KR102514489B1 - Edge polishing systme and method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 관한 것으로, 특히 적층된 박막유리기판을 처리하여 에지 공간을 확보하고, 확보된 에지 공간을 통해 폴리싱을 하는 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an edge polishing system and method, and more particularly, to an edge polishing system and method for processing laminated thin glass substrates to secure an edge space and performing polishing through the secured edge space.

Description

에지 폴리싱 시스템 및 방법{EDGE POLISHING SYSTME AND METHOD}Edge polishing system and method {EDGE POLISHING SYSTME AND METHOD}

본 발명은 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 적층된 박막유리기판을 처리하여 에지 공간을 확보하고, 확보된 에지 공간을 통해 폴리싱을 하는 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an edge polishing system and method, and more particularly, to an edge polishing system and method for processing laminated thin glass substrates to secure an edge space and performing polishing through the secured edge space.

일반적으로 모바일 단말의 커버 글라스, LCD나 OLED와 같은 평판 디스플레이 패널, TFT 기판, 칼라 필터 기판 등을 비롯한 여러 기판은 원판을 필요한 크기 및 모양으로 절단하는 공정을 거친다.In general, various substrates including a cover glass of a mobile terminal, a flat panel display panel such as LCD or OLED, a TFT substrate, a color filter substrate, and the like go through a process of cutting an original plate into a required size and shape.

이와 같이 절단 공정을 수행하게 되면 절단면에 날카로운 에지(edge)가 생긴다. 이렇게 날카로운 에지는 이송이나 운반 또는 후속 공정 중에 깨지는 경우가 발생되기 때문에 날카로운 에지를 제거하기 위하여 폴리싱(polishing)을 한다When the cutting process is performed in this way, a sharp edge is formed on the cut surface. Since such sharp edges often break during transportation or subsequent processes, polishing is performed to remove sharp edges.

또한 기판 절단시 칩핑(Chipping) 불량 등이 발생하므로 발생된 칩핑을 제거하고 크랙을 방지하는 목적으로도 기판의 에지 폴리싱을 하며, 에지 폴리싱을 통해 기판 테두리 부분의 에지가 삭제된다.In addition, since chipping defects occur during substrate cutting, edge polishing of the substrate is also performed for the purpose of removing chipping and preventing cracks, and through edge polishing, the edge of the edge of the substrate is removed.

그러나, 도 1과 같이 폴더블 폰 등에 적용되는 초박막강화유리(UTG: Ultra Thin Glass)는 그 두께가 수십 um 내외로 매우 얇다. 따라서, 각 층 사이를 접착재로 접착한 원장(원판, 10)을 다수개 적층한 상태에서 레이져로 절단하여 필요한 형상(11)으로 성형한다.However, as shown in FIG. 1, ultra thin glass (UTG) applied to a foldable phone is very thin, with a thickness of around several tens of um. Therefore, in a state in which a plurality of original sheets (original plates) 10 bonded between each layer with an adhesive are laminated, they are cut with a laser and molded into a required shape 11.

도 2에는 적층된 원장(10)을 필요한 크기 및 형상으로 절단한 상태가 일 예로 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 원장(10)을 절단한 성형 박막유리기판(11)은 전체 면적에 걸쳐 접착재(12)가 도포 혹은 삽입되어 서로 간에 밀착된다.FIG. 2 shows an example of a state in which the stacked ledgers 10 are cut into a required size and shape. As shown, the molded thin glass substrates 11 obtained by cutting the mother sheet 10 are adhered to each other by applying or inserting an adhesive material 12 over the entire area.

따라서, 도 3과 같이 박막유리기판(11)의 외측단부 절단면에는 에지(ED)가 생성되고, 에지(ED)에서 크랙이나 칩핑(Cc)이 발생할 수 있음에도 접착재(12)를 사이에 두고 완전 밀착된 박막유리기판(11)은 그 외각쪽 테두리 부분에 폴리싱 공정을 수행할 수 있는 공간을 제공할 수 없는 상태가 된다.Therefore, as shown in FIG. 3, an edge (ED) is created on the cut surface of the outer end of the thin glass substrate 11, and even though cracks or chipping (Cc) may occur at the edge (ED), it is completely adhered with the adhesive material 12 interposed therebetween. The thin glass substrate 11 is in a state where it cannot provide a space for performing a polishing process on its outer edge.

대한민국 등록특허 제10-1604186호Republic of Korea Patent No. 10-1604186 대한민국 공개특허 제10-2015-0145503호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2015-0145503

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판의 에지를 폴리싱을 가능하게 하는 에지 폴리싱 시스템 및 방법을 제공하고자 한다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, by removing the adhesive material between the laminated thin glass substrates to expose the polishing processing portion of the thin glass substrates, it is possible to polish the edge of the thin glass substrates through the secured processing space. It is intended to provide an edge polishing system and method that allows

이를 위해, 본 발명에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치는 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 상기 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키는 것으로, 접착재 제거 몸체와; 상기 접착재 제거 몸체 중 상기 박막유리기판 사이의 접착재층과 대응하는 위치에 각각 구비된 삭제 브러쉬; 및 상기 삭제 브러쉬를 반복해서 움직이게 하도록 상기 접착재 제거 몸체에 연결 설치되는 삭제 작동기;를 포함하는 것을 특징으로 한다.To this end, an adhesive removal device for polishing according to the present invention removes the adhesive between laminated thin glass substrates to expose the polished portion of the thin glass substrate, comprising: an adhesive removal body; Deletion brushes provided at positions corresponding to the adhesive layer between the thin glass substrates among the adhesive material removing body; and a deletion actuator connected to and installed to the adhesive material removal body to repeatedly move the deletion brush.

이때, 상기 접착재 제거 몸체의 일측에 설치되며, 상기 삭제 브러쉬의 위치가 상기 접착재층에 일치되도록 이동시키는 삭제 이동기를 더 포함하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to further include a deletion mover installed on one side of the adhesive material removing body and moving the position of the deletion brush to match the adhesive material layer.

또한, 상기 접착재 제거 몸체는 상기 삭제 작동기에 의해 회전하는 회전체이며, 상기 회전체에 의해 상기 삭제 브러쉬가 회전하며 상기 접착재층을 제거하는 것이 바람직하다.Preferably, the adhesive material removing body is a rotating body rotated by the removing actuator, and the removing brush is rotated by the rotating body to remove the adhesive layer.

또한, 상기 박막유리기판의 적층 간격과 동일하게 이격 배치되며, 각 층 사이에 상기 삭제 브러쉬가 통과하는 삽입구가 형성된 브러쉬 가이드를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to further include brush guides spaced apart from each other at the same interval as the stacking interval of the thin glass substrates and having an insertion hole through which the deletion brush passes between each layer.

본 발명에 따른 에지 폴리싱 장치는 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 것으로, 기판 폴리싱 몸체와; 상기 기판 폴리싱 몸체 중 적어도 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬; 및 상기 폴리싱 브러쉬를 반복해서 움직이게 하도록 상기 기판 폴리싱 몸체에 연결 설치되는 폴리싱 작동기;를 포함하는 것을 특징으로 한다.An edge polishing apparatus according to the present invention polishes an edge of a thin glass substrate exposed by removing an adhesive between laminated thin glass substrates, comprising: a substrate polishing body; polishing brushes respectively provided at positions corresponding to at least the thin glass substrate in the substrate polishing body; and a polishing actuator connected and installed to the substrate polishing body to repeatedly move the polishing brush.

이때, 상기 기판 폴리싱 몸체의 일측에 설치되며, 상기 폴리싱 브러쉬의 위치가 상기 박막유리기판에 일치되도록 이동시키는 폴리싱 이동기를 더 포함하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to further include a polishing mover installed on one side of the substrate polishing body and moving the polishing brush to match the position of the thin glass substrate.

또한, 상기 기판 폴리싱 몸체는 상기 폴리싱 작동기에 의해 회전하는 회전체이며, 상기 회전체에 의해 상기 폴리싱 브러쉬가 회전하며 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 것이 바람직하다.Preferably, the substrate polishing body is a rotating body rotated by the polishing actuator, and the polishing brush rotates by the rotating body to polish the edge of the thin glass substrate.

또한, 본 발명에 따른 에지 폴리싱 시스템은 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 상기 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키는 폴리싱용 접착재 제거장치; 및 상기 접착재를 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 장치;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the edge polishing system according to the present invention includes a polishing adhesive removal device for exposing the polishing portion of the thin glass substrate by removing the adhesive between the laminated thin glass substrates; and an edge polishing device for polishing an edge of the thin glass substrate exposed by removing the adhesive material.

이때, 상기 폴리싱용 접착재 제거장치는 접착재 제거 몸체와; 상기 접착재 제거 몸체 중 상기 박막유리기판 사이의 접착재층과 대응하는 위치에 각각 구비된 삭제 브러쉬; 및 상기 삭제 브러쉬를 반복해서 움직이게 하도록 상기 접착재 제거 몸체에 연결 설치되는 삭제 작동기;를 포함하고, 상기 에지 폴리싱 장치는 기판 폴리싱 몸체와; 상기 기판 폴리싱 몸체 중 적어도 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬; 및 상기 폴리싱 브러쉬를 반복해서 움직이게 하도록 상기 기판 폴리싱 몸체에 연결 설치되는 폴리싱 작동기;를 포함하는 것을 특징으로 한다.At this time, the adhesive material removal device for polishing includes an adhesive material removal body; Deletion brushes provided at positions corresponding to the adhesive layer between the thin glass substrates among the adhesive material removing body; and a deleting actuator connected to the adhesive removing body to repeatedly move the deleting brush, wherein the edge polishing device includes a substrate polishing body; polishing brushes respectively provided at positions corresponding to at least the thin glass substrate in the substrate polishing body; and a polishing actuator connected and installed to the substrate polishing body to repeatedly move the polishing brush.

또한, 본 발명에 따른 에지 폴리싱 방법은 접착재에 의해 다수개 적층된 박막유리기판을 고정장치에 고정시키는 기판 고정 단계와; 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 상기 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키는 접착재 제거 단계; 및 상기 접착재를 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the edge polishing method according to the present invention includes a substrate fixing step of fixing a plurality of laminated thin glass substrates to a fixing device by using an adhesive; removing the adhesive material between the laminated thin glass substrates to expose the polished portion of the thin glass substrates; and an edge polishing step of polishing an edge of the thin glass substrate exposed by removing the adhesive material.

이때, 상기 접착재 제거 단계는 상기 박막유리기판 사이의 접착재층과 대응하는 위치에 각각 배치된 삭제 브러쉬로 상기 접착재층을 외측 단부부터 설정된 깊이로 제거하는 단계인 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the adhesive material removal step is a step of removing the adhesive material layer from the outer end to a set depth with a deleting brush disposed at a position corresponding to the adhesive material layer between the thin glass substrates.

또한, 상기 에지 폴리싱 단계는 적어도 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬로 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 단계인 것이 바람직하다.In addition, the edge polishing step is preferably a step of polishing the edge of the thin glass substrate with polishing brushes respectively provided at positions corresponding to at least the thin glass substrate.

이상과 같은 본 발명은 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판의 에지를 폴리싱한다. As described above, the present invention removes the adhesive material between the laminated thin glass substrates to expose the polishing portion of the thin glass substrates, and polishes the edges of the thin glass substrates through the secured processing space.

따라서, 초박막강화유리 등과 같이 접착재를 통해 여러층으로 적층한 박막유리기판에 대해서도 폴리싱 공정을 수행할 수 있고, 접착재를 일부만 제거하여 적층된 상태를 유지하면서 안정적인 폴리싱을 가능하게 한다.Therefore, the polishing process can be performed even on thin glass substrates laminated in multiple layers using an adhesive material, such as ultra-thin tempered glass, and stable polishing is possible while maintaining the laminated state by removing a portion of the adhesive material.

도 1은 일반적으로 적용되는 적층 초박막강화유리의 절단 성형 상태를 나타낸 평면도이다.
도 2는 상기 도 1의 초박막강화유리의 적층 구조를 나타낸 도이다.
도 3은 상기 도 1의 초박막강화유리 절단면 에지의 미세크랙 및 칩핑 발생 상태를 나타낸 부분 확대도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치를 나타낸 사시도이다.
도 5는 상기 도 4의 삭제 브러쉬를 나타낸 부분 확대도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치를 나타낸 사시도이다.
도 7은 본 발명의 삭제 작동기를 나타낸 다른 실시예이다.
도 8은 본 발명에 따른 에지 폴리싱 장치를 나타낸 사시도이다.
도 9는 상기 도 8의 폴리싱 브러쉬를 나타낸 부분 확대도이다.
도 10은 본 발명에 의한 에지 폴리싱 상태를 나타낸 부분 확대도이다.
도 11은 본 발명의 폴리싱 브러쉬를 나타낸 다른 실시예이다.
도 12는 본 발명에 따른 에지 폴리싱 방법을 나타낸 흐름도이다.
1 is a plan view showing a cutting and molding state of a generally applied laminated ultra-thin film tempered glass.
2 is a view showing a laminated structure of the ultra-thin-film tempered glass of FIG. 1;
FIG. 3 is a partially enlarged view showing a state in which micro-cracks and chipping occur at the edge of the cut surface of the ultra-thin-film tempered glass of FIG. 1. Referring to FIG.
4 is a perspective view showing an adhesive removal device for polishing according to an embodiment of the present invention.
5 is a partially enlarged view showing the deletion brush of FIG. 4;
6 is a perspective view showing an adhesive material removal device for polishing according to another embodiment of the present invention.
7 is another embodiment of the deletion actuator of the present invention.
8 is a perspective view showing an edge polishing apparatus according to the present invention.
9 is a partially enlarged view showing the polishing brush of FIG. 8;
10 is a partially enlarged view showing a state of edge polishing according to the present invention.
11 is another embodiment of the polishing brush of the present invention.
12 is a flowchart illustrating an edge polishing method according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, an edge polishing system and method according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치를 나타낸 사시도이다.4 is a perspective view showing an adhesive removal device for polishing according to the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치(110)는 접착재(혹은 접착재층)(12)를 사이에 두고 전면적에 걸쳐 접착재(12)와 밀착된 상태로 적층된 박막유리기판(11)에서 에지 폴리싱을 수행할 수 있도록 전처리한다.As shown, the polishing adhesive removal device 110 according to the present invention includes thin glass substrates 11 stacked in close contact with the adhesive 12 over the entire area with the adhesive (or adhesive layer) 12 interposed therebetween. ) to perform edge polishing.

즉, 본 발명은 적층된 박막유리기판 사이의 접착재층(12)을 외측 단부부터 설정된 깊이로 제거하여 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판(11)의 에지를 제거하는 폴리싱을 진행할 수 있게 한다.That is, the present invention removes the adhesive layer 12 between the laminated thin glass substrates to a set depth from the outer end to expose the polished portion of the thin glass substrate, and the edge of the thin glass substrate 11 through the secured processing space. to proceed with polishing to remove

따라서, 폴더블 스마트폰용 초박막강화유리(UTG: Ultra Thin Glass)와 같이 접착재(12)를 통해 적층된 박막유리기판을 절단한 경우에도 폴리싱을 수행하고, 접착재(12)를 일부만 제거하여 적층된 상태를 유지하면서 안정적인 폴리싱을 가능하게 한다.Therefore, even when the thin glass substrate laminated through the adhesive 12 is cut, such as UTG (Ultra Thin Glass) for a foldable smartphone, polishing is performed and only a portion of the adhesive 12 is removed to form a laminated state. It enables stable polishing while maintaining

이를 위해 폴리싱용 접착재 제거장치(110) 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하고 폴리싱 가공부를 노출시키도록 접착재 제거 몸체(111), 삭제 브러쉬(112), 삭제 작동기(113) 및 삭제 이동기(114)를 포함한다.To this end, the adhesive material removing device 110 for polishing removes the adhesive material 12 between the laminated thin glass substrates 11 and exposes the polishing processing unit, the adhesive material removing body 111, the cleaning brush 112, and the cleaning actuator 113. ) and a delete mover 114.

여기서, 상기 접착재 제거 몸체(111)는 삭제 브러쉬(112)가 설치되는 이동체를 구성하는 것으로, 삭제 작동기(113)에 의해 작동되며, 삭제 이동기(114)에 의해 작업 위치로 이동된다.Here, the adhesive material removing body 111 constitutes a moving body in which the deleting brush 112 is installed, and is operated by the deleting actuator 113 and moved to the working position by the deleting mover 114.

실시예로 접착재 제거 몸체(111)는 삭제 브러쉬(112)를 회전시키는 회전체로 구성된다. 회전체 타입의 접착재 제거 몸체(111)는 박막유리기판(11)의 적층 개수에 따라 결정되는 전체 높이에 대응하는 높이로 구성될 수 있다.In an embodiment, the adhesive material removal body 111 is composed of a rotating body that rotates the deletion brush 112 . The rotating body type adhesive material removing body 111 may have a height corresponding to the total height determined according to the number of laminated thin glass substrates 11 .

즉, 각 박막유리기판(11)의 두께가 매우 얇은 이유로 적층 수가 작다면 접착재 제거 몸체(111)의 높이 역시 비교적 낮아도 되므로 도시된 바와 같은 회전 디스크 형상이 적용될 수 있다. 반면, 적층 수가 많다면 상대적으로 높이가 높은 원통형 회전체로 변경하여 적용될 수 있다.That is, if the number of stacks is small because the thickness of each thin glass substrate 11 is very thin, the height of the adhesive material removal body 111 may be relatively low, so the rotating disk shape as shown can be applied. On the other hand, if the number of stacks is large, it can be applied by changing to a cylindrical rotating body with a relatively high height.

접착재 제거 몸체(111)를 삭제 작동기(113)에 의해 회전하는 회전체 구성하면, 회전축을 통해 이들이 서로 연결되며, 접착재 제거 몸체(111)에 구비된 삭제 브러쉬(112)도 함께 회전하게 된다. 따라서, 설정된 RPM으로 회전하는 삭제 브러쉬(112)에 의해 접착재(12)가 외측부터 마모되어 제거된다.If the adhesive material removing body 111 is configured as a rotary body that rotates by the removal actuator 113, they are connected to each other through a rotation shaft, and the removal brush 112 provided in the adhesive material removal body 111 also rotates together. Therefore, the adhesive material 12 is abraded and removed from the outside by the deleting brush 112 rotating at the set RPM.

도 5에 확대 도시된 바와 같이, 삭제 브러쉬(112)는 접착재(12)가 도포되거나 삽입되어 각 층 박막유리기판(11) 사이에 형성된 접착재(12)를 삭제한다. 즉, 삭제 브러쉬(112)로 접착재층(12)을 외측 단부부터 설정된 깊이로 제거한다.As shown enlarged in FIG. 5 , the removal brush 112 removes the adhesive 12 formed between the thin glass substrates 11 of each layer by applying or inserting the adhesive 12 . That is, the adhesive layer 12 is removed by the deleting brush 112 to a set depth from the outer end.

삭제는 접착재(12)에 의해 층이 형성된 접착재층(12)을 브러쉬 연마 방식으로 제거하는 것으로, 박막유리기판(11)의 에지가 노출되도록 접착재층(12)의 테두리 부분만을 일부 제거한다.Deletion is to remove the adhesive layer 12 layered by the adhesive 12 by a brush polishing method, and only a portion of the edge of the adhesive layer 12 is partially removed so that the edge of the thin glass substrate 11 is exposed.

삭제 브러쉬(112)로 접착재층(12)만 제거하도록, 삭제 브러쉬(112)는 접착재 제거 몸체(111) 중 박막유리기판(11) 사이의 접착재층(12)과 대응하는 위치에 각각 구비된다. 따라서, 삭제 이동기(114)에 의해 정위치에 배치시 각각의 삭제 브러쉬(112)는 접착재층(12)을 마주보게 된다.To remove only the adhesive layer 12 with the cleaning brush 112, the cleaning brush 112 is provided at a position corresponding to the adhesive layer 12 between the thin glass substrates 11 in the adhesive removing body 111. Accordingly, each of the deletion brushes 112 faces the adhesive layer 12 when placed in the correct position by the deletion mover 114.

또한, 삭제 브러쉬(112)는 수지나 레진 혹은 접착 필름과 같은 접착재층(12)을 삭제하는 재질로 이루어진다. 즉, 삭제 브러쉬(112)는 접착재층(12)을 삭제하도록 경화된 접착재층(12)보다 마모 강도가 높은 것을 사용한다. 따라서, 박막유리기판(11)은 남기고 접착재층(12)의 테두리부만 제거된다.In addition, the deleting brush 112 is made of a material for deleting the adhesive material layer 12 such as resin, resin, or adhesive film. That is, the deleting brush 112 has higher abrasion strength than the hardened adhesive layer 12 so as to erase the adhesive layer 12 . Accordingly, only the edge portion of the adhesive layer 12 is removed, leaving the thin glass substrate 11 behind.

삭제 작동기(113)는 상기한 삭제 브러쉬(112)를 반복해서 움직이게 하도록 접착재 제거 몸체(111)에 연결 설치된다. 실시예로 삭제 작동기(113)는 접착재 제거 몸체(111)가 회전체인 경우 모터를 구비한 스핀들(spindle)이 적용될 수 있다.The removal actuator 113 is installed connected to the adhesive removal body 111 to repeatedly move the removal brush 112. As an embodiment, when the adhesive removal body 111 is a rotating body, a spindle equipped with a motor may be applied to the deletion actuator 113 .

따라서, 삭제 작동기(113)에 의해 회전체인 접착재 제거 몸체(111)가 회전축을 중심으로 회전하면, 접착재 제거 몸체(111)에 돌출되어 있는 삭제 브러쉬(112)가 회전하면서 접착재층(12)에 반복 접촉하며 제거하게 된다.Therefore, when the adhesive material removal body 111, which is a rotary body, is rotated around the rotation axis by the removal actuator 113, the removal brush 112 protruding from the adhesive material removal body 111 rotates and adheres to the adhesive layer 12. Repeated contact and removal.

도 6과 같이, 다른 실시예로서 삭제 브러쉬(112a)는 전후 방향 왕복 이동에 의해 접착재층(12)을 제거하는 방식도 적용될 수 있다. 이 경우 접착재 제거 몸체(111a)는 길이가 긴 바(bar)나 로드(rod) 혹은 블록 형상으로 구성될 수 있다.As shown in FIG. 6 , as another embodiment, the deleting brush 112a may remove the adhesive layer 12 by reciprocating in the forward and backward directions. In this case, the adhesive material removal body 111a may be configured in a long bar, rod, or block shape.

또한, 삭제 작동기(113a)는 진동기나 실린더 장치 등으로 구성되어 접착재 제거 몸체(111a)를 진동시키거나 전후 왕복 이동시킴으로써, 삭제 브러쉬(112a)에 의해 접착재층(12)을 마모시켜 제거할 수 있게 된다.In addition, the removal actuator 113a is composed of a vibrator or a cylinder device to vibrate or reciprocate the adhesive removal body 111a so that the adhesive layer 12 can be worn and removed by the removal brush 112a. do.

삭제 이동기(114)는 접착재 제거 몸체(111)의 일측에 설치되며, 삭제 브러쉬(112)의 위치가 접착재층(12)에 일치되도록 이동시킨다. 즉, 대기 위치에 있던 접착재 제거 몸체(111)를 작업 위치(작업 높이)로 이동시킨다.The removal mover 114 is installed on one side of the adhesive removal body 111, and moves the location of the removal brush 112 to coincide with the adhesive layer 12. That is, the adhesive material removal body 111 in the standby position is moved to the working position (working height).

