KR102511875B1 - Support unit for lift fins and substrate processing apparatus using the same - Google Patents

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Abstract

리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치는, 지지유닛의 몸체의 관통공에 리프트핀이 설치되고, 몸체에 회전가능하게 설치된 지지부재의 일측 부위가 관통공에 위치되어 리프트핀의 외주면과 접촉한다. 그러므로, 지지부재와 리프트핀은 선접촉하는 형태가 되므로, 지지부재와 리프트핀의 접촉 면적은 작다. 따라서, 상호 접촉하는 지지부재의 외주면과 리프트핀의 내주면 사이의 간극을 상대적으로 덜 미세하게 설정하여도 되므로, 편리한 효과가 있을 수 있다.A support unit for a lift pin and a substrate processing apparatus using the same are disclosed. In the support unit for a lift pin according to the present invention and a substrate processing apparatus using the same, a lift pin is installed in a through hole of a body of the support unit, and a portion of one side of a support member rotatably installed in the body is positioned in the through hole so that the lift pin make contact with the outer surface. Therefore, since the support member and the lift pin are in line contact, the contact area between the support member and the lift pin is small. Therefore, since the gap between the outer circumferential surface of the support member and the inner circumferential surface of the lift pin in contact with each other may be relatively finely set, a convenient effect may be obtained.

Description

리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치 {SUPPORT UNIT FOR LIFT FINS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING THE SAME}Support unit for lift pin and substrate processing device using the same {SUPPORT UNIT FOR LIFT FINS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING THE SAME}

본 발명은 기판을 지지하는 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a support unit for a lift pin for supporting a substrate and a substrate processing apparatus using the same.

기판처리장치는, 반도체 소자, 평판 디스플레이 또는 박막형 태양전지(Solar Cell) 등의 제조시 사용되며, 증착장치(Vapor Deposition Apparatus)와 어닐링장치(Annealing Apparstus) 장치로 대별된다.A substrate processing apparatus is used in the manufacture of a semiconductor device, a flat panel display, or a thin-film solar cell, and is roughly divided into a vapor deposition apparatus and an annealing apparatus.

도 1은 종래의 기판처리장치의 개략 단면도로서, 이를 설명한다.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional substrate processing apparatus, which will be described.

도시된 바와 같이, 종래의 기판처리장치는 기판(S)이 반입되어 처리되는 공간을 제공하는 챔버(11)를 포함하고, 챔버(11)의 내부에는 기판(S)이 탑재 지지되는 서셉터(Susceptor)(13)가 승강가능하게 설치된다.As shown, the conventional substrate processing apparatus includes a chamber 11 providing a space in which a substrate S is carried in and processed, and a susceptor in which the substrate S is mounted and supported in the chamber 11 ( Susceptor) (13) is installed to be able to move up and down.

기판(S)은 로봇의 아암(Arm)에 탑재되어 챔버(11)에 반입되거나, 챔버(11)로부터 반출된다.The substrate S is mounted on an arm of the robot and carried into the chamber 11 or taken out of the chamber 11 .

로봇의 아암의 상면에 탑재된 기판(S)을 서셉터(13)에 탑재하고자 할 경우, 로봇의 아암을 하강시켜 기판(S)을 서셉터(13)에 탑재한다. 그런데, 로봇의 아암을 하강시키면 로봇의 아암의 하면이 서셉터(13)의 상면과 먼저 접촉하므로 기판(S)을 서셉터(13)에 탑재하기가 어렵다.When the substrate S mounted on the upper surface of the arm of the robot is to be mounted on the susceptor 13, the arm of the robot is lowered to mount the substrate S on the susceptor 13. However, when the robot arm is lowered, it is difficult to mount the substrate S on the susceptor 13 because the lower surface of the robot arm first contacts the upper surface of the susceptor 13 .

그리고, 서셉터(13)에 탑재된 기판(S)을 로봇의 아암(Arm)에 탑재하고자 할 경우, 서셉터(13)와 기판(S) 사이로 로봇의 아암을 삽입하여 로봇의 아암을 상승시켜야 한다. 그런데, 서셉터(13)와 기판(S) 사이에는 간격이 존재하지 않으므로 서셉터(13)와 기판(S) 사이로 로봇의 아암을 삽입하기 어렵다.In addition, when the board (S) mounted on the susceptor 13 is to be mounted on the arm of the robot, the arm of the robot must be inserted between the susceptor 13 and the board (S) to raise the arm of the robot. do. However, since there is no gap between the susceptor 13 and the substrate S, it is difficult to insert the arm of the robot between the susceptor 13 and the substrate S.

이러한 이유로, 로봇의 아암으로부터 기판(S)을 전달받아 서셉터(13)에 탑재하거나, 서셉터(13)에 탑재된 기판(S)을 서셉터(13)로부터 이격시키기 위한 복수의 리프트핀(15)이 서셉터(13)를 관통하는 형태로 설치된다. 이때, 리프트핀(15)의 하단부는 챔버(11)에 지지되고, 상단부는 서셉터(13)를 통하여 서셉터(13)의 상측에 위치된다. 그리고, 서셉터(13)에는 리프트핀(15)의 외주면과 접촉하여 리프트핀(15)을 지지하는 부싱(17)이 설치된다.For this reason, a plurality of lift pins ( 15) is installed in a form penetrating the susceptor 13. At this time, the lower end of the lift pin 15 is supported by the chamber 11, and the upper end is positioned above the susceptor 13 through the susceptor 13. In addition, a bushing 17 supporting the lift pin 15 in contact with the outer circumferential surface of the lift pin 15 is installed in the susceptor 13 .

