KR102532841B1 - 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법 - Google Patents

적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102532841B1
KR102532841B1 KR1020210099463A KR20210099463A KR102532841B1 KR 102532841 B1 KR102532841 B1 KR 102532841B1 KR 1020210099463 A KR1020210099463 A KR 1020210099463A KR 20210099463 A KR20210099463 A KR 20210099463A KR 102532841 B1 KR102532841 B1 KR 102532841B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin
manufacturing
enamel
parts
dimensional
Prior art date
Application number
KR1020210099463A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20220017360A (ko
Inventor
얀 린티메르
부뒬 다미앙 르
베누아 베셰뜨
Original Assignee
코마도 쏘시에떼 아노님
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코마도 쏘시에떼 아노님 filed Critical 코마도 쏘시에떼 아노님
Publication of KR20220017360A publication Critical patent/KR20220017360A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102532841B1 publication Critical patent/KR102532841B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B45/00—Time pieces of which the indicating means or cases provoke special effects, e.g. aesthetic effects
    • G04B45/0076—Decoration of the case and of parts thereof, e.g. as a method of manufacture thereof
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A44—HABERDASHERY; JEWELLERY
    • A44C—PERSONAL ADORNMENTS, e.g. JEWELLERY; COINS
    • A44C27/00—Making jewellery or other personal adornments
    • A44C27/001—Materials for manufacturing jewellery
    • A44C27/005—Coating layers for jewellery
    • A44C27/006—Metallic coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44—DECORATIVE ARTS
    • B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
    • B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
    • B44C1/22—Removing surface-material, e.g. by engraving, by etching
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A44—HABERDASHERY; JEWELLERY
    • A44C—PERSONAL ADORNMENTS, e.g. JEWELLERY; COINS
    • A44C27/00—Making jewellery or other personal adornments
    • A44C27/001—Materials for manufacturing jewellery
    • A44C27/002—Metallic materials
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A44—HABERDASHERY; JEWELLERY
    • A44C—PERSONAL ADORNMENTS, e.g. JEWELLERY; COINS
    • A44C27/00—Making jewellery or other personal adornments
    • A44C27/001—Materials for manufacturing jewellery
    • A44C27/002—Metallic materials
    • A44C27/003—Metallic alloys
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44—DECORATIVE ARTS
    • B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
    • B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
    • B44C1/22—Removing surface-material, e.g. by engraving, by etching
    • B44C1/228—Removing surface-material, e.g. by engraving, by etching by laser radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44—DECORATIVE ARTS
    • B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
    • B44C5/00—Processes for producing special ornamental bodies
    • B44C5/04—Ornamental plaques, e.g. decorative panels, decorative veneers
    • B44C5/0415—Ornamental plaques, e.g. decorative panels, decorative veneers containing metallic elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
    • G03F7/2006—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light using coherent light; using polarised light
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B19/00—Indicating the time by visual means
    • G04B19/06—Dials
    • G04B19/10—Ornamental shape of the graduations or the surface of the dial; Attachment of the graduations to the dial
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B19/00—Indicating the time by visual means
    • G04B19/06—Dials
    • G04B19/10—Ornamental shape of the graduations or the surface of the dial; Attachment of the graduations to the dial
    • G04B19/103—Ornamental shape of the graduations or the surface of the dial; Attachment of the graduations to the dial attached or inlaid numbers
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B19/00—Indicating the time by visual means
    • G04B19/06—Dials
    • G04B19/18—Graduations on the crystal or glass, on the bezel, or on the rim
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B37/00—Cases
    • G04B37/0008—Cases for pocket watches and wrist watches
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B37/00—Cases
    • G04B37/22—Materials or processes of manufacturing pocket watch or wrist watch cases

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 국부 에나멜 하층 위에 놓이는 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법에 관한 것이다.

