KR102425318B1 - Light emitting device and light emitting device including the same - Google Patents

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Abstract

실시예는 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물, 상기 제2 도전형 반도체층의 하부에 배치되는 제2 도전층, 절연층을 사이에 두고 상기 제2 도전층의 하부에 배치되는 제1 도전층, 상기 제1 도전층으로부터 상기 제2 도전층과 제2 도전형 반도체층과 활성층을 관통하고, 상기 제1 도전형 반도체층의 일부에까지 형성된 관통 전극들 및 상기 절연층과 상기 활성층 사이에 배치되는 반사금속 및 상기 반사금속의 일부를 수용하는 공간을 제공하는 단차부를 포함하는 발광소자에 관한 것이다.In the embodiment, a light emitting structure including a first conductivity-type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity-type semiconductor layer, a second conductive layer disposed under the second conductivity-type semiconductor layer, and an insulating layer interposed therebetween A first conductive layer disposed under the conductive layer, through electrodes formed from the first conductive layer through the second conductive layer, the second conductive type semiconductor layer, and the active layer, and formed up to a part of the first conductive type semiconductor layer and a reflective metal disposed between the insulating layer and the active layer and a step portion providing a space for accommodating a portion of the reflective metal.

Description

발광소자 및 이를 포함하는 발광소자 패키지{LIGHT EMITTING DEVICE AND LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING THE SAME}A light emitting device and a light emitting device package including the same

실시예는 발광소자에 관한 것이다.The embodiment relates to a light emitting device.

GaN, AlGaN 등의 3-5 족 화합물 반도체는 넓고 조정이 용이한 밴드 갭 에너지를 가지는 등의 많은 장점으로 인해 광 전자 공학 분야(optoelectronics)와 전자 소자를 위해 등에 널리 사용된다. Group 3-5 compound semiconductors, such as GaN and AlGaN, are widely used in optoelectronics and electronic devices due to their many advantages, such as wide and easily tunable band gap energy.

특히, 반도체의 3-5족 또는 2-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Light Emitting Diode)나 레이저 다이오드와 같은 발광 소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 색을 구현할 수 있으며, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광선도 구현이 가능하며, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 가진다.In particular, light emitting devices such as light emitting diodes or laser diodes using group 3-5 or group 2-6 compound semiconductor materials of semiconductors have developed thin film growth technology and device materials such as red, green, blue, and ultraviolet light. Various colors can be realized, and efficient white light can be realized by using fluorescent materials or combining colors. It has the advantage of being friendly.

따라서, 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등에까지 응용이 확대되고 있다.Accordingly, a light emitting diode backlight that replaces a Cold Cathode Fluorescence Lamp (CCFL) constituting a transmission module of an optical communication means, a backlight of a Liquid Crystal Display (LCD) display device, and white light emission that can replace a fluorescent lamp or incandescent light bulb Applications are expanding to diode lighting devices, automobile headlights and traffic lights.

발광 소자는 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광구조물이 형성되고, 제1 도전형 반도체층과 제2 도전형 반도체층 상에 각각 제1 전극과 제2 전극이 배치된다. 발광 소자는 제1 도전형 반도체층을 통해서 주입되는 전자와 제2 도전형 반도체층을 통해서 주입되는 정공이 서로 만나서 활성층을 이루는 물질 고유의 에너지 밴드에 의해서 결정되는 에너지를 갖는 빛을 방출한다. 활성층에서 방출되는 빛은 활성층을 이루는 물질의 조성에 따라 다를 수 있으며, 청색광이나 자외선(UV) 또는 심자외선(Deep UV) 등일 수 있다.In the light emitting device, a light emitting structure including a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer is formed, and a first electrode and a second electrode are formed on the first conductivity type semiconductor layer and the second conductivity type semiconductor layer, respectively. this is placed The light emitting device emits light having an energy determined by an energy band unique to a material constituting the active layer when electrons injected through the first conductivity type semiconductor layer and holes injected through the second conductivity type semiconductor layer meet each other. The light emitted from the active layer may vary depending on the composition of the material constituting the active layer, and may be blue light, ultraviolet (UV) light, or deep ultraviolet (Deep UV) light.

도 1은 종래의 발광소자를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a conventional light emitting device.

도 1에 도시된 수직형 발광소자는 제2 전극(136) 위에, 제1 도전형 반도체층(122)과 활성층(124) 및 제2 도전형 반도체층(126)을 포함하는 발광 구조물(120)이 배치되고, 상기 제1 도전형 반도체층(122) 상에 제1 전극(132)이 배치된다.The vertical light emitting device shown in FIG. 1 includes a light emitting structure 120 including a first conductivity type semiconductor layer 122 , an active layer 124 and a second conductivity type semiconductor layer 126 on a second electrode 136 . is disposed, and a first electrode 132 is disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 .

제1 도전형 반도체층(122)는 n형 반도체층으로 구비될 수 있고, 제2 도전형 반도체층(126)은 p형 반도체층으로 구비될 수 있다.The first conductivity-type semiconductor layer 122 may be provided as an n-type semiconductor layer, and the second conductivity-type semiconductor layer 126 may be provided as a p-type semiconductor layer.

만일, 활성층(124)에서 자외선 파장 대역의 광이 방출되고 제1 도전형 반도체층(122) 및 제2 도전형 반도체층(126) 각각이 GaN으로 형성된다면, 광은 제1 도전형 반도체층(122) 및 제2 도전형 반도체층(126)에서 흡수되어 광 추출 효율이 악화되는 문제가 있었다.If light of an ultraviolet wavelength band is emitted from the active layer 124 and each of the first conductivity type semiconductor layer 122 and the second conductivity type semiconductor layer 126 is formed of GaN, the light is emitted from the first conductivity type semiconductor layer ( 122) and the second conductivity type semiconductor layer 126, there is a problem in that light extraction efficiency is deteriorated.

또한, 이를 해결하기 위하여 활성층(124)의 하부에 반사금속(미도시)를 인입(Migration)시킬 수 있는데, 인입된 반사금속이 활성층(124)의 메사 영역까지 침투하여 발광소자의 신뢰성이 저하되는 문제가 있었다.In addition, in order to solve this problem, a reflective metal (not shown) may be introduced into the lower portion of the active layer 124 , and the introduced reflective metal penetrates to the mesa region of the active layer 124 and the reliability of the light emitting device is lowered. There was a problem.

또한, 발광소자가 발광함에 따라 발생하는 수분 및 열에 의해 활성층(124)의 하부에 인입된 반사금속이 침투되는 길이가 길어져 인입된 반사금속이 활성층(124)의 메사 영역까지 침투하여 발광소자의 신뢰성이 저하되는 문제가 있었다.In addition, the length of penetration of the reflective metal introduced into the lower portion of the active layer 124 is increased due to moisture and heat generated as the light emitting device emits light, so that the introduced reflective metal penetrates to the mesa region of the active layer 124, so that the reliability of the light emitting device There was a problem with this degradation.

반대로, 전술한 문제를 해결하기 위하여 활성층의 하부에 인입시키는 반사금속의 위치를 메사영역과 소정 거리 이상 이격되게 구비시키는 경우 반사금속에 의해 형성되는 반사면의 면적이 줄어들어 광추출효율이 감소되는 문제가 있었다.Conversely, when the position of the reflective metal introduced under the active layer is spaced apart from the mesa region by a predetermined distance or more to solve the above-mentioned problem, the area of the reflective surface formed by the reflective metal is reduced, thereby reducing the light extraction efficiency. there was

실시 예의 발광소자는 활성층에서 발광한 광이 제1 도전형 반도체층 및 제2 도전형 반도체층에서 흡수되는 것을 방지하여 광 추출 효율이 악화되지 아니하는 발광소자를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.The light emitting device of the embodiment prevents light emitted from the active layer from being absorbed by the first conductivity type semiconductor layer and the second conductivity type semiconductor layer to provide a light emitting device in which light extraction efficiency is not deteriorated. .

