KR102396748B1 - 미러 표시 장치 및 이의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
미러 표시 장치는 제1 기판 상에 배치되는 표시부, 표시부를 사이에 두고 제1 기판과 대향하는 제2 기판 아래에 배치되는 복수의 미러 패턴들, 제2 기판 및 미러 패턴들의 저면을 따라 연속적으로 연장되는 미러막, 및 미러막 아래에 적층되는 유기막을 포함한다. 유기막이 복수의 미러 패턴 및 미러막 아래에 배치되어, 미러 표시 장치에서 표시하는 색상을 보정할 수 있다.
Description
본 발명은 미러 표시 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 복수의 미러 패턴들을 포함하는 미러 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 유기 발광 표시(Organic Light Emitting Display: OLED) 장치 및 액정 표시 장치(Liquid Display Device: LCD)와 같은 표시 장치에 있어서 화상 표시와 동시에 미러(mirror) 기능을 부여하려는 연구가 지속되고 있다.
상기 미러 기능 구현을 위해, 반사 기능을 갖는 막 구조 또는 패턴들이 표시 장치에 삽입될 수 있다. 따라서, 상기 미러 기능 구현에 의해 표시 품질이 상대적으로 저하될 수 있다.
특히, 상기 표시 장치는 원하는 색상을 표현하기 위해 미러 기능 구현과 동시에 색상을 보정하는 구조가 필요한 실정이다.
본 발명의 일 과제는 표시 품질이 향상된 미러 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 과제는 표시 품질이 향상된 미러 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
상술한 본 발명의 일 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치는 제1 기판 상에 배치되는 표시부, 상기 표시부를 사이에 두고 상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판 아래에 배치되는 복수의 미러 패턴들, 상기 제2 기판 및 상기 미러 패턴들의 저면을 따라 연속적으로 연장되는 미러막, 및 상기 미러막의 표면을 따라 연속적으로 연장되는 유기막을 포함한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 유기막은 Alq3 (8-hydroxyquinoline aluminum)을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 표시부는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함할 수 있다. 상기 발광 영역은 이웃하는 상기 미러 패턴들 사이의 상기 미러막 및 상기 유기막을 포함하는 적층 구조와 중첩되고, 상기 비발광 영역은 상기 미러 패턴들 및 상기 미러막을 포함하는 적층 구조와 중첩될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 색 영역 및 제2 색 영역을 포함하고, 상기 제1 색 영역과 중첩되는 상기 유기막의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 상기 유기막의 일부의 제2 두께는 서로 다를 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 색 영역 및 제2 색 영역을 포함하고, 상기 제1 색 영역과 중첩되는 상기 미러막의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 상기 미러막의 일부의 제2 두께는 서로 다를 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 내지 제3 색 영역들을 포함하고, 상기 제1 내지 제3 색 영역들과 각각 중첩되는 상기 유기막의 일부들의 제1 내지 제3 두께는 서로 다를 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 내지 제3 색 영역은 각각 적색 영역, 녹색 영역, 및 청색 영역이며, 상기 제1 두께가 가장 크고 상기 제3 두께가 가장 작을 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 내지 제3 색 영역들을 포함하고, 상기 제1 내지 제3 색 영역들과 각각 중첩되는 상기 미러막의 일부들의 제1 내지 제3 두께는 서로 다를 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 내지 제3 색 영역은 각각 적색 영역, 녹색 영역, 및 청색 영역이며, 상기 제1 두께가 가장 크고 상기 제3 두께가 가장 작을 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 미러 패턴들은 금속을 포함할 수 있다.
상술한 본 발명의 다른 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법은 제1 기판 상에 배치되는 표시부를 제공한다. 제2 기판 상에 복수의 미러 패턴들을 형성한다. 상기 제2 기판 및 상기 미러 패턴들의 상면을 따라 연속적으로 연장되는 미러막을 형성한다. 상기 미러막 상에 적층되는 유기막을 형성한다. 상기 유기막 상에 실링부를 형성한다. 상기 실링부를 이용하여 상기 제1 기판에 상기 제2 기판을 부착한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 유기막은 상기 미러막의 표면을 따라 연속적으로 연장될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 유기막은 상기 미러막의 일부 아래에 적층될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 유기막은 Alq3 (8-hydroxyquinoline aluminum)을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 표시부는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함할 수 있다. 상기 발광 영역은 이웃하는 상기 미러 패턴들 사이의 상기 미러막 및 상기 유기막을 포함하는 적층 구조와 중첩되고, 상기 비발광 영역은 상기 미러 패턴들 및 상기 미러막을 포함하는 적층 구조와 중첩될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 색 영역 및 제2 색 영역을 포함하고, 상기 제1 색 영역과 중첩되는 상기 유기막의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 상기 유기막의 일부의 제2 두께는 서로 다를 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 색 영역 및 제2 색 영역을 포함하고, 상기 제1 색 영역과 중첩되는 상기 미러막의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 상기 미러막의 일부의 제2 두께는 서로 다를 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 내지 제3 색 영역들을 포함하고, 상기 제1 내지 제3 색 영역들과 각각 중첩되는 상기 유기막의 일부들의 제1 내지 제3 두께는 서로 다를 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 내지 제3 색 영역은 각각 적색 영역, 녹색 영역, 및 청색 영역이며, 상기 제1 두께가 가장 크고 상기 제3 두께가 가장 작을 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 미러 패턴들은 금속을 포함할 수 있다.
전술한 바와 같이 본 발명의 예시적인 실시예들에 따르는 미러 표시 장치는 유기막을 복수의 미러 패턴 및 미러막 상에 배치하여, 표시 장치에서 표시하는 색상의 특성을 보정할 수 있다.
특히, 유기막의 일부의 두께를 조절하여 적색, 녹색, 청색의 색상들의 특성들을 각각 보정할 수 있으며 미러 표시 장치의 표시 품질을 향상시킬 수 있다. 또한, 미러막의 일부의 두께를 조절하여, 상기 색상들의 특성들을 각각 보정할 수 있다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1의 A 영역을 확대한 단면도이다.
도 3 내지 도 8은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 9는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 10은 도 9의 C 영역을 확대한 단면도이다.
도 11은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 12는 도 11의 D 영역을 확대한 단면도이다.
도 2는 도 1의 A 영역을 확대한 단면도이다.
도 3 내지 도 8은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 9는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 10은 도 9의 C 영역을 확대한 단면도이다.
도 11은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 12는 도 11의 D 영역을 확대한 단면도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 이 때, 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고, 동일한 구성 요소에 대해서는 중복되는 설명을 생략하기로 한다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 도 2는 도 1의 A 영역을 확대한 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 미러 표시 장치는 제1 기판(100) 상에 배치되는 표시부(200), 표시부(200)를 사이에 두고 제1 기판(100)과 대향하는 제2 기판(310) 아래에 배치되는 복수의 미러 패턴들(320), 제2 기판(310) 및 미러 패턴들(320)의 저면을 따라 연속적으로 연장되는 미러막(330), 미러막(330) 아래에 적층되는 유기막(340)을 포함한다.
제1 기판(100)은 유리 기판, 투명 플라스틱 기판, 플렉시블 플라스틱 기판 등을 포함할 수 있다. 제1 기판(100)은 후술하는 표시부(200)를 지지할 수 있다.
표시부(200)는 제1 기판(100) 상에 형성된 스위칭 소자, 및 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결되는 표시 구조물을 포함할 수 있다.
상기 스위칭 소자는 예를 들면, 액티브 패턴(215), 게이트 절연막(220), 게이트 전극(225), 소스 전극(243) 및 드레인 전극(245)을 포함하는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)를 포함할 수 있다. 상기 표시 구조물은 예를 들면, 제1 전극(260), 발광층(280) 및 제2 전극(290)을 포함할 수 있다.
제1 기판(100)의 상면 상에는 배리어막(210)이 형성될 수 있다. 배리어막(210)에 의해 제1 기판(100)을 통해 침투하는 수분이 차단될 수 있으며, 제1 기판(100) 및 제1 기판(100) 상에 형성된 구조물 사이의 불순물 확산이 차단될 수 있다.
예를 들면, 배리어막(210)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 또는 실리콘 산질화물을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 배리어막(210)은 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막을 포함하는 적층 구조를 가질 수도 있다.
액티브 패턴(215)은 폴리실리콘과 같은 실리콘 화합물을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 액티브 패턴(215)은 인듐-갈륨-아연 산화물(Indium Gallium Zinc Oxide: IGZO), 아연-주석 산화물(Zinc Tin Oxide: ZTO), 또는 인듐-주석-아연 산화물(Indium Tin Zinc Oxide: ITZO)과 같은 산화물 반도체를 포함할 수도 있다. 액티브 패턴(215)은 상기 실리콘 화합물 또는 산화물 반도체를 포함하는 액티브 막을 예를 들면, 스퍼터링 공정을 통해 증착한 후, 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 형성될 수 있다.
게이트 절연막(220)은 배리어막(210) 상에 형성되어 액티브 패턴(215)을 커버할 수 있다. 게이트 절연막(220)은 예를 들면, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 또는 실리콘 산질화물을 포함하도록 형성될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 게이트 절연막(220)은 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막을 포함하는 적층 구조를 가질 수도 있다.
게이트 전극(225)은 게이트 절연막(220) 상에 형성되어 액티브 패턴(215)과 중첩될 수 있다. 예를 들면, 게이트 절연막(220) 상에 제1 도전막을 형성하고, 상기 제1 도전막을 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 게이트 전극(225)이 형성될 수 있다. 상기 제1 도전막은 Al, Ag, W, Cu, Mo, Ti, Ta, Cr 등과 같은 금속, 상기 금속들의 합금 또는 상기 금속의 질화물을 사용하여 스퍼터링 공정, ALD 공정 등을 통해 형성될 수 있다. 상기 제1 도전막은 Al/Mo 또는 Ti/Cu 구조와 같은 복층 구조로 형성될 수도 있다.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 도전막으로부터 스캔 라인이 함께 형성될 수 있다. 게이트 전극(225)은 상기 스캔 라인으로부터 분기될 수 있다.
일부 실시예들에 있어서, 게이트 전극(225)을 이온 주입 마스크로 사용하는 불순물 주입 공정을 통해, 액티브 패턴(215)의 양 단부에 소스 영역 및 드레인 영역을 형성할 수 있다. 게이트 전극(225)과 중첩되며, 상기 소스 영역 및 상기 드레인 영역 사이의 액티브 패턴(215) 부분은 전하가 이동되는 채널 영역으로 정의될 수 있다.
층간 절연막(230)은 게이트 절연막(220) 상에 형성되어, 게이트 전극(225)을 커버할 수 있다. 층간 절연막(230)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 및/또는 실리콘 산질화물을 포함하도록 형성될 수 있다. 층간 절연막(230)은 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막을 포함하는 적층 구조를 가질 수도 있다
소스 전극(243) 및 드레인 전극(245)은 층간 절연막(230) 및 게이트 절연막(220)을 관통하여 액티브 패턴(215)과 접촉할 수 있다. 예를 들면, 소스 전극(243) 및 드레인 전극(245)은 각각 액티브 패턴(215)의 상기 소스 영역 및 상기 드레인 영역과 접촉할 수 있다.
예를 들면, 층간 절연막(230) 및 게이트 절연막(220)을 부분적으로 식각하여 액티브 패턴(215)을 노출시키는 콘택 홀들을 형성할 수 있다. 상기 콘택 홀들을 채우는 제2 도전막을 층간 절연막(230) 상에 형성한 후, 상기 제2 도전막을 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 소스 전극(243) 및 드레인 전극(245)을 형성할 수 있다. 상기 제2 도전막은 상기 제1 도전막과 실질적으로 동일하거나 유사한 재료 및 공정을 통해 형성될 수 있다.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제2 도전막으로부터 데이터 라인이 함께 형성될 수 있다. 이 경우, 소스 전극(243)은 상기 데이터 라인으로부터 분기될 수 있다.
상술한 공정에 의해, 상기 TFT가 표시부(200)의 각 화소마다 형성될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 2 이상의 TFT 및 커패시터가 상기 각 화소마다 함께 형성될 수도 있다.
층간 절연막(230) 상에는 소스 전극(243) 및 드레인 전극(245)을 커버하는 비아 절연막(250)이 형성될 수 있다. 비아 절연막(250)은 예를 들면, 폴리이미드, 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스테르와 같은 유기 물질을 사용하여 스핀 코팅 공정 또는 슬릿 코팅 공정을 통해 형성될 수 있다. 비아 절연막(250)은 실질적으로 표시부(300)의 평탄화막으로 제공될 수 있다.
비아 절연막(250) 상에는 상기 표시구조물이 형성될 수 있다.
제1 전극(260)은 비아 절연막(250)을 관통하여 예를 들면, 드레인 전극(245)과 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들면, 비아 절연막(250)을 부분적으로 식각하여 드레인 전극(245) 상면을 노출시키는 비아 홀을 형성할 수 있다. 비아 절연막(250) 상에 상기 비아 홀을 채우는 제3 도전막을 형성한 후, 사진 식각 공정을 통해 패터닝하여 제1 전극(260)을 형성할 수 있다.
제1 전극(260)은 예를 들면, 표시부(200)의 양극(anode) 또는 화소 전극으로 제공되며, 표시부(300)에 포함되는 상기 각 화소마다 독립적으로 형성될 수 있다.
상기 제3 도전막은 상기 제1 도전막과 실질적으로 동일하거나 유사한 금속을 사용하여 형성될 수 있다. 상기 제3 도전막은 인듐 주석 화합물(Indium Tin Oxide: ITO), 인듐 아연 화합물(Indium Zinc Oxide: IZO), 아연 산화물 또는 인듐 산화물과 같은 투명 도전성 물질을 사용하여 형성될 수도 있다.
화소 정의막(270)은 비아 절연막(250) 상에 형성되어 제1 전극(260)의 주변부를 일부 커버할 수 있다. 예를 들면, 화소 정의막(270)은 감광성 유기 물질을 사용하여 현상 및 노광 공정을 통해 형성될 수 있다. 이와는 달리, 화소 정의막(270)은 실리콘 계열의 무기 물질을 사용하여 사진 식각 공정을 통해 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르면, 화소 정의막(270)에 의해 노출된 제1 전극(260) 면적이 실질적으로 상기 각 화소의 발광 영역의 면적에 해당할 수 있다.
표시층(280)은 제1 전극(260) 및 화소 정의막(270) 상에 형성될 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 표시층(280)은 유기 발광 물질을 포함하며, 상기 표시 장치는 유기 발광 표시(Organic Light Emitting Display: OLED) 장치로 제공될 수 있다. 이 경우, 표시층(280)의 하부 및 상부에 각각 정공 수송층(Hole Transport Layer: HTL) 및 전자 수송층(Electron Transport Layer: ETL)이 더 형성될 수 있다.
표시층(280)은 각 화소 마다 상기 유기 발광 물질을 개별적으로 프린팅함으로써 형성될 수 있다. 상기 정공 수송층 및 상기 전자 수송층은 상기 각 화소마다 형성되거나, 복수의 화소들에 공통적으로 형성될 수 있다.
일부 실시예들에 있어서, 표시층(280)으로서 액정 물질이 사용될 수 있으며, 이 경우 상기 표시 장치는 액정 표시(Liquid Crystal Display: LCD) 장치로 제공될 수 있다.
화소 정의막(270) 및 표시층(280) 상에는 제2 전극(290)이 형성될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 제2 전극(290)은 복수의 화소들에 공통적으로 제공되는 공통 전극으로 제공될 수 있다. 또한, 제2 전극(290)은 표시부(300)의 음극(cathode)으로 제공될 수 있다.
제2 전극(290)은 예를 들면, 오픈 마스크(open mask)를 사용하여 금속 또는 상술한 투명 도전성 물질을 증착함으로써 형성될 수 있다.
미러 기판(300)은 제2 기판(310), 미러 패턴들(320), 미러막(330), 및 유기막(340)을 포함할 수 있다.
제2 기판(310)은 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 제1 영역(I)은, 예를 들면 미러 기판(300)이 미러 표시 장치의 인캡슐레이션(encapsulation) 기판으로 제공되는 경우, 상기 미러 표시 장치의 화소 영역들과 중첩될 수 있다. 제2 영역(II)은 상기 미러 표시 장치의 구동 회로 및/또는 연성 인쇄 회로(flexible printed circuit: FPC)와 연결되기 위한 패드 등이 배치되는 주변 영역과 중첩될 수 있다. 제2 기판(310)은 예를 들면, 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 포함할 수 있다.
미러 패턴들(320)은 제2 기판(310)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)에 걸쳐 배치될 수 있다. 예를 들면, 미러 패턴들(320)이 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
미러 패턴들(320)은 반사율이 높은 물질을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 미러 패턴들(320)은 예를 들면, 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 구리(Cu), 은(Ag), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W) 등과 같은 금속을 포함할 수 있다.
상술한 바와 같이, 미러 기판(300)이 표시 장치의 인캡슐레이션 기판으로 제공되는 경우, 미러 패턴들(320)은 상기 미러 표시 장치의 상기 화소 영역 중 발광 영역을 제외한 영역(예를 들면, 비발광 영역)과 중첩될 수 있다. 이 경우, 미러 기판(300) 중 이웃하는 미러 패턴들(320) 사이의 부분은 상기 미러 표시 장치의 상기 화소 영역 중 발광 영역과 중첩될 수 있다.
미러막(330)은 실질적으로 제2 기판(310)의 저면 상에 형성되어 미러 패턴들(320)의 표면들을 커버할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 미러막(330)은 제2 기판(310)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II) 상에서 공통으로, 연속적으로 연장될 수 있다.
미러막(330)은 순차적으로 적층되는 복수의 금속막들을 포함할 수 있다. 이와는 달리, 미러막(330)은 단일막일 수 있다.
예를 들어, 미러막(330)은 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 구리(Cu), 은(Ag), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 은(Ag), 마그네슘(Mg) 등과 같은 금속을 포함할 수 있다.
미러막(330)은 2중층 구조를 가질 수 있다. 이와는 달리, 미러막(330)은 3중층 또는 4중층 구조를 가질 수도 있다.
예를 들면, 제1 영역(I) 상에서 이웃하는 미러 패턴들(320) 사이에 형성된 미러막(330)의 일부는 상기 미러 표시 장치의 상기 발광 영역과 중첩될 수 있다.
미러막(330)은 제2 기판(310)의 저면 및 미러 패턴들(320)의 표면들과 직접 접촉할 수 있다.
유기막(340)은 미러막(330) 아래에 적층될 수 있다. 유기막(340)은 미러막(330)의 표면을 따라 연속적으로 연장되어 미러막(330) 아래에 적층될 수 있다.
유기막(340)은 Alq3 (8-hydroxyquinoline aluminum)을 포함할 수 있다. 이에 따라, 유기막(340)은 소정의 굴절률을 가지며, 유기막(340)을 통과하는 광의 특성을 보정할 수 있다.
표시부(200)는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함하고, 상기 발광 영역은 이웃하는 미러 패턴들(320) 사이의 미러막(330) 및 유기막(340)을 포함하는 적층 구조와 중첩되고, 상기 비발광 영역은 미러 패턴들(320) 및 미러막(330)을 포함하는 적층 구조와 중첩될 수 있다.
예를 들어, 상기 발광 영역은 제1 내지 제3 색 영역들을 포함할 수 있다. 상기 제1 내지 제3 색 영역들은 각각 적색, 녹색, 및 청색 영역들일 수 있다.
유기막(340)은 상기 적색 영역을 통하여 발광하는 적색 광을 보정할 수 있다. 또한, 유기막(340)은 상기 녹색 영역을 통하여 발광하는 녹색 광을 보정할 수 있으며, 유기막(340)은 상기 청색 영역을 통하여 발광하는 청색 광을 보정할 수 있다.
실링부(350)는 제1 기판(100) 및 제2 기판(310) 사이에 배치되어 표시부(200)를 인캡슐레이션 할 수 있다. 따라서, 미러 기판(300)은 실질적으로 인캡슐레이션 기판으로 제공될 수 있다. 실링부(350)는 제2 기판(310)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II) 사이에서 유기막(340)과 접촉하며, 표시부(200)를 보호할 수 있다. 표시부(300)는 제2 기판(310)의 제1 영역(I)과 중첩되며, 제2 영역(II)과 중첩되는 제1 기판(100) 부분 상에는 구동 회로, FPC 연결 패드와 같은 주변 회로들이 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르는 미러 표시 장치는 유기막을 복수의 미러 패턴 및 미러막 상에 배치하여, 표시 장치에서 표시하는 색상을 보정할 수 있다.
특히, 유기막의 일부의 두께를 조절하여 적색, 녹색, 청색의 색상들을 각각 보정할 수 있으며 미러 표시 장치의 표시 품질을 향상시킬 수 있다.
도 2 내지 도 8은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 2를 참조하면, 제2 기판(310)을 제공한다. 제2 기판(310)은 유리 기판, 플라스틱 기판, 플렉시블 기판 등을 포함할 수 있다.
제2 기판(310)은 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)으로 구분될 수 있다. 제1 영역(I)은 미러 표시 장치의 화소 영역들과 중첩될 수 있다. 제2 영역(II)은 상기 미러 표시 장치의 구동 회로 및/또는 연성 인쇄 회로(flexible printed circuit: FPC)와 연결되기 위한 패드 등이 배치되는 주변 영역과 중첩될 수 있다.
도 3을 참조하면, 제2 기판(310) 상에 금속막(도시되지 않음)을 형성하고, 상기 금속막을 패터닝하여 복수의 미러 패턴들(320)을 형성한다.
상기 금속막은 예를 들면, Al, Cr, Cu, Ag, Ti, Ta, Mo, W 등과 같은 금속을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 상기 금속막은 예를 들면, 스퍼터링(sputtering) 공정, 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition: PVD) 공정, 원자층 증착(Atomic Layer Deposition: ALD) 공정, 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition: CVD) 공정 등을 통해 형성될 수 있다.
또한, 사진 식각 공정을 통해 상기 금속막을 패터닝하여 미러 패턴들(320)을 형성할 수 있다.
예를 들면, 미러 패턴들(320)이 그리드 배열, 라인 배열, 메쉬 배열, 복수의 섬들의 배열 등과 같은 규칙적인 배열을 형성하며, 제2 기판(310)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)에 걸쳐 형성될 수 있다.
도 5를 참조하면, 제2 기판(310)의 상면 및 미러 패턴들(320)의 표면들 상에 미러막(330)을 형성할 수 있다. 미러막(330)의 두께는 상기 금속막의 두께보다 작게 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르면, 미러막(330)은 미러 패턴들(320)을 커버하며 제2 기판(310)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II) 상에서 연속적으로 컨포멀하게 형성될 수 있다.
미러막(330)은 예를 들면, Al, Cr, Cu, Ag, Ti, Ta, Mo, W, Ag, Mg 등과 같은 금속을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 상기 금속막은 예를 들면, 스퍼터링(sputtering) 공정, 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition: PVD) 공정, 원자층 증착(Atomic Layer Deposition: ALD) 공정, 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition: CVD) 공정 등을 통해 형성될 수 있다.
또한, 미러막(330)은 이중층 구조로 형성될 수 있다. 이와는 달리, 미러막(330)은 3중층 구조 또는 4중층 구조로 형성될 수 있다.
도 6을 참조하면, 미러막(330) 상에 유기막(340)을 형성한다. 유기막(340)은 미러막(330)의 표면을 따라 연속적으로 연장되어 미러막(330) 상에 적층될 수 있다.
유기막(340)은 Alq3 (8-hydroxyquinoline aluminum)을 포함하도록 미러막(330) 상에 적층될 수 있다. 이에 따라, 유기막(340)은 소정의 굴절률을 가지며, 유기막(340)을 통과하는 광의 특성을 보정할 수 있다.
유기막(340)은 예를 들면, CVD 공정, 플라즈마 강화 화학 기상 증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition: PECVD) 공정, ALD 공정, 열 증착 공정. 진공 증착 공정 등을 통해 형성될 수 있다.
도 7을 참조하면, 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)의 경계부에 실링부(350)를 형성하여 미러 기판(300)을 제조할 수 있다.
예를 들면, 실링부(350)는 에폭시 수지, 실리콘(silicone) 수지 등과 같은 접착성을 갖는 수지 물질을 사용하여 프린팅 공정, 코팅 공정 등을 통해 형성될 수 있다.
도 8을 참조하면, 미러 기판(300)을 뒤집어, 미러 기판(300)의 실링부(350)를 이용하여 제1 기판(100)에 제2 기판(310)을 부착하고 표시부(200)를 인캡슐레이션 할 수 있다.
유기막(340)은 소정의 굴절률을 가지며, 유기막(340)을 통과하는 광의 특성을 보정할 수 있다.
표시부(200)는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함하고, 상기 발광 영역은 이웃하는 미러 패턴들(320) 사이의 미러막(330) 및 유기막(340)을 포함하는 적층 구조와 중첩되고, 상기 비발광 영역은 미러 패턴들(320) 및 미러막(330)을 포함하는 적층 구조와 중첩될 수 있다.
예를 들어, 상기 발광 영역은 제1 내지 제3 색 영역들을 포함할 수 있다. 상기 제1 내지 제3 색 영역들은 각각 적색, 녹색, 및 청색 영역들일 수 있다.
유기막(340)은 상기 적색 영역을 통하여 발광하는 적색 광을 보정할 수 있다. 또한, 유기막(340)은 상기 녹색 영역을 통하여 발광하는 녹색 광을 보정할 수 있으며, 유기막(340)은 상기 청색 영역을 통하여 발광하는 청색 광을 보정할 수 있다.
도 9는 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 도 10은 도 9의 C 영역을 확대 도시한 단면도이다. 도 9 및 도 10에 도시된 미러 표시 장치는 도 1 및 도 2를 참조로 설명한 표시 장치와 유기막의 두께를 제외하고는 실질적으로 동일하거나 유사한 구성 및/또는 구조를 가질 수 있다. 따라서, 중복되는 구성에 대한 상세한 설명은 생략된다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 미러 표시 장치는 제1 기판(100) 상에 배치되는 표시부(200), 표시부(200)를 사이에 두고 제1 기판(100)과 대향하는 제2 기판(310) 아래에 배치되는 복수의 미러 패턴들(320), 제2 기판(310) 및 미러 패턴들(320)의 저면을 따라 연속적으로 연장되는 미러막(330), 미러막(330) 아래에 적층되는 유기막(342)을 포함한다.
제1 기판(100)은 유리 기판, 투명 플라스틱 기판, 플렉시블 플라스틱 기판 등을 포함할 수 있다. 제1 기판(100)은 후술하는 표시부(200)를 지지할 수 있다.
표시부(200)는 제1 기판(100) 상에 형성된 스위칭 소자, 및 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결되는 표시 구조물을 포함할 수 있다.
상기 스위칭 소자는 예를 들면, 액티브 패턴(215), 게이트 절연막(220), 게이트 전극(225), 소스 전극(243) 및 드레인 전극(245)을 포함하는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)를 포함할 수 있다. 상기 표시 구조물은 예를 들면, 제1 전극(260), 발광층(280) 및 제2 전극(290)을 포함할 수 있다.
미러 기판(302)은 제2 기판(310), 미러 패턴들(320), 미러막(330), 및 유기막(342)을 포함할 수 있다.
제2 기판(310)은 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 포함할 수 있다.
미러 패턴들(320)은 제2 기판(310)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)에 걸쳐 배치될 수 있다. 예를 들면, 미러 패턴들(320)이 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
미러막(330)은 실질적으로 제2 기판(310)의 저면 상에 형성되어 미러 패턴들(320)의 표면들을 커버할 수 있다. 미러막(330)은 순차적으로 적층되는 복수의 금속막들을 포함할 수 있다. 이와는 달리, 미러막(330)은 단일막일 수 있다.
유기막(342)은 미러막(330) 아래에 적층될 수 있다. 유기막(342)은 미러막(330)의 표면을 따라 연속적으로 연장되어 미러막(330) 아래에 적층될 수 있다.
유기막(342)은 Alq3 (8-hydroxyquinoline aluminum)을 포함할 수 있다. 이에 따라, 유기막(342)은 소정의 굴절률을 가지며, 유기막(342)을 통과하는 광의 특성을 보정할 수 있다.
표시부(200)는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함하고, 상기 발광 영역은 이웃하는 미러 패턴들(320) 사이의 미러막(330) 및 유기막(342)을 포함하는 적층 구조와 중첩되고, 상기 비발광 영역은 미러 패턴들(320) 및 미러막(330)을 포함하는 적층 구조와 중첩될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 색 영역 및 제2 색 영역을 포함하고, 상기 제1 색 영역과 중첩되는 유기막(342)의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 유기막(342)의 일부의 제2 두께는 서로 다를 수 있다.
또한, 상기 제1 색 영역과 중첩되는 미러막(330)의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 미러막(330)의 일부의 제2 두께는 서로 다를 수 있다.
이와는 달리, 상기 발광 영역은 제1 내지 제3 색 영역들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 내지 제3 색 영역들과 각각 중첩되는 유기막(342)의 일부들의 제1 내지 제3 두께(t1, t2, t3)는 서로 다를 수 있다.
예를 들어, 상기 제1 내지 제3 색 영역은 각각 적색 영역(R), 녹색 영역(G), 및 청색 영역(B)이며, 제1 두께(t1)가 가장 크고 상기 제3 두께(t2)가 가장 작을 수 있다.
또한, 상기 제1 내지 제3 색 영역들과 각각 중첩되는 미러막의 일부들의 제1 내지 제3 두께는 서로 다를 수 있다.
실링부(350)는 제1 기판(100) 및 제2 기판(310) 사이에 배치되어 표시부(200)를 인캡슐레이션 할 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르는 미러 표시 장치는 유기막(342)을 미러 패턴(320) 및 미러막(330) 상에 배치하여, 미러 표시 장치에서 표시하는 색상을 보정할 수 있다.
특히, 유기막(342)의 일부의 두께를 조절하여 적색, 녹색, 청색의 색상들의 특성들을 각각 보정할 수 있으며 미러 표시 장치의 표시 품질을 향상시킬 수 있다. 또한, 미러막(330)의 일부의 두께를 조절하여, 상기 색상들의 특성들을 각각 보정할 수 있다.
도 11은 예시적인 실시예들에 따른 미러 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 도 12는 도 11의 D 영역을 확대 도시한 단면도이다. 도 11 및 도 12에 도시된 미러 표시 장치는 도 1 및 도 2를 참조로 설명한 표시 장치와 유기막을 제외하고는 실질적으로 동일하거나 유사한 구성 및/또는 구조를 가질 수 있다. 따라서, 중복되는 구성에 대한 상세한 설명은 생략된다.
도 11 및 도 12를 참조하면, 미러 표시 장치는 제1 기판(100) 상에 배치되는 표시부(200), 표시부(200)를 사이에 두고 제1 기판(100)과 대향하는 제2 기판(310) 아래에 배치되는 복수의 미러 패턴들(320), 제2 기판(310) 및 미러 패턴들(320)의 저면을 따라 연속적으로 연장되는 미러막(330), 미러막(330) 아래에 적층되는 유기막(344)을 포함한다.
제1 기판(100)은 유리 기판, 투명 플라스틱 기판, 플렉시블 플라스틱 기판 등을 포함할 수 있다. 제1 기판(100)은 후술하는 표시부(200)를 지지할 수 있다.
표시부(200)는 제1 기판(100) 상에 형성된 스위칭 소자, 및 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결되는 표시 구조물을 포함할 수 있다.
상기 스위칭 소자는 예를 들면, 액티브 패턴(215), 게이트 절연막(220), 게이트 전극(225), 소스 전극(243) 및 드레인 전극(245)을 포함하는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)를 포함할 수 있다. 상기 표시 구조물은 예를 들면, 제1 전극(260), 발광층(280) 및 제2 전극(290)을 포함할 수 있다.
미러 기판(304)은 제2 기판(310), 미러 패턴들(320), 미러막(330), 및 유기막(344)을 포함할 수 있다. 제2 기판(310)은 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 포함할 수 있다.
미러 패턴들(320)은 제2 기판(310)의 제1 영역(I) 및 제2 영역(II)에 걸쳐 배치될 수 있다. 예를 들면, 미러 패턴들(320)이 그리드(grid) 형상, 라인 형상, 메쉬(mesh) 형상, 또는 복수의 섬(island) 형상을 가지며 규칙적인 배열로 배치될 수 있다.
미러막(330)은 실질적으로 제2 기판(310)의 저면 상에 형성되어 미러 패턴들(320)의 표면들을 커버할 수 있다. 미러막(330)은 순차적으로 적층되는 복수의 금속막들을 포함할 수 있다. 이와는 달리, 미러막(330)은 단일막일 수 있다.
유기막(344)은 미러막(330) 아래에 적층될 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 유기막(344)은 미러막(330)의 일부 아래에 적층될 수 있다.
유기막(344)은 Alq3 (8-hydroxyquinoline aluminum)을 포함할 수 있다. 이에 따라, 유기막(344)은 소정의 굴절률을 가지며, 유기막(344)을 통과하는 광의 특성을 보정할 수 있다.
표시부(200)는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함하고, 상기 발광 영역은 이웃하는 미러 패턴들(320) 사이의 미러막(330) 및 유기막(344)을 포함하는 적층 구조와 중첩되고, 상기 비발광 영역은 미러 패턴들(320) 및 미러막(330)을 포함하는 적층 구조와 중첩될 수 있다.
예를 들어, 유기막(344)은 표시부(200)의 상기 발광영역과 중첩되고 표시부(200)의 상기 비발광 영역과는 중첩되지 않도록 미러막(330)의 일부 아래에 적층될 수 있다.
실링부(350)는 제1 기판(100) 및 제2 기판(310) 사이에 배치되어 표시부(200)를 인캡슐레이션 할 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르는 미러 표시 장치는 유기막(344)을 미러 패턴들(320) 및 미러막(330) 상에 배치하여, 미러 표시 장치에서 표시하는 색상을 보정할 수 있다.
유기막(344)을 이용하여 적색, 녹색, 청색의 색상들의 특성들이 각각 보정될 수 있으며 미러 표시 장치의 표시 품질을 향상시킬 수 있다.
특히, 유기막(344)이 미러막(330)의 저면 전체를 커버하는 것이 아니라, 미러막(330)의 일부 아래에 적층되어, 제조 단가를 줄일 수 있는 장점이 있다.
이상에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100: 제1 기판 200: 표시부
210: 배리어막 215: 액티브 패턴
220: 게이트 절연막 225: 게이트 전극
230: 층간 절연막 243: 소스 전극
245: 드레인 전극 250: 비아 절연막
260: 제1 전극 270: 화소 정의막
280: 표시층 290: 제2 전극
300: 미러 기판 310: 제2 기판
320: 미러 패턴 330: 미러막
340: 유기막 350: 실링부
210: 배리어막 215: 액티브 패턴
220: 게이트 절연막 225: 게이트 전극
230: 층간 절연막 243: 소스 전극
245: 드레인 전극 250: 비아 절연막
260: 제1 전극 270: 화소 정의막
280: 표시층 290: 제2 전극
300: 미러 기판 310: 제2 기판
320: 미러 패턴 330: 미러막
340: 유기막 350: 실링부
Claims (20)
- 제1 기판 상에 배치되는 표시부;
상기 표시부를 사이에 두고 상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판 아래에 배치되는 복수의 미러 패턴들;
상기 제2 기판 및 상기 미러 패턴들의 저면을 따라 연속적으로 연장되는 미러막; 및
상기 미러막의 표면을 따라 연속적으로 연장되는 유기막을 포함하고,
상기 표시부는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함하며,
상기 발광 영역은 이웃하는 상기 미러 패턴들 사이의 상기 미러막 및 상기 유기막을 포함하는 적층 구조와 중첩되고, 상기 비발광 영역은 상기 미러 패턴들 및 상기 미러막을 포함하는 적층 구조와 중첩되며,
상기 발광 영역은 제1 색 영역 및 제2 색 영역을 포함하고,
상기 제1 색 영역과 중첩되는 상기 유기막의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 상기 유기막의 일부의 제2 두께는 서로 다른 미러 표시 장치. - 제 1 항에 있어서, 상기 유기막은 Alq3 (8-hydroxyquinoline aluminum)을 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
- 삭제
- 삭제
- 제 1 항에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 색 영역 및 제2 색 영역을 포함하고,
상기 제1 색 영역과 중첩되는 상기 미러막의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 상기 미러막의 일부의 제2 두께는 서로 다른 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치. - 제 1 항에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 내지 제3 색 영역들을 포함하고,
상기 제1 내지 제3 색 영역들과 각각 중첩되는 상기 유기막의 일부들의 제1 내지 제3 두께는 서로 다른 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치. - 제 6 항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 색 영역은 각각 적색 영역, 녹색 영역, 및 청색 영역이며, 상기 제1 두께가 가장 크고 상기 제3 두께가 가장 작은 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 내지 제3 색 영역들을 포함하고,
상기 제1 내지 제3 색 영역들과 각각 중첩되는 상기 미러막의 일부들의 제1 내지 제3 두께는 서로 다른 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치. - 제 8 항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 색 영역은 각각 적색 영역, 녹색 영역, 및 청색 영역이며, 상기 제1 두께가 가장 크고 상기 제3 두께가 가장 작은 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미러 패턴들은 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치.
- 제1 기판 상에 배치되는 표시부를 제공하는 단계;
제2 기판 상에 복수의 미러 패턴들을 형성하는 단계;
상기 제2 기판 및 상기 미러 패턴들의 상면을 따라 연속적으로 연장되는 미러막을 형성하는 단계;
상기 미러막 상에 적층되는 유기막을 형성하는 단계;
상기 유기막 상에 실링부를 형성하는 단계; 및
상기 실링부를 이용하여 상기 제1 기판에 상기 제2 기판을 부착하는 단계를 포함하고,
상기 표시부는 발광 영역 및 비발광 영역을 포함하며,
상기 발광 영역은 이웃하는 상기 미러 패턴들 사이의 상기 미러막 및 상기 유기막을 포함하는 적층 구조와 중첩되고, 상기 비발광 영역은 상기 미러 패턴들 및 상기 미러막을 포함하는 적층 구조와 중첩되며,
상기 발광 영역은 제1 색 영역 및 제2 색 영역을 포함하고,
상기 제1 색 영역과 중첩되는 상기 유기막의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 상기 유기막의 일부의 제2 두께는 서로 다른 미러 표시 장치의 제조 방법. - 제 11 항에 있어서, 상기 유기막은 상기 미러막의 표면을 따라 연속적으로 연장되는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 유기막은 상기 미러막의 일부 아래에 적층되는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 유기막은 Alq3 (8-hydroxyquinoline aluminum)을 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법.
- 삭제
- 삭제
- 제 11 항에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 색 영역 및 제2 색 영역을 포함하고,
상기 제1 색 영역과 중첩되는 상기 미러막의 일부의 제1 두께와 상기 제2 색 영역과 중첩되는 상기 미러막의 일부의 제2 두께는 서로 다른 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법. - 제 11 항에 있어서, 상기 발광 영역은 제1 내지 제3 색 영역들을 포함하고,
상기 제1 내지 제3 색 영역들과 각각 중첩되는 상기 유기막의 일부들의 제1 내지 제3 두께는 서로 다른 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 색 영역은 각각 적색 영역, 녹색 영역, 및 청색 영역이며, 상기 제1 두께가 가장 크고 상기 제3 두께가 가장 작은 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 미러 패턴들은 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 미러 표시 장치의 제조 방법.
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