Description

적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법{METHOD FOR MANUFACTURING A PART COMPRISING AT LEAST ONE THREE-DIMENSIONAL METALLISED PATTERN}
본 발명은 국부 에나멜 하층 위에 놓이는 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 또한 이러한 제조 방법에 의해 제조된 부품에 관한 것이다. 이러한 부품은 특히 시계 외부 부품 또는 보석류로 장식된 부품일 수 있다.
시계 외부 부품 또는 보석류로 장식된 부품들을 제조하는 것이 알려져 있다. 예를 들어, 이러한 장식된 부품들은 시계의 일부분에 심미적 패턴을 인레이하는 것으로 구성될 수 있다. 이는 패턴들 이를 테면, 인덱스로 장식된 시계 베젤; 또는 그 외 인덱스로 장식된 시계 다이얼; 또는 하나 이상의 패턴들로 장식된 그 외 크라운, 크리스탈 또는 시계의 중간부, 또는 그 외 브레이슬릿 링크들일 수도 있다. 장식에 관련된 시계의 부분은 상승형 또는 딥 마킹과 함께 딥 금속, 이를 테면, 금, 은 또는 백금에 의해 마킹될 수 있다. 이것이 딥 마킹이면, 후자는 예를 들어, 기판 또는 시계 부분의 베이스 지지부에 이전에 형성된 중공들을 충전하는 것에 의해 형성된다.
이러한 딥 마킹을 수행하는데 사용된 원리는 물리 기상 증착 (PVD) 에 의해 전도성 층을 먼저 증착하는 것으로 이루어진다. 전도성 층이 증착되면, 중공들은 금속 이온 욕에 부품을 침지시킨 다음, 전류가 이 욕에서 순환되는 것에 의해 전기 주조함으로써 금속으로 충전된다. 따라서, 중공들은 마킹을 수행하도록 금속으로 충전된다. 이와 관련하여, 이러한 방법을 설명하는 세부사항은 특허 문헌 EP 2 138 323 A1 에 언급되어 있다. 그러나, 이러한 방법은 이것이 수개의 제조 단계들을 필요로 하기 때문에 복잡하고, 시계 외부 부품 상에 장식성 부품을 형성하기 위하여 구현하기에 비교적 느리며, 이는 단점이 된다. 또한, 이러한 방법의 다른 단점은 이것이 박막층만을 증착하는 것에 의해 동작하며, 이는 시계 외부 부품 상에 제조될 만족스러운 3 차원 장식 패턴들을 허용하지 않는다.
또한, 갈바닉 성장 또는 전해도금을 구현하는 시계들에 대한 장식된 부품들을 제조하기 위한 방법이 알려져 있다. 이러한 방법은 예를 들어, 특허 문헌 EP 3 035 128 A1 에 설명되어 있다. 이 문헌에 설명된 제조 방법은 실리콘 베이스 기판을 제공하는 것 및 그 부분의 두께를 관통하는 장식이 제공되는 상부 부분을 획득하도록 이 베이스 기판에서 마이크로머시닝을 수행하는 것으로 구성되는 단계들을 포함한다. 이 마이크로머시닝 단계는 베이스 기판의 상부 전도성 층 상에 감광성 수지의 층을 증착하는 것; 그 다음, 감광성 수지의 층 상에, 상부 부분의 그리고 제조될 장식의 패턴의 아웃라인 주변에 마스크를 두는 것; 그 다음, 수지의 일부 부분들을 현상하도록 수지를 마스크를 통하여 방사선에 노출시키는 것; 그 다음, 미현상된 수지 부분들을 제거하고 이에 따라 개구된 수지의 부분들을 금속성 재료로 충전하는 것; 금속성 재료의 성장을 구현하는 전해 도금 또는 전착을 수행하는 것; 그리고 마지막으로, 수지 모두를 제거하고, 베이스 기판으로부터 형성된 장식의 패턴으로 상부 부분을 떼어내는 것으로 이루어진 단계들을 포함한다. 그러나, 이러한 방법의 단점은 장식을 위한 정밀하고 마스터링된 3 차원 형상들의 용이한 제조를 허용하지 않는다는 것이다. 따라서, 이러한 방법은 시계 외부 부품 상에 클린하고 제어된 방식으로 3 차원 장식 패턴들을 제조하는 것을 허용하지 않는다.
