KR102514489B1 - Edge polishing systme and method - Google Patents
Edge polishing systme and method Download PDFInfo
- Publication number
- KR102514489B1 KR102514489B1 KR1020200106375A KR20200106375A KR102514489B1 KR 102514489 B1 KR102514489 B1 KR 102514489B1 KR 1020200106375 A KR1020200106375 A KR 1020200106375A KR 20200106375 A KR20200106375 A KR 20200106375A KR 102514489 B1 KR102514489 B1 KR 102514489B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- polishing
- thin glass
- edge
- brush
- adhesive
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 233
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 191
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 145
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 114
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 114
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 69
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 36
- 238000012217 deletion Methods 0.000 claims description 30
- 230000037430 deletion Effects 0.000 claims description 30
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 5
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B08B1/12—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools, brushes, or analogous members
- B08B1/001—Cleaning by methods involving the use of tools, brushes, or analogous members characterised by the type of cleaning tool
- B08B1/002—Brushes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools, brushes, or analogous members
- B08B1/04—Cleaning by methods involving the use of tools, brushes, or analogous members using rotary operative members
-
- B08B1/32—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B29/00—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents
- B24B29/005—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents using brushes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
- B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
- B24B9/06—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B9/08—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of glass
- B24B9/10—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of glass of plate glass
Abstract
본 발명은 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 관한 것으로, 특히 적층된 박막유리기판을 처리하여 에지 공간을 확보하고, 확보된 에지 공간을 통해 폴리싱을 하는 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an edge polishing system and method, and more particularly, to an edge polishing system and method for processing laminated thin glass substrates to secure an edge space and performing polishing through the secured edge space.
Description
본 발명은 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 적층된 박막유리기판을 처리하여 에지 공간을 확보하고, 확보된 에지 공간을 통해 폴리싱을 하는 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an edge polishing system and method, and more particularly, to an edge polishing system and method for processing laminated thin glass substrates to secure an edge space and performing polishing through the secured edge space.
일반적으로 모바일 단말의 커버 글라스, LCD나 OLED와 같은 평판 디스플레이 패널, TFT 기판, 칼라 필터 기판 등을 비롯한 여러 기판은 원판을 필요한 크기 및 모양으로 절단하는 공정을 거친다.In general, various substrates including a cover glass of a mobile terminal, a flat panel display panel such as LCD or OLED, a TFT substrate, a color filter substrate, and the like go through a process of cutting an original plate into a required size and shape.
이와 같이 절단 공정을 수행하게 되면 절단면에 날카로운 에지(edge)가 생긴다. 이렇게 날카로운 에지는 이송이나 운반 또는 후속 공정 중에 깨지는 경우가 발생되기 때문에 날카로운 에지를 제거하기 위하여 폴리싱(polishing)을 한다When the cutting process is performed in this way, a sharp edge is formed on the cut surface. Since such sharp edges often break during transportation or subsequent processes, polishing is performed to remove sharp edges.
또한 기판 절단시 칩핑(Chipping) 불량 등이 발생하므로 발생된 칩핑을 제거하고 크랙을 방지하는 목적으로도 기판의 에지 폴리싱을 하며, 에지 폴리싱을 통해 기판 테두리 부분의 에지가 삭제된다.In addition, since chipping defects occur during substrate cutting, edge polishing of the substrate is also performed for the purpose of removing chipping and preventing cracks, and through edge polishing, the edge of the edge of the substrate is removed.
그러나, 도 1과 같이 폴더블 폰 등에 적용되는 초박막강화유리(UTG: Ultra Thin Glass)는 그 두께가 수십 um 내외로 매우 얇다. 따라서, 각 층 사이를 접착재로 접착한 원장(원판, 10)을 다수개 적층한 상태에서 레이져로 절단하여 필요한 형상(11)으로 성형한다.However, as shown in FIG. 1, ultra thin glass (UTG) applied to a foldable phone is very thin, with a thickness of around several tens of um. Therefore, in a state in which a plurality of original sheets (original plates) 10 bonded between each layer with an adhesive are laminated, they are cut with a laser and molded into a required
도 2에는 적층된 원장(10)을 필요한 크기 및 형상으로 절단한 상태가 일 예로 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 원장(10)을 절단한 성형 박막유리기판(11)은 전체 면적에 걸쳐 접착재(12)가 도포 혹은 삽입되어 서로 간에 밀착된다.FIG. 2 shows an example of a state in which the
따라서, 도 3과 같이 박막유리기판(11)의 외측단부 절단면에는 에지(ED)가 생성되고, 에지(ED)에서 크랙이나 칩핑(Cc)이 발생할 수 있음에도 접착재(12)를 사이에 두고 완전 밀착된 박막유리기판(11)은 그 외각쪽 테두리 부분에 폴리싱 공정을 수행할 수 있는 공간을 제공할 수 없는 상태가 된다.Therefore, as shown in FIG. 3, an edge (ED) is created on the cut surface of the outer end of the
본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판의 에지를 폴리싱을 가능하게 하는 에지 폴리싱 시스템 및 방법을 제공하고자 한다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, by removing the adhesive material between the laminated thin glass substrates to expose the polishing processing portion of the thin glass substrates, it is possible to polish the edge of the thin glass substrates through the secured processing space. It is intended to provide an edge polishing system and method that allows
이를 위해, 본 발명에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치는 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 상기 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키는 것으로, 접착재 제거 몸체와; 상기 접착재 제거 몸체 중 상기 박막유리기판 사이의 접착재층과 대응하는 위치에 각각 구비된 삭제 브러쉬; 및 상기 삭제 브러쉬를 반복해서 움직이게 하도록 상기 접착재 제거 몸체에 연결 설치되는 삭제 작동기;를 포함하는 것을 특징으로 한다.To this end, an adhesive removal device for polishing according to the present invention removes the adhesive between laminated thin glass substrates to expose the polished portion of the thin glass substrate, comprising: an adhesive removal body; Deletion brushes provided at positions corresponding to the adhesive layer between the thin glass substrates among the adhesive material removing body; and a deletion actuator connected to and installed to the adhesive material removal body to repeatedly move the deletion brush.
이때, 상기 접착재 제거 몸체의 일측에 설치되며, 상기 삭제 브러쉬의 위치가 상기 접착재층에 일치되도록 이동시키는 삭제 이동기를 더 포함하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to further include a deletion mover installed on one side of the adhesive material removing body and moving the position of the deletion brush to match the adhesive material layer.
