KR102560818B1 - 노광 장치 - Google Patents

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노조무 하라
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

노광 장치는, 기재 (9) 에 패턴을 노광하는 노광부와, 기재 (9) 의 하나의 주면에 접촉하는 유지 플레이트 (43) 를 갖고, 기재 (9) 를 유지하는 테이블 (41) 과, 유지 플레이트 (43) 에 형성된 개구 (432) 를 통하여 기재 (9) 의 당해 주면에 광을 조사함으로써, 노광부에 의한 패턴의 노광에 있어서 참조되는 참조 마크를 당해 주면에 형성하는 광학 유닛 (5) 과, 광학 유닛 (5) 에 있어서 가장 유지 플레이트 (43) 측에 배치되는 투광 부재 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 소정의 기체를 공급하는 기체 공급부 (71) 를 구비한다. 기체 공급부 (71) 에 의해 공급되는 기체가, 투광 부재 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 있어서 개구 (432) 를 횡단하여 흐른다. 이로써, 투광 부재 (541) 의 표면에 불요물이 부착되는 것이 억제된다.

Description

노광 장치{Exposure Apparatus}
본 발명은, 노광 장치에 관한 것이다.
종래, 프린트 기판 등의 기재에 패턴을 노광하는 노광 장치가 이용되고 있다. 노광 장치에서는, 기재에 미리 형성된 참조 마크 (얼라인먼트 마크) 에 기초하여, 기재 상에 있어서 패턴을 노광하는 위치가 결정된다. 또, 일본 공개특허공보 2008-292915호에서는, 기판의 양 주면에 대해 얼라인먼트 마크를 형성하는 마크 형성부와, 얼라인먼트 마크에 기초하여 회로 패턴을 기판에 묘화하는 묘화부를 구비하는 노광 묘화 장치가 개시되어 있다. 당해 장치에서는, 양 주면의 얼라인먼트 마크를 이용하여, 양 주면의 회로 패턴이 정확하게 대응되어 묘화된다.
또한, 일본 특허공보 제5793410호에서는, 투명한 평판체의 일방 주면에 담지된 패턴을 기판에 전사하는 패턴 형성 장치가 개시되어 있다. 당해 장치에서는, 평판체의 타방 주면과 맞닿으면서 평판체를 진공 흡착하여 유지하는 유지 스테이지가 형성된다. 유지 스테이지에는 도광공이 형성되고, 도광공의 내부에는 투명한 창 부재가 형성된다. 촬상부에서는, 평판체와 기판의 위치 맞춤을 위해, 창 부재를 통하여 평판체가 촬상된다. 또, 평판체의 타방 주면, 창 부재의 표면 및 도광공의 측벽면에 의해 둘러싸인 갭 공간 내의 기압을 높일 수 있다. 이로써, 평판체가 갭 공간 내로 휘어 버리는 것이 방지된다.
그런데, 기재를 유지 플레이트 상에 유지하는 노광 장치에 있어서, 기재의 제 1 주면에 패턴을 노광할 때에, 유지 플레이트에 접촉하는 제 2 주면에 참조 마크를 형성하고, 그 후, 기재를 반전시켜, 당해 참조 마크를 참조함으로써, 제 1 주면 상의 패턴의 위치에 맞춰, 제 2 주면 상에 패턴을 노광하는 것이 생각된다. 이 경우, 참조 마크 형성용의 개구가 유지 플레이트에 형성되고, 당해 개구를 통하여 기재에 대향하는 위치에, 광학 유닛인 마크 형성부가 배치된다.
그러나, 이와 같은 노광 장치에서는, 당해 개구 내에 먼지 등의 불요물이 들어가, 마크 형성부에 있어서 가장 유지 플레이트측에 배치되는 투광 부재의 표면에 불요물이 부착될 가능성이 있다. 당해 투광 부재에 불요물이 부착되면, 참조 마크를 적절히 형성할 수 없게 된다. 또, 다른 광학 유닛인 마크 촬상부를 마크 형성부를 대신하여 배치하고, 유지 플레이트측의 주면의 참조 마크를 마크 촬상부에 의해 촬상하면서, 반대측의 주면에 패턴을 노광하는 노광 장치에 있어서도 동일한 문제가 발생한다.
본 발명은, 노광 장치를 위한 것이며, 광학 유닛에 있어서의 투광 부재의 표면에 불요물이 부착되는 것을 억제하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명의 하나의 바람직한 형태에 관련된 노광 장치는, 판상 또는 필름상의 기재에 패턴을 노광하는 노광부와, 상기 기재의 하나의 주면에 접촉하는 유지 플레이트를 갖고, 상기 기재를 유지하는 테이블과, 상기 유지 플레이트에 형성된 개구를 통하여 상기 기재의 상기 주면에 광을 조사함으로써, 상기 노광부에 의한 패턴의 노광에 있어서 참조되는 참조 마크를 상기 주면에 형성하거나, 또는, 상기 기재의 상기 주면에 형성된 참조 마크를 상기 개구를 통하여 촬상하는 광학 유닛과, 상기 광학 유닛에 있어서 가장 상기 유지 플레이트측에 배치되는 투광 부재와 상기 유지 플레이트 사이에 소정의 기체를 공급하는 기체 공급부를 구비하고, 상기 기체 공급부에 의해 공급되는 상기 기체가, 상기 투광 부재와 상기 유지 플레이트 사이에 있어서 상기 개구를 횡단하여 흐른다.
노광 장치에서는, 광학 유닛에 있어서의 투광 부재의 표면에 불요물이 부착되는 것을 억제할 수 있다.
바람직하게는, 상기 투광 부재와 상기 유지 플레이트 사이에 있어서, 상기 유지 플레이트를 따르는 하나의 방향으로 연장됨과 함께, 상기 기체가 흐르는 기체 유로가 형성된다.
바람직하게는, 상기 기체 유로의 유로 면적이, 상기 개구의 면적보다 작다.
바람직하게는, 상기 유지 플레이트가, 부압 공간에 접속된 복수의 흡인구에 의해 상기 기재를 흡착 유지하는 흡착 플레이트이고, 상기 개구를 횡단한 상기 기체가 상기 부압 공간에 유입된다.
바람직하게는, 상기 광학 유닛이, 상기 기재의 상기 주면에 상기 참조 마크를 형성하는 마크 형성부이고, 상기 노광부가, 상기 테이블에 유지되는 상기 기재의 다른 주면에 패턴을 노광할 때에, 상기 광학 유닛이, 상기 주면에 상기 참조 마크를 형성하고, 상기 노광부가, 상기 주면에 패턴을 노광할 때에, 상기 참조 마크가 참조된다.
바람직하게는, 노광 장치는, 상기 광학 유닛과 동일한 구성을 갖고, 상기 유지 플레이트에 형성된 다른 개구를 통하여 기재에 참조 마크를 형성하거나, 또는, 기재의 참조 마크를 촬상하는 다른 광학 유닛을 추가로 구비하고, 하나의 종류의 기재에 대해 상기 광학 유닛이 이용되고, 다른 종류의 기재에 대해 상기 다른 광학 유닛이 이용된다.
본 발명의 다른 바람직한 형태에 관련된 노광 장치는, 판상 또는 필름상의 기재에 패턴을 노광하는 노광부와, 상기 기재의 하나의 주면에 접촉하는 유지 플레이트를 갖고, 상기 기재를 유지하는 테이블과, 상기 유지 플레이트에 형성된 개구를 통하여 상기 기재의 상기 주면에 광을 조사함으로써, 상기 노광부에 의한 패턴의 노광에 있어서 참조되는 참조 마크를 상기 주면에 형성하는 광학 유닛과, 상기 광학 유닛에 있어서 가장 상기 유지 플레이트측에 배치되는 투광 부재와 상기 유지 플레이트 사이에 소정의 기체를 공급함으로써, 상기 개구의 내부를 정압으로 하는 기체 공급부를 구비한다. 노광 장치에서는, 광학 유닛에 있어서의 투광 부재의 표면에 불요물이 부착되는 것을 억제할 수 있다.
상기 서술한 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 실시하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 분명해진다.
도 1 은, 노광 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2 는, 테이블 유닛을 나타내는 평면도이다.
도 3 은, 테이블 유닛의 내부를 나타내는 도면이다.
도 4 는, 테이블 유닛의 단면도이다.
도 5 는, 테이블 유닛의 단면도이다.
도 6 은, 환상 덮개부의 근방을 확대하여 나타내는 도면이다.
도 7 은, 기재에 패턴을 노광하는 동작의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 8 은, 테이블 유닛 상의 기재를 나타내는 도면이다.
도 9 는, 테이블 유닛 상의 기재를 나타내는 도면이다.
도 10 은, 노광 장치의 다른 예에 있어서의 테이블 유닛을 나타내는 도면이다.
도 11 은, 테이블 유닛 상의 기재를 나타내는 도면이다.
도 12 는, 테이블 유닛 상의 기재를 나타내는 도면이다.
도 1 은, 본 발명의 하나의 실시형태에 관련된 노광 장치 (1) 의 구성을 나타내는 도면이다. 도 1 에서는, 서로 직교하는 3 개의 방향을 X 방향, Y 방향 및 Z 방향으로 하여 화살표로 나타내고 있다 (다른 도면에 있어서 동일). 도 1 의 예에서는, X 방향 및 Y 방향은 수평 방향이고, Z 방향은 연직 방향이다. 이하의 설명에서는, Z 방향을「상하 방향」이라고 부르지만, 노광 장치 (1) 의 설계에 따라서는, Z 방향이 연직 방향에 대해 경사진 방향 등이어도 된다.
노광 장치 (1) 는, 기재 (9) 상의 감광 재료에 광을 조사하여, 당해 감광 재료에 배선 등의 패턴을 묘화하는 직접 묘화 장치이다. 기재 (9) 는, 프린트 기판 등이며, 예를 들어 판상이다. 노광 장치 (1) 는, 제어부 (2) 와, 노광부 (3) 와, 테이블 유닛 (4) 과, 테이블 승강 기구 (61) 와, 테이블 이동 기구 (62) 를 구비한다. 제어부 (2) 는, 예를 들어 CPU 등을 갖는 컴퓨터이다. 제어부 (2) 는, 노광부 (3), 테이블 유닛 (4), 테이블 승강 기구 (61) 및 테이블 이동 기구 (62) 를 제어한다. 테이블 유닛 (4) 은, 노광부 (3) 의 하방 ((－Z) 측) 에서 기재 (9) 를 유지한다. 테이블 유닛 (4) 의 상세한 것에 대해서는 후술한다.
노광부 (3) 는, 복수의 묘화 헤드 (31) 와, 복수의 촬상부 (36) 를 구비한다. 복수의 묘화 헤드 (31) 및 복수의 촬상부 (36) 는, 도시 생략된 지지부에 의해 지지되고, 테이블 유닛 (4) 의 상방 ((＋Z) 측) 에 배치된다. 복수의 묘화 헤드 (31) 는, X 방향 (이하,「폭 방향」이라고 한다) 으로 배열된다. 각 묘화 헤드 (31) 는, 광원 (32) 과, 광 변조부 (33) 를 구비한다. 광원 (32) 은, 예를 들어, 반도체 레이저, 고체 레이저 또는 기체 레이저 등을 갖고, 광 변조부 (33) 를 향하여 레이저 광을 출사한다. 광 변조부 (33) 는, 광원 (32) 으로부터의 광을 변조한다. 광 변조부 (33) 에 의해 변조된 광은, 테이블 유닛 (4) 에 유지된 기재 (9) 의 상방을 향하는 주면 (91) (이하,「제 1 주면 (91)」이라고 한다) 에 조사된다. 광 변조부 (33) 로는, 예를 들어, 복수의 광 변조 소자가 이차원으로 배열된 DMD (디지털 미러 디바이스) 등이 이용된다. 광 변조부 (33) 는, 복수의 광 변조 소자가 일차원으로 배열된 변조기 등이어도 된다.
복수의 촬상부 (36) 는, 묘화 헤드 (31) 의 (－Y) 측에 있어서 폭 방향으로 나열된다. 도 1 의 예에서는, 2 개의 촬상부 (36) 가 형성된다. 각 촬상부 (36) 는, 촬상부 이동 기구 (37) 를 개재하여 상기 지지부에 지지된다. 촬상부 이동 기구 (37) 에 의해 촬상부 (36) 는 폭 방향으로 이동 가능하다. 후술하는 노광 동작에서는, 기재 (9) 의 각 측부 (폭 방향의 단부) 에, 얼라인먼트 마크인 참조 마크 (921) (도 9 참조) 가 형성된다. 2 개의 촬상부 (36) 는, 폭 방향에 관해서 기재 (9) 의 양 측부의 참조 마크 (921) 와 동일한 위치에 배치되고, 참조 마크 (921) 가, 촬상부 (36) 에 의해 촬상된다.
테이블 승강 기구 (61) 는, 모터 또는 실린더 등을 갖고, 테이블 유닛 (4) 을 Z 방향 (즉, 상하 방향) 으로 이동시킨다. 테이블 이동 기구 (62) 는, 가이드 레일, 가이드 블록, 모터 (예를 들어 리니어 모터), 리니어 스케일 등을 갖는다. 테이블 이동 기구 (62) 는, 테이블 유닛 (4) 을, 테이블 승강 기구 (61) 와 함께 Y 방향 (이하,「이동 방향」이라고 한다) 으로 이동시킨다. 이로써, 테이블 유닛 (4) 에 유지되는 기재 (9) 의 제 1 주면 (91) 에 있어서, 복수의 묘화 헤드 (31) 로부터의 광의 조사 위치가 이동 방향으로 주사한다. 노광 장치 (1) 에서는, 테이블 이동 기구 (62) 에 의한 테이블 유닛 (4) 의 이동에 동기하여, 각 묘화 헤드 (31) 를 제어함으로써, 기재 (9) 의 제 1 주면 (91) 에 패턴이 묘화 (노광) 된다. 노광 장치 (1) 에서는, 테이블 승강 기구 (61) 가 생략되어도 되고, Z 방향에 평행한 축을 중심으로 하여 테이블 유닛 (4) 을 회전시키는 회전 기구가 형성되어도 된다.
도 2 는, 테이블 유닛 (4) 의 일부를 나타내는 평면도이다. 테이블 유닛 (4) 은, 테이블 (41) 과, 복수의 마크 형성부 (5) 를 구비한다. 테이블 (41) 은, 테이블 본체 (42) 와, 유지 플레이트 (43) 를 구비한다. 테이블 본체 (42) 는, 후술하는 부압 공간 (421) (도 5 참조) 이 내부에 형성된 대략 판상이다. 복수의 마크 형성부 (5) 는, 테이블 본체 (42) 에 유지되어 있고, 유지 플레이트 (43) 에 의해 덮인다. 도 2 의 예에서는, 테이블 본체 (42) 의 (＋Y) 측의 단부에 있어서, 폭 방향 (X 방향) 을 따라 복수의 마크 형성부 (5) 가 배열된다.
