CN109686764A - 一种显示面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提出了一种显示面板及其制作方法。所述显示面板包括基板以及设置于所述基板上方的彩膜层。其中，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，所述彩膜层包括对应于所述像素开口区的第一色阻单元以及对应于所述非开口区的第二色阻单元，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。本发明在彩膜层中黑色色阻单元表面制备纳米阵列结构，通过纳米阵列结构对光线的吸收和漫反射作用降低彩膜层的反射率，进而提高显示面板的对比度。

Description

一种显示面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
在显示面板中加入偏光片(POL)能够降低强光下显示面板对外界光线的反射率，但是也存在以下缺陷。一方面，偏光片会减少OLED显示面板中有机发光材料(OrganicLight-Emitting Diode,简称OLED)的使用寿命；另一个方面，偏光片厚度较大、材质脆，不利于动态弯折显示面板的开发。为了开发基于OLED显示技术的动态弯折产品，必须导入新材料、新技术以及新工艺代替偏光片。
在显示面板中，采用彩膜层(Color Filter,简称CF)替代偏光片的方式能够解决上述问题。使用彩膜技术的显示面板不仅能够实现显示面板的轻薄化，而且能够将显示面板的出光率从42％提高至60％，提高了显示面板的对比度。但是，使用彩膜技术的显示面板的反射率较高，不利于室外显示。
因此，目前亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述问题。
发明内容
本发明提供了一种显示面板及其制作方法，以解决显示面板对外界环境光反射率较高的问题。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
根据本发明的一个方面，提供了一种显示面板，包括基板以及设置于所述基板上方的彩膜层；
其中，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，所述彩膜层包括对应于所述像素开口区的第一色阻单元以及对应于所述非开口区的第二色阻单元，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。
根据本发明一实施例，所述第一色阻单元至少包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，所述第二色阻单元包括黑色色阻单元；
其中，所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元和所述蓝色色阻单元中的任意两者通过所述黑色色阻单元隔离。
根据本发明一实施例，所述本体和所述纳米阵列结构一体化设置。
根据本发明一实施例，所述纳米阵列结构包括圆锥状纳米阵列结构。
根据本发明一实施例，所述显示面板还包括有机发光层和封装层；
其中，所述有机发光层设置在所述基板上，所述封装层设置在所述有机发光层上，所述彩膜层设置在所述封装层上。
根据本发明一实施例，所述显示面板还包括位于所述基板和所述彩膜层之间的液晶层；
所述彩膜层还包括衬底，所述第一色阻单元和所述第二色阻单元设置在所述衬底表面。
根据本发明的另一个方面，还提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，所述显示面板的制作方法包括：
步骤S10、提供一基板；
步骤S20、在所述基板上方形成色阻层，并在所述色阻层的表面形成纳米阵列图案；
步骤S30、对形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层进行图案化处理，以形成对应于所述非开口区的第二色阻单元；
步骤S40、在相邻所述第二色阻单元之间形成对应于所述像素开口区的第一色阻单元，以形成彩膜层；
其中，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。
根据本发明一实施例，所述步骤S20具体包括：提供一具有纳米阵列图案的模板，通过纳米压印技术将所述模板上的纳米阵列图案转印至所述色阻层，以在所述色阻层的表面形成所述纳米阵列图案。
根据本发明一实施例，所述步骤S30具体包括：对形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层进行曝光、刻蚀、显影和烘烤，以将形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层图案化。
根据本发明一实施例，所述纳米阵列结构包括圆锥状纳米阵列结构。
有益效果：本发明在彩膜层中黑色色阻单元表面制备纳米阵列结构，通过纳米阵列结构对光线的吸收和漫反射作用降低彩膜层的反射率，进而提高显示面板的对比度。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明第一实施例提供的显示面板的结构示意图；
图2为本发明第二实施例提供的显示面板的结构示意图；
图3为本发明第三实施例提供的显示面板的结构示意图；
图4为本发明第四实施例提供的圆锥状纳米结构的示意图；
图5为本发明第五实施例提供的纳米阵列结构对光线反射的示意图；
图6为本发明第六实施例提供的显示面板制作方法的结构示意图；
图7a-7c为本发明第七实施例提供的显示面板制作方法的流程示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明提供了一种显示面板及其制作方法，以解决显示面板对外界环境光反射率较高的问题。
请参阅图1，图1为本发明第一实施例提供的显示面板10的结构示意图。
根据本发明的一个方面，提供了一种显示面板10，包括基板11以及设置于所述基板11上方的彩膜层12。
在一种实施例中，所述基板11包括阵列基板，所述阵列基板包括基底以及设置在所述基底上的薄膜晶体管阵列，所述薄膜晶体管阵列用于控制所述显示面板10中像素的显示。
其中，所述显示面板10包括像素开口区10a以及设置于所述像素开口区10a周围的非开口区10b。
显示面板10包括显示区以及围绕所述显示区设置的非显示区，所述显示区内设置有多个用于实现显示面板10显示功能的像素，相邻所述像素之间存在空隙；
其中，所述像素所对应的区域为像素开口区10a，所述像素之间的空隙所对应的区域为非开口区10b。
在一种实施例中，所述彩膜层12包括对应于所述像素开口区10a的第一色阻单元121以及对应于所述非开口区10b的第二色阻单元122。
所述第一色阻单元121用以将所述像素的出光过滤为预定色度的光；所述第二色阻单元122用以将所述像素之间的出光吸收，防止相邻像素之间发生漏光。
所述第二色阻单元122包括本体1221以及设置于所述本体1221表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构1222。当外界光线照入所述显示面板10时，在所述纳米阵列结构1222处发生多次漫反射，进而增加了光线的吸收和消耗。本发明通过漫反射和吸收的协同作用降低了彩膜层12的反射率，进而提高了显示面板10的对比度。
在一种实施例中，所述本体1221和所述纳米阵列结构1222一体化设置。
每个所述像素至少包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。
在一种实施例中，所述第一色阻单元121至少包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，所述第二色阻单元122包括黑色色阻单元。
所述红色色阻单元对应于所述红色子像素，所述绿色色阻单元对应于所述绿色子像素，所述蓝色色阻单元对应于所述蓝色子像素。
其中，所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元和所述蓝色色阻单元中的任意两者通过所述黑色色阻单元隔离，以防止相邻所述像素之间发生漏光。
在一种实施例中，所述第一色阻单元121和所述第二色阻单元122的制备材料包括光刻胶。
纳米压印技术(Nano Imprint Lithography，简称NIL)是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。
其通常包括以下三个步骤：
1、模板的技工；
2、图样的转移；
3、衬底的加工。
在一种实施例中，所述纳米阵列结构1222通过纳米压印技术形成于所述本体1221表面，通过采用纳米压印技术能够实现纳米阵列结构1222的微纳结构。
纳米压印技术突破了传统光刻胶在特征尺寸减少过程中的难题，具有分辨率高、低成本和高产率的特点。
粗糙的表面容易发生漫反射而显得黯淡无光，本发明通过纳米阵列结构1222的设置能够提升第二色阻单元122的粗糙度。
为了提升所述纳米阵列结构1222对光线的吸收和反射，需将纳米阵列结构1222设计为易于光线反射的形状和结构。例如，所述纳米阵列结构1222包括圆锥状纳米阵列结构。
请参阅图4，图4为本发明第四实施例提供的圆锥状纳米结构1222a的示意图。
圆锥状纳米阵列结构1222a也称为金字塔状纳米阵列结构。
请参阅图5，图5为本发明第五实施例提供的纳米阵列结构1222对光线反射的示意图。
在一种实施例中，圆锥状纳米阵列结构1222a包括阵列排布的圆锥状纳米结构1222a。所述圆锥状纳米结构1222a从侧面看可以简化为等腰三角形。通过计算等腰三角形的高H与底面积S之比，可以得到其比值系数ρ。当ρ值越大，等腰三角形越细，那么光照射到表面的反射次数越多，反射率也越低。ρ值越小，纳米结构的制备也越困难。因此，必须综合技术成本以及技术效果，进行ρ值的优化。
在一种实施例中，所述纳米阵列结构1222的形状并不仅限于圆锥状，也可以为半圆体状等其它能够增加对光的漫反射和吸收的形状。
在一种实施例中，所述彩膜层12结构可应用于液晶显示面板和有机发光显示面板中的其中一者，均能够改善相对应的显示面板10的开口率。
请参阅图2，图2为本发明第二实施例提供的显示面板10的结构示意图。
在一种实施例中，所述显示面板10还包括有机发光层13和封装层14；
所述有机发光层13设置在所述基板11上，所述有机发光层13包括有机发光材料；
所述封装层14设置在所述有机发光层13上，所述封装层14用以保护所述有机发光层13免受外界水氧侵蚀；
所述彩膜层12设置在所述封装层14上，所述彩膜层12用以对所述显示面板10的出光进行过滤。
请参阅图3，图3为本发明第三实施例提供的显示面板10的结构示意图。
在一种实施例中，所述显示面板10还包括位于所述基板11和所述彩膜层12之间的液晶层15；
所述彩膜层12还包括衬底，所述第一色阻单元121和所述第二色阻单元122设置在所述衬底表面。
在一种实施例中，所述基板11包括阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜层12相对设置。
请参阅图6，图6为本发明第六实施例提供的显示面板10制作方法的结构示意图。
根据本发明的又一个方面，提供了一种显示面板10的制作方法，所述显示面板10包括像素开口区10a以及设置于所述像素开口区10a周围的非开口区10b。
显示面板10包括显示区以及围绕所述显示区设置的非显示区，所述显示区内设置有多个用于实现显示面板10显示功能的像素，相邻所述像素之间存在空隙；
其中，所述像素所对应的区域为像素开口区10a，所述像素之间的空隙所对应的区域为非开口区10b。
所述显示面板10的制作方法包括：
请参阅图7a，步骤S10、提供一基板11；
步骤S20、在所述基板11上方形成色阻层，并在所述色阻层的表面形成纳米阵列图案。
在一种实施例中，所述步骤S20具体包括：提供一具有纳米阵列图案的模板，通过纳米压印技术将所述模板上的纳米阵列图案转印至所述色阻层，以在所述色阻层的表面形成所述纳米阵列图案。
在一种实施例中，所述模板为金属模板。
请参阅图7b，步骤S30、对形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层进行图案化处理，以形成对应于所述非开口区10b的第二色阻单元122；
在一种实施例中，所述步骤S30具体包括：对形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层进行曝光、刻蚀、显影和烘烤，以将形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层图案化。
请参阅图7c，步骤S40、在相邻所述第二色阻单元122之间形成对应于所述像素开口区10a的第一色阻单元121，以形成彩膜层12；
其中，所述第二色阻单元122包括本体1221以及设置于所述本体1221表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构1222。
所述第一色阻单元121用以将所述像素的出光过滤为预定色度的光；所述第二色阻单元122用以将所述像素之间的出光吸收，防止相邻所述像素之间发生漏光。
所述第二色阻单元122包括本体1221以及设置于所述本体1221表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构1222。当外界光线照入所述显示面板10时，在所述纳米阵列结构1222处发生多次漫反射，进而增加了光线的吸收和消耗，通过漫反射和吸收的协同作用降低了彩膜层12的反射率，进而提高了显示面板10的对比度。
在一种实施例中，所述本体1221和所述纳米阵列结构1222一体化设置。
在一种实施例中，所述纳米阵列结构1222包括圆锥状纳米阵列结构。
每个所述像素至少包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。
在一种实施例中，所述第一色阻单元121至少包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，所述第二色阻单元122包括黑色色阻单元。
所述红色色阻单元对应于所述红色子像素，所述绿色色阻单元对应于所述绿色子像素，所述蓝色色阻单元对应于所述蓝色子像素。
其中，所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元和所述蓝色色阻单元中的任意两者通过所述黑色色阻单元间隔，以防止相邻所述像素之间发生漏光。
在一种实施例中，所述第一色阻单元121和所述第二色阻单元122的制备材料包括光刻胶。
在一种实施例中，所述彩膜层12结构可应用于液晶显示面板10和有机发光显示面板10中的其中一者，均能够改善显示面板10的开口率。
在一种实施例中，所述显示面板10的制作方法还包括有机发光层13和封装层14的制备；
其中，所述有机发光层13形成在所述基板11上，所述有机发光层13包括有机发光材料；
所述封装层14形成在所述有机发光层13上，所述封装层14用以保护所述有机发光层13免受外界水氧侵蚀；
所述彩膜层12形成在所述封装层14上，所述彩膜层12用以对所述显示面板10的出光进行过滤。
在一种实施例中，所述显示面板10还包括位于所述基板11和所述彩膜层12之间的液晶层15；
所述彩膜层12还包括衬底，所述第一色阻单元121和所述第二色阻单元122形成在所述衬底表面。
在一种实施例中，所述基板11包括阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜层12相对设置。
有益效果：本发明在彩膜层中黑色色阻单元表面制备纳米阵列结构，通过纳米阵列结构对光线的吸收和漫反射作用降低彩膜层的反射率，进而提高显示面板的对比度。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括基板以及设置于所述基板上方的彩膜层；
其中，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，所述彩膜层包括对应于所述像素开口区的第一色阻单元以及对应于所述非开口区的第二色阻单元，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一色阻单元至少包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，所述第二色阻单元包括黑色色阻单元；
其中，所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元和所述蓝色色阻单元中的任意两者通过所述黑色色阻单元隔离。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述本体和所述纳米阵列结构一体化设置。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述纳米阵列结构包括圆锥状纳米阵列结构。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括有机发光层和封装层；
其中，所述有机发光层设置在所述基板上，所述封装层设置在所述有机发光层上，所述彩膜层设置在所述封装层上。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述基板和所述彩膜层之间的液晶层；
所述彩膜层还包括衬底，所述第一色阻单元和所述第二色阻单元设置在所述衬底表面。
7.一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，其特征在于，所述显示面板的制作方法包括：
步骤S10、提供一基板；
步骤S20、在所述基板上方形成色阻层，并在所述色阻层的表面形成纳米阵列图案；
步骤S30、对形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层进行图案化处理，以形成对应于所述非开口区的第二色阻单元；
步骤S40、在相邻所述第二色阻单元之间形成对应于所述像素开口区的第一色阻单元，以形成彩膜层；
其中，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S20具体包括：提供一具有纳米阵列图案的模板，通过纳米压印技术将所述模板上的纳米阵列图案转印至所述色阻层，以在所述色阻层的表面形成所述纳米阵列图案。
9.根据权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S30具体包括：对形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层进行曝光、刻蚀、显影和烘烤，以将形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层图案化。
10.根据权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述纳米阵列结构包括圆锥状纳米阵列结构。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111864105A (zh) * 2020-07-09 2020-10-30 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法
WO2020220554A1 (zh) * 2019-04-29 2020-11-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 有机发光二极管显示屏及其制作方法
CN113690390A (zh) * 2021-08-23 2021-11-23 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法、显示设备
WO2023000387A1 (zh) * 2021-07-20 2023-01-26 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板和显示装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103474453A (zh) * 2013-09-23 2013-12-25 京东方科技集团股份有限公司 电致发光装置及其制备方法
CN104597656A (zh) * 2015-02-13 2015-05-06 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板、制造方法及液晶面板
US20150187852A1 (en) * 2012-08-01 2015-07-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display Device
CN105511154A (zh) * 2016-02-19 2016-04-20 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法
CN106157818A (zh) * 2016-09-05 2016-11-23 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示面板、其制作方法及显示装置
US20170338169A1 (en) * 2016-05-20 2017-11-23 Infineon Technologies Ag Chip package, method of forming a chip package and method of forming an electrical contact

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101859856B (zh) * 2010-06-04 2016-06-15 清华大学 发光二极管
CN102456710B (zh) * 2011-10-28 2013-09-11 昆山维信诺显示技术有限公司 Oled 及其制作方法、透视性单向发光屏体和触摸屏
US20160161650A1 (en) * 2014-12-05 2016-06-09 Pixtronix, Inc. Displays with selective reflectors and color conversion material
CN104749816B (zh) * 2015-04-14 2017-11-10 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置
KR102447049B1 (ko) * 2016-01-05 2022-09-27 삼성디스플레이 주식회사 대면적 미러 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN106324877B (zh) * 2016-10-20 2019-09-20 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示面板制作方法及驱动方法、显示装置
KR20180062249A (ko) * 2016-11-30 2018-06-08 엘지디스플레이 주식회사 커버 윈도우 및 이를 포함하는 폴더블 표시장치
US11024775B2 (en) * 2017-10-17 2021-06-01 Lumileds Llc LED emitters with integrated nano-photonic structures to enhance EQE
KR20200029925A (ko) * 2018-09-11 2020-03-19 삼성전자주식회사 광변조 소자와 그 동작방법 및 광변조 소자를 포함하는 장치

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150187852A1 (en) * 2012-08-01 2015-07-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display Device
CN103474453A (zh) * 2013-09-23 2013-12-25 京东方科技集团股份有限公司 电致发光装置及其制备方法
CN104597656A (zh) * 2015-02-13 2015-05-06 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板、制造方法及液晶面板
CN105511154A (zh) * 2016-02-19 2016-04-20 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法
US20170338169A1 (en) * 2016-05-20 2017-11-23 Infineon Technologies Ag Chip package, method of forming a chip package and method of forming an electrical contact
CN106157818A (zh) * 2016-09-05 2016-11-23 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示面板、其制作方法及显示装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020220554A1 (zh) * 2019-04-29 2020-11-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 有机发光二极管显示屏及其制作方法
CN111864105A (zh) * 2020-07-09 2020-10-30 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法
WO2023000387A1 (zh) * 2021-07-20 2023-01-26 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板和显示装置
CN113690390A (zh) * 2021-08-23 2021-11-23 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法、显示设备

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