KR102447049B1 - 대면적 미러 표시 장치 및 이의 제조 방법 - Google Patents

대면적 미러 표시 장치 및 이의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

미러 표시 장치는 표시 모듈 및 미러 모듈을 포함한다. 표시 모듈은 기판, 기판 상에 배치되는 표시부, 및 표시부를 사이에 두고 기판과 대향하는 미러 기판을 포함한다. 미러 모듈은 표시 모듈과 중첩하는 제1 영역을 갖는 투명 기판, 투명 기판의 제1 영역에 인접한 제2 영역 아래에 배열된 복수의 제1 미러 패턴들, 및 제1 미러 패턴들을 따라 연속적으로 연장되는 제1 미러막을 포함한다.

Description

대면적 미러 표시 장치 및 이의 제조 방법 {LARGE AREA MIRROR DISPLAY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 미러 표시 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 복수의 미러 패턴들을 포함하는 미러 표시 장치, 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 유기 발광 표시(Organic Light Emitting Display: OLED) 장치 및 액정 표시 장치(Liquid Display Device: LCD)와 같은 표시 장치에 있어서 화상 표시와 동시에 미러(mirror) 기능을 구현할 수 있는 미러 표시 장치에 관한 연구가 지속되고 있다. 특히, 대면적으로 미러 기능을 수행하면서 표시 기능을 수행할 수 있는 대면적 미러 표시 장치에 관한 연구 개발이 이루어지고 있다.
종래의 대면적 미러 표시 장치는 반투과 거울(half mirror) 뒤에 표시 패널을 장착하는 구조를 가지나, 반투과 거울은 반사와 투과의 특성을 모두 갖기 때문에 반사도가 60% 미만인 단점이 있다. 또한, 상기 표시 패널과 상기 반투과 거울 간의 간격으로 인해 상(image)이 분리되어 선명도가 저하되며, 시야각에 따라 색감이 저하될 수 있다.
본 발명의 일 과제는 표시 품질이 향상된 미러 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 과제는 표시 품질이 향상된 미러 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
상술한 본 발명의 일 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치는 투명 기판 및 상기 투명 기판의 제1 면의 제1 영역에 배치된 복수의 제1 미러 패턴들을 포함하는 미러 모듈, 및 상기 투명 기판의 상기 제1 면의 제2 영역에 결합되며 광을 발생하는 표시부 및 복수의 제2 미러 패턴들을 포함하는 표시 모듈을 포함한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 미러 모듈은 상기 제1 미러 패턴들을 따라 연속적으로 연장되는 제1 미러막을 더 포함하고, 상기 미러 기판은 상기 제2 미러 패턴들을 따라 연속적으로 연장되는 제2 미러막을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 표시부는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함하며, 상기 발광 영역은 이웃하는 상기 미러 패턴들 사이의 영역과 중첩되며, 상기 비발광 영역은 상기 제2 미러막 및 상기 제2 미러 패턴을 포함하는 적층 구조와 중첩될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 유기 발광층 또는 액정층을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 투명 기판의 일면으로부터 상기 제1 미러 패턴의 일면까지의 거리와 상기 투명 기판의 상기 일면으로부터 상기 제2 미러 패턴의 일면까지의 거리는 동일할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 미러 기판은 상기 제2 미러 패턴들이 배치되는 베이스 기판을 더 포함하고, 상기 베이스 기판은 상기 제2 미러 패턴들과 상기 투명 기판 사이에 위치할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 미러 기판은 상기 제2 미러 패턴들이 배치되는 베이스 기판을 더 포함하고, 상기 제2 미러 패턴들은 상기 투명 기판과 상기 베이스 기판 사이에 위치할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 및 제2 미러 패턴들, 및 상기 제1 및 제2 미러막은 금속을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 및 제2 미러 패턴들은 동일한 물질을 포함하고, 상기 제1 및 제2 미러막은 동일한 물질을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 미러 모듈은 상기 투명 기판의 제2 영역과 상기 제1 미러 패턴들 사이에 개재되는 위상 보정층을 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 미러 모듈은 상기 투명 기판의 상기 제2 영역에 구비되어 상기 표시 모듈의 적어도 일부가 삽입되는 리세스를 더 포함할 수 있다.
상술한 본 발명의 다른 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법에 따르면, 기판, 상기 기판 상에 배치되는 표시부, 및 상기 표시부를 사이에 두고 상기 기판과 대향하는 미러 기판을 포함하는 표시 모듈을 제공한다. 상기 표시 모듈에 대응하는 제1 영역을 갖는 투명 기판, 및 상기 투명 기판의 상기 제1 영역에 인접한 제2 영역 아래에 배열된 복수의 제1 미러 패턴들, 상기 제1 미러 패턴들을 따라 연속적으로 연장되는 제1 미러막을 포함하는 미러 모듈을 제공한다. 상기 투명 기판의 상기 제1 영역에 상기 표시 모듈이 중첩하도록 상기 표시 모듈과 상기 거울모듈을 결합한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 표시 모듈을 제공하는 것은 베이스 기판 상에 상기 제1 미러 패턴들에 대응되는 복수의 제2 미러 패턴들을 형성할 수 있다. 상기 제2 미러 패턴들을 따라 연속적으로 연장되고, 상기 제1 미러막에 대응되도록 상기 제2 미러 패턴들을 따라 제2 미러막을 형성할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 표시부는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함하며, 상기 발광 영역은 이웃하는 상기 미러 패턴들 사이에 위치하는 상기 제2 미러막과 중첩되며, 상기 비발광 영역은 상기 제2 미러막 및 상기 제2 미러 패턴을 포함하는 적층 구조와 중첩될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 유기 발광층 또는 액정층을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 투명 기판의 일면으로부터 상기 제1 미러 패턴의 일면까지의 거리와 상기 투명 기판의 상기 일면으로부터 상기 제2 미러 패턴의 일면까지의 거리는 동일할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 표시 모듈과 상기 미러 모듈을 결합하는 것은 상기 베이스 기판이 상기 투명 기판과 마주보도록 상기 표시 모듈과 상기 미러 모듈을 결합하는 것일 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 표시 모듈과 상기 미러 모듈을 결합하는 것은 상기 제2 미러 패턴들이 상기 투명 기판과 마주보도록 상기 표시 모듈과 상기 미러 모듈을 결합하는 것일 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 미러 모듈을 제공하는 것은 상기 투명 기판의 제2 영역과 상기 제1 미러 패턴들 사이에 개재되는 위상 보정층을 형성하는 것을 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 미러 모듈을 제공하는 것은 상기 투명 기판의 상기 제1 영역에 구비되어 상기 표시 모듈을 수용하는 리세스를 형성하는 것을 더 포함할 수 있다.
전술한 바와 같이 본 발명의 예시적인 실시예들에 따르는 미러 표시 장치에 있어서, 미러 모듈은 제1 미러 패턴들 및 제1 미러막을 포함하고 표시 모듈은 제2 미러 패턴들 및 제2 미러막을 포함할 수 있다. 미러 모듈이 표시 모듈이 갖는 미러 패턴 및 미러막 구조를 동일하게 포함함으로 인해, 상(image)가 분리되거나 번지는 문제를 해결할 수 있다.
또한, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따르는 미러 표시 장치는 미러 모듈이 위상 보정층 또는 리세스를 포함함으로 표시 품질을 조절할 수 있는 장점이 있다.
미러 모듈과 표시 모듈을 결합함으로 대면적으로 미러 표시 장치를 구현할 수 있는 장점과 더불어 상기 결합에 따른 표시 품질 저하를 효과적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1의 A 영역을 확대한 단면도이다.
도 3은 도 1의 B 영역을 확대한 단면도이다.
도 4 내지 도 13은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 14는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 15는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 평면도이다.
도 16 내지 도 21은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 22는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 23 내지 도 28은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 29는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 30은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 31은 도 30의 C 영역을 확대한 단면도이다.
도 32는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 33은 도 32의 D 영역을 확대한 단면도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 이 때, 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고, 동일한 구성 요소에 대해서는 중복되는 설명을 생략하기로 한다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 도 2는 도 1의 A 영역을 확대한 단면도이다. 도 3은 도 1의 B 영역을 확대한 단면도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 미러 표시 장치(10)는 표시 모듈(100) 및 미러 모듈(200)을 포함한다.
표시 모듈(100)은 기판(110), 기판(110) 상에 배치되는 표시부(120), 및 표시부(120)를 사이에 두고 기판(110)과 대향하는 미러(mirror) 기판(130)을 포함한다.
미러 모듈(200)은 표시 모듈(100)과 중첩하는 제2 영역(II)을 갖는 투명 기판(210), 투명 기판(210)의 제2 영역(II)에 인접한 제1 영역(I) 아래에 배열된 복수의 제1 미러 패턴들(220), 및 제1 미러 패턴들(220)을 따라 연속적으로 연장되는 제1 미러막(230)을 포함한다.
투명 기판(210)은 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 투명 기판(210)의 제2 영역(II)은 표시 모듈(100)과 중첩될 수 있으며, 표시 기능과 미러 기능을 수행할 수 있다. 투명 기판(210)의 제1 영역(I)은 제2 영역(II)에 인접하며 미러 기능을 수행할 수 있다.
투명 기판(210)은 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 포함할 수 있다. 투명 기판(210)은 제1 미러 패턴들(220), 제1 미러막(230), 및 표시 모듈(100)을 지지할 수 있다.
제1 미러 패턴들(220)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I)에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 미러 패턴들(220)은 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
제1 미러 패턴(220)은 반사율이 높은 물질을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제1 미러 패턴(220)은 예를 들면, 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 구리(Cu), 은(Ag), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W) 등과 같은 금속을 포함할 수 있다.
제1 미러막(230)은 실질적으로 투명 기판(210)의 제1 영역(I)의 전면 상에 형성되어 제1 미러 패턴들(110)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제1 미러막(230)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 아래에서 연속적으로 연장되며, 제1 미러막(230)은 투명 기판(210)의 하면 및 제1 미러 패턴들(220)의 상기 표면들과 직접 접촉할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 제1 미러막(230)의 반사율은 제1 미러 패턴(220)의 반사율보다 낮을 수 있다.
표시부(120)는 기판(110) 상에 형성된 스위칭 소자, 및 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결되는 표시 구조물을 포함할 수 있다.
상기 스위칭 소자는 예를 들면, 액티브 패턴(315), 게이트 절연막(320), 게이트 전극(325), 소스 전극(343) 및 드레인 전극(345)을 포함하는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)를 포함할 수 있다. 상기 표시 구조물은 예를 들면, 제1 전극(360), 표시층(380) 및 제2 전극(390)을 포함할 수 있다.
기판(110)은 예를 들면, 유리 기판, 투명 플라스틱 기판, 플렉시블 플라스틱 기판 등을 포함할 수 있다.
기판(110)의 상면 상에는 배리어막(310)이 형성될 수 있다. 배리어막(310)에 의해 기판(110)을 통해 침투하는 수분이 차단될 수 있으며, 기판(110) 및 기판(110) 상에 형성된 구조물 사이의 불순물 확산이 차단될 수 있다.
예를 들면, 배리어막(310)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 또는 실리콘 산질화물을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 배리어막(310)은 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막을 포함하는 적층 구조를 가질 수도 있다.
액티브 패턴(315)은 폴리실리콘과 같은 실리콘 화합물을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 액티브 패턴(315)은 인듐-갈륨-아연 산화물(Indium Gallium Zinc Oxide: IGZO), 아연-주석 산화물(Zinc Tin Oxide: ZTO), 또는 인듐-주석-아연 산화물(Indium Tin Zinc Oxide: ITZO)과 같은 산화물 반도체를 포함할 수도 있다. 액티브 패턴(315)은 상기 실리콘 화합물 또는 산화물 반도체를 포함하는 액티브 막을 예를 들면, 스퍼터링 공정을 통해 증착한 후, 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 형성될 수 있다.
게이트 절연막(320)은 배리어막(310) 상에 형성되어 액티브 패턴(315)을 커버할 수 있다. 게이트 절연막(320)은 예를 들면, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 또는 실리콘 산질화물을 포함하도록 형성될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 게이트 절연막(320)은 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막을 포함하는 적층 구조를 가질 수도 있다.
게이트 전극(325)은 게이트 절연막(320) 상에 형성되어 액티브 패턴(315)과 중첩될 수 있다. 예를 들면, 게이트 절연막(320) 상에 제1 도전막을 형성하고, 상기 제1 도전막을 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 게이트 전극(325)이 형성될 수 있다. 상기 제1 도전막은 Al, Ag, W, Cu, Mo, Ti, Ta, Cr 등과 같은 금속, 상기 금속들의 합금 또는 상기 금속의 질화물을 사용하여 스퍼터링 공정, ALD 공정 등을 통해 형성될 수 있다. 상기 제1 도전막은 Al/Mo 또는 Ti/Cu 구조와 같은 복층 구조로 형성될 수도 있다.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 도전막으로부터 스캔 라인이 함께 형성될 수 있다. 게이트 전극(325)은 상기 스캔 라인으로부터 분기될 수 있다.
일부 실시예들에 있어서, 게이트 전극(325)을 이온 주입 마스크로 사용하는 불순물 주입 공정을 통해, 액티브 패턴(315)의 양 단부에 소스 영역 및 드레인 영역을 형성할 수 있다. 게이트 전극(325)과 중첩되며, 상기 소스 영역 및 상기 드레인 영역 사이의 액티브 패턴(315) 부분은 전하가 이동되는 채널 영역으로 정의될 수 있다.
층간 절연막(330)은 게이트 절연막(320) 상에 형성되어, 게이트 전극(325)을 커버할 수 있다. 층간 절연막(330)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 및/또는 실리콘 산질화물을 포함하도록 형성될 수 있다. 층간 절연막(330)은 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막을 포함하는 적층 구조를 가질 수도 있다
소스 전극(343) 및 드레인 전극(345)은 층간 절연막(330) 및 게이트 절연막(320)을 관통하여 액티브 패턴(315)과 접촉할 수 있다. 예를 들면, 소스 전극(343) 및 드레인 전극(345)은 각각 액티브 패턴(315)의 상기 소스 영역 및 상기 드레인 영역과 접촉할 수 있다.
예를 들면, 층간 절연막(330) 및 게이트 절연막(320)을 부분적으로 식각하여 액티브 패턴(315)을 노출시키는 콘택 홀들을 형성할 수 있다. 상기 콘택 홀들을 채우는 제2 도전막을 층간 절연막(330) 상에 형성한 후, 상기 제2 도전막을 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 소스 전극(343) 및 드레인 전극(345)을 형성할 수 있다. 상기 제2 도전막은 상기 제1 도전막과 실질적으로 동일하거나 유사한 재료 및 공정을 통해 형성될 수 있다.
상술한 공정에 의해, 상기 TFT가 표시부(120)의 각 화소마다 형성될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 2개 이상의 TFT 및 커패시터가 상기 각 화소마다 함께 형성될 수도 있다.
본 실시예에서는 상기 TFT가 액티브 패턴(315) 상에 게이트 전극(325)이 배치되는 탑게이트 방식을 갖는 것으로 설명되고 있으나, 이에 한정하려는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 TFT는 액티브 패턴(315) 아래에 게이트 전극(325)이 배치되는 바텀게이트 방식을 가질 수도 있다.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제2 도전막으로부터 데이터 라인이 함께 형성될 수 있다. 이 경우, 소스 전극(343)은 상기 데이터 라인으로부터 분기될 수 있다.
층간 절연막(330) 상에는 소스 전극(343) 및 드레인 전극(345)을 커버하는 비아 절연막(350)이 형성될 수 있다. 비아 절연막(350)은 예를 들면, 폴리이미드, 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스테르와 같은 유기 물질을 사용하여 스핀 코팅 공정 또는 슬릿 코팅 공정을 통해 형성될 수 있다. 비아 절연막(350)은 실질적으로 표시부(120)의 평탄화막으로 제공될 수 있다.
비아 절연막(350) 상에는 상기 표시구조물이 형성될 수 있다.
제1 전극(360)은 비아 절연막(350)을 관통하여 예를 들면, 드레인 전극(345)과 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들면, 비아 절연막(350)을 부분적으로 식각하여 드레인 전극(345) 상면을 노출시키는 비아 홀을 형성할 수 있다. 비아 절연막(350) 상에 상기 비아 홀을 채우는 제3 도전막을 형성한 후, 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 제1 전극(360)을 형성할 수 있다.
제1 전극(360)은 예를 들면, 표시부(120)의 양극(anode) 또는 화소 전극으로 제공되며, 표시부(120)에 포함되는 상기 각 화소마다 독립적으로 형성될 수 있다.
상기 제3 도전막은 상기 제1 도전막과 실질적으로 동일하거나 유사한 금속을 사용하여 형성될 수 있다. 상기 제3 도전막은 인듐 주석 화합물(Indium Tin Oxide: ITO), 인듐 아연 화합물(Indium Zinc Oxide: IZO), 아연 산화물 또는 인듐 산화물과 같은 투명 도전성 물질을 사용하여 형성될 수도 있다. 상기 제3 도전막은 ITO/Ag/ITO 구조와 같은 복층 구조로 형성될 수 도 있다.
화소 정의막(370)은 비아 절연막(350) 상에 형성되어 제1 전극(360)의 주변부를 일부 커버할 수 있다. 예를 들면, 화소 정의막(370)은 감광성 유기 물질을 사용하여 현상 및 노광 공정을 통해 형성될 수 있다. 이와는 달리, 화소 정의막(370)은 실리콘 계열의 무기 물질을 사용하여 사진 식각 공정을 통해 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르면, 화소 정의막(370)에 의해 노출된 제1 전극(360) 면적이 실질적으로 상기 각 화소의 발광 영역의 면적에 해당할 수 있다.
표시층(380)은 제1 전극(360) 및 화소 정의막(370) 상에 형성될 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 표시층(380)은 유기 발광 물질을 포함하며, 상기 표시 장치는 유기 발광 표시(Organic Light Emitting Display: OLED) 장치로 제공될 수 있다. 이 경우, 표시층(380)의 하부 및 상부에 각각 정공 수송층(Hole Transport Layer: HTL) 및 전자 수송층(Electron Transport Layer: ETL)이 더 형성될 수 있다. 또한, 표시층(380)의 하부에 배치되고 상기 정공 수송층과 상기 제1 전극(360) 사이에 개재되는 정공 주입층(Hole Injection Layer: HIL)이 더 형성될 수 있다. 표시층(380)의 상부에 배치되고 상기 전자 수송층과 후술하는 제2 전극(390) 사이에 개재되는 전자 주입층(Electron Injection Layer: EIL)이 더 형성될 수 있다.
표시층(380)은 각 화소 마다 상기 유기 발광 물질을 개별적으로 프린팅함으로써 형성될 수 있다. 상기 정공 수송층 및 상기 전자 수송층은 상기 각 화소마다 형성되거나, 복수의 화소들에 공통적으로 형성될 수 있다. 본 실시예에서는 미러 표시 장치가 RGB OLED 구조를 포함하는 것에 대해 주로 설명하고 있으나, 이에 한정하려는 것은 아니다. 예를 들어, 미러 표시 장치는 WOLED 구조를 포함할 수도 있다.
일부 실시예들에 있어서, 표시층(380)으로서 액정 물질이 사용될 수 있으며, 이 경우 상기 표시 장치는 액정 표시(Liquid Crystal Display: LCD) 장치로 제공될 수 있다.
화소 정의막(370) 및 표시층(380) 상에는 제2 전극(390)이 형성될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 제2 전극(390)은 복수의 화소들에 공통적으로 제공되는 공통 전극으로 제공될 수 있다. 또한, 제2 전극(390)은 표시부(120)의 음극(cathode)로 제공될 수 있다.
제2 전극(390)은 예를 들면, 오픈(open mask)를 사용하여 금속 또는 상술한 투명 도전성 물질을 증착함으로써 형성될 수 있다.
미러 기판(130)은 베이스 기판(132), 베이스 기판(132) 아래에 배열되며 제1 미러 패턴들(220)에 대응되는 복수의 제2 미러 패턴들(134), 및 제2 미러 패턴들(134)을 따라 연속적으로 연장되고 제1 미러막(230)에 대응되는 제2 미러막(136)을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 베이스 기판(132)은 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)은 실링(sealing) 부(140)에 의해 구분될 수 있다. 실링부(140)는 제3 영역(III)을 둘러싸는 링 또는 기둥 형상을 가질 수 있다. 실링부(140)의 외부 영역이 제4 영역(IV)으로 정의될 수 있다.
제3 영역(III)은, 예를 들면 미러 기판(130)이 표시 모듈(100)의 인캡슐레이션(encapsulation) 기판으로 제공되는 경우, 표시 모듈(100)의 화소 영역들 및 표시 모듈(100)의 구동 회로 및/또는 연성 인쇄 회로(flexible printed circuit: FPC)와 연결되기 위한 패드 등이 배치되는 주변 영역과 중첩될 수 있다. 제4 영역(IV)은 표시 모듈(100)에 전원을 공급하기 위한 배선들을 포함하는 배선 영역과 중첩될 수 있다.
베이스 기판(132)은 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 포함할 수 있다. 실링부(140)는 비제한적인 예로서, 실리콘(silicone) 계열, 에폭시 계열 등의 접착성 물질을 포함할 수 있다. 실링부(140)로서 외부 공기 및/또는 외부 수분을 흡수 또는 차단할 수 있는 다양한 물질을 활용할 수 있다.
제2 미러 패턴(134)은 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)에 걸쳐 배치될 수 있다. 예를 들면, 제2 미러 패턴들(134)이 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
제2 미러 패턴들(134)은 반사율이 높은 물질을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제2 미러 패턴(134)은 예를 들면, 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 구리(Cu), 은(Ag), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W) 등과 같은 금속을 포함할 수 있다.
상술한 바와 같이, 미러 기판(130)이 표시 모듈(100)의 인캡슐레이션 기판으로 제공되는 경우, 제3 영역(III) 상의 제2 미러 패턴들(134)의 적어도 일부는 표시 모듈(100)의 상기 화소 영역 중 발광 영역을 제외한 영역(예를 들면, 비발광 영역)과 중첩될 수 있다. 이 경우, 제3 영역(III) 상의 미러 기판(130) 중 이웃하는 제2 미러 패턴들(134) 사이의 부분은 표시 모듈(100)의 상기 화소 영역 중 발광 영역과 중첩될 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 적어도 일부의 서로 이웃하는 제2 미러 패턴들(134) 사이의 부분은 표시 모듈(100)의 상기 화소 영역 중 발광 영역의 적어도 일부와 중첩될 수 있다.
제3 영역(III) 상의 제2 미러 패턴들(134)의 적어도 일부 및 제4 영역(IV) 상의 제2 미러 패턴들(134)은 표시 모듈(100)의 상기 화소 영역과 중첩되지 않을 수 있다. 제3 영역(III) 상의 제2 미러 패턴들(134)의 상기 적어도 일부 및 제4 영역(IV) 상의 제2 미러 패턴들(134)은 동일한 간격으로 배치될 수 있다.
제2 미러막(136)은 실질적으로 베이스 기판(132)의 전면 아래에 형성되어 제2 미러 패턴들(134)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제2 미러막(136)은 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV) 상에서 공통으로, 연속적으로 연장될 수 있다.
제2 미러막(136)은 베이스 기판(132)의 하면 및 제2 미러 패턴들(134)의 상기 표면들과 직접 접촉할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 미러막(136)의 반사율은 제2 미러 패턴(134)의 반사율보다 낮을 수 있다.
예를 들면, 제3 영역(III) 상에서 이웃하는 제2 미러 패턴들(134) 사이에 형성된 제2 미러막(136)의 적어도 일부는 표시 모듈(100)의 상기 발광 영역과 중첩될 수 있다.
실링부(140)는 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)의 경계부에 배치될 수 있다. 실링부(140)는 제2 미러막(136) 아래에 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 미러 표시 장치(10)는 베이스 기판(132)이 투명 기판(210)과 마주보도록 표시 모듈(100)과 미러 모듈(200)이 결합하는 구조를 가질 수 있다.
또한, 제1 및 제2 미러 패턴들(220, 134)은 실질적으로 동일한 물질을 포함할 수 있으며, 제1 및 제2 미러막들(230, 136)은 실질적으로 동일한 물질을 포함할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치에 의하면, 미러 모듈은 제1 미러 패턴들 및 제1 미러막을 포함하고 표시 모듈은 제2 미러 패턴들 및 제2 미러막을 포함할 수 있다. 미러 모듈이 표시 모듈이 갖는 미러 패턴 및 미러막 구조를 동일하게 포함함으로 인해, 상(image)가 분리되거나 번지는 문제를 해결할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치에 의하면, 미러 모듈과 표시 모듈을 결합함으로 대면적으로 미러 표시 장치를 구현할 수 있는 장점과 더불어 상기 결합에 따른 표시 품질 저하를 효과적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
이하에서는, 미러 표시 장치의 제조방법에 관하여 주로 설명하고자 한다.
도 4 내지 도 13은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 예를 들면, 도 4 내지 도 6은 도 1에 도시된 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 4를 참조하면, 투명 기판(210) 상에 금속막(222)을 형성할 수 있다.
투명 기판(210)으로서 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 사용할 수 있다. 투명 기판(210)은 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)은 각각 투명 기판(210)의 주변부 및 중앙부로 정의될 수 있다.
금속막(222)은 예를 들면, Al, Cr, Cu, Ag, Ti, Ta, Mo, W 등과 같은 금속을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 금속막(222)은 예를 들면, 스퍼터링(sputtering) 공정, 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition: PVD) 공정, 원자층 증착(Atomic Layer Deposition: ALD) 공정, 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition: CVD) 공정 등을 통해 형성될 수 있다.
도 5를 참조하면, 금속막(222)을 예를 들면, 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 복수의 제1 미러 패턴들(220)을 형성할 수 있다.
예를 들면, 제1 미러 패턴들(220)이 그리드 배열, 라인 배열, 메쉬 배열, 복수의 섬들의 배열 등과 같은 규칙적인 배열을 형성하며, 투명 기판(210)의 제1 영역(I)에 형성될 수 있다.
도 6을 참조하면, 투명 기판(210)의 제1 영역(I)의 상면 및 제1 미러 패턴들(220)의 표면들 상에 제1 미러막(230)을 형성하여 미러 모듈(200)을 제조할 수 있다. 제1 미러막(230)의 두께는 도 5에 도시된 제1 미러 패턴들(220)의 두께보다 작게 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르면, 제1 미러막(230)은 제1 미러 패턴들(210)을 커버하며 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 상에서 연속적으로 컨포멀하게 형성될 수 있다.
제1 미러막(210)은 예를 들면, CVD 공정, 플라즈마 강화 화학 기상 증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition: PECVD) 공정, ALD 공정, 열 증착 공정. 진공 증착 공정 등을 통해 형성될 수 있다.
도 7을 참조하면, 베이스 기판(132) 상에 금속막(144)을 형성할 수 있다.
예를 들어, 베이스 기판(132)은 투명 기판일 수 있다. 구체적으로, 투명 기판으로서 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 사용할 수 있다. 베이스 기판(132)은 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)으로 구분될 수 있다. 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)은 각각 베이스 기판(132)의 중앙부 및 주변부로 정의될 수 있다.
금속막(144)은 예를 들면, Al, Cr, Cu, Ag, Ti, Ta, Mo, W 등과 같은 금속을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 금속막(144)은 예를 들면, 스퍼터링(sputtering) 공정, 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition: PVD) 공정, 원자층 증착(Atomic Layer Deposition: ALD) 공정, 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition: CVD) 공정 등을 통해 형성될 수 있다.
도 8을 참조하면, 금속막(144)을 예를 들면, 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 복수의 제2 미러 패턴들(134)을 형성할 수 있다.
예를 들면, 제2 미러 패턴들(134)이 그리드 배열, 라인 배열, 메쉬 배열, 복수의 섬들의 배열 등과 같은 규칙적인 배열을 형성하며, 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)에 걸쳐 형성될 수 있다.
도 9를 참조하면, 베이스 기판(132)의 상면 및 제2 미러 패턴들(134)의 표면들 상에 제2 미러막(136)을 형성할 수 있다. 제2 미러막(136)의 두께는 도 8에 도시된 제2 미러 패턴들(134)의 두께보다 작게 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르면, 제2 미러막(136)은 제2 미러 패턴들(134)을 커버하며 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV) 상에서 연속적으로 컨포멀하게 형성될 수 있다.
제2 미러막(136)은 예를 들면, CVD 공정, 플라즈마 강화 화학 기상 증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition: PECVD) 공정, ALD 공정, 열 증착 공정. 진공 증착 공정 등을 통해 형성될 수 있다.
도 10을 참조하면, 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)의 경계부에 실링부(130)를 형성하여 미러 기판(130)을 제조할 수 있다.
예를 들면, 실링부(140)는 에폭시 수지, 실리콘(silicone) 수지 등과 같은 접착성을 갖는 수지 물질을 사용하여 프린팅 공정, 코팅 공정 등을 통해 형성될 수 있다.
도 11을 참조하면, 미러 기판(130)을 뒤집고 실링부(140)를 이용하여 표시부(120)가 형성된 기판(110)과 미러 기판(130)을 결합하는 인캡슐레이션 공정을 수행하고 표시 모듈(100)을 제조할 수 있다.
예를 들어, 베이스 기판(132)의 제4 영역(IV)에 배치된 제2 미러 패턴(132)을 정렬 키(align key)로 사용하여 기판(110)과 미러 기판(130)을 결합하여 표시 모듈(100)을 제조할 수 있다.
도 12 및 도 13을 참조하면, 도 6의 미러 모듈(200)을 뒤집고 투명 기판(210)의 제2 영역(II)과 도 11의 표시 모듈(100)이 중첩되도록 미러 모듈(200)과 표시 모듈(100)을 결합하여 미러 표시 장치를 제조할 수 있다.
예를 들어, 투명 기판(210)의 제2 영역(II)의 하면에 투명 접착층(도시되지 않음)을 형성하여, 표시 모듈(100)을 상기 투명 접착층에 접착하여 미러 모듈(200)과 표시 모듈(100)을 결합할 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 미러 모듈(200)의 크기를 증가하여 미러 표시 장치의 크기를 증가시킬 수 있고, 표시 모듈(100)의 크기를 임의적으로 조절할 수 있는 장점이 있다.
특히, 표시 모듈(100)을 크게 만들기는 어려우나, 미러 모듈(200)을 크게 만들기는 공정상 매우 용이한 것으로, 미러 표시 장치의 크기를 증가시킬 수 있는 장점이 있다.
도 14를 참조하면, 미러 모듈(200)의 면적이 클 때, 미러 표시 장치는 하나의 미러 모듈(200) 및 미러 모듈(200)에 결합되는 복수의 표시 모듈들(100)을 포함할 수 있다.
예를 들어, 각각의 표시 모듈(100)은 미러 모듈(200)의 각 코너부에 배치되어 상기 미러 표시 장치는 4개의 표시 모듈들(100)을 포함할 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 이와는 달리, 미러 표시 장치는 미러 모듈(200)에 결합되는 2개의 표시 모듈들(100) 또는 3개의 표시 모듈들(100)을 포함할 수 있다.
도 15는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 위상 보정층을 제외하면, 도 1에 도시된 미러 표시 장치와 실질적으로 동일하거나 유사하다. 이에 따라, 동일한 구성 요소에는 동일한 참조 부호를 부여하고, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.
도 15를 참조하면, 미러 표시 장치(12)는 표시 모듈(100) 및 미러 모듈(202)을 포함한다.
표시 모듈(100)은 기판(110), 기판(110) 상에 배치되는 표시부(120), 및 표시부(120)를 사이에 두고 기판(110)과 대향하는 미러(mirror) 기판(130)을 포함한다.
미러 모듈(202)은 표시 모듈(100)과 중첩하는 제2 영역(II)을 갖는 투명 기판(210), 투명 기판(210)의 제2 영역(II)에 인접한 제1 영역(I) 아래에 배열된 복수의 제1 미러 패턴들(220), 및 제1 미러 패턴들(220)을 따라 연속적으로 연장되는 제1 미러막(230)을 포함한다.
투명 기판(210)은 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 투명 기판(210)의 제2 영역(II)은 표시 모듈(100)과 중첩될 수 있으며, 표시 기능과 미러 기능을 수행할 수 있다. 투명 기판(210)의 제1 영역(I)은 제2 영역(II)에 인접하며 미러 기능을 수행할 수 있다.
투명 기판(210)은 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 포함할 수 있다. 투명 기판(210)은 제1 미러 패턴들(220), 제1 미러막(230), 및 표시 모듈(100)을 지지할 수 있다.
제1 미러 패턴들(220)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I)에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 미러 패턴들(220)은 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
제1 미러막(230)은 실질적으로 투명 기판(210)의 제1 영역(I)의 전면 상에 형성되어 제1 미러 패턴들(110)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제1 미러막(230)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 아래에서 연속적으로 연장되며, 제1 미러막(230)은 투명 기판(210)의 하면 및 제1 미러 패턴들(220)의 상기 표면들과 직접 접촉할 수 있다.
표시부(120)는 기판(110) 상에 형성된 스위칭 소자, 및 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결되는 표시 구조물을 포함할 수 있다.
기판(110)은 예를 들면, 유리 기판, 투명 플라스틱 기판, 플렉시블 플라스틱 기판 등을 포함할 수 있다.
미러 기판(130)은 베이스 기판(132), 베이스 기판(132) 아래에 배열되며 제1 미러 패턴들(220)에 대응되는 복수의 제2 미러 패턴들(134), 및 제2 미러 패턴들(134)을 따라 연속적으로 연장되고 제1 미러막(230)에 대응되는 제2 미러막(136)을 포함할 수 있다.
베이스 기판(132)은 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)으로 구분될 수 있다. 제3 영역(III)은, 예를 들면 미러 기판(130)이 표시 모듈(100)의 인캡슐레이션(encapsulation) 기판으로 제공되는 경우, 표시 모듈(100)의 화소 영역들 및 표시 모듈(100)의 구동 회로 및/또는 연성 인쇄 회로(flexible printed circuit: FPC)와 연결되기 위한 패드 등이 배치되는 주변 영역과 중첩될 수 있다. 제4 영역(IV)은 표시 모듈(100)에 전원을 공급하기 위한 배선들을 포함하는 배선 영역과 중첩될 수 있다.
제2 미러 패턴(134)은 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)에 걸쳐 배치될 수 있다. 예를 들면, 제2 미러 패턴들(134)이 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
제2 미러막(136)은 실질적으로 베이스 기판(132)의 전면 아래에 형성되어 제2 미러 패턴들(134)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제2 미러막(136)은 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV) 상에서 공통으로, 연속적으로 연장될 수 있다.
실링부(140)는 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)의 경계부에 배치될 수 있다. 실링부(140)는 제2 미러막(136) 아래에 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 미러 표시 장치(10)는 베이스 기판(132)이 투명 기판(210)과 마주보도록 표시 모듈(100)과 미러 모듈(202)이 결합하는 구조를 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 미러 모듈(202)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I)과 제1 미러 패턴들(220) 사이에 개재되는 위상 보정층(400)을 더 포함할 수 있다.
위상 보정층(400)은 투명 기판(210)의 물질과 실질적으로 동일한 물질을 포함할 수 있다.
예를 들어, 위상 보정층(400)에 의해, 투명 기판(210)의 일면(212)으로부터 제1 미러 패턴(220)의 일면(224)까지의 거리(W1)와 투명 기판(210)의 일면(212)으로부터 제2 미러 패턴(134)의 일면(138)까지의 거리(W2)는 실질적으로 동일할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치에 의하면, 미러 모듈은 제1 미러 패턴들 및 제1 미러막을 포함하고 표시 모듈은 제2 미러 패턴들 및 제2 미러막을 포함할 수 있다. 미러 모듈이 표시 모듈이 갖는 미러 패턴 및 미러막 구조를 동일하게 포함함으로 인해, 상(image)가 분리되거나 번지는 문제를 해결할 수 있다.
특히, 위상 보정층(400)을 투명 기판(210)과 제1 미러 패턴들(220) 사이에 개재시킴으로, 제1 미러 패턴들(220)과 제2 미러 패턴들(134) 사이의 단차를 제거하거나 제1 미러 패턴들(220) 및 제1 미러막(230)에 의해 반사되는 광과 제2 미러 패턴들(134) 및 제2 미러막(134)에 의해 반사되는 광 사이의 위상차를 줄일 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치에 의하면, 미러 모듈과 표시 모듈을 결합함으로 대면적으로 미러 표시 장치를 구현할 수 있는 장점과 더불어 상기 결합에 따른 표시 품질 저하를 효과적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
이하에서는, 미러 표시 장치의 제조방법에 관하여 주로 설명하고자 한다.
도 16 내지 도 21은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 예를 들면, 도 16 내지 도 21은 도 15에 도시된 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 도 4 내지 도 13을 참조로 설명한 바와 실질적으로 동일하거나 유사한 공정 및 재료들에 대한 설명은 생략된다.
도 16을 참조하면, 위상 보정층(400)을 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 상에 형성할 수 있다. 투명 기판(210)의 물질과 실질적으로 동일한 물질을 포함하도록 위상 보정층(400)을 투명 기판(210) 상에 형성할 수 있다.
예를 들어, 투명 기판(210) 상에 접착제를 바르고, 접착제를 이용하여 투명 기판(210)과 위상 보정층(400)을 결합할 수 있다.
도 17을 참조하면, 투명 기판(210) 상에 금속막(222)을 형성할 수 있다.
투명 기판(210)으로서 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 사용할 수 있다. 투명 기판(210)은 제2 영역(II) 및 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 제2 영역(II) 및 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)은 각각 투명 기판(210)의 주변부 및 중앙부로 정의될 수 있다.
도 18을 참조하면, 금속막(222)을 예를 들면, 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 위상 보정층(400) 상에 복수의 제1 미러 패턴들(220)을 형성할 수 있다.
예를 들면, 제1 미러 패턴들(220)이 그리드 배열, 라인 배열, 메쉬 배열, 복수의 섬들의 배열 등과 같은 규칙적인 배열을 형성하며, 위상 보정층(400) 상에 형성될 수 있다.
도 19를 참조하면, 위상 보정층(400)의 상면 및 제1 미러 패턴들(220)의 표면들 상에 제1 미러막(230)을 형성하여 미러 모듈(202)을 제조할 수 있다. 제1 미러막(230)의 두께는 도 5에 도시된 제1 미러 패턴들(220)의 두께보다 작게 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르면, 제1 미러막(230)은 제1 미러 패턴들(210)을 커버하며 위상 보정층(400) 상에서 연속적으로 컨포멀하게 형성될 수 있다.
도 20 및 도 21을 참조하면, 도 18의 미러 모듈(202)을 뒤집고 투명 기판(210)의 제2 영역(II)과 도 11의 표시 모듈(100)이 중첩되도록 미러 모듈(202)과 표시 모듈(100)을 결합하여 미러 표시 장치를 제조할 수 있다.
예를 들어, 투명 기판(210)의 제2 영역(II)의 하면에 투명 접착층(도시되지 않음)을 형성하여, 표시 모듈(100)을 상기 투명 접착층에 접착하여 미러 모듈(202)과 표시 모듈(100)을 결합할 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 미러 모듈(202)의 크기를 증가하여 미러 표시 장치의 크기를 증가시킬 수 있고, 표시 모듈(100)의 크기를 임의적으로 조절할 수 있는 장점이 있다.
특히, 표시 모듈(100)을 크게 만들기는 어려우나, 미러 모듈(202)을 크게 만들기는 공정상 매우 용이한 것으로, 미러 표시 장치의 크기를 증가시킬 수 있는 장점이 있다.
도 22는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 리세스(410)를 제외하면, 도 1에 도시된 미러 표시 장치와 실질적으로 동일하거나 유사하다. 이에 따라, 동일한 구성 요소에는 동일한 참조 부호를 부여하고, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.
도 22를 참조하면, 미러 표시 장치(12)는 표시 모듈(100) 및 미러 모듈(204)을 포함한다.
표시 모듈(100)은 기판(110), 기판(110) 상에 배치되는 표시부(120), 및 표시부(120)를 사이에 두고 기판(110)과 대향하는 미러(mirror) 기판(130)을 포함한다.
미러 모듈(204)은 표시 모듈(100)과 중첩하는 제2 영역(II)을 갖는 투명 기판(210), 투명 기판(210)의 제2 영역(II)에 인접한 제1 영역(I) 아래에 배열된 복수의 제1 미러 패턴들(220), 및 제1 미러 패턴들(220)을 따라 연속적으로 연장되는 제1 미러막(230)을 포함한다.
투명 기판(210)은 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 투명 기판(210)의 제2 영역(II)은 표시 모듈(100)과 중첩될 수 있으며, 표시 기능과 미러 기능을 수행할 수 있다. 투명 기판(210)의 제1 영역(I)은 제2 영역(II)에 인접하며 미러 기능을 수행할 수 있다.
투명 기판(210)은 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 포함할 수 있다. 투명 기판(210)은 제1 미러 패턴들(220), 제1 미러막(230), 및 표시 모듈(100)을 지지할 수 있다.
제1 미러 패턴들(220)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I)에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 미러 패턴들(220)은 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
제1 미러막(230)은 실질적으로 투명 기판(210)의 제1 영역(I)의 전면 상에 형성되어 제1 미러 패턴들(110)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제1 미러막(230)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 아래에서 연속적으로 연장되며, 제1 미러막(230)은 투명 기판(210)의 하면 및 제1 미러 패턴들(220)의 상기 표면들과 직접 접촉할 수 있다.
표시부(120)는 기판(110) 상에 형성된 스위칭 소자, 및 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결되는 표시 구조물을 포함할 수 있다.
기판(110)은 예를 들면, 유리 기판, 투명 플라스틱 기판, 플렉시블 플라스틱 기판 등을 포함할 수 있다.
미러 기판(130)은 베이스 기판(132), 베이스 기판(132) 아래에 배열되며 제1 미러 패턴들(220)에 대응되는 복수의 제2 미러 패턴들(134), 및 제2 미러 패턴들(134)을 따라 연속적으로 연장되고 제1 미러막(230)에 대응되는 제2 미러막(136)을 포함할 수 있다.
베이스 기판(132)은 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)으로 구분될 수 있다. 제3 영역(III)은, 예를 들면 미러 기판(130)이 표시 모듈(100)의 인캡슐레이션(encapsulation) 기판으로 제공되는 경우, 표시 모듈(100)의 화소 영역들 및 표시 모듈(100)의 구동 회로 및/또는 연성 인쇄 회로(flexible printed circuit: FPC)와 연결되기 위한 패드 등이 배치되는 주변 영역과 중첩될 수 있다. 제4 영역(IV)은 표시 모듈(100)에 전원을 공급하기 위한 배선들을 포함하는 배선 영역과 중첩될 수 있다.
제2 미러 패턴(134)은 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)에 걸쳐 배치될 수 있다. 예를 들면, 제2 미러 패턴들(134)이 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
제2 미러막(136)은 실질적으로 베이스 기판(132)의 전면 아래에 형성되어 제2 미러 패턴들(134)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제2 미러막(136)은 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV) 상에서 공통으로, 연속적으로 연장될 수 있다.
실링부(140)는 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)의 경계부에 배치될 수 있다. 실링부(140)는 제2 미러막(136) 아래에 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 미러 표시 장치(10)는 베이스 기판(132)이 투명 기판(210)과 마주보도록 표시 모듈(100)과 미러 모듈(204)이 결합하는 구조를 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 미러 모듈(204)은 투명 기판(210)의 제2 영역(II)에 구비되어 표시 모듈(100)을 수용하는 리세스(410)를 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 리세스(410)의 폭은 투명 기판(210)의 제2 영역(II)의 폭과 실질적으로 동일할 수 있다.
예를 들어, 리세스(410)에 의해, 투명 기판(210)의 일면(212)으로부터 제1 미러 패턴(220)의 일면(224)까지의 거리(W1)와 투명 기판(210)의 일면(212)으로부터 제2 미러 패턴(134)의 일면(138)까지의 거리(W2)는 실질적으로 동일할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치에 의하면, 미러 모듈은 제1 미러 패턴들 및 제1 미러막을 포함하고 표시 모듈은 제2 미러 패턴들 및 제2 미러막을 포함할 수 있다. 미러 모듈이 표시 모듈이 갖는 미러 패턴 및 미러막 구조를 동일하게 포함함으로 인해, 상(image)가 분리되거나 번지는 문제를 해결할 수 있다.
특히, 표시 패널(100)을 수용하는 리세스(410)를 투명 기판(210)의 제2 영역(II)에 구비함으로, 제1 미러 패턴들(220)과 제2 미러 패턴들(134) 사이의 단차를 제거하거나 제1 미러 패턴들(220) 및 제1 미러막(230)에 의해 반사되는 광과 제2 미러 패턴들(134) 및 제2 미러막(134)에 의해 반사되는 광 사이의 위상차를 줄일 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치에 의하면, 미러 모듈과 표시 모듈을 결합함으로 대면적으로 미러 표시 장치를 구현할 수 있는 장점과 더불어 상기 결합에 따른 표시 품질 저하를 효과적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
도 23 내지 도 28은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 예를 들면, 도 23 내지 도 28은 도 22에 도시된 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 도 4 내지 도 13을 참조로 설명한 바와 실질적으로 동일하거나 유사한 공정 및 재료들에 대한 설명은 생략된다.
도 23을 참조하면, 투명 기판(210)의 제2 영역(II)에 리세스(410)를 형성할 수 있다.
예를 들어, 기계 드릴링(Mechanical driling) 공정 또는 레이저 드릴링(Laser driling) 공정을 수행하여 투명 기판(210)의 제2 영역(II)에 리세스(410)를 형성할 수 있다.
도 24를 참조하면, 투명 기판(210) 상에 금속막(222)을 형성할 수 있다.
투명 기판(210)으로서 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 사용할 수 있다. 투명 기판(210)은 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)은 각각 투명 기판(210)의 주변부 및 중앙부로 정의될 수 있다.
도 25를 참조하면, 금속막(222)을 예를 들면, 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 상에 복수의 제1 미러 패턴들(220)을 형성할 수 있다.
예를 들면, 제1 미러 패턴들(220)이 그리드 배열, 라인 배열, 메쉬 배열, 복수의 섬들의 배열 등과 같은 규칙적인 배열을 형성하며, 투명 기판(210)의 제1 영역(I)에 형성될 수 있다.
도 26을 참조하면, 투명 기판(210)의 제1 영역(I)의 상면 및 제1 미러 패턴들(220)의 표면들 상에 제1 미러막(230)을 형성하여 미러 모듈(204)을 제조할 수 있다. 제1 미러막(230)의 두께는 도 5에 도시된 제1 미러 패턴들(220)의 두께보다 작게 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르면, 제1 미러막(230)은 제1 미러 패턴들(210)을 커버하며 투명 기판(II)의 제1 영역(I) 상에서 연속적으로 컨포멀하게 형성될 수 있다.
도 27 및 도 28을 참조하면, 도 25의 미러 모듈(204)을 뒤집고 투명 기판(210)의 제2 영역(II)과 도 11의 표시 모듈(100)이 중첩되도록 미러 모듈(204)과 표시 모듈(100)을 결합하여 미러 표시 장치를 제조할 수 있다.
예를 들어, 투명 기판(210)의 제2 영역(II)의 하면에 투명 접착층(도시되지 않음)을 형성하여, 표시 모듈(100)을 상기 투명 접착층에 접착하여 미러 모듈(204)과 표시 모듈(100)을 결합할 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 미러 모듈(204)의 크기를 증가하여 미러 표시 장치의 크기를 증가시킬 수 있고, 표시 모듈(100)의 크기를 임의적으로 조절할 수 있는 장점이 있다.
특히, 표시 모듈(100)을 크게 만들기는 어려우나, 미러 모듈(204)을 크게 만들기는 공정상 매우 용이한 것으로, 미러 표시 장치의 크기를 증가시킬 수 있는 장점이 있다.
도 29는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 제2 미러 패턴들 및 제2 미러막이 베이스 기판의 다른 면에 배치된 점을 제외하면, 도 1에 도시된 미러 표시 장치와 실질적으로 동일하거나 유사하다. 이에 따라, 동일한 구성 요소에는 동일한 참조 부호를 부여하고, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.
도 29를 참조하면, 미러 표시 장치(16)는 표시 모듈(102) 및 미러 모듈(200)을 포함한다.
표시 모듈(102)은 기판(110), 기판(110) 상에 배치되는 표시부(120), 및 표시부(120)를 사이에 두고 기판(110)과 대향하는 미러(mirror) 기판(130)을 포함한다.
미러 모듈(200)은 표시 모듈(102)과 중첩하는 제2 영역(II)을 갖는 투명 기판(210), 투명 기판(210)의 제2 영역(II)에 인접한 제1 영역(I) 아래에 배열된 복수의 제1 미러 패턴들(220), 및 제1 미러 패턴들(220)을 따라 연속적으로 연장되는 제1 미러막(230)을 포함한다.
투명 기판(210)은 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 투명 기판(210)의 제2 영역(II)은 표시 모듈(102)과 중첩될 수 있으며, 표시 기능과 미러 기능을 수행할 수 있다. 투명 기판(210)의 제1 영역(I)은 제2 영역(II)에 인접하며 미러 기능을 수행할 수 있다.
투명 기판(210)은 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 포함할 수 있다. 투명 기판(210)은 제1 미러 패턴들(220), 제1 미러막(230), 및 표시 모듈(102)을 지지할 수 있다.
제1 미러 패턴들(220)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I)에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 미러 패턴들(220)은 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
제1 미러막(230)은 실질적으로 투명 기판(210)의 제1 영역(I)의 전면 상에 형성되어 제1 미러 패턴들(110)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제1 미러막(230)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 아래에서 연속적으로 연장되며, 제1 미러막(230)은 투명 기판(210)의 하면 및 제1 미러 패턴들(220)의 상기 표면들과 직접 접촉할 수 있다.
표시부(120)는 기판(110) 상에 형성된 스위칭 소자, 및 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결되는 표시 구조물을 포함할 수 있다.
기판(110)은 예를 들면, 유리 기판, 투명 플라스틱 기판, 플렉시블 플라스틱 기판 등을 포함할 수 있다.
미러 기판(130)은 베이스 기판(132), 베이스 기판(132) 아래에 배열되며 제1 미러 패턴들(220)에 대응되는 복수의 제2 미러 패턴들(134), 및 제2 미러 패턴들(134)을 따라 연속적으로 연장되고 제1 미러막(230)에 대응되는 제2 미러막(136)을 포함할 수 있다.
베이스 기판(132)은 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)으로 구분될 수 있다. 제3 영역(III)은, 예를 들면 미러 기판(130)이 표시 모듈(100)의 인캡슐레이션(encapsulation) 기판으로 제공되는 경우, 표시 모듈(100)의 화소 영역들 및 표시 모듈(100)의 구동 회로 및/또는 연성 인쇄 회로(flexible printed circuit: FPC)와 연결되기 위한 패드 등이 배치되는 주변 영역과 중첩될 수 있다. 제4 영역(IV)은 표시 모듈(100)에 전원을 공급하기 위한 배선들을 포함하는 배선 영역과 중첩될 수 있다.
제2 미러 패턴(134)은 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)에 걸쳐 배치될 수 있다. 예를 들면, 제2 미러 패턴들(134)이 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
제2 미러막(136)은 실질적으로 베이스 기판(132)의 전면 아래에 형성되어 제2 미러 패턴들(134)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제2 미러막(136)은 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV) 상에서 공통으로, 연속적으로 연장될 수 있다.
실링부(140)는 베이스 기판(132)의 제3 영역(III) 및 제4 영역(IV)의 경계부에 배치될 수 있다. 실링부(140)는 제2 미러막(136) 아래에 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 미러 표시 장치(10)는 제2 미러 패턴들(134)이 투명 기판(210)과 마주보도록 표시 모듈(102)과 미러 모듈(200)이 결합할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치에 의하면, 미러 모듈은 제1 미러 패턴들 및 제1 미러막을 포함하고 표시 모듈은 제2 미러 패턴들 및 제2 미러막을 포함할 수 있다. 미러 모듈이 표시 모듈이 갖는 미러 패턴 및 미러막 구조를 동일하게 포함함으로 인해, 상(image)가 분리되거나 번지는 문제를 해결할 수 있다.
특히, 제2 미러 패턴들(134)이 투명 기판(210)과 마주보도록 표시 모듈(102)과 미러 모듈(200)이 결합함으로, 제1 미러 패턴들(220) 및 제1 미러막(230)에 의해 반사되는 광과 제2 미러 패턴들(134) 및 제2 미러막(134)에 의해 반사되는 광 사이의 위상차를 줄일 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치에 의하면, 미러 모듈과 표시 모듈을 결합함으로 대면적으로 미러 표시 장치를 구현할 수 있는 장점과 더불어 상기 결합에 따른 표시 품질 저하를 효과적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
도 30은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 도 31은 도 30의 C 영역을 확대한 단면도이다. 인캡슐레이션 기판 대신 박막 봉지층이 배치되는 점 및 제3 미러 패턴들 및 제3 미러막을 제외하면, 도 1에 도시된 미러 표시 장치와 실질적으로 동일하거나 유사하다. 이에 따라, 동일한 구성 요소에는 동일한 참조 부호를 부여하고, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.
도 30 및 도 31을 참조하면, 미러 표시 장치(18)는 표시 모듈(104) 및 미러 모듈(208)을 포함한다.
표시 모듈(104)은 기판(110), 기판(110) 상에 배치되는 표시부(120), 및 표시부(120)와 미러 모듈(208) 사이에 개재되는 박막 봉지층(300)을 포함한다.
미러 모듈(208)은 표시 모듈(104)과 중첩하는 제2 영역(II)을 갖는 투명 기판(210), 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II) 아래에 배열된 복수의 제3 미러 패턴들(226) 및 제3 미러 패턴들(226)을 따라 연속적으로 연장되는 제3 미러막(232)을 포함한다.
투명 기판(210)은 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 투명 기판(210)의 제2 영역(II)은 표시 모듈(104)과 중첩될 수 있으며, 표시 기능과 미러 기능을 수행할 수 있다. 투명 기판(210)의 제1 영역(I)은 제2 영역(II)에 인접하며 미러 기능을 수행할 수 있다.
투명 기판(210)은 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 포함할 수 있다. 투명 기판(210)은 제3 미러 패턴들(226), 제3 미러막(232), 및 표시 모듈(104)을 지지할 수 있다.
제3 미러 패턴들(226)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제3 미러 패턴들(226)은 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
제3 미러막(232)은 실질적으로 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 및 제2영역(II)의 전면 상에 형성되어 제3 미러 패턴들(226)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제3 미러막(232)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II) 아래에서 연속적으로 연장되며, 제3 미러막(232)은 투명 기판(210)의 하면 및 제3 미러 패턴들(226)의 상기 표면들과 직접 접촉할 수 있다.
표시부(120)는 기판(110)에 배치되는 복수의 스위칭 소자들, 상기 스위칭 소자들을 커버하는 절연 구조물, 상기 절연 구조물을 적어도 부분적으로 관통하여 상기 스위칭 소자들과 각각 전기적으로 연결되는 복수의 제1 전극들(360), 제1 전극들(360) 상에 각각 배치되는 복수의 표시층들(380), 표시층들(380)을 사이에 두고 제1 전극들(360)과 각각 대향하는 복수의 제2 전극들(390)을 포함할 수 있다.
상기 절연 구조물은 게이트 절연막(320), 층간 절연막(330), 비아 절연막(350)을 포함할 수 있다.
화소 정의막(370)은 상기 절연 구조물 상에 배치되며, 제1 전극들(360)을 각각 노출하는 복수의 개구들(372, 374)을 포함할 수 있다.
박막 봉지층(300)은 제2 전극들(390)의 표면을 따라 연속적으로 배치되며, 제2 전극들(390)을 커버할 수 있다.
예를 들어, 박막 봉지층(300)은 제2 전극(390)의 프로파일을 따라 형성될 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 박막 봉지층(300)은 적어도 하나의 유기층 및 적어도 하나의 무기층이 교대로 적층되는 구조를 가질 수 있다. 여기서, 상기 무기층은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물, 알루미늄 산화물(AlOx), 알루미늄 질화물(AlNx), 티타늄 산화물(TiOx), 아연 산화물(ZnOx) 등을 포함할 수 있다.
한편, 상기 유기층은 아크릴레이트 모노머(acrylate monomer), 페닐아세틸렌(phenylacetylene), 디아민(diamine), 디안하이드라이드(dianhydride), 실록산(siloxane), 실란(silane), 파릴렌(parylene), 올레핀계 고분자(polyethylene, polypropylene), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate: PET), 플루오르수지(fluororesin), 폴리실록산(polysiloxane) 등을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 박막 봉지층(300)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I)과 결합할 수 있다. 또한, 박막 봉지층(300)의 두께(W1)는 화소 정의막(370)의 제1 개구(372)의 측면으로부터 화소 정의막(370)의 인접한 제2 개구(374)의 측면까지의 폭(L1) 보다 작을 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치는 미러 모듈과 표시 모듈을 결합함으로 대면적으로 미러 표시 장치를 구현할 수 있는 장점과 더불어 상기 결합에 따른 표시 품질 저하를 효과적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
특히, 박막 봉지층이 구비된 상기 표시 모듈을 상기 미러 모듈에 결합하고, 박막 봉지층의 두께가 화소 정의막의 폭보다 작으므로 상 분리에 따른 표시 품질 저하를 방지할 수 있다.
도 32는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 도 33은 도 32의 D 영역을 확대한 단면도이다. 표시 모듈이 배면 발광 구조를 갖는 점을 제외하면, 도 31에 도시된 미러 표시 장치와 실질적으로 동일하거나 유사하다. 이에 따라, 동일한 구성 요소에는 동일한 참조 번호를 부여하고, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.
도 32 및 도 33을 참조하면, 미러 표시 장치(20)는 표시 모듈(106) 및 미러 모듈(208)을 포함한다.
미러 모듈(208)은 표시 모듈(104)과 중첩하는 제2 영역(II)을 갖는 투명 기판(210), 투명 기판(210)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II) 아래에 배열된 복수의 제3 미러 패턴들(226) 및 제3 미러 패턴들(226)을 따라 연속적으로 연장되는 제3 미러막(232)을 포함한다.
표시 모듈(106)은 기판(112), 기판(110) 아래에 배치되는 표시부(122), 및 표시부(122)를 커버하는 박막 봉지층(302)을 포함한다.
표시부(122)는 기판(112) 아래에 형성된 복수의 스위칭 소자들, 및 상기 스위칭 소자들과 각각 전기적으로 연결되는 복수의 표시 구조물들을 포함할 수 있다.
각각의 상기 스위칭 소자는 예를 들면, 액티브 패턴(415), 게이트 절연막(420), 게이트 전극(425), 소스 전극(443) 및 드레인 전극(445)을 포함하는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)를 포함할 수 있다. 상기 표시 구조물은 예를 들면, 제1 전극(460), 표시층(480) 및 제2 전극(490)을 포함할 수 있다.
기판(112)은 예를 들면, 유리 기판, 투명 플라스틱 기판, 플렉시블 플라스틱 기판 등을 포함할 수 있다. 이와는 달리, 기판(112)은 유기 필름을 포함할 수 있다.
기판(112)의 저면 아래에는 배리어막(412)이 형성될 수 있다. 기판(112) 및 기판(112) 아래에 형성된 구조물 사이의 불순물 확산이 차단될 수 있다.
게이트 절연막(420)은 배리어막(412) 아래에 형성되어 액티브 패턴(415)을 커버할 수 있다. 게이트 전극(425)는 게이트 절연막(420) 아래에 형성되어 액티브 패턴(415)과 중첩될 수 있다.
층간 절연막(430)은 게이트 절연막(420) 아래에 형성되어, 게이트 전극(425)을 커버할 수 있다. 소스 전극(443) 및 드레인 전극(445)은 층간 절연막(430) 및 게이트 절연막(420)을 관통하여 액티브 패턴(415)과 접촉할 수 있다.
비아 절연막(450)은 층간 절연막(430) 및 드레인 전극(445)을 커버할 수 있다. 제1 전극(460)은 비아 절연막(450)을 관통하여 예를 들면, 드레인 전극(445)과 전기적으로 연결될 수 있다.
화소 정의막(470)은 비아 절연막(450) 아래에 형성되어 제1 전극(460)의 주변부를 일부 커버할 수 있다. 또한, 화소 정의막(470)은 표시층(480)을 노출시키는 복수의 개구들(472, 474)을 포함할 수 있다. 표시층(480)은 제1 전극(460) 아래에 형성될 수 있다.
제2 전극(490)은 화소 정의막(470) 및 화소 정의막(470)의 개구들(472, 474)에 의해 노출되는 표시층(480)의 표면을 따라 형성될 수 있다.
박막 봉지층(302)은 제2 전극들(490)의 표면을 따라 연속적으로 배치되며, 제2 전극(490)을 커버할 수 있다.
배리어막(412), 액티브 패턴(415), 게이트 절연막(420), 게이트 전극(425), 층간 절연막(430), 소스 전극(443) 및 드레인 전극(445), 비아 절연막(450), 제1 전극(460), 화소 정의막(470), 표시층(480), 및 제2 전극(490)은 도 1 및 도 3에 도시된 배리어막(310), 액티브 패턴(315), 게이트 절연막(320), 게이트 전극(325), 층간 절연막(330), 소스 전극(343) 및 드레인 전극(345), 비아 절연막(350), 제1 전극(360), 화소 정의(370), 표시층(380), 및 제2 전극(490)과 각각 실질적으로 동일한 물질을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 기판(112)은 투명 기판(210)의 제1 영역(I)과 결합할 수 있다. 또한, 기판(112)의 두께(W2)는 화소 정의막(470)의 제1 개구(472)의 측면으로부터 화소 정의막(470)의 인접한 제2 개구(474)의 측면까지의 폭(L2) 보다 작을 수 있다. 예를 들어, 기판(112)은 유기 필름을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치는 미러 모듈과 표시 모듈을 결합함으로 대면적으로 미러 표시 장치를 구현할 수 있는 장점과 더불어 상기 결합에 따른 표시 품질 저하를 효과적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
특히, 배면 발광 구조를 갖는 상기 표시 모듈을 상기 미러 모듈에 결합하고, 기판의 두께가 화소 정의막의 폭보다 작으므로 상 분리에 따른 표시 품질 저하를 방지할 수 있다.
이상에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
10, 12, 14, 16: 미러 표시 장치 100, 102: 표시 모듈
110: 기판 120: 표시부
130: 미러 기판 132: 베이스 기판
134: 제2 미러 패턴 136: 제2 미러막
140: 실링부 200, 202, 204: 미러 모듈
210: 투명 기판 220: 제1 미러 패턴
230: 제1 미러막 310: 배리어막
315: 액티브 패턴 320: 게이트 절연막
325: 게이트 전극 330: 층간 절연막
343: 소스 전극 345: 드레인 전극
350: 비아 절연막 360: 제1 전극
370: 화소 정의막 380: 표시층
390: 제2 전극 400: 위상 보정층
410: 리세스

Claims (20)

  1. 투명 기판, 및 상기 투명 기판의 제1 면의 제1 영역에 배치된 복수의 제1 미러 패턴들을 포함하는 미러 모듈; 및
    상기 투명 기판의 상기 제1 면의 제2 영역에 결합되며, 광을 발생하는 표시부, 및 복수의 제2 미러 패턴들을 포함하는 표시 모듈을 포함하는 미러 표시 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 미러 모듈은 상기 제1 미러 패턴들을 따라 연속적으로 연장되는 제1 미러막을 더 포함하고,
    상기 표시 모듈은 상기 제2 미러 패턴들을 따라 연속적으로 연장되는 제2 미러막을 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 표시부는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함하며,
    상기 발광 영역은 이웃하는 상기 제2 미러 패턴들 사이의 영역과 중첩되며, 상기 비발광 영역은 상기 제2 미러막 및 상기 각각의 제2 미러 패턴을 포함하는 적층 구조와 중첩되는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 발광 영역은 유기 발광층 또는 액정층을 포함하는 미러 표시 장치.
  5. 제 2 항에 있어서, 상기 투명 기판의 일면으로부터 각각의 상기 제1 미러 패턴의 일면까지의 거리와 상기 투명 기판의 상기 일면으로부터 각각의 상기 제2 미러 패턴의 일면까지의 거리는 동일한 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 표시 모듈은 상기 제2 미러 패턴들이 배치되는 베이스 기판을 더 포함하고,
    상기 베이스 기판은 상기 제2 미러 패턴들과 상기 투명 기판 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 표시 모듈은 상기 제2 미러 패턴들이 배치되는 베이스 기판을 더 포함하고,
    상기 제2 미러 패턴들은 상기 투명 기판과 상기 베이스 기판 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  8. 제 2 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 미러 패턴들, 및 상기 제1 및 제2 미러막은 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  9. 제 2 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 미러 패턴들은 동일한 물질을 포함하고, 상기 제1 및 제2 미러막은 동일한 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 미러 모듈은,
    상기 투명 기판의 제1 영역과 상기 제1 미러 패턴들 사이에 개재되는 위상 보정층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 미러 모듈은,
    상기 투명 기판의 상기 제2 영역에 구비되어 상기 표시 모듈의 적어도 일부가 삽입되는 리세스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  12. 투명 기판, 및 상기 투명 기판의 표면을 따라 연속적으로 배치된 복수의 제3 미러 패턴들을 포함하는 미러 모듈; 및
    상기 투명 기판의 제1 영역에 결합되며, 광을 발생하는 표시부를 갖는 표시 모듈을 포함하는 미러 표시 장치.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 표시부는,
    기판에 배치되는 복수의 스위칭 소자들;
    상기 스위칭 소자들을 커버하는 절연 구조물;
    상기 절연 구조물을 적어도 부분적으로 관통하여 상기 스위칭 소자들과 각각 전기적으로 연결되는 복수의 제1 전극들;
    상기 제1 전극들 상에 각각 배치되는 복수의 표시층들; 및
    상기 표시층들을 사이에 두고 상기 제1 전극들과 각각 대향하는 복수의 제2 전극들을 포함하고,
    상기 표시 모듈은 상기 제2 전극들의 표면을 따라 연속적으로 배치되며, 상기 제2 전극들을 커버하는 박막 봉지층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 절연 구조물의 표면을 따라 배치되며, 상기 제1 전극들을 각각 노출하는 복수의 개구들을 갖는 화소 정의막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 박막 봉지층이 상기 투명 기판의 상기 제1 영역과 결합하며,
    상기 박막 봉지층의 두께는 상기 화소 정의막의 제1 개구의 측면으로부터 상기 화소 정의막의 인접한 제2 개구의 측면까지의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  16. 제 14 항에 있어서, 상기 기판이 상기 투명 기판의 상기 제1 영역과 결합하며,
    상기 기판의 두께는 상기 화소 정의막의 제1 개구의 측면으로부터 상기 화소 정의막의 인접한 제2 개구의 측면까지의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
  17. 기판, 상기 기판 상에 배치되는 표시부, 및 상기 표시부를 사이에 두고 상기 기판과 대향하는 미러 기판을 포함하는 표시 모듈을 제공하는 단계;
    상기 표시 모듈에 대응하는 제1 영역을 갖는 투명 기판, 상기 투명 기판의 상기 제1 영역에 인접한 제2 영역 상에 배열된 복수의 제1 미러 패턴들, 및 상기 제1 미러 패턴들을 따라 연속적으로 연장되는 제1 미러막을 포함하는 미러 모듈을 제공하는 단계; 및
    상기 투명 기판의 상기 제1 영역에 상기 표시 모듈이 중첩하도록 상기 표시 모듈과 상기 미러 모듈을 결합하는 단계를 포함하는 미러 표시 장치의 제조 방법.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 표시 모듈을 제공하는 단계는,
    베이스 기판 상에 복수의 제2 미러 패턴들을 형성하는 단계;
    상기 제2 미러 패턴들을 따라 연속적으로 연장되는 제2 미러막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제 17 항에 있어서, 상기 미러 모듈을 제공하는 단계는,
    상기 투명 기판의 제2 영역과 상기 제1 미러 패턴들 사이에 개재되는 위상 보정층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법.
  20. 제 17 항에 있어서, 상기 미러 모듈을 제공하는 단계는,
    상기 투명 기판의 상기 제1 영역에 구비되어 상기 표시 모듈을 수용하는 리세스를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법.
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