuit member of the circuit connection structure. .

본 실시 형태의 구조체의 제조 방법은, 본 실시 형태의 접착제 조성물을 경화시키는 공정을 구비한다. 본 실시 형태의 구조체의 제조 방법의 일 형태로서, 회로 접속 구조체의 제조 방법은, 제1 회로 전극을 갖는 제1 회로 부재와, 제2 회로 전극을 갖는 제2 회로 부재 사이에, 본 실시 형태의 접착제 조성물을 배치하는 배치 공정과, 제1 회로 부재와 제2 회로 부재를 가압하여 제1 회로 전극과 제2 회로 전극을 전기적으로 접속시킴과 함께, 접착제 조성물을 가열하여 경화시키는 가열 가압 공정을 구비한다. 배치 공정에 있어서, 제1 회로 전극과 제2 회로 전극이 서로 대향하도록 배치할 수 있다. 가열 가압 공정에 있어서, 제1 회로 부재와 제2 회로 부재를 서로 대향하는 방향으로 가압할 수 있다.The method for manufacturing the structure of this embodiment includes a step of curing the adhesive composition of this embodiment. As one form of the method of manufacturing the structure of the present embodiment, the method of manufacturing the circuit connection structure includes forming a structure between a first circuit member having a first circuit electrode and a second circuit member having a second circuit electrode. A batch process for arranging the adhesive composition, a heating and pressing process for pressurizing the first circuit member and the second circuit member to electrically connect the first circuit electrode and the second circuit electrode, and heating and curing the adhesive composition. do. In the arrangement process, the first circuit electrode and the second circuit electrode may be arranged to face each other. In the heating and pressing process, the first circuit member and the second circuit member can be pressed in directions opposing each other.

이하, 도면을 사용하여, 본 실시 형태의 일 형태로서, 회로 접속 구조체 및 그의 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 1은, 구조체의 일 실시 형태를 도시하는 모식 단면도이다. 도 1에 도시하는 회로 접속 구조체(100a)는 서로 대향하는 회로 부재(제1 회로 부재)(20) 및 회로 부재(제2 회로 부재)(30)를 구비하고 있고, 회로 부재(20)와 회로 부재(30) 사이에는, 이들을 접속하는 회로 접속 부재(10)가 배치되어 있다. 회로 접속 부재(10)는 본 실시 형태의 접착제 조성물의 경화물을 포함한다.Hereinafter, using the drawings, a circuit connection structure and its manufacturing method will be described as one form of this embodiment. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a structure. The circuit connection structure 100a shown in FIG. 1 includes a circuit member (first circuit member) 20 and a circuit member (second circuit member) 30 that face each other, and the circuit member 20 and the circuit A circuit connection member 10 is disposed between the members 30 to connect them. The circuit connection member 10 contains a cured product of the adhesive composition of this embodiment.

회로 부재(20)는 기판(제1 기판)(21)과, 기판(21)의 주면(21a) 상에 배치된 회로 전극(제1 회로 전극)(22)을 구비하고 있다. 기판(21)의 주면(21a) 상에는, 경우에 따라 절연층(도시하지 않음)이 배치되어 있어도 된다.The circuit member 20 includes a substrate (first substrate) 21 and a circuit electrode (first circuit electrode) 22 disposed on the main surface 21a of the substrate 21. In some cases, an insulating layer (not shown) may be disposed on the main surface 21a of the substrate 21.

회로 부재(30)는 기판(제2 기판)(31)과, 기판(31)의 주면(31a) 상에 배치된 회로 전극(제2 회로 전극)(32)을 구비하고 있다. 기판(31)의 주면(31a) 상에는, 경우에 따라 절연층(도시하지 않음)이 배치되어 있어도 된다.The circuit member 30 includes a substrate (second substrate) 31 and a circuit electrode (second circuit electrode) 32 disposed on the main surface 31a of the substrate 31. In some cases, an insulating layer (not shown) may be disposed on the main surface 31a of the substrate 31.

회로 접속 부재(10)는 절연성 물질(도전 입자를 제외하는 성분의 경화물)(10a) 및 도전 입자(10b)를 함유하고 있다. 도전 입자(10b)는 적어도, 서로 대향하는 회로 전극(22)과 회로 전극(32) 사이에 배치되어 있다. 회로 접속 구조체(100a)에 있어서는, 회로 전극(22) 및 회로 전극(32)이 도전 입자(10b)를 통하여 전기적으로 접속되어 있다.The circuit connection member 10 contains an insulating material (cured product of components excluding conductive particles) 10a and conductive particles 10b. The conductive particles 10b are disposed at least between the circuit electrodes 22 and 32 that face each other. In the circuit connection structure 100a, the circuit electrode 22 and the circuit electrode 32 are electrically connected through the conductive particles 10b.

회로 부재(20 및 30)는, 단수 또는 복수의 회로 전극(접속 단자)을 갖고 있다. 회로 부재(20 및 30)로서는, 예를 들어, 전기적 접속을 필요로 하는 전극을 갖는 부재를 사용할 수 있다. 회로 부재로서는, 반도체 칩(IC 칩), 저항체 칩, 콘덴서 칩 등의 칩 부품; 프린트 기판, 반도체 탑재용 기판 등의 기판 등을 사용할 수 있다. 회로 부재(20 및 30)의 조합으로서는, 예를 들어, 반도체 칩 및 반도체 탑재용 기판을 들 수 있다. 기판의 재질로서는, 예를 들어, 반도체, 유리, 세라믹 등의 무기물; 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, (메트)아크릴 수지, 환상 올레핀 수지 등의 유기물; 유리와 에폭시 등과의 복합물 등을 들 수 있다. 기판은 플라스틱 기판이어도 된다.The circuit members 20 and 30 have one or more circuit electrodes (connection terminals). As the circuit members 20 and 30, for example, members having electrodes that require electrical connection can be used. Circuit members include chip components such as semiconductor chips (IC chips), resistor chips, and condenser chips; Substrates such as printed boards and semiconductor mounting boards can be used. Examples of combinations of the circuit members 20 and 30 include a semiconductor chip and a semiconductor mounting substrate. Examples of substrate materials include inorganic materials such as semiconductors, glass, and ceramics; Organic substances such as polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, (meth)acrylic resin, and cyclic olefin resin; A composite of glass, epoxy, etc. can be mentioned. The substrate may be a plastic substrate.

도 2는, 구조체의 다른 실시 형태를 도시하는 모식 단면도이다. 도 2에 도시하는 회로 접속 구조체(100b)는 회로 접속 부재(10)가 도전 입자(10b)를 함유하고 있지 않은 것 이외에는, 회로 접속 구조체(100a)와 동일한 구성을 갖고 있다. 도 2에 도시하는 회로 접속 구조체(100b)에서는, 회로 전극(22)과 회로 전극(32)이 도전 입자를 개재하지 않고 직접 접촉하여 전기적으로 접속되어 있다.Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the structure. The circuit connection structure 100b shown in FIG. 2 has the same configuration as the circuit connection structure 100a except that the circuit connection member 10 does not contain conductive particles 10b. In the circuit connection structure 100b shown in FIG. 2, the circuit electrode 22 and the circuit electrode 32 are electrically connected by direct contact without conductive particles intervening.

회로 접속 구조체(100a 및 100b)는, 예를 들어, 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다. 먼저, 접착제 조성물이 페이스트상일 경우, 접착제 조성물을 도포 및 건조함으로써 접착제 조성물을 포함하는 수지층을 회로 부재(20) 상에 배치한다. 접착제 조성물이 필름상일 경우, 필름상의 접착제 조성물을 회로 부재(20)에 첩부함으로써 접착제 조성물을 포함하는 수지층을 회로 부재(20) 상에 배치한다. 계속해서, 회로 전극(22)과 회로 전극(32)이 대향 배치되도록, 회로 부재(20) 상에 배치된 수지층 상에 회로 부재(30)를 얹는다. 그리고, 접착제 조성물을 포함하는 수지층에 가열 처리 또는 광 조사를 행함으로써 접착제 조성물이 경화하여 경화물(회로 접속 부재(10))이 얻어진다. 이상에 의해, 회로 접속 구조체(100a 및 100b)가 얻어진다.The circuit connection structures 100a and 100b can be manufactured, for example, by the following method. First, when the adhesive composition is in a paste form, a resin layer containing the adhesive composition is disposed on the circuit member 20 by applying and drying the adhesive composition. When the adhesive composition is in the form of a film, a resin layer containing the adhesive composition is disposed on the circuit member 20 by attaching the film-shaped adhesive composition to the circuit member 20 . Subsequently, the circuit member 30 is placed on the resin layer disposed on the circuit member 20 so that the circuit electrodes 22 and 32 are opposed to each other. Then, the adhesive composition is cured by heat treatment or light irradiation on the resin layer containing the adhesive composition, and a cured product (circuit connection member 10) is obtained. As a result, the circuit connection structures 100a and 100b are obtained.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 들어, 본 개시에 대하여 보다 구체적으로 설명한다. 단, 본 개시는 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present disclosure will be described in more detail through examples and comparative examples. However, the present disclosure is not limited to the following examples.

(폴리우레탄 수지의 합성)(Synthesis of polyurethane resin)

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 구비한 세퍼러블 플라스크에, 에테르 결합을 갖는 디올인 폴리프로필렌글리콜(와코 쥰야꾸 고교 가부시키가이샤제, 수 평균 분자량 Mn=2000) 1000질량부, 및 메틸에틸케톤(용제) 4000질량부를 첨가한 후, 40℃에서 30분간 교반하여 반응액을 조제하였다. 상기 반응액을 70℃까지 승온한 후, 디메틸주석라우레이트(촉매) 0.0127질량부를 첨가하였다. 이어서, 이 반응액에 대하여 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 125질량부를 메틸에틸케톤 125질량부에 용해하여 조제한 용액을, 1시간에 걸쳐 적하하였다. 그 후, 적외 분광 광도계(니혼분코 가부시키가이샤제)에 의해 이소시아네이트기 유래의 흡수 피크(2270㎝-1)가 보이지 않게 될 때까지 상기 온도에서 교반을 계속하여, 폴리우레탄의 메틸에틸케톤 용액을 얻었다. 이어서, 이 용액의 고형분 농도(폴리우레탄의 농도)가 30질량%가 되도록 용제량을 조정하였다. 얻어진 폴리우레탄(폴리우레탄 수지)의 중량 평균 분자량은, GPC(겔 투과 크로마토그래피)에 의한 측정의 결과, 320000(표준 폴리스티렌 환산값)이었다. GPC의 측정 조건을 표 1에 나타내었다.In a separable flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 1000 parts by mass of polypropylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., number average molecular weight Mn=2000), which is a diol having an ether bond, and methyl ethyl ketone (solvent) ) After adding 4000 parts by mass, the reaction solution was prepared by stirring at 40°C for 30 minutes. After heating the reaction solution to 70°C, 0.0127 parts by mass of dimethyltin laurate (catalyst) was added. Next, a solution prepared by dissolving 125 parts by mass of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate in 125 parts by mass of methyl ethyl ketone was added dropwise to this reaction solution over 1 hour. Thereafter, stirring was continued at the above temperature until the absorption peak (2270 cm -1 ) derived from the isocyanate group was no longer visible by an infrared spectrophotometer (manufactured by Nippon Bunko Co., Ltd.), and the methyl ethyl ketone solution of polyurethane was prepared. got it Next, the amount of solvent was adjusted so that the solid content concentration (polyurethane concentration) of this solution was 30% by mass. The weight average molecular weight of the obtained polyurethane (polyurethane resin) was 320000 (standard polystyrene conversion value) as a result of measurement by GPC (gel permeation chromatography). GPC measurement conditions are shown in Table 1.

Figure 112019106939541-pct00003
Figure 112019106939541-pct00003

(우레탄아크릴레이트의 합성)(Synthesis of urethane acrylate)

온도계, 교반기, 불활성 가스 도입구 및 환류 냉각기를 장착한 2L(리터)의 4구 플라스크에, 폴리카르보네이트디올(알드리치사제, 수 평균 분자량 2000) 4000질량부와, 2-히드록시에틸아크릴레이트 238질량부와, 히드로퀴논모노메틸에테르 0.49질량부와, 주석계 촉매 4.9질량부를 투입하여 반응액을 조제하였다. 70℃로 가열한 반응액에 대하여 이소포론디이소시아네이트(IPDI) 666질량부를 3시간에 걸쳐 균일하게 적하하고, 반응시켰다. 적하 완료 후, 15시간 반응을 계속하고, NCO%(NCO 함유량)가 0.2질량% 이하가 된 시점을 반응 종료라고 간주하고, 우레탄아크릴레이트를 얻었다. NCO%는, 전위차 자동 적정 장치(상품명: AT-510, 교토 덴시 고교 가부시키가이샤제)에 의해 확인하였다. GPC에 의한 분석의 결과, 우레탄아크릴레이트의 중량 평균 분자량은 8500(표준 폴리스티렌 환산값)이었다. 또한, GPC에 의한 분석은, 상기 폴리우레탄 수지의 중량 평균 분자량의 분석과 동일한 조건에서 행하였다.In a 2L (liter) four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, inert gas inlet, and reflux condenser, 4000 parts by mass of polycarbonate diol (manufactured by Aldrich, number average molecular weight 2000) and 2-hydroxyethyl acrylate. A reaction solution was prepared by adding 238 parts by mass, 0.49 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether, and 4.9 parts by mass of a tin-based catalyst. 666 parts by mass of isophorone diisocyanate (IPDI) was uniformly added dropwise to the reaction solution heated to 70°C over 3 hours and allowed to react. After completion of dropwise addition, the reaction was continued for 15 hours, and the point when NCO% (NCO content) became 0.2 mass% or less was considered the completion of the reaction, and urethane acrylate was obtained. NCO% was confirmed using a potentiometric automatic titrator (brand name: AT-510, manufactured by Kyoto Denshi Kogyo Co., Ltd.). As a result of analysis by GPC, the weight average molecular weight of urethane acrylate was 8500 (standard polystyrene conversion value). In addition, the analysis by GPC was performed under the same conditions as the analysis of the weight average molecular weight of the polyurethane resin.

(도전 입자의 제작)(Production of conductive particles)

폴리스티렌 입자의 표면에 두께 0.2㎛의 니켈층을 형성하였다. 또한, 이 니켈층의 외측에 두께 0.04㎛의 금층을 형성시켰다. 이에 의해, 평균 입경 4㎛의 도전 입자를 제작하였다.A nickel layer with a thickness of 0.2 μm was formed on the surface of the polystyrene particles. Additionally, a gold layer with a thickness of 0.04 μm was formed on the outside of this nickel layer. In this way, conductive particles with an average particle diameter of 4 μm were produced.

[실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4][Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4]

(필름상 접착제의 제작)(Production of film adhesive)

표 2에 나타내는 성분을, 표 2에 나타내는 질량비(고형분)로 혼합하여 혼합물을 얻었다. 이 혼합물에 상기 도전 입자를 1.5체적부의 비율(기준: 접착제 조성물의 접착제 성분의 전체 체적 100체적부에 대한 비율)로 분산시켜서, 필름상 접착제를 형성하기 위한 도공액을 얻었다. 이 도공액을 두께 50㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름에 도공 장치를 사용하여 도포하였다. 도막을 70℃에서 10분 열풍 건조하여, 두께 18㎛의 필름상 접착제를 형성시켰다.The components shown in Table 2 were mixed in the mass ratio (solid content) shown in Table 2 to obtain a mixture. The above-mentioned conductive particles were dispersed in this mixture at a ratio of 1.5 parts by volume (standard: ratio with respect to 100 parts by volume of the total volume of the adhesive components of the adhesive composition) to obtain a coating liquid for forming a film-like adhesive. This coating liquid was applied to a polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 50 μm using a coating device. The coating film was dried with hot air at 70°C for 10 minutes to form a film-like adhesive with a thickness of 18 μm.

또한, 표 2에 나타내는 각 성분의 상세는 이하와 같다.In addition, the details of each component shown in Table 2 are as follows.

폴리우레탄 수지: 상기한 바와 같이 합성한 폴리우레탄 수지를 사용하였다.Polyurethane resin: Polyurethane resin synthesized as described above was used.

페녹시 수지: PKHC(유니언 카바이드 가부시키가이샤제, 상품명, 중량 평균 분자량 45000) 40g을 메틸에틸케톤 60g에 용해하여 조제한 40질량% 용액의 형태로 사용하였다.Phenoxy resin: 40 g of PKHC (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., brand name, weight average molecular weight 45000) was used in the form of a 40% by mass solution prepared by dissolving in 60 g of methyl ethyl ketone.

라디칼 중합성 화합물 A: 상기한 바와 같이 합성한 우레탄아크릴레이트를 사용하였다.Radically polymerizable compound A: Urethane acrylate synthesized as described above was used.

라디칼 중합성 화합물 B: 이소시아누르산 EO 변성 디아크릴레이트(상품명: M-215, 도아 고세 가부시키가이샤제)를 사용하였다.Radical polymerizable compound B: Isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Product name: M-215, Toagosei Co., Ltd.) was used.

라디칼 중합성 화합물 C(인산에스테르): 2-메타크릴로일옥시에틸애시드포스페이트(상품명: 라이트 에스테르 P-2M, 교에샤 가가꾸 가부시키가이샤제)를 사용하였다.Radically polymerizable compound C (phosphoric acid ester): 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate (product name: Light Ester P-2M, manufactured by Kyoesha Chemical Co., Ltd.) was used.

과산화물(라디칼 중합 개시제): 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(상품명: 퍼옥타 O, 니찌유 가부시끼가이샤제, 1분간 반감기 온도: 124.3℃)를 사용하였다.Peroxide (radical polymerization initiator): 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate (Product name: Perocta O, manufactured by Nichiyu Co., Ltd., half-life temperature for 1 minute: 124.3°C) used.

폴리우레탄 비즈 A: P-800T(네가미 고교 가부시키가이샤제, 상품명, 평균 입자경: 6㎛, 유리 전이 온도: -34℃) 10g을 메틸에틸케톤 90g에 분산한 10질량% 용액의 형태로 사용하였다.Polyurethane beads A: 10 g of P-800T (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., brand name, average particle diameter: 6 ㎛, glass transition temperature: -34°C) dispersed in 90 g of methyl ethyl ketone, used in the form of a 10 mass% solution. did.

폴리우레탄 비즈 B: JB-800T(네가미 고교 가부시키가이샤제, 상품명, 평균 입자경: 6㎛, 유리 전이 온도: -52℃) 10g을 메틸에틸케톤 90g에 분산한 10질량% 용액의 형태로 사용하였다.Polyurethane beads B: 10 g of JB-800T (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., brand name, average particle diameter: 6 μm, glass transition temperature: -52°C) dispersed in 90 g of methyl ethyl ketone, used in the form of a 10 mass% solution. did.

실리카 미립자(비도전성 무기 미립자): R104(닛본 에어로실 가부시키가이샤제, 상품명) 10g을 톨루엔(45g) 및 아세트산에틸(45g)의 혼합 용제에 분산시킨 10질량%의 분산액 형태로 사용하였다.Silica fine particles (non-conductive inorganic fine particles): 10 g of R104 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., brand name) was dispersed in a mixed solvent of toluene (45 g) and ethyl acetate (45 g), and was used in the form of a 10% by mass dispersion.

(접속체의 제작)(Production of connection body)

실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4의 필름상 접착제를 사용하여, 라인 폭 75㎛, 피치 150㎛(스페이스 75㎛) 및 두께 18㎛의 구리 회로를 2200개 갖는 플렉시블 회로 기판(FPC)과, 유리 기판, 및 유리 기판 상에 형성된 두께 0.2㎛의 질화규소(SiNx)의 박층을 갖는 SiNx 기판(두께 0.7㎜)을 접속하였다. 접속은, 열 압착 장치(가열 방식: 콘스탄트히트형, 도레이 엔지니어링 가부시키가이샤제)를 사용하여, 170℃, 3MPa로 5초간의 가열 및 가압에 의해 행하였다. 이에 의해, 폭 1.5㎜ 및 폭 1.0㎜에 걸쳐 FPC와 SiNx 기판이 필름상 접착제의 경화물에 의해 접속된 접속체(구조체)를 제작하였다. 가압의 압력은, 압착 면적을, 폭 1.5㎜의 경우에는 0.495㎠, 폭 1.0㎜의 경우에는 0.330㎠로서 계산하였다.Using the film adhesives of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, a flexible circuit board (FPC) having 2200 copper circuits with a line width of 75 μm, a pitch of 150 μm (space 75 μm), and a thickness of 18 μm was produced. , a glass substrate, and a SiN x substrate (0.7 mm thick) with a thin layer of silicon nitride (SiN x ) with a thickness of 0.2 μm formed on the glass substrate. The connection was performed by heating and pressurizing at 170°C and 3 MPa for 5 seconds using a thermal compression device (heating method: constant heat type, manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.). In this way, a connection body (structure) was produced in which the FPC and the SiN x substrate were connected by a cured film adhesive over a width of 1.5 mm and a width of 1.0 mm. The pressurizing pressure was calculated based on the pressing area being 0.495 cm 2 for a width of 1.5 mm and 0.330 cm 2 for a width of 1.0 mm.

<접착 강도의 측정><Measurement of adhesive strength>

얻어진 접속체의 접착 강도를, JIS-Z0237에 준하여 90도 박리법으로 측정하였다. 접착 강도의 측정 장치로서, 텐실론 UTM-4(도요 볼드윈 가부시키가이샤제, 상품명, 박리 강도 50㎜/min, 25℃)를 사용하였다. 결과를 표 2에 나타내었다.The adhesive strength of the obtained connected body was measured by the 90 degree peeling method according to JIS-Z0237. As a measuring device for adhesive strength, Tensilon UTM-4 (manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd., brand name, peel strength 50 mm/min, 25°C) was used. The results are shown in Table 2.

표 2로부터, 실시예의 필름상 접착제는, 비교예의 필름상 접착제와 비교하여 1.0㎜폭 접속 시에 있어서도 높은 접착 강도(8N/㎝ 이상)가 얻어지는 것이 확인되었다. 비교예 1의 필름상 접착제에서는, 1.5㎜폭 접속 시에는 높은 접착 강도가 얻어졌지만, 1.0㎜폭 접속 시에는 충분한 접착 강도가 얻어지지 않았다. 비교예 2 내지 4의 필름상 접착제에서는, 1.5㎜폭 접속 시에 있어서도 충분한 접착 강도가 얻어지지 않았다.From Table 2, it was confirmed that the film adhesive of the example had a high adhesive strength (8 N/cm or more) even when connected at a width of 1.0 mm compared to the film adhesive of the comparative example. In the film adhesive of Comparative Example 1, high adhesive strength was obtained when making a 1.5 mm wide connection, but sufficient adhesive strength was not obtained when making a 1.0 mm wide connection. In the film adhesives of Comparative Examples 2 to 4, sufficient adhesive strength was not obtained even when connected at a width of 1.5 mm.

10: 회로 접속 부재
10a: 절연성 물질
10b: 도전 입자
20: 제1 회로 부재
21: 제1 기판
21a: 주면
22: 제1 회로 전극
30: 제2 회로 부재
31: 제2 기판
31a: 주면
32: 제2 회로 전극
100a, 100b: 회로 접속 구조체
10: Circuit connection member
10a: insulating material
10b: Conductive particles
20: first circuit member
21: first substrate
21a: If you give it to me
22: first circuit electrode
30: second circuit member
31: second substrate
31a: If you give it
32: second circuit electrode
100a, 100b: circuit connection structure

Claims (6)

(a) 우레탄 결합을 갖는 열가소성 수지와,
(b) 라디칼 중합성 화합물과,
(c) 라디칼 중합 개시제와,
(d) 폴리우레탄 비즈와,
(e) 비도전성 무기 미립자
를 함유하며,
상기 라디칼 중합성 화합물이, 하기 일반식 (1)로 표시되는 인산에스테르 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 포함하는, 접착제 조성물.

[식 중, p는 1 내지 3의 정수를 나타내고, R은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.]
(a) a thermoplastic resin having a urethane bond,
(b) a radically polymerizable compound,
(c) a radical polymerization initiator,
(d) polyurethane beads,
(e) Non-conductive inorganic particles
Contains,
An adhesive composition in which the radically polymerizable compound includes a radically polymerizable compound having a phosphate ester structure represented by the following general formula (1).

[Wherein, p represents an integer of 1 to 3, and R represents a hydrogen atom or a methyl group.]
제1항에 있어서, 상기 (a) 우레탄 결합을 갖는 열가소성 수지의 함유량이, 질량 기준으로, 상기 (d) 폴리우레탄 비즈의 함유량 이상인, 접착제 조성물.The adhesive composition according to claim 1, wherein the content of the thermoplastic resin having a urethane bond (a) is greater than or equal to the content of the polyurethane beads (d) on a mass basis. 제1항에 있어서, (f) 도전 입자를 더 함유하는, 접착제 조성물.The adhesive composition according to claim 1, further comprising (f) conductive particles. 제1항에 있어서, 회로 접속용인, 접착제 조성물.The adhesive composition according to claim 1, for circuit connection. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물 또는 그의 경화물을 구비하는, 구조체.A structure comprising the adhesive composition according to any one of claims 1 to 4 or a cured product thereof. 제1 회로 전극을 갖는 제1 회로 부재와,
제2 회로 전극을 갖는 제2 회로 부재와,
상기 제1 회로 부재 및 상기 제2 회로 부재 사이에 배치된 회로 접속 부재를 구비하고,
상기 제1 회로 전극 및 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속되어 있고,
상기 회로 접속 부재가, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물 또는 그의 경화물을 포함하는, 구조체.
a first circuit member having a first circuit electrode;
a second circuit member having a second circuit electrode;
Provided with a circuit connection member disposed between the first circuit member and the second circuit member,
The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected,
A structure in which the circuit connection member contains the adhesive composition according to any one of claims 1 to 4 or a cured product thereof.
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