JP2016117281A - Three-layer film, method of producing three-layer film, laminate and printed circuit board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、三層フィルム、三層フィルムの製造方法、積層板及びプリント回路基板に関する。 The present invention relates to a three-layer film, a method for producing a three-layer film, a laminate, and a printed circuit board.
携帯電話、パソコン、デジタル家電などの電子機器に組み込まれるプリント配線板(プリント基板、プリント回路基板)には、絶縁層上に金属層が設けられた積層体が用いられる。このような積層体としては、例えば、金属箔等の導体からなる層と、絶縁層としてポリイミド樹脂フィルムからなる層とが積層された積層体が知られている(例えば特許文献1〜2)。また特許文献3には、金属層として銅箔を採用し、絶縁層として液晶ポリエステル樹脂層が積層された積層体が記載されている。
ポリイミド樹脂は吸水性を有し、耐湿性が劣る。また、非熱可塑性樹脂であるため金属箔を直接積層させることができない。そこで例えば特許文献4〜5には、絶縁層として、液晶ポリマーフィルムとポリイミド樹脂の積層体を採用したことが記載されている。液晶ポリマーフィルムとしては、特許文献6〜9に記載のものが挙げられる。ポリイミド樹脂の吸水作用はプリント配線基板の電気特性に大きな影響を与えるため、液晶ポリマーフィルムの採用方法はプリント配線基板の電気特性を良好なものとする上で重要である。
A laminated body in which a metal layer is provided on an insulating layer is used for a printed wiring board (printed circuit board or printed circuit board) incorporated in an electronic device such as a mobile phone, a personal computer, or a digital home appliance. As such a laminated body, the laminated body by which the layer which consists of conductors, such as metal foil, and the layer which consists of a polyimide resin film as an insulating layer were laminated | stacked is known, for example (for example, patent documents 1-2). Patent Document 3 describes a laminate in which a copper foil is employed as a metal layer and a liquid crystal polyester resin layer is laminated as an insulating layer.
A polyimide resin has water absorption and is inferior in moisture resistance. Moreover, since it is a non-thermoplastic resin, a metal foil cannot be laminated | stacked directly. Thus, for example,
しかしながら、プリント配線基板に求められる特性がますます高まり、プリント配線基板に用いられる積層体には未だ改良の余地がある。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、プリント配線基板用の積層体に用いた際に、寸法安定性と電気特性に優れる三層フィルム、及び該三層フィルムの製造方法を提供することを課題とする。
However, the characteristics required for the printed wiring board are further increased, and there is still room for improvement in the laminate used for the printed wiring board.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a three-layer film excellent in dimensional stability and electrical characteristics when used in a laminate for a printed wiring board, and a method for producing the three-layer film. The task is to do.
本発明の第一の態様は、ポリイミド樹脂フィルムの両面に、ヒドロキシカルボン酸をメソゲン基とする液晶ポリマー層が積層されており、前記ポリイミド樹脂フィルムの厚み(T1)と前記ヒドロキシカルボン酸をメソゲン基とする液晶ポリマー層の厚み(T2)とが、以下の関係式(a)及び(b)を満たすことを特徴とする三層フィルム(但し、2つのT2は互いに独立し、同一であってもよく、異なっていてもよい。)である。
(a)20μm≦T1≦50μm
(b)0.3≦T2/T1≦1.5
本発明の第一の態様において、ヒドロキシカルボン酸をメソゲン基とする液晶ポリマー層が2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位を含有することが好ましい。
In the first aspect of the present invention, a liquid crystal polymer layer containing hydroxycarboxylic acid as a mesogen group is laminated on both sides of a polyimide resin film, and the thickness (T1) of the polyimide resin film and the hydroxycarboxylic acid are converted into a mesogen group. A three-layer film characterized in that the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer satisfies the following relational expressions (a) and (b) (provided that the two T2s are independent of each other and are the same) Well, it may be different.)
(A) 20 μm ≦ T1 ≦ 50 μm
(B) 0.3 ≦ T2 / T1 ≦ 1.5
In the first aspect of the present invention, the liquid crystal polymer layer having a hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group preferably contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid.
本発明の第一の態様において、ヒドロキシカルボン酸をメソゲン基とする液晶ポリマー層が、さらに、以下の構造単位(1)及び(2)を含有することが好ましい。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。)
In the first aspect of the present invention, it is preferable that the liquid crystal polymer layer containing hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group further contains the following structural units (1) and (2).
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
本発明の第二の態様は、前記第一の態様の三層フィルムが絶縁層として用いられ、この絶縁層の少なくとも片面に金属層が形成されている積層板である。
本発明の第二の態様において、前記金属層の最大高さ(Rz)が0.5〜2.5μmで形成されていることが好ましい。
本発明の第二の態様において、前記金属層は銅を含むことが好ましい。
本発明の第三の態様は、前記第五の態様の積層板を用いたプリント回路基板である。
The second aspect of the present invention is a laminate in which the three-layer film of the first aspect is used as an insulating layer, and a metal layer is formed on at least one surface of the insulating layer.
2nd aspect of this invention WHEREIN: It is preferable that the maximum height (Rz) of the said metal layer is 0.5-2.5 micrometers.
In the second aspect of the present invention, the metal layer preferably contains copper.
A third aspect of the present invention is a printed circuit board using the laminated board of the fifth aspect.
本発明の第四の態様は、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物をポリイミド樹脂フィルム上に塗布し、前記液状組成物で前記ポリイミド樹脂フィルムを覆う液状組成物塗布工程と、前記液状組成物中の溶媒を除去する溶媒除去工程と、加熱処理工程と、が含まれる、三層フィルムの製造方法であって、前記液晶ポリマーとして、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位と、以下の構造単位(1)及び(2)を含有する三層フィルムの製造方法である。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。)
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a liquid composition coating step in which a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer is coated on a polyimide resin film, and the polyimide resin film is covered with the liquid composition; A method for producing a three-layer film comprising a solvent removal step for removing the solvent therein and a heat treatment step, wherein the liquid crystal polymer is 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid. It is the manufacturing method of the three-layer film containing the derived structural unit and the following structural units (1) and (2).
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
本発明の第五の態様は、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物中にポリイミド樹脂フィルムを含浸させ、前記液状組成物で前記ポリイミド樹脂フィルムを覆う含浸工程と、前記液状組成物中の溶媒を除去する溶媒除去工程と、加熱処理工程と、が含まれる、三層フィルムの製造方法であって、前記液晶ポリマーとして、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位と、以下の構造単位(1)及び(2)を含有する三層フィルムの製造方法である。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。)
In a fifth aspect of the present invention, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer is impregnated with a polyimide resin film, and the polyimide resin film is covered with the liquid composition, and the solvent in the liquid composition A method for producing a three-layer film, comprising a solvent removal step for removing water and a heat treatment step, wherein the liquid crystal polymer is derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid It is a manufacturing method of the three-layer film containing a unit and the following structural units (1) and (2).
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
本発明の第六の態様は、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物と、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸樹脂液状組成物と、を準備する工程と、支持体上に前記液状組成物、前記ポリアミック酸樹脂液状組成物、前記液状組成物とをこの順に三層に塗布する工程と、前記三層の液状組成物中の溶媒を除去する溶媒除去工程と、三層フィルム形成工程と、が含まれる、三層フィルムの製造方法であって、前記液晶ポリマーとして、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位と、以下の構造単位(1)及び(2)を含有する三層フィルムの製造方法である。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。)
The sixth aspect of the present invention includes a step of preparing a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, and a polyamic acid resin liquid composition that is a precursor of a polyimide resin, and the liquid composition on a support. , The step of applying the polyamic acid resin liquid composition and the liquid composition to the three layers in this order, the solvent removing step of removing the solvent in the three-layer liquid composition, and the three-layer film forming step, And a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid as the liquid crystal polymer, and the following structural units (1) and (2 ) Containing a three-layer film.
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
本発明によれば、プリント配線基板用の積層体に用いた際に、寸法安定性と電気特性に優れる三層フィルム、及び該三層フィルムの製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when it uses for the laminated body for printed wiring boards, the three-layer film excellent in dimensional stability and an electrical property and the manufacturing method of this three-layer film can be provided.
≪三層フィルム≫
まず、本発明の第一の態様である三層フィルムについて、図1を用いて説明する。
図1に、本発明の三層フィルム20を示す。三層フィルム20は、ポリイミド樹脂フィルム21の両面にヒドロキシカルボン酸をメソゲン基とする液晶ポリマー層22a及び22bが積層されている。言い換えれば、三層フィルム20は、ヒドロキシカルボン酸をメソゲン基とする液晶ポリマー層22a及び22bと、前記液晶ポリマー層22a及び22bに挟まれたポリイミド樹脂フィルム21とを含む。
三層フィルム20は、ポリイミド樹脂フィルム21の厚み(T1)とヒドロキシカルボン酸をメソゲン基とする液晶ポリマー層22a及び22bそれぞれの厚み(T2)とが、以下の関係式(a)及び(b)を満たし、2つのT2(図1中のT2a及びT2b)は互いに独立し、同一であってもよく、異なっていてもよい。
(a)20μm≦T1≦50μm
(b)0.3≦T2/T1≦1.5
≪Three layer film≫
First, the three-layer film which is the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 1 shows a three-
In the three-
(A) 20 μm ≦ T1 ≦ 50 μm
(B) 0.3 ≦ T2 / T1 ≦ 1.5
[ポリイミド樹脂フィルム]
ポリイミド樹脂は、ジアミン類とテトラカルボン酸二無水物を出発原料として、重縮合によって得られる縮合型ポリイミドである。言い換えれば、ポリイミド樹脂は、ジアミン類とテトラカルボン酸二無水物を出発原料とした重縮合反応物である縮合型ポリイミドである。ジアミン類としては、特に制限はなく、ポリイミドの合成に通常用いられる芳香族ジアミン類、脂環式ジアミン類、脂肪族ジアミン類等を用いることができる。ジアミン類は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。
また、テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、脂肪族テトラカルボン酸二無水物等を用いることができ、特に制限されることはない。テトラカルボン酸二無水物は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。
また、上記ジアミン類及びテトラカルボン酸二無水物の少なくともいずれか一方において、フッ素基やトリフルオロメチル基、水酸基、スルホン基、カルボニル基、複素環、長鎖アルキル基等からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を1つあるいは複数有していてもよい。
本明細書において、モノマーが重合された物質に対して使用される、用語「重合反応物」、「重縮合反応物」、「樹脂」等は、前記モノマーから導かれる構成単位(繰り返し単位ともいう)からなる「重合反応物」、「重縮合反応物」、「樹脂」等を意味する。
[Polyimide resin film]
The polyimide resin is a condensation type polyimide obtained by polycondensation using diamines and tetracarboxylic dianhydride as starting materials. In other words, the polyimide resin is a condensation type polyimide that is a polycondensation reaction product starting from diamines and tetracarboxylic dianhydride. There is no restriction | limiting in particular as diamine, The aromatic diamine, alicyclic diamine, aliphatic diamine etc. which are normally used for the synthesis | combination of a polyimide can be used. Diamines may be used alone or in combination of two or more.
Moreover, as tetracarboxylic dianhydride, aromatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, aliphatic tetracarboxylic dianhydride and the like can be used, and are particularly limited. There is no. Tetracarboxylic dianhydride may be used alone or in combination of two or more.
Further, in at least one of the diamines and tetracarboxylic dianhydrides, at least selected from the group consisting of a fluorine group, a trifluoromethyl group, a hydroxyl group, a sulfone group, a carbonyl group, a heterocyclic ring, a long chain alkyl group, and the like. One type or a plurality of types of functional groups may be included.
In the present specification, the terms “polymerization reaction product”, “polycondensation reaction product”, “resin” and the like used for a substance in which a monomer is polymerized are structural units (also referred to as repeating units) derived from the monomer. ] "Polymerization reaction product", "polycondensation reaction product", "resin" and the like.
このようなポリイミドの中でも、ポリイミド樹脂フィルム21を形成した場合の機械強度、屈曲性の観点から、テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いることが好ましい。
ジアミン類については、芳香族ジアミン類、脂環式ジアミン類、脂肪族ジアミン類を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、ポリイミド樹脂フィルム21を形成した場合の機械強度、屈曲性の観点から、ジアミンとしては、芳香族ジアミンが好ましい。
Among such polyimides, from the viewpoint of mechanical strength and flexibility when the
About diamine, aromatic diamine, alicyclic diamine, and aliphatic diamine may be used independently, and 2 or more types may be used together.
From the viewpoint of mechanical strength and flexibility when the
ポリイミド樹脂フィルムとしては、市販のポリイミド樹脂(PI)フィルムを用いることができ、例えば、宇部興産(株)製PIフィルム(U−ピレックスS、U−ピレックスR)、東レデュポン製PIフィルム(カプトン)、SKCコーロンPI社製PIフィルム(IF30、IF70、LV300)が挙げられる。 As the polyimide resin film, a commercially available polyimide resin (PI) film can be used. For example, Ube Industries, Ltd. PI film (U-Pyrex S, U-Pyrex R), Toray DuPont PI film (Kapton) , PI film (IF30, IF70, LV300) manufactured by SKC Kolon PI.
本発明において、ポリイミド樹脂フィルムの厚み(T1)は、下記(a)の式を満たす。
(a)20μm≦T1≦50μm
ここで、ポリイミド樹脂フィルムの厚さは、ポリイミド樹脂フィルムの任意の5箇所で、接触式厚み計で厚さを測定した平均で表される値である。なおポリイミド樹脂フィルムの厚さを測定する際、直接に接触式厚み計を適用することが困難であるときは、液晶ポリマー層22a及び22bなど、他の層が重ね合わされた状態で、上記と同様に全体の厚さを測定し、重ね合わせられていた他の層の厚さ(上記と同様の方法で測定したもの)との差分を取ることで算出してもよい。
本発明において、入手が容易であるという観点から、ポリイミド樹脂フィルムの厚さは、20μm≦T1≦40μmであることが好ましく、20μm≦T1≦30μmであることがより好ましい。
ポリイミド樹脂フィルムの厚みが上記下限値以上であると、三層フィルムの絶縁特性と姿勢保持機能を確保でき、上記上限値以下であると、適度な柔軟性を確保できる。
In the present invention, the thickness (T1) of the polyimide resin film satisfies the following formula (a).
(A) 20 μm ≦ T1 ≦ 50 μm
Here, the thickness of a polyimide resin film is a value represented by the average which measured the thickness with the contact-type thickness meter in arbitrary five places of a polyimide resin film. When measuring the thickness of the polyimide resin film, if it is difficult to directly apply a contact thickness gauge, the liquid
In the present invention, from the viewpoint of easy availability, the thickness of the polyimide resin film is preferably 20 μm ≦ T1 ≦ 40 μm, and more preferably 20 μm ≦ T1 ≦ 30 μm.
When the thickness of the polyimide resin film is equal to or greater than the above lower limit value, it is possible to ensure the insulating properties and the posture maintaining function of the three-layer film, and when it is equal to or less than the above upper limit value, it is possible to ensure appropriate flexibility.
[液晶ポリマー]
本発明の三層フィルムの液晶ポリマー層に用いる液晶ポリマーは、ヒドロキシカルボン酸をメソゲン基とする液晶ポリマーである。典型的な例としては、単独の又は複数種の芳香族ヒドロキシカルボン酸を重合させてなるもの、単独の又は複数種の芳香族ヒドロキシカルボン酸と、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を重合(重縮合)させてなるもの、及びポリエチレンテレフタレート等のポリエステルと芳香族ヒドロキシカルボン酸とを重合させてなるものが挙げられる。言い換えれば、単独の又は複数種の芳香族ヒドロキシカルボン酸の重合反応物、単独の又は複数種の芳香族ヒドロキシカルボン酸と、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物の重合反応物(重縮合反応物)、及びポリエチレンテレフタレート等のポリエステルと芳香族ヒドロキシカルボン酸の重合反応物が挙げられる。
ヒドロキシカルボン酸に由来するメソゲン基は、特に限定されないが、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位を含有することが好ましい。ここで、メソゲン基とは、液晶分子の中に含まれる分子形状が棒状又は板状で分子の長鎖に沿って剛性が高い分子鎖のことである。メソゲン基は、液晶ポリマーの主鎖又は側鎖のいずれか一方又は両方に存在してもよいが、高耐熱性を求めるならば主鎖に存在することが好ましい。
本発明においては、液晶ポリマーは、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位を含有することが好ましい。
[Liquid Crystal Polymer]
The liquid crystal polymer used for the liquid crystal polymer layer of the three-layer film of the present invention is a liquid crystal polymer having hydroxycarboxylic acid as a mesogenic group. Typical examples include those obtained by polymerizing single or plural kinds of aromatic hydroxycarboxylic acids, single or plural kinds of aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids, aromatic diols, aromatic hydroxys. Examples include those obtained by polymerizing (polycondensation) at least one compound selected from the group consisting of amines and aromatic diamines, and those obtained by polymerizing a polyester such as polyethylene terephthalate and an aromatic hydroxycarboxylic acid. In other words, polymerization reaction product of single or plural kinds of aromatic hydroxycarboxylic acids, single or plural kinds of aromatic hydroxycarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids, aromatic diols, aromatic hydroxyamines and aromatic diamines. Examples include a polymerization reaction product (polycondensation reaction product) of at least one compound selected from the group, and a polymerization reaction product of a polyester such as polyethylene terephthalate and an aromatic hydroxycarboxylic acid.
The mesogenic group derived from hydroxycarboxylic acid is not particularly limited, but preferably contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid. Here, the mesogenic group is a molecular chain having a high rigidity along the long chain of the molecule having a rod-like or plate-like molecular shape contained in the liquid crystal molecule. The mesogenic group may be present in one or both of the main chain and the side chain of the liquid crystal polymer, but is preferably present in the main chain if high heat resistance is required.
In the present invention, the liquid crystal polymer preferably contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid.
液晶ポリマーは、下記(1)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(1)」ということがある。)を有することが好ましく、繰返し単位(1)と、下記式(2)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(2)」ということがある。)と、を有することがより好ましい。 The liquid crystal polymer preferably has a repeating unit represented by the following (1) (hereinafter sometimes referred to as “repeating unit (1)”), and is represented by the repeating unit (1) and the following formula (2). It is more preferable to have a repeating unit (hereinafter sometimes referred to as “repeating unit (2)”).
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。)
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。 As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned.
前記アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基及びn−デシル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは1〜10である。 Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group, An n-octyl group and an n-decyl group are mentioned, The carbon number becomes like this. Preferably it is 1-10.
前記アリール基の例としては、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、1−ナフチル基及び2−ナフチル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは6〜20である。
Ar1〜Ar4で表される前記基にある水素原子がこれらの基で置換されている場合、その数は、Ar1〜Ar4で表される前記基毎に、それぞれ独立に、好ましくは2個以下であり、より好ましくは1個である。
前記アルキリデン基の例としては、メチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基、n−ブチリデン基及び2−エチルヘキシリデン基が挙げられ、その炭素数は好ましくは1〜10である。
Examples of the aryl group include a phenyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group, and the carbon number thereof is preferably 6-20. is there.
When the hydrogen atom in the group represented by Ar 1 to Ar 4 is substituted with these groups, the number is preferably independently for each group represented by Ar 1 to Ar 4. Two or less, more preferably one.
Examples of the alkylidene group include a methylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, an n-butylidene group, and a 2-ethylhexylidene group, and the carbon number thereof is preferably 1-10.
繰返し単位(1)は、所定の芳香族ジカルボン酸に由来する繰返し単位である。繰返し単位(1)としては、Ar1がp−フェニレン基であるもの(テレフタル酸に由来する繰返し単位)、Ar1がm−フェニレン基であるもの(イソフタル酸に由来する繰返し単位)、Ar1が2,6−ナフチレン基であるもの(2,6−ナフタレンジカルボン酸に由来する繰返し単位)、及びAr1がジフェニルエ−テル−4,4’−ジイル基であるもの(ジフェニルエ−テル−4,4’−ジカルボン酸に由来する繰返し単位)が好ましい。 The repeating unit (1) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic dicarboxylic acid. As the repeating unit (1), Ar 1 is a p-phenylene group (a repeating unit derived from terephthalic acid), Ar 1 is an m-phenylene group (a repeating unit derived from isophthalic acid), Ar 1 Is a 2,6-naphthylene group (repeating unit derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid), and Ar 1 is a diphenyl ether-4,4′-diyl group (diphenyl ether- 4,4′-dicarboxylic acid-derived repeating units) are preferred.
繰返し単位(2)は、所定の芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシルアミン又は芳香族ジアミンに由来する繰返し単位である。繰返し単位(2)としては、Ar2がp−フェニレン基であるもの(ヒドロキノン、p−アミノフェノール又はp−フェニレンジアミンに由来する繰返し単位)、及びAr2が4,4’−ビフェニリレン基であるもの(4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4−アミノ−4’−ヒドロキシビフェニル又は4,4’−ジアミノビフェニルに由来する繰返し単位)が好ましい。 The repeating unit (2) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic diol, aromatic hydroxylamine or aromatic diamine. As the repeating unit (2), Ar 2 is a p-phenylene group (a repeating unit derived from hydroquinone, p-aminophenol or p-phenylenediamine), and Ar 2 is a 4,4′-biphenylylene group. Those (4,4′-dihydroxybiphenyl, 4-amino-4′-hydroxybiphenyl or repeating units derived from 4,4′-diaminobiphenyl) are preferred.
繰返し単位(1)の含有量は、全繰返し単位の合計量(液晶ポリマーを構成する各繰返し単位の質量をその各繰返し単位の式量で割ることにより、各繰返し単位の物質量相当量(モル)を求め、それらを合計した値)に対して、好ましくは40モル%以下、より好ましくは10モル%以上37.5モル%以下、さらに好ましくは20モル%以上37.5モル%以下、よりさらに好ましくは25モル%以上37.5モル%以下である。 The content of the repeating unit (1) is the total amount of all repeating units (the mass equivalent amount of each repeating unit (moles by dividing the mass of each repeating unit constituting the liquid crystal polymer by the formula amount of each repeating unit). ) And the total value thereof) is preferably 40 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 37.5 mol% or less, and still more preferably 20 mol% or more and 37.5 mol% or less, more More preferably, it is 25 mol% or more and 37.5 mol% or less.
同様に、繰返し単位(2)の含有量は、全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは40モル%以下、より好ましくは10モル%以上37.5モル%以下、さらに好ましくは20モル%以上37.5モル%以下、よりさらに好ましくは25モル%以上37.5モル%以下である。 Similarly, the content of the repeating unit (2) is preferably 40 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 37.5 mol% or less, further preferably 20 mol%, based on the total amount of all repeating units. It is 37.5 mol% or less, more preferably 25 mol% or more and 37.5 mol% or less.
ヒドロキシカルボン酸を由来とするメソゲン基の含有量は、全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは55モル%以下、より好ましくは20モル%以上50モル%以下、さらに好ましくは25モル%以上45モル%以下、よりさらに好ましくは30モル%以上45モル%以下である。液晶ポリマーにおいて、ヒドロキシカルボン酸を由来とするメソゲン基の含有量が55モル%より高いと、得られる液晶ポリマーは後述する溶媒に溶けにくくなる傾向にあるため、液晶ポリマー層が得られにくい傾向にある。 The content of the mesogenic group derived from hydroxycarboxylic acid is preferably 55 mol% or less, more preferably 20 mol% or more and 50 mol% or less, further preferably 25 mol% or more, based on the total amount of all repeating units. It is 45 mol% or less, More preferably, it is 30 mol% or more and 45 mol% or less. In the liquid crystal polymer, if the content of the mesogenic group derived from the hydroxycarboxylic acid is higher than 55 mol%, the obtained liquid crystal polymer tends to be difficult to dissolve in the solvent described later, so the liquid crystal polymer layer tends to be difficult to obtain. is there.
繰返し単位(1)の含有量と繰返し単位(2)の含有量との割合は、[繰返し単位(1)の含有量]/[繰返し単位(2)の含有量](モル/モル)で表して、好ましくは0.9/1〜1/0.9、より好ましくは0.95/1〜1/0.95、さらに好ましくは0.98/1〜1/0.98である。 The ratio between the content of the repeating unit (1) and the content of the repeating unit (2) is expressed as [content of repeating unit (1)] / [content of repeating unit (2)] (mol / mol). The ratio is preferably 0.9 / 1 to 1 / 0.9, more preferably 0.95 / 1 to 1 / 0.95, and still more preferably 0.98 / 1 to 1 / 0.98.
なお、液晶ポリマーは、繰返し単位(1)〜(2)を、それぞれ独立に、2種以上有してもよい。また、液晶ポリマーは、繰返し単位(1)〜(2)以外の繰返し単位を有してもよいが、その含有量は、全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは0モル%より多く10モル%以下、より好ましくは0モル%より多く5モル%以下である。 In addition, a liquid crystal polymer may have 2 or more types of repeating units (1)-(2) each independently. Further, the liquid crystal polymer may have a repeating unit other than the repeating units (1) to (2), but the content thereof is preferably more than 0 mol% to 10% with respect to the total amount of all repeating units. The mol% or less, more preferably more than 0 mol% and 5 mol% or less.
液晶ポリマーは、繰返し単位(2)として、XとYとのいずれか一方又は両方がイミノ基であるものを有すること、すなわち、所定の芳香族ヒドロキシルアミンに由来する繰返し単位と、芳香族ジアミンに由来する繰返し単位と、のいずれか一方又は両方を有すると、溶媒に対する溶解性が優れるために好ましく、繰返し単位(2)として、XとYとのいずれか一方又は両方がイミノ基であるもののみを有すると、より好ましい。 The liquid crystal polymer has, as the repeating unit (2), one or both of X and Y are imino groups, that is, a repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxylamine, and an aromatic diamine. It is preferable to have either one or both of the repeating unit derived from it because of excellent solubility in a solvent, and as the repeating unit (2), only one of X and Y or both are imino groups More preferably.
液晶ポリマーは、ヒドロキシカルボン酸を由来とするメソゲン基と、繰り返し単位(1)〜(2)とがランダムに結合しているものでもよいし、液晶性を示すのであればブロックコポリマーでもよい。 The liquid crystal polymer may be one in which the mesogenic group derived from hydroxycarboxylic acid and the repeating units (1) to (2) are randomly bonded, or may be a block copolymer as long as it exhibits liquid crystallinity.
液晶ポリマーは、それを構成する繰返し単位に対応する原料モノマーを溶融重合させ、得られた重合物(プレポリマー)を固相重合させることにより、製造することが好ましい。これにより、耐熱性や強度・剛性が高い高分子量の液晶ポリマーを操作性良く製造することができる。溶融重合は、触媒の存在下に行ってもよく、この触媒の例としては、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモン等の金属化合物や、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、1−メチルイミダゾール等の含窒素複素環式化合物が挙げられ、含窒素複素環式化合物が好ましく用いられる。 The liquid crystal polymer is preferably produced by melt polymerization of raw material monomers corresponding to the repeating units constituting the liquid crystal polymer, and solid-phase polymerization of the obtained polymer (prepolymer). Thereby, a high molecular weight liquid crystal polymer having high heat resistance, strength and rigidity can be produced with good operability. Melt polymerization may be carried out in the presence of a catalyst. Examples of this catalyst include metal compounds such as magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, potassium acetate, and antimony trioxide, And nitrogen-containing heterocyclic compounds such as 4- (dimethylamino) pyridine and 1-methylimidazole, and nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferably used.
液晶ポリマーは、その流動開始温度が、好ましくは250℃以上、より好ましくは250℃以上350℃以下、さらに好ましくは260℃以上330℃以下である。流動開始温度が高いほど、耐熱性や強度・剛性が向上し易いが、あまり高いと、有機溶媒に対する溶解性が低くなり易かったり、溶液の粘度が高くなり易かったりする。 The liquid crystal polymer has a flow initiation temperature of preferably 250 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, and still more preferably 260 ° C. or higher and 330 ° C. or lower. As the flow start temperature is higher, the heat resistance, strength, and rigidity are more likely to be improved. However, if the flow start temperature is too high, the solubility in organic solvents tends to be low, and the viscosity of the solution tends to be high.