또한, 상기 접착재 제거 몸체는 상기 삭제 작동기에 의해 회전하는 회전체이며, 상기 회전체에 의해 상기 삭제 브러쉬가 회전하며 상기 접착재층을 제거하는 것이 바람직하다.Preferably, the adhesive material removing body is a rotating body rotated by the removing actuator, and the removing brush is rotated by the rotating body to remove the adhesive layer.
또한, 상기 박막유리기판의 적층 간격과 동일하게 이격 배치되며, 각 층 사이에 상기 삭제 브러쉬가 통과하는 삽입구가 형성된 브러쉬 가이드를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to further include brush guides spaced apart from each other at the same interval as the stacking interval of the thin glass substrates and having an insertion hole through which the deletion brush passes between each layer.
본 발명에 따른 에지 폴리싱 장치는 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 것으로, 기판 폴리싱 몸체와; 상기 기판 폴리싱 몸체 중 적어도 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬; 및 상기 폴리싱 브러쉬를 반복해서 움직이게 하도록 상기 기판 폴리싱 몸체에 연결 설치되는 폴리싱 작동기;를 포함하는 것을 특징으로 한다.An edge polishing apparatus according to the present invention polishes an edge of a thin glass substrate exposed by removing an adhesive between laminated thin glass substrates, comprising: a substrate polishing body; polishing brushes respectively provided at positions corresponding to at least the thin glass substrate in the substrate polishing body; and a polishing actuator connected and installed to the substrate polishing body to repeatedly move the polishing brush.
이때, 상기 기판 폴리싱 몸체의 일측에 설치되며, 상기 폴리싱 브러쉬의 위치가 상기 박막유리기판에 일치되도록 이동시키는 폴리싱 이동기를 더 포함하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to further include a polishing mover installed on one side of the substrate polishing body and moving the polishing brush to match the position of the thin glass substrate.
또한, 상기 기판 폴리싱 몸체는 상기 폴리싱 작동기에 의해 회전하는 회전체이며, 상기 회전체에 의해 상기 폴리싱 브러쉬가 회전하며 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 것이 바람직하다.Preferably, the substrate polishing body is a rotating body rotated by the polishing actuator, and the polishing brush rotates by the rotating body to polish the edge of the thin glass substrate.
또한, 본 발명에 따른 에지 폴리싱 시스템은 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 상기 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키는 폴리싱용 접착재 제거장치; 및 상기 접착재를 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 장치;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the edge polishing system according to the present invention includes a polishing adhesive removal device for exposing the polishing portion of the thin glass substrate by removing the adhesive between the laminated thin glass substrates; and an edge polishing device for polishing an edge of the thin glass substrate exposed by removing the adhesive material.
이때, 상기 폴리싱용 접착재 제거장치는 접착재 제거 몸체와; 상기 접착재 제거 몸체 중 상기 박막유리기판 사이의 접착재층과 대응하는 위치에 각각 구비된 삭제 브러쉬; 및 상기 삭제 브러쉬를 반복해서 움직이게 하도록 상기 접착재 제거 몸체에 연결 설치되는 삭제 작동기;를 포함하고, 상기 에지 폴리싱 장치는 기판 폴리싱 몸체와; 상기 기판 폴리싱 몸체 중 적어도 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬; 및 상기 폴리싱 브러쉬를 반복해서 움직이게 하도록 상기 기판 폴리싱 몸체에 연결 설치되는 폴리싱 작동기;를 포함하는 것을 특징으로 한다.At this time, the adhesive material removal device for polishing includes an adhesive material removal body; Deletion brushes provided at positions corresponding to the adhesive layer between the thin glass substrates among the adhesive material removing body; and a deleting actuator connected to the adhesive removing body to repeatedly move the deleting brush, wherein the edge polishing device includes a substrate polishing body; polishing brushes respectively provided at positions corresponding to at least the thin glass substrate in the substrate polishing body; and a polishing actuator connected and installed to the substrate polishing body to repeatedly move the polishing brush.
또한, 본 발명에 따른 에지 폴리싱 방법은 접착재에 의해 다수개 적층된 박막유리기판을 고정장치에 고정시키는 기판 고정 단계와; 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 상기 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키는 접착재 제거 단계; 및 상기 접착재를 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the edge polishing method according to the present invention includes a substrate fixing step of fixing a plurality of laminated thin glass substrates to a fixing device by using an adhesive; removing the adhesive material between the laminated thin glass substrates to expose the polished portion of the thin glass substrates; and an edge polishing step of polishing an edge of the thin glass substrate exposed by removing the adhesive material.
이때, 상기 접착재 제거 단계는 상기 박막유리기판 사이의 접착재층과 대응하는 위치에 각각 배치된 삭제 브러쉬로 상기 접착재층을 외측 단부부터 설정된 깊이로 제거하는 단계인 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the adhesive material removal step is a step of removing the adhesive material layer from the outer end to a set depth with a deleting brush disposed at a position corresponding to the adhesive material layer between the thin glass substrates.
또한, 상기 에지 폴리싱 단계는 적어도 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬로 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 단계인 것이 바람직하다.In addition, the edge polishing step is preferably a step of polishing the edge of the thin glass substrate with polishing brushes respectively provided at positions corresponding to at least the thin glass substrate.
이상과 같은 본 발명은 적층된 박막유리기판 사이의 접착재를 제거하여 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판의 에지를 폴리싱한다. As described above, the present invention removes the adhesive material between the laminated thin glass substrates to expose the polishing portion of the thin glass substrates, and polishes the edges of the thin glass substrates through the secured processing space.
따라서, 초박막강화유리 등과 같이 접착재를 통해 여러층으로 적층한 박막유리기판에 대해서도 폴리싱 공정을 수행할 수 있고, 접착재를 일부만 제거하여 적층된 상태를 유지하면서 안정적인 폴리싱을 가능하게 한다.Therefore, the polishing process can be performed even on thin glass substrates laminated in multiple layers using an adhesive material, such as ultra-thin tempered glass, and stable polishing is possible while maintaining the laminated state by removing a portion of the adhesive material.
도 1은 일반적으로 적용되는 적층 초박막강화유리의 절단 성형 상태를 나타낸 평면도이다.
도 2는 상기 도 1의 초박막강화유리의 적층 구조를 나타낸 도이다.
도 3은 상기 도 1의 초박막강화유리 절단면 에지의 미세크랙 및 칩핑 발생 상태를 나타낸 부분 확대도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치를 나타낸 사시도이다.
도 5는 상기 도 4의 삭제 브러쉬를 나타낸 부분 확대도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치를 나타낸 사시도이다.
도 7은 본 발명의 삭제 작동기를 나타낸 다른 실시예이다.
도 8은 본 발명에 따른 에지 폴리싱 장치를 나타낸 사시도이다.
도 9는 상기 도 8의 폴리싱 브러쉬를 나타낸 부분 확대도이다.
도 10은 본 발명에 의한 에지 폴리싱 상태를 나타낸 부분 확대도이다.
도 11은 본 발명의 폴리싱 브러쉬를 나타낸 다른 실시예이다.
도 12는 본 발명에 따른 에지 폴리싱 방법을 나타낸 흐름도이다.1 is a plan view showing a cutting and molding state of a generally applied laminated ultra-thin film tempered glass.
2 is a view showing a laminated structure of the ultra-thin-film tempered glass of FIG. 1;
FIG. 3 is a partially enlarged view showing a state in which micro-cracks and chipping occur at the edge of the cut surface of the ultra-thin-film tempered glass of FIG. 1. Referring to FIG.
4 is a perspective view showing an adhesive removal device for polishing according to an embodiment of the present invention.
5 is a partially enlarged view showing the deletion brush of FIG. 4;
6 is a perspective view showing an adhesive material removal device for polishing according to another embodiment of the present invention.
7 is another embodiment of the deletion actuator of the present invention.
8 is a perspective view showing an edge polishing apparatus according to the present invention.
9 is a partially enlarged view showing the polishing brush of FIG. 8;
10 is a partially enlarged view showing a state of edge polishing according to the present invention.
11 is another embodiment of the polishing brush of the present invention.
12 is a flowchart illustrating an edge polishing method according to the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 에지 폴리싱 시스템 및 방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, an edge polishing system and method according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치를 나타낸 사시도이다.4 is a perspective view showing an adhesive removal device for polishing according to the present invention.
도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 폴리싱용 접착재 제거장치(110)는 접착재(혹은 접착재층)(12)를 사이에 두고 전면적에 걸쳐 접착재(12)와 밀착된 상태로 적층된 박막유리기판(11)에서 에지 폴리싱을 수행할 수 있도록 전처리한다.As shown, the polishing
즉, 본 발명은 적층된 박막유리기판 사이의 접착재층(12)을 외측 단부부터 설정된 깊이로 제거하여 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판(11)의 에지를 제거하는 폴리싱을 진행할 수 있게 한다.That is, the present invention removes the
따라서, 폴더블 스마트폰용 초박막강화유리(UTG: Ultra Thin Glass)와 같이 접착재(12)를 통해 적층된 박막유리기판을 절단한 경우에도 폴리싱을 수행하고, 접착재(12)를 일부만 제거하여 적층된 상태를 유지하면서 안정적인 폴리싱을 가능하게 한다.Therefore, even when the thin glass substrate laminated through the
이를 위해 폴리싱용 접착재 제거장치(110) 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하고 폴리싱 가공부를 노출시키도록 접착재 제거 몸체(111), 삭제 브러쉬(112), 삭제 작동기(113) 및 삭제 이동기(114)를 포함한다.To this end, the adhesive
여기서, 상기 접착재 제거 몸체(111)는 삭제 브러쉬(112)가 설치되는 이동체를 구성하는 것으로, 삭제 작동기(113)에 의해 작동되며, 삭제 이동기(114)에 의해 작업 위치로 이동된다.Here, the adhesive
실시예로 접착재 제거 몸체(111)는 삭제 브러쉬(112)를 회전시키는 회전체로 구성된다. 회전체 타입의 접착재 제거 몸체(111)는 박막유리기판(11)의 적층 개수에 따라 결정되는 전체 높이에 대응하는 높이로 구성될 수 있다.In an embodiment, the adhesive
즉, 각 박막유리기판(11)의 두께가 매우 얇은 이유로 적층 수가 작다면 접착재 제거 몸체(111)의 높이 역시 비교적 낮아도 되므로 도시된 바와 같은 회전 디스크 형상이 적용될 수 있다. 반면, 적층 수가 많다면 상대적으로 높이가 높은 원통형 회전체로 변경하여 적용될 수 있다.That is, if the number of stacks is small because the thickness of each
접착재 제거 몸체(111)를 삭제 작동기(113)에 의해 회전하는 회전체 구성하면, 회전축을 통해 이들이 서로 연결되며, 접착재 제거 몸체(111)에 구비된 삭제 브러쉬(112)도 함께 회전하게 된다. 따라서, 설정된 RPM으로 회전하는 삭제 브러쉬(112)에 의해 접착재(12)가 외측부터 마모되어 제거된다.If the adhesive
도 5에 확대 도시된 바와 같이, 삭제 브러쉬(112)는 접착재(12)가 도포되거나 삽입되어 각 층 박막유리기판(11) 사이에 형성된 접착재(12)를 삭제한다. 즉, 삭제 브러쉬(112)로 접착재층(12)을 외측 단부부터 설정된 깊이로 제거한다.As shown enlarged in FIG. 5 , the
삭제는 접착재(12)에 의해 층이 형성된 접착재층(12)을 브러쉬 연마 방식으로 제거하는 것으로, 박막유리기판(11)의 에지가 노출되도록 접착재층(12)의 테두리 부분만을 일부 제거한다.Deletion is to remove the
삭제 브러쉬(112)로 접착재층(12)만 제거하도록, 삭제 브러쉬(112)는 접착재 제거 몸체(111) 중 박막유리기판(11) 사이의 접착재층(12)과 대응하는 위치에 각각 구비된다. 따라서, 삭제 이동기(114)에 의해 정위치에 배치시 각각의 삭제 브러쉬(112)는 접착재층(12)을 마주보게 된다.To remove only the
또한, 삭제 브러쉬(112)는 수지나 레진 혹은 접착 필름과 같은 접착재층(12)을 삭제하는 재질로 이루어진다. 즉, 삭제 브러쉬(112)는 접착재층(12)을 삭제하도록 경화된 접착재층(12)보다 마모 강도가 높은 것을 사용한다. 따라서, 박막유리기판(11)은 남기고 접착재층(12)의 테두리부만 제거된다.In addition, the deleting
삭제 작동기(113)는 상기한 삭제 브러쉬(112)를 반복해서 움직이게 하도록 접착재 제거 몸체(111)에 연결 설치된다. 실시예로 삭제 작동기(113)는 접착재 제거 몸체(111)가 회전체인 경우 모터를 구비한 스핀들(spindle)이 적용될 수 있다.The
따라서, 삭제 작동기(113)에 의해 회전체인 접착재 제거 몸체(111)가 회전축을 중심으로 회전하면, 접착재 제거 몸체(111)에 돌출되어 있는 삭제 브러쉬(112)가 회전하면서 접착재층(12)에 반복 접촉하며 제거하게 된다.Therefore, when the adhesive
도 6과 같이, 다른 실시예로서 삭제 브러쉬(112a)는 전후 방향 왕복 이동에 의해 접착재층(12)을 제거하는 방식도 적용될 수 있다. 이 경우 접착재 제거 몸체(111a)는 길이가 긴 바(bar)나 로드(rod) 혹은 블록 형상으로 구성될 수 있다.As shown in FIG. 6 , as another embodiment, the deleting
또한, 삭제 작동기(113a)는 진동기나 실린더 장치 등으로 구성되어 접착재 제거 몸체(111a)를 진동시키거나 전후 왕복 이동시킴으로써, 삭제 브러쉬(112a)에 의해 접착재층(12)을 마모시켜 제거할 수 있게 된다.In addition, the
삭제 이동기(114)는 접착재 제거 몸체(111)의 일측에 설치되며, 삭제 브러쉬(112)의 위치가 접착재층(12)에 일치되도록 이동시킨다. 즉, 대기 위치에 있던 접착재 제거 몸체(111)를 작업 위치(작업 높이)로 이동시킨다.The
작업 위치는 위와 같이 접착재층(12)의 일부를 제거하는 위치이므로, 삭제 브러쉬(112)가 접착재층(12)를 바라보는 위치로 이동시키는 것이며, 정확한 위치로 이동이 가능하도록 위치 센서나 자세 센서 등의 정보를 수집하여 정위치에 위치되도록 한다.Since the working position is a position where a part of the
이때, 적층된 각 박막유리기판(11)은 실시예로 진공흡착 방식의 작업 테이블(TA) 위에 고정된 상태에서 삭제 작동기(113)가 각각의 가공면을 따라 이동하는 것이 바람직하다. 그러나, 삭제 작동기(113)가 정위치에 고정된 상태에서 작업 테이블(TA)을 회전시켜 각 가공면이 삭제 브러쉬(112)에 순차로 접하도록 할 수도 있다.At this time, it is preferable that the
다만, 도 7과 같이 본 발명은 브러쉬 가이드(115)를 더 포함하는 것이 바람직한데, 브러쉬 가이드(115)는 박막유리기판(11)의 적층 간격과 동일하게 이격 배치되어 각각 박막유리기판(11)과 나란히 배치된다. 따라서, 각 층 사이에 삭제 브러쉬(112)가 통과하는 진입 통로(116)가 형성된다.However, as shown in FIG. 7 , it is preferable that the present invention further include a
이러한 브러쉬 가이드(115)는 일 예로 마모에 강한 금속 재질이 사용될 수 있으며, 그 기능을 살펴보면 접착재(12) 제거 중 삭제 브러쉬(112)가 박막유리기판(11)에 접촉하지 않도록 박막유리기판(11)으로 통하는 경로를 차단한다.For example, the
이를 위해 브러쉬 가이드(115)는 다수의 가이드 판이 박막유리가판의 위치에 대응하도록 일렬로 이격 배치되며, 적어도 박막유리기판(11)의 전체 길이를 커버하는 길이를 갖는 판 형상으로 구성될 수 있다.To this end, the
삭제 브러쉬(112)에 의해 접착재층(12) 테두리가 제거됨에 따라 박막유리기판(11)의 에지(ED)가 노출된 상태는 아래에서 도 9를 통해 확인 가능하며, 이하 노출된 에지에서의 폴리싱에 대해 설명한다.As the edge of the
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 에지 폴리싱 장치에 대해 설명한다.Hereinafter, an edge polishing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 에지 폴리싱 장치(120)는 각각의 박막유리기판(11)이 접착재층(12)의 외측으로 돌출된 적층 박막유리기판(11)에 적용되는 것으로, 에지 폴리싱이 가능하도록 접착재층(12)을 제거하는 장치나 방법과 무관하게 적용될 수 있다.The
그러나, 본 발명은 위에서 설명한 '폴리싱용 접착재 제거장치'에 의해 전처리(접착재층 제거)된 박막유리기판(11)에 후속으로 연속해서 적용되는 것이 바람직하다. 따라서, 이하에서는 상술한 '폴리싱용 접착재 제거장치'에 의해 가공 공간이 확보된 박막유리기판(11)을 폴리싱하는 것으로 설명한다.However, it is preferable that the present invention be subsequently and continuously applied to the
도 8과 같이, 본 발명에 따른 에지 폴리싱 장치(120)는 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하여 노출된 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하는 것으로, 기판 폴리싱 몸체(121), 폴리싱 브러쉬(122), 폴리싱 작동기(123) 및 폴리싱 이동기(124)를 포함한다.As shown in FIG. 8 , the
이러한 본 발명의 에지 폴리싱 장치(120) 역시 브러시 마모 방식으로 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하는 것으로, 기판 폴리싱 몸체(121)는 폴리싱 브러쉬(122)가 설치되는 이동체를 구성한다.The
실시예로 기판 폴리싱 몸체(121)는 폴리싱 브러쉬(122)를 회전시키는 회전체로 구성된다. 회전체 타입의 기판 폴리싱 몸체(121)는 박막유리기판(11)의 적층 개수에 따라 결정되는 기판 높이에 대응하는 높이로 구성될 수 있다.In an embodiment, the
즉, 적층수에 따라 비교적 높이가 낮은 회전 디스크가 적용되거나 이에 비해 상대적으로 높이가 높은 원통형 회전체가 적용될 수 있으며, 이들은 그 회전 중심이 회전축을 통해 폴리싱 작동기(123)에 연결되어 회전된다.That is, depending on the number of layers, a rotating disk with a relatively low height or a cylindrical rotating body with a relatively high height may be applied, and their rotational center is connected to the polishing
기판 폴리싱 몸체(121)를 폴리싱 작동기(123)에 의해 회전하는 회전체로 구성하면, 기판 폴리싱 몸체(121)에 구비된 폴리싱 브러쉬(122)도 함께 회전하며, 설정된 RPM으로 회전하는 폴리싱 브러쉬(122)에 의해 박막유리기판(11)의 에지가 폴리싱된다.If the
도 9에 확대 도시된 바와 같이, 폴리싱 브러쉬(122)는 접착재층(12)을 사이에 두고 적층된 다수의 박막유리기판(11) 중 접착재(12)의 외측으로 돌출된 박막유리기판(11)을 폴리싱한다. 즉, 적층된 박막유리기판(11)은 그 사이에 밀착되어 있던 접착재(12)가 일부 제거됨에 따라 확보된 공간에서 폴리싱을 한다.As shown enlarged in FIG. 9 , the polishing