구체적으로는, 폭 방향에 있어서의 테이블 (41) 의 중앙으로부터 양측으로 동일한 거리만큼 떨어진 위치에 1 쌍의 마크 형성부 (5) 가 배치되고, 당해 거리와는 상이한 거리만큼 떨어진 위치에 다른 1 쌍의 마크 형성부 (5) 가 배치된다. 도 2 의 테이블 유닛 (4) 에서는, 복수 쌍의 마크 형성부 (5) 가 형성된다. 복수의 마크 형성부 (5) 는, 테이블 본체 (42) 의 (－Y) 측의 단부에 형성되어도 된다. 테이블 본체 (42) 의 내부 구조, 및, 마크 형성부 (5) 의 구성의 상세한 것에 대해서는 후술한다.
유지 플레이트 (43) 는 얇은 판상이며, 예를 들어 알루미늄 등의 금속에 의해 형성된다. 유지 플레이트 (43) 는, 테이블 본체 (42) 의 상측의 면에 재치된다. 유지 플레이트 (43) 에 의해, 테이블 본체 (42) 의 대략 전체가 덮인다. 유지 플레이트 (43) 에는, 복수 (다수) 의 흡인구 (431) 가 전체에 걸쳐 고르게 형성된다. 복수의 흡인구 (431) 는, 부압 공간 (421) 에 접속된다. 기재 (9) 의 제 1 주면 (91) 에 패턴을 노광할 때에는, 기재 (9) 의 제 1 주면 (91) 과는 반대측의 제 2 주면 (92) (도 1 참조) 이 유지 플레이트 (43) 에 접촉한다. 제 2 주면 (92) 은, 복수의 흡인구 (431) 에 의해 흡인된다. 이와 같이, 유지 플레이트 (43) 는, 복수의 흡인구 (431) 에 의해 기재 (9) 를 흡착 유지하는 흡착 플레이트이다.
도 3 은, 도 2 중의 파선으로 둘러싸는 영역 (A1) 을 확대하여 나타내는 도면이며, 유지 플레이트 (43) 를 제거하여 테이블 유닛 (4) 의 내부를 나타내고 있다. 도 4 는, 도 3 중의 IV-IV 의 위치에 있어서의 테이블 유닛 (4) 의 단면도이고, 도 5 는, 도 3 중의 V-V 의 위치에 있어서의 테이블 유닛 (4) 의 단면도이다.
도 3 에 나타내는 테이블 본체 (42) 에는, 부압 공간 (421) 이 형성된다. 부압 공간 (421) 은, 테이블 본체 (42) 의 상측 (＋Z 측) 의 면에 있어서 하방을 향하여 움패이는 오목부이다. 부압 공간 (421) 은, 펌프 등을 갖는 감압 기구에 접속되어 있고, 부압 공간 (421) 이 감압된다. 이로써, 유지 플레이트 (43) 상에 재치되는 기재 (9) 가 복수의 흡인구 (431) 를 통하여 흡인되어 유지된다. 일례에서는, 테이블 본체 (42) 에는, 서로 독립된 복수의 부압 공간 (421) 이 형성되어 있고, 유지 플레이트 (43) 상에 재치되는 기재 (9) 의 사이즈에 따라, 실제로 감압되는 부압 공간 (421) 이 선택된다. 또, 테이블 본체 (42) 에는, 상하 방향으로 관통되는 복수의 유지공 (422) 이 형성된다. 각 마크 형성부 (5) 는, 대략 원기둥상이며, 유지공 (422) 에 삽입되어 테이블 본체 (42) 에 고정된다. 도 3 의 예에서는, 부압 공간 (421) 의 바닥면으로부터 돌출되는 복수의 돌출부 (423) 가 형성되어 있고, 돌출부 (423) 에 의해 마크 형성부 (5) 의 상부가 지지된다.
복수의 마크 형성부 (5) 는, 참조 마크 (921) 형성용의 광학 유닛이며, 서로 동일한 구성을 갖는다. 도 4 및 도 5 에 나타내는 바와 같이, 각 마크 형성부 (5) 는, 광원 (51) 과, 조명 광학계 (52) 와, 마스크 (53) 와, 투영 광학계 (54) 와, 경통 (55) 을 구비한다. 경통 (55) 은, 바닥이 있는 대략 원통상이며, 광원 (51), 조명 광학계 (52), 마스크 (53) 및 투영 광학계 (54) 를 수용한다. 경통 (55) 의 바닥부 (551) 에는, 광원 (51) 이 장착된다. 경통 (55) 의 내부에서는, 바닥부 (551) 로부터 유지 플레이트 (43) 측을 향하여 순서대로, 광원 (51), 조명 광학계 (52), 마스크 (53) 및 투영 광학계 (54) 가 광축 (J1) 을 따라 배치된다. 광원 (51) 은, 예를 들어 반도체 레이저이며, 레이저 광을 출사한다. 광원 (51) 은, 반도체 레이저 이외의 LED 등이어도 된다. 광원 (51) 이 출사하는 광의 파장대는, 예를 들어 묘화 헤드 (31) 의 광원 (32) 이 출사하는 광의 파장대와 거의 동일하고, 본 실시형태에서는, 광원 (51) 및 광원 (32) 이 출사하는 광은 자외선이다. 조명 광학계 (52) 는, 광원 (51) 으로부터의 광을 마스크 (53) 에 조사한다.
마스크 (53) 에는, 당해 광을 차폐하는 재료로 소정의 패턴이 형성된다. 투영 광학계 (54) 는, 마스크 (53) 를 통과한 광을 광축 (J1) 을 따라 유지 플레이트 (43) 측으로 유도한다. 유지 플레이트 (43) 에 있어서, 광축 (J1) 과 교차하는 위치에는, 개구 (432) (이하,「플레이트 개구 (432)」라고 한다) 가 형성된다. 마스크 (53) 로부터의 광은, 플레이트 개구 (432) 를 통하여 기재 (9) 의 제 2 주면 (92) 에 조사된다. 실제로는, 투영 광학계 (54) 에 의해 마스크 (53) 의 이미지가 제 2 주면 (92) 에 형성된다. 도 4 및 도 5 에서는, 이점 쇄선으로 기재 (9) 를 나타내고 있다.
본 실시형태에서는, 경통 (55) 은, 복수의 부분으로 분리 가능하며, 가장 유지 플레이트 (43) 측의 부분은, 광축 (J1) 을 중심으로 하는 대략 원환상의 환상 덮개부 (56) 이다. 도 6 은, 도 4 중의 환상 덮개부 (56) 의 근방을 확대하여 나타내는 도면이다.
환상 덮개부 (56) 는, 덮개부 본체 (57) 와, 중앙 환상부 (58) 를 구비한다. 덮개부 본체 (57) 는, 광축 (J1) 을 중심으로 하는 대략 원환상이다. 덮개부 본체 (57) 에서는, 상측의 부위의 내경이, 하측의 부위보다 크게 되어 있다. 즉, 덮개부 본체 (57) 에는, 상측에 위치하는 대경공부 (571) 와, 하측에 위치하는 소경공부 (572) 가 형성되고, 대경공부 (571) 의 직경이 소경공부 (572) 보다 크다.