なお、流動開始温度は、フロー温度又は流動温度とも呼ばれ、毛細管レオメーターを用いて、9.8MPa(100kgf/cm2)の荷重下、4℃/分の速度で昇温しながら、液晶ポリマーを溶融させ、内径1mm及び長さ10mmのノズルから押し出すときに、4800Pa・s(48000ポイズ)の粘度を示す温度であり、液晶ポリマーの分子量の目安となるものである(小出直之編、「液晶ポリマー−合成・成形・応用−」、株式会社シーエムシー、1987年6月5日、p.95参照)。 The flow start temperature is also called flow temperature or flow temperature, and the liquid crystal polymer is heated at a rate of 4 ° C./min under a load of 9.8 MPa (100 kgf / cm 2 ) using a capillary rheometer. Is a temperature showing a viscosity of 4800 Pa · s (48000 poise) when extruded from a nozzle having an inner diameter of 1 mm and a length of 10 mm, and is a measure of the molecular weight of the liquid crystal polymer (Naoyuki Koide, “ “Liquid Crystal Polymer—Synthesis / Molding / Application—”, CMC Co., Ltd., June 5, 1987, p. 95).
本発明において、液晶ポリマー層は、前述のような液晶ポリマーと溶媒とを含む液状組成物により形成することができる。溶媒としては有機溶媒が好ましく、有機溶媒は、用いる液晶ポリマーが溶解可能なもの、具体的には50℃にて1質量%以上の濃度([液晶ポリマー]/[液晶ポリマー+有機溶媒])で溶解可能なものが、適宜選択して用いられる。 In the present invention, the liquid crystal polymer layer can be formed of a liquid composition containing the liquid crystal polymer and the solvent as described above. The solvent is preferably an organic solvent, and the organic solvent can dissolve the liquid crystal polymer to be used, specifically at a concentration of 1% by mass or more ([liquid crystal polymer] / [liquid crystal polymer + organic solvent]) at 50 ° C. Those that can be dissolved are appropriately selected and used.
有機溶媒の例としては、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;p−クロロフェノール、ペンタクロロフェノール、ペンタフルオロフェノール等のハロゲン化フェノール;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル;アセトン、シクロヘキサノン等のケトン;酢酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート;トリエチルアミン等のアミン;ピリジン等の含窒素複素環芳香族化合物;アセトニトリル、スクシノニトリル等のニトリル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒(分子内にアミド結合を有する有機溶媒);テトラメチル尿素等の尿素化合物;ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物;及びヘキサメチルリン酸アミド、トリn−ブチルリン酸等のリン化合物が挙げられる。また、これらの有機溶媒のうち、2種以上の有機溶媒を組み合わせて用いてもよい。 Examples of organic solvents include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, o-dichlorobenzene; p-chlorophenol, pentachlorophenol, pentafluoro Halogenated phenols such as phenol; Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; Ketones such as acetone and cyclohexanone; Esters such as ethyl acetate and γ-butyrolactone; Carbonates such as ethylene carbonate and propylene carbonate; Triethylamine and the like Amines; Nitrogen-containing heterocyclic aromatic compounds such as pyridine; Nitriles such as acetonitrile and succinonitrile; Ami such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone System solvents (organic solvents having an amide bond in the molecule); urea compounds such as tetramethylurea; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and hexamethylphosphoric acid amide and tri-n-butylphosphorus Examples thereof include phosphorus compounds such as acids. Of these organic solvents, two or more organic solvents may be used in combination.
有機溶媒としては、腐食性が低く、取り扱い易いことから、非プロトン性化合物を主成分とする溶媒(非プロトン性溶媒)、特にハロゲン原子を有しない非プロトン性化合物を主成分とする溶媒が好ましい。この非プロトン性化合物としては、液晶ポリマーを溶解し易いことから、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を用いることが好ましい。また、有機溶媒全体に占める非プロトン性化合物の割合は、好ましくは50質量%以上100質量%以下、より好ましくは70質量%以上100質量%以下、さらに好ましくは90質量%以上100質量%以下である。 As the organic solvent, a solvent having an aprotic compound as a main component (aprotic solvent), particularly a solvent having an aprotic compound having no halogen atom as a main component is preferable because it is low in corrosivity and easy to handle. . As this aprotic compound, an amide solvent such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone or the like is preferably used because the liquid crystal polymer is easily dissolved. The proportion of the aprotic compound in the whole organic solvent is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 70% by mass to 100% by mass, and further preferably 90% by mass to 100% by mass. is there.
また、有機溶媒としては、液晶ポリマーを溶解し易いことから、双極子モーメントが3〜5(単位:デバイ)である化合物を主成分とする溶媒が好ましく、上述の非プロトン性化合物であって、双極子モーメントが3〜5である化合物を用いることがより好ましい。
また、有機溶媒全体に占める双極子モーメントが3〜5である化合物の割合は、好ましくは50質量%以上100質量%以下、より好ましくは70質量%以上100質量%以下、さらに好ましくは90質量%以上100質量%以下である。
The organic solvent is preferably a solvent mainly composed of a compound having a dipole moment of 3 to 5 (unit: Debye) because it easily dissolves the liquid crystal polymer, and is the above-mentioned aprotic compound, It is more preferable to use a compound having a dipole moment of 3 to 5.
The proportion of the compound having a dipole moment of 3 to 5 in the entire organic solvent is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 70% by mass to 100% by mass, and still more preferably 90% by mass. It is 100 mass% or less.
非プロトン性化合物であり、且つ双極子モーメントが3〜5である化合物としては、ジメチルスルホキシド(双極子モーメント:4.1デバイ)、N,N−ジメチルアセトアミド(3.7デバイ)、N,N−ジメチルホルムアミド(3.9デバイ)、N−メチルピロリドン(4.1デバイ)を例示することができる。 Examples of the aprotic compound having a dipole moment of 3 to 5 include dimethyl sulfoxide (dipole moment: 4.1 debye), N, N-dimethylacetamide (3.7 debye), N, N -Dimethylformamide (3.9 debye) and N-methylpyrrolidone (4.1 debye) can be exemplified.
また、有機溶媒としては、除去し易いことから、1気圧における沸点が220℃以下である化合物を主成分とするとする溶媒が好ましく、上述の非プロトン性化合物であって、1気圧における沸点が220℃以下である化合物を用いることがより好ましい。また、有機溶媒全体に占める1気圧における沸点が220℃以下である化合物の割合は、好ましくは50質量%以上100質量%以下、より好ましくは70質量%以上100質量%以下、さらに好ましくは90質量%以上100質量%以下である。 The organic solvent is preferably a solvent mainly composed of a compound having a boiling point of 220 ° C. or less at 1 atm because it is easy to remove, and is the above-mentioned aprotic compound having a boiling point of 220 at 1 atm. It is more preferable to use a compound having a temperature of 0 ° C. or lower. The proportion of the compound having a boiling point of 220 ° C. or less at 1 atm in the entire organic solvent is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 70% by mass to 100% by mass, and still more preferably 90% by mass. % Or more and 100% by mass or less.
非プロトン性化合物であり、且つ1気圧における沸点が220℃以下である化合物としては、N,N−ジメチルアセトアミド(沸点:160℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(沸点:153℃)、N−メチルピロリドン(沸点:202℃)を例示することができる。 Examples of compounds that are aprotic compounds and have a boiling point of 220 ° C. or less at 1 atm include N, N-dimethylacetamide (boiling point: 160 ° C.), N, N-dimethylformamide (boiling point: 153 ° C.), N— An example is methylpyrrolidone (boiling point: 202 ° C.).
(液状組成物)
液状組成物中の液晶ポリマーの含有量は、液晶ポリマー及び有機溶媒の合計量に対して、好ましくは5質量%以上60質量%以下、より好ましくは10質量%以上50質量%以下、さらに好ましくは15質量%以上45質量%以下であり、所望の粘度の液状組成物が得られるように、適宜調整される。
(Liquid composition)
The content of the liquid crystal polymer in the liquid composition is preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less, and still more preferably, with respect to the total amount of the liquid crystal polymer and the organic solvent. It is 15 mass% or more and 45 mass% or less, and is adjusted suitably so that the liquid composition of desired viscosity may be obtained.
また、液状組成物は、本発明の三層フィルムの効果を損なわない範囲で、充填材、添加剤、液晶ポリマー以外の樹脂等の成分を1種以上含んでもよい。 In addition, the liquid composition may contain one or more components such as a filler, an additive, and a resin other than the liquid crystal polymer as long as the effects of the three-layer film of the present invention are not impaired.
充填材の例としては、シリカ、アルミナ、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム等の無機充填材;及びレベリング剤、硬化エポキシ樹脂、架橋ベンゾグアナミン樹脂、架橋アクリル樹脂等の有機充填材が挙げられ、その含有量は、液晶ポリマー100質量部に対して、好ましくは0質量部以上100質量部以下である。 Examples of fillers include inorganic fillers such as silica, alumina, titanium oxide, barium titanate, strontium titanate, aluminum hydroxide, calcium carbonate; and leveling agents, cured epoxy resins, crosslinked benzoguanamine resins, crosslinked acrylic resins, etc. The content thereof is preferably 0 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the liquid crystal polymer.
添加剤の例としては、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤及び着色剤が挙げられ、その含有量は、液晶ポリマー100質量部に対して、好ましくは0質量部以上5質量部以下である。 Examples of the additive include a leveling agent, an antifoaming agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a flame retardant, and a colorant, and the content thereof is preferably 0 part by mass with respect to 100 parts by mass of the liquid crystal polymer. The amount is 5 parts by mass or less.
液晶ポリマー以外の樹脂の例としては、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル及びその変性物、ポリエーテルイミド等の液晶ポリマー以外の熱可塑性樹脂;グリシジルメタクリレートとポリエチレンとの共重合体等のエラストマー;及びフェノール樹脂、エポキシ樹脂、シアネート樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられ、その含有量は、液晶ポリマー100質量部に対して、好ましくは0質量部以上20質量部以下である。 Examples of resins other than liquid crystal polymers include thermoplastic resins other than liquid crystal polymers such as polypropylene, polyamide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether ketone, polycarbonate, polyether sulfone, polyphenylene ether and modified products thereof, and polyether imide; glycidyl Examples include elastomers such as copolymers of methacrylate and polyethylene; and thermosetting resins such as phenol resins, epoxy resins, and cyanate resins, and the content thereof is preferably 0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the liquid crystal polymer. The amount is 20 parts by mass or less.
液状組成物は、液晶ポリマー、有機溶媒、及び必要に応じて用いられる他の成分を、一括で又は適当な順序で混合することにより調製することができる。他の成分として充填材を用いる場合は、液晶ポリマーを有機溶媒に溶解させて、液状組成物を得た後、この液状組成物に充填材を分散させることにより調製することが好ましい。 The liquid composition can be prepared by mixing the liquid crystal polymer, the organic solvent, and other components used as necessary, all at once or in an appropriate order. When using a filler as another component, it is preferable to prepare by dissolving a liquid crystal polymer in an organic solvent to obtain a liquid composition, and then dispersing the filler in the liquid composition.
本発明において、液晶ポリマー層の厚み(T2)は、前記ポリイミド樹脂フィルムの厚み(T1)との関係において、下記式(b)を満たす。
(b)0.3≦T2/T1≦1.5
In the present invention, the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer satisfies the following formula (b) in relation to the thickness (T1) of the polyimide resin film.
(B) 0.3 ≦ T2 / T1 ≦ 1.5
本発明において、「液晶ポリマー層の厚み」とは、ポリイミド樹脂フィルムの両面に積層された液晶ポリマー層のそれぞれの厚みを意味する。具体的には、図1中のT2a及びT2bのそれぞれが上記式(b)を満たす。
ここで、液晶ポリマー層の厚さは、液晶ポリマー層の任意の5箇所で、接触式厚み計で厚さを測定した平均で表される値である。なお液晶ポリマー層の厚さを測定する際、直接に接触式厚み計を適用することが困難であるときは、ポリイミド樹脂フィルムなどの他の層が重ね合わされた状態で、上記と同様に全体の厚さを測定し、重ね合わせられていた他の層の厚さ(上記と同様の方法で測定したもの)との差分を取ることで算出してもよい。
In the present invention, “the thickness of the liquid crystal polymer layer” means the thickness of each of the liquid crystal polymer layers laminated on both surfaces of the polyimide resin film. Specifically, each of T2a and T2b in FIG. 1 satisfies the above formula (b).
Here, the thickness of the liquid crystal polymer layer is a value represented by an average obtained by measuring the thickness with a contact-type thickness meter at any five locations of the liquid crystal polymer layer. When measuring the thickness of the liquid crystal polymer layer, if it is difficult to directly apply a contact-type thickness gauge, the other layers such as a polyimide resin film are overlapped, You may calculate by measuring thickness and taking the difference with the thickness (what was measured by the method similar to the above) of the other layer overlaid.
本発明において、液晶ポリマー層の厚み(T2)は、前記ポリイミド樹脂フィルムの厚み(T1)との関係が0.35≦T2/T1≦1.4の範囲であることが好ましく、0.4≦T2/T1≦1.3の範囲であることが特に好ましい。 In the present invention, the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer is preferably in the range of 0.35 ≦ T2 / T1 ≦ 1.4 with respect to the thickness (T1) of the polyimide resin film, and 0.4 ≦ A range of T2 / T1 ≦ 1.3 is particularly preferable.
本発明の三層フィルムにおいて、例えば厚みが25μmのポリイミド樹脂フィルムを採用した場合、液晶ポリマー層の厚みは、7.5μm〜50μmが好ましく、8μm〜40μmがより好ましく、9μm〜35μmであることが特に好ましい。 In the three-layer film of the present invention, for example, when a polyimide resin film having a thickness of 25 μm is adopted, the thickness of the liquid crystal polymer layer is preferably 7.5 μm to 50 μm, more preferably 8 μm to 40 μm, and preferably 9 μm to 35 μm. Particularly preferred.
本発明の三層フィルムにおいて、液晶ポリマー層の厚み(図1中のT2a及びT2b)は、互いに独立し、同一であってもよく、異なっていてもよい。本発明においては、同一であることが好ましいが、本発明の効果を奏し、さらに三層フィルムに反りが生じない範囲であれば適宜調整・変更することができる。
例えば、ポリイミド樹脂フィルムが反りを防止できる程度の硬さを有する場合には、液晶ポリマー層の厚み(図1中のT2a及びT2b)に差を設けてもよい。
液晶ポリマー層の厚み(図1中のT2a及びT2b)を異なるものとする場合、例えばT2aの厚みとT2bの厚みの差は、±10%以内とすることが好ましく、±5%以内とすることがより好ましく、±3%以内とすることが特に好ましい。
In the three-layer film of the present invention, the thickness of the liquid crystal polymer layer (T2a and T2b in FIG. 1) is independent from each other and may be the same or different. In the present invention, they are preferably the same, but can be appropriately adjusted and changed as long as the effects of the present invention are achieved and the three-layer film does not warp.
For example, when the polyimide resin film has a hardness that can prevent warping, a difference may be provided in the thickness of the liquid crystal polymer layer (T2a and T2b in FIG. 1).
When the thickness of the liquid crystal polymer layer (T2a and T2b in FIG. 1) is different, for example, the difference between the thickness of T2a and the thickness of T2b is preferably within ± 10%, and within ± 5% Is more preferable, and it is particularly preferably within ± 3%.
液晶ポリマーは、優れた低吸湿性、絶縁性、機械的強度等を有するため、液晶ポリマー層をポリイミド樹脂フィルムの両面に積層することにより、吸湿性を有するポリイミド樹脂フィルムの吸湿作用を高く抑制することができる。このため、本発明の三層フィルムに金属を積層させたプリント回路基板等が多湿環境に置かれた場合や、水に浸漬した場合であっても、ポリイミド樹脂フィルムの吸湿性に起因する電気特性の劣化を高く抑えることができる。 Since the liquid crystal polymer has excellent low hygroscopicity, insulation, mechanical strength, etc., the hygroscopic action of the polyimide resin film having hygroscopicity is highly suppressed by laminating the liquid crystal polymer layer on both sides of the polyimide resin film. be able to. For this reason, even when the printed circuit board or the like in which the metal is laminated on the three-layer film of the present invention is placed in a humid environment or when it is immersed in water, the electrical characteristics due to the hygroscopicity of the polyimide resin film It is possible to suppress deterioration of the material.
また、液晶ポリマー層の厚み(T2)が、ポリイミド樹脂フィルムの厚み(T1)との関係において、上記所定の上限値以下とすることにより、本発明の三層フィルムに金属を積層させた場合に、該金属積層体の寸法安定性を良好なものとすることができる。
さらに、液晶ポリマー層の厚み(T2)が、ポリイミド樹脂フィルムの厚み(T1)との関係において、上記所定の下限値以上とすることにより、ポリイミド樹脂フィルムの吸湿作用を高く抑制することができる。このため、本発明の三層フィルムに金属を積層させた場合に、該金属積層体の伝送損失を低下させる作用を高度に発現することができる。本発明の三層フィルムは、該三層フィルムの両面に金属層を積層した際、特に、高度な寸法安定性及び伝送損失低下作用を発現できる。従って、本発明の三層フィルムは、該三層フィルムの両面に金属層を積層して得られる積層体に用いることが好ましい。
In addition, when the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer is equal to or less than the predetermined upper limit value in relation to the thickness (T1) of the polyimide resin film, a metal is laminated on the three-layer film of the present invention. The dimensional stability of the metal laminate can be improved.
Furthermore, when the thickness (T2) of the liquid crystal polymer layer is greater than or equal to the predetermined lower limit in relation to the thickness (T1) of the polyimide resin film, the hygroscopic action of the polyimide resin film can be suppressed to a high level. For this reason, when a metal is laminated on the three-layer film of the present invention, the effect of reducing the transmission loss of the metal laminate can be highly expressed. The three-layer film of the present invention can exhibit a high level of dimensional stability and transmission loss reducing action, particularly when a metal layer is laminated on both sides of the three-layer film. Therefore, the three-layer film of the present invention is preferably used for a laminate obtained by laminating metal layers on both sides of the three-layer film.
本発明の三層フィルムを好適に用いることができる積層体としては、例えば図2に示すように、本発明の三層フィルム20の両面に、金属層30a、30bを積層したものが挙げられる。すなわち、積層体は、金属層30a及び30bと、金属層30a及び30bに挟まれた三層フィルム20を含む。
金属層としては、銅、アルミ、銀又はこれらから選択される一種以上の金属を含む合金が好ましい。中でも、より優れた導電性を有する点から、銅又は銅合金が好ましい。そして、金属層は、材料の取扱いが容易で、簡便に形成でき、経済性にも優れる点から、金属箔からなるものが好ましく、銅箔からなるものがより好ましい。金属層を三層フィルムの両面に設ける場合、これら金属層の材質は、同じでもよいし、異なっていてもよい。
金属層の厚さは、好ましくは1〜50μmであり、より好ましくは3〜35μmであり、さらに好ましくは5〜20μmである。
ここで、金属層の厚さは、金属層の任意の5箇所で、接触式厚み計で厚さを測定した平均で表される値である。なお金属層の厚さを測定する際、直接に接触式厚み計を適用することが困難であるときは、液晶ポリマー層など、他の層が重ね合わされた状態で、上記と同様に全体の厚さを測定し、重ね合わせられていた他の層の厚さ(上記と同様の方法で測定したもの)との差分を取ることで算出してもよい。
As a laminate in which the three-layer film of the present invention can be suitably used, for example, as shown in FIG. 2, a laminate in which
The metal layer is preferably copper, aluminum, silver or an alloy containing one or more metals selected from these. Among these, copper or a copper alloy is preferable because it has more excellent conductivity. The metal layer is preferably made of a metal foil, more preferably a copper foil, because the material is easy to handle, can be easily formed, and is excellent in economy. When providing a metal layer on both surfaces of a three-layer film, the material of these metal layers may be the same and may differ.
The thickness of a metal layer becomes like this. Preferably it is 1-50 micrometers, More preferably, it is 3-35 micrometers, More preferably, it is 5-20 micrometers.
Here, the thickness of a metal layer is the value represented by the average which measured thickness with the contact-type thickness meter in arbitrary five places of a metal layer. When measuring the thickness of the metal layer, if it is difficult to directly apply a contact thickness gauge, the total thickness is the same as described above in a state where other layers such as a liquid crystal polymer layer are overlaid. The thickness may be measured and calculated by taking the difference from the thickness of the other layer that has been superimposed (measured by the same method as described above).
≪三層フィルムの製造方法1≫
本発明の第二の態様は、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物をポリイミド樹脂フィルム上に塗布し、前記液状組成物で前記ポリイミド樹脂フィルムを覆う液状組成物塗布工程と、前記液状組成物中の溶媒を除去する溶媒除去工程と、加熱処理工程と、が含まれる本発明の第一の態様の三層フィルムの製造方法であって、前記液晶ポリマーとして、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位と、以下の構造単位(1)〜(2)とを含有することを特徴とする本発明の第一の態様の三層フィルムの製造方法である。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。)
≪Three-layer film production method 1≫
In a second aspect of the present invention, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer is applied onto a polyimide resin film, and the liquid composition coating step of covering the polyimide resin film with the liquid composition; and the liquid composition It is a manufacturing method of the three-layer film of the 1st aspect of this invention including the solvent removal process which removes the solvent in, and a heat processing process, Comprising: As said liquid crystal polymer, 2-hydroxybenzoic acid or 2- It is the manufacturing method of the three-layer film of the 1st aspect of this invention characterized by including the structural unit derived from hydroxy-6-naphthoic acid and the following structural units (1)-(2).
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
[液状組成物塗布工程]
本発明の三層フィルムの製造方法は、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物をポリイミド樹脂フィルム上に塗布し、前記液状組成物で前記ポリイミド樹脂フィルムを覆う液状組成物塗布工程を有する。
溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物及びポリイミド樹脂フィルムに関する説明は、前記本発明の三層フィルム中における説明と同様である。
前記の液状組成物をポリイミド樹脂フィルム上に塗布する方法としては、例えば、ローラーコート法、ディップコーター法、スプレイコーター法、カーテンコート法、スロットコート法、スクリーン印刷法等の各種手段が挙げられる。塗布時の温度は10〜40℃であることが好ましい。
[Liquid composition coating process]
The manufacturing method of the three-layer film of this invention has the liquid composition application | coating process which apply | coats the liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer on a polyimide resin film, and covers the said polyimide resin film with the said liquid composition.
The explanation regarding the liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer and the polyimide resin film is the same as the explanation in the three-layer film of the present invention.
Examples of the method for applying the liquid composition onto the polyimide resin film include various means such as a roller coating method, a dip coater method, a spray coater method, a curtain coating method, a slot coating method, and a screen printing method. The temperature during application is preferably 10 to 40 ° C.
本発明においては、上記の塗布方法により、ポリイミド樹脂フィルムの両面に液状組成物を塗布する。この際、液晶ポリマー層が前記所定の厚みとなるように、液状組成物の塗布量を調整する。 In this invention, a liquid composition is apply | coated to both surfaces of a polyimide resin film with said application | coating method. At this time, the coating amount of the liquid composition is adjusted so that the liquid crystal polymer layer has the predetermined thickness.
[溶媒除去工程]
前記[液状組成物塗布工程]の後、前記液状組成物中の溶媒を除去する。
ここで、溶媒の除去方法は、特に限定されないが、溶媒の蒸発により行うことが好ましい。該溶媒を蒸発させる方法としては、加熱、減圧、通風などの方法が挙げられるが、中でも生産効率、取り扱い性の観点から加熱して蒸発させることが好ましく、通風しつつ加熱して蒸発せしめることがより好ましい。
溶媒除去工程における加熱処理は、溶液組成物に適用した溶媒により適宜選択すればよく、60〜200℃で60〜600秒間加熱処理すればよく、120〜600秒間であることが好ましい。下限値以上とすることで、溶媒が十分に除去され、得られた三層フィルムにおいて、ブロッキングが抑制される。
また、[溶媒除去工程]における溶媒の除去は完全である必要はなく、次の[加熱処理工程]で残存溶媒が除去されてもよい。液晶ポリマー層の表面荒れを防止する観点から、本[溶媒除去工程]により、溶媒を除去しておくことが好ましい。
[Solvent removal step]
After the [liquid composition coating step], the solvent in the liquid composition is removed.
Here, the method for removing the solvent is not particularly limited, but it is preferably performed by evaporation of the solvent. Examples of the method for evaporating the solvent include methods such as heating, reduced pressure, and ventilation. Among them, heating and evaporation are preferable from the viewpoints of production efficiency and handleability, and heating and evaporation can be performed while ventilating. More preferred.
The heat treatment in the solvent removal step may be appropriately selected depending on the solvent applied to the solution composition, may be heat-treated at 60 to 200 ° C. for 60 to 600 seconds, and preferably 120 to 600 seconds. By setting it as more than a lower limit, a solvent is fully removed and blocking is suppressed in the obtained three-layer film.
Further, the removal of the solvent in the [solvent removal step] is not necessarily complete, and the remaining solvent may be removed in the next [heat treatment step]. From the viewpoint of preventing surface roughness of the liquid crystal polymer layer, it is preferable to remove the solvent by this [solvent removing step].
[加熱処理工程]
前記[溶媒除去工程]の後、加熱処理を行う。加熱処理は、例えば、不活性ガス雰囲気下で三層フィルムに熱を加えて加熱する方法が採用できる。加熱処理条件は、採用した液状組成物によって適宜調整すればよく、例えば、250℃から400℃の範囲で1分間から4時間行えばよい。
[Heat treatment process]
After the [solvent removing step], heat treatment is performed. As the heat treatment, for example, a method of heating by heating the three-layer film under an inert gas atmosphere can be employed. What is necessary is just to adjust heat processing conditions suitably with the employ | adopted liquid composition, for example, what is necessary is just to carry out for 1 minute to 4 hours in the range of 250 to 400 degreeC.
本発明の第二の態様の三層フィルムの製造方法においては、まず、ポリイミド樹脂フィルムの片面に液状組成物を塗布し、前記液状組成物中の溶媒を除去する。次に、この操作をもう一方の面にも繰り返し行い、最後に加熱処理をすることにより、本発明の第一の態様の三層フィルムを得ることができる。 In the method for producing a three-layer film of the second aspect of the present invention, first, a liquid composition is applied to one side of a polyimide resin film, and the solvent in the liquid composition is removed. Next, this operation is repeated on the other surface, and finally the heat treatment is performed, whereby the three-layer film of the first aspect of the present invention can be obtained.
≪三層フィルムの製造方法2≫
本発明の第三の態様は、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物中にポリイミド樹脂フィルムを含浸させ、前記液状組成物で前記ポリイミド樹脂フィルムを覆う含浸工程と、前記液状組成物中の溶媒を除去する溶媒除去工程と、加熱処理工程と、が含まれる製造方法であって、前記液晶ポリマーとして、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位と、以下の構造単位を含有することを特徴とする本発明の第一の態様の三層フィルムの製造方法である。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。)
≪Three-layer film production method 2≫
In a third aspect of the present invention, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer is impregnated with a polyimide resin film, the impregnation step of covering the polyimide resin film with the liquid composition, and the solvent in the liquid composition And a heat treatment step, wherein the liquid crystal polymer is a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and It is a manufacturing method of the 3 layer film of the 1st aspect of this invention characterized by containing a structural unit.
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
[含浸工程]
含浸工程では、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物中にポリイミド樹脂フィルムを含浸させる。含浸時間は、30秒から5分間が好ましい。含浸時の温度は10〜40℃であることが好ましい。
溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物及びポリイミド樹脂フィルムに関する説明は、前記本発明の三層フィルム中における説明と同様である。
含浸工程後は、液状組成物が含浸されたポリイミド樹脂フィルムを、その厚さよりも間隔が狭い一対のロール間を通過させる。本工程により、ポリイミド樹脂フィルムの表面に過剰に付着した液状組成物を除去することができる。
[Impregnation process]
In the impregnation step, a polyimide resin film is impregnated in a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer. The impregnation time is preferably 30 seconds to 5 minutes. The temperature during impregnation is preferably 10 to 40 ° C.
The explanation regarding the liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer and the polyimide resin film is the same as the explanation in the three-layer film of the present invention.
After the impregnation step, the polyimide resin film impregnated with the liquid composition is passed between a pair of rolls whose interval is narrower than its thickness. By this step, the liquid composition excessively attached to the surface of the polyimide resin film can be removed.
図3は、長尺のポリイミド樹脂フィルムを用い、含浸工程及びロール通過工程を連続的に行う方法を説明するための概略図である。ただし、ここに示すのは一例であり、本発明における含浸工程は、ここに示すものに限定されない。
ポリイミド樹脂フィルム10は、ガイドローラー4及びガイドローラーG1により誘導されて矢印方向に移動し、浸漬槽3で液状組成物Wに浸漬され、次いで、液状組成物含浸直後のポリイミド樹脂フィルム11は、浸漬槽3から引き上げられ、一対のロール5A及び5Bを備えたスクイズロール5に送られる。一対のロール5A及び5Bは、前記ポリイミド樹脂フィルム11を挟むように対向配置され、これらの間隔が、少なくとも前記ポリイミド樹脂フィルム11の厚さ(ポリイミド樹脂フィルム10とこれに含浸された液状組成物Wとを含む合計の厚さ)よりも狭くなるように調整されている。前記ポリイミド樹脂フィルム11は、このような一対のロール5A及び5B間を通過することで絞られ、余分な液状組成物が除去されると共に、液状組成物が内部に十分に含浸された液状組成物含浸ポリイミド樹脂フィルム12となる。
FIG. 3 is a schematic view for explaining a method of continuously performing an impregnation step and a roll passage step using a long polyimide resin film. However, what is shown here is an example, and the impregnation step in the present invention is not limited to the one shown here.
一対のロール5A及び5Bは、自ら回転(自回転)するものでもよいし、液状組成物含浸直後のポリイミド樹脂フィルム11の走行に伴って回転するものでもよい。一対のロール5A及び5Bが、自回転するものである場合、液状組成物含浸ポリイミド樹脂フィルム12における液状組成物の付着量を容易に調整でき、また、目的とする液状組成物含浸ポリイミド樹脂フィルムの表面も十分にならされ、表面の平滑性が向上する。
The pair of
液晶ポリマー層の膜厚は、浸漬槽3からの引き上げ速度や、スクイズロール5において、一対のロール5A及び5B間の間隔を調整することにより、所定の膜厚に調整した三層フィルムを得ることができる。
The film thickness of the liquid crystal polymer layer is obtained by adjusting the pulling rate from the dipping tank 3 and the distance between the pair of
本発明の第三の態様における[溶媒除去工程]及び[加熱工程]に関する説明は、前記本発明の第二の態様における説明と同様である。
具体的には、[溶媒除去工程]として、ロール5A及び5B間を通過した前記液状組成物含浸ポリイミド樹脂フィルムを、60〜200℃で60〜600秒間加熱処理すればよく、120〜600秒間であることが好ましい。
この加熱処理により、液状組成物含浸ポリイミド樹脂フィルムに含浸された液状組成物の溶媒が蒸発して除去され、目的とする三層フィルムが得られる。
そして、[加熱工程]として、例えば、250℃から400℃の範囲で1分間から4時間加熱処理を行えばよい。加熱処理の温度及び時間をこのように設定することにより、ボイドが低減された三層フィルムが安定して得られる。
The description regarding the [solvent removing step] and the [heating step] in the third aspect of the present invention is the same as the description in the second aspect of the present invention.
Specifically, as the [solvent removing step], the liquid composition-impregnated polyimide resin film that has passed between the
By this heat treatment, the solvent of the liquid composition impregnated in the liquid composition-impregnated polyimide resin film is removed by evaporation, and the intended three-layer film is obtained.
And as a [heating process], what is necessary is just to heat-process in the range of 250 to 400 degreeC for 1 minute to 4 hours, for example. By setting the temperature and time of the heat treatment in this way, a three-layer film with reduced voids can be stably obtained.
≪三層フィルムの製造方法3≫
本発明の第四の態様は、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物と、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸樹脂液状組成物とを準備する工程と、支持体上に前記液状組成物、前記ポリアミック酸樹脂液状組成物、前記液状組成物とをこの順に三層に塗布する工程と、前記三層の液状組成物中の溶媒を除去する溶媒除去工程と、加熱処理工程と、が含まれる製造方法であって、前記液晶ポリマーとして、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位と、以下の構造単位を含有することを特徴とする本発明の第一の態様の三層フィルムの製造方法である。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。)
≪Three-layer film manufacturing method 3≫
The fourth aspect of the present invention includes a step of preparing a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, and a polyamic acid resin liquid composition that is a precursor of a polyimide resin, the liquid composition on a support, The step of applying the polyamic acid resin liquid composition and the liquid composition in this order to three layers, the solvent removing step of removing the solvent in the liquid composition of the three layers, and the heat treatment step are included. A production method, wherein the liquid crystal polymer contains a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid and the following structural unit: It is a manufacturing method of the three-layer film of an aspect.
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
[ポリアミック酸樹脂液状組成物]
ポリイミド樹脂は、ポリイミドの前駆体、即ち、ポリアミック酸からの脱水転化反応により得られる。当該転化反応を行う方法としては、熱によってのみ行う熱キュア法と、化学脱水剤を使用する化学キュア法の2つの方法が知られている。
ポリアミック酸は、例えば特許文献1に記載されているように、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを原料に重合させることにより、得ることができる。ポリアミック酸を200℃以上の加熱(熱キュア法)又は化学閉環剤によって処理(化学キュア法)することにより、脱水・環化反応を進め、ポリイミド樹脂を得ることができる。
[Polyamic acid resin liquid composition]
The polyimide resin is obtained by a dehydration conversion reaction from a polyimide precursor, that is, a polyamic acid. As a method for performing the conversion reaction, two methods are known: a thermal curing method that uses only heat and a chemical curing method that uses a chemical dehydrating agent.
A polyamic acid can be obtained by polymerizing tetracarboxylic dianhydride and diamine as raw materials, as described in Patent Document 1, for example. By treating the polyamic acid with heating at 200 ° C. or higher (thermal cure method) or a chemical ring-closing agent (chemical cure method), a dehydration / cyclization reaction can proceed to obtain a polyimide resin.
[支持体上に溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物、ポリアミック酸樹脂液状組成物、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物とをこの順に三層に塗布する工程]
本工程において、支持体としては、通常、ガラス等が用いられるが、導体を用いることもできる。かかる導体としては、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、ステンレスなどの金属板または金属箔が挙げられる。
溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物及びポリアミック酸樹脂液状組成物を支持体上に流延する方法としては、前記溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物又はポリアミック酸樹脂液状組成物を、必要に応じて、フィルターなどによってろ過し、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物及びポリアミック酸樹脂液状組成物中に含まれる異物を除去した後、支持体上にローラーコート法、ディップコート法、スプレイコート法、スピナーコート法、カーテンコート法、スロットコート法、スクリーン印刷法等の各種手段により表面平滑かつ均一に流延し、その後、溶媒を除去することによって得ることができる。
支持体上には、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物、ポリアミック酸樹脂液状組成物、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物とをこの順に三層に塗布する。この際、液晶ポリマー層が前記所定の厚みとなるように、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物の塗布量を調整する。
[A step of applying a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer on a support, a polyamic acid resin liquid composition, and a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer in this order in three layers]
In this step, glass or the like is usually used as the support, but a conductor can also be used. Examples of such conductors include metal plates or metal foils such as gold, silver, copper, aluminum, nickel, and stainless steel.
As a method of casting a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer and a polyamic acid resin liquid composition on a support, the liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer or a polyamic acid resin liquid composition is required. The liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer and the foreign material contained in the polyamic acid resin liquid composition are removed by filtration using a filter or the like, and then the roller coating method, dip coating method, spraying is performed on the support. The film can be obtained by smooth and uniform casting by various means such as a coating method, a spinner coating method, a curtain coating method, a slot coating method, and a screen printing method, and then removing the solvent.
On the support, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, a polyamic acid resin liquid composition, and a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer are applied in this order in three layers. At this time, the coating amount of the liquid composition containing the solvent and the liquid crystal polymer is adjusted so that the liquid crystal polymer layer has the predetermined thickness.
本発明の第四の態様における[溶媒除去工程]に関する説明は、前記本発明の第二の態様における説明と同様である。 The description regarding the [solvent removing step] in the fourth aspect of the present invention is the same as the description in the second aspect of the present invention.
[三層フィルム形成工程]
次いで加熱処理し、支持体を剥離して三層フィルムを得ることができる。ここで、加熱処理することに替えて、化学閉環剤によって処理することにしてもよい。この場合の化学閉環剤としては、ポリアミド酸からポリイミドを得るのに使用されているものを用いることができ、例えば、ピリジン、無水酢酸、安息香酸等が用いられる。加熱処理する場合には、窒素雰囲気下で250〜400℃の温度範囲とするのがよい。
[Three-layer film formation process]
Subsequently, it heat-processes and a support body is peeled and a three-layer film can be obtained. Here, instead of heat treatment, treatment with a chemical ring-closing agent may be performed. As the chemical ring-closing agent in this case, those used for obtaining polyimide from polyamic acid can be used, and for example, pyridine, acetic anhydride, benzoic acid and the like are used. In the case of heat treatment, the temperature is preferably set to 250 to 400 ° C. in a nitrogen atmosphere.
本発明の第四の態様の三層フィルムの製造方法においては、支持体上に、まず、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物を塗布し、前記液状組成物中の溶媒を除去する。次に、ポリアミック酸樹脂液状組成物を塗布し、前記ポリアミック酸樹脂液状組成物の溶媒を除去する。さらに、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物を塗布し、前記液状組成物中の溶媒を除去する。最後に加熱処理又は化学閉環剤によって処理を行い、支持体から剥離することにより、三層フィルムを得ることができる。
また、本発明の第四の態様の三層フィルムの製造方法においては、支持体上に、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物、ポリアミック酸樹脂液状組成物及び溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物をこの順に塗布し、前記液状組成物中の溶媒を除去する。最後に加熱処理又は化学閉環剤によって処理を行い、支持体から剥離することにより、三層フィルムを得てもよい。
In the method for producing a three-layer film according to the fourth aspect of the present invention, first, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer is applied on a support, and the solvent in the liquid composition is removed. Next, a polyamic acid resin liquid composition is applied, and the solvent of the polyamic acid resin liquid composition is removed. Further, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer is applied, and the solvent in the liquid composition is removed. Finally, a three-layer film can be obtained by performing treatment with a heat treatment or a chemical ring-closing agent and peeling from the support.
In the method for producing a three-layer film of the fourth aspect of the present invention, a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, a polyamic acid resin liquid composition, and a liquid containing a solvent and a liquid crystal polymer on a support. The composition is applied in this order, and the solvent in the liquid composition is removed. Finally, a three-layer film may be obtained by performing treatment with a heat treatment or a chemical ring-closing agent and peeling from the support.
≪積層板≫
本発明の第五の態様は、前記第二〜四の態様により得られた三層フィルムが絶縁層として用いられ、この絶縁層の少なくとも片面に金属層が形成されている積層板である。
本発明の積層板は、前記三層フィルムの少なくとも片面に金属層が形成されていればよいが、両面に金属層が積層されていることが好ましい。すなわち、積層板は、第1及び第2の金属層と、第1及び第2の金属層に挟まれた三層フィルムとを含んでいることが好ましい。前記三層フィルムの両面に金属層が積層された積層板としてより具体的には、図2に示す積層体であって、図2中の30a及び30bが金属層である積層板である。
≪Laminated board≫
A fifth aspect of the present invention is a laminated board in which the three-layer film obtained by the second to fourth aspects is used as an insulating layer, and a metal layer is formed on at least one surface of the insulating layer.
In the laminate of the present invention, it is sufficient that a metal layer is formed on at least one side of the three-layer film, but it is preferable that metal layers are laminated on both sides. That is, it is preferable that the laminated board contains the 1st and 2nd metal layer and the three-layer film pinched | interposed into the 1st and 2nd metal layer. More specifically, the laminate shown in FIG. 2 is a laminate in which metal layers are laminated on both surfaces of the three-layer film, and 30a and 30b in FIG. 2 are laminates.
上記三層フィルムに積層する金属層について説明する。
本発明の積層板における金属層は、300℃で熱処理後の引張弾性率が60GPa以下であり、破断点応力が150MPa以下である銅箔である。該引張弾性率に係る下限としては、実用的な範囲で10GPa以上であり、20GPa以上であると好ましい。該破断点応力に係る下限としては、実用的な範囲で20MPa以上であると好ましく、30MPa以上であると特に好ましい。 本発明に用いられる金属層の種類としては、電解により形成された層、圧延により形成された層のいずれであってもよいが、上記の特性の金属層の一例として、銅箔を得るためには、当業分野で周知であるHigh Temperature Elongation(高温高伸び銅箔、以下「HTE銅箔」と略す)や圧延銅箔として市販されている銅箔から、JIS C2151で規定される手法にて引張弾性率と破断点応力を求めて、選択することができる。
The metal layer laminated | stacked on the said three-layer film is demonstrated.
The metal layer in the laminated board of the present invention is a copper foil having a tensile modulus after heat treatment at 300 ° C. of 60 GPa or less and a stress at break of 150 MPa or less. The lower limit related to the tensile modulus is 10 GPa or more in a practical range, and preferably 20 GPa or more. The lower limit related to the stress at break is preferably 20 MPa or more and particularly preferably 30 MPa or more in a practical range. The type of metal layer used in the present invention may be either a layer formed by electrolysis or a layer formed by rolling. In order to obtain a copper foil as an example of a metal layer having the above characteristics, Is a technique defined by JIS C2151 from high temperature elongation (high temperature high elongation copper foil, hereinafter referred to as “HTE copper foil”) and a rolled copper foil, which are well known in the art. The tensile modulus and stress at break can be determined and selected.
本発明の積層板に用いられる金属層の厚みは、好ましくは5μmを越えて35μm以下の範囲である。特に9〜28μmの範囲にあることが好ましい。金属層の厚みが上記の範囲であると、積層板の製造時に、金属層のテンションの調整が容易であり、得られる積層板の屈曲性が、より向上するため好ましい。
ここで、金属層の厚さは、金属層の任意の5箇所で、接触式厚み計で厚さを測定した平均で表される値である。なお金属層の厚さを測定する際、直接に接触式厚み計を適用することが困難であるときは、三層フィルムなど、他の層が重ね合わされた状態で、上記と同様に全体の厚さを測定し、重ね合わせられていた他の層の厚さ(上記と同様の方法で測定したもの)との差分を取ることで算出してもよい。
また、積層板にける、金属層の最大高さ(Rz)は、0.5〜2.5μmの範囲内にあることが好ましく、0.6〜2.4μmの範囲内がより好ましく、0.6〜2.2μmの範囲内が特に好ましい。
本発明に適用する金属層として好ましいものを具体的に例示すると、銅箔が好ましく、中でも、HTE銅箔としては例えば、SQ−HTE銅箔(三井金属鉱業社製)、3EC−M3S−HTE銅箔(三井金属鉱業社製)、NS−HTE銅箔(三井金属鉱業社製)、3EC−HTE銅箔(三井金属鉱業社製)、F2−WS銅箔(古河電工社製)、HLB(日本電解社製)、CF−T4X−DS−SVR(福田金属箔粉社製)等が挙げられ、圧延銅箔としては例えば、RCF−T5B−HPC(福田金属箔粉社製)、BHY−22B−T(JX日鉱日石金属社製)、BHY−22B−HA(JX日鉱日石金属社製)、BHYA−T(JX日鉱日石金属社製)、BHYA−HA(JX日鉱日石金属社製)等が挙げられる。これらの銅箔は市場から容易に入手可能である。
The thickness of the metal layer used in the laminate of the present invention is preferably in the range of more than 5 μm and not more than 35 μm. In particular, it is preferably in the range of 9 to 28 μm. It is preferable for the thickness of the metal layer to be in the above range because the tension of the metal layer can be easily adjusted during the production of the laminate, and the flexibility of the resulting laminate is further improved.
Here, the thickness of a metal layer is the value represented by the average which measured thickness with the contact-type thickness meter in arbitrary five places of a metal layer. When measuring the thickness of the metal layer, if it is difficult to directly apply the contact thickness gauge, the total thickness is the same as above with other layers such as a three-layer film overlapped. The thickness may be measured and calculated by taking the difference from the thickness of the other layer that has been superimposed (measured by the same method as described above).
Further, the maximum height (Rz) of the metal layer in the laminate is preferably in the range of 0.5 to 2.5 μm, more preferably in the range of 0.6 to 2.4 μm. A range of 6 to 2.2 μm is particularly preferable.
Specific examples of preferable metal layers to be applied to the present invention include copper foils. Among them, HTE copper foils include, for example, SQ-HTE copper foil (manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd.), 3EC-M3S-HTE copper. Foil (made by Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd.), NS-HTE copper foil (made by Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd.), 3EC-HTE copper foil (made by Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd.), F2-WS copper foil (made by Furukawa Electric Co., Ltd.), HLB (Japan) Electrolytic Co., Ltd.), CF-T4X-DS-SVR (Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd.), etc., and examples of rolled copper foil include RCF-T5B-HPC (Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd.), BHY-22B- T (manufactured by JX Nippon Mining & Metals), BHY-22B-HA (manufactured by JX Nippon Mining & Metals), BHYA-T (manufactured by JX Nippon Mining & Metals), BHYA-HA (manufactured by JX Nippon Mining & Metals) ) And the like. These copper foils are readily available from the market.
本発明の積層板に上記の特性を有する銅箔を用いることにより、金属層と樹脂層との密着性にも優れ、柔軟性および耐折性も良好な積層板を実現することができる。 By using the copper foil having the above characteristics for the laminate of the present invention, a laminate having excellent adhesion between the metal layer and the resin layer and excellent flexibility and folding resistance can be realized.
前記三層フィルムと金属層とを一体化する方法としては、金属層と三層フィルムとを熱プレスする方法が好適に用いられる。例えば、常用のプレス機を用いて、200〜350℃、3〜10MPaの圧力で、10分間〜60分間保持して、熱プレスを行う方法が挙げられる。
このようにして得られる本発明の液晶ポリマー積層板は、寸法安定性、低吸湿性などの優れた特性から、近年注目されているビルドアップ工法などにより得られる半導体パッケージやマザーボード用の多層プリント基板、フレキシブルプリント配線基板、テープオートメーティッドボンディング用フィルム等に好適に用いられる。
As a method for integrating the three-layer film and the metal layer, a method of hot pressing the metal layer and the three-layer film is preferably used. For example, a method of performing hot pressing by holding at a pressure of 200 to 350 ° C. and a pressure of 3 to 10 MPa for 10 to 60 minutes using a conventional press machine can be mentioned.
The liquid crystal polymer laminate of the present invention thus obtained is a multilayer printed circuit board for a semiconductor package or a mother board obtained by a build-up method or the like that has been attracting attention in recent years due to excellent characteristics such as dimensional stability and low hygroscopicity. It is suitably used for flexible printed wiring boards, tape automated bonding films, and the like.
<プリント回路基板>
本発明の第六の態様は、前記三層フィルムを絶縁層として用いたことを特徴とするプリント回路基板である。本発明のプリント回路基板は、絶縁層として前記三層フィルムを用いること以外は、公知のプリント回路基板と同様の構成とすることができ、同様の方法で製造できる。すなわち、プリント回路基板は、三層フィルムを含む絶縁層と、前記三層フィルム上に位置する回路パターンとを含む。言い換えれば、プリント回路基板は、少なくとも一つの三層フィルムを含む絶縁層と、絶縁層の少なくとも第1の面と第2の面の一方に形成された回路パターンとを含む。絶縁層は、一つの三層フィルムからなってもよいし、複数の三層フィルムが積層されていてもよい。回路パターンは、第1の面のみに位置してもよく、第1の面に第1の回路パターンが位置し、第2の面に第2の回路パターンが位置していてもよい。
<Printed circuit board>
A sixth aspect of the present invention is a printed circuit board using the three-layer film as an insulating layer. The printed circuit board of the present invention can have the same configuration as a known printed circuit board except that the three-layer film is used as an insulating layer, and can be manufactured by the same method. That is, the printed circuit board includes an insulating layer including a three-layer film and a circuit pattern located on the three-layer film. In other words, the printed circuit board includes an insulating layer including at least one three-layer film and a circuit pattern formed on at least one of the first surface and the second surface of the insulating layer. The insulating layer may consist of one three-layer film, or a plurality of three-layer films may be laminated. The circuit pattern may be located only on the first surface, the first circuit pattern may be located on the first surface, and the second circuit pattern may be located on the second surface.
本発明のプリント回路基板は、例えば、一枚の前記三層フィルムからなる絶縁層、若しくは複数枚の前記三層フィルムが積層されてなる絶縁層の、片面又は両面に、金属層が設けられた積層体を作製し、かかる積層体の金属層にエッチング等により所定の回路パターンを形成し、この回路パターンが形成された積層体をそのまま、又は必要に応じて二枚以上を積層することにより、製造できる。本発明のプリント回路基板は、三層フィルムの両面に金属層が積層されたものであることが好ましい。つまり、プリント回路基板は、三層フィルムと、三層フィルムの第1の面に位置する第1の回路パターンと、三層フィルムの第2の面に位置する第2の回路パターンとを含むことが好ましい。 In the printed circuit board of the present invention, for example, a metal layer is provided on one side or both sides of an insulating layer made of a single three-layer film or an insulating layer formed by laminating a plurality of the three-layer films. A laminated body is produced, a predetermined circuit pattern is formed on the metal layer of the laminated body by etching or the like, and the laminated body on which this circuit pattern is formed is laminated as it is or as needed, Can be manufactured. The printed circuit board of the present invention is preferably one in which metal layers are laminated on both sides of a three-layer film. That is, the printed circuit board includes a three-layer film, a first circuit pattern located on the first surface of the three-layer film, and a second circuit pattern located on the second surface of the three-layer film. Is preferred.
複数枚の前記三層フィルムが積層された絶縁層の場合、これら複数枚の三層フィルムは、すべて同じでもよいし、一部のみ同じでもよく、すべて異なっていてもよい。また、その枚数は2枚以上であれば特に限定されない。このような絶縁層は、例えば、複数枚の三層フィルムを、その厚さ方向に重ね合わせ、加熱プレスして互いに融着させ、一体化させることで作製できる。 In the case of an insulating layer in which a plurality of the three-layer films are laminated, the plurality of three-layer films may all be the same, only a part may be the same, or all may be different. The number of sheets is not particularly limited as long as it is two or more. Such an insulating layer can be produced, for example, by laminating a plurality of three-layer films in the thickness direction, heat-pressing and fusing them together.
金属層の材質は、銅、アルミ、銀又はこれらから選択される一種以上の金属を含む合金が好ましい。なかでも、より優れた導電性を有する点から、銅又は銅合金が好ましい。そして、金属層は、材料の取扱いが容易で、簡便に形成でき、経済性にも優れる点から、金属箔からなるものが好ましく、銅箔からなるものがより好ましい。金属層を絶縁層の両面に設ける場合、これら金属層の材質は、同じでもよいし、異なっていてもよい。
金属層の厚さは、好ましくは1〜50μmであり、より好ましくは3〜35μmであり、さらに好ましくは5〜20μmである。
ここで、金属層の厚さは、金属層の任意の5箇所で、接触式厚み計で厚さを測定した平均で表される値である。なお金属層の厚さを測定する際、直接に接触式厚み計を適用することが困難であるときは、三層フィルムなど、他の層が重ね合わされた状態で、上記と同様に全体の厚さを測定し、重ね合わせられていた他の層の厚さ(上記と同様の方法で測定したもの)との差分を取ることで算出してもよい。
The material of the metal layer is preferably copper, aluminum, silver or an alloy containing one or more metals selected from these. Of these, copper or a copper alloy is preferable from the viewpoint of having superior conductivity. The metal layer is preferably made of a metal foil, more preferably a copper foil, because the material is easy to handle, can be easily formed, and is excellent in economy. When providing a metal layer on both surfaces of an insulating layer, the material of these metal layers may be the same and may differ.
The thickness of a metal layer becomes like this. Preferably it is 1-50 micrometers, More preferably, it is 3-35 micrometers, More preferably, it is 5-20 micrometers.
Here, the thickness of a metal layer is the value represented by the average which measured thickness with the contact-type thickness meter in arbitrary five places of a metal layer. When measuring the thickness of the metal layer, if it is difficult to directly apply the contact thickness gauge, the total thickness is the same as above with other layers such as a three-layer film overlapped. The thickness may be measured and calculated by taking the difference from the thickness of the other layer that has been superimposed (measured by the same method as described above).
金属層を設ける方法としては、金属箔を絶縁層の表面に融着させる方法、金属箔を絶縁層の表面に接着剤で接着させる方法、絶縁層の表面をめっき法、スクリーン印刷法又はスパッタリング法により、金属粉又は金属粒子で被覆する方法が例示できる。 As a method of providing a metal layer, a method of fusing a metal foil to the surface of the insulating layer, a method of adhering the metal foil to the surface of the insulating layer with an adhesive, a plating method, a screen printing method or a sputtering method on the surface of the insulating layer Can be exemplified by a method of coating with metal powder or metal particles.
絶縁層が、複数枚の前記三層フィルムが積層されてなる場合には、これら三層フィルムをその厚さ方向に重ねて配置し、最も外側に位置する一方の又は両方の三層フィルムの表面に、さらに金属箔を重ねて、これら金属箔及び複数枚の三層フィルムを加熱プレスすることで、絶縁層を形成するときに、絶縁層の片面又は両面に金属層も同時に設けることができる。 When the insulating layer is formed by laminating a plurality of the three-layer films, the three-layer films are arranged in the thickness direction, and the surface of one or both of the three-layer films located on the outermost side is arranged. In addition, when the insulating layer is formed by further pressing the metal foil and pressing the metal foil and the plurality of three-layer films, the metal layer can be simultaneously provided on one side or both sides of the insulating layer.
金属層をパターニングすることにより、回路パターンを形成する。回路パターンを形成する方法としては、エッチング等が例示できる。エッチング(加工)に関し簡単に説明する。まず、該金属層が所定の回路パターンになるように、該金属層のマスキングを行う。次いで、マスキングされた金属層の部分とマスキングされていない金属層の部分において、後者の金属層の部分をウェット法(薬剤処理)というエッチング加工によって除去する。このエッチング加工に用いる薬剤としては、例えば塩化第二鉄水溶液が挙げられる。また、該マスキングとしては、市販のエッチングレジストやドライフィルムを用いればよい。
次いで、マスキングされた金属層部分からエッチングレジストやドライフィルムをアセトンや水酸化ナトリウム水溶液で除去する。このようにして金属層をパターニングすることにより、所定の回路パターン(配線)形成することができる。
A circuit pattern is formed by patterning the metal layer. Examples of the method for forming the circuit pattern include etching. Etching (processing) will be briefly described. First, the metal layer is masked so that the metal layer has a predetermined circuit pattern. Next, in the masked metal layer portion and the unmasked metal layer portion, the latter metal layer portion is removed by an etching process called a wet method (chemical treatment). As a chemical | medical agent used for this etching process, ferric chloride aqueous solution is mentioned, for example. As the masking, a commercially available etching resist or dry film may be used.
Next, the etching resist and the dry film are removed from the masked metal layer portion with acetone or a sodium hydroxide aqueous solution. By patterning the metal layer in this way, a predetermined circuit pattern (wiring) can be formed.
以下、実施例を用いて本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例により限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely using an Example, this invention is not limited by an Example.
<製造例1>
攪拌装置、トルクメータ、窒素ガス導入管、温度計及び還流冷却器を備えた反応器に、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸(以下、「HNA」と記載する。)677.4g(3.6モル)、4−ヒドロキシアセトニリド(以下、「APAP」と記載する。)332.6g(2.2モル)、イソフタル酸(以下、「IPA」と記載する。)99.7g(0.6モル)、ジフェニルエーテル−4,4’−ジカルボン酸(以下、「DEDA」と記載する。)413.2g(1.6モル)、及び無水酢酸673.8g(6.6モル)を仕込んだ。
反応器内を十分に窒素ガスで置換した後、窒素ガス気流下で15分かけて150℃まで昇温し、温度を保持して3時間還流させた。
その後、留出する副生酢酸及び未反応の無水酢酸を留去しながら170分かけて320℃まで昇温し、トルクの上昇が認められる時点を反応終了とみなし、内容物を取り出した。得られた固形分は室温まで冷却し、粗粉砕機で粉砕後、偏光顕微鏡(NIKON社製 ECLIPSE LV100POV)を用いた観察により230℃で液晶相特有のシュリーレン模様を示すことが確認された。更に、粉末状の液晶ポリマーを窒素雰囲気下250℃で3時間保持し、固相で重合反応を進めた。得られた液晶ポリマー粉末100gをN−メチル−2−ピロリドン900gに加え、120℃に加熱し完全に溶解し、褐色透明な液晶ポリマー溶液組成物(1)を得た。
<Production Example 1>
In a reactor equipped with a stirrer, a torque meter, a nitrogen gas introduction pipe, a thermometer, and a reflux condenser, 2-hydroxy-6-naphthoic acid (hereinafter referred to as “HNA”) 677.4 g (3.6) Mol), 4-hydroxyacetonilide (hereinafter referred to as “APAP”) 332.6 g (2.2 mol), isophthalic acid (hereinafter referred to as “IPA”) 99.7 g (0.6) Mol), 413.2 g (1.6 mol) of diphenyl ether-4,4′-dicarboxylic acid (hereinafter referred to as “DEDA”), and 673.8 g (6.6 mol) of acetic anhydride.
After sufficiently replacing the inside of the reactor with nitrogen gas, the temperature was raised to 150 ° C. over 15 minutes under a nitrogen gas stream, and the temperature was maintained and refluxed for 3 hours.
Thereafter, the temperature was raised to 320 ° C. over 170 minutes while distilling off the by-product acetic acid and unreacted acetic anhydride, and the time when an increase in torque was observed was regarded as the completion of the reaction, and the contents were taken out. The obtained solid content was cooled to room temperature, pulverized with a coarse pulverizer, and confirmed to show a schlieren pattern peculiar to a liquid crystal phase at 230 ° C. by observation with a polarizing microscope (ECLIPSE LV100POV manufactured by NIKON). Further, the powdery liquid crystal polymer was held at 250 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere to proceed the polymerization reaction in a solid phase. 100 g of the obtained liquid crystal polymer powder was added to 900 g of N-methyl-2-pyrrolidone, heated to 120 ° C. and completely dissolved to obtain a brown transparent liquid crystal polymer solution composition (1).
<製造例2>
攪拌装置、トルクメータ、窒素ガス導入管、温度計及び還流冷却器を備えた反応器に、4−ヒドロキシアセトアニリド(以下、「APAP」と記載する。)332.6g(2.2モル)、イソフタル酸(以下、「IPA」と記載する。)99.7g(0.6モル)、ジフェニルエーテル−4,4’−ジカルボン酸(以下、「DEDA」と記載する。)413.2g(1.6モル)及び無水酢酸269.5(2.6モル)を仕込んだ。反応器内を十分に窒素ガスで置換した後、窒素ガス気流下で15分かけて150℃まで昇温し、温度を保持して3時間還流させた。
その後、留出する副生酢酸及び未反応の無水酢酸を留去しながら170分かけて320℃まで昇温し、トルクの上昇が認められる時点を反応終了とみなし、内容物を取り出した。得られた固形分は室温まで冷却し、粗粉砕機で粉砕後、偏光顕微鏡観察を室温から400℃まで昇温しながら実施したが、液晶相特有のシュリーレン模様は観察できなかった。
<Production Example 2>
In a reactor equipped with a stirrer, a torque meter, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser, 4-hydroxyacetanilide (hereinafter referred to as “APAP”) 332.6 g (2.2 mol), isophthalate Acid (hereinafter referred to as “IPA”) 99.7 g (0.6 mol), diphenyl ether-4,4′-dicarboxylic acid (hereinafter referred to as “DEDA”) 413.2 g (1.6 mol) ) And acetic anhydride 269.5 (2.6 mol). After sufficiently replacing the inside of the reactor with nitrogen gas, the temperature was raised to 150 ° C. over 15 minutes under a nitrogen gas stream, and the temperature was maintained and refluxed for 3 hours.
Thereafter, the temperature was raised to 320 ° C. over 170 minutes while distilling off the by-product acetic acid and unreacted acetic anhydride, and the time when an increase in torque was observed was regarded as the completion of the reaction, and the contents were taken out. The obtained solid was cooled to room temperature, pulverized with a coarse pulverizer, and then observed with a polarizing microscope while raising the temperature from room temperature to 400 ° C., but no schlieren pattern peculiar to the liquid crystal phase could be observed.
[実施例1]
液晶ポリマー溶液組成物(1)を市販のポリイミド樹脂フィルムである膜厚25μmのカプトンH(東レデュポン社製)の上にフィルムアプリケーター(塗布厚み100μm)を用いて片面を塗布し、熱風乾燥機で100℃で加熱して溶媒を除去し、この操作をもう一方の面にも繰り返して行い、高温熱風乾燥機で300℃に加熱処理して三層フィルム(液晶ポリマー/ポリイミド/液晶ポリマー=10μm/25μm/10μm)を得た。
[Example 1]
The liquid crystal polymer solution composition (1) was applied on one side using a film applicator (applied thickness: 100 μm) on a 25 μm thick Kapton H (made by Toray DuPont), which is a commercially available polyimide resin film, and heated with a hot air dryer. The solvent is removed by heating at 100 ° C., and this operation is repeated on the other side, and heat treatment is performed at 300 ° C. with a high-temperature hot air dryer to form a three-layer film (liquid crystal polymer / polyimide / liquid crystal polymer = 10 μm / 25 μm / 10 μm) was obtained.
上記で得られた三層フィルムを絶縁層としてその両面に銅箔(JX日鉱日石金属(株)製の「BHY−22B−T」(厚さ18μm、Rz=0.7μm))を積層した。これを高温真空プレス機(北川精機(株)製の「KVHC−PRESS」、縦300mm、横300mm)により、温度340℃、圧力5MPaの条件にて20分間にわたって熱プレスして一体化させることにより、両面銅張積層板を得た。 The three-layer film obtained above was used as an insulating layer, and copper foil (“BHY-22B-T” (thickness 18 μm, Rz = 0.7 μm) manufactured by JX Nippon Mining & Metals) was laminated on both sides thereof. . This is hot-pressed and integrated for 20 minutes at a temperature of 340 ° C. and a pressure of 5 MPa with a high-temperature vacuum press (“KVHC-PRESS” manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd., length 300 mm, width 300 mm). A double-sided copper-clad laminate was obtained.
上記で得られた両面銅張積層板について、TDR測定を行い50Ωとなるようにプリント回路基板を作製した結果、グランド層を有する配線幅が110μm、長さが100mmの回路パターンを形成した。 About the double-sided copper clad laminated board obtained above, TDR measurement was performed and a printed circuit board was produced so as to be 50Ω. As a result, a circuit pattern having a ground width of 110 μm and a length of 100 mm was formed.
<伝送損失測定>
回路パターンが形成されたプリント回路パターンについて、アジレント・テクノロジー(株)製の測定プローブ「E8363B」を用いて伝送損失(S21パラメーター)を測定した。23℃48時間水への浸漬前後で周波数5GHz、10GHz、20GHz、40GHzにおける伝送損失を測定した。
水への浸漬前の5GHz、10GHz、20GHz、40GHzにおける伝送損失を表3、4に示す。また、23℃×48h浸漬前後の伝送損失(周波数5GHz)の変化率を表3、4に示す。
<Transmission loss measurement>
The transmission loss (S21 parameter) of the printed circuit pattern on which the circuit pattern was formed was measured using a measurement probe “E8363B” manufactured by Agilent Technologies. Transmission loss at frequencies of 5 GHz, 10 GHz, 20 GHz, and 40 GHz was measured before and after immersion in water at 23 ° C. for 48 hours.
Tables 3 and 4 show the transmission loss at 5 GHz, 10 GHz, 20 GHz, and 40 GHz before immersion in water. Tables 3 and 4 show the rate of change in transmission loss (
<寸法安定性評価>
塩化第二鉄溶液(木田社製、40°ボーメ)を用いて、両面銅張積層板から銅箔を全て除去し、JIS C6481「プリント配線板用銅張積層板試験方法」に準拠して、熱機械分析装置(リガク社製「Thermo plus TMA8310」)を用いて、20mm×50mmの試験片(絶縁層)に2.5gの荷重をかけながら、窒素気流下、5℃/分で250℃まで昇温時の面内の熱膨張係数を測定した(温度範囲50〜250℃:1Stスキャン)。その結果を表1及び2に示す。
<Dimensional stability evaluation>
Using a ferric chloride solution (Kida Co., Ltd., 40 ° Baume), all the copper foil was removed from the double-sided copper-clad laminate, and in accordance with JIS C6481, “Copper-clad laminate test method for printed wiring boards” Using a thermomechanical analyzer ("Thermo plus TMA8310" manufactured by Rigaku Corporation), applying a load of 2.5 g to a 20 mm x 50 mm test piece (insulating layer), up to 250 ° C under a nitrogen stream at 5 ° C / min. The in-plane thermal expansion coefficient at the time of temperature increase was measured (temperature range: 50 to 250 ° C .: 1 St scan). The results are shown in Tables 1 and 2.
[実施例2]
実施例1においてフィルムアプリケータ―の塗布厚みを200μmに変更して三層フィルム(液晶ポリマー/ポリイミド/液晶ポリマー=20μm/25μm/20μm)を得る以外同様の操作を行い、銅張積層板を作製した。得られた銅張積層板について、TDR測定を行い50Ωとなるようにプリント回路基板を作製した結果、配線幅が142μm、長さが100mmとなった。
[Example 2]
A copper clad laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the film applicator coating thickness was changed to 200 μm to obtain a three-layer film (liquid crystal polymer / polyimide / liquid crystal polymer = 20 μm / 25 μm / 20 μm). did. The obtained copper-clad laminate was subjected to TDR measurement to produce a printed circuit board so as to have a resistance of 50Ω. As a result, the wiring width was 142 μm and the length was 100 mm.
[実施例3]
実施例1において市販のポリイミド樹脂フィルムである膜厚25μmのユーピレックスS(宇部興産社製)を使用した以外同様の操作を行い、銅張積層板を作製した。得られた銅張積層板について、TDR測定を行い、50Ωとなるようにプリント回路基板を作製した結果、配線幅が110μm、長さが100mmであった。
[Example 3]
A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that a commercially available polyimide resin film having a film thickness of 25 μm, Upilex S (manufactured by Ube Industries) was used. The obtained copper-clad laminate was subjected to TDR measurement and a printed circuit board was produced so as to have a resistance of 50Ω. As a result, the wiring width was 110 μm and the length was 100 mm.
[実施例4]
実施例1において、銅箔(古河電工(株)製の「F2−WS」(厚さ18μm、Rz=2.1μm))を積層した以外、同様の操作を行い、銅張積層板を作製した。得られた銅張積層板について、TDR測定を行い、50Ωとなるようにプリント回路基板を作製した結果、配線幅が110μm、長さが100mmとなった。
[Example 4]
In Example 1, the same operation was performed except that a copper foil (F2-WS manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd. (thickness: 18 μm, Rz = 2.1 μm)) was laminated to produce a copper-clad laminate. . The obtained copper-clad laminate was subjected to TDR measurement and a printed circuit board was prepared to have a resistance of 50Ω. As a result, the wiring width was 110 μm and the length was 100 mm.
[実施例5]
実施例1においてフィルムアプリケータ―の塗布厚みを250μmに変更して三層フィルム(液晶ポリマー/ポリイミド/液晶ポリマー=25μm/25μm/25μm)を得る以外同様の操作を行い、銅張積層板を作製した。
[Example 5]
A copper clad laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the film applicator coating thickness was changed to 250 μm to obtain a three-layer film (liquid crystal polymer / polyimide / liquid crystal polymer = 25 μm / 25 μm / 25 μm). did.
[実施例6]
実施例1においてフィルムアプリケータ―の塗布厚みを335μmに変更して三層フィルム(液晶ポリマー/ポリイミド/液晶ポリマー=33.5μm/25μm/33.5μm)を得る以外同様の操作を行い、銅張積層板を作製した。
[Example 6]
In Example 1, the same operation was performed except that the coating thickness of the film applicator was changed to 335 μm to obtain a three-layer film (liquid crystal polymer / polyimide / liquid crystal polymer = 33.5 μm / 25 μm / 33.5 μm). A laminate was prepared.
[比較例1]
実施例1においてフィルムアプリケータ―の塗布厚みを50μmに変更して三層フィルム(液晶ポリマー/ポリイミド/液晶ポリマー=5μm/25μm/5μm)を得る以外同様の操作を行い、銅張積層板を作製した。得られた銅張積層板について、TDR測定を行い50Ωとなるようにプリント回路基板を作製した結果、配線幅が95μm、長さが100mmとなった。水浸漬前後での伝送損失の変化が23%と大きいことがわかった。
[Comparative Example 1]
A copper clad laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating thickness of the film applicator was changed to 50 μm to obtain a three-layer film (liquid crystal polymer / polyimide / liquid crystal polymer = 5 μm / 25 μm / 5 μm). did. The obtained copper-clad laminate was subjected to TDR measurement to produce a printed circuit board so as to have a resistance of 50Ω. As a result, the wiring width was 95 μm and the length was 100 mm. It was found that the change in transmission loss before and after immersion in water was as large as 23%.
[比較例2]
市販のポリイミド樹脂フィルムを使用した銅張積層板であるエスパネックス−MB(新日鐵住金化学社製、ポリイミド膜厚50μm)を用いてTDR測定を行い50Ωとなるようにプリント回路基板を作製した結果、配線幅が110μm、長さが100mmとなった。
次いでモデルサンプルについて、アレンジト・テクノロジー(株)製の測定プローブ「E8363B」を用いて、プリント回路基板の伝送損失(S21パラメーター)を測定した。
水浸漬前後での伝送損失の変化が35%と大きいことがわかった。
[Comparative Example 2]
TDR measurement was performed using Espanex-MB (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., polyimide film thickness 50 μm) which is a copper-clad laminate using a commercially available polyimide resin film, and a printed circuit board was prepared so as to be 50Ω. As a result, the wiring width was 110 μm and the length was 100 mm.
Next, the transmission loss (S21 parameter) of the printed circuit board was measured for the model sample using a measurement probe “E8363B” manufactured by Arranged Technology Co., Ltd.
It was found that the change in transmission loss before and after immersion in water was as large as 35%.
[比較例3]
液晶ポリマー溶液組成物(1)を銅箔(JX日鉱日石金属(株)製の「BHY−22B−T」(厚さ18μm、Rz=0.7μm))の上にフィルムアプリケーター(塗布厚み500μm)を用いて片面を塗布し、熱風乾燥機を用いて100℃で加熱して溶媒を除去し、高温熱風乾燥機で300℃に加熱処理して片面銅張積層板(50μm)を得た。
[Comparative Example 3]
The liquid crystal polymer solution composition (1) is applied to a film applicator (coating thickness 500 μm) on a copper foil (“BHY-22B-T” (thickness 18 μm, Rz = 0.7 μm) manufactured by JX Nippon Mining & Metals) ) Was applied at 100 ° C. using a hot air dryer to remove the solvent, and heat treated at 300 ° C. using a high temperature hot air dryer to obtain a single-sided copper-clad laminate (50 μm).
上記で得られた片面銅張積層板の液晶ポリマー上にさらに銅箔(JX日鉱日石金属(株)製の「BHY−22B−T」(厚さ18μm、Rz=0.7μm))を積層し、高温真空プレス機(北川精機(株)製の「KVHC−PRESS」、縦300mm、横300mm)により、温度340℃、圧力5MPaの条件にて20分間にわたって熱プレスして一体化させることにより、両面銅張積層板を得た。 A copper foil (“BHY-22B-T” (thickness 18 μm, Rz = 0.7 μm) manufactured by JX Nippon Mining & Metals) was further laminated on the liquid crystal polymer of the single-sided copper-clad laminate obtained above. By hot pressing for 20 minutes at a temperature of 340 ° C. and a pressure of 5 MPa with a high-temperature vacuum press (“KVHC-PRESS” manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd., 300 mm long and 300 mm wide), and integrated. A double-sided copper-clad laminate was obtained.
塩化第二鉄溶液(木田社製、40°ボーメ)を用いて、両面銅張積層板から銅箔を全て除去し、JIS C6481「プリント配線用銅張積層板試験方法」に準拠して、熱機械分析装置(リガク社製「Thermo plus TMA8310」)を用いて、20mm×50mmの試験片(絶縁層)に2.5gの荷重をかけながら、窒素気流化、5℃/分で250℃まで昇温時の面内の熱膨張係数を測定した(温度範囲50〜250℃、1Stスキャン)。三層フィルムと比べ、大きく膨張し寸法変化が大きいことがわかった。 Using a ferric chloride solution (Kida Co., Ltd., 40 ° Baume), all copper foil is removed from the double-sided copper-clad laminate, and in accordance with JIS C6481, “Test method for copper-clad laminate for printed wiring” Using a mechanical analyzer ("Thermo plus TMA8310" manufactured by Rigaku Corporation), while applying a load of 2.5 g to a 20 mm x 50 mm test piece (insulating layer), the temperature was increased to 250 ° C at 5 ° C / min. The in-plane thermal expansion coefficient at the time of temperature was measured (temperature range: 50 to 250 ° C., 1 St scan). Compared to the three-layer film, it was found that the film expanded greatly and the dimensional change was large.
[比較例4]
市販の液晶ポリマーフィルム(クラレ社製ベクスター50μm)を絶縁層としてその両面に銅箔(JX日鉱日石金属(株)製の「BHY−22B−T」(厚さ18μm、Rz=0.7μm))を積層した。これを高温真空プレス機(北川精機(株)製の「KVHC−PRESS」、縦300mm、横300mm)により、温度340℃、圧力5MPaの条件にて20分間にわたって熱プレスして一体化させることにより、両面銅張積層板を得た。
[Comparative Example 4]
A commercially available liquid crystal polymer film (Kuraray Bexter 50 μm) was used as an insulating layer and copper foil on both sides thereof (“BHY-22B-T” (thickness 18 μm, Rz = 0.7 μm) manufactured by JX Nippon Mining & Metals) ). This is hot-pressed and integrated for 20 minutes at a temperature of 340 ° C. and a pressure of 5 MPa with a high-temperature vacuum press (“KVHC-PRESS” manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd., length 300 mm, width 300 mm). A double-sided copper-clad laminate was obtained.
塩化第二鉄溶液(木田社製、40°ボーメ)を用いて、両面銅張積層板から銅箔を全て除去し、JIS C6481「プリント配線用銅張積層板試験方法」に準拠して、熱機械分析装置(リガク社製「Thermo plus TMA8310」)を用いて、20mm×50mmの試験片(絶縁層)に2.5gの荷重をかけながら、窒素気流化、5℃/分で250℃まで昇温時の面内の熱膨張係数を測定した(温度範囲50〜250℃、1Stスキャン)。三層フィルムと比べ、大きく収縮し寸法変化が大きいことがわかった。 Using a ferric chloride solution (Kida Co., Ltd., 40 ° Baume), all copper foil is removed from the double-sided copper-clad laminate, and in accordance with JIS C6481, “Test method for copper-clad laminate for printed wiring” Using a mechanical analyzer ("Thermo plus TMA8310" manufactured by Rigaku Corporation), while applying a load of 2.5 g to a 20 mm x 50 mm test piece (insulating layer), the temperature was increased to 250 ° C at 5 ° C / min. The in-plane thermal expansion coefficient at the time of temperature was measured (temperature range: 50 to 250 ° C., 1 St scan). Compared with the three-layer film, it was found that the shrinkage was large and the dimensional change was large.
上記結果に示したとおり、本発明の三層フィルムを用いた実施例1〜4の両面銅張積層板は、比較例1の両面銅張積層板に比べて水浸漬前後の伝送損失の変化率が低く、さらに、寸法安定性も良好であった。
また、実施例5〜6のように液晶ポリマー層を厚くさせた場合でも寸法安定性が良好なものであった。実施例5〜6の三層フィルムは液晶ポリマー層が厚いため、実施例5〜6の三層フィルムを用いてプリント回路基板を作製した場合、該プリント回路基板の伝送損失の変化率は、実施例1〜4と同等又はそれ以上に低くなるという効果を十分に奏することができる。
なお、比較例3〜4は、本発明の三層フィルムと比べ、寸法変化が大きかったため、伝送損失の測定は行わなかった。
As shown in the above results, the double-sided copper-clad laminates of Examples 1 to 4 using the three-layer film of the present invention were compared with the double-sided copper-clad laminate of Comparative Example 1 and the rate of change in transmission loss before and after water immersion. The dimensional stability was also good.
Moreover, even when the liquid crystal polymer layer was made thick as in Examples 5 to 6, the dimensional stability was good. Since the three-layer film of Examples 5 to 6 has a thick liquid crystal polymer layer, when the printed circuit board was produced using the three-layer film of Examples 5 to 6, the rate of change in transmission loss of the printed circuit board was The effect that it becomes equivalent to Example 1-4 or lower than it can fully be show | played.
In addition, since Comparative Example 3-4 had a large dimensional change compared with the three-layer film of this invention, the transmission loss was not measured.
上述のように、本明細書の実施例においては、溶媒と液晶ポリマーとを含む液状組成物をポリイミド樹脂フィルム上に塗布することにより、三層フィルムを製造した。三層フィルムは、該方法の他、下記<含浸による三層フィルムの製造方法>又は<順次塗布による三層フィルム製造方法>においても製造することができ、該方法により製造される三層フィルムと上記実施例において製造した三層フィルムとは、同様の効果を奏するものである。 As mentioned above, in the Example of this specification, the three-layer film was manufactured by apply | coating the liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer on a polyimide resin film. In addition to this method, the three-layer film can also be produced in the following <Method for producing a three-layer film by impregnation> or <Method for producing a three-layer film by sequential application>, and a three-layer film produced by the method, The three-layer film produced in the above example has the same effect.
<含浸による三層フィルムの製造方法>
市販のポリイミド樹脂フィルムであるカプトン200H(東レデュポン社製;50μm)を液晶ポリマー溶液組成物(1)に室温で1分間浸漬してから引き上げ、過剰に表面に付着した液晶ポリマーを落とすため、一対のロール間を通過させた後、熱風乾燥機で溶媒を蒸発させ、さらに、高温熱風乾燥機を用いて、加熱処理を行うことで三層フィルムが作製できる。
この際、引き上げ速度を調整することで、液晶ポリマーの膜厚も調整できる。
<Method for producing three-layer film by impregnation>
A commercially available polyimide resin film Kapton 200H (manufactured by Toray DuPont Co., Ltd .; 50 μm) was dipped in the liquid crystal polymer solution composition (1) for 1 minute at room temperature and then pulled up to remove the liquid crystal polymer excessively attached to the surface. After passing between these rolls, the solvent is evaporated with a hot air dryer, and further, a heat treatment is performed using a high-temperature hot air dryer to produce a three-layer film.
At this time, the film thickness of the liquid crystal polymer can also be adjusted by adjusting the pulling rate.
<順次塗布による三層フィルム製造方法>
支持体として、SUS箔上に液晶ポリマー溶液組成物(1)、ポリアミック酸樹脂液状組成物、液晶ポリマー溶液組成物(1)の順に塗布し、熱風乾燥機を用いて100℃で加熱して溶媒を除去、次いで330℃に加熱処理を行い、支持体から剥離することで三層フィルムが作製できる。
<Three-layer film manufacturing method by sequential application>
As a support, a liquid crystal polymer solution composition (1), a polyamic acid resin liquid composition, and a liquid crystal polymer solution composition (1) were applied in this order on a SUS foil, and the solvent was heated at 100 ° C. using a hot air dryer. Then, a heat treatment is performed at 330 ° C., and a three-layer film can be produced by peeling from the support.
20・・・三層フィルム、21・・・ポリイミド樹脂フィルム、22a、22b・・・液晶ポリマー層、30a、30b・・・金属層、3・・・浸漬槽、4・・・ガイドローラー、5・・・スクイズロール、5A,5B・・・ロール、10・・・ポリイミド樹脂フィルム、11・・・液状組成物含浸直後のポリイミド樹脂フィルム、12・・・液状組成物含浸ポリイミド樹脂フィルム、W・・・液状組成物、G1・・・ガイドローラー
DESCRIPTION OF
Claims (10)
(a)20μm≦T1≦50μm
(b)0.3≦T2/T1≦1.5 A liquid crystal polymer layer having a hydroxycarboxylic acid as a mesogen group is laminated on both surfaces of the polyimide resin film, and the thickness (T1) of the polyimide resin film and the thickness of a liquid crystal polymer layer having the hydroxycarboxylic acid as a mesogen group (T2). Is a three-layer film satisfying the following relational expressions (a) and (b) (however, two T2s are independent of each other and may be the same or different).
(A) 20 μm ≦ T1 ≦ 50 μm
(B) 0.3 ≦ T2 / T1 ≦ 1.5
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。) Furthermore, the three-layer film of Claim 1 or 2 in which the liquid crystal polymer layer which uses the said hydroxycarboxylic acid as a mesogen group contains the following structural units (1) and (2).
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
前記液状組成物中の溶媒を除去する溶媒除去工程と、
加熱処理工程と、
が含まれる三層フィルムの製造方法であって、
前記液晶ポリマーとして、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位と、以下の構造単位を含有する三層フィルムの製造方法。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。) Applying a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer on the polyimide resin film, and covering the polyimide resin film with the liquid composition; and
A solvent removal step of removing the solvent in the liquid composition;
A heat treatment step;
A method for producing a three-layer film comprising:
The manufacturing method of the three-layer film containing the structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid as the said liquid crystal polymer, and the following structural units.
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
前記液状組成物中の溶媒を除去する溶媒除去工程と、
加熱処理工程と、
が含まれる三層フィルムの製造方法であって、
前記液晶ポリマーとして、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位と、以下の構造単位(1)及び(2)を含有する三層フィルムの製造方法。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。) Impregnating a polyimide resin film in a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, and covering the polyimide resin film with the liquid composition;
A solvent removal step of removing the solvent in the liquid composition;
A heat treatment step;
A method for producing a three-layer film comprising:
A method for producing a three-layer film comprising a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid and the following structural units (1) and (2) as the liquid crystal polymer.
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
支持体上に前記液状組成物、前記ポリアミック酸樹脂液状組成物、前記液状組成物をこの順に三層に塗布する工程と、
前記三層の液状組成物中の溶媒を除去する溶媒除去工程と、
三層フィルム形成工程と、
が含まれる三層フィルムの製造方法であって、
前記液晶ポリマーとして、2−ヒドロキシ安息香酸又は2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する構造単位と、以下の構造単位(1)及び(2)を含有する三層フィルムの製造方法。
(1)−CO−Ar1−CO−
(2)−X−Ar2−Y−
(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基又は下記式(3)で表される基を示す。X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1、又はAr2で表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(3)−Ar3−Z−Ar4−
(Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。) Preparing a liquid composition containing a solvent and a liquid crystal polymer, and a polyamic acid resin liquid composition that is a precursor of a polyimide resin;
Applying the liquid composition, the polyamic acid resin liquid composition, and the liquid composition on a support in this order in three layers;
A solvent removal step of removing the solvent in the three-layer liquid composition;
A three-layer film forming process;
A method for producing a three-layer film comprising:
A method for producing a three-layer film comprising a structural unit derived from 2-hydroxybenzoic acid or 2-hydroxy-6-naphthoic acid and the following structural units (1) and (2) as the liquid crystal polymer.
(1) —CO—Ar 1 —CO—
(2) -X-Ar 2 -Y-
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group or a group represented by the following formula (3). X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group. (The hydrogen atom in the group represented by Ar 1 or Ar 2 may be independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.)
(3) -Ar 3 -Z-Ar 4 -
(Ar 3 and Ar 4 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
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