KR102544942B1 - Display Device And Method Of Fabricating The Same - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 다수의 화소를 포함하는 표시영역, 표시영역을 둘러싸는 비표시영역 및 비표시영역 외측에 배치되는 테스트영역을 포함하는 기판과, 기판 상부의 테스트영역에 배치되고 제거부가 측면으로 노출되는 테스트배선과, 테스트영역의 상기 테스트배선 상부에 배치되고, 테스트배선의 절단단부를 노출하는 홈과, 홈 상부에 배치되고 테스트배선의 상기 절단단부를 덮는 수지패턴을 포함하는 플렉시블 표시장치를 제공하는데, 외기에 의한 테스트배선의 부식이 방지되고 테스트배선을 통한 외기의 침투가 방지되어 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선된다. The present invention provides a substrate including a display area including a plurality of pixels, a non-display area surrounding the display area, and a test area disposed outside the non-display area, and a substrate disposed in the test area above the substrate and a removal portion exposed to the side. Provided is a flexible display device including a test wire, a groove disposed above the test wire in a test area and exposing a cut end of the test wire, and a resin pattern disposed above the groove and covering the cut end of the test wire. However, the corrosion of the test wiring by outside air is prevented and the penetration of outside air through the test wiring is prevented, thereby improving the display quality and reliability of the image.
Description
본 발명은 표시장치에 관한 것으로, 특히 테스트배선을 절단하는 홈을 포함하는 표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device including a groove for cutting a test wire and a manufacturing method thereof.
근래에 들어 사회가 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 대량의 정보를 처리 및 표시하는 표시장치 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 여러 가지 다양한 평판표시장치(flat display panel: FPD)가 개발되어 각광받고 있다. In recent years, as society has entered the information age in earnest, the field of display devices that process and display large amounts of information has developed rapidly. are receiving
이 같은 평판표시장치의 구체적인 예로는, 액정표시장치(liquid crystal display: LCD), 플라즈마표시장치(plasma display panel: PDP), 전계방출표시장치(field emission display: FED), 유기발광다이오드 표시장치(organic light emitting diode: OLED) 등을 들 수 있는데, 이들 평판표시장치는 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 보여 기존의 브라운관(cathode ray tube: CRT)을 빠르게 대체하고 있다.Specific examples of such a flat panel display device include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), an organic light emitting diode display ( organic light emitting diode (OLED) and the like, and these flat panel display devices are rapidly replacing the existing cathode ray tube (CRT) by showing excellent performance in thinning, light weight, and low power consumption.
그런데, 종래의 평판표시장치는 제조 공정 중 발생하는 높은 열을 견딜 수 있도록 유리기판을 사용하므로 경량, 박형화 및 유연성을 부여하는데 한계가 있다. However, since the conventional flat panel display uses a glass substrate to withstand high heat generated during the manufacturing process, there are limitations in imparting light weight, thinness, and flexibility.
따라서, 기존의 유연성이 없는 유리기판 대신에 플라스틱 등과 같이 유연성 있는 재료를 사용하여 종이처럼 휘어져도 표시성능을 그대로 유지할 수 있게 제조된 플렉시블(flexible) 표시장치가 차세대 평판표시장치로 급부상 중이다.Therefore, a flexible display device manufactured using a flexible material such as plastic instead of a conventional inflexible glass substrate to maintain display performance even when bent like paper is rapidly emerging as a next-generation flat panel display device.
플렉시블 표시장치는, 유리가 아닌 플라스틱 박막트랜지스터 기판을 활용하여 내구성이 높은 언브레이커블(unbreakable), 깨지지 않으면서도 구부릴 수 있는 벤더블(bendable), 둘둘 말 수 있는 롤러블(rollable), 접을 수 있는 폴더블(foldable) 등으로 구분될 수 있는데, 이러한 플렉시블 표시장치는 공간활용성, 인테리어 및 디자인의 장점을 가지며, 다양한 응용분야를 가질 수 있다.Flexible display devices utilize plastic thin film transistor substrates instead of glass to provide highly durable unbreakable, bendable, unbreakable, rollable, and foldable displays. It can be classified as foldable, etc., and such a flexible display has advantages in space utilization, interior and design, and can have various application fields.
이러한 플렉시블 표시장치는 완성 후 각 화소의 양불을 판정하기 위한 테스트배선 및 테스트패드를 포함하는데, 이를 도면을 참조하여 설명한다.Such a flexible display device includes a test wire and a test pad for determining pass/fail of each pixel after completion, which will be described with reference to the drawings.
도 1은 테스트패드 제거를 위한 커팅 전의 종래의 플렉시블 유기발광다이오드 표시장치의 표시패널을 도시한 단면도이고, 도 2는 테스트패드 제거를 위한 커팅 후의 종래의 플렉시블 유기발광다이오드 표시장치의 표시패널을 도시한 단면도다. 1 is a cross-sectional view showing a display panel of a conventional flexible organic light emitting diode display before cutting to remove a test pad, and FIG. 2 shows a display panel of a conventional flexible organic light emitting diode display after cutting to remove a test pad. it's one section
