KR102434100B1 - Processing liquid supply apparatus, processing liquid supply method and recording medium - Google Patents

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Abstract

레지스트액을 레지스트액 공급로(51)를 거쳐 노즐(7)로부터 토출한 후, 처리액의 정지 시에 있어서의 파티클의 발생을 억제하는 기술을 제공한다.
레지스트액을 액 중단시킴에 있어서, 석백 밸브(3)를 석백 상태로부터 셋업 상태로 조정하고, 일시적인 레지스트액의 정지 상태로부터 레지스트액의 통류가 되돌아오기 전에 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 200 ms 이상이 시간을 들여 닫도록 하고 있다. 따라서 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 급준하게 닫지 않아도 급격한 액 중단 및 액의 토출 정지를 달성할 수 있으므로, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 급준하게 닫는 것에 기인하는 파티클의 발생을 저감할 수 있다. 또 다른 예에서는, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 개방도 100 %에서 20 %까지 닫음으로써, 일시적으로 레지스트액을 정지시키고, 이 후, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 개방도 20 %에서 0 %까지 닫아 액의 토출 정지를 행하고 있다.A technique for suppressing the generation of particles when the processing liquid is stopped after the resist liquid is discharged from the nozzle 7 through the resist liquid supply path 51 is provided.
To stop the resist liquid, adjust the evacuation valve 3 from the stagnant state to the set-up state, and open the air operation valve 2 for 200 ms or longer before the resist fluid flow returns from the temporarily stopped state of the resist fluid. It takes time to close. Therefore, abrupt liquid stop and liquid discharge stop can be achieved without abruptly closing the air operation valve 2 , so that generation of particles caused by the sudden closing of the air operation valve 2 can be reduced. In another example, the resist liquid is temporarily stopped by closing the air operation valve 2 from the opening degree of 100% to 20%, and thereafter, the air operation valve 2 is closed from the opening degree of 20% to 0%. Discharge of the liquid is stopped.

Figure R1020160005460
Figure R1020160005460

Description

처리액 공급 장치, 처리액 공급 방법 및 기억 매체{PROCESSING LIQUID SUPPLY APPARATUS, PROCESSING LIQUID SUPPLY METHOD AND RECORDING MEDIUM}Treatment liquid supply device, treatment liquid supply method, and storage medium

본 발명은 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 장치의 기술 분야에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technical field of a processing liquid supply device for supplying a processing liquid to an object to be processed through a processing liquid supply path and a nozzle.

반도체 제조 공정 중에는, 기판에 대하여 처리액을 노즐로부터 공급하여 액처리하는 공정이 있다. 예를 들면 레지스트 패턴 형성 시스템에 있어서의 레지스트액 또는 반사 방지막 형성용의 약액의 도포, 혹은 절연막 형성용의 약액의 도포 등을 들 수 있다. 이러한 도포막의 형성은, 약액을 노즐로부터 기판에 토출시켜, 기판의 회전에 의해 도포막을 형성하는 스핀 코팅이 이용되고 있다. 약액의 공급 중단에 대해서는, 약액 공급로의 펌프를 구동시키고, 또한 밸브를 열어 노즐로부터 설정량의 약액을 토출시키고, 이어서 펌프를 정지시키고, 또한 밸브를 닫음으로써 약액의 공급을 정지하고 있다.In a semiconductor manufacturing process, there is a process of supplying a processing liquid from a nozzle to a substrate for liquid processing. For example, application|coating of the chemical|medical solution for resist liquid or antireflection film formation in a resist pattern formation system, or application|coating of the chemical liquid for insulating film formation, etc. are mentioned. Spin coating is used to form such a coating film by discharging a chemical solution from a nozzle to the substrate and rotating the substrate to form the coating film. For interruption of the supply of the chemical, the supply of the chemical is stopped by driving the pump in the chemical supplying path, opening the valve to discharge a set amount of the chemical from the nozzle, then stopping the pump, and closing the valve.

한편, 디자인 룰의 미세화가 진행되고 있는 점에서, 기판에 부착되는 파티클의 허용 사이즈가 엄격해지고 있고, 또한 파티클 검사 장치의 성능이 향상되어 예를 들면 20 nm 정도의 파티클까지 검출할 수 있게 되었다. 이 때문에 약액 공급로에서 발생하는 파티클의 저감이 중요한 과제가 되고 있다. 약액 공급로 중 주로 파티클이 발생하는 곳은 밸브이며, 특히 디스펜스 밸브 등이라 불리고 있는, 약액의 공급 정지를 행하는 토출 밸브의 파티클 발생이 많다.On the other hand, as design rules are being refined, the allowable size of particles adhering to the substrate has become stricter, and the performance of the particle inspection apparatus has been improved, enabling detection of particles of, for example, about 20 nm. For this reason, reduction of the particles generated in the chemical liquid supply path has become an important issue. Particles are mainly generated in the valve in the chemical liquid supply path, and in particular, a discharge valve, which is called a dispensing valve or the like, which stops supply of the chemical liquid, generates many particles.

그 이유는, 예를 들면 레지스트액을 확산시킨 후에 액 떨어짐이 발생하면, 막 두께 분포에 악영향을 미치는 점에서 액 중단을 급격하게 할 필요가 있고, 이 때문에 토출 밸브의 닫는 속도를 빠르게 할 수 밖에 없으므로 폐지 시에 있어서의 충격이 크게 된다. 예를 들면 에어 오퍼레이션 밸브로 이루어지는 토출 밸브에 대하여 개폐의 과혹(過酷) 시험을 행하면, 밸브의 재질에 기인한다고 상정되는 좁고 긴 미세한 파티클을 확인할 수 있다. 이러한 점에서 토출 밸브의 파티클 발생의 저감이 요구되게 되었다.The reason for this is that, for example, if liquid dripping occurs after diffusing the resist liquid, it is necessary to abruptly stop the liquid because it adversely affects the film thickness distribution. Therefore, the impact at the time of abolition is large. For example, when a discharge valve made of an air operated valve is subjected to an open/close harshness test, narrow and long fine particles assumed to be due to the material of the valve can be confirmed. From this point of view, reduction in the generation of particles in the discharge valve has come to be demanded.

특허 문헌 1에는, 액 떨어짐을 방지하기 위하여 개폐 밸브의 밸브 폐지 시간으로서 300 ms의 기재가 있지만, 이러한 긴 시간으로는 실제로는 급격한 액 중단을 달성할 수 없다. 또한 석백 밸브의 흡인 셋업과, 개폐 밸브의 밸브 폐지 동작이 동시에 행해지기 때문에, 처리액 공급로 내의 처리액의 거동이 복잡해지고, 이 관점으로부터도 급격한 액 중단을 달성할 수 없다.In Patent Document 1, there is a description of 300 ms as the valve closing time of the on/off valve in order to prevent liquid dripping. Further, since the suction set-up of the succulent valve and the valve closing operation of the on-off valve are performed simultaneously, the behavior of the processing liquid in the processing liquid supply path becomes complicated, and even from this point of view, a sudden liquid stop cannot be achieved.

일본특허공개공보 2010-171295호 공보(단락 0041, 0043 및 도 6)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-171295 (paragraphs 0041, 0043 and FIG. 6)

본 발명은 이러한 사정 하에 이루어진 것이며, 그 목적은, 처리액을 처리액 공급로를 거쳐 노즐로부터 토출한 후, 처리액의 정지 시에 있어서의 파티클의 발생을 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made under these circumstances, and an object of the present invention is to provide a technique capable of suppressing the generation of particles when the treatment liquid is stopped after the treatment liquid is discharged from the nozzle through the treatment liquid supply path. .

본 발명은, 송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 장치에 있어서, The present invention provides a processing liquid supply device for supplying a processing liquid to an object to be processed through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism,

상기 처리액 공급로에 마련된 개폐 밸브와, an opening/closing valve provided in the processing liquid supply path;

상기 개폐 밸브와 노즐 사이의 처리액 공급로에 마련되고, 처리액 공급로의 일부의 단면적을 바꾸어 용적을 조정하기 위한 유로 조정부와, a flow path adjusting unit provided in the processing liquid supply path between the on/off valve and the nozzle to adjust a volume by changing a cross-sectional area of a part of the processing liquid supply path;

상기 노즐로부터의 처리액의 토출을 일시적으로 정지하기 위하여, 상기 유로 조정부에 대하여, 처리액 공급로의 일부의 용적이 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적이 되도록 제어 신호를 출력하고, 또한 상기 처리액 공급로의 일부의 용적이 제 2 용적으로 조정된 후, 토출이 정지된 처리액의 통류가 재개되기 전에 처리액 공급로가 닫히도록 상기 개폐 밸브에 대하여 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to temporarily stop discharging the processing liquid from the nozzle, a control signal to the flow path adjusting unit so that the volume of a portion of the processing liquid supply path becomes a second volume smaller than the first volume and larger than zero in the first volume and, after the volume of a portion of the processing liquid supply passage is adjusted to the second volume, a control signal is applied to the on-off valve so that the processing liquid supply passage is closed before the flow of the treatment liquid for which the discharge is stopped is resumed. It characterized in that it is provided with a control unit for outputting.

다른 발명은, 송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 장치에 있어서, Another invention provides a processing liquid supply apparatus for supplying a processing liquid to a target object through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism,

상기 처리액 공급로에 마련된 개폐 밸브와, an opening/closing valve provided in the processing liquid supply path;

상기 노즐로부터의 처리액의 토출을 일시적으로 정지하기 위하여, 상기 개폐 밸브에 대하여, 처리액 공급로의 용적이 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적이 되도록 제어 신호를 출력하고, 또한 토출이 정지된 처리액의 통류가 재개되기 전에 처리액 공급로가 닫히도록 상기 개폐 밸브에 대하여 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 한다.In order to temporarily stop discharging the processing liquid from the nozzle, a control signal is output to the on-off valve so that the volume of the processing liquid supply path becomes from the first volume to a second volume smaller than the first volume and larger than zero. and a control unit for outputting a control signal to the on-off valve so that the treatment liquid supply path is closed before the flow of the treatment liquid whose discharge has been stopped is resumed.

또 다른 발명은, 송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 방법에 있어서, Another invention provides a processing liquid supply method in which a processing liquid is supplied to a target object through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism,

상기 처리액 공급로에 마련된 개폐 밸브와, 상기 개폐 밸브와 노즐 사이의 처리액 공급로에 마련되고, 처리액 공급로의 일부의 단면적을 바꾸어 용적을 조정하기 위한 유로 조정부를 이용하고, an on-off valve provided in the processing liquid supply path, and a flow path adjusting unit provided in the processing liquid supply path between the on-off valve and the nozzle to adjust the volume by changing the cross-sectional area of a part of the processing liquid supply path;

상기 노즐로부터 처리액을 토출하여 피처리체로 공급하는 공정과, discharging the treatment liquid from the nozzle and supplying it to the object;

이 후, 노즐로부터의 처리액의 토출을 일시적으로 정지하기 위하여, 상기 유로 조정부에 의해, 처리액 공급로의 용적을 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적으로 조정하는 공정과,Thereafter, in order to temporarily stop discharging the treatment liquid from the nozzle, the volume of the treatment liquid supply path is adjusted from the first volume to a second volume smaller than the first volume and larger than zero by the flow path adjusting unit. class,

상기 처리액 공급로의 용적이 제 2 용적으로 조정된 후, 토출이 정지된 처리액의 통류가 재개되기 전에 상기 개폐 밸브에 의해 처리액 공급로를 닫는 공정을 행하는 것을 특징으로 한다.After the volume of the processing liquid supply passage is adjusted to the second volume, a step of closing the processing liquid supply passage by the on-off valve is performed before the flow of the treatment liquid whose discharge has been stopped is resumed.

또 다른 발명은, 송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 방법에 있어서, Another invention provides a processing liquid supply method in which a processing liquid is supplied to a target object through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism,

상기 노즐로부터 처리액을 토출하여 피처리체로 공급하는 공정과, discharging the treatment liquid from the nozzle and supplying it to the object;

이 후, 노즐로부터의 처리액의 토출을 일시적으로 정지하기 위하여, 상기 처리액 공급로에 마련된 개폐 밸브에 의해, 처리액 공급로의 용적을 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적으로 조정하는 공정과, Thereafter, in order to temporarily stop discharging the processing liquid from the nozzle, the volume of the processing liquid supply passage is changed from the first volume to a first volume smaller than the first volume and greater than zero by an on/off valve provided in the processing liquid supply passage. 2 The process of adjusting the volume;

토출이 정지된 처리액의 통류가 재개되기 전에 상기 개폐 밸브에 의해 처리액 공급로를 닫는 공정을 행하는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that the process of closing the processing liquid supply path by the on-off valve is performed before the flow of the processing liquid whose discharge has been stopped is resumed.

본 발명의 기억 매체는, 송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 장치에 이용되는 컴퓨터 프로그램을 기억한 기억 매체로서, A storage medium of the present invention is a storage medium storing a computer program used in a processing liquid supply device for supplying processing liquid to a target object through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism,

상기 컴퓨터 프로그램은, 상술한 처리액 공급 방법을 실행하도록 스텝군이 탑재되어 있는 것을 특징으로 한다.The computer program is characterized in that a group of steps is mounted to execute the above-described processing liquid supply method.

본 발명은, 처리액의 액 중단에 대하여, 처리액 공급로를 완전하게 닫지 않아도 좁게 함으로써 일시적으로 액 중단하는 점에 착목하고 있다. 이를 위하여 유로 조정부에 의해, 처리액 공급로의 용적을 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적으로 조정하고, 일시적인 처리액의 토출 정지 상태로부터 처리액의 통류가 되돌아오기 전에 상기 개폐 밸브에 의해 처리액 공급로를 닫고 있다. 따라서, 급준하게 닫지 않아도 급격한 액 중단 및 액의 토출 정지를 달성할 수 있으므로, 개폐 밸브를 급준하게 닫는 것에 기인하는 파티클의 발생을 저감할 수 있다.The present invention pays attention to the point where the liquid interruption of the processing liquid is temporarily stopped by narrowing the processing liquid supply path without completely closing the processing liquid supply path. To this end, the volume of the processing liquid supply path is adjusted from the first volume to a second volume smaller than the first volume and larger than zero by the flow path adjusting unit, and before the flow of the processing liquid returns from the temporary discharge stop state of the processing liquid. The processing liquid supply path is closed by the on-off valve. Therefore, abrupt liquid stop and liquid discharge stop can be achieved without sudden closing, so that generation of particles due to sharp closing of the on-off valve can be reduced.

도 1은 본 발명에 따른 처리액 공급 장치의 레지스트액 공급로를 나타내는 설명도이다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시의 형태에 따른 처리액 공급 장치의 밸브 유닛을 나타내는 단면도이다.
도 3은 종래의 처리액 공급 장치에 있어서의 밸브 개폐의 시퀀스를 나타내는 설명도이다.
도 4는 워터 해머 현상을 이용한 액 중단의 원리를 나타내는 설명도이다.
도 5는 본 발명의 처리액 공급 장치에 있어서의 밸브 개폐의 시퀀스를 나타내는 설명도이다.
도 6은 밸브 유닛의 작용을 나타내는 설명도이다.
도 7은 밸브 유닛의 작용을 나타내는 설명도이다.
도 8은 밸브 유닛의 작용을 나타내는 설명도이다.
도 9는 본 발명의 실시의 형태에 따른 밸브 유닛의 다른 예를 나타내는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 실시의 형태에 따른 밸브 유닛의 다른 예를 나타내는 단면도이다.
도 11은 제 2 실시의 형태에 따른 밸브 유닛을 나타내는 단면도이다.
도 12는 실시예의 효과를 나타내는 특성도이다.1 is an explanatory view showing a resist liquid supply path of a processing liquid supply apparatus according to the present invention.
2 is a cross-sectional view illustrating a valve unit of the processing liquid supply apparatus according to the first embodiment of the present invention.
3 is an explanatory diagram illustrating a sequence of opening and closing a valve in a conventional processing liquid supply device.
4 is an explanatory diagram showing the principle of liquid interruption using the water hammer phenomenon.
5 is an explanatory diagram illustrating a sequence of opening and closing a valve in the processing liquid supply apparatus according to the present invention.
It is explanatory drawing which shows the action|action of a valve unit.
It is explanatory drawing which shows the action|action of a valve unit.
It is explanatory drawing which shows the action|action of a valve unit.
9 is a cross-sectional view showing another example of the valve unit according to the embodiment of the present invention.
10 is a cross-sectional view showing another example of the valve unit according to the embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows the valve unit which concerns on 2nd Embodiment.
12 is a characteristic diagram showing the effect of the embodiment.

[제 1 실시의 형태][First embodiment]

도 1은 본 발명의 액처리 장치의 실시 형태인 레지스트 도포 장치의 개략도를 나타내고 있고, 레지스트 도포 장치는, 처리액 공급 장치인 레지스트액 공급 장치(100)와, 컵 모듈(10)을 구비하고 있다. 컵 모듈(10)은 기판인 반도체 웨이퍼(이하, '웨이퍼'라고 함)(W)로부터 비산하는 레지스트액을 컵(90)에 의해 받아 배기관(101)으로부터 배출하도록 구성되고, 웨이퍼(W)의 이면 중앙부를 흡착하여 수평으로 유지하는 스핀 척(11)을 구비하고 있다. 스핀 척(11)은 수직으로 연장되는 회전축(12)을 개재하여 회전 기구(13)와 접속되어 있다. 회전 기구(13)는 도시하지 않은 회전 모터 등의 회전 구동원을 구비하고 있고, 소정의 속도로 회전할 수 있도록 구성되어 있다.1 shows a schematic diagram of a resist coating apparatus as an embodiment of the liquid processing apparatus of the present invention, the resist coating apparatus comprising a resist liquid supplying apparatus 100 serving as a processing liquid supplying apparatus, and a cup module 10 . . The cup module 10 is configured to receive the resist liquid scattering from the semiconductor wafer (hereinafter referred to as 'wafer') W as a substrate by the cup 90 and discharge it from the exhaust pipe 101, A spin chuck 11 is provided for adsorbing the central portion of the back surface and holding it horizontally. The spin chuck 11 is connected to the rotation mechanism 13 via a rotation shaft 12 extending vertically. The rotation mechanism 13 is provided with rotation drive sources, such as a rotation motor (not shown), and is comprised so that it can rotate at a predetermined speed.

레지스트액 공급 장치(100)는, 처리액인 예를 들면 25 ℃에서 점도 1 cP ~ 10 cP의 레지스트액을 저류하는 처리액 공급원을 이루는 처리액 용기(6)와, 피처리 기판인 웨이퍼(W)에 레지스트액(처리액)을 토출(공급)하는 노즐(7)과, 처리액 용기(6)와 노즐(7)을 접속하는 배관으로 이루어지는 처리액 유로인 레지스트액 공급로(51)를 구비하고 있다. 레지스트액 공급로(51)에는, 처리액 용기(6)로부터의 처리액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크(56), 레지스트액을 여과하여 이물을 제거하기 위한 필터(52), 송액 기구인 펌프(P), 유량 조정부(54) 및 처리액의 공급 개폐 밸브인 오퍼레이션 밸브(이하 '에어 오퍼레이션 밸브'라고 함)(2) 및 석백 밸브(3)가 상류측으로부터 이 순으로 마련되어 있다.The resist liquid supply device 100 includes a processing liquid container 6 serving as a processing liquid supply source for storing a processing liquid, for example, a resist liquid having a viscosity of 1 cP to 10 cP at 25° C., and a wafer W as a processing target substrate. ), a nozzle 7 for discharging (supplying) a resist solution (processing solution), and a resist solution supply path 51 which is a processing solution flow path including a pipe connecting the processing solution container 6 and the nozzle 7 . are doing The resist liquid supply path 51 includes a buffer tank 56 for temporarily storing the processing liquid from the processing liquid container 6, a filter 52 for filtering the resist liquid to remove foreign substances, and a pump as a liquid supply mechanism ( P), a flow rate adjusting unit 54 , an operation valve (hereinafter referred to as an “air operation valve”) 2 serving as an on/off valve for supplying the processing liquid, and a seokback valve 3 are provided in this order from the upstream side.

처리액 용기(6)의 기상에는, 불활성 가스 예를 들면 질소(N2) 가스의 공급원과 접속하는 기체 공급로(55)가 마련되어 있다. 또한, 버퍼 탱크(56)의 상부에는, 버퍼 탱크(56)의 상부에 체류하는 불활성 가스 예를 들면 질소(N2) 가스를 대기에 개방하는 대기 개방로(57)가 마련되어 있다. 또한, 도면 중 58 ~ 60은 개폐 밸브이다.A gas supply path 55 connected to a supply source of an inert gas, for example, nitrogen (N 2 ) gas, is provided in the gas phase of the processing liquid container 6 . In addition, at the upper portion of the buffer tank 56 , an atmospheric release path 57 is provided for releasing an inert gas, for example, nitrogen (N 2 ) gas, remaining in the upper portion of the buffer tank 56 to the atmosphere. In addition, 58 to 60 in the figure are on-off valves.

에어 오퍼레이션 밸브(2) 및 석백 밸브(3)는 서로 연결 설치된 2 연결 밸브를 구성하고 있다. 이 2 연결 밸브의 구조체를 밸브 유닛이라 부르기로 하면, 밸브 유닛(1)은 도 2에 나타내는 바와 같이 예를 들면 불소 수지 등으로 구성된 개략 직육면체 형상의 블록체(71)를 구비하고 있고, 블록체(71)에 있어서의 하나의 측면에는, 처리액이 공급되는 레지스트액의 도입 포트(72)가 형성되고, 하나의 측면과 대향하는 측면에는, 레지스트액의 배출 포트(73)가 형성되어 있다.The air operated valve 2 and the Seokbaek valve 3 constitute two connection valves connected to each other. Assuming that the structure of this two-connection valve is called a valve unit, the valve unit 1 is provided with a block body 71 of a substantially rectangular parallelepiped shape composed of, for example, fluororesin, as shown in FIG. 2 , and the block body In (71), a resist liquid introduction port 72 to which the processing liquid is supplied is formed on one side surface, and a resist liquid discharge port 73 is formed on a side surface opposite to the one side surface.

블록체(71)에는 레지스트액의 도입 포트(72)에 접속되고, 수평으로 연장된 후 상방을 향해 연장되는 제 1 유로(14)가 형성되어 있다. 또한 블록체(71)의 내부에는, 제 1 유로(14)가 그 저면에서의 주연부에 개구되는 원통 형상의 밸브실(21)이 형성되어 있다. 밸브실(21)의 저면에서의 중앙에는, 제 2 유로(15)가 개구되어 있고, 제 2 유로(15)의 개구의 주위를 둘러싸도록 밸브 시트(22)가 마련되어 있다. 밸브 시트(22)는, 상단을 향함에 따라 폭이 좁아지도록 구성되어 있다. 밸브실(21)에는 밸브 시트(22)를 개폐하는 밸브 본체(23)가 배치되어 있다.The block body 71 is provided with a first flow path 14 that is connected to the resist liquid introduction port 72 and extends horizontally and then upward. In addition, inside the block body 71, the cylindrical valve chamber 21 in which the 1st flow path 14 is opened to the periphery of the bottom face is formed. A second flow passage 15 is opened at the center of the bottom surface of the valve chamber 21 , and a valve seat 22 is provided so as to surround the opening of the second flow passage 15 . The valve seat 22 is comprised so that the width|variety becomes narrow as it goes to an upper end. A valve body 23 for opening and closing the valve seat 22 is disposed in the valve chamber 21 .

블록체(71)의 상면측에서의 밸브실(21)의 상방에는, 제 1 하우징(20)이 마련된다. 제 1 하우징(20)은 구동실(24)을 구비하고, 구동실(24)에는 밸브 본체(23)가 하단에 접속되고, 구동실(24) 내를 승강하는 밸브봉(25)이 마련되어 있다. 또한 밸브봉(25)의 주위에는, 구동실(24)의 내주벽에 접하고, 구동실(24)에서의 상방 영역(28)과 하방 영역(29)을 기밀하게 구획하는 원판부(27)가 마련되어 있다. 밸브봉(25)은, 원판부(27)의 상면과 구동실(24)의 천장과의 사이에 마련된, 상시 힘이 가해진 스프링 부재(26)에 의해 하방측으로 눌려 있다.A first housing 20 is provided above the valve chamber 21 on the upper surface side of the block body 71 . The first housing 20 has a drive chamber 24 , and the valve body 23 is connected to the lower end of the drive chamber 24 , and a valve rod 25 that moves up and down in the drive chamber 24 is provided. . In addition, around the valve rod 25, a disk portion 27 in contact with the inner peripheral wall of the drive chamber 24 and air-tightly dividing the upper region 28 and the lower region 29 in the drive chamber 24 is provided. is provided. The valve rod 25 is pressed downward by a spring member 26 to which a constant force is applied, provided between the upper surface of the disk portion 27 and the ceiling of the drive chamber 24 .

구동실(24)에 있어서의 하방 영역(29)에는, 가압 공기의 공급 및 배출을 행하기 위한 에어 유로(41)가 접속되고, 상방 영역(28)에는, 상방 영역(28) 내의 공기를 외부로 방출하기 위한 홀부(46)가 마련되어 있다. 에어 유로(41)는, 가압 공기를 하방 영역(29)으로 보내는 공급 밸브(43)와 하방 영역(29)으로부터 가압 공기를 배출하는 배출 밸브(44)가 접속되어 있다. 공급 밸브(43), 배출 밸브(44)는 전자 릴레이 회로(45)에 의해 개폐가 제어되도록 구성되어 있고, 예를 들면, 전자 릴레이 회로(45) 내의 솔레노이드가 통전되어 온이 되면, 공급 밸브(43)가 '열림', 배출 밸브(44)가 '닫힘' 상태가 되어, 하방 영역(29)으로 가압 공기가 에어 유로(41)로부터 공급된다. 하방 영역(29)으로 가압 공기가 공급되어 압력이 높아지면, 스프링 부재(26)의 가해지는 힘에 저항하여 밸브봉(25)이 상승하고, 밸브 본체(23)와 밸브 시트(22)가 떨어진다. 또한 솔레노이드의 통전이 정지되어 오프가 되면, 공급 밸브(43)가 '닫힘', 배출 밸브(44)가 '열림' 상태가 되어, 하방 영역(29)의 가압 공기가 에어 유로(41)로부터 배출된다. 그 결과 하방 영역(29)의 압력이 낮아지면, 스프링 부재(26)의 가해지는 힘에 의해 밸브봉(25)이 하강하고, 밸브 본체(23)가 밸브 시트(22)에 착석한다. 이 예에서는, 제 1 하우징(20), 밸브실(21), 밸브 본체(23) 및 밸브 시트(22)는 에어 오퍼레이션 밸브(2)에 상당한다.An air flow path 41 for supplying and discharging pressurized air is connected to the lower region 29 in the drive chamber 24 , and the upper region 28 is provided with air in the upper region 28 to the outside. A hole portion 46 for discharging into the furnace is provided. The air flow path 41 is connected to a supply valve 43 for sending the pressurized air to the lower region 29 and a discharge valve 44 for discharging the pressurized air from the lower region 29 . The supply valve 43 and the discharge valve 44 are configured such that opening and closing is controlled by the electromagnetic relay circuit 45. For example, when the solenoid in the electromagnetic relay circuit 45 is energized and turned on, the supply valve ( 43 is 'open' and the discharge valve 44 is 'closed', and pressurized air is supplied from the air flow path 41 to the lower region 29 . When pressurized air is supplied to the lower region 29 to increase the pressure, the valve rod 25 rises against the force applied by the spring member 26 , and the valve body 23 and the valve seat 22 fall apart. . In addition, when the energization of the solenoid is stopped and turned off, the supply valve 43 becomes 'closed' and the discharge valve 44 becomes 'open', and the pressurized air in the lower region 29 is discharged from the air flow path 41 . do. As a result, when the pressure in the lower region 29 is lowered, the valve rod 25 is lowered by the force applied by the spring member 26 , and the valve body 23 is seated on the valve seat 22 . In this example, the first housing 20 , the valve chamber 21 , the valve body 23 , and the valve seat 22 correspond to the air operated valve 2 .

제 2 유로(15)로 돌아와, 제 2 유로(15)의 타단은 다이어프램실(31)에 접속되어 있다. 다이어프램실(31)에는 제 3 유로(16)의 일단이 개구되어 있고, 제 3 유로(16)의 타단측은, 레지스트액의 배출 포트(73)에 접속되어 있다. 다이어프램실(31)은 천장이 가요성(可撓性) 부재인 다이어프램(32)으로 구성되어 있고, 다이어프램(32)이 하방측으로 굴곡지면, 다이어프램실(31)의 용적이 감소하고, 다이어프램(32)이 상방측으로 굴곡지면, 다이어프램실(31)의 용적이 증가하도록 구성되어 있다. 다이어프램실(31)은, 제 2 유로(15)로부터 처리액이 유입되어 제 3 유로(16)로 유출되는 레지스트액 공급로(51)의 일부를 구성하고 있다고 할 수 있다. 따라서, 다이어프램실(31)의 용적을 변화시킴으로써 레지스트액 공급로(51)의 단면적이 조정되고, 다이어프램(32)을 가장 하방측으로 굴곡시켰을 때에는, 레지스트액 공급로(51)의 용적이 가장 작아지고, 다이어프램(32)을 가장 상방측으로 굴곡시켰을 때에, 레지스트액 공급로(51)의 용적이 가장 커진다. 또한 다이어프램(32)은, 가장 하방측으로 굴곡졌을 시에도 레지스트액 공급로(51)의 단면적이 제로가 되지 않도록 마련되어 있다.Returning to the second flow path 15 , the other end of the second flow path 15 is connected to the diaphragm chamber 31 . One end of the third flow path 16 is opened in the diaphragm chamber 31 , and the other end of the third flow path 16 is connected to a resist liquid discharge port 73 . The diaphragm chamber 31 is constituted by a diaphragm 32 whose ceiling is a flexible member, and when the diaphragm 32 is bent downward, the volume of the diaphragm chamber 31 decreases, and the diaphragm 32 ) is curved upward, the volume of the diaphragm chamber 31 is comprised so that it may increase. It can be said that the diaphragm chamber 31 constitutes a part of the resist liquid supply path 51 through which the processing liquid flows in from the second flow path 15 and flows out into the third flow path 16 . Accordingly, the cross-sectional area of the resist solution supply path 51 is adjusted by changing the volume of the diaphragm chamber 31, and when the diaphragm 32 is bent downward, the volume of the resist solution supply path 51 becomes the smallest. , when the diaphragm 32 is bent upwardly, the volume of the resist solution supply path 51 is greatest. In addition, the diaphragm 32 is provided so that the cross-sectional area of the resist liquid supply path 51 does not become zero even when it bends most downward.

블록체(71)의 상면측에 있어서의 다이어프램실(31)의 상방에는, 다이어프램(32)을 상방측 및 하방측으로 굴곡시키기 위한 제 2 하우징(30)이 배치되어 있다. 제 2 하우징(30)은 구동실(34)을 구비하고, 구동실(34)에는 다이어프램(32)의 중앙부 상면측에 접속되고, 구동실(34) 내를 승강하는 밸브봉(35)이 마련되어 있다. 또한 밸브봉(35)의 주위에는, 구동실(34)의 내주벽에 접하고, 구동실(34)에서의 상방 영역(38)과 하방 영역(39)을 기밀하게 구획하는 원판부(37)가 마련되어 있다. 밸브봉(35)은, 구동실(34)의 저면과 원판부(37)의 하면 사이에 마련된 상시 힘이 가해진 스프링 부재(36)에 의해 상방측으로 눌려 있다.Above the diaphragm chamber 31 in the upper surface side of the block body 71, the 2nd housing 30 for bending the diaphragm 32 upward and downward is arrange|positioned. The second housing 30 has a drive chamber 34 , and the drive chamber 34 is connected to the upper surface side of the central portion of the diaphragm 32 , and is provided with a valve rod 35 for elevating the inside of the drive chamber 34 . have. Further, around the valve rod 35, there is a disk portion 37 in contact with the inner peripheral wall of the drive chamber 34 and air-tightly dividing the upper region 38 and the lower region 39 in the drive chamber 34. is provided. The valve rod 35 is pressed upward by a spring member 36 to which a constant force is applied, provided between the bottom surface of the drive chamber 34 and the bottom surface of the disk part 37 .

구동실(34)에서의 원판부(37)의 상방 영역(38)에는, 가압 공기의 공급 및 배출을 행하기 위한 에어 유로(61)가 접속되고, 하방 영역(39)에는, 하방 영역(39) 내의 공기를 외부로 방출하기 위한 홀부(66)가 마련되어 있다. 에어 유로(61)는, 가압 공기를 상방 영역(38)으로 보내는 공급 밸브(63)와 상방 영역(38)으로부터 가압 공기를 배출하는 배출 밸브(64)가 접속되어 있다. 공급 밸브(63), 배출 밸브(64)는 전자 릴레이 회로(65)에 의해 개폐가 제어되도록 구성되어 있고, 예를 들면 전자 릴레이 회로(65) 내의 솔레노이드가 통전되어 온이 되면, 공급 밸브(63)가 '열림', 배출 밸브(64)가 '닫힘'의 상태가 되어, 상방 영역(38)으로 가압 공기가 에어 유로(61)로부터 공급된다. 상방 영역(38)으로 가압 공기가 공급되어, 압력이 높아지면, 스프링 부재(36)의 가해지는 힘에 저항하여 밸브봉(35)이 하강하고, 다이어프램(32)이 하방측으로 굴곡진다. 또한 솔레노이드의 통전이 정지되어 오프가 되면, 공급 밸브(63)가 '닫힘', 배출 밸브(64)가 '열림'의 상태가 되어, 상방 영역(38)의 가압 공기가 에어 유로(61)로부터 배출된다. 그 결과 상방 영역(38)의 압력이 낮아져, 스프링 부재(36)의 가해지는 힘에 의해 밸브봉(35)이 상승하고, 다이어프램(32)이 상방측으로 굴곡진다. 이 예에서는 제 2 하우징(30), 다이어프램실(31) 및 다이어프램(32)은 석백 밸브(3)에 상당한다. An air flow path 61 for supplying and discharging pressurized air is connected to the upper region 38 of the disk portion 37 in the drive chamber 34 , and the lower region 39 is connected to the lower region 39 . ) is provided with a hole 66 for discharging the inside air to the outside. The air flow path 61 is connected to a supply valve 63 for sending the pressurized air to the upper region 38 and a discharge valve 64 for discharging the pressurized air from the upper region 38 . The supply valve 63 and the discharge valve 64 are configured such that opening and closing is controlled by the electromagnetic relay circuit 65, for example, when the solenoid in the electromagnetic relay circuit 65 is energized and turned on, the supply valve 63 ) is 'open' and the discharge valve 64 is 'closed', and pressurized air is supplied to the upper region 38 from the air flow path 61 . When pressurized air is supplied to the upper region 38 and the pressure is increased, the valve rod 35 is lowered against the force applied by the spring member 36 , and the diaphragm 32 is bent downward. In addition, when the energization of the solenoid is stopped and turned off, the supply valve 63 is 'closed' and the discharge valve 64 is 'open', and the pressurized air in the upper region 38 is discharged from the air flow path 61 . is emitted As a result, the pressure in the upper region 38 is lowered, the valve rod 35 rises by the force applied by the spring member 36 , and the diaphragm 32 is bent upward. In this example, the second housing 30 , the diaphragm chamber 31 , and the diaphragm 32 correspond to the back valve 3 .

밸브 유닛(1)에 있어서의 레지스트액의 도입 포트(72) 및 레지스트액의 배출 포트(73)는 각각 이음새(17, 18)에 의해 레지스트액 공급로(51)에 접속된다.The resist liquid introduction port 72 and the resist liquid discharge port 73 of the valve unit 1 are respectively connected to the resist liquid supply path 51 by the joints 17 and 18 .

도 1로 돌아와 레지스트액 공급 장치(100)에는, 예를 들면 컴퓨터로 이루어지는 제어부(9)가 마련되어 있다. 제어부(9)는, 프로그램 저장부를 가지고 있고, 프로그램 저장부에는, 후술하는 시퀀스에 따라 도 2에 나타내는 전자 릴레이 회로(45, 65)의 전환, 또는 유량 조정부(54)의 조정 및 펌프(P)에 의한 레지스트액의 송액의 명령이 탑재된, 프로그램이 저장된다. 이 프로그램은 예를 들면 플렉시블 디스크, 콤팩트 디스크, 하드 디스크, MO(광자기 디스크), 메모리 카드 등의 기억 매체에 의해 저장되어 제어부(9)에 인스톨된다.Returning to Fig. 1, the resist liquid supply device 100 is provided with a control unit 9 made of, for example, a computer. The control unit 9 has a program storage unit, and in the program storage unit, switching the electromagnetic relay circuits 45 and 65 shown in FIG. 2 or adjusting the flow rate adjusting unit 54 and the pump P according to a sequence to be described later. A program is stored in which a command for sending the resist liquid is loaded. This program is stored in a storage medium such as a flexible disk, a compact disk, a hard disk, an MO (magneto-optical disk), and a memory card, and is installed in the control unit 9 .

이어서, 상술한 실시의 형태의 작용에 대하여 설명한다. 기판인 웨이퍼(W)가 컵 모듈(10) 내의 스핀 척(11)에 도시하지 않은 반송 암에 의해 전달된 후, 웨이퍼(W)가 소정의 회전수로 회전하고, 노즐(7)로부터 미리 설정된 토출량으로 처리액인 레지스트액이 웨이퍼(W)의 중심부에 토출된다. 레지스트액의 토출은, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 열고 또한 펌프(P)를 동작시킴으로써, 처리액 용기(6)로부터 공급된 버퍼 탱크(56) 내의 레지스트액이 레지스트액 공급로(51)를 통하여 하류측으로 이동한다. 이 때문에 예를 들면 유량 조정부(54)에서 설정된 유량으로 레지스트액이 노즐(7)로부터 토출된다. 그리고 레지스트액이 설정량 토출된 후, 펌프(P)의 동작을 정지하고 또한 석백 밸브(3) 및 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 동작에 의해 레지스트액의 토출이 정지된다.Next, the operation of the above-described embodiment will be described. After the wafer W, which is the substrate, is transferred to the spin chuck 11 in the cup module 10 by a transfer arm (not shown), the wafer W rotates at a predetermined number of revolutions, and is set in advance by the nozzle 7 . A resist liquid, which is a processing liquid, is discharged to the center of the wafer W by the discharge amount. The resist liquid is discharged by opening the air operation valve 2 and operating the pump P, so that the resist liquid in the buffer tank 56 supplied from the processing liquid container 6 passes through the resist liquid supply path 51 . move downstream. For this reason, the resist liquid is discharged from the nozzle 7 at the flow rate set by the flow rate adjustment part 54, for example. Then, after the set amount of the resist liquid is discharged, the operation of the pump P is stopped, and the discharge of the resist liquid is stopped by the operation of the evacuation valve 3 and the air operation valve 2 .

여기서 본 실시 형태에 있어서의 레지스트액의 토출의 정지, 즉 노즐(7)의 액 중단의 상세를 기술하기 전에, 종래 실시되고 있던 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 동작에 의한 액 중단의 모습을 비교예로서 도 3 및 도 4를 참조하여 기술한다. 도 3은 레지스트액의 토출 및 정지, 솔레노이드의 온 오프(도 3의 예에서는, 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 솔레노이드를 나타내고 있음), 및 에어 오퍼레이션 밸브(2) 및 석백 밸브(3)의 개폐의 타임 차트를 나타낸다. 먼저 레지스트액의 토출의 동작부터 설명하면, 시각(t1)에서 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 개폐를 행하기 위한 전자 릴레이 회로(45)에서 솔레노이드가 제어부(9)로부터의 제어 신호에 기초하여 온이 되고(솔레노이드에 통전되고), 에어 오퍼레이션 밸브(2)가 열리기 시작하여 시각(t2)에서 전체 개방 상태가 된다. 레지스트액은, 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 개방도의 증가에 따라 노즐(7)로부터 서서히 토출 유량을 증가시키면서 토출되고, 시각(t2)에서 설정 유량으로 토출된다.Here, before describing the details of stopping the discharge of the resist liquid in the present embodiment, that is, stopping the liquid of the nozzle 7, the state of the liquid stop by the closing operation of the air operated valve 2 that has been conventionally performed is compared. As an example, it will be described with reference to FIGS. 3 and 4 . Fig. 3 shows the discharge and stop of the resist liquid, the on/off of the solenoid (in the example of Fig. 3, the solenoid of the air operation valve 2 is shown), and the opening and closing of the air operation valve 2 and the back valve 3 Shows a time chart. First, the operation of discharging the resist liquid will be described. At time t1, the solenoid in the electromagnetic relay circuit 45 for opening/closing the air operation valve 2 turns on based on a control signal from the control unit 9. (the solenoid is energized), the air operation valve 2 starts to open, and becomes the fully open state at time t2. The resist liquid is discharged from the nozzle 7 while gradually increasing the discharge flow rate as the opening degree of the air operation valve 2 increases, and is discharged at a set flow rate at time t2.

한편, 석백 밸브(3)는 시각(t1)까지는, 개방도가 큰 석백 상태가 되어 있고, 시각(t1)에서 개방도가 작아지기 시작하여, 정해진 작은 개방도의 상태인 셋업 상태로 유지된다. 또한 기재의 편의상, 이후의 설명에서도, 석백 밸브의 개방도의 설명을 간소화하기 위하여 '석백 상태', '셋업 상태'라고 하는 용어를 사용한다.On the other hand, the stagnant valve 3 is in the stagnant state with a large opening until time t1, the opening begins to decrease at time t1, and is maintained in the set-up state which is the state of the predetermined small opening. In addition, for convenience of description, in the following description, terms such as 'seokbaek state' and 'setup state' are used to simplify the description of the opening degree of the seokbaek valve.

그리고 시각(t3)에서 제어부(9)로부터의 제어 신호에 기초하여 솔레노이드가 오프가 되고(솔레노이드의 통전이 정지되고), 에어 오퍼레이션 밸브(2)가 시각(t3)의 직후인 시각(t5)에서 전체 폐지 상태가 된다. 즉 에어 오퍼레이션 밸브(2)가 급격하게 닫혀 시각(t5)에서 노즐(7)로부터의 레지스트액의 토출이 정지된다. 또한 시각(t3)에서 석백 밸브(3)의 개방도가 셋업 상태로부터 증가하기 시작하여, 시각(t6)에서 석백 상태의 개방도가 된다. 이 석백 밸브(3)의 개방도의 증가에 의해 노즐(7)측의 레지스트액이 석백 밸브(3)측에 흡인되어, 노즐(7)에 있어서의 액면 레벨이 상승되어 액 떨어짐이 방지된다.And at time t3, based on the control signal from the control unit 9, the solenoid is turned off (energy of the solenoid is stopped), and the air operation valve 2 is immediately after time t3 at time t5. will be completely abolished. That is, the air operation valve 2 is abruptly closed, and discharge of the resist liquid from the nozzle 7 is stopped at time t5. Further, at time t3, the opening degree of the seokbaek valve 3 starts to increase from the set-up state, and at time t6, it becomes the opening degree of the seokbaek state. The increase in the opening degree of the suction back valve 3 causes the resist liquid on the nozzle 7 side to be sucked into the suction back valve 3 side, and the liquid level in the nozzle 7 rises to prevent liquid dripping.