도 3 및 도 5 에 나타내는 바와 같이, 덮개부 본체 (57) 의 상면에 있어서 대경공부 (571) 의 주위에는, 상방으로 돌출되는 2 개의 원호상 돌기부 (573) 가 형성된다. 2 개의 원호상 돌기부 (573) 는, 광축 (J1) 을 중심으로 함과 함께 동일한 반경의 원호상이고, 원호의 각도는 180 도보다 작다. X 방향에 수직이고 또한 광축 (J1) 을 포함하는 면에 대해, 2 개의 원호상 돌기부 (573) 는 대칭이다. 2 개의 원호상 돌기부 (573) 의 상단은, 유지 플레이트 (43) 의 하면에 접촉한다. 도 3 에 나타내는 바와 같이, 2 개의 원호상 돌기부 (573) 에 있어서의 (＋Y) 측의 2 개의 단부 사이, 및, (－Y) 측의 2 개의 단부 사이의 각각에는, 간극 (574) 이 형성된다. 또, 덮개부 본체 (57) 의 상면에 있어서, 2 개의 원호상 돌기부 (573) 의 주위에 있어서의 원환상의 영역은, 도 5 에 나타내는 바와 같이, 유지 플레이트 (43) 의 하면으로부터 약간 떨어진다. 당해 원환상의 영역과 유지 플레이트 (43) 의 하면 사이의 공간은, 부압 공간 (421) 에 직접적으로 접속한다.
도 6 에 나타내는 투영 광학계 (54) 에 있어서, 가장 유지 플레이트 (43) 측에 배치되는 렌즈 (541) (이하,「최외 렌즈 (541)」라고 한다) 는, 대경공부 (571) 내에 배치된다. 최외 렌즈 (541) 는, 마크 형성부 (5) 에 있어서 가장 유지 플레이트 (43) 측에 배치되는 투광 부재이다. 최외 렌즈 (541) 의 하면에 있어서의 외주부는, 소경공부 (572) 의 상단의 가장자리에 접촉한다.
중앙 환상부 (58) 는, 광축 (J1) 을 중심으로 하는 대략 원환상이며, 대경공부 (571) 내에 삽입된다. 중앙 환상부 (58) 에서는, 상측의 부위의 내경이, 하측의 부위보다 작게 되어 있다. 즉, 중앙 환상부 (58) 에는, 상측에 위치하는 소경공부 (581) 와, 하측에 위치하는 대경공부 (582) 가 형성되고, 소경공부 (581) 의 직경이 대경공부 (582) 보다 작다. 상하 방향에 있어서, 소경공부 (581) 는, 유지 플레이트 (43) 의 플레이트 개구 (432) 와 대향한다. 최외 렌즈 (541) 의 상면에 있어서의 외주부는, 중앙 환상부 (58) 에 있어서, 소경공부 (581) 의 하단으로부터 대경공부 (582) 의 상단으로 직경 방향 (광축 (J1) 을 중심으로 하는 직경 방향) 바깥쪽으로 넓어지는 대략 원환상의 면에 접촉한다. 이로써, 최외 렌즈 (541) 가, 상하 방향에 있어서 덮개부 본체 (57) 와 중앙 환상부 (58) 에 의해 협지된다.
도 3 에 나타내는 바와 같이, 중앙 환상부 (58) 의 상면에는, Y 방향의 전체에 걸쳐 연장되는 홈부 (583) 가 형성된다. 홈부 (583) 의 일부는, 소경공부 (581) 와 겹친다. 예를 들어, 상하 방향에 있어서, 홈부 (583) 의 깊이는, 소경공부 (581) 의 깊이보다 작다. 또, X 방향에 있어서의 홈부 (583) 의 폭은, 소경공부 (581) 의 직경보다 작다. 길이 방향에 있어서의 홈부 (583) 의 양단은, 2 개의 원호상 돌기부 (573) 사이에 형성된 2 개의 간극 (574) 에 각각 접속한다. X 방향에 있어서의 간극 (574) 의 폭은, 홈부 (583) 의 폭보다 큰 것이 바람직하다.
중앙 환상부 (58) 의 상면에 있어서, 홈부 (583) 및 소경공부 (581) 를 제외한 영역은, 유지 플레이트 (43) 의 하면에 근접한다. 환언하면, 플레이트 개구 (432) 에 대향하는 위치를 제외하고, 홈부 (583) 의 상방이, 유지 플레이트 (43) 에 의해 대략 폐색된다. 후술하는 바와 같이, 홈부 (583) 에는 소정의 기체가 공급되고, 당해 기체가 홈부 (583) 를 따라 흐른다. 이와 같이, 중앙 환상부 (58) 의 홈부 (583) 에 의해 획정되는 기체 유로가, 최외 렌즈 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 형성된다. 본 실시형태에서는, 당해 기체 유로의 유로 면적(홈부 (583) 의 길이 방향에 수직인 단면적) 은, 플레이트 개구 (432) 의 개구 면적보다 작다. 또한, 중앙 환상부 (58) 의 상면에 있어서, 기체 유로는 Y 방향 이외의 방향으로 연장되어 있어도 된다.
도 3 에 나타내는 바와 같이, 홈부 (583) 의 바닥면에는, 상하 방향으로 연장되는 연락공 (584) 이 형성된다. 도 6 에 나타내는 바와 같이, 최외 렌즈 (541) 의 외주와 대경공부 (582) 의 내주면 사이에는 환상 공간 (585) 이 형성되어 있고, 연락공 (584) 은 환상 공간 (585) 에 접속한다. 또, 덮개부 본체 (57) 의 외주면에는, 광축 (J1) 을 향하여 수평 방향으로 연장되는 연락공 (576) 이 형성된다. 연락공 (576) 은, 소경공부 (572) 의 내주면에 접속한다. 덮개부 본체 (57) 에 있어서, 대경공부 (571) 의 하단으로부터 소경공부 (572) 의 상단으로 직경 방향 안쪽으로 넓어지는 대략 원환상의 면에는, 하방을 향하여 연장되는 연락공 (577) 이 형성된다. 연락공 (577) 의 양단은, 환상 공간 (585) 및 연락공 (576) 에 접속한다. 경통 (55) 에는, 연락공 (576) 에 접속하는 연락공 (552) 이 형성된다. 도 4 에 나타내는 바와 같이, 테이블 본체 (42) 에는, 연락공 (552) 에 접속하는 연락공 (424) 이 형성된다.
노광 장치 (1) 는, 기체 공급부 (71) 를 추가로 구비한다. 기체 공급부 (71) 는, 펌프 등을 갖고, 소정의 청정한 기체 (이하,「청정 기체」라고 한다) 를, 테이블 본체 (42) 의 연락공 (424) 에 공급한다. 청정 기체는, 예를 들어, 필터 등을 통과시킨 청정한 공기이다. 청정 기체는, 불요물을 포함하지 않는 공기 이외의 기체여도 된다. 본 실시형태에서는, 기체 공급부 (71) 는, 일정한 유량으로 청정 기체를 연락공 (424) 에 공급한다. 청정 기체의 유량은, 필요에 따라 변동시켜도 된다. 연락공 (424) 에 공급된 청정 기체는, 도 6 의 연락공 (552, 576, 577) 을 통하여 환상 공간 (585) 에 충전되고, 또한, 연락공 (584) 을 통하여 홈부 (583) 에 공급된다. 청정 기체는, 연락공 (584) 으로부터 홈부 (583) 의 양단을 향하여 홈부 (583) 를 따라 흐른다.