도 1에 도시한 바와 같이, 종래의 플렉시블 유기발광다이오드 표시장치의 표시패널(18)은, 기판(20)과, 기판(20) 상부의 각 화소에 배치되는 구동 박막트랜지스터(Td) 및 발광다이오드(De)를 포함한다. As shown in FIG. 1, a
구체적으로, 기판(20)은, 다수의 화소를 포함하여 영상을 표시하는 표시영역(DA)과, 표시영역(DA)을 둘러싸는 비표시영역(NDA)과, 비표시영역(NDA) 외부에 배치되는 테스트영역(TA)을 포함하는데, 이러한 기판(20)은 폴리이미드(polyimide: PI)와 같은 유연성 있는 물질로 이루어진다. Specifically, the
기판(20) 상부의 표시영역(DA)의 각 화소에는 반도체층(22)이 형성되고, 반도체층(22) 상부의 기판(20) 전면에는 게이트절연층(22)이 형성된다. A
반도체층(22)에 대응되는 게이트절연층(22) 상부에는 게이트전극(26)이 형성되고, 게이트전극(26) 상부의 기판(20) 전면에는 층간절연층(28)이 순차적으로 형성된다.A
층간절연층(28) 상부에는 반도체층(22)의 양단부에 각각 연결되는 소스전극(30) 및 드레인전극(32)이 형성되고, 소스전극(30) 및 드레인전극(32) 상부의 기판(20) 전면에는 평탄화층(34)이 형성된다.A
이때, 비표시영역(NDA) 및 테스트영역(TA)에는 테스트배선(TL)이 형성되고, 테스트영역(TA)에는 테스트패드(TP)가 형성되는데, 테스트패드(TP)는 테스트배선(TL)에 연결되고, 테스트배선(TL)은 드레인전극(32)에 연결된다. At this time, a test line TL is formed in the non-display area NDA and the test area TA, and a test pad TP is formed in the test area TA. , and the test line TL is connected to the
여기서, 반도체층(22), 게이트전극(26), 소스전극(30) 및 드레인전극(32)은 구동 박막트랜지스터(Td)를 구성한다. Here, the
평탄화층(34) 상부의 각 화소에는 제1전극(36)이 형성되고, 제1전극(36) 상부에는 뱅크층(38)이 형성되고, 뱅크층(38) 상부에는 스페이서(30)가 형성되는데, 뱅크층(38)은 제1전극(36)의 가장자리부를 덮으면서 제1전극(36)의 중앙부를 노출하고, 스페이서(30)는 뱅크층(28)의 상면 내부에 배치된다.A
이때, 비표시영역(NDA)에는 뱅크층(38) 및 스페이서(40)에 대응되는 더미뱅크층(DB) 및 더미스페이서(DS)가 형성된다. At this time, a dummy bank layer DB and a dummy spacer DS corresponding to the
뱅크층(38)을 통하여 노출되는 각 화소의 제1전극(36) 상부에는 발광층(42)이 형성되고, 발광층(42) 상부의 기판(20) 전면에는 제2전극(44)이 형성된다. An
여기서, 제1전극(36), 발광층(42) 및 제2전극(44)은 발광다이오드(De)를 구성한다.Here, the
제2전극(44) 상부의 기판(20) 전면에는 제1보호층(46), 입자커버층(48) 및 제2보호층(50)이 순차적으로 형성되는데, 제1 및 제2보호층(46, 50)은 질화실리콘(SiNx) 또는 산화실리콘(SiO2)과 같은 무기절연물질로 이루어지고, 입자커버층(48)은 수지와 같은 고분자 유기절연물질로 이루어진다. A first
제2보호층(50) 상부의 기판 전면에는 접착층(52)이 형성되고, 접착층(52) 상부에는 차단필름(54)이 형성되는데, 차단필름(54)은 접착층(52)을 통하여 제2보호층(50)에 부착된다. An
차단필름(54) 상부에는 편광판(56)이 형성되고, 기판(20) 하부에는 백플레이트(back plate)(70)가 형성되어, 표시패널(18)이 완성된다. A polarizing
이와 같이, 플렉시블 유기발광다이오드 표시장치의 표시패널(18)을 완성한 후, 테스트패드(TP) 및 테스트배선(TL)을 통하여 각 화소의 구동 박막트랜지스터(Td) 및 발광다이오드(De)에 테스트신호를 인가하여 각 화소의 양불을 검사한다.In this way, after the
그리고, 양불 검사 후, 테스트패드(TP)를 제거하여 비표시영역(NDA)을 최소화 하기 위하여, 테스트영역(TA)에 레이저빔(L)을 조사한다.Then, after the quality test, the laser beam L is irradiated to the test area TA in order to minimize the non-display area NDA by removing the test pad TP.
이에 따라, 도 2에 도시한 바와 같이, 레이저빔(L)에 의하여 기판(20), 게이트절연층(24), 층간절연층(28), 테스트배선(TL), 평탄화층(34), 제1보호층(46) 및 제2보호층(50)이 절단(cutting)되어 표시패널(18)로부터 테스트패드(TP) 및 테스트배선(TL)의 일부분이 제거되고, 비표시영역(NDA)이 최소화 되어 네로우 베젤(narrow bezel)이 구현된다. Accordingly, as shown in FIG. 2, the
그런데, 테스트배선(TL)의 제거단부(A)가 외부로 노출되고, 외부의 산소(O2) 또는 수분(H2O)이 노출된 테스트배선(TL)의 제거단부(A)에 접촉하여 테스트배선(TL)이 부식되고, 부식된 테스트배선(TL)을 통하여 외부의 산소(O2) 또는 수분(H2O)이 침투하여 화소의 발광층(42)이 열화되는 문제가 있다. However, the removed end (A) of the test line (TL) is exposed to the outside, and oxygen (O 2 ) or moisture (H 2 O) from the outside comes into contact with the removed end (A) of the exposed test line (TL). There is a problem in that the
특히, 외부의 황(S) 성분이 테스트배선(TL)의 제거단부(A)에 결합하여 테스트배선(TL)의 부식이 가속되고, 화소의 발광층(42) 열화가 심화되어 흑점 등의 불량이 발생하고 표시품질이 저하되는 문제가 있다. In particular, the external sulfur (S) component is coupled to the removed end (A) of the test line (TL), and corrosion of the test line (TL) is accelerated, and the deterioration of the
본 발명은, 이러한 문제점을 해결하기 위하여 제시된 것으로, 테스트패드의 제거를 위한 제1커팅라인 내부에 테스트배선의 절단을 위한 제2커팅라인을 배치함으로써, 외기에 의한 테스트배선의 부식이 방지되고 테스트배선을 통한 외기의 침투가 방지되어 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선되는 플렉시블 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been proposed to solve this problem, and by arranging a second cutting line for cutting the test wire inside the first cutting line for removing the test pad, corrosion of the test wire due to outside air is prevented and the test wire is prevented. An object of the present invention is to provide a flexible display device and a method of manufacturing the same, in which permeation of outside air is prevented through wiring and display quality and reliability of an image are improved.
그리고, 본 발명은, 테스트배선을 절단하는 홈을 형성하고 홈 상부에 수지패턴을 형성함으로써, 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선됨과 동시에 수율이 개선되는 플렉시블 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다. Another object of the present invention is to provide a flexible display device and a method of manufacturing the same, in which display quality and reliability of an image are improved and yield is improved at the same time by forming a groove for cutting a test wire and forming a resin pattern on the top of the groove. The purpose.
