KR102428884B1 - Reinforcing film for ground and composite printed circuit board for shielding electromagenetic wave comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전기, 전자 및 통신 기기에 사용 가능한 그라운드 보강필름 및 이를 포함하는 전자파 차폐형 복합 기판에 관한 것으로, 상기 그라운드 보강필름은 일면에 복수의 돌기부를 갖는 제1금속층; 상기 제1금속층의 일면을 덮는 접착층; 및 상기 제1금속층의 타면에 형성된 제2금속층을 포함하며, 상기 복수의 돌기부 중 적어도 일부는 상기 접착층의 표면과 접촉한다. The present invention relates to a ground reinforcement film usable for electrical, electronic and communication devices, and an electromagnetic wave shielding composite substrate including the same, wherein the ground reinforcement film includes: a first metal layer having a plurality of protrusions on one surface; an adhesive layer covering one surface of the first metal layer; and a second metal layer formed on the other surface of the first metal layer, wherein at least some of the plurality of protrusions are in contact with the surface of the adhesive layer.

Description

그라운드 보강필름 및 이를 포함하는 전자파 차폐형 복합기판 {REINFORCING FILM FOR GROUND AND COMPOSITE PRINTED CIRCUIT BOARD FOR SHIELDING ELECTROMAGENETIC WAVE COMPRISING THE SAME}Ground reinforcement film and electromagnetic wave shielding composite board including the same

본 발명은 전기, 전자 및 통신 기기에 사용 가능한 그라운드 보강필름 및 이를 포함하는 전자파 차폐형 복합기판에 관한 것이다.The present invention relates to a ground reinforcement film usable in electrical, electronic and communication devices, and an electromagnetic wave shielding composite substrate including the same.

정보통신의 5G 시대가 도래함에 따라 전송되는 데이터의 고속화 요구로 인해, 특정 전자 부품 및 그 관련 배선은 고속화된 전기신호로부터의 불필요한 복사나 내·외부로부터의 전자파 노이즈 등을 방지해야 할 필요성이 점차 높아지고 있다. 고속화된 신호의 노이즈를 상쇄하기 위하여, 인쇄회로기판은 전자파 차폐필름의 적용 뿐만 아니라 그라운드용 배선의 확대가 필요하다. 그만큼 전자파 차폐형 인쇄회로기판의 면적이 커지고, 회로설계가 제한되는 문제가 초래된다. 또한 인쇄회로기판의 제조공정이 복잡하고 비용이 높아지게 된다. With the advent of the 5G era of information and communication, the need to prevent unnecessary radiation from high-speed electrical signals or electromagnetic noise from internal and external sources is gradually increasing due to the demand for high-speed transmission of data. is rising In order to offset the noise of the high-speed signal, the printed circuit board needs not only the application of the electromagnetic wave shielding film but also the expansion of the ground wiring. As a result, the area of the electromagnetic wave shielding type printed circuit board increases, resulting in a problem in that the circuit design is limited. In addition, the manufacturing process of the printed circuit board is complicated and the cost is high.

종래 전자파 차폐형 인쇄회로기판은, 해당 기판의 내부에 그라운드용 배선 패턴을 배치하고, 상기 그라운드용 배선 패턴이 노출되도록 관통홀을 형성한 후 전자파 차폐필름의 도전성 접착제와 상기 관통홀을 접촉시킴으로써 인쇄회로기판에서 발생하는 노이즈를 차폐하고 접지하는 역할을 하였다. 전술한 인쇄회로기판 내 5 G에 대응하는 고속화된 신호를 적용함에 따라 고주파의 노이즈를 차폐해야 함과 동시에 임피던스 매칭을 위하여 그라운드 배선 증대 혹은 추가 배치해야 하는 필요성이 발생하였다. 이 경우 설계의 자유도가 낮을 뿐만 아니라 제조공정이 복잡하고 비용이 높아지며 인쇄회로기판의 경박화에 문제점이 있다.A conventional electromagnetic wave shielding printed circuit board is printed by disposing a ground wiring pattern inside the board, forming a through hole to expose the ground wiring pattern, and then contacting the conductive adhesive of the electromagnetic wave shielding film with the through hole. It served to shield and ground the noise generated from the circuit board. As a high-speed signal corresponding to 5G in the above-described printed circuit board is applied, it is necessary to shield high-frequency noise and at the same time increase or additionally arrange a ground wire for impedance matching. In this case, not only the degree of freedom of design is low, but also the manufacturing process is complicated and the cost is high, and there is a problem in lightening and thinning the printed circuit board.

본 발명의 배경이 되는 기술은 일본 공개특허공보 제2007-294996호에 개시되어 있다.The technology underlying the present invention is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2007-294996.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위해서 안출된 것으로서, 일면에 높은 표면 조도부를 갖는 제1금속층(예, 동박층)이 배치된 그라운드 보강필름을 적용하고자 한다.The present invention has been devised to solve the above-described problems, and intends to apply a ground reinforcement film in which a first metal layer (eg, a copper foil layer) having a high surface roughness is disposed on one surface.

구체적으로, 전술한 그라운드 보강필름과 전자파 차폐필름을 밀착된 상태로 압착하는 경우, 상기 제1금속층의 높은 조도부가 전자파 차폐필름의 절연층을 관통하여 그 하부에 위치한 전도층과 직접적으로 접촉하게 됨으로써, 그라운드 배선패턴과 전자파 차폐필름의 전도층 간의 접속 구조를 통해 전기신호의 연결을 유도할 수 있음을 착안하였다. 또한 본 발명은 노이즈 상쇄 및 임피던스 매칭을 위해 그라운드용 회로의 추가 배선이 필요한 특정 부위에 선택적으로 실장함으로써, 노이즈의 차폐효율을 증대시키고 접지 회로와 연결된 금속케이스의 접촉으로 그라운드용 회로를 추가 배선하는 효과를 유도할 수 있다.Specifically, when the above-described ground reinforcement film and the electromagnetic wave shielding film are pressed in close contact, the high illuminance portion of the first metal layer penetrates the insulating layer of the electromagnetic wave shielding film and comes into direct contact with the conductive layer located thereunder. , it was conceived that the connection of electrical signals can be induced through the connection structure between the ground wiring pattern and the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film. In addition, the present invention increases the shielding efficiency of noise by selectively mounting in a specific area requiring additional wiring of the ground circuit for noise cancellation and impedance matching, and additionally wiring the ground circuit by contacting the metal case connected to the ground circuit. effect can be induced.

이에, 본 발명에서는 그라운드 보강필름 내 구비되는 전기전도성 금속층의 높은 표면조도를 이용한 전기적 연결을 통해 설계의 높은 자유도, 제조공정의 간소화 및 비용 감소를 발휘할 수 있는 그라운드 보강필름 및 이를 포함하는 전자파 차폐형 복합기판을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.Accordingly, in the present invention, a ground reinforcement film capable of exhibiting a high degree of freedom in design, simplification of a manufacturing process, and cost reduction through electrical connection using a high surface roughness of the electrically conductive metal layer provided in the ground reinforcement film, and electromagnetic wave shielding including the same It is a technical task to provide a type composite board.

상기한 기술적 과제를 달성하고자, 본 발명은 일면에 복수의 돌기부를 갖는 제1금속층; 상기 제1금속층의 일면을 덮는 접착층; 및 상기 제1금속층의 타면에 형성된 제2금속층을 포함하며, 상기 복수의 돌기부 중 적어도 일부는 상기 접착층의 표면과 접촉하는 그라운드 보강필름을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention is a first metal layer having a plurality of protrusions on one surface; an adhesive layer covering one surface of the first metal layer; and a second metal layer formed on the other surface of the first metal layer, wherein at least some of the plurality of protrusions are in contact with the surface of the adhesive layer.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 제1금속층과 복수의 돌기부는 일체로 형성될 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the first metal layer and the plurality of protrusions may be integrally formed.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 복수의 돌기부를 갖는 일면의 표면 조도(Rz)는 2 내지 35㎛일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the surface roughness (Rz) of the one surface having the plurality of protrusions may be 2 to 35㎛.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 제1금속층에서 일면의 표면 조도(R1)와 타면의 표면 조도(R2) 간의 비율(R1/R2)은 1 내지 350일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the ratio (R1/R2) between the surface roughness R1 of one surface and the surface roughness R2 of the other surface in the first metal layer may be 1 to 350.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 제1금속층은 구리(Cu)이며, 상기 제2금속층은 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 은(Ag), 금(Au), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 탄탈(Ta), 니오븀(Nb), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 및 아연(Zn)으로 구성된 군에서 선택되는 금속 또는 이들의 1종 이상의 합금(alloy)일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the first metal layer is copper (Cu), and the second metal layer is aluminum (Al), chromium (Cr), titanium (Ti), silver (Ag), gold (Au), A metal selected from the group consisting of tungsten (W), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), niobium (Nb), nickel (Ni), palladium (Pd), cobalt (Co), and zinc (Zn), or a metal thereof It may be one or more alloys.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 제2금속층의 최외각층은 금(Au)으로 구성될 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the outermost layer of the second metal layer may be made of gold (Au).

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 제1금속층의 두께는 5 내지 35 ㎛이며, 상기 제2금속층의 두께는 0.01 내지 5 ㎛일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the thickness of the first metal layer may be 5 to 35 μm, and the thickness of the second metal layer may be 0.01 to 5 μm.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 접착층은 도전성 입자를 비포함하는 수지층일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the adhesive layer may be a resin layer that does not include conductive particles.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 접착층은 유리전이온도(Tg)가 -60 내지 140 ℃인 열가소성 수지 및 열경화성 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the adhesive layer may include at least one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin having a glass transition temperature (Tg) of -60 to 140 °C.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 열경화성 수지는 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 우레탄 수지 및 요소 수지로 구성된 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the thermosetting resin may be at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, a silicone resin, a urethane resin, and a urea resin.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 열가소성 수지는 올레핀 수지, 아크릴 수지, 및 고무로 구성된 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the thermoplastic resin may be at least one selected from the group consisting of an olefin resin, an acrylic resin, and rubber.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 접착층의 일면에 배치되는 제1기재층; 및 상기 제2금속층의 일면에 배치되는 제2기재층; 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, a first base layer disposed on one surface of the adhesive layer; and a second base layer disposed on one surface of the second metal layer. It may further include at least one of.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 제1기재층은 이형지 및 이형 고분자 필름 중 어느 하나일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the first base layer may be any one of a release paper and a release polymer film.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 제2기재층은 폴리이미드(PI) 필름, PET (polyethylene terephthalate) 필름, PEN (polyethylene naphthalate) 필름, 점착 필름, 보호 필름, 및 캐리어 필름 중 적어도 하나일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the second base layer may be at least one of a polyimide (PI) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, an adhesive film, a protective film, and a carrier film. have.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 제1기재층 및 제2기재층의 두께는 각각 10 내지 150㎛일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the thickness of the first base layer and the second base layer may be 10 to 150㎛, respectively.

또한 본 발명은 접지부를 갖는 인쇄회로기판; 상기 인쇄회로기판의 일면 상에 배치되고, 절연층과 전도층을 포함하는 전자파 차폐필름; 및 상기 전자파 차폐필름 상에 배치되는 그라운드 보강필름을 포함하며, 상기 그라운드 보강필름의 복수의 돌기부 중 적어도 일부가, 상기 전자파 차폐필름의 절연층을 관통하여 전도층과 전기적으로 연결되고, 상기 전도층은 상기 인쇄회로기판의 접지부와 연결되는 전자파 차폐형 복합기판을 제공한다. In addition, the present invention is a printed circuit board having a ground; an electromagnetic wave shielding film disposed on one surface of the printed circuit board and including an insulating layer and a conductive layer; and a ground reinforcement film disposed on the electromagnetic wave shielding film, wherein at least some of the plurality of protrusions of the ground reinforcement film penetrate the insulating layer of the electromagnetic wave shielding film to be electrically connected to the conductive layer, and the conductive layer provides an electromagnetic wave shielding type composite board connected to the ground of the printed circuit board.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 전자파 차폐필름의 절연층은 전도성 필러를 비포함하는 수지층일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the insulating layer of the electromagnetic wave shielding film may be a resin layer that does not include a conductive filler.

본 발명에서는 전자파 차폐필름(EMI 차폐필름)이 부착된 인쇄회로기판의 일면에, 높은 표면조도부를 갖는 제1금속층(예, 동박층)이 배치된 그라운드 보강필름을 실장함으로써, 설계의 자유도를 확보할 수 있다. In the present invention, by mounting a ground reinforcement film in which a first metal layer (eg, copper foil layer) having a high surface roughness portion is disposed on one surface of a printed circuit board to which an electromagnetic wave shielding film (EMI shielding film) is attached, the degree of freedom in design is secured can do.

또한 인쇄회로기판의 소형화 및 경박화가 가능할 뿐만 아니라 그라운드 보강필름의 실장 부위에 대한 높은 차폐 효과를 부가할 수 있다. 그리고 원하는 위치에 그라운드 접속을 용이하게 구성할 수 있다. In addition, it is possible to reduce the size and thickness of the printed circuit board, as well as add a high shielding effect to the mounting portion of the ground reinforcement film. In addition, it is possible to easily configure a ground connection at a desired location.

아울러, 본 발명에서는 관통홀 형성이나 도전성 접착제 사용 등의 별도의 공정이 불요할 뿐만 아니라 인쇄회로기판 내의 그라운드를 노출 및 추가 배선하지 않으므로 제조공정의 간소화 및 가공비용 절감 효과를 나타낼 수 있다. In addition, in the present invention, a separate process such as formation of a through-hole or use of a conductive adhesive is unnecessary, and since the ground in the printed circuit board is not exposed or additionally wired, the manufacturing process can be simplified and the processing cost can be reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 그라운드 보강필름의 측면도와 일부를 확대한 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 그라운드 보강필름의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3는 본 발명의 제2 실시예에 따른 그라운드 보강필름의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 그라운드 보강필름의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 그라운드 보강필름의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 그라운드 보강필름을 포함하는 전자파 차폐형 복합기판의 단면도이다.
도 7은 실시예 1의 그라운드 보강필름에 사용된 제1금속층의 제1면 (표면 조도부)과 제2면의 SEM 사진이다.
도 8은 본 발명의 그라운드 보강필름에 사용된 제1금속층(동박 두께: 12 ㎛)의 AFM topography이다.
도 9는 본 발명의 그라운드 보강필름에 사용된 제1금속층(동박 두께: 18 ㎛)의 AFM topography이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따라 전자파 차폐형 복합기판의 저항 측정방법에 사용되는 저항 측정 시편의 평면도(a) 및 단면도(b)이다.
1 is a view schematically showing a side view and a partially enlarged cross section of a ground reinforcement film according to an embodiment of the present invention.
2 is a view schematically showing a cross-section of a ground reinforcement film according to a first embodiment of the present invention.
3 is a view schematically showing a cross-section of a ground reinforcement film according to a second embodiment of the present invention.
4 is a view schematically showing a cross-section of a ground reinforcement film according to a third embodiment of the present invention.
5 is a view schematically showing a cross-section of a ground reinforcement film according to a fourth embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding type composite substrate including a ground reinforcement film according to an embodiment of the present invention.
7 is an SEM photograph of the first surface (surface roughness portion) and the second surface of the first metal layer used in the ground reinforcement film of Example 1. FIG.
8 is an AFM topography of the first metal layer (copper foil thickness: 12 μm) used in the ground reinforcement film of the present invention.
9 is an AFM topography of the first metal layer (copper foil thickness: 18 μm) used in the ground reinforcement film of the present invention.
10 is a plan view (a) and a cross-sectional view (b) of a resistance measuring specimen used in a method of measuring the resistance of an electromagnetic wave shielding type composite substrate according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명에 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

덧붙여, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 '연결'되어 있다고 할 때, 이는 '직접적으로 연결'되어 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 '간접적으로 연결'되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.In addition, throughout the specification, when a part is 'connected' with another part, this includes not only the case of 'directly connected' but also the case of 'indirectly connected' with another element interposed therebetween. do. Also, 'including' a certain component means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.

본 발명에서는 그라운드 보강필름 내 구비되는 전기전도성 금속층의 높은 표면조도를 이용하여 그라운드 접속이 용이하며 신뢰성을 높일 수 있는 신규 구조의 그라운드 보강필름을 개발하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to develop a ground reinforcing film of a novel structure that can easily connect the ground and increase reliability by using the high surface roughness of the electrically conductive metal layer provided in the ground reinforcing film.

구체적으로, 높은 표면조도를 갖는 금속층(예, 동박)이 구비된 그라운드 보강필름을, 전자파 차폐필름 또는 전자파 차폐필름이 부착된 인쇄회로기판에 실장하고 가열/가압 공정을 거치게 되면, 상기 그라운드 보강필름 내 높은 표면 조도부를 나타내는 복수의 돌기부 중 적어도 일부가 전자파 차폐필름의 절연층을 관통하여 전도층 내 도전성 입자와 직접적으로 접촉하게 됨으로써 통전될 수 있다. 이에 따라, 별도의 추가공정이나 재료 사용없이, 원하는 위치에 전자파 차폐필름의 그라운드 접속을 용이하게 수행할 수 있으므로 회로의 자유도를 부여할 수 있다. 또한 인쇄회로기판 내의 그라운드를 노출 및 추가 배선하지 않아 인쇄회로 기판의 경박화에 용이하며 가공비용 절감이 가능하다. 아울러, 전술한 그라운드 보강필름은 임피던스 컨트롤을 부여하여 전자파 차폐효과를 더 부가할 수 있다.Specifically, when a ground reinforcement film provided with a metal layer (eg, copper foil) having high surface roughness is mounted on an electromagnetic wave shielding film or a printed circuit board to which an electromagnetic wave shielding film is attached and subjected to a heating/pressurization process, the ground reinforcement film At least a portion of the plurality of protrusions indicating the high surface roughness portion penetrates the insulating layer of the electromagnetic wave shielding film and comes into direct contact with the conductive particles in the conductive layer, thereby conducting electricity. Accordingly, it is possible to easily perform the ground connection of the electromagnetic wave shielding film at a desired location without using additional processes or materials, thereby providing a degree of freedom of the circuit. In addition, since the ground in the printed circuit board is not exposed or additionally wired, it is easy to make the printed circuit board lighter and thinner, and it is possible to reduce the processing cost. In addition, the above-described ground reinforcement film may further add an electromagnetic wave shielding effect by providing impedance control.

<그라운드 보강필름><Ground reinforcement film>

본 발명의 일 구현예에 따르면, 일면에 높은 표면 조도부를 갖는 제1금속층; 및 상기 제1금속층을 중심으로 각각 수지 접착층과 제2금속층이 양면 배치된 그라운드 보강필름을 제공한다.According to one embodiment of the present invention, a first metal layer having a high surface roughness portion on one surface; and a ground reinforcement film in which a resin adhesive layer and a second metal layer are disposed on both sides of the first metal layer, respectively.

도 1 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 그라운드 보강필름의 단면 구조를 개략적으로 나타낸 것이다.1 to 5 schematically show a cross-sectional structure of a ground reinforcement film according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 2를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 그라운드 보강필름(100A)은 일면에 복수의 돌기부(11)를 갖는 제1금속층(10); 상기 제1금속층(10)의 일면을 덮는 접착층(20); 및 상기 제1금속층(10)의 타면에 형성된 제2금속층(30)을 포함하며, 상기 복수의 돌기부 중 적어도 일부가 상기 접착층의 표면과 접촉하는 구조를 갖는다. 1 and 2, the ground reinforcement film 100A according to the first embodiment of the present invention includes a first metal layer 10 having a plurality of protrusions 11 on one surface; an adhesive layer 20 covering one surface of the first metal layer 10; and a second metal layer 30 formed on the other surface of the first metal layer 10, wherein at least a portion of the plurality of protrusions is in contact with the surface of the adhesive layer.

제1금속층first metal layer

본 발명에 따른 그라운드 보강필름(100A)에서, 제1금속층(10)은 전자파 차폐형 복합기판 상에 적층되어 그라운드 접속을 가능하도록 하는 전기 전도체 역할을 한다. In the ground reinforcement film 100A according to the present invention, the first metal layer 10 is laminated on the electromagnetic wave shielding type composite substrate to serve as an electrical conductor to enable ground connection.

제1금속층(10)은 일면에 복수의 돌기부(11)를 가지며, 타면은 평탄면을 갖는다. 복수의 돌기부(11) 중 적어도 일부는 후술되는 전자파 차폐필름(EMI 차폐필름)의 절연층을 관통하여 그 하부에 위치하는 전도층과 통전되는데, 이러한 기능을 할 수 있는 높이를 갖는다면, 상기 돌기부의 형상, 크기, 및 개수 등은 특별히 제한되지 않는다. 일례로, 제1금속층(10)에서 복수의 돌기부(11)를 갖는 일면의 표면 조도(표면 거칠기, Rz)는 2 내지 35 ㎛일 수 있으며, 바람직하게는 6 내지 12 ㎛일 수 있다. The first metal layer 10 has a plurality of protrusions 11 on one surface and a flat surface on the other surface. At least some of the plurality of protrusions 11 pass through an insulating layer of an electromagnetic wave shielding film (EMI shielding film) to be described later and conduct electricity with a conductive layer located thereunder. The shape, size, and number of are not particularly limited. For example, the surface roughness (surface roughness, Rz) of one surface having the plurality of protrusions 11 in the first metal layer 10 may be 2 to 35 μm, preferably 6 to 12 μm.

제1금속층(10)은 일면에 높은 표면 조도(R1)를 가지며, 타면은 거의 평탄면(R2)을 가지므로, 양면 간의 높은 표면 조도차를 나타낼 수 있다. 일 실시예에 따르면, 제1금속층(10)에서 일면의 표면 조도(R1)와 타면의 표면 조도(R2) 간의 비율(R1/R2)은 1 내지 350 일 수 있으며, 바람직하게는 3 내지 120일 수 있다. Since the first metal layer 10 has a high surface roughness (R 1 ) on one surface and a substantially flat surface (R 2 ) on the other surface, a high surface roughness difference between both surfaces may be exhibited. According to one embodiment, the ratio (R1/R2) between the surface roughness (R1) of one surface and the surface roughness (R2) of the other surface in the first metal layer 10 may be 1 to 350, preferably 3 to 120 days can

제1금속층(10)에 위치하는 복수의 돌기부(11)는 접착층(20)으로 덮여 있다. 이러한 복수의 돌기부(11)는 서로 이격하여 분포하고 있으며, 이들 중 일부는 접착층(20)의 최외각 표면과 접촉하고 있다. 돌기부(11)의 높이는 특별히 제한되지 않으며, 일례로 상기 접착층(20)의 두께와 실질적으로 동일할 수 있다. 일례로, 복수의 돌기부(11) 중 적어도 일부는 상기 접착층(20)의 외측으로 돌출되어 있으며, 다른 돌기부(11)의 적어도 일부는 상기 접착층(20)의 두께와 동일하거나 또는 작은 높이를 가질 수 있다. The plurality of protrusions 11 positioned on the first metal layer 10 are covered with an adhesive layer 20 . The plurality of protrusions 11 are spaced apart from each other and distributed, and some of them are in contact with the outermost surface of the adhesive layer 20 . The height of the protrusion 11 is not particularly limited, and for example, may be substantially the same as the thickness of the adhesive layer 20 . For example, at least some of the plurality of protrusions 11 protrude to the outside of the adhesive layer 20, and at least some of the other protrusions 11 may have a height equal to or smaller than the thickness of the adhesive layer 20. have.

본 발명에서, 복수의 돌기부(11)의 형상, 크기 및 개수 등은 특별히 제한되지 않는다. 일례로, 복수의 돌기부(11)의 단면 형상은 삼각형상, 볼록 형상, 또는 산형 등일 수 있다. 또한 제1금속층(10)과 복수의 돌기부(11)는 일체로 형성될 수 있으며, 또는 상기 제1금속층(10)의 일면 상에 복수의 돌기부(11)가 별도로 부착된 형태일 수도 있다. 이와 같이 제1금속층(10)의 일면 상에 복수의 돌기부(11)가 별도로 부착된 경우, 제1금속층(10)과 복수의 돌기부(11)는 서로 상이한 전기전도성 도체 성분으로 구성될 수 있다. In the present invention, the shape, size and number of the plurality of protrusions 11 are not particularly limited. For example, the cross-sectional shape of the plurality of protrusions 11 may be a triangular shape, a convex shape, or a mountain shape. In addition, the first metal layer 10 and the plurality of protrusions 11 may be integrally formed, or the plurality of protrusions 11 may be separately attached to one surface of the first metal layer 10 . When the plurality of protrusions 11 are separately attached to one surface of the first metal layer 10 as described above, the first metal layer 10 and the plurality of protrusions 11 may be composed of different electrically conductive conductor components.

제1금속층(10)의 성분은 특별히 한정되지 않으며, 당 분야에 공지된 통상의 전기전도성 도체 물질을 사용할 수 있다. 일례로, 구리, 주석 도금 구리, 니켈 도금 구리 등의 도전성 금속 또는 이들의 합금(alloy)으로 이루어질 수 있다. 도체로서는 박 형상의 도전성 금속이 바람직하며, 보다 바람직하게는 동박(Cu)일 수 있다. 이러한 동박은, 압연법 및 전해법 등과 같이 당 분야에 공지된 통상의 동박 형성 방법을 통해 형성된 동박이라면 특별히 제한 없이 사용될 수 있다. 바람직하게는 전해동박일 수 있다. 이때 동박의 표면이 산화 부식되는 것을 방지하기 위해서, 방청처리된 것일 수 있다. 다만 동박의 제조시, 양면 중 일면에 전술한 높은 표면 조도를 갖도록 조절한다.The component of the first metal layer 10 is not particularly limited, and a conventional electrically conductive conductor material known in the art may be used. For example, it may be formed of a conductive metal such as copper, tin-plated copper, nickel-plated copper, or an alloy thereof. As the conductor, a foil-shaped conductive metal is preferable, and copper foil (Cu) is more preferable. The copper foil may be used without particular limitation as long as it is a copper foil formed through a conventional copper foil forming method known in the art, such as a rolling method and an electrolytic method. Preferably, it may be an electrodeposited copper foil. In this case, in order to prevent the surface of the copper foil from being oxidized and corroded, it may be a rust preventive treatment. However, when the copper foil is manufactured, one side of both surfaces is adjusted to have the above-mentioned high surface roughness.

제1금속층(10)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 당 분야에 알려진 통상적인 범위 내에서 적절히 조절할 수 있다. 일례로, 전자파 차폐형 복합기판의 박형화 및 경박화를 고려하여, 제1금속층(10)의 두께는 5 내지 35 ㎛일 수 있으며, 바람직하게는 9 내지 20㎛ 일 수 있다.The thickness of the first metal layer 10 is not particularly limited, and may be appropriately adjusted within a typical range known in the art. For example, in consideration of reduction in thickness and lightness of the electromagnetic wave shielding type composite substrate, the thickness of the first metal layer 10 may be 5 to 35 μm, preferably 9 to 20 μm.

제2금속층second metal layer

본 발명에 따른 그라운드 보강필름(100A)에서, 제2금속층(30)은 그라운드 효과 보강 기능과 제1금속층(10)의 보호 역할을 한다. In the ground reinforcement film 100A according to the present invention, the second metal layer 30 serves to reinforce the ground effect and protect the first metal layer 10 .

제2금속층(30)은 당 분야에 알려진 통상적인 금속 또는 이들의 합금(alloy)으로 구성될 수 있다. 일례로, 제2금속층(30)은 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 은(Ag), 금(Au), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 탄탈(Ta), 니오븀(Nb), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 및 아연(Zn)으로 구성된 군에서 선택된 1종의 금속; 또는 이들을 적어도 2종 이상 함유하는 합금(alloy)일 수 있다. 구체적으로, 제2금속층(30)은 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 은(Ag), 금 (Au), 텅스텐(W) 등 1종의 금속 재료이거나, 또는 니켈 함유 합금일 수 있다. 이러한 니켈 함유 합금에 포함되는 성분은 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 코발트(Co), 및 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 1종 이상일 수 있다. The second metal layer 30 may be made of a conventional metal known in the art or an alloy thereof. For example, the second metal layer 30 may include aluminum (Al), chromium (Cr), titanium (Ti), silver (Ag), gold (Au), tungsten (W), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), one metal selected from the group consisting of niobium (Nb), nickel (Ni), palladium (Pd), cobalt (Co), and zinc (Zn); Or it may be an alloy (alloy) containing at least two or more thereof. Specifically, the second metal layer 30 is one type of metal material such as aluminum (Al), chromium (Cr), titanium (Ti), silver (Ag), gold (Au), tungsten (W), or contains nickel It may be an alloy. A component included in the nickel-containing alloy may be at least one selected from palladium (Pd), chromium (Cr), cobalt (Co), and zinc (Zn).

상기 제2금속층(30)은 단층 또는 적어도 2층 이상의 다층 구조일 수 있다. 본 실시예에 따르면, 제2금속층의 최외각층은 금(Au)으로 구성되는 것이 바람직하다. 제2금속층(30)의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 일례로 0.01 내지 5 ㎛일 수 있으며, 바람직하게는 0.02 내지 2 ㎛일 수 있다. The second metal layer 30 may have a single layer or a multilayer structure of at least two or more layers. According to this embodiment, the outermost layer of the second metal layer is preferably made of gold (Au). The thickness of the second metal layer 30 is not particularly limited, and may be, for example, 0.01 to 5 μm, preferably 0.02 to 2 μm.

제2금속층(30)은 당 분야에 공지된 통상적인 방법에 따라 제조될 수 있으며, 특별히 제한되지 않는다. 일례로 증착(스퍼터법) 또는 도금법을 적용할 수 있다. The second metal layer 30 may be manufactured according to a conventional method known in the art, and is not particularly limited. As an example, deposition (sputtering method) or plating method may be applied.

접착층adhesive layer

본 발명에 따른 그라운드 보강필름(100A)에서, 접착층(20)은 그라운드 보강필름과 후술되는 전자파 차폐형 복합기판을 밀착시켜 견고하게 결합하는 역할을 하며, 이와 동시에 그 내부에 배치되는 제1금속층(10)의 복수 돌기부(11)를 감싸고 보호하는 기능을 한다. In the ground reinforcement film 100A according to the present invention, the adhesive layer 20 serves to firmly bond the ground reinforcement film and the electromagnetic wave shielding type composite substrate to be described later in close contact, and at the same time, a first metal layer ( 10) functions to surround and protect the plurality of protrusions 11 .

접착층(20)은 그 내부에 복수의 돌기부(11)가 존재하므로, 도전성 입자 등을 포함할 경우 전술한 제1금속층(10)의 표면 조도, 구체적으로 돌기부(11)의 높이, 또는 제1금속층의 전기접속에 영향을 미칠 수 있다. 이에 따라, 상기 접착층(20)은 도전성 입자를 비포함하는 수지층인 것이 바람직하다. Since the adhesive layer 20 has a plurality of protrusions 11 therein, when it includes conductive particles, the surface roughness of the first metal layer 10 , specifically, the height of the protrusions 11 , or the first metal layer may affect electrical connections. Accordingly, the adhesive layer 20 is preferably a resin layer that does not include conductive particles.

접착층(20)은 당 분야에 공지된 통상의 열경화성 수지 및 열가소성 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 일례로, 접착층(20)은 유리전이온도(Tg)가 -60 내지 140 ℃인 열가소성 수지 및 열경화성 수지로 구성된 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. The adhesive layer 20 may include at least one of a conventional thermosetting resin and a thermoplastic resin known in the art. For example, the adhesive layer 20 may include at least one selected from the group consisting of a thermoplastic resin and a thermosetting resin having a glass transition temperature (Tg) of -60 to 140°C.

사용 가능한 열경화성 수지의 비제한적인 예로는, 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지, 알키드 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 요소 수지, 식물성유 변성 페놀수지, 크실렌 수지, 구아나민 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 비닐에스테르 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 푸란 수지, 폴리이미드 수지, 시아네이트 수지, 말레이미드 수지 및 벤조시클로부텐 수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. 구체적으로, 열경화성 수지는 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 우레탄 수지 및 요소 수지로 구성된 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. Non-limiting examples of usable thermosetting resins include epoxy resins, polyurethane resins, alkyd resins, phenolic resins, melamine resins, silicone resins, urea resins, vegetable oil-modified phenolic resins, xylene resins, guanamine resins, diallyl phthalate resins , vinyl ester resin, unsaturated polyester resin, furan resin, polyimide resin, cyanate resin, maleimide resin, and may be at least one selected from the group consisting of benzocyclobutene resin. Specifically, the thermosetting resin may be at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, a silicone resin, a urethane resin, and a urea resin.

에폭시 수지는 당 분야에 공지된 통상적인 에폭시 수지를 제한 없이 사용할 수 있으며, 1분자 내에 할로겐 원소를 비포함하면서, 에폭시기가 2개 이상 존재하는 것이 바람직하다. 사용 가능한 에폭시 수지의 비제한적인 예를 들면, 비스페놀A형/F형/S형 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 알킬페놀 노볼락형 에폭시, 바이페닐형, 아랄킬(Aralkyl)형, 나프톨(Naphthol)형, 디시클로펜타디엔형 또는 이들의 혼합 형태 등이 있다. 보다 구체적인 예를 들면, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 안트라센 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 테트라메틸 비페닐형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 S 노볼락형 에폭시 수지, 비페닐 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 페놀 공축 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 코레졸 공축 노볼락형 에폭시 수지, 방향족 탄화수소 포름알데히드 수지 변성 페놀 수지형 에폭시 수지, 트리페닐 메탄형 에폭시 수지, 테트라 페닐에탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔 페놀 부가반응형 에폭시 수지, 페놀 아랄킬형 에폭시 수지, 다관능성 페놀 수지, 나프톨 아랄킬형 에폭시 수지 등이 있다. 이때 전술한 에폭시 수지를 단독 사용하거나 또는 2종 이상 혼용할 수도 있다.As the epoxy resin, conventional epoxy resins known in the art may be used without limitation, and it is preferable that two or more epoxy groups are present while not including a halogen element in one molecule. Non-limiting examples of usable epoxy resins include bisphenol A type / F type / S type resin, novolak type epoxy resin, alkylphenol novolak type epoxy, biphenyl type, aralkyl type, naphthol (Naphthol) ) type, dicyclopentadiene type, or a mixture thereof. More specific examples include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, anthracene epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethyl biphenyl type epoxy resin, phenol novolac Type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, bisphenol S novolak type epoxy resin, biphenyl novolak type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol phenol coaxial novolak type epoxy resin , naphthol choresol coaxial novolak type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin type epoxy resin, triphenyl methane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene phenol addition reaction type epoxy resin, phenol Aral Kill-type epoxy resins, polyfunctional phenol resins, naphthol aralkyl-type epoxy resins, and the like. At this time, the above-mentioned epoxy resin may be used alone or two or more kinds may be mixed.

또한 사용 가능한 열가소성 수지의 비제한적인 예로는, 올레핀 수지, 아크릴 수지, 고무(rubber) 또는 이들의 혼합물 등이 있다. 구체적인 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리이미드, 테프론(PTFE), 아크릴로니트릴-부타디엔 러버(NBR), 스티렌 부타디엔 러버(SBR), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 러버(ABS), 카르복실-말단화된 부타디엔 아크릴로니트릴 러버(CTBN), 폴리부타디엔(polybutadiene), 스티렌(styrene)-부타디엔(butadiene)-에틸렌 수지(SEBS), 탄소수 1~8의 측쇄사슬을 함유하는 아크릴산(acrylic acid) 및/또는 메타크릴산(methacrylic acid) 에스테르 수지(아크릴 고무), 또는 이들의 1종 이상의 혼합물 등이 있다. In addition, non-limiting examples of the thermoplastic resin that can be used include an olefin resin, an acrylic resin, a rubber, or a mixture thereof. Specific examples include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyimide, Teflon (PTFE), acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), styrene-butadiene rubber (SBR), acrylonitrile-butadiene-styrene rubber (ABS), carr Voxy-terminated butadiene acrylonitrile rubber (CTBN), polybutadiene, styrene-butadiene-ethylene resin (SEBS), acrylic acid containing a side chain having 1 to 8 carbon atoms ) and/or methacrylic acid ester resin (acrylic rubber), or a mixture of one or more thereof.

전술한 열가소성 수지는, 열경화성 수지인 에폭시 수지와의 반응이 가능한 관능기를 함유하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 아미노기, 카르복실(carboxyl)기, 에폭시기, 수산기, 메톡시기, 및 이소사이아네이트기로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상의 관능기이다. 이러한 관능기는 에폭시 수지와 강한 결합을 형성하므로, 경화 이후 내열성이 향상되어 바람직하다. 특히 본 발명에서는 접착성, 가요성 및 열응력의 완화효과 면을 고려하여 아크릴로니트릴(acrylonitrile)-부타디엔(butadiene) 공중합체(NBR)를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 이러한 공중합체는 에폭시 수지와의 반응이 가능한 관능기를 함유하고 있는 것이 바람직하다. 상기 관능기의 구체적인 예를 들면, 아미노기, 카르복실기, 에폭시기, 수산기, 메톡시기, 이소시아네이트기, 비닐기, 실라놀기 등이 있으며, 특히 카르복실기를 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 상기 카르복실기를 소유하는 NBR의 구체예로는, PNR-1H (JSR(주)제), Nipol 1072J, Nipol DN631(이상 일본제온(주)제)등이 있다. It is preferable that the above-mentioned thermoplastic resin contains the functional group which can react with the epoxy resin which is a thermosetting resin. Specifically, it is at least one functional group selected from the group consisting of an amino group, a carboxyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, a methoxy group, and an isocyanate group. Since these functional groups form a strong bond with the epoxy resin, heat resistance after curing is improved, which is preferable. In particular, in the present invention, it is more preferable to use an acrylonitrile-butadiene copolymer (NBR) in consideration of adhesiveness, flexibility, and thermal stress relief. It is preferable that such a copolymer contains the functional group which can react with an epoxy resin. Specific examples of the functional group include an amino group, a carboxyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, a methoxy group, an isocyanate group, a vinyl group, a silanol group, etc., and particularly preferably a carboxyl group. Specific examples of the NBR having a carboxyl group include PNR-1H (manufactured by JSR Co., Ltd.), Nipol 1072J, and Nipol DN631 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.).

상기 접착층(20)의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 전술한 제1금속층(20)의 일면에 위치하는 복수의 돌기부(11)의 평균 높이(height)와 실질적으로 동일할 수 있다. 일례로 2 내지 35 ㎛일 수 있으며, 바람직하게는 6 내지 12 ㎛일 수 있다. The thickness of the adhesive layer 20 is not particularly limited, and may be substantially the same as the average height of the plurality of protrusions 11 positioned on one surface of the first metal layer 20 described above. For example, it may be 2 to 35 μm, preferably 6 to 12 μm.

이하, 도 3에 도시된 본 발명의 제2 실시예에 따른 그라운드 보강필름(100B)에 대하여 설명한다. 도 3에서 도 2와 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다. Hereinafter, the ground reinforcement film 100B according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 3 will be described. In Fig. 3, the same reference numerals as in Fig. 2 denote the same members.

이하 도 3에 대한 설명에서는 도 2와 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 차이점에 대해서만 설명한다. 제1금속층(10)의 돌기부(11) 상에 접착층(20)이 배치된 도 2의 제1실시예와 달리, 도 3의 그라운드 보강필름(100B)은 제1금속층(10)의 돌기부(11)가 위치하는 일면 상에 접착층(20)과 제1기재층(40)이 순차적으로 적층된 구조를 나타낸다.Hereinafter, in the description of FIG. 3 , content overlapping with FIG. 2 will not be described again, and only differences will be described. Unlike the first embodiment of FIG. 2 in which the adhesive layer 20 is disposed on the protrusion 11 of the first metal layer 10 , the ground reinforcement film 100B of FIG. 3 has the protrusion 11 of the first metal layer 10 . ) shows a structure in which the adhesive layer 20 and the first base layer 40 are sequentially stacked on one surface on which they are located.

구체적으로 도 3을 참조하면, 제2 실시예에 따른 그라운드 보강필름(100B)은 일면에 복수의 돌기부(11)를 갖는 제1금속층(10); 및 상기 제1금속층(10)을 중심으로 하여 복수의 돌기부(11)가 형성된 일면에 접착층(20)과 제1기재층(40)이 순차적으로 적층되고, 돌기부(11)가 비형성된 타면에 제2금속층(30)이 배치된 구조이다. Specifically, referring to FIG. 3 , the ground reinforcement film 100B according to the second embodiment includes a first metal layer 10 having a plurality of protrusions 11 on one surface; and an adhesive layer 20 and a first base layer 40 are sequentially stacked on one surface on which a plurality of protrusions 11 are formed with the first metal layer 10 as the center, and the second surface on which the protrusions 11 are not formed. It has a structure in which two metal layers 30 are disposed.

제1기재층(40)은 접착층(20) 상에 배치되는 부분으로, 상기 접착층(20) 및 그 내부에 배치되는 복수의 돌기부(11)가 외부환경의 이물질로부터 오염되는 것을 방지하고, 그라운드 보강필름(100B)이 고온 프레스(가열 및 가압) 공정을 통해 전자파 차폐형 복합기판에 적용되기 전에 박리되어 제거된다. The first base layer 40 is a portion disposed on the adhesive layer 20, and the adhesive layer 20 and the plurality of protrusions 11 disposed therein are prevented from being contaminated by foreign substances in the external environment, and ground reinforcement. The film 100B is peeled off and removed before being applied to the electromagnetic wave shielding type composite substrate through a hot pressing (heating and pressing) process.

상기 제1기재층(40)은 당 분야에 공지된 통상의 플라스틱 필름으로서 박리 가능한 것이라면 제한 없이 사용할 수 있으며, 또한 이형지도 사용 가능하다. The first base layer 40 can be used without limitation as long as it is a conventional plastic film known in the art and can be peeled off, and a release paper can also be used.

사용 가능한 플라스틱 필름의 비제한적인 예로는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 셀로판, 다이아세틸셀룰로스 필름, 트라이아세틸셀룰로스 필름, 아세틸셀룰로스부티레이트 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리염화비닐리덴 필름, 폴리비닐알코올 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름, 폴리스타이렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리설폰 필름, 폴리에터에터케톤 필름, 폴리에터설폰 필름, 폴리에터이미드 필름, 폴리이미드 필름, 불소수지 필름, 폴리아마이드 필름, 아크릴수지 필름, 노보넨계 수지 필름, 사이클로올레핀 수지 필름 등이 있다. 이러한 플라스틱 필름은 투명 혹은 반투명일 수 있고, 또는 착색되어 있거나 혹은 무착색된 것일 수도 있다. 일례에 따르면, 이형 필름(140)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)일 수 있다. 다른 일례에 따르면, 이형 필름(140)은 폴리이미드(PI)일 수 있다.Non-limiting examples of plastic films that can be used include polyester films such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene films, polypropylene films, cellophane, diacetylcellulose films, triacetylcellulose films, and the like. , acetyl cellulose butyrate film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyether turketone film, polyethersulfone film, polyetherimide film, polyimide film, fluororesin film, polyamide film, acrylic resin film, norbornene-based resin film, cycloolefin resin film, and the like. These plastic films may be transparent or translucent, or may be colored or uncolored. According to one example, the release film 140 may be polyethylene terephthalate (PET). According to another example, the release film 140 may be polyimide (PI).

이러한 플라스틱 필름 상에는 이형층이 배치되어 있을 수 있다. 이형층은 이형 필름이 접하고 있는 층, 예컨대 접착층(20)으로부터 분리될 때 접착층(20)과 그 내부에 배치된 복수의 돌기부(11)가 손상되지 않고 형상을 유지할 수 있도록 쉽게 분리시키는 기능을 갖는다. 여기서, 이형층은 일반적으로 사용되는 필름 타입의 이형 물질일 수 있다. A release layer may be disposed on such a plastic film. The release layer has a function of easily separating the adhesive layer 20 and the plurality of protrusions 11 disposed therein when the release film is separated from the contacting layer, for example, the adhesive layer 20 so that the shape can be maintained without being damaged. . Here, the release layer may be a generally used film-type release material.

이형층에 사용되는 이형제의 성분으로는 특별히 한정되지 않으며, 당 업계에 알려진 통상적인 이형제 성분을 사용할 수 있다. 사용 가능한 이형제의 비제한적인 예로는, 에폭시 기반 이형제, 불소 수지로 이루어진 이형제, 실리콘계 이형제, 알키드 수지계 이형제, 수용성 고분자 등을 들 수 있다. 이형층의 두께는 당 업계에 알려진 통상적인 범위 내에서 적절히 조절할 수 있다. The component of the release agent used in the release layer is not particularly limited, and a conventional release agent component known in the art may be used. Non-limiting examples of the release agent that can be used include an epoxy-based release agent, a release agent made of a fluorine resin, a silicone-based release agent, an alkyd resin-based release agent, and a water-soluble polymer. The thickness of the release layer may be appropriately adjusted within a conventional range known in the art.

제1기재층(40)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 당 업계에 알려진 통상적인 범위 내에서 조절 가능하며, 예컨대 약 25 내지 150 ㎛일 수 있고, 구체적으로 약 25 내지 100 ㎛일 수 있고, 더 구체적으로 약 25 내지 75 ㎛일 수 있다. The thickness of the first base layer 40 is not particularly limited, and can be adjusted within a typical range known in the art, for example, about 25 to 150 μm, specifically about 25 to 100 μm, and more Specifically, it may be about 25 to 75 μm.

또한 제1기재층(40)의 이형력은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 약 10 내지 500 gf/inch일 수 있고, 구체적으로 약 30 내지 200 gf/inch 범위일 수 있다. 상기 이형층을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 열 프레스, 열 롤 라미네이트, 압출 라미네이트, 코팅액의 도포, 건조 등의 공지된 방법을 채용할 수 있다. In addition, the release force of the first base layer 40 is not particularly limited, and may be, for example, about 10 to 500 gf/inch, and specifically about 30 to 200 gf/inch. The method of forming the said release layer is not specifically limited, Well-known methods, such as hot press, hot roll lamination, extrusion lamination, application|coating of a coating liquid, and drying, are employable.

도 4에 도시된 본 발명의 제3 실시예에 따른 그라운드 보강필름(100C)에 대하여 설명한다. 도 4에서 도 2와 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다. The ground reinforcement film 100C according to the third embodiment of the present invention shown in FIG. 4 will be described. In Fig. 4, the same reference numerals as in Fig. 2 denote the same members.

이하 도 4에 대한 설명에서는 도 2와 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 차이점에 대해서만 설명한다. Hereinafter, in the description of FIG. 4 , content overlapping with FIG. 2 will not be described again, and only differences will be described.

구체적으로 도 4를 참조하면, 제3 실시예에 따른 그라운드 보강필름(100C)은 일면에 복수의 돌기부(11)를 갖는 제1금속층(10); 및 상기 제1금속층(10)을 중심으로 하여 돌기부(11)가 형성된 일면에 접착층(20)이 배치되고, 돌기부(11)가 비형성된 타면에 제2금속층(30)과 제2기재층(50)이 순차적으로 적층된 구조이다. Specifically, referring to FIG. 4 , the ground reinforcement film 100C according to the third embodiment includes a first metal layer 10 having a plurality of protrusions 11 on one surface; and the adhesive layer 20 is disposed on one surface on which the protrusions 11 are formed with the first metal layer 10 as the center, and the second metal layer 30 and the second base layer 50 on the other surface on which the protrusions 11 are not formed. ) is a sequentially stacked structure.

제2기재층(50)은 제2금속층(30) 상에 배치되는 부분으로, 상기 제2금속층(30)이 외부환경의 이물질로부터 오염되는 것을 방지하는 역할을 하며, 공정의 취급성 및 가공성을 개선할 수 있다. 또한 가열/가압에 의한 열 압착공정 이후 필요에 따라 박리되어 제거될 수 있다. The second base layer 50 is a portion disposed on the second metal layer 30, and serves to prevent the second metal layer 30 from being contaminated by foreign substances in the external environment, and improves handling and processability of the process. can be improved In addition, it may be peeled off and removed if necessary after the thermocompression process by heating/pressurization.

상기 제2기재층(50)은 특별히 제한되지 않으며, 당 분야에서 통상적으로 알려진 보호필름 등의 플라스틱 필름을 제한 없이 사용할 수 있다. 일례로, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 셀로판, 다이아세틸셀룰로스 필름, 트라이아세틸셀룰로스 필름, 아세틸셀룰로스부티레이트 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리염화비닐리덴 필름, 폴리비닐알코올 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름, 폴리스타이렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리설폰 필름, 폴리에터에터케톤 필름, 폴리에터설폰 필름, 폴리에터이미드 필름, 폴리이미드(PI) 필름, 불소수지 필름, 폴리아마이드 필름, 아크릴수지 필름, 노보넨계 수지 필름, 사이클로올레핀 수지 필름 등이 있다. 구체적으로, 폴리이미드(PI) 필름, PET (polyethylene terephthalate) 필름, PEN (polyethylene naphthalate) 필름, 보호 필름, 및 캐리어 필름 중 적어도 하나일 수 있다. 여기서, 상기 보호필름과 캐리어 필름은 당 분야에 알려진 통상적인 것을 사용할 수 있으며, 일례로 폴리이미드 필름, PET 필름, PEN 필름의 일면에 점착층이 형성된 것일 수 있다. 이러한 점착층은 당 기술 분야에서 통상적으로 사용되는 성분일 수 있으며, 일례로 에폭시계 점착제, 실리콘계 점착제, 아크릴계 점착제 및 이들의 혼합 성분이 함유될 수 있다. 바람직하게는 실록산계 폴리머(siloxane polymer)를 바인더로 하는 액상 수지 형태의 PSA일 수 있다. The second base layer 50 is not particularly limited, and a plastic film such as a protective film commonly known in the art may be used without limitation. For example, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyester films such as polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, diacetyl cellulose film, triacetyl cellulose film, acetyl cellulose butyrate film, poly Vinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyetheretherketone film, polyether sulfone films, polyetherimide films, polyimide (PI) films, fluororesin films, polyamide films, acrylic resin films, norbornene-based resin films, cycloolefin resin films, and the like. Specifically, it may be at least one of a polyimide (PI) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, a protective film, and a carrier film. Here, as the protective film and the carrier film, a conventional one known in the art may be used, and for example, an adhesive layer may be formed on one surface of a polyimide film, a PET film, or a PEN film. The pressure-sensitive adhesive layer may be a component commonly used in the art, for example, an epoxy-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, an acrylic pressure-sensitive adhesive, and mixtures thereof may be contained. Preferably, it may be a PSA in the form of a liquid resin using a siloxane polymer as a binder.

보호필름이나 캐리어 필름 등의 제2기재층(50)은, 그라운드 보강필름(100C)과 전자파 차폐형 복합기판의 일면, 구체적으로 전자파 차폐필름의 절연층(도 6의 411)이 접합된 적층체 구조에서 최외각(예, 최상면)에 위치하게 된다. 이러한 제2기재층(50)은 전자파 차폐형 복합기판에 굽힘력이나 외력 충격에 대한 스트레스가 가해졌을 때 해당 스트레스를 흡수하고 크랙(Crack) 발생 등을 막아 주는 역할을 한다. The second base layer 50, such as a protective film or a carrier film, is a laminate in which the ground reinforcement film 100C and one surface of the electromagnetic wave shielding type composite substrate, specifically, the insulating layer of the electromagnetic wave shielding film (411 in FIG. 6) are bonded. It is located at the outermost (eg, top) surface of the structure. The second base layer 50 serves to absorb the stress and prevent the occurrence of cracks when stress for bending force or external force impact is applied to the electromagnetic wave shielding type composite substrate.

제2기재층(50)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 일례로 30 내지 100 ㎛ 범위일 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 70㎛일 수 있다. The thickness of the second base layer 50 is not particularly limited, and may be, for example, in the range of 30 to 100 μm, preferably 10 to 70 μm.

도 5에 도시된 본 발명의 제4 실시예에 따른 그라운드 보강필름(100D)에 대하여 설명한다. 도 5에서 도 2와 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다. The ground reinforcement film 100D according to the fourth embodiment of the present invention shown in FIG. 5 will be described. In Fig. 5, the same reference numerals as in Fig. 2 denote the same members.

이하 도 5에 대한 설명에서는 도 2와 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 차이점에 대해서만 설명한다. Hereinafter, in the description of FIG. 5 , content overlapping with FIG. 2 will not be described again, and only differences will be described.

구체적으로 도 5를 참조하면, 제4 실시예에 따른 그라운드 보강필름(100D)은 일면에 복수의 돌기부(11)를 갖는 제1금속층(10); 및 상기 제1금속층(10)을 중심으로 하여 돌기부(11)가 형성된 일면에 접착층(20)과 제1기재층(40)이 순차적으로 적층되고, 돌기부(11)가 비형성된 타면에 제2금속층(30)과 제2기재층(50)이 순차적으로 적층된 구조이다. Specifically, referring to FIG. 5 , the ground reinforcement film 100D according to the fourth embodiment includes a first metal layer 10 having a plurality of protrusions 11 on one surface; and an adhesive layer 20 and a first base layer 40 are sequentially stacked on one surface on which the protrusions 11 are formed with the first metal layer 10 as the center, and a second metal layer on the other surface on which the protrusions 11 are not formed. 30 and the second base layer 50 are sequentially stacked.

한편 본 발명에서는 전술한 4가지 실시형태를 예시적으로 설명하고 있다. 그러나 이에 한정되지 않으며, 상기 그라운드 보강필름(100A, 100B, 100C, 100D)을 구성하는 각 층의 개수와 이들의 적층 순서를 용도에 따라 자유롭게 선택하여 구성하는 것도 본 발명의 범주에 속한다. 일례로, 각 층(10, 20, 30, 40, 50)들의 순서를 변경하거나, 또는 당 분야의 통상적인 다른 층을 도입하여 예시된 구조 보다 다층 구조를 가질 수도 있다. Meanwhile, in the present invention, the above-described four embodiments are exemplarily described. However, the present invention is not limited thereto, and the number of each layer constituting the ground reinforcement films 100A, 100B, 100C, and 100D and the order of their lamination may be freely selected and configured according to the use within the scope of the present invention. For example, by changing the order of each of the layers 10 , 20 , 30 , 40 , 50 , or by introducing another layer conventional in the art, it may have a multi-layered structure than the illustrated structure.

<그라운드 보강필름의 제조방법><Manufacturing method of ground reinforcement film>

또한 본 발명은 전술한 그라운드 보강필름의 제조방법을 제공한다. 이러한 그라운드 보강필름은 당 업계에 알려진 통상적인 방법에 따라 제한 없이 제조될 수 있으며, 하기 2가지의 실시형태를 가질 수 있다.In addition, the present invention provides a method for manufacturing the above-described ground reinforcement film. Such a ground reinforcement film may be manufactured without limitation according to a conventional method known in the art, and may have the following two embodiments.

구체적으로, 상기 그라운드 보강필름을 제조하는 첫번째 실시예를 들면, (i) 일면에 제2금속층 및 복수의 돌기부를 갖는 제1금속층이 순차적으로 적층된 제2기재층을 준비하는 단계; (ii) 상기 제1금속층의 돌기부 상에 접착층 조성물을 도포 및 건조하여 접착층을 형성하는 단계; 및 (iii) 상기 접착층 상에 제1기재층을 합지하는 단계를 포함하여 구성될 수 있다. Specifically, for a first embodiment of manufacturing the ground reinforcement film, (i) preparing a second base layer in which a second metal layer and a first metal layer having a plurality of protrusions are sequentially stacked on one surface; (ii) forming an adhesive layer by applying and drying an adhesive layer composition on the protrusions of the first metal layer; and (iii) laminating the first base layer on the adhesive layer.

일면에 제2금속층; 및 복수의 돌기부를 갖는 제1금속층이 순차적으로 적층된 제2기재층은 당 분야에 공지된 통상의 증착법이나 도금법을 통해 제조될 수 있다. a second metal layer on one surface; and a second base layer in which a first metal layer having a plurality of protrusions is sequentially stacked may be manufactured through a conventional deposition method or plating method known in the art.

상기 접착층 조성물을 돌기부가 형성된 제1금속층의 일면 상에 도포하는 방법은 특별히 한정하지 않으며, 당 분야에 알려진 통상적인 코팅방법을 제한 없이 사용할 수 있다. 일례로, 캐스팅(Casting) 방식, 딥(Dip) 코팅, 다이(Die) 코팅, 롤(roll) 코팅, 슬롯다이, 콤마(comma) 코팅 또는 이들의 혼합 방식 등 다양한 방식을 이용할 수 있다. 상기 건조공정은 당 분야에 알려진 통상적인 조건 내에서 적절히 실시할 수 있다. 일례로, 건조는 100 내지 200 ℃에서 수행될 수 있다.A method of applying the adhesive layer composition on one surface of the first metal layer on which the protrusions are formed is not particularly limited, and a conventional coating method known in the art may be used without limitation. As an example, various methods such as a casting method, a dip coating, a die coating, a roll coating, a slot die, a comma coating, or a mixture thereof may be used. The drying process may be appropriately carried out within conventional conditions known in the art. For example, drying may be performed at 100 to 200 °C.

또한 접착층 조성물은 특별히 제한되지 않으며, 당 분야에 공지된 열경화성 수지, 열가소성 수지 또는 이들 모두를 포함하는 조성일 수 있다. 구체적으로, 상기 접착층 조성물은 당해 조성물 100 중량부를 기준으로, 폴리우레탄 수지, 폴리에스터 우레탄 수지, 및 폴리에스테르 수지 중 적어도 2종 이상 포함하거나 또는 에폭시 수지와 시아네이트 수지를 2종 이상 포함하는 조성일 수 있다. 전술한 접착층 조성물의 당 분야에 공지된 범위 내에서 적절히 조절할 수 있으며, 특별히 제한되지 않는다. In addition, the adhesive layer composition is not particularly limited, and may be a composition including a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or both known in the art. Specifically, the adhesive layer composition may be a composition comprising at least two or more of a polyurethane resin, a polyester urethane resin, and a polyester resin, or an epoxy resin and a cyanate resin, based on 100 parts by weight of the composition have. The above-mentioned adhesive layer composition may be appropriately adjusted within a range known in the art, and is not particularly limited.

이어서 접착층을 건조한 후 제1기재층을 배치함으로써 그라운드 보강필름이 제조될 수 있다. Then, the ground reinforcement film may be manufactured by arranging the first base layer after drying the adhesive layer.

본 발명에 따른 그라운드 보강필름을 제조하는 두번째 실시예를 들면, (i) 제1기재층 상에 접착층 조성물을 도포 및 건조하여 접착층을 형성하는 단계; (ii) 일면에 제2금속층; 및 복수의 돌기부를 갖는 제1금속층이 순차적으로 적층된 제2기재층을 준비하는 단계; 및 (iii) 제1기재층과 제2기재층을 적층하되, 상기 제1기재층의 접착층과, 상기 제2기재층에 적층된 제1금속층의 돌기부가 서로 대향하도록 배치한 후 합지 및 경화하는 단계를 포함하여 제조될 수 있다. For a second embodiment of manufacturing the ground reinforcement film according to the present invention, (i) forming an adhesive layer by coating and drying an adhesive layer composition on the first base layer; (ii) a second metal layer on one surface; and preparing a second base layer in which a first metal layer having a plurality of protrusions is sequentially stacked; and (iii) laminating a first base layer and a second base layer, wherein the adhesive layer of the first base layer and the protrusions of the first metal layer laminated on the second base layer are disposed to face each other, and then laminated and cured It can be prepared including steps.

상기 접착층 조성물을 제1기재층 상에 도포하는 방법은 특별히 한정하지 않으며, 당 분야에 알려진 통상적인 코팅방법을 제한 없이 사용할 수 있다. 일례로, 캐스팅(Casting) 방식, 딥(Dip) 코팅, 다이(Die) 코팅, 롤(roll) 코팅, 슬롯다이, 콤마(comma) 코팅 또는 이들의 혼합 방식 등 다양한 방식을 이용할 수 있다. 상기 건조공정은 당 분야에 알려진 통상적인 조건 내에서 적절히 실시할 수 있다. 일례로, 건조는 100 내지 200 ℃에서 수행될 수 있다.A method of applying the adhesive layer composition on the first base layer is not particularly limited, and a conventional coating method known in the art may be used without limitation. As an example, various methods such as a casting method, a dip coating, a die coating, a roll coating, a slot die, a comma coating, or a mixture thereof may be used. The drying process may be appropriately carried out within conventional conditions known in the art. For example, drying may be performed at 100 to 200 °C.

이어서, 제1기재층의 접착층과 제2기재층의 제1금속층의 돌기부를 서로 대향하도록 배치한 후 열 압착 라미네이션 공정을 실시한다. Then, the adhesive layer of the first base layer and the protrusions of the first metal layer of the second base layer are disposed to face each other, and then a thermocompression lamination process is performed.

상기 압착 공정 조건은 당 업계에 알려진 통상적인 범위 내에서 적절히 조절할 수 있다. 일례로, 열압착 공정시 조건은 25~200 ℃의 온도, 3~200 kgf/cm2의 압력, 및 압착속도 0.1m/min 내지 20m/min 조건 하에서 수행될 수 있다. 그러나 이에 특별히 제한되지 않는다.The compression process conditions may be appropriately adjusted within a conventional range known in the art. For example, the conditions during the thermocompression bonding process may be carried out under the conditions of a temperature of 25 ~ 200 ℃, a pressure of 3 ~ 200 kgf / cm 2 , and a compression speed of 0.1 m/min to 20 m/min. However, it is not particularly limited thereto.

여기서, 제1기재층 및 제2기재층은 각각 시트 형상일 수 있으며, 또는 롤투롤(roll-to-roll) 방식에 따라 라미네이트된 후 롤형으로 권취될 수 있다. 그 외에, 시트-투-시트(sheet to sheet) 합지, 롤-투-시트(roll to sheet) 합지 등을 이용할 수도 있다.Here, the first base layer and the second base layer may each have a sheet shape, or may be laminated according to a roll-to-roll method and then wound up in a roll shape. In addition, sheet-to-sheet (sheet to sheet) paper, roll-to-sheet (roll to sheet) paper, etc. may be used.

<전자파 차폐형 복합기판><Electromagnetic shielding type composite board>

또한 본 발명은 일면에 전술한 그라운드 보강필름이 적층된 전자파 차폐형 복합기판을 제공한다. In addition, the present invention provides an electromagnetic wave shielding type composite substrate in which the above-described ground reinforcement film is laminated on one surface.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐형 복합기판(400)의 단면 구조를 개략적으로 나타낸 것이다. 6 schematically shows a cross-sectional structure of an electromagnetic wave shielding type composite substrate 400 according to an embodiment of the present invention.

도 6를 참조하면, 일 실시예에 따른 전자파 차폐형 복합기판(400)은 그라운드 보강필름(100), 전자파 차폐필름(410) 및 인쇄회로기판(420)을 포함하며, 이들이 순차적으로 적층된 구조를 나타낸다. Referring to FIG. 6 , the electromagnetic wave shielding type composite board 400 according to an embodiment includes a ground reinforcement film 100 , an electromagnetic wave shielding film 410 and a printed circuit board 420 , and these are sequentially stacked. indicates

보다 구체적으로, 전자파 차폐형 복합기판(400)은 접지부(422)를 갖는 인쇄회로기판(420); 상기 인쇄회로기판(420)의 일면 상에 배치되고, 절연층(411)과 전도층(412)을 포함하는 전자파 차폐필름(410); 및 상기 전자파 차폐필름(410) 상에 배치되는 그라운드 보강 필름(100)을 포함하며, 상기 그라운드 보강 필름(100)의 복수의 돌기부 중 적어도 일부가 상기 전자파 차폐필름(410)의 절연층(411)을 관통하여 전도층(412)과 전기적으로 연결되고, 상기 전도층(412)은 상기 인쇄회로기판의 접지부(422)와 연결된다. More specifically, the electromagnetic wave shielding type composite board 400 includes a printed circuit board 420 having a ground portion 422; an electromagnetic wave shielding film 410 disposed on one surface of the printed circuit board 420 and including an insulating layer 411 and a conductive layer 412; and a ground reinforcement film 100 disposed on the electromagnetic wave shielding film 410, wherein at least a portion of the plurality of protrusions of the ground reinforcement film 100 is an insulating layer 411 of the electromagnetic wave shielding film 410. is electrically connected to the conductive layer 412 through the

인쇄회로기판(420)은 당 분야에 알려진 통상적인 회로 배선기판을 제한 없이 사용할 수 있다. As the printed circuit board 420 , a conventional circuit wiring board known in the art may be used without limitation.

본 발명에서, 인쇄회로기판은 도금 스루홀법이나 빌드업법 등에 의해 단층, 또는 적어도 2층 이상의 다층 구조로 적층된 인쇄회로기판을 지칭한다. 이러한 인쇄회로기판은 단면형 또는 양면형이거나, 코어리스(coreless)형 인쇄회로기판을 모두 포함한다. 그 외, 동박층으로 이루어지거나 또는 절연성 접착층과 동박층이 적층된 형태를 갖는 당 분야의 통상적인 기판, 수지 부착 동박, 동박 적층판(CCL), 연성 동박 적층판(FCCL) 등을 사용할 수도 있다. 구체적으로, 상기 인쇄회로기판(420)은 적어도 1층의 회로패턴을 포함하는 연성 인쇄회로기판(FPCB)인 것이 바람직하다. In the present invention, the printed circuit board refers to a printed circuit board laminated in a single layer or at least two or more multi-layer structures by a plating through-hole method or a build-up method. These printed circuit boards include single-sided or double-sided printed circuit boards, or coreless type printed circuit boards. In addition, a conventional substrate made of a copper foil layer or having a form in which an insulating adhesive layer and a copper foil layer are laminated, a resin-coated copper foil, a copper-clad laminate (CCL), a flexible copper-clad laminate (FCCL), etc. may be used. Specifically, the printed circuit board 420 is preferably a flexible printed circuit board (FPCB) including at least one layer of circuit patterns.

인쇄회로기판(420)은 1층 이상의 회로패턴 상부에 커버레이(coverlay)가 적층된 구조일 수 있다. 일례로, 연성 인쇄회로기판은 폴리이미드(PI) 상에 1층 이상의 회로 패턴 및 커버레이가 순차적으로 적층된 형태일 수 있다. 여기서, 커버레이(coverlay)는 고분자 필름층, 예컨대 폴리이미드(polyimide) 필름에 접착제가 코팅된 복합 필름, 또는 이에 더하여 이형필름까지 합친 것을 일컫는다. 이러한 커버레이층은 주로 에칭된 FPCB(flexible Printed Circuit Board) 회로의 노출면을 보호하고 절연하기 위한 용도로 사용된다.The printed circuit board 420 may have a structure in which a coverlay is stacked on one or more circuit patterns. For example, the flexible printed circuit board may have a form in which one or more circuit patterns and a coverlay are sequentially stacked on polyimide (PI). Here, the coverlay refers to a composite film in which an adhesive is coated on a polymer film layer, for example, a polyimide film, or a release film in addition thereto. Such a coverlay layer is mainly used for protecting and insulating the exposed surface of the etched flexible printed circuit board (FPCB) circuit.

인쇄회로기판(420)의 적어도 일면 상에 적층되는 전자파 차폐필름(410)은, 당 분야에 공지된 통상의 구성을 포함할 수 있으며, 일례로 1층 이상의 절연층(411) 상에 전도성 필러가 함유된 전도층(412)이 적층된 형태의 필름 또는 시트일 수 있다. The electromagnetic wave shielding film 410 laminated on at least one surface of the printed circuit board 420 may include a conventional configuration known in the art, for example, a conductive filler on one or more insulating layers 411 The contained conductive layer 412 may be a laminated film or sheet.

절연층(411)은 당 분야의 공지된 통상의 고분자 수지를 제한 없이 사용할 수 있으며, 일례로 열경화성 수지, 열가소성 수지 및 이들의 조합일 수 있다. 특히 본 발명에서는 그라운드 보강필름(100) 내 제1금속층의 돌기부 중 적어도 일부가 절연층(411)을 관통하여 전도층(412)과의 직접 접촉을 통해 통전되는 방식이므로, 상기 절연층(411)은 전도성 필러를 비포함하는 수지층인 것이 바람직하다. The insulating layer 411 may use a conventional polymer resin known in the art without limitation, and may be, for example, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and a combination thereof. In particular, in the present invention, since at least some of the protrusions of the first metal layer in the ground reinforcement film 100 pass through the insulating layer 411 and conduct electricity through direct contact with the conductive layer 412, the insulating layer 411 It is preferable that it is a resin layer which does not contain a silver conductive filler.

전도층(412)은 당 분야의 통상적인 고분자 수지와 전도성 필러를 포함한다. 상기 전도성 필러는 전자파를 흡수 및 차폐하는 성분이라면 특별히 한정되지 않는다. 일례로, Ag, Cu, Ni, Al, Ag으로 코팅된 구리 필러, 니켈 필러를 사용하거나, 또는 고분자 필러, 수지 볼이나 유리 비즈 등에 금속 도금을 실시한 필러 등일 수 있다. The conductive layer 412 includes a conventional polymer resin in the art and a conductive filler. The conductive filler is not particularly limited as long as it is a component that absorbs and shields electromagnetic waves. For example, it may be a copper filler or nickel filler coated with Ag, Cu, Ni, Al, Ag, or a filler in which metal plating is performed on a polymer filler, resin ball, glass beads, or the like.

본 발명에 따른 전자파 차폐형 복합기판(400)은, 당 분야에 알려진 통상적인 방법에 따라 제조될 수 있다. 일례로, 1층 이상의 회로패턴과 접지부를 포함하는 인쇄회로기판(420); 상기 인쇄회로기판(420)의 일면 또는 양면 상에 배치되는 전자파 차폐필름(410); 및 상기 전자파 차폐필름(410)의 일면 상에 배치되는 그라운드 보강필름(100)을 순차적으로 적층한 후 열 압착하여 제조될 수 있다. The electromagnetic wave shielding type composite substrate 400 according to the present invention may be manufactured according to a conventional method known in the art. For example, a printed circuit board 420 including one or more layers of circuit patterns and a ground; an electromagnetic wave shielding film 410 disposed on one or both sides of the printed circuit board 420; And it may be manufactured by sequentially laminating the ground reinforcement film 100 disposed on one surface of the electromagnetic wave shielding film 410 and then thermally pressing.

구체적으로, 그라운드 보강필름(100)의 접착층이 전자파 차폐필름(410)의 절연층(411)과 접촉하도록 접합하며, 상기 전자파 차폐필름(410)의 전도층(412)이 인쇄회로기판(420)의 커버레이(421) 상부와 접촉하도록 배치한 후 접합하여 적층체를 구성한다. 이때 그라운드 보강필름이 제1기재층(이형필름)을 포함하는 경우, 제1기재층을 탈착한 후 전자파 차폐필름에 접합한다.Specifically, the adhesive layer of the ground reinforcement film 100 is bonded to be in contact with the insulating layer 411 of the electromagnetic wave shielding film 410, and the conductive layer 412 of the electromagnetic wave shielding film 410 is a printed circuit board 420. After arranging to contact the upper portion of the coverlay 421, bonding to form a laminate. In this case, when the ground reinforcement film includes the first base layer (release film), the first base layer is detached and then bonded to the electromagnetic wave shielding film.

상기와 같이 적층체를 구성한 후 열 및/또는 압력을 가하여 열 압착한다. 필요에 따라, 상기 적층체의 최상부에 위치하는 제2기재층(보호 필름)을 제거할 수 있다. 이때 열 압착 조건은 특별히 제한되지 않으며, 일례로 전술한 적층체를 구성한 후 약 150~170 ℃의 온도, 30~60 kgf/cm2의 압력, 및 50 내지 60분 조건하에서 열 압착할 수 있다. After constructing the laminate as described above, heat and/or pressure is applied to thermocompression. If necessary, the second base layer (protective film) positioned at the top of the laminate may be removed. At this time, the thermocompression conditions are not particularly limited, and for example, after forming the above-described laminate, thermocompression may be performed under conditions of a temperature of about 150 to 170 ℃, a pressure of 30 to 60 kgf / cm 2 , and 50 to 60 minutes.

전술한 열 압착공정을 거치면, 상기 그라운드 보강 필름(100)의 제1금속층에 위치하는 복수의 돌기부 중 적어도 일부가, 상기 전자파 차폐필름(410)의 절연층(411)을 관통하여 전도층(412)과 직접 접촉하게 되며, 상기 전도층(412)은 상기 인쇄회로기판의 접지부(422)와 전기적으로 연결되어 그라운드 접속 구조를 이루게 된다.After the above-described thermocompression process, at least some of the plurality of protrusions positioned on the first metal layer of the ground reinforcement film 100 penetrate the insulating layer 411 of the electromagnetic wave shielding film 410 to pass through the conductive layer 412 ), and the conductive layer 412 is electrically connected to the ground portion 422 of the printed circuit board to form a ground connection structure.

한편 본 발명에서는 인쇄회로기판(420), 전자파 차폐필름(410)과 그라운드 보강필름(100)을 순차적으로 적층한 후, 열압착 공정을 거쳐 전자파 차폐형 복합기판을 제조하는 것을 구체적으로 예시하였다. 그러나 이에 한정되지 않으며, 인쇄회로기판과 전자파 차폐필름을 접합하여 전자파 차폐형 복합기판을 먼저 제조한 후, 상기 전자파 차폐필름의 절연층 상에 그라운드 보강필름을 적층하고 열압착하여 제조하는 것도 본 발명의 범주에 속한다. Meanwhile, in the present invention, after sequentially stacking the printed circuit board 420, the electromagnetic wave shielding film 410, and the ground reinforcement film 100, the manufacturing of the electromagnetic wave shielding composite board through a thermocompression bonding process was specifically exemplified. However, the present invention is not limited thereto, and is manufactured by first manufacturing an electromagnetic wave shielding composite board by bonding a printed circuit board and an electromagnetic wave shielding film, then laminating a ground reinforcement film on the insulating layer of the electromagnetic wave shielding film and thermocompression bonding. belongs to the category of

상기와 같이 본 발명에서는 인쇄회로기판 본체에 전자파 차폐필름과 그라운드 보강필름을 접합함으로써, 다양한 주파수 영역에서 우수한 전자파 차폐성을 나타낼 수 있을 뿐만 아니라 인쇄회로기판 내의 그라운드를 노출 및 추가배선하지 않아 가공비용 절감이 가능하다. 또한 원하는 위치에 용이한 그라운드 접속이 가능하므로, 회로의 자유도 및 설계의 자유도를 높일 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 인쇄회로기판은 다양한 전자·통신기기에 이용되어 전송 품질을 향상시킬 수 있다.As described above, in the present invention, by bonding the electromagnetic wave shielding film and the ground reinforcement film to the printed circuit board body, excellent electromagnetic wave shielding properties can be exhibited in various frequency ranges, and the ground in the printed circuit board is not exposed or additionally wired, thereby reducing processing costs. This is possible. In addition, since it is possible to easily connect the ground to a desired location, the degree of freedom of circuit and design freedom can be increased. Therefore, the printed circuit board according to the present invention can be used in various electronic and communication devices to improve transmission quality.

이하 본 발명을 실시예를 통해 구체적으로 설명하나, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명의 한 형태를 예시하는 것에 불과할 뿐이며, 본 발명의 범위가 하기 실시예 및 실험예에 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of Examples, but the following Examples and Experimental Examples are merely illustrative of one aspect of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the Examples and Experimental Examples below.

[실시예 1][Example 1]

1-1. 그라운드 보강필름의 제조1-1. Manufacture of ground reinforcement film

일면에 표면 조도가 8.0~9.9㎛인 동박(두께 12㎛)의 표면 조도부 상에 폴리우레탄 수지계 접착층 조성물을 코팅하여 건조 후의 두께가 8 내지 10㎛가 되도록 접착층을 형성하고, 형성된 접착층 상에 이형 PET 필름인 제1기재층을 합지하였다. 제1금속층의 접착층이 코팅된 타면에 제2금속층으로 금(Au)을 마그네트론(Magnetron) 증착으로 상온의 아르곤(Ar) 분위기 하에서 200 W의 파워로 두께가 0.03㎛가 되도록 코팅하였다. 형성된 제2금속층은 점착 PET 필름인 제2기재층을 합지하여 그라운드 보강필름을 제조하였다.A polyurethane resin-based adhesive layer composition is coated on the surface roughness portion of a copper foil (thickness 12 μm) having a surface roughness of 8.0 to 9.9 μm on one surface to form an adhesive layer to a thickness of 8 to 10 μm after drying, and release on the formed adhesive layer A first base layer, which is a PET film, was laminated. Gold (Au) as a second metal layer was deposited on the other surface coated with the adhesive layer of the first metal layer, and the thickness was 0.03 μm under an argon (Ar) atmosphere at room temperature under an argon (Ar) atmosphere. The formed second metal layer was laminated with a second base layer, which is an adhesive PET film, to prepare a ground reinforcement film.

1-2. 전자파 차폐필름의 제조1-2. Manufacture of electromagnetic wave shielding film

전자파 차폐필름(㈜두산 전자, DE-200)을 사용하였다. 전자파 차폐필름으로는 절연층(절연체)의 두께가 8 ㎛ 이하이면 가능하며, 전도층(도전층)의 두께는 무관하다.An electromagnetic wave shielding film (Doosan Electronics, DE-200) was used. As an electromagnetic wave shielding film, it is possible as long as the thickness of the insulating layer (insulator) is 8 μm or less, and the thickness of the conductive layer (conductive layer) is irrelevant.

1-3. 전자파 차폐형 복합기판의 제조1-3. Manufacture of electromagnetic wave shielding type composite board

연성 인쇄회로기판은 연성 동박 적층판(FCCL)의 일면에 폭 3 mm, 길이 24 mm의 그라운드 회로를 중심축을 기준으로 1 cm 간격으로 설계하였다. 커버레이(Coverlay)는 그라운드 회로의 중심에 0.5 mm의 원형 및 그라운드 회로 말단에 5 x 4 mm의 사각형 타발 가공을 한 후, 그라운드 회로가 설계된 연성 동박 적층판에 전면 부착하였다. 이때 압착 조건은 150 ℃의 온도, 50 kgf/cm2의 압력, 및 60분으로 실시하였다. 원형 타발부는 전자파 차폐필름이 부착되어 통전되며 사각형 타발부는 그라운드 접속부로 사용되었다.The flexible printed circuit board was designed with a ground circuit of 3 mm in width and 24 mm in length on one side of a flexible copper clad laminate (FCCL) at intervals of 1 cm with respect to the central axis. For the coverlay, a 0.5 mm circle at the center of the ground circuit and a 5 x 4 mm square at the end of the ground circuit were punched, and then the entire surface was attached to the flexible copper clad laminate for which the ground circuit was designed. At this time, compression conditions were carried out at a temperature of 150 °C, a pressure of 50 kgf/cm 2 , and 60 minutes. The circular punched part was energized with an electromagnetic wave shielding film attached, and the square punched part was used as a ground connection part.

제조된 연성 인쇄회로기판의 일면 상에, 상기 실시예 1-2의 전자파 차폐필름을 폭 15 mm, 길이 100 mm로 절단하여, 상기 전자파 차폐필름의 전도층과 연성 인쇄회로기판의 원형 타발 접지부가 폭 방향의 중앙에 위치되어 일면이 서로 대향하도록 배치하여 부착하였다. 이때 압착 조건은 150 ℃의 온도, 40 kgf/cm2의 압력, 및 60분이었다. 압착공정 완료 후 전자파 차폐필름의 절연층부 보호필름을 박리하였다. 이후 상기 실시예 1-1의 그라운드 보강필름의 이형 PET 필름을 박리한 후, 그라운드 보강필름의 접착층과 상기 전자파 차폐필름의 절연층이 마주보도록 배치한 후 적층하였으며, 170 ℃의 온도, 50 kgf/cm2의 압력, 및 60분의 조건 하에서 압착하였다. 압착된 그라운드 보강 필름의 제2기재층을 제거함으로써 전자파 차폐형 복합기판을 제조하였다. On one side of the prepared flexible printed circuit board, the electromagnetic wave shielding film of Example 1-2 was cut to 15 mm in width and 100 mm in length, and the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film and the circular punched ground of the flexible printed circuit board were It was located in the center of the width direction and was attached so that one side of it faced each other. At this time, the compression conditions were a temperature of 150° C., a pressure of 40 kgf/cm 2 , and 60 minutes. After the compression process was completed, the insulating layer protective film of the electromagnetic wave shielding film was peeled off. After peeling the release PET film of the ground reinforcement film of Example 1-1, the adhesive layer of the ground reinforcement film and the insulating layer of the electromagnetic wave shielding film were placed to face each other and laminated, and the temperature of 170 ℃, 50 kgf / cm 2 , and compressed under conditions of 60 minutes. By removing the second base layer of the compressed ground reinforcement film, an electromagnetic wave shielding type composite board was manufactured.

제조된 전자파 차폐형 복합기판은 도 6에 도시된 바와 같이, 그라운드 보강필름 내 그라운드 접속부의 복수형 돌기가 전자파 차폐필름의 절연층을 관통하여 그 하부에 위치하는 전도층과 연결되는 그라운드 통전 구조를 갖는다. 도 10(a)는 제조된 전자파 차폐형 복합기판의 상면을 도시하였다.As shown in FIG. 6, the manufactured electromagnetic wave shielding composite substrate has a ground conduction structure in which a plurality of protrusions of the ground connection part in the ground reinforcement film penetrate the insulating layer of the electromagnetic wave shielding film and are connected to the conductive layer located thereunder. . FIG. 10(a) shows the upper surface of the manufactured electromagnetic wave shielding type composite substrate.

[실시예 2][Example 2]

일면에 표면 조도가 8.2~10.4 ㎛인 동박(두께 18㎛)을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법을 수행하여 그라운드 보강필름 및 이를 구비하는 전자파 차폐형 복합기판을 제조하였다.A ground reinforcement film and an electromagnetic wave shielding composite board having the same were prepared in the same manner as in Example 1, except that a copper foil (thickness 18 μm) having a surface roughness of 8.2 to 10.4 μm was used on one surface.

[실험예 1. 제1금속층의 분석][Experimental Example 1. Analysis of the first metal layer]

본 발명의 그라운드 보강필름 내 구비되는 제1금속층(동박)의 물성을 하기와 같이 분석하였다. The physical properties of the first metal layer (copper foil) provided in the ground reinforcement film of the present invention were analyzed as follows.

도 7은 실시예 1에서 사용된 동박의 제1면(표면 조도부)과 제2면의 SEM 사진이다. 동박의 제1면 상에 소정의 높이를 갖는 복수의 돌기부가 전 영역에 걸쳐 존재하고 있음을 확인할 수 있었다. 7 is an SEM photograph of the first side (surface roughness portion) and the second side of the copper foil used in Example 1. FIG. It was confirmed that a plurality of protrusions having a predetermined height were present over the entire region on the first surface of the copper foil.

도 8 및 9는 각각 동박의 두께에 따른 표면 거칠기(Rz)를 나타내는 topography이다. 8 and 9 are topography showing the surface roughness (Rz) according to the thickness of the copper foil, respectively.

두께가 12㎛인 전해 동박을 사용하여 표면 분석한 결과, 전 영역에 걸쳐 동박의 표면 거칠기(Rz)가 8.0 ~ 9.9 ㎛를 나타내는 것을 알 수 있었다. 또한 두께가 18 ㎛인 전해 동박을 사용하여 표면 분석한 결과, 전 영역에 걸쳐 동박의 표면 거칠기(Rz)가 8.2~10.4 ㎛를 갖는다는 것을 알 수 있었다. As a result of surface analysis using an electrolytic copper foil having a thickness of 12 µm, it was found that the surface roughness (Rz) of the copper foil was 8.0 to 9.9 µm over the entire region. In addition, as a result of surface analysis using an electrolytic copper foil having a thickness of 18 µm, it was found that the surface roughness (Rz) of the copper foil was 8.2 to 10.4 µm over the entire region.

[실험예 2. 전자파 차폐형 복합기판의 저항 평가][Experimental Example 2. Resistance evaluation of electromagnetic wave shielding type composite substrate]

실시예 1에서 제조된 전자파 차폐형 복합기판을 이용하여 설계된 그라운드 회로의 거리에 따른 저항 변화를 측정하였다. The resistance change according to the distance of the designed ground circuit was measured using the electromagnetic wave shielding type composite board manufactured in Example 1.

본 실험예 2에서 사용된 저항측정 시편의 평면도는 도 10(a)이며, 상기 저항측정 시편의 단면도는 도 10(b)이다. 상기 저항측정 시편의 전자파 차폐필름의 통전성을 확인하기 위하여 기준 그라운드 회로의 접지부를 중심으로 1 cm 간격으로 저항을 각각 측정하였다. 그라운드 보강필름은 최상층(제2금속층)과 인쇄회로기판의 접지부 사이의 거리를 하기 표 1과 같이 순차적으로 변경하면서 해당 저항을 측정하였으며, 그 측정 결과를 표 1에 나타내었다. A plan view of the resistance measuring specimen used in Experimental Example 2 is Fig. 10(a), and a cross-sectional view of the resistance measuring specimen is Fig. 10(b). In order to check the conductivity of the electromagnetic wave shielding film of the resistance measurement specimen, resistances were measured at intervals of 1 cm centering on the ground portion of the reference ground circuit. The resistance of the ground reinforcement film was measured while sequentially changing the distance between the uppermost layer (the second metal layer) and the grounding part of the printed circuit board as shown in Table 1 below, and the measurement results are shown in Table 1.

단위 (Ω)Unit (Ω) 거리 (cm)Distance (cm) 00 1One 22 33 44 55 전자파 차폐필름electromagnetic wave shielding film -- -- 0.20.2 0.20.2 0.30.3 0.30.3 0.40.4 그라운드 보강필름ground reinforcement film 12 ㎛12 μm 0.50.5 0.6~0.70.6~0.7 0.7~0.80.7~0.8 0.8~0.90.8~0.9 0.9~1.00.9~1.0 1.0~1.11.0~1.1 전자파 차폐필름electromagnetic wave shielding film -- -- 0.20.2 0.20.2 0.30.3 0.30.3 0.40.4 그라운드 보강필름ground reinforcement film 18 ㎛18 μm 0.50.5 0.6~0.70.6~0.7 0.7~0.80.7~0.8 0.8~0.90.8~0.9 0.9~1.00.9~1.0 1.0~1.11.0~1.1

일반적으로 거리가 증가함에 따라 저항은 유의적으로 상승한다. 본 발명에서는 대략 0.1 Ω/cm 정도의 저항 증가율을 나타내므로, 거리에 따른 저항 증가율이 양호하여 그라운드 접속이 잘 이루어졌음을 알 수 있었다. In general, resistance increases significantly with increasing distance. In the present invention, since the resistance increase rate of about 0.1 Ω/cm is shown, it can be seen that the resistance increase rate according to the distance is good, so that the ground connection is well made.

상기와 같이, 본 발명에서는 일면에 높은 표면 조도부를 갖는 제1금속층(예, 동박층)이 배치된 그라운드 보강필름을 채용함으로써, 관통홀 형성이나 도전성 접착제 충전 등의 별도의 추가 공정 없이 원하는 위치에 그라운드용 배선 패턴을 용이하게 연결할 수 있다. 이에 따라, 회로의 자유도를 부여하고, 제조공정의 간소화 및 비용절감 효과를 도모할 수 있음을 확인할 수 있었다. As described above, in the present invention, by employing a ground reinforcement film in which a first metal layer (eg, a copper foil layer) having a high surface roughness portion is disposed on one surface, it is placed at a desired location without additional processes such as through-hole formation or conductive adhesive filling. The wiring pattern for the ground can be easily connected. Accordingly, it was confirmed that the degree of freedom of the circuit can be provided, and the simplification of the manufacturing process and the effect of cost reduction can be achieved.

100A, 100B, 100C, 100D: 그라운드 보강필름
10: 제1금속층
11: 돌기부
20: 접착층
30: 제2금속층
40: 제1기재층
50: 제2기재층
400: 전자파 차폐형 복합기판
410: 전자파 차폐필름(EMI 차폐필름)
411: 전자파 차폐필름의 절연층
412: 전자파 차폐필름의 전도층
420: 인쇄회로기판
421: 커버레이(Coverlay)층
422: 접지부
100A, 100B, 100C, 100D: Ground reinforcement film
10: first metal layer
11: protrusion
20: adhesive layer
30: second metal layer
40: first base layer
50: second base layer
400: electromagnetic wave shielding type composite board
410: electromagnetic wave shielding film (EMI shielding film)
411: insulating layer of electromagnetic wave shielding film
412: conductive layer of electromagnetic wave shielding film
420: printed circuit board
421: Coverlay layer
422: ground

Claims (17)

일면에 복수의 돌기부를 가지며, 상기 복수의 돌기부와 일체로 형성된 제1금속층;
상기 제1금속층의 일면을 덮는 접착층;
상기 제1금속층의 타면에 형성된 제2금속층;
상기 접착층의 일면에 배치되는 제1 기재층; 및
상기 제2 금속층의 일면에 배치되는 제2 기재층;으로 구성되며,
상기 제1 금속층은, 복수의 돌기부를 갖는 일면의 표면조도(Rz)가 2-35 ㎛의 방청처리된 전해동박으로서,
상기 복수의 돌기부 중 적어도 일부는 상기 접착층의 표면과 접촉하고, 상기 복수의 돌기부의 평균 높이와 상기 접착층의 두께는 실질적으로 동일한, 그라운드 보강필름.
a first metal layer having a plurality of protrusions on one surface and integrally formed with the plurality of protrusions;
an adhesive layer covering one surface of the first metal layer;
a second metal layer formed on the other surface of the first metal layer;
a first base layer disposed on one surface of the adhesive layer; and
a second base layer disposed on one surface of the second metal layer; and
The first metal layer is an electrodeposited copper foil having a surface roughness (Rz) of 2-35 µm on one surface having a plurality of protrusions,
At least a portion of the plurality of protrusions is in contact with a surface of the adhesive layer, and an average height of the plurality of protrusions and a thickness of the adhesive layer are substantially the same.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1금속층에서 일면의 표면 조도(R1)와 타면의 표면 조도(R2) 간의 비율(R1/R2)은 1 내지 350인 그라운드 보강필름.
According to claim 1,
A ratio (R1/R2) between the surface roughness (R1) of one surface and the surface roughness (R2) of the other surface in the first metal layer is 1 to 350 for the ground reinforcement film.
제1항에 있어서,
상기 제1금속층은 구리(Cu)이며,
상기 제2금속층은 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 은(Ag), 금(Au), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 탄탈(Ta), 니오븀(Nb), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 및 아연(Zn)으로 구성된 군에서 선택되는 금속 또는 이들의 합금(alloy)인 그라운드 보강필름.
According to claim 1,
The first metal layer is copper (Cu),
The second metal layer is aluminum (Al), chromium (Cr), titanium (Ti), silver (Ag), gold (Au), tungsten (W), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), niobium (Nb), A ground reinforcement film comprising a metal selected from the group consisting of nickel (Ni), palladium (Pd), cobalt (Co), and zinc (Zn) or an alloy thereof.
제1항에 있어서,
상기 제2금속층의 최외각층은 금(Au)으로 구성되는 그라운드 보강필름.
According to claim 1,
The outermost layer of the second metal layer is a ground reinforcement film composed of gold (Au).
제1항에 있어서,
상기 제1금속층의 두께는 5 내지 35 ㎛ 이며,
상기 제2금속층의 두께는 0.01 내지 5 ㎛인 그라운드 보강필름.
According to claim 1,
The thickness of the first metal layer is 5 to 35 μm,
The thickness of the second metal layer is 0.01 to 5 ㎛ ground reinforcement film.
제1항에 있어서,
상기 접착층은 도전성 입자를 비포함하는 수지층인 그라운드 보강필름.
According to claim 1,
The adhesive layer is a ground reinforcement film that is a resin layer that does not include conductive particles.
제1항에 있어서,
상기 접착층은 유리전이온도(Tg)가 -60 내지 140 ℃인 열가소성 수지 및 열경화성 수지 중 적어도 하나를 포함하는 그라운드 보강필름.
According to claim 1,
The adhesive layer is a ground reinforcement film comprising at least one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin having a glass transition temperature (Tg) of -60 to 140 °C.
제9항에 있어서,
상기 열경화성 수지는 에폭시 수지, 페놀수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 우레탄 수지 및 요소 수지로 구성된 군에서 선택된 1종 이상인 그라운드 보강필름.
10. The method of claim 9,
The thermosetting resin is at least one ground reinforcement film selected from the group consisting of an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, a silicone resin, a urethane resin, and a urea resin.
제9항에 있어서,
상기 열가소성 수지는 올레핀 수지, 아크릴 수지, 및 고무로 구성된 군에서 선택된 1종 이상인 그라운드 보강필름.
10. The method of claim 9,
The thermoplastic resin is a ground reinforcement film of at least one selected from the group consisting of an olefin resin, an acrylic resin, and rubber.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1기재층은 이형지 및 이형 고분자 필름 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 그라운드 보강필름.
According to claim 1,
The first base layer is a ground reinforcement film, characterized in that any one of a release paper and a release polymer film.
제1항에 있어서,
상기 제2기재층은 폴리이미드(PI) 필름, PET (polyethylene terephthalate) 필름, PEN (polyethylene naphthalate) 필름, 보호 필름, 및 캐리어 필름 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 그라운드 보강필름.
According to claim 1,
The second base layer is at least one of a polyimide (PI) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, a protective film, and a carrier film.
제1항에 있어서,
상기 제1기재층과 제2기재층의 두께는 각각 10 내지 150 ㎛인 그라운드 보강필름.
According to claim 1,
The thickness of the first base layer and the second base layer is each 10 to 150 ㎛ ground reinforcement film.
접지부를 갖는 인쇄회로기판;
상기 인쇄회로기판의 일면 상에 배치되고, 절연층과 전도층을 포함하는 전자파 차폐필름; 및
상기 전자파 차폐필름 상에 배치되고, 제1항, 제4항 내지 제11항, 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 그라운드 보강필름을 포함하며,
상기 그라운드 보강필름의 복수의 돌기부 중 적어도 일부가, 상기 전자파 차폐필름의 절연층을 관통하여 전도층과 전기적으로 연결되고,
상기 전도층은 상기 인쇄회로기판의 접지부와 연결되는 전자파 차폐형 복합기판.
a printed circuit board having a ground part;
an electromagnetic wave shielding film disposed on one surface of the printed circuit board and including an insulating layer and a conductive layer; and
It is disposed on the electromagnetic wave shielding film, comprising the ground reinforcement film according to any one of claims 1, 4 to 11, and claim 13 to 15,
At least some of the plurality of protrusions of the ground reinforcement film penetrate the insulating layer of the electromagnetic wave shielding film and are electrically connected to the conductive layer,
The conductive layer is an electromagnetic wave shielding type composite board connected to the ground portion of the printed circuit board.
제16항에 있어서,
상기 전자파 차폐필름의 절연층은 전도성 입자를 비포함하는 수지층인 전자파 차폐형 복합기판.
17. The method of claim 16,
The insulating layer of the electromagnetic wave shielding film is an electromagnetic wave shielding type composite substrate that is a resin layer that does not contain conductive particles.
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JP2004269959A (en) * 2003-03-07 2004-09-30 Asahi Kasei Corp Compound body having copper foil used for forming printed circuit or the like, and method for manufacturing the same
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