그리하여, 기판(S)을 서셉터(13)에 탑재하고자 할 경우, 서셉터(13)를 하강시켜 리프트핀(15)의 상단부를 서셉터(13)의 상면 상측으로 돌출시킨다. 이러한 상태에서, 기판(S)이 탑재된 로봇의 아암이 리프트핀(15)의 상측에서 하측을 하강하면, 로봇의 아암에 탑재된 기판(S)이 리프트핀(15)에 지지된다. 그 후, 서셉터(13)가 상승하면 리프트핀(15)에 지지된 기판(S)이 서셉터(13)의 상면에 탑재 지지된다.Thus, when the substrate S is to be mounted on the susceptor 13, the susceptor 13 is lowered so that the upper end of the lift pin 15 protrudes upward toward the upper surface of the susceptor 13. In this state, when the arm of the robot on which the substrate S is mounted descends from the upper side to the lower side of the lift pin 15, the substrate S mounted on the arm of the robot is supported by the lift pin 15. Then, when the susceptor 13 rises, the substrate S supported by the lift pins 15 is mounted and supported on the upper surface of the susceptor 13 .

그리고, 서셉터(13)에 탑재된 기판(S)을 로봇의 아암에 탑재하고자 할 경우, 서셉터(13)를 하강시킨다. 그러면, 리프트핀(15)의 상단부가 서셉터(13)의 상면 상측으로 돌출되므로, 리프트핀(15)의 상단부에 지지된 기판(S)과 서셉터(13)의 상면 사이에는 간격이 존재한다. 이러한 상태에서, 로봇의 아암을 서셉터(13)와 기판(S) 사이로 삽입한 다음, 로봇의 아암을 상승시키면 로봇의 아암에 기판(S)이 탑재된다.Then, when the substrate (S) mounted on the susceptor 13 is to be mounted on the arm of the robot, the susceptor 13 is lowered. Then, since the upper end of the lift pin 15 protrudes upward to the upper surface of the susceptor 13, there is a gap between the upper surface of the susceptor 13 and the substrate S supported by the upper end of the lift pin 15. . In this state, if the arm of the robot is inserted between the susceptor 13 and the substrate S, and then the arm of the robot is raised, the substrate S is mounted on the arm of the robot.

상기와 같은 종래의 기판처리장치는 리프트핀(15)과 부싱(17)이 면접촉하므로, 리프트핀(15)의 외주면과 부싱(17)의 내주면 사이의 간극이 너무 좁으면, 부싱(17)에 리프트핀(15)이 걸려서 리프트핀(15)이 부싱(15)과 함께 승강하려고 한다. 그러면, 챔버(11)에 지지된 리프트핀(15)의 하단측이 손상될 수 있다. 그리고, 리프트핀(15)의 외주면과 부싱(17)의 내주면 사이의 간극이 너무 넓으면, 리프트핀(15)이 부싱(17)에 대하여 기울어질 수 있으므로, 서셉터(13)의 운동시 리프트핀(15)이 파손되거나, 변형되는 등 손상될 수 있다.Since the lift pin 15 and the bushing 17 are in surface contact in the conventional substrate processing apparatus as described above, if the gap between the outer circumferential surface of the lift pin 15 and the inner circumferential surface of the bushing 17 is too narrow, the bushing 17 The lift pin 15 is caught and the lift pin 15 tries to move up and down together with the bushing 15. Then, the lower side of the lift pin 15 supported by the chamber 11 may be damaged. And, if the gap between the outer circumferential surface of the lift pin 15 and the inner circumferential surface of the bushing 17 is too wide, the lift pin 15 may be inclined with respect to the bushing 17, so the susceptor 13 lifts during movement. The pin 15 may be damaged, such as being broken or deformed.

그러므로, 리프트핀(15)의 외주면과 부싱(17)의 내주면 사이의 간극을 설정치 이내로 정확하게 설정하여야 하므로, 대단히 불편한 단점이 있다.Therefore, since the gap between the outer circumferential surface of the lift pin 15 and the inner circumferential surface of the bushing 17 must be accurately set within a set value, there is a very inconvenient disadvantage.

본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 모든 문제점들을 해결할 수 있는 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치를 제공하는 것일 수 있다.An object of the present invention may be to provide a support unit for a lift pin capable of solving all the problems of the prior art and a substrate processing apparatus using the same.

본 발명의 다른 목적은 간단한 구조로 간편하게 리프트핀을 지지할 수 있는 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치를 제공하는 것일 수 있다.Another object of the present invention may be to provide a support unit for a lift pin that can easily support a lift pin with a simple structure and a substrate processing apparatus using the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 리프트핀용 지지유닛은, 내부에 길이 방향을 따라 관통공이 형성되고, 상기 관통공에는 리프트핀이 삽입된 몸체; 상기 몸체에 회전가능하게 설치되고, 일측 부위가 상기 관통공에 위치되며, 상기 리프트핀의 외주면과 접촉하여 상기 리프트핀을 지지하는 복수의 지지부재; 상기 몸체에 설치되어 상기 지지부재가 상기 몸체로부터 이탈하는 것을 방지하는 이탈방지핀을 포함할 수 있다.A support unit for a lift pin according to the present invention for achieving the above object includes a body in which a through hole is formed along a longitudinal direction therein, and a lift pin is inserted into the through hole; a plurality of support members rotatably installed in the body, having one side portion positioned in the through hole, and supporting the lift pins by contacting an outer circumferential surface of the lift pins; It may include a release prevention pin installed on the body to prevent the support member from being separated from the body.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판처리장치는, 기판이 처리되는 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 내부에 승강가능하게 설치되며 기판이 탑재 지지되는 서셉터; 상기 서셉터를 관통하며, 하단부는 상기 챔버에 지지되고 상단부는 상기 서셉터의 상면 외측으로 노출되어 기판을 지지하는 리프트핀; 상기 서셉터에 설치되어 상기 서셉터와 함께 승강하며 상기 리프트핀의 외주면과 접촉하여 상기 리프트핀을 지지하는 지지유닛을 포함하며, 상기 지지유닛은, 상기 서셉터에 설치되며, 내부에 상기 리프트핀이 통과하는 관통공이 형성된 몸체; 상기 몸체에 회전가능하게 설치되고, 일측 부위가 상기 관통공에 위치되어 상기 리프트핀의 외주면과 접촉하며, 상기 서셉터의 승강에 의하여 회전하면서 상기 리프트핀을 지지하는 복수의 지지부재; 상기 몸체에 설치되어 상기 지지부재가 상기 몸체로부터 이탈하는 것을 방지하는 이탈방지핀을 포함할 수 있다.In addition, a substrate processing apparatus according to the present invention for achieving the above object includes a chamber providing a space in which a substrate is processed; a susceptor installed in the chamber so as to be able to move up and down and having a substrate mounted thereon; a lift pin penetrating the susceptor, having a lower end supported by the chamber and an upper end exposed to the outside of the upper surface of the susceptor to support a substrate; and a support unit installed on the susceptor, moving up and down with the susceptor, and supporting the lift pins by contacting an outer circumferential surface of the lift pins, the support unit being installed on the susceptor, and having the lift pins inside. a body having a through hole through which the body passes; a plurality of support members rotatably installed in the body, one side of which is positioned in the through hole to contact the outer circumferential surface of the lift pin, and supports the lift pin while being rotated by the elevation of the susceptor; It may include a release prevention pin installed on the body to prevent the support member from being separated from the body.