유지 플레이트 (43) 가 기재 (9) 를 유지하고 있지 않은 경우, 홈부 (583) 내에 있어서 연락공 (584) 으로부터 광축 (J1) 을 향하여 흐르는 청정 기체의 일부는, 유지 플레이트 (43) 의 플레이트 개구 (432) 로부터 외부로 배출 (분출) 된다. 환언하면, 플레이트 개구 (432) 의 내부가, 대기압보다 높은 정압이 된다. 이로써, 유지 플레이트 (43) 의 상면측으로부터 플레이트 개구 (432) 내에 불요물이 들어가는 것이 방지 또는 억제된다. 당해 청정 기체의 나머지는, 중앙 환상부 (58) 의 소경공부 (581) 와 플레이트 개구 (432) 사이를 통과한다, 즉, 유지 플레이트 (43) 의 하면측에 있어서 플레이트 개구 (432) 를 횡단한다. 따라서, 플레이트 개구 (432) 내에 불요물이 들어갔다고 해도, 플레이트 개구 (432) 를 횡단하는 청정 기체와 함께, 당해 불요물이 홈부 (583) 를 따라 흐르게 된다.
플레이트 개구 (432) 를 횡단한 청정 기체는, 원호상 돌기부 (573) 사이의 일방의 간극 (574) 을 통하여, 덮개부 본체 (57) 의 상면과 유지 플레이트 (43) 사이의 공간에 이르고, 부압 공간 (421) 에 배출된다. 또, 홈부 (583) 내에 있어서 연락공 (584) 으로부터 광축 (J1) 과는 반대측을 향하여 흐르는 청정 기체는, 원호상 돌기부 (573) 사이의 타방의 간극 (574), 및, 덮개부 본체 (57) 와 유지 플레이트 (43) 사이의 공간을 통과하여, 부압 공간 (421) 에 배출된다.
유지 플레이트 (43) 가 기재 (9) 를 유지하고 있는 경우에는, 기재 (9) 에 의해 플레이트 개구 (432) 가 폐색되기 때문에, 홈부 (583) 내에 있어서 연락공 (584) 으로부터 광축 (J1) 을 향하여 흐르는 청정 기체의 거의 전부가, 플레이트 개구 (432) 를 횡단한다. 당해 청정 기체는, 원호상 돌기부 (573) 사이의 일방의 간극 (574), 및, 덮개부 본체 (57) 의 상면을 통과하여, 부압 공간 (421) 에 배출된다. 이와 같이, 청정 기체의 배출 경로가 형성됨으로써, 플레이트 개구 (432) 의 내부가 과도하게 높은 압력이 되는 것이 방지되고, 유지 플레이트 (43) 상의 기재 (9) 가 들어올려지는 것이 방지 또는 억제된다. 환언하면, 테이블 (41) 에서는, 마크 형성부 (5) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 공급되는 청정 기체의 압력을 빼내는 구조를 형성함으로써, 패턴의 노광에 있어서 기재 (9) 의 평면도가 저하되는 것이 방지 또는 억제된다. 홈부 (583) 내에 있어서 연락공 (584) 으로부터 광축 (J1) 과는 반대측을 향하여 흐르는 청정 기체는, 유지 플레이트 (43) 가 기재 (9) 를 유지하고 있지 않은 경우와 동일하다.
실제로는, 플레이트 개구 (432) 의 개구 면적에 대해, 기체 유로인 홈부 (583) 의 단면적이 과도하게 작은 경우, 기재 (9) 가 들어올려지기 쉬워진다. 또, 플레이트 개구 (432) 의 개구 면적에 대해, 홈부 (583) 의 단면적이 과도하게 큰 경우, 플레이트 개구 (432) 의 내부의 압력이 낮아져, 불요물이 플레이트 개구 (432) 에 들어가기 쉬워지거나, 또는, 플레이트 개구 (432) 의 내부를 소정의 정압으로 하기 위해, 대량의 청정 기체를 공급할 필요가 발생한다. 따라서, 플레이트 개구 (432) 의 개구 면적과 홈부 (583) 의 단면적의 비는, 상기를 고려하여 결정되는 것이 바람직하다. 일례에서는, 상기비는 1 : 0.8 이다.
도 7 은, 노광 장치 (1) 가 기재 (9) 에 패턴을 노광하는 동작의 흐름을 나타내는 도면이다. 도 1 의 노광 장치 (1) 가 기재 (9) 에 패턴을 노광할 때에는, 먼저, 노광부 (3) 보다 (－Y) 측의 위치 (이하,「이재 (移載) 위치」라고 한다) 에 배치된 테이블 (41) 상에, 외부의 반송 기구에 의해 기재 (9) 가 재치되어 유지된다 (스텝 S11). 이 때, 도 2 에 나타내는 유지 플레이트 (43) 상에 형성된 붙임판 (49) 등을 이용하여, 유지 플레이트 (43) 에 대한 기재 (9) 의 위치가 어느 정도 조정된다. 여기서는, 기재 (9) 의 제 2 주면 (92) 이 유지 플레이트 (43) 에 접촉하고, 제 1 주면 (91) 이 노광부 (3) 에 대향하는 것으로 한다. 또한, 기재 (9) 에서는, 제 1 주면 (91) 및 제 2 주면 (92) 의 쌍방에 감광 재료가 형성되어 있다.
계속해서, 도 1 의 테이블 이동 기구 (62) 에 의해, 테이블 (41) 의 이동 방향으로의 연속적인 이동이 개시된다. 또, 테이블 (41) 의 이동에 동기하여 복수의 묘화 헤드 (31) 가 제어되고, 기재 (9) 의 제 1 주면 (91) 을 향하여 변조된 광이 출사된다. 이로써, 도 8 에 나타내는 바와 같이, 기재 (9) 의 제 1 주면 (91) 에 패턴 (911) 이 노광된다 (스텝 S12). 도 8 에서는, 도시의 편의상, 패턴 (911) 및 후술하는 참조 마크 (921) 등을 모식적으로 나타내고 있다 (후술하는 도 9, 도 11 및 도 12 에 있어서 동일).
제 1 주면 (91) 의 대략 전체에 대해 패턴 (911) 이 노광되면, 테이블 (41) 의 이동 방향으로의 이동이 정지된다. 또한, 노광 장치 (1) 에서는, 복수의 묘화 헤드 (31) 또는 테이블 (41) 을 폭 방향으로 이동시키는 기구가 형성되고, 테이블 (41) 의 이동 방향으로의 이동 (주주사) 이 완료될 때마다, 복수의 묘화 헤드 (31) 또는 테이블 (41) 을 폭 방향으로 간헐적으로 이동 (부주사) 시킴으로써, 제 1 주면 (91) 에 대한 패턴 (911) 의 노광이 실시되어도 된다.
또, 도 2 에 나타내는 복수 쌍의 마크 형성부 (5) 중, 기재 (9) 의 양 측부 (폭 방향의 양 단부) 에 대향하는 1 쌍의 마크 형성부 (5) 가 선택된다. 그리고, 당해 1 쌍의 마크 형성부 (5) 의 각각에 있어서, 광원 (51) (도 4 참조) 으로부터 레이저 광을 출사함으로써, 제 2 주면 (92) 의 플레이트 개구 (432) 에 대향하는 위치에 마스크 (53) 의 이미지가 형성된다. 이로써, 도 8 에 나타내는 바와 같이, 제 2 주면 (92) 에 1 쌍의 참조 마크 (921) 가 형성된다 (스텝 S13).
