KR102529145B1 - 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치는, 기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치로서, 상기 필라멘트에 전압을 인가하는 필라멘트 전압원과, 상기 애노드에 전압을 인가하는 애노드 전압원과, 상기 전자석에 전압을 인가하는 전자석 전압원과, 상기 복수의 타겟 중 발산하려는 에너지에 대응되는 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원에서의 전압 인가 타이밍을 제어하는 타이밍 제어부를 포함할 수 있다.

Description

다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING GENERATE MULTI ENERGY X-RAY}
본 발명은 서로 다른 에너지를 가지는 엑스선을 발생시키도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 엑스선(X-ray)은 산업, 과학, 의료 등 다양한 분야에서 비파괴 검사, 재료의 구조 및 물성 검사, 영상 진단, 보안 검색 등의 용도로 사용되고 있다. 엑스선을 이용한 이와 같은 다양한 검사는, 물질의 밀도 차이에 따라 엑스선의 흡수 정도가 다른 특성을 이용하여, 물체에 엑스선을 투과시킨 후 밀도 차에 따라 다르게 도출되는 영상 정보를 이용하여 물체 내부의 구조나 형태 등을 구별하는 방식으로 이루어진다.
단일 에너지를 가지는 엑스선을 이용하여 영상을 획득하는 것이 일반적이나, 경우에 따라 보다 고품질의 영상을 얻기 위해서는 서로 다른 에너지를 가지는 엑스선을 이용하여 영상을 획득하게 된다.
기존에는 이와 같은 다중 에너지 엑스선을 이용하여 영상을 얻기 위해 전자빔 진행 궤도를 고정시키고 모터로 타겟을 회전시켜 서로 다른 타겟에 전자빔이 충돌되는 방식을 이용하거나, 다수의 캐소드를 사용하여 선별적으로 다중 에너지 엑스선을 발생시키는 방식을 이용하였다. 하지만, 이러한 방식은 다수의 캐소드, 모터 및 냉각 채널과 같은 기계장치가 요구되기 때문에 엑스선 발생 장치의 부피가 크고 기계적 결함의 위험성을 가지게 된다. 엑스선 발생 장치가 보다 널리 보급되기 위해서는 부피가 최소화되고 신뢰성이 확보될 필요가 있다.
한국등록특허공보, 10-1092210호 (2011.12.03. 등록)
본 발명의 해결하고자 하는 과제는, 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
또한, 복수의 타겟, 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 전자빔을 제어하여 다중 에너지 엑스선을 발생시킴으로써, 부피가 최소화된 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치 및 방법을 제공하는 것 등이 본 발명의 해결하고자 하는 과제에 포함될 수 있다.
다만, 본 발명의 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 것으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 해결하고자 하는 과제는 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치는, 기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치로서, 상기 필라멘트에 전압을 인가하는 필라멘트 전압원과, 상기 애노드에 전압을 인가하는 애노드 전압원과, 상기 전자석에 전압을 인가하는 전자석 전압원과, 상기 복수의 타겟 중 발산하려는 에너지에 대응되는 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원에서의 전압 인가 타이밍을 제어하는 타이밍 제어부를 포함할 수 있다.
또한, 상기 타이밍 제어부는, 상기 전자빔이 형성되도록 상기 필라멘트 전압원 및 상기 애노드 전압원이 턴온 또는 턴오프 되도록 제어하고, 상기 전자빔의 방향이 조절되도록 상기 전자석 전압원이 턴온 또는 턴오프 되도록 제어할 수 있다.
또한, 상기 전자석 전압원은, 상기 전자석의 음극 및 양극에 연결되고, 상기 타이밍 제어부는, 조절하려는 전자빔의 방향에 따라 상기 전자석 전압원에서 상기 전자석의 음극 또는 상기 전자석의 양극에 전압을 인가하도록 제어하거나, 상기 전자석에 전압이 인가되지 않도록 제어할 수 있다.
또한, 상기 복수의 타겟은, 제 1 에너지, 제 2 에너지, 제 3 에너지에 각각 대응되고, 상기 전자석 전압원은, 상기 전자석의 음극 및 양극에 연결되고, 상기 타이밍 제어부는, 상기 제 1 에너지에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 상기 필라멘트 전압원을 턴온 시키고, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 중에 상기 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 상기 전자석 전압원을 턴온시킨 후, 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 제어할 수 있다.
또한, 상기 타이밍 제어부는, 상기 제 2 에너지에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 상기 전자석 전압원은 턴오프 시키면서 상기 필라멘트 전압원을 턴온 시키고, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 중에 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 제어할 수 있다.
또한, 상기 타이밍 제어부는, 상기 제 3 에너지에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 상기 필라멘트 전압원을 턴온 시키고, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 중에 상기 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 상기 전자석 전압원을 턴온시킨 후, 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 제어할 수 있다.
또한, 상기 복수의 타겟은, 서로 다른 물질을 포함하며, 제 1 에너지와 대응되는 제 1 타겟, 제 2 에너지와 대응되는 제 2 타겟 및 제 3 에너지와 대응되는 제 3 타겟을 포함하고, 상기 전자석 전압원은, 상기 전자석의 음극 및 양극에 연결되고, 상기 타이밍 제어부는, 상기 전자빔의 방향이 상측으로 휘어짐에 따라 상기 상측으로 휘어진 전자빔이 상기 제 1 타겟에 충돌하여 제 1 엑스선이 발생되도록 상기 전자석 전압원에서 상기 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 제어하고, 상기 전자빔이 휘어지지 않고 직선으로 발생됨에 따라 상기 직선으로 발생되는 전자빔이 상기 제 2 타겟에 충돌하여 제 2 엑스선이 발생되도록 상기 전자석 전압원에서 전압이 인가되지 않도록 제어하고, 상기 전자빔의 방향이 하측으로 휘어짐에 따라 상기 하측으로 휘어진 전자빔이 상기 제 3 타겟에 충돌하여 제 3 엑스선이 발생되도록 상기 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 제어할 수 있다.
또한, 상기 제 1 엑스선, 제 2 엑스선 및 제 3 엑스선은, 서로 상이한 에너지 및 투과율을 가질 수 있다.
또한, 상기 타이밍 제어부는, 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원 각각에서 상기 필라멘트, 상기 애노드 및 상기 전자석에 전압이 인가되는 시간을 고려하여 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원에서 인가하는 전압을 제어할 수 있다.
일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법은, 기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치에 의해 수행되는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법에 있어서, 상기 복수의 겟 중 발산하려는 에너지에 대응되는 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 상기 필라멘트, 상기 애노드 및 상기 전자석 각각에 전압을 인가하는 필라멘트 전압원, 애노드 전압원 및 전자석 전압원에서의 전압 인가 타이밍을 제어하는 단계와, 상기 제어하는 단계에서의 상기 제어에 기초하여 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원 각각이 턴온 또는 턴오프되는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치 및 방법은, 기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 전자빔을 제어하여 다중 에너지 엑스선을 발생시킴으로써 부피가 최소화 되고 결합에 대한 신뢰성이 확보될 수 있다.
또한, 전자빔이 형성되도록 필라멘트 전압원 및 애노드 전압원에서의 전압 인가 타이밍을 제어하고, 형성된 전자빔의 방향이 조절되도록 전자석 전압원에서의 전압 인가 타이밍을 제어하여, 복수의 타겟 중 발산하려는 에너지에 대응되는 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌되도록 하여 엑스선을 발생시킬 수 있다.
다만, 본 발명에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 개시가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치의 블록도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치의 블록도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 서로 다른 에너지를 가지는 전자빔이 발생되는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 일 실시예에 따른 양극 방향으로 전자빔을 조절 하기 위한 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치의 전압 타이밍 다이어그램이다.
도 5는 일 실시예에 따른 직진 방향으로 전자빔을 조절하기 위한 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치의 전압 타이밍 다이어그램이다.
도 6은 일 실시예에 따른 음극 방향으로 전자빔을 조절하기 위한 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치의 전압 타이밍 다이어그램이다.
도 7은 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법에 대한 예시적인 흐름도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 발명의 실시예들을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명의 실시예에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)의 블록도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)는 기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 포함하는 다중 에너지 엑스선 튜브에 인가되는 전압을 제어하는 장치일 수 있다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)는 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120), 전자석 전압원(130), 및 타이밍 제어부(140)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 아울러, 이러한 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100) 및 이에 포함된 구성 각각은 소프트웨어 모듈이나 하드웨어 모듈 형태로 구현되거나 또는 소프트웨어 모듈과 하드웨어 모듈이 조합된 형태, 예컨대 컴퓨터나 스마트 기기 등에서 구현될 수 있고, 각각의 구성들은 전기적으로 연결될 수 있다.
필라멘트 전압원(110)은 필라멘트와 연결되어, 후술할 타이밍 제어부(140)의 제어를 받아, 필라멘트 전압원(110)이 턴온되어 필라멘트에 전압을 인가하거나, 필라멘트 전압원(110)이 턴오프되어 필라멘트에 전압을 인가하지 않을 수 있다.
애노드 전압원(120)은 애노드와 연결되어, 타이밍 제어부(140)의 제어를 받아, 애노드 전압원(120)이 턴온되어 애노드에 전압을 인가하거나, 애노드 전압원(120)이 턴오프되어 애노드에 전압을 인가하지 않을 수 있다.
전자석 전압원(130)은 전자석의 음극 및 양극에 연결되며, 타이밍 제어부(140)의 제어를 받아 전자석 전압원(130)이 턴온되어 전자석의 음극 또는 양극에 전압을 인가하거나, 전자석 전압원(130)이 턴오프되어 전자석에 전압이 인가되지 않도록 할 수 있다.
타이밍 제어부(140)는 복수의 타겟 중 발산하려는 에너지에 대응되는 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)의 전압 인가 타이밍을 제어할 수 있다.
보다 상세히 타이밍 제어부(140)는 전자빔이 형성되도록 필라멘트 전압원(110) 및 애노드 전압원(120)이 턴온 또는 턴오프되도록 제어할 수 있다.
여기서, 전자빔(또는 전자)은 인가되는 전압에 따라 소정 크기의 에너지를 가질 수 있다. 예를 들어, 인가되는 전압의 크기가 클수록 전자빔은 높은 에너지를 가지게 될 수 있다. 이에 따라 인가되는 전압을 조정함으로써 전자빔의 에너지가 조정될 수 있다.
한편, 일반적으로 전자빔의 진행 방향은 직선의 형태를 가질 수 있는데, 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)는 전자빔의 진행 방향과 수직하게, 즉 전자 빔의 진행 방향의 위와 아래에 소정 거리만큼 이격된 채로 마주보도록 이격되어 배치된 복수의 전자석 사이의 공간을 지나가는 전자빔의 진행 방향이 소정 각도만큼 휘어지게 되는 현상을 이용하여 전자빔 방향을 조절할 수 있다.
구체적으로, 복수의 전자석(저탄소강 전자석일 수 있음) 사이에는 자기장이 형성될 수 있고, 이와 같이 형성된 자기장에 의해 복수의 전자석 사이의 공간을 지나가는 전자빔의 진행 방향이 소정 각도만큼 휘어지게 될 수 있다. 즉, 전자석의 자기장에 의해 전자빔(또는 전자빔을 구성하는 전자)은 로렌츠 힘을 받고 진행 방향이 소정 각도만큼 휘어지게 될 수 있다.
이때, 전자빔의 에너지에 따라 휘어지는 정도가 상이할 수 있다. 예를 들어, 전자빔의 에너지가 낮을수록 에너지가 높은 전자빔에 비해 상대적으로 많이 휘어지고 전자빔의 에너지가 높을수록 에너지가 낮은 전자빔에 비해 상대적으로 조금 휘어질 수 있다.
다시 말해, 전자빔은 상술한 바와 같이 인가되는 전압이 클수록 에너지가 크기 때문에, 인가되는 전압의 크기를 조정함으로써 전자빔의 에너지가 설정된 값이 되도록 하고 전자석에 의해 자기장이 형성되도록 함으로써 전자빔의 진행 방향이 기 지정된 각도로 휘어지도록 제어될 수 있다.
따라서, 전자빔의 진행 방향이 기 지정된 각도로 휘어지도록 타이밍 제어부(140)는 전자석 전압원(130)이 턴온 또는 턴오프 되도록 제어할 수 있다.
예를 들어, 타이밍 제어부(140)는 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130) 각각을 턴온시켜 소정의 시간 동안 전압이 인가되도록 제어하거나, 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130) 각각을 턴오프시켜 전압이 인가되지 않도록 제어할 수 있다.
이때, 타이밍 제어부(140)는 전자석 전압원(130)에서 인가하는 전압을 제어할 경우, 조절하려는 전자빔의 방향에 따라 전자석 전압원(130)을 턴온시켜 전자석의 음극 또는 전자석의 양극에 전압을 인가하도록 제어하거나, 전자석 전압원(130)을 턴오프시켜 전자석에 전압이 인가되지 않도록 제어할 수 있다.
후술하겠으나, 복수의 타겟 각각은 다중 에너지 엑스선의 발생을 위해 서로 다른 물질(또는 원소)로 구성되며 소정 거리 간격을 가지도록 위치될 수 있으며, 전자빔의 진행 방향이 제어됨에 기초하여 복수의 타겟 중 적어도 하나의 타겟 부분, 즉 원하는 타겟에 전자빔이 충돌될 수 있다. 이때, 서로 다른 물질 각각에 전자빔이 충돌될 경우 발생시킬 수 있는 에너지 대역은 서로 상이할 수 있기 때문에 전자빔의 진행 방향을 제어하여 복수의 타겟 각각에 전자빔이 충돌되도록 함으로써 복수의 타겟 각각으로부터 서로 다른 에너지를 가지는 엑스선이 발생될 수 있다.
일 실시예로서, 복수의 타겟은 서로 다른 에너지 대역을 가지는 제 1 에너지, 제 2 에너지 및 제 3 에너지에 각각 대응될 수 있으며, 이때, 타이밍 제어부(140)는 제 1 에너지에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어 할 경우, 필라멘트 전압원(110)을 턴온 시키고, 필라멘트 전압원(110)이 턴온되는 중에, 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 전자석 전압원(130)을 턴온시킨 후, 애노드 전압원(120)이 턴온되도록 제어할 수 있다.
또한, 타이밍 제어부(140)는 제 2 에너지에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 전자석 전압원(130)은 턴오프 시키면서 필라멘트 전압원(110)을 턴온 시키고, 필라멘트 전압원(110)이 턴온되는 중에 애노드 전압원(120)이 턴온되도록 제어할 수 있다.
또한, 타이밍 제어부(140)는 제 3 에너지에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 필라멘트 전압원(110)을 턴온 시키고, 필라멘트 전압원(110)이 턴온되는 중에 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 전자석 전압원(130)을 턴온시킨 후, 애노드 전압원(120)이 턴온되도록 제어할 수 있다.
이때, 복수의 타겟이 서로 다른 물질을 포함하며, 제 1 에너지와 대응되는 제 1 타겟, 제 2 에너지와 대응되는 제 2 타겟 및 제 3 에너지와 대응되는 제 3 타겟을 포함할 경우, 타이밍 제어부(140)는 전자빔의 방향이 상측으로 휘어짐에 따라 상측으로 휘어진 전자빔이 제 1 타겟에 충돌하여 제 1 엑스선이 발생되도록 전자석 전압원(130)에서 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 제어할 수 있다.
또한, 타이밍 제어부(140)는 전자빔이 휘어지지 않고 직선으로 발생됨에 따라 직선으로 발생되는 전자빔이 제 2 타겟에 충돌하여 제 2 엑스선이 발생되도록 전자석 전압원(130)에서 전압이 인가되지 않도록 제어할 수 있다.
또한, 타이밍 제어부(140)는 전자빔이 하측으로 휘어짐에 따라 하측으로 휘어진 전자빔이 제 3 타겟에 충돌하여 제 3 엑스선이 발생되도록 전자석 전압원(130)에서 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 제어할 수 있다.
여기서, 타이밍 제어부(140)에서 전자석 전압원(130)을 제어함에 따라 발생된 제 1 엑스선, 제 2 엑스선 및 제 3 엑스선은 서로 상이한 에너지 및 투과율을 가질 수 있다.
보다 상세히, 에너지와 투과율은 비례하는 특성을 가지기 때문에 제 1 엑스선이 제 2 엑스선 및 제 3 엑스선보다 에너지가 작을 경우, 투과율 또한 제 1 엑스선 및 제 2 엑스선보다 작으므로, 제 1 엑스선을 이용하여 손을 촬영하는데 사용할 수 있다. 또한, 제 2 엑스선이 제 1 엑스선 및 제 3 엑스선보다 에너지가 클 경우, 투과율 또한 제 1 엑스선 및 제 3 엑스선보다 크므로, 제 3 엑스선을 이용하여 두부(또는 머리)를 촬영하는데 사용할 수 있다.
한편, 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)에 의해 형성되는 전자빔(또는 에너지 레벨)의 개수와 서로 다른 물질로 구성되는 복수 개의 타겟 개수를 곱한 값만큼 엑스선이 발생될 수 있다.
예를 들어, 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)에 의해 형성되는 전자빔(또는 에너지 레벨)의 개수가 3개이고, 서로 다른 물질로 구성되는 복수 개의 타겟 개수가 3개일 경우에는 총 9개의 엑스선이 발생될 수 있다.
한편, 타이밍 제어부(140)는 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130) 각각에서 필라멘트, 애노드 및 전자석에 전압이 인가되는 시간을 고려하여 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서 인가하는 전압을 제어할 수 있다.
즉, 타이밍 제어부(140)는 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에 전압을 제어하는 신호를 전송한 후, 실제로 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에 의해 인가되는 전압이 반영되는 시간을 고려하여 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서 인가하는 전압을 제어할 수 있다.
더 나아가, 타이밍 제어부(140)는 형성하려는 전자빔 또는 조절하려는 전자빔의 방향에 따라 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에 의해 인가되는 전압 세기를 조절할 수 있으며, 예를 들어 전자빔 에너지 간 전자빔 도달 크기를 고려하여 전자빔이 중첩되지 않도록 전자석에 공급되는 전압 세기를 조절할 수 있다.
한편, 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)에서 발생된 서로 다른 에너지를 가지는 엑스선은 외부로 방출됨에 기초하여 통합적으로 고려됨으로써 최종적으로 다중 에너지 엑스선 영상이 생성될 수 있다. 서로 다른 에너지를 가지는 엑스선들의 통합과 관련하여서는 통상의 기술자에게 용이한바 자세한 설명은 생략하겠다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치의 블록도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)는 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120), 전자석 전압원(130), 및 타이밍 제어부(140) 이외에 그리드 전압원(150)을 더 포함할 수 있으며, 그리드 전압원(150)은 그리드(focusing-cup)와 연결되어, 타이밍 제어부(140)의 제어를 받아, 그리드 전압원(150)이 턴온되어 그리드에 전압을 인가하거나, 그리드 전압원(150)이 턴오프되어 그리드에 전압을 인가하지 않을 수 있다.
이하, 타이밍 제어부(140)에서 전압을 제어하는 것에 대하여 도 3 내지 도 6을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
도 3은 일 실시예에 따른 서로 다른 에너지를 가지는 전자빔이 발생되는 것을 설명하기 위한 도면이고, 도 4는 일 실시예에 따른 양극 방향으로 전자빔을 조절 하기 위한 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치의 전압 타이밍 다이어그램이고, 도 5는 일 실시예에 따른 직진 방향으로 전자빔을 조절하기 위한 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치의 전압 타이밍 다이어그램이고, 도 6은 일 실시예에 따른 음극 방향으로 전자빔을 조절하기 위한 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치의 전압 타이밍 다이어그램이고,
먼저, 도 3을 참조하면, 타이밍 제어부(140)가 필라멘트(300) 및 애노드(310) 각각에 전압이 인가되도록 필라멘트 전압원(110) 및 애노드 전압원(120)이 턴온되도록 제어할 경우, 필라멘트(음극)(300)에서 전자가 방출되어 전자빔이 형성될 수 있으며, 필라멘트(103)에서 전자가 방출됨에 기초하여 전자빔은 애노드(양극)(305)으로 가속되는 형태로 진행할 수 있다.
또한, 타이밍 제어부(140)가 전자석(307)에 전압이 인가되도록 전자석 전압원(130)이 턴온되도록 제어할 경우, 필라멘트(음극)(300)에서 전자가 방출되어 형성된 전자빔(예: 제 1 전자빔(310), 제 2 전자빔(320), 제 3 전자빔(330))은 서로 다른 각도로 휘어져 서로 다른 타겟(예: 제 1 타겟(315), 제 2 타겟(325), 제 3 타겟(335))에 각각 충돌됨을 확인할 수 있다.
구체적으로, 제 1 전자빔(310), 제 2 전자빔(320), 제 3 전자빔(330) 각각은 음극에 기 지정된 서로 다른 전압이 인가된 경우의 예를 한번에 나타낸 것일 수 있다.
예를 들어, 제 1 전자빔(310)은 40kV(제 1 에너지)의 전압이 인가되는 경우 생성되는 전자빔일 수 있고, 제 2 전자빔(320)은 60kV(제 2 에너지)의 전압이 인가되는 경우 생성되는 전자빔일 수 있고, 제 3 전자빔(330)은 50kV(제 3 에너지)의 전압이 인가되는 경우 생성되는 전자빔일 수 있다.
제 1 타겟(315), 제 2 타겟(325) 및 제 3 타겟(335) 각각은 서로 다른 물질로 구성될 수 있다. 예를 들어, 제 1 타겟(315), 제 2 타겟(325) 및 제 3 타겟(335)은 텅스텐(W), 몰리브데넘(Mo), 로듐(Rh) 및 탄탈륨(Ta) 중 적어도 하나일 수 있으나, 타겟을 구성하는 물질의 종류는 상술된 바에 제한되지 않으며, 전자빔의 충돌을 견딜 수 있도록 녹는점이 소정 값(또는 미리 지정된 값) 이상인 다양한 물질(예: 크롬, 구리)로 구성될 수도 있다.
이때, 제 1 타겟(315), 제 2 타겟(325) 및 제 3 타겟(335) 각각은 기 설정된 에너지 영역에 대응될 수 있으며, 일 실시예로서, 제 1 타겟(315)이 저에너지 영역에 대응될 경우, 제 1 타겟(315)은 로듐(Rh) 및 탄탈륨(Ta) 중 적어도 하나일 수 있으며, 제 2 타겟(325)이 고에너지 영역에 대응될 경우, 제 2 타겟(325)는 텅스텐(W)일 수 있으며, 제 3 타겟(335)이 중에너지 영역에 대응될 경우 제 3 타겟(335)은 몰리브데넘(Mo)일 수 있으나, 기 설정된 에너지 영역에 대응되는 타겟의 물질은 상술된 바에 제한되지 않으며, 상황에 따라 기 설정된 에너지 영역에 대응하는 타겟의 물질 종류는 상기 예시와 다른 물질이 사용될 수 있다.
일 실시예로서, 도 4를 참조하면 타이밍 제어부(140)는 제 1 타겟(315)에 전자빔이 충돌하여 발생되는 제 1 엑스선을 발생시키기 위해서, 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서의 전압 인가 타이밍을 제어할 수 있다.
보다 상세히, 타이밍 제어부(140)는 전자빔을 형성하기 위해 필라멘트 전압원(110)을 턴온시켜 전자빔이 형성되도록 하고, 필라멘트 전압원(110) (Filament PS)이 턴온되는 중에 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 전자석 전압원(130)(Electromagnet PS)을 턴온시킨 후, 형성되는 전자빔이 가속되어 타겟에 충돌하도록 애노드 전압원(120)(Anode PS)을 턴온시킬 수 있다.
이때, 타이밍 제어부(140)에서 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 전자석 전압원(130)(Electromagnet PS)을 턴온시키면, 전자빔은 상측으로 휘어질 수 있다.
따라서, 타이밍 제어부(140)에서 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서의 전압 인가 타이밍을 제어할 경우, 전자빔이 상측으로 휘어져 제 1 타겟(315)에 충돌하여 제 1 엑스선이 발생될 수 있다.
다른 실시예로서, 도 5를 참조하면 타이밍 제어부(140)는 제 2 타겟(325)에 전자빔이 충돌하여 발생되는 제 2 엑스선을 발생시키기 위해서, 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서의 전압 인가 타이밍을 제어할 수 있다.
보다 상세히, 타이밍 제어부(140)는 전자빔을 형성하기 위해 필라멘트 전압원(110)을 턴온시켜 전자빔이 형성되도록 하고, 형성되는 전자빔의 방향이 직선 방향으로 인가되도록 전자석 전압원(130)(Electromagnet PS)은 턴오프 시키면서 필라멘트 전압원(110) (Filament PS)이 턴온되는 중에 형성되는 전자빔이 가속되어 타겟에 충돌하도록 애노드 전압원(120)(Anode PS)을 턴온시킬 수 있다.
이때, 타이밍 제어부(140)에서 전자석 전압원(130)(Electromagnet PS)을 턴오프시키면, 전자빔은 직선 방향으로 발생될 수 있다.
따라서, 타이밍 제어부(140)에서 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서의 전압 인가 타이밍을 제어할 경우, 전자석(307)에 전압이 인가되지 않음에 따라 전자빔이 직선의 형태를 가져 제 2 타겟(325)에 충돌하여 제 2 엑스선이 발생될 수 있다.
또 다른 실시예로서, 도 6을 참조하면 타이밍 제어부(140)는 제 3 타겟(335)에 전자빔이 충돌하여 발생되는 제 3 엑스선을 발생시키기 위해서, 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서의 전압 인가 타이밍을 제어할 수 있다.
보다 상세히, 타이밍 제어부(140)는 전자빔을 형성하기 위해 필라멘트 전압원(110)을 턴온시켜 전자빔이 형성되도록 하고, 필라멘트 전압원(110) (Filament PS)이 턴온되는 중에 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 전자석 전압원(130)(Electromagnet PS)을 턴온시킨 후, 형성되는 전자빔이 가속되어 타겟에 충돌하도록 애노드 전압원(120)(Anode PS)을 턴온시킬 수 있다.
이때, 타이밍 제어부(140)에서 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 전자석 전압원(130)(Electromagnet PS)을 턴온시키면, 전자빔은 하측으로 휘어질 수 있다.
따라서, 타이밍 제어부(140)에서 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서의 전압 인가 타이밍을 제어할 경우, 전자빔이 하측으로 휘어져 제 3 타겟(335)에 충돌하여 제 3 엑스선이 발생될 수 있다.
이때, 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)에서 발생되는 제 1 엑스선, 제 2 엑스선 및 제 3 엑스선은 서로 상이한 에너지 및 투과율을 가질 수 있다.
따라서, 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)는 타이밍 제어부(140)에서 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서의 전압 인가 타이밍을 제어함에 따라 형성된 전자빔의 방향이 조절되고, 조절된 방향의 전자빔이 서로 다른 물질의 복수의 타겟 중 어느 하나의 타겟에 충돌됨에 따라 서로 다른 에너지를 가지는 엑스선을 발생시킬 수 있다.
예를 들어, 제 1 엑스선이 제 2 엑스선 및 제 3 엑스선보다 에너지가 작을 경우, 투과율 또한 제 1 엑스선 및 제 2 엑스선보다 작으므로 제 1 엑스선을 이용하여 손을 촬영하는데 사용할 수 있고, 제 2 엑스선이 제 1 엑스선 및 제 3 엑스선보다 에너지가 클 경우, 투과율 또한 제 1 엑스선 및 제 3 엑스선보다 크므로 제 3 엑스선을 이용하여 두부(또는 머리)를 촬영하는데 사용할 수 있다.
도 7은 일 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법에 대한 예시적인 흐름도이다. 도 7에 도시된 다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법은 도 1에 도시된 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치(100)에 의해 수행 가능하다. 아울러, 도 7에 도시된 다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법은 예시적인 것에 불과하다.
도 7을 참조하면, 타이밍 제어부(140)는 기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 복수의 타겟 중 적어도 하나의 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 필라멘트, 애노드, 전자석 각각에 전압을 인가하는 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서의 전압 인가 타이밍을 제어할 수 있다(단계 S100).
보다 상세히 타이밍 제어부(140)는 전자빔이 형성되도록 필라멘트 전압원(110) 및 애노드 전압원(120)이 턴온 또는 턴오프되도록 제어하고, 전자빔의 진행 방향이 기 지정된 각도로 휘어지도록 전자석 전압원(130)이 턴온 또는 턴오프 되도록 제어할 수 있다.
이후, 단계 S100에서의 타이밍 제어부(140)의 제어에 기초하여 필라멘트 전압원(110), 애노드 전압원(120) 및 전자석 전압원(130)에서 각각이 턴온 또는 턴오프될 수 있다(단계 S200).
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치 및 방법은, 기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 전자빔을 제어하여 다중 에너지 엑스선을 발생시킴으로써 부피가 최소화 되고 결합에 대한 신뢰성이 확보될 수 있다.
또한, 전자빔이 형성되도록 필라멘트 전압원 및 애노드 전압원에서의 전압 인가 타이밍을 제어하고, 형성된 전자빔의 방향이 조절되도록 전자석 전압원에서의 전압 인가 타이밍을 제어하여, 복수의 타겟 중 발산하려는 에너지에 대응되는 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌되도록 하여 엑스선을 발생시킬 수 있다.
본 발명에 첨부된 블록도의 각 블록과 흐름도의 각 단계의 조합들은 컴퓨터 프로그램 인스트럭션들에 의해 수행될 수도 있다. 이들 컴퓨터 프로그램 인스트럭션들은 범용 컴퓨터, 특수용 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비의 인코딩 프로세서에 탑재될 수 있으므로, 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비의 인코딩 프로세서를 통해 수행되는 그 인스트럭션들이 블록도의 각 블록 또는 흐름도의 각 단계에서 설명된 기능들을 수행하는 수단을 생성하게 된다. 이들 컴퓨터 프로그램 인스트럭션들은 특정 방법으로 기능을 구현하기 위해 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비를 지향할 수 있는 컴퓨터 이용 가능 또는 컴퓨터 판독 가능 메모리에 저장되는 것도 가능하므로, 그 컴퓨터 이용가능 또는 컴퓨터 판독 가능 메모리에 저장된 인스트럭션들은 블록도의 각 블록 또는 흐름도 각 단계에서 설명된 기능을 수행하는 인스트럭션 수단을 내포하는 제조 품목을 생산하는 것도 가능하다. 컴퓨터 프로그램 인스트럭션들은 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비 상에 탑재되는 것도 가능하므로, 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비 상에서 일련의 동작 단계들이 수행되어 컴퓨터로 실행되는 프로세스를 생성해서 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비를 수행하는 인스트럭션들은 블록도의 각 블록 및 흐름도의 각 단계에서 설명된 기능들을 실행하기 위한 단계들을 제공하는 것도 가능하다.
또한, 각 블록 또는 각 단계는 특정된 논리적 기능(들)을 실행하기 위한 하나 이상의 실행 가능한 인스트럭션들을 포함하는 모듈, 세그먼트 또는 코드의 일부를 나타낼 수 있다. 또, 몇 가지 대체 실시예들에서는 블록들 또는 단계들에서 언급된 기능들이 순서를 벗어나서 발생하는 것도 가능함을 주목해야 한다. 예컨대, 잇달아 도시되어 있는 두 개의 블록들 또는 단계들은 사실 실질적으로 동시에 수행되는 것도 가능하고 또는 그 블록들 또는 단계들이 때때로 해당하는 기능에 따라 역순으로 수행되는 것도 가능하다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 품질에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 균등한 범위 내에 있는 모든 기술사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
100: 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
110: 필라멘트 전압원
120: 애노드 전압원
130: 전자석 전압원
140: 타이밍 제어부
150: 그리드 전압원

Claims (10)

  1. 기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 서로 다른 물질을 포함하는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치로서,
    상기 필라멘트에 전압을 인가하는 필라멘트 전압원과,
    상기 애노드에 전압을 인가하는 애노드 전압원과,
    상기 전자석의 양극 및 음극에 연결되어 전압을 인가하는 전자석 전압원과,
    상기 복수의 에너지 중에서 어느 하나의 에너지에 대응되는 상기 복수의 타겟 중 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원의 전압 인가 타이밍을 순차적으로 제어하되, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되어 상기 전자빔이 형성되는 동안 상기 전자석 전압원이 턴온 및 턴오프 중 하나가 되어 상기 전자빔의 방향이 조절되도록 하고, 상기 전자석 전압원이 턴온 및 턴오프 중 하나가 된 후, 상기 애노드 전압원이 턴온되어 상기 전자빔이 가속되어 상기 어느 하나의 타겟에 충돌하도록 상기 전압 인가 타이밍을 제어하는 타이밍 제어부를 포함하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 타이밍 제어부는,
    상기 전자빔의 조절방향에 따라 상기 전자석 전압원이 상기 전자석의 양극 및 음극 중 하나에 전압을 인가하도록 제어하거나, 상기 전자석의 양극 및 음극에 전압이 인가되지 않도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 타겟은,
    서로 다른 에너지 대역을 갖는 제 1 에너지, 제 2 에너지, 제 3 에너지 각각에 의해 생성된 전자빔에 각각 대응되고,
    상기 타이밍 제어부는,
    상기 제 1 에너지에 의해 생성된 전자빔에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 상기 필라멘트 전압원을 턴온 시키고, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 중에 상기 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 상기 전자석 전압원을 턴온시킨 후, 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 타이밍 제어부는,
    상기 제 2 에너지에 의해 생성된 전자빔에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 상기 필라멘트 전압원을 턴온 시키고, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 중에 상기 전자석 전압원을 턴오프 시킨 후, 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 타이밍 제어부는,
    상기 제 3 에너지에 의해 생성된 전자빔에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 상기 필라멘트 전압원을 턴온 시키고, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 중에 상기 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 상기 전자석 전압원을 턴온시킨 후, 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 타겟은,
    제 1 에너지에 의해 생성된 전자빔에 대응되는 제 1 타겟, 제 2 에너지에 의해 생성된 전자빔에 대응되는 제 2 타겟 및 제 3 에너지에 의해 생성된 전자빔에 대응되는 제 3 타겟을 포함하고,
    상기 타이밍 제어부는,
    상기 제1에너지에 의해 생성된 전자빔이 상측으로 휘어져 상기 제 1 타겟에 충돌하여 제 1 엑스선이 발생되도록 상기 전자석 전압원이 턴온되어 상기 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 제어하고,
    상기 제2에너지에 의해 생성된 전자빔이 휘어지지 않고 직선으로 발생되어 상기 제 2 타겟에 충돌하여 제 2 엑스선이 발생되도록 상기 전자석 전압원이 턴오프되어 전압이 인가되지 않도록 제어하고,
    상기 제3에너지에 의해 생성된 전자빔이 하측으로 휘어져 상기 제 3 타겟에 충돌하여 제 3 엑스선이 발생되도록 상기 전자석 전압원이 턴온되어 상기 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 엑스선, 제 2 엑스선 및 제 3 엑스선은,
    서로 상이한 에너지 및 투과율을 가지는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 타이밍 제어부는,
    상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원 각각에서 상기 필라멘트, 상기 애노드 및 상기 전자석에 전압이 인가되는 시간에 기초하여 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원의 상기 전압 인가 타이밍을 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치.
  10. 기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 서로 다른 물질을 포함하는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치에 의해 수행되는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법에 있어서,
    상기 복수의 타겟 중 발산하려는 에너지에 대응되는 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 상기 필라멘트, 상기 애노드 및 상기 전자석 각각에 전압을 인가하는 필라멘트 전압원, 애노드 전압원 및 전자석 전압원의 전압 인가 타이밍을 제어하는 단계; 및
    상기 제어하는 단계에서의 상기 제어에 기초하여 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원 각각이 턴온 또는 턴오프되는 단계를 포함하고,
    상기 전압 인가 타이밍을 제어하는 단계는,
    상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 동안 상기 전자석 전압원이 턴온 및 턴오프 중 하나가 되도록 하고, 상기 전자석 전압원이 턴온 및 턴오프 중 하나가 된 후, 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 순차적으로 제어하는 단계인 다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법.
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