JP4830881B2 - Circuit board for molding and three-dimensional circuit board obtained by molding the same - Google Patents

Circuit board for molding and three-dimensional circuit board obtained by molding the same Download PDF

Info

Publication number
JP4830881B2
JP4830881B2 JP2007025053A JP2007025053A JP4830881B2 JP 4830881 B2 JP4830881 B2 JP 4830881B2 JP 2007025053 A JP2007025053 A JP 2007025053A JP 2007025053 A JP2007025053 A JP 2007025053A JP 4830881 B2 JP4830881 B2 JP 4830881B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
circuit board
resin
molding
dimensional
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007025053A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008192789A (en
Inventor
浩 岡田
堪 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP2007025053A priority Critical patent/JP4830881B2/en
Publication of JP2008192789A publication Critical patent/JP2008192789A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4830881B2 publication Critical patent/JP4830881B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、成形加工用回路基板、および、該成形加工用回路基板を成形加工して得られる立体回路基板に関する。   The present invention relates to a molding circuit board and a three-dimensional circuit board obtained by molding the molding circuit board.

フィルムアンテナなどの平面状のフィルム回路基板は、フレキシブル性が高く、小型化が可能という性質により、携帯電話などの小型電子機器に用いられている。近時、こうした電子機器の一層の小型化、多機能化、および、低コスト化が求められるようになり、立体化された回路基板を、電子機器に搭載する方法が提案され、実現されてきている。   Planar film circuit boards such as film antennas are used in small electronic devices such as mobile phones because of their high flexibility and miniaturization. Recently, there has been a demand for further downsizing, multi-functionalization, and cost reduction of such electronic devices, and a method for mounting a three-dimensional circuit board on an electronic device has been proposed and realized. Yes.

立体回路基板としては、モールドプリント回路板(MPCB:Molded Printed Circuit Board)、あるいは、射出成形回路部品(MID:Molded Interconnection Device )などがある。これらは、射出成形法により立体回路基板を得ているが、その製法を大別すると、めっき方式と回路フィルム方式とがある。   As the three-dimensional circuit board, there is a molded printed circuit board (MPCB) or an injection molded circuit component (MID: Molded Interconnection Device). These have obtained the three-dimensional circuit board by the injection molding method, but if the manufacturing method is divided roughly, there are a plating method and a circuit film method.

めっき方式では、所望の立体形状を有する樹脂成形体にめっきを施すことにより回路基板を得る。その代表的な製法としては、1ショットモールド法と2ショットモールド法があげられる。   In the plating method, a circuit board is obtained by plating a resin molded body having a desired three-dimensional shape. Typical production methods include a one-shot mold method and a two-shot mold method.

1ショットモールド法では、まず、無電解めっきが可能な樹脂を用い、該樹脂を所望の立体形状に成形し、次に、得られた樹脂成形体の表面にフォトレジストを塗布した後、回路パターンを露光し、現像し、最後に、露出した樹脂成形体の表面に無電解めっきを施して立体形成回路基板を製造する。   In the one-shot mold method, first, a resin capable of electroless plating is used, the resin is molded into a desired three-dimensional shape, and then a photoresist is applied to the surface of the obtained resin molded body, and then a circuit pattern is formed. Is exposed and developed, and finally, the surface of the exposed resin molded body is subjected to electroless plating to produce a three-dimensionally formed circuit board.

これに対して、2ショットモールド法では、めっき用の触媒を配合した樹脂を用い、最初の射出成形により、該樹脂を所望の立体形状に成形し、さらに、2回目の射出成形により、得られた樹脂成形体の表面の所定部分には、無電解めっきが施されない表面層を形成し、その後、樹脂成形体の表面層が形成されていない部分に無電解めっきを施して、導電部を形成する。   In contrast, in the two-shot mold method, a resin mixed with a catalyst for plating is used, the resin is molded into a desired three-dimensional shape by the first injection molding, and further obtained by the second injection molding. A surface layer that is not subjected to electroless plating is formed on a predetermined portion of the surface of the resin molded body, and then a portion that is not formed with the surface layer of the resin molded body is subjected to electroless plating to form a conductive portion. To do.

一方、回路フィルム方式とは、所定の回路パターンをフィルム面に形成し、所望の立体形状を有する樹脂成形体の成形時に、該回路パターンを樹脂成形体と一体化、または、樹脂成形体に転写する方式をいい、インモールド法などがある。インモールド法では、基材のフィルム面に、公知の方法により、所定の回路パターンを形成した後、回路パターンが形成された基材を成形用金型内に装填し、樹脂を充填することにより、基材のフィルム面の回路パターンを樹脂成形体と一体化、または、樹脂成形体に転写することにより、立体回路基板を得ている。   On the other hand, with the circuit film method, a predetermined circuit pattern is formed on the film surface, and when molding a resin molded body having a desired three-dimensional shape, the circuit pattern is integrated with the resin molded body or transferred to the resin molded body. There is an in-mold method. In the in-mold method, a predetermined circuit pattern is formed on a film surface of a substrate by a known method, and then the substrate on which the circuit pattern is formed is loaded into a molding die and filled with resin. The circuit pattern on the film surface of the base material is integrated with the resin molding or transferred to the resin molding to obtain a three-dimensional circuit board.