본 발명의 실시예에 따른 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치는, 지지유닛의 몸체의 관통공에 리프트핀이 설치되고, 몸체에 회전가능하게 설치된 지지부재의 일측 부위가 관통공에 위치되어 리프트핀의 외주면과 접촉한다. 그러므로, 지지부재와 리프트핀은 선접촉하는 형태가 되므로, 지지부재와 리프트핀의 접촉 면적은 작다. 따라서, 상호 접촉하는 지지부재의 외주면과 리프트핀의 내주면 사이의 간극을 상대적으로 덜 미세하게 설정하여도 되므로, 편리한 효과가 있을 수 있다.In the support unit for a lift pin and the substrate processing apparatus using the same according to an embodiment of the present invention, a lift pin is installed in a through hole of a body of the support unit, and one side of a support member rotatably installed in the body is positioned in the through hole. It contacts the outer circumferential surface of the lift pin. Therefore, since the support member and the lift pin are in line contact, the contact area between the support member and the lift pin is small. Therefore, since the gap between the outer circumferential surface of the support member and the inner circumferential surface of the lift pin in contact with each other may be relatively finely set, a convenient effect may be obtained.

도 1은 종래의 기판처리장치의 개략 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 단면도.
도 3은 도 2에 도시된 지지유닛의 일부 분해 사시도.
도 4는 도 3의 평단면도.
도 5는 도 3의 "A-A"선 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional substrate processing apparatus.
2 is a cross-sectional view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a partially exploded perspective view of the support unit shown in Figure 2;
Figure 4 is a top cross-sectional view of Figure 3;
5 is a cross-sectional view taken along line “AA” of FIG. 3;

본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다.In this specification, it should be noted that in adding reference numerals to components of each drawing, the same components have the same numbers as much as possible, even if they are displayed on different drawings.

한편, 본 명세서에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.Meanwhile, the meaning of terms described in this specification should be understood as follows.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 정의하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다.Singular expressions should be understood to include plural expressions unless the context clearly defines otherwise, and terms such as “first” and “second” are used to distinguish one component from another, The scope of rights should not be limited by these terms.

"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that terms such as "comprise" or "having" do not preclude the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1항목, 제2항목 및 제3항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제1항목, 제2항목 또는 제3항목 각각 뿐만 아니라 제1항목, 제2항목 및 제3항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.The term “at least one” should be understood to include all possible combinations from one or more related items. For example, "at least one of the first, second, and third items" means two of the first, second, and third items as well as each of the first, second, and third items. It means a combination of all items that can be presented from one or more.

"및/또는"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1항목, 제2항목 및/또는 제3항목"의 의미는 제1항목, 제2항목 또는 제3항목뿐만 아니라 제1항목, 제2항목 또는 제3항목들 중 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.The term “and/or” should be understood to include all possible combinations from one or more related items. For example, "item 1, item 2, and/or item 3" means not only item 1, item 2, or item 3, but also any two of item 1, item 2, or item 3. It means a combination of all the items that can be presented from above.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결된다 또는 설치된다"고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결 또는 설치될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결된다 또는 설치된다"라고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "∼사이에"와 "바로 ∼사이에" 또는 "∼에 이웃하는"과 "∼에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.When a component is referred to as “connected to or installed” in another component, it will be understood that it may be directly connected to or installed in the other component, but other components may exist in the middle. On the other hand, when a component is referred to as “directly connected or installed” to another component, it should be understood that no other component exists in the middle. On the other hand, other expressions describing the relationship between components, ie, "between" and "directly between" or "adjacent to" and "directly adjacent to" should be interpreted similarly.

이하에서는, 본 발명의 실시예들에 따른 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a support unit for a lift pin and a substrate processing apparatus using the support unit according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치는 기판(S)이 반입(搬入)되어 처리되는 공간을 제공하는 챔버(110)를 포함할 수 있고, 챔버(110)는 상면이 개방된 챔버 월(Wall)(111)과 챔버 월(111)의 개방된 상면에 결합된 리드(Lid)(115)를 포함할 수 있다.As shown, the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention may include a chamber 110 providing a space in which a substrate S is transported and processed, and the upper surface of the chamber 110 is open. It may include a chamber wall (Wall) 111 and a lid (Lid) 115 coupled to the open upper surface of the chamber wall 111.

챔버 월(111)의 일측면에는 기판(S)이 탑재된 로봇의 아암이 출입하는 출입구(111a)가 형성될 수 있고, 챔버 월(111)의 하면측에는 가스 등을 배출시키기 위한 배출구(111b)가 형성될 수 있다.On one side of the chamber wall 111, an entrance 111a through which an arm of a robot on which a substrate S is mounted may enter and exit, and an outlet 111b for discharging gas or the like may be formed on the lower surface of the chamber wall 111. can be formed.

챔버(110)에서 기판(S)에 박막을 형성하고자 할 경우, 챔버(110)의 내부 상측인 리드(115)측에는 플라즈마를 발생하기 위한 샤워헤드(121)가 설치될 수 있고, 리드(115)의 상면에는 기판(S)에 형성하기 위한 박막용 가스를 공급하는 가스공급관(125)이 설치될 수 있다.When forming a thin film on the substrate S in the chamber 110, a shower head 121 for generating plasma may be installed on the side of the lid 115, which is an upper inside of the chamber 110, and the lid 115 A gas supply pipe 125 for supplying a gas for thin film to be formed on the substrate S may be installed on the upper surface of the substrate S.

챔버(110)의 내부 하측인 챔버 월(111)의 내부 하면측에는 기판(S)이 탑재 지지되는 서셉터(130)가 설치될 수 있고, 서셉터(130)는 모터 또는 실린더 등과 같은 구동수단에 의하여 승강 및 회전가능하게 설치될 수 있다. 서셉터(130)의 내부에는 기판(S)을 처리하기 위한 공정 중에 기판(S)을 적절하게 가열하기 위한 히터 등이 설치될 수 있다.A susceptor 130 on which the substrate S is mounted and supported may be installed on the inner lower surface of the chamber wall 111, which is the inner lower side of the chamber 110, and the susceptor 130 is driven by a driving means such as a motor or a cylinder. It can be installed movably and rotatably. A heater or the like for appropriately heating the substrate S during a process for processing the substrate S may be installed inside the susceptor 130 .

기판(S)은 챔버(110)의 외측에 적재 보관된다. 이때, 챔버(110)의 외측에 적재된 기판(S)은 상기 로봇의 아암에 탑재되어 챔버(110)로 반입된 후 서셉터(130)에 탑재되고, 서셉터(130)에 탑재된 기판(S)은 상기 로봇의 아암에 탑재되어 챔버(110)로부터 반출된다.The substrate S is loaded and stored outside the chamber 110 . At this time, the substrate (S) loaded on the outside of the chamber 110 is loaded on the arm of the robot and brought into the chamber 110, then is loaded on the susceptor 130, and the substrate (S) loaded on the susceptor 130 ( S) is mounted on the arm of the robot and taken out of the chamber 110.

그런데, 상기 로봇의 아암에 탑재된 기판(S)을 서셉터(130)에 직접 탑재시키기 어렵고, 서셉터(130)에 탑재된 기판(S)을 상기 로봇의 아암에 직접 탑재시키기 어렵다. 이로 인해, 챔버(110)에는 상기 로봇의 아암에 탑재된 기판(S)을 전달받아 서셉터(130)에 탑재시키고, 서셉터(130)에 탑재된 기판(S)을 서셉터(130)로부터 이격시키기 위한 리프트핀(140)이 설치될 수 있다.However, it is difficult to directly mount the substrate S mounted on the arm of the robot to the susceptor 130, and it is difficult to directly mount the substrate S mounted on the susceptor 130 to the arm of the robot. Due to this, the chamber 110 receives the substrate (S) mounted on the arm of the robot and mounts it on the susceptor 130, and the substrate (S) mounted on the susceptor 130 is transferred from the susceptor 130. A lift pin 140 for spacing may be installed.

리프트핀(140)은 하단부측이 챔버(110)의 챔버 월(111)에 하면에 지지 설치될 수 있고, 상단부는 서셉터(130)를 관통하여 서셉터(130)의 상면 외측으로 노출될 수 있다. 그리하여, 상기 로봇의 아암에 탑재된 기판(S)을 전달받아 서셉터(130)에 탑재시키고, 서셉터(130)에 탑재된 기판(S)을 서셉터(130)로부터 이격시킨다.The lower end of the lift pin 140 may be supported and installed on the lower surface of the chamber wall 111 of the chamber 110, and the upper end may penetrate the susceptor 130 and be exposed to the outside of the upper surface of the susceptor 130. there is. Thus, the substrate (S) mounted on the arm of the robot is received and mounted on the susceptor 130, and the substrate (S) mounted on the susceptor 130 is separated from the susceptor 130.

상세히 설명하면, 서셉터(130)가 하강하면, 리프트핀(140)의 상단부는 서셉터(130)의 상면 상측으로 돌출된다. 이러한 상태에서, 상기 로봇의 아암에 기판(S)을 탑재하여, 기판(S)이 리프트핀(140)의 상측에 위치되도록 상기 로봇의 아암을 위치시킨다. 그후, 상기 로봇의 아암을 하강시키면. 상기 로봇의 아암에 탑재된 기판(S)에 리프트핀(140)의 상단부에 지지된다. 그후, 상기 로봇의 아암을 챔버(110)로부터 빼내고, 서셉터(130)를 상승시키면, 서셉터(130)에 기판(S)이 탑재되고, 서셉터(130)에 기판(S)을 탑재하여 기판(S)을 처리하면 된다.In detail, when the susceptor 130 descends, the upper end of the lift pin 140 protrudes upward from the upper surface of the susceptor 130 . In this state, the board (S) is mounted on the arm of the robot, and the arm of the robot is positioned so that the board (S) is positioned above the lift pins (140). Then, when the arm of the robot is lowered. The upper end of the lift pin 140 is supported on the board (S) mounted on the arm of the robot. Then, when the arm of the robot is taken out of the chamber 110 and the susceptor 130 is raised, the substrate S is mounted on the susceptor 130, and the substrate S is mounted on the susceptor 130. What is necessary is just to process the board|substrate S.

