KR100826527B1 - 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴측정 시스템 및 그 방법 - Google Patents

파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴측정 시스템 및 그 방법 Download PDF

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조용희
윤재훈
김종면
문정익
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한국전자통신연구원
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Abstract

1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
본 발명은 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템 및 그 방법에 관한 것임.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
본 발명은 종래의 원역장 방사 패턴 시스템을 기반으로 파이 변화법을 이용하여 무반향실의 프레넬(Fresnel) 영역에서 원거리 방사 패턴을 측정하기 위한, 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템 및 그 방법을 제공하는데 그 목적이 있음.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명은, 안테나 방사 패턴 측정 시스템에 있어서, 기준 안테나와 피측정 안테나의 각도를 변경시키기 위한 회전수단; 상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 RF 신호 송/수신에 따른 방사 패턴 데이터를 획득하기 위한 벡터 네트워크 분석수단; 상기 벡터 네트워크 분석수단으로부터의 방사 패턴 데이터를 이용하여 원역장 방사 패턴을 계산하기 위한 측정수단; 및 상기 측정수단으로부터의 측정 각도에 따라 상기 회전수단을 제어하기 위한 제어수단을 포함함.
4. 발명의 중요한 용도
본 발명은 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 등에 이용됨.
프레넬 영역, 안테나 측정, 파이 변화법, 방사 패턴, 원역장

Description

파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템 및 그 방법{System and method for measuring an antenna radiation pattern in Fresnel region using phi-variation method}
도 1 은 본 발명에 따른 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템의 일실시예 구성도,
도 2 는 본 발명에 따른 안테나의 각도 좌표계에 대한 일실시예 설명도,
도 3 은 본 발명에 따른 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법에 대한 일실시예 설명도,
도 4 는 본 발명에 따른 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법에 대한 일실시예 흐름도,
도 5 는 기준 원역장의 E-평면 방사 패턴과 본 발명에 따른 E-평면 방사 패턴 비교에 대한 일실시예 설명도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명
10 : 기준 안테나 20 : 피측정 안테나
30 : 수직 회전 장치 40 : 수직 회전 장치
50 : 회전축 60 : 수평 회전 장치
70 : 벡터 네트워크 분석부 80 : 컴퓨터
90 : 제어부
본 발명은 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템 및 그 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 종래의 원역장(Far-Field) 측정 시스템을 기반으로 파이 변화법을 이용하여 무반향실의 프레넬(Fresnel) 영역에서 원거리 방사 패턴을 측정할 수 있는, 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템 및 그 방법에 관한 것이다.
위성용 반사기(reflector) 안테나 또는 복수 개의 단일 소자를 배열시킨 배열 안테나 등은 안테나의 크기가 단일 안테나의 수십 배가 된다.
따라서, 원거리 방사 패턴을 획득하기 위하여 소스 안테나와 측정용 안테나 간의 최소 이격 거리 (
Figure 112007092127967-pat00001
)는
Figure 112007092127967-pat00002
를 만족해야 한다. 여기서,
Figure 112007092127967-pat00003
은 측정용 안테나 개구면의 길이이며,
Figure 112007092127967-pat00004
는 동작 주파수의 파장이다.
예를 들어, 주파수 10GHz에서 동작하는 20
Figure 112007092127967-pat00005
의 안테나 (
Figure 112007092127967-pat00006
)의 원거리 방사 패턴을 측정하기 위한 최소 이격 거리는 24m이다. 따라서, 이보다 거리가 작은 무반향실에서는 원거리 방사 패턴 측정이 불가능하다.
이에 대한 대안으로서, 야외 측정 방법이 있다. 그러나, 이 방법은 날씨에 민감할 뿐만 아니라, 기존 통신 서비스와의 간섭 및 장애를 발생시킬 수 있다. 아울러, 군사용 안테나 또는 보안이 필요한 안테나의 경우 첩보 위성 등 외부에 노출이 되어 비밀 유지가 어렵다는 단점을 가지고 있다.
다른 대안으로서, 소스 안테나로부터 반사기로 전파를 쏘아서 측정 지점에서 평면파를 생성시키는 단축 측정장(Compact range) 방법이 있다. 그러나, 이 방법은 탈부착이 어려운 고가의 반사기 안테나를 필요로 하며, 수백 MHz의 저주파 대역에서는 반사기의 넓이가 커져 설치 및 유지보수가 힘들고, 100GHz 이상의 높은 주파수에서는 반사기 제작 시 수
Figure 112007092127967-pat00007
의 공정 오차를 충족시키기 어려워 반사기 제작이 어렵다.
한편, 근거리 영역에서 근접 전계를 측정하여 원거리 패턴으로 변환하는 근역장 측정 방법도 고려할 수 있는데, 이 방법은 3 ~ 10
Figure 112007092127967-pat00008
의 거리에서 전계의 수직과 수평 편파 성분을 측정한 후, 푸리에 변환을 취하여 원거리 패턴을 획득하는 방법이다. 그러나, 이 방법은 프로브를 이동시키는 기구물이 정밀성을 요구하므로, 구축 시 많은 재원을 필요로 한다.
따라서, 종래의 원거리 영역 측정 무반향실을 보유하고 있는 상황에서 고가의 시스템이나 추가적인 무반향실을 구축하지 않고, 대형 안테나의 안테나 방사 패턴을 측정할 수 있는 방안이 필요하다.
이에 대해, 원거리 영역과 근거리 영역의 중간 영역인 프레넬 영역(
Figure 112007092127967-pat00009
의 몇 분의 일 거리)에서 안테나 방사 패턴을 측정한 후 측정 데이터를 원거리 방사 패턴으로 변환하는 방법이 발표되었다. 이때, 측정용 안테나의 각도를 위아래로 변화시켜 여러 단면에서 안테나 방사 패턴을 측정한 후 수학식에 따라서 합산을 한다. 여러 편의 발표 논문 등을 통해 이러한 방법은 높은 정확도를 가짐이 증명되었다.
그러나, 전술한 프레넬 영역 측정 방법은 실제 측정 환경에서 몇 가지 단점을 보유하고 있다. 먼저, 상기의 프레넬 영역 측정 방법은 안테나의 측정 각도를 위아래로 변화시킬 수 있는 퍼지셔너를 가지고 있는 원역장 측정 시스템에만 적용이 가능하다. 그렇지 않을 경우, 고가의 퍼지셔너를 추가로 구입하여야 한다.
또한, 수십 kg의 대형 안테나의 각도를 변화시키기 위해 대형 안테나를 아래로 기울일 경우, 안테나와 퍼지셔너의 자체 중량으로 인한 붕괴 등의 안전 사고가 발생할 가능성이 있다. 아울러, 측정 안테나의 각도를 위아래로 변화시키면, 바닥면과 천장면에 부착된 흡수체에서 반사되는 바람직하지 않은 반사파가 모두 수신되기 때문에 측정상의 오류를 발생시킬 수 있다.
이와 같은 문제점을 해결하고자, 높은 지향성을 가지는 소스 안테나를 사용하여 바닥면과 천장면으로 향하여 반사되는 파를 최소화시킬 수 있는 안테나 방사 패턴 측정 시스템 등이 제안되었지만, 이는 측정하고자 하는 상대편 안테나도 높은 지향성을 가지고 있어야 하므로, 표준 안테나의 활용성이 떨어져 효율적이지 못하다는 문제점이 있다.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 종래의 원역장 방사 패턴 시스템을 기반으로 파이 변화법을 이용하여 무반향실의 프레넬(Fresnel) 영역에서 원거리 방사 패턴을 측정하기 위한, 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템 및 그 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있으며, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허청구범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 시스템은, 안테나 방사 패턴 측정 시스템에 있어서, 기준 안테나와 피측정 안테나의 각도를 변경시키기 위한 회전수단; 상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 RF 신호 송/수신에 따른 방사 패턴 데이터를 획득하기 위한 벡터 네트워크 분석수단; 상기 벡터 네트워크 분석수단으로부터의 방사 패턴 데이터를 이용하여 원역장 방사 패턴을 계산하기 위한 측정수단; 및 상기 측정수단으로부터의 측정 각도에 따라 상기 회전수단을 제어하기 위한 제어수단을 포함한다.
한편, 본 발명의 방법은, 안테나 방사 패턴 측정 방법에 있어서, 측정 각도에 따라 기준 안테나와 피측정 안테나의 각도를 변경시키는 각도 변경 단계; 상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 RF 신호 송/수신에 따른 방사 패턴 데이터를 획득하는 방사 패턴 데이터 획득 단계; 측정하고자 하는 각도에 대하여 상기 방사 패턴 데이터 획득 단계를 반복 수행하여 방사 패턴 데이터를 획득하는 단계; 및 상기 획득한 방사 패턴 데이터를 이용하여 원역장 방사 패턴을 측정하는 측정 단계를 포함한다.