따라서, 본 발명의 목적은 부품 상에 3 차원 금속화된 장식 패턴들을 용이하게 제조하고 복합, 정밀 및 제어된 형상들을 갖는 패턴들을 획득하게 하는 부품을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
이를 위하여, 본 발명은 국부 에나멜 하층 위에 놓이는 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법에 관한 것이고, 이는 독립항 1 에 언급된 특징들을 포함한다.
제조 방법의 특정한 형태들은 종속항들 2 내지 16 에 정의된다.
본 발명에 따른 제조 방법은 하나 이상의 에나멜 패턴(들)의 기판 상에서의 사전의 3 차원 형성 및 그 다음, 이들 패턴들 상의 구조화된 금속 층의 증착에 기인하여, 부품 상에 3 차원 금속성 장식 패턴들을 용이하게 제조가능하게 허용한다. 이에 따라 제조된 3 차원 장식 패턴들은 클린하고, 복합, 정밀 및 제어된 형상들을 유리하게 가질 수 있다. 또한, 금속화된 에나멜의 사용은 종래 기술의 해결방안에서 사용된 일부 재료들과 달리, 고온에 저항성이 있고 화학 제품들에 대해 불활성인 추가적인 이점을 갖는다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 따르면, 감광성 수지는 네가티브 감광성 수지이고, 3 차원 패턴(들)에 상보적인 수지 층의 부분은 수지 층의 미현상된 부분들이며, 나머지 수지 부분들은 수지 층의 현상된 부분들이다.
유리하게, 국부 에나멜 하층의 에나멜은 미리 소결되었다. 이는 에나멜을 다공성으로 만들고, 이에 따라, 에나멜 패턴(들)의 3 차원 형상화를 용이하게 한다.
이러한 목적을 위하여, 본 발명은 또한, 위에 설명된 제조 방법을 사용하여 제조되는 부품에 관한 것이고, 그리고 이는 청구항 17 에 언급된 특징들을 포함한다.
본 발명에 따라 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법의 목적, 이점들 및 특징들은 도면에 의해 예시된 적어도 하나의 비제한 실시형태에 기초하여 다음 설명에서 보다 양호하게 나타나며, 도면에서:
- 도 1 은 본 발명에 따라 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법의 연속하는 단계들을 도시하는 플로우 차트들이며, 여기서, 금속화된 패턴들은 국부 에나멜 하층 위에 있다;
- 도 2 는 도 1 의 국부 에나멜 하층을 제조하는 방법의 연속하는 단계들을 나타내는 플로우차트이다.
본 발명에 따라 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴 (4) 을 포함하는 부품 (2) 을 제조하는 방법이 도 1 을 참조하여 설명될 것이다. 부품 (2) 는 통상적으로 시계 외부 부품 또는 보석류로 장식된 부품, 이를 테면, 예를 들어, 시계 바젤, 또는 3 차원 인덱스로 장식된 시계 다이얼, 또는 그 외 크라운, 크리스탈 또는 시계의 중간부이다. 본 발명의 문맥에서 제한됨이 없이, 3 차원 금속화된 패턴들 (4) 은 예를 들어, 인덱스, 인덱스들, 로고들, 또는 그 외 심미적 장식들이다.