그리고, 서셉터(130)에 기판(S)을 탑재한 상태에서 기판(S)의 처리가 완료되면, 서셉터(130)를 하강시킨다. 그러면, 기판(S)과 서셉터(130)가 이격되므로, 상기 로봇의 아암을 기판(S)과 서셉터(130) 사이로 넣은 다음, 상기 로봇의 아암을 상승시키면, 상기 로봇의 아암에 기판(S)에 탑재된다. 그 후, 상기 로봇의 아암을 챔버(110)로부터 빼내면 된다.Then, when the processing of the substrate (S) is completed in a state in which the substrate (S) is mounted on the susceptor 130, the susceptor 130 is lowered. Then, since the substrate (S) and the susceptor 130 are spaced apart, when the arm of the robot is raised after putting the arm of the robot between the substrate (S) and the susceptor 130, the substrate ( mounted on S). After that, the arm of the robot may be removed from the chamber 110 .

서셉터(130)는 승강하고 리프트핀(140)은 승강하지 않으므로, 리프트핀(140)이 관통하는 서셉터(130)의 내주면과 리프트핀(140)의 외주면이 간섭하여, 상대적으로 강성이 약한 리프트핀(140)이 파손되거나, 변형되는 등 손상될 수 있다.Since the susceptor 130 goes up and down and the lift pin 140 does not go up and down, the inner circumferential surface of the susceptor 130 through which the lift pin 140 passes interferes with the outer circumferential surface of the lift pin 140, which is relatively weak in rigidity. The lift pin 140 may be damaged, such as being damaged or deformed.

본 실시예에 따른 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치는, 승강하는 서셉터(130)에 의하여 리프트핀(140)이 손상되는 것을 방지하기 위하여, 서셉터(130)에 지지유닛(200)을 설치할 수 있다.In the support unit for a lift pin according to the present embodiment and the substrate processing apparatus using the same, in order to prevent the lift pin 140 from being damaged by the susceptor 130 moving up and down, the support unit 200 is attached to the susceptor 130. can be installed.

지지유닛(200)에 대하여 도 2 내지 도 5를 참조하여 설명한다. 도 3은 도 2에 도시된 지지유닛의 일부 분해 사시도이고, 도 4는 도 3의 평단면도이며, 도 5는 도 3의 "A-A"선 단면도이다.The support unit 200 will be described with reference to FIGS. 2 to 5 . FIG. 3 is a partially exploded perspective view of the support unit shown in FIG. 2 , FIG. 4 is a top cross-sectional view of FIG. 3 , and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line “A-A” of FIG. 3 .

도시된 바와 같이, 지지유닛(200)은 서셉터(130)에 설치되어 서셉터(130)와 함께 승강할 수 있으며, 리프트핀(140)의 외주면과 접촉하여 리프트핀(140)을 지지할 수 있다.As shown, the support unit 200 is installed on the susceptor 130, can move up and down together with the susceptor 130, and can support the lift pin 140 by contacting the outer circumferential surface of the lift pin 140. there is.

지지유닛(200)은 몸체(210), 지지부재(220) 및 이탈방지핀(230)을 포함할 수 있다.The support unit 200 may include a body 210 , a support member 220 and a separation prevention pin 230 .

몸체(210)는 원통형의 부싱으로 마련될 수 있으며, 내부에는 리프트핀(140)이 통과하는 관통공(213)이 형성될 수 있다. 몸체(210)의 상측 부위는 서셉터(130)에 삽입 설치될 수 있고, 하측 부위는 서셉터(130)의 하면 하측으로 돌출될 수 있으며, 중간 부위 외주면측에는 몸체(210)를 서셉터(130)의 하면에 결합하기 위한 플랜지(211)가 형성될 수 있다.The body 210 may be provided as a cylindrical bushing, and a through hole 213 through which the lift pin 140 passes may be formed therein. The upper part of the body 210 may be inserted into the susceptor 130, the lower part may protrude downward from the lower surface of the susceptor 130, and the body 210 may be attached to the outer circumferential side of the middle part of the susceptor 130. ) A flange 211 for coupling to the lower surface may be formed.

지지부재(220)는 소정 길이를 가지는 원기둥 형태의 롤러로 마련될 수 있으며, 복수개가 몸체(210)에 회전가능하게 설치될 수 있다. 이때, 지지부재(220)의 일측 부위는 관통공(213)에 위치되어 리프트핀(140)의 외주면과 접촉할 수 있으며, 서셉터(130)의 승강에 의하여 몸체(210)가 승강하면, 승강하지 않는 리프트핀(140)에 의하여 회전할 수 있다. 그러므로, 지지부재(220)는 리프트핀(140)의 승강 방향과 수직하는 가상의 수평축을 중심으로 회전할 수 있다.The support member 220 may be provided as a cylindrical roller having a predetermined length, and a plurality of support members 220 may be rotatably installed on the body 210 . At this time, one side of the support member 220 is located in the through hole 213 and can come into contact with the outer circumferential surface of the lift pin 140, and when the body 210 is moved up and down by the up and down of the susceptor 130, it goes up and down. It can be rotated by the lift pin 140 that does not. Therefore, the support member 220 can rotate about an imaginary horizontal axis perpendicular to the lifting direction of the lift pin 140 .

지지부재(220)는 몸체(210)의 하단면(下端面)을 기준으로, 몸체(210)의 상측 부위 동일 높이에 복수개 설치될 수 있고, 하측 부위 동일 높이에 복수개 설치될 수 있다. 이때, 몸체(210)의 상측 부위에 설치된 지지부재(220) 및 하측 부위에 설치된 지지부재(220)는 각각 몸체(210)의 중심을 기준으로 방사상으로 배치되는 것이 바람직하다.A plurality of support members 220 may be installed at the same height in the upper part of the body 210 based on the lower surface of the body 210, and may be installed in plurality at the same height in the lower part. At this time, the support member 220 installed on the upper portion of the body 210 and the support member 220 installed on the lower portion of the body 210 are preferably arranged radially with respect to the center of the body 210, respectively.

몸체(210)의 상측 부위 및 하측 부위에 각각 설치된 복수의 지지부재(220)에 의하여, 상대적으로 상측의 리프트핀(140)의 부위 및 하측의 리프트핀(140)의 부위가 지지된다. 그러므로, 서셉터(130)가 승강하여도 리프트핀(140)이 기울어지지 않고, 기립된 상태를 유지할 수 있다.A relatively upper portion of the lift pin 140 and a lower portion of the lift pin 140 are supported by the plurality of support members 220 respectively installed on the upper and lower portions of the body 210 . Therefore, even when the susceptor 130 moves up and down, the lift pin 140 does not tilt and can maintain an upright state.

본 실시예에 따른 기판처리장치는 회전가능하게 설치된 지지부재(220)가 리프트핀(140)의 외주면과 접촉하므로, 지지부재(220)와 리프트핀(140)은 선접촉하는 형태가 된다. 즉, 지지부재(220)와 리프트핀(140)의 접촉 면적이 작으므로, 도 1에 도시된 면접촉하는 종래의 리프트핀(15)과 부싱(17)의 구조에 비하여, 지지부재(220)의 외주면과 리프트핀(140)의 내주면 사이의 간극을 상대적으로 덜 미세하게 설정하여도 된다. 그러므로, 편리하다.In the substrate processing apparatus according to the present embodiment, since the rotatably installed support member 220 contacts the outer circumferential surface of the lift pin 140, the support member 220 and the lift pin 140 are in line contact. That is, since the contact area between the support member 220 and the lift pin 140 is small, compared to the conventional structure of the lift pin 15 and the bushing 17 in surface contact shown in FIG. 1, the support member 220 The gap between the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the lift pin 140 may be set relatively finely. Therefore, it is convenient.

지지부재(220)는 몸체(210)의 상측 부위에 120°의 위상을 가지면서 3개 설치되고, 몸체(210)의 하측 부위에 120°의 위상을 가지면서 3개 설치되는 것이 바람직하다.It is preferable that three support members 220 are installed on the upper part of the body 210 with a phase of 120 ° and three installed on the lower part of the body 210 with a phase of 120 °.

그리고, 도 4에 도시된 바와 같이, 몸체(210)를 평면상에서 보았을 때, 몸체(210)의 상측 부위에 위치된 지지부재(220)(도 4에 실선으로 도시)와 하측 부위에 위치된 지지부재(220)(도 4에 점섬으로 도시)는 비중첩(非重疊)될 수 있다. 그러면, 몸체(210)를 평면상에서 보면, 몸체(210)의 상측 부위에 위치된 지지부재(220)와 하측 부위에 위치된 지지부재(220)는, 몸체(210)의 중심을 기준으로, 교호하는 형태로 설치된다. 이때, 몸체(210)를 평면상에서 보았을 때, 상호 인접하는 몸체(210)의 상측 부위에 위치된 지지부재(220)와 하측 부위에 위치된 지지부재(220)는, 몸체(210)의 중심을 기준으로, 60°의 위상을 가지는 것이 바람직하다. 그러면, 지지부재(220)가 리프트핀(140)의 외주면을 따라 60°의 위상을 가지면서 리프트핀(140)의 외주면 6군데를 지지하는 형태가 되므로, 리프트핀(140)이 더욱 안정되게 지지될 수 있다.And, as shown in Figure 4, when the body 210 is viewed on a plane, the support member 220 (shown as a solid line in FIG. 4) located on the upper part of the body 210 and the support located on the lower part Members 220 (shown as dots in FIG. 4 ) may be non-overlapping. Then, when the body 210 is viewed on a plane, the support member 220 located on the upper side of the body 210 and the support member 220 located on the lower side are alternately based on the center of the body 210. installed in the form of At this time, when the body 210 is viewed on a plane, the support member 220 located on the upper side of the body 210 and the support member 220 located on the lower side of the body 210 adjacent to each other are centered on the center of the body 210. As a reference, it is desirable to have a phase of 60°. Then, since the support member 220 has a phase of 60° along the outer circumferential surface of the lift pin 140 and supports six outer circumferential surfaces of the lift pin 140, the lift pin 140 is supported more stably. It can be.

몸체(210)에는 지지부재(220)가 삽입 설치되는 지지공(215)이 형성될 수 있다. 지지공(215)은 리프트핀(140)의 승강 방향과 수직을 이룰 수 있으며, 일단부는 지지부재(220)를 지지공(215)에 삽입할 수 있도록 몸체(210)의 외면과 연통될 수 있고, 중앙 부위 일측은 관통공(213)과 연통될 수 있다. 따라서, 관통공(213)과 연통된 지지공(215)의 부위를 통하여 지지부재(220)의 일측이 노출되어 관통공(213)에 위치될 수 있다.A support hole 215 into which the support member 220 is inserted and installed may be formed in the body 210 . The support hole 215 may be perpendicular to the lifting direction of the lift pin 140, and one end may communicate with the outer surface of the body 210 so that the support member 220 may be inserted into the support hole 215. , One side of the central portion may communicate with the through hole 213 . Therefore, one side of the support member 220 may be exposed through a portion of the support hole 215 communicating with the through hole 213 and positioned in the through hole 213 .