작업 위치는 위와 같이 접착재층(12)의 일부를 제거하는 위치이므로, 삭제 브러쉬(112)가 접착재층(12)를 바라보는 위치로 이동시키는 것이며, 정확한 위치로 이동이 가능하도록 위치 센서나 자세 센서 등의 정보를 수집하여 정위치에 위치되도록 한다.Since the working position is a position where a part of the adhesive layer 12 is removed as described above, the deletion brush 112 moves the adhesive layer 12 to a viewing position, and a position sensor or posture sensor to enable movement to an accurate position. etc. are collected and placed in the correct position.

이때, 적층된 각 박막유리기판(11)은 실시예로 진공흡착 방식의 작업 테이블(TA) 위에 고정된 상태에서 삭제 작동기(113)가 각각의 가공면을 따라 이동하는 것이 바람직하다. 그러나, 삭제 작동기(113)가 정위치에 고정된 상태에서 작업 테이블(TA)을 회전시켜 각 가공면이 삭제 브러쉬(112)에 순차로 접하도록 할 수도 있다.At this time, it is preferable that the removal actuator 113 moves along each processing surface in a state where each of the laminated thin glass substrates 11 is fixed on the work table TA of the vacuum adsorption type in the embodiment. However, the work table TA may be rotated in a state in which the removal actuator 113 is fixed in place so that each processing surface may sequentially come into contact with the removal brush 112 .

다만, 도 7과 같이 본 발명은 브러쉬 가이드(115)를 더 포함하는 것이 바람직한데, 브러쉬 가이드(115)는 박막유리기판(11)의 적층 간격과 동일하게 이격 배치되어 각각 박막유리기판(11)과 나란히 배치된다. 따라서, 각 층 사이에 삭제 브러쉬(112)가 통과하는 진입 통로(116)가 형성된다.However, as shown in FIG. 7 , it is preferable that the present invention further include a brush guide 115 , and the brush guide 115 is spaced apart from each other at the same spacing as the stacking interval of the thin glass substrate 11 , respectively. are placed side by side with Thus, an entrance passage 116 through which the deletion brush 112 passes is formed between each layer.

이러한 브러쉬 가이드(115)는 일 예로 마모에 강한 금속 재질이 사용될 수 있으며, 그 기능을 살펴보면 접착재(12) 제거 중 삭제 브러쉬(112)가 박막유리기판(11)에 접촉하지 않도록 박막유리기판(11)으로 통하는 경로를 차단한다.For example, the brush guide 115 may be made of a metal material resistant to abrasion. Looking at its function, the thin glass substrate 11 prevents the brush 112 from contacting the thin glass substrate 11 while removing the adhesive 12. ) to block the path leading to

이를 위해 브러쉬 가이드(115)는 다수의 가이드 판이 박막유리가판의 위치에 대응하도록 일렬로 이격 배치되며, 적어도 박막유리기판(11)의 전체 길이를 커버하는 길이를 갖는 판 형상으로 구성될 수 있다.To this end, the brush guide 115 has a plurality of guide plates spaced apart in a row to correspond to the position of the thin glass plate, and may be configured in a plate shape having a length covering at least the entire length of the thin glass substrate 11.

삭제 브러쉬(112)에 의해 접착재층(12) 테두리가 제거됨에 따라 박막유리기판(11)의 에지(ED)가 노출된 상태는 아래에서 도 9를 통해 확인 가능하며, 이하 노출된 에지에서의 폴리싱에 대해 설명한다.As the edge of the adhesive layer 12 is removed by the brush 112, the exposed state of the edge ED of the thin glass substrate 11 can be confirmed through FIG. 9 below, and polishing at the exposed edge below explain about

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 에지 폴리싱 장치에 대해 설명한다.Hereinafter, an edge polishing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 에지 폴리싱 장치(120)는 각각의 박막유리기판(11)이 접착재층(12)의 외측으로 돌출된 적층 박막유리기판(11)에 적용되는 것으로, 에지 폴리싱이 가능하도록 접착재층(12)을 제거하는 장치나 방법과 무관하게 적용될 수 있다.The edge polishing apparatus 120 of the present invention is applied to laminated thin glass substrates 11 in which each thin glass substrate 11 protrudes outward from the adhesive layer 12, so that edge polishing is possible. ) can be applied regardless of the device or method for removing it.

그러나, 본 발명은 위에서 설명한 '폴리싱용 접착재 제거장치'에 의해 전처리(접착재층 제거)된 박막유리기판(11)에 후속으로 연속해서 적용되는 것이 바람직하다. 따라서, 이하에서는 상술한 '폴리싱용 접착재 제거장치'에 의해 가공 공간이 확보된 박막유리기판(11)을 폴리싱하는 것으로 설명한다.However, it is preferable that the present invention be subsequently and continuously applied to the thin glass substrate 11 pretreated (removing the adhesive layer) by the 'adhesive removal device for polishing' described above. Therefore, hereinafter, it will be described that the thin glass substrate 11 is polished with the processing space secured by the above-described 'adhesive removal device for polishing'.

도 8과 같이, 본 발명에 따른 에지 폴리싱 장치(120)는 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하여 노출된 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하는 것으로, 기판 폴리싱 몸체(121), 폴리싱 브러쉬(122), 폴리싱 작동기(123) 및 폴리싱 이동기(124)를 포함한다.As shown in FIG. 8 , the edge polishing apparatus 120 according to the present invention removes the adhesive material 12 between the laminated thin glass substrates 11 to polish the exposed edges of the thin glass substrates 11, and the substrate polishing It includes a body 121, a polishing brush 122, a polishing actuator 123 and a polishing mover 124.

이러한 본 발명의 에지 폴리싱 장치(120) 역시 브러시 마모 방식으로 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하는 것으로, 기판 폴리싱 몸체(121)는 폴리싱 브러쉬(122)가 설치되는 이동체를 구성한다.The edge polishing device 120 of the present invention also polishes the edge of the thin glass substrate 11 by brush abrasion, and the substrate polishing body 121 constitutes a moving body in which the polishing brush 122 is installed.

실시예로 기판 폴리싱 몸체(121)는 폴리싱 브러쉬(122)를 회전시키는 회전체로 구성된다. 회전체 타입의 기판 폴리싱 몸체(121)는 박막유리기판(11)의 적층 개수에 따라 결정되는 기판 높이에 대응하는 높이로 구성될 수 있다.In an embodiment, the substrate polishing body 121 is composed of a rotating body that rotates the polishing brush 122 . The rotating body type substrate polishing body 121 may have a height corresponding to a substrate height determined according to the number of stacked thin glass substrates 11 .

즉, 적층수에 따라 비교적 높이가 낮은 회전 디스크가 적용되거나 이에 비해 상대적으로 높이가 높은 원통형 회전체가 적용될 수 있으며, 이들은 그 회전 중심이 회전축을 통해 폴리싱 작동기(123)에 연결되어 회전된다.That is, depending on the number of layers, a rotating disk with a relatively low height or a cylindrical rotating body with a relatively high height may be applied, and their rotational center is connected to the polishing actuator 123 through a rotating shaft to rotate.

기판 폴리싱 몸체(121)를 폴리싱 작동기(123)에 의해 회전하는 회전체로 구성하면, 기판 폴리싱 몸체(121)에 구비된 폴리싱 브러쉬(122)도 함께 회전하며, 설정된 RPM으로 회전하는 폴리싱 브러쉬(122)에 의해 박막유리기판(11)의 에지가 폴리싱된다.If the substrate polishing body 121 is configured as a rotating body rotated by the polishing actuator 123, the polishing brush 122 provided in the substrate polishing body 121 also rotates, and the polishing brush 122 rotates at a set RPM. ), the edge of the thin glass substrate 11 is polished.

도 9에 확대 도시된 바와 같이, 폴리싱 브러쉬(122)는 접착재층(12)을 사이에 두고 적층된 다수의 박막유리기판(11) 중 접착재(12)의 외측으로 돌출된 박막유리기판(11)을 폴리싱한다. 즉, 적층된 박막유리기판(11)은 그 사이에 밀착되어 있던 접착재(12)가 일부 제거됨에 따라 확보된 공간에서 폴리싱을 한다.As shown enlarged in FIG. 9 , the polishing brush 122 is applied to the thin glass substrate 11 protruding outward of the adhesive material 12 among the plurality of thin glass substrates 11 stacked with the adhesive material layer 12 interposed therebetween. to polish That is, the laminated thin glass substrates 11 are polished in a space secured as the adhesive material 12 adhered therebetween is partially removed.

폴리싱은 폴리싱 브러쉬(122)로 박막유리기판(11)의 에지(외측 단부 모서리)를 연마하여 일부 깍아내거나 측면 전체를 둥글게 다듬는 작업으로 이를 통해 박막유리기판(11)의 에지에서의 미세 크랙이나 칩핑을 제거한다.Polishing is an operation of polishing the edge (outer end edge) of the thin glass substrate 11 with the polishing brush 122 to partially shave off or round the entire side surface, thereby removing fine cracks or chips at the edge of the thin glass substrate 11 Remove

이를 위해 폴리싱 브러쉬(122)는 폴리싱 중 박막유리기판(11)에 충격을 가하지 않도록 부드럽게 굽혀지는 재질을 사용하되, 반복된 접촉으로 박막유리기판(11)의 에지 부분을 완만하게 마모시킬 수 있도록 마모 강도가 박막유리기판(11)보다 상대적으로 높은 것을 이용한다.To this end, the polishing brush 122 uses a material that is gently bent so as not to apply an impact to the thin glass substrate 11 during polishing, but is abraded so that the edge portion of the thin glass substrate 11 can be gently abraded by repeated contact. A material having relatively higher strength than the thin film glass substrate 11 is used.

또한, 폴리싱 브러쉬(122)는 기판 폴리싱 몸체(121) 중 적어도 박막유리기판(11)과 대응하는 위치에 구비된다. 즉, 폴리싱 브러쉬(122)는 적층된 박막유리기판(11)들 모두와 접하여 폴리싱을 수행할 수 있다면 박막유리기판(11) 부분에만 폴리싱 브러쉬(122)를 구비하거나 그 외 부분까지 구비할 수 있다.In addition, the polishing brush 122 is provided at a position corresponding to at least the thin glass substrate 11 of the substrate polishing body 121 . That is, if the polishing brush 122 can perform polishing in contact with all of the laminated thin glass substrates 11, the polishing brush 122 may be provided only on the thin glass substrate 11 portion or other portions may be provided. .

도 10과 같이, 실시예로 폴리싱 브러쉬(122)는 기판 폴리싱 몸체(121) 전체 높이에 걸쳐 연속하여 설치됨에 따라 이들 중 어느 부분을 통해서도 적층된 박막유리기판(11)들을 동시에 폴리싱한다.As shown in FIG. 10, as the polishing brush 122 is continuously installed over the entire height of the substrate polishing body 121, the laminated thin glass substrates 11 are simultaneously polished through any part thereof.

위와 같이 폴리싱 브러쉬(122)가 기판 폴리싱 몸체(121)의 전체 높이에 걸쳐 연속하여 배치된 경우에는 공정시 일부의 폴리싱 브러쉬(122)만이 폴리싱에 이용되며, 가급적 박막유리기판(11)과만 접촉하도록 접근 위치가 조절될 수 있다.As described above, when the polishing brushes 122 are continuously disposed over the entire height of the substrate polishing body 121, only a part of the polishing brushes 122 are used for polishing during the process, and contact only the thin glass substrate 11 as much as possible. The access location can be adjusted.

다른 실시예로, 도 11과 같이, 폴리싱 브러쉬(122)는 적층된 박막유리기판(11)에 대응하는 위치에 이격되어 설치될 수 있다. 즉, 박막유리기판(11)에 대응하는 위치에만 구비될 수 있다. In another embodiment, as shown in FIG. 11 , the polishing brush 122 may be spaced apart from each other at a position corresponding to the stacked thin glass substrates 11 . That is, it may be provided only at a position corresponding to the thin glass substrate 11 .

이러한 경우에는 박막유리기판(11)의 적층 상태에 대응하여 다수개 구비된 폴리싱 브러쉬(122)가 폴리싱을 위해 위치가 조절됨에 따라 각각의 폴리싱 브러쉬(122)는 박막유리기판(11)에 접촉될 필요가 있다.In this case, as the positions of the plurality of polishing brushes 122 are adjusted for polishing in response to the laminated state of the thin glass substrate 11, each polishing brush 122 may come into contact with the thin glass substrate 11. There is a need.

또한, 도시된 바와 같이 박막유리기판(11)의 에지를 완곡하게 폴리싱하도록 폴리싱 브러쉬(122)는 다수개의 가닥으로 이루어진 브러쉬 번들(bundle)의 길이를 서로 다르게 할 수 있다.Also, as shown, the polishing brush 122 may have different lengths of brush bundles composed of a plurality of strands so as to gently polish the edge of the thin glass substrate 11 .

구체적으로 다수개의 가닥 중 박막유리기판(11)의 측면 두께 방향에 대해 중심 부분에 있는 것은 길이가 짧고 그 외측(도면 기준 상하측)은 더 길도록 돌출시킴으로써 브러시 가닥의 단부를 연결한 가상의 선이 원호 형상이나 그와 유사한 형상을 갖도록 할 수 있다. 따라서, 박막유리기판(11)의 에지를 포함한 측면 전체를 더욱 완곡하게 폴리싱할 수 있게 된다.Specifically, among the plurality of strands, a virtual line connecting the ends of the brush strands by protruding so that the length at the center of the thin glass substrate 11 is short and the outside (upper and lower sides based on the drawing) longer. It can be made to have this circular arc shape or a shape similar to it. Accordingly, the entire side surface of the thin glass substrate 11 including the edge can be polished more gently.

폴리싱 작동기(123)는 폴리싱 브러쉬(122)를 반복해서 움직이게 하도록 기판 폴리싱 몸체(121)에 연결 설치되는 것으로, 실시예로 기판 폴리싱 몸체(121)가 회전체인 경우 모터를 구비한 스핀들이 적용될 수 있다.The polishing actuator 123 is installed connected to the substrate polishing body 121 to repeatedly move the polishing brush 122. For example, when the substrate polishing body 121 is a rotating body, a spindle equipped with a motor may be applied. there is.

폴리싱 작동기(123)에 의해 회전축을 중심으로 기판 폴리싱 몸체(121)가 회전하면, 기판 폴리싱 몸체(121)에 돌출되어 있는 폴리싱 브러쉬(122)가 회전하면서 박막유리기판(11)의 에지와 접촉하며 폴리싱이 이루어진다.When the substrate polishing body 121 rotates around the rotation axis by the polishing actuator 123, the polishing brush 122 protruding from the substrate polishing body 121 rotates and contacts the edge of the thin glass substrate 11, polishing is done.

다른 실시예로서 도 6과 유사하게 폴리싱 브러쉬(122) 역시 전후 방향 왕복 이동하는 방식으로 폴리싱을 진행할 수 있으며, 이 경우 기판 폴리싱 몸체(121)는 길이가 긴 바(bar)나 로드(rod) 혹은 블록 형상으로 구성될 수 있다.As another embodiment, similar to FIG. 6, the polishing brush 122 may also perform polishing in a forward and backward reciprocating manner. In this case, the substrate polishing body 121 is a long bar, rod, or It can be configured in a block shape.

그에 대응하여 폴리싱 작동기(123)는 진동기나 실린더 장치 등으로 구성되어 기판 폴리싱 몸체(121)를 진동시키거나 전후 왕복 이동시킴으로써 폴리싱 브러쉬(122)로 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하게 된다.Correspondingly, the polishing actuator 123 is composed of a vibrator or a cylinder device to vibrate or reciprocate the substrate polishing body 121 to polish the edge of the thin glass substrate 11 with the polishing brush 122.

다만, 폴리싱 작동기(123)는 폴리싱 브러쉬(122)가 박막유리기판(11)의 에지 부분에 접촉하기 시작하는 경우에는 비교적 저속으로 폴리싱을 하고, 폴리싱 진행 중 점차 고속 폴리싱이 이루어지는 등의 속도 제어 역시 가능하다.However, the polishing actuator 123 performs polishing at a relatively low speed when the polishing brush 122 starts to contact the edge portion of the thin glass substrate 11, and the speed control such that high-speed polishing is gradually performed during the polishing process is also performed. possible.

이를 위해 폴리싱 작동기(123)는 접착재층(12)의 제거 깊이를 비롯하여 박막유리기판(11)의 두께, 재질 특성 및 폴리싱 패턴 형상 등을 전달받아 컴퓨팅 처리 후 최적의 상태에서 적응적으로 폴리싱이 이루어지도록 할 수 있다.To this end, the polishing actuator 123 receives information such as the removal depth of the adhesive layer 12, the thickness of the thin glass substrate 11, the material characteristics, and the shape of the polishing pattern, and after computing processing, the polishing is performed adaptively in an optimal state. you can make it

폴리싱 이동기(124)는 기판 폴리싱 몸체(121)의 일측에 설치되며, 폴리싱 브러쉬(122)의 위치가 박막유리기판(11)의 일치하도록 이동시킨다. 즉, 대기 위치에 있던 기판 폴리싱 몸체(121)를 작업 위치로 이동시켜 박막유리기판(11)의 폴리싱이 진행되게 한다.The polishing mover 124 is installed on one side of the substrate polishing body 121 and moves the position of the polishing brush 122 to coincide with the thin glass substrate 11 . That is, the polishing of the thin glass substrate 11 is performed by moving the substrate polishing body 121 from the standby position to the working position.

작업 위치는 폴리싱 브러쉬(122)가 박막유리기판(11)의 에지에 접촉하는 위치를 의미하며, 과도한 접촉이나 부족 접촉을 배제하고 적정한 위치로 이동이 가능하도록 위치 센서나 자세 센서 등의 정보를 수집하여 정위치에 위치되도록 한다.The working position means the position where the polishing brush 122 contacts the edge of the thin glass substrate 11, and collects information such as a position sensor or posture sensor to exclude excessive or insufficient contact and move to an appropriate position so that it is placed in the correct position.

이때, 폴리싱 브러쉬(122)는 박막유리기판(11)의 에지 부분에만 접촉된 상태에서 폴리싱이 진행되는 것이 바람직하다. 따라서, 폴리싱 이동기(124)는 기판 폴리싱 몸체(121)를 이동시켜 폴리싱 브러쉬(122)가 박막유리기판(11)에 접촉시 더 이상 진입하지 않고 그 위치에서 폴리싱이 이루어지도록 제어된다.At this time, it is preferable that the polishing is performed while the polishing brush 122 is in contact with only the edge portion of the thin glass substrate 11 . Therefore, the polishing mover 124 moves the substrate polishing body 121 so that when the polishing brush 122 contacts the thin glass substrate 11, the polishing is performed at that position without further entry.

이와 같이 박막유리기판(11)의 어느 한 변에 대한 에지 폴리싱을 마친 후 폴리싱 이동기(124)를 작동시켜 다른 변으로 이동시키거나 혹은 작업 테이블(TA)을 회전시켜 다른 변이 폴리싱 브러쉬(122)에 접촉되도록 하는 방식으로 필요한 모든 면에 대해 폴리싱 작업을 할 수 있다.After the edge polishing of one side of the thin glass substrate 11 is completed in this way, the polishing mover 124 is operated to move the edge to the other side, or the work table TA is rotated to move the other side to the polishing brush 122. It can be polished on all surfaces as needed in a way that ensures contact.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 에지 폴리싱 시스템에 대해 설명한다.Hereinafter, an edge polishing system according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 에지 폴리싱 시스템은 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하여 박막유리기판(11)의 폴리싱 가공부를 노출시키는 폴리싱용 접착재 제거장치(110) 및 접착재(12)를 제거하여 노출된 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 장치(120)를 포함한다.The edge polishing system according to the present invention removes the adhesive material 12 between the laminated thin glass substrates 11 to expose the polished portion of the thin glass substrate 11, the polishing adhesive removal device 110 and the adhesive material 12 and an edge polishing device 120 for polishing the edge of the thin glass substrate 11 exposed by removing the edge.

바람직하게 폴리싱용 접착재 제거장치(110) 및 에지 폴리싱 장치(120)는 한 세트로 구성되어, 먼저 폴리싱용 접착재 제거장치(110)에 의해 접착재층(12)의 외측부를 제거하고, 그에 따라 가공 공간이 노출된 박막유리기판(11)을 에지 폴리싱 장치(120)로 폴리싱한다.Preferably, the polishing adhesive removal device 110 and the edge polishing device 120 are configured as a set, and first, the outer portion of the adhesive layer 12 is removed by the polishing adhesive removal device 110, thereby reducing the processing space. The exposed thin glass substrate 11 is polished with an edge polishing device 120 .

이를 위해, 폴리싱용 접착재 제거장치(110)는 접착재 제거 몸체(111)와, 상기 접착재 제거 몸체(111) 중 박막유리기판(11) 사이의 접착재층(12)과 대응하는 위치에 각각 구비된 삭제 브러쉬(112) 및 상기 삭제 브러쉬(112)를 반복해서 움직이게 하도록 접착재 제거 몸체(111)에 연결 설치되는 삭제 작동기(113)를 포함한다. 또한, 삭제 작업 위치로 이동시키도록 삭제 이동기(114) 역시 포함할 수 있다.To this end, the adhesive removal device 110 for polishing is provided at a position corresponding to the adhesive material removal body 111 and the adhesive layer 12 between the thin glass substrate 11 among the adhesive material removal body 111. It includes a brush 112 and a deletion actuator 113 connected to the adhesive removal body 111 to repeatedly move the deletion brush 112. In addition, the deletion mover 114 may also be included to move to the deletion work position.

에지 폴리싱 장치(120)는 기판 폴리싱 몸체(121)와, 상기 기판 폴리싱 몸체(121) 중 적어도 박막유리기판(11)과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬(122) 및 상기 폴리싱 브러쉬(122)를 반복해서 움직이게 하도록 기판 폴리싱 몸체(121)에 연결 설치되는 폴리싱 작동기(123)를 포함한다. 또한, 폴리싱 작업 위치로 이동시키도록 폴리싱 이동기(124) 역시 포함할 수 있다.The edge polishing device 120 includes a substrate polishing body 121, a polishing brush 122 provided in a position corresponding to at least the thin glass substrate 11 of the substrate polishing body 121, and the polishing brush 122 and a polishing actuator 123 connected to and installed to the substrate polishing body 121 so as to repeatedly move the substrate. In addition, a polishing mover 124 may also be included to move to the polishing work position.

위와 같은 본 발명의 폴리싱용 접착재 제거장치(110) 및 에지 폴리싱 장치(120)를 구성하는 각 구성들은 이미 위에서 설명한 바와 같으므로, 각 구성 및 그에 의한 작동관계에 대한 좀더 상세한 설명은 생략한다.Since each component constituting the polishing adhesive removal device 110 and the edge polishing device 120 of the present invention has already been described above, a detailed description of each component and its operation relationship will be omitted.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 에지 폴리싱 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, an edge polishing method according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 12와 같이, 본 발명에 따른 에지 폴리싱 방법은 기판 고정 단계(S110), 접착재 제거 단계(S120) 및 에지 폴리싱 단계(S130)를 포함한다.12 , the edge polishing method according to the present invention includes a substrate fixing step (S110), an adhesive material removing step (S120), and an edge polishing step (S130).

여기서, 상기 기판 고정 단계(S110)에서는 적층된 박막유리기판(11)을 고정(기판 투입)한다. 적층된 박막유리기판(11)은 초박막강화유리(UTG: Ultra Thin Glass)와 같이 그 두께가 수십 um 내외로 매우 얇은 것을 포함한다.Here, in the substrate fixing step (S110), the laminated thin glass substrate 11 is fixed (substrate input). The laminated thin glass substrate 11 includes a very thin material having a thickness of about several tens of micrometers, such as ultra thin glass (UTG).

또한, 적층된 박막유리기판(11)은 각 층 사이에 접착재(12)가 삽입 혹은 도포되어 접착재층을 형성하며, 접착재층을 사이에 두고 전면적에 걸쳐 이들과 밀착된 상태인 박막유리기판(11)에서 에지 폴리싱을 수행할 수 있도록 전처리한다.In addition, in the laminated thin glass substrates 11, an adhesive 12 is inserted or applied between each layer to form an adhesive layer, and the thin glass substrate 11 is in a state of being in close contact with them over the entire area with the adhesive layer interposed therebetween. ) to perform edge polishing.

즉, 본 발명은 적층된 박막유리기판 사이의 접착재(12)를 제거하여 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판(11)의 에지를 제거하는 폴리싱을 진행할 수 있게 한다.That is, in the present invention, the polishing portion of the thin glass substrate is exposed by removing the adhesive material 12 between the laminated thin glass substrates, and the edge of the thin glass substrate 11 can be removed through the secured processing space. let it be

이를 위해 접착재(12)를 사이에 두고 다층으로 적층된 박막유리기판(11)은 실시예로 진공흡착 방식의 작업 테이블(TA) 위에 고정된 상태에서 폴리싱 작업에 투입된다.To this end, the thin glass substrates 11 stacked in multiple layers with the adhesive 12 interposed therebetween are put into the polishing operation while being fixed on the work table TA of the vacuum adsorption method according to the embodiment.

다음, 접착재 제거 단계(S120)에서는 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하여 박막유리기판(11)의 폴리싱 가공부를 노출시킨다. 즉, 후속으로 폴리싱을 진행할 수 있도록 박막유리기판(11)의 외측 단부에 각 층간 공간을 확보한다.Next, in the adhesive removal step ( S120 ), the adhesive 12 between the laminated thin glass substrates 11 is removed to expose the polished portion of the thin glass substrates 11 . That is, a space between each layer is secured at the outer end of the thin glass substrate 11 so that subsequent polishing can be performed.

이때, 상기 접착재 제거 단계(S120)는 상기 박막유리기판(11) 사이의 접착재층(12)과 대응하는 위치에 각각 배치된 삭제 브러쉬(112)로 접착재(12)의 테두리 부분을 제거한다.At this time, in the adhesive removal step (S120), the edge portion of the adhesive material 12 is removed using the deleting brushes 112 disposed at positions corresponding to the adhesive material layer 12 between the thin glass substrates 11.

실시예로 접착재 제거 단계(S120)에서는 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하고 폴리싱 가공부를 노출시키도록 삭제 브러쉬(112)를 구비한 폴리싱용 접착재 제거장치(110)를 투입한다.As an embodiment, in the adhesive removal step (S120), the adhesive removal device 110 for polishing having a deletion brush 112 is used to remove the adhesive 12 between the laminated thin glass substrates 11 and expose the polishing processing portion. put in

접착재 제거장치(110)는 접착재 제거 몸체(111), 삭제 브러쉬(112), 삭제 작동기(113) 및 삭제 이동기(114)를 포함하며, 삭제 이동기(114)의 작동에 의해 접착재 제거 몸체(111)를 작업 테이블(TA) 위에 고정된 적층 박막유리기판(11)으로 이동시킨다.The adhesive material removal device 110 includes an adhesive material removal body 111, a deletion brush 112, a deletion actuator 113 and a deletion mover 114, and the adhesive material removal body 111 is moved by the operation of the removal mover 114. is moved to the laminated thin glass substrate 11 fixed on the work table TA.

이때, 접착재 제거 몸체(111)에 구비된 삭제 브러쉬(112)가 각각 접착재층(12) 즉, 박막유리기판(11) 사이의 접착재에 대응하는 높이에 일치시키고, 그 상태에서 삭제 작동기(113)을 작동시킨다.At this time, the deleting brush 112 provided in the adhesive removal body 111 matches the height corresponding to the adhesive layer 12, that is, the adhesive between the thin glass substrates 11, and in that state, the removal actuator 113 it works

삭제 작동기(113)는 접착재 제거 몸체(111)를 회전시키거나 혹은 전후 방향으로 왕복 운동시킴으로써 접착재 제거 몸체(111)에 구비된 삭제 브러쉬(112)로 접착재(12)를 일부 제거하게 된다. The removal actuator 113 rotates the adhesive material removal body 111 or reciprocates in the forward and backward directions to remove some of the adhesive material 12 with the removal brush 112 provided in the adhesive material removal body 111.

이와 같은 방식으로 각 층 사이의 접착재(12)를 외측부터 마모시켜 제거하면, 그 제거된 부분 만큼 적층된 박막유리기판(11)의 에지 부분이 노출되고, 노출된 공간을 통해 후술하는 에지 폴리싱 공정을 진행할 수 있게 된다.In this way, when the adhesive material 12 between each layer is worn and removed from the outside, the edge portion of the laminated thin glass substrate 11 is exposed as much as the removed portion, and through the exposed space, an edge polishing process to be described later can proceed.

다음, 에지 폴리싱 단계(S130)에서는 위와 같이 접착재(12)를 제거하여 노출된 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱한다. 폴리싱은 박막유리기판(11)의 에지(외측 단부 모서리)를 연마하여 일부 깍아내거나 측면 전체를 둥글게 다듬는 작업으로 이를 통해 박막유리기판(11)의 에지에서의 미세 크랙이나 칩핑을 제거한다.Next, in the edge polishing step ( S130 ), the edge of the thin glass substrate 11 exposed by removing the adhesive 12 is polished as described above. Polishing is an operation of polishing the edge (outer end edge) of the thin glass substrate 11 to partially shave off or round the entire side surface, thereby removing micro cracks or chipping at the edge of the thin glass substrate 11 .

에지 폴리싱 단계(S130)에서는 적어도 박막유리기판(11)과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬(122)로 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱한다. 즉, 폴리싱 브러쉬(122)는 적층된 박막유리기판(11)들 모두와 접하여 폴리싱을 수행할 수 있으면 박막유리기판(11) 부분에만 폴리싱 브러쉬(122)를 구비하거나 그 외 부분까지 구비할 수 있다.In the edge polishing step ( S130 ), at least the edge of the thin glass substrate 11 is polished with the polishing brushes 122 provided at positions corresponding to the thin glass substrate 11 . That is, if the polishing brush 122 can perform polishing in contact with all of the laminated thin glass substrates 11, the polishing brush 122 may be provided only on the thin glass substrate 11 or other portions. .

폴리싱 브러쉬(122)는 폴리싱 중 박막유리기판(11)에 충격을 가하지 않도록 부드럽게 굽혀지는 재질을 사용하되, 반복된 접촉으로 박막유리기판(11)의 에지 부분을 완만하게 마모시킬 수 있도록 마모 강도가 박막유리기판(11)보다 상대적으로 높은 것을 이용한다.The polishing brush 122 uses a softly bent material so as not to apply an impact to the thin glass substrate 11 during polishing, but has abrasion strength so that the edge portion of the thin glass substrate 11 can be gently abraded by repeated contact. A relatively higher than the thin glass substrate 11 is used.

실시예로 에지 폴리싱 단계(S130)에서는 접착재(12)를 삭제함에 따라 노출된 각 층 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하도록 상기한 폴리싱 브러쉬(122)를 구비한 에지 폴리싱 장치(120)를 투입한다.As an embodiment, in the edge polishing step (S130), the edge polishing device 120 having the above-described polishing brush 122 is used to polish the edge of each thin film glass substrate 11 exposed as the adhesive 12 is removed. put in

에지 폴리싱 장치(120)는 기판 폴리싱 몸체(121), 폴리싱 브러쉬(122), 폴리싱 작동기(123) 및 폴리싱 이동기(124)를 포함하며, 폴리싱 이동기(124)의 작동에 의해 에지가 노출된 적층 박막유리기판(11)으로 기판 폴리싱 몸체(121)를 이동시킨다.The edge polishing device 120 includes a substrate polishing body 121, a polishing brush 122, a polishing actuator 123, and a polishing mover 124, and a laminated thin film whose edges are exposed by the operation of the polishing mover 124. The substrate polishing body 121 is moved to the glass substrate 11 .

그 후 폴리싱 작동기(123)는 기판 폴리싱 몸체(121)를 회전시키거나 혹은 전후 방향으로 왕복 운동시킴으로써 기판 폴리싱 몸체(121)에 구비된 폴리싱 브러쉬(122)로 노출된 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱한다.After that, the polishing actuator 123 rotates the substrate polishing body 121 or reciprocates it in the forward and backward directions to remove the edge of the thin glass substrate 11 exposed by the polishing brush 122 provided in the substrate polishing body 121. to polish

이와 같은 방식으로 박막유리기판(11)의 한 변에 대해 에지 폴리싱을 마치고, 필요시 다른 변에 대해 에지 폴리싱을 진행한다. 이를 위해 어느 한 변에 대한 에지 폴리싱을 마친 후 폴리싱 이동기(124)를 작동시켜 다른 변으로 이동시키거나 혹은 작업 테이블(TA)을 회전시켜 다른 변이 폴리싱 브러쉬(122)에 접촉되도록 하는 방식으로 필요한 모든 면에 대해 폴리싱 작업을 할 수 있다.In this way, edge polishing is performed on one side of the thin glass substrate 11 and, if necessary, edge polishing is performed on the other side. To this end, after edge polishing on one side is completed, the polishing mover 124 is operated to move to the other side, or the work table TA is rotated so that the other side comes into contact with the polishing brush 122. Polishing can be done on the surface.

위와 같이 본 발명은 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하여 박막유리기판(11)의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱한다.As described above, the present invention removes the adhesive material 12 between the laminated thin glass substrates 11 to expose the polishing portion of the thin glass substrate 11, and the edge of the thin glass substrate 11 through the secured processing space. polish it

따라서, 폴더블 폰의 초박막강화유리 등과 같이 접착재를 통해 여러층으로 적층한 박막유리기판에 대해서도 폴리싱 공정을 수행할 수 있고, 접착재를 일부만 제거하여 적층된 상태를 유지하면서 안정적인 폴리싱을 가능하게 한다.Therefore, the polishing process can be performed even on a thin glass substrate laminated in multiple layers through an adhesive material, such as ultra-thin tempered glass of a foldable phone, and stable polishing is possible while maintaining the laminated state by removing a portion of the adhesive material.

이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 상술하였다. 그러나, 본 발명의 사상 및 범위는 이러한 특정 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.In the above, specific embodiments of the present invention have been described in detail. However, the spirit and scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, but those skilled in the art can make various modifications and variations without changing the gist of the present invention. You will understand when you grow up.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Therefore, since the embodiments described above are provided to completely inform those skilled in the art of the scope of the invention to which the present invention pertains, it should be understood that it is illustrative and not limiting in all respects, The invention is only defined by the scope of the claims.

10: 원장(원판)
11: 성형된 박막유리기판
12: 접착재(접착재층)
110: 폴리싱용 접착재 제거장치
111: 접착재 제거 몸체
112: 삭제 브러쉬
113: 삭제 작동기
114: 삭제 이동기
115: 브러쉬 가이드
120: 에지 폴리싱 장치
121: 기판 폴리싱 몸체
122: 폴리싱 브러쉬
123: 폴리싱 작동기
124: 폴리싱 이동기
10: ledger (disc)
11: molded thin film glass substrate
12: adhesive material (adhesive material layer)
110: adhesive removal device for polishing
111: adhesive material removal body
112: delete brush
113 delete actuator
114: delete mover
115: brush guide
120: edge polishing device
121: substrate polishing body
122: polishing brush
123: polishing actuator
124: polishing mover

Claims (12)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 적층된 박막유리기판 사이의 접착재층을 제거하여 상기 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키는 폴리싱용 접착재 제거장치(110); 및
상기 접착재층을 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 장치(120);를 포함하며,
상기 폴리싱용 접착재 제거장치(110)는,
접착재 제거 몸체(111)와; 상기 접착재 제거 몸체(111)에 구비된 삭제 브러쉬(112); 및 상기 삭제 브러쉬(112)를 반복해서 움직이게 하도록 상기 접착재 제거 몸체(111)에 연결 설치되는 삭제 작동기(113);를 포함하고,
상기 에지 폴리싱 장치(120)는,
기판 폴리싱 몸체(121)와; 상기 기판 폴리싱 몸체(121)에 구비된 폴리싱 브러쉬(122); 및 상기 폴리싱 브러쉬(122)를 반복해서 움직이게 하도록 상기 기판 폴리싱 몸체(121)에 연결 설치되는 폴리싱 작동기(123);를 포함하고,
상기 삭제 브러쉬(112)는 상기 접착재층과 대응하는 위치에 이격, 설치되고,
상기 폴리싱 브러쉬(122)는 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 이격, 설치되는 것을 특징으로 하는 에지 폴리싱 시스템.
an adhesive removal device for polishing (110) which removes the adhesive layer between the laminated thin glass substrates to expose the polished portion of the thin glass substrates; and
An edge polishing device 120 for polishing an edge of the thin glass substrate exposed by removing the adhesive layer;
The polishing adhesive removal device 110,
an adhesive material removal body 111; a deletion brush 112 provided in the adhesive material removing body 111; And a deletion actuator 113 connected to the adhesive removal body 111 to repeatedly move the deletion brush 112;
The edge polishing device 120,
a substrate polishing body 121; a polishing brush 122 provided on the substrate polishing body 121; And a polishing actuator 123 connected to and installed to the substrate polishing body 121 to repeatedly move the polishing brush 122;
The deletion brush 112 is spaced apart and installed at a position corresponding to the adhesive layer,
The edge polishing system, characterized in that the polishing brush (122) is spaced apart and installed at a position corresponding to the thin glass substrate.
삭제delete 접착재에 의해 다수개 적층된 박막유리기판을 고정장치에 고정시키는 기판 고정 단계(S110)와;
적층된 박막유리기판 사이의 접착재층을 제거하여 상기 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키는 접착재 제거 단계(S120); 및
상기 접착재층을 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 단계(S130);를 포함하며,
상기 접착재 제거 단계(S120)는 삭제 브러쉬(112)로 상기 접착재층을 외측 단부부터 설정된 깊이로 제거하고,
상기 에지 폴리싱 단계(S130)는 폴리싱 브러쉬(122)로 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하고,
상기 삭제 브러쉬(112)는 상기 접착재층과 대응하는 위치에 이격, 설치되고,
상기 폴리싱 브러쉬(122)는 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 이격, 설치되는 것을 특징으로 하는 에지 폴리싱 방법.
a substrate fixing step (S110) of fixing a plurality of laminated thin glass substrates to a fixing device by means of an adhesive;
removing the adhesive layer between the stacked thin glass substrates to expose the polished portion of the thin glass substrate (S120); and
and an edge polishing step (S130) of polishing an edge of the thin glass substrate exposed by removing the adhesive layer,
In the adhesive removal step (S120), the adhesive layer is removed from the outer end to a set depth with the deletion brush 112,
In the edge polishing step (S130), the edge of the thin glass substrate is polished with a polishing brush 122,
The deletion brush 112 is spaced apart and installed at a position corresponding to the adhesive layer,
The edge polishing method of claim 1, wherein the polishing brush 122 is spaced apart and installed at a position corresponding to the thin glass substrate.
삭제delete 삭제delete
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