しかしながら、これらの製法には、それぞれが有する特徴的な製造工程から、以下のような問題がある。   However, these manufacturing methods have the following problems due to their characteristic manufacturing processes.

例えば、1ショットモールド法では、回路パターンの線幅を100μm程度に細くすることができ、高密度化された回路パターンを得ることができるものの、製造工程が非常に長く、コストが高くつく。また、3次元の曲面形状を有する立体回路基板を製造するには、不向きである。さらに、樹脂の材料が限定され、回路のパターニングが困難である。   For example, in the one-shot mold method, the line width of the circuit pattern can be reduced to about 100 μm and a high-density circuit pattern can be obtained, but the manufacturing process is very long and the cost is high. Moreover, it is unsuitable for manufacturing a three-dimensional circuit board having a three-dimensional curved surface shape. Furthermore, the resin material is limited, and circuit patterning is difficult.

また、2ショットモールド法では、3次元の曲面形状を有する立体回路基板を製造するのに適しているものの、精度の高い成形用金型が要求されることや、2回の射出成形を行うことなどから、コストが高くなる。加えて、回路パターンの線幅を500μm未満に細くすることが困難であり、回路パターンの高密度化を図ることができない。   In addition, although the two-shot mold method is suitable for manufacturing a three-dimensional circuit board having a three-dimensional curved surface shape, a high-precision molding die is required or two injection moldings are performed. As a result, costs increase. In addition, it is difficult to reduce the line width of the circuit pattern to less than 500 μm, and the circuit pattern cannot be densified.

一方、回路フィルム方式のインモールド法では、回路パターンの形成に、種々の工法を適用することができ、樹脂の材料の選定自由度が高く、しかも、回路パターンの線幅を細くすることができて、高密度化された回路パターンが得られる。しかしながら、回路パターンと樹脂成形体との密着の度合い、および、3次元形状への追従性という点で、充分に満足のいくものではない。   On the other hand, in the circuit film type in-mold method, various methods can be applied to the formation of the circuit pattern, the degree of freedom in selecting the resin material is high, and the line width of the circuit pattern can be reduced. Thus, a high-density circuit pattern can be obtained. However, it is not fully satisfactory in terms of the degree of adhesion between the circuit pattern and the resin molded body and the ability to follow a three-dimensional shape.

これらの製法の欠点を解消するものとして、特許文献1には、熱硬化性樹脂の熱分解温度よりも低く、かつ、成形温度よりも高い融点を有する形成材料により形成された球状成形体の表面に、所定の導体回路パターンを形成し、該球状成形体を、成形型の内周面と所定の空間を保った状態で成形型内に配置し、該空間に、熱硬化性樹脂を充填し、該熱硬化性樹脂を前記成形温度で熱硬化させて熱硬化性樹脂成形体とし、その後、熱硬化性樹脂成形体の内部から前記球状成形体を熔融除去して、立体回路基板を製造することが記載されている。   In order to eliminate the disadvantages of these production methods, Patent Document 1 discloses the surface of a spherical molded body formed of a forming material having a melting point lower than the thermal decomposition temperature of the thermosetting resin and higher than the molding temperature. A predetermined conductor circuit pattern is formed, and the spherical molded body is disposed in the mold while maintaining a predetermined space with the inner peripheral surface of the mold, and the space is filled with a thermosetting resin. The thermosetting resin is thermoset at the molding temperature to form a thermosetting resin molding, and then the spherical molding is melted and removed from the thermosetting resin molding to produce a three-dimensional circuit board. It is described.

しかし、これらの射出成型法を用いるいずれの製法においては、工程が長く、高価な金型を使用し、厚さの薄い成形体が得られにくいという射出成形法自体に起因する問題点は解決されない。また、回路パターンの線幅は100μm程度が限界であり、回路パターンの高密度化を図るためには必ずしも十分とはいえない。さらに、無電解めっきを可能とする樹脂成形体を得る場合には、樹脂成形体の製造用の樹脂に、高価なPdを多量に加えて混練しなければならないという問題点がある。   However, in any of the manufacturing methods using these injection molding methods, the problems caused by the injection molding method itself that a long process, an expensive metal mold, and a thin molded body are difficult to obtain are not solved. . In addition, the line width of the circuit pattern is limited to about 100 μm, which is not necessarily sufficient to increase the density of the circuit pattern. Furthermore, when obtaining a resin molded body capable of electroless plating, there is a problem in that a large amount of expensive Pd must be added to the resin for producing the resin molded body and kneaded.

これに対して、特許文献2には、ABS樹脂、ポリカーポネート、ポリエーテルサルホンなどの非晶質ポリマからなる樹脂フィルムや樹脂シートの表面に、銅や銀で導電部を形成したフィルム状部材と、ABS樹脂、ポリカーポネート、ポリエーテルサルホンなどの非晶質ポリマからなる樹脂フィルムとを、導電部が挟まれるように配置して、ブロー成形またはバキューム成形により、前記フィルム状部材と樹脂フィルムとを密着させて立体に成形し、立体回路基板を得る製法が記載されている。   On the other hand, Patent Document 2 discloses a film form in which a conductive part is formed of copper or silver on the surface of a resin film or a resin sheet made of an amorphous polymer such as ABS resin, polycarbonate, polyethersulfone or the like. A member and a resin film made of an amorphous polymer such as ABS resin, polycarbonate, polyethersulfone, and the like are arranged so that the conductive portion is sandwiched, and the film-like member is formed by blow molding or vacuum molding. A manufacturing method is described in which a resin film is brought into close contact and molded into a three-dimensional shape to obtain a three-dimensional circuit board.

かかる製法では、樹脂フィルムや樹脂シートの表面に、フォトレジスト法等によって、回路パターンをあらかじめ形成するため、回路パターンの高密度化が容易になる。しかし、その後の立体成形工程において、回路パターンを有する樹脂フィルムや樹脂シートに対して、絞り加工等で2方向以上の立体成形を行うと、回路パターンの金属と樹脂との間における伸び率や引張強度の差に起因して、回路パターンを構成する配線が破断してしまうという問題が発生する。   In such a manufacturing method, since the circuit pattern is formed in advance on the surface of the resin film or resin sheet by the photoresist method or the like, it is easy to increase the density of the circuit pattern. However, in the subsequent three-dimensional molding process, if the three-dimensional molding in two or more directions is performed on the resin film or resin sheet having the circuit pattern by drawing or the like, the elongation rate or tension between the metal of the circuit pattern and the resin Due to the difference in strength, there arises a problem that the wiring constituting the circuit pattern is broken.

このような問題を解消するためには、求める立体形状になるように、樹脂フィルムなどの一部をカットし、金属と樹脂との伸びが、相互に追随可能な範囲となるようにして、成形加工を行う必要がある。しかし、樹脂フィルムなどのカットした部分には配線を形成することができず、回路設計において大きな制約となるという問題がある。
特開平09−148712号公報 特開平04−082292号公報
In order to eliminate such problems, a part of the resin film or the like is cut so that the desired three-dimensional shape is obtained, and the elongation of the metal and the resin is within a range that can be traced to each other. It is necessary to perform processing. However, there is a problem that a wiring cannot be formed in a cut portion such as a resin film, which is a great restriction in circuit design.
JP 09-148712 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 04-08292

本発明は、絞り加工等で2方向以上の立体成形を行っても、回路パターンが損傷されない成形加工用回路基板とこれを成形加工して得られる立体回路基板を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a circuit board for molding processing that does not damage a circuit pattern even when three-dimensional molding in two or more directions is performed by drawing or the like, and a three-dimensional circuit board obtained by molding the circuit board.

本発明に係る成形加工用回路基板は、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから選択され、厚さが10〜250μmである、樹脂フィルムからなる第1層と、所望のパターンを有する回路からなる第2層と、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから選択される樹脂フィルムまたはポリエステル、ポリイミド、エポキシ、アクリルから選択される樹脂コート材により構成される樹脂層からなり、厚さが2〜100μmである、樹脂層からなる第3層とが積層し、第1層と第2層との密着強度が390N/m以上であることを特徴とする。 The circuit board for molding processing according to the present invention has a first layer made of a resin film , which is selected from polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and has a thickness of 10 to 250 μm, and a desired pattern. a second layer of circuitry, polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate, resin film or a polyester selected from polyethylene naphthalate, polyimide, epoxy, Ri Do from the resin layer formed of the resin coating material is selected from acrylic A third layer made of a resin layer having a thickness of 2 to 100 μm is laminated, and the adhesion strength between the first layer and the second layer is 390 N / m or more.

前記第1層および第3層は、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、および、ポリエチレンナフタレート(PEN)の内のいずれかからなることが好ましい。   The first layer and the third layer are preferably made of any one of polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), and polyethylene naphthalate (PEN).

本発明では、第2層を第1層の表面に直接形成しており、このため、前記第1層と第2層との間に、Ni、Cr、Co、Mo、W、あるいはこれらを主成分とする合金から選択される合金薄膜からなるシード層が形成されている。このシード層の厚さを50〜1500Åとすることが好ましい。 In the present invention, the second layer is formed directly on the surface of the first layer . For this reason , Ni, Cr, Co, Mo, W, or these are mainly used between the first layer and the second layer. A seed layer made of an alloy thin film selected from alloys as components is formed. The seed layer preferably has a thickness of 50 to 1500 mm.

または、前記第1層の表面に、厚さが0.1〜20μmである、プライマーコートが施されていることが好ましい。第1層の表面にプライマーコートを施す場合に、前記シード層の厚さを、0.1〜20Åとすることが特に好ましい。 Or it is preferable that the primer coat which is 0.1-20 micrometers in thickness is given to the surface of the said 1st layer. When the primer coat is applied to the surface of the first layer, the thickness of the seed layer is particularly preferably 0.1 to 20 mm.

なお、本発明は、前記第2層が、銅からなる成形加工用回路基板に好ましく適用される。   Note that the present invention is preferably applied to a circuit board for molding processing in which the second layer is made of copper.

本発明に係る成形加工用回路基板を用いて、立体的に成形加工することにより、回路パターンに損傷のない立体回路基板が得られる。   By using the circuit board for molding processing according to the present invention to form a three-dimensional shape, a three-dimensional circuit board having no damage to the circuit pattern can be obtained.

本発明の成形加工用回路基板は、樹脂フィルムの第1層と配線の第2層との密着強度が390N/m以上と高いため、容易に、プレス加工や絞り加工を施すことができ、かつ、回路パターンに損傷のない立体回路基板を製造することができることから、電子機器の小型化、多機能化、および、低コスト化に寄与しうる。   The molding circuit board according to the present invention has a high adhesion strength of 390 N / m or more between the first layer of the resin film and the second layer of the wiring, and therefore can be easily subjected to pressing or drawing, and Since a three-dimensional circuit board with no damage to the circuit pattern can be manufactured, it can contribute to downsizing, multi-functionalization, and cost reduction of electronic devices.

本発明では、第1層と第2層との密着強度を390N/m以上とすることが必要である。従って、第1層と第2層との密着強度を390N/m以上にできれば、樹脂フィルムの第1層に接着剤を介して金属箔の第2層を張り合わせ、金属箔の第2層を加工して回路を形成し、その後、回路の第2層の上に、樹脂層を第3層として形成することにより、成形加工用回路基板を製造してもよいし、回路の第2層の形成方法において、樹脂フィルムの第1層の表面に、密着強度が390N/m以上となるように、めっき法で第2層を設けてもよい。   In the present invention, the adhesion strength between the first layer and the second layer needs to be 390 N / m or more. Therefore, if the adhesion strength between the first layer and the second layer can be increased to 390 N / m or more, the second layer of the metal foil is bonded to the first layer of the resin film via an adhesive, and the second layer of the metal foil is processed. Then, a circuit board for molding may be manufactured by forming a resin layer as a third layer on the second layer of the circuit, and then forming the second layer of the circuit. In the method, the second layer may be provided by a plating method on the surface of the first layer of the resin film so that the adhesion strength is 390 N / m or more.

しかしながら、幅100μm以下の配線からなる回路を形成する場合には、得られる回路の信頼性や、電気特性などの観点から、樹脂フィルムの第1層に、直接、金属層を設けることが推奨される。   However, when forming a circuit composed of wiring with a width of 100 μm or less, it is recommended that a metal layer be provided directly on the first layer of the resin film from the viewpoint of the reliability of the obtained circuit and electrical characteristics. The

本発明の成形加工用回路基板は、樹脂フィルムの第1層と金属の第2層との密着をよくするために、金属の第2層を、樹脂フィルムの第1層および樹脂層の第3層によって挟み込むように3層構造とすることにより、金属の第2層に応力が均一にかかるようにして、金属の第2層が破断することなく、立体成形を施す加工を可能としている。   In order to improve the close contact between the first layer of the resin film and the second layer of the metal, the molding circuit board according to the present invention is provided with the second layer of the metal, the third layer of the resin film and the third layer of the resin layer. By adopting a three-layer structure so as to be sandwiched between the layers, it is possible to apply a stress to the second metal layer uniformly and to perform a three-dimensional molding without breaking the second metal layer.

第1層として使用しうる樹脂フィルムとしては、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、および、ポリエチレンナフタレート(PEN)などがあげられる。これらが選択される理由は、例えば、立体回路基板によりアンテナを形成した際に要求される透明性、絶縁性、耐熱性、耐食性などが良好になるためである。ただし、これらの樹脂は、その他、スイッチ基板、キーレスエントリー用基板などの回路基板に採用される用途に使用することができる。 Examples of the resin film that can be used as the first layer include polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), and polyethylene naphthalate (PEN). The reason why these are selected is because, for example, transparency, insulation, heat resistance, corrosion resistance, and the like required when an antenna is formed from a three-dimensional circuit board are improved. However, these resins can also be used for other applications that are employed in circuit boards such as switch boards and keyless entry boards.

第1層の厚さは、フィルムの強度、立体成形時の加工性、その他、立体回路基板の用途などによって決定されるが、10〜250μmとすることが好ましい。   The thickness of the first layer is determined by the strength of the film, processability during three-dimensional molding, and other uses of the three-dimensional circuit board, but is preferably 10 to 250 μm.

回路の第2層として使用できる材質は、アンテナとしての機能を有するものであればよく、その観点からは、導電性のある材料であればよいが、電気特性および回路形成の容易性から、銅、もしくは、リン、銀、錫などを含み銅を主成分とする合金が好ましい。   The material that can be used as the second layer of the circuit is not particularly limited as long as it has a function as an antenna, and from that viewpoint, any conductive material may be used. However, from the viewpoint of electrical characteristics and ease of circuit formation, copper may be used. Alternatively, an alloy containing phosphorus, silver, tin, or the like and containing copper as a main component is preferable.

第2層の厚さは、立体回路基板の用途などによって決定されるが、1〜50μmとすることが好ましい。   The thickness of the second layer is determined depending on the use of the three-dimensional circuit board, but is preferably 1 to 50 μm.

また、第1層の上に、第2層を直接形成する場合、樹脂フィルムの第1層と、回路の第2層との密着強度を確保するため、シード層として、Ni、Cr、Co、Mo、W、あるいはこれらを主成分とする合金の薄膜を、第1層の上に設けることが好ましい。また、第3層と対向する回路の第2層の表面に、変色防止膜を設けても、アンテナの長期使用による変色防止という観点から好ましい。   In addition, when the second layer is directly formed on the first layer, Ni, Cr, Co, and the like are used as seed layers in order to ensure adhesion strength between the first layer of the resin film and the second layer of the circuit. It is preferable to provide a thin film of Mo, W, or an alloy containing these as a main component on the first layer. Further, it is preferable to provide a discoloration preventing film on the surface of the second layer of the circuit facing the third layer from the viewpoint of preventing discoloration due to long-term use of the antenna.

シード層の厚さは、密着力、コストの観点、さらには、立体成形回路の用途により意匠性も考慮して決定されるが、単独で設ける場合には、50〜1500Åとし、プライマーコートを第1層の表面に施す場合には、0.1〜20Åとすることが好ましい。 The thickness of the seed layer, adhesion, cost aspects, further, also the design of the applications of the three-dimensional shaping circuit is determined by considering the case of providing alone, and 50 to 1500 Å, the primer coat When applied to the surface of the first layer, the thickness is preferably 0.1 to 20 mm.

さらに、樹脂フィルムの種類によっては、必要に応じて、第1層の表面にプライマーコートを施すことが好ましい。プライマーコートは、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂の内の少なくとも1種で形成する。アクリル樹脂を用いる場合には、アクリル樹脂が、熱硬化アクリル樹脂または熱可塑性アクリル樹脂の内の少なくとも1種、またはそれらの混合物であり、ウレタン樹脂を用いる場合には、ポリエステル型またはポリエーテル型の内の少なくとも1種、またはそれらの混合物であり、ポリエステル樹脂を用いる場合には、不飽和ポリエステルおよび飽和ポリエステルの内の少なくとも1種、またはそれらの混合物であることが好ましい。これらの樹脂を用いることは、強い密着強度と高い透明性を有することから好ましい。   Further, depending on the type of the resin film, it is preferable to apply a primer coat to the surface of the first layer as necessary. The primer coat is formed of at least one of acrylic resin, urethane resin, and polyester resin. When an acrylic resin is used, the acrylic resin is at least one of a thermosetting acrylic resin or a thermoplastic acrylic resin, or a mixture thereof. When a urethane resin is used, a polyester type or a polyether type is used. In the case of using a polyester resin, at least one of unsaturated polyester and saturated polyester, or a mixture thereof is preferable. It is preferable to use these resins because they have strong adhesion strength and high transparency.

プライマーコートの厚さは、均一で強い密着強度を発現させる観点から、0.1μm以上とすることが好ましい。一方、20μmを超えると、表面の平滑性が悪くなり、第2層の銅が均一に形成できないことや、第1層の材料との曲げ特性の差が大きくなって、不均一な応力がかかり、途中で破断する場合があるため、好ましくない。   The thickness of the primer coat is preferably 0.1 μm or more from the viewpoint of developing uniform and strong adhesion strength. On the other hand, if it exceeds 20 μm, the smoothness of the surface is deteriorated, the copper of the second layer cannot be formed uniformly, and the difference in bending characteristics with the material of the first layer is increased, resulting in uneven stress. This is not preferable because it may break in the middle.

これらのシード層の形成およびプライマーコートの形成は、選択的に行ってもよく、組み合わせて行ってもよい。   The formation of the seed layer and the formation of the primer coat may be performed selectively or in combination.

第3層の樹脂層として使用しうる樹脂としては、立体形状へ成形加工時に、金型によって成形することが可能な樹脂であれば、特に限定されないが、成形加工時に熱を加えて成形する場合があることや、樹脂フィルムの第1層と同様に伸びなければならないため、第1層と同じ材料にするか、または、ガラス転移温度や引張特性が、第1層に近い材料が好ましい。樹脂層の第3層には、ポリイミド、ポリエテールイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)のフィルムまたはポリエステル、ポリイミド、エポキシ、アクリルの樹脂コート材を使用することができる。特に、第1層と第2層との密着強度が390N/m以上であれば、第3層の材質は上記のいずれでもよい。 The resin that can be used as the resin layer of the third layer is not particularly limited as long as it is a resin that can be molded by a mold during molding into a three-dimensional shape, but when it is molded by applying heat during molding In addition, since it must be stretched in the same manner as the first layer of the resin film, it is preferable to use the same material as that of the first layer or a material whose glass transition temperature and tensile properties are close to those of the first layer. For the third layer of the resin layer, a film of polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN) or a resin coating material of polyester, polyimide, epoxy, or acrylic can be used. In particular, if the adhesion strength between the first layer and the second layer is 390 N / m or more, the material of the third layer may be any of the above .

第3層の厚さについても、フィルムまたは樹脂の強度、立体成形時の加工性、その他、立体回路基板の用途などによって決定されるが、2〜100μmとすることが好ましい。   The thickness of the third layer is also determined by the strength of the film or resin, processability during three-dimensional molding, and other uses of the three-dimensional circuit board, but is preferably 2 to 100 μm.

次に、本発明の成形加工用回路基板の一実施例の製造方法について、説明する。本発明の成形加工用回路基板は、例えば以下の工程により製造することができる。   Next, the manufacturing method of one Example of the circuit board for shaping | molding processing of this invention is demonstrated. The circuit board for molding according to the present invention can be manufactured, for example, by the following steps.

(1)樹脂フィルムの第1層の表面に、プライマーコート処理を行う。 (1) A primer coat treatment is performed on the surface of the first layer of the resin film.

プライマーコート処理は、通常、行われている処理でよく、ロールコーター法、スピンコート法などを用いて、均一に樹脂を塗布し、乾燥させればよい。   The primer coating treatment may be a treatment that is usually performed, and may be performed by uniformly applying a resin using a roll coater method, a spin coating method, or the like, and then drying it.

(2)得られたプライマーコートの上に、蒸着法またはスパッタリング法により、シード層を設ける。 (2) A seed layer is provided on the obtained primer coat by vapor deposition or sputtering.

具体的に採用される蒸着法やスパッタリング法の条件は、特に限定されず、既に行われている条件の中から、ターゲットとして用いる金属に合わせて、適宜、選択すればよい。   The conditions of the vapor deposition method and sputtering method specifically employed are not particularly limited, and may be appropriately selected from the already performed conditions according to the metal used as the target.

(3)得られたシード層の上に、さらに、蒸着法、スパッタリング法およびめっき法の内の少なくとも1種類により、導電層を設ける。 (3) A conductive layer is further provided on the obtained seed layer by at least one of vapor deposition, sputtering, and plating.

導電層の材質としては、加工のし易さ、および、配線部の電気特性から、銅とすることが好ましい。蒸着法、スパッタリング法、または、めっき法の具体的条件についても、前述と同様に、既に行われている条件の中から、適宜、選択すればよい。   The material of the conductive layer is preferably copper from the viewpoint of ease of processing and the electrical characteristics of the wiring portion. The specific conditions of the vapor deposition method, the sputtering method, or the plating method may be appropriately selected from the already performed conditions as described above.

(4)得られた導電層とシード層とをパターニングすることにより、所望の回路を形成する。 (4) A desired circuit is formed by patterning the obtained conductive layer and seed layer.

例えば、導電層の表面にフォトレジストをスクリーン印刷し、あるいは、フォトレジストフィルムを貼り合わせ、所望のパターンを有するマスクを用いて露光して現像することにより、エッチングマスクを形成し、得られたエッチングマスクを用いて、導体層とシード層をエッチングする。このような方法は、電子部品であるプリント配線板等の製造に用いられる技術を、そのまま適用することができる。   For example, a photoresist is screen-printed on the surface of the conductive layer, or a photoresist film is bonded, and an etching mask is formed by exposing and developing using a mask having a desired pattern, and etching obtained. The conductor layer and the seed layer are etched using the mask. For such a method, a technique used for manufacturing a printed wiring board, which is an electronic component, can be applied as it is.

(5)樹脂フィルムの第1層とにより回路を挟み込むように、樹脂フィルムまたは樹脂コート材の第3層を設ける。 (5) A third layer of a resin film or a resin coating material is provided so as to sandwich the circuit with the first layer of the resin film.

回路を形成した後、回路の表面側に液状の樹脂コート材を塗布し、乾燥させるか、あるいは、フィルム状の樹脂を貼りつけて、第3層を形成する。   After the circuit is formed, a liquid resin coating material is applied to the surface side of the circuit and dried, or a film-like resin is applied to form the third layer.

以下、図面を用いて、本発明の実施例を具体的に説明する。図1は、本発明の成形加工用回路基板の一実施例を示す断面図である。   Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a molding circuit board according to the present invention.

(実施例1)
第1層(1)として、厚さ38μmのPET製の樹脂フィルム(東レ株式会社製、ルミラー)を用い、その表面に、アクリル樹脂(藤倉化成株式会社製、ET5402)を厚さ1μmで均一に塗布し、乾燥することにより、プライマーコートを施した。次に、蒸着法を用いて、Ni−Cr合金からなる厚さ1500Åのシード層の形成を行った。その後、蒸着法により、厚さ10μmの銅層(2)を形成して、基材を得た。
Example 1
As the first layer (1), a 38 μm thick PET resin film (Lumirror, manufactured by Toray Industries, Inc.) was used, and an acrylic resin (Fujikura Kasei Co., Ltd., ET5402) was uniformly applied to the surface at a thickness of 1 μm. The primer coat was applied by applying and drying. Next, a 1500-thick seed layer made of a Ni—Cr alloy was formed by vapor deposition. Then, the 10-micrometer-thick copper layer (2) was formed with the vapor deposition method, and the base material was obtained.

該基材について、銅層(2)が1mmの線幅に短冊状となるようにフォトエッチング法を施し、得られた部材について、銅層(2)を垂直に引き上げる方法であるJIS C6471に準じて引張試験を実施し、銅層の密着強度を測定した。密着強度の測定には、万能ボンドテスター(デイジー社製、シリーズ4000)を用いた。得られた結果を表1に示す。   The base material is subjected to a photo-etching method so that the copper layer (2) has a strip shape with a line width of 1 mm, and the obtained member conforms to JIS C6471 which is a method of pulling up the copper layer (2) vertically. Then, a tensile test was performed to measure the adhesion strength of the copper layer. A universal bond tester (manufactured by Daisy, series 4000) was used to measure the adhesion strength. The obtained results are shown in Table 1.

前述と同様にして、基材を得た後、銅層(2)の側に、レジストフィルムを貼りつけ、フォトエッチングを施し、1mmの線幅の回路パターン、および、回路パターンの両端に電極を得た。その後、第3層(3)として、厚さ38μmのPET製の樹脂フィルムを接着剤で貼り付けることにより、成形加工用回路基板を得た。   After obtaining the base material in the same manner as described above, a resist film is attached to the copper layer (2) side, photoetching is performed, and a circuit pattern having a line width of 1 mm and electrodes on both ends of the circuit pattern are provided. Obtained. Thereafter, as a third layer (3), a resin film made of PET having a thickness of 38 μm was stuck with an adhesive to obtain a circuit board for molding.

得られた成形加工用回路基板を使用して、図2に平面図を示したように、ダンベル形状のテストピース(4)を、型抜き法により作成し、引張試験を行った。テストピース(4)の形状は、JIS規格のZ220 13Bの規格に沿った。引張試験は、伸び率10%まで引っ張りつつ、両端の電極(4a)から、配線(4b)にサンプルの0.1Aの定電流を流して、電極(4a)の間の電圧の変化を測定し、導通の有無により配線(4b)が破断したか否かを確認することにより行った。引張試験で得られた結果を表1に示す。引張試験の結果は、破断が発生した場合を「×」で示し、破断が発生しなかった場合を「○」で示す。測定には、オートグラフ(株式会社島津製作所製、AGS−J500N)を用いた。引張り強度は、5、10、20mm/minの条件で、それぞれの速度ごとに5サンプル、引張試験を行い、1サンプルでも、伸び率10%で破断が確認された場合、「×」とした。   A dumbbell-shaped test piece (4) was prepared by a die cutting method and a tensile test was performed using the obtained circuit board for molding as shown in the plan view of FIG. The shape of the test piece (4) conformed to the standard of Z220 13B of JIS standard. In the tensile test, a constant current of 0.1 A of the sample was passed through the wiring (4b) from the electrodes (4a) at both ends while pulling up to 10% elongation, and the change in voltage between the electrodes (4a) was measured. This was done by checking whether or not the wiring (4b) was broken depending on the presence or absence of conduction. Table 1 shows the results obtained in the tensile test. The result of the tensile test is indicated by “X” when the fracture occurs, and by “◯” when the fracture does not occur. For the measurement, an autograph (manufactured by Shimadzu Corporation, AGS-J500N) was used. Tensile strength was set to “x” when a tensile test was performed for 5 samples at each speed under conditions of 5, 10 and 20 mm / min, and even one sample was confirmed to be broken at an elongation of 10%.

(実施例2〜6)
第1層および第3層の材質と、第1層への処理を、表1に示したように変更した以外は、実施例1と同様にして、成形加工用回路基板を得て、それぞれの評価を行った。結果を表1に示す。なお、実施例2については、実施例1と同様に、プライマーコートを施したが、実施例3〜6については、シード層のみを形成し、プライマーコートを施さなかった。
(Examples 2 to 6)
Except for changing the material of the first layer and the third layer and the processing to the first layer as shown in Table 1, in the same manner as in Example 1, obtaining the circuit board for molding, Evaluation was performed. The results are shown in Table 1. In addition, about Example 2, primer coating was performed similarly to Example 1, but about Example 3-6, only the seed layer was formed and primer coating was not performed.

(比較例1、2)
第1層および第3層の材質を、表1に示したように変更したことと、第1層への処理を行わなかったこと以外は、実施例1と同様にして、成形加工用回路基板を得て、それぞれの評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Examples 1 and 2)
A circuit board for molding processing in the same manner as in Example 1 except that the materials of the first layer and the third layer were changed as shown in Table 1 and the processing for the first layer was not performed. Each was evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 0004830881
Figure 0004830881

表1より、第1層および第3層の種類とは関係なく、第1層と第2層との密着強度を390N/m以上とすることにより、十分な加工性能を得られることが確認できる。したがって、実施例の成形加工用回路基板を用いて、成形加工することにより、2方向以上の立体成形を施しても、回路パターンが損傷されない立体回路基板が得られることが理解される。   From Table 1, it can be confirmed that sufficient processing performance can be obtained by setting the adhesion strength between the first layer and the second layer to 390 N / m or more regardless of the types of the first layer and the third layer. . Therefore, it is understood that a three-dimensional circuit board in which the circuit pattern is not damaged even if three-dimensional molding in two or more directions is performed by molding using the molding circuit board of the embodiment.

本発明の成形加工用回路基板の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the circuit board for a shaping | molding process of this invention. 引張試験に使用したダンベル形状のテストピースを示す平面図である。It is a top view which shows the dumbbell-shaped test piece used for the tension test.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1層
2 第2層
3 第3層
4 テストピース
4a 電極
4b 配線
1 1st layer 2 2nd layer 3 3rd layer 4 Test piece 4a Electrode 4b Wiring

Claims (6)

ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから選択され、厚さが10〜250μmである、樹脂フィルムからなる第1層と、所望のパターンを有する回路からなる第2層と、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから選択される樹脂フィルムまたはポリエステル、ポリイミド、エポキシ、アクリルから選択される樹脂コート材により構成される樹脂層からなり、厚さが2〜100μmである、第3層とが積層し、前記第1層と第2層との間に、Ni、Cr、Co、Mo、W、あるいはこれらを主成分とする合金から選択される合金薄膜からなり、厚さが0.1〜1500Åである、シード層が形成されており、第1層と第2層との密着強度が390N/m以上であることを特徴とする成形加工用回路基板。 A first layer made of a resin film selected from polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and having a thickness of 10 to 250 μm, a second layer made of a circuit having a desired pattern, polyimide, poly polyetherimides, Ri Do polyethylene terephthalate, a resin film or a polyester selected from polyethylene naphthalate, polyimide, epoxy, resin layer composed of a resin coating material is selected from acrylic and a thickness of 2 to 100 m, the Three layers are laminated, and the first layer and the second layer are made of an alloy thin film selected from Ni, Cr, Co, Mo, W, or an alloy containing these as a main component. a 0.1~1500A, seed layer is formed, the adhesion between the first layer and the second layer Molding circuit board, wherein the degree is 390 N / m or more. 前記第1層の表面に、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂から選択され、厚さが0.1〜20μmである、プライマーコートが施されている請求項1に記載の成形加工用回路基板。 2. The circuit board for molding according to claim 1, wherein the surface of the first layer is coated with a primer coat having a thickness of 0.1 to 20 μm selected from an acrylic resin, a urethane resin, and a polyester resin . 前記シード層の厚さが、50〜1500Åである請求項1または2に記載の成形加工用回路基板。   The circuit board for molding according to claim 1 or 2, wherein the seed layer has a thickness of 50 to 1500 mm. 前記シード層の厚さが、0.1〜20Åである請求項2に記載の成形加工用回路基板。   The circuit board for molding according to claim 2, wherein the seed layer has a thickness of 0.1 to 20 mm. 前記第2層が、銅からなる請求項1〜のいずれかに記載の成形加工用回路基板。 The circuit board for molding according to any one of claims 1 to 4 , wherein the second layer is made of copper. 請求項1〜のいずれかに記載された成形加工用回路基板を成形加工して得られる立体回路基板。 A three-dimensional circuit board obtained by molding the circuit board for molding described in any one of claims 1 to 5 .
JP2007025053A 2007-02-05 2007-02-05 Circuit board for molding and three-dimensional circuit board obtained by molding the same Expired - Fee Related JP4830881B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007025053A JP4830881B2 (en) 2007-02-05 2007-02-05 Circuit board for molding and three-dimensional circuit board obtained by molding the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007025053A JP4830881B2 (en) 2007-02-05 2007-02-05 Circuit board for molding and three-dimensional circuit board obtained by molding the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008192789A JP2008192789A (en) 2008-08-21
JP4830881B2 true JP4830881B2 (en) 2011-12-07

Family

ID=39752617

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007025053A Expired - Fee Related JP4830881B2 (en) 2007-02-05 2007-02-05 Circuit board for molding and three-dimensional circuit board obtained by molding the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4830881B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5717961B2 (en) 2009-12-24 2015-05-13 日本メクトロン株式会社 Method for manufacturing flexible circuit board
JP2012045819A (en) * 2010-08-26 2012-03-08 Sakaiya:Kk Method for producing resin sheet including decorative film layer and metallic film layer
KR101640840B1 (en) * 2014-11-28 2016-07-19 주식회사 아모센스 Method for manufacturing flexible printed circuit board, and flexible printed circuit board manufactured thereby
KR102119604B1 (en) * 2016-07-14 2020-06-08 주식회사 아모센스 Flexible printed circuit board and manufacturing method of the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2747096B2 (en) * 1990-07-24 1998-05-06 北川工業株式会社 Method for manufacturing three-dimensional circuit board
JP3379072B2 (en) * 1993-08-30 2003-02-17 矢崎総業株式会社 Method for manufacturing three-dimensional circuit body
US8642181B2 (en) * 2004-08-23 2014-02-04 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Metal-clad white laminate

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008192789A (en) 2008-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11744014B2 (en) Flexible circuit board
US8287992B2 (en) Flexible board
US11310915B2 (en) Thermoforming an electronic device with surface curvature
KR20080046133A (en) Flexible printed wiring board and method for manufacturing same
JP2014049498A (en) Electromagnetic wave shield film, production method of electromagnetic wave shield film, flexible printed wiring board, and manufacturing method of flexible printed wiring board
JP4830881B2 (en) Circuit board for molding and three-dimensional circuit board obtained by molding the same
US20190281707A1 (en) Method for manufacturing an embedded flexible circuit board
US20070246248A1 (en) Flexible printed circuit board
JP2010238720A (en) Flexible printed wiring board
JP2009141129A (en) Flexible printed wiring board and method of manufacturing the same
JP2000196205A (en) Flexible printed board
KR101518067B1 (en) Multilayer printed wiring board and its manufacturing method
JP2003152301A (en) Printed wiring board and its manufacturing method
CN211831344U (en) Flexible resistance-capacitance composite copper film structure
KR102428884B1 (en) Reinforcing film for ground and composite printed circuit board for shielding electromagenetic wave comprising the same
KR101368043B1 (en) Structure of double-sided flexible printed circuit board
CN114079206B (en) Rigid-flex printed circuit board and circuit connector
EP1665378A1 (en) Chip on flex tape with dimension retention pattern
JP5066718B2 (en) Manufacturing method of flexible printed wiring board
JP2008235346A (en) Flexible printed wiring board
KR20220080974A (en) Resistor and capacitor embedded flexible copper foil structure and printed circuit board strcture using the same
CN115243462A (en) Circuit board and processing method
JPH07170034A (en) Flexible circuit board
CN115696775A (en) Circuit board and method for manufacturing the same
JP2021044349A (en) Method of manufacturing electromagnetic wave shield film and method of manufacturing printed wiring board with electromagnetic wave shield film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090615

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101221

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110221

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110823

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110905

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4830881

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees