KR102430607B1 - 케트이민의 아실화를 통한 3,5-비스(할로알킬)피라졸의 제조 방법 - Google Patents

케트이민의 아실화를 통한 3,5-비스(할로알킬)피라졸의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 케트이민의 아실화를 통한 3,5-비스(할로알킬)피라졸 유도체의 신규 제조방법에 관한 것이다.

Description

케트이민의 아실화를 통한 3,5-비스(할로알킬)피라졸의 제조 방법{Process for preparing 3,5-bis(haloalkyl)pyrazoles via acylation of ketimines}
본 발명은 3,5-비스(할로알킬)피라졸 유도체의 신규 제조 방법에 관한 것이다.
폴리플루오로알킬피라졸릴카복실산 유도체 및 3,5-비스(플루오로알킬)피라졸은 살진균 활성 성분의 유용한 전구체이다 (WO 2003/070705, WO 2008/013925, WO 2012/025557).
피라졸카복실산 유도체는 전형적으로 2개의 이탈 그룹을 가지는 아크릴산 유도체를 히드라진과 반응시켜 제조된다 (WO 2009/112157 및 WO 2009/106230). WO 2005/042468호는 산 할라이드와 디알킬아미노아크릴 에스테르를 반응시킨 후에 그를 알킬 히드라진으로 폐환하여 2-디할로아실-3-아미노아크릴 에스테르를 제조하는 방법을 기술하였다. WO 2008/022777호는 α,α-디플루오로아민을 루이스산의 존재하에서 아크릴산 유도체와 반응시킨 후에 그를 알킬 히드라진으로 폐환하여 3-디할로메틸피라졸-4-카복실산 유도체를 제조하는 방법을 기술하였다.
3,5-비스(플루오로알킬)피라졸은 비스퍼플루오로알킬 디케톤 (예를 들면, 1,1,1,5,5,5-헥사플루오로아세틸아세톤)을 히드라진과 반응시켜 제조되지만 (참조: Pashkevich et al., Zhurnal Vsesoyuznogo Khimicheskogo Obshchestva im. D. I. Mendeleeva (1981), 26(1), 105-7), 수율은 고작 27 - 40% 밖에 되지 않는다. 폴리플루오로알킬 디케톤은 이 화합물이 일반적으로 매우 휘발성이고 고독성이기 때문에, 그의 합성, 분리 및 정제는 매우 복잡하다.
상술된 선행기술에 비추어, 본 발명의 목적은 상기 언급된 단점을 갖지 않고 따라서 고수율로 3,5-비스(할로알킬)피라졸 유도체에 대한 경로를 제공하는 방법을 제공하는 것이다.
상술된 목적이 단계 (A)에서, 화학식 (II)의 산 유도체를 화학식 (III)의 화합물과 반응시켜 화학식 (IV)의 화합물을 형성하고, 단계 (B)에서, (IV)를 (V) NH2NHR4 (여기서 R4는 이하에 정의되는 바와 같다)의 존재하에 폐환시켜 (Ia) 및 (Ib)를 형성하는 것을 특징으로 하는, 화학식 (Ia) 및 (Ib)의 3,5-비스(할로알킬)피라졸을 제조하는 방법으로 달성되었다:
Figure 112017001242089-pct00001
Figure 112017001242089-pct00002
Figure 112017001242089-pct00003
Figure 112017001242089-pct00004
상기 식에서,
R1 및 R3은 각각 독립적으로 C1-C6-할로알킬로부터 선택되고;
R2는 H, 할로겐, COOH, (C=O)OR5, CN 및 (C=O)NR6R7로부터 선택되고;
R4는 H, C1-C8 알킬, 아릴, 피리딜로부터 선택되고;
R5는 C1-12-알킬, C3-8-사이클로알킬, C6-18-아릴, C7-19-아릴알킬 및 C7-19-알킬아릴로부터 선택되고;
R6 R7은 각각 독립적으로 C1-12-알킬, C3-8-사이클로알킬, C6-18-아릴, C7-19-아릴알킬 및 C7-19-알킬아릴로부터 선택되거나; 또는
R6 R7은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 4-, 5- 또는 6-원 환을 형성할 수 있고,
X는 F, Cl, Br 또는 -OC(O)R1이고;
R8은 C1-12-알킬, C3-8-사이클로알킬, C6-18-아릴, C7-19-아릴알킬 및 C7-19-알킬아릴, OR9아릴로부터 선택되고;
R9는 C1-12-알킬, C3-8-사이클로알킬, C6-18-아릴, C7-19-아릴알킬, C7-19-알킬아릴로부터 선택된다.
화학식 (Ia), (Ib), (II), (III), (IV) 및 (V)에서 래디칼들이 다음과 같이 정의되는 본 발명에 따른 방법이 바람직하다:
R1 R3은 각각 독립적으로 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로플루오로메틸, 디클로로플루오로메틸, 클로로디플루오로메틸, 1-플루오로에틸, 2-플루오로에틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2-클로로-2-플루오로에틸, 2-디플루오로에틸, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 테트라플루오로에틸 (CF3CFH), 펜타플루오로에틸 및 1,1,1-트리플루오로프로프-2-일로부터 선택되고;
R2는 H, F, Cl, Br, COOCH3, COOC2H5, COOC3H7, CN 및 CON(CH3)2, CON(C2H5)2로부터 선택되고;
R4는 H, C1-C8 알킬, 아릴, 피리딜로부터 선택되고;
R8은 각각 독립적으로 메틸, 에틸, n-, 이소-프로필, n-, 이소-, sec- 및 t-부틸, 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐, 벤질, 페닐에틸, 톨릴, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 또는 3,5-디메틸페닐로부터 선택되고;
X는 F, Cl 또는 -O(CO)R1로부터 선택된다.
화학식 (Ia), (Ib), (II), (III), (IV) 및 (V)에서 래디칼들이 다음과 같이 정의되는 본 발명에 따른 방법이 보다 바람직하다:
R1 및 R3은 각각 독립적으로 트리플루오로메틸, 디플루오로메틸, 디플루오로클로로메틸, 펜타플루오로에틸로부터 선택되고;
R2는 H, Cl, CN, COO(C2H5)2로부터 선택되고;
R4는 H, 메틸, 에틸, n-, 이소-프로필, n-, 이소-, sec- 및 t-부틸, n-펜틸, n-헥실, 1,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 아릴로부터 선택되고;
R8은 메틸, 에틸, n-, 이소-프로필, n-, 이소-, sec- 및 t-부틸, 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 벤질로부터 선택되고;
X는 F, Cl 또는 -OC(O)R1로부터 선택된다.
화학식 (Ia), (Ib), (II), (III), (IV) 및 (V)에서 래디칼들이 다음과 같이 정의되는 본 발명에 따른 방법이 보다 더 바람직하다:
R1 R3은 각각 독립적으로 CF2H, CF3으로부터 선택되고;
R2는 H 또는 COOC2H5로부터 선택되고;
R4는 H, 메틸, 에틸, 페닐로부터 선택되고;
R8은 에틸, n-, 이소-프로필, n-, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 벤질로부터 선택되고;
X는 Cl 또는 F이다.
화학식 (Ia), (Ib), (II), (III), (IV) 및 (V)에서 래디칼들이 다음과 같이 정의되는 본 발명에 따른 방법이 가장 바람직하다:
R1 R3은 각각 독립적으로 CF2H, CF3으로부터 선택되고;
R2는 H이고;
R4는 H, 메틸, 페닐로부터 선택되고;
R8은 이소-프로필, 벤질로부터 선택되고;
X는 Cl 또는 F이다.
놀랍게도, 화학식 (I)의 피라졸은 본 발명에 따른 조건하에서 우수한 수율 및 고순도로 제조될 수 있으며, 이는 본 발명에 따른 방법이 선행 기술에서 이미 알려진 제조방법과 관련된 상술된 단점들을 해결하였음을 의미한다.