초기 단계 (10) 동안에, 기판 (6) 의 제공이 행해지며, 기판 상에는, 3 차원으로 하나 이상의 에나멜 패턴(들) (3) 이 미리 형성되어 있다. 바람직하게, 패턴 (3) 을 구성하는 에나멜은 미리 소결된다.
이 국부 에나멜 하층은 임의의 유형의 알려진 제조 방법에 따라 제조될 수 있다. 구체적으로, 그리고 본 발명의 문맥에서 이에 대한 제한을 두지 않고, 이러한 방법의 일 예가 도 2 를 참조하여 이하 설명될 것이다.
제 1 단계 (40) 동안에, 베어 기판 (6) 이 제공된다. 기판 (6) 은 고온, 특히, 최대 1400 ℃ 에 달할 수 있는 온도를 견딜 수 있는 재료로 이루어진다. 기판 (6) 은 바람직하게, 지르코니아, 알루미나, 사파이어 또는 루비로 이루어진 그룹에서 선택된다. 그러나 이는 또한, 반도체 기판 (6), 이를 테면, 실리콘, 또는 그 외 갈륨 아세나이드일 수 있고, 이것의 상부 층은 전도성일 수도 있거나 또는 천연 재료, 이를 테면, 진주층으로 형성된 기판일 수도 있다.
다음 단계 (42) 동안에, 감광성 수지의 층 (8) 이 기판 (6) 의 상부 표면 상에 증착된다.
다음 단계 (44) 동안에, 감광성 수지 층 (8) 은 수지 (8) 에서의 빈 부분들 (9) 을 형성하기 위한 목적으로 수지 (8) 의 부분들 (11) 을 국부적으로 현상하도록, 방사선 (5) 에 선택적으로 노출된다. 사용된 방사선 (5) 은 예를 들어, 레이저 또는 UV 램프에 의해 방출되는 자외선 (UV) 방사선이다. 수지 (8) 의 구조화를 수행하기 위해, 마스크 (도시 생략) 가 수지 층 (8) 에 적용되고, 빈 부분들 (9) 에 대응하는 마스크의 아웃라인이 형성되게 된다. 감광성 수지 (8) 는 예를 들어, 네가티브 감광성 수지이다. 이 수지 (8) 는 광중합성 수지, 예를 들어, 폴리이미드에 기초한 수지, PMMA (poly-methyl methacrylate) 또는 레퍼런스 SU-8 하에서 Shell Chemical 로부터 입수가능한 8관능성 에폭시 수지 및 예를 들어, 트리아릴술포늄 염으로부터 선택되는 광개시제일 수 있다. 마스크는 석영 플레이트일 수 있고, 그 위에 생성될 빈 부분들 (9) 에 따라 불투명 및 투명성 부분들을 갖는 마스킹 층이 형성된다. 대안적으로, 감광성 수지 (8) 는 포지티브 감광성 수지일 수 있다. 이 경우에, 마스크는 네가티브 감광성 수지로 사용되는 마스크의 반대이다. 이 단계 (44) 의 종료시, 마스크는 제거된다.
다음 단계 (46) 동안에, 형성될 빈 부분들 (9) 에 대응하는 수지 층 (8) 의 부분들이 제거된다. 이 제거 단계는 예를 들어, 물리적 또는 화학적 수단에 의해 수행된다. (도 2 에서의 경우에서와 같이) 네가티브 감광성 수지가 사용되는 경우에, 이는 제거되는, 수지 (8) 의 비조사된 부분들 (13) 이다. 그 후, 수지 (8) 에서 결과적으로 제거되는 부분들 (13) 은 수지 (8) 에서 빈 부분들 (9) 을 드러낸다. 이와 반대로, (도면에 도시되어 있지 않은 경우인) 포지티브 감광성 수지가 사용되는 경우에, 이들은 제거되는 수지의 조사되는 부분들이다. 비감광성 수지가 또한 사용될 수 있고, 이 경우에, 후자는 레이저 어블레이션을 통하여 기계적으로 제거된다.
다음 단계 동안에, 수지 (8) 에서의 빈 부분들 (9) 은 에나멜 파우더 (25) 로 충전된다.