여기서 도 4는, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 닫았을 때에 있어서의 레지스트액 공급로(51) 내의 모습을 나타내고 있다. 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 닫음으로써 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 상류측의 레지스트액의 유량은, 도 4의 (a)에 나타내는 바와 같이 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 개방도의 감소에 따라 감소하고, 전체 폐지 시에 유량이 제로가 된다. 이에 대하여 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 하류측에서는, 에어 오퍼레이션 밸브(2)가 전체 폐지가 되어도, 관성력에 의해 레지스트액이 노즐(7)측으로 흐르려고 하고, 이 때문에 도 4의 (b)에 나타내는 바와 같이 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 토출구 부근은 부압이 된다. 이 때문에 부압 스프링을 당겼을 때의 현상과 유사한 현상이 되어, 부압이 된 영역은 노즐(7)의 선단을 향해 전파되고, 노즐(7)의 선단(개방단)에서 반사되고, 이어서 되돌림 작용이 일어난다. 이 때 노즐(7)로부터 하강하는 액체와 돌아오려고 하는 액체로 분리되고, 그 결과 노즐(7)의 선단에 있어서의 액 중단이 형성된다. 이 후 레지스트액 공급로(51)의 흐름 방향의 레지스트액의 진동이 감쇠하면서 계속되고, 머지않아 진동이 정지한다. 도 4의 (c)는 노즐(7)의 선단의 압력의 시간적 추이를 나타내고 있고, 레지스트액의 부압이 최대가 되고 나서 부압이 감소하기 시작하는 시점(LC)에서 액 중단이 일어난다.Here, FIG. 4 shows the state inside the resist liquid supply path 51 when the air operation valve 2 is closed. By closing the air operation valve 2, the flow rate of the resist liquid on the upstream side of the air operation valve 2 decreases as the opening degree of the air operation valve 2 decreases, as shown in Fig. 4(a). , the flow rate becomes zero at the time of all closing. On the other hand, on the downstream side of the air operated valve 2, even when the air operated valve 2 is completely closed, the resist liquid tends to flow to the nozzle 7 side due to the inertial force. Similarly, the vicinity of the discharge port of the air operated valve 2 becomes negative pressure. For this reason, it becomes a phenomenon similar to the phenomenon when the negative pressure spring is pulled, and the negative pressure area propagates toward the tip of the nozzle 7, is reflected from the tip (open edge) of the nozzle 7, and then the return action is happens At this time, the liquid descending from the nozzle 7 and the liquid going to return are separated, and as a result, a liquid stop at the tip of the nozzle 7 is formed. Thereafter, the vibration of the resist liquid in the flow direction of the resist liquid supply path 51 continues while attenuating, and the vibration stops soon after. Fig. 4(c) shows the temporal transition of the pressure at the tip of the nozzle 7, and the liquid stop occurs at the point LC where the negative pressure starts to decrease after the negative pressure of the resist liquid reaches its maximum.

이상의 설명으로부터 알 수 있는 바와 같이, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 닫은 후, 레지스트액이 부압되어, 이른바 부압 스프링의 작용에 의해 그 후에 되돌려질 때 액 중단이 일어나고 있다. 본 실시의 형태로 설명을 되돌리면, 본 실시의 형태에서는, 이 현상에 착목하여 에어 오퍼레이션 밸브(2) 및 석백 밸브(3)의 각 동작을 제어하도록 하고 있다. 도 5는, 본 실시 형태에 있어서의 에어 오퍼레이션 밸브(2) 및 석백 밸브(3)의 각각의 개폐 상태를 포함하는 타임 차트이다. 레지스트액의 공급 개시 시에 있어서는, 석백 밸브(3)의 상태가 도 3에 나타낸 앞의 비교예와 달리, 셋업 상태의 개방도에 비해 큰 개방도인 석백 상태로 유지되어 있다. 즉, 시각(t1)에서 에어 오퍼레이션 밸브(2)측의 전자 릴레이 회로(45)에 있어서의 솔레노이드가 온이 되어 에어 오퍼레이션 밸브(2)가 열리는데, 석백 밸브(3)는, 시각(t1)의 전부터 석백 상태가 되고 있고, 시각(t2) 이후도 그 상태가 유지된다. 도 6은 시각 t2부터 t3까지에 있어서의 에어 오퍼레이션 밸브(2) 및 석백 밸브(3)의 상태를 나타내고 있다.As can be seen from the above description, after closing the air operation valve 2, when the resist liquid is negatively pressurized and then returned by the action of a so-called negative pressure spring, liquid interruption occurs. Returning description to this embodiment, in this embodiment, attention is paid to this phenomenon, and each operation|movement of the air operation valve 2 and the back valve 3 is controlled. FIG. 5 : is a time chart containing each open/close state of the air operation valve 2 and the back valve 3 in this embodiment. At the start of supply of the resist liquid, the state of the evacuation valve 3 is maintained at a stagnant state, which is a larger opening than the opening in the set-up state, unlike the previous comparative example shown in FIG. 3 . That is, at the time t1, the solenoid in the electromagnetic relay circuit 45 on the side of the air operation valve 2 turns on, and the air operation valve 2 opens, but the silence valve 3 opens at the time t1. It has been in the silent state before, and the state is maintained even after the time t2. 6 : has shown the state of the air operation valve 2 and the back valve 3 in time t2 to t3.

그리고 노즐(7)에 있어서의 레지스트액의 토출의 정지를 행하기 위하여, 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 동작에 선행하여 시각(t3)에서, 석백 밸브(3)측의 전자 릴레이 회로(65)의 솔레노이드가 오프가 되어, 석백 밸브(3)를 석백 상태로부터 개방도를 작게 하여 시각(t4)에서 셋업 상태로 한다. 도 7은 이 시점에 있어서의 에어 오퍼레이션 밸브(2) 및 석백 밸브(3)의 상태를 나타내고 있다. 즉, 석백 밸브(3)의 개방도가 큰 상태로부터, 전체 폐지의 상태로 하는 것이 아니라, 약간 열린 개방도가 작은 상태로 한다. 그 결과 석백 밸브(3)의 하류측에 기술한 바와 같은 부압 스프링의 작용이 발생하여 액 중단이 일어나고, 시각(t5)에서 레지스트액의 토출이 정지된다.And in order to stop the discharge of the resist liquid from the nozzle 7, prior to the closing operation of the air operation valve 2, at time t3, the electromagnetic relay circuit 65 on the back valve 3 side The solenoid of is turned off, the opening degree of the stagnant valve 3 is made small from the stagnant state, and the set-up state is made at time t4. 7 : has shown the state of the air operation valve 2 and the back valve 3 in this time point. That is, it does not set it as the state of all closing from the state with the large opening degree of the stone back valve 3, but sets it as the state with a slightly opened opening degree small. As a result, the action of the negative pressure spring as described on the downstream side of the suppression valve 3 occurs to stop the liquid, and the discharge of the resist liquid is stopped at time t5.

부압 스프링의 작용이 일어나는 이유로서는, 다음과 같이 추측된다. 석백 밸브(3)의 다이어프램(32)이 유로를 좁게 하도록, 즉 다이어프램(32)의 하방의 유로 부위의 용적을 작게 하도록 동작하므로, 다이어프램(32)이 레지스트액을 푸시하여, 그 결과 하류측의 레지스트액의 유속이 빨라지고, 또한 유로가 좁아짐으로써, 석백 밸브(3)의 상류측의 레지스트액의 유속이 느려지는 한편, 하류측의 레지스트액은 관성력으로 그대로 흐르려고 한다. 이 때문에 석백 밸브(3)의 하류측에서 기술한 바와 같이 부압이 발생하여 레지스트액의 진동이 일어나므로, 석백 밸브(3)를 셋업 상태로 한 후, 약간 시간을 두고 액 중단이 일어난다고 상정된다. 이 예에서는 석백 상태는 제 1 상태에 상당하고, 셋업 상태는 제 2 상태에 상당한다.The reason for the action of the negative pressure spring is estimated as follows. Since the diaphragm 32 of the back valve 3 operates to narrow the flow path, that is, to decrease the volume of the flow path portion below the diaphragm 32, the diaphragm 32 pushes the resist solution, and as a result, the downstream side As the flow velocity of the resist liquid increases and the flow path becomes narrow, the flow velocity of the resist liquid on the upstream side of the back-up valve 3 decreases, while the resist liquid on the downstream side tends to flow as it is due to the inertial force. For this reason, as described on the downstream side of the suppression valve 3, negative pressure is generated and vibration of the resist liquid occurs. . In this example, the silent state corresponds to the first state, and the setup state corresponds to the second state.

석백 밸브(3)가 석백 상태로부터 셋업 상태로 이행하는 시간, 즉 레지스트액을 토출하고 있을 때의 개방도로부터 액 중단을 일으키기 위한 작은 개방도까지 도달하는 시간은, 너무 길면 액 중단이 불안정해지는 점에서, 예를 들면 100 ms 이하인 것이 바람직하다. 이 시간의 하한에 대해서는, 기술적으로는 특별히 한정할 필요가 없고, 사용하는 석백 밸브(3)의 성능에 따라 결정된다. The point that the liquid interruption becomes unstable if the time for the evacuation valve 3 to transition from the stagnant state to the set-up state, that is, from the opening when discharging the resist liquid to the small opening for causing liquid interruption is too long. , for example, it is preferably 100 ms or less. The lower limit of this time does not need to be particularly limited technically, and it is determined according to the performance of the stone back valve 3 to be used.

또한 석백 밸브(3)가 석백 상태로부터 셋업 상태로 이행하는 용량 변화율[{(석백 시의 용량 - 셋업 시의 용량) / 석백 시의 용량)} × 100 %]은, 즉 다이어프램(32)의 동작에 의해 용량이 변화하는 구간인 다이어프램(32)과 다이어프램(32)의 투영 영역 사이의 유로 부위의 용량 변화율은 5 ~ 30 % 이상인 것이 바람직하다.In addition, the capacity change rate [{(capacity at Shibaek - capacity at set-up)/capacity at time of set-up)} x 100%] at which the sukbaek valve 3 transitions from the stagnant state to the set-up state, that is, the operation of the diaphragm 32 It is preferable that the capacity change rate of the flow path portion between the diaphragm 32 and the projection area of the diaphragm 32, which is a section in which the capacity is changed by , is 5 to 30% or more.

도 5로 돌아와, 시각(t5)에서 액 중단이 일어나는데, 에어 오퍼레이션 밸브(2)는 닫혀 있지 않으므로, 이대로의 상태로는 그 후에 레지스트액이 흐르기 시작한다(레지스트액의 통류가 재개된다). 이 때문에 예를 들면 석백 밸브(3)가 셋업 상태가 되는 시각(t4)에서, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 동작시키기 위한 전자 릴레이 회로(45)의 솔레노이드를 제어부(9)의 제어 신호에 기초하여 오프로 하고, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 닫는다. 도 8은, 에어 오퍼레이션 밸브(2)가 닫힌 시각(t7)에 있어서의, 에어 오퍼레이션 밸브(2) 및 석백 밸브(3)의 상태를 나타내고 있다.Returning to Fig. 5, the liquid stop occurs at time t5, but since the air operation valve 2 is not closed, the resist liquid begins to flow in the same state after that (the flow of the resist liquid is resumed). For this reason, for example, at the time t4 when the back-up valve 3 is in the set-up state, the solenoid of the electromagnetic relay circuit 45 for operating the air operation valve 2 is set based on the control signal of the control part 9. It is turned off, and the air operation valve 2 is closed. 8 : has shown the state of the air operated valve 2 and the back valve 3 in time t7 when the air operated valve 2 was closed.

에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 동작은, 구동실(24)의 하방 영역(29)에 있어서의 가압 공기를 배출함으로써 행해지고, 예를 들면 배출 밸브(44)가 마련되어 있는 배출측의 에어 유로(41)의 컨덕턴스를 조정함으로써 공기의 배출 속도, 즉 밸브 본체(23)의 폐지 속도를 제어할 수 있다. 액 중단을 에어 오퍼레이션 밸브(2)에 의지하고 있는 도 3에 나타내는 비교예의 시퀀스의 경우에는, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 닫는데 요하는 시간은 50 ms 정도로 설정되고, 이 속도보다 느리면 액 중단이 불안정해진다. 액 중단이 불안정해지면, 웨이퍼(W) 상에서 레지스트액이 원심력에 의해 확산된 후, 그 표면에 액적이 떨어져 확산되는 경우가 있으므로, 막 두께 분포 패턴이 예정하고 있는 패턴으로부터 빗나갈 우려가 있다.The closing operation of the air operation valve 2 is performed by discharging the pressurized air in the lower region 29 of the drive chamber 24 , for example, the air flow path 41 on the discharge side in which the discharge valve 44 is provided. ) by adjusting the conductance of the air discharge rate, that is, the closing speed of the valve body 23 can be controlled. In the case of the sequence of the comparative example shown in Fig. 3 in which the liquid interruption depends on the air operated valve 2, the time required to close the air operated valve 2 is set to about 50 ms, and if it is slower than this speed, the liquid stop is become unstable When the liquid interruption becomes unstable, the resist liquid is diffused by centrifugal force on the wafer W, and then there is a possibility that the film thickness distribution pattern deviates from the predetermined pattern because there are cases where droplets fall and diffuse on the surface thereof.

이에 대하여 본 실시의 형태에서는, 석백 밸브(3)에 의해 액 중단이 행해지고 있으므로, 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 동작은, 액 중단한 한 후에 액 흐름이 재개될 때까지의 시간 내에 행해지면 된다. 이 때문에 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 동작을 완만하게 행할 수 있고, 200 ms보다 긴 시간 예를 들면 250 ms의 시간을 들여 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 닫을 수 있다.On the other hand, in the present embodiment, since the liquid stoppage is performed by the evacuation valve 3, the closing operation of the air operation valve 2 may be performed within the time period until the liquid flow is resumed after the liquid stoppage. . For this reason, the closing operation|movement of the air operated valve 2 can be performed gently, and the time longer than 200 ms, for example, a time of 250 ms can be taken, and the air operated valve 2 can be closed.

에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 개시의 타이밍은, 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 동작을 200 ms보다 긴 시간을 들여 행해도, 석백 밸브(3)의 동작에 의해 달성된 액 중단 후에 있어서 액 흐름이 재개되지 않는 타이밍이면 된다. 이 때문에, 석백 밸브(3)는, 셋업 상태가 되는 시각(t4)에서 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 닫기 시작하는 것에 한정되지 않고, 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 동작 개시의 타이밍은, 석백 밸브(3)가 셋업 상태가 되는 시각(t4)보다 이후이면 된다. As for the timing of the start of closing of the air operated valve 2, even if the closing operation of the air operated valve 2 is performed for a time longer than 200 ms, the liquid flow after the liquid stop achieved by the operation of the evacuation valve 3 Any timing at which this is not resumed is sufficient. For this reason, the suppression valve 3 is not limited to starting to close the air operation valve 2 at the time t4 used as a setup state, The timing of the closing operation start of the air operation valve 2 is What is necessary is just to be later than the time t4 at which (3) becomes a setup state.

에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 동작 개시 시점이 석백 밸브(3)가 셋업 상태가 되는 시각(t4)보다 전인 경우에는, 석백 밸브(3)의 동작과 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 동작이 겹치므로, 레지스트액 공급로(51) 중의 2 개소에서 체적 변화가 동시에 일어난다. 이 때문에 레지스트액 공급로(51) 중의 액의 거동이 복잡해져, 액 중단량(석백 밸브(3)가 셋업 상태가 된 후에 노즐(7)로부터 흘러 떨어지는 액의 양)이 증가할 우려가 있다. 이에 대하여, 석백 밸브(3)가 셋업 상태가 되는 시각(t4)보다 이후에 에어 오퍼레이션 밸브(2)의 폐지 동작을 개시함으로써, 석백 밸브(3)를 셋업 상태로 하는 것에 의한 체적 변화와, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 닫는 것에 의한 체적 변화가 타이밍을 비켜 일어난다. 그 때문에 레지스트액 공급로(51) 중의 액의 거동이 복잡해지지 않고 액 중단량이 억제된다.Since the operation of the air operated valve 2 overlaps with the operation of the air operated valve 2 when the closing operation start time of the air operated valve 2 is before the time t4 when the sleep back valve 3 enters the setup state, the operation of the air operated valve 2 overlaps. , a volume change occurs simultaneously at two locations in the resist solution supply path 51 . For this reason, the behavior of the liquid in the resist liquid supply path 51 becomes complicated, and there is a possibility that the amount of liquid interruption (the amount of liquid flowing out of the nozzle 7 after the evacuation valve 3 is set-up) increases. On the other hand, by starting the closing operation of the air operation valve 2 later than the time t4 when the suction valve 3 is in the setup state, the volume change by setting the suction back valve 3 into a setup state, and air The volume change by closing the operation valve 2 occurs out of timing. Therefore, the behavior of the liquid in the resist liquid supply path 51 is not complicated, and the amount of liquid interruption is suppressed.

도 5로 돌아와, 에어 오퍼레이션 밸브(2)가 닫힌 시각(t7)에서 석백 밸브(3)측에 있어서의 전자 릴레이 회로(65)의 솔레노이드는 제어 신호에 기초하여 온이 되고, 석백 밸브(3)가 석백 상태를 향해 개방도를 크게 하기 시작하여, 시각(t8)에서 석백 상태가 되어 노즐(7)의 선단의 액면의 상승이 종료된다. 웨이퍼(W)는 레지스트액의 확산을 종료한 후, 막 두께 조정 공정, 건조 공정에 각각 따른 회전 속도로 회전하고, 일련의 프로세스가 종료된 후, 컵 모듈(10)로부터 외부로 반송된다.Returning to Fig. 5, at the time t7 when the air operation valve 2 is closed, the solenoid of the electromagnetic relay circuit 65 on the side of the back valve 3 turns on based on the control signal, and the suppression valve 3 The opening degree starts to increase toward the temporary stagnant state, and the stagnant state is reached at time t8, and the rise of the liquid level at the tip of the nozzle 7 is completed. After the diffusion of the resist liquid is completed, the wafer W is rotated at a rotation speed corresponding to each of the film thickness adjustment process and the drying process, and after a series of processes is completed, the wafer W is transferred from the cup module 10 to the outside.

상술한 실시의 형태는 노즐(7)로부터 토출하고 있는 레지스트액의 액 중단에 대하여, 레지스트액의 공급로를 완전하게 닫지 않아도 좁게 함으로써 부압 스프링의 현상이 일어나 일시적으로 액 중단하는 점에 착목하고 있다. 그리고 이 예에서는 석백 밸브(3)를 석백 상태로부터 셋업 상태로 함으로써 액 중단을 발생시키고, 레지스트액의 액 흐름의 재개를 저지하여 액을 완전하게 정지하는 기능을 석백 밸브(3)의 상류측의 에어 오퍼레이션 밸브(2)에 갖게 하고 있다. 이 때문에 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 급격하게 닫지 않아도 되므로, 에어 오퍼레이션 밸브(2)를 급격하게 닫는 것에 기인하는 파티클의 발생을 저감할 수 있다.The above-described embodiment pays attention to the point that, with respect to the interruption of the resist liquid discharged from the nozzle 7, the negative pressure spring develops and temporarily stops the liquid by narrowing the supply path of the resist liquid without completely closing it. . And, in this example, the function of causing a liquid stoppage and preventing the resumption of the liquid flow of the resist liquid to completely stop the liquid is performed by changing the sedimentation valve 3 from the sedimentation state to the set-up state. The air operated valve 2 is provided. For this reason, since it is not necessary to close the air operation valve 2 abruptly, generation|occurrence|production of the particle resulting from the abrupt closing of the air operation valve 2 can be reduced.

본 발명의 실시의 형태에 따른 밸브 유닛(1)의 다른 예에 대하여 설명한다. 도 9에 나타내는 바와 같이 밸브 유닛(1)은, 석백 밸브(3)에 있어서, 기술한 다이어프램실(31) 대신에, 밸브실(91)을 마련해도 된다. 그리고 밸브실(91)의 주연부에 제 2 유로(15)의 하류단을 접속하고, 또한 밸브실(91)의 저면의 중앙에 제 3 유로(16)의 상류단을 개구시키고, 개구부의 주위에 밸브 시트(92)를 마련하고 있다. 또한 밸브실(91) 내에 밸브 본체(93)를 마련하고, 밸브봉(35)을 하강시킴으로써, 밸브 본체(93)가 밸브 시트(92)에 착석하도록 구성하고 있다.Another example of the valve unit 1 according to the embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 9, the valve unit 1 may provide the valve chamber 91 instead of the diaphragm chamber 31 which was described in the back valve 3. And the downstream end of the 2nd flow path 15 is connected to the periphery of the valve chamber 91, and the upstream end of the 3rd flow path 16 is opened in the center of the bottom face of the valve chamber 91, and the periphery of the opening part is opened. A valve seat 92 is provided. Moreover, the valve body 93 is provided in the valve chamber 91, and the valve body 93 is comprised so that the valve seat 92 may be seated by lowering|falling the valve rod 35. As shown in FIG.

이 경우, 밸브 본체(93)가 가장 상승했을 때를, 개방도 100 %로 하고, 밸브 본체(93)가 밸브 시트(92)에 착석했을 때를 개방도 0 %로 하고, 밸브 본체(93)의 높이 위치의 백분율로 나타낸 값을 밸브의 개방도로 하면, 제 1 용적인 석백 상태는, 예를 들면 개방도 100 %이며, 제 2 용적인 셋업 상태는 예를 들면 개방도 20 %이다. 그리고, 석백 밸브(3)를 개방도 100 %에서 개방도 20 %까지 닫음으로써, 제 3 유로(16)의 개구부 상방의 용적이 작아지고, 밸브 본체(93) 및 밸브 시트(92)보다 상류측의 유속이 느려진다. 밸브 본체(93) 및 밸브 시트(92)보다 하류측에 있어서는, 관성력에 의해 노즐(7)측으로 흐르려고 하기 때문에, 제 3 유로(16)의 개구부 부근은, 부압이 되어, 기술한 바와 같이 액 중단을 일으킬 수 있어, 동일한 효과가 얻어진다.In this case, when the valve body 93 rises the most, the opening degree is 100%, and the opening degree when the valve body 93 is seated on the valve seat 92 is 0%, and the valve body 93 is set to 0%. Assuming that the value expressed as a percentage of the height position of the valve is the opening degree of the valve, the stagnant state of the first volume is, for example, an opening degree of 100%, and the set-up state of the second volume is, for example, an opening degree of 20%. Then, by closing the stone back valve 3 from the opening degree of 100% to the opening degree of 20%, the volume above the opening of the third flow path 16 is reduced, and the valve body 93 and the valve seat 92 are upstream from the valve body 93 and the valve seat 92 . slows down the flow of On the downstream side of the valve body 93 and the valve seat 92, since the inertial force tends to flow toward the nozzle 7, the vicinity of the opening of the third flow path 16 becomes negative pressure, and as described above, the liquid interruption can occur, and the same effect is obtained.

본 발명의 실시의 형태에 따른 밸브 유닛(1)의 또 다른 예를 도 10에 나타낸다. 도 10의 밸브 유닛(1)은, 도 2에 나타낸 구조에 있어서, 제 2 유로(15)의 에어 오퍼레이션 밸브(2)측의 수직 부위를 더 굴착하고 나서 석백 밸브(3)측을 향해 비스듬한 형상으로 경사지도록 구성하고 있다. 그리고, 제 2 유로(15)의 저부를 도 2의 구조에 비해 높게 함으로써 다이어프램실(31)의 용적을 작게 하고 있다. 이와 같이 구성함으로써, 다이어프램(32)을 하측으로 굴곡시켰을 때에 용적의 변화율, 즉 처리액 유로의 단면적의 변화율이 보다 커지고, 액 중단을 보다 한층 확실히 행할 수 있다.Another example of the valve unit 1 according to the embodiment of the present invention is shown in FIG. 10 . In the structure shown in FIG. 2, the valve unit 1 of FIG. 10 has a shape that is inclined toward the back valve 3 side after further excavating a vertical portion of the second flow path 15 on the air operation valve 2 side. It is configured to be inclined. In addition, the volume of the diaphragm chamber 31 is made small by making the bottom of the 2nd flow path 15 high compared with the structure of FIG. With this configuration, when the diaphragm 32 is bent downward, the rate of change of the volume, that is, the rate of change of the cross-sectional area of the processing liquid flow path, becomes larger, and the liquid interruption can be performed more reliably.

이상의 실시의 형태에 있어서는, 석백 밸브(3)에 액 중단 기능을 갖게 하고 있지만, 액 중단을 한 후에 노즐(7)의 액면을 상승시키기 위한 석백 밸브(3)와는 별도로, 유로의 일부의 용적을, 제 1 용적에서 제 1 용적보다 작은 제 2 용적으로 하는 유로 조정부를 마련해도 된다. 이 경우에는, 유로 조정부는 석백 밸브(3)의 상류측 및 하류측 중 어느 일방에 마련해도 된다.In the above embodiment, although the evacuation valve 3 has a liquid interruption function, the volume of a part of the flow path is separated from the evacuation valve 3 for raising the liquid level of the nozzle 7 after the liquid interruption is performed. , You may provide a flow path adjustment part used as a 2nd volume smaller than a 1st volume in a 1st volume. In this case, you may provide a flow path adjustment part in either one of the upstream side and the downstream side of the stone back valve 3 .

[제 2 실시의 형태][Second embodiment]

제 1 실시의 형태에서는, 액 중단과, 레지스트액의 차단을 각각 상이한 밸브에 의해 행하는 예를 나타냈지만, 제 2 실시의 형태에서는, 액 중단과, 레지스트액의 차단을 행하는 밸브를 공통화한 예를 나타낸다. 도 11에 나타내는 개폐 밸브(200)는, 밸브실(21), 밸브 본체(23), 밸브봉(25), 구동실(24)의 구조가 대략 기능적 관점으로부터 도 2에 나타내는 에어 오퍼레이션 밸브(2)와 동일하지만, 밸브봉(25)을 동작시키는 구동원이 모터(201)를 사용하고 있는 점에서 상이하다. 밸브봉(25)은 하방 영역(29) 내의 스프링 부재(26)에 의해 상시 상측으로 힘이 가해져 있고, 모터(201)에 의한 모터축(202)의 강하와 함께 강하하고, 모터축(202)의 상승 시에는 스프링 부재(26)의 복원력에 의해 상승한다. 이러한 밸브에 있어서는, 개방도를 100 %에 가깝게 함으로써, 유속이 높아지고, 개방도를 0 %에 가깝게 함에 따라 유속이 낮아지고, 개방도를 0 %로 함으로써, 레지스트액의 공급이 정지된다. 이 때문에, 도 5에 나타낸 시각(t3)부터 시각(t4)에 있어서, 개폐 밸브(200)를 예를 들면 개방도 100 %에서 개방도 2 ~ 10 %까지 닫는다.In the first embodiment, an example in which liquid interruption and resist liquid shutoff are performed by different valves is shown. In the second embodiment, an example in which a liquid interruption and a resist liquid shutoff valve are used in common is shown. indicates. The on-off valve 200 shown in FIG. 11 has the structure of the valve chamber 21, the valve body 23, the valve rod 25, and the drive chamber 24 from a functional point of view about the air operated valve 2 shown in FIG. ), but different in that the driving source for operating the valve rod 25 uses the motor 201 . The valve rod 25 is always forced upward by the spring member 26 in the lower region 29, and descends with the fall of the motor shaft 202 by the motor 201, and the motor shaft 202. is raised by the restoring force of the spring member 26 . In such a valve, when the opening degree is close to 100%, the flow rate is increased, as the opening degree is close to 0%, the flow rate is lowered, and when the opening degree is set to 0%, the resist liquid supply is stopped. For this reason, from time t3 to time t4 shown in FIG. 5, the on-off valve 200 is closed from 100% of an opening degree to 2 to 10% of an opening degree, for example.

이러한 조작을 행하면, 밸브 본체(23)의 하방측의 용적이 급격하게 작아지므로, 제 1 실시 형태의 석백 밸브(3)에 의해 일어난 현상과 마찬가지로, 당해 밸브 본체(23)의 하류측의 유속이 빨라져 기술한 바와 같이 부압 스프링의 작용이 발생하고, 마찬가지로 하여 액 중단이 일어난다. 이 상태로는, 액 흐름이 재개되어 버리므로, 액 흐름이 재개되기 전에 개폐 밸브(200)의 개방도가 0 %가 되도록, 즉 개폐 밸브(200)가 닫힌 상태가 되도록, 모터(201)에 의해 모터축(202)을 강하시킨다. 이 경우에 있어서도, 개폐 밸브(200)를 닫는 동작은, 액 중단된 후의 액의 흐름의 재개를 저지하기 위한 동작인 점에서, 개방도가 예를 들면 2 ~ 10 % 상태로부터 0 %에 이를 때까지의 폐지 동작은 예를 들면 200 ms 이상의 긴 시간을 들여 완만하게 행할 수 있다. When this operation is performed, since the volume on the lower side of the valve body 23 is rapidly reduced, the flow velocity on the downstream side of the valve body 23 is similar to the phenomenon caused by the evacuation valve 3 of the first embodiment. As described above, the action of the negative pressure spring occurs, and in the same way, the liquid stop occurs. In this state, the liquid flow is resumed, so that the opening degree of the on-off valve 200 is 0% before the liquid flow is resumed, that is, the on-off valve 200 is in a closed state. The motor shaft 202 is lowered by the Also in this case, since the operation of closing the on-off valve 200 is an operation for preventing the resumption of the flow of the liquid after the liquid has been stopped, the opening degree reaches 0% from, for example, 2 to 10%. The closing operation up to this time can be performed gently, for example, taking a long time of 200 ms or more.

이 예에서는 개폐 밸브(200)의 개방도가 100 %일 때가 제 1 용적, 2 ~ 10 %가 제 1 용적보다 작은 제 2 용적에 상당하지만, 액 중단을 일으키기 위한 제 1 용적, 제 2 용적에 상당하는 개방도는, 사전에 실험을 행하여 적절한 값으로 설정할 수 있다.In this example, when the opening degree of the on-off valve 200 is 100%, the first volume corresponds to the second volume where 2 to 10% is smaller than the first volume, but the first volume and the second volume for causing liquid interruption The corresponding opening degree can be set to an appropriate value by conducting an experiment beforehand.

본 발명이 적용되는 처리액으로서는 레지스트액에 한정되지 않고, 반사 방지막용의 약액, 절연막의 전구체 물질을 포함하는 약액, 시너, 순수 등이어도 되는데, 급격한 액 중단이 요구되는 프로세스에 대하여 특히 적합하다. The treatment liquid to which the present invention is applied is not limited to a resist liquid, and may be a chemical liquid for an antireflection film, a chemical liquid containing a precursor material for an insulating film, thinner, pure water, etc., which is particularly suitable for a process requiring rapid liquid interruption.

또한 송액 기구는 펌프(P)에 한정되지 않고, 예를 들면 버퍼 탱크(56)의 기상에 가스를 공급하여 처리액에 압력을 가하여, 처리액을 압송하여 공급하는 송액 기구여도 된다. In addition, the liquid feeding mechanism is not limited to the pump P, and may be, for example, a liquid feeding mechanism that supplies gas to the gas phase of the buffer tank 56 to apply pressure to the processing liquid to supply the processing liquid by pressure.

[확인 시험][Confirmation Test]

본 발명의 효과를 검증하기 위하여 이하의 시험을 행했다. 시험 방법에 대해서는, 펌프, 도 2에 나타내는 밸브 유닛(1), 노즐을 상류측으로부터 이 순으로 배치하고 또한 밸브 유닛(1)의 하류측에 압력계를 마련하고, 액체로서는 시너를 이용했다. 그리고, 기술한 비교예(도 3)와 같이 에어 오퍼레이션 밸브(3)를 급준하게 닫았을 경우와, 실시 형태(도 5)와 같이 석백 밸브(3)을 석백 상태로부터 셋업 상태로 했을 경우의 각각에 있어서, 압력계에 의한 검출 압력의 시간적 추이를 측정했다. 도 12는 측정 결과를 나타내고, 점선(1)은 비교예, 실선(2)은 실시 형태에 각각 상당한다. In order to verify the effect of this invention, the following test was done. About the test method, the pump, the valve unit 1 shown in FIG. 2, and a nozzle were arrange|positioned in this order from an upstream, and the pressure gauge was provided downstream of the valve unit 1, and thinner was used as a liquid. And when the air operation valve 3 is closed abruptly like the comparative example (FIG. 3) described above, and when the back valve 3 is made into a setup state from the stagnant state as in the embodiment (Fig. 5), respectively , the temporal transition of the pressure detected by the pressure gauge was measured. Fig. 12 shows the measurement results, the dotted line 1 corresponds to the comparative example, and the solid line 2 corresponds to the embodiment.

이 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 비교예에서 발생하는 압력의 감쇠 진동과 마찬가지로, 실시 형태에 있어서도 압력의 감쇠 진동이 형성되어 있다. 또한 실시 형태에 있어서도 일시적인 액 중단을 확인할 수 있었다. As can be seen from this result, the damping oscillation of the pressure is formed in the embodiment as well as the damping oscillation of the pressure generated in the comparative example. Also in the embodiment, temporary liquid interruption was confirmed.

따라서 본 발명에 의하면 유로의 일부의 용적을 대에서 소로 변화시킴으로써 액 중단을 행할 수 있어, 기술한 효과가 얻어지는 것을 확인할 수 있었다.Therefore, according to the present invention, it was confirmed that liquid interruption could be performed by changing the volume of a part of the flow path from large to small, and it was confirmed that the described effect was obtained.

1 : 밸브 장치
2 : 에어 오퍼레이션 밸브
3 : 석백 밸브
7 : 노즐
9 : 제어부
10 : 컵 모듈
51 : 레지스트액 공급로
100 : 레지스트액 공급 장치
P : 펌프
W : 웨이퍼1: valve device
2: Air operated valve
3: Seokbaek valve
7: Nozzle
9: control unit
10 : cup module
51: resist solution supply path
100: resist solution supply device
P: pump
W: Wafer

Claims (11)

송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 장치에 있어서,
상기 처리액 공급로에 마련된 개폐 밸브와,
상기 개폐 밸브와 노즐 사이의 처리액 공급로에 마련되고, 처리액 공급로의 일부의 단면적을 바꾸어 용적을 조정하기 위한 유로 조정부와,
상기 노즐로부터의 처리액의 토출을 일시적으로 정지하기 위하여, 상기 유로 조정부에 대하여, 처리액 공급로의 일부의 용적이 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적이 되도록 제어 신호를 출력하고, 또한 상기 처리액 공급로의 일부의 용적이 제 2 용적으로 조정된 후, 토출이 정지된 처리액의 통류가 재개되기 전에 처리액 공급로가 닫히도록 상기 개폐 밸브에 대하여 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.A processing liquid supply apparatus for supplying a processing liquid to an object to be processed through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism, the processing liquid supply apparatus comprising:
an opening/closing valve provided in the processing liquid supply path;
a flow path adjusting unit provided in the processing liquid supply path between the on-off valve and the nozzle to adjust a volume by changing a cross-sectional area of a part of the processing liquid supply path;
In order to temporarily stop discharging the processing liquid from the nozzle, a control signal to the flow path adjusting unit so that the volume of a portion of the processing liquid supply path becomes a second volume smaller than the first volume and larger than zero in the first volume and, after the volume of a portion of the processing liquid supply passage is adjusted to the second volume, a control signal is applied to the on-off valve so that the processing liquid supply passage is closed before the flow of the treatment liquid for which the discharge is stopped is resumed. A processing liquid supply device comprising a control unit for outputting the output. 제 1 항에 있어서,
상기 개폐 밸브의 폐지 동작에 요하는 시간은 200 ms 이상으로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.The method of claim 1,
The processing liquid supply apparatus, characterized in that the time required for the closing operation of the on-off valve is set to 200 ms or more. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 유로 조정부에 의해 조정되는 용적이 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적이 될 때까지 요하는 시간은 100 ms 이하로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.3. The method of claim 1 or 2,
The processing liquid supply apparatus according to claim 1, wherein a time required for the volume adjusted by the flow path adjusting unit to become a second volume smaller than the first volume and larger than zero from the first volume is set to 100 ms or less. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 개폐 밸브의 하류측에 있어서의 처리액 유로에는, 처리액의 토출 정지 후에 노즐의 액면 레벨을 상승시키기 위한 석백 밸브가 마련되고,
상기 석백 밸브는, 상기 유로 조정부를 겸용하고 있는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.3. The method of claim 1 or 2,
In the processing liquid flow path on the downstream side of the on-off valve, a suction valve for raising the liquid level of the nozzle after stopping the discharge of the processing liquid is provided;
The processing liquid supply device, wherein the stone back valve also serves as the flow path adjusting unit. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
처리액의 점도는 25 ℃에서 1 cP ~ 10 cP인 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.3. The method of claim 1 or 2,
The treatment liquid supply device, characterized in that the viscosity of the treatment liquid is 1 cP ~ 10 cP at 25 ℃. 송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 장치에 있어서,
상기 처리액 공급로에 마련된 개폐 밸브와,
상기 노즐로부터의 처리액의 토출을 일시적으로 정지하기 위하여, 상기 개폐 밸브에 대하여, 처리액 공급로의 용적이 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적이 되도록 제어 신호를 출력하고, 또한 토출이 정지된 처리액의 통류가 재개되기 전에 처리액 공급로가 닫히도록 상기 개폐 밸브에 대하여 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.A processing liquid supply apparatus for supplying a processing liquid to an object to be processed through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism, the processing liquid supply apparatus comprising:
an opening/closing valve provided in the processing liquid supply path;
In order to temporarily stop discharging the processing liquid from the nozzle, a control signal is output to the on-off valve so that the volume of the processing liquid supply path becomes from the first volume to a second volume smaller than the first volume and larger than zero. and a control unit for outputting a control signal to the on-off valve so that the processing liquid supply path is closed before the flow of the treatment liquid whose discharge has been stopped is resumed. 처리액에 의해 액처리가 행해지는 피처리체인 기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
상기 기판 유지부를 둘러싸도록 마련되고, 그 내부가 배기되는 컵 모듈과,
제 1 항 또는 제 6 항에 기재된 처리액 공급 장치와,
상기 노즐을 이동시키는 이동 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 액처리 장치.a substrate holding unit for horizontally holding a substrate, which is an object to be processed, which is subjected to liquid processing with the processing liquid;
a cup module provided to surround the substrate holding part, the inside of which is exhausted;
The processing liquid supply apparatus according to claim 1 or 6;
and a moving mechanism for moving the nozzle. 송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 방법에 있어서,
상기 처리액 공급로에 마련된 개폐 밸브와, 상기 개폐 밸브와 노즐 사이의 처리액 공급로에 마련되고, 처리액 공급로의 일부의 단면적을 바꾸어 용적을 조정하기 위한 유로 조정부를 이용하고,
상기 노즐로부터 처리액을 토출하여 피처리체로 공급하는 공정과,
이 후, 노즐로부터의 처리액의 토출을 일시적으로 정지하기 위하여, 상기 유로 조정부에 의해, 처리액 공급로의 용적을 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적으로 조정하는 공정과,
상기 처리액 공급로의 용적이 제 2 용적으로 조정된 후, 토출이 정지된 처리액의 통류가 재개되기 전에 상기 개폐 밸브에 의해 처리액 공급로를 닫는 공정을 행하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 방법.A processing liquid supply method in which a processing liquid is supplied to a target object through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism, the processing liquid supply method comprising:
an on-off valve provided in the processing liquid supply path, and a flow path adjusting unit provided in the processing liquid supply path between the on-off valve and the nozzle to adjust the volume by changing the cross-sectional area of a part of the processing liquid supply path;
discharging the treatment liquid from the nozzle and supplying it to the object;
Thereafter, in order to temporarily stop discharging the treatment liquid from the nozzle, the volume of the treatment liquid supply path is adjusted from the first volume to a second volume smaller than the first volume and larger than zero by the flow path adjusting unit. class,
a process of closing the processing liquid supply passage by the on-off valve after the volume of the processing liquid supply passage is adjusted to the second volume and before the flow of the treatment liquid whose discharge has been stopped is resumed; . 제 8 항에 있어서,
상기 개폐 밸브에 의해 처리액 공급로를 닫는 공정은, 200 ms 이상의 폐지 동작에 의해 처리액 공급로를 닫는 공정인 것을 특징으로 하는 처리액 공급 방법.9. The method of claim 8,
The process of closing the processing liquid supply path by the on-off valve is a process of closing the processing liquid supply path by a closing operation of 200 ms or longer. 송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 방법에 있어서,
상기 노즐로부터 처리액을 토출하여 피처리체로 공급하는 공정과,
이 후, 노즐로부터의 처리액의 토출을 일시적으로 정지하기 위하여, 상기 처리액 공급로에 마련된 개폐 밸브에 의해, 처리액 공급로의 용적을 제 1 용적에서, 제 1 용적보다 작고 제로보다 큰 제 2 용적으로 조정하는 공정과,
토출이 정지된 처리액의 통류가 재개되기 전에 상기 개폐 밸브에 의해 처리액 공급로를 닫는 공정을 행하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 방법.A processing liquid supply method in which a processing liquid is supplied to a target object through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism, the processing liquid supply method comprising:
discharging the treatment liquid from the nozzle and supplying it to the object;
Thereafter, in order to temporarily stop discharging the processing liquid from the nozzle, the volume of the processing liquid supply passage is changed from the first volume to a first volume smaller than the first volume and greater than zero by an on/off valve provided in the processing liquid supply passage. 2 The process of adjusting the volume;
A processing liquid supply method, characterized in that the step of closing the processing liquid supply path by the on-off valve is performed before the flow of the processing liquid whose discharge has been stopped is resumed. 송액 기구에 의해 처리액을 처리액 공급로 및 노즐을 거쳐 피처리체로 공급하는 처리액 공급 장치에 이용되는 컴퓨터 프로그램을 기억한 기억 매체로서,
상기 컴퓨터 프로그램은, 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 처리액 공급 방법을 실행하도록 스텝군이 탑재되어 있는 것을 특징으로 하는 기억 매체.A storage medium storing a computer program used in a processing liquid supply device for supplying a processing liquid to a target object through a processing liquid supply path and a nozzle by a liquid feeding mechanism, comprising:
11. A storage medium, characterized in that the computer program is equipped with a step group for executing the processing liquid supply method according to any one of claims 8 to 10.
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