상술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이며, 그에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 일실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1 은 본 발명에 따른 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템의 일실시예 구성도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템은, 원역장 방사 패턴을 획득하기 위해 무반향실 내에서 거리 R 만큼 떨어져 있는 두 개의 안테나(즉, 기준 안테나(10) 및 피측정 안테나(20))와, 기준 안테나(10) 및 피측정 안테나(20)의 각도(
Figure 112007092127967-pat00010
)를 각각 변경(예를 들어, 기준 안테나와 피측정 안테나를 각각 수평축을 중심으로 회전시킴)시키기 위한 수직 회전 장치(30, 40)와, 회전 각도에 따른 데이터를 획득하기 위하여 회전축(50)을 수평 회전(예를 들어, 피측정 안테나를 수직축을 중심으로 회전시킴)시키기 위한 수평 회전 장치(60)와, RF 케이블을 통해 기준 안테나(10) 또는 피측정 안테나(20) 중 한 개의 안테나(즉, 송신 안테나)로 RF 신호를 송신하고, 상기 송신 안테나를 제외한 다른 안테나(즉, 수신 안테나)로 수신된 RF 신호를 RF 케이블을 통해 입력받아, 복소수 값을 검출하기 위한 벡터 네트워크 분석부(VNA : Vector Network Analyzer)(70)와, 벡터 네트워크 분석부(VNA)(70)에서 검출된 복소수 값을 저장한 후에 원역장 방사 패턴을 계산하고, 제어부(90)로 측정 각도를 전달하기 위한 컴퓨터(80)와, 수직 회전 장치(30, 40) 및 수평 회전 장치(60)를 자동으로 구동하기 위한 모터(도면에 도시되지 않음)를 상기 측정 각도에 따라 제어하기 위한 제어부(90)를 포함한다.
여기서, 기준 안테나(10)와 피측정 안테나(20)는 상호 위치 교환이 가능하며, 최종 측정 결과는 동일하다.
그리고, 일예로 상기 수직 회전 장치(40)가 상기 수평 회전 장치(60)에 일체로 결합되고, 상기 수평 회전 장치(60)에 의해 상기 수직 회전 장치(40)가 수직축을 중심으로 회전되도록 한다.
따라서, 피측정 안테나(20)는 수평축 및 수직축을 중심으로 회전된다.
도 2 는 본 발명에 따른 안테나의 각도 좌표계에 대한 일실시예 설명도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 안테나는 각도 좌표계의 원점에 위치한다. 그리고,
Figure 112007092127967-pat00011
는 방사 패턴을 구하고자 하는 피측정 안테나의 x 축 방향의 개구면 길이이고,
Figure 112007092127967-pat00012
는 피측정 안테나의 y축 방향의 개구면 길이이다.
또한, 거리 R은 원점으로부터 측정하고자 하는 전계 값,
Figure 112007092127967-pat00013
까지의 거리이다. 그리고,
Figure 112007092127967-pat00014
는 z축으로부터의 각도이고,
Figure 112007092127967-pat00015
는 x축으로부터의 각도이다.
도 3 은 본 발명에 따른 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법에 대한 일실시예 설명도로서, 각도가
Figure 112006089915125-pat00016
일 경우의 안테나 방사 패턴 측정 방법을 나타낸다.
도 3에 도시된 바와 같이, 피측정 안테나는 원점에 위치한다. 그리고, 점선은 스캐닝 면을 나타내는 것으로서, 수평 회전 장치를 회전시켜 안테나의 패턴을 측정하는 경로를 나타낸다.
하기의 [수학식 1]과 같이, 원역장 영역의 전계 값,
Figure 112007092127967-pat00017
은 거리 R만큼 떨어진 구면의 여러 점들의 프레넬 영역의 전계 값,
Figure 112007092127967-pat00018
과 하기의 [수학식 2]의 푸리에 계수,
Figure 112007092127967-pat00019
를 곱하여 그 곱한 값들을 합산함으로써 획득할 수 있다.
Figure 112006089915125-pat00020
여기서,
Figure 112007092127967-pat00021
는 z축으로부터의 각도이고,
Figure 112007092127967-pat00022
는 x축으로부터의 각도이다.
Figure 112006089915125-pat00023
여기서,
Figure 112007092127967-pat00064
이고,
Figure 112007092127967-pat00065
는 방사 패턴을 구하고자 하는 피측정 안테나의 x 축 방향의 개구면 길이이며,
Figure 112007092127967-pat00066
는 피측정 안테나의 y 축 방향의 개구면 길이이다.
또한, m과 n은 프레넬 영역의 다수의 전계 값들에 대한 x축과 y축 방향의 지수 변수를 의미하고, u와 v는 x축과 y축 방향의 위치 변수를 의미한다.
만약, 각도
Figure 112006089915125-pat00027
와
Figure 112006089915125-pat00028
가 -90°~ +90°의 범위를 가진다면, 필요한
Figure 112006089915125-pat00029
과
Figure 112006089915125-pat00030
의 값은 무수히 많아진다. 따라서, 실제 안테나 방사 패턴을 등간격으로 측정한 후, 가장 가까운 점의 값을 취하거나, 내삽법을 이용하여 근사 값을 구할 수 있다.
도 4 는 본 발명에 따른 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법에 대한 일실시예 흐름도이다.
먼저, 측정자는 보유하고 있는 무반향실 내에서 기준 안테나(10)와 피측정 안테나(20) 간의 거리, 안테나 개구면의 크기, 측정 각도 등 측정상 필요한 파라미터를 결정한다(401).
이후, 측정자는 안테나 방사 패턴 측정 시스템을 통해 특정 각도
Figure 112006089915125-pat00031
에서 안테나 방사 패턴을 측정한다(402).
이때, 상기 "402" 과정을 보다 상세하게 살펴보면, 측정자는 기준 안테나(10)와 피측정 안테나(20)를 특정 각도
Figure 112007092127967-pat00032
로 수직 회전시키고(403), 수평 회전 장치(60)를 이용하여 회전축(50)을 수평 회전시킨다(404).
그러면, 이렇게 회전된 안테나 방사 패턴 측정 시스템은 벡터 네트워크 분석부(VNA)(70)를 통해 RF 신호를 입력받아 복소수 값을 획득한다(405).
이후, 안테나 방사 패턴 측정 시스템은 상기 획득된 복소수 값을 데이터베이스에 저장한다(406).
그리고, 안테나 방사 패턴 측정 시스템은 특정 각도가 아닌, 모든 각도에서 상기 단계(402, 406)를 수행시킨다(407).
다음으로, 안테나 방사 패턴 측정 시스템은 상기 [수학식 1] 및 [수학식 2]를 이용하여 원역장 방사 패턴을 측정한다(408).
여기서, 상기 "408" 과정을 보다 상세하게 살펴보면, 먼저 안테나 방사 패턴 측정 시스템은 데이터베이스에서 필요한 복소수 전계 값
Figure 112006089915125-pat00033
을 추출한다(409).
그리고, 안테나 방사 패턴 측정 시스템은 상기 [수학식 2]를 통해 푸리에 계수
Figure 112006089915125-pat00034
을 계산한다(410).
그리고, 안테나 방사 패턴 측정 시스템은 추출된 복소수 전계 값
Figure 112006089915125-pat00035
과 계산된 푸리에 계수
Figure 112006089915125-pat00036
을 기반으로 상기 [수학식 1]을 통해 원역장 방사 패턴을 측정한다(411).
상기 제안한 프레넬 영역에서의 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법을 검증하기 위하여, 소형 무반향실 내에서 원역장 조건을 만족할 수 없는 크기의 혼 안테나를 프레넬 영역에서 측정하였다.
그리고, 대형 무반향실 내에서 원역장 조건을 만족하는 거리에서 원역장 방사 패턴을 구한 후, 기준 원역장의 방사 패턴과 상호 비교하였다.
도 5 는 기준 원역장의 E-평면 방사 패턴과 본 발명에 따른 E-평면 방사 패턴 비교에 대한 일실시예 설명도이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 E-평면 방사 패턴은 기준 원역장의 E-평면 방사 패턴과 거의 일치한다.
상술한 바와 같은 본 발명의 방법은 프로그램으로 구현되어 컴퓨터로 읽을 수 있는 형태로 기록매체(씨디롬, 램, 롬, 플로피 디스크, 하드 디스크, 광자기 디스크 등)에 저장될 수 있다. 이러한 과정은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있으므로 더 이상 상세히 설명하지 않기로 한다.
이상에서 설명한 본 발명은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다.
상기와 같은 본 발명은, 현재 가장 많이 보급되어 있는 안테나 방사 패턴 측정 시스템인, 안테나를 파이(
Figure 112006089915125-pat00037
) 방향과 세타(
Figure 112006089915125-pat00038
) 방향으로 회전시킬 수 있는 퍼지 셔너를 보유하고 있는 원역장 측정 시스템에 활용이 가능하므로, 개구면이 커서 최소 원역장 조건을 만족하지 못하는 일반적인 챔버 내에서 발생하는 추가적인 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은, 이동(피측정) 안테나의 각도를 위아래로 변화시키지 않기 때문에, 피측정 안테나의 상대편 안테나(기준 안테나)는 지향성이 높을 필요성이 없으므로, 보유하고 있는 표준 안테나의 활용성을 높일 수 있는 효과가 있다.

Claims (11)

  1. 안테나 방사 패턴 측정 시스템에 있어서,
    기준 안테나와 피측정 안테나의 각도를 변경시키기 위한 회전수단;
    상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 RF 신호 송/수신에 따른 방사 패턴 데이터를 획득하기 위한 벡터 네트워크 분석수단;
    상기 벡터 네트워크 분석수단으로부터의 방사 패턴 데이터를 이용하여 원역장 방사 패턴을 계산하기 위한 측정수단; 및
    상기 측정수단으로부터의 측정 각도에 따라 상기 회전수단을 제어하기 위한 제어수단
    을 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전수단은,
    상기 기준 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키기 위한 제1 회전수단;
    상기 피측정 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키기 위한 제2 회전수단; 및
    상기 피측정 안테나를 수직축을 중심으로 회전시키기 위한 제3 회전수단
    을 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전수단은,
    상기 기준 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키기 위한 제1 회전수단;
    상기 피측정 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키기 위한 제2 회전수단; 및
    상기 피측정 안테나를 수직축을 중심으로 일정 반경을 갖도록 회전시키기 위한 제3 회전수단
    을 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 측정수단은,
    상기 벡터 네트워크 분석수단에서 획득된 방사 패턴 데이터와 상기 피측정 안테나에 대한 푸리에 계수에 기반하여 원역장 방사 패턴을 계산하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 벡터 네트워크 분석수단은,
    상기 기준 안테나 또는 상기 피측정 안테나 중 어느 하나의 안테나로 RF 신호를 출력하고, 상기 RF 신호를 출력하지 않은 안테나로부터 RF 신호를 입력받아 복소수 값(복소수 전계 값)을 검출하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 측정수단은,
    상기 벡터 네트워크 분석수단에 의해 검출된 복소수 전계 값에 푸리에 계수를 곱하고 상기 곱한 값을 합산하여 원역장 방사 패턴을 계산하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 복소수 전계 값은,
    상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 거리만큼 떨어진 구면의 여러 점들의 프레넬 영역에서의 복소수 전계 값인 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템.
  8. 안테나 방사 패턴 측정 방법에 있어서,
    측정 각도에 따라 기준 안테나와 피측정 안테나의 각도를 변경시키는 각도 변경 단계;
    상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 RF 신호 송/수신에 따른 방사 패턴 데이터를 획득하는 방사 패턴 데이터 획득 단계;
    측정하고자 하는 각도에 대하여 상기 방사 패턴 데이터 획득 단계를 반복 수행하여 방사 패턴 데이터를 획득하는 단계; 및
    상기 획득한 방사 패턴 데이터를 이용하여 원역장 방사 패턴을 측정하는 측정 단계
    를 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 각도 변경 단계는,
    측정 각도에 따라 상기 기준 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키는 단계;
    측정 각도에 따라 상기 피측정 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키는 단계; 및
    상기 피측정 안테나를 수직축을 중심으로 일정 반경을 갖도록 회전시키는 단계
    를 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 측정 단계는,
    상기 획득한 방사 패턴 데이터와 상기 피측정 안테나에 대한 푸리에 계수에 기반하여 원역장 방사 패턴을 계산하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 측정 단계는,
    상기 획득한 방사 패턴 데이터 즉, 복소수 전계 값에 푸리에 계수를 곱하고 상기 곱한 값을 합산하여 원역장 방사 패턴을 계산하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법.
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