이탈방지핀(230)은 몸체(210)에 결합되어 지지부재(220)가 지지공(215)에서 이탈하는 것을 방지할 수 있다. 이탈방지핀(230)이 몸체(210)에 결합될 수 있도록, 몸체(210)에는 결합공(217)이 형성될 수 있다. 결합공(217)의 일측은 몸체(210)의 외측과 연통될 수 있고, 타측은 지지공(215)과 연통될 수 있다. 따라서, 결합공(217)의 일측으로 이탈방지핀(230)을 삽입하여 결합하면, 이탈방지핀(230)의 단부가 지지공(215)에 위치되어 지지부재(220)의 외주면과 접촉하고, 이로 인해 지지부재(220)가 지지공(215)으로부터 이탈되지 않는다.The separation prevention pin 230 is coupled to the body 210 to prevent the separation of the support member 220 from the support hole 215 . A coupling hole 217 may be formed in the body 210 so that the separation prevention pin 230 can be coupled to the body 210 . One side of the coupling hole 217 may communicate with the outside of the body 210, and the other side may communicate with the support hole 215. Therefore, when the separation prevention pin 230 is inserted into one side of the coupling hole 217 and coupled, the end of the separation prevention pin 230 is located in the support hole 215 and contacts the outer circumferential surface of the support member 220, Due to this, the support member 220 is not separated from the support hole 215 .

이탈방지핀(230)에 의하여 지지부재(220)가 안정되게 지지될 수 있도록, 지지부재(220)의 외주면에는 지지부재(220)의 중심측으로 함몰 형성되어 이탈방지핀(230)의 단부가 삽입되는 삽입로(221)가 형성될 수 있다.In order for the support member 220 to be stably supported by the release prevention pin 230, the outer circumferential surface of the support member 220 is recessed toward the center of the support member 220, and the end of the release prevention pin 230 is inserted. An insertion passage 221 may be formed.

그리고, 이탈방지핀(230)의 외주면 및 결합공(217)의 내주면에는 상호 맞물리는 나사선(螺絲線)이 형성될 수 있다. 그러면, 이탈방지핀(230)이 결합공(217)으로부터 이탈되는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 지지공(215)측으로 돌출되는 이탈방지핀(230)의 돌출 길이를 조절할 수 있다.In addition, mutually engaging screw lines may be formed on the outer circumferential surface of the separation prevention pin 230 and the inner circumferential surface of the coupling hole 217 . Then, it is possible to prevent the separation prevention pin 230 from being separated from the coupling hole 217, and at the same time, the protruding length of the separation prevention pin 230 protruding toward the support hole 215 can be adjusted.

지지공(215)측으로 돌출되는 이탈방지핀(230)의 길이를 조절할 수 있으면, 관통공(213)측으로 돌출되는 지지부재(220)의 돌출 정도를 미세하게 조절할 수 있으므로, 리프트핀(140)이 수직 상태를 유지하도록 더욱 정밀하게 조절할 수 있다.If the length of the release prevention pin 230 protruding toward the support hole 215 can be adjusted, the degree of protrusion of the support member 220 protruding toward the through hole 213 can be finely adjusted. It can be more precisely adjusted to maintain a vertical state.

본 실시예에 따른 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치 몸체(210)의 관통공(213)에 리프트핀(140)이 설치되고, 몸체(210)에 회전가능하게 설치된 지지부재(220)의 일측 부위가 관통공(213)에 위치되어 리프트핀(140)의 외주면과 접촉한다. 그러므로, 지지부재(220)와 리프트핀(140)은 선접촉하는 형태가 되므로, 지지부재(220)와 리프트핀(140)의 접촉 면적은 작다. 따라서, 지지부재(220)의 외주면과 리프트핀(140)의 내주면 사이의 간극을 상대적으로 덜 미세하게 설정하여도 되므로, 편리하다.The lift pin 140 is installed in the through hole 213 of the support unit for lift pin and the body 210 of the substrate processing apparatus using the support unit according to the present embodiment, and the support member 220 rotatably installed in the body 210 One side is located in the through hole 213 and contacts the outer circumferential surface of the lift pin 140 . Therefore, since the support member 220 and the lift pin 140 are in line contact, the contact area between the support member 220 and the lift pin 140 is small. Accordingly, the gap between the outer circumferential surface of the support member 220 and the inner circumferential surface of the lift pin 140 may be relatively finely set, which is convenient.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and it is common in the technical field to which the present invention belongs that various substitutions, modifications, and changes are possible without departing from the technical spirit of the present invention. It will be clear to those who have knowledge of Therefore, the scope of the present invention is indicated by the following claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts should be construed as being included in the scope of the present invention.

110: 챔버
130: 서셉터
140: 리프트핀
200: 지지유닛
210: 몸체
220: 지지부재
230: 이탈방지핀110: chamber
130: susceptor
140: lift pin
200: support unit
210: body
220: support member
230: departure prevention pin

Claims (17)

내부에 길이 방향을 따라 관통공이 형성되고, 상기 관통공에는 리프트핀이 삽입된 몸체;
상기 몸체에 회전가능하게 설치되고, 일측 부위가 상기 관통공에 위치되며, 상기 리프트핀의 외주면과 접촉하여 상기 리프트핀을 지지하는 복수의 지지부재;
상기 몸체에 설치되어 상기 지지부재가 상기 몸체로부터 이탈하는 것을 방지하는 이탈방지핀을 포함하고,
상기 지지부재의 외주면에는 상기 지지부재의 중심측으로 함몰 형성되어 상기 이탈방지핀의 단부가 삽입되는 삽입로가 형성된 것을 특징으로 하는 리프트핀용 지지유닛.a body in which a through hole is formed along the longitudinal direction therein, and a lift pin is inserted into the through hole;
a plurality of support members rotatably installed in the body, having one side portion positioned in the through hole, and supporting the lift pins by contacting an outer circumferential surface of the lift pins;
A separation prevention pin installed on the body to prevent the support member from leaving the body;
Support unit for lift pins, characterized in that the outer peripheral surface of the support member is formed with an insertion path recessed toward the center of the support member and into which the end of the separation prevention pin is inserted. 제1항에 있어서,
상기 몸체에는 일단부는 상기 몸체의 외면 외측과 연통되고 중앙 부위 일측은 상기 관통공과 연통되며 상기 리프트핀의 승강 방향과 수직하는 지지공 및 일단부는 상기 몸체의 외면 외측과 연통되고 타단부는 상기 지지공과 연통된 결합공이 형성되며,
상기 지지부재는 상기 지지공에 삽입되어 상기 관통공과 연통하는 상기 지지공의 부위를 통하여 일측 부위가 상기 관통공에 위치되고,
상기 이탈방지핀은 상기 결합공에 삽입 결합된 것을 특징으로 하는 리프트핀용 지지유닛.According to claim 1,
In the body, one end communicates with the outer surface of the body, one side of the central portion communicates with the through hole, and a support hole perpendicular to the lifting direction of the lift pin, and one end communicates with the outer surface of the body and the other end communicates with the support hole. A coupled hole is formed,
The support member is inserted into the support hole and one side is positioned in the through hole through a portion of the support hole communicating with the through hole,
The release prevention pin is a support unit for a lift pin, characterized in that inserted into the coupling hole. 삭제delete 제2항에 있어서,
상기 이탈방지핀의 외주면 및 상기 결합공의 내주면에는 상호 맞물리는 나사선(螺絲線)이 형성된 것을 특징으로 하는 리프트핀용 지지유닛.According to claim 2,
Support unit for a lift pin, characterized in that the outer circumferential surface of the separation prevention pin and the inner circumferential surface of the coupling hole are formed with mutually engaging threads. 기판이 처리되는 공간을 제공하는 챔버;
상기 챔버의 내부에 승강가능하게 설치되며 기판이 탑재 지지되는 서셉터;
상기 서셉터를 관통하며, 하단부는 상기 챔버에 지지되고 상단부는 상기 서셉터의 상면 외측으로 노출되어 기판을 지지하는 리프트핀;
상기 서셉터에 설치되어 상기 서셉터와 함께 승강하며 상기 리프트핀의 외주면과 접촉하여 상기 리프트핀을 지지하는 지지유닛을 포함하며,
상기 지지유닛은,
상기 서셉터에 설치되며, 내부에 상기 리프트핀이 통과하는 관통공이 형성된 몸체;
상기 몸체에 회전가능하게 설치되고, 일측 부위가 상기 관통공에 위치되어 상기 리프트핀의 외주면과 접촉하며, 상기 서셉터의 승강에 의하여 회전하면서 상기 리프트핀을 지지하는 복수의 지지부재;
상기 몸체에 설치되어 상기 지지부재가 상기 몸체로부터 이탈하는 것을 방지하는 이탈방지핀을 포함하고,
상기 지지부재의 외주면에는 상기 지지부재의 중심측으로 함몰 형성되어 상기 이탈방지핀의 단부가 삽입되는 삽입로가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.a chamber providing a space in which a substrate is processed;
a susceptor installed in the chamber to be liftable and supported by a substrate;
a lift pin penetrating the susceptor, having a lower end supported by the chamber and an upper end exposed to the outside of the upper surface of the susceptor to support a substrate;
A support unit installed on the susceptor, moving up and down with the susceptor, and supporting the lift pin by contacting an outer circumferential surface of the lift pin;
The support unit is
a body installed in the susceptor and having a through hole through which the lift pin passes;
a plurality of support members rotatably installed in the body, one side of which is positioned in the through hole to contact the outer circumferential surface of the lift pin, and supports the lift pin while being rotated by the elevation of the susceptor;
A separation prevention pin installed on the body to prevent the support member from leaving the body;
The substrate processing apparatus of claim 1 , wherein an insertion path formed on an outer circumferential surface of the support member is formed to be recessed toward the center of the support member and into which an end portion of the separation prevention pin is inserted. 제5항에 있어서,
상기 몸체에는 일단부는 상기 몸체의 외면 외측과 연통되고 중앙 부위 일측은 상기 관통공과 연통되며 상기 리프트핀의 승강 방향과 수직하는 지지공 및 일단부는 상기 몸체의 외면 외측과 연통되고 타단부는 상기 지지공과 연통된 결합공이 형성되며,
상기 지지부재는 상기 지지공에 삽입되어 상기 관통공과 연통하는 상기 지지공의 부위를 통하여 일측 부위가 상기 관통공에 위치되고,
상기 이탈방지핀은 상기 결합공에 삽입 결합된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.According to claim 5,
In the body, one end communicates with the outer surface of the body, one side of the central portion communicates with the through hole, and a support hole perpendicular to the lifting direction of the lift pin, and one end communicates with the outer surface of the body and the other end communicates with the support hole. A coupled hole is formed,
The support member is inserted into the support hole and one side is positioned in the through hole through a portion of the support hole communicating with the through hole,
The separation prevention pin is a substrate processing apparatus, characterized in that inserted into the coupling hole. 삭제delete 제6항에 있어서,
상기 이탈방지핀의 외주면 및 상기 결합공의 내주면에는 상호 맞물리는 나사선(螺絲線)이 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.According to claim 6,
Substrate processing apparatus, characterized in that the outer circumferential surface of the separation prevention pin and the inner circumferential surface of the coupling hole are formed with mutually engaging screw lines. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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