노광 장치 (1) 에서는, 노광부 (3) 및 각 마크 형성부 (5) 의 위치가 미리 교정되어 있고, 테이블 (41) 상의 기재 (9) 에 있어서, 제 1 주면 (91) 상의 패턴 (911) 과 제 2 주면 (92) 상의 참조 마크 (921) 사이의 상대적인 위치 (X 방향 및 Y 방향의 위치) 가 미리 설정된 위치가 된다. 제 2 주면 (92) 에 대한 참조 마크 (921) 의 형성은, 제 1 주면 (91) 에 대한 패턴 (911) 의 노광에 병행하여 실시되는 것이 바람직하다. 패턴 (911) 의 노광과 참조 마크 (921) 의 형성 사이에 있어서, 테이블 (41) 상의 기재 (9) 의 위치를 이동시키지 않는 경우에는, 참조 마크 (921) 의 형성이, 패턴 (911) 의 노광 전 또는 후에 실시되어도 된다.
제 1 주면 (91) 에 대한 패턴 (911) 의 노광, 및, 제 2 주면 (92) 에 대한 참조 마크 (921) 의 형성이 완료되면, 테이블 (41) 이 이재 위치에 배치되고, 외부의 반송 기구에 의해 기재 (9) 가 테이블 (41) 로부터 취출된다. 당해 기재 (9) 는 당해 반송 기구에 의해 반전된 후, 테이블 (41) 상에 재치되어 유지된다 (스텝 S14). 이로써, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 제 1 주면 (91) 이 유지 플레이트 (43) 에 접촉하고, 제 2 주면 (92) 이 노광부 (3) 에 대향한다.
계속해서, 테이블 이동 기구 (62) 에 의해 테이블 (41) 이 이동 방향으로 이동하고, 1 쌍의 참조 마크 (921) 가 2 개의 촬상부 (36) 의 하방에 배치된다. 도 9 에서는, 이점 쇄선으로 촬상부 (36) 를 나타내고 있다. 2 개의 촬상부 (36) 는, 스텝 S13 에 있어서 이용된 1 쌍의 마크 형성부 (5) 와 폭 방향이 동일한 위치에 배치되어 있고, 각 촬상부 (36) 에 의해 제 2 주면 (92) 의 참조 마크 (921) 가 촬상된다 (스텝 S15). 제어부 (2) 에서는, 2 개의 촬상부 (36) 의 촬상 화상에 기초하여, 테이블 (41) 에 대한 1 쌍의 참조 마크 (921) 의 위치 및 기울기가 취득된다. 이로써, 테이블 (41) 에 대한 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 의 위치 및 기울기가 취득된다. 또한, 촬상부 (36) 에 의한 촬상 화상에 있어서, 제 2 주면 (92) 의 감광 재료에 형성된 참조 마크 (921) 가 확인 불능인 경우 등에는, 스텝 S14 에 있어서, 참조 마크 (921) 의 현상 등이 실시되어도 된다. 또, 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 의 위치의 취득에 요구되는 정밀도에 따라서는, 1 개의 참조 마크 (921) 만이 이용되어도 된다.
그 후, 테이블 (41) 을 이동 방향으로 연속적으로 이동시키면서, 복수의 묘화 헤드 (31) 가 제어되고, 기재 (9) 의 제 2 주면 (92) 에 패턴이 노광된다 (스텝 S16). 이 때, 당해 패턴의 노광에 이용되는 묘화 데이터가, 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 의 위치 및 기울기에 맞춰 보정된다. 이로써, 제 2 주면 (92) 의 패턴의 위치 및 기울기가, 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 에 대해 정확하게 맞춰진다. 제 2 주면 (92) 에 대한 패턴의 노광이 완료되면, 테이블 (41) 이 이재 위치에 배치되고, 외부의 반송 기구에 의해 기재 (9) 가 테이블 (41) 로부터 취출된다 (스텝 S17). 이상의 동작에 의해, 노광 장치 (1) 에 의한 패턴의 노광 동작이 완료된다.
노광 장치 (1) 에 있어서, 상기의 기재 (9) 와는 폭 방향에 있어서의 폭이 상이한 다른 기재 (9) 에 패턴을 노광하는 경우에는, 스텝 S13 에 있어서, 다른 1 쌍의 마크 형성부 (5) 가 참조 마크 (921) 의 형성에 이용된다. 당해 다른 1 쌍의 마크 형성부 (5) 는, 테이블 (41) 상의 당해 다른 기재 (9) 의 양 측부에 대향한다. 그리고, 스텝 S15 에서는, 당해 다른 1 쌍의 마크 형성부 (5) 와 폭 방향이 동일한 위치에 배치된 2 개의 촬상부 (36) 에 의해, 제 2 주면 (92) 상의 참조 마크 (921) 가 촬상되고, 제 2 주면 (92) 에 대한 패턴의 노광에 있어서, 제 1 주면 (91) 상의 패턴 (911) 과의 위치 맞춤 (얼라인먼트) 이 실시된다. 이와 같이, 하나의 종류의 기재 (9) 에 대해 하나의 마크 형성부 (5) 를 이용하고, 다른 종류의 기재 (9) 에 대해 다른 마크 형성부 (5) 를 이용함으로써, 노광 장치 (1) 에서는, 여러 가지 종류의 기재 (9) 에 대해 패턴을 노광하는 것이 가능하다.
이상으로 설명한 바와 같이, 노광 장치 (1) 에서는, 유지 플레이트 (43) 에 형성된 플레이트 개구 (432) 를 통하여 기재 (9) 의 주면에 광을 조사함으로써, 참조 마크 (921) 를 당해 주면에 형성하는 마크 형성부 (5) 가 형성된다. 노광 장치 (1) 에 있어서의 노광 동작에서는, 노광부 (3) 가, 테이블 (41) 에 유지되는 기재 (9) 의 제 1 주면 (91) 에 패턴을 노광할 때에, 마크 형성부 (5) 에 의해, 제 2 주면 (92) 에 참조 마크 (921) 가 형성된다. 또, 노광부 (3) 가, 제 2 주면 (92) 에 패턴을 노광할 때에, 당해 참조 마크 (921) 가 참조된다. 이로써, 제 2 주면 (92) 의 패턴의 위치 및 기울기를, 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 에 대해 정확하게 맞추는 것이 가능해진다. 또, 참조 마크 (921) 를 효율적으로 형성하는 것도 실현된다.
또, 기체 공급부 (71) 에 의해, 최외 렌즈 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 청정 기체가 공급되고, 청정 기체가, 최외 렌즈 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 있어서 플레이트 개구 (432) 를 횡단하여 흐른다. 이로써, 마크 형성부 (5) 에 있어서의 최외 렌즈 (541) 의 표면에 불요물이 부착되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 플레이트 개구 (432) 의 내부가 정압이 됨으로써, 플레이트 개구 (432) 내에 불요물이 들어가기 어려워져, 최외 렌즈 (541) 의 표면에 불요물이 부착되는 것을 더욱 억제할 수 있다. 유지 플레이트 (43) 상에 기재 (9) 가 유지되어 있는 경우에, 청정 기체가 플레이트 개구 (432) 를 횡단하여 흐른다, 즉, 당해 청정 기체가 최외 렌즈 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이로부터 배출됨으로써, 플레이트 개구 (432) 내가 과도하게 높은 압력이 되는 것이 방지된다. 그 결과, 기재 (9) 가 들어올려져, 기재 (9) 의 평면도가 저하되는 것이 방지 또는 억제되고, 패턴의 노광을 적절히 실시하는 것이 가능해진다.
노광 장치 (1) 에서는, 최외 렌즈 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 있어서, 유지 플레이트 (43) 를 따르는 하나의 방향으로 연장되는 기체 유로 (홈부 (583)) 가 형성되고, 청정 기체가 당해 기체 유로를 흐른다. 이와 같이, 청정 기체가 전용의 기체 유로를 흐름으로써, 기체 유로를 형성하지 않는 경우에 비해, 플레이트 개구 (432) 를 횡단하는 청정 기체의 유속을 용이하게 크게 할 수 있다. 그 결과, 최외 렌즈 (541) 에 대한 불요물의 부착을 보다 확실하게 억제할 수 있다.
또, 당해 기체 유로의 유로 면적이, 플레이트 개구 (432) 의 면적보다 작음으로써, 플레이트 개구 (432) 로부터 어느 정도의 양의 청정 기체를 분출시켜, 플레이트 개구 (432) 내에 불요물이 들어가는 것을 더욱 억제할 수 있다. 플레이트 개구 (432) 를 횡단한 청정 기체가, 테이블 본체 (42) 의 부압 공간 (421) 에 유입됨으로써, 청정 기체를 적절히 배출할 수 있다.
도 10 은, 노광 장치의 다른 예를 나타내는 도면이며, 테이블 유닛 (4a) 을 나타내고 있다. 도 10 의 테이블 유닛 (4a) 에서는, 마크 형성부 (5) 를 대신하여 마크 촬상부 (5a) 가 형성되는 점에서, 도 2 의 테이블 유닛 (4) 과 상이하다. 테이블 유닛 (4a) 을 갖는 노광 장치 (1) 의 다른 구성은, 도 1 과 동일하며, 동일한 구성에 동일한 부호를 부여한다.
마크 촬상부 (5a) 는, 참조 마크 (921) 촬상용의 광학 유닛이며, 도 4 의 마크 형성부 (5) 에 있어서의 광원 (51) 이 촬상 소자로 치환된다. 또, 마스크 (53) 및 조명 광학계 (52) 가 생략되고, 투영 광학계 (54) 에 의해, 기재 (9) 의 주면에 있어서 플레이트 개구 (432) 에 대향하는 영역의 이미지가, 촬상 소자의 촬상면 상에 형성된다. 투영 광학계 (54) 의 최외 렌즈 (541) 의 주위의 구조, 즉, 환상 덮개부 (56) 의 구조는 도 6 과 동일하다. 또한, 마크 촬상부 (5a) 에 있어서, 조명용의 광원 (기재 (9) 의 감광 재료를 감광시키지 않는 파장대의 광원) 이 필요에 따라 형성되어도 된다.
테이블 유닛 (4a) 을 갖는 노광 장치 (1) 에 있어서의 노광 동작의 일례에서는, 노광부 (3) 에 의해, 도 11 에 나타내는 바와 같이, 기재 (9) 의 제 1 주면 (91) 에 패턴 (911) 이 노광된다. 또, 노광부 (3) 에 의해, 제 1 주면 (91) 에 복수 (도 11 에서는 2 개) 의 참조 마크 (921) 가 형성된다. 계속해서, 기재 (9) 가 반전되고, 제 1 주면 (91) 이 유지 플레이트 (43) 에 접촉한다. 이 때, 도 12 에 나타내는 바와 같이, 각 참조 마크 (921) 가 플레이트 개구 (432) 에 대향하는 위치에 배치되고, 마크 촬상부 (5a) 에 의해 참조 마크 (921) 가 촬상된다. 또한, 테이블 유닛 (4a) 에서는, 테이블 유닛 (4) 에 비해 플레이트 개구 (432) 가 크게 되어, 기재 (9) 에 있어서, 마크 촬상부 (5a) 에 의한 넓은 촬상 영역이 확보되는 것이 바람직하다.
제어부 (2) 에서는, 복수의 마크 촬상부 (5a) 의 촬상 화상에 기초하여, 테이블 (41) 에 대한 복수의 참조 마크 (921) 의 위치 및 기울기가 취득된다. 이로써, 테이블 (41) 에 대한 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 의 위치 및 기울기가 취득된다. 그 후, 기재 (9) 의 제 2 주면 (92) 에 패턴이 노광된다. 이 때, 당해 패턴의 노광에 이용되는 묘화 데이터가, 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 의 위치 및 기울기에 맞춰 보정된다. 이로써, 제 2 주면 (92) 의 패턴의 위치 및 기울기가, 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 에 대해 정확하게 맞춰진다.
이상으로 설명한 바와 같이, 노광 장치 (1) 에서는, 기재 (9) 의 주면에 형성된 참조 마크 (921) 를 플레이트 개구 (432) 를 통하여 촬상하는 마크 촬상부 (5a) 가 형성된다. 노광 장치 (1) 에 있어서의 노광 동작에서는, 노광부 (3) 가, 테이블 (41) 에 유지되는 기재 (9) 의 제 1 주면 (91) 에 패턴을 노광할 때에, 참조 마크 (921) 도 제 1 주면 (91) 에 형성된다. 또, 노광부 (3) 가, 제 2 주면 (92) 에 패턴을 노광할 때에, 마크 촬상부 (5a) 에 의해 당해 참조 마크 (921) 가 촬상되어, 당해 패턴의 노광에 있어서 참조된다. 이로써, 제 2 주면 (92) 의 패턴의 위치 및 기울기를, 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 에 대해 정확하게 맞추는 것이 가능해진다.
또, 테이블 유닛 (4a) 에 있어서도, 기체 공급부 (71) 에 의해, 최외 렌즈 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 청정 기체가 공급되고, 청정 기체가, 최외 렌즈 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 있어서 플레이트 개구 (432) 를 횡단하여 흐른다. 이로써, 마크 촬상부 (5a) 에 있어서의 최외 렌즈 (541) 의 표면에 불요물이 부착되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 플레이트 개구 (432) 의 내부가 정압이 됨으로써, 플레이트 개구 (432) 내에 불요물이 들어가기 어려워져, 최외 렌즈 (541) 의 표면에 불요물이 부착되는 것을 더욱 억제할 수 있다.
상기 노광 장치 (1) 에서는 여러 가지 변형이 가능하다.
광학 유닛인 마크 형성부 (5) 및 마크 촬상부 (5a) 에서는, 최외 렌즈 (541) 와 유지 플레이트 (43) 사이에 투광판 등의 다른 투광 부재가 형성되어도 된다. 이 경우, 불요물이 당해 투광 부재의 표면에 부착되는 것을 억제하기 때문에, 당해 투광 부재와 유지 플레이트 (43) 사이에 청정 기체가 공급된다. 이상과 같이, 노광 장치 (1) 에서는, 광학 유닛에 있어서 가장 유지 플레이트 (43) 측에 배치되는 투광 부재와 유지 플레이트 (43) 사이에 기체 공급부 (71) 에 의해 청정 기체가 공급되고, 청정 기체가 당해 투광 부재와 유지 플레이트 (43) 사이에 있어서 플레이트 개구 (432) 를 횡단하여 흐르는 것, 또는/및, 청정 기체에 의해 플레이트 개구 (432) 의 내부가 정압이 되는 것이 중요하다.
도 3 의 환상 덮개부 (56) 에서는, 기체 유로를 형성하는 홈부 (583) 를 생략하는 것도 가능하다. 이 경우에도, 연락공 (584) 으로부터 중앙 환상부 (58) 의 상면에 공급되는 청정 기체가, 당해 상면을 따라 주위로 퍼지기 때문에, 플레이트 개구 (432) 를 횡단하도록 청정 기체를 흐르게 함과 함께, 플레이트 개구 (432) 의 내부를 정압으로 하는 것이 가능해진다.
테이블 (41) 이, 흡인 이외의 방식 (예를 들어, 기계적인 척) 에 의해 기재 (9) 를 유지하는 경우 등에는, 플레이트 개구 (432) 를 횡단한 청정 기체가 유입되는, 전용의 배출 유로가 테이블 본체 (42) 등에 형성되어도 된다.
상기 노광 장치 (1) 에서는, 기재 (9) 를 사이에 두고 노광부 (3) 에 대향하는, 노광용의 테이블 (41) 에 광학 유닛이 형성되지만, 예를 들어, 참조 마크 (921) 형성용, 또는, 참조 마크 (921) 촬상용의 다른 테이블에 광학 유닛이 형성되어도 된다. 이 경우, 기재 (9) 가 당해 다른 테이블의 유지 플레이트 상에 유지된 상태에서, 당해 유지 플레이트의 플레이트 개구를 통하여, 광학 유닛에 의해 기재 (9) 의 주면에 광이 조사되거나, 또는, 당해 주면이 촬상된다.
상기 마크 형성부 (5) 에서는, 감광 재료가 형성된 제 2 주면 (92) 에 대해 광을 조사함으로써 참조 마크 (921) 이 형성되지만, 마크 형성부 (5) 로부터 고강도의 레이저 광이 출사되고, 감광 재료가 형성되어 있지 않은 제 2 주면 (92) 을 부분적으로 깎아냄으로써 참조 마크 (921) 가 형성되어도 된다.
마크 촬상부 (5a) 에 의해 촬상되는 참조 마크 (921) 는, 다른 장치에 있어서 형성된 것이어도 된다. 이 경우, 예를 들어, 제 1 주면 (91) 에 패턴을 노광할 때에, 제 1 주면 (91) 을 촬상하는 촬상부 (36) 에 의해 당해 참조 마크 (921) 가 촬상되고, 제 2 주면 (92) 에 패턴을 노광할 때에, 마크 촬상부 (5a) 에 의해 당해 참조 마크 (921) 가 촬상된다. 이로써, 제 2 주면 (92) 의 패턴의 위치 및 기울기를, 제 1 주면 (91) 의 패턴 (911) 에 대해 정확하게 맞추는 것이 가능해진다.
상기 실시형태에서는, 노광 장치 (1) 가 직접 묘화 장치인 경우에 대해 설명했지만, 노광 장치 (1) 의 노광부 (3) 는, 마스크 등에 형성된 패턴을 기재 (9) 에 투영하여, 패턴을 노광하는 것이어도 된다.
노광 장치 (1) 에서는, 테이블 유닛 (4) 의 위치가 고정되고, 기재 (9) 에 패턴을 노광할 때에, 노광부 (3) 가 이동 방향으로 이동해도 된다.
패턴이 노광되는 기재 (9) 는, 프린트 기판 이외에, 반도체 기판이나 유리 기판 등이어도 된다. 또, 기재 (9) 는, 플렉시블 기판 등, 필름상이어도 된다.
상기 실시형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합되어도 된다.
발명을 상세하게 묘사하여 설명하였지만, 기술의 설명은 예시적이며 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 할 수 있다.
1 : 노광 장치
3 : 노광부
5 : 마크 형성부
5a : 마크 촬상부
9 : 기재
41 : 테이블
43 : 유지 플레이트
71 : 기체 공급부
91 : 제 1 주면
92 : 제 2 주면
421 : 부압 공간
431 : 흡인구
432 : 플레이트 개구
541 : 최외 렌즈
583 : 홈부
911 : 패턴
921 : 참조 마크

Claims (7)

  1. 노광 장치로서,
    판상 또는 필름상의 기재에 패턴을 노광하는 노광부와,
    상기 기재의 제 1 주면에 접촉하는 유지 플레이트를 갖고, 상기 기재를 유지하는 테이블과,
    상기 유지 플레이트에 형성된 개구를 통하여 상기 기재의, 상기 유지 플레이트에 접촉하는 상기 제 1 주면에 광을 조사함으로써, 상기 노광부에 의한 패턴의 노광에 있어서 참조되는 참조 마크를 상기 제 1 주면에 형성하거나, 또는, 상기 기재의 상기 제 1 주면에 형성된 참조 마크를 상기 개구를 통하여 촬상하는 광학 유닛과,
    상기 광학 유닛에 있어서 가장 상기 유지 플레이트측에 배치되는 투광 부재와 상기 유지 플레이트 사이에 소정의 기체를 공급하는 기체 공급부를 구비하고,
    상기 기체 공급부에 의해 공급되는 상기 기체가, 상기 투광 부재와 상기 유지 플레이트 사이에 있어서 상기 개구를 횡단하여 흐르는 노광 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 투광 부재와 상기 유지 플레이트 사이에 있어서, 상기 유지 플레이트를 따르는 하나의 방향으로 연장됨과 함께, 상기 기체가 흐르는 기체 유로가 형성되는 노광 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 기체 유로의 유로 면적이, 상기 개구의 면적보다 작은 노광 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유지 플레이트가, 부압 공간에 접속된 복수의 흡인구에 의해 상기 기재를 흡착 유지하는 흡착 플레이트이고,
    상기 개구를 횡단한 상기 기체가 상기 부압 공간에 유입되는 노광 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 유닛이, 상기 기재의 상기 제 1 주면에 상기 참조 마크를 형성하는 마크 형성부이고,
    상기 노광부가, 상기 테이블에 유지되는 상기 기재의 제 2 주면에 패턴을 노광할 때에, 상기 광학 유닛이, 상기 제 1 주면에 상기 참조 마크를 형성하고,
    상기 노광부가, 상기 제 1 주면에 패턴을 노광할 때에, 상기 참조 마크가 참조되는 노광 장치.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 유닛과 동일한 구성을 갖고, 상기 유지 플레이트에 형성된 다른 개구를 통하여 기재에 참조 마크를 형성하거나, 또는, 기재의 참조 마크를 촬상하는 다른 광학 유닛을 추가로 구비하고,
    하나의 종류의 기재에 대해 상기 광학 유닛이 이용되고, 다른 종류의 기재에 대해 상기 다른 광학 유닛이 이용되는 노광 장치.
  7. 노광 장치로서,
    판상 또는 필름상의 기재에 패턴을 노광하는 노광부와,
    상기 기재의 제 1 주면에 접촉하는 유지 플레이트를 갖고, 상기 기재를 유지하는 테이블과,
    상기 유지 플레이트에 형성된 개구를 통하여 상기 기재의, 상기 유지 플레이트에 접촉하는 상기 제 1 주면에 광을 조사함으로써, 상기 노광부에 의한 패턴의 노광에 있어서 참조되는 참조 마크를 상기 제 1 주면에 형성하는 광학 유닛과,
    상기 광학 유닛에 있어서 가장 상기 유지 플레이트측에 배치되는 투광 부재와 상기 유지 플레이트 사이에 소정의 기체를 공급함으로써, 상기 개구의 내부를 정압으로 하는 기체 공급부를 구비하는 노광 장치.
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