일반 정의
본 발명과 관련하여, 용어 "할로겐" (Hal)은, 달리 정의되지 않으면, 불소, 염소, 브롬 및 요오드로 구성된 그룹 중에서 선택되는 원소를 포함하며, 불소, 염소 및 브롬이 바람직하고, 불소 및 염소가 더욱 바람직하다.
임의로 치환된 그룹은 일- 또는 다치환될 수 있으며, 다치환된 경우, 치환체는 동일하거나 상이할 수 있다.
할로알킬: 1 내지 6개 및 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소 원자 (상기 명시된 바와 같이)를 가지며, 이들 그룹에서 수소 원자중 일부 또는 전부가 상기 언급된 바와 같은 할로겐 원자에 의해 대체될 수 있는 직쇄 또는 분지형 알킬 그룹, 예를 들어(한정적이지 않음) C1-C3-할로알킬, 예컨대 클로로메틸, 브로모메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로플루오로메틸, 디클로로플루오로메틸, 클로로디플루오로메틸, 1-클로로에틸, 1-브로모에틸, 1-플루오로에틸, 2-플루오로에틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2-클로로-2-플루오로에틸, 2-클로로-2-디플루오로에틸, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 펜타플루오로에틸 및 1,1,1-트리플루오로프로프-2-일. 이 정의는 또한 달리 정의되지 않으면 복합 치환체 부분으로서의 할로알킬, 예를 들어 할로알킬아미노알킬 등에도 적용된다. 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환된 알킬 그룹, 예를 들어 트리플루오로메틸 (CF3), 디플루오로메틸 (CHF2), CF3CH2, CF2Cl 또는 CF3CCl2가 바람직하다.
본 발명과 관련하여 알킬 그룹은 달리 정의되지 않으면, 선형 또는 분지형 포화 하이드로카빌 그룹이다. 정의 C1-C12-알킬은 알킬 그룹에 대해 본원에서 정의된 가장 넓은 범위를 포괄한다. 구체적으로 이 정의는 예를 들어, 메틸, 에틸, n-, 이소프로필, n-, 이소-, sec- 및 t-부틸, n-펜틸, n-헥실, 1,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, n-헵틸, n-노닐, n-데실, n-운데실 또는 n-도데실의 의미를 포함한다.
사이클로알킬: 3 내지 8개 및 바람직하게는 3 내지 6개의 탄소 환 멤버를 가지는 모노사이클릭 포화 하이드로카빌 그룹, 예를 들어 (한정적이지 않음) 사이클로프로필, 사이클로펜틸 및 사이클로헥실. 이 정의는 또한 달리 정의되지 않으면 복합 치환체 부분으로서의 사이클로알킬, 예를 들어 사이클로알킬알킬 등에도 적용된다.
본 발명과 관련하여 아릴 그룹은 달리 정의되지 않으면, O, N, P 및 S로부터 선택된 1, 2개 또는 그 이상의 헤테로원자를 가질 수 있는 방향족 하이드로카빌 그룹이다. 정의 C6-18-아릴은 5 내지 18개의 골격 원자를 가지는 아릴 그룹에 대해 본원에서 정의된 가장 넓은 범위를 포괄하며, 여기서 탄소 원자는 헤테로원자로 치환될 수 있다. 구체적으로 이 정의는 예를 들어, 페닐, 사이클로헵타트리에닐, 사이클로옥타테트라에닐, 나프틸 및 안트라세닐; 2-푸릴, 3-푸릴, 2-티에닐, 3-티에닐, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴, 5-이속사졸릴, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴, 5-피라졸릴, 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴, 5-옥사졸릴, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 1,2,4-옥사디아졸-3-일, 1,2,4-옥사디아졸-5-일, 1,2,4-티아디아졸-3-일, 1,2,4-티아디아졸-5-일, 1,2,4-트리아졸-3-일, 1,3,4-옥사디아졸-2-일, 1,3,4-티아디아졸-2-일 및 1,3,4-트리아졸-2-일; 1-피롤릴, 1-피라졸릴, 1,2,4-트리아졸-1-일, 1-이미다졸릴, 1,2,3-트리아졸-1-일, 1,3,4-트리아졸-1-일; 3-피리다지닐, 4-피리다지닐, 2-피리미디닐, 4-피리미디닐, 5-피리미디닐, 2-피라지닐, 1,3,5-트리아진-2-일 및 1,2,4-트리아진-3-일의 의미를 포함한다.
본 발명과 관련하여 아릴알킬 그룹 (아르알킬 그룹)은 달리 정의되지 않으면, 아릴 그룹에 의해 치환되고 하나의 C1-8-알킬렌 쇄와 아릴 골격에 O, N, P 및 S로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 가질 수 있는 알킬 그룹이다. 정의 C7-19-아르알킬 그룹은 골격 및 알킬렌 쇄에 총 7 내지 19개의 원자를 가지는 아릴알킬 그룹에 대해 본원에서 정의된 가장 넓은 범위를 포괄한다. 구체적으로 이 정의는 예를 들어, 벤질 및 페닐에틸의 의미를 포함한다.
본 발명과 관련하여 알킬아릴 그룹 (알크아릴 그룹)은 달리 정의되지 않으면, 알킬 그룹에 의해 치환되고 하나의 C1-8-알킬렌 쇄와 아릴 골격에 O, N, P 및 S로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 가질 수 있는 아릴 그룹이다. 정의 C7-19-알킬아릴 그룹은 골격 및 알킬렌 쇄에 총 7 내지 19개의 원자를 가지는 알킬아릴 그룹에 대해 본원에서 정의된 가장 넓은 범위를 포괄한다. 구체적으로 이 정의는 예를 들어, 톨릴 또는 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 또는 3,5-디메틸페닐의 의미를 포함한다.
본 발명과 관련하여 사용된 용어 중간체는 본 발명에 따른 방법에서 발생하고 추가의 화학적 공정동안 제조되며 다른 물질로의 전환을 위해 그안에서 소비되거나 사용되는 물질을 가리킨다. 중간체는 보통, 분리되고 중간에 저장되거나, 또는 사전 분리 없이 후속 반응 단계에서 사용된다. 용어 "중간체"는 또한 일반적으로 다단 반응 (단계화 반응)에서 일시적으로 발생하고 반응 에너지 프로파일에서 극소치가 부과될 수 있는 불안정한 단수명 중간체도 포괄한다.
본 발명의 화합물은 임의의 가능한 상이한 이성체 형태, 특히 입체이성체, 예를 들어 E 및 Z 이성체, 스레오 및 에리스로 이성체와 광학 이성체뿐 아니라 또한 경우에 따라서는 토토머의 혼합물로 존재할 수 있다. 본 발명은 E 및 Z 이성체, 스레오 및 에리스로 및 광학 이성체, 이들 이성체의 임의 혼합물 및 또한 가능한 토토머 형태를 모두 청구한다.
공정 설명
공정이 반응식 1에 예시되어 있다:
반응식 1:
단계 A
Figure 112017001242089-pct00005
단계 B
Figure 112017001242089-pct00006
단계 (A)
단계 (A)에서, 화학식 (II)의 산 유도체가 염기의 존재하에 화학식 (III)의 화합물과 반응된다.
바람직한 화학식 (II)의 화합물은 트리플루오르아세틸클로라이드, 트리플루오르아세틸플루오라이드, 디플루오르아세틸플루오라이드, 디플루오로아세틸클로라이드, 트리플루오로아세틸브로마이드이다. 예를 들어 트리플루오로아세트산, 피발로일 클로라이드 및 피리딘을 사용하여 화학식 (II)의 화합물을 동소에서 생성하는 것이 또한 가능하다 (WO 2003/051820 참조).
본 발명에 따른 화학식 (IV)의 화합물의 합성은 0 ℃ 내지 +120 ℃의 온도, 바람직하게는 +20 ℃ 내지 +100 ℃의 온도, 더 바람직하게는 20 ℃ 내지 +60 ℃의 온도에서 표준압하에 수행된다. 전형적인 염기는 트리알킬아민, 피리딘, 알킬피리딘, 피콜린, DBU이다. 피리딘이 염기로 바람직하다.
반응 시간은 중요하지 않으며, 배치 크기 및 온도에 따라 수 분 내지 수 시간 사이의 범위 내에서 선택될 수 있다.
단계 A에서는 1 내지 2 몰, 바람직하게는 1 내지 1.5 몰, 가장 바람직하게는 1 내지 1.2 몰의 화학식 (II)의 산 유도체가 1 몰의 화학식 (III)의 화합물과 반응된다.
적합한 용매는, 예를 들어, 지방족, 지환식 또는 방향족 탄화수소, 예를 들어 석유 에테르, n-헥산, n-헵탄, 사이클로헥산, 메틸사이클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 또는 데칼린, 및 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 디클로로메탄, 클로로포름, 테트라클로로메탄, 디클로로에탄 또는 트리클로로에탄, 에테르, 예컨대 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 메틸 tert-부틸 에테르, 메틸 tert-아밀 에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 또는 아니솔; 니트릴, 예컨대 아세토니트릴, 프로피오니트릴, n- 또는 이소부티로니트릴 또는 벤조니트릴; 아미드, 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸피롤리돈 또는 헥사메틸포스포르아미드; 설폭사이드, 예컨대 디메틸 설폭사이드 또는 설폰, 예컨대 설폴란이다. 예를 들어, THF, 아세토니트릴, 에테르, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠, n-헥산, 사이클로헥산 또는 메틸사이클로헥산이 특히 바람직하고, 예를 들어, 디클로로메탄, 에테르 또는 디클로로메탄이 매우 특히 바람직하다. 화학식 (IV)의 화합물은 사전 후처리 없이 폐환 단계에 사용될 수 있다. 대안적으로, 이들은 적절한 후처리 단계에 의해 분리되고, 특정화된 후, 임의로 추가 정제될 수 있다.
화학식 (III)의 화합물은 알데히드 또는 케톤 및 일차 아민으로부터 제조할 수 있다. 제조는 보통 용매 없이, 또는 톨루엔, 디클로로메탄 또는 에테르 등의 유기 용매 중에 10 내지 110 ℃의 온도에서 수행된다. BF3, TiCl4 등의 루이스산 (Lewis acid)이 또한 케트이민의 형성을 촉진하기 위해 사용될 수 있다 (Roeschentahller et al, J. Fluorine. Chem. v. 125, n. 6, 1039-1049 및 Tetrahedron, 69 (2013), 3878-3884 참조).
단계 B:
단계 B는 화학식 (V)의 화합물의 존재하에서 화학식 (IV)의 화합물의 폐환 반응이다.
단계 B에서는 화학식 (IV)의 화합물 1 몰에 대해 1 몰 내지 2 몰, 바람직하게는 1 내지 1.5 몰의 화학식 (V)의 히드라진이 사용된다.
단계 B에서 폐환은 -40 ℃ 내지 +80 ℃의 온도, 바람직하게는 +20 ℃ 내지 +70 ℃의 온도, 더 바람직하게는 +60 ℃의 온도에서 표준압하에 수행된다.
반응 시간은 중요하지 않으며, 배치 크기에 따라 비교적 넓은 범위 내에서 선택될 수 있다.
전형적으로, 폐환 단계 (B)는 용매 변화없이 수행된다.
적합한 용매는, 예를 들어, 지방족, 지환식 또는 방향족 탄화수소, 예를 들어 석유 에테르, n-헥산, n-헵탄, 사이클로헥산, 메틸사이클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 또는 데칼린, 및 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 디클로로메탄, 클로로포름, 테트라클로로메탄, 디클로로에탄 또는 트리클로로에탄, 에테르, 예컨대 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 메틸 tert-부틸 에테르, 메틸 tert-아밀 에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 또는 아니솔; 니트릴, 예컨대 아세토니트릴, 프로피오니트릴, n- 또는 이소부티로니트릴 또는 벤조니트릴; 아미드, 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸피롤리돈 또는 헥사메틸포스포르아미드; 설폭사이드, 예컨대 디메틸 설폭사이드 또는 설폰, 예컨대 설폴란; 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올이다. 예를 들어, THF, 아세토니트릴, 에테르, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠, n-헥산, 사이클로헥산 또는 메틸사이클로헥산이 특히 바람직하고, 예를 들어 아세토니트릴, THF, 에테르, 디클로로메탄, 에탄올이 매우 특히 바람직하다.
전형적으로, 화학식 (IV) 및 (V)의 화합물의 폐환은 산성 조건하에 진행된다.
무기산, 예를 들어 H2SO4, HCl, HF, HBr, HI, H3PO4 또는 유기산, 예를 들어 CH3COOH, CF3COOH, p-톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 트리플루오로메탄설폰산이 바람직하다. 화학식 (IV)의 화합물 1 몰에 대해 0.1 몰 내지 2 몰, 바람직하게는 0.1 내지 1.5 몰의 산이 사용된다.
적합한 용매는, 예를 들어, 지방족, 지환식 또는 방향족 탄화수소, 예를 들어 석유 에테르, n-헥산, n-헵탄, 사이클로헥산, 메틸사이클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 또는 데칼린, 및 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 디클로로메탄, 클로로포름, 테트라클로로메탄, 디클로로에탄 또는 트리클로로에탄, 에테르, 예컨대 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 메틸 tert-부틸 에테르, 메틸 tert-아밀 에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 또는 아니솔; 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 또는 부탄올; 니트릴, 예컨대 아세토니트릴, 프로피오니트릴, n- 또는 이소부티로니트릴 또는 벤조니트릴; 아미드, 예컨대 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸피롤리돈 또는 헥사메틸포스포르아미드; 설폭사이드, 예컨대 디메틸 설폭사이드 또는 설폰, 예컨대 설폴란이다. 아세토니트릴, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠, n-헥산, 사이클로헥산 또는 메틸사이클로헥산이 특히 바람직하고, 예를 들어, 아세토니트릴, THF, 톨루엔 또는 크실렌이 매우 특히 바람직하다. 반응 종료 후, 예를 들어 용매를 제거하고, 생성물을 여과로 분리하거나, 또는 생성물을 먼저 물로 세척하여 추출한 후, 유기상을 제거하고 용매를 감압하에 제거한다.
R2가 (CO)OR5 화학식 (I)의 화합물은 R2가 COOH인 화학식 (I)의 피라졸 산으로 전환될 수 있다.
아민 (IV)은 화합물 (III)의 제조를 위해 재사용될 수 있다. 대안적으로, 이는 반응 혼합물을 산으로 세척하여 포획한다.
이하 본 발명이 실시예로 설명된다.
실시예 1
N-(1,1- 디플루오로프로판 -2- 일리덴 )프로판-2- 아민 , (III-1)
500 ml 메틸 tert-부틸에테르 중의 디플루오르아세톤 (94 g, 1 몰)의 혼합물에 (88 g, 1.5 몰)의 이소프로필아민을 10 ℃에서 첨가하였다. 1 시간 후, (70 g 0. 몰)의 BF3*Et2O를 첨가하고, 1 시간동안 교반하였다. 유기 용액을 바닥 시럽으로부터 분리하고, 용매를 대기압에서 증류하였다. 잔류 액체를 진공중에 증류하여 비점 70-72°C/400 mbar의 케트이민 139 g을 수득하였다.
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 5,9 (t, 1H), 3,7 (m, 1H), 1,8 (s, 3H), 1,1 (d, 6H) ppm.
19F (376 MHz, CDCl3) δ -122 (d, 2F) ppm.
실시예 2
N-1,1- 디플루오로프로판 -2- 일리덴 -1- 페닐메탄아민 , (III-2)
500 ml 톨루엔 중의 디플루오로아세톤 (94 g, 1 몰)의 혼합물에 (107 g, 1 몰)의 벤질아민을 10 ℃에서 천천히 첨가하였다. 20 ℃에서 6 시간 후, 톨루엔을 감압에서 증류하고, 잔류 액체를 정제 없이 사용하였다. 170 g.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7,2-7,4 (m, 5H), 5,9 (t, 1H), 4,5 (s, 2H), 2,0 (s, 3H) ppm.
19F (376 MHz, CDCl3) δ -1118 (d, 2F) ppm.
실시예 3
N-(1,1,1- 트리플루오로프로판 -2- 일리덴 )프로판-2- 아민 , (III-3)
제조는 실시예 2 참조, 비점 80-82 ℃.
실시예 4
N-1,1,1- 트리플루오로프로판 -2- 일리덴 -1- 페닐메탄아민 (III-4)
제조는 실시예 2 참조, 비점 90-91°C, 1.5 mbar.
실시예 5
3,5- 비스(디플루오로메틸)피라졸 , (I-1)
100 ml 디클로로메탄 중의 10.4 (75 mmol)의 N-(1,1-디플루오로프로판-2-일리덴)프로판-2-아민 및 12 g 피리딘의 용액을 0 ℃로 냉각하였다. 19.5 g의 디플루오로아세트산 무수물을 이 온도에서 격렬한 교반하에 조금씩 나누어 첨가하고, 마지막에 혼합물을 10 ℃에서 6 시간동안 교반하였다. 50 ml의 HCl (5% 수용액으로서) 및 20 g의 히드라진 하이드레이트를 반응 용액에 온도가 40 ℃ 아래로 유지되도록 천천히 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 5 시간동안 교반하였다. 100 ml의 물 및 100 ml의 디클로로메탄을 첨가하고, 유기층을 분리한 뒤, 물로 세척하고, MgSO4에서 건조시키고, 진공에서 농축하여 오일성 생성물을 얻었다. 92-95°C/1 mbar에서 진공 증류하여 8.8 g (70%)의 순수한 3,5-비스(디플루오로메틸)-1H-피라졸 b)를 융점 70-71 ℃의 백색 고체로 수득하였다.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 12.5 (br, 1H), 6.77 (t, 2H, J = 54.8 Hz), 6.74 (s, 1H) ppm.
실시예 6
3-( 디플루오로메틸 )-5-( 트리플루오로메틸 )-1 H - 피라졸 , (I-2)
N-(1,1-디플루오로프로판-2-일리덴)프로판-2-아민 및 트리플루오로아세트산 무수물로부터 유사한 방식으로 수득하였다.
수율 78%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 12.6 (br, 1H), 6.81 (s, 1H), 6.76 (t, 1H, J = 54.5 Hz) ; 13C (101 MHz, CDCl3) δ 140.7, 128.8, 120.3 (q, J C -F = 266 Hz), 108.5 (t, J C -F = 237 Hz), 103.8 ; 19F (376 MHz, CDCl3) δ -61.7 (s, 3F), -112.9 (d, 2F, J = 54.7 Hz); HRMS (ESI) C5H4F5N2 [M+H]+에 대한 계산치 187.029, 실측치 187.029.

Claims (6)

  1. 단계 (A)에서, 화학식 (II)의 산 유도체를 화학식 (III)의 화합물과 반응시켜 화학식 (IV)의 화합물을 형성하고, 단계 (B)에서, (IV)를 (V) NH2NHR4 (여기서 R4는 이하에 정의되는 바와 같다)의 존재하에 폐환시켜 (Ia) 및 (Ib)를 형성하는 것을 특징으로 하는, 화학식 (Ia) 및 (Ib)의 3,5-비스(할로알킬)피라졸의 제조 방법:
    Figure 112017001242089-pct00007

    Figure 112017001242089-pct00008

    Figure 112017001242089-pct00009

    Figure 112017001242089-pct00010

    상기 식에서,
    R1 및 R3은 각각 독립적으로 C1-C6-할로알킬로부터 선택되고;
    R2는 H, 할로겐, COOH, (C=O)OR5, CN 및 (C=O)NR6R7로부터 선택되고;
    R4는 H, C1-C8 알킬, 아릴, 피리딜로부터 선택되고;
    R5는 C1-12-알킬, C3-8-사이클로알킬, C6-18-아릴, C7-19-아릴알킬 및 C7-19-알킬아릴로부터 선택되고;
    R6 R7은 각각 독립적으로 C1-12-알킬, C3-8-사이클로알킬, C6-18-아릴, C7-19-아릴알킬 및 C7-19-알킬아릴로부터 선택되거나; 또는
    R6 R7은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 4-, 5- 또는 6-원 환을 형성할 수 있고,
    X는 F, Cl, Br 또는 -OC(O)R1이고;
    R8은 C1-12-알킬, C3-8-사이클로알킬, C6-18-아릴, C7-19-아릴알킬 및 C7-19-알킬아릴, OR9로부터 선택되고;
    R9는 C1-12-알킬, C3-8-사이클로알킬, C6-18-아릴, C7-19-아릴알킬, C7-19-알킬아릴로부터 선택된다.
  2. 제1항에 있어서,
    R1 R3은 각각 독립적으로 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로플루오로메틸, 디클로로플루오로메틸, 클로로디플루오로메틸, 1-플루오로에틸, 2-플루오로에틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2-클로로-2-플루오로에틸, 2-디플루오로에틸, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 테트라플루오로에틸 (CF3CFH), 펜타플루오로에틸 및 1,1,1-트리플루오로프로프-2-일로부터 선택되고;
    R2는 H, F, Cl, Br, COOCH3, COOC2H5, COOC3H7, CN 및 CON(CH3)2, CON(C2H5)2로부터 선택되고;
    R4는 H, C1-C8 알킬, 아릴, 피리딜로부터 선택되고;
    R8은 각각 독립적으로 메틸, 에틸, n-, 이소-프로필, n-, 이소-, sec- 및 t-부틸, 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐, 벤질, 페닐에틸, 톨릴, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 또는 3,5-디메틸페닐로부터 선택되고;
    X는 F, Cl 또는 -O(CO)R1으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    R1 및 R3은 각각 독립적으로 트리플루오로메틸, 디플루오로메틸, 디플루오로클로로메틸, 펜타플루오로에틸로부터 선택되고;
    R2는 H, Cl, CN, COO(C2H5)2로부터 선택되고;
    R4는 H, 메틸, 에틸, n-, 이소프로필, n-, 이소-, sec- 및 t-부틸, n-펜틸, n-헥실, 1,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 아릴로부터 선택되고;
    R8은 메틸, 에틸, n-, 이소-프로필, n-, 이소-, sec- 및 t-부틸, 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 벤질로부터 선택되고;
    X는 F, Cl 또는 -OC(O)R1으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    R1 R3은 각각 독립적으로 CF2H, CF3으로부터 선택되고;
    R2는 H 또는 COOC2H5로부터 선택되고;
    R4는 H, 메틸, 에틸, 페닐로부터 선택되고;
    R8은 에틸, n-, 이소-프로필, n-, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 벤질로부터 선택되고;
    X는 Cl 또는 F인 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    R1 R3은 각각 독립적으로 CF2H, CF3으로부터 선택되고;
    R2는 H이고;
    R4는 H, 메틸, 페닐로부터 선택되고;
    R8은 이소-프로필, 벤질로부터 선택되고;
    X는 Cl 또는 F인 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 삭제
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