KR102507882B1 - 광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템 및 근접전계 측정 방법 - Google Patents

광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템 및 근접전계 측정 방법 Download PDF

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Abstract

광대역 빔 패턴을 결정하는 광대역 안테나의 근접전계 측정 시스템 및 근접전계 측정 방법이 개시될 수 있다. 일 실시예에 따른 근접전계 측정 시스템은 근접전계 스캐너부; 복수의 배열 안테나를 포함하는 측정 대상 안테나부; 및 근접전계 스캐너부 및 측정 대상 안테나부에 연결되고, 대역폭 내의 주파수 오프셋을 설정하고, 주파수 오프셋에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 측정 장치를 포함하고, 근접전계 스캐너부는 측정 장치에 의해 생성된 주파수 오프셋된 신호를 방사하고, 측정 대상 안테나부는 근접전계 스캐너부에 의해 방사된 신호를 수신하여 수신 신호를 생성하고, 측정 장치는 측정 대상 안테나부로부터 수신 신호를 수신하고, 오프셋 주파수 및 수신 신호에 기초하여 측정 대상 안테나부의 광대역 빔 패턴을 결정할 수 있다.

Description

광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템 및 근접전계 측정 방법{NEAR-FIELD MEASUREMENT SYSTEM AND NEAR-FIELD MEASUREMENT METHOD OF DETERMINING WIDEBAND BEAM PATTERN}
본 발명은 광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템 및 근접전계 측정 방법에 관한 것이다.
위상 배열 안테나와 같이 자유자재로 빔 조향하는 안테나 또는 방위각/고각 방향으로의 2D 패턴을 얻기 위한 안테나 패턴을 측정하기 위해서는 근접전계 측정 시스템이 주로 이용되고 있다. 이러한 근접전계 측정 시스템은 프로브를 이용하여 안테나로부터 방사된 신호를 근접전계에서 각 위치를 샘플링하여 근접전계 측정 데이터를 생성하고 생성된 근접전계 측정 데이터를 원전계 변환을 통해 빔 패턴을 구할 수 있다.
근접전계 측정 시스템은 안테나 개구면 가까이에 측정할 영역을 설정하고, 측정해야 할 위치를 샘플링하여 전계의 세기가 일정 값 이하가 되는 영역까지 측정한다. 통상, 파장의 3~4배 되는 거리에서 프로브를 움직이면서 측정하며, 샘플링 간격은 파장의 반 이내로 설정한다.
일반적으로, 위상 배열 안테나에 광대역 파형을 적용하는 경우, 각 배열에 입력되는 위상값은 중심 주파수를 기준으로 설정되므로 광대역 내의 다른 주파수에서는 빔조향이 틀어지게 되어 전체 빔 패턴이 왜곡된다. 따라서, 광대역 빔 조향 특성을 개선하기 위해서 배열 소자별 위상 설정 외에 시간 지연 기법을 적용하고 있다.
종래에는 안테나 패턴을 측정하기 위해 측정하고자 하는 주파수를 입력하여 안테나 패턴을 측정하였다. 입력 주파수와 측정 주파수가 동일한 경우, 신호가 수신기를 거치면서 DC 성분으로 변환되고, DC로 변환된 신호는 광대역 빔 조향을 위한 시간 지연 기법을 적용하더라도 시간 지연에 따른 위상 차이가 발생하지 않으므로 빔조향 효과를 확인할 수 없는 문제점이 있다.
본 발명은 대역폭 내의 주파수 오프셋을 설정하고, 설정된 주파수 오프셋 및 주파수 하향 변환에 기초하여 광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템 및 근접전계 측정 방법을 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템이 개시될 수 있다. 일 실시예에 따른 근접전계 측정 시스템은 근접전계 스캐너부; 복수의 배열 안테나를 포함하는 측정 대상 안테나부; 및 상기 근접전계 스캐너부 및 상기 측정 대상 안테나부에 연결되고, 대역폭 내의 주파수 오프셋을 설정하고, 상기 주파수 오프셋에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 측정 장치를 포함하고, 상기 근접전계 스캐너부는 상기 측정 장치에 의해 생성된 상기 주파수 오프셋된 신호를 방사하고, 상기 측정 대상 안테나부는 상기 근접전계 스캐너부에 의해 방사된 신호를 수신하여 수신 신호를 생성하고, 상기 측정 장치는 상기 측정 대상 안테나부로부터 상기 수신 신호를 수신하고, 상기 오프셋 주파수 및 상기 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부의 광대역 빔 패턴을 결정할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 측정 장치는 상기 주파수 오프셋에 기초하여 상기 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 신호 생성부; 상기 수신 신호에 대해 제1 주파수만큼 주파수 하향 변환하는 제1 주파수 하향 변환 처리를 수행하는 제1 주파수 하향 변환부; 상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 시간 지연 빔 조향 처리 및 위상 빔 조향 처리를 수행하는 신호 처리부; 상기 시간 지연 및 위상 빔 조향 처리된 수신 신호에 대해 제2 주파수만큼 주파수 하향 변환하는 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행하는 제2 주파수 하향 변환부; 및 상기 제2 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부에 대한 상기 광대역 빔 패턴을 결정하는 빔 패턴 결정부를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 신호 생성부는 상기 주파수 오프셋에 기초하여 안테나 파라미터를 설정하고, 상기 안테나 파라미터에 기초하여 상기 주파수 오프셋된 신호를 생성할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 신호 생성부는 중심 주파수에 상기 주파수 오프셋에 해당하는 오프셋 주파수를 더한 샘플 주파수를 상기 안테나 파라미터로서 설정할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 주파수는 상기 중심 주파수를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 신호 처리부는 상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 아날로그 디지털 변환을 수행하여 디지털 신호를 생성하는 아날로그 디지털 변환부; 상기 디지털 신호에 대해 상기 시간 지연 빔 조향 처리를 수행하는 TTD(true time delay); 및 상기 시간 지연 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 상기 위상 빔 조향 처리를 수행하는 PS(phase shifter)를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제2 주파수는 상기 샘플 주파수에 상기 중심 주파수를 뺀 주파수를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 빔 패턴 결정부는 주파수별로 측정된 상기 빔 패턴에 대해 펄스 파형 스펙트럼 및 매칭 필터 스펙트럼을 합성하고, 상기 합성된 스펙트럼에 대해 푸리에 역변환을 통해 시간 영역에서의 상기 광대역 빔 패턴을 결정할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템에서의 근접전계 측정 방법은 상기 근접전계 측정 시스템의 측정 장치에서, 대역폭 내의 주파수 오프셋을 설정하는 단계; 상기 측정 장치에서, 상기 주파수 오프셋에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 단계; 상기 측정 장치에서, 상기 근접전계 측정 시스템의 근접전계 스캐너부를 통해 상기 주파수 오프셋된 신호를 방사하고 상기 근접전계 측정 시스템의 근접전계 스캐너부를 통해 신호를 수신하여 수신 신호를 획득하는 단계; 및 상기 측정 장치에서, 상기 오프셋 주파수 및 상기 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부의 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 주파수 오프셋에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 단계는 상기 주파수 오프셋에 기초하여 안테나 파라미터를 설정하는 단계; 및 상기 안테나 파라미터에 기초하여 상기 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 안테나 파라미터를 설정하는 단계는 중심 주파수에 상기 주파수 오프셋에 해당하는 오프셋 주파수를 더한 샘플 주파수를 상기 안테나 파라미터로서 설정하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 측정 대상 안테나부의 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계는 상기 수신 신호에 대해 제1 주파수만큼 주파수 하향 변환하는 제1 주파수 하향 변환 처리를 수행하는 단계; 상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 시간 지연 빔 조향 처리 및 위상 빔 조향 처리를 수행하는 단계; 상기 시간 지연 및 위상 빔 조향 처리된 수신 신호에 대해 제2 주파수만큼 주파수 하향 변환하는 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행하는 단계; 및 상기 제2 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부에 대한 상기 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 주파수는 상기 중심 주파수를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 시간 지연 빔 조향 처리 및 위상 빔 조향 처리를 수행하는 단계는 아날로그 디지털 변환부를 통해 상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 아날로그 디지털 변환을 수행하여 디지털 신호를 생성하는 단계; TTD(true time delay)를 통해 상기 디지털 신호에 대해 상기 시간 지연 빔 조향 처리를 수행하는 단계; 및 PS(phase shifter)를 통해 상기 시간 지연 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 상기 위상 빔 조향 처리를 수행하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제2 주파수는 상기 샘플 주파수에 상기 중심 주파수를 뺀 주파수를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제2 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부에 대한 상기 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계는 주파수별로 측정된 상기 빔 패턴에 대해 펄스 파형 스펙트럼 및 매칭 필터 스펙트럼을 합성하는 단계; 및 상기 합성된 스펙트럼에 대해 푸리에 역변환을 통해 시간 영역에서의 상기 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 다양한 실시예에 따르면, 단일 주파수 측정만이 가능한 근접전계 측정 시설에서 복수의 배열 안테나를 포함하는 측정 대상 안테나부에 대해 광대역 빔 조향 시 빔 패턴의 특성을 확인할 수 있다.
또한, 본 발명의 다양한 실시예에 따르면, 광대역 파형을 적용하는 위상 배열 레이더에 적용 가능하다.
도 1은 위상 배열 안테나의 각 배열별 경로 차이를 나타낸 도면이다.
도 2는 각 배열별 경로 차이가 발생된 신호를 믹서를 통해 주파수 하향 변환시킨 수학식을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 근접전계 측정 시스템을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 측정 장치의 구성을 개략적으로 나타낸 블록도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 측정 대상 안테나부의 각 배열 소자에서의 주파수 오프셋된 신호를 주파수 하향 변환한 상태를 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 빔 조향각(40도)을 위해 중심 주파수로 위상 세팅된 상태에서의 주파수별 빔 패턴을 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 LFM(Linear Frequency Modulation) 파형 적용 시 펄스 파형 스펙트럼을 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 빔 패턴 시뮬레이션 결과를 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 방법을 나타낸 흐름도이다.
본 발명의 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것이다. 본 발명에 따른 권리범위가 이하에 제시되는 실시예들이나 이들 실시예들에 대한 구체적 설명으로 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 사용되는 모든 기술적 용어들 및 과학적 용어들은, 달리 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일반적으로 이해되는 의미를 갖는다. 본 발명에 사용되는 모든 용어들은 본 발명을 더욱 명확히 설명하기 위한 목적으로 선택된 것이며 본 발명에 따른 권리범위를 제한하기 위해 선택된 것이 아니다.
본 발명에서 사용되는 "포함하는", "구비하는", "갖는" 등과 같은 표현은, 해당 표현이 포함되는 어구 또는 문장에서 달리 언급되지 않는 한, 다른 실시예를 포함할 가능성을 내포하는 개방형 용어(open-ended terms)로 이해되어야 한다.
본 발명에서 기술된 단수형의 표현은 달리 언급하지 않는 한 복수형의 의미를 포함할 수 있으며, 이는 청구범위에 기재된 단수형의 표현에도 마찬가지로 적용된다.
본 발명에서 사용되는 "제1", "제2" 등의 표현들은 복수의 구성요소들을 상호 구분하기 위해 사용되며, 해당 구성요소들의 순서 또는 중요도를 한정하는 것은 아니다.
본 발명에서 사용되는 용어 "부"는, 소프트웨어, 또는 FPGA(field-programmable gate array), ASIC(application specific integrated circuit)과 같은 하드웨어 구성요소를 의미한다. 그러나, "부"는 하드웨어 및 소프트웨어에 한정되는 것은 아니다. "부"는 어드레싱할 수 있는 저장 매체에 있도록 구성될 수도 있고, 하나 또는 그 이상의 프로세서들을 재생시키도록 구성될 수도 있다. 따라서, 일 예로서, "부"는 소프트웨어 구성요소들, 객체지향 소프트웨어 구성요소들, 클래스 구성요소들 및 태스크 구성요소들과 같은 구성요소들과, 프로세스, 함수, 속성, 프로시저, 서브루틴, 프로그램 코드의 세그먼트, 드라이버, 펌웨어, 마이크로코드, 회로, 데이터, 데이터베이스, 데이터 구조, 테이블, 어레이 및 변수를 포함한다. 구성요소와 "부" 내에서 제공되는 기능은 더 작은 수의 구성요소 및 "부"로 결합되거나 추가적인 구성요소와 "부"로 분리될 수 있다.
본 발명에서 사용되는 "~에 기초하여"라는 표현은, 해당 표현이 포함되는 어구 또는 문장에서 기술되는, 결정 판단의 행위 또는 동작에 영향을 주는 하나 이상의 인자를 기술하는데 사용되며, 이 표현은 결정, 판단의 행위 또는 동작에 영향을 주는 추가적인 인자를 배제하지 않는다.
본 발명에서, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 경우, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 직접적으로 연결될 수 있거나 접속될 수 있는 것으로, 또는 새로운 다른 구성요소를 매개로 하여 연결될 수 있거나 접속될 수 있는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명한다. 첨부된 도면에서, 동일하거나 대응하는 구성요소에는 동일한 참조부호가 부여되어 있다. 또한, 이하의 실시예들의 설명에 있어서, 동일하거나 대응하는 구성요소를 중복하여 기술하는 것이 생략될 수 있다. 그러나, 구성요소에 관한 기술이 생략되어도, 그러한 구성요소가 어떤 실시예에 포함되지 않는 것으로 의도되지는 않는다.
도 1은 위상 배열 안테나의 각 배열별 경로 차이를 나타낸 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 위상 배열 안테나로 전파가 입사되어 들어올 때, 각 배열별 경로 차이가 발생하며, 전파가 각도(θ)로 입사될 때, i번째 배열 안테나에서의 경로 차이(
Figure 112021124440057-pat00001
)는 아래의 수학식 1과 같이 나타낼 수 있다.
Figure 112021124440057-pat00002
수학식 1에서, d는 배열 간격을 나타낸다.
각 배열별 전파 경로 차이가 발생된 채로 수신된 신호는 믹서(mixer)를 통해 주파수 하향 변환되고, ADC(analog to digital converter)에 의해 디지털화된 후 시간 지연 및 위상 설정을 통해 합성하여 수신 빔의 형성이 수행된다.
도 2는 각 배열별 경로 차이가 발생된 신호를 믹서를 통해 주파수 하향 변환시킨 수학식을 나타낸 도면이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 입력된 주파수(f)와 주파수 하향 변환하는 주파수(fo)의 차이가 없는 경우에는 Ro, Ri에서 "(f-fo)=0"이므로 위상 변위된 성분만 남게 된다. 따라서, 위상 차이만 보상하면 위상 배열의 빔 조향이 가능함을 알 수 있다. 그러나, 입력된 주파수(f)와 주파수 하향 변환하는 주파수(fo)의 차이가 발생할 경우에는 위상 차이와 더불어 시간 지연을 보상해야 원하는 빔이 형성되는 것을 알 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 근접전계 측정 시스템을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 3을 참조하면, 근접전계 측정 시스템(300)은 근접전계 스캐너부(310), 측정 대상 안테나부(320) 및 측정 장치(330)를 포함할 수 있다.
근접전계 스캐너부(310)는 측정 대상 안테나부(320)로부터 방사된 위한 신호를 수신하고, 근접전계 측정을 위한 신호를 측정 대상 안테나부(320)로 방사할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 근접전계 스캐너부(310)는 송신 모드에서 측정 대상 안테나부(320)로부터 방사되는 신호를 수신하여 수신 신호를 생성할 수 있다. 또한, 근접전계 스캐너부(310)는 수신 모드에서 근접전계 측정을 위한 신호를 측정 대상 안테나부(320)로 방사할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 근접전계 스캐너부(310)는 구형 도파관 안테나를 포함할 수 있다. 그러나, 근접전계 스캐너부(310)는 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
일 실시예에 있어서, 근접전계 스캐너부(310)는 측정 장치(330)로부터 주파수 오프셋된 신호를 수신하고, 수신된 신호를 측정 대상 안테나부(320)로 방사할 수 있다. 예를 들면, 근접전계 스캐너부(310)는 중심 주파수에 오프셋 주파수를 더한 신호를 수신하고, 수신된 신호를 방사할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 근접전계 스캐너부(310)는 안테나 개구면의 복사 근접전계(radiating near field) 영역에서 측정 대상 안테나부(320)로 주파수 오프셋된 신호를 방사할 수 있다. 예를 들면, 근접전계 스캐너부(310)는 안테나 개구면으로부터 측정 파장의 3 내지 5배의 거리에서 측정 대상 안테나부(320)로 주파수 오프셋된 신호를 방사할 수 있다.
측정 대상 안테나부(320)는 근접전계 측정을 위한 신호를 방사할 수 있다. 또한, 측정 대상 안테나부(320)는 근접전계 스캐너부(310)로부터 방사되는 신호를 수신할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 측정 대상 안테나부(310)는 복수의 배열 안테나를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 측정 대상 안테나부(320)는 근접전계 스캐너부(310)로부터 방사된 신호를 수신하여 수신 신호를 생성할 수 있다. 예를 들면, 수신 신호는 중심 주파수(fo)에 오프셋 주파수(foffset)를 더한 아날로그 신호일 수 있다.
측정 장치(330)는 근접전계 스캐너부(310) 및 측정 대상 안테나부(320)에 연결될 수 있다. 측정 장치(330)는 근접전계 측정을 위한 주파수 오프셋된 신호를 생성하고, 생성된 신호를 근접전계 스캐너부(310)에 제공할 수 있다. 또한, 측정 장치(330)는 측정 대상 안테나부(320)로부터 수신 신호를 수신하고, 수신 신호에 근접전계 측정을 수행하여 측정 대상 안테나부(320)에 대한 빔 패턴을 결정할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 측정 장치의 구성을 개략적으로 나타낸 블록도이다. 도 4를 참조하면, 측정 장치(330)는 신호 생성부(410), 제1 주파수 하향 변환부(420), 신호 처리부(430), 제2 주파수 하향 변환부(440), 빔 패턴 결정부(450) 및 제어부(460)를 포함할 수 있다.
신호 생성부(410)는 근접전계 측정을 위한 주파수 오프셋된 신호를 생성할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 신호 생성부(410)는 오프셋 주파수를 설정하고, 설정된 주파수 오프셋에 기초하여 안테나 파라미터를 설정할 수 있다. 예를 들면, 안테나 파라미터는 중심 주파수(fo)에 오프셋 주파수(foffset)를 더한 샘플 주파수(fn=fo+foffset)를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 신호 생성부(410)는 설정된 안테나 파라미터에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성할 수 있다. 예를 들면, 신호 생성부(410)는 샘플 주파수(fn=fo+foffset)에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성할 수 있다. 생성된 신호는 근접전계 스캐너부(310)로 전송될 수 있다. 따라서, 근접전계 스캐너부(310)는 신호 생성부(410)에 의해 생성된 신호, 즉 주파수 오프셋된 신호를 수신하고 수신된 신호를 방사할 수 있다.
제1 주파수 하향 변환부(420)는 측정 대상 안테나부(320)로부터 수신 신호를 수신하고, 수신된 수신 신호에 대해 주파수 하향 변환 처리(이하, "제1 주파수 하향 변환 처리"라 함)를 수행할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제1 주파수 하향 변환부(420)는 수신 신호에 대해 제1 주파수만큼 주파수 하향 변환을 수행하는 제1 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다. 예를 들면, 제1 주파수 하향 변환부(420)는 제1 주파수 하향 변환 처리를 수행하기 위한 믹서(mixer)를 포함할 수 있다. 그러나, 제1 주파수 하향 변환부(420)는 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
예를 들면, 각도(θ)로 빔 조향하는 안테나를 주파수(fn)에서 측정하고, 근접전계 스캐너부(310)가 xm, ym에 위치할 때, 측정 대상 안테나부(320)의 i번째 배열에서 수신된 수신 신호(즉, 근접전계 측정 데이터)는 아래의 수학식 2와 같이 정의될 수 있다.
Figure 112021124440057-pat00003
수학식 2에서, fn(=fo+foffset)은 샘플 주파수를 나타내고, fo는 중심 주파수를 나타내고, foffset은 오프셋 주파수를 나타낸다.
제1 주파수 하향 변환부(420)는 수신 신호(즉, 근접전계 측정 데이터)에 제1 주파수로서 중심 주파수(fo)만큼 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다. 예를 들면, 제1 주파수 하향 변환부(420)는 수신 신호(즉, 근접전계 측정 데이터)에 대해 아래의 수학식 3과 같이 제1 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다.
Figure 112021124440057-pat00004
신호 처리부(430)는 제1 주파수 하향 변환부(420)에 연결될 수 있다. 신호 처리부(430)는 제1 주파수 하향 변환부(420)에 의해 주파수 하향 변환된 수신 신호에 대해 아날로그 디지털 변환 처리를 수행하여 디지털 신호를 생성할 수 있다. 또한, 신호 처리부(430)는 디지털 신호에 대해 시간 지연 빔 조향 및 위상 빔 조향 처리를 수행할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 신호 처리부(430)는 도 4에 도시된 바와 같이, 아날로그 디지털 변환 처리를 수행하여 디지털 신호를 생성하는 아날로그 디지털 변환부(431), 디지털 신호에 대해 시간 지연 빔 조향 처리를 수행하는 TTD(true time delay)(432) 및 시간 지연 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 위상 빔 조향 처리를 수행하는 PS(phase shifter)(433)를 포함할 수 있다.
예를 들면, TTD(430)는 디지털 신호에 대해 아래의 수학식 4와 같이 시간 지연 빔 조향 처리(ti)를 수행할 수 있다.
Figure 112021124440057-pat00005
또한, PS(433)는 시간 지연 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 아래의 수학식 5와 같이 빔 조향 처리(jφi)를 수행할 수 있다.
Figure 112021124440057-pat00006
제2 주파수 하향 변환부(440)는 신호 처리부(430)에 연결될 수 있다. 제2 주파수 하향 변환부(440)는 신호 처리부(430)에 의해 시간 지연 및 위상 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 주파수 하향 변환 처리(이하, "제2 주파수 하향 변환 처리"라 함)를 수행할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제2 주파수 하향 변환부(440)는 시간 지연 및 위상 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 제2 주파수만큼 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다. 예를 들면, 제2 주파수 하향 변환부(440)는 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행하기 위한 믹서(mixer)를 포함할 수 있다. 그러나, 제2 주파수 하향 변환부(440)는 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
일 실시예에 있어서, 제2 주파수 하향 변환부(440)는 제2 주파수로서 샘플 주파수에 중심 주파수를 뺀 주파수(fn-fo)만큼 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다. 예를 들면, 제2 주파수 하향 변환부(440)는 시간 지연 및 위상 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 아래의 수학식 6과 같이 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다.
Figure 112021124440057-pat00007
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 주파수 오프셋된 수신 신호에 대해 주파수 오프셋만큼 주파수 하향 변환 처리를 후처리로서 수행하여 DC 성분의 I, Q값을 획득할 수 있다.
빔 패턴 결정부(450)는 제2 주파수 하향 변환부(440)에 연결될 수 있다. 빔 패턴 결정부(450)는 제2 주파수 하향 변환부(440)에 의해 제2 주파수 하향 변환 처리된 신호에 기초하여 측정 대상 안테나부(320)에 대한 광대역 빔 패턴을 결정할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 빔 패턴 결정부(450)는 제2 주파수 하향 변환부(440)에 의해 제2 주파수 하향 변환 처리된 DC 성분의 I, Q값을 원계 변환하여 빔 패턴을 결정할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 빔 패턴 결정부(450)는 주파수별로 측정된 빔 패턴(V(θ,ω,θsc))에 대해 펄스 파형 스펙트럼(Hp(ω)) 및 매칭 필터 스펙트럼(Hm(ω))을 합성하고, 푸리에 역변환을 통해 시간 영역에서의 광대역 빔 패턴(Ω(θ,t,θsc))을 결정할 수 있다.
제어부(460)는 근접전계 측정 시스템(300)의 동작을 제어할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제어부(460)는 주파수 오프셋된 신호를 방사하기 위한 근접전계 스캐너부(310)의 동작과 근접전계 스캐너부(310)에 의해 방사된 신호를 수신하기 위한 측정 대상 안테나부(320)의 동작을 제어할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제어부(460)는 광대역 빔 패턴을 결정하기 위한 측정 장치(330)의 동작을 제어할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 측정 대상 안테나부의 각 배열 소자에서의 주파수 오프셋된 신호를 주파수 하향 변환한 상태를 나타낸 도면이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 빔 형성을 위해 시간 지연 설정 시 시간 지연에 따른 위상 차이가 발생함을 알 수 있다.
이를 다시 주파수 하향 변환하면, 각 배열별로 I,Q 값이 나오게 되고 시간 지연에 의해서 각 배열 별로 위상 차이가 발생됨을 의미한다. 만약 주파수 오프셋으로 측정하지 않고 입력 주파수와 주파수 하향 변환을 동일하게 하면, 주파수 하향 변환된 신호는 이미 DC 성분의 I,Q 값으로 나오며 이후에 시간 지연을 수행한다고 해도 이미 DC 성분으로 시간 지연에 의한 위상 차이가 발생하지 않으므로 시간지연 효과를 볼 수 없게 된다.
도 6 내지 도 8을 참조하여 빔 패턴을 결정하는 시뮬레이션 결과를 설명하기로 한다. 도 6 내지 도 8에서는 배열 개수가 80개이고, 중심 주파수가 1.3GHz이고 대역폭이 150MHz이며 빔 조향각이 40도의 조건으로 시뮬레이션한 결과를 나타낸다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 빔 조향각(40도)을 위해 중심 주파수로 위상 세팅된 상태에서의 주파수별 빔 패턴을 나타낸 도면이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 주파수별 위상 값을 다르게 설정하여야 하지만 광대역 파형 적용 시 중심주파수를 기준으로 위상을 설정하기 때문에, 주파수 별로 빔 조향 위치가 원하는 위치로부터 벗어남을 알 수 있다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 LFM(Linear Frequency Modulation) 파형 적용 시 펄스 파형 스펙트럼을 나타낸 도면이다. 도 7에서는 대역폭 150MHz의 LFM 파형 적용 시 펄스 파형 스펙트럼을 나타낸다. 매칭 필터 역시 동일한 스펙트럼을 나타낸다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 빔 패턴 시뮬레이션 결과를 나타낸 도면이다. 도 8에서는 "IDEAL" 빔패턴, "FROME TIME DOMAIN" 빔패턴 및 "FROM SPECTRUM" 빔패턴 시뮬레이션 결과를 나타낸 것이며, 각각 다음과 같이 구해질 수 있다. "IDEAL" 빔 패턴은 중심 주파수에서의 수신 안테나 신호 크기를 나타낸 것이며, 원하는 빔 패턴을 의미한다. "FROM TIME DOMAIN" 빔 패턴은 광대역 LFM(linear Frequency Modulation) 신호를 각 배열별로 지연된 시간을 고려하여 수신된 신호를 펄스 압축한 결과이며, 이를 각 방향에서의 수신된 신호를 표현하면 광대역에서의 빔 패턴 신호가 된다. "FROM SPECTRUM" 빔 패턴은 아래의 수학식 7d을 사용하여 주파수별 빔 패턴과 펄스 스펙트럼, 매칭 필터 스펙트럼을 사용하여 광대역 빔 패턴을 계산한 결과이며, 배열 안테나별로 수신된 신호를 펄스 압축하여 합성한 결과와 동일하게 나타남을 알 수 있다.
Figure 112021124440057-pat00008
수학식 7에서, V(θ,ω,θsc)는 수신 안테나 신호 크기를 나타내고, Hp(ω)는 펄스 파형 스펙트럼을 나타내고, Hm(ω)는 매칭 필터 스펙트럼을 나타낸다.
각 배열별로 수신된 LFM 파형을 매칭 필터를 적용하여 펄스 압축한 후 빔 합성하는 과정은 주파수 영역에서 각 주파수 별 빔 패턴을 먼저 계산한 후 펄스 파형 스펙트럼과 매칭 필터 스펙트럼을 곱한 후 역푸리에 변환을 통해서 광대역 빔패턴을 구하는 과정과 동일하게 나타난다.
즉, 광대역 빔 패턴을 근접전계 측정 시설에서 구하기 위해서는 위상 설정 및 시간 지연 특성을 확인할 수 있도록 주파수 오프셋 신호를 입력하여 각 주파수 별로 측정한 후 수학식 7을 사용하여 합성을 통해 광대역 빔 패턴을 확인할 수 있다.
본 발명에 도시된 흐름도에서 프로세스 단계들, 방법 단계들, 알고리즘들 등이 순차적인 순서로 설명되었지만, 그러한 프로세스들, 방법들 및 알고리즘들은 임의의 적합한 순서로 작동되도록 구성될 수 있다. 다시 말하면, 본 발명의 다양한 실시예들에서 설명되는 프로세스들, 방법들 및 알고리즘들의 단계들이 본 발명에서 기술된 순서로 수행될 필요는 없다. 또한, 일부 단계들이 비동시적으로 수행되는 것으로서 설명되더라도, 다른 실시예에서는 이러한 일부 단계들이 동시에 수행될 수 있다. 또한, 도면에서의 묘사에 의한 프로세스의 예시는 예시된 프로세스가 그에 대한 다른 변화들 및 수정들을 제외하는 것을 의미하지 않으며, 예시된 프로세스 또는 그의 단계들 중 임의의 것이 본 발명의 다양한 실시예들 중 하나 이상에 필수적임을 의미하지 않으며, 예시된 프로세스가 바람직하다는 것을 의미하지 않는다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 근접전계 측정 방법을 나타낸 흐름도이다. 도 9를 참조하면, 단계 S902에서, 근접전계 측정 시스템(300)은 대역폭 내 주파수 오프셋을 설정할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 근접전계 측정 시스템(300)의 측정 장치(330)는 광대역 빔 패턴을 결정하기 위한 주파수 오프셋(f-fo)을 설정할 수 있다.
단계 S904에서, 근접전계 측정 시스템(300)은 설정된 주파수 오프셋에 기초하여 안테나 파라미터를 설정할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 근접전계 측정 시스템(300)의 측정 장치(330)는 중심 주파수 및 주파수 오프셋에 해당하는 오프셋 주파수에 기초하여 안테나 파라미터를 결정할 수 있다. 예를 들면, 측정 장치(330)는 중심 주파수(fo)에 오프셋 주파수(foffset)를 더한 샘플 주파수를 안테나 파라미터로서 결정할 수 있다.
단계 S906에서, 근접전계 측정 시스템(300)은 안테나 파라미터에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성할 수 있다. 근접전계 측정 시스템(300)의 측정 장치(330)는 중심 주파수(fo)에 오프셋 주파수(foffset)를 더한 샘플 주파수에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성할 수 있다. 생성된 신호는 근접전계 스캐너부(310)로 전송될 수 있다. 따라서, 근접전계 스캐너부(310)는 주파수 오프셋된 신호를 방사할 수 있다.
단계 S908에서, 근접전계 측정 시스템(300)은 측정 대상 안테나부(320)에 의해 생성된 수신 신호를 획득할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 근접전계 측정 시스템(300)의 측정 장치(330)는 측정 대상 안테나부(320)로부터 수신 신호를 수신할 수 있다.
단계 S910에서, 근접전계 측정 시스템(300)은 수신 신호에 대해 제1 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 근접전계 측정 시스템(300)의 측정 장치(330)는 수신 신호에 대해 제1 주파수만큼 주파수 하향 변환을 수행하는 제1 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다. 예를 들면, 제1 주파수는 중심 주파수를 포함할 수 있다.
단계 S912에서, 근접전계 측정 시스템(300)은 제1 주파수 하향 변환된 수신 신호에 대해 신호 처리를 수행할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 근접전계 측정 시스템(300)의 측정 장치(330)는 제1 주파수 하향 변환된 수신 신호에 대해 아날로그 디지털 변환 처리, 시간 지연 빔 조향 처리 및 위상 빔 조향 처리를 수행할 수 있다. 예를 들면, 측정 장치(330)는 제1 주파수 하향 변환된 수신 신호에 대해 아날로그 디지털 변환 처리를 수행하여 디지털 신호를 생성할 수 있다. 또한, 측정 장치(330)는 디지털 신호에 대해 시간 지연 빔 조향 및 위상 빔 조향 처리를 수행할 수 있다.
단계 S914에서, 근접전계 측정 시스템(300)은 신호 처리된 수신 신호에 대해 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 근접전계 측정 시스템(300)의 측정 장치(330)는 시간 지연 및 위상 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 제2 주파수만큼 주파수 하향 변환하는 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다. 예를 들면, 측정 장치(330)는 시간 지연 및 위상 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 제2 주파수로서 샘플 주파수에 중심 주파수를 뺀 주파수(fn-fo)만큼 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행할 수 있다.
단계 S916에서, 근접전계 측정 시스템(300)은 제2 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 기초하여 측정 대상 안테나부(320)에 대한 광대역 빔 패턴을 결정할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 근접전계 측정 시스템(300)의 측정 장치(330)는 제2 주파수 하향 변환 처리된 DC 성분의 I, Q값을 원계 변환하여 빔 패턴을 결정할 수 있다. 예를 들면, 측정 장치(330)는 주파수별로 측정된 빔 패턴(V(θ,ω,θsc))에 대해 펄스 파형 스펙트럼(Hp(ω)) 및 매칭 필터 스펙트럼(Hm(ω))을 합성하고, 푸리에 역변환을 통해 시간 영역에서의 광대역 빔 패턴(Ω(θ,t,θsc))을 결정할 수 있다.
위 방법은 특정 실시예들을 통하여 설명되었지만, 위 방법은 또한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체에 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드로서 구현하는 것이 가능하다. 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 컴퓨터 시스템에 의해 읽혀질 수 있는 데이터가 저장되는 모든 종류의 기록장치를 포함한다. 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체의 예로는 ROM, RAM, CD-ROM, 자기 테이프, 플로피 디스크, 광데이터 저장장치 등이 있다. 또한, 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템에 분산되어, 분산방식으로 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드가 저장되고 실행될 수 있다. 그리고, 위 실시예들을 구현하기 위한 기능적인(functional) 프로그램, 코드 및 코드 세그먼트들은 본 발명이 속하는 기술분야의 프로그래머들에 의해 용이하게 추론될 수 있다.
이상 일부 실시예들과 첨부된 도면에 도시된 예에 의해 본 발명의 기술적 사상이 설명되었지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 이해할 수 있는 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 치환, 변형 및 변경이 이루어질 수 있다는 점을 알아야 할 것이다. 또한, 그러한 치환, 변형 및 변경은 첨부된 청구범위 내에 속하는 것으로 생각되어야 한다.
300: 근접전계 측정 시스템, 310: 근접전계 스캐너부, 320: 측정 대상 안테나부, 330: 측정 장치, 410: 신호 생성부, 420: 제1 주파수 하향 변환부, 430: 신호 처리부, 440: 제2 주파수 하향 변환부, 450: 빔 패턴 결정부, 460: 제어부

Claims (16)

  1. 광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템으로서,
    근접전계 스캐너부;
    복수의 배열 안테나를 포함하는 측정 대상 안테나부; 및
    상기 근접전계 스캐너부 및 상기 측정 대상 안테나부에 연결되고, 대역폭 내의 주파수 오프셋을 설정하고, 상기 주파수 오프셋에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 측정 장치
    를 포함하고,
    상기 근접전계 스캐너부는 상기 측정 장치에 의해 생성된 상기 주파수 오프셋된 신호를 방사하고,
    상기 측정 대상 안테나부는 상기 근접전계 스캐너부에 의해 방사된 신호를 수신하여 수신 신호를 생성하고,
    상기 측정 장치는 상기 측정 대상 안테나부로부터 상기 수신 신호를 수신하고, 상기 주파수 오프셋 및 상기 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부의 광대역 빔 패턴을 결정하는, 근접전계 측정 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 측정 장치는
    상기 주파수 오프셋에 기초하여 상기 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 신호 생성부;
    상기 수신 신호에 대해 제1 주파수만큼 주파수 하향 변환하는 제1 주파수 하향 변환 처리를 수행하는 제1 주파수 하향 변환부;
    상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 시간 지연 빔 조향 처리 및 위상 빔 조향 처리를 수행하는 신호 처리부;
    상기 시간 지연 및 위상 빔 조향 처리된 수신 신호에 대해 제2 주파수만큼 주파수 하향 변환하는 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행하는 제2 주파수 하향 변환부; 및
    상기 제2 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부에 대한 상기 광대역 빔 패턴을 결정하는 빔 패턴 결정부
    를 포함하는 근접전계 측정 시스템.
  3. 제2항에 있어서, 상기 신호 생성부는 상기 주파수 오프셋에 기초하여 안테나 파라미터를 설정하고, 상기 안테나 파라미터에 기초하여 상기 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 근접전계 측정 시스템.
  4. 제3항에 있어서, 상기 신호 생성부는 중심 주파수에 상기 주파수 오프셋에 해당하는 오프셋 주파수를 더한 샘플 주파수를 상기 안테나 파라미터로서 설정하는 근접전계 측정 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1 주파수는 상기 중심 주파수를 포함하는 근접전계 측정 시스템.
  6. 제4항에 있어서, 상기 신호 처리부는
    상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 아날로그 디지털 변환을 수행하여 디지털 신호를 생성하는 아날로그 디지털 변환부;
    상기 디지털 신호에 대해 상기 시간 지연 빔 조향 처리를 수행하는 TTD(true time delay); 및
    상기 시간 지연 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 상기 위상 빔 조향 처리를 수행하는 PS(phase shifter)
    를 포함하는 근접전계 측정 시스템.
  7. 제4항에 있어서, 상기 제2 주파수는 상기 샘플 주파수에 상기 중심 주파수를 뺀 주파수를 포함하는 근접전계 측정 시스템.
  8. 제4항에 있어서, 상기 빔 패턴 결정부는
    주파수별로 측정된 상기 빔 패턴에 대해 펄스 파형 스펙트럼 및 매칭 필터 스펙트럼을 합성하고,
    상기 합성된 스펙트럼에 대해 푸리에 역변환을 통해 시간 영역에서의 상기 광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템.
  9. 광대역 빔 패턴을 결정하는 근접전계 측정 시스템에서의 근접전계 측정 방법으로서,
    상기 근접전계 측정 시스템의 측정 장치에서, 대역폭 내의 주파수 오프셋을 설정하는 단계;
    상기 측정 장치에서, 상기 주파수 오프셋에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 단계;
    상기 측정 장치에서, 상기 근접전계 측정 시스템의 근접전계 스캐너부를 통해 상기 주파수 오프셋된 신호를 방사하고 상기 근접전계 측정 시스템의 측정 대상 안테나부를 통해 신호를 수신하여 수신 신호를 획득하는 단계; 및
    상기 측정 장치에서, 상기 주파수 오프셋 및 상기 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부의 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계
    를 포함하는 근접전계 측정 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 주파수 오프셋에 기초하여 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 단계는
    상기 주파수 오프셋에 기초하여 안테나 파라미터를 설정하는 단계; 및
    상기 안테나 파라미터에 기초하여 상기 주파수 오프셋된 신호를 생성하는 단계
    를 포함하는 근접전계 측정 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 안테나 파라미터를 설정하는 단계는
    중심 주파수에 상기 주파수 오프셋에 해당하는 오프셋 주파수를 더한 샘플 주파수를 상기 안테나 파라미터로서 설정하는 단계
    를 포함하는 근접전계 측정 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 측정 대상 안테나부의 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계는
    상기 수신 신호에 대해 제1 주파수만큼 주파수 하향 변환하는 제1 주파수 하향 변환 처리를 수행하는 단계;
    상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 시간 지연 빔 조향 처리 및 위상 빔 조향 처리를 수행하는 단계;
    상기 시간 지연 및 위상 빔 조향 처리된 수신 신호에 대해 제2 주파수만큼 주파수 하향 변환하는 제2 주파수 하향 변환 처리를 수행하는 단계; 및
    상기 제2 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부에 대한 상기 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계
    를 포함하는 근접전계 측정 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제1 주파수는 상기 중심 주파수를 포함하는 근접전계 측정 방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 시간 지연 빔 조향 처리 및 위상 빔 조향 처리를 수행하는 단계는
    아날로그 디지털 변환부를 통해 상기 제1 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 대해 아날로그 디지털 변환을 수행하여 디지털 신호를 생성하는 단계;
    TTD(true time delay)를 통해 상기 디지털 신호에 대해 상기 시간 지연 빔 조향 처리를 수행하는 단계; 및
    PS(phase shifter)를 통해 상기 시간 지연 빔 조향 처리된 디지털 신호에 대해 상기 위상 빔 조향 처리를 수행하는 단계
    를 포함하는 근접전계 측정 방법.
  15. 제12항에 있어서, 상기 제2 주파수는 상기 샘플 주파수에 상기 중심 주파수를 뺀 주파수를 포함하는 근접전계 측정 방법.
  16. 제12항에 있어서, 상기 제2 주파수 하향 변환 처리된 수신 신호에 기초하여 상기 측정 대상 안테나부에 대한 상기 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계는
    주파수별로 측정된 상기 빔 패턴에 대해 펄스 파형 스펙트럼 및 매칭 필터 스펙트럼을 합성하는 단계; 및
    상기 합성된 스펙트럼에 대해 푸리에 역변환을 통해 시간 영역에서의 상기 광대역 빔 패턴을 결정하는 단계
    를 포함하는 근접전계 측정 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101882969B1 (ko) * 2018-01-16 2018-07-27 엘아이지넥스원 주식회사 오프셋을 보정하는 장거리 레이더의 안테나 장치 및 이에 적용되는 장거리 레이더 안테나의 오프셋 보정 장치
KR101954183B1 (ko) * 2018-09-04 2019-03-05 한화시스템 주식회사 능동 위상배열 안테나의 원전계 신호 측정 시스템 및 이의 동작 방법

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