폴리싱은 폴리싱 브러쉬(122)로 박막유리기판(11)의 에지(외측 단부 모서리)를 연마하여 일부 깍아내거나 측면 전체를 둥글게 다듬는 작업으로 이를 통해 박막유리기판(11)의 에지에서의 미세 크랙이나 칩핑을 제거한다.Polishing is an operation of polishing the edge (outer end edge) of the
이를 위해 폴리싱 브러쉬(122)는 폴리싱 중 박막유리기판(11)에 충격을 가하지 않도록 부드럽게 굽혀지는 재질을 사용하되, 반복된 접촉으로 박막유리기판(11)의 에지 부분을 완만하게 마모시킬 수 있도록 마모 강도가 박막유리기판(11)보다 상대적으로 높은 것을 이용한다.To this end, the polishing
또한, 폴리싱 브러쉬(122)는 기판 폴리싱 몸체(121) 중 적어도 박막유리기판(11)과 대응하는 위치에 구비된다. 즉, 폴리싱 브러쉬(122)는 적층된 박막유리기판(11)들 모두와 접하여 폴리싱을 수행할 수 있다면 박막유리기판(11) 부분에만 폴리싱 브러쉬(122)를 구비하거나 그 외 부분까지 구비할 수 있다.In addition, the polishing
도 10과 같이, 실시예로 폴리싱 브러쉬(122)는 기판 폴리싱 몸체(121) 전체 높이에 걸쳐 연속하여 설치됨에 따라 이들 중 어느 부분을 통해서도 적층된 박막유리기판(11)들을 동시에 폴리싱한다.As shown in FIG. 10, as the polishing
위와 같이 폴리싱 브러쉬(122)가 기판 폴리싱 몸체(121)의 전체 높이에 걸쳐 연속하여 배치된 경우에는 공정시 일부의 폴리싱 브러쉬(122)만이 폴리싱에 이용되며, 가급적 박막유리기판(11)과만 접촉하도록 접근 위치가 조절될 수 있다.As described above, when the polishing brushes 122 are continuously disposed over the entire height of the
다른 실시예로, 도 11과 같이, 폴리싱 브러쉬(122)는 적층된 박막유리기판(11)에 대응하는 위치에 이격되어 설치될 수 있다. 즉, 박막유리기판(11)에 대응하는 위치에만 구비될 수 있다. In another embodiment, as shown in FIG. 11 , the polishing
이러한 경우에는 박막유리기판(11)의 적층 상태에 대응하여 다수개 구비된 폴리싱 브러쉬(122)가 폴리싱을 위해 위치가 조절됨에 따라 각각의 폴리싱 브러쉬(122)는 박막유리기판(11)에 접촉될 필요가 있다.In this case, as the positions of the plurality of polishing brushes 122 are adjusted for polishing in response to the laminated state of the
또한, 도시된 바와 같이 박막유리기판(11)의 에지를 완곡하게 폴리싱하도록 폴리싱 브러쉬(122)는 다수개의 가닥으로 이루어진 브러쉬 번들(bundle)의 길이를 서로 다르게 할 수 있다.Also, as shown, the polishing
구체적으로 다수개의 가닥 중 박막유리기판(11)의 측면 두께 방향에 대해 중심 부분에 있는 것은 길이가 짧고 그 외측(도면 기준 상하측)은 더 길도록 돌출시킴으로써 브러시 가닥의 단부를 연결한 가상의 선이 원호 형상이나 그와 유사한 형상을 갖도록 할 수 있다. 따라서, 박막유리기판(11)의 에지를 포함한 측면 전체를 더욱 완곡하게 폴리싱할 수 있게 된다.Specifically, among the plurality of strands, a virtual line connecting the ends of the brush strands by protruding so that the length at the center of the
폴리싱 작동기(123)는 폴리싱 브러쉬(122)를 반복해서 움직이게 하도록 기판 폴리싱 몸체(121)에 연결 설치되는 것으로, 실시예로 기판 폴리싱 몸체(121)가 회전체인 경우 모터를 구비한 스핀들이 적용될 수 있다.The polishing
폴리싱 작동기(123)에 의해 회전축을 중심으로 기판 폴리싱 몸체(121)가 회전하면, 기판 폴리싱 몸체(121)에 돌출되어 있는 폴리싱 브러쉬(122)가 회전하면서 박막유리기판(11)의 에지와 접촉하며 폴리싱이 이루어진다.When the
다른 실시예로서 도 6과 유사하게 폴리싱 브러쉬(122) 역시 전후 방향 왕복 이동하는 방식으로 폴리싱을 진행할 수 있으며, 이 경우 기판 폴리싱 몸체(121)는 길이가 긴 바(bar)나 로드(rod) 혹은 블록 형상으로 구성될 수 있다.As another embodiment, similar to FIG. 6, the polishing
그에 대응하여 폴리싱 작동기(123)는 진동기나 실린더 장치 등으로 구성되어 기판 폴리싱 몸체(121)를 진동시키거나 전후 왕복 이동시킴으로써 폴리싱 브러쉬(122)로 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하게 된다.Correspondingly, the polishing
다만, 폴리싱 작동기(123)는 폴리싱 브러쉬(122)가 박막유리기판(11)의 에지 부분에 접촉하기 시작하는 경우에는 비교적 저속으로 폴리싱을 하고, 폴리싱 진행 중 점차 고속 폴리싱이 이루어지는 등의 속도 제어 역시 가능하다.However, the polishing
이를 위해 폴리싱 작동기(123)는 접착재층(12)의 제거 깊이를 비롯하여 박막유리기판(11)의 두께, 재질 특성 및 폴리싱 패턴 형상 등을 전달받아 컴퓨팅 처리 후 최적의 상태에서 적응적으로 폴리싱이 이루어지도록 할 수 있다.To this end, the polishing
폴리싱 이동기(124)는 기판 폴리싱 몸체(121)의 일측에 설치되며, 폴리싱 브러쉬(122)의 위치가 박막유리기판(11)의 일치하도록 이동시킨다. 즉, 대기 위치에 있던 기판 폴리싱 몸체(121)를 작업 위치로 이동시켜 박막유리기판(11)의 폴리싱이 진행되게 한다.The
작업 위치는 폴리싱 브러쉬(122)가 박막유리기판(11)의 에지에 접촉하는 위치를 의미하며, 과도한 접촉이나 부족 접촉을 배제하고 적정한 위치로 이동이 가능하도록 위치 센서나 자세 센서 등의 정보를 수집하여 정위치에 위치되도록 한다.The working position means the position where the polishing
이때, 폴리싱 브러쉬(122)는 박막유리기판(11)의 에지 부분에만 접촉된 상태에서 폴리싱이 진행되는 것이 바람직하다. 따라서, 폴리싱 이동기(124)는 기판 폴리싱 몸체(121)를 이동시켜 폴리싱 브러쉬(122)가 박막유리기판(11)에 접촉시 더 이상 진입하지 않고 그 위치에서 폴리싱이 이루어지도록 제어된다.At this time, it is preferable that the polishing is performed while the polishing
이와 같이 박막유리기판(11)의 어느 한 변에 대한 에지 폴리싱을 마친 후 폴리싱 이동기(124)를 작동시켜 다른 변으로 이동시키거나 혹은 작업 테이블(TA)을 회전시켜 다른 변이 폴리싱 브러쉬(122)에 접촉되도록 하는 방식으로 필요한 모든 면에 대해 폴리싱 작업을 할 수 있다.After the edge polishing of one side of the
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 에지 폴리싱 시스템에 대해 설명한다.Hereinafter, an edge polishing system according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