다음 단계 (50) 동안에, 에나멜 파우더 (25) 는 사전 베이크된다. 이 목적을 위하여, 에나멜 파우더 (25) 는 예를 들어, 200℃ 의 온도로, 예를 들어, 50 분 동안에 가열된다. 이 동일 단계 (50) 동안에, 또는 다음 단계 동안에, 수지 (8) 의 나머지 부분들 (11) 은 예를 들어, 열적으로 제거된다. 이 목적을 위하여, 수지 (8) 의 나머지 부분들 (11) 은 예를 들어, 600℃ 의 온도로, 예를 들어, 30 분 동안 가열된다. 수지 (8) 의 최종 나머지 부분들 (11) 의 이러한 제거는 앞에서의 수지의 빈 부분들 (9) 에 대응하는 영역들에서 에나멜 패턴(들)(3) 이 드러나는 것을 허용한다.
바람직하게, 다음 단계 (52) 동안에, 기판 (6) 으로 형성되고 에나멜 패턴(들)(3) 으로 형성되는 어셈블리는 클리닝된다.
바람직하게, 최종 단계 (54) 동안에, 패턴(들)(3) 의 에나멜이 소결되고, 이는 에나멜 패턴(들)(3) 의 3 차원 형상화를 용이하게 하는 것 및 금속 층의 접착을 용이하게 하는 것을 허용한다.
도 2 에 도시된 패턴들 (3) 을 형성하는 국부 에나멜 하층을 제조하는 방법의 일 예는 복잡한 툴들을 필요로 하지 않고 구현이 비교적 간단하고 비용이 덜 든다는 이점을 갖는다.
도면들에 도시되지 않은 패턴들 (3) 을 형성하는 국부 에나멜 하층을 제조하는 방법의 다른 예는 하나 이상의 초기 단계들 동안에, 패드 프린팅을 하는 것에 의해 직접 에나멜을 적용하는 것으로 구성된다. 에나멜은 그 다음, 다음 단계 동안에 사전베이크된다. 이러한 목적을 위하여, 에나멜은 예를 들어, 177℃ 의 온도에서 예를 들어, 60 분 동안 가열된다. 바람직하게, 다음 단계 동안에, 패턴(들)의 에나멜이 소결된다. 이러한 목적을 위하여, 에나멜은 예를 들어, 860℃ 의 온도에서 예를 들어, 5 분 동안 소결된다. 이 소결 단계는 에나멜에서 원하는 형상들을 정의하고 이에 따라 에나멜 패턴(들)을 드러내게 하는 것을 허용한다. 바람직하게, 최종 단계에서, 기판 및 에나멜 패턴(들)로 형성된 어셈블리는 클리닝된다. 국부 에나멜 하층을 제조하기 위한 방법의 이 특정 예시적인 실시형태는 감광성 수지 상에 임의의 구조화를 필요로 하지 않는다는 이점을 갖는다.
도 1 에 예시된 바와 같이, 본 발명에 따른 제조 방법으로 돌아가면, 에나멜 패턴(들)(3) 은 다음의 우선적인 단계 동안에 클리닝된다.
다음 단계 (14) 동안에, 적어도 하나의 금속화 층 (15) 은 에나멜 패턴(들)(3) 상에 증착된다. 바람직하게, 도 1 에 예시된 바와 같이, 금속화 층 (15) 은 이 증착 단계 (14) 의 종료시, 에나멜 패턴(들)(3) 을 완전히 커버한다. 보다 바람직하게, 이 증착 단계 (14) 에서 사용된 금속화 재료는 크롬 질화물, 지르코늄 산질화물, 티타늄, 또는 그 외 금이다. 명백하게도, 금속화 단계는 수개의 금속 층들의 스택으로 이루어질 수 있다.
다음 단계 동안에, 감광성 수지 층 (17) 은 금속화 층 (15) 상에 증착된다. 바람직하게, 도 1 에 도시된 바와 같이, 감광성 수지 층 (17) 은 이 증착 단계의 종료시, 금속화 층 (15) 을 완전히 커버한다.
다음 단계 (18) 동안에, 감광성 수지 층 (17) 은 수지 부분들 (19) 을 국부적으로 현상하도록 방사선 (7) 에 선택적으로 노출된다. 이들 수지 부분들 (19) 은 3 차원 패턴(들)에 대응한다. 사용된 방사선 (7) 은 예를 들어, 램프에 의해 방출되는 자외선 (UV) 방사선이다. 수지 (17) 의 구조화를 수행하기 위하여, 마스크 (도시 생략) 가 수지 층 (17) 위에 적용되고, 마스크는 3 차원 패턴(들) 에 대응한다. 감광성 수지 (17) 는 예를 들어, 네가티브 감광성 수지이다. 이 수지 (17) 는 광중합성 수지, 예를 들어, 폴리이미드에 기초한 수지, PMMA (poly-methyl methacrylate) 또는 레퍼런스 SU-8 하에서 Shell Chemical 로부터 입수가능한 8관능성 에폭시 수지 및 예를 들어, 트리아릴술포늄 염으로부터 선택되는 광개시제일 수 있다. 마스크는 석영 플레이트일 수도 있으며, 이 플레이트 위에는, 불투명 및 투명 부분들을 갖는 마스킹 층이 형성되어 있다. 대안적으로, 감광성 수지 (8) 는 포지티브 감광성 수지일 수 있다. 이 경우에, 마스크는 네가티브 감광성 수지로 사용되는 마스크의 역이다. 이 단계 (18) 의 종료시, 마스크는 제거된다.
다른 실시형태에 따르면, 비감광성 수지, 예를 들어, 에폭시계 수지가 사용되고, 수지가 건조되면, 그 수지는 레이저 어블레이션을 통하여 기계적으로 제거되고, 이에 따라 마스크를 필요로 하지 않는다.
다음 단계 (20) 동안에, 패턴(들)에 상보적인 수지 층 (17) 의 부분들은 제거된다. 이 제거 단계 (20) 는 예를 들어, 물리적 또는 화학적 수단에 의해 수행된다. 이 동일 단계 (20) 동안에, 금속화 층 (15) 의 대응하는 하지 부분들 (21) 이 제거된다. 바람직하게, 패턴(들)에 상보적인 수지 층 (17) 의 부분들에 대응하는 금속화 층 (15) 의 하지 부분들 (21) 은 화학적 처리 (또한, 에칭으로 지칭됨) 에 의해 제거된다. (도 1 에서의 경우에서처럼) 네가티브 감광성 수지가 사용되는 경우에, 이는 패턴(들)에 상보적인 부분들을 형성하고 이 단계 (20) 동안에 제거되는 수지 (17) 의 비조사된 부분들 (23) 이다. 그 후, 국부적으로 현상되는 (그에 따라 조사되는) 수지 부분들 (19) 은 패턴(들)에 대응한다. 이와 반대로, 포지티브 감광성 수지가 사용되는 경우에 (도면들에는 도시되지 않은 경우임), 이는 패턴(들)에 상보적인 부분들을 형성하고 제거되는 수지의 조사된 부분들이다. 그 후, 비조사된 수지 부분들은 패턴(들)에 대응한다.
다음 단계 (22) 동안에, 패턴(들)에 대응하는 수지 (17) 의 나머지 부분들은 제거된다. 이 단계 (22) 는 예를 들어, 용제를 사용하여 수행된다. 이는 3 차원 금속화된 패턴(들) (4) 을 드러내게 하는 것을 허용한다. 그 다음, 각각의 패턴 (4) 은 국부 에나멜 하층 (3) 상에 증착된 금속화 재료 (15) 로 구성된다. (도 1 에서의 경우에서처럼) 네가티브 감광성 수지가 사용되는 경우에, 이는 나머지 부분들을 형성하고 이 단계 (22) 동안에 제거되는 수지 (17) 의 현상된 부분들 (19) 이다. 이와 반대로, 포지티브 감광성 수지가 사용되는 경우에 (도면에는 도시하지 않은 경우임), 이는 나머지 부분들을 형성하고 이 단계 (22) 동안에 제거되는 수지의 미현상된 부분들이다.
바람직하게, 최종 단계 동안에, 부품 (2) 은 클리닝된다.
따라서, 본 발명에 따른 제조 방법은 부품 (2) 상에 3 차원 금속화된 장식 패턴들 (4) 을 용이하게 생성하는 것을 허용한다. 3 차원 장식 패턴들 (4) 은 이에 따라 클린하고, 유리하게 복합, 정밀 및 마스터링된 형상들을 가질 수 있다.

Claims (17)

  1. 국부 에나멜 하층 (3) 위에 놓이는 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴들 (4) 을 포함하는 부품 (2) 을 제조하는 방법으로서,
    상기 방법은 하기 단계들;
    - 기판 (6) 을 제공하는 단계 (10) 로서, 상기 기판 상에 미리 3 차원으로 하나 이상의 에나멜 패턴들 (3) 이 형성되는, 상기 기판 (6) 을 제공하는 단계 (10);
    - 상기 에나멜 패턴들 (3) 상에 적어도 하나의 금속화 층 (15) 을 증착하는 단계 (14);
    - 상기 금속화 층 (15) 상에 수지 층 (17) 을 증착하는 단계;
    - 3 차원 금속화된 패턴들 (4) 에 대응하거나 또는 3 차원 금속화된 패턴들 (4) 에 상보적인 수지 부분들 (19) 을 국부적으로 형성하도록 상기 수지 층 (17) 을 선택적으로 가공하는 단계 (18);
    - 상기 금속화 층 (15) 에 대응하는 하지 부분들 (21) 뿐만 아니라 상기 3 차원 금속화된 패턴들 (4) 에 상보적인 상기 수지 층의 부분들 (23) 을 제거하는 단계 (20); 및
    - 대응하는 상기 3 차원 금속화된 패턴들 (4) 을 드러내기 위해, 나머지 수지 부분들 (19) 을 제거하는 단계로서, 상기 3 차원 금속화된 패턴들 (4) 의 각각의 패턴 (4) 은 국부 에나멜 하층 (3) 상에 증착된 금속화 재료로 형성되는, 상기 나머지 수지 부분들 (19) 을 제거하는 단계를 포함하는, 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    수지 (17) 는 네가티브 감광성 수지 또는 포지티브 감광성 수지이고, 상기 3 차원 금속화된 패턴들에 상보적인 상기 수지 층의 부분들 (23) 은 상기 수지 층 (17) 의 미현상 또는 현상된 부분들이고, 상기 나머지 수지 부분들 (19) 은 상기 수지 층 (17) 의 현상 또는 미현상된 부분들인 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 국부 에나멜 하층 (3) 의 에나멜은 미리 소결되어 있는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 금속화 층 (15) 을 증착하는 단계 (14) 전에, 상기 에나멜 패턴들(3) 을 클리닝하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 나머지 수지 부분들 (19) 은 용제에 의해 제거되는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 부품 (2) 을 클리닝하는 최종 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    금속화 재료 (15) 는 크롬 질화물, 지르코늄 산질화물, 금 또는 티타늄인 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    감광성 수지 (17) 는 광중합성 수지, 또는 광중합성 에폭시 수지, 또는 8관능성 에폭시 수지 SU-8 인 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  9. 제 1 항에 있어서,
    비감광성 수지는 에폭시계 수지인 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    감광성 수지 층 (17) 을 선택적으로 가공하는 단계 (18) 는 UV 램프에 의해 수행되며, 상기 수지 층 (17) 상에 마스크를 적용하는 초기 단계를 포함하고, 상기 마스크의 아웃라인은 상기 3 차원 금속화된 패턴들에 대응하는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  11. 제 1 항에 있어서,
    비감광성 수지 층을 선택적으로 가공하는 단계 (18) 는 레이저 어블레이션 (laser ablation) 에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 3 차원 금속화된 패턴들에 상보적인 수지 층의 부분들 (23) 아래에 있는 금속화 층 (15) 의 부분들 (21) 은 에칭에 의해 제거되는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 금속화 층 (15) 을 증착하는 단계 (14) 의 종료시, 상기 금속화 층 (15) 은 상기 에나멜 패턴들(3) 을 완전히 커버하는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 층 (17) 을 증착하는 단계의 종료시, 수지 (17) 가 금속화 층 (15) 을 완전히 커버하는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 (6) 은 최대 1400 ℃ 에 이를 수 있는 온도를 견딜 수 있는 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 기판 (6) 의 재료는 지르코니아, 알루미나 및 사파이어로 이루어진 그룹에서 선택되는 것을 특징으로 하는 부품 (2) 을 제조하는 방법.
  17. 제 1 항에 따른 제조하는 방법을 사용하여 제조된 부품 (2) 으로서,
    상기 부품 (2) 은 시계 외부 부품 또는 보석류로 장식된 부품인 것을 특징으로 하는 부품 (2).
KR1020210099463A 2020-08-04 2021-07-28 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법 KR102532841B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP20189291.6 2020-08-04
EP20189291.6A EP3951512B1 (fr) 2020-08-04 2020-08-04 Procede de fabrication d'une piece comprenant au moins un motif metallise en trois dimensions

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220017360A KR20220017360A (ko) 2022-02-11
KR102532841B1 true KR102532841B1 (ko) 2023-05-15

Family

ID=71948444

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210099463A KR102532841B1 (ko) 2020-08-04 2021-07-28 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11857035B2 (ko)
EP (1) EP3951512B1 (ko)
JP (1) JP7233478B2 (ko)
KR (1) KR102532841B1 (ko)
CN (1) CN114063423B (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023182120A (ja) * 2022-06-14 2023-12-26 セイコーエプソン株式会社 時計部品、時計および時計部品の製造方法
CN117923812B (zh) * 2024-03-21 2024-05-24 辽宁拓邦鸿基半导体材料股份有限公司 一种石英片及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016128799A (ja) * 2014-12-19 2016-07-14 オメガ・エス アー 時計または宝飾品の部品のための装飾されたエレメントを作製する方法、およびこの方法によって作製されるエレメント
US20190278182A1 (en) * 2018-03-09 2019-09-12 The Swatch Group Research And Development Ltd Method for fabricating a metal decoration on a dial and dial obtained by this method

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6213400A (ja) * 1985-07-12 1987-01-22 大日本印刷株式会社 琺瑯成形体の表面にエンボス模様を形成する方法
FR2661136B1 (fr) * 1990-04-18 1992-08-21 Fraporlux Sa Procede de realisation de motifs metalliques en relief sur une surface vernissee et polie.
JP4696533B2 (ja) * 2003-12-16 2011-06-08 セイコーエプソン株式会社 装飾部品、装飾部品の製造方法、シート状シール、時計、および被装飾部品
JP2007046984A (ja) * 2005-08-09 2007-02-22 Citizen Seimitsu Co Ltd 装飾部材及びその装飾部材を設けた表示板とその製造方法
EP2138323A1 (fr) 2008-06-23 2009-12-30 The Swatch Group Research and Development Ltd. Pièce décorative réalisée par incrustation
JP2010155769A (ja) 2008-12-05 2010-07-15 Toto Ltd 衛生陶器
EP2503414A1 (fr) 2011-03-23 2012-09-26 Rubattel et Weyermann S.A. Pièce émaillée décorée
EP2628607B1 (fr) * 2012-02-15 2016-08-03 Omega SA Dispositif d'ancrage d'une incrustation métallique
JP6213400B2 (ja) 2014-07-04 2017-10-18 オムロン株式会社 モニタリング装置
CH710531A2 (fr) 2014-12-17 2016-06-30 Nivarox Far Sa Procédé de réalisation d'un composant décoré d'une pièce d'horlogerie ou de bijouterie, et composant réalisé par le procédé.
EP3035129B1 (fr) * 2014-12-19 2020-11-04 The Swatch Group Research and Development Ltd Procede de realisation d'un element decore d'une piece d'horlogerie ou de bijouterie
CH712474A2 (fr) * 2016-05-19 2017-11-30 Swatch Group Res & Dev Ltd Procédé de fabrication d'une pièce pour l'horlogerie dotée d'un élément d'habillage en relief.
EP3246767B1 (fr) * 2016-05-19 2019-01-09 The Swatch Group Research and Development Ltd. Procédé de fabrication d'une piece d'horlogerie dotée d'un élément d'habillage creux ou en relief
CH713250B1 (fr) * 2016-12-16 2021-01-29 Rubattel Et Weyermann S A Procédé de fabrication d'un élément d'habillage, notamment d'un cadran, d'horlogerie ou de bijouterie, en matériau non conducteur et comportant des décors gravés métallisés et/ou colorés.
CH713311A2 (fr) * 2016-12-22 2018-06-29 Swatch Group Res & Dev Ltd Procédé de réalisation d'un motif sur une pièce horlogère et pièce horlogère.
EP3556911A1 (fr) * 2018-04-19 2019-10-23 Comadur S.A. Procédé de structuration d'un motif décoratif ou technique dans un objet réalisé en un matériau amorphe, semi-cristallin ou cristallin au moins partiellement transparent

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016128799A (ja) * 2014-12-19 2016-07-14 オメガ・エス アー 時計または宝飾品の部品のための装飾されたエレメントを作製する方法、およびこの方法によって作製されるエレメント
US20190278182A1 (en) * 2018-03-09 2019-09-12 The Swatch Group Research And Development Ltd Method for fabricating a metal decoration on a dial and dial obtained by this method

Also Published As

Publication number Publication date
CN114063423A (zh) 2022-02-18
EP3951512A1 (fr) 2022-02-09
US20220039526A1 (en) 2022-02-10
EP3951512B1 (fr) 2023-03-01
JP2022029426A (ja) 2022-02-17
US11857035B2 (en) 2024-01-02
JP7233478B2 (ja) 2023-03-06
KR20220017360A (ko) 2022-02-11
CN114063423B (zh) 2023-03-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102532841B1 (ko) 적어도 하나의 3 차원 금속화된 패턴을 포함하는 부품을 제조하는 방법
KR101762038B1 (ko) 타임피스 또는 장신구 피스용 장식 엘리먼트의 제조 방법, 및 그 제조방법에 의해 제조된 엘리먼트
JP6133961B2 (ja) 計時器又は装身具用の装飾が施された構成要素の製造方法及びその方法により作製される構成要素
KR102523685B1 (ko) 전도성 재료로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼
JP6127125B2 (ja) 電鋳によって蒸着された時計の外側要素に装飾品を嵌め込むための方法及びこの方法によって作製される外側要素
TWI764125B (zh) 裝飾機械零件之方法
US11499242B2 (en) Method for producing a metal decoration on a dial and dial obtained according to this method
US10301732B2 (en) Method for fabrication of a timepiece provided with a multi-level exterior element
RU2806098C1 (ru) Способ декорирования подложки
US20210177111A1 (en) Method for decorating a mechanical part
JP7446380B2 (ja) 基材を装飾する方法
JP7488876B2 (ja) 表盤上に装飾を作る方法
RU2023119477A (ru) Способ декорирования подложки

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant