KR102399755B1 - Three-layer film, method for producing three-layer film, laminated plate and printed circuit board - Google Patents

Three-layer film, method for producing three-layer film, laminated plate and printed circuit board Download PDF

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Abstract

이 삼층 필름은, 폴리이미드 수지 필름과, 폴리이미드 수지 필름의 양면에 적층된 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층을 포함하고, 상기 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와 상기 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층의 두께(T2)가, 이하의 관계식 (a) 및 (b)를 만족한다(단, 2개의 T2는 상호 독립적이며, 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다.).
(a) 20 ㎛≤T1≤50 ㎛
(b) 0.3≤T2/T1≤1.5
The three-layer film includes a polyimide resin film and a liquid crystal polymer layer having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group laminated on both sides of the polyimide resin film, the thickness (T1) of the polyimide resin film and the The thickness T2 of the liquid crystal polymer layer having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group satisfies the following relational expressions (a) and (b) (provided that the two T2s are mutually independent and may be the same or different. .).
(a) 20 μm ≤ T1 ≤ 50 μm
(b) 0.3≤T2/T1≤1.5

Description

삼층 필름, 삼층 필름의 제조 방법, 적층판 및 프린트 회로 기판{THREE-LAYER FILM, METHOD FOR PRODUCING THREE-LAYER FILM, LAMINATED PLATE AND PRINTED CIRCUIT BOARD}Three-layer film, manufacturing method of three-layer film, laminated board, and printed circuit board

본 발명은 삼층 필름, 삼층 필름의 제조 방법, 적층판 및 프린트 회로 기판에 관한 것이다.The present invention relates to a three-layer film, a method for producing a three-layer film, a laminate and a printed circuit board.

휴대전화, 퍼스널 컴퓨터, 디지털 가전 등의 전자 기기에 들어가는 프린트 배선판(프린트 기판, 프린트 회로 기판)에는, 절연층 상에 금속층이 설치된 적층체가 이용된다. 이러한 적층체로서는, 예컨대, 금속박 등의 도체로 이루어지는 층과, 절연층으로서 폴리이미드 수지 필름으로 이루어지는 층이 적층된 적층체가 알려져 있다(예컨대 특허문헌 1~2). 또한 특허문헌 3에는, 금속층으로서 동박을 채용하고, 절연층으로서 액정 폴리에스테르 수지층이 적층된 적층체가 기재되어 있다. DESCRIPTION OF RELATED ART The laminated body in which the metal layer was provided on the insulating layer is used for printed wiring boards (printed board, printed circuit board) used in electronic devices, such as a cellular phone, a personal computer, and a digital home appliance. As such a laminated body, the laminated body which laminated|stacked the layer which consists of conductors, such as metal foil, and the layer which consists of a polyimide resin film as an insulating layer, for example is known (for example, patent documents 1-2). Moreover, in patent document 3, copper foil is employ|adopted as a metal layer, and the laminated body in which the liquid crystal polyester resin layer was laminated|stacked as an insulating layer is described.

폴리이미드 수지는 흡수성을 가져 내습성이 뒤떨어진다. 또한, 비열가소성 수지이기 때문에 금속박을 직접 적층시킬 수 없다. 그래서 예컨대 특허문헌 4~5에는, 절연층으로서 액정 폴리머 필름과 폴리이미드 수지의 적층체를 채용한 것이 기재되어 있다. 액정 폴리머 필름으로서는 특허문헌 6~9에 기재된 것을 들 수 있다. 폴리이미드 수지의 흡수 작용은 프린트 배선 기판의 전기 특성에 큰 영향을 주기 때문에, 액정 폴리머 필름의 채용 방법은 프린트 배선 기판의 전기 특성을 양호한 것으로 하는 데에 있어서 중요하다. Polyimide resin has water absorbency and is inferior in moisture resistance. Moreover, since it is a non-thermoplastic resin, metal foil cannot be laminated|stacked directly. Therefore, for example, Patent Documents 4 to 5 describe that a laminate of a liquid crystal polymer film and a polyimide resin is employed as an insulating layer. Examples of the liquid crystal polymer film include those described in Patent Documents 6 to 9. Since the absorption action of the polyimide resin has a great influence on the electrical properties of the printed wiring board, the method of employing the liquid crystal polymer film is important in making the electrical properties of the printed wiring board good.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 2006-008976호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2006-008976 특허문헌 2: 일본 특허 공개 2013-032532호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-032532 특허문헌 3: 일본 특허 공개 2007-106107호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Laid-Open No. 2007-106107 특허문헌 4: 일본 특허 공개 2008-290424호 공보Patent Document 4: Japanese Patent Laid-Open No. 2008-290424 특허문헌 5: 일본 특허 공개 2008-290425호 공보Patent Document 5: Japanese Patent Laid-Open No. 2008-290425 특허문헌 6: 일본 특허 공개 2013-189535호 공보Patent Document 6: Japanese Patent Laid-Open No. 2013-189535 특허문헌 7: 일본 특허 공개 2004-315678호 공보Patent Document 7: Japanese Patent Laid-Open No. 2004-315678 특허문헌 8: 일본 특허 공개 2007-238915호 공보Patent Document 8: Japanese Patent Laid-Open No. 2007-238915 특허문헌 9: 일본 특허 공개 2013-001902호 공보Patent Document 9: Japanese Patent Laid-Open No. 2013-001902

그러나, 프린트 배선 기판에 요구되는 특성이 점점 더 높아져, 프린트 배선 기판에 이용되는 적층체에는 아직 개량의 여지가 있다. However, the characteristics required for a printed wiring board are becoming higher and higher, and there is still room for improvement in a laminate used for a printed wiring board.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 프린트 배선 기판용의 적층체에 이용했을 때에, 치수 안정성과 전기 특성이 우수한 삼층 필름 및 이 삼층 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a three-layer film excellent in dimensional stability and electrical properties when used in a laminate for printed wiring boards, and a method for producing the three-layer film.

본 발명의 제1 양태는, 폴리이미드 수지 필름의 양면에, 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층이 적층되어 있고, 상기 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와 상기 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층의 두께(T2)가, 이하의 관계식 (a) 및 (b)를 만족하는 삼층 필름(단, 2개의 T2는 상호 독립적이며, 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다.)이다. In the first aspect of the present invention, a liquid crystal polymer layer having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group is laminated on both surfaces of a polyimide resin film, and the thickness (T1) of the polyimide resin film and the hydroxycarboxyl group A three-layer film in which the thickness T2 of the liquid crystal polymer layer having an acid as a mesogenic group satisfies the following relational expressions (a) and (b) (provided that the two T2s are mutually independent and may be the same or different. )am.

(a) 20 ㎛≤T1≤50 ㎛(a) 20 ㎛ ≤ T1 ≤ 50 ㎛

(b) 0.3≤T2/T1≤1.5(b) 0.3≤T2/T1≤1.5

본 발명의 제1 양태에 있어서, 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층이 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위를 함유하는 것이 바람직하다. In the first aspect of the present invention, the liquid crystal polymer layer having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group preferably contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid.

본 발명의 제1 양태에 있어서, 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층이, 이하의 구조 단위 (1) 및 (2)를 더 함유하는 것이 바람직하다. In the first aspect of the present invention, the liquid crystal polymer layer having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group preferably further contains the following structural units (1) and (2).

(1) -CO-Ar1-CO-(1) -CO-Ar 1 -CO-

(2) -X-Ar2-Y-(2) -X-Ar 2 -Y-

(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

(3) -Ar3-Z-Ar4-(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -

(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)

본 발명의 제2 양태는, 상기 제1 양태의 삼층 필름이 절연층으로서 이용되고, 이 절연층의 적어도 한쪽 면에 금속층이 형성되어 있는 적층판이다. A second aspect of the present invention is a laminate in which the three-layer film of the first aspect is used as an insulating layer, and a metal layer is formed on at least one surface of the insulating layer.

본 발명의 제2 양태에 있어서, 상기 금속층의 최대 높이(Rz)가 0.5~2.5 ㎛로 형성되어 있는 것이 바람직하다. In the second aspect of the present invention, it is preferable that the maximum height (Rz) of the metal layer is formed in a range of 0.5 to 2.5 µm.

본 발명의 제2 양태에 있어서, 상기 금속층은 구리를 포함하는 것이 바람직하다. In the second aspect of the present invention, the metal layer preferably includes copper.

본 발명의 제3 양태는, 상기 제5 양태의 적층판을 이용한 프린트 회로 기판이다. A 3rd aspect of this invention is a printed circuit board using the laminated board of the said 5th aspect.

본 발명의 제4 양태는, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 폴리이미드 수지 필름 상에 도포하여, 상기 액상 조성물로 상기 폴리이미드 수지 필름을 덮는 액상 조성물 도포 공정과, 상기 액상 조성물 중의 용매를 제거하는 용매 제거 공정과, 가열 처리 공정이 포함되는 삼층 필름의 제조 방법으로서, 상기 액정 폴리머로서, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위와, 이하의 구조 단위 (1) 및 (2)를 함유하는 삼층 필름의 제조 방법이다. A fourth aspect of the present invention is a liquid composition coating step of applying a liquid composition comprising a solvent and a liquid crystal polymer on a polyimide resin film and covering the polyimide resin film with the liquid composition, and a solvent in the liquid composition. A method for producing a three-layer film comprising a solvent removal step to remove and a heat treatment step, wherein as the liquid crystal polymer, a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the following structure A method for producing a three-layer film containing units (1) and (2).

(1) -CO-Ar1-CO-(1) -CO-Ar 1 -CO-

(2) -X-Ar2-Y-(2) -X-Ar 2 -Y-

(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

(3) -Ar3-Z-Ar4-(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -

(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)

본 발명의 제5 양태는, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물 중에 폴리이미드 수지 필름을 함침시켜, 상기 액상 조성물로 상기 폴리이미드 수지 필름을 덮는 함침 공정과, 상기 액상 조성물 중의 용매를 제거하는 용매 제거 공정과, 가열 처리 공정이 포함되는 삼층 필름의 제조 방법으로서, 상기 액정 폴리머로서, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위와, 이하의 구조 단위 (1) 및 (2)를 함유하는 삼층 필름의 제조 방법이다. A fifth aspect of the present invention provides an impregnating step of impregnating a polyimide resin film in a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer to cover the polyimide resin film with the liquid composition, and a solvent for removing the solvent in the liquid composition. A method for producing a three-layer film comprising a removal step and a heat treatment step, wherein, as the liquid crystal polymer, a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the following structural units (1 ) and (2).

(1) -CO-Ar1-CO-(1) -CO-Ar 1 -CO-

(2) -X-Ar2-Y-(2) -X-Ar 2 -Y-

(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

(3) -Ar3-Z-Ar4-(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -

(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)

본 발명의 제6 양태는, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물과, 폴리이미드 수지의 전구체인 폴리아믹산 수지 액상 조성물을 준비하는 공정과, 지지체 상에 상기 액상 조성물, 상기 폴리아믹산 수지 액상 조성물, 상기 액상 조성물을 이 순서로 삼층으로 도포하는 공정과, 상기 삼층의 액상 조성물 중의 용매를 제거하는 용매 제거 공정과, 삼층 필름 형성 공정이 포함되는 삼층 필름의 제조 방법으로서, 상기 액정 폴리머로서, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위와, 이하의 구조 단위 (1) 및 (2)를 함유하는 삼층 필름의 제조 방법이다. A sixth aspect of the present invention provides a process for preparing a liquid composition comprising a solvent and a liquid crystal polymer, and a polyamic acid resin liquid composition that is a precursor of a polyimide resin, the liquid composition and the polyamic acid resin liquid composition on a support; A method for producing a three-layer film comprising a step of applying the liquid composition in three layers in this order, a solvent removal step of removing a solvent in the three-layer liquid composition, and a step of forming a three-layer film, wherein the liquid crystal polymer comprises 2- A method for producing a three-layer film comprising a structural unit derived from hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the following structural units (1) and (2).

(1) -CO-Ar1-CO-(1) -CO-Ar 1 -CO-

(2) -X-Ar2-Y-(2) -X-Ar 2 -Y-

(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

(3) -Ar3-Z-Ar4-(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -

(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)

본 발명에 따르면, 프린트 배선 기판용의 적층체에 이용했을 때에, 치수 안정성과 전기 특성이 우수한 삼층 필름 및 이 삼층 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when it uses for the laminated body for printed wiring boards, the three-layer film excellent in dimensional stability and electrical characteristics, and the manufacturing method of this three-layer film can be provided.

도 1은 본 발명의 삼층 필름을 설명하기 위한 모식도이다.
도 2는 본 발명의 삼층 필름을 이용한 적층체를 설명하기 위한 모식도이다.
도 3은 본 발명의 제3 양태의 삼층 필름의 제조 방법을 설명하기 위한 개략도이다.
1 is a schematic diagram for explaining a three-layer film of the present invention.
2 is a schematic view for explaining a laminate using the three-layer film of the present invention.
3 is a schematic diagram for explaining a method for manufacturing a three-layer film according to a third aspect of the present invention.

≪삼층 필름≫≪Three-layer film≫

우선, 본 발명의 제1 양태인 삼층 필름에 관해서 도 1을 이용하여 설명한다. First, the three-layer film which is a 1st aspect of this invention is demonstrated using FIG.

도 1에, 본 발명의 삼층 필름(20)을 도시한다. 삼층 필름(20)은, 폴리이미드 수지 필름(21)의 양면에 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층(22a 및 22b)이 적층되어 있다. 바꿔 말하면, 삼층 필름(20)은, 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층(22a 및 22b)과, 상기 액정 폴리머층(22a 및 22b)에 끼워진 폴리이미드 수지 필름(21)을 포함한다. 1 shows a three-layer film 20 of the present invention. In the three-layer film 20 , liquid crystal polymer layers 22a and 22b having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group are laminated on both surfaces of a polyimide resin film 21 . In other words, the three-layer film 20 includes liquid crystal polymer layers 22a and 22b having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group, and a polyimide resin film 21 sandwiched between the liquid crystal polymer layers 22a and 22b. do.

삼층 필름(20)은, 폴리이미드 수지 필름(21)의 두께(T1)와 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층(22a 및 22b) 각각의 두께(T2)가, 이하의 관계식 (a) 및 (b)를 만족하고, 2개의 T2(도 1에서의 T2a 및 T2b)는 상호 독립적이며, 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다. In the three-layer film 20, the thickness T1 of the polyimide resin film 21 and the thickness T2 of each of the liquid crystal polymer layers 22a and 22b having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group are expressed by the following relation ( a) and (b) are satisfied, and two T2 (T2a and T2b in FIG. 1) are mutually independent, and may be same or different.

(a) 20 ㎛≤T1≤50 ㎛(a) 20 ㎛ ≤ T1 ≤ 50 ㎛

(b) 0.3≤T2/T1≤1.5(b) 0.3≤T2/T1≤1.5

[폴리이미드 수지 필름][Polyimide Resin Film]

폴리이미드 수지는, 디아민류와 테트라카르복실산이무수물을 출발 원료로 하여, 중축합에 의해서 얻어지는 축합형 폴리이미드이다. 디아민류로서는, 특별히 제한은 없고, 폴리이미드의 합성에 통상 이용되는 방향족 디아민류, 지환식 디아민류, 지방족 디아민류 등을 이용할 수 있다. 디아민류는, 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여 이용하여도 좋다. The polyimide resin is a condensed polyimide obtained by polycondensation using diamines and tetracarboxylic dianhydride as starting materials. There is no restriction|limiting in particular as diamines, The aromatic diamines, alicyclic diamines, aliphatic diamines, etc. which are normally used for the synthesis|combination of a polyimide can be used. Diamines may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

또한, 테트라카르복실산이무수물로서는, 방향족 테트라카르복실산이무수물, 지환식 테트라카르복실산이무수물, 지방족 테트라카르복실산이무수물 등을 이용할 수 있고, 특별히 제한되지 않는다. 테트라카르복실산이무수물은, 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여 이용하여도 좋다. In addition, as tetracarboxylic dianhydride, aromatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, aliphatic tetracarboxylic dianhydride, etc. can be used, and there is no restriction|limiting in particular. Tetracarboxylic dianhydride may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

또한, 상기 디아민류 및 테트라카르복실산이무수물의 적어도 어느 한쪽에 있어서, 불소기나 트리플루오로메틸기, 수산기, 술폰기, 카르보닐기, 복소환, 장쇄 알킬기 등으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 관능기를 하나 혹은 복수 갖고 있어도 좋다. Further, in at least one of the diamines and tetracarboxylic dianhydride, at least one functional group selected from the group consisting of a fluorine group, a trifluoromethyl group, a hydroxyl group, a sulfone group, a carbonyl group, a heterocycle, a long-chain alkyl group, etc. You may have one or more.

이러한 폴리이미드 중에서도, 폴리이미드 수지 필름(21)을 형성한 경우의 기계 강도, 굴곡성의 관점에서, 테트라카르복실산이무수물로서는, 방향족 테트라카르복실산이무수물을 이용하는 것이 바람직하다. Among these polyimides, it is preferable to use aromatic tetracarboxylic dianhydride as the tetracarboxylic dianhydride from the viewpoints of mechanical strength and flexibility when the polyimide resin film 21 is formed.

디아민류에 관해서는, 방향족 디아민류, 지환식 디아민류, 지방족 디아민류를 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋다. Regarding diamines, aromatic diamines, alicyclic diamines, and aliphatic diamines may be used independently and may use 2 or more types together.

또한, 폴리이미드 수지 필름(21)을 형성한 경우의 기계 강도, 굴곡성의 관점에서, 디아민으로서는 방향족 디아민이 바람직하다. Moreover, from a viewpoint of the mechanical strength at the time of forming the polyimide resin film 21, and a flexibility, as diamine, aromatic diamine is preferable.

폴리이미드 수지 필름으로서는, 시판되는 폴리이미드 수지(PI) 필름을 이용할 수 있으며, 예컨대, 우베고산(주) 제조 PI 필름(U-피렉스S, U-피렉스R), 도레듀퐁 제조 PI 필름(캡톤), SKC콜론PI사 제조 PI 필름(IF30, IF70, LV300)을 들 수 있다. As the polyimide resin film, a commercially available polyimide resin (PI) film can be used, for example, a PI film (U-Pyrex S, U-Pyrex R) manufactured by Ube Kosan Co., Ltd., a PI film manufactured by ToleduPont ( Kapton) and SKC Colon PI's PI films (IF30, IF70, LV300) are mentioned.

본 발명에서, 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)는 하기 (a)의 식을 만족한다. In the present invention, the thickness (T1) of the polyimide resin film satisfies the formula of the following (a).

(a) 20 ㎛≤T1≤50 ㎛(a) 20 ㎛ ≤ T1 ≤ 50 ㎛

여기서, 폴리이미드 수지 필름의 두께는, 폴리이미드 수지 필름의 임의의 5개소에서, 접촉식 두께 측정기로 두께를 측정한 평균으로 나타내어지는 값이다. 한편 폴리이미드 수지 필름의 두께를 측정할 때, 직접 접촉식 두께 측정기를 적용하기가 곤란할 때에는, 액정 폴리머층(22a 및 22b) 등, 다른 층이 중첩된 상태에서, 상기와 같이 전체의 두께를 측정하여, 충첩되어 있던 다른 층의 두께(상기와 같은 방법으로 측정한 것)와의 차분을 취함으로써 산출하여도 좋다. Here, the thickness of a polyimide resin film is the value represented by the average which measured the thickness by the contact-type thickness gauge in 5 arbitrary places of a polyimide resin film. On the other hand, when measuring the thickness of the polyimide resin film, when it is difficult to apply a direct contact thickness gauge, in a state in which other layers such as the liquid crystal polymer layers 22a and 22b are overlapped, the overall thickness is measured as described above. Thus, it may be calculated by taking the difference with the thickness of the other overlapping layers (measured in the same manner as above).

본 발명에서, 입수가 용이하다고 하는 관점에서, 폴리이미드 수지 필름의 두께는, 20 ㎛≤T1≤40 ㎛인 것이 바람직하고, 20 ㎛≤T1≤30 ㎛인 것이 보다 바람직하다. In the present invention, from the viewpoint of easy availability, the thickness of the polyimide resin film is preferably 20 µm ≤ T1 ≤ 40 µm, more preferably 20 µm ≤ T1 ≤ 30 µm.

폴리이미드 수지 필름의 두께가 상기 하한치 이상이면, 삼층 필름의 절연 특성과 자세 유지 기능을 확보할 수 있고, 상기 상한치 이하이면, 적절한 유연성을 확보할 수 있다. When the thickness of the polyimide resin film is equal to or greater than the lower limit, the insulating properties and posture maintenance function of the three-layer film can be ensured, and when the thickness is equal to or less than the upper limit, appropriate flexibility can be secured.

[액정 폴리머][Liquid Crystal Polymer]

본 발명의 삼층 필름의 액정 폴리머층에 이용하는 액정 폴리머는, 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머이다. 전형적인 예로서는, 단독의 또는 복수 종의 방향족 히드록시카르복실산을 중합시켜 이루어지는 것, 단독의 또는 복수 종의 방향족 히드록시카르복실산과, 방향족 디카르복실산, 방향족 디올, 방향족 히드록시아민 및 방향족 디아민으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물을 중합(중축합)시켜 이루어지는 것, 및 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르와 방향족 히드록시카르복실산을 중합시켜 이루어지는 것을 들 수 있다. The liquid crystal polymer used for the liquid crystal polymer layer of the three-layer film of the present invention is a liquid crystal polymer having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group. Typical examples are those obtained by polymerizing single or multiple types of aromatic hydroxycarboxylic acids, single or multiple types of aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids, aromatic diols, aromatic hydroxylamines and aromatic diamines. What is formed by polymerizing (polycondensation) at least 1 sort(s) of compound selected from the group which consists of, and what is formed by polymerizing polyester, such as polyethylene terephthalate, and aromatic hydroxycarboxylic acid are mentioned.

히드록시카르복실산에 유래하는 메소겐기는, 특별히 한정되지 않지만, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위를 함유하는 것이 바람직하다. 여기서, 메소겐기란, 액정 분자 중에 포함되는 분자 형상이 막대 형상 또는 판 형상이며 분자의 장쇄를 따라서 강성이 높은 분자쇄를 말한다. 메소겐기는, 액정 폴리머의 주쇄 또는 측쇄 중 어느 한쪽 또는 양쪽에 존재하여도 좋지만, 고내열성을 요구한다면 주쇄에 존재하는 것이 바람직하다. Although the mesogenic group derived from hydroxycarboxylic acid is not specifically limited, It is preferable to contain the structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid. Here, the mesogenic group refers to a molecular chain having a rod-shaped or plate-shaped molecular shape contained in a liquid crystal molecule, and high rigidity along the long chain of the molecule. The mesogenic group may be present in either or both of the main chain or the side chain of the liquid crystal polymer, but if high heat resistance is required, it is preferably present in the main chain.

본 발명에서는, 액정 폴리머는, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위를 함유하는 것이 바람직하다. In the present invention, the liquid crystal polymer preferably contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid.

액정 폴리머는, 하기 (1)로 표시되는 반복 단위(이하, 「반복 단위 (1)」이라고 하는 경우가 있음)를 갖는 것이 바람직하고, 반복 단위 (1)과, 하기 식 (2)로 표시되는 반복 단위(이하, 「반복 단위 (2)」라고 하는 경우가 있음)를 갖는 것이 보다 바람직하다. The liquid crystal polymer preferably has a repeating unit represented by the following (1) (hereinafter sometimes referred to as “repeating unit (1)”), and having a repeating unit (1) and a repeating unit represented by the following formula (2) It is more preferable to have a repeating unit (hereinafter, sometimes referred to as "repeating unit (2)").

(1) -CO-Ar1-CO-(1) -CO-Ar 1 -CO-

(2) -X-Ar2-Y-(2) -X-Ar 2 -Y-

(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

(3) -Ar3-Z-Ar4-(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -

(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)

상기 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

상기 알킬기의 예로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, n-헥실기, 2-에틸헥실기, n-옥틸기 및 n-데실기를 들 수 있고, 그 탄소수는 바람직하게는 1~10이다. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group, n- An octyl group and an n-decyl group are mentioned, The carbon number becomes like this. Preferably it is 1-10.

상기 아릴기의 예로서는, 페닐기, o-톨릴기, m-톨릴기, p-톨릴기, 1-나프틸기 및 2-나프틸기를 들 수 있고, 그 탄소수는 바람직하게는 6~20이다. Examples of the aryl group include a phenyl group, an o-tolyl group, a m-tolyl group, a p-tolyl group, a 1-naphthyl group and a 2-naphthyl group, and the carbon number is preferably 6 to 20.

Ar1~Ar4로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자가 이들 기로 치환되어 있는 경우, 그 수는, Ar1~Ar4로 표시되는 상기 기마다 각각 독립적으로 바람직하게는 2개 이하이며, 보다 바람직하게는 1개이다. When the hydrogen atoms in the group represented by Ar 1 to Ar 4 are substituted with these groups, the number is preferably 2 or less for each group represented by Ar 1 to Ar 4 independently, and more preferably it is one

상기 알킬리덴기의 예로서는, 메틸렌기, 에틸리덴기, 이소프로필리덴기, n-부틸리덴기 및 2-에틸헥실리덴기를 들 수 있고, 그 탄소수는 바람직하게는 1~10이다. As an example of the said alkylidene group, a methylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, n-butylidene group, and 2-ethylhexylidene group are mentioned, The carbon number becomes like this. Preferably it is 1-10.

반복 단위 (1)은 소정의 방향족 디카르복실산에 유래하는 반복 단위이다. 반복 단위 (1)로서는, Ar1이 p-페닐렌기인 것(테레프탈산에 유래하는 반복 단위), Ar1이 m-페닐렌기인 것(이소프탈산에 유래하는 반복 단위), Ar1이 2,6-나프틸렌기인 것(2,6-나프탈렌디카르복실산에 유래하는 반복 단위) 및 Ar1이 디페닐에테르-4,4'-디일기인 것(디페닐에테르-4,4'-디카르복실산에 유래하는 반복 단위)이 바람직하다. The repeating unit (1) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic dicarboxylic acid. As the repeating unit (1), Ar 1 is a p-phenylene group (a repeating unit derived from terephthalic acid), Ar 1 is an m-phenylene group (a repeating unit derived from isophthalic acid), and Ar 1 is 2,6 - a naphthylene group (a repeating unit derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid) and Ar 1 is a diphenylether-4,4'-diyl group (diphenylether-4,4'-dicarboxylic acid) repeating units derived from acids) are preferred.

반복 단위 (2)는 소정의 방향족 디올, 방향족 히드록실아민 또는 방향족 디아민에 유래하는 반복 단위이다. 반복 단위 (2)로서는, Ar2가 p-페닐렌기인 것(히드로퀴논, p-아미노페놀 또는 p-페닐렌디아민에 유래하는 반복 단위) 및 Ar2가 4,4'-비페닐일렌기인 것(4,4'-디히드록시비페닐, 4-아미노-4'-히드록시비페닐 또는 4,4'-디아미노비페닐에 유래하는 반복 단위)이 바람직하다.The repeating unit (2) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic diol, aromatic hydroxylamine or aromatic diamine. As the repeating unit (2), Ar 2 is a p-phenylene group (a repeating unit derived from hydroquinone, p-aminophenol or p-phenylenediamine) and Ar 2 is a 4,4′-biphenylylene group ( A repeating unit derived from 4,4'-dihydroxybiphenyl, 4-amino-4'-hydroxybiphenyl or 4,4'-diaminobiphenyl) is preferable.

반복 단위 (1)의 함유량은, 전체 반복 단위의 합계량(액정 폴리머를 구성하는 각 반복 단위의 질량을 그 각 반복 단위의 식량(式量)으로 나눔으로써, 각 반복 단위의 물질량 상당량(몰)을 구하여, 그들을 합계한 값)에 대하여, 바람직하게는 40 몰% 이하, 보다 바람직하게는 10 몰% 이상 37.5 몰% 이하, 더욱 바람직하게는 20 몰% 이상 37.5 몰% 이하, 보다 더욱 바람직하게는 25 몰% 이상 37.5몰% 이하이다. The content of the repeating unit (1) is determined by dividing the total amount of all repeating units (the mass of each repeating unit constituting the liquid crystal polymer by the food of each repeating unit) value), preferably 40 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 37.5 mol% or less, still more preferably 20 mol% or more and 37.5 mol% or less, still more preferably 25 mol% or more and 37.5 mol% or less.

마찬가지로, 반복 단위 (2)의 함유량은, 전체 반복 단위의 합계량에 대하여, 바람직하게는 40 몰% 이하, 보다 바람직하게는 10 몰% 이상 37.5 몰% 이하, 더욱 바람직하게는 20 몰% 이상 37.5 몰% 이하, 보다 더욱 바람직하게는 25 몰% 이상 37.5 몰% 이하이다. Similarly, the content of the repeating unit (2) is preferably 40 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 37.5 mol% or less, still more preferably 20 mol% or more and 37.5 mol%, based on the total amount of all repeating units. % or less, and still more preferably 25 mol% or more and 37.5 mol% or less.

히드록시카르복실산을 유래로 하는 메소겐기의 함유량은, 전체 반복 단위의 합계량에 대하여, 바람직하게는 55 몰% 이하, 보다 바람직하게는 20 몰% 이상 50 몰% 이하, 더욱 바람직하게는 25 몰% 이상 45 몰% 이하, 보다 더욱 바람직하게는 30 몰% 이상 45 몰% 이하이다. 액정 폴리머에 있어서, 히드록시카르복실산을 유래로 하는 메소겐기의 함유량이 55 몰%보다 높으면, 얻어지는 액정 폴리머는 후술하는 용매에 녹기 어렵게 되는 경향이 있기 때문에, 액정 폴리머층을 얻기 어려운 경향이 있다. The content of the mesogenic group derived from hydroxycarboxylic acid is preferably 55 mol% or less, more preferably 20 mol% or more and 50 mol% or less, still more preferably 25 mol% or less with respect to the total amount of all repeating units. % or more and 45 mol% or less, more preferably 30 mol% or more and 45 mol% or less. In the liquid crystal polymer, when the content of the mesogenic group derived from hydroxycarboxylic acid is higher than 55 mol%, the obtained liquid crystal polymer tends to be difficult to dissolve in a solvent to be described later, so it is difficult to obtain a liquid crystal polymer layer. .

반복 단위 (1)의 함유량과 반복 단위 (2)의 함유량의 비율은, [반복 단위 (1)의 함유량]/[반복 단위 (2)의 함유량](몰/몰)으로 나타내며, 바람직하게는 0.9/1~1/0.9, 보다 바람직하게는 0.95/1~1/0.95, 더욱 바람직하게는 0.98/1~1/0.98이다. The ratio of the content of the repeating unit (1) to the content of the repeating unit (2) is expressed as [content of repeating unit (1)]/[content of repeating unit (2)] (mol/mol), preferably 0.9 /1 to 1/0.9, more preferably 0.95/1 to 1/0.95, still more preferably 0.98/1 to 1/0.98.

한편, 액정 폴리머는, 반복 단위 (1)~(2)를 각각 독립적으로 2종 이상 갖더라도 좋다. 또한, 액정 폴리머는, 반복 단위 (1)~(2) 이외의 반복 단위를 갖더라도 좋지만, 그 함유량은, 전체 반복 단위의 합계량에 대하여, 바람직하게는 0 몰%보다 많고 10 몰% 이하, 보다 바람직하게는 0 몰%보다 많고 5 몰% 이하이다. In addition, the liquid crystal polymer may have 2 or more types each independently of repeating units (1)-(2). Further, the liquid crystal polymer may have repeating units other than the repeating units (1) to (2), but the content thereof is preferably greater than 0 mol% and not more than 10 mol%, based on the total amount of all repeating units. Preferably more than 0 mol% and not more than 5 mol%.

액정 폴리머는, 반복 단위 (2)로서, X와 Y의 어느 한쪽 또는 양쪽이 이미노기인 것을 갖는 것, 즉, 소정의 방향족 히드록실아민에 유래하는 반복 단위와, 방향족 디아민에 유래하는 반복 단위 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 가지면, 용매에 대한 용해성이 우수하기 때문에 바람직하고, 반복 단위 (2)로서, X와 Y의 어느 한쪽 또는 양쪽이 이미노기인 것만을 가지면 보다 바람직하다. The liquid crystal polymer has, as the repeating unit (2), one or both of X and Y being an imino group, that is, a repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxylamine and a repeating unit derived from an aromatic diamine. It is preferable to have either one or both because it is excellent in solubility in a solvent, and it is more preferable to have only one or both of X and Y in which one or both of X and Y are imino groups as repeating unit (2).

액정 폴리머는, 히드록시카르복실산을 유래로 하는 메소겐기와, 반복 단위 (1)~(2)가 랜덤하게 결합한 것이라도 좋고, 액정성을 보이는 것이라면 블록 코폴리머라도 좋다. The liquid crystal polymer may be one in which a mesogenic group derived from hydroxycarboxylic acid and repeating units (1) to (2) are randomly bonded, or a block copolymer may be used as long as it exhibits liquid crystallinity.

액정 폴리머는, 그것을 구성하는 반복 단위에 대응하는 원료 모노머를 용융 중합시키고, 얻어진 중합물(프리폴리머)을 고상 중합시킴으로써 제조하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 내열성이나 강도·강성이 높은 고분자량의 액정 폴리머를 조작성 좋게 제조할 수 있다. 용융 중합은, 촉매의 존재 하에서 행하여도 좋으며, 이 촉매의 예로서는, 아세트산마그네슘, 아세트산제1주석, 테트라부틸티타네이트, 아세트산납, 아세트산나트륨, 아세트산칼륨, 삼산화안티몬 등의 금속 화합물이나, 4-(디메틸아미노)피리딘, 1-메틸이미다졸 등의 함질소 복소환식 화합물을 들 수 있고, 함질소 복소환식 화합물이 바람직하게 이용된다. It is preferable to manufacture a liquid crystal polymer by melt-polymerizing the raw material monomer corresponding to the repeating unit which comprises it, and solid-state-polymerizing the obtained polymer (prepolymer). Thereby, a high molecular weight liquid crystal polymer with high heat resistance, strength, and rigidity can be manufactured with good operability. Melt polymerization may be carried out in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include metal compounds such as magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, potassium acetate, and antimony trioxide, and 4-( Nitrogen-containing heterocyclic compounds, such as dimethylamino) pyridine and 1-methylimidazole, are mentioned, A nitrogen-containing heterocyclic compound is used preferably.

액정 폴리머는, 그 유동 개시 온도가, 바람직하게는 250℃ 이상, 보다 바람직하게는 250℃ 이상 350℃ 이하, 더욱 바람직하게는 260℃ 이상 330℃ 이하이다. 유동 개시 온도가 높을수록 내열성이나 강도·강성이 향상되기 쉽지만, 너무 높으면, 유기 용매에 대한 용해성이 낮아지기 쉽거나, 용액의 점도가 높아지기 쉽거나 한다. The liquid crystal polymer has a flow initiation temperature of preferably 250°C or higher, more preferably 250°C or higher and 350°C or lower, and still more preferably 260°C or higher and 330°C or lower. Heat resistance, strength, and rigidity tend to improve so that a flow initiation temperature is high, but when too high, solubility with respect to an organic solvent becomes low easily or the viscosity of a solution tends to become high.

한편, 유동 개시 온도는, 플로우 온도 또는 유동 온도라고도 불리며, 모세관 레오미터를 이용하여, 9.8 MPa(100 kgf/㎠)의 하중 하에서, 4℃/분의 속도로 온도를 올리면서, 액정 폴리머를 용융시켜, 내경 1 mm 및 길이 10 mm의 노즐로부터 압출할 때에, 4800 Pa·s(48000 포이즈)의 점도를 보이는 온도이며, 액정 폴리머의 분자량의 기준이 되는 것이다(코이데 나오유키(小出 直之) 편, 「액정 폴리머-합성·성형·응용」, 가부시키가이샤CMC, 1987년 6월 5일, p.95 참조). On the other hand, the flow initiation temperature is also called the flow temperature or flow temperature, and using a capillary rheometer, under a load of 9.8 MPa (100 kgf/cm 2 ), while raising the temperature at a rate of 4° C./min, the liquid crystal polymer is melted It is the temperature at which a viscosity of 4800 Pa·s (48000 poise) is exhibited when extruded from a nozzle having an inner diameter of 1 mm and a length of 10 mm, and serves as a standard for molecular weight of liquid crystal polymers (Koide Naoyuki, "Liquid Crystal Polymer - Synthesis, Molding, and Application", CMC, Ltd., June 5, 1987, see p.95).

본 발명에서, 액정 폴리머층은, 상술한 것과 같은 액정 폴리머와 용매를 포함하는 액상 조성물에 의해 형성할 수 있다. 용매로서는 유기 용매가 바람직하고, 유기 용매는, 이용하는 액정 폴리머가 용해 가능한 것, 구체적으로는 50℃에서 1 질량% 이상의 농도([액정 폴리머]/[액정 폴리머+유기 용매])로 용해 가능한 것이, 적절하게 선택하여 이용된다. In the present invention, the liquid crystal polymer layer can be formed of a liquid composition including the above liquid crystal polymer and a solvent. As the solvent, an organic solvent is preferable, and the organic solvent is one in which the liquid crystal polymer to be used is soluble, specifically, one that is soluble in a concentration of 1 mass% or more at 50 ° C ([liquid crystal polymer]/[liquid crystal polymer + organic solvent]); Appropriately selected and used.

유기 용매의 예로서는, 디클로로메탄, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄, 1,1,2,2-테트라클로로에탄, o-디클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소; p-클로로페놀, 펜타클로로페놀, 펜타플루오로페놀 등의 할로겐화페놀; 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르; 아세톤, 시클로헥사논 등의 케톤; 아세트산에틸, γ-부티로락톤 등의 에스테르; 에틸렌카르보네이트, 프로필렌카르보네이트 등의 카르보네이트; 트리에틸아민 등의 아민; 피리딘 등의 함질소 복소환 방향족 화합물; 아세토니트릴, 숙시노니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드계 용매(분자 내에 아미드 결합을 갖는 유기 용매); 테트라메틸요소 등의 요소 화합물; 니트로메탄, 니트로벤젠 등의 니트로 화합물; 디메틸설폭시드, 설포란 등의 황 화합물; 및 헥사메틸인산아미드, 트리n-부틸인산 등의 인 화합물을 들 수 있다. 또한, 이들 유기 용매 중, 2종 이상의 유기 용매를 조합시켜 이용하여도 좋다. Examples of the organic solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane and o-dichlorobenzene; halogenated phenols such as p-chlorophenol, pentachlorophenol and pentafluorophenol; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane; ketones such as acetone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and γ-butyrolactone; carbonates such as ethylene carbonate and propylene carbonate; amines such as triethylamine; nitrogen-containing heterocyclic aromatic compounds such as pyridine; nitriles such as acetonitrile and succinonitrile; amide solvents such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone (organic solvents having an amide bond in the molecule); urea compounds such as tetramethylurea; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; and phosphorus compounds such as hexamethylphosphoric acid amide and trin-butyl phosphoric acid. Moreover, you may use combining 2 or more types of organic solvents among these organic solvents.

유기 용매로서는, 부식성이 낮고, 취급하기 쉬우므로, 비프로톤성 화합물을 주성분으로 하는 용매(비프로톤성 용매), 특히 할로겐 원자를 갖지 않는 비프로톤성 화합물을 주성분으로 하는 용매가 바람직하다. 이 비프로톤성 화합물로서는, 액정 폴리머를 용해하기 쉬우므로, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드계 용매를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 유기 용매 전체에 차지하는 비프로톤성 화합물의 비율은, 바람직하게는 50 질량% 이상 100 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이상 100 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상 100 질량% 이하이다. As the organic solvent, since it has low corrosiveness and is easy to handle, a solvent containing an aprotic compound as a main component (aprotic solvent), particularly a solvent containing an aprotic compound having no halogen atom as a main component, is preferable. As this aprotic compound, since it is easy to melt|dissolve a liquid crystal polymer, it is preferable to use amide solvents, such as N,N- dimethylformamide, N,N- dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone. Moreover, the ratio of the aprotic compound to the whole organic solvent becomes like this. Preferably it is 50 mass % or more and 100 mass % or less, More preferably, it is 70 mass % or more and 100 mass % or less, More preferably, it is 90 mass % or more and 100 mass %. % or less.

또한, 유기 용매로서는, 액정 폴리머를 용해하기 쉬우므로, 쌍극자 모멘트가 3~5(단위: 디바이)인 화합물을 주성분으로 하는 용매가 바람직하고, 상술한 비프로톤성 화합물로서, 쌍극자 모멘트가 3~5인 화합물을 이용하는 것이 보다 바람직하다. In addition, as the organic solvent, since it is easy to dissolve the liquid crystal polymer, a solvent containing a compound having a dipole moment of 3 to 5 (unit: diby) as a main component is preferable. It is more preferable to use a phosphorus compound.

또한, 유기 용매 전체에 차지하는 쌍극자 모멘트가 3~5인 화합물의 비율은, 바람직하게는 50 질량% 이상 100 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이상 100 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상 100 질량% 이하이다. Further, the ratio of the compound having a dipole moment of 3 to 5 in the entire organic solvent is preferably 50 mass% or more and 100 mass% or less, more preferably 70 mass% or more and 100 mass% or less, still more preferably 90 mass% % or more and 100 mass% or less.

비프로톤성 화합물이면서 쌍극자 모멘트가 3~5인 화합물로서는, 디메틸설폭시드(쌍극자 모멘트: 4.1 디바이), N,N-디메틸아세트아미드(3.7 디바이), N,N-디메틸포름아미드(3.9 디바이), N-메틸피롤리돈(4.1 디바이)을 예시할 수 있다. Examples of the aprotic compound and the compound having a dipole moment of 3 to 5 include dimethyl sulfoxide (dipole moment: 4.1 dibi), N,N-dimethylacetamide (3.7 dibi), N,N-dimethylformamide (3.9 dibi), N-methylpyrrolidone (4.1 diby) can be exemplified.

또한, 유기 용매로서는, 제거하기 쉬우므로, 1 기압에서의 비점이 220℃ 이하인 화합물을 주성분으로 하는 용매가 바람직하고, 상술한 비프로톤성 화합물로서, 1 기압에서의 비점이 220℃ 이하인 화합물을 이용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 유기 용매 전체에 차지하는 1 기압에서의 비점이 220℃ 이하인 화합물의 비율은, 바람직하게는 50 질량% 이상 100 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이상 100 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상 100 질량% 이하이다. In addition, as the organic solvent, since it is easy to remove, a solvent containing as a main component a compound having a boiling point of 220°C or lower at 1 atm is preferable. more preferably. Further, the ratio of the compound having a boiling point of 220° C. or less at 1 atm to the entire organic solvent is preferably 50 mass% or more and 100 mass% or less, more preferably 70 mass% or more and 100 mass% or less, still more preferably 90 mass % or more and 100 mass % or less.

비프로톤성 화합물이면서 1 기압에서의 비점이 220℃ 이하인 화합물로서는, N,N-디메틸아세트아미드(비점: 160℃), N,N-디메틸포름아미드(비점: 153℃), N-메틸피롤리돈(비점: 202℃)을 예시할 수 있다. Examples of the aprotic compound and the compound having a boiling point of 220°C or lower at 1 atm include N,N-dimethylacetamide (boiling point: 160°C), N,N-dimethylformamide (boiling point: 153°C), and N-methylpyrroly Don (boiling point: 202°C) can be exemplified.

(액상 조성물)(liquid composition)

액상 조성물 중의 액정 폴리머의 함유량은, 액정 폴리머 및 유기 용매의 합계량에 대하여, 바람직하게는 5 질량% 이상 60 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상 50 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 15 질량% 이상 45 질량% 이하이며, 원하는 점도의 액상 조성물을 얻을 수 있도록 적절하게 조정된다. The content of the liquid crystal polymer in the liquid composition is preferably 5 mass % or more and 60 mass % or less, more preferably 10 mass % or more and 50 mass % or less, still more preferably 15 mass % or more with respect to the total amount of the liquid crystal polymer and the organic solvent. % or more and 45 mass% or less, and is appropriately adjusted so as to obtain a liquid composition having a desired viscosity.

또한, 액상 조성물은, 본 발명의 삼층 필름의 효과를 해치지 않는 범위에서, 충전재, 첨가제, 액정 폴리머 이외의 수지 등의 성분을 1종 이상 포함하여도 좋다. Moreover, the liquid composition may contain 1 or more types of components, such as a resin other than a filler, an additive, and a liquid-crystal polymer, in the range which does not impair the effect of the three-layer film of this invention.

충전재의 예로서는, 실리카, 알루미나, 산화티탄, 티탄산바륨, 티탄산스트론튬, 수산화알루미늄, 탄산칼슘 등의 무기 충전재; 및 레벨링제, 경화 에폭시 수지, 가교 벤조구아나민 수지, 가교 아크릴 수지 등의 유기 충전재를 들 수 있고, 그 함유량은, 액정 폴리머 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0 질량부 이상 100 질량부 이하이다. Examples of the filler include inorganic fillers such as silica, alumina, titanium oxide, barium titanate, strontium titanate, aluminum hydroxide, and calcium carbonate; and organic fillers such as a leveling agent, a cured epoxy resin, a crosslinked benzoguanamine resin, and a crosslinked acrylic resin, and the content thereof is preferably 0 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the liquid crystal polymer. .

첨가제의 예로서는, 레벨링제, 소포제, 산화방지제, 자외선흡수제, 난연제 및 착색제를 들 수 있고, 그 함유량은, 액정 폴리머 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0 질량부 이상 5 질량부 이하이다. Examples of the additive include a leveling agent, an antifoaming agent, an antioxidant, a ultraviolet absorber, a flame retardant, and a colorant, and the content thereof is preferably 0 parts by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the liquid crystal polymer.

액정 폴리머 이외의 수지의 예로서는, 폴리프로필렌, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술피드, 폴리에테르케톤, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리페닐렌에테르 및 그 변성물, 폴리에테르이미드 등의 액정 폴리머 이외의 열가소성 수지; 글리시딜메타크릴레이트와 폴리에틸렌과의 공중합체 등의 엘라스토머; 및 페놀 수지, 에폭시 수지, 시아네이트 수지 등의 열경화성 수지를 들 수 있고, 그 함유량은, 액정 폴리머 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0 질량부 이상 20 질량부 이하이다. Examples of the resin other than the liquid crystal polymer include polypropylene, polyamide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether ketone, polycarbonate, polyether sulfone, polyphenylene ether and modified products thereof, and liquid crystal polymers such as polyetherimide of thermoplastics; Elastomers, such as a copolymer of glycidyl methacrylate and polyethylene; and thermosetting resins such as a phenol resin, an epoxy resin, and a cyanate resin, and the content thereof is preferably 0 parts by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the liquid crystal polymer.

액상 조성물은, 액정 폴리머, 유기 용매 및 필요에 따라서 이용되는 다른 성분을, 일괄적으로 또는 적당한 순서로 혼합함으로써 조제할 수 있다. 다른 성분으로서 충전재를 이용하는 경우는, 액정 폴리머를 유기 용매에 용해시켜, 액상 조성물을 얻은 후, 이 액상 조성물에 충전재를 분산시킴으로써 조제하는 것이 바람직하다. A liquid composition can be prepared by mixing a liquid crystal polymer, an organic solvent, and other components used as needed collectively or in an appropriate order. When using a filler as another component, after dissolving a liquid crystal polymer in an organic solvent and obtaining a liquid composition, it is preferable to prepare by dispersing a filler in this liquid composition.

본 발명에서, 액정 폴리머층의 두께(T2)는, 상기 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와의 관계에 있어서 하기 식 (b)를 만족한다. In the present invention, the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer satisfies the following formula (b) in relation to the thickness (T1) of the polyimide resin film.

(b) 0.3≤T2/T1≤1.5(b) 0.3≤T2/T1≤1.5

본 발명에서, 「액정 폴리머층의 두께」란, 폴리이미드 수지 필름의 양면에 적층된 액정 폴리머층의 각각의 두께를 의미한다. 구체적으로는, 도 1에서의 T2a 및 T2b의 각각이 상기 식 (b)를 만족한다. In the present invention, the "thickness of the liquid crystal polymer layer" means each thickness of the liquid crystal polymer layer laminated on both surfaces of the polyimide resin film. Specifically, each of T2a and T2b in FIG. 1 satisfies the above formula (b).

여기서, 액정 폴리머층의 두께는, 액정 폴리머층의 임의의 5개소에서, 접촉식 두께 측정기로 두께를 측정한 평균으로 나타내어지는 값이다. 한편 액정 폴리머층의 두께를 측정할 때, 직접 접촉식 두께 측정기를 적용하기가 곤란할 때에는, 폴리이미드 수지 필름 등의 다른 층이 중첩된 상태에서, 상기와 같이 전체의 두께를 측정하여, 충첩되어 있던 다른 층의 두께(상기와 같은 방법으로 측정한 것)와의 차분을 취함으로써 산출하여도 좋다. Here, the thickness of the liquid crystal polymer layer is a value expressed as an average of thicknesses measured with a contact thickness gauge at five arbitrary locations of the liquid crystal polymer layer. On the other hand, when measuring the thickness of the liquid crystal polymer layer, when it is difficult to apply a direct contact thickness gauge, in a state in which other layers such as polyimide resin film are overlapped, the overall thickness is measured as described above, You may calculate by taking the difference with the thickness of another layer (measured by the same method as above).

본 발명에서, 액정 폴리머층의 두께(T2)는, 상기 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와의 관계가 0.35≤T2/T1≤1.4의 범위인 것이 바람직하고, 0.4≤T2/T1≤1.3의 범위인 것이 특히 바람직하다. In the present invention, the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer preferably has a relationship with the thickness (T1) of the polyimide resin film in the range of 0.35≤T2/T1≤1.4, and 0.4≤T2/T1≤1.3 It is particularly preferred.

본 발명의 삼층 필름에 있어서, 예컨대 두께가 25 ㎛인 폴리이미드 수지 필름을 채용한 경우, 액정 폴리머층의 두께는, 7.5 ㎛~50 ㎛가 바람직하고, 8 ㎛~40 ㎛가 보다 바람직하고, 9 ㎛~35 ㎛인 것이 특히 바람직하다. In the three-layer film of the present invention, for example, when a polyimide resin film having a thickness of 25 µm is employed, the thickness of the liquid crystal polymer layer is preferably 7.5 µm to 50 µm, more preferably 8 µm to 40 µm, 9 It is especially preferable that it is micrometer - 35 micrometers.

본 발명의 삼층 필름에 있어서, 액정 폴리머층의 두께(도 1에서의 T2a 및 T2b)는 상호 독립적이며, 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다. 본 발명에서는 동일한 것이 바람직하지만, 본 발명의 효과를 발휘하고, 또 삼층 필름에 휘어짐이 생기지 않는 범위라면 적절하게 조정·변경할 수 있다. In the three-layer film of the present invention, the thicknesses of the liquid crystal polymer layers (T2a and T2b in Fig. 1) are mutually independent and may be the same or different. Although the same thing is preferable in this invention, if it is a range which exhibits the effect of this invention, and does not produce a warp in a three-layer film, it can adjust and change suitably.

예컨대, 폴리이미드 수지 필름이 휘어짐을 방지할 수 있을 정도의 경도를 갖는 경우에는, 액정 폴리머층의 두께(도 1에서의 T2a 및 T2b)에 차를 두어도 좋다. For example, when the polyimide resin film has a hardness enough to prevent warpage, the thickness of the liquid crystal polymer layer (T2a and T2b in FIG. 1) may be different.

액정 폴리머층의 두께(도 1에서의 T2a 및 T2b)를 다른 것으로 하는 경우, 예컨대 T2a의 두께와 T2b의 두께의 차는 ±10% 이내로 하는 것이 바람직하고, ±5% 이내로 하는 것이 보다 바람직하고, ±3% 이내로 하는 것이 특히 바람직하다. When the thickness of the liquid crystal polymer layer (T2a and T2b in Fig. 1) is different, for example, the difference between the thickness of T2a and the thickness of T2b is preferably within ±10%, more preferably within ±5%, and ± It is especially preferable to set it as 3 % or less.

액정 폴리머는, 우수한 저흡습성, 절연성, 기계적 강도 등을 갖기 때문에, 액정 폴리머층을 폴리이미드 수지 필름의 양면에 적층함으로써, 흡습성을 갖는 폴리이미드 수지 필름의 흡습 작용을 높게 억제할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 삼층 필름에 금속을 적층시킨 프린트 회로 기판 등이 다습한 환경에 놓인 경우나, 물에 침지한 경우라도, 폴리이미드 수지 필름의 흡습성에 기인하는 전기 특성의 열화를 높게 억제할 수 있다. Since the liquid crystal polymer has excellent low hygroscopicity, insulation, mechanical strength, etc., by laminating the liquid crystal polymer layer on both surfaces of the polyimide resin film, the moisture absorption of the hygroscopic polyimide resin film can be highly suppressed. For this reason, even when a printed circuit board on which a metal is laminated on the three-layer film of the present invention is placed in a humid environment or immersed in water, deterioration of electrical properties due to the hygroscopicity of the polyimide resin film can be highly suppressed. can

또한, 액정 폴리머층의 두께(T2)가, 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와의 관계에 있어서, 상기 소정의 상한치 이하로 함으로써, 본 발명의 삼층 필름에 금속을 적층시킨 경우에, 그 금속 적층체의 치수 안정성을 양호한 것으로 할 수 있다. In addition, in the case where the metal is laminated on the three-layer film of the present invention by setting the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer to be less than or equal to the predetermined upper limit in relation to the thickness (T1) of the polyimide resin film, the metal lamination The dimensional stability of the sieve can be made favorable.

또한, 액정 폴리머층의 두께(T2)가, 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와의 관계에 있어서, 상기 소정의 하한치 이상으로 함으로써, 폴리이미드 수지 필름의 흡습 작용을 높게 억제할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 삼층 필름에 금속을 적층시킨 경우에, 상기 금속 적층체의 전송 손실을 저하시키는 작용을 고도로 발현할 수 있다. 본 발명의 삼층 필름은, 그 삼층 필름의 양면에 금속층을 적층했을 때, 특히 고도의 치수 안정성 및 전송 손실 저하 작용을 발현할 수 있다. 따라서, 본 발명의 삼층 필름은, 이 삼층 필름의 양면에 금속층을 적층하여 얻어지는 적층체에 이용하는 것이 바람직하다. In addition, when the thickness T2 of the liquid crystal polymer layer, in relation to the thickness T1 of the polyimide resin film, is greater than or equal to the predetermined lower limit, the moisture absorption action of the polyimide resin film can be highly suppressed. For this reason, when a metal is laminated|stacked on the three-layer film of this invention, the effect|action which reduces the transmission loss of the said metal laminated body can be expressed highly. The three-layer film of the present invention can exhibit particularly high dimensional stability and transmission loss reducing action when metal layers are laminated on both surfaces of the three-layer film. Accordingly, the three-layer film of the present invention is preferably used for a laminate obtained by laminating metal layers on both surfaces of the three-layer film.

본 발명의 삼층 필름을 적합하게 이용할 수 있는 적층체로서는, 예컨대 도 2에 도시하는 것과 같이, 본 발명의 삼층 필름(20)의 양면에 금속층(30a, 30b)을 적층한 것을 들 수 있다. 즉, 적층체는, 금속층(30a 및 30b)과, 금속층(30a 및 30b)에 끼워진 삼층 필름(20)을 포함한다. As a laminate in which the three-layer film of the present invention can be suitably used, for example, as shown in FIG. 2 , there may be mentioned those in which metal layers 30a and 30b are laminated on both surfaces of the three-layer film 20 of the present invention. That is, the laminate includes the metal layers 30a and 30b and the three-layer film 20 sandwiched between the metal layers 30a and 30b.

금속층으로서는, 구리, 알루미늄, 은 또는 이들에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 합금이 바람직하다. 그 중에서도 보다 우수한 도전성을 갖는다는 점에서, 구리 또는 구리 합금이 바람직하다. 그리고, 금속층은, 재료의 취급이 용이하고, 간편하게 형성할 수 있고, 경제성도 우수하다는 점에서, 금속박으로 형성되는 것이 바람직하고, 동박으로 형성되는 것이 보다 바람직하다. 금속층을 삼층 필름의 양면에 설치하는 경우, 이들 금속층의 재질은 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다. As a metal layer, the alloy containing copper, aluminum, silver, or 1 or more types of metals chosen from these is preferable. Among them, copper or a copper alloy is preferable from the viewpoint of having more excellent conductivity. In addition, the metal layer is preferably formed of metal foil, and more preferably formed of copper foil, from the viewpoint of easy material handling, simple formation, and excellent economic efficiency. When the metal layers are provided on both surfaces of the three-layer film, the materials of these metal layers may be the same or different.

금속층의 두께는, 바람직하게는 1~50 ㎛이고, 보다 바람직하게는 3~35 ㎛이며, 더욱 바람직하게는 5~20 ㎛이다. The thickness of the metal layer is preferably 1 to 50 µm, more preferably 3 to 35 µm, still more preferably 5 to 20 µm.

여기서, 금속층의 두께는, 금속층의 임의의 5개소에서, 접촉식 두께 측정기로 두께를 측정한 평균으로 나타내어지는 값이다. 한편 금속층의 두께를 측정할 때, 직접 접촉식 두께 측정기를 적용하기가 곤란할 때에는, 액정 폴리머층 등, 다른 층이 중첩된 상태에서, 상기와 같이 전체의 두께를 측정하여, 충첩되어 있던 다른 층의 두께(상기와 같은 방법으로 측정한 것)와의 차분을 취함으로써 산출하여도 좋다. Here, the thickness of a metal layer is a value represented by the average which measured the thickness by the contact-type thickness gauge in 5 arbitrary places of a metal layer. On the other hand, when measuring the thickness of a metal layer, when it is difficult to apply a direct contact thickness gauge, in a state in which other layers such as a liquid crystal polymer layer are overlapped, the overall thickness is measured as described above, and the You may calculate by taking the difference with the thickness (measured by the same method as above).

≪삼층 필름의 제조 방법 1≫ «Manufacturing method 1 of a three-layer film»

본 발명의 제2 양태는, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 폴리이미드 수지 필름 상에 도포하여, 상기 액상 조성물로 상기 폴리이미드 수지 필름을 덮는 액상 조성물 도포 공정과, 상기 액상 조성물 중의 용매를 제거하는 용매 제거 공정과, 가열 처리 공정이 포함되는 본 발명의 제1 양태의 삼층 필름의 제조 방법으로서, 상기 액정 폴리머로서, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위와, 이하의 구조 단위 (1)~(2)를 함유하는 본 발명의 제1 양태의 삼층 필름의 제조 방법이다. A second aspect of the present invention provides a liquid composition coating step of applying a liquid composition comprising a solvent and a liquid crystal polymer on a polyimide resin film, and covering the polyimide resin film with the liquid composition, and a solvent in the liquid composition. A method for producing a three-layer film of the first aspect of the present invention comprising a solvent removal step to remove and a heat treatment step, wherein the liquid crystal polymer is derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid. It is a manufacturing method of the three-layer film of the 1st aspect of this invention containing a structural unit and the following structural units (1)-(2).

(1) -CO-Ar1-CO-(1) -CO-Ar 1 -CO-

(2) -X-Ar2-Y-(2) -X-Ar 2 -Y-

(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

(3) -Ar3-Z-Ar4-(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -

(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)

[액상 조성물 도포 공정][Liquid composition application process]

본 발명의 삼층 필름의 제조 방법은, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 폴리이미드 수지 필름 상에 도포하여, 상기 액상 조성물로 상기 폴리이미드 수지 필름을 덮는 액상 조성물 도포 공정을 갖는다. The method for producing a three-layer film of the present invention includes a liquid composition application step of applying a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer on a polyimide resin film, and covering the polyimide resin film with the liquid composition.

용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물 및 폴리이미드 수지 필름에 관한 설명은, 상기 본 발명의 삼층 필름에 관한 설명과 마찬가지다. The description of the liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer and the polyimide resin film is the same as the description of the three-layer film of the present invention.

상기한 액상 조성물을 폴리이미드 수지 필름 상에 도포하는 방법으로서는, 예컨대, 롤러코트법, 딥코터법, 스프레이코터법, 커튼코트법, 슬롯코트법, 스크린인쇄법 등의 각종 수단을 들 수 있다. 도포시의 온도는 10~40℃인 것이 바람직하다. As a method of applying the liquid composition described above on the polyimide resin film, various means such as a roller coat method, a dip coater method, a spray coater method, a curtain coat method, a slot coat method, and a screen printing method are mentioned, for example. It is preferable that the temperature at the time of application|coating is 10-40 degreeC.

본 발명에서는, 상기한 도포 방법에 의해, 폴리이미드 수지 필름의 양면에 액상 조성물을 도포한다. 이 때, 액정 폴리머층이 상기 소정의 두께가 되도록 액상 조성물의 도포량을 조정한다. In this invention, a liquid composition is apply|coated to both surfaces of a polyimide resin film by the said application|coating method. At this time, the application amount of the liquid composition is adjusted so that the liquid crystal polymer layer has the predetermined thickness.

[용매 제거 공정][Solvent Removal Process]

상기 [액상 조성물 도포 공정] 후, 상기 액상 조성물 중의 용매를 제거한다. After the [liquid composition application step], the solvent in the liquid composition is removed.

여기서, 용매의 제거 방법은 특별히 한정되지 않지만, 용매의 증발에 의해 행하는 것이 바람직하다. 상기 용매를 증발시키는 방법으로서는, 가열, 감압, 통풍 등의 방법을 들 수 있지만, 그 중에서도 생산 효율, 취급성의 관점에서 가열하여 증발시키는 것이 바람직하고, 통풍하면서 가열하여 증발시키는 것이 보다 바람직하다. Here, although the method of removing a solvent is not specifically limited, It is preferable to carry out by evaporation of a solvent. As a method of evaporating the solvent, methods such as heating, reduced pressure, ventilation, etc. are mentioned. Among them, it is preferable to evaporate by heating from the viewpoint of production efficiency and handleability, and more preferably to evaporate by heating while ventilating.

용매 제거 공정에서의 가열 처리는, 용액 조성물에 적용한 용매에 따라서 적절하게 선택하면 되며, 60~200℃에서 60~600초간 가열 처리하면 되고, 120~600초간인 것이 바람직하다. 하한치 이상으로 함으로써, 용매가 충분히 제거되어, 얻어진 삼층 필름에 있어서 블로킹이 억제된다. The heat treatment in the solvent removal step may be appropriately selected depending on the solvent applied to the solution composition, may be heat treated at 60 to 200°C for 60 to 600 seconds, and is preferably from 120 to 600 seconds. By setting it as more than a lower limit, a solvent is fully removed and blocking is suppressed in the obtained three-layer film.

또한, [용매 제거 공정]에서의 용매의 제거는 완전할 필요는 없고, 다음 [가열 처리 공정]에서 잔존 용매가 제거되더라도 좋다. 액정 폴리머층의 표면 거칠음을 방지한다는 관점에서, 본 [용매 제거 공정]에 의해 용매를 제거해 두는 것이 바람직하다. In addition, the removal of the solvent in the [solvent removal step] does not have to be complete, and the residual solvent may be removed in the next [heat treatment step]. From the viewpoint of preventing the surface roughening of the liquid crystal polymer layer, it is preferable to remove the solvent by this [solvent removal step].

[가열 처리 공정][Heat treatment process]

상기 [용매 제거 공정] 후, 가열 처리를 한다. 가열 처리는, 예컨대, 불활성 가스 분위기 하에서 삼층 필름에 열을 가하여 가열하는 방법을 채용할 수 있다. 가열 처리 조건은, 채용한 액상 조성물에 따라서 적절하게 조정하면 되며, 예컨대, 250℃ 내지 400℃의 범위에서 1분간 내지 4시간 행하면 된다. After the above [solvent removal step], heat treatment is performed. For the heat treatment, for example, a method of heating the three-layer film by applying heat under an inert gas atmosphere can be employed. The heat treatment conditions may be appropriately adjusted according to the employed liquid composition, for example, in the range of 250°C to 400°C for 1 minute to 4 hours.

본 발명의 제2 양태의 삼층 필름의 제조 방법에서는, 우선, 폴리이미드 수지 필름의 한쪽 면에 액상 조성물을 도포하고, 상기 액상 조성물 중의 용매를 제거한다. 이어서, 이 조작을 또 한쪽의 면에도 반복해서 실시하고, 마지막으로 가열 처리를 함으로써, 본 발명의 제1 양태의 삼층 필름을 얻을 수 있다. In the manufacturing method of the three-layer film of the 2nd aspect of this invention, first, a liquid composition is apply|coated to one side of a polyimide resin film, and the solvent in the said liquid composition is removed. Next, this operation is repeated also on the other side, and finally, the three-layer film of the 1st aspect of this invention can be obtained by heat-processing.

≪삼층 필름의 제조 방법 2≫ «Manufacturing method 2 of three-layer film»

본 발명의 제3 양태는, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물 중에 폴리이미드 수지 필름을 함침시켜, 상기 액상 조성물로 상기 폴리이미드 수지 필름을 덮는 함침 공정과, 상기 액상 조성물 중의 용매를 제거하는 용매 제거 공정과, 가열 처리 공정이 포함되는 제조 방법으로서, 상기 액정 폴리머로서, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위와, 이하의 구조 단위를 함유하는 본 발명의 제1 양태의 삼층 필름의 제조 방법이다. A third aspect of the present invention provides an impregnation step of impregnating a polyimide resin film in a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer to cover the polyimide resin film with the liquid composition, and a solvent for removing the solvent in the liquid composition. The present invention comprising a removal step and a heat treatment step, wherein the liquid crystal polymer contains, as the liquid crystal polymer, a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the following structural units A method for producing a three-layer film of the first aspect.

(1) -CO-Ar1-CO-(1) -CO-Ar 1 -CO-

(2) -X-Ar2-Y-(2) -X-Ar 2 -Y-

(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

(3) -Ar3-Z-Ar4-(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -

(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)

[함침 공정][Impregnation process]

함침 공정에서는, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물 중에 폴리이미드 수지 필름을 함침시킨다. 함침 시간은 30초 내지 5분간이 바람직하다. 함침시의 온도는 10~40℃인 것이 바람직하다. In the impregnation step, the polyimide resin film is impregnated in a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer. The impregnation time is preferably 30 seconds to 5 minutes. It is preferable that the temperature at the time of impregnation is 10-40 degreeC.

용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물 및 폴리이미드 수지 필름에 관한 설명은, 상기 본 발명의 삼층 필름에 관한 설명과 마찬가지다. The description of the liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer and the polyimide resin film is the same as the description of the three-layer film of the present invention.

함침 공정 후에는, 액상 조성물이 함침된 폴리이미드 수지 필름을, 그 두께보다도 간격이 좁은 한 쌍의 롤 사이를 통과시킨다. 본 공정에 의해, 폴리이미드 수지 필름의 표면에 과잉 부착된 액상 조성물을 제거할 수 있다. After the impregnation step, the polyimide resin film impregnated with the liquid composition is passed between a pair of rolls having an interval smaller than the thickness thereof. According to this process, the liquid composition which adhered excessively to the surface of a polyimide resin film can be removed.

도 3은 장척의 폴리이미드 수지 필름을 이용하여, 함침 공정 및 롤 통과 공정을 연속적으로 실시하는 방법을 설명하기 위한 개략도이다. 다만, 여기에 도시하는 것은 일례이며, 본 발명에서의 함침 공정은 여기에 기재하는 것에 한정되지 않는다. It is a schematic for demonstrating the method of continuously implementing an impregnation process and a roll passing process using a long polyimide resin film. However, what is shown here is an example, and the impregnation process in this invention is not limited to what is described here.

폴리이미드 수지 필름(10)은, 가이드 롤러(4) 및 가이드 롤러(G1)에 의해 유도되어 화살표 방향으로 이동하고, 침지조(3)에서 액상 조성물(W)에 침지되고, 이어서, 액상 조성물 함침 직후의 폴리이미드 수지 필름(11)은, 침지조(3)로부터 끌어올려져, 한 쌍의 롤(5A 및 5B)을 갖춘 스퀴즈 롤(5)에 보내어진다. 한 쌍의 롤(5A 및 5B)은, 상기 폴리이미드 수지 필름(11)을 사이에 끼우도록 대향 배치되고, 이들의 간격이, 적어도 상기 폴리이미드 수지 필름(11)의 두께(폴리이미드 수지 필름(10)과 이것에 함침된 액상 조성물(W)을 포함하는 합계의 두께)보다도 좁게 되도록 조정되어 있다. 상기 폴리이미드 수지 필름(11)은, 이와 같은 한 쌍의 롤(5A 및 5B) 사이를 통과함으로써 조여져, 여분의 액상 조성물이 제거되는 동시에, 액상 조성물이 내부에 충분히 함침된 액상 조성물 함침 폴리이미드 수지 필름(12)으로 된다. The polyimide resin film 10 is guided by the guide roller 4 and the guide roller G 1 to move in the direction of the arrow, immersed in the liquid composition W in the immersion tank 3, and then the liquid composition The polyimide resin film 11 immediately after impregnation is pulled up from the immersion tank 3 and sent to the squeeze roll 5 provided with a pair of rolls 5A and 5B. The pair of rolls 5A and 5B are arranged to face each other so as to sandwich the polyimide resin film 11, and the distance between them is at least the thickness of the polyimide resin film 11 (polyimide resin film ( 10) and the total thickness including the liquid composition (W) impregnated therein). The polyimide resin film 11 is tightened by passing between such a pair of rolls 5A and 5B, so that the excess liquid composition is removed and the liquid composition impregnated polyimide resin in which the liquid composition is sufficiently impregnated therein. It becomes the film (12).

한 쌍의 롤(5A 및 5B)은, 스스로 회전(자회전)하는 것이라도 좋고, 액상 조성물 함침 직후의 폴리이미드 수지 필름(11)의 주행에 따라 회전하는 것이라도 좋다. 한 쌍의 롤(5A 및 5B)이, 자회전하는 것인 경우, 액상 조성물 함침 폴리이미드 수지 필름(12)에 있어서의 액상 조성물의 부착량을 용이하게 조정할 수 있고, 또한, 목적으로 하는 액상 조성물 함침 폴리이미드 수지 필름의 표면도 충분히 길들여져, 표면의 평활성이 향상된다.The pair of rolls 5A and 5B may rotate by themselves (self-rotation), or may rotate according to the running of the polyimide resin film 11 immediately after impregnation with the liquid composition. When the pair of rolls 5A and 5B are self-rotating, the adhesion amount of the liquid composition on the liquid composition-impregnated polyimide resin film 12 can be easily adjusted, and the target liquid composition-impregnated polyimide The surface of the mid resin film is also sufficiently tamed, and the smoothness of the surface is improved.

액정 폴리머층의 막 두께는, 침지조(3)로부터 끌어올리는 속도나 스퀴즈 롤(5)에 있어서 한 쌍의 롤(5A 및 5B) 사이의 간격을 조정함으로써, 소정의 막 두께로 조정한 삼층 필름을 얻을 수 있다. The film thickness of the liquid crystal polymer layer is a three-layer film adjusted to a predetermined film thickness by adjusting the pulling speed from the immersion tank 3 or the spacing between the pair of rolls 5A and 5B in the squeeze roll 5 . can be obtained

본 발명의 제3 양태에서의 [용매 제거 공정] 및 [가열 공정]에 관한 설명은, 상기 본 발명의 제2 양태에서의 설명과 마찬가지다. The description regarding the [solvent removal step] and the [heating step] in the third aspect of the present invention is the same as the description in the second aspect of the present invention.

구체적으로는, [용매 제거 공정]으로서, 롤(5A 및 5B) 사이를 통과한 상기 액상 조성물 함침 폴리이미드 수지 필름을, 60~200℃에서 60~600초간 가열 처리하면 되며, 120~600초간인 것이 바람직하다. Specifically, as the [solvent removal step], the liquid composition-impregnated polyimide resin film passed between the rolls 5A and 5B may be heat-treated at 60 to 200° C. for 60 to 600 seconds, and for 120 to 600 seconds. it is preferable

이 가열 처리에 의해, 액상 조성물 함침 폴리이미드 수지 필름에 함침된 액상 조성물의 용매가 증발하여 제거되어, 목적으로 하는 삼층 필름을 얻을 수 있다. By this heat treatment, the solvent of the liquid composition impregnated in the liquid composition-impregnated polyimide resin film is evaporated and removed, and a target three-layer film can be obtained.

그리고, [가열 공정]으로서, 예컨대, 250℃ 내지 400℃의 범위에서 1분간 내지 4시간 가열 처리를 하면 된다. 가열 처리의 온도 및 시간을 이와 같이 설정함으로써, 보이드가 저감된 삼층 필름을 안정적으로 얻을 수 있다. Then, as the [heating step], heat treatment may be performed in the range of, for example, 250°C to 400°C for 1 minute to 4 hours. By setting the temperature and time of the heat treatment in this way, a three-layer film with reduced voids can be stably obtained.

≪삼층 필름의 제조 방법 3≫ «Manufacturing method 3 of three-layer film»

본 발명의 제4 양태는, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물과, 폴리이미드 수지의 전구체인 폴리아믹산 수지 액상 조성물을 준비하는 공정과, 지지체 상에 상기 액상 조성물, 상기 폴리아믹산 수지 액상 조성물, 상기 액상 조성물을 이 순서로 삼층으로 도포하는 공정과, 상기 삼층의 액상 조성물 중의 용매를 제거하는 용매 제거 공정과, 가열 처리 공정이 포함되는 제조 방법으로서, 상기 액정 폴리머로서, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위와, 이하의 구조 단위를 함유하는 본 발명의 제1 양태의 삼층 필름의 제조 방법이다. A fourth aspect of the present invention provides a process for preparing a liquid composition comprising a solvent and a liquid crystal polymer, and a polyamic acid resin liquid composition that is a precursor of a polyimide resin, the liquid composition and the polyamic acid resin liquid composition on a support; A manufacturing method comprising a step of applying the liquid composition in three layers in this order, a solvent removal step of removing a solvent in the three layers of the liquid composition, and a heat treatment step, wherein as the liquid crystal polymer, 2-hydroxybenzoic acid or A method for producing a three-layer film according to the first aspect of the present invention, comprising a structural unit derived from 2-hydroxy-6-naphthoic acid and the following structural units.

(1) -CO-Ar1-CO-(1) -CO-Ar 1 -CO-

(2) -X-Ar2-Y-(2) -X-Ar 2 -Y-

(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

(3) -Ar3-Z-Ar4-(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -

(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)

[폴리아믹산 수지 액상 조성물][Polyamic acid resin liquid composition]

폴리이미드 수지는, 폴리이미드의 전구체, 즉, 폴리아믹산으로부터의 탈수 전화 반응에 의해 얻어진다. 이 전화 반응을 실시하는 방법으로서는, 열에 의해서만 실시하는 열 경화법과, 화학 탈수제를 사용하는 화학 경화법의 두 가지 방법이 알려져 있다. Polyimide resin is obtained by the dehydration conversion reaction from the precursor of a polyimide, ie, a polyamic acid. As a method of performing this conversion reaction, two methods are known: a thermosetting method performed only by heat, and a chemical curing method using a chemical dehydrating agent.

폴리아믹산은, 예컨대 특허문헌 1에 기재되어 있는 것과 같이, 테트라카르복실산이무수물과 디아민을 원료에 중합시킴으로써 얻을 수 있다. 폴리아믹산을 200℃ 이상의 가열(열 경화법) 또는 화학 폐환제에 의해서 처리(화학 경화법)함으로써, 탈수·환화 반응을 진행시켜, 폴리이미드 수지를 얻을 수 있다. A polyamic acid can be obtained by polymerizing tetracarboxylic dianhydride and diamine to a raw material, as described in patent document 1, for example. By processing (chemical hardening method) a polyamic acid by heating 200 degreeC or more (thermal curing method) or a chemical ring closure agent (chemical hardening method), dehydration and cyclization reaction can advance and a polyimide resin can be obtained.

[지지체 상에 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물, 폴리아믹산 수지 액상 조성물, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 이 순서로 삼층으로 도포하는 공정][Step of applying a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer on a support, a liquid composition of a polyamic acid resin, and a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer in this order in three layers]

본 공정에서, 지지체로서는, 통상 유리 등이 이용되지만, 도체를 이용할 수도 있다. 이러한 도체로서는, 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈, 스테인리스 등의 금속판 또는 금속박을 들 수 있다. In this process, although glass etc. are used normally as a support body, a conductor can also be used. As such a conductor, metal plates or metal foil, such as gold|metal|money, silver, copper, aluminum, nickel, and stainless steel, are mentioned.

용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물 및 폴리아믹산 수지 액상 조성물을 지지체 상에 유연(流延)하는 방법으로서는, 상기 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물 또는 폴리아믹산 수지 액상 조성물을, 필요에 따라서, 필터 등에 의해서 여과하여, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물 및 폴리아믹산 수지 액상 조성물 중에 포함되는 이물을 제거한 후, 지지체 상에 롤러코트법, 딥코트법, 스프레이코트법, 스피너코트법, 커튼코트법, 슬롯코트법, 스크린인쇄법 등의 각종 수단에 의해 표면 평활하면서 균일하게 유연하고, 그 후, 용매를 제거함으로써 얻을 수 있다. As a method of casting a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer and a liquid polyamic acid resin composition on a support, a liquid composition containing the solvent and a liquid crystal polymer or a liquid polyamic acid resin composition, if necessary, After filtering with a filter or the like to remove foreign substances contained in the liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer and the liquid polyamic acid resin composition, the roller coating method, dip coating method, spray coating method, spinner coating method, and curtain coating method on the support It can be obtained by smoothing the surface and uniformly flexible by various means such as a method, slot coating method, and screen printing method, and then removing the solvent.

지지체 상에는, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물, 폴리아믹산 수지 액상 조성물, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 이 순서로 삼층으로 도포한다. 이 때, 액정 폴리머층이 상기 소정의 두께가 되도록, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물의 도포량을 조정한다. On the support, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, a liquid polyamic acid resin composition, and a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer are applied in this order in three layers. At this time, the application amount of the liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer is adjusted so that the liquid crystal polymer layer has the predetermined thickness.

본 발명의 제4 양태에서의 [용매 제거 공정]에 관한 설명은, 상기 본 발명의 제2 양태에서의 설명과 마찬가지다. The description regarding the [solvent removal step] in the fourth aspect of the present invention is the same as the description in the second aspect of the present invention.

[삼층 필름 형성 공정][Three-layer film forming process]

이어서 가열 처리하고, 지지체를 박리하여 삼층 필름을 얻을 수 있다. 여기서, 가열 처리하는 대신에, 화학 폐환제에 의해서 처리하는 것으로 하여도 좋다. 이 경우의 화학 폐환제로서는, 폴리아미드산으로부터 폴리이미드를 얻는 데 사용되고 있는 것을 이용할 수 있으며, 예컨대, 피리딘, 무수아세트산, 안식향산 등이 이용된다. 가열 처리하는 경우에는, 질소 분위기 하에서 250~400℃의 온도 범위로 하는 것이 좋다. Then, it heat-processes, and the support body can be peeled off, and a three-layer film can be obtained. Here, instead of heat processing, it is good also as processing with a chemical ring closing agent. As a chemical ring closure agent in this case, what is used for obtaining a polyimide from polyamic acid can be used, For example, pyridine, acetic anhydride, benzoic acid etc. are used. When heat-processing, it is good to set it as the temperature range of 250-400 degreeC in nitrogen atmosphere.

본 발명의 제4 양태의 삼층 필름의 제조 방법에서는, 지지체 상에, 우선, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 도포하고, 상기 액상 조성물 중의 용매를 제거한다. 이어서, 폴리아믹산 수지 액상 조성물을 도포하고, 상기 폴리아믹산 수지 액상 조성물의 용매를 제거한다. 또한, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 도포하고, 상기 액상 조성물 중의 용매를 제거한다. 마지막으로 가열 처리 또는 화학 폐환제에 의해서 처리를 하고, 지지체로부터 박리함으로써, 삼층 필름을 얻을 수 있다. In the method for producing a three-layer film according to the fourth aspect of the present invention, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer is first applied on a support, and the solvent in the liquid composition is removed. Next, the polyamic acid resin liquid composition is applied, and the solvent of the polyamic acid resin liquid composition is removed. Further, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer is applied, and the solvent in the liquid composition is removed. Finally, a three-layer film can be obtained by processing by heat treatment or a chemical ring closure agent and peeling from the support.

또한, 본 발명의 제4 양태의 삼층 필름의 제조 방법에서는, 지지체 상에, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물, 폴리아믹산 수지 액상 조성물 및 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 이 순서로 도포하고, 상기 액상 조성물 중의 용매를 제거한다. 마지막으로 가열 처리 또는 화학 폐환제에 의해서 처리를 하고, 지지체로부터 박리함으로써, 삼층 필름을 얻더라도 좋다. Further, in the method for producing a three-layer film according to the fourth aspect of the present invention, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, a liquid composition containing a polyamic acid resin, and a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer are applied in this order on a support. and remove the solvent in the liquid composition. Finally, a three-layer film may be obtained by treating with a heat treatment or chemical closure agent and peeling from the support.

≪적층판≫ ≪Laminate Board≫

본 발명의 제5 양태는, 상기 제2~제4 양태에 의해 얻어진 삼층 필름이 절연층으로서 이용되고, 이 절연층의 적어도 한쪽의 면에 금속층이 형성되어 있는 적층판이다. A 5th aspect of this invention is a laminated board in which the three-layer film obtained by said 2nd - 4th aspect is used as an insulating layer, and the metal layer is formed in at least one surface of this insulating layer.

본 발명의 적층판은, 상기 삼층 필름의 적어도 한쪽 면에 금속층이 형성되어 있으면 되지만, 양면에 금속층이 적층되어 있는 것이 바람직하다. 즉, 적층판은, 제1 및 제2 금속층과, 제1 및 제2 금속층에 끼워진 삼층 필름을 포함하고 있는 것이 바람직하다. 상기 삼층 필름의 양면에 금속층이 적층된 적층판으로서 보다 구체적으로는 도 2에 도시하는 적층체이며, 도 2에서의 30a 및 30b가 금속층인 적층판이다. In the laminate of the present invention, a metal layer may be formed on at least one surface of the three-layer film, but it is preferable that the metal layer is laminated on both surfaces. That is, it is preferable that the laminated board contains the 1st and 2nd metal layers, and the three-layer film pinched|interposed between the 1st and 2nd metal layers. A laminate in which a metal layer is laminated on both sides of the three-layer film. More specifically, the laminate shown in FIG. 2 is a laminate in which 30a and 30b in FIG. 2 are metal layers.

상기 삼층 필름에 적층하는 금속층에 관해서 설명한다. The metal layer laminated|stacked on the said three-layer film is demonstrated.

본 발명의 적층판에서의 금속층은, 300℃에서 열처리한 후의 인장 탄성율이 60 GPa 이하이고, 파단점 응력이 150 MPa 이하인 동박이다. 이 인장 탄성율에 관한 하한으로서는, 실용적인 범위에서 10 GPa 이상이고, 20 GPa 이상이면 바람직하다. 이 파단점 응력에 관한 하한으로서는, 실용적인 범위에서 20 MPa 이상이면 바람직하고, 30 MPa 이상이면 특히 바람직하다. 본 발명에 이용되는 금속층의 종류로서는, 전해에 의해 형성된 층, 압연에 의해 형성된 층의 어느 것이라도 좋지만, 상기한 특성의 금속층의 일례로서, 동박을 얻기 위해서는, 당업계에서 주지인 High Temperature Elongation(고온 고신장 동박, 이하 「HTE 동박」이라고 줄임)이나 압연 동박으로서 시판되고 있는 동박으로부터, JIS C2151에서 규정되는 수법으로 인장 탄성율과 파단점 응력을 구하여, 선택할 수 있다. The metal layer in the laminate of the present invention is a copper foil having a tensile modulus of 60 GPa or less and a stress at break of 150 MPa or less after heat treatment at 300°C. As a lower limit regarding this tensile modulus, it is 10 GPa or more in a practical range, and it is preferable in it being 20 GPa or more. The lower limit regarding the stress at break is preferably 20 MPa or more in a practical range, and particularly preferably 30 MPa or more. The type of the metal layer used in the present invention may be either a layer formed by electrolysis or a layer formed by rolling. From a high-temperature high elongation copper foil (hereinafter abbreviated as "HTE copper foil") or a copper foil commercially available as a rolled copper foil, the tensile modulus and stress at break can be obtained and selected by the method specified in JIS C2151.

본 발명의 적층판에 이용되는 금속층의 두께는, 바람직하게는 5 ㎛를 넘고 35 ㎛ 이하의 범위이다. 특히 9~28 ㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다. 금속층의 두께가 상기한 범위이면, 적층판의 제조시에, 금속층의 장력의 조정이 용이하고, 얻어지는 적층판의 굴곡성이 보다 향상되기 때문에 바람직하다. The thickness of the metal layer used for the laminated board of this invention becomes like this. Preferably it exceeds 5 micrometers and is the range of 35 micrometers or less. In particular, it is preferable to exist in the range of 9-28 micrometers. When the thickness of the metal layer is within the above range, adjustment of the tension of the metal layer is easy at the time of manufacture of the laminate, and since the flexibility of the laminated sheet obtained improves more, it is preferable.

여기서, 금속층의 두께는, 금속층의 임의의 5개소에서, 접촉식 두께 측정기로 두께를 측정한 평균으로 나타내어지는 값이다. 한편 금속층의 두께를 측정할 때, 직접 접촉식 두께 측정기를 적용하기가 곤란할 때에는, 삼층 필름 등, 다른 층이 중첩된 상태에서, 상기와 같이 전체의 두께를 측정하여, 충첩되어 있던 다른 층의 두께(상기와 같은 방법으로 측정한 것)와의 차분을 취함으로써 산출하여도 좋다. Here, the thickness of a metal layer is a value represented by the average which measured the thickness by the contact-type thickness gauge in 5 arbitrary places of a metal layer. On the other hand, when measuring the thickness of a metal layer, when it is difficult to apply a direct contact thickness gauge, in a state in which other layers such as a three-layer film are overlapped, the overall thickness is measured as described above, and the thickness of the other layer that has been superimposed You may calculate by taking the difference with (measured by the same method as above).

또한, 적층판에 있어서의 금속층의 최대 높이(Rz)는 0.5~2.5 ㎛의 범위 내에 있는 것이 바람직하고, 0.6~2.4 ㎛의 범위 내가 보다 바람직하고, 0.6~2.2 ㎛의 범위 내가 특히 바람직하다. Moreover, it is preferable to exist in the range of 0.5-2.5 micrometers, as for the maximum height Rz of the metal layer in a laminated board, the inside of the range of 0.6-2.4 micrometers is more preferable, The inside of the range of 0.6-2.2 micrometers is especially preferable.

본 발명에 적용하는 금속층으로서 바람직한 것을 구체적으로 예시하면, 동박이 바람직하고, 그 중에서도, HTE 동박으로서는 예컨대, SQ-HTE 동박(미쓰이긴조쿠고교사 제조), 3EC-M3S-HTE 동박(미쓰이긴조쿠고교사 제조), NS-HTE 동박(미쓰이긴조쿠고교사 제조), 3EC-HTE 동박(미쓰이긴조쿠고교사 제조), F2-WS 동박(후루카와덴코사 제조), HLB(닛폰덴카이사 제조), CF-T4X-DS-SVR(후쿠다긴조쿠하쿠훈사 제조) 등을 들 수 있고, 압연 동박으로서는 예컨대, RCF-T5B-HPC(후쿠다긴조쿠하쿠훈사 제조), BHY-22 B-T(JX닛코닛세키긴조쿠사 제조), BHY-22B-HA(JX닛코닛세키긴조쿠사 제조), BHYA-T(JX닛코닛세키긴조쿠사 제조), BHYA-HA(JX닛코닛세키긴조쿠사 제조) 등을 들 수 있다. 이들 동박은 시장에서 용이하게 입수할 수 있다. As a concrete example of a preferable metal layer applied to the present invention, copper foil is preferable, and among them, as HTE copper foil, for example, SQ-HTE copper foil (manufactured by Mitsui Industries, Ltd.), 3EC-M3S-HTE copper foil (Mitsui Industries, Ltd.) Co., Ltd.), NS-HTE copper foil (manufactured by Mitsui Ginzoku Kogyo Co., Ltd.), 3EC-HTE copper foil (manufactured by Mitsui Ginzoku Kogyo Co., Ltd.), F2-WS copper foil (manufactured by Furukawa Denko Co., Ltd.), HLB (manufactured by Nippon Denkai Co., Ltd.), CF-T4X-DS-SVR (manufactured by Fukuda Kinzoku Hakuhoon Co., Ltd.) and the like, and examples of the rolled copper foil include RCF-T5B-HPC (manufactured by Fukuda Kinzoku Hakuhoun Co., Ltd.), BHY-22B-T (JX Nikko Niseki Kinjo Co., Ltd.). Co., Ltd.), BHY-22B-HA (manufactured by JX Nikko Nippon Industries, Ltd.), BHYA-T (manufactured by JX Nikko Nisseki Kinzoku Co., Ltd.), BHYA-HA (manufactured by JX Nikko Nisseki Kinzoku Co., Ltd.), etc. are mentioned. These copper foils are readily available in the market.

본 발명의 적층판에 상기한 특성을 갖는 동박을 이용함으로써, 금속층과 수지층과의 밀착성도 우수하고, 유연성 및 내절성(耐折性)도 양호한 적층판을 실현할 수 있다. By using the copper foil which has the above-mentioned characteristic for the laminated board of this invention, it is excellent also in the adhesiveness of a metal layer and a resin layer, and can implement|achieve a laminated board with favorable flexibility and bending resistance.

상기 삼층 필름과 금속층을 일체화하는 방법으로서는, 금속층과 삼층 필름을 열 프레스하는 방법이 적합하게 이용된다. 예컨대, 상용의 프레스기를 이용하여, 200~350℃, 3~10 MPa의 압력으로 10분간~60분간 유지하여, 열 프레스를 실시하는 방법을 들 수 있다. As a method of integrating the said three-layer film and a metal layer, the method of hot-pressing a metal layer and a three-layer film is used suitably. For example, using a commercial press machine, 200-350 degreeC, the method of hold|maintaining for 10 minutes - 60 minutes at the pressure of 3-10 MPa, and performing hot press is mentioned.

이와 같이 하여 얻어지는 본 발명의 액정 폴리머 적층판은, 치수 안정성, 저흡습성 등의 우수한 특성 때문에, 최근 주목을 받고 있는 빌드업 공법 등에 의해 얻어지는 반도체 패키지나 머더보드용의 다층 프린트 기판, 플렉시블 프린트 배선 기판, 테이프 자동화 본딩용 필름 등에 적합하게 이용된다. The liquid crystal polymer laminate of the present invention obtained in this way has excellent properties such as dimensional stability and low hygroscopicity. It is suitably used for a film for automatic tape bonding and the like.

<프린트 회로 기판> <Printed circuit board>

본 발명의 제6 양태는, 상기 삼층 필름을 절연층으로서 이용한 프린트 회로 기판이다. 본 발명의 프린트 회로 기판은, 절연층으로서 상기 삼층 필름을 이용하는 것 이외에는, 공지된 프린트 회로 기판과 같은 구성으로 할 수 있고, 같은 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 프린트 회로 기판은, 삼층 필름을 포함하는 절연층과, 상기 삼층 필름 상에 위치하는 회로 패턴을 포함한다. 바꿔 말하면, 프린트 회로 기판은, 적어도 하나의 삼층 필름을 포함하는 절연층과, 절연층의 적어도 제1 면과 제2 면의 한쪽에 형성된 회로 패턴을 포함한다. 절연층은, 하나의 삼층 필름으로 이루어지더라도 좋고, 복수의 삼층 필름이 적층되어 있더라도 좋다. 회로 패턴은, 제1 면에만 위치하여도 좋고, 제1 면에 제1 회로 패턴이 위치하고, 제2 면에 제2 회로 패턴이 위치하고 있어도 좋다. A sixth aspect of the present invention is a printed circuit board using the three-layer film as an insulating layer. The printed circuit board of this invention can be set as the structure similar to a well-known printed circuit board except using the said three-layer film as an insulating layer, and can be manufactured by the same method. That is, the printed circuit board includes an insulating layer including a three-layer film, and a circuit pattern positioned on the three-layer film. In other words, the printed circuit board includes an insulating layer including at least one three-layer film, and a circuit pattern formed on at least one of the first side and the second side of the insulating layer. The insulating layer may consist of one three-layer film, and a plurality of three-layer films may be laminated. The circuit pattern may be located only on the first surface, the first circuit pattern may be located on the first surface, and the second circuit pattern may be located on the second surface.

본 발명의 프린트 회로 기판은, 예컨대, 한 장의 상기 삼층 필름으로 형성되는 절연층, 혹은 여러 장의 상기 삼층 필름이 적층되어 이루어지는 절연층의, 한쪽 면 또는 양면에 금속층이 설치된 적층체를 제작하고, 이러한 적층체의 금속층에 에칭 등에 의해 소정의 회로 패턴을 형성하고, 이 회로 패턴이 형성된 적층체를 그대로 또는 필요에 따라서 2장 이상을 적층함으로써 제조할 수 있다. 본 발명의 프린트 회로 기판은, 삼층 필름의 양면에 금속층이 적층된 것인 것이 바람직하다. 즉, 프린트 회로 기판은, 삼층 필름과, 삼층 필름의 제1 면에 위치하는 제1 회로 패턴과, 삼층 필름의 제2 면에 위치하는 제2 회로 패턴을 포함하는 것이 바람직하다. For the printed circuit board of the present invention, for example, an insulating layer formed of one sheet of the three-layer film, or an insulating layer formed by laminating several sheets of the three-layer film, a laminate in which a metal layer is provided on one or both sides is prepared, It can manufacture by forming a predetermined circuit pattern in the metal layer of a laminated body by etching etc., and laminating|stacking two or more sheets of the laminated body in which this circuit pattern was formed as it is or as needed. As for the printed circuit board of this invention, it is preferable that the metal layer is laminated|stacked on both surfaces of a three-layer film. That is, the printed circuit board preferably includes a three-layer film, a first circuit pattern positioned on the first surface of the three-layer film, and a second circuit pattern positioned on the second surface of the three-layer film.

여러 장의 상기 삼층 필름이 적층된 절연층의 경우, 이들 여러 장의 삼층 필름은 전부 동일하여도 좋고, 일부만 동일하여도 좋고, 전부 다르더라도 좋다. 또한, 그 매수는 2장 이상이라면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 절연층은, 예컨대, 여러 장의 삼층 필름을, 그 두께 방향으로 중첩시키고, 가열 프레스하여 상호 융착시켜, 일체화시킴으로써 제작할 수 있다. In the case of an insulating layer in which several sheets of the three-layer film are laminated, all of these three-layer films may be the same, only some may be the same, or all may be different. In addition, if the number of sheets is two or more, it will not specifically limit. Such an insulating layer can be produced by, for example, superimposing a plurality of three-layer films in the thickness direction, hot-pressing them, fusion-bonding them, and integrating them.

금속층의 재질은, 구리, 알루미늄, 은 또는 이들에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 합금이 바람직하다. 그 중에서도, 보다 우수한 도전성을 갖는다는 점에서, 구리 또는 구리 합금이 바람직하다. 그리고, 금속층은, 재료의 취급이 용이하고, 간편하게 형성할 수 있고, 경제성도 우수하다는 점에서, 금속박으로 형성되는 것이 바람직하며, 동박으로 형성되는 것이 보다 바람직하다. 금속층을 절연층의 양면에 설치하는 경우, 이들 금속층의 재질은 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다. The material of the metal layer is preferably copper, aluminum, silver, or an alloy containing at least one metal selected from these. Especially, copper or a copper alloy is preferable at the point which has more outstanding electroconductivity. In addition, the metal layer is preferably formed of metal foil, more preferably formed of copper foil, from the viewpoint of easy material handling, simple formation, and excellent economic feasibility. When the metal layers are provided on both surfaces of the insulating layer, the materials of these metal layers may be the same or different.

금속층의 두께는, 바람직하게는 1~50 ㎛이고, 보다 바람직하게는 3~35 ㎛이며, 더욱 바람직하게는 5~20 ㎛이다. The thickness of the metal layer is preferably 1 to 50 µm, more preferably 3 to 35 µm, still more preferably 5 to 20 µm.

여기서, 금속층의 두께는, 금속층의 임의의 5개소에서, 접촉식 두께 측정기로 두께를 측정한 평균으로 나타내어지는 값이다. 한편 금속층의 두께를 측정할 때, 직접 접촉식 두께 측정기를 적용하기가 곤란할 때에는, 삼층 필름 등, 다른 층이 중첩된 상태에서, 상기와 같이 전체의 두께를 측정하여, 충첩되어 있던 다른 층의 두께(상기와 같은 방법으로 측정한 것)와의 차분을 취함으로써 산출하여도 좋다. Here, the thickness of a metal layer is a value represented by the average which measured the thickness by the contact-type thickness gauge in 5 arbitrary places of a metal layer. On the other hand, when measuring the thickness of a metal layer, when it is difficult to apply a direct contact thickness gauge, in a state in which other layers such as a three-layer film are overlapped, the overall thickness is measured as described above, and the thickness of the other layer that has been superimposed You may calculate by taking the difference with (measured by the same method as above).

금속층을 설치하는 방법으로서는, 금속박을 절연층의 표면에 융착시키는 방법, 금속박을 절연층의 표면에 접착제로 접착시키는 방법, 절연층의 표면을 도금하는 방법, 스크린인쇄법 또는 스퍼터링법에 의해, 금속 가루 또는 금속 입자로 피복하는 방법을 예시할 수 있다. As a method of providing the metal layer, a method of fusion bonding a metal foil to the surface of the insulating layer, a method of bonding a metal foil to the surface of the insulating layer with an adhesive, a method of plating the surface of the insulating layer, a screen printing method or a sputtering method, A method of coating with powder or metal particles can be exemplified.

절연층이, 여러 장의 상기 삼층 필름이 적층되어 이루어지는 경우에는, 이들 삼층 필름을 그 두께 방향으로 겹쳐 배치하고, 가장 외측에 위치하는 한쪽 또는 양쪽의 삼층 필름의 표면에, 금속박을 추가로 겹치고, 이들 금속박 및 여러 장의 삼층 필름을 가열 프레스함으로써, 절연층을 형성할 때에, 절연층의 한쪽 면 또는 양면에 금속층도 동시에 설치할 수 있다. When the insulating layer is formed by laminating several sheets of the three-layer film, these three-layer films are overlapped in the thickness direction, and a metal foil is further overlapped on the surface of one or both three-layer films located at the outermost side, When forming an insulating layer by hot-pressing metal foil and several sheets of three-layer film, a metal layer can also be provided simultaneously on one side or both surfaces of an insulating layer.

금속층을 패터닝함으로써 회로 패턴을 형성한다. 회로 패턴을 형성하는 방법으로서는 에칭 등을 예시할 수 있다. 에칭(가공)에 관해서 간단히 설명한다. 우선, 상기 금속층이 소정의 회로 패턴이 되도록, 상기 금속층의 마스킹을 하고, 마스킹된 금속층 부분과 마스킹되어 있지 않은 금속층 부분에 있어서, 후자의 금속층 부분을 웨트법(약제 처리)이라고 하는 에칭 가공에 의해서 제거함으로써 실시할 수 있다. 이 에칭 가공에 이용하는 약제로서는, 예컨대 염화제2철 수용액을 들 수 있다. 또한, 상기 마스킹으로서는, 시판되는 에칭 레지스트나 드라이 필름을 이용하면 된다. A circuit pattern is formed by patterning the metal layer. Etching etc. can be illustrated as a method of forming a circuit pattern. Etching (processing) will be briefly described. First, the metal layer is masked so that the metal layer has a predetermined circuit pattern, and in the masked metal layer portion and the unmasked metal layer portion, the latter metal layer portion is subjected to an etching process called a wet method (chemical treatment). It can be carried out by removing it. As a chemical|medical agent used for this etching process, a ferric chloride aqueous solution is mentioned, for example. In addition, as said masking, what is necessary is just to use a commercially available etching resist or a dry film.

이어서, 마스킹된 금속층 부분으로부터 에칭 레지스트나 드라이 필름을 아세톤이나 수산화나트륨 수용액으로 제거한다. 이와 같이 하여 금속층을 패터닝함으로써, 소정의 회로 패턴(배선)을 형성할 수 있다. Then, the etching resist or dry film is removed from the masked metal layer portion with acetone or aqueous sodium hydroxide solution. By patterning the metal layer in this way, a predetermined circuit pattern (wiring) can be formed.

실시예Example

이하, 실시예를 이용하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail using examples, but the present invention is not limited by the examples.

<제조예 1> <Production Example 1>

교반 장치, 토크 미터, 질소 가스 도입관, 온도계 및 환류 냉각기를 갖춘 반응기에, 2-히드록시-6-나프토산(이하, 「HNA」라고 기재함) 677.4 g(3.6 몰), 4-히드록시아세트아닐리드(이하, 「APAP」라고 기재함) 332.6 g(2.2 몰), 이소프탈산(이하, 「IPA」라고 기재함) 99.7 g(0.6 몰), 디페닐에테르-4,4'-디카르복실산(이하, 「DEDA」라고 기재함) 413.2 g(1.6 몰) 및 무수아세트산 673.8 g(6.6 몰)을 넣었다. 677.4 g (3.6 mol) of 2-hydroxy-6-naphthoic acid (hereinafter referred to as "HNA"), 4-hydroxy acetanilide (hereinafter referred to as "APAP") 332.6 g (2.2 moles), isophthalic acid (hereinafter referred to as "IPA") 99.7 g (0.6 moles), diphenyl ether-4,4'-dicarboxyl 413.2 g (1.6 mol) of an acid (hereinafter referred to as "DEDA") and 673.8 g (6.6 mol) of acetic anhydride were added.

반응기 내를 충분히 질소 가스로 치환한 후, 질소 가스 기류 하에서 15분 걸쳐 150℃까지 온도를 올리고, 온도를 유지하여 3시간 환류시켰다. After sufficiently replacing the inside of the reactor with nitrogen gas, the temperature was raised to 150° C. over 15 minutes under a nitrogen gas stream, and the temperature was maintained and refluxed for 3 hours.

그 후, 유출(留出)되는 부생 아세트산 및 미반응의 무수아세트산을 유거(留去)하면서 170분 걸쳐 320℃까지 온도를 올리고, 토크의 상승이 확인되는 시점을 반응 종료로 간주하여, 내용물을 빼냈다. 얻어진 고형분은 실온까지 냉각하고, 조분쇄기로 분쇄 후, 편광현미경(NIKON사 제조 ECLIPSE LV100POV)을 이용한 관찰에 의해 230℃에서 액정상 특유의 슐리렌 모양을 보이는 것이 확인되었다. 또한, 분말형의 액정 폴리머를 질소 분위기 하에 250℃에서 3시간 유지하여, 고상으로 중합 반응을 진행시켰다. 얻어진 액정 폴리머 분말 100 g을 N-메틸-2-피롤리돈 900 g에 가하고, 120℃로 가열하여 완전히 용해하여, 갈색 투명한 액정 폴리머 용액 조성물 (1)을 얻었다. After that, the temperature was raised to 320° C. over 170 minutes while distilling off by-product acetic acid and unreacted acetic anhydride, and the time when a torque increase was confirmed was regarded as the completion of the reaction, and the contents were removed. pulled out The obtained solid content was cooled to room temperature, pulverized with a coarse grinder, and observed with a polarizing microscope (ECLIPSE LV100POV manufactured by NIKON) at 230°C to confirm that it exhibits a schlieren shape peculiar to a liquid crystal phase. In addition, the liquid crystal polymer in powder form was maintained at 250° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere to advance the polymerization reaction to a solid phase. 100 g of the obtained liquid crystal polymer powder was added to 900 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and it was heated to 120° C. to completely dissolve it to obtain a brown transparent liquid crystal polymer solution composition (1).

<제조예 2> <Preparation Example 2>

교반 장치, 토크 미터, 질소 가스 도입관, 온도계 및 환류 냉각기를 갖춘 반응기에, 4-히드록시아세트아닐리드(이하, 「APAP」라고 기재함) 332.6 g(2.2 몰), 이소프탈산(이하, 「IPA」라고 기재함) 99.7 g(0.6 몰), 디페닐에테르-4,4'-디카르복실산(이하, 「DEDA」라고 기재함) 413.2 g(1.6 몰) 및 무수아세트산 269.5 g(2.6 몰)을 넣었다. 반응기 내를 충분히 질소 가스로 치환한 후, 질소 가스 기류 하에서 15분에 걸쳐 150℃까지 온도를 올리고, 온도를 유지하여 3시간 환류시켰다. 332.6 g (2.2 moles) of 4-hydroxyacetanilide (hereinafter referred to as "APAP"), isophthalic acid (hereinafter "IPA" ') 99.7 g (0.6 mol), diphenyl ether-4,4'-dicarboxylic acid (hereinafter referred to as "DEDA") 413.2 g (1.6 mol) and acetic anhydride 269.5 g (2.6 mol) put in After sufficiently replacing the inside of the reactor with nitrogen gas, the temperature was raised to 150° C. over 15 minutes under a nitrogen gas stream, and the temperature was maintained and refluxed for 3 hours.

그 후, 유출되는 부생 아세트산 및 미반응의 무수아세트산을 유거하면서 170분 걸쳐 320℃까지 온도를 올리고, 토크의 상승이 확인되는 시점을 반응 종료로 간주하여, 내용물을 빼냈다. 얻어진 고형분은 실온까지 냉각하고, 조분쇄기로 분쇄 후, 편광현미경 관찰을 실온부터 400℃까지 온도를 올리면서 실시했지만, 액정상 특유의 슐리렌 모양은 관찰할 수 없었다. Thereafter, the temperature was raised to 320° C. over 170 minutes while distilling off by-product acetic acid and unreacted acetic anhydride, and the time when a torque increase was confirmed was regarded as the completion of the reaction, and the contents were taken out. After the obtained solid content was cooled to room temperature and pulverized with a coarse grinder, polarization microscope observation was performed while raising the temperature from room temperature to 400°C, but the schlieren pattern peculiar to the liquid crystal phase was not observed.

[실시예 1][Example 1]

액정 폴리머 용액 조성물 (1)을 시판되는 폴리이미드 수지 필름인 막 두께 25 ㎛의 캡톤 H(도레듀퐁사 제조) 위에 필름 애플리케이터(도포 두께 100 ㎛)를 이용하여 한쪽 면을 도포하고, 열풍 건조기로 100℃에서 가열하여 용매를 제거하고, 이 조작을 또 한쪽의 면에도 반복해서 실시하고, 고온 열풍 건조기로 300℃로 가열 처리하여 삼층 필름(액정 폴리머/폴리이미드/액정 폴리머=10 ㎛/25 ㎛/10 ㎛)을 얻었다. Liquid crystal polymer solution composition (1) was applied on one side of a commercially available polyimide resin film, Kapton H (manufactured by Toledu Pont) having a film thickness of 25 µm, on one side using a film applicator (coating thickness of 100 µm), and 100 µm with a hot air dryer. The solvent was removed by heating at °C, and this operation was repeated on the other side, and heat-treated at 300 °C with a high-temperature hot air dryer to make a three-layer film (liquid crystal polymer/polyimide/liquid crystal polymer=10 µm/25 µm/ 10 μm) was obtained.

상기에서 얻어진 삼층 필름을 절연층으로 하여 그 양면에 동박(JX닛코닛세키긴조쿠(주) 제조의 「BHY-22B-T」(두께 18 ㎛, Rz=0.7 ㎛))을 적층했다. 이것을 고온 진공 프레스기(기타가와세이키(주) 제조의 「KVHC-PRESS」, 세로 300 mm, 가로 300 mm)에 의해, 온도 340℃, 압력 5 MPa의 조건으로 20분간에 걸쳐 열 프레스하여 일체화시킴으로써, 양면 동박 적층판을 얻었다. The three-layer film obtained above was used as an insulating layer, and copper foil (“BHY-22B-T” manufactured by JX Nikko Nisseki Kinzoku Co., Ltd. (thickness 18 µm, Rz=0.7 µm)) was laminated on both surfaces thereof. By hot pressing this with a high-temperature vacuum press machine ("KVHC-PRESS" manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd., 300 mm long, 300 mm wide) under the conditions of a temperature of 340 ° C. and a pressure of 5 MPa for 20 minutes to integrate, A double-sided copper clad laminate was obtained.

상기에서 얻어진 양면 동박 적층판에 대해서, TDR 측정을 하여 50 Ω가 되도록 프린트 회로 기판을 제작한 결과, 그라운드층을 갖는 배선 폭이 110 ㎛, 길이가 100 mm인 회로 패턴을 형성했다. About the double-sided copper clad laminated board obtained above, TDR measurement was performed and the printed circuit board was produced so that it might become 50 Ω. As a result, a circuit pattern having a ground layer having a wiring width of 110 µm and a length of 100 mm was formed.

<전송 손실 측정> <Measurement of transmission loss>

회로 패턴이 형성된 프린트 회로 패턴에 관해서, 아질렌트테크놀로지(주) 제조의 측정 프로브 「E8363B」를 이용하여 전송 손실(S21 파라미터)을 측정했다. 23℃ 48시간 물에의 침지 전후로 주파수 5 GHz, 10 GHz, 20 GHz, 40 GHz에서의 전송 손실을 측정했다. About the printed circuit pattern in which the circuit pattern was formed, the transmission loss (S21 parameter) was measured using the measurement probe "E8363B" manufactured by Agilent Technologies. Transmission losses at frequencies of 5 GHz, 10 GHz, 20 GHz, and 40 GHz were measured before and after immersion in water at 23°C for 48 hours.

물에 침지하기 전의 5 GHz, 10 GHz, 20 GHz, 40 GHz에서의 전송 손실을 표 3, 4에 기재한다. 또한, 23℃×48h 침지 전후의 전송 손실(주파수 5 GHz)의 변화율을 표 3, 4에 기재한다. Tables 3 and 4 show the transmission losses at 5 GHz, 10 GHz, 20 GHz, and 40 GHz before immersion in water. In addition, the rate of change of the transmission loss (frequency 5 GHz) before and after 23 degreeC x 48h immersion is described in Tables 3 and 4.

<치수 안정성 평가> <Dimensional stability evaluation>

염화제2철 용액(기다사 제조, 40° 보메)을 이용하여, 양면 동박 적층판으로부터 동박을 전부 제거하고, JIS C6481 「프린트 배선판용 동박 적층판 시험 방법」에 준거하여, 열기계 분석 장치(리가쿠사 제조 「Thermo plus TMA8310」)를 이용하여, 20 mm×50 mm의 시험편(절연층)에 2.5 g의 하중을 걸면서, 질소 기류 하에, 5℃/분으로 250℃까지 온도를 올렸을 때의 면내의 열팽창 계수를 측정했다(온도 범위 50~250℃: 1St 스캔). 그 결과를 표 1 및 2에 기재한다. Using a ferric chloride solution (manufactured by Gida Co., Ltd., 40° Baume), the copper foil was completely removed from the double-sided copper-clad laminate, and in accordance with JIS C6481 "Test method for copper-clad laminates for printed wiring boards", a thermomechanical analyzer (Rigaku Corporation) Using the manufactured "Thermo plus TMA8310"), while applying a load of 2.5 g to a 20 mm x 50 mm test piece (insulating layer), the in-plane temperature was raised to 250 °C at 5 °C/min under nitrogen stream The coefficient of thermal expansion was measured (temperature range 50-250° C.: 1St scan). The results are shown in Tables 1 and 2.

[실시예 2][Example 2]

실시예 1에서 필름 애플리케이터의 도포 두께를 200 ㎛로 변경하여 삼층 필름(액정 폴리머/폴리이미드/액정 폴리머=20 ㎛/25 ㎛/20 ㎛)을 얻는 것 이외에는, 같은 조작을 하여 동박 적층판을 제작했다. 얻어진 동박 적층판에 관해서, TDR 측정을 하여 50 Ω가 되도록 프린트 회로 기판을 제작한 결과, 배선 폭이 142 ㎛, 길이가 100 mm가 되었다. A copper clad laminate was prepared in the same manner except in Example 1, except that the thickness of the film applicator was changed to 200 µm to obtain a three-layer film (liquid crystal polymer/polyimide/liquid crystal polymer = 20 µm/25 µm/20 µm). . About the obtained copper clad laminated board, when TDR measurement was carried out and the printed circuit board was produced so that it might be set to 50 (ohm), the wiring width was set to 142 micrometers and length was set to 100 mm.

[실시예 3][Example 3]

실시예 1에서 시판되는 폴리이미드 수지 필름인 막 두께 25 ㎛의 유피렉스S(우베고산사 제조)를 사용한 것 이외에는, 같은 조작을 하여 동박 적층판을 제작했다. 얻어진 동박 적층판에 관해서, TDR 측정을 하여, 50 Ω가 되도록 프린트 회로 기판을 제작한 결과, 배선 폭이 110 ㎛, 길이가 100 mm였다. A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that Upirex S (manufactured by Ube Kosan Co., Ltd.) having a film thickness of 25 µm, which is a commercially available polyimide resin film, was used. About the obtained copper clad laminated board, when TDR measurement was performed and the printed circuit board was produced so that it might become 50 (ohm), wiring width was 110 micrometers and length was 100 mm.

[실시예 4][Example 4]

실시예 1에서, 동박(후루카와덴코(주) 제조의 「F2-WS」(두께 18 ㎛, Rz=2.1 ㎛))을 적층한 것 이외에는, 같은 조작을 하여 동박 적층판을 제작했다. 얻어진 동박 적층판에 관해서, TDR 측정을 하여, 50 Ω가 되도록 프린트 회로 기판을 제작한 결과, 배선 폭이 110 ㎛, 길이가 100 mm가 되었다. In Example 1, except having laminated|stacked copper foil ("F2-WS" by Furukawa Denko Co., Ltd. (18 micrometers, Rz = 2.1 micrometers)), the same operation was performed and the copper-clad laminated board was produced. About the obtained copper clad laminated board, when TDR measurement was performed and the printed circuit board was produced so that it might be set to 50 (ohm), wiring width was set to 110 micrometers and length was set to 100 mm.

[실시예 5][Example 5]

실시예 1에서 필름 애플리케이터의 도포 두께를 250 ㎛로 변경하여 삼층 필름(액정 폴리머/폴리이미드/액정 폴리머=25 ㎛/25 ㎛/25 ㎛)을 얻는 것 이외에는, 같은 조작을 하여 동박 적층판을 제작했다. A copper clad laminate was prepared in the same manner except in Example 1, except that the thickness of the film applicator was changed to 250 µm to obtain a three-layer film (liquid crystal polymer/polyimide/liquid crystal polymer = 25 µm/25 µm/25 µm). .

[실시예 6][Example 6]

실시예 1에서 필름 애플리케이터의 도포 두께를 335 ㎛로 변경하여 삼층 필름(액정 폴리머/폴리이미드/액정 폴리머=33.5 ㎛/25 ㎛/33.5 ㎛)을 얻는 것 이외에는, 같은 조작을 하여 동박 적층판을 제작했다. A copper clad laminate was prepared in the same manner except in Example 1, except that the thickness of the film applicator was changed to 335 µm to obtain a three-layer film (liquid crystal polymer/polyimide/liquid crystal polymer=33.5 µm/25 µm/33.5 µm) .

[비교예 1][Comparative Example 1]

실시예 1에서 필름 애플리케이터의 도포 두께를 50 ㎛로 변경하여 삼층 필름(액정 폴리머/폴리이미드/액정 폴리머=5 ㎛/25 ㎛/5 ㎛)을 얻는 것 이외에는, 같은 조작을 하여 동박 적층판을 제작했다. 얻어진 동박 적층판에 관해서, TDR 측정을 하여 50 Ω가 되도록 프린트 회로 기판을 제작한 결과, 배선 폭이 95 ㎛, 길이가 100 mm가 되었다. 물 침지 전후에서의 전송 손실의 변화가 23%로 큰 것을 알 수 있었다. A copper clad laminate was prepared in the same manner except that in Example 1, the application thickness of the film applicator was changed to 50 µm to obtain a three-layer film (liquid crystal polymer/polyimide/liquid crystal polymer = 5 µm/25 µm/5 µm). . About the obtained copper clad laminated board, when TDR measurement was carried out and the printed circuit board was produced so that it might become 50 (ohm), wiring width became 95 micrometers and length became 100 mm. It was found that the change in transmission loss before and after water immersion was 23% as large.

[비교예 2][Comparative Example 2]

시판되는 폴리이미드 수지 필름을 사용한 동박 적층판인 에스파넥스MB(신닛테츠스미킨카가쿠사 제조, 폴리이미드막 두께 50 ㎛)를 이용하여 TDR 측정을 하여 50 Ω가 되도록 프린트 회로 기판을 제작한 결과, 배선 폭이 110 ㎛, 길이가 100 mm가 되었다. TDR measurement was performed using a commercially available copper clad laminate using a commercially available polyimide resin film, Espanex MB (manufactured by Nippon Steel Chemicals, Inc., polyimide film thickness of 50 µm), and the printed circuit board was fabricated so as to be 50 Ω. As a result, the wiring The width was 110 μm and the length was 100 mm.

이어서 모델 샘플에 관해서, 아질렌트테크놀로지(주) 제조의 측정 프로브 「E8363B」를 이용하여, 프린트 회로 기판의 전송 손실(S21 파라미터)을 측정했다. Next, about the model sample, the transmission loss (S21 parameter) of the printed circuit board was measured using the measurement probe "E8363B" manufactured by Agilent Technologies.

물에 침지하기 전후에서의 전송 손실의 변화가 35%로 큰 것을 알 수 있었다. It was found that the change in transmission loss before and after immersion in water was as large as 35%.

[비교예 3][Comparative Example 3]

액정 폴리머 용액 조성물 (1)을 동박(JX닛코닛세키긴조쿠(주) 제조의 「BHY-22B-T」(두께 18 ㎛, Rz=0.7 ㎛)) 위에 필름 애플리케이터(도포 두께 500 ㎛)를 이용하여 한 면을 도포하고, 열풍 건조기를 이용하여 100℃에서 가열하여 용매를 제거하고, 고온 열풍 건조기로 300℃로 가열 처리하여 일면 동박 적층판(50 ㎛)을 얻었다. Liquid-crystal polymer solution composition (1) on copper foil ("BHY-22B-T" (thickness 18 µm, Rz = 0.7 µm) manufactured by JX Nikko Nisseki Kinzoku Co., Ltd.) Using a film applicator (coating thickness 500 µm) One side was coated, and the solvent was removed by heating at 100 ° C. using a hot air dryer, and heat treatment at 300 ° C. with a high temperature hot air dryer to obtain a one-sided copper clad laminate (50 μm).

상기에서 얻어진 일면 동박 적층판의 액정 폴리머 상에 동박(JX닛코닛세키긴조쿠(주) 제조의 「BHY-22B-T」(두께 18 ㎛, Rz=0.7 ㎛))을 추가로 적층하고, 고온 진공 프레스기(기타가와세이키(주) 제조의 「KVHC-PRESS」, 세로 300 mm, 가로 300 mm)에 의해, 온도 340℃, 압력 5 MPa의 조건으로 20분간에 걸쳐 열 프레스하여 일체화시킴으로써, 양면 동박 적층판을 얻었다. Copper foil ("BHY-22B-T" (thickness 18 µm, Rz = 0.7 µm) manufactured by JX Nikko Nisseki Kinzoku Co., Ltd.) was further laminated on the liquid crystal polymer of the single-sided copper clad laminate obtained above, and high-temperature vacuum Double-sided copper clad laminate by heat-pressing for 20 minutes under conditions of a temperature of 340° C. and a pressure of 5 MPa with a press machine (“KVHC-PRESS” manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd., 300 mm long, 300 mm wide) to integrate got

염화제2철 용액(기다사 제조, 40° 보메)을 이용하여, 양면 동박 적층판으로부터 동박을 전부 제거하고, JIS C6481 「프린트 배선용 동박 적층판 시험 방법」에 준거하여, 열기계 분석 장치(리가쿠사 제조「Thermo plus TMA8310」)를 이용하여, 20 mm×50 mm의 시험편(절연층)에 2.5 g의 하중을 걸면서, 질소 기류 하에, 5℃/분으로 250℃까지 온도를 올렸을 때의 면내의 열팽창 계수를 측정했다(온도 범위 50~250℃, 1St 스캔). 삼층 필름과 비교하여 크게 팽창하여 치수 변화가 큰 것을 알 수 있었다.All copper foils were removed from the double-sided copper-clad laminate using a ferric chloride solution (manufactured by Gida Co., Ltd., 40° Baume), and in accordance with JIS C6481 "Test method for copper-clad laminates for printed wiring", a thermomechanical analyzer (manufactured by Rigaku Corporation) In-plane thermal expansion when the temperature is raised to 250°C at 5°C/min under a nitrogen stream while applying a load of 2.5 g to a 20 mm×50 mm test piece (insulating layer) using 「Thermo plus TMA8310」) Coefficients were measured (temperature range 50-250° C., 1St scan). Compared with the three-layer film, it expanded significantly, and it was found that the dimensional change was large.

[비교예 4][Comparative Example 4]

시판되는 액정 폴리머 필름(쿠라레사 제조 벡스타 50 ㎛)을 절연층으로 하여 그 양면에 동박(JX닛코닛세키긴조쿠(주) 제조의 「BHY-22B-T」(두께 18 ㎛, Rz=0.7 ㎛))을 적층했다. 이것을 고온 진공 프레스기(기타가와세이키(주) 제조의 「KVHC-PRESS」, 세로 300 mm, 가로 300 mm)에 의해, 온도 340℃, 압력 5 MPa의 조건으로 20분간에 걸쳐 열 프레스하여 일체화시킴으로써, 양면 동박 적층판을 얻었다. A commercially available liquid crystal polymer film (Kurare Co., Ltd., Bexstar 50 µm) was used as an insulating layer, and copper foil (“BHY-22B-T” manufactured by JX Nikko Nisseki Kinzoku Co., Ltd. (thickness 18 µm, Rz=0.7) on both surfaces μm)) was laminated. By hot pressing this with a high-temperature vacuum press machine ("KVHC-PRESS" manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd., 300 mm long, 300 mm wide) under the conditions of a temperature of 340 ° C. and a pressure of 5 MPa for 20 minutes to integrate, A double-sided copper clad laminate was obtained.

염화제2철 용액(기다사 제조, 40° 보메)을 이용하여, 양면 동박 적층판으로부터 동박을 전부 제거하고, JIS C6481 「프린트 배선용 동박 적층판 시험 방법」에 준거하여, 열기계 분석 장치(리가쿠사 제조 「Thermo plus TMA8310」)를 이용하여, 20 mm× 50 mm의 시험편(절연층)에 2.5 g의 하중을 걸면서, 질소 기류 하에, 5℃/분으로 250℃까지 온도를 올렸을 때의 면내의 열팽창 계수를 측정했다(온도 범위 50~250℃, 1St 스캔). 삼층 필름과 비교하여 크게 수축하여 치수 변화가 큰 것을 알 수 있었다. All copper foils were removed from the double-sided copper-clad laminate using a ferric chloride solution (manufactured by Gida Co., Ltd., 40° Baume), and in accordance with JIS C6481 "Test method for copper-clad laminates for printed wiring", a thermomechanical analyzer (manufactured by Rigaku Corporation) In-plane thermal expansion when the temperature was raised to 250°C at 5°C/min under a nitrogen stream while applying a load of 2.5 g to a 20 mm × 50 mm test piece (insulating layer) using 「Thermo plus TMA8310」) Coefficients were measured (temperature range 50-250° C., 1St scan). It was found that the dimensional change was large due to the large shrinkage compared to the three-layer film.

Figure 112015122115620-pat00001
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Figure 112015122115620-pat00002
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Figure 112015122115620-pat00003
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Figure 112015122115620-pat00004
Figure 112015122115620-pat00004

상기 결과에 기재한 것과 같이, 본 발명의 삼층 필름을 이용한 실시예 1~4의 양면 동박 적층판은, 비교예 1의 양면 동박 적층판에 비교하여, 물 침지 전후의 전송 손실의 변화율이 낮고, 또한 치수 안정성도 양호했다. As described in the above results, the double-sided copper clad laminates of Examples 1 to 4 using the three-layer film of the present invention have a lower rate of change in transmission loss before and after immersion in water than the double-sided copper clad laminate of Comparative Example 1, and the dimensions Stability was also good.

또한, 실시예 5~6과 같이 액정 폴리머층을 두껍게 한 경우라도 치수 안정성이 양호한 것이었다. 실시예 5~6의 삼층 필름은 액정 폴리머층이 두껍기 때문에, 실시예 5~6의 삼층 필름을 이용하여 프린트 회로 기판을 제작한 경우, 그 프린트 회로 기판의 전송 손실의 변화율은, 실시예 1~4와 동등하거나 또는 그 이상으로 낮게 된다고 하는 효과를 충분히 발휘할 수 있다. Further, even when the liquid crystal polymer layer was thickened as in Examples 5 to 6, dimensional stability was good. Since the three-layer film of Examples 5-6 has a thick liquid crystal polymer layer, when a printed circuit board is produced using the three-layer film of Examples 5-6, the rate of change of the transmission loss of the printed circuit board is, The effect of being lower than or equal to 4 can be fully exhibited.

한편, 비교예 3~4는, 본 발명의 삼층 필름과 비교하여 치수 변화가 컸기 때문에, 전송 손실의 측정은 하지 않았다. On the other hand, since Comparative Examples 3-4 had a large dimensional change compared with the three-layer film of this invention, the measurement of transmission loss was not carried out.

상술한 것과 같이, 본 명세서의 실시예에서는, 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 폴리이미드 수지 필름 상에 도포함으로써 삼층 필름을 제조했다. 삼층 필름은, 상기 방법 외에, 하기 <함침에 의한 삼층 필름의 제조 방법> 또는 <순차 도포에 의한 삼층 필름 제조 방법>에서도 제조할 수 있으며, 그 방법에 의해 제조되는 삼층 필름과 상기 실시예에서 제조한 삼층 필름은 동일한 효과를 발휘하는 것이다. As described above, in the examples of the present specification, a three-layer film was prepared by applying a liquid composition including a solvent and a liquid crystal polymer on a polyimide resin film. The three-layer film, in addition to the above method, can also be prepared in the following <Method for producing a three-layer film by impregnation> or <Method for producing a three-layer film by sequential application>, and the three-layer film produced by the method and prepared in the above Examples One three-layer film is to exert the same effect.

<함침에 의한 삼층 필름의 제조 방법> <Method for producing three-layer film by impregnation>

시판되는 폴리이미드 수지 필름인 캡톤 200H(도레듀퐁사 제조; 50 ㎛)를 액정 폴리머 용액 조성물 (1)에 실온에서 1분간 침지하고 나서 끌어올리고, 표면에 과잉 부착된 액정 폴리머를 떨어뜨리기 위해서, 한 쌍의 롤 사이를 통과시킨 후, 열풍 건조기로 용매를 증발시키고, 또한 고온 열풍 건조기를 이용하여 가열 처리를 함으로써 삼층 필름을 제작할 수 있다. A commercially available polyimide resin film, Kapton 200H (manufactured by Toledu Pont; 50 µm), is immersed in the liquid crystal polymer solution composition (1) for 1 minute at room temperature, and then pulled up, in order to drop the liquid crystal polymer excessively adhering to the surface. After passing between a pair of rolls, a three-layer film can be produced by evaporating a solvent with a hot-air dryer, and also heat-processing using a high temperature hot-air dryer.

이 때, 끌어올리는 속도를 조정함으로써 액정 폴리머의 막 두께도 조정할 수 있다. At this time, the film thickness of the liquid crystal polymer can also be adjusted by adjusting the pulling rate.

<순차 도포에 의한 삼층 필름 제조 방법> <Method for manufacturing three-layer film by sequential application>

지지체로서, SUS박 상에 액정 폴리머 용액 조성물 (1), 폴리아믹산 수지 액상 조성물, 액정 폴리머 용액 조성물 (1)의 순으로 도포하고, 열풍 건조기를 이용하여 100℃에서 가열하여 용매를 제거하고, 이어서 330℃로 가열 처리를 하여, 지지체로부터 박리함으로써 삼층 필름을 제작할 수 있다. As a support, the liquid crystal polymer solution composition (1), the polyamic acid resin liquid composition, and the liquid crystal polymer solution composition (1) are applied in this order on the SUS foil, heated at 100° C. using a hot air dryer to remove the solvent, and then A three-layer film can be produced by heat-processing at 330 degreeC and peeling from a support body.

본 발명에 따르면, 프린트 배선 기판용의 적층체에 이용했을 때에, 치수 안정성과 전기 특성이 우수한 삼층 필름 및 이 삼층 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when it uses for the laminated body for printed wiring boards, the three-layer film excellent in dimensional stability and electrical characteristics, and the manufacturing method of this three-layer film can be provided.

20: 삼층 필름, 21: 폴리이미드 수지 필름, 22a, 22b: 액정 폴리머층, 30a, 30b: 금속층, 3: 침지조, 4: 가이드 롤러, 5: 스퀴즈 롤, 5A, 5B: 롤, 10: 폴리이미드 수지 필름, 11: 액상 조성물 함침 직후의 폴리이미드 수지 필름, 12: 액상 조성물 함침 폴리이미드 수지 필름, W: 액상 조성물, G1: 가이드 롤러20: three-layer film, 21: polyimide resin film, 22a, 22b: liquid crystal polymer layer, 30a, 30b: metal layer, 3: immersion tank, 4: guide roller, 5: squeeze roll, 5A, 5B: roll, 10: polyy Mid resin film, 11: polyimide resin film immediately after impregnation with liquid composition, 12: polyimide resin film impregnated with liquid composition, W: liquid composition, G 1 : guide roller

Claims (14)

폴리이미드 수지 필름의 양면에, 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층이 적층되어 있고, 상기 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와 상기 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층의 두께(T2)가, 이하의 관계식 (a) 및 (b)를 만족하는 삼층 필름(단, 2개의 T2는 상호 독립적이며, 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다.).
(a) 20 ㎛≤T1≤50 ㎛
(b) 0.3≤T2/T1≤0.8
A liquid crystal polymer layer having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group is laminated on both surfaces of a polyimide resin film, and the thickness (T1) of the polyimide resin film and a liquid crystal polymer having the above hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group A three-layer film in which the thickness T2 of the layer satisfies the following relational expressions (a) and (b) (however, the two T2s are mutually independent and may be the same or different).
(a) 20 μm ≤ T1 ≤ 50 μm
(b) 0.3≤T2/T1≤0.8
제1항에 있어서, 상기 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층이, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위를 함유하는 삼층 필름. The three-layer film according to claim 1, wherein the liquid crystal polymer layer having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 히드록시카르복실산을 메소겐기로 하는 액정 폴리머층이 이하의 구조 단위 (1) 및 (2)를 더 함유하는 삼층 필름.
(1) -CO-Ar1-CO-
(2) -X-Ar2-Y-
(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)
(3) -Ar3-Z-Ar4-
(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)
The three-layer film according to claim 1 or 2, wherein the liquid crystal polymer layer having the hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group further contains the following structural units (1) and (2).
(1) -CO-Ar 1 -CO-
(2) -X-Ar 2 -Y-
(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)
제1항 또는 제2항에 기재한 삼층 필름이 절연층으로서 이용되고, 이 절연층의 적어도 한쪽 면에 금속층이 형성되어 있는 적층판. A laminate in which the three-layer film according to claim 1 or 2 is used as an insulating layer, and a metal layer is formed on at least one surface of the insulating layer. 제4항에 있어서, 상기 금속층의 최대 높이(Rz)가 0.5~2.5 ㎛인 적층판. The laminate according to claim 4, wherein the maximum height (Rz) of the metal layer is 0.5 to 2.5 μm. 제4항에 있어서, 상기 금속층이 구리를 포함하는 적층판. The laminate according to claim 4, wherein the metal layer comprises copper. 제5항에 있어서, 상기 금속층이 구리를 포함하는 적층판. The laminate according to claim 5, wherein the metal layer comprises copper. 제4항에 기재한 적층판을 이용한 프린트 회로 기판. A printed circuit board using the laminate according to claim 4. 제5항에 기재한 적층판을 이용한 프린트 회로 기판. A printed circuit board using the laminate according to claim 5. 제6항에 기재한 적층판을 이용한 프린트 회로 기판. A printed circuit board using the laminate according to claim 6. 제7항에 기재한 적층판을 이용한 프린트 회로 기판. A printed circuit board using the laminate according to claim 7. 용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물을 폴리이미드 수지 필름 상에 도포하여, 상기 액상 조성물로 상기 폴리이미드 수지 필름을 덮는 액상 조성물 도포 공정과,
상기 액상 조성물 중의 용매를 제거하는 용매 제거 공정과,
가열 처리 공정
이 포함되는 삼층 필름의 제조 방법으로서,
상기 액정 폴리머로서, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위와, 이하의 구조 단위를 함유하고,
(1) -CO-Ar1-CO-
(2) -X-Ar2-Y-
(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)
(3) -Ar3-Z-Ar4-
(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)
상기 액상 조성물 도포 공정에 있어서, 상기 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와 액정 폴리머층의 두께(T2)가, 이하의 관계식 (a) 및 (b)가 되도록 상기 액상 조성물의 도포량을 조정하는 삼층 필름의 제조 방법:
(a) 20 ㎛≤T1≤50 ㎛
(b) 0.3≤T2/T1≤0.8
(단, 2개의 T2는 상호 독립적이며, 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다.).
A liquid composition application step of applying a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer on a polyimide resin film to cover the polyimide resin film with the liquid composition;
a solvent removal step of removing the solvent in the liquid composition;
heat treatment process
As a method for producing a three-layer film containing this,
The liquid crystal polymer contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid and the following structural units,
(1) -CO-Ar 1 -CO-
(2) -X-Ar 2 -Y-
(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)
In the step of applying the liquid composition, the thickness (T1) of the polyimide resin film and the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer are three layers in which the amount of the liquid composition is adjusted so that the following relational expressions (a) and (b) are obtained. Method of making the film:
(a) 20 μm≤T1≤50 μm
(b) 0.3≤T2/T1≤0.8
(However, the two T2s are mutually independent and may be the same or different.).
용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물 중에 폴리이미드 수지 필름을 함침시켜, 상기 액상 조성물로 상기 폴리이미드 수지 필름을 덮는 함침 공정과,
상기 액상 조성물 중의 용매를 제거하는 용매 제거 공정과,
가열 처리 공정
이 포함되는 삼층 필름의 제조 방법으로서,
상기 액정 폴리머로서, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위와, 이하의 구조 단위 (1) 및 (2)를 함유하고,
(1) -CO-Ar1-CO-
(2) -X-Ar2-Y-
(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)
(3) -Ar3-Z-Ar4-
(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)
상기 함침 공정에 있어서, 상기 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와 액정 폴리머층의 두께(T2)가, 이하의 관계식 (a) 및 (b)가 되도록 상기 폴리이미드 수지 필름에 있어서의 상기 액상 조성물의 부착량을 조정하는 것인 삼층 필름의 제조 방법:
(a) 20 ㎛≤T1≤50 ㎛
(b) 0.3≤T2/T1≤0.8
(단, 2개의 T2는 상호 독립적이며, 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다.).
An impregnation step of impregnating a polyimide resin film in a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, and covering the polyimide resin film with the liquid composition;
a solvent removal step of removing the solvent in the liquid composition;
heat treatment process
As a method for producing a three-layer film containing this,
The liquid crystal polymer contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the following structural units (1) and (2);
(1) -CO-Ar 1 -CO-
(2) -X-Ar 2 -Y-
(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)
In the impregnation step, the liquid composition in the polyimide resin film so that the thickness (T1) of the polyimide resin film and the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer are the following relational expressions (a) and (b). Method for producing a three-layer film to adjust the adhesion amount of:
(a) 20 μm ≤ T1 ≤ 50 μm
(b) 0.3≤T2/T1≤0.8
(However, the two T2s are mutually independent and may be the same or different.).
용매와 액정 폴리머를 포함하는 액상 조성물과, 폴리이미드 수지의 전구체인 폴리아믹산 수지 액상 조성물을 준비하는 공정과,
지지체 상에 상기 액상 조성물, 상기 폴리아믹산 수지 액상 조성물, 상기 액상 조성물을 이 순서로 삼층으로 도포하는 공정과,
상기 삼층의 액상 조성물 중의 용매를 제거하는 용매 제거 공정과,
삼층 필름 형성 공정
이 포함되는 삼층 필름의 제조 방법으로서,
상기 액정 폴리머로서, 2-히드록시안식향산 또는 2-히드록시-6-나프토산에 유래하는 구조 단위와, 이하의 구조 단위 (1) 및 (2)를 함유하고,
(1) -CO-Ar1-CO-
(2) -X-Ar2-Y-
(식에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 또는 하기 식 (3)으로 표시되는 기를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 이미노기를 나타낸다. Ar1 또는 Ar2로 표시되는 상기 기에 있는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기 또는 아릴기로 치환되어 있어도 좋다.)
(3) -Ar3-Z-Ar4-
(Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 페닐렌기 또는 나프틸렌기를 나타낸다. Z는 산소 원자, 황 원자, 카르보닐기, 술포닐기 또는 알킬리덴기를 나타낸다.)
상기 도포하는 공정에 있어서, 상기 폴리이미드 수지 필름의 두께(T1)와 액정 폴리머층의 두께(T2)가, 이하의 관계식 (a) 및 (b)가 되도록 상기 용매와 액정 폴리머를 함유하는 액상 조성물의 도포량을 조정하는 삼층 필름의 제조 방법:
(a) 20 ㎛≤T1≤50 ㎛
(b) 0.3≤T2/T1≤0.8
(단, 2개의 T2는 상호 독립적이며, 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다.).
A step of preparing a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, and a polyamic acid resin liquid composition that is a precursor of a polyimide resin;
A step of applying the liquid composition, the polyamic acid resin liquid composition, and the liquid composition in this order in three layers on a support;
A solvent removal step of removing the solvent in the three-layer liquid composition;
Three-layer film forming process
As a method for producing a three-layer film containing this,
The liquid crystal polymer contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the following structural units (1) and (2);
(1) -CO-Ar 1 -CO-
(2) -X-Ar 2 -Y-
(Wherein, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group. Ar Each hydrogen atom in the group represented by 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represents a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylidene group.)
In the applying step, the liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer so that the thickness (T1) of the polyimide resin film and the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer are the following relational formulas (a) and (b) Method for producing a three-layer film to adjust the amount of application:
(a) 20 μm≤T1≤50 μm
(b) 0.3≤T2/T1≤0.8
(However, the two T2s are mutually independent and may be the same or different.).
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6450048B1 (en) * 2018-02-14 2019-01-09 住友化学株式会社 Laminate
JP7210401B2 (en) * 2019-02-15 2023-01-23 住友化学株式会社 Films and laminates
JP7366397B2 (en) * 2019-08-27 2023-10-23 共同技研化学株式会社 Laminated film and method for manufacturing the laminated film
US11917753B2 (en) 2019-09-23 2024-02-27 Ticona Llc Circuit board for use at 5G frequencies
CN110655789A (en) * 2019-09-23 2020-01-07 宁波今山新材料有限公司 Low-dielectric low-loss 5G application material and preparation method thereof
CN113462300A (en) 2020-03-31 2021-10-01 日铁化学材料株式会社 Resin film, metal-clad laminate, and circuit board
TWI749575B (en) * 2020-06-02 2021-12-11 長興材料工業股份有限公司 Aromatic liquid crystal polyester, liquid crystal polyester composition, and liquid crystal polyester film manufacturing process
WO2022113963A1 (en) * 2020-11-24 2022-06-02 富士フイルム株式会社 Polymer film, and laminate
WO2022113961A1 (en) * 2020-11-24 2022-06-02 富士フイルム株式会社 Liquid crystal polymer film, polymer film, and laminate
CN116648354A (en) * 2020-11-27 2023-08-25 富士胶片株式会社 Liquid crystal polymer film, method for producing same, and laminate
WO2022176914A1 (en) * 2021-02-18 2022-08-25 富士フイルム株式会社 Liquid crystal polymer film, polymer film, and multilayer body
WO2023058855A1 (en) * 2021-10-08 2023-04-13 한화솔루션 주식회사 Methods for manufacturing single-sided fccl and double-sided fccl
WO2023162659A1 (en) * 2022-02-28 2023-08-31 富士フイルム株式会社 Metamaterial substrate, metamaterial, and laminate body

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004315678A (en) 2003-04-17 2004-11-11 Sumitomo Chem Co Ltd Liquid-crystal polyester solution composition
JP2006008976A (en) 2004-05-28 2006-01-12 Sumitomo Chemical Co Ltd Film and layered product using the same
JP2007106107A (en) 2005-07-29 2007-04-26 Sumitomo Chemical Co Ltd Laminate of liquid crystalline polyester with copper foil
JP2007238915A (en) 2006-02-07 2007-09-20 Sumitomo Chemical Co Ltd Liquid-crystalline polyester and solution composition thereof
JP2008290425A (en) 2007-05-28 2008-12-04 Mitsubishi Materials Corp Flexible base material
JP2008290424A (en) 2007-05-28 2008-12-04 Mitsubishi Materials Corp Flexible base material
JP2010238990A (en) * 2009-03-31 2010-10-21 Nippon Steel Chem Co Ltd Compound adhesive film, multi-layer circuit substrate using the same, and method of manufacturing the same
JP2013032532A (en) 2004-05-18 2013-02-14 Kaneka Corp Method for producing adhesive film
JP2013189535A (en) * 2012-03-13 2013-09-26 Sumitomo Chemical Co Ltd Method of producing liquid crystal polyester film and liquid crystal polyester film

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030090767A (en) * 2001-04-20 2003-11-28 도요 고한 가부시키가이샤 Laminated plate and part using the laminated plate
JP2005186574A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Kaneka Corp Method for manufacturing adhesive sheet, adhesive sheet and flexible metal clad laminated plate made by using the same
JP5411656B2 (en) * 2009-02-24 2014-02-12 パナソニック株式会社 Manufacturing method of laminated board for flexible printed wiring board, laminated board for flexible printed wiring board, and flexible printed wiring board
JP2013001902A (en) 2011-06-22 2013-01-07 Sumitomo Chemical Co Ltd Liquid crystal polyester-impregnated base material, method for producing the same, and printed wiring board
TW201321178A (en) * 2011-08-31 2013-06-01 Sumitomo Chemical Co Method of manufacturing laminated base material and method of manufacturing liquid crystal polyester film
JP2014120580A (en) * 2012-12-14 2014-06-30 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc Metal clad laminated plate, manufacturing method of the same, and printed wiring board
WO2014133189A1 (en) * 2013-02-28 2014-09-04 住友化学株式会社 Laminate and method of producing same
JP6340180B2 (en) * 2013-10-08 2018-06-06 東レ・デュポン株式会社 Polyimide resin-liquid crystal polymer composite film and method for producing the same

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004315678A (en) 2003-04-17 2004-11-11 Sumitomo Chem Co Ltd Liquid-crystal polyester solution composition
JP2013032532A (en) 2004-05-18 2013-02-14 Kaneka Corp Method for producing adhesive film
JP2006008976A (en) 2004-05-28 2006-01-12 Sumitomo Chemical Co Ltd Film and layered product using the same
JP2007106107A (en) 2005-07-29 2007-04-26 Sumitomo Chemical Co Ltd Laminate of liquid crystalline polyester with copper foil
JP2007238915A (en) 2006-02-07 2007-09-20 Sumitomo Chemical Co Ltd Liquid-crystalline polyester and solution composition thereof
JP2008290425A (en) 2007-05-28 2008-12-04 Mitsubishi Materials Corp Flexible base material
JP2008290424A (en) 2007-05-28 2008-12-04 Mitsubishi Materials Corp Flexible base material
JP2010238990A (en) * 2009-03-31 2010-10-21 Nippon Steel Chem Co Ltd Compound adhesive film, multi-layer circuit substrate using the same, and method of manufacturing the same
JP2013189535A (en) * 2012-03-13 2013-09-26 Sumitomo Chemical Co Ltd Method of producing liquid crystal polyester film and liquid crystal polyester film

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Publication number Publication date
JP2016117281A (en) 2016-06-30
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