위와 같은 과제의 해결을 위해, 본 발명은, 다수의 화소를 포함하는 표시영역, 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역 및 상기 비표시영역 외측에 배치되는 테스트영역을 포함하는 기판과, 상기 기판 상부의 테스트영역에 배치되고 제거부가 측면으로 노출되는 테스트배선과, 상기 테스트영역의 상기 테스트배선 상부에 배치되고, 상기 테스트배선의 절단단부를 노출하는 홈과, 상기 홈 상부에 배치되고 상기 테스트배선의 상기 절단단부를 덮는 수지패턴을 포함하는 플렉시블 표시장치를 제공한다. In order to solve the above problems, the present invention provides a substrate including a display area including a plurality of pixels, a non-display area surrounding the display area, and a test area disposed outside the non-display area, and an upper portion of the substrate. A test wire disposed in the test area of the test line and having a removed portion exposed to the side, a groove disposed above the test wire in the test area and exposing a cut end of the test wire, and a groove disposed above the groove and extending the test wire A flexible display device including a resin pattern covering the cut end is provided.
그리고, 상기 플렉시블 표시장치는, 상기 기판 상부의 상기 다수의 화소 각각에 배치되는 반도체층과, 상기 반도체층 상부에 배치되는 게이트절연층과, 상기 반도체층에 대응되는 상기 게이트절연층 상부에 배치되는 게이트전극과, 상기 게이트전극 상부에 배치되는 층간절연층과, 상기 층간절연층 상부에 배치되고, 상기 반도체층의 양단에 각각 연결되는 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스전극 및 상기 드레인전극 상부에 배치되는 평탄화층을 더 포함할 수 있다.The flexible display device includes a semiconductor layer disposed on each of the plurality of pixels on the substrate, a gate insulating layer disposed on the semiconductor layer, and an upper portion of the gate insulating layer corresponding to the semiconductor layer. A gate electrode, an interlayer insulating layer disposed on the gate electrode, a source electrode and a drain electrode disposed on the interlayer insulating layer and connected to both ends of the semiconductor layer, respectively, and an upper portion of the source electrode and the drain electrode A planarization layer may be further included.
또한, 상기 플렉시블 표시장치는, 상기 평탄화층 상부에 배치되는 제1전극과, 상기 제1전극의 가장자리부를 덮고, 상기 제1전극의 중앙부를 노출하는 뱅크층과, 상기 뱅크층을 통하여 노출되는 제1전극 상부에 배치되는 발광층과, 상기 발광층 상부에 배치되는 제2전극과, 상기 제2전극 상부에 순차적으로 배치되는 제1보호층, 입자커버층 및 제2보호층과, 접착층을 통하여 상기 제2보호층 상부에 부착되는 차단필름과, 상기 차단필름 상부에 배치되는 편광판을 더 포함할 있다.In addition, the flexible display device includes a first electrode disposed on the planarization layer, a bank layer covering an edge of the first electrode and exposing a central portion of the first electrode, and a first electrode exposed through the bank layer. A light emitting layer disposed on the first electrode, a second electrode disposed on the light emitting layer, a first protective layer, a particle cover layer, and a second protective layer sequentially disposed on the second electrode, and an adhesive layer through the first electrode. 2 may further include a blocking film attached to the upper portion of the protective layer and a polarizing plate disposed on the upper portion of the blocking film.
그리고, 상기 홈은 상기 제2보호층, 상기 제1보호층, 상기 평탄화층, 상기 테스트배선, 상기 층간절연층 및 상기 게이트절연층에 배치될 수 있다.The groove may be disposed in the second protective layer, the first protective layer, the planarization layer, the test line, the interlayer insulating layer, and the gate insulating layer.
또한, 상기 수지패턴은 상기 제2보호층 상부에 배치되어 상기 차단필름에 접촉할 수 있다.In addition, the resin pattern may be disposed on the second protective layer to contact the blocking film.
한편, 본 발명은, 다수의 화소를 포함하는 표시영역, 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역 및 상기 비표시영역 외측에 배치되는 테스트영역을 포함하는 기판 상부의 상기 테스트영역에 테스트배선 및 테스트패드를 형성하는 단계와, 제1커팅라인에 따라 상기 기판과 상기 테스트배선을 절단하여 상기 테스트패드를 제거하고 상기 테스트배선의 제거단부를 측면으로 노출하는 단계와, 상기 제1커팅라인의 내측에 배치되는 제2커팅라인을 따라 상기 테스트배선을 절단하여 상기 테스트배선의 절단단부를 노출하는 홈을 형성하는 단계와, 상기 홈을 통하여 노출되는 상기 테스트배선의 상기 절단단부를 덮는 수지패턴을 형성하는 단계를 포함하는 플렉시블 표시장치의 제조방법을 제공한다.Meanwhile, in the present invention, a test line and a test pad are provided in the test area on a substrate including a display area including a plurality of pixels, a non-display area surrounding the display area, and a test area disposed outside the non-display area. forming a, removing the test pad by cutting the substrate and the test wire along a first cutting line, and exposing the removed end of the test wire to the side, and disposing it inside the first cutting line. cutting the test wire along a second cutting line to form a groove exposing the cut end of the test wire, and forming a resin pattern covering the cut end of the test wire exposed through the groove. It provides a manufacturing method of a flexible display device comprising a.
그리고, 상기 제1 및 제2커팅라인을 따른 상기 테스트배선의 절단은 각각 제1 및 제2레이저빔을 이용하여 수행되고, 상기 제1레이저빔의 세기는 상기 제2레이저빔의 세기보다 클 수 있다.The cutting of the test wire along the first and second cutting lines may be performed using first and second laser beams, respectively, and the intensity of the first laser beam may be greater than that of the second laser beam. there is.
또한, 상기 플렉시블 표시장치의 제조방법은, 상기 기판 상부의 상기 다수의 화소 각각에 반도체층을 형성하는 단계와, 상기 반도체층 상부에 게이트절연층을 형성하는 단계와, 상기 반도체층에 대응되는 상기 게이트절연층 상부에 게이트전극을 형성하는 단계와, 상기 게이트전극 상부에 층간절연층을 형성하는 단계와, 상기 층간절연층 상부에 상기 반도체층의 양단에 각각 연결되는 소스전극 및 드레인전극을 형성하는 단계와, 상기 소스전극 및 상기 드레인전극 상부에 평탄화층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the manufacturing method of the flexible display device may include forming a semiconductor layer on each of the plurality of pixels on the substrate, forming a gate insulating layer on the semiconductor layer, and forming the semiconductor layer corresponding to the semiconductor layer. Forming a gate electrode on top of the gate insulating layer, forming an interlayer insulating layer on top of the gate electrode, and forming a source electrode and a drain electrode connected to both ends of the semiconductor layer on top of the interlayer insulating layer. The method may further include forming a planarization layer on top of the source electrode and the drain electrode.
그리고, 상기 플렉시블 표시장치의 제조방법은, 상기 평탄화층 상부에 제1전극을 형성하는 단계와, 상기 제1전극의 가장자리부를 덮고, 상기 제1전극의 중앙부를 노출하는 뱅크층을 형성하는 단계와, 상기 뱅크층을 통하여 노출되는 제1전극 상부에 발광층을 형성하는 단계와, 상기 발광층 상부에 제2전극을 형성하는 단계와, 상기 제2전극 상부에 순차적으로 제1보호층, 입자커버층 및 제2보호층을 순차적으로 형성하는 단계와, 접착층을 통하여 상기 제2보호층 상부에 차단필름을 부착하는 단계와, 상기 차단필름 상부에 편광판을 형성하는 단계을 더 포함할 수 있다.The manufacturing method of the flexible display device may include forming a first electrode on the planarization layer, forming a bank layer covering an edge of the first electrode and exposing a central portion of the first electrode; , Forming a light emitting layer on top of the first electrode exposed through the bank layer, forming a second electrode on top of the light emitting layer, sequentially on top of the second electrode, a first protective layer, a particle cover layer, and The method may further include sequentially forming a second protective layer, attaching a blocking film to the upper portion of the second protective layer through an adhesive layer, and forming a polarizing plate on the upper portion of the blocking film.
또한, 상기 홈은 상기 제2보호층, 상기 제1보호층, 상기 평탄화층, 상기 테스트배선, 상기 층간절연층 및 상기 게이트절연층에 형성되고, 상기 수지패턴은 상기 제2보호층 상부에 배치되어 상기 차단필름에 접촉할 수 있다.In addition, the groove is formed in the second protective layer, the first protective layer, the planarization layer, the test wiring, the interlayer insulating layer, and the gate insulating layer, and the resin pattern is disposed on the second protective layer. and can contact the blocking film.
본 발명은, 테스트패드의 제거를 위한 제1절단선 내부에 테스트배선의 절단을 위한 제2절단선을 배치함으로써, 외기에 의한 테스트배선의 부식이 방지되고 테스트배선을 통한 외기의 침투가 방지되어 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선되는 효과를 갖는다. In the present invention, by arranging a second cutting line for cutting the test wire inside the first cutting line for removing the test pad, corrosion of the test wire by outside air is prevented and penetration of outside air through the test wire is prevented. It has the effect of improving the display quality and reliability of the image.
그리고, 본 발명은, 테스트배선을 절단하는 홈을 형성하고 홈 상부에 수지패턴을 형성함으로써, 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선됨과 동시에 수율이 개선되는 효과를 갖는다. In addition, the present invention has an effect of improving the display quality and reliability of the image and improving the yield at the same time by forming a groove for cutting the test wiring and forming a resin pattern on the top of the groove.
도 1은 테스트패드 제거를 위한 커팅 전의 종래의 플렉시블 유기발광다이오드 표시장치의 표시패널을 도시한 단면도.
도 2는 테스트패드 제거를 위한 커팅 후의 종래의 플렉시블 유기발광다이오드 표시장치의 표시패널을 도시한 단면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플렉시블 표시장치를 도시한 평면도.
도 4는 테스트패드 제거 및 테스트배선 절단을 위한 커팅공정 전의 도 3의 절단선 IV-IV에 따른 단면도.
도 5는 테스트패드 제거 및 테스트배선 절단을 위한 커팅공정 후의 도 3의 절단선 IV-IV에 따른 단면도.
도 6은 수지패턴 형성 후의 도 3의 절단선 IV-IV에 따른 단면도.1 is a cross-sectional view showing a display panel of a conventional flexible organic light emitting diode display before cutting to remove a test pad.
2 is a cross-sectional view showing a display panel of a conventional flexible organic light emitting diode display after cutting to remove a test pad.
3 is a plan view illustrating a flexible display device according to an exemplary embodiment of the present invention;
4 is a cross-sectional view taken along the cutting line IV-IV of FIG. 3 before a cutting process for removing a test pad and cutting a test wire;
5 is a cross-sectional view along the cutting line IV-IV of FIG. 3 after a cutting process for removing a test pad and cutting a test wire;
Figure 6 is a cross-sectional view along the cutting line IV-IV of Figure 3 after the resin pattern is formed.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 플렉시블 표시장치 및 그 제조방법을 설명하는데, 유기발광다이오드 표시장치를 예로 들어 설명한다. Hereinafter, a flexible display device and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings, taking an organic light emitting diode display as an example.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플렉시블 표시장치를 도시한 평면도이다.3 is a plan view illustrating a flexible display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플렉시블 표시장치(110)는, 타이밍제어부(112), 데이터구동부(114), 게이트구동부(116) 및 표시패널(118)을 포함한다.As shown in FIG. 3 , the
타이밍제어부(112)는, 그래픽카드 또는 TV시스템과 같은 외부시스템으로부터 전달되는 영상신호(IS)와 데이터인에이블신호(DE), 수평동기신호(HSY), 수직동기신호(VSY), 클럭(CLK) 등의 다수의 타이밍신호를 이용하여, 게이트제어신호(GCS), 데이터제어신호(DCS) 및 영상데이터(RGB)를 생성하고, 생성된 데이터제어신호(DCS) 및 영상데이터(RGB)는 데이터구동부(114)에 공급하고, 생성된 게이트제어신호(GCS)는 게이트구동부(116)에 공급한다. The
데이터구동부(114)는, 타이밍제어부(112)로부터 공급되는 데이터제어신호(DCS) 및 영상데이터(RGB)를 이용하여 데이터신호(데이터전압)를 생성하고, 생성된 데이터신호를 표시패널(118)의 데이터배선(DL)에 공급한다. The
게이트구동부(116)는, 타이밍제어부(112)로부터 공급되는 게이트제어신호(GCS)를 이용하여 게이트신호(게이트전압)를 생성하고, 생성된 게이트신호를 표시패널(118)의 게이트배선(GL)에 공급한다. The
표시패널(118)은, 영상을 표시하고 다수의 화소(P)를 포함하는 표시영역(DA)과, 표시영역(DA)을 둘러싸는 비표시영역(NDA)과, 비표시영역(NDA) 외측에 배치되는 테스트영역(TA)으로 구분될 수 있다. The
이러한 표시패널(118)의 표시영역(DA)은, 게이트신호 및 데이터신호를 이용하여 영상을 표시하는데, 서로 교차하여 화소(P)를 정의하는 게이트배선(GL), 데이터배선(DL) 및 파워배선(PL)과, 각 화소(P)에 배치되는 스위칭 박막트랜지스터(Ts), 구동 박막트랜지스터(Td), 스토리지 커패시터(Cs) 및 발광다이오드(De)를 포함한다.The display area DA of the
스위칭 박막트랜지스터(Ts)는 게이트배선(GL) 및 데이터배선(DL)에 연결되고, 구동 박막트랜지스터(Td)는 스위칭 박막트랜지스터(Ts) 및 파워배선(PL)에 연결되고, 스토리지 커패시터(Cs)는 구동 박막트랜지스터(Td) 및 파워배선(PL)에 연결되고, 발광다이오드(De)는 구동 박막트랜지스터(Td) 및 접지단에 연결된다. The switching thin film transistor (Ts) is connected to the gate line (GL) and the data line (DL), the driving thin film transistor (Td) is connected to the switching thin film transistor (Ts) and the power line (PL), and the storage capacitor (Cs) is connected to the driving thin film transistor (Td) and the power line (PL), and the light emitting diode (De) is connected to the driving thin film transistor (Td) and the ground terminal.
다른 실시예에서는, 각 화소(P)가 구동 박막트랜지스터(Td) 및 발광다이오드(De)의 보상을 위한 다수의 박막트랜지스터 및 다수의 커패시터를 더 포함할 수 있다.In another embodiment, each pixel P may further include a plurality of thin film transistors and a plurality of capacitors for compensating the driving thin film transistor Td and the light emitting diode De.
그리고, 다른 실시예에서는, 게이트구동부(116)가 비표시영역(NDA)에 형성되는 게이트-인-패널(gate-in-panel) 타입으로 표시패널(118)을 형성할 수도 있다.In another embodiment, the
한편, 표시패널(118)의 테스트영역(TA)에는 테스트배선(TL) 및 테스트패드(TP)가 형성되는데, 테스트배선(TL)은 표시영역(DA)의 데이터배선(DL) 및 파워배선(PL)에 연결될 수 있다.Meanwhile, a test line TL and a test pad TP are formed in the test area TA of the
그리고, 도시하지는 않았지만, 테스트배선(TL)은 표시영역(DA)의 게이트배선(GL)에도 연결될 수 있다.Also, although not shown, the test line TL may be connected to the gate line GL of the display area DA.
이러한 플렉시블 표시장치(110)는, 구동 박막트랜지스터(Td) 및 발광다이오드(De)를 포함하는 표시패널(118) 완성 후, 테스트배선(TL) 및 테스트패드(TP)를 이용하여 화소(P)에 대한 검사를 진행하고, 이후 커팅공정을 통하여 테스트패드(TP)를 제거하고, 테스트배선(TL)을 절단하는데, 이를 도면을 참조하여 설명한다. In such a
도 4는 테스트패드 제거 및 테스트배선 절단을 위한 커팅공정 전의 도 3의 절단선 IV-IV에 따른 단면도이고, 도 5는 테스트패드 제거 및 테스트배선 절단을 위한 커팅공정 후의 도 3의 절단선 IV-IV에 따른 단면도이고, 도 6은 수지패턴 형성 후의 도 3의 절단선 IV-IV에 따른 단면도로서, 도 3을 함께 참조하여 설명한다. 4 is a cross-sectional view along the cutting line IV-IV of FIG. 3 before a cutting process for removing the test pad and cutting the test wire, and FIG. 5 is a cross-sectional view along the cutting line IV- of FIG. 3 after a cutting process for removing the test pad and cutting the test wire. A cross-sectional view taken along IV, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the cutting line IV-IV of FIG. 3 after forming a resin pattern, and will be described with reference to FIG. 3 together.
도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플렉시블 표시장치(110)의 표시패널(118)은, 기판(120)과, 기판(120) 상부의 각 화소에 배치되는 구동 박막트랜지스터(Td) 및 발광다이오드(De)를 포함한다. As shown in FIG. 4 , the
구체적으로, 기판(120)은, 다수의 화소(P)를 포함하여 영상을 표시하는 표시영역(DA)과, 표시영역(DA)을 둘러싸는 비표시영역(NDA)과, 비표시영역(NDA) 외측에 배치되는 테스트영역(TA)을 포함하는데, 이러한 기판(120)은 폴리이미드(polyimide: PI)와 같은 유연성 있는 물질로 이루어진다. Specifically, the
기판(120) 상부의 표시영역(DA)의 각 화소에는 반도체층(122)이 형성되고, 반도체층(122) 상부의 기판(120) 전면에는 게이트절연층(122)이 형성되는데, 반도체층(122)은 다결정 실리콘 또는 산화물 반도체일 수 있다. A
반도체층(122)에 대응되는 게이트절연층(122) 상부에는 게이트전극(126)이 형성되고, 게이트전극(126) 상부의 기판(120) 전면에는 층간절연층(128)이 순차적으로 형성된다.A
층간절연층(128) 상부에는 반도체층(122)의 양단부에 각각 연결되는 소스전극(130) 및 드레인전극(132)이 형성되고, 소스전극(130) 및 드레인전극(132) 상부의 기판(120) 전면에는 평탄화층(134)이 형성된다.A
이때, 비표시영역(NDA) 및 테스트영역(TA)에는 테스트배선(TL)이 형성되고, 테스트영역(TA)에는 테스트패드(TP)가 형성되는데, 테스트패드(TP)는 테스트배선(TL)에 연결되고, 테스트배선(TL)은 드레인전극(132)에 연결되어 소스전극(130) 및 드레인전극(132)과 동일층, 동일물질로 이루어질 수 있다. At this time, a test line TL is formed in the non-display area NDA and the test area TA, and a test pad TP is formed in the test area TA. , and the test line TL is connected to the
다른 실시예에서는, 테스트배선(TL)이 스위칭 박막트랜지스터(Ts)의 게이트전극에 연결될 수도 있으며, 테스트배선(TL) 및 테스트패드(TP)가 게이트전극(126)과 동일층, 동일물질로 이루어질 수도 있다.In another embodiment, the test line TL may be connected to the gate electrode of the switching thin film transistor Ts, and the test line TL and the test pad TP are made of the same layer and the same material as the
여기서, 반도체층(122), 게이트전극(126), 소스전극(130) 및 드레인전극(132)은 코플라나(coplanar) 타입의 구동 박막트랜지스터(Td)를 구성하는데, 다른 실시예에서는 구동 박막트랜지스터(Td)를 스태거(staggered) 타입으로 형성할 수도 있다. Here, the
평탄화층(134) 상부의 각 화소에는 제1전극(136)이 형성되고, 제1전극(136) 상부에는 뱅크층(138)이 형성되고, 뱅크층(138) 상부에는 스페이서(130)가 형성되는데, 뱅크층(138)은 제1전극(136)의 가장자리부를 덮으면서 제1전극(136)의 중앙부를 노출하고, 스페이서(130)는 뱅크층(128)의 상면 내부에 배치된다.A
이때, 비표시영역(NDA)에는 뱅크층(138) 및 스페이서(140)에 대응되는 더미뱅크층(DB) 및 더미스페이서(DS)가 형성된다. At this time, a dummy bank layer DB and a dummy spacer DS corresponding to the
스페이서(130)는, 발광층(142) 형성 시 사용되는 쉐도우마스크(shadow mask)(또는 미세금속마스크(fine metal mask: FMM))와 접촉하여 쉐도우마스크와 뱅크층(138) 사이의 이격거리를 일정하게 유지하는 역할을 하고, 더미뱅크층(DB) 및 더미스페이서(DS)는 쉐도우마스크의 처짐을 방지하는 역할을 한다. The
뱅크층(138) 및 더미뱅크층(DB)은 유기절연물질 또는 무기절연물질로 이루어질 수 있고, 스페이서(130) 및 더미스페이서(DS)는 유기절연물질 또는 무기절연물질로 이루어질 수 있으며, 스페이서(130) 및 더미스페이서(DS)는 뱅크층(138) 및 더미뱅크층(DB)과 상이한 물질로 이루어질 수 있다.The
뱅크층(138)을 통하여 노출되는 각 화소의 제1전극(136) 상부에는 발광층(142)이 형성되고, 발광층(142) 상부의 기판(120) 전면에는 제2전극(144)이 형성되는데, 발광층(142)은 적, 녹, 청색 중 하나의 빛을 발광하는 유기발광물질로 이루어질 수 있다. An
여기서, 제1전극(136), 발광층(142) 및 제2전극(144)은 발광다이오드(De)를 구성한다.Here, the
제2전극(144) 상부의 기판(120) 전면에는 제1보호층(146), 입자커버층(148) 및 제2보호층(150)이 순차적으로 형성되는데, 제1 및 제2보호층(146, 150)은 질화실리콘(SiNx) 또는 산화실리콘(SiO2)과 같은 무기절연물질로 이루어지고, 입자커버층(148)은 수지(resin)와 같은 고분자 유기절연물질로 이루어진다. A first
제1 및 제2보호층(146, 150)은 외부의 산소(O2) 또는 수분(H2O)의 침투를 차단하는 역할을 하고, 입자커버층(148)은 외부의 입자로부터 발광다이오드(De) 및 구동 박막트랜지스터(Td)를 보호하는 역할을 한다.The first and second
입자커버층(148)은 표시영역(DA)과 비표시영역(NDA)의 일부에 형성되고, 접착층(152) 및 차단필름(154)은 표시영역(DA) 및 비표시영역(NDA)에 형성되고, 비표시영역(NDA)의 나머지에는 평탄화층(134) 상부에 제1 및 제2보호층(146, 150), 접착층(152), 차단필름(154)이 형성되고, 테스트영역(TA)에는 제1 및 제2보호층(146, 150)이 형성된다.The
제2보호층(150) 상부의 기판 전면에는 접착층(152)이 형성되고, 접착층(152) 상부에는 차단필름(154)이 형성되는데, 차단필름(154)은 접착층(152)을 통하여 제2보호층(150)에 부착된다. An
차단필름(154) 상부에는 편광판(156)이 형성되고, 기판(120) 하부에는 백플레이트(back plate)(170)가 형성되어, 표시패널(118)이 완성된다. A
편광판(156)은 외부광의 반사를 방지하는 역할을 하고, 백플레이트(170)는 기판(120)을 안정적으로 지지하는 역할을 하며, 백플레이트(170)는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate: PET)와 같은 고분자물질로 이루어질 수 있다.The
이와 같이, 플렉시블 표시장치(110)의 표시패널(118)을 완성한 후, 테스트패드(TP) 및 테스트배선(TL)을 통하여 각 화소(P)의 구동 박막트랜지스터(Td) 및 발광다이오드(De)에 테스트신호를 인가하여 각 화소(P)의 양불을 검사한다.In this way, after the
그리고, 양불 검사 후, 테스트패드(TP)를 제거하여 비표시영역(NDA)을 최소화 하기 위하여, 테스트영역(TA)에 제1 및 제2커팅라인(CL1, CL2)을 따라 제1 및 제2레이저빔(L1, L2)을 조사한다.In addition, in order to minimize the non-display area NDA by removing the test pad TP after the quality test, the first and second cutting lines CL1 and CL2 are applied to the test area TA along the first and second cutting lines CL1 and CL2. Laser beams L1 and L2 are irradiated.
여기서, 제1커팅라인(CL1)으로부터 비표시영역(NDA)의 단부까지의 거리는 약 350μm 일 수 있으며, 제1커팅라인(CL1)으로부터 제2커팅라인(CL2)까지의 거리는 약 150μm 내지 약 175μm 일 수 있다.Here, the distance from the first cutting line CL1 to the end of the non-display area NDA may be about 350 μm, and the distance from the first cutting line CL1 to the second cutting line CL2 may be about 150 μm to about 175 μm. can be
이에 따라, 도 5에 도시한 바와 같이, 제1커팅라인(CL1)을 따라 조사되는 제1레이저빔(L1)에 의하여 기판(120), 게이트절연층(124), 층간절연층(128), 테스트배선(TL), 평탄화층(134), 제1보호층(146) 및 제2보호층(150)이 절단(cutting)되어 표시패널(118)로부터 테스트패드(TP) 및 테스트배선(TL)의 일부분이 제거되고 테스트배선(TL)의 제거단부(A)가 측면으로 노출되고, 비표시영역(NDA)이 최소화 되어 네로우 베젤(narrow bezel)이 구현된다. Accordingly, as shown in FIG. 5, the
그리고, 제2커팅라인(CL2)을 따라 조사되는 제2레이저빔(L2)에 의하여 게이트절연층(124), 층간절연층(128), 테스트배선(TL)의 나머지 부분, 평탄화층(134), 제1보호층(146) 및 제2보호층(150)이 부분적으로 절단되어 홈(GR)이 형성된다. Then, the
이와 같이, 홈(GR)에 의하여 테스트배선(TL)의 나머지 부분이 절단되므로, 제1레이저빔(L1)에 의하여 테스트패드(TP)가 제거되어 테스트배선(TL)의 제거단부(A)가 측면으로 노출된 경우에도, 테스트배선(TP)의 절단단부(B)에 의하여 테스트배선(TL)의 제거단부(A)를 통한 외부의 산소(O2) 또는 수분(H2O)의 침투 및 이에 따른 테스트배선(TL)의 부식을 방지할 수 있다. As such, since the remaining portion of the test line TL is cut by the groove GR, the test pad TP is removed by the first laser beam L1 and the removed end A of the test line TL is formed. Even when exposed to the side, penetration of external oxygen (O 2 ) or moisture (H 2 O) through the removed end (A) of the test wire (TL) by the cut end (B) of the test wire (TP) and Corresponding corrosion of the test line TL can be prevented.
여기서, 제1 및 제2레이저빔(L1, L2)은 동시에 조사될 수 있으며, 제1레이저빔(L1)의 세기(intensity)는 제2레이저빔(L2)의 세기보다 클 수 있다. Here, the first and second laser beams L1 and L2 may be simultaneously irradiated, and the intensity of the first laser beam L1 may be greater than that of the second laser beam L2.
그리고, 홈(GR)을 통하여 노출되는 테스트배선(TL)의 절단단부(B)는 수지패턴에 의하여 덮일 수 있다. Also, the cut end B of the test wire TL exposed through the groove GR may be covered with a resin pattern.
즉, 도 6에 도시한 바와 같이, 제2레이저빔(L2)에 의하여 형성되는 홈(GR) 상부에 수지물질을 도포하여 수지패턴(158)을 형성하는데, 수지패턴(158)은 차단필름(154)에 접촉되도록 형성하여 외부의 산소(O2) 또는 수분(H2O)의 침투를 안정적으로 방지할 수 있다. That is, as shown in FIG. 6, a resin material is applied to the top of the groove GR formed by the second laser beam L2 to form a
홈(GR)을 통하여 노출되는 테스트배선(TL)의 절단단부(B) 상부에 수지패턴(158)이 형성되므로, 외부의 산소(O2) 또는 수분(H2O)이 테스트배선(TL)의 절단단부(B)로 침투하는 것을 방지할 수 있다. Since the
이와 같이, 표시패널(118) 완성 후, 테스트패드(TP) 및 테스트배선(TL)을 통하여 테스트신호를 인가하여 각 화소(P)의 양불을 검사하고, 이후 테스트패드(TP)의 제거 및 테스트배선(TL)의 절단하고 테스트배선(TL)의 절단단부에 수지패턴(158)을 형성한 후, 타이밍제어부(112), 데이터구동부(114) 및 게이트구동부(116)를 표시패널(118)에 연결함으로써, 플렉시블 표시장치(110)를 완성할 수 있다.In this way, after the
이상과 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플렉시블 표시장치(110)에서는, 기판(120) 및 테스트패드(TP)를 제거하기 위한 제1커팅라인(CL1) 내측에 배치되는 제2커팅라인(CL2)을 따라 테스트배선(TL)을 절단하는 홈(GR)을 형성함으로써, 테스트배선(TL)의 제거부위를 통한 외기의 침투 및 테스트배선(TL)의 부식을 방지하고, 영상의 표시품질 및 신뢰성을 개선할 수 있다. As described above, in the
또한, 테스트배선(TL)의 절단부위가 노출되는 홈(GR) 상부에 수지패턴(158)을 형성함으로써, 테스트배선(TL)의 절단부위를 통한 외기의 침투 및 테스트배선(TL)의 부식을 방지하고, 영상의 표시품질 및 신뢰성을 개선함과 동시에 수율을 개선할 수 있다. In addition, by forming the
본 발명의 실시예에서는 유기발광다이오드 표시장치를 예로 들었으나, 다른 실시예에서는 액정표시장치에 제2커팅라인(CL2)을 따른 홈(GR) 형성과 홈(GR) 상부의 수지패턴(158)을 적용할 수도 있다.In the embodiment of the present invention, an organic light emitting diode display device is taken as an example, but in another embodiment, a groove GR along the second cutting line CL2 is formed and a
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will variously modify and change the present invention within the scope not departing from the technical spirit and scope of the present invention described in the claims below. You will understand that it can be done.
110: 표시장치 118: 표시패널
120: 기판 DA: 표시영역
NDA: 비표시영역 TA: 테스트영역
Td: 구동 박막트랜지스터 De: 발광다이오드
CL1: 제1커팅라인 CL2: 제2커팅라인110: display device 118: display panel
120: substrate DA: display area
NDA: non-display area TA: test area
Td: driving thin film transistor De: light emitting diode
CL1: first cutting line CL2: second cutting line
Claims (10)
상기 기판 상부의 테스트영역에 배치되고 제거부가 측면으로 노출되는 테스트배선과;
상기 테스트영역의 상기 테스트배선 상부에 배치되고, 상기 테스트배선의 절단단부를 노출하는 홈과;
상기 홈 상부에 배치되고 상기 테스트배선의 상기 절단단부를 덮는 수지패턴
을 포함하는 플렉시블 표시장치.
a substrate including a display area including a plurality of pixels, a non-display area surrounding the display area, and a test area disposed outside the non-display area;
a test wire disposed in a test area on the upper side of the substrate and having a removed portion exposed to the side;
a groove disposed above the test wire in the test area and exposing a cut end of the test wire;
A resin pattern disposed above the groove and covering the cut end of the test wire
A flexible display device comprising a.
상기 기판 상부의 상기 다수의 화소 각각에 배치되는 반도체층과;
상기 반도체층 상부에 배치되는 게이트절연층과;
상기 반도체층에 대응되는 상기 게이트절연층 상부에 배치되는 게이트전극과;
상기 게이트전극 상부에 배치되는 층간절연층과;
상기 층간절연층 상부에 배치되고, 상기 반도체층의 양단에 각각 연결되는 소스전극 및 드레인전극과;
상기 소스전극 및 상기 드레인전극 상부에 배치되는 평탄화층
을 더 포함하는 플렉시블 표시장치.
According to claim 1,
a semiconductor layer disposed on each of the plurality of pixels on the substrate;
a gate insulating layer disposed over the semiconductor layer;
a gate electrode disposed on an upper portion of the gate insulating layer corresponding to the semiconductor layer;
an interlayer insulating layer disposed above the gate electrode;
a source electrode and a drain electrode disposed on the interlayer insulating layer and connected to both ends of the semiconductor layer, respectively;
A planarization layer disposed on the source electrode and the drain electrode.
A flexible display device further comprising a.
상기 평탄화층 상부에 배치되는 제1전극과;
상기 제1전극의 가장자리부를 덮고, 상기 제1전극의 중앙부를 노출하는 뱅크층과;
상기 뱅크층을 통하여 노출되는 제1전극 상부에 배치되는 발광층과;
상기 발광층 상부에 배치되는 제2전극과;
상기 제2전극 상부에 순차적으로 배치되는 제1보호층, 입자커버층 및 제2보호층과;
접착층을 통하여 상기 제2보호층 상부에 부착되는 차단필름과;
상기 차단필름 상부에 배치되는 편광판
을 더 포함하는 플렉시블 표시장치.
According to claim 2,
a first electrode disposed on the planarization layer;
a bank layer covering an edge of the first electrode and exposing a central portion of the first electrode;
a light emitting layer disposed above the first electrode exposed through the bank layer;
a second electrode disposed on the light emitting layer;
a first protective layer, a particle cover layer, and a second protective layer sequentially disposed on the second electrode;
a blocking film attached to the upper portion of the second protective layer through an adhesive layer;
A polarizing plate disposed on top of the blocking film
A flexible display device further comprising a.
상기 홈은 상기 제2보호층, 상기 제1보호층, 상기 평탄화층, 상기 테스트배선, 상기 층간절연층 및 상기 게이트절연층에 배치되는 플렉시블 표시장치.
According to claim 3,
The groove is disposed in the second protective layer, the first protective layer, the planarization layer, the test line, the interlayer insulating layer, and the gate insulating layer.
상기 수지패턴은 상기 제2보호층 상부에 배치되어 상기 차단필름에 접촉하는 플렉시블 표시장치.
According to claim 3,
The resin pattern is disposed on the second protective layer and contacts the blocking film.
제1커팅라인에 따라 상기 기판과 상기 테스트배선을 절단하여 상기 테스트패드를 제거하고 상기 테스트배선의 제거단부를 측면으로 노출하는 단계와;
상기 제1커팅라인의 내측에 배치되는 제2커팅라인을 따라 상기 테스트배선을 절단하여 상기 테스트배선의 절단단부를 노출하는 홈을 형성하는 단계와;
상기 홈을 통하여 노출되는 상기 테스트배선의 상기 절단단부를 덮는 수지패턴을 형성하는 단계
를 포함하는 플렉시블 표시장치의 제조방법.
forming test wires and test pads in the test area on a substrate including a display area including a plurality of pixels, a non-display area surrounding the display area, and a test area disposed outside the non-display area;
cutting the substrate and the test wire along a first cutting line to remove the test pad and exposing a removed end of the test wire to the side;
forming a groove exposing a cut end of the test wire by cutting the test wire along a second cutting line disposed inside the first cutting line;
Forming a resin pattern covering the cut end of the test wire exposed through the groove
A method of manufacturing a flexible display device comprising a.
상기 제1 및 제2커팅라인을 따른 상기 테스트배선의 절단은 각각 제1 및 제2레이저빔을 이용하여 수행되고,
상기 제1레이저빔의 세기는 상기 제2레이저빔의 세기보다 큰 플렉시블 표시장치의 제조방법.
According to claim 6,
The cutting of the test wire along the first and second cutting lines is performed using first and second laser beams, respectively,
The method of manufacturing a flexible display device in which the intensity of the first laser beam is greater than the intensity of the second laser beam.
상기 기판 상부의 상기 다수의 화소 각각에 반도체층을 형성하는 단계와;
상기 반도체층 상부에 게이트절연층을 형성하는 단계와;
상기 반도체층에 대응되는 상기 게이트절연층 상부에 게이트전극을 형성하는 단계와;
상기 게이트전극 상부에 층간절연층을 형성하는 단계와;
상기 층간절연층 상부에 상기 반도체층의 양단에 각각 연결되는 소스전극 및 드레인전극을 형성하는 단계와;
상기 소스전극 및 상기 드레인전극 상부에 평탄화층을 형성하는 단계
를 더 포함하는 플렉시블 표시장치의 제조방법.
According to claim 6,
forming a semiconductor layer on each of the plurality of pixels on the substrate;
forming a gate insulating layer on top of the semiconductor layer;
forming a gate electrode on top of the gate insulating layer corresponding to the semiconductor layer;
forming an interlayer insulating layer on top of the gate electrode;
forming a source electrode and a drain electrode respectively connected to both ends of the semiconductor layer on the upper part of the interlayer insulating layer;
Forming a planarization layer on top of the source electrode and the drain electrode
A method of manufacturing a flexible display device further comprising a.
상기 평탄화층 상부에 제1전극을 형성하는 단계와;
상기 제1전극의 가장자리부를 덮고, 상기 제1전극의 중앙부를 노출하는 뱅크층을 형성하는 단계와;
상기 뱅크층을 통하여 노출되는 제1전극 상부에 발광층을 형성하는 단계와;
상기 발광층 상부에 제2전극을 형성하는 단계와;
상기 제2전극 상부에 순차적으로 제1보호층, 입자커버층 및 제2보호층을 순차적으로 형성하는 단계와;
접착층을 통하여 상기 제2보호층 상부에 차단필름을 부착하는 단계와;
상기 차단필름 상부에 편광판을 형성하는 단계
을 더 포함하는 플렉시블 표시장치의 제조방법.
According to claim 8,
forming a first electrode on the planarization layer;
forming a bank layer covering an edge of the first electrode and exposing a central portion of the first electrode;
forming a light emitting layer on top of the first electrode exposed through the bank layer;
forming a second electrode on the light emitting layer;
sequentially forming a first protective layer, a particle cover layer, and a second protective layer on the second electrode;
attaching a blocking film to the upper portion of the second protective layer through an adhesive layer;
Forming a polarizing plate on top of the blocking film
A method of manufacturing a flexible display device further comprising a.
상기 홈은 상기 제2보호층, 상기 제1보호층, 상기 평탄화층, 상기 테스트배선, 상기 층간절연층 및 상기 게이트절연층에 형성되고,
상기 수지패턴은 상기 제2보호층 상부에 배치되어 상기 차단필름에 접촉하는 플렉시블 표시장치의 제조방법.According to claim 9,
The groove is formed in the second protective layer, the first protective layer, the planarization layer, the test wiring, the interlayer insulating layer, and the gate insulating layer,
The resin pattern is disposed on the second protective layer and contacts the blocking film.
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