KR102454716B1 - Evaporation Apparatus for Deposition of Different Kind of Materials - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판에 증착물질을 증착시키는 증착챔버의 증발장치에 관한 것으로 본 발명에 따르면, 증착물질을 소정의 기판에 증착시켜주기 위한 증착챔버 내에 마련되는 증발장치로서, 상측이 개방되어 있고, 서로 다른 이종의 증착물질을 구분하여 수용할 수 있으며, 증착물질이 증발될 수 있도록 열을 상기 증착물질 측으로 전달하는 도가니부; 및 적어도 일부 부분이 상기 도가니부의 외측면에 근접 또는 접하여 배치되며, 외부로부터 에너지를 공급받아서 상기 도가니부 측으로 열을 공급하는 히터부; 를 포함하므로, 기판에 대하여 증착시킬 이종의 증착물질의 증착균일도와 증착물질균질도를 향상 또는 증진시켜줄 수 있는 기술이 개시된다. The present invention relates to an evaporation apparatus for a deposition chamber for depositing a deposition material on a substrate. a crucible unit capable of separately accommodating different types of deposition materials, and transferring heat to the deposition materials so that the deposition materials are evaporated; and a heater part at least partially disposed adjacent to or in contact with an outer surface of the crucible part, and receiving energy from the outside to supply heat to the crucible part. Since it includes, a technique capable of improving or enhancing the deposition uniformity and the deposition material homogeneity of different types of deposition materials to be deposited on the substrate is disclosed.

Description

이종증착물질 증착을 위한 증발장치{Evaporation Apparatus for Deposition of Different Kind of Materials}Evaporation Apparatus for Deposition of Different Kind of Materials

본 발명은 반도체 또는 디스플레이장치 제조공정상 기판에 이종의 증착물질을 증착시키기 위한 증착챔버 내에 마련되는 증발장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하나의 증발장치로서 이종(異種)의 증착물질을 동시에 독립적으로 증발시켜줄 수 있는 점(point) 증발장치에 관한 것이다. The present invention relates to an evaporation device provided in a deposition chamber for depositing different kinds of deposition materials on a substrate in a semiconductor or display device manufacturing process, and more particularly, as one evaporation device, different kinds of deposition materials are simultaneously and independently deposited. It relates to a point evaporator that can evaporate.

유기발광소자 제조에 있어서, 기판 상에 이종의 증착물질을 혼합 증착시켜주는 공정은 필요에 따라 증착챔버 내에 마련되는 점(point)증발장치 또는 선형(linear)증발장치를 선택적으로 이용하여 이루어지게 된다. In manufacturing an organic light emitting device, a process of mixing and depositing different types of deposition materials on a substrate is performed by selectively using a point evaporator or a linear evaporator provided in the deposition chamber, if necessary. .

이 중 점증발장치를 이용하여 기판에 증착물질을 증착시켜주는 기술에 관련하여 대한민국 등록특허 제10-1480141호(발명의 명칭 : 유기재료 사용효율 증대를 위한 증발원 이하 선행기술)에서는 점증발치에서 증착물질인 유기재료의 낭비를 억제하여 증착의 효율성을 도모하고자하는 기술이 개시되어 있다. Among these, in relation to the technology of depositing a deposition material on a substrate using an incremental evaporation device, Korean Patent Registration No. 10-1480141 (Title of the Invention: Evaporation Source for Increase of Use Efficiency of Organic Materials, below Prior Art) relates to the deposition in the incremental evaporation device. Disclosed is a technique for improving the efficiency of deposition by suppressing the waste of organic materials, which are substances.

그러나, 이러한 점증발장치에 따르면, 다음과 같은 문제점이 있었다. However, according to such an evaporator, there were the following problems.

서로 다른 종류의 증착물질 즉, 이종의 증착물질을 기판상에 고르게 혼합증착시키기 위해서, 하나의 점증발장치에 한 종류의 증착물질이 수용되므로, 이러한 점증발장치가 둘 이상 장착된 증착챔버 내에서 이루어지게 된다.In order to evenly mix and deposit different types of deposition materials, that is, different types of deposition materials on the substrate, one type of deposition material is accommodated in one point evaporation device, so that in a deposition chamber in which two or more of these point evaporation devices are mounted. will be done

하나의 위치에 둘 이상의 점증발장치가 동시에 놓일 수가 없으므로, 일정간격 이격되어 점증발장치가 배치되며, 이로 인해 각기 다른 점증발장치에서 증발된 이종의 증착물질들이 기판에 증착되기 전에 고르게 혼합되기 어렵다는 문제점이 있었다. 즉, 증착물질의 혼합균질도를 일정수준이상 확보하기가 곤란한 문제점이 있었다. 이종의 증착물질의 혼합균질도는 제품의 품질에 직결되는 문제이므로 실로 중요한 문제점이었다.Since two or more point evaporators cannot be placed at the same time in one position, the point evaporators are spaced apart from each other by a certain interval, and this makes it difficult to evenly mix different types of deposition materials evaporated from different point evaporators before being deposited on the substrate. There was a problem. That is, there was a problem in that it was difficult to secure the mixing homogeneity of the deposition material above a certain level. The homogeneity of mixing of different types of deposition materials was a problem that was directly related to the quality of the product, so it was a really important problem.

따라서, 점증발장치를 이용하여 이종의 증착물질을 증착시키고자 할 때 이종의 증착물질의 혼합균질도를 증대시킬 수 있는 기술이 요구되고 있었다.Accordingly, there has been a need for a technique capable of increasing the homogeneity of mixing of different types of deposition materials when depositing different types of deposition materials using a point evaporation device.

대한민국 등록특허 제10-1480141호Republic of Korea Patent No. 10-1480141 대한민국 공개특허 제10-2006-0094576호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2006-0094576

본 발명의 목적은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 증발장치의 하나의 도가니로부터 이종(異種)의 증착물질을 독립적으로 함께 증발시켜줄 수 있는 증착물질 증착을 위한 증발장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and to provide an evaporation apparatus for depositing a deposition material capable of evaporating together different types of deposition materials independently from one crucible of the evaporation device.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 이종증착물질 증발장치는 증착물질을 소정의 기판에 증착시켜주기 위한 증착챔버 내에 마련되는 증발장치로서, 상측이 개방되어 있고, 이종(異種)의 증착물질을 구분하여 수용할 수 있으며, 증착물질이 증발될 수 있도록 열을 상기 증착물질 측으로 전달하는 도가니부; 및 적어도 일부 부분이 상기 도가니부의 외측면에 근접 또는 접하도록 배치되며, 외부로부터 전기에너지를 공급받아서 상기 도가니부 측으로 열을 공급하는 히터부; 를 포함하는 것을 하나의 특징으로 할 수도 있다. A heterogeneous deposition material evaporation apparatus according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is an evaporation apparatus provided in a deposition chamber for depositing a deposition material on a predetermined substrate, the upper side is open, ) of the deposition material can be separately accommodated, and a crucible unit that transfers heat to the deposition material side so that the deposition material is evaporated; and a heater part at least a portion of which is disposed so as to be close to or in contact with the outer surface of the crucible part, and supplies heat to the crucible part by receiving electric energy from the outside. It may be characterized as one of including.

여기서, 상기 이종의 증착물질은 증발온도가 서로 다른 제1증착물질 및 제2증착물질이고, 상기 도가니부는, 상기 제1증착물질이 수용되는 공간을 제공하며, 상기 제1증착물질의 증발이 이루어지는 제1증발실; 및 상기 제2증착물질이 수용되는 공간을 제공하며, 상기 제2증착물질의 증발이 이루어지는 제2증발실; 을 포함하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Here, the heterogeneous deposition material is a first deposition material and a second deposition material having different evaporation temperatures, and the crucible unit provides a space in which the first deposition material is accommodated, and the first deposition material is evaporated. first evaporator; and a second evaporation chamber providing a space in which the second deposition material is accommodated, and in which the second deposition material is evaporated. It may be characterized as another feature to include.

나아가, 상기 제1증발실 및 상기 제2증발실의 상측에는, 상기 제1증발실에서 증발된 상기 제1증착물질 및 상기 제2증발실에서 증발된 제2증착물질이 혼합될 수 있는 혼합공간이 마련되어 있는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, on the upper side of the first evaporation chamber and the second evaporation chamber, a mixing space in which the first evaporation material evaporated in the first evaporation chamber and the second evaporation material evaporated in the second evaporation chamber can be mixed This provision may be another feature.

더 나아가, 상기 제1증발실은 상측이 개방된 실린더의 형태를 갖추고 있고, 상기 제2증발실은 상측이 개방된 실린더의 형태를 갖추고 있으며, 상기 제2증발실의 횡단면의 크기보다 상기 제1증발실의 횡단면의 크기가 더 작으며, 상기 제2증발실의 내측에 상기 제1증발실이 위치하고 있는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Furthermore, the first evaporation chamber has a shape of a cylinder with an open upper side, and the second evaporation chamber has a shape of a cylinder with an open upper side, and the size of the cross section of the second evaporation chamber is larger than that of the first evaporation chamber. has a smaller cross-section, and may be further characterized in that the first evaporation chamber is located inside the second evaporation chamber.

더 나아가, 상기 제1증발실 내측의 바닥면보다 상기 제2증발실의 바닥면이 높은 위치에 있도록 배치된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Furthermore, it may be further characterized in that the bottom surface of the second evaporation chamber is disposed at a higher position than the floor surface inside the first evaporation chamber.

더 나아가, 상기 히터부는 상기 제1증발실의 외측의 적어도 일부분을 커버하도록 배치되며, 상기 제1증착물질이 증발되도록 상기 제1증발실 측으로 열을 공급하는 제1증발히터 및 상기 제2증발실의 외측의 적어도 일부분을 커버하도록 배치되며, 상기 제2증착물질이 증발되도록 상기 제2증발실 측으로 열을 공급하는 제2증발히터 를 포함하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Furthermore, the heater unit is disposed to cover at least a portion of the outer side of the first evaporation chamber, and a first evaporation heater and a second evaporation chamber for supplying heat to the first evaporation chamber so that the first evaporation material is evaporated. It is arranged to cover at least a portion of the outer side of the, it may be another feature to include a second evaporation heater for supplying heat to the second evaporation chamber side so that the second evaporation material is evaporated.

여기서, 상기 제1증발히터의 외측에서 상기 제1증발히터 또는 상기 제1증발실을 커버하도록 배치되며, 상기 제1증발히터에서 발생된 열 또는 상기 제1증발실 측에서 방출되는 열을 제1증발실 측으로 반사시켜주는 제1리플렉터가 마련된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Here, it is disposed to cover the first evaporative heater or the first evaporating chamber from the outside of the first evaporative heater, and heat generated from the first evaporative heater or heat emitted from the first evaporative chamber is first discharged Another feature may be that a first reflector is provided to reflect the evaporative chamber side.

나아가, 상기 제1증발히터에서 발생된 열 또는 상기 제1증발실 측에서 방출되는 열이 외부로 방출되는 것을 억제하기 위한 제1냉각장치가 상기 제1리플렉터의 외측을 커버하도록 배치된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Furthermore, a first cooling device for suppressing the heat generated by the first evaporation heater or heat emitted from the side of the first evaporation chamber from being emitted to the outside is disposed to cover the outside of the first reflector. can also be characterized as

또한, 상기 제2증발히터의 외측에서 상기 제2증발히터 또는 상기 제2증발실을 커버하도록 배치되며, 상기 제2증발히터에서 발생된 열 또는 상기 제2증발실 측에서 방출되는 열을 제2증발실 측으로 반사시켜주는 제2리플렉터가 마련된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. In addition, it is disposed to cover the second evaporation heater or the second evaporation chamber from the outside of the second evaporation heater, and heat generated by the second evaporation heater or heat emitted from the second evaporation chamber side Another feature may be that a second reflector is provided to reflect it toward the evaporation chamber.

나아가, 상기 제2증발히터에서 발생된 열 또는 상기 제2증발실 측에서 방출되는 열이 외부로 방출되는 것을 억제하기 위한 제2냉각장치가 상기 제2리플렉터의 외측을 커버하도록 배치된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Furthermore, a second cooling device for suppressing the heat generated by the second evaporation heater or heat emitted from the second evaporation chamber from being emitted to the outside is arranged to cover the outside of the second reflector. can also be characterized as

여기서, 상기 도가니부의 상측에 마련되며, 상기 도가니부 측으로부터 증발된 상기 증착물질이 기판에 균일하게 증착될 수 있도록 상기 기판 측으로 이동하는 상기 증착물질을 확산시켜주는 확산부; 를 더 포함하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Here, a diffusion unit provided on the upper side of the crucible unit to diffuse the deposition material moving toward the substrate so that the deposition material evaporated from the crucible part can be uniformly deposited on the substrate; It may be characterized as another feature to further include.

나아가, 상기 확산부는, 상기 도가니부의 상측단에 배치되며, 상기 증착물질이 상기 기판 측으로 이동될 수 있도록 홀이 형성된 배플; 상기 배플의 상측에 배치되어 상기 배플의 지지를 받으며, 상기 도가니부 측으로부터 증발된 상기 증착물질이 상기 기판 측으로 이동하면서 공간상에 확산될 수 있도록 상기 증착물질의 이동방향을 가이드하는 확산기; 및 상측의 폭보다 하측의 폭이 좁은 원추형태를 적어도 일부분에서 갖추고 있으며, 상기 배플의 상측에 배치되되 상기 확산기의 내측 가운데에 배치되어 상기 배플의 지지를 받으며, 상기 확산기와 함께 상기 증착물질이 확산될 수 있도록 상기 증착물질의 이동방향을 가이드 하는 확산기헤드; 를 포함하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, the diffusion unit may include: a baffle disposed at an upper end of the crucible unit and having a hole formed therein so that the deposition material can be moved toward the substrate; a diffuser disposed on the upper side of the baffle and supported by the baffle, the diffuser guiding the movement direction of the deposition material so that the deposition material evaporated from the crucible part can be diffused in space while moving toward the substrate; and a cone shape having a lower width narrower than the upper width, at least in part, disposed above the baffle and disposed in the inner center of the diffuser to be supported by the baffle, and the deposition material is diffused together with the diffuser a diffuser head for guiding the movement direction of the deposition material so as to be It may be characterized as another feature to include.

본 발명에 따른 이종증착물질 증착을 위한 증발장치는 하나의 도가니부에서 이종의 증착물질이 각기 증발되어 혼합된 후 기판 측으로 배출되므로 기판상에 증착되는 이종 증착물질의 혼합균질도가 더욱 향상되고 기판에 이종의 증착물질이 균질하게 증착되므로 제품의 품질을 향상 또는 증진시켜주는 효과가 있다.In the evaporation apparatus for depositing a heterogeneous deposition material according to the present invention, the different types of deposition materials are evaporated and mixed in one crucible and discharged to the substrate side, so that the mixing homogeneity of the heterogeneous deposition materials deposited on the substrate is further improved and the substrate Since different types of deposition materials are uniformly deposited on the

도 1의 본 발명에 따른 이종증착물질 증착을 위한 증발장치의 측단면을 개략적으로 나타낸 측단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 이종증착물질 증착을 위한 증발장치.를 개략적으로 나타낸 일부분해사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 이종증착물질 증착을 위한 증발장치.의 도가니부의 측단면을 개략적으로 나타낸 측단면도이다. 1 is a side cross-sectional view schematically showing a side cross-section of an evaporation apparatus for depositing a heterogeneous deposition material according to the present invention.
2 is a partial perspective view schematically showing an evaporation apparatus for depositing a heterogeneous deposition material according to an embodiment of the present invention.
3 is a side cross-sectional view schematically showing a side cross-section of a crucible part of an evaporation apparatus for depositing a heterogeneous deposition material according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명에 대하여 보다 구체적으로 이해할 수 있도록 첨부된 도면을 참조한 바람직한 실시 예를 들어 설명하기로 한다. Hereinafter, a preferred embodiment will be described with reference to the accompanying drawings so that the present invention can be understood in more detail.

도 1의 본 발명의 실시 예에 따른 이종증착물질 증착을 위한 증발장치.의 측단면을 개략적으로 나타낸 측단면도이고, 도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 이종증착물질 증착을 위한 증발장치.를 개략적으로 나타낸 일부분해사시도이며, 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 이종증착물질 증착을 위한 증발장치.의 도가니부의 측단면을 개략적으로 나타낸 측단면도이다. 1 is a side cross-sectional view schematically showing a side cross-section of an evaporation apparatus for depositing a heterogeneous deposition material according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an evaporation apparatus for depositing a heterogeneous deposition material according to an embodiment of the present invention. It is a schematic partial isometric view, and FIG. 3 is a side cross-sectional view schematically showing a side cross-section of a crucible part of an evaporation apparatus for depositing a heterogeneous deposition material according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 이종증착물질 증착을 위한 증발장치는 증착물질을 소정의 기판에 증착시켜주기 위한 증착챔버 내에 마련되는 증발장치로서, 도가니부 및 히터부를 포함하여 이루어지며, 바람직하게는 확산부를 더 포함하여 이루어진다. 1 to 3 , an evaporation apparatus for depositing a heterogeneous deposition material according to an embodiment of the present invention is an evaporation apparatus provided in a deposition chamber for depositing a deposition material on a predetermined substrate, and includes a crucible part and a heater part. It is made to include, preferably made to further include a diffusion unit.

도가니부(100)는 상측이 개방되어 있고, 서로 다른 이종(異種)의 증착물질(M1,M2)을 구분하여 수용할 수 있으며, 증착물질(M1,M2)이 증발될 수 있도록 열을 증착물질 측으로 전달한다.The crucible part 100 has an open upper side, and can receive different types of deposition materials M1 and M2 separately, and heat is applied to the deposition materials so that the deposition materials M1 and M2 are evaporated. pass to the side

여기서 이종의 증착물질(M1,M2)은 서로 다른 종류의 증착물질을 말하며, 각기 제1증착물질(M1), 제2증착물질(M2)로 구분하여 표현할 수 있다. 이러한 제1증착물질(M1)과 제2증착물질(M2)은 서로 다른 종류이므로 증발온도가 서로 다르다. Here, the heterogeneous deposition materials M1 and M2 refer to different types of deposition materials, and may be divided into a first deposition material M1 and a second deposition material M2, respectively. Since the first deposition material M1 and the second deposition material M2 are different types, evaporation temperatures are different from each other.

본 실시 예에서는 제1증착물질(M1)의 증발온도보다 제2증착물질(M2)의 증발온도가 더 높으며, 상대적으로 낮은 증발온도를 갖는 제1증착물질(M1)이 후술할 제1증발실(110)에 수용되어 증발되고, 상대적으로 높은 증발온도를 갖는 제2증착물질(M2)이 후술할 제2증발실(130)에 수용되어 증발된다.In this embodiment, the evaporation temperature of the second deposition material M2 is higher than the evaporation temperature of the first deposition material M1, and the first deposition material M1 having a relatively low evaporation temperature has a first evaporation chamber to be described later. The second deposition material M2 that is accommodated and evaporated in 110 and has a relatively high evaporation temperature is accommodated in a second evaporation chamber 130 to be described later and evaporated.

이러한 도가니부(100)는 제1증발실(110) 및 제2증발실(130)을 포함하여 이루어진 것이 바람직하다. It is preferable that the crucible unit 100 includes a first evaporation chamber 110 and a second evaporation chamber 130 .

제1증발실(110)은 제1증착물질(M1)이 수용되는 공간을 제공하며, 제1증발실(110)에서 제1증착물질(M1)의 증발이 이루어진다. 그리고, 제1증발실(110)은 상측이 개방된 실린더의 형태를 갖추고 있는 것이 바람직하다.The first evaporation chamber 110 provides a space in which the first evaporation material M1 is accommodated, and the first evaporation material M1 is evaporated in the first evaporation chamber 110 . And, it is preferable that the first evaporation chamber 110 has the shape of a cylinder with an open upper side.

제2증발실(130)은 제2증착물질(M2)이 수용되는 공간을 제공하며, 제2증발실(130)에서 제2증착물질(M2)의 증발이 이루어진다. 제2증발실(130)은 상측이 개방된 실린더의 형태를 갖추고 있되, 제1증발실(110)의 횡단면의 크기가 상기 제2증발실(130)의 횡단면보다 작은 것이 바람직하다. The second evaporation chamber 130 provides a space in which the second evaporation material M2 is accommodated, and the second evaporation material M2 is evaporated in the second evaporation chamber 130 . The second evaporation chamber 130 has a shape of a cylinder with an open upper side, and the size of the cross section of the first evaporation chamber 110 is preferably smaller than the cross section of the second evaporation chamber 130 .

즉, 제2증발실(130)의 내측에 제1증발실(110)이 위치하고 있을 수 있도록 제2증발실(130)의 횡단면의 크기보다 제1증발실(110)의 횡단면의 크기가 더 작은 것이 바람직하다는 것이다. That is, the size of the cross section of the first evaporation chamber 110 is smaller than the size of the cross section of the second evaporation chamber 130 so that the first evaporation chamber 110 can be located inside the second evaporation chamber 130 . that it is preferable

그리고, 제1증발실(110)의 길이방향 중심축과 제2증발실(130)의 길이방향 중심축이 일치하도록 제1증발실(110)이 제2증발실(130)의 가운데에 배치된 것이 바람직하다. 이와 같이 제1증발실(110)과 제2증발실(130)이 배치되면, 증발된 제1증착물질(M1) 및 제2증착물질(M2)이 후술할 혼합공간(170)에서 좀 더 균질하게 혼합될 수 있으므로 바람직하다. In addition, the first evaporation chamber 110 is disposed in the middle of the second evaporation chamber 130 so that the longitudinal central axis of the first evaporation chamber 110 and the longitudinal central axis of the second evaporation chamber 130 coincide. it is preferable When the first evaporation chamber 110 and the second evaporation chamber 130 are arranged in this way, the evaporated first evaporation material M1 and the second evaporation material M2 are more homogeneous in the mixing space 170 to be described later. It is preferable because it can be mixed well.

또한, 제1증발실(110) 내측의 바닥면보다 제2증발실(130)의 바닥면이 높은 위치에 있도록 배치된 것이 바람직하다. 그리고, 제1증발실(110) 내측에 수용된 제1증착물질(M1)의 상측 표면보다 제2증발실(130) 내측의 바닥면이 높은 위치에 있도록 제1증착물질(M1)을 제1증발실(110) 내에 수용시키는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the bottom surface of the second evaporation chamber 130 is disposed at a higher position than the bottom surface of the inner side of the first evaporation chamber 110 . Then, the first evaporation material M1 is first evaporated so that the bottom surface inside the second evaporation chamber 130 is higher than the upper surface of the first evaporation material M1 accommodated inside the first evaporation chamber 110 . It is preferable to accommodate in the chamber (110).

이처럼 제1증발실(110) 내측의 바닥면보다 제2증발실(130)의 바닥면이 높은 위치에 있도록 배치되면, 제1증발실(110)과 제2증발실(130) 상호간에 열적 영향 또는 간섭이 없도록 열적으로 격리 또는 독립시켜주는 데 도움이 될 수 있으므로 바람직하다. As such, when the bottom surface of the second evaporation chamber 130 is disposed at a higher position than the floor surface inside the first evaporation chamber 110, the thermal effect between the first evaporation chamber 110 and the second evaporation chamber 130 or This is desirable because it can help to isolate or isolate them thermally so that there is no interference.

이러한 제2증발실(130)은 제1증발실(110)보다 높은 온도로 데워져서 제2증착물질(M2)를 증발시켜주며, 제1증발실(110)은 제1증착물질(M1)이 증발될 수 있는 온도로 후술할 제1증발히터(210)에 의해 가열된다.This second evaporation chamber 130 is heated to a higher temperature than the first evaporation chamber 110 to evaporate the second deposition material (M2), the first evaporation chamber 110 is the first deposition material (M1) It is heated by the first evaporation heater 210 to be described later to a temperature that can be evaporated.

그리고, 도가니부(100)의 내측으로서, 제1증발실(110) 및 제2증발실(130)의 상측에는 제1증발실(110)에서 증발된 제1증착물질(M1) 및 제2증발실(130)에서 증발된 제2증착물질(M2)이 혼합될 수 있는 혼합공간(170)이 마련되어 있는 것이 바람직하다. And, as the inner side of the crucible part 100, the first evaporation chamber 110 and the second evaporation chamber 130, the first evaporation material (M1) and the second evaporation material evaporated in the first evaporation chamber (110) It is preferable that a mixing space 170 in which the second deposition material M2 evaporated from the chamber 130 is mixed is provided.

제1증발실(110)에서 증발된 제1증착물질(M1)과 제2증발실(130)에서 증발된 제2증착물질(M2)이 혼합공간(170)에서 만나 서로 혼합되어지며, 혼합공간(170)에서 혼합된 제1증착물질(M1) 및 제2증착물질(M2)은 후술할 확산부에 의해 고르게 확산되어 기판측으로 이동되어 증착될 수 있게 된다.The first deposition material M1 evaporated in the first evaporation chamber 110 and the second deposition material M2 evaporated in the second evaporation chamber 130 meet in the mixing space 170 and are mixed with each other, and the mixing space The first deposition material M1 and the second deposition material M2 mixed in step 170 are uniformly diffused by a diffusion unit, which will be described later, and moved toward the substrate to be deposited.

히터부는 적어도 일부 부분이 도가니부(100)의 외측면에 근접 또는 접하도록 배치되며, 외부로부터 전기에너지를 공급받아서 상기 도가니부(100) 측으로 열을 공급하여준다. At least a portion of the heater unit is disposed to be close to or in contact with the outer surface of the crucible unit 100 , and receives electric energy from the outside to supply heat to the crucible unit 100 side.

이러한 히터부는 제1증발히터(210) 및 제2증발히터(230)를 포함하여 이루어진다. The heater unit includes a first evaporative heater 210 and a second evaporative heater 230 .

제1증발히터(210)는 제1증발실(110)의 외측의 적어도 일부분을 커버하도록 배치되며, 제1증착물질(M1)이 증발되도록 제1증발실(110) 측으로 열을 공급한다. 제1증발히터(210)에 의해 제1증발실(110)측으로 공급된 열은 제1증착물질(M1)의 온도를 상승시키어 증발되도록 한다.The first evaporation heater 210 is disposed to cover at least a portion of the outside of the first evaporation chamber 110, and supplies heat to the first evaporation chamber 110 so that the first evaporation material M1 is evaporated. The heat supplied to the first evaporation chamber 110 by the first evaporation heater 210 increases the temperature of the first evaporation material M1 to be evaporated.

그리고, 제2증발히터(230)는 제2증발실(130)의 외측의 적어도 일부분을 커버하도록 배치되며, 제2증착물질(M2)이 증발되도록 제2증발실(130) 측으로 열을 공급한다. 제2증발히터(230)에 의해 제2증발실(130)측으로 공급된 열은 제2증착물질(M2)의 온도를 상승시키어 증발되도록 한다.In addition, the second evaporation heater 230 is disposed to cover at least a portion of the outside of the second evaporation chamber 130, and supplies heat to the second evaporation chamber 130 so that the second evaporation material M2 is evaporated. . The heat supplied to the second evaporation chamber 130 by the second evaporation heater 230 increases the temperature of the second evaporation material M2 to be evaporated.

제1증발히터(210)와 제2증발히터(230)는 각기 독립적으로 열을 발생시킬 수 있다. 따라서 제1증발히터(210)와 제2증발히터(230)는 각기 발생시키는 열량이 다를 수 있으며, 제1증발히터(210)와 제2증발히터(230)를 개별적으로 제어하여 제1증발실(110)의 온도와 제2증발실(130)의 온도를 제어하는 제어부의 제어에 따라 독립적으로 열을 발생시켜 공급하게 된다.The first evaporation heater 210 and the second evaporation heater 230 may each independently generate heat. Accordingly, the first evaporative heater 210 and the second evaporative heater 230 may each generate different amounts of heat, and the first evaporative heater 210 and the second evaporative heater 230 are individually controlled to control the first evaporative chamber. Heat is independently generated and supplied according to the control of the controller for controlling the temperature of 110 and the temperature of the second evaporation chamber 130 .

그리고, 제1리플렉터(310)는 제1증발히터(210)의 외측에서 제1증발히터(210) 또는 제1증발실(110)을 커버하도록 배치된다. 이러한 제1리플렉터(310)는 제1증발히터(210)에서 발생된 열 또는 제1증발실(110) 측에서 방출되는 열을 제1증발실(110) 측으로 반사시켜준다. 따라서, 제1증발히터(210)가 제1증발실(110)의 온도를 유지 또는 상승시키는데 필요한 전기에너지가 절약될 수 있다. In addition, the first reflector 310 is disposed to cover the first evaporation heater 210 or the first evaporation chamber 110 from the outside of the first evaporation heater 210 . The first reflector 310 reflects heat generated by the first evaporation heater 210 or heat emitted from the first evaporation chamber 110 toward the first evaporation chamber 110 . Accordingly, electrical energy required for the first evaporation heater 210 to maintain or increase the temperature of the first evaporation chamber 110 can be saved.

이러한 제1리플렉터(310)의 외측에 제1냉각장치(410)가 마련된 것이 바람직하다. It is preferable that the first cooling device 410 is provided outside the first reflector 310 .

즉, 제1냉각장치(410)는 제1증발히터(210)에서 발생된 열 또는 제1증발실(110) 측에서 방출되는 열이 외부로 방출되는 것을 억제하기 위한 것이다. That is, the first cooling device 410 is to suppress the heat generated by the first evaporation heater 210 or the heat emitted from the side of the first evaporation chamber 110 from being discharged to the outside.

제1냉각장치(410)는 제1리플렉터(310)의 외측을 커버하도록 배치된 것이 바람직하다. 제1냉각장치(410)는 냉각수가 이동하는 냉각파이프가 내재된 냉각플레이트로 이루어질 수도 있으며, 냉각재로 이루어질 수도 있다. The first cooling device 410 is preferably arranged to cover the outside of the first reflector 310 . The first cooling device 410 may be formed of a cooling plate having a cooling pipe through which the cooling water moves, or may be formed of a coolant.

제2리플렉터(330)는 제2증발히터(230)의 외측에서 제2증발히터(230) 또는 제2증발실(130)을 커버하도록 배치된다. 이러한 제2리플렉터(330)는 제2증발히터(230)에서 발생된 열 또는 제2증발실(130) 측에서 방출되는 열을 제2증발실(130) 측으로 반사시켜준다. 따라서, 제2증발히터(230)가 제2증발실(130)의 온도를 유지 또는 상승시키는데 필요한 전기에너지가 절약될 수 있다. The second reflector 330 is disposed to cover the second evaporation heater 230 or the second evaporation chamber 130 from the outside of the second evaporation heater 230 . The second reflector 330 reflects the heat generated by the second evaporation heater 230 or heat emitted from the second evaporation chamber 130 toward the second evaporation chamber 130 . Accordingly, electrical energy required for the second evaporation heater 230 to maintain or increase the temperature of the second evaporation chamber 130 can be saved.

이러한 제2리플렉터(330)의 외측에 제2냉각장치(430)가 마련된 것이 바람직하다.It is preferable that the second cooling device 430 is provided outside the second reflector 330 .

제2냉각장치(430)는 제2증발히터(230)에서 발생된 열 또는 제2증발실(130) 측에서 방출되는 열이 외부로 방출되는 것을 억제하기 위한 것이다. The second cooling device 430 is to suppress heat generated by the second evaporation heater 230 or heat emitted from the second evaporation chamber 130 from being discharged to the outside.

이러한 제2냉각장치(430)는 제2리플렉터(330)의 외측을 커버하도록 배치된 것이 바람직하다. 제2냉각장치(430)는 냉각수가 이동하는 냉각파이프가 내재된 냉각플레이트로 이루어질 수도 있으며, 냉각재로 이루어질 수도 있다. The second cooling device 430 is preferably arranged to cover the outside of the second reflector 330 . The second cooling device 430 may be formed of a cooling plate having a cooling pipe through which the cooling water moves, or may be formed of a coolant.

확산부는 도가니부(100)의 상측에 마련되며, 도가니부(100) 측으로부터 증발된 증착물질(M1,M2)이 기판에 균일하게 증착될 수 있도록 기판 측으로 이동하는 증착물질을 확산시켜준다.The diffusion part is provided on the upper side of the crucible part 100 and diffuses the deposition material moving toward the substrate so that the deposition materials M1 and M2 evaporated from the crucible part 100 can be uniformly deposited on the substrate.

이러한 확산부는 배플(510), 확산기(530) 및 확산기헤드(550)를 포함한다.This diffuser includes a baffle 510 , a diffuser 530 and a diffuser head 550 .

배플(510)은 도가니부(100)의 상측단에 배치되며, 증발되어 혼합된 이종 증착물질(M1,M2)이 기판 측으로 이동될 수 있도록 홀(513)이 형성되어 있다. 이러한 배플(510)은 상측에 배치되는 확산기(530) 및 확산기헤드(550)를 지지하여 준다.The baffle 510 is disposed on the upper end of the crucible unit 100 , and a hole 513 is formed so that the vaporized and mixed heterogeneous deposition materials M1 and M2 can be moved toward the substrate. The baffle 510 supports the diffuser 530 and the diffuser head 550 disposed on the upper side.

확산기(530)는 배플(510)의 상측에 배치되어 배플(510)의 지지를 받으며, 도가니부(100) 측으로부터 증발되어 혼합된 이종 증착물질(M1,M2)이 기판 측으로 이동하면서 공간상에 확산될 수 있도록 증착물질(M1,M2)의 이동방향을 가이드한다. The diffuser 530 is disposed on the upper side of the baffle 510 and supported by the baffle 510 , and the dissimilar deposition materials M1 and M2 evaporated and mixed from the crucible part 100 side move toward the substrate in space. The movement directions of the deposition materials M1 and M2 are guided so that they can be diffused.

확산기헤드(550)는 도면에서 참조되는 바와 같이 상측의 폭보다 하측의 폭이 좁은 원추형태를 적어도 일부분에서 갖추고 있는 것이 바람직하다. As shown in the drawings, the diffuser head 550 preferably has at least a portion of a conical shape that is narrower at the lower side than at the upper side.

그리고 이러한 확산기헤드(550)는 배플(510)의 상측에 배치되되 확산기(530)의 내측 가운데에 배치된다. 설계상의 필요에 따라서는 배플(510)의 상측에 접하여 직접 지지를 받을 수도 있으며, 확산기헤드(550)의 일부 부분이 확산기(530)에 걸쳐지는 결합을 통해 확산기(530)의 지지를 받는 것 또한 가능하다.In addition, the diffuser head 550 is disposed on the upper side of the baffle 510 and disposed at the inner center of the diffuser 530 . Depending on design needs, it may be directly supported by contacting the upper side of the baffle 510 , and a portion of the diffuser head 550 may be supported by the diffuser 530 through a coupling that spans the diffuser 530 . It is possible.

그리고, 기판에 증착물질(M1,M2)이 증착되는 두께가 균일하게 되도록 확산기 헤드(550)의 상측단의 직경과 원추형태에서 상측단과 하측단 사이의 높이차를 조절 또는 설정하여 주는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable to adjust or set the diameter of the upper end of the diffuser head 550 and the height difference between the upper end and the lower end in a cone shape so that the thickness at which the deposition materials M1 and M2 are deposited on the substrate is uniform. .

이러한 확산기헤드(550)는 확산기(530)와 함께 증착물질이 확산될 수 있도록 증착물질(M1,M2)의 이동방향을 가이드 한다. The diffuser head 550 guides the movement direction of the deposition materials M1 and M2 so that the deposition material can be diffused together with the diffuser 530 .

즉, 도면에서 참조되는 바와 같이 확산기(530)의 내측으로 확산기헤드(550)가 배치되면서 확산기(530)와 확산기헤드(550) 사이에는 증발구(540)가 형성된다. 도가니부(100)에서 증발되어 혼합된 증착물질(M1,M2)이 이 증발구(540)를 통해 배출되며, 기판측으로 이동되어 증착된다.That is, as the diffuser head 550 is disposed inside the diffuser 530 as shown in the drawings, an evaporation port 540 is formed between the diffuser 530 and the diffuser head 550 . The deposition materials M1 and M2 evaporated and mixed in the crucible part 100 are discharged through the evaporator 540 , and are moved toward the substrate and deposited.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 이종증착물질 증착을 위한 증발장치는 하나의 도가니부에서 이종의 증착물질이 증발되어 혼합된 후 기판측으로 배출되므로 기판상에 증착되는 이종 증착물질의 혼합균질도가 더욱 향상된다. As described above, in the evaporation apparatus for depositing a heterogeneous deposition material according to the present invention, the heterogeneous deposition material is evaporated and mixed in one crucible and discharged to the substrate side, so that the mixing homogeneity of the heterogeneous deposition material deposited on the substrate is further improved

따라서 기판에 이종의 증착물질이 균질하게 증착되므로 제품의 품질을 향상 또는 증진시켜줄 수 있다는 장점이 있다. Therefore, there is an advantage in that the quality of the product can be improved or improved because different types of deposition materials are uniformly deposited on the substrate.

나아가, 기판의 중심선상에 증발장치를 배치시킬 수 있으므로 증착균일도를 위해 기판을 회전시켜주지 않아도 증착균일도를 향상시켜줄 수 있게 된다는 장점 또한 있다. Furthermore, since the evaporation device can be disposed on the center line of the substrate, there is also an advantage that the deposition uniformity can be improved without rotating the substrate for deposition uniformity.

이상에서 설명된 바와 같이, 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시 예들에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시 예들은 본 발명의 바람직한 실시 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에, 본 발명이 상기의 실시 예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어져야 할 것이다. As described above, the detailed description of the present invention has been made by the embodiments with reference to the accompanying drawings, but since the above-described embodiments have only been described with reference to the preferred embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above It should not be construed as being limited only to the embodiments, and the scope of the present invention should be understood as the following claims and their equivalents.

100 : 도가니부 110 : 제1증발실
130 : 제2증발실 210 : 제1증발히터
230 : 제2증발히터 310 : 제1리플렉터
330 : 제2리플렉터 410 : 제1냉각장치
430 : 제2냉각장치 M1 : 제1증착물질
M2 : 제2증착물질100: crucible part 110: first evaporation chamber
130: second evaporation chamber 210: first evaporation heater
230: second evaporative heater 310: first reflector
330: second reflector 410: first cooling device
430: second cooling device M1: first deposition material
M2: second deposition material

Claims (12)

증착물질을 소정의 기판에 증착시켜주기 위한 증착챔버 내에 마련되는 증발장치로서,
상측이 개방되어 있고, 이종(異種)의 증착물질을 구분하여 수용할 수 있으며, 증착물질이 증발될 수 있도록 열을 상기 증착물질 측으로 전달하는 도가니부; 및
적어도 일부 부분이 상기 도가니부의 외측면에 근접 또는 접하도록 배치되며, 외부로부터 전기에너지를 공급받아서 상기 도가니부 측으로 열을 공급하는 히터부; 를 포함하고,
상기 이종의 증착물질은 증발온도가 서로 다른 제1증착물질 및 제2증착물질이고,
상기 도가니부는,
상기 도가니부의 하측에서 일체를 이루어 상기 도가니부의 내외측에 요철(凹凸)부를 가지도록,
상기 도가니부의 상기 하측의 중앙 영역에서 상기 도가니부의 내측의 요(凹)부에 실린더의 단면 형태로 위치되어서 상기 제1증착물질이 수용되는 공간을 제공하며, 상기 제1증착물질의 증발이 이루어지는 제1증발실;
상기 도가니부의 상기 하측의 둘레를 따라 상기 도가니부의 상기 내측의 요부(凹)에 상기 제1 증발실보다 더 짧게 실린더의 단면 형태로 위치되어서 상기 제2증착물질이 수용되는 공간을 제공하고, 상기 제2증착물질의 증발이 이루어지는 제2증발실; 및
상기 도가니의 상기 내측에서 상기 제1증발실과 상기 제2증발실을 볼록하게 이어주면서 상기 도가니부의 외측에서 상기 제1증발실과 상기 제2증발실 사이에 오목하게 공간 영역을 가지는 철(凸)부를 포함하고,
상기 히터부는,
상기 제1증발실 및 상기 제2증발실의 외측에 각각 위치되어 상기 제1증발실과 상기 제2증발실 사이에 위치되는 제1증발히터와 제2증발히터를 포함하고,
상기 제1증발히터의 외측에서 상기 제1증발히터 또는 상기 제1증발실을 커버하도록 배치되며, 상기 제1증발히터에서 발생된 열 또는 상기 제1증발실 측에서 방출되는 열을 제1증발실 측으로 반사시켜주는 제1리플렉터가 마련되고,
상기 제1증발히터에서 발생된 열 또는 상기 제1증발실 측에서 방출되는 열이 외부로 방출되는 것을 억제하기 위한 제1냉각장치가 상기 제1리플렉터의 외측을 커버하도록 배치되고,
상기 제2증발히터의 외측에서 상기 제2증발히터 또는 상기 제2증발실을 커버하도록 배치되며, 상기 제2증발히터에서 발생된 열 또는 상기 제2증발실 측에서 방출되는 열을 제2증발실 측으로 반사시켜주는 제2리플렉터가 마련되고,
상기 제2증발히터에서 발생된 열 또는 상기 제2증발실 측에서 방출되는 열이 외부로 방출되는 것을 억제하기 위한 제2냉각장치가 상기 제2리플렉터의 외측을 커버하도록 배치되는 것을 특징으로 하는,
이종증착물질 증착을 위한 증발장치.
An evaporation device provided in a deposition chamber for depositing a deposition material on a predetermined substrate,
a crucible part having an open upper side, capable of separately accommodating different types of deposition materials, and transferring heat to the deposition material side so that the deposition materials are evaporated; and
a heater part at least a portion of which is disposed close to or in contact with an outer surface of the crucible part, and receives electric energy from the outside and supplies heat to the crucible part; including,
The heterogeneous deposition material is a first deposition material and a second deposition material having different evaporation temperatures,
The crucible part,
so as to be integrally formed from the lower side of the crucible part and to have concavo-convex parts on the inner and outer sides of the crucible part,
In the central region of the lower side of the crucible part, it is located in the concave part of the inner side of the crucible part in the form of a cross-section of a cylinder to provide a space in which the first deposition material is accommodated, and the first deposition material is evaporated. 1 Evaporation chamber;
It is located in the concave portion of the inner side of the crucible portion along the periphery of the lower side of the crucible portion in the form of a cross-section of a cylinder shorter than the first evaporation chamber to provide a space in which the second deposition material is accommodated, and 2 A second evaporation chamber in which the evaporation material is evaporated; and
A convex part having a concave space area between the first evaporating chamber and the second evaporating chamber from the outside of the crucible part while convexly connecting the first evaporating chamber and the second evaporating chamber from the inside of the crucible do,
The heater unit,
and a first evaporation heater and a second evaporation heater respectively positioned outside the first evaporation chamber and the second evaporation chamber and positioned between the first evaporation chamber and the second evaporation chamber,
It is arranged to cover the first evaporation heater or the first evaporation chamber from the outside of the first evaporation heater, and heat generated from the first evaporation heater or heat emitted from the side of the first evaporation chamber is transferred to the first evaporation chamber. A first reflector that reflects to the side is provided,
A first cooling device for suppressing the heat generated by the first evaporation heater or heat emitted from the first evaporation chamber from being emitted to the outside is disposed to cover the outside of the first reflector,
It is arranged to cover the second evaporation heater or the second evaporation chamber from the outside of the second evaporation heater, and heat generated by the second evaporation heater or heat emitted from the side of the second evaporation chamber is transferred to the second evaporation chamber. A second reflector that reflects to the side is provided,
A second cooling device for suppressing the heat generated by the second evaporation heater or heat emitted from the second evaporation chamber from being emitted to the outside is arranged to cover the outside of the second reflector,
Evaporation device for deposition of heterogeneous deposition materials.
 삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 제1증발실 및 상기 제2증발실의 상측에는,
상기 제1증발실에서 증발된 상기 제1증착물질 및 상기 제2증발실에서 증발된 제2증착물질이 혼합될 수 있는 혼합공간이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는,
이종증착물질 증착을 위한 증발장치.The method of claim 1,
Above the first evaporation chamber and the second evaporation chamber,
characterized in that a mixing space is provided in which the first deposition material evaporated in the first evaporation chamber and the second deposition material evaporated in the second evaporation chamber can be mixed,
Evaporation device for deposition of heterogeneous deposition materials. 제 3항에 있어서,
상기 제2증발실의 횡단면의 크기보다 상기 제1증발실의 횡단면의 크기가 더 작으며, 상기 제2증발실의 내측에 상기 제1증발실이 위치하고 있는 것을 특징으로 하는,
이종증착물질 증착을 위한 증발장치.
4. The method of claim 3,
The size of the cross section of the first evaporation chamber is smaller than the size of the cross section of the second evaporation chamber, characterized in that the first evaporation chamber is located inside the second evaporation chamber,
Evaporation device for deposition of heterogeneous deposition materials.
 제 4항에 있어서,
상기 제1증발실 내측의 바닥면보다 상기 제2증발실의 바닥면이 높은 위치에 있도록 배치된 것을 특징으로 하는,
이종증착물질 증착을 위한 증발장치.
5. The method of claim 4,
Characterized in that the bottom surface of the second evaporation chamber is disposed at a higher position than the floor surface inside the first evaporation chamber,
Evaporation device for deposition of heterogeneous deposition materials.
 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 도가니부의 상측에 마련되며, 상기 도가니부 측으로부터 증발된 상기 증착물질이 기판에 균일하게 증착될 수 있도록 상기 기판 측으로 이동하는 상기 증착물질을 확산시켜주는 확산부; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
이종증착물질 증착을 위한 증발장치.
The method of claim 1,
a diffusion unit provided on an upper side of the crucible unit to diffuse the deposition material moving toward the substrate so that the deposition material evaporated from the crucible unit can be uniformly deposited on the substrate; characterized in that it further comprises,
Evaporation device for deposition of heterogeneous deposition materials.
 제 11항에 있어서,
상기 확산부는,
상기 도가니부의 상측단에 배치되며, 상기 증착물질이 상기 기판 측으로 이동될 수 있도록 홀이 형성된 배플;
상기 배플의 상측에 배치되어 상기 배플의 지지를 받으며, 상기 도가니부 측으로부터 증발된 상기 증착물질이 상기 기판 측으로 이동하면서 공간상에 확산될 수 있도록 상기 증착물질의 이동방향을 가이드하는 확산기; 및
상측의 폭보다 하측의 폭이 좁은 원추형태를 적어도 일부분에서 갖추고 있으며, 상기 배플의 상측에 배치되되 상기 확산기의 내측 가운데에 배치되어 상기 배플의 지지를 받으며, 상기 확산기와 함께 상기 증착물질이 확산될 수 있도록 상기 증착물질의 이동방향을 가이드 하는 확산기헤드; 를 포함하는 것을 특징으로 하는,
이종증착물질 증착을 위한 증발장치.


12. The method of claim 11,
The diffusion unit,
a baffle disposed at an upper end of the crucible and having a hole formed therein so that the deposition material can be moved toward the substrate;
a diffuser disposed on the upper side of the baffle and supported by the baffle, the diffuser guiding the movement direction of the deposition material so that the deposition material evaporated from the crucible part can be diffused in space while moving toward the substrate; and
It has at least a portion of a cone shape that is narrower at the lower side than the upper side, and is disposed on the upper side of the baffle and is disposed in the inner center of the diffuser to receive the support of the baffle, and the deposition material is diffused together with the diffuser. a diffuser head for guiding the movement direction of the deposition material; characterized in that it comprises,
Evaporation device for deposition of heterogeneous deposition materials.
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