또한, 인입된 반사금속이 활성층의 메사 영역까지 침투하여 발광소자의 신뢰성이 저하되는 문제를 방지하는 발광소자를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a light emitting device that prevents a problem that the introduced reflective metal penetrates to the mesa region of the active layer and deteriorates the reliability of the light emitting device.

또한, 발광소자가 발광함에 따라 발생하는 수분 및 열에 의해 활성층(124)의 하부에 인입된 반사금속이 침투되는 길이가 길어져 인입된 반사금속이 활성층(124)의 메사 영역까지 침투하여 발광소자의 신뢰성이 저하되는 문제를 방지하는 발광소자를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.In addition, the length of penetration of the reflective metal introduced into the lower portion of the active layer 124 is increased due to moisture and heat generated as the light emitting device emits light, so that the introduced reflective metal penetrates to the mesa region of the active layer 124, so that the reliability of the light emitting device It is an object to be solved to provide a light emitting device that prevents this degradation problem.

활성층의 하부에 인입시키는 반사금속의 위치를 메사영역과 소정 거리 이상 이격되게 구비시키는 경우 반사금속에 의해 형성되는 반사면의 면적이 줄어들어 광추출효율이 감소되는 문제를 방지하는 발광소자를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.Providing a light emitting device that prevents the problem of reducing light extraction efficiency by reducing the area of the reflective surface formed by the reflective metal when the position of the reflective metal introduced under the active layer is spaced apart from the mesa region by a predetermined distance or more Make it the problem you want to solve.

실시 예의 발광소자는 상술한 문제를 해결하기 위하여, 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물, 상기 제2 도전형 반도체층의 하부에 배치되는 제2 도전층, 절연층을 사이에 두고 상기 제2 도전층의 하부에 배치되는 제1 도전층, 상기 제1 도전층으로부터 상기 제2 도전층과 제2 도전형 반도체층과 활성층을 관통하고, 상기 제1 도전형 반도체층의 일부에까지 형성된 관통 전극들 및 상기 절연층과 상기 활성층 사이에 배치되는 반사금속 및 상기 반사금속의 일부를 수용하는 공간을 제공하는 단차부를 포함하는 발광소자를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In order to solve the above-described problem, the light emitting device of the embodiment includes a light emitting structure including a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer, and a second conductive layer disposed under the second conductivity type semiconductor layer , a first conductive layer disposed under the second conductive layer with an insulating layer interposed therebetween, passing through the second conductive layer, the second conductive type semiconductor layer, and the active layer from the first conductive layer, and the first conductive layer A means for solving the problem to provide a light emitting device including through electrodes formed up to a part of a semiconductor layer, a reflective metal disposed between the insulating layer and the active layer, and a step portion providing a space for accommodating a portion of the reflective metal. do it with

또한, 상기 단차부는 상기 제2 도전층에 배치되는 발광소자를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In addition, as a means of solving the problem, the step portion provides a light emitting device disposed on the second conductive layer.

또한, 상기 단차부는 상기 제2 도전층을 메사식각하여 형성되는 발광소자를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In addition, as a means of solving the problem, the step portion provides a light emitting device formed by mesa-etching the second conductive layer.

또한, 상기 단차부는 상기 반사금속의 바닥면을 기준으로 오목하게 구비되는 오목부 및 상기 오목부의 일면으로부터 돌출된 돌출부를 포함하는 발광소자를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In addition, as a means for solving the problem, the step portion provides a light emitting device including a concave portion provided concavely with respect to a bottom surface of the reflective metal and a protrusion protruding from one surface of the concave portion.

또한, 상기 오목부의 상부면은 평면형상인 발광소자를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In addition, a means for solving the problem is to provide a light emitting device in which the upper surface of the concave portion has a planar shape.

또한, 상기 오목부의 상부면은 상기 활성층을 향하여 오목한 곡면형상인 발광소자를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In addition, as a means for solving the problem, the upper surface of the concave portion is to provide a light emitting device having a curved shape concave toward the active layer.

또한, 상기 돌출부의 하부면은 평면형상인 발광소자를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In addition, the lower surface of the protrusion is to provide a light emitting device having a planar shape as a means of solving the problem.

또한, 상기 돌출부의 하부면은 상기 반사금속을 향하여 볼록한 곡면형상인 발광소자를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In addition, the lower surface of the protrusion is to provide a light emitting device having a convex curved surface shape toward the reflective metal as a means of solving the problem.

또한, 상기 단차부의 높이는 상기 반사금속으로부터 2um이하인 발광소자를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In addition, the height of the step portion is to provide a light emitting device less than 2um from the reflective metal as a means of solving the problem.

또한, 홈이 형성된 도전성 기판 및 상기 도전성 기판의 홈에 적어도 일부가 삽입되어 배치되는 제1 항 내지 제9항 중 어느 한 항의 발광소자를 포함하고, 상기 발광소자의 측면 중 적어도 일부와 바닥면이 상기 도전성 기판에 결합된 발광소자 패키지를 제공하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.In addition, a conductive substrate having a groove and at least a portion of the conductive substrate is inserted into the groove of any one of claims 1 to 9, comprising the light emitting device of any one of claims 1 to 9, wherein at least a part of the side surface and the bottom surface of the light emitting device To provide a light emitting device package coupled to the conductive substrate is a solution to the problem.

실시 예의 발광소자는 활성층에서 발광한 광이 제1 도전형 반도체층 및 제2 도전형 반도체층에서 흡수되는 것을 방지하여 광 추출 효율이 악화되지 아니하는 발광소자를 제공하는 것을 발명의 효과로 한다.The light emitting device of the embodiment prevents light emitted from the active layer from being absorbed by the first conductivity type semiconductor layer and the second conductivity type semiconductor layer to provide a light emitting device that does not deteriorate light extraction efficiency.

또한, 인입된 반사금속이 활성층의 메사 영역까지 침투하여 발광소자의 신뢰성이 저하되는 문제를 방지하는 발광소자를 제공하는 것을 발명의 효과로 한다.In addition, it is an effect of the present invention to provide a light emitting device that prevents a problem that the introduced reflective metal penetrates to the mesa region of the active layer and the reliability of the light emitting device is deteriorated.

또한, 발광소자가 발광함에 따라 발생하는 수분 및 열에 의해 활성층(124)의 하부에 인입된 반사금속이 침투되는 길이가 길어져 인입된 반사금속이 활성층(124)의 메사 영역까지 침투하여 발광소자의 신뢰성이 저하되는 문제를 방지하는 발광소자를 제공하는 것을 발명의 효과로 한다.In addition, the length of penetration of the reflective metal introduced into the lower portion of the active layer 124 is increased due to moisture and heat generated as the light emitting device emits light, so that the introduced reflective metal penetrates to the mesa region of the active layer 124, so that the reliability of the light emitting device It is an effect of the present invention to provide a light emitting device that prevents this deterioration problem.

활성층의 하부에 인입시키는 반사금속의 위치를 메사영역과 소정 거리 이상 이격되게 구비시키는 경우 반사금속에 의해 형성되는 반사면의 면적이 줄어들어 광추출효율이 감소되는 문제를 방지하는 발광소자를 제공하는 것을 발명의 효과로 한다.Providing a light emitting device that prevents the problem of reducing light extraction efficiency by reducing the area of the reflective surface formed by the reflective metal when the position of the reflective metal introduced under the active layer is spaced apart from the mesa region by a predetermined distance or more to the effect of the invention.

도 1은 종래의 발광소자를 나타낸 도면이고,
도 2는 발광소자의 일 실시예를 나타낸 도면이고,
도 3은 발광소자의 다른 실시예를 나타낸 도면이고,
도 4는 도 3의 발광 구조물의 X부분의 다른 실시 예를 상세히 나타낸 도면이고,
도 5a 및 도 5b는 도 2 및 도 3의 발광소자의 상면도이고,
도 6은 발광소자 패키지의 일실시예를 나타낸 도면이다.
1 is a view showing a conventional light emitting device,
2 is a view showing an embodiment of a light emitting device,
3 is a view showing another embodiment of the light emitting device,
Figure 4 is a view showing in detail another embodiment of the X portion of the light emitting structure of Figure 3,
5a and 5b are top views of the light emitting device of FIGS. 2 and 3,
6 is a view showing an embodiment of a light emitting device package.

이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention that can specifically realize the above objects will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 실시예의 설명에 있어서, 각 element의 " 상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 “상(위) 또는 하(아래)(on or under)”으로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiment according to the present invention, in the case where it is described as being formed on "on or under" of each element, on (above) or below (on) or under) includes both elements in which two elements are in direct contact with each other or one or more other elements are disposed between the two elements indirectly. In addition, when expressed as "up (up) or down (on or under)", it may include the meaning of not only the upward direction but also the downward direction based on one element.

실시예들에 따른 발광소자는 수직형 발광소자이되, 제1 도전형 반도체층에 전류를 공급하는 제1 전극이 발광 구조물의 하부에 배치되어 발광 구조물 상부로 방출되는 빛의 반사량을 줄일 수 있으며, 제1 전극은 제2 도전형 반도체층과 활성층을 관통하여 제1 도전형 반도체층에 전기적으로 연결될 수 있다.The light emitting device according to the embodiments is a vertical light emitting device, wherein the first electrode for supplying a current to the first conductive semiconductor layer is disposed under the light emitting structure to reduce the amount of reflection of light emitted to the upper portion of the light emitting structure, The first electrode may pass through the second conductivity-type semiconductor layer and the active layer to be electrically connected to the first conductivity-type semiconductor layer.

도 2는 발광소자의 제1 실시예를 나타낸 도면이다.2 is a view showing a first embodiment of a light emitting device.

본 실시예에 따른 발광소자(200a)는 발광 구조물(220)의 하부에 제2 도전층(236)이 배치되고, 제2 전극의 하부에는 절연층(285)과 제1 도전층(232)이 배치되며, 제1 도전층(232)으로부터 연장된 관통 전극(233)이 발광 구조물(220) 내의 제2 도전형 반도체층(222)과 전기적으로 접촉할 수 있다. 그리고, 제2 도전층(236)의 가장 자리 영역에서 제2 전극(236a, 236b)이 발광 구조물(220)의 가장 자리와 대응하여 배치될 수 있다.In the light emitting device 200a according to the present embodiment, the second conductive layer 236 is disposed under the light emitting structure 220 , and the insulating layer 285 and the first conductive layer 232 are disposed under the second electrode. The through electrode 233 extending from the first conductive layer 232 may be in electrical contact with the second conductive semiconductor layer 222 in the light emitting structure 220 . In addition, in the edge region of the second conductive layer 236 , the second electrodes 236a and 236b may be disposed to correspond to the edge of the light emitting structure 220 .

발광 구조물(220)은 제1 도전형 반도체층(222)과 활성층(224) 및 제2 도전형 반도체층(226)을 포함하여 이루어진다.The light emitting structure 220 includes a first conductivity type semiconductor layer 222 , an active layer 224 , and a second conductivity type semiconductor layer 226 .

제1 도전형 반도체층(222)은 Ⅲ-Ⅴ족, Ⅱ-Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제1 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제1 도전형 반도체층(222)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0≤≤x≤≤1, 0≤≤y≤≤1, 0≤≤x+y≤≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질, AlGaN, GaN, InAlGaN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The first conductivity type semiconductor layer 222 may be implemented with a group III-V or group II-VI compound semiconductor, and may be doped with a first conductivity type dopant. The first conductivity type semiconductor layer 222 has a composition formula of Al x In y Ga (1-xy) N (0≤≤x≤≤1, 0≤≤y≤≤1, 0≤≤x+y≤≤1) A semiconductor material having a, AlGaN, GaN, InAlGaN, AlGaAs, GaP, GaAs, may be formed of any one or more of GaAsP, AlGaInP.

제1 도전형 반도체층(222)이 n형 반도체층인 경우, 제1 도전형도펀트는 Si, Ge, Sn, Se, Te 등과 같은 n형 도펀트를 포함할 수 있다. 제1 도전형 반도체층(222)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.When the first conductivity-type semiconductor layer 222 is an n-type semiconductor layer, the first conductivity-type dopant may include an n-type dopant such as Si, Ge, Sn, Se, Te, or the like. The first conductivity type semiconductor layer 222 may be formed as a single layer or a multilayer, but is not limited thereto.

활성층(224)은 제1 도전형 반도체층(222)과 제2 도전형 반도체층(226) 사이에 배치되며, 단일 우물 구조(Double Hetero Structure), 다중 우물 구조, 단일 양자 우물 구조, 다중 양자 우물(MQW:Multi Quantum Well) 구조, 양자점 구조 또는 양자선 구조 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The active layer 224 is disposed between the first conductivity type semiconductor layer 222 and the second conductivity type semiconductor layer 226 , and has a single well structure, a multiple well structure, a single quantum well structure, and a multiple quantum well. It may include any one of a (MQW: Multi Quantum Well) structure, a quantum dot structure, or a quantum wire structure.

활성층(224)은 Ⅲ-Ⅴ족 원소의 화합물 반도체 재료를 이용하여 우물층과 장벽층, 예를 들면 AlGaN/AlGaN, InGaN/GaN, InGaN/InGaN, AlGaN/GaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지는 않는다. 이때, 우물층은 장벽층의 에너지 밴드 갭보다 작은 에너지 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.The active layer 224 uses a III-V group element compound semiconductor material to form a well layer and a barrier layer, for example, AlGaN/AlGaN, InGaN/GaN, InGaN/InGaN, AlGaN/GaN, InAlGaN/GaN, GaAs (InGaAs). /AlGaAs, GaP (InGaP) / may be formed of any one or more pair structure of AlGaP, but is not limited thereto. In this case, the well layer may be formed of a material having an energy band gap smaller than that of the barrier layer.

제2 도전형 반도체층(226)은 반도체 화합물로 형성될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(226)은 Ⅲ-Ⅴ족, Ⅱ-Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제2 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(226)은 예컨대, InxAlyGa1 -x- yN (0≤≤x≤≤1, 0≤≤y≤≤1, 0≤≤x+y≤≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질, AlGaN, GaNAlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The second conductivity type semiconductor layer 226 may be formed of a semiconductor compound. The second conductivity type semiconductor layer 226 may be implemented with a group III-V or group II-VI compound semiconductor, and may be doped with a second conductivity type dopant. The second conductivity type semiconductor layer 226 is, for example, In x Al y Ga 1 -x- y N ( 0≤≤x≤≤1 , 0≤≤y≤≤1, 0≤≤x+y≤≤1) It may be formed of any one or more of a semiconductor material having a composition formula of AlGaN, GaNAlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, and AlGaInP.

제2 도전형 반도체층(226)이 p형 반도체층인 경우, 제2 도전형 도펀트는 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등과 같은 p형 도펀트일 수 있다. 제2 도전형 반도체층(226)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.When the second conductivity-type semiconductor layer 226 is a p-type semiconductor layer, the second conductivity-type dopant may be a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr, or Ba. The second conductivity type semiconductor layer 226 may be formed as a single layer or a multilayer, but is not limited thereto.

도시되지는 않았으나, 활성층(224)과 제2 도전형 반도체층(226)의 사이에는 전자 차단층(Electron blocking layer)가 배치될 수 있다. 전자 차단층은 초격자(superlattice) 구조로 이루어질 수 있는데, 초격자는 예를 들어 제2 도전형 도펀트로 도핑된 AlGaN이 배치될 수 있고, 알루미늄의 조성비를 달리하는 GaN이 층(layer)을 이루어 복수 개 서로 교번하여 배치될 수도 있다.Although not shown, an electron blocking layer may be disposed between the active layer 224 and the second conductivity type semiconductor layer 226 . The electron blocking layer may have a superlattice structure. In the superlattice, for example, AlGaN doped with a second conductivity type dopant may be disposed, and GaN having a different composition ratio of aluminum is formed as a layer. A plurality may be alternately disposed with each other.

제1 도전형 반도체층(222)의 표면이 도시된 바와 같이 요철을 이루어 광추출 효율을 향상시킬 수 있다.The surface of the first conductivity-type semiconductor layer 222 may be uneven as shown to improve light extraction efficiency.

제2 도전형 반도체층(226)의 하부에는 제2 도전층(236)이 배치될 수 있다. 제2 도전층(236)은 제2 도전형 반도체층(226)과 면접촉하며 배치되되, 관통 전극(233)이 형성된 영역에서는 그러하지 않을 수 있다. 그리고, 제2 도전층(236)의 가장 자리는 제2 도전형 반도체층(226)의 가장 자리보다 더 외곽에 배치될 수 있는데, 제2 전극 패드(236a, 236b)가 배치될 영역을 확보하기 위함이다.A second conductive layer 236 may be disposed under the second conductivity-type semiconductor layer 226 . The second conductive layer 236 may be disposed to be in surface contact with the second conductive semiconductor layer 226 , but not in the region where the through electrode 233 is formed. In addition, the edge of the second conductive layer 236 may be disposed more outside than the edge of the second conductive type semiconductor layer 226 . In order to secure a region where the second electrode pads 236a and 236b are disposed it is for

제2 전극(236)은 도전성 물질로 이루어질 수 있고, 상세하게는 금속으로 이루어질 수 있으며, 보다 상세하게는 은(Ag), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu), 금(Au) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다.The second electrode 236 may be made of a conductive material, specifically, a metal, and more specifically, silver (Ag), aluminum (Al), titanium (Ti), chromium (Cr), nickel (Ni). ), copper (Cu), and gold (Au) including at least one may be formed in a single-layer or multi-layer structure.

발광 구조물(220)의 둘레에는 패시베이션층(280)이 형성될 수 있는데, 패시베이션층(280)은 절연물질로 이루어질 수 있으며, 절연물질은 비전도성인 산화물이나 질화물로 이루어질 수 있다. 일 예로서, 패시베이션층(280)은 실리콘 산화물(SiO2)층, 산화 질화물층, 산화 알루미늄층으로 이루어질 수 있다.A passivation layer 280 may be formed around the light emitting structure 220 . The passivation layer 280 may be formed of an insulating material, and the insulating material may be formed of a non-conductive oxide or nitride. As an example, the passivation layer 280 may include a silicon oxide (SiO 2 ) layer, an oxynitride layer, and an aluminum oxide layer.

패시베이션층(280)은 발광 구조물(200)의 둘레와, 상술한 제2 도전형 반도체층(226)의 가장 자리보다 더 외곽에 배치된 제2 도전층(236)의 가장 자리 상에도 배치될 수 있다. 제2 도전층(236)의 가장 자리 상에 배치된 패시베이션층(280)은 제2 전극 패드(236a, 236b)가 형성된 영역에서는 오픈(open)될 수 있다.The passivation layer 280 may be disposed on the periphery of the light emitting structure 200 and also on the edge of the second conductive layer 236 disposed outside the edge of the second conductive semiconductor layer 226 described above. have. The passivation layer 280 disposed on the edge of the second conductive layer 236 may be open in the region where the second electrode pads 236a and 236b are formed.

제2 도전층(236)의 하부에는 절연층(285)을 사이에 두고 제1 도전층(232)이 배치될 수 있으며, 제1 도전층(232)은 도전성 물질로 이루어질 수 있고, 상세하게는 금속으로 이루어질 수 있으며, 보다 상세하게는 은(Ag), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu), 금(Au) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다.A first conductive layer 232 may be disposed under the second conductive layer 236 with an insulating layer 285 interposed therebetween, and the first conductive layer 232 may be made of a conductive material, in detail It may be made of a metal, and more specifically, including at least one of silver (Ag), aluminum (Al), titanium (Ti), chromium (Cr), nickel (Ni), copper (Cu), and gold (Au). It may be formed in a single-layer or multi-layer structure.

제1 전극(232)으로부터 상부로 연장되어 복수 개의 관통 전극(233)들이 배치되는데, 관통 전극(233)들은 절연층(285)과 제2 전극(236)과 제2 도전형 반도체층(226)과 활성층(234)을 관통하고, 제1 도전형 반도체층(222)의 일부에까지 연장되어, 관통 전극(233)의 상부면이 제1 도전형 반도체층(222)과 면접촉할 수 있다.A plurality of through electrodes 233 are disposed extending upward from the first electrode 232 . The through electrodes 233 include an insulating layer 285 , a second electrode 236 , and a second conductivity type semiconductor layer 226 . It penetrates through the active layer 234 and extends to a portion of the first conductivity type semiconductor layer 222 , so that the upper surface of the through electrode 233 may make surface contact with the first conductivity type semiconductor layer 222 .

각각의 관통 전극(233)의 단면은 원형이거나 다각형일 수 있다. 상술한 절연층(285)은 관통 전극(233)의 둘레에 연장되어 배치되어, 관통 전극(233)을 제2 도전층(226), 제2 도전형 반도체층(226) 및 활성층(224)과 전기적으로 절연시킬 수 있다.A cross section of each through electrode 233 may be circular or polygonal. The above-described insulating layer 285 is disposed to extend around the through electrode 233 , and forms the through electrode 233 with the second conductive layer 226 , the second conductivity type semiconductor layer 226 , and the active layer 224 . can be electrically insulated.

제1 도전층(232)의 하부에는 오믹층(240)이 배치될 수 있다.An ohmic layer 240 may be disposed under the first conductive layer 232 .

오믹층(240)은 약 200 옹스트롱의 두께일 수 있다. 오믹층(240)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-GaZnO), IGZO(In-GaZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으며, 이러한 재료에 한정되는 않는다.The ohmic layer 240 may be about 200 angstroms thick. The ohmic layer 240 includes indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium aluminum zinc oxide (IAZO), indium gallium zinc oxide (IGZO), and indium gallium tin oxide (IGTO). ), AZO (aluminum zinc oxide), ATO (antimony tin oxide), GZO (gallium zinc oxide), IZON (IZO Nitride), AGZO (Al-GaZnO), IGZO (In-GaZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO , RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, and Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, It may be formed by including at least one of Hf, but is not limited to these materials.

오믹층의 하부에는 반사 전극으로 작용할 수 있는 반사층(250)이 배치될 수 있다. 반사층(250)은 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 은(Ag), 니켈(Ni), 백금(Pt), 로듐(Rh), 혹은 Al이나 Ag이나 Pt나 Rh를 포함하는 합금을 포함하는 금속층으로 이루어질 수 있다. 알루미늄이나 은 등은 활성층(224)에서 도 2의 하부 방향으로 진행한 빛을 효과적으로 반사하여 반도체 소자의 광추출 효율을 크게 개선할 수 있다.A reflective layer 250 that may act as a reflective electrode may be disposed under the ohmic layer. The reflective layer 250 is made of tungsten (W), titanium (Ti), molybdenum (Mo), aluminum (Al), silver (Ag), nickel (Ni), platinum (Pt), rhodium (Rh), or Al or Ag. It may be formed of a metal layer including an alloy containing Pt or Rh. Aluminum, silver, or the like can effectively reflect the light propagating in the lower direction of FIG. 2 in the active layer 224 to greatly improve the light extraction efficiency of the semiconductor device.

반사층(250)의 폭은 오믹층(240)의 폭보다 좁을 수 있으며, 반사층(250)의 하부에는 채널층(260)이 배치될 수 있다. 채널층(260)의 폭은 반사층(250)의 폭보다 커서 반사층(250)을 감싸며 배치될 수 있다. 채널층(260)은 도전성 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들면 금(Au)이나 주석(Sn)으로 이루어질 수 있다.The width of the reflective layer 250 may be narrower than the width of the ohmic layer 240 , and the channel layer 260 may be disposed under the reflective layer 250 . The width of the channel layer 260 may be greater than the width of the reflective layer 250 to surround the reflective layer 250 . The channel layer 260 may be made of a conductive material, for example, gold (Au) or tin (Sn).

도전성 지지 기판(support substrate, 270)은 금속 또는 반도체 물질 등 도전성 물질로 형성될 수 있다. 전기 전도도 내지 열전도도가 우수한 금속을 사용할 수 있고, 반도체 소자 작동시 발생하는 열을 충분히 발산시킬 수 있어야 하므로 열 전도도가 높은 물질(ex. 금속 등)로 형성될 수 있다. 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 실리콘(Si), 텅스텐(W), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있으며, 또한, 금(Au), 구리합금(Cu Alloy), 니켈(Ni), 구리-텅스텐(Cu-W), 캐리어웨이퍼(예: GaN, Si, Ge, GaAs, ZnO, SiGe, SiC, SiGe, Ga2O3 등) 등을 선택적으로 포함할 수 있다.The conductive support substrate 270 may be formed of a conductive material such as a metal or a semiconductor material. A metal having excellent electrical conductivity or thermal conductivity may be used, and heat generated during operation of a semiconductor device should be sufficiently dissipated, so it may be formed of a material (eg, metal, etc.) having high thermal conductivity. For example, it may be made of a material selected from the group consisting of molybdenum (Mo), silicon (Si), tungsten (W), copper (Cu) and aluminum (Al) or an alloy thereof, and also gold (Au). ), copper alloy (Cu Alloy), nickel (Ni), copper-tungsten (Cu-W), carrier wafer (eg GaN, Si, Ge, GaAs, ZnO, SiGe, SiC, SiGe, Ga 2 O 3 , etc.) and the like may optionally be included.

상기 지지 기판(270)은 전체 질화물 반도체에 휨을 가져오지 않으면서, 스크라이빙(scribing) 공정 및 브레이킹(breaking) 공정을 통하여 별개의 칩으로 잘 분리시키기 위한 정도의 기계적 강도를 가지기 위하여 50 내지 200 마이크로 미터의 두께로 이루어질 수 있다.The support substrate 270 does not cause warpage to the entire nitride semiconductor, and 50 to 200 in order to have a degree of mechanical strength to be well separated into separate chips through a scribing process and a breaking process. It can be made to a thickness of micrometers.

도시되지는 않았으나, 접합층(236) 채널층(260)과 도전성 지지 기판(270)을 결합하는데, 금(Au), 주석(Sn), 인듐(In), 알루미늄(Al), 실리콘(Si), 은(Ag), 니켈(Ni) 및 구리(Cu)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 형성할 수 있다.Although not shown, the bonding layer 236, the channel layer 260 and the conductive support substrate 270 are bonded to each other, and gold (Au), tin (Sn), indium (In), aluminum (Al), silicon (Si) is used. , silver (Ag), nickel (Ni) and copper (Cu) may be formed of a material selected from the group consisting of, or an alloy thereof.

본 실시예에 따른 발광소자(200a)에서 제1 도전층(236)으로부터 관통 전극(233)을 통하여 제1 도전형 반도체층(222)의 전체 영역에 고루 전류가 공급되며, 제2 전극(236)과 면접촉하는 제2 도전형 반도체층(226)에도 전류가 전체 영역에 전류가 고루 공급될 수 있다. 또한, 전극 패드(236a, 236b)가 발광 구조물(220)의 둘레에서 제2 도전층(236)의 상부에 배치되어, 제2 도전층(236)의 전체 영역에 고루 전류가 공급될 수 있다. 따라서, 제1 도전형 반도체층(222)을 통해서 주입되는 전자와 제2 도전형 반도체층(226)을 통해서 주입되는 정공이 활성층(224) 내에서 결합하는 빈도가 증가하여, 활성층(224)으로부터 방출되는 광량이 증가할 수 있다.In the light emitting device 200a according to the present embodiment, a current is uniformly supplied from the first conductive layer 236 to the entire region of the first conductive semiconductor layer 222 through the through electrode 233, and the second electrode 236 ) and the current may be uniformly supplied to the entire region of the second conductivity type semiconductor layer 226 in surface contact. In addition, electrode pads 236a and 236b are disposed on the second conductive layer 236 around the light emitting structure 220 , so that a current can be uniformly supplied to the entire area of the second conductive layer 236 . Accordingly, the frequency in which electrons injected through the first conductivity type semiconductor layer 222 and holes injected through the second conductivity type semiconductor layer 226 combine in the active layer 224 increases, and The amount of emitted light may increase.

도 3은 발광소자의 다른 실시 예를나타낸 도면이다.3 is a view showing another embodiment of a light emitting device.

도 3을 참조하면, 실시 예의 발광소자는 상부를 향하여 소정높이 돌출되게 구비되는 관통전극(233), 관통전극(233)의 외주면에 배치되어 관통전극(233)을 제2 도전층(236)으로부터 절연시키는 절연층(285) 및 절연층(285)의 일면에 배치되어 활성층(224)에서 발광하는 광을 반사시키는 반사금속(285A)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3 , in the light emitting device of the embodiment, a through electrode 233 provided to protrude upward by a predetermined height, is disposed on an outer circumferential surface of the through electrode 233 to separate the through electrode 233 from the second conductive layer 236 . The insulating layer 285 to insulate and a reflective metal 285A disposed on one surface of the insulating layer 285 to reflect light emitted from the active layer 224 may be included.

일반적으로 발광소자는 도 3에 도시된 구조와 반대순서대로 적층되도록 제작된다.In general, the light emitting device is manufactured to be stacked in the reverse order to the structure shown in FIG. 3 .

보다 자세하게는, 실시 예의 발광소자는 제1 도전층(232)이 가장 하부에 배치되며, 제1 도전층(232)의 상부에 제 2도전층(236)이 적층되며, 제 2도전층(236)의 상부에 순서대로 제2 도전형 반도체층(226), 활성층(224), 제1 도전형 반도체층(222)가 적층되도록 도시되어 있다.More specifically, in the light emitting device of the embodiment, the first conductive layer 232 is disposed at the bottom, the second conductive layer 236 is stacked on the first conductive layer 232 , and the second conductive layer 236 is stacked on top of the first conductive layer 232 . ), the second conductivity type semiconductor layer 226 , the active layer 224 , and the first conductivity type semiconductor layer 222 are sequentially stacked on top of each other.

하지만, 실시 예의 발광소자는 전술한 순서와 역순으로 각 반도체층이 적층되어 메사식각을 한 후에 역방향으로 뒤집어 기판(미도시)과 결합하도록 제작 될 수 있다.However, the light emitting device of the embodiment may be manufactured so that each semiconductor layer is stacked in a reverse order to the above-described order, mesa-etched, and then reversely reversed and combined with a substrate (not shown).

실시 예의 발광소자는 활성층(224)이 메사식각 된 이후에 절연층(285)와 활성층(224)의 사이에 반사금속(285A)를 침투시키는 방식으로 제작될 수 있다.The light emitting device of the embodiment may be manufactured by penetrating the reflective metal 285A between the insulating layer 285 and the active layer 224 after the active layer 224 is mesa-etched.

반사금속(285A)이 자외선을 발광시키는 활성층(224)의 하부에 배치됨으로 인하여 발광소자 내부에 적층된 반도체층에 의해 활성층(224)에서 발광한 광이 흡수되는 것을 방지하여 광 추출 효율을 증가시키는 효과가 있다.Because the reflective metal 285A is disposed under the active layer 224 for emitting ultraviolet light, the light emitted from the active layer 224 is prevented from being absorbed by the semiconductor layer stacked inside the light emitting device, thereby increasing the light extraction efficiency. It works.

도 4는 도 3의 발광 구조물의 X부분의 다른 실시 예를 상세히 나타낸 도면이다.FIG. 4 is a view showing in detail another embodiment of a portion X of the light emitting structure of FIG. 3 .

도 4를 참조하면, 도 3에 배치된 반사금속(285A)가 배치되는 X부분은 적어도 하나 이상의 단차부(2851, 2853)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4 , a portion X on which the reflective metal 285A disposed in FIG. 3 is disposed may include at least one or more step portions 2851 and 2853 .

이는 복수개의 단차부(2851, 2853)을 포함하므로 인하여 침투되는 반사금속(285A)의 이동경로를 증가시켜 활성층(224)의 메사영역까지 침범하는 것을 방지하여 발광소자의 신뢰도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.This increases the movement path of the penetrating reflective metal 285A due to including the plurality of step portions 2851 and 2853 to prevent the intrusion into the mesa region of the active layer 224, thereby improving the reliability of the light emitting device. there is

보다 자세하게는, 상기 단차부(2851, 2853)는 일 면이 반사급속(285A)의 바닥면을 기준으로 상부를 향하여 제1높이(D1)가 되도록 오목하게 구비되는 오목부(2851) 및 오목부(2851)의 일 면으로부터 제2높이(D2)만큼 돌출되도록 구비되는 돌출부(2853)을 포함할 수 있다.In more detail, the step portions 2851 and 2853 are concave portions 2851 and concave portions provided so that one surface becomes a first height D1 toward the top with respect to the bottom surface of the reflection rapid 285A. A protrusion 2853 provided to protrude from one surface of the 2851 by a second height D2 may be included.

제1높이(D1)은 2um이하로 구비되는 것이 바람직하고, 제2높이(D2)는 제1높이(D1)보다는 작도록 구비되는 것이 바람직하다.The first height D1 is preferably provided to be less than 2um, and the second height D2 is preferably provided to be smaller than the first height D1.

제1높이(D1)가 2um를 초과하여 구비되면 활성층(224)를 침범하여 발광소자의 신뢰성을 떨어뜨릴 수 있기 때문이다.This is because if the first height D1 is provided in excess of 2 μm, the active layer 224 may be invaded and the reliability of the light emitting device may be deteriorated.

제2높이(D2)가 제1높이(D1)보다 커지게 되면 절연층(285)과 활성층(224)의 사이에 침투되는 반사금속(285A)이 다음 단차부(2851, 2853)으로 이동하지 못하게 되어 침투되는 반사금속(285A)의 이동경로를 증가시켜 발광소자의 신뢰도를 향상시키려는 효과를 달성하기 어렵기 때문이다.When the second height D2 is greater than the first height D1, the reflective metal 285A penetrating between the insulating layer 285 and the active layer 224 is prevented from moving to the next step portions 2851 and 2853. This is because it is difficult to achieve the effect of improving the reliability of the light emitting device by increasing the movement path of the penetrating reflective metal 285A.

오목부(2851)는 제1너비(W1)를 가지도록 구비될 수 있다. The concave portion 2851 may be provided to have a first width W1.

또한, 오목부(2851)은 적어도 하나 이상 구비될 수 있는데 제1너비(W1)를 갖는 오목부(2851)와 제2너비(W2)를 갖는 오목부(2851)를 모두 포함할 수 있다.In addition, at least one concave portion 2851 may be provided, and may include both the concave portion 2851 having the first width W1 and the concave portion 2851 having the second width W2 .

제1너비(W1)와 제2너비(W2)는 서로 동일하게 구비될 수 있다.The first width W1 and the second width W2 may be the same as each other.

또한, 제1너비(W1)와 제2너비(W2)는 서로 상이하게 구비될 수 있으며 제1너비(W1)는 제2너비(W2)보다 길게 구비될 수 있으며 반대로 제1너비(W1)는 제2너비(W2)보다 짧게 구비될 수도 있다.In addition, the first width W1 and the second width W2 may be provided to be different from each other, the first width W1 may be provided longer than the second width W2, and on the contrary, the first width W1 is It may be provided shorter than the second width W2.

다만, 전술한 오목부(2851)와 돌출부(2853)은 일 실시 예를 도시한 것이며 사용자는 필요에 따라 오목부(2851)와 돌출부(2853)의 형상 및 크기를 변화시킬 수 있으며 이는 본 발명의 권리범위를 제한하지도 아니한다.However, the above-described concave portion 2851 and the protrusion 2853 show an embodiment, and the user may change the shape and size of the concave portion 2851 and the protrusion 2853 as needed, which is the embodiment of the present invention. It does not limit the scope of rights.

예컨대, 실시 예의 오목부(2851)의 일 면은 평면 형상으로 도시되어 있으나, 오목부(2851)의 일 면은 상부를 향하여 오목한 곡면으로 구비될 수도 있다.For example, one surface of the concave portion 2851 in the embodiment is illustrated in a planar shape, but one surface of the concave portion 2851 may be provided as a curved surface concave toward the top.

오목부(2851)의 일 면이 상부를 향하여 오목한 곡면으로 구비됨으로 인하여 보다 많은 양의 반사금속(285A)를 수용할 수 있는 공간을 제공하기 때문에 반사금속(285A)의 이동경로를 보다 길게 증가시킬 수 있는 효과가 있다.Because one surface of the concave portion 2851 is provided with a curved surface concave toward the top, it provides a space that can accommodate a larger amount of the reflective metal 285A, thereby increasing the movement path of the reflective metal 285A longer. can have an effect.

또한, 실시 예의 돌출부(2853)의 일 면은 평면 형상으로 도시되어 있으나 돌출부(2853)의 일 면은 하부를 향하여 볼록한 곡면으로 구비될 수도 있다.In addition, although one surface of the protrusion 2853 in the embodiment is illustrated in a planar shape, one surface of the protrusion 2853 may be provided as a curved surface convex toward the bottom.

돌출부(2853)의 일 면이 하부를 향하여 볼록한 곡면으로 구비됨으로 인하여 엣지(edge)가 없어져 침투되는 반사금속(285A)의 이동경로를 증가시키는 동시에 침투속도를 증가시켜 제작 시간을 단축 시킬 수 있는 효과가 있다.Because one surface of the protrusion 2853 is provided with a convex curved surface toward the bottom, the edge is removed and the movement path of the penetrating reflective metal 285A is increased, while at the same time, the penetration rate is increased to shorten the manufacturing time. there is

도 5a 및 도 5b는 도 2 및 도 3의 발광소자의 상면도이다.5A and 5B are top views of the light emitting device of FIGS. 2 and 3 .

도 5a에서 제1 도전형 반도체층(222)의 하부에 관통 전극(233)들이 배치되는데, 각각의 관통 전극(233)의 둘레에는 절연층(285)이 배치된다. 관통 전극(233)과 절연층(285)은 제1 도전형 반도체층(222)의 하부에 배치되어 상면도에서 보이지 않을 수 있으나, 이해의 편의를 위하여 도시하고 있다.In FIG. 5A , through electrodes 233 are disposed under the first conductivity type semiconductor layer 222 , and an insulating layer 285 is disposed around each of the through electrodes 233 . The through electrode 233 and the insulating layer 285 are disposed under the first conductivity type semiconductor layer 222 and may not be seen in the top view, but are illustrated for convenience of understanding.

패시베이션층(280)보다 외부에 제2 전극(236a, 236b)이 배치된다. 'D' 영역에 배치된 제2 전극(236b)은 폭이 다른 영역에 배치된 제2 전극(236a)보다 큰데, 와이어가 본딩될 영역일 수 있다.The second electrodes 236a and 236b are disposed outside the passivation layer 280 . The second electrode 236b disposed in the 'D' region is larger than the second electrode 236a disposed in other regions having different widths, and may be a region to which a wire is to be bonded.

도 5b에 도시된 상면도는 제2 도전형 반도체층(222)의 표면의 'B' 영역에 요부가 배치되며, 상술한 요부는 관통 전극(233) 들의 사이에 배치될 수 있다.In the top view shown in FIG. 5B , a recess is disposed in a region 'B' of the surface of the second conductivity type semiconductor layer 222 , and the above-described recess may be disposed between the through electrodes 233 .

상술한 실시예들에 따른 발광소자(200a, 200b)들은 제1 도전형 반도체층(222)에 제1 도전층(232)으로부터 연결된 관통 전극(233)이 전영역에 고르게 배치되어, 제1 도전형 반도체층(222)의 전 영역에 고르게 전류가 공급되고, 따라서 발광 구조물(220)의 전 영역에서 전자와 정공의 결합이 원활하게 이루어져서 발광 효율이 향상될 수 있다.In the light emitting devices 200a and 200b according to the above-described embodiments, the through electrode 233 connected from the first conductive layer 232 to the first conductive type semiconductor layer 222 is evenly disposed over the entire region, so that the first conductivity Electric current is uniformly supplied to the entire region of the semiconductor layer 222 , and thus electrons and holes are smoothly combined in the entire region of the light emitting structure 220 , thereby improving luminous efficiency.

도 6은 발광소자 패키지의 일실시예를 나타낸 도면이다.6 is a view showing an embodiment of a light emitting device package.

본 실시예에 따른 발광소자 패키지는 도전성 기판(300)에 홈이 형성되고, 상술한 홈에 상술한 실시예들에 따른 발광소자(200b)가 배치될 수 있다. 발광소자(200b)의 측면 중 적어도 일부와 바닥면은 도전성 기판(300)에 결합될 수 있는데, 솔더(310, solder) 등으로 결합될 수 있다.In the light emitting device package according to the present embodiment, a groove may be formed in the conductive substrate 300 , and the light emitting device 200b according to the above-described embodiments may be disposed in the above-described groove. At least a portion of a side surface and a bottom surface of the light emitting device 200b may be coupled to the conductive substrate 300 , and may be coupled to each other using solder 310 or the like.

도전성 기판(300)의 상부면에는 유전층(320)이 배치되고, 유전층(320)의 상부에는 본딩을 위한 패드(330)가 배치되어, 발광소자(200b)의 하나의 전극과 와이어(340)로 본딩될 수 있다. 그리고, 발광소자(200b)의 다른 전극은 도전성 기판(300)과 결합되며 전기적으로 연결될 수 있다.A dielectric layer 320 is disposed on the upper surface of the conductive substrate 300 , and a pad 330 for bonding is disposed on the dielectric layer 320 , so that one electrode and a wire 340 of the light emitting device 200b are formed. can be bonded. In addition, the other electrode of the light emitting device 200b may be coupled to the conductive substrate 300 and electrically connected thereto.

발광소자(200b)의 둘레에는 몰딩부(350)가 형성되는데, 몰딩부(350)는 발광소자(200b)를 보호하고 발광소자(350)로부터 방출되는 광의 경로를 변경할 수 있다.The molding part 350 is formed around the light emitting device 200b, and the molding part 350 can protect the light emitting device 200b and change the path of light emitted from the light emitting device 350. As shown in FIG.

상술한 발광 소자 패키지에는 발광 소자가 하나 또는 복수 개로 탑재할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.One or a plurality of light emitting devices may be mounted in the above-described light emitting device package, but the present invention is not limited thereto.

이하에서는 상술한 발광 소자 패키지가 배치된 조명 시스템의 일실시예로서, 영상표시장치와 조명장치를 설명한다.Hereinafter, as an embodiment of the lighting system in which the above-described light emitting device package is disposed, an image display device and a lighting device will be described.

실시 예에 따른 발광 소자 패키지는 복수 개가 기판 상에 어레이되며, 발광 소자 패키지에서 방출되는 광의 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트, 형광 시트 등이 배치될 수 있다. 이러한 발광 소자 패키지, 기판, 광학 부재는 백라이트 유닛으로 기능하거나 조명 유닛으로 기능할 수 있으며, 예를 들어, 조명 유닛은 자동차 조명, 야외 조명, 디스플레이 패널의 백라이트 유닛, 지시등이나 신호등 같은 지시 장치, 램프, 가로등을 포함할 수 있다.A plurality of light emitting device packages according to the embodiment may be arranged on a substrate, and optical members such as a light guide plate, a prism sheet, a diffusion sheet, and a fluorescent sheet may be disposed on a path of light emitted from the light emitting device package. Such a light emitting device package, a substrate, and an optical member may function as a backlight unit or function as a lighting unit, for example, the lighting unit may include automotive lighting, outdoor lighting, a backlight unit of a display panel, indicating devices such as indicator lights or traffic lights, lamps , may include street lights.

실시 예에 따른 발광 소자 패키지는 복수 개가 기판 상에 어레이될 수 있고, 발광 소자 패키지의 광 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등이 배치될 수 있다. 이러한 발광 소자 패키지, 기판, 광학 부재는 백라이트 유닛으로 기능할 수 있다.A plurality of light emitting device packages according to the embodiment may be arranged on a substrate, and optical members such as a light guide plate, a prism sheet, a diffusion sheet, etc. may be disposed on a light path of the light emitting device package. Such a light emitting device package, a substrate, and an optical member may function as a backlight unit.

또한, 실시 예에 따른 발광 소자 패키지를 포함하는 표시 장치, 지시 장치, 조명 장치로 구현될 수 있다.In addition, it may be implemented as a display device, an indicator device, and a lighting device including the light emitting device package according to the embodiment.

여기서, 표시 장치는 바텀 커버와, 바텀 커버 상에 배치되는 반사판과, 광을 방출하는 발광 모듈과, 반사판의 전방에 배치되며 발광 모듈에서 발산되는 빛을 전방으로 안내하는 도광판과, 도광판의 전방에 배치되는 프리즘 시트들을 포함하는 광학 시트와, 광학 시트 전방에 배치되는 디스플레이 패널과, 디스플레이 패널과 연결되고 디스플레이 패널에 화상 신호를 공급하는 화상 신호 출력 회로와, 디스플레이 패널의 전방에 배치되는 컬러 필터를 포함할 수 있다. 여기서 바텀 커버, 반사판, 발광 모듈, 도광판, 및 광학 시트는 백라이트 유닛(Backlight Unit)을 이룰 수 있다.Here, the display device includes a bottom cover, a reflecting plate disposed on the bottom cover, a light emitting module emitting light, a light guide plate disposed in front of the reflecting plate and guiding light emitted from the light emitting module in front of the light guide plate An optical sheet including prism sheets disposed thereon, a display panel disposed in front of the optical sheet, an image signal output circuit connected to the display panel and supplying an image signal to the display panel, and a color filter disposed in front of the display panel may include Here, the bottom cover, the reflector, the light emitting module, the light guide plate, and the optical sheet may form a backlight unit.

또한, 조명 장치는 기판과 실시 예에 따른 발광 소자 패키지를 포함하는 광원 모듈, 광원 모듈의 열을 발산시키는 방열체, 및 외부로부터 제공받은 전기적 신호를 처리 또는 변환하여 광원 모듈로 제공하는 전원 제공부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 조명 장치는, 램프, 해드 램프, 또는 가로등을 포함할 수 있다.In addition, the lighting device includes a light source module including a substrate and a light emitting device package according to an embodiment, a heat sink for dissipating heat of the light source module, and a power supply unit that processes or converts an electrical signal provided from the outside and provides it to the light source module may include For example, the lighting device may include a lamp, a head lamp, or a street lamp.

해드 램프는 기판 상에 배치되는 발광 소자 패키지들을 포함하는 발광 모듈, 발광 모듈로부터 조사되는 빛을 일정 방향, 예컨대, 전방으로 반사시키는 리플렉터(reflector), 리플렉터에 의하여 반사되는 빛을 전방으로 굴절시키는 렌즈, 및 리플렉터에 의하여 반사되어 렌즈로 향하는 빛의 일부분을 차단 또는 반사하여 설계자가 원하는 배광 패턴을 이루도록 하는 쉐이드(shade)를 포함할 수 있다.The head lamp is a light emitting module including light emitting device packages disposed on a substrate, a reflector that reflects light emitted from the light emitting module in a predetermined direction, for example, forward, and a lens that refracts light reflected by the reflector forward. , and a shade that blocks or reflects a portion of light reflected by the reflector and directed to the lens to form a light distribution pattern desired by the designer.

이상에서 실시 예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시 예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시 예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In the above, the embodiment has been mainly described, but this is only an example and does not limit the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains are not exemplified above in a range that does not depart from the essential characteristics of the present embodiment. It will be appreciated that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment may be implemented by modification. And the differences related to these modifications and applications should be construed as being included in the scope of the present invention defined in the appended claims.

100, 200a, 200b: 발광소자 120, 220: 발광 구조물
122, 222: 제1 도전형 반도체층 124, 224: 활성층
126, 226: 제2 도전형 반도체층 132: 제1 전극
136: 제2 극 232: 제1 도전층
233: 관통 전극 236: 제2 도전층
236a, 236b: 제2 전극 240: 오믹층
250: 반사층 260: 채널
270: 도전성 지지기판 280: 패시베이션층
285: 절연층 300: 도전성 기판
310: 솔더 320: 유전층
330: 패드 340: 와이어
350: 몰딩부
100, 200a, 200b: light emitting device 120, 220: light emitting structure
122, 222: first conductivity type semiconductor layer 124, 224: active layer
126, 226: second conductivity type semiconductor layer 132: first electrode
136: second pole 232: first conductive layer
233: through electrode 236: second conductive layer
236a, 236b: second electrode 240: ohmic layer
250: reflective layer 260: channel
270: conductive support substrate 280: passivation layer
285: insulating layer 300: conductive substrate
310: solder 320: dielectric layer
330: pad 340: wire
350: molding unit

Claims (10)

제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물;
상기 제2 도전형 반도체층의 하부에 배치되는 제2 도전층;
절연층을 사이에 두고 상기 제2 도전층의 하부에 배치되는 제1 도전층;
상기 제1 도전층으로부터 상기 제2 도전층과 제2 도전형 반도체층과 활성층을 관통하고, 상기 제1 도전형 반도체층의 일부에까지 형성된 관통 전극들; 및
상기 절연층의 일측에 배치되는 반사금속; 및
상기 반사금속의 일부를 수용하는 공간을 제공하는 단차부를 포함하고,
상기 단차부는 상기 제2 도전층에 배치되고,
상기 단차부는,
상기 반사금속의 바닥면을 기준으로 오목하게 구비되는 오목부; 및
상기 오목부의 일면으로부터 돌출되는 돌출부;를 포함하는 발광소자.
a light emitting structure including a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer;
a second conductive layer disposed under the second conductive type semiconductor layer;
a first conductive layer disposed under the second conductive layer with an insulating layer interposed therebetween;
through electrodes passing through the second conductive layer, the second conductive semiconductor layer, and the active layer from the first conductive layer, and formed up to a portion of the first conductive semiconductor layer; and
a reflective metal disposed on one side of the insulating layer; and
and a step portion providing a space for accommodating a portion of the reflective metal,
The step portion is disposed on the second conductive layer,
The step portion,
a concave portion provided to be concave with respect to the bottom surface of the reflective metal; and
A light emitting device comprising a; a protrusion protruding from one surface of the concave portion.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 오목부의 상부면은 평면형상인 발광소자.
The method of claim 1,
The upper surface of the concave portion is a flat light emitting device.
제1 항에 있어서,
상기 오목부의 상부면은 상기 활성층을 향하여 오목한 곡면형상인 발광소자.
The method of claim 1,
The upper surface of the concave portion is a light emitting device having a curved shape concave toward the active layer.
제1 항에 있어서,
상기 돌출부의 하부면은 평면형상인 발광소자.
The method of claim 1,
The lower surface of the protrusion is a flat light emitting device.
제1 항에 있어서,
상기 돌출부의 하부면은 상기 반사금속을 향하여 볼록한 곡면형상인 발광소자.
The method of claim 1,
The lower surface of the protrusion is a light emitting device having a convex curved surface toward the reflective metal.
제1항에 있어서,
상기 단차부의 높이는 상기 반사금속으로부터 2um이하인 발광소자.
According to claim 1,
The height of the step portion is less than 2um from the reflective metal light emitting device.
홈이 형성된 도전성 기판; 및
상기 도전성 기판의 홈에 적어도 일부가 삽입되어 배치되는 제1 항, 제5 항 내지 제9항 중 어느 한 항의 발광소자를 포함하고,
상기 발광소자의 측면 중 적어도 일부와 바닥면이 상기 도전성 기판에 결합된 발광소자 패키지.
a conductive substrate with grooves formed thereon; and
It comprises the light emitting device of any one of claims 1, 5 to 9, wherein at least a portion is inserted into the groove of the conductive substrate and disposed,
A light emitting device package in which at least a portion of a side surface and a bottom surface of the light emitting device are coupled to the conductive substrate.
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