본 발명에 따른 에지 폴리싱 시스템은 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하여 박막유리기판(11)의 폴리싱 가공부를 노출시키는 폴리싱용 접착재 제거장치(110) 및 접착재(12)를 제거하여 노출된 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 장치(120)를 포함한다.The edge polishing system according to the present invention removes the
바람직하게 폴리싱용 접착재 제거장치(110) 및 에지 폴리싱 장치(120)는 한 세트로 구성되어, 먼저 폴리싱용 접착재 제거장치(110)에 의해 접착재층(12)의 외측부를 제거하고, 그에 따라 가공 공간이 노출된 박막유리기판(11)을 에지 폴리싱 장치(120)로 폴리싱한다.Preferably, the polishing
이를 위해, 폴리싱용 접착재 제거장치(110)는 접착재 제거 몸체(111)와, 상기 접착재 제거 몸체(111) 중 박막유리기판(11) 사이의 접착재층(12)과 대응하는 위치에 각각 구비된 삭제 브러쉬(112) 및 상기 삭제 브러쉬(112)를 반복해서 움직이게 하도록 접착재 제거 몸체(111)에 연결 설치되는 삭제 작동기(113)를 포함한다. 또한, 삭제 작업 위치로 이동시키도록 삭제 이동기(114) 역시 포함할 수 있다.To this end, the
에지 폴리싱 장치(120)는 기판 폴리싱 몸체(121)와, 상기 기판 폴리싱 몸체(121) 중 적어도 박막유리기판(11)과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬(122) 및 상기 폴리싱 브러쉬(122)를 반복해서 움직이게 하도록 기판 폴리싱 몸체(121)에 연결 설치되는 폴리싱 작동기(123)를 포함한다. 또한, 폴리싱 작업 위치로 이동시키도록 폴리싱 이동기(124) 역시 포함할 수 있다.The
위와 같은 본 발명의 폴리싱용 접착재 제거장치(110) 및 에지 폴리싱 장치(120)를 구성하는 각 구성들은 이미 위에서 설명한 바와 같으므로, 각 구성 및 그에 의한 작동관계에 대한 좀더 상세한 설명은 생략한다.Since each component constituting the polishing
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 에지 폴리싱 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, an edge polishing method according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 12와 같이, 본 발명에 따른 에지 폴리싱 방법은 기판 고정 단계(S110), 접착재 제거 단계(S120) 및 에지 폴리싱 단계(S130)를 포함한다.12 , the edge polishing method according to the present invention includes a substrate fixing step (S110), an adhesive material removing step (S120), and an edge polishing step (S130).
여기서, 상기 기판 고정 단계(S110)에서는 적층된 박막유리기판(11)을 고정(기판 투입)한다. 적층된 박막유리기판(11)은 초박막강화유리(UTG: Ultra Thin Glass)와 같이 그 두께가 수십 um 내외로 매우 얇은 것을 포함한다.Here, in the substrate fixing step (S110), the laminated
또한, 적층된 박막유리기판(11)은 각 층 사이에 접착재(12)가 삽입 혹은 도포되어 접착재층을 형성하며, 접착재층을 사이에 두고 전면적에 걸쳐 이들과 밀착된 상태인 박막유리기판(11)에서 에지 폴리싱을 수행할 수 있도록 전처리한다.In addition, in the laminated
즉, 본 발명은 적층된 박막유리기판 사이의 접착재(12)를 제거하여 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판(11)의 에지를 제거하는 폴리싱을 진행할 수 있게 한다.That is, in the present invention, the polishing portion of the thin glass substrate is exposed by removing the
이를 위해 접착재(12)를 사이에 두고 다층으로 적층된 박막유리기판(11)은 실시예로 진공흡착 방식의 작업 테이블(TA) 위에 고정된 상태에서 폴리싱 작업에 투입된다.To this end, the
다음, 접착재 제거 단계(S120)에서는 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하여 박막유리기판(11)의 폴리싱 가공부를 노출시킨다. 즉, 후속으로 폴리싱을 진행할 수 있도록 박막유리기판(11)의 외측 단부에 각 층간 공간을 확보한다.Next, in the adhesive removal step ( S120 ), the adhesive 12 between the laminated
이때, 상기 접착재 제거 단계(S120)는 상기 박막유리기판(11) 사이의 접착재층(12)과 대응하는 위치에 각각 배치된 삭제 브러쉬(112)로 접착재(12)의 테두리 부분을 제거한다.At this time, in the adhesive removal step (S120), the edge portion of the
실시예로 접착재 제거 단계(S120)에서는 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하고 폴리싱 가공부를 노출시키도록 삭제 브러쉬(112)를 구비한 폴리싱용 접착재 제거장치(110)를 투입한다.As an embodiment, in the adhesive removal step (S120), the
접착재 제거장치(110)는 접착재 제거 몸체(111), 삭제 브러쉬(112), 삭제 작동기(113) 및 삭제 이동기(114)를 포함하며, 삭제 이동기(114)의 작동에 의해 접착재 제거 몸체(111)를 작업 테이블(TA) 위에 고정된 적층 박막유리기판(11)으로 이동시킨다.The adhesive
이때, 접착재 제거 몸체(111)에 구비된 삭제 브러쉬(112)가 각각 접착재층(12) 즉, 박막유리기판(11) 사이의 접착재에 대응하는 높이에 일치시키고, 그 상태에서 삭제 작동기(113)을 작동시킨다.At this time, the deleting
삭제 작동기(113)는 접착재 제거 몸체(111)를 회전시키거나 혹은 전후 방향으로 왕복 운동시킴으로써 접착재 제거 몸체(111)에 구비된 삭제 브러쉬(112)로 접착재(12)를 일부 제거하게 된다. The
이와 같은 방식으로 각 층 사이의 접착재(12)를 외측부터 마모시켜 제거하면, 그 제거된 부분 만큼 적층된 박막유리기판(11)의 에지 부분이 노출되고, 노출된 공간을 통해 후술하는 에지 폴리싱 공정을 진행할 수 있게 된다.In this way, when the
다음, 에지 폴리싱 단계(S130)에서는 위와 같이 접착재(12)를 제거하여 노출된 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱한다. 폴리싱은 박막유리기판(11)의 에지(외측 단부 모서리)를 연마하여 일부 깍아내거나 측면 전체를 둥글게 다듬는 작업으로 이를 통해 박막유리기판(11)의 에지에서의 미세 크랙이나 칩핑을 제거한다.Next, in the edge polishing step ( S130 ), the edge of the
에지 폴리싱 단계(S130)에서는 적어도 박막유리기판(11)과 대응하는 위치에 각각 구비된 폴리싱 브러쉬(122)로 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱한다. 즉, 폴리싱 브러쉬(122)는 적층된 박막유리기판(11)들 모두와 접하여 폴리싱을 수행할 수 있으면 박막유리기판(11) 부분에만 폴리싱 브러쉬(122)를 구비하거나 그 외 부분까지 구비할 수 있다.In the edge polishing step ( S130 ), at least the edge of the
폴리싱 브러쉬(122)는 폴리싱 중 박막유리기판(11)에 충격을 가하지 않도록 부드럽게 굽혀지는 재질을 사용하되, 반복된 접촉으로 박막유리기판(11)의 에지 부분을 완만하게 마모시킬 수 있도록 마모 강도가 박막유리기판(11)보다 상대적으로 높은 것을 이용한다.The polishing
실시예로 에지 폴리싱 단계(S130)에서는 접착재(12)를 삭제함에 따라 노출된 각 층 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱하도록 상기한 폴리싱 브러쉬(122)를 구비한 에지 폴리싱 장치(120)를 투입한다.As an embodiment, in the edge polishing step (S130), the
에지 폴리싱 장치(120)는 기판 폴리싱 몸체(121), 폴리싱 브러쉬(122), 폴리싱 작동기(123) 및 폴리싱 이동기(124)를 포함하며, 폴리싱 이동기(124)의 작동에 의해 에지가 노출된 적층 박막유리기판(11)으로 기판 폴리싱 몸체(121)를 이동시킨다.The
그 후 폴리싱 작동기(123)는 기판 폴리싱 몸체(121)를 회전시키거나 혹은 전후 방향으로 왕복 운동시킴으로써 기판 폴리싱 몸체(121)에 구비된 폴리싱 브러쉬(122)로 노출된 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱한다.After that, the polishing
이와 같은 방식으로 박막유리기판(11)의 한 변에 대해 에지 폴리싱을 마치고, 필요시 다른 변에 대해 에지 폴리싱을 진행한다. 이를 위해 어느 한 변에 대한 에지 폴리싱을 마친 후 폴리싱 이동기(124)를 작동시켜 다른 변으로 이동시키거나 혹은 작업 테이블(TA)을 회전시켜 다른 변이 폴리싱 브러쉬(122)에 접촉되도록 하는 방식으로 필요한 모든 면에 대해 폴리싱 작업을 할 수 있다.In this way, edge polishing is performed on one side of the
위와 같이 본 발명은 적층된 박막유리기판(11) 사이의 접착재(12)를 제거하여 박막유리기판(11)의 폴리싱 가공부를 노출시키고, 확보된 가공 공간을 통해 박막유리기판(11)의 에지를 폴리싱한다.As described above, the present invention removes the
따라서, 폴더블 폰의 초박막강화유리 등과 같이 접착재를 통해 여러층으로 적층한 박막유리기판에 대해서도 폴리싱 공정을 수행할 수 있고, 접착재를 일부만 제거하여 적층된 상태를 유지하면서 안정적인 폴리싱을 가능하게 한다.Therefore, the polishing process can be performed even on a thin glass substrate laminated in multiple layers through an adhesive material, such as ultra-thin tempered glass of a foldable phone, and stable polishing is possible while maintaining the laminated state by removing a portion of the adhesive material.
이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 상술하였다. 그러나, 본 발명의 사상 및 범위는 이러한 특정 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.In the above, specific embodiments of the present invention have been described in detail. However, the spirit and scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, but those skilled in the art can make various modifications and variations without changing the gist of the present invention. You will understand when you grow up.
따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Therefore, since the embodiments described above are provided to completely inform those skilled in the art of the scope of the invention to which the present invention pertains, it should be understood that it is illustrative and not limiting in all respects, The invention is only defined by the scope of the claims.
10: 원장(원판)
11: 성형된 박막유리기판
12: 접착재(접착재층)
110: 폴리싱용 접착재 제거장치
111: 접착재 제거 몸체
112: 삭제 브러쉬
113: 삭제 작동기
114: 삭제 이동기
115: 브러쉬 가이드
120: 에지 폴리싱 장치
121: 기판 폴리싱 몸체
122: 폴리싱 브러쉬
123: 폴리싱 작동기
124: 폴리싱 이동기10: ledger (disc)
11: molded thin film glass substrate
12: adhesive material (adhesive material layer)
110: adhesive removal device for polishing
111: adhesive material removal body
112: delete brush
113 delete actuator
114: delete mover
115: brush guide
120: edge polishing device
121: substrate polishing body
122: polishing brush
123: polishing actuator
124: polishing mover
Claims (12)
상기 접착재층을 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 장치(120);를 포함하며,
상기 폴리싱용 접착재 제거장치(110)는,
접착재 제거 몸체(111)와; 상기 접착재 제거 몸체(111)에 구비된 삭제 브러쉬(112); 및 상기 삭제 브러쉬(112)를 반복해서 움직이게 하도록 상기 접착재 제거 몸체(111)에 연결 설치되는 삭제 작동기(113);를 포함하고,
상기 에지 폴리싱 장치(120)는,
기판 폴리싱 몸체(121)와; 상기 기판 폴리싱 몸체(121)에 구비된 폴리싱 브러쉬(122); 및 상기 폴리싱 브러쉬(122)를 반복해서 움직이게 하도록 상기 기판 폴리싱 몸체(121)에 연결 설치되는 폴리싱 작동기(123);를 포함하고,
상기 삭제 브러쉬(112)는 상기 접착재층과 대응하는 위치에 이격, 설치되고,
상기 폴리싱 브러쉬(122)는 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 이격, 설치되는 것을 특징으로 하는 에지 폴리싱 시스템.
an adhesive removal device for polishing (110) which removes the adhesive layer between the laminated thin glass substrates to expose the polished portion of the thin glass substrates; and
An edge polishing device 120 for polishing an edge of the thin glass substrate exposed by removing the adhesive layer;
The polishing adhesive removal device 110,
an adhesive material removal body 111; a deletion brush 112 provided in the adhesive material removing body 111; And a deletion actuator 113 connected to the adhesive removal body 111 to repeatedly move the deletion brush 112;
The edge polishing device 120,
a substrate polishing body 121; a polishing brush 122 provided on the substrate polishing body 121; And a polishing actuator 123 connected to and installed to the substrate polishing body 121 to repeatedly move the polishing brush 122;
The deletion brush 112 is spaced apart and installed at a position corresponding to the adhesive layer,
The edge polishing system, characterized in that the polishing brush (122) is spaced apart and installed at a position corresponding to the thin glass substrate.
적층된 박막유리기판 사이의 접착재층을 제거하여 상기 박막유리기판의 폴리싱 가공부를 노출시키는 접착재 제거 단계(S120); 및
상기 접착재층을 제거하여 노출된 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하는 에지 폴리싱 단계(S130);를 포함하며,
상기 접착재 제거 단계(S120)는 삭제 브러쉬(112)로 상기 접착재층을 외측 단부부터 설정된 깊이로 제거하고,
상기 에지 폴리싱 단계(S130)는 폴리싱 브러쉬(122)로 상기 박막유리기판의 에지를 폴리싱하고,
상기 삭제 브러쉬(112)는 상기 접착재층과 대응하는 위치에 이격, 설치되고,
상기 폴리싱 브러쉬(122)는 상기 박막유리기판과 대응하는 위치에 이격, 설치되는 것을 특징으로 하는 에지 폴리싱 방법.
a substrate fixing step (S110) of fixing a plurality of laminated thin glass substrates to a fixing device by means of an adhesive;
removing the adhesive layer between the stacked thin glass substrates to expose the polished portion of the thin glass substrate (S120); and
and an edge polishing step (S130) of polishing an edge of the thin glass substrate exposed by removing the adhesive layer,
In the adhesive removal step (S120), the adhesive layer is removed from the outer end to a set depth with the deletion brush 112,
In the edge polishing step (S130), the edge of the thin glass substrate is polished with a polishing brush 122,
The deletion brush 112 is spaced apart and installed at a position corresponding to the adhesive layer,
The edge polishing method of claim 1, wherein the polishing brush 122 is spaced apart and installed at a position corresponding to the thin glass substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200106375A KR102514489B1 (en) | 2020-08-24 | 2020-08-24 | Edge polishing systme and method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200106375A KR102514489B1 (en) | 2020-08-24 | 2020-08-24 | Edge polishing systme and method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220025527A KR20220025527A (en) | 2022-03-03 |
KR102514489B1 true KR102514489B1 (en) | 2023-03-28 |
Family
ID=80819080
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020200106375A KR102514489B1 (en) | 2020-08-24 | 2020-08-24 | Edge polishing systme and method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102514489B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115213974B (en) * | 2022-08-03 | 2024-03-29 | 上海微松工业自动化有限公司 | Device and method for repairing overflow glue around wafer |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2757093B1 (en) * | 1996-12-12 | 1999-01-08 | Saint Gobain Vitrage | PROCESS FOR RECTIFICATION OF THE EDGE OF A SHEET ASSEMBLING TWO SUBSTRATES |
KR101604186B1 (en) | 2014-04-11 | 2016-03-17 | 주식회사 케이엔제이 | Polishing apparatus for a curved glass substrate |
KR20150145503A (en) | 2014-06-20 | 2015-12-30 | 주식회사 케이엔제이 | Substrate polishing apparatus and method of the same |
KR20170075908A (en) * | 2015-12-23 | 2017-07-04 | 이파이브전자 주식회사 | Manufacturing method for ultra thin glass |
-
2020
- 2020-08-24 KR KR1020200106375A patent/KR102514489B1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20220025527A (en) | 2022-03-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102514489B1 (en) | Edge polishing systme and method | |
JP4774286B2 (en) | Substrate cutting method | |
US7488145B2 (en) | Method for manufacturing a doughnut-shaped glass substrate | |
JP2003506814A (en) | Method of manufacturing magnetic disk composed of glass substrate | |
CN108356706B (en) | Application method of laminated trimming plate | |
JP2006326785A (en) | End surface machining device for glass substrate and end surface machining method | |
JP7014653B2 (en) | Method for manufacturing a non-linearly processed optical laminate with an adhesive layer | |
JP4883352B2 (en) | Method and apparatus for chamfering plate-like body | |
JP2010257562A (en) | Substrate for magnetic disk and method for manufacturing the same | |
JP6280355B2 (en) | Manufacturing method of magnetic disk substrate and carrier for polishing treatment | |
JP5069987B2 (en) | Liquid crystal substrate processing method | |
JP2007130723A (en) | Holder for chamfering corner of glass substrate and chamfering method for corner of glass substrate | |
JP2008273777A (en) | Method for polishing glass substrate for magnetic recording medium, glass substrate for magnetic recording medium, and polishing device for glass substrate for magnetic recording medium | |
US10166652B2 (en) | Substrate polishing device and method thereof | |
KR102309107B1 (en) | Manufacturing method for ultra thin flexible glass and ultra thin flexible glasses manufactured by the same | |
JP4349667B2 (en) | Deburring machine | |
JPH11226851A (en) | Deburring method for copper lined laminated plate and device thereof | |
JP2003200336A (en) | Chamfering method for liquid crystal display panel | |
JP2010184319A (en) | Cutting method | |
JP4259044B2 (en) | Cutting blade and blade surface machining method | |
KR102312748B1 (en) | Laminating apparatus for ultra thin glass and this using a laminating method | |
CN113733416B (en) | Manufacturing method of light guide plate mold | |
JP2008272904A (en) | Apparatus and method for polishing substrate for magnetic recording medium, glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium | |
CN111805307B (en) | Substrate edge-scanning process and substrate processing method | |
JP4405943B2 (en) | Optical connector end face processing method, optical fiber cutting device, and optical connector end face processing apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |