KR102573454B1 - 치환 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸의 제조 - Google Patents

치환 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸의 제조 Download PDF

Info

Publication number
KR102573454B1
KR102573454B1 KR1020207005048A KR20207005048A KR102573454B1 KR 102573454 B1 KR102573454 B1 KR 102573454B1 KR 1020207005048 A KR1020207005048 A KR 1020207005048A KR 20207005048 A KR20207005048 A KR 20207005048A KR 102573454 B1 KR102573454 B1 KR 102573454B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
alkyl
formula
compound
phenyl
group
Prior art date
Application number
KR1020207005048A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200033916A (ko
Inventor
크리슈토퍼 코라딘
바실리오스 그람메노스
미하엘 락
카일라스쿠마르 보라테
롤란트 괴츠
Original Assignee
바스프 에스이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 바스프 에스이 filed Critical 바스프 에스이
Publication of KR20200033916A publication Critical patent/KR20200033916A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102573454B1 publication Critical patent/KR102573454B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D271/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two nitrogen atoms and one oxygen atom as the only ring hetero atoms
    • C07D271/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two nitrogen atoms and one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D271/06—1,2,4-Oxadiazoles; Hydrogenated 1,2,4-oxadiazoles
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/72—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with nitrogen atoms and oxygen or sulfur atoms as ring hetero atoms
    • A01N43/82—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with nitrogen atoms and oxygen or sulfur atoms as ring hetero atoms five-membered rings with three ring hetero atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • Pest Control & Pesticides (AREA)
  • Plant Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Agronomy & Crop Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은, 화학식 II의 하이드록시아미딘 화합물과 트리플루오로아세틸 할로겐화물 IIa의 반응을 통해 수득될 수 있는, 치환 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸(화합물 I)을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.

Description

치환 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸의 제조
본 발명은 하기 화학식 II의 하이드록시아미딘 화합물과 하기 화학식 IIa의 트리플루오로아세틸 할로겐화물의 반응을 통해 수득될 수 있는, 치환 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸(화합물 I)의 제조를 위한 방법에 관한 것이다:
Figure 112020018283266-pct00001
치환 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸은 식물병원성 진균을 방제하는데 유용한 것으로, 예를 들어 WO 2015/185485 A1 및 WO 2017/211649 A1에 공지되어 있다. 통상적으로 이의 제조는, 하이드록시아미딘 화합물, 예컨대 화학식 II의 화합물과, 트리플루오로아세트산의 활성화된 유도체의 반응을 통해 옥사디아졸 고리를 형성하는 것을 포함한다. 제1 반응 단계에서, 화학식 II의 화합물 중 하이드록시기가 아실화된다. 그 다음, 중간체인 O-트리플루오로아세틸 아미독심이 폐환을 진행하고, 이에 수반하여 물이 제거됨에 따라 옥사디아졸 모이어티(moiety)이 생성된다. 트리플루오로아세트산 무수물(TFAA)은 통상 아실화제로서 사용된다. TFAA는 액체로서 휘발성이 거의 없다. 이는 편리하게 실험실 규모에서 다루어질 수 있다. 상기 반응에서 화학식 II의 화합물의 완전한 전환을 확인하는데는 아실화제 적어도 2 당량이 필요하다. 그러므로 만일 TFAA가 사용되면, 화학식 II의 화합물 1 당량 당 트리플루오로아세트산(TFA)이 적어도 3 당량의 총량만큼 생성되는데, 이 TFA는 폐기되어야 한다. TFAA는 꽤 비쌀뿐더러, 원자 효율(atom efficiency)을 위해서라도 폐환 반응 도중이나 이후에 과량으로 공급되는 TFA의 양을 줄이는데 관심이 쏠리고 있다. TFAA가 사용될 때와는 달리, 트리플루오로아세트산 할로겐화물이 사용될 때에는 훨씬 더 적은 양의 TFA가 생성되는데, 이 점은 이러한 방법을 생산 플랜트에 더욱 친화적이 되도록 만들고, 워크업(work-up) 절차를 간소화시킨다. 결과적으로 생산 비용이 유의미하게 절감된다.
살진균 활성을 가지는 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸의 제조는 WO 2017/198852, WO 2017/207757, WO 2017220485 및 WO 2018/065414에 기술되어 있다. 상기 출원의 발명자들은, 용매, 선택적으로 염기의 존재하에 아미독심을 염화트리플루오로아세틸(TFACl) 또는 플루오르화트리플루오로아세틸(TFAF)로 처리함으로써 이 아미독심으로부터 옥사디아졸이 제조될 수 있다고 제안하였다. 그러나 모든 합성 실시예들은 TFAA를 사용하여 제조되었다.
Brown외 다수는, 퍼플루오로알킬 아미독심의 제조와, 2개의 연속적 단계에 걸친 3,5-비스(퍼플루오로알킬)-1,2,4-옥사디아졸 제조에 있어 이 퍼플루오로알킬 아미독심의 용도를 기술하였다(Journal of Organic Chemistry 1965, 30, 3734-3738). 제1 단계에서, 퍼플루오로알킬 아미독심은 염화퍼플루오로아실 1 당량과 반응하여, O-퍼플루오로아실 퍼플루오로알킬 아미독심을 생성한다. 제2 단계에서, 이러한 중간체는 200℃ ~ 300℃의 온도에서 오산화인의 존재하에 고리화/탈수 단계를 거친다. Brown외 다수는 또한, 과량의 염화퍼플루오로아실의 존재하에 단계 1과 단계 2가 수행되면, 별도의 탈수제가 존재할 필요가 없다고 제안하였다. 반응 순서는 실질적으로(in substance), 즉 추가 용매의 부재하에 진행된다. 일례는, 염화퍼플루오로부티릴을 사용하고, 용매는 사용하지 않는 3,5-비스(퍼플루오로프로필)-1,2,4-옥사디아졸의 합성을 기술한다. 이러한 유형의 반응은 200℃의 온도 및 밀봉된 앰플 내에서 수행되어야 할 필요가 있다고 교시되어 있다. Brown외 다수는, 3,5-비스(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸이 생성됨과, TFACl의 용도는 테트라하이드로푸란을 용매로서 사용하는 (일반적인) 절차가 진행된 후에 구현되었다고 언급하였다.
화학식 II의 아릴아미독심을 화학식 IIa의 트리플루오로아세틸 할로겐화물, 구체적으로 TFACl 또는 TFAF와 반응시킴으로써 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸이 수득될 수 있는 반면에, 이 방법에는 실질적으로 화학식 II의 화합물 및 화학식 IIa의 화합물이 사용되는 것을 특징으로 함이 현재 파악되고 있다. 본 발명의 내용 중 "실질적으로"이란 용어는, 방법이 임의의 추가 용매의 부재하에 화합물 II 및 IIa를 접촉시킴으로써 수행됨을 의미할 것이다.
TFACl 및 TFAF(대기압에서의 비점: TFACl: -27℃, TFAF: -59℃)는 산업상 규모의 반응이 진행될 수 있는 온도에서는 기체이다. 화학식 II의 아미독심은 실온에서 고체이다. 이는 통상 100℃보다 높은 온도에서 용융되고, 100℃를 초과하는 온도에서 종종 용융됨에 따라 분해되기 시작한다. 이는 강한 친핵체이므로, 반응성이 매우 큰 TFACl 또는 TFAF와의 반응은 고발열성 반응이다.
반응 성분들의 용액은 최적의 물질 수송 및 열 수송을 제공하고, 용매 분자는 반응의 동력학 또는 반응성 성분들의 반응성이 원하는 화학 공정에 유리하도록 상승적으로 영향을 미칠 수 있으므로, 일반적으로 당업자는 화학 변형을 동종 반응 조건하에서 비활성 용매를 사용하여 수행하는 것을 선호한다. 이러한 효과들은 고발열성 반응에서 초래될 수 있는 부정적 결과를 감소시키는 것으로 평가되고 있다. 구체적으로 이종 반응은 공정의 충분한 제어를 허용하지 않는다. 고발열성 반응에서, 예를 들어 고체인 반응 성분과 기체인 반응 성분 간 상 계면(phase interface)에서의 국소 과열은 열 불안정성 반응 성분, 예컨대 화학식 II의 아릴아미독심이 존재할 때 발생할 가능성이 있다. 당업자는, 용매가 존재하지 않을 때 더 많은 부산물이 생성되고, 화학식 II의 아미독심이 분해되거나, 특히 대형 산업적 규모에서는 심지어 폭발 연소의 위험이 있음을 예상할 것이다. 이 점은, 당업자들로 하여금 이와 같은 반응 조건을 이용하는 것을 꺼리게 만든다.
Brown외 다수에 의해 기술된 방법에서는, 밀봉된 용기 내에서(다시 말하면, 짐작건대 퍼플루오로알킬 아미독심을 반응시키는데 적합한 것으로 확인되었던 압력하에서) 200℃의 온도를 사용한다. 더더군다나 할로겐화물 IIa과의 반응은 발열성이고, 이로 인한 높은 반응 온도는 화학식 II의 아릴아미독심의 열 거동과 양립 불가하므로, 본 발명의 목적이 고려될 때, 당업자는 Brown외 다수의 교시내용을 참조하지 않게 될 것이다. 전술된 바와 같이, 본 발명의 발명자들은, 고온은 화학식 II의 아미독심의 유의미한 분해 및 원치 않는 부산물의 생성을 초래하여, 수율의 막대한 손실을 가져온다는 것을 발견하였다.
전술된 바를 고려하였을 때, 본 발명의 목적은 공지된 방법들의 단점을 극복하고, 개선되었고, 더욱 경제적이며, 생산 플랜트에 더욱 친화적인 방법으로서, 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸을 산업적 규모로 다량 및 고수율로 제조함과 동시에 부산물의 양을 줄일 수 있는 방법을 제공하는 것이다.
놀랍게도, 본 발명자들은 본 발명의 방법이 이러한 문제점들에 대한 해결책을 제공함을 발견하였다. 본 발명의 방법에서는 용매가 사용될 필요가 없으므로 환경 친화적이고 비용면에서도 효율적이다. 반응 생성물 및 용매의 분리는 반드시 반응이 종료된 후에 이루어져야 하는 것은 아니다. 화합물 II 및 IIa 사이의 반응에서 수득된 반응 생성물은, 통상 연속적 반응 공정들을 수반하는 기술 구성에 유리한 액체이다. 반응 생성물은 반응 용기를 교환할 필요 없이 후속 성분치환(transformation)에 사용될 수 있다(원 포트 반응(one-pot-reaction)).
따라서 본 발명은 하기 화학식 I의 화합물
Figure 112020018283266-pct00002
[식 중,
A1은 N 또는 CH이고;
A2는 N 또는 CH이고;
RA는 수소 또는 할로겐이고;
R은 메틸, 트리클로로메틸, 에틸, iso-프로필, OH, SH, 시아노, 할로겐, CH2F, CHF2, 2,2,2-트리플루오로에틸, 사이클로프로필, -COOH, -COOR1, -C(=W)NR1R2, -CR3R4NR1R2, -CR3R4OR1, -CR3(=NR1), -CR3(=O), -CR3R4COOH, -CR3R4COR1, -CR3R4C(=W)NR1R2, -OCR3R4COOH, -OCR3R4COR1, -OCR3R4C(=W)NR1R2, -CR3R4NR2C(=W)R1, -CR3R4S(=O)2R1 또는 -CR3R4NR2S(=O)2R1이고;
W는 O 또는 S이고;
R2는 수소, 포르밀, C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시, C3-C11-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C3-C11-사이클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐-C1-C4-알킬, 페닐, 피리디닐, -C(=O)-(C1-C6-알킬), -C(=O)-(C3-C11-사이클로알킬), -C(=O)-(C1-C6-알콕시) 및 -N(R2a)2이고;
R2a는 수소, OH, C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C3-C11-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C1-C6-알콕시, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬 및 C1-C6-알킬티오로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
R2 중 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 하이드록시, 옥소, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시 및 C3-C11-사이클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택되는 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R1은 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C3-C11-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시이미노-C1-C4-알킬, C2-C6-알케닐옥시이미노-C1-C4-알킬, C2-C6-알키닐옥시이미노-C1-C4-알킬, C1-C6-알킬아미노, 디C1-C6-알킬아미노, -C(=O)-(C1-C6-알킬), -C(=O)-(C1-C6-알콕시), 페닐-C1-C4-알킬, 페닐-C1-C4-알케닐, 페닐-C1-C4-알키닐, 헤테로아릴-C1-C4-알킬, 페닐, 나프틸이거나, 또는 3원 내지 10원의 포화, 부분 불포화 또는 방향족 모노사이클릭 또는 바이사이클릭(bicyclic) 헤테로사이클이며, 상기 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 헤테로사이클의 고리원 원자는, 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 추가로 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하며, 단 헤테로사이클은 0 및 S로부터 선택되는 인접 원자 2개를 함유할 수 없고; 헤테로아릴-C1-C4-알킬기 중 헤테로아릴기는 5원 또는 6원 방향족 헤테로사이클이며, 헤테로사이클릭 고리의 고리원 원자는 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하며, 단 헤테로사이클은 0 및 S로부터 선택되는 인접 원자 2개를 함유할 수 없고; 상기 언급된 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 동일하거나 상이한 기 R1a 1개, 2개, 3개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않거나; 또는
R1 및 R2는, R2에 부착된 질소 원자와 함께, 그리고 만일 상기 질소 원자와 R1기 사이에 위치하는 개재기가 존재한다면, 이 개재기 -C(=W)-와 함께 포화 또는 부분 불포화 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 3원 내지 10원 헤테로사이클을 형성하며, 이 헤테로사이클은 1개의 질소 원자 및 1개 이상의 탄소 원자 이외에 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 독립적으로 선택되는 추가의 이종 원자를 포함하지 않거나 또는 추가의 이종 원자를 1개, 2개 또는 3개 포함하며, 단 헤테로사이클은 0 및 S로부터 선택되는 인접 원자 2개를 함유할 수 없고; 헤테로사이클은 동일하거나 상이한 기 R1a 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않거나; 또는
만일 R2가 -N(R2a)2이면, R1 및 2개의 R2a기 중 하나는 이 R2a에 부착된 질소 원자와 함께, 그리고 상기 질소 원자와 R1기 사이에 위치하는 개재기와 함께 포화 또는 부분 불포화 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 3원 내지 10원 헤테로사이클을 형성하며, 이 헤테로사이클은 2개의 질소 원자 및 1개 이상의 탄소 원자 이외에 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 독립적으로 선택되는 추가의 이종 원자를 포함하지 않거나 또는 추가의 이종 원자를 1개, 2개 또는 3개 포함하며, 단 헤테로사이클은 0 및 S로부터 선택되는 인접 원자 2개를 함유할 수 없고; 헤테로사이클은 동일하거나 상이한 기 R1a 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R1a는 할로겐, 옥소, 시아노, NO2, OH, SH, NH2, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-할로알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-할로알킬티오, C3-C8-사이클로알킬, -NHSO2-C1-C4-알킬, (C=O)-C1-C4-알킬, C(=O)-C1-C4-알콕시, C1-C6-알킬설포닐, 하이드록시C1-C4-알킬, C(=O)-NH2, C(=O)-NH(C1-C4-알킬), C1-C4-알킬티오-C1-C4-알킬, 아미노C1-C4-알킬, C1-C4-알킬아미노-C1-C4-알킬, 디C1-C4-알킬아미노-C1-C4-알킬, 아미노카보닐-C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬이고;
R3 및 R4는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, C1-C4-알킬, C1-C4-알케닐, C1-C4-알키닐, C1-C4-할로알킬 및 C1-C4-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는
R3 및 R4는, 이것들과 결합하고 있는 탄소 원자와 함께 사이클로프로필기를 형성함]
을 제조하기 위한 방법으로서, 하기 화학식 II의 화합물
Figure 112020018283266-pct00003
[식 중,
변수 A1, A2, R 및 RA는 화학식 I의 화합물에 대하여 상기 정의된 바와 같음]와, 하기 화학식 IIa의 트리플루오로아세틸 할로겐화물
Figure 112020018283266-pct00004
[식 중, Hal은 염소 또는 플루오르임]
을 반응시키는 단계를 포함하고; 사실상 화학식 II의 화합물 및 화학식 IIa의 화합물이 사용되는 것을 특징으로 하는 방법에 관한 것이다.
바람직한 구현예에서, 화학식 IIa의 화합물 중 Hal기는 염소이다.
반응은, 통상 대기압 또는 고압에서 수행된다. 본 발명의 내용 중 "고압"이란 용어는, 100 kPa보다 높은 압력을 의미한다. 통상 반응 용기 또는 반응기는 아미독심 II이 도입되기 이전 또는 이후에 진공 처리되고, 이후 비활성 기체, 예컨대 질소 또는 아르곤으로 플러싱(flushing)된다. 만일 반응이 고압에서 수행되면, 아미독심 II은 가압 반응기에 첨가되고, 이 반응 용기에 비활성 기체가 도입된 다음 가압 반응기는 밀봉된다. 반응기 및 그 내용물의 초기 반응 온도가 설정된 다음, 할로겐화물 IIa이 이 반응기에 도입되는데, 이때 교반이 이루어지거나 또는 교반이 이루어지지 않는다. 반응 혼합물은 액체이므로, 교반은 반응물들의 완전한 전환을 달성함에 있어 전제 조건은 아니며, 할로겐화물 IIa을 아미독심 II과 접촉시키는 것만으로 충분하다. 기체인 할로겐화물 IIa이 고체인 아미독심 II 층 또는 액체인 반응 혼합물을 관통하여 연속으로 흐를 수 있도록 반응 용기를 배치하는 것이 유리하다. 바람직한 일 양태에서, 기체인 할로겐화물 IIa은 또한 반응 용기내 폐쇄 회로에 채워진 반응 매질을 통과할 수도 있다. 바람직한 다른 구현예에서, 반응은 개방된 장치내에서, 할로겐화물 IIa을 응결시키기에는 충분히 저온이지만, (할로겐화물 IIa이 TFACl인 경우) 반응 도중에 공급된 염화수소를 액화시킬만큼 충분히 저온은 아닌, 응결기의 존재하에 수행된다. 이러한 방법에서 TFACl은 반응 용기 내부에 유지되는 반면, 염화수소는 연속으로 제거될 수 있다.
일 구현예에서, 반응은 아미독심 II의 양을 기준으로 1 몰당량 내지 10 몰당량의 할로겐화물 IIa을 사용하여 수행된다. 바람직하게 아미독심 II의 양을 기준으로 2 몰당량 내지 5몰당량만큼이 사용되고, 특히 2 몰당량 내지 3 몰당량만큼이 사용된다.
상기 방법의 반응 온도는, 바람직하게 -40℃ 내지 100℃의 범위이고; 바람직하게는 0℃ 내지 100℃의 범위이며; 더욱 바람직하게는 20℃ 내지 80℃의 범위이고; 특히 40℃ 내지 75℃의 범위이다.
반응은 10분 내지 24시간 이내, 바람직하게는 30분 내지 8시간 이내, 더욱 바람직하게는 30분 내지 120분 이내, 특히 30분 내지 90분 이내에 수행된다.
본 발명자들은, 상기 반응이 저온, 예컨대 25℃에서 느려질 수 있음을 발견하였다. 다른 한편으로, 반응 개시시 온도가 50℃보다 높고, 특히 고압 및/또는 초 과량의 할로겐화물 IIa이 존재하면, 원치 않는 부산물의 생성이 초래될 수 있다. 특히 반응 개시시 저온을 적용하는 것이 유리하다.
본 발명의 일 구현예에서, 할로겐화물 IIa이 반응 용기에 도입된 후 수득된 반응 혼합물의 온도는 초기 반응 온도 T1에서 시작하여, 이 T1보다 더 높은 반응 온도 T2로 상승한다. 이러한 과정은, 더 짧은 반응 시간 이내에 반응물들의 완전한 전환을 허용하고, 원치 않는 부산물의 양을 최소화한다. 온도는 완전한 전환에 필요한 전체 시간에 걸쳐 지속적으로 상승될 수 있다. 온도는 또한 단계별로 상승할 수도 있는데, T1 → T2와 같이 2단계에 거치거나, 또는 최종 온도 T2에 이르기까지 몇 단계에 거쳐 상승할 수 있다.
온도 T1, 0℃ 내지 50℃에서 반응을 개시하고, 반응 혼합물의 온도를 상승시킨 다음, 지속적으로 또는 한 단계 이상의 단계를 거쳐 이보다 더 높되, T1과 최대 온도 100℃ 사이의 범위에 속하는 온도인 T2로 상승시키는 것이 바람직하다.
다른 바람직한 구현예에서, 반응은 20℃와 50℃ 사이의 온도 T1에서 개시되고, 이후 반응 혼합물은 지속적으로 또는 한 단계 이상의 단계를 거쳐 이보다 더 높되 T1과 최대 온도 80℃ 사이의 범위에 속하는 온도인 T2로 가열된다.
바람직한 일 구현예에서, 반응은 40℃와 50℃ 사이의 온도 T1에서 개시되고, 이후 반응 혼합물은 지속적으로 또는 한 단계 이상의 단계를 거쳐 이보다 더 높되 T1과 최대 온도 75℃ 사이의 범위에 속하는 온도인 T2로 가열된다.
바람직한 구현예에서, 반응은 반응 시간을 줄이기 위해 고압에서 수행된다. 압력은, 바람직하게 100 kPa 내지 1000 kPa; 더욱 바람직하게 100 kPa 내지 600 kPa; 특히 200 kPa 내지 500 kPa에서 선택된다. 일 구현예에서, 반응은 고압에서 수행되는 반면, 압력은 반응의 종료가 달성될 때까지 종종 1회 이상 풀린다. 이러한 절차는 대부분의 염화수소 또는 플루오르화수소를 반응기로부터 제거해준다. 매회 압력이 풀리고 나면, 반응기에는 할로겐화물 IIa이 다시 채워진다.
본 발명자들은, 화학식 I의 화합물의 수율과 순도는 특정의 반응 조건하에서 더욱 개선될 수 있음을 발견하였다. 고압 및 초 과량의 할로겐화물 IIa이 존재하고, 여기에 특히 고온(예컨대 50℃ 이상의 온도)이라는 조건이 합하여지면, 아미독심 II의 분해와, 원치 않는 부산물의 생성이 관찰된다. 특히 반응 개시시에는, 임의로 저온이라는 조건과 함께 저압을 적용하는 것이 유리하다. 압력과 온도 둘 다는 생성물의 수율과 순도에 악영향을 미치지 않고 추후에 상승할 수 있다.
고압과 연관된 유해한 영향력은, 만일 반응 개시시에 할로겐화물 IIa의 양이 적으면 그 양을 유지시킴으로써, 감소할 수 있다. 그러므로 비활성 기체를 할로겐화물 IIa에 첨가하는 것은 반응의 더욱 선택적인 진행을 유도할 수 있다. 가압하에서의 반응에 있어서 비활성 기체는 원하는 내부 압력을 확립하는데 기여할 수 있다.
그러므로 고압하에서, 아미독심 II의 양을 기준으로 2 당량 내지 5 당량, 바람직하게 2 당량 내지 3 당량의 할로겐화물 IIa의 존재하에 본 방법을 수행하는 것이 유리하고, 여기서 할로겐화물 IIa은 비활성 기체, 예컨대 질소 또는 아르곤과 혼합된다. 기체인 혼합물 성분들의 부분 압력을 기준으로 5:1 내지 1:5의 범위, 더욱 바람직하게는 3:1 내지 1:3의 범위, 특히 1:1 내지 5:1의 범위인 할로겐화물 IIa 대 비활성 기체의 비를 선택하는 것이 바람직하다.
바람직한 구현예에서, 반응은 100 kPa 내지 600 kPa의 압력과 0℃ 내지 100℃ 범위의 온도에서 수행되는 반면에, 반응은 0℃와 50℃ 사이의 온도 T1에서 개시되고, 이후 반응 혼합물의 온도는 지속적으로 또는 한 단계 이상의 단계를 거쳐 상승하여, 이보다 더 높되, T1과 최대 온도 100℃ 사이의 범위에 있는 온도인 T2에 이르게 되는데; 이 과정은 아미독심 II의 양을 기준으로 2 당량 내지 5 당량의 할로겐화물 IIa의 존재하에 수행되고; 기체인 할로겐화물 IIa은 비활성 기체, 예컨대 질소 또는 아르곤과 혼합되되, 단 이때 할로겐화물 IIa 대 비활성 기체의 비는 기체인 혼합물 성분들의 부분 압력을 기준으로 5:1 내지 1:5의 범위에 있다.
바람직한 다른 구현예에서, 반응은 100 kPa 내지 600 kPa의 압력과 20℃ 내지 80℃ 범위의 온도에서 수행되는 반면에, 반응은 20℃와 50℃ 사이의 온도 T1에서 개시되고, 이후 반응 혼합물의 온도는 지속적으로 또는 한 단계 이상의 단계를 거쳐 상승하여, 이보다 더 높되, T1과 최대 온도 80℃ 사이의 범위에 있는 온도인 T2에 이르게 되는데; 이 과정은 아미독심 II의 양을 기준으로 2 당량 내지 5 당량의 할로겐화물 IIa의 존재하에 수행되고; 기체인 할로겐화물 IIa은 비활성 기체, 예컨대 질소 또는 아르곤과 혼합되되, 단 이때 할로겐화물 IIa 대 비활성 기체의 비는 기체인 혼합물 성분들의 부분 압력을 기준으로 5:1 내지 1:5의 범위에 있다.
바람직한 다른 구현예에서, 반응은 200 kPa 내지 500 kPa의 압력과 20℃ 내지 80℃ 범위의 온도에서 수행되는 반면에, 반응은 20℃와 50℃ 사이의 온도 T1에서 개시되고, 이후 반응 혼합물의 온도는 지속적으로 또는 한 단계 이상의 단계를 거쳐 상승하여, 이보다 더 높되, T1과 최대 온도 80℃ 사이의 범위에 있는 온도인 T2에 이르게 되는데; 이 과정은 아미독심 II의 양을 기준으로 2 당량 내지 3 당량의 할로겐화물 IIa의 존재하에 수행되고; 기체인 할로겐화물 IIa은 비활성 기체, 예컨대 질소 또는 아르곤과 혼합되되, 단 이때 할로겐화물 IIa 대 비활성 기체의 비는 기체인 혼합물 성분들의 부분 압력을 기준으로 3:1 내지 1:3의 범위에 있다.
바람직한 또다른 구현예에서, 반응은 200 kPa 내지 500 kPa의 압력과 40℃ 내지 75℃ 범위의 온도에서 수행되는 반면에, 반응은 40℃와 50℃ 사이의 온도 T1에서 개시되고, 이후 반응 혼합물의 온도는 지속적으로 또는 한 단계 이상의 단계를 거쳐 상승하여, 이보다 더 높되, T1과 최대 온도 75℃ 사이의 범위에 있는 온도인 T2에 이르게 되는데; 이 과정은 아미독심 II의 양을 기준으로 2 당량 내지 3 당량의 할로겐화물 IIa의 존재하에 수행되고; 기체인 할로겐화물 IIa은 비활성 기체, 예컨대 질소 또는 아르곤과 혼합되되, 단 이때 할로겐화물 IIa 대 비활성 기체의 비는 기체인 혼합물 성분들의 부분 압력을 기준으로 3:1 내지 1:3의 범위에 있다.
화학식 II의 아미독심 화합물은 0℃ 내지 100℃의 온도에서 적합한 용매, 예컨대 메탄올, 에탄올, 물 또는 이러한 용매들의 혼합물 중 염기, 바람직하게 트리에틸아민, 수산화나트륨 또는 메틸화나트륨의 존재하에 하이드록실아민 또는 이의 염, 예컨대 염화수소산염으로 처리됨으로써, 하기 화학식 V의 시아노 화합물
Figure 112020018283266-pct00005
로부터 수득될 수 있다. 관련 예로서는 문헌[Kitamura, S. et al Chem . Pharm. Bull. 2001, 49, 268] 또는 상기 인용된 특허 참고문헌들 중 임의의 하나를 참조한다. 화학식 V의 화합물은 시판되거나, 또는 당업자에게 공지된 표준 방법을 이용하여 용이하게 입수 가능한 출발 물질로부터 제조될 수 있다.
추가의 구현예에서, R이 메틸인 화학식 I의 화합물은 가치가 큰 화학 생성물 또는 중간체로 전환된다. 그러므로 R이 메틸인 화학식 I의 화합물은 추가로 염소화되며, 이에 따라서 하기 화학식 Ib
Figure 112020018283266-pct00006
[식 중, 화학식 I 및 화학식 Ib의 화합물 중 변수 A1, A2 및 RA는 본원에 정의된 바와 같거나, 바람직하게 본원에 정의된 바와 같음]
의 화합물이 수득될 수 있다.
화학식 I의 화합물의 메틸기 R의 염소화는, 적합한 염소화제, 예컨대 분자인 염소, N-클로로숙신이미드, 트리클로로이소시아누린산, 염화설푸릴 또는 오염화인을 사용하여 달성될 수 있다. 염소화는 조사(irradiation)가 이루어지거나 라디칼 개시제, 예컨대 아조비스(이소부티로니트릴) 또는 디벤조일 과산화물의 존재하에 0℃ 내지 200℃의 온도, 바람직하게 60℃ 내지 150℃에서 수행된다. 참고를 위해 문헌[J. Am. Chem. Soc. 1951, 73, 455]을 참조한다.
일 구현예에서, 염소화는 비활성 유기 용매 적어도 하나, 또는 이러한 용매들의 혼합물의 존재하에 수행된다. "비활성 유기 용매"란 용어는, 본 발명의 방법의 반응 조건하에서 진행되는, 반응물 또는 생성물 중 어느 하나와의 평가 가능한 그 어떠한 반응에도 참여하지 않는 유기 용매를 의미한다. 본 방법에 사용된 비활성 유기 용매는, 바람직하게 할로겐화된 지방족 탄화수소 및 할로겐화된 방향족 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄, 테트라클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠의 동족체 또는 1,2,4-트리클로로벤젠으로부터 선택된다.
특히 바람직한 구현예에서, 염소화 단계는 실질적으로, 예컨대 액체인 반응 생성물과 함께 수행되는데, 이 액체인 반응 생성물은 전술된 바와 같이 추가의 용매없이 화학식 II의 화합물 및 화학식 IIa의 화합물과의 반응 이후에 직접 수득되는 것이었다.
염소화는 이전 반응으로부터 기원하는 TFA 불순물의 존재 또는 부재하에 수행될 수 있다. TFA는 염소화 과정 도중에 증류를 통해 제거될 수 있거나, 또는 염소화 단계가 수행되기 이전에 증류에 의해 별도로 제거될 수 있다. 반응이 종료된 후, 반응 혼합물은 통상의 방식으로 워크업되거나, 또는 다음 단계에 바로 사용될 수 있다.
추가의 바람직한 구현예에서, 화학식 Ib의 화합물은 가수분해되어 하기 화학식 III의 화합물
Figure 112020018283266-pct00007
[식 중, 화학식 Ib의 화합물과 화학식 III의 화합물 중 변수 A1, A2 및 RA는 본원에 정의된 바와 같거나, 바람직하게 본원에 정의된 바와 같음]
이 수득된다.
일 구현예에서, 이러한 변형은 WO 2007/063028 A2의 42 ~ 43 페이지에 기재된 바와 같이, 촉매량만큼의 루이스산과 물의 존재하에 수행되고, 그 결과 화학식 III의 화합물이 수득된다. 바람직하게 루이스산은 금속 염, 예컨대 염화 알루미늄(III) 또는 염화 철(III)이고, 특히 염화 철(III)이다. 루이스산은 화학식 Ib의 화합물의 양을 기준으로 아화학양론적 양 또는 촉매량만큼, 예컨대 화학식 Ib의 화합물의 양을 기준으로 0.001 몰당량 내지 0.5 몰당량, 바람직하게 0.002 몰당량 내지 0.2 몰당량, 더욱 바람직하게 0.005 몰당량 내지 0.1 몰당량만큼 사용된다.
일 구현예에서, 가수분해 단계는 적어도 하나의 비활성 유기 용매, 또는 이러한 용매들의 혼합물의 존재하에 수행된다. 본 발명의 방법에 사용된 비활성 유기 용매는, 바람직하게 비할로겐화 지방족 탄화수소, 비할로겐화 지환족 탄화수소, 할로겐화 지방족 탄화수소, 할로겐화 방향족 탄화수소, 아미드, 에테르, 에스테르, 케톤, 니트릴로부터 선택된다.
바람직한 구현예에서, 가수분해 단계는 용매의 부재하에, 즉 실질적으로 용매의 부재하에 수행된다. 이러한 조건하에서, 이전 반응 단계에서 수득된 화학식 Ib의 트리클로로메틴 화합물 또는 화학식 Ib의 화합물을 포함하는 미정제 물질은, 이러한 물질이 용융된 덩어리(mass)로 존재하게 되는 온도로 가열된다.
가수분해 단계에 있어서 물의 양은 화학식 Ib의 화합물의 양을 기준으로 0.8 몰당량 내지 1.5몰당량, 바람직하게 0.95 몰당량 내지 1.05 몰당량이다. 반응은 20℃ 내지 200℃의 온도, 바람직하게는 80℃ 내지 130℃의 온도에서 수행된다. 반응이 종료된 후 반응 혼합물은 통상의 방식으로 워크업되거나, 또는 다음 단계에 바로 사용될 수 있다.
특히 바람직한 구현예에서, 하기 화학식 III의 화합물은 하기 화학식 IV의 아민과 반응하며, 그 결과 하기 화학식 Ic의 화합물이 수득된다:
Figure 112020018283266-pct00008
[식 중, 화학식 III의 화합물과 화학식 IV의 화합물 중 변수 A1, A2, RA, R1 및 R2는 본원에 정의된 바와 같거나, 바람직하게 본원에 정의된 바와 같음].
당업자는, 화학식 III의 벤조산 염화물을 화학식 IV의 아민으로 처리함으로써 화학식 Ic 유형의 옥사디아졸 화합물이 수득될 수 있음을 인지할 것이다. 반응은, 바람직하게 -20℃ 내지 200℃, 바람직하게 0℃ 내지 80℃의 온도에서, 임의로 염기, 예컨대 피리딘, 트리에틸아민 또는 N,N -디이소프로필에틸아민의 존재하에, 또는 문헌에 기술된 아미드 커플링을 위한 조건하에서, 적합한 비활성 유기 용매, 예컨대 비할로겐화 지방족 탄화수소, 비할로겐화 지환족 탄화수소, 할로겐화 지방족 탄화수소, 할로겐화 방향족 탄화수소, 아미드, 에테르, 에스테르, 케톤, 니트릴; 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, 디클로로메탄 또는 테트라하이드로푸란 중에서 수행되는 것이 바람직하다. 예를 들어 문헌[Valeur, E.; Bradley, M. Chem . Soc. Rev. 2009, 38, 606] 및 [Chinchilla, R., Najera, C. Chem . Soc . Rev. 2011, 40, 5084]을 참조한다. 반응이 종료된 후, 반응 혼합물은 통상의 방식으로 워크업된다.
특히 바람직한 다른 구현예에서, 화학식 Ic의 화합물은 하기 화학식 Id의 화합물
Figure 112020018283266-pct00009
[식 중, 화학식 Ic의 화합물과 화학식 Id의 화합물 중 변수 A1, A2, RA, R1 및 R2는 본원에 정의된 바와 같거나, 바람직하게 본원에 정의된 바와 같음]을 수득하는데 사용된다.
화학식 Ib의 화합물은, 비활성 유기 용매, 예컨대 비할로겐화 지방족 탄화수소, 비할로겐화 지환족 탄화수소, 할로겐화 지방족 탄화수소, 할로겐화 방향족 탄화수소, 아미드, 에테르, 에스테르, 케톤, 니트릴; 예컨대 톨루엔, 테트라하이드로푸란, 디옥산 또는 아세트산에틸의 존재하에; 0℃ 내지 130℃, 바람직하게 60℃ 내지 80℃의 온도에서, 로손(Lawesson) 시약 또는 오황화인에 의한 처리를 통하여 화학식 Ic의 화합물로부터 제조될 수 있다. 예를 들어 문헌[Eur . J. Med . Chem . 2011, 46(9), 3917-3925; Synthesis 2003, 13, 1929-1958; WO 2006/0123242; WO 2010/086820; WO 2014/0151863]을 참조한다. 반응이 종료된 후, 반응 혼합물은 통상의 방식으로 워크업된다.
추가의 구현예들은 화학식 IV, 화학식 Ic 및 화학식 Id의 화합물들 중 변수 R1 및 R2의 의미에 관한 것이다.
일 구현예에서, 화학식 IV, 화학식 Ic 및 화학식 Id의 화합물들 중
R1은 C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시이미노-C1-C4-알킬, C3-C11-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, 페닐-C1-C4-알킬, 헤테로아릴-C1-C4-알킬, 페닐 또는 헤테로아릴이고; 헤테로아릴기는 5원 또는 6원 방향족 헤테로사이클이며, 고리는 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 포르밀, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C2-C6-알케닐, 프로파길, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C3-C8-사이클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, C1-C6-알킬아미노 또는 디C1-C6-알킬아미노이고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않는다.
다른 구현예에서, 화학식 IV, 화학식 Ic 및 화학식 Id의 화합물들 중
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 사이클로프로필, 2-메톡시이미노에틸, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일 또는 페닐이고; 페닐기는 플루오르, 염소, 시아노, 메틸, 에틸, 메톡시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 디플루오로메틸, 디플루오로메톡시 및 사이클로프로필로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 메틸 또는 에틸이다.
추가의 구현예에서, 화학식 IV, 화학식 Ic 및 화학식 Id의 화합물들 중
R1은 메틸, 2-메톡시이미노에틸, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일, 2-플루오로-페닐, 4-플루오로-페닐 또는 2-디플루오로메톡시-페닐이고;
R2는 수소이다.
화학식 I, 화학식 Ib, 화학식 Ic, 화학식 Id, 화학식 II 및 화학식 III의 화합물들에 있어서 변수의 의미와 관련한 추가의 구현예들은 다음과 같다:
구현예 E1[A1 및 A2는 CH이고, RA는 수소임].
구현예 E2[A1 및 A2는 CH이고, RA는 플루오르임].
구현예 E3[A1은 N이고, A2는 CH이며, RA는 수소임].
구현예 E4[A1 및 A2는 CH이고, RA는 수소이며, R은 메틸, 트리클로로메틸, COOH, OH, SH, 시아노, 염소 또는 브롬임].
구현예 E5[A1 및 A2는 CH이고, RA는 플루오르이며, R은 메틸, 트리클로로메틸, COOH, OH, SH, 시아노, 염소 또는 브롬임].
구현예 E6[A1는 N이고, A2는 CH이며, RA는 수소이고, R은 메틸, 트리클로로메틸, COOH, OH, SH, 시아노, 염소 또는 브롬임].
구현예 E7[A1 및 A2는 CH이고, RA는 수소이며, R은 메틸, 트리클로로메틸, OH 또는 SH이고; 특히 R은 메틸임].
구현예 E8[A1 및 A2는 CH이고, RA는 플루오르이며, R은 메틸, 트리클로로메틸, OH 또는 SH 이고; 특히 R은 메틸임].
구현예 E9[A1은 N이고, A2는 CH이며, RA는 수소이고, R은 메틸, 트리클로로메틸, OH 또는 SH이며; 특히 R은 메틸임].
구현예 E10[변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고, R은 메틸임].
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 메틸, 트리클로로메틸, 에틸, iso-프로필, OH, SH, 시아노, 할로겐, CH2F, CHF2, 2,2,2-트리플루오로에틸, 사이클로프로필, -COOH, -COOR1 또는 -C(=W)NR1R2이고;
W는 O 또는 S이고;
R1은 C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시이미노-C1-C4-알킬, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, 페닐-C1-C4-알킬, 헤테로아릴-C1-C4-알킬, 페닐 또는 헤테로아릴이고; 헤테로아릴기는 5원 또는 6원 방향족 헤테로사이클이며, 고리는 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 포르밀, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C2-C6-알케닐, 프로파길, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C3-C8-사이클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, C1-C6-알킬아미노 또는 디C1-C6-알킬아미노이고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않는, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -COOH, -COOR1 또는 -C(=W)NR1R2이고;
W는 O 또는 S이고;
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 2-메톡시이미노에틸, 사이클로프로필, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일 또는 페닐이고; 페닐기는 플루오르, 염소, 시아노, 메틸, 에틸, 메톡시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 디플루오로메틸, 디플루오로메톡시 및 사이클로프로필로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 메틸 또는 에틸인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -COOH, -COOR1 또는 -C(=W)NR1R2이고;
W는 O 또는 S이고;
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 2-메톡시이미노에틸, 사이클로프로필, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일 또는 페닐이고; 페닐기는 플루오르 및 2-디플루오로메톡시-페닐로 이루어진 군으로부터 선택되는 라디칼 1개로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 메틸 또는 에틸인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -C(=O)NR1R2이고;
R1은 메틸, 2-메톡시이미노에틸, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일, 2-플루오로-페닐, 4-플루오로-페닐 또는 2-디플루오로메톡시-페닐이고;
R2는 수소인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -C(=S)NR1R2이고;
R1은 메틸, 2-메톡시이미노에닐, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일, 2-플루오로-페닐, 4-플루오로-페닐 또는 2-디플루오로메톡시-페닐이고;
R2는 수소인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
추가의 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소이고;
R은 -C(=O)NR1R2이고;
R1은 메틸, 2-메톡시이미노에닐, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일, 2-플루오로-페닐, 4-플루오로-페닐 또는 2-디플루오로메톡시-페닐이고;
R2는 수소인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
추가의 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소이고;
R은 -C(=S)NR1R2이고;
R1은 메틸, 2-메톡시이미노에닐, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일, 2-플루오로-페닐, 4-플루오로-페닐 또는 2-디플루오로메톡시-페닐이고;
R2는 수소인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -CF2COOH, -CF2COR1 또는 -CF2C(=O)NR1R2이고;
R1은 C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시이미노-C1-C4-알킬, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, 페닐-C1-C4-알킬, 헤테로아릴-C1-C4-알킬, 페닐 또는 헤테로아릴이고; 헤테로아릴기는 5원 또는 6원 방향족 헤테로사이클이며, 고리는 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 포르밀, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C2-C6-알케닐, 프로파길, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C3-C8-사이클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, C1-C6-알킬아미노 또는 디C1-C6-알킬아미노이고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않는, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -CF2COOH, -CF2COR1 또는 -CF2C(=O)NR1R2이고;
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 사이클로프로필, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일 또는 페닐이고; 페닐기는 플루오르, 염소, 시아노, 메틸, 에틸, 메톡시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 디플루오로메틸, 디플루오로메톡시 및 사이클로프로필로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 메틸 또는 에틸인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
다른 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소 또는 플루오르이고;
R은 -CF2COOH, -CF2COR1 또는 -CF2C(=O)NR1R2이고;
R1은 1-메틸-사이클로프로프-1-일 또는 사이클로부틸이고;
R2는 수소, 메틸 또는 에틸인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
다른 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소이고;
R은 -CF2COOH, -CF2COR1 또는 -CF2C(=O)NR1R2이고;
R1은 1-메틸-사이클로프로프-1-일 또는 사이클로부틸이고;
R2는 수소인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -OCF2COOH, -OCF2COR1 또는 -OCF2C(=W)NR1R2이고;
R1은 C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시이미노-C1-C4-알킬, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, 페닐-C1-C4-알킬, 헤테로아릴-C1-C4-알킬, 페닐 또는 헤테로아릴이고; 헤테로아릴기는 5원 또는 6원 방향족 헤테로사이클이며, 고리는 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 포르밀, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C2-C6-알케닐, 프로파길, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C3-C8-사이클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, C1-C6-알킬아미노 또는 디C1-C6-알킬아미노이고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않는, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -OCF2COOH, -OCF2COR1 또는 -OCF2C(=W)NR1R2이고;
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 사이클로프로필, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일 또는 페닐이고; 페닐기는 플루오르, 염소, 시아노, 메틸, 에틸, 메톡시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 디플루오로메틸, 디플루오로메톡시 및 사이클로프로필로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 메틸 또는 에틸인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
다른 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소 또는 플루오르이고;
R은 -OCF2COOH, -OCF2COR1 또는 -OCF2C(=W)NR1R2이고;
R1은 메틸 또는 사이클로프로필이고;
R2는 수소, 메틸 또는 에틸인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
다른 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소이고;
R은 -OCF2COOH, -OCF2COR1 또는 -OCF2C(=W)NR1R2이고;
R1은 메틸 또는 사이클로프로필이고;
R2는 수소인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -CH2NR2C(=W)R1, -CH2S(=O)2R1 또는 -CH2NR2S(=O)2R1이고;
W는 O 또는 S이고;
R1은 C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시이미노-C1-C4-알킬, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, 페닐-C1-C4-알킬, 헤테로아릴-C1-C4-알킬, 페닐 또는 헤테로아릴이고; 단 헤테로아릴기는 5원 또는 6원 방향족 헤테로사이클이며, 고리는 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 포르밀, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C2-C6-알케닐, 프로파길, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C3-C8-사이클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, C1-C6-알킬아미노 또는 디C1-C6-알킬아미노이고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않는, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
일 구현예에서, 본 발명은 변수 A1, A2, RA의 조합은 상기 정의된 구현예 E1, E2 또는 E3 중 임의의 하나에 상응하고;
R은 -CH2NR2C(=W)R1, -CH2S(=O)2R1 또는 -CH2NR2S(=O)2R1이고;
W는 O 또는 S이고;
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 2-메톡시이미노에틸, 사이클로프로필, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일 또는 페닐이고; 페닐기는 플루오르, 염소, 시아노, 메틸, 에틸, 메톡시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 디플루오로메틸, 디플루오로메톡시 및 사이클로프로필로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 메틸 또는 에틸인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
다른 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소 또는 플루오르이고;
R은 -CH2NR2C(=W)R1, -CH2S(=O)2R1 또는 -CH2NR2S(=O)2R1이고;
W는 O 또는 S이고;
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 2-메톡시이미노에틸, 사이클로프로필, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일 또는 페닐이고; 페닐기는 플루오르 및 염소로 이루어진 군으로부터 선택되는 라디칼 1개로 치환되거나 치환되지 않고;
R2는 수소, 메틸 또는 에틸인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
다른 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소 또는 플루오르이고;
R은 -CH2NR2C(=O)R1, -CH2S(=O)2R1 또는 -CH2NR2S(=O)2R1이고;
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 2-메톡시이미노에틸, 사이클로프로필 또는 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일이고;
R2는 수소인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
다른 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소 또는 플루오르이고;
R은 -CH2NR2C(=O)R1 또는 -CH2NR2S(=O)2R1이고;
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 2-메톡시이미노에틸, 사이클로프로필 또는 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일이고;
R2는 수소인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
다른 구현예에서, 본 발명은
A1 및 A2는 CH이고;
RA는 수소 또는 플루오르이고;
R은 -CH2S(=O)2R1이고;
R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 2-메톡시이미노에틸, 사이클로프로필 또는 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일이고;
R2는 수소인, 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
상기 주어진 변수에 관한 정의에서, 일반적으로 해당 치환기들을 나타내는 총체적 용어들이 사용된다.
"Cn-Cm"이란 용어는, 해당 치환기 또는 치환기 모이어티에 있어서 각각의 경우에 가능한 탄소 원자의 개수를 나타낸다.
"할로겐"이란 용어는, 플루오르, 염소, 브롬 및 요오드를 지칭한다.
"옥소"란 용어는, 탄소 원자 또는 황 원자에 결합되어, 예컨대 케토닐 -C(=O)-기 또는 설피닐 -S(=O)-기를 형성하는 산소 원자(=O)를 지칭한다.
"포르밀"이란 용어는, C(=O)H기를 지칭한다.
"C1-C6-알킬"이란 용어는, 탄소 원자를 1개 내지 6개 가지는 직쇄 또는 분지형 포화 탄화수소기, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 1-메틸에틸, 부틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필 및 1,1-디메틸에틸을 지칭한다.
"C2-C6-알케닐"이란 용어는, 탄소 원자를 2개 내지 6개 가지고, 임의의 위치에 이중 결합을 가지는 직쇄 또는 분지형 불포화 탄화수소 라디칼, 예컨대 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐(알릴), 1-메틸에테닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 1-메틸-2-프로페닐, 2-메틸-2-프로페닐을 지칭한다.
"C2-C6-알키닐"이란 용어는, 탄소 원자를 2개 내지 6개 가지고, 삼중 결합을 적어도 1개 함유하는 직쇄 또는 분지형 불포화 탄화수소 라디칼, 예컨대 에티닐, 1-프로피닐, 2-프로피닐(프로파길), 1-부티닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 1-메틸-2-프로피닐을 지칭한다.
"C1-C6-할로알킬"이란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 원자를 1개 내지 6개 가지고, 기에서 수소 원자 일부 또는 전부가 상기 언급된 바와 같은 할로겐 원자로 치환될 수 있는, 직쇄 또는 분지형 알킬기를 지칭하며, 그 예로서는 클로로메틸, 브로모메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로플루오로메틸, 디클로로플루오로메틸, 클로로디플루오로메틸, 1-클로로에틸, 1-브로모에틸, 1-플루오로에틸, 2-플루오로에틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2-클로로-2-플루오로에틸, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸 및 펜타플루오로에틸, 2-플루오로프로필, 3-플루오로프로필, 2,2-디플루오로프로필, 2,3-디플루오로프로필, 2-클로로프로필, 3-클로로프로필, 2,3-디클로로프로필, 2-브로모프로필, 3-브로모프로필, 3,3,3-트리플루오로프로필, 3,3,3-트리클로로프로필, CH2-C2F5, CF2-C2F5, CF(CF3)2, 1-(플루오로메틸)-2-플루오로에틸, 1-(클로로메틸)-2-클로로에틸, 1-(브로모메틸)-2-브로모에틸, 4-플루오로부틸, 4-클로로부틸, 4-브로모부틸 또는 노나플루오로부틸이 있다.
"C1-C6-알콕시"란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 원자 1개 내지 6개를 가지고, 알킬기 내 임의의 위치에서 산소를 통하여 결합되는 직쇄 또는 분지형 알킬기를 지칭하며, 그 예로서는 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 1-메틸에톡시, 부톡시, 1-메틸프로폭시, 2-메틸프로폭시 또는 1,1-디메틸에톡시가 있다.
"C1-C6-할로알콕시"란 용어는, 수소 원자 일부 또는 전부가 상기 언급된 바와 같은 할로겐 원자로 치환될 수 있는, 상기 정의된 바와 같은 C1-C6-알콕시기를 지칭하는데, 그 예로서는 OCH2F, OCHF2, OCF3, OCH2Cl, OCHCl2, OCCl3, 클로로플루오로메톡시, 디클로로플루오로메톡시, 클로로디플루오로메톡시, 2-플루오로에톡시, 2-클로로에톡시, 2-브로모에톡시, 2-요오도에톡시, 2,2-디플루오로에톡시, 2,2,2-트리플루오로에톡시, 2-클로로-2-플루오로에톡시, 2-클로로-2,2-디플루오로에톡시, 2,2-디클로로-2-플루오로에톡시, 2,2,2-트리클로로에톡시, OC2F5, 2-플루오로프로폭시, 3-플루오로프로폭시, 2,2-디플루오로프로폭시, 2,3-디플루오로프로폭시, 2-클로로프로폭시, 3-클로로프로폭시, 2,3-디클로로프로폭시, 2-브로모프로폭시, 3-브로모프로폭시, 3,3,3-트리플루오로프로폭시, 3,3,3-트리클로로프로폭시, OCH2-C2F5, OCF2-C2F5, 1-(CH2F)-2-플루오로에톡시, 1-(CH2Cl)-2-클로로에톡시, 1-(CH2Br)-2-브로모에톡시, 4-플루오로부톡시, 4-클로로부톡시, 4-브로모부톡시 또는 노나플루오로부톡시가 있다.
"페닐-C1-C4-알킬 또는 헤테로아릴-C1-C4-알킬"이란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 수소 원자 1개가 페닐 또는 헤테로아릴 라디칼 각각으로 치환된 알킬을 지칭한다.
"C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬"이란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 수소 원자 1개가 (상기 정의된 바와 같은) C1-C4-알콕시기로 치환된 알킬을 지칭한다. 이와 유사하게, "C1-C4-알킬티오-C1-C4-알킬"이란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 수소 원자 1개가 C1-C4-알킬티오기로 치환된 알킬을 지칭한다.
본원에 사용된 바와 같은 "C1-C6-알킬티오"란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 원자 1개 내지 6개를 가지고, 황 원자를 통해 결합되는 직쇄 또는 분지형 알킬기를 지칭한다. 따라서 본원에 사용된 바와 같은 "C1-C6-할로알킬티오"란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 원자 1개 내지 6개를 가지고, 할로알킬기의 임의의 위치에서 황 원자를 통해 결합되는 직쇄 또는 분지형 할로알킬기를 지칭한다.
"C1-C4-알콕시이미노"란 용어는, 치환기로서 C1-C4-알콕시기 1개를 갖는 2가 이미노 라디칼(C1-C4-알킬-O-N=), 예컨대 메틸이미노, 에틸이미노, 프로필이미노, 1-메틸에틸이미노, 부틸이미노, 1-메틸프로필이미노, 2-메틸프로필이미노, 1,1-디메틸에틸이미노 등을 지칭한다.
"C1-C6-알콕시이미노-C1-C4-알킬"이란 용어는, 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 탄소 원자 1개에 결합된 수소 원자들 중 2개가 2가의 C1-C6-알콕시이미노 라디칼(C1-C6-알킬-O-N=)로 치환된 알킬을 지칭한다.
"C2-C6-알케닐옥시이미노-C1-C4-알킬"이란 용어는, 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 탄소 원자 1개에 결합된 수소 원자들 중 2개가 상기 정의된 바와 같은 2가의 C2-C6-알케닐옥시이미노 라디칼(C2-C6-알케닐-O-N=)로 치환된 알킬을 지칭한다.
"C2-C6-알키닐옥시이미노-C1-C4-알킬"이란 용어는, 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 탄소 원자 1개에 결합된 수소 원자들 중 2개가 2가의 C2-C6-알키닐옥시이미노 라디칼(C2-C6-알키닐-O-N=)로 치환된 알킬을 지칭한다.
"하이드록시C1-C4-알킬"이란 용어는, 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 수소 원자 중 1개가 OH기로 치환된 알킬을 지칭한다.
"아미노C1-C4-알킬"이란 용어는, 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 수소 원자 중 1개가 NH2기로 치환된 알킬을 지칭한다.
"C1-C6-알킬아미노"란 용어는, C1-C6-알킬이란 용어로 정의된 기로부터 독립적으로 선택되는 잔기 1개로 치환된 아미노기를 지칭한다. 이와 유사하게 "디C1-C6-알킬아미노"란 용어는, C1-C6-알킬이란 용어로 정의된 기로부터 독립적으로 선택되는 잔기 2개로 치환된 아미노기를 지칭한다.
"C1-C4-알킬아미노-C1-C4-알킬"이란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 수소 원자 1개가 C1-C4-알킬-NH기로 치환되고, 이 C1-C4-알킬-NH기가 질소를 통해 결합된 알킬을 지칭한다. 이와 유사하게, "디C1-C4-알킬아미노-C1-C4-알킬"이란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 수소 원자 1개가 (C1-C4-알킬)2N- 기로 치환되고, 이 (C1-C4-알킬)2N- 기가 질소를 통해 결합된 알킬을 지칭한다.
"아미노카보닐-C1-C4-알킬"이란 용어는, 탄소 원자를 1개 내지 4개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 수소 원자 1개가 -(C=O)-NH2기로 치환된 알킬을 지칭한다.
"C2-C6-알케닐"이란 용어는, 탄소 원자를 2개 내지 6개 가지고, 임의의 위치에 이중 결합을 가지는, 직쇄 또는 분지형 불포화 탄화수소 라디칼, 예컨대 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐 (알릴), 1-메틸에테닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 1-메틸-2-프로페닐, 2-메틸-2-프로페닐을 지칭한다.
"C2-C6-알키닐"이란 용어는, 탄소 원자를 2개 내지 6개 가지고, 삼중 결합을 적어도 하나 함유하는 직쇄 또는 분지형 불포화 탄화수소 라디칼, 예컨대 에티닐, 1-프로피닐, 2-프로피닐 (프로파길), 1-부티닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 1-메틸-2-프로피닐을 지칭한다.
"C3-C11-사이클로알킬"이란 용어는, 탄소 고리원을 3개 내지 11개 가지고, 수소 원자 1개가 치환됨으로써 고리 탄소 원자들 중 하나를 통해 연결되는 모노사이클릭, 바이사이클릭 또는 트리사이클릭 포화 1가 탄화수소 라디칼, 예컨대 사이클로프로필 (C3H5), 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸, 바이사이클로[1.1.0]부틸, 바이사이클로[2.1.0]펜틸, 바이사이클로[1.1.1]펜틸, 바이사이클로[3.1.0]헥실, 바이사이클로[2.1.1]헥실, 노르카라닐 (바이사이클로[4.1.0]헵틸) 및 노르보닐 (바이사이클로[2.2.1]헵틸) 을 지칭한다. 바이사이클릭 또는 트리사이클릭 사이클로알킬 라디칼의 추가의 예는 본원에서 실시예 R1.1 ~ R1.57로서 확인된다.
"C3-C11-사이클로알킬"이란 용어는, 탄소 고리원을 3개 내지 11개 가지고, 수소 원자 1개가 치환됨으로써 고리 탄소 원자들 중 하나를 통해 연결되는 모노사이클릭, 바이사이클릭 또는 트리사이클릭 포화 1가 탄화수소 라디칼, 예컨대 사이클로프로필(C3H5), 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸, 바이사이클로[1.1.0]부틸, 바이사이클로[2.1.0]펜틸, 바이사이클로[1.1.1]펜틸, 바이사이클로[3.1.0]헥실, 바이사이클로[2.1.1]헥실, 노르카라닐 (바이사이클로[4.1.0]헵틸) 및 노르보닐 (바이사이클로[2.2.1]헵틸) 을 지칭한다.
"C3-C11-사이클로알킬-C1-C6-알킬"이란 용어는, 탄소 원자를 1개 내지 11개 가지는 알킬로서, 알킬 라디칼의 수소 원자 1개가, 상기 정의된 바와 같은 C3-C11-사이클로알킬기에 의해 치환된 알킬을 지칭한다.
"C3-C11-사이클로알콕시"란 용어는, (상기 정의된 바와 같이) 탄소 고리원을 3개 내지 11개 가지고, 사이클로알킬기의 임의의 위치에서 산소를 통해 결합된 사이클릭 1가 탄화수소 라디칼, 예컨대 사이클로프로필옥시를 지칭한다.
"-C(=O)-C1-C4-알킬", "-C(=O)-C1-C4-알콕시" 및 "-C(=O)-C3-C11-사이클로알킬"이란 용어는, -C(=O)-기의 탄소 원자를 통해 부착된 라디칼을 지칭한다.
"지방족"이란 용어는, 탄소 및 수소로 구성되고, 비방향족 화합물인 화합물 또는 라디칼을 지칭한다. "지환족"화합물 또는 라디칼은 지방족이면서 또한 사이클릭인 유기 화합물이다. 이것들은 포화 또는 불포화된 것일 수 있지만, 방향족으로서의 특징은 가지지 않는, 모두 탄소로 이루어진 고리(all-carbon ring) 1개 이상을 함유한다.
"사이클릭 모이어티" 또는 "사이클릭기"란 용어는, 지환족 고리 또는 방향족 고리인 라디칼, 예컨대 페닐 또는 헤테로아릴을 지칭한다.
"지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 ... 로 치환되거나 치환되지 않는다"란 용어는, 지방족기와 사이클릭기, 그리고 지방족기들과 사이클릭기들이, 1개의 기, 예컨대 C3-C8-사이클로알킬-C1-C4-알킬 안에 지방족 모이어티과 사이클릭 모이어티을 함유하는 고로, 이 기가, 서로 독립적으로 치환될 수 있거나 치환되지 않을 수 있는 지방족 모이어티 및 사이클릭 모이어티 둘 다를 함유하는 경우를 지칭한다.
“페닐"이란 용어는, 탄소 원자를 6개 포함하는 방향족 고리계(보통 벤젠 고리라 지칭됨)를 지칭한다.
“헤테로아릴"이란 용어는, 탄소 원자 이외에도 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되는 이종 원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하는 방향족 모노사이클릭 또는 폴리사이클릭 고리계를 지칭한다.
"3원 내지 7원 포화 카보사이클"이란 용어는, 탄소 고리원을 3개, 4개 또는 5개 가지는 모노사이클릭 포화 카보사이클을 의미하는 것으로서 이해되어야 할 것이다. 그 예들로서는 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 및 사이클로헵틸 등을 포함한다.
"모노사이클릭 또는 바이사이클릭 헤테로사이클의 고리원 원자들이 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 추가로 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하는, 3원 내지 10원 포화, 부분 불포화 또는 방향족 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 헤테로사이클"이란 용어는, 방향족 모노사이클릭 및 바이사이클릭 헤테로방향족 고리계 둘 다뿐만 아니라, 포화 및 부분 불포화 헤테로사이클로서, 예컨대
고리원으로서 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터의 이종 원자를 1개 또는 2개 함유하는 3원 또는 4원 포화 헤테로사이클, 예컨대 옥시란, 아지리딘, 티이란, 옥세탄, 아제티딘, 티에탄, [1,2]디옥세탄, [1,2]디티에탄, [1,2]디아제티딘; 및
고리원으로서 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터의 이종 원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 5원 또는 6원 포화 또는 부분 불포화 헤테로사이클, 예컨대 2-테트라하이드로푸라닐, 3-테트라하이드로푸라닐, 2-테트라하이드로티에닐, 3-테트라하이드로티에닐, 2-피롤리디닐, 3-피롤리디닐, 3-이속사졸리디닐, 4-이속사졸리디닐, 5-이속사졸리디닐, 3-이소티아졸리디닐, 4-이소티아졸리디닐, 5-이소티아졸리디닐, 3-피라졸리디닐, 4-피라졸리디닐, 5-피라졸리디닐, 2-옥사졸리디닐, 4-옥사졸리디닐, 5-옥사졸리디닐, 2-티아졸리디닐, 4-티아졸리디닐, 5-티아졸리디닐, 2-이미다졸리디닐, 4-이미다졸리디닐, 1,2,4-옥사디아졸리딘-3-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-5-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-3-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-5-일, 1,2,4-트리아졸리딘-3-일, 1,3,4-옥사디아졸리딘-2-일, 1,3,4-티아디아졸리딘-2-일, 1,3,4-트리아졸리딘-2-일, 2,3-디하이드로푸르-2-일, 2,3-디하이드로푸르-3-일, 2,4-디하이드로푸르-2-일, 2,4-디하이드로푸르-3-일, 2,3-디하이드로티엔-2-일, 2,3-디하이드로티엔-3-일, 2,4-디하이드로티엔-2-일, 2,4-디하이드로티엔-3-일, 2-피롤린-2-일, 2-피롤린-3-일, 3-피롤린-2-일, 3-피롤린-3-일, 2-이속사졸린-3-일, 3-이속사졸린-3-일, 4-이속사졸린-3-일, 2-이속사졸린-4-일, 3-이속사졸린-4-일, 4-이속사졸린-4-일, 2-이속사졸린-5-일, 3-이속사졸린-5-일, 4-이속사졸린-5-일, 2-이소티아졸린-3-일, 3-이소티아졸린-3-일, 4-이소티아졸린-3-일, 2-이소티아졸린-4-일, 3-이소티아졸린-4-일, 4-이소티아졸린-4-일, 2-이소티아졸린-5-일, 3-이소티아졸린-5-일, 4-이소티아졸린-5-일, 2,3-디하이드로피라졸-1-일, 2,3-디하이드로피라졸-2-일, 2,3-디하이드로피라졸-3-일, 2,3-디하이드로피라졸-4-일, 2,3-디하이드로피라졸-5-일, 3,4-디하이드로피라졸-1-일, 3,4-디하이드로피라졸-3-일, 3,4-디하이드로피라졸-4-일, 3,4-디하이드로피라졸-5-일, 4,5-디하이드로피라졸-1-일, 4,5-디하이드로피라졸-3-일, 4,5-디하이드로피라졸-4-일, 4,5-디하이드로피라졸-5-일, 2,3-디하이드로옥사졸-2-일, 2,3-디하이드로옥사졸-3-일, 2,3-디하이드로옥사졸-4-일, 2,3-디하이드로옥사졸-5-일, 3,4-디하이드로옥사졸-2-일, 3,4-디하이드로옥사졸-3-일, 3,4-디하이드로옥사졸-4-일, 3,4-디하이드로옥사졸-5-일, 3,4-디하이드로옥사졸-2-일, 3,4-디하이드로옥사졸-3-일, 3,4-디하이드로옥사졸-4-일, 2-피페리디닐, 3-피페리디닐, 4-피페리디닐, 1,3-디옥산-5-일, 2-테트라하이드로피라닐, 4-테트라하이드로피라닐, 2-테트라하이드로티에닐, 3-헥사하이드로피리다지닐, 4-헥사하이드로피리다지닐, 2-헥사하이드로피리미디닐, 4-헥사하이드로피리미디닐, 5-헥사하이드로피리미디닐, 2-피페라지닐, 1,3,5-헥사하이드로트리아진-2-일 및 1,2,4-헥사하이드로트리아진-3-일, 그리고 상응하는 -일리덴 라디칼; 및
7원 포화 또는 부분 불포화 헤테로사이클, 예컨대 테트라- 및 헥사하이드로아제피닐, 예컨대 2,3,4,5-테트라하이드로[1H]아제핀-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 3,4,5,6-테트라하이드로[2H]아제핀-2-,-3-,-4-,-5-,-6- 또는 -7-일, 2,3,4,7-테트라하이드로[1H]아제핀-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,6,7-테트라하이드로[1H]아제핀-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 헥사하이드로아제핀-1-, -2-, -3- 또는 -4-일, 테트라- 및 헥사하이드로옥세피닐, 예컨대 2,3,4,5-테트라하이드로-[1H]-옥세핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,4,7-테트라하이드로[1H]옥세핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,6,7-테트라하이드로[1H]옥세핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 헥사하이드로아제핀-1-, -2-, -3- 또는 -4-일, 테트라- 및 헥사하이드로-1,3-디아제피닐, 테트라- 및 헥사하이드로-1,4-디아제피닐, 테트라- 및 헥사하이드로-1,3-옥사제피닐, 테트라- 및 헥사하이드로-1,4-옥사제피닐, 테트라- 및 헥사하이드로-1,3-디옥세피닐, 테트라- 및 헥사하이드로-1,4-디옥세피닐 및 상응하는 -일리덴 라디칼을 의미하는 것으로서 이해되어야 할 것이다.
"5원 또는 6원 헤테로아릴"이란 용어 또는 "5원 또는 6원 방향족 헤테로사이클"이란 용어는, 탄소 원자 이외에도 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되는 이종원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하는 방향족 고리계, 예컨대 5원 헤테로아릴, 예컨대 피롤-1-일, 피롤-2-일, 피롤-3-일, 티엔-2-일, 티엔-3-일, 푸란-2-일, 푸란-3-일, 피라졸-1-일, 피라졸-3-일, 피라졸-4-일, 피라졸-5-일, 이미다졸-1-일, 이미다졸-2-일, 이미다졸-4-일, 이미다졸-5-일, 옥사졸-2-일, 옥사졸-4-일, 옥사졸-5-일, 이속사졸-3-일, 이속사졸-4-일, 이속사졸-5-일, 티아졸-2-일, 티아졸-4-일, 티아졸-5-일, 이소티아졸-3-일, 이소티아졸-4-일, 이소티아졸-5-일, 1,2,4-트리아졸릴-1-일, 1,2,4-트리아졸-3-일 1,2,4-트리아졸-5-일, 1,2,4-옥사디아졸-3-일, 1,2,4-옥사디아졸-5-일 및 1,2,4-티아디아졸-3-일, 1,2,4-티아-디아졸-5-일; 또는
6원 헤테로아릴, 예컨대 피리딘-2-일, 피리딘-3-일, 피리딘-4-일, 피리다진-3-일, 피리다진-4-일, 피리미딘-2-일, 피리미딘-4-일, 피리미딘-5-일, 피라진-2-일 및 1,3,5-트리아진-2-일 및 1,2,4-트리아진-3-일
을 지칭한다.
실용례
본 발명은 하기 실용례들로써 추가로 기술된다.
3-(p-톨릴)-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸에 대한 분석 방법: HPLC Agilent 1100 시리즈; 컬럼: Agilent Eclipse-XDB C18, 3.5 um, 4.6 x 150 mm, 컬럼내 유속: 1 mL/분, 시간: 20분, 용매: 구배 MeCN/H20 80/20 → 0/100(0분 ~ 15분); 압력: 30000 kPa; 온도: 40℃; 파장 255 nm; 주입 용적: 1 uL; 생성물 체류 시간: 13.6분(기준 물질을 기준으로 함).
1H-NMR (δ/ppm, DMSO-d6, 400 MHz): 2.4 (s, 3 H), 7.4 (d, 2 H), 7.9 (d, 2 H).
19F-NMR (δ/ppm, DMSO-d6, 400 MHz): 65 (s, 3 F).
실시예 1) 3-(p-톨릴)-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸의 제조
고체 N'-하이드록시-4-메틸-벤자미딘 5 g(33.3 mmol)을, 교반기가 설치된 가압 반응기에 채웠다. 이 반응기를 70℃로 가열한 다음, 질소로 3회 퍼징(purging)하였다. 그 다음, 염화트리플루오로아세틸 18 g(300 kPa, 135.8 mmol)을 도입하였다. 이 염화트리플루오로아세틸을 도입한 후, 반응기내 압력은 약 400 kPa이었다. 반응 혼합물의 색이 매우 빨리 진해지면서 액체로 바뀌었다. 70℃에서 2시간 있은 후 HPLC 분석은, 전환율 95% 초과, 생성물 36 ar% 초과 그리고 부산물 60 ar% 미만임을 보였다.
실시예 2) 3-(p-톨릴)-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸의 제조
고체 N'-하이드록시-4-메틸-벤자미딘 5 g(33.3 mmol)을, 교반 바 및 배기 기체 스크러버(off-gas scrubber)가 설치된 3목 둥근 바닥 플라스크에 채웠다. 이 플라스크를 40℃로 가열한 다음, 대기압하에서 2시간 내에 염화트리플루오로아세틸 19 g(143.4 mmol)을 도입하였다. 그 다음, 온도를 70℃로 상승시키고 나서, 여기에 염화트리플루오로아세틸 11 g(83.0 mmol)을 대기압하에서 2시간 내에 추가로 도입하였다. HPLC 분석은, 전환율 99% 초과, 생성물 96 ar% 초과 그리고 부산물 3 ar% 미만임을 보였다.
실시예 3) 3-(p-톨릴)-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸의 제조
고체 N'-하이드록시-4-메틸-벤자미딘 5 g(33.3 mol)을, 교반 바, 배기 기체 스크러버 및 드라이아이스(고체 이산화탄소) 냉각기가 설치된 3목 둥근 바닥 플라스크에 채웠다. 이 플라스크를 65℃로 가열한 다음, 여기에 염화트리플루오로아세틸 12 g(90.6 mmol)을 90분 내에 대기압하에서 추가로 도입하였다. HPLC 분석은, 전환율 99% 초과, 생성물 96 ar% 초과 그리고 부산물 3 ar% 미만임을 보였다.
실시예 4) 3-(p-톨릴)-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸의 제조
고체 N'-하이드록시-4-메틸-벤자미딘 15 g(99.3 mol)을, 교반기가 설치된 가압 반응기에 채웠다. 이 반응기를 질소로 3회 퍼징한 다음, 25℃로 가열하였다. 그 다음, 여기에 염화트리플루오로아세틸 18 g(300 kPa, 135.8 mmol)을 도입하였다. 염화트리플루오로아세틸을 도입한 후, 반응기내 압력은 약 400 kPa였다. 2시간 후 압력을 풀어준 다음, HPLC 분석용 시료를 채취하였는데, 이 HPLC 분석은 생성물이 약 5 ar%였음을 보였다. 그 다음, 여기에 염화트리플루오로아세틸 19 g(300 kPa, 143.4 mmol)을 추가로 도입한 후, 반응기를 60℃로 2시간 동안 가열하였더니, 생성물이 23 ar%였음이 확인되었다. 반응기를 70℃로 가열한 다음, 여기에 염화트리플루오로아세틸 20 g(300 kPa, 150.9 mmol)을 도입하고 나서 4시간 경과 후 완전 전환이 달성되었으며, 투명하고 약간 황색빛을 띠는 액체 25.5 g이 수득되었다. HPLC 분석은, 전환율 99% 초과, 생성물 97 ar% 초과 그리고 부산물 2 ar% 미만임을 보였다.
실시예 5) 3-(p-톨릴)-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸의 제조
고체 N'-하이드록시-4-메틸-벤자미딘 15 g(99.3 mol)을, 교반기가 설치된 가압 반응기에 채웠다. 이 반응기를 50℃로 가열한 다음, 질소로 3회 퍼징하였다. 그 다음, 질소를 도입하여 100 kPa로 만들고 나서, 30분 이내에 염화트리플루오로아세틸 19 g(350 kPa, 143.4 mmol)을 도입하였다. 염화트리플루오로아세틸을 도입한 후 반응기내 압력은 약 550 kPa였다. 2시간 후, 온도를 1시간 동안 80℃로 상승시켰다. 압력을 100 kPa로 풀어주고 나서, 여기에 염화트리플루오로아세틸 8 g(300 kPa, 60.4 mmmol)을 추가로 도입하였으며, 이로부터 2시간 더 지난 다음, 압력을 반복해서 풀어주었더니, 생성물 81 ar%만큼이 관찰되었다. 70℃로 가열한 다음, 염화트리플루오로아세틸 5 g(150 kPa, 37.7 mmol)을 도입하고 나서 2시간 후 완전 전환이 달성되었다. 압력을 풀어주었더니, 투명하고 약간 황색빛을 띠는 액체 27 g이 수득되었다. HPLC 분석은, 전환율 99% 초과, 생성물 96 ar% 초과 그리고 부산물 4 ar% 미만임을 보였다. 정량적 NMR 측정은, 생성물이 76.6 %이고, TFA가 23.8%임을 보였는데, 이는 수율 92%에 상응하는 결과였다.
실시예 6) 3-(p-톨릴)-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸의 제조
고체 N'-하이드록시-4-메틸-벤자미딘 15 g(99.3 mmol)을, 교반기가 설치된 가압 반응기에 채웠다. 이 반응기를 70℃로 가열한 다음, 질소로 3회 퍼징하였다. 그 다음, 질소를 도입하여 100 kPa로 만들고 나서, 5분 이내에 염화트리플루오로아세틸 14.5 g(350 kPa, 109.4 mmol)을 도입하였다. 염화트리플루오로아세틸을 도입한 후 반응기내 압력은 약 550 kPa였다. 2시간 후, 압력은 100 kPa로 떨어졌고, 여기에 염화트리플루오로아세틸 11.5 g(200 kPa, 86.8 mmol)을 추가로 도입하고 나서 2시간 후 생성물은 85 ar%였음이 확인되었다. 70℃로 가열한 다음, 염화트리플루오로아세틸 5 g(100 kPa, 37.7 mmol)을 도입하고 나서 2시간 후 완전 전환이 달성되었다. 압력을 풀어주었더니, 투명하고 약간 황색빛을 띠는 액체 21.5 g이 수득되었다. HPLC 분석은, 전환율 99% 초과, 생성물 92 ar% 초과 그리고 부산물 7 ar% 미만임을 보였다.
실시예 7) 3-[4-(트리클로로메틸)페닐]-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸의 제조
3-(p-톨릴)-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸 300g(1.31 mol)을, 500 mL들이 석영유리 둥근 바닥 플라스크에 넣었다. 이 반응기에 염화물 427g(6.0 mol)을 통과시키고 나서, 125℃로 가열한 후, 8시간에 걸쳐 Heraeus TQ 150 Watt(수은 중압 방사체) UV 램프로 조사하였다. 반응이 종료된 후, 반응물 덩어리를 질소로 스트립핑하여, 남아있던 염소와 염화수소 기체를 제거하였다. GC 분석은, 생성물이 98.7 ar%였음을 보여주었다. 수득량: 결정질 생성물 437g(99%); 융점: 75℃ ~ 78℃; 1H-NMR(CDCl3): 8.1 ppm(m, 2H, 2xCH); 8.3 ppm(m, 2H, 2xCH).
실시예 8) N-(2-플루오로페닐)-4-[5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸-3-일]벤자미드의 제조
고체 3-[4-(트리클로로메틸)페닐]-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸 150 g(0.446 mol)과, 철(III) 염화물 3.75 g(0.023 mol)을, 오버헤드 교반기, 환류 응결기 및 배기 기체 스크러버가 설치된 0.75 L들이 반응기에 채웠다. 반응기를 120℃로 가열한 다음, 3시간 이내에 반응 혼합물에 물 7.6 g(0.422 mol)을 첨가하고 나서, 30분 더 교반하였다. 그 다음, 반응 혼합물을 25℃로 냉각하고, 여기에 테트라하이드로푸란 300 g(4.156 mol)을 첨가한 후, 반응 혼합물을 10℃로 냉각하였다. 이후, 2-플루오로-아닐린 56 g(0.489 mol), 트리에틸아민 50 g(0.489 mol), 그리고 테트라하이드로푸란 200 g(2.771 mol)을 약 40분 내에 첨가하였으며, 한편으로 이때 반응 혼합물의 온도는 10℃ 내지 25℃로 유지시켰고, 이 라인을 테트라하이드로푸란 100 g(1.4 mol)으로 플러싱하였다. 혼합물을 밤새도록 교반한 후 5℃로 냉각하고, 여기에 물 450 mL를 첨가하였다. 고체를 필터로 걸러내고, 저온의 물 100 g으로 2회 세척하였다. 고체 물질이 수득되었는데, 이를 건조하였더니(80℃, 2 kPa) 표제 생성물 130 g(0.363 mol)이 수득되었다. HPLC 분석은, 생성물이 98 ar%를 초과함을 보였다.
실시예 9) N-메틸-4-[5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸-3-일]벤자미드의 제조
고체 3-[4-(트리클로로메틸)페닐]-5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸 5 g(0.015 mol)과, 철(III) 염화물 0.12 g(0.74 mmol)을, 오버헤드 교반기, 환류 응결기 및 배기 기체 스크러버가 설치된 0.75 L들이 반응기에 채웠다. 반응기를 85℃로 가열한 다음, 1시간 이내에 이 반응 혼합물에 물 0.26 g(0.014 mol)을 첨가한 후, 40분 더 교반하였다. 그 다음, 온도를 25℃로 냉각하고, 여기에 테트라하이드로푸란 14.6 g(0.222 mol)을 첨가한 후, 반응 혼합물을 0℃로 냉각하였다. 그 다음, 여기에 테트라하이드로푸란 중 메틸아민 용액 27 mL(5 M, 0.074 mmol)를 첨가한 후, 실온에서 밤새도록 교반하였다. 여기에 물과 아세트산에틸을 첨가하였더니, 상들이 분리되었다. 유기상을 물로 세척하고, 황산마그네슘/활성탄으로 건조하였다. 휘발성물질을 여과 및 제거한 결과, N-메틸-4-[5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸-3-일]벤자미드 2.9 g(88 ar%, 0.091 mol, 체류 시간 = 0.93분, M+ = 271)이 수득되었다.
실시예 10) N-메틸-4-[5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸-3-일]벤젠카보티오아미드의 제조
N-메틸-4-[5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸-3-일]벤자미드 15 g(54.8 mmol)과, 인(V) 황화물 3.8 g(16.9 mmmol)을 톨루엔 87 g에 용해하고 나서, 1시간 동안 112℃로 가열하였다. 반응 혼합물을 100℃ 이하에서 물 100 g과 톨루엔 100 g으로 처리하였다. 75℃에서 상분리가 일어난 후, 유기상이 분리되었으며, 이를 물 100 g으로 세척하였다. 진공하에서 휘발성물질을 제거하였더니(80℃, 200 mbar ~ 5 mbar), 미정제 생성물 15.8 g이 수득되었는데, 이를 디이소프로필에테르 50 mL에 현탁하고, 1시간 동안 60℃로 가열하였다. 이를 실온으로 냉각한 다음, 침전물을 여과로 걸러내고 나서, 디이소프로필에테르 20 mL로 세척하였다. 80℃ 및 감압하에서 건조하였더니, N-메틸-4-[5-(트리플루오로메틸)-1,2,4-옥사디아졸-3-일]벤젠카보티오아미드 13.5 g(44.2 mmol, 94 ar%)이 수득되었다. 1H-NMR (δ/ppm, CDCl3, 400 MHz): 3.4 ppm, s, 3H; 7.8, s, br 1H; 7.9, d, 2 H; 8.1, d, 2 H).

Claims (15)

  1. 화학식 I의 화합물
    Figure 112023044013405-pct00010

    [식 중,
    A1은 N 또는 CH이고;
    A2는 N 또는 CH이고;
    RA는 수소 또는 할로겐이고;
    R은 메틸, 트리클로로메틸, 에틸, iso-프로필, OH, SH, 시아노, 할로겐, CH2F, CHF2, 2,2,2-트리플루오로에틸, 사이클로프로필, -COOH, -COOR1, -C(=W)NR1R2, -CR3R4NR1R2, -CR3R4OR1, -CR3(=NR1), -CR3(=O), -CR3R4COOH, -CR3R4COR1, -CR3R4C(=W)NR1R2, -OCR3R4COOH, -OCR3R4COR1, -OCR3R4C(=W)NR1R2, -CR3R4NR2C(=W)R1, -CR3R4S(=O)2R1 또는 -CR3R4NR2S(=O)2R1이고;
    W는 O 또는 S이고;
    R2는 수소, 포르밀, C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시, C3-C11-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C3-C11-사이클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐-C1-C4-알킬, 페닐, 피리디닐, -C(=O)-(C1-C6-알킬), -C(=O)-(C3-C11-사이클로알킬), -C(=O)-(C1-C6-알콕시) 및 -N(R2a)2이고;
    R2a는 수소, OH, C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C3-C11-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C1-C6-알콕시, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬 및 C1-C6-알킬티오로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    R2 중 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 하이드록시, 옥소, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시 및 C3-C11-사이클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택되는 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
    R1은 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C3-C11-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시이미노-C1-C4-알킬, C2-C6-알케닐옥시이미노-C1-C4-알킬, C2-C6-알키닐옥시이미노-C1-C4-알킬, C1-C6-알킬아미노, 디C1-C6-알킬아미노, -C(=O)-(C1-C6-알킬), -C(=O)-(C1-C6-알콕시), 페닐-C1-C4-알킬, 페닐-C1-C4-알케닐, 페닐-C1-C4-알키닐, 헤테로아릴-C1-C4-알킬, 페닐, 나프틸이거나, 또는 3원 내지 10원의 포화, 부분 불포화 또는 방향족 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 헤테로사이클이며, 상기 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 헤테로사이클의 고리원 원자는, 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 추가로 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하며, 단 헤테로사이클은 O 및 S로부터 선택되는 인접 원자 2개를 함유할 수 없고; 헤테로아릴-C1-C4-알킬기 중 헤테로아릴기는 5원 또는 6원 방향족 헤테로사이클이며, 헤테로사이클릭 고리의 고리원 원자는 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하며, 단 헤테로사이클은 O 및 S로부터 선택되는 인접 원자 2개를 함유할 수 없고; 상기 언급된 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 동일하거나 상이한 기 R1a 1개, 2개, 3개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않거나; 또는
    R1 및 R2는, R2에 부착된 질소 원자와 함께, 그리고 만일 상기 질소 원자와 R1기 사이에 위치하는 개재기가 존재한다면, 이 개재기 -C(=W)-와 함께 포화 또는 부분 불포화 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 3원 내지 10원 헤테로사이클을 형성하며, 이 헤테로사이클은 1개의 질소 원자 및 1개 이상의 탄소 원자 이외에 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 독립적으로 선택되는 추가의 이종 원자를 포함하지 않거나 또는 추가의 이종 원자를 1개, 2개 또는 3개 포함하며, 단 헤테로사이클은 O 및 S로부터 선택되는 인접 원자 2개를 함유할 수 없고; 헤테로사이클은 동일하거나 상이한 기 R1a 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않거나; 또는
    만일 R2가 -N(R2a)2이면, R1 및 2개의 R2a기 중 하나는 이 R2a에 부착된 질소 원자와 함께, 그리고 상기 질소 원자와 R1기 사이에 위치하는 개재기와 함께 포화 또는 부분 불포화 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 3원 내지 10원 헤테로사이클을 형성하며, 이 헤테로사이클은 2개의 질소 원자 및 1개 이상의 탄소 원자 이외에 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 독립적으로 선택되는 추가의 이종 원자를 포함하지 않거나 또는 추가의 이종 원자를 1개, 2개 또는 3개 포함하며, 단 헤테로사이클은 0 및 S로부터 선택되는 인접 원자 2개를 함유할 수 없고; 헤테로사이클은 동일하거나 상이한 기 R1a 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
    R1a는 할로겐, 옥소, 시아노, NO2, OH, SH, NH2, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-할로알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-할로알킬티오, C3-C8-사이클로알킬, -NHSO2-C1-C4-알킬, (C=O)-C1-C4-알킬, C(=O)-C1-C4-알콕시, C1-C6-알킬설포닐, 하이드록시C1-C4-알킬, C(=O)-NH2, C(=O)-NH(C1-C4-알킬), C1-C4-알킬티오-C1-C4-알킬, 아미노C1-C4-알킬, C1-C4-알킬아미노-C1-C4-알킬, 디C1-C4-알킬아미노-C1-C4-알킬, 아미노카보닐-C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬이고;
    R3 및 R4는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, C1-C4-알킬, C1-C4-알케닐, C1-C4-알키닐, C1-C4-할로알킬 및 C1-C4-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는
    R3 및 R4는, 이것들과 결합하고 있는 탄소 원자와 함께 사이클로프로필기를 형성함]
    의 제조 방법으로서, 화학식 II의 화합물

    [식 중,
    변수 A1, A2, R 및 RA는 화학식 I의 화합물에 대하여 상기 정의된 바와 같음] 과, 화학식 IIa의 트리플루오로아세틸 할로겐화물
    Figure 112023044013405-pct00012

    [식 중, Hal은 염소 또는 플루오르임]
    을 반응시키는 것을 포함하고, 상기 반응이 추가 용매의 부재하에 화학식 II의 화합물 및 화학식 IIa의 화합물을 접촉시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 화합물 IIa 중 Hal은 염소인 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 화합물 I 및 II 중 R은 메틸, 트리클로로메틸, COOH, OH, SH, 시아노 또는 할로겐인 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서, 화합물 I 및 II 중 A1 및 A2는 CH이고, RA는 수소 또는 플루오르인 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, -40℃ 내지 100℃의 온도에서 수행되는 제조 방법.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 0℃ 내지 100℃의 온도에서 수행되는 제조 방법.
  7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 100 kPa 내지 1000 kPa의 압력에서 수행되는 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서, 화합물 I 및 II 중 R은 메틸이고, 화학식 I의 화합물을 반응시켜 화학식 Ib의 화합물
    Figure 112021083169813-pct00013

    을 수득하는 단계를 추가로 포함하는 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서, 화학식 Ib의 화합물을 반응시켜 화학식 III의 화합물
    Figure 112020018283266-pct00014

    을 수득하는 단계를 추가로 포함하는 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서, 화학식 Ib의 화합물을 반응시켜 화학식 III의 화합물을 수득하는 단계는 철(III) 염화물과 물의 존재하에 수행되는 제조 방법.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 화학식 III의 화합물을 화학식 IV의 화합물

    [식 중, 화학식 IV의 화합물 중 R1 및 R2는 제1항에 정의된 바와 같음]
    과 반응시켜, 화학식 Ic의 화합물
    Figure 112020018283266-pct00016

    을 수득하는 단계를 추가로 포함하는 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 화학식 Ic의 화합물을 반응시켜 화학식 Id의 화합물
    Figure 112020018283266-pct00017

    을 수득하는 단계를 추가로 포함하는 제조 방법.
  13. 제11항에 있어서,
    A1 및 A2는 CH이고;
    Ra는 수소 또는 플루오르이고;
    R1은 C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C6-알콕시이미노-C1-C4-알킬, C3-C11-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, 페닐-C1-C4-알킬, 헤테로아릴-C1-C4-알킬, 페닐 또는 헤테로아릴이고; 헤테로아릴기는 5원 또는 6원 방향족 헤테로사이클이며, 고리는 탄소 원자 이외에도 고리원 원자로서 N, O 및 S로부터 선택되는 이종 원자를 1개, 2개, 3개 또는 4개 포함하고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
    R2는 수소, 포르밀, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C2-C6-알케닐, 프로파길, C3-C8-사이클로알킬, C3-C8-사이클로알케닐, C3-C8-사이클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, C1-C6-알킬아미노 또는 디C1-C6-알킬아미노이고; 지방족기 또는 사이클릭기 중 임의의 것은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 4개 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않는 제조 방법.
  14. 제12항에 있어서,
    A1 및 A2는 CH이고;
    Ra는 수소 또는 플루오르이고;
    R1은 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, sec-부틸, iso-부틸, 사이클로프로필, 2-메톡시이미노에틸, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일 또는 페닐이고; 페닐기는 플루오르, 염소, 시아노, 메틸, 에틸, 메톡시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 디플루오로메틸, 디플루오로메톡시 및 사이클로프로필로 이루어진 군으로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 라디칼 1개, 2개, 3개, 또는 가능한 최대 개수 이하의 개수로 치환되거나 치환되지 않고;
    R2는 수소, 메틸 또는 에틸인 제조 방법.
  15. 제12항에 있어서,
    A1 및 A2는 CH이고;
    Ra는 수소 또는 플루오르이고;
    R1은 메틸, 2-메톡시이미노에틸, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1-일, 2-플루오로-페닐, 4-플루오로-페닐 또는 2-디플루오로메톡시-페닐이고;
    R2는 수소인 제조 방법.
KR1020207005048A 2017-07-28 2018-07-21 치환 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸의 제조 KR102573454B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP17183655.4 2017-07-28
EP17183655 2017-07-28
PCT/EP2018/069482 WO2019020451A1 (en) 2017-07-28 2018-07-21 PREPARATION OF SUBSTITUTED 3-ARYL-5-TRIFLUOROMETHYL-1,2,4-OXADIAZOLES

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200033916A KR20200033916A (ko) 2020-03-30
KR102573454B1 true KR102573454B1 (ko) 2023-08-31

Family

ID=59485232

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207005048A KR102573454B1 (ko) 2017-07-28 2018-07-21 치환 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸의 제조

Country Status (7)

Country Link
US (2) US20200231556A1 (ko)
EP (2) EP3658543A1 (ko)
KR (1) KR102573454B1 (ko)
CN (2) CN110959005B (ko)
BR (1) BR112020001211B1 (ko)
IL (2) IL271962B (ko)
WO (2) WO2019020501A1 (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019101511A1 (en) 2017-11-23 2019-05-31 Basf Se Substituted trifluoromethyloxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
WO2019214979A1 (en) * 2018-05-07 2019-11-14 Basf Se Substituted trifluoromethyloxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP4069681A1 (en) 2019-12-05 2022-10-12 Basf Se Preparation of substituted aromatic carboxamides
CN115066419A (zh) * 2020-02-05 2022-09-16 巴斯夫欧洲公司 取代的3-芳基-5-三氟甲基-1,2,4-噁二唑的制备
MX2022009603A (es) * 2020-02-05 2022-09-02 Basf Se Preparacion de 3-aril-5-trifluorometil-1,2,4-oxadiazoles sustituidos.
CN115087646A (zh) * 2020-02-13 2022-09-20 巴斯夫欧洲公司 通过用分子氧催化氧化制备芳族羰基化合物
WO2021209377A1 (en) 2020-04-16 2021-10-21 Basf Se A process for the preparation of 4-cyanobenzoyl chlorides
US20230339847A1 (en) 2020-04-29 2023-10-26 Basf Se Preparation of aromatic carboxyamides by a palladium-catalyzed carbonylation reaction
CN115298163A (zh) 2020-04-29 2022-11-04 巴斯夫欧洲公司 通过钯催化的羰基化反应制备芳族羧酰胺
US20230183171A1 (en) 2020-05-29 2023-06-15 Basf Se Preparation of substituted 4-(n'-hydroxycarbamimidoyl)benzoic acids
EP4367101A1 (en) 2021-07-08 2024-05-15 Basf Se Preparation of substituted amidoximes
WO2023285176A1 (en) * 2021-07-14 2023-01-19 Basf Se A process for producing alkyl trifluoroacetates

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015185485A1 (en) * 2014-06-06 2015-12-10 Basf Se Use of substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0276432A3 (de) 1986-12-12 1988-10-26 Ciba-Geigy Ag Schädlingsbekämpfungsmittel
EP1885713A1 (en) 2005-05-18 2008-02-13 Pfizer Limited 1, 2, 4 -triazole derivatives as vasopressin antagonists
WO2007063028A2 (de) 2005-12-01 2007-06-07 Basf Se Verfahren zur herstellung von sulfonamiden
MX2010006882A (es) * 2007-12-25 2010-10-05 Kissei Pharmaceutical Derivado novedoso de catecol, composición farmaceutica que contiene el mismo, uso del derivado de catecol, y uso de la composición farmaceutica.
TW201038580A (en) * 2009-02-02 2010-11-01 Pfizer 4-amino-5-oxo-7,8-dihydropyrimido[5,4-f][1,4]oxazepin-6(5H)-yl)phenyl derivatives
CA2841113A1 (en) * 2011-07-08 2013-01-17 Novartis Ag Novel trifluoromethyl-oxadiazole derivatives and their use in the treatment of disease
WO2013066838A1 (en) 2011-10-31 2013-05-10 Glaxosmithkline Llc Compounds and methods
CA2906538C (en) * 2013-03-14 2021-02-02 Ana Gonzalez Buenrostro Heteroaryl acid morpholinone compounds as mdm2 inhibitors for the treatment of cancer
JP6864673B2 (ja) 2015-10-02 2021-04-28 シンジェンタ パーティシペーションズ アーゲー 殺微生物オキサジアゾール誘導体
WO2017055473A1 (en) 2015-10-02 2017-04-06 Syngenta Participations Ag Microbiocidal oxadiazole derivatives
US20190135798A1 (en) 2015-11-02 2019-05-09 Basf Se Substituted Oxadiazoles for Combating Phytopathogenic Fungi
EP3165094A1 (en) 2015-11-03 2017-05-10 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
US20180317488A1 (en) 2015-11-03 2018-11-08 Basf Se Use of Substituted Oxadiazoles for Combating Phytopathogenic Fungi
EP3371178A1 (en) 2015-11-04 2018-09-12 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
US20180317490A1 (en) 2015-11-04 2018-11-08 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3165093A1 (en) 2015-11-05 2017-05-10 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
JP2018536025A (ja) 2015-11-05 2018-12-06 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ 植物病原菌を駆除するための置換オキサジアゾール
EP3167716A1 (en) 2015-11-10 2017-05-17 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
AR106679A1 (es) 2015-11-13 2018-02-07 Basf Se Oxadiazoles sustituidos para combatir hongos fitopatógenos
BR112018009539B1 (pt) 2015-11-13 2022-05-24 Basf Se Uso de compostos da fórmula i, compostos, mistura, composição agroquímica, uso dos compostos e método para combater fungos nocivos fitopatogênicos
WO2017081310A1 (en) 2015-11-13 2017-05-18 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3373733A1 (en) 2015-11-13 2018-09-19 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
US10674727B2 (en) 2015-11-19 2020-06-09 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
CR20180332A (es) 2015-11-19 2018-10-18 Basf Se Oxadiazoles sustituidos para combatir hongos fitopatógenos
US10640497B2 (en) 2015-12-02 2020-05-05 Syngenta Participations Ag Microbiocidal oxadiazole derivatives
AU2016363493A1 (en) 2015-12-03 2018-05-24 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
JP2019504010A (ja) 2015-12-17 2019-02-14 シンジェンタ パーティシペーションズ アーゲー 殺微生物オキサジアゾール誘導体
EP3390397A1 (en) 2015-12-17 2018-10-24 Syngenta Participations AG Microbiocidal oxadiazole derivatives
CN108368098B (zh) 2015-12-18 2022-01-28 先正达参股股份有限公司 杀微生物的噁二唑衍生物
EP3394041A1 (en) 2015-12-22 2018-10-31 Syngenta Participations AG Microbiocidal oxadiazole derivatives
UY37062A (es) 2016-01-08 2017-08-31 Syngenta Participations Ag Derivados de aryl oxadiazol fungicidas
US11154060B2 (en) 2016-05-20 2021-10-26 Syngenta Participations Ag Microbiocidal oxadiazole derivatives
EP3464251B1 (en) 2016-06-03 2021-03-03 Syngenta Participations AG Microbiocidal oxadiazole derivatives
CA3027013A1 (en) 2016-06-09 2017-12-14 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
AR108745A1 (es) 2016-06-21 2018-09-19 Syngenta Participations Ag Derivados de oxadiazol microbiocidas
US10653146B2 (en) 2016-10-06 2020-05-19 Syngenta Participations Ag Microbiocidal oxadiazole derivatives

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015185485A1 (en) * 2014-06-06 2015-12-10 Basf Se Use of substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi

Also Published As

Publication number Publication date
BR112020001211B1 (pt) 2023-05-16
CN110997644A (zh) 2020-04-10
CN110997644B (zh) 2023-12-12
IL271971A (en) 2020-02-27
WO2019020501A1 (en) 2019-01-31
EP3658542A1 (en) 2020-06-03
US20200157064A1 (en) 2020-05-21
IL271962A (en) 2020-02-27
BR112020001273A2 (pt) 2020-07-21
KR20200033916A (ko) 2020-03-30
CN110959005A (zh) 2020-04-03
US20200231556A1 (en) 2020-07-23
WO2019020451A1 (en) 2019-01-31
BR112020001211A2 (pt) 2020-07-21
CN110959005B (zh) 2024-01-19
US11021452B2 (en) 2021-06-01
IL271962B (en) 2022-08-01
EP3658542B1 (en) 2022-09-07
IL271971B (en) 2022-04-01
EP3658543A1 (en) 2020-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102573454B1 (ko) 치환 3-아릴-5-트리플루오로메틸-1,2,4-옥사디아졸의 제조
EP4103555B1 (en) Preparation of aromatic carbonyl compounds by catalytic oxidation with molecular oxygen
EP4100397B1 (en) Preparation of substituted 3-aryl-5-trifluoromethyl-1,2,4-oxadiazoles
EP4100396B1 (en) Preparation of substituted 3-aryl-5-trifluoromethyl-1,2,4-oxadiazoles
US20230028964A1 (en) Preparation of substituted aromatic carboxamides
KR20240033027A (ko) 치환된 아미독심의 제조
CN117597330A (zh) 取代的偕胺肟的制备
BR112020001273B1 (pt) Processo para preparar compostos de fórmula i
US20230127884A1 (en) A process for the preparation of 4-cyanobenzoyl chlorides
EP4370509A1 (en) A process for producing alkyl trifluoroacetates
WO2024110227A1 (en) Preparation of 4-cyanobenzoyl chlorides from alkali metal 4-carbamoyl-benzoates

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant