KR102394516B1 - Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip - Google Patents
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Abstract
기재와, 기재의 적어도 일방의 면에 적층된 점착제층을 구비한 다이싱 시트로서, 점착제층의 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은, 에너지선이 조사되기 전의 상태에 있어서 50 ㎪ 이상 80 ㎪ 이하, 또한 에너지선이 조사된 후의 상태에 있어서 5.0 ㎫ 이상 120 ㎫ 이하이고, 점착제층의 두께는 20 ㎛ 미만이고, 점착제층의 면은, 에너지선이 조사되기 전의 상태에 있어서, JIS Z 0237 : 1991 에 기재된 방법에 있어서, 박리 속도를 1 ㎜/분으로 변경한 조건에 의해 프로브 택을 사용하여 측정한 에너지량이, 0.10 mJ/5 ㎜φ 이상 0.8 mJ/5 ㎜φ 이하인 다이싱 시트. 이러한 다이싱 시트는, 다이싱 공정에 있어서의 문제 및 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제가 잘 발생하지 않는다. 또한, 이러한 다이싱 시트를 사용함으로써, 인자의 시인성이 우수함과 함께, 품질이 우수하고 비용적으로도 유리한 몰드 칩을 제조할 수 있다.It is a dicing sheet provided with a base material and the adhesive layer laminated|stacked on at least one surface of a base material, The storage elastic modulus in 23 degreeC of an adhesive layer is 50 kPa or more and 80 kPa or less in the state before energy ray irradiation, In addition, in the state after energy ray irradiation, 5.0 MPa or more and 120 MPa or less, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 20 µm, and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is in the state before energy ray irradiation, JIS Z 0237: 1991 In the described method, the amount of energy measured using a probe tack under the condition that the peeling rate is changed to 1 mm/min is 0.10 mJ/5 mmφ or more and 0.8 mJ/5 mmφ or less. In such a dicing sheet, the problem in a dicing process and the problem regarding the print visibility in a mold chip do not generate|occur|produce easily. In addition, by using such a dicing sheet, it is possible to manufacture a molded chip which is excellent in print visibility and is excellent in quality and advantageous in terms of cost.
Description
본 발명은, 반도체 칩 등의 칩상 부품의 복수가 수지 봉지되어 이루어지는 반도체 패키지 등의 몰드 패키지를 다이싱할 때에 사용되는 다이싱 시트에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 상기의 다이싱 시트의 제조 방법, 및 상기의 다이싱 시트를 사용하는 몰드 칩의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a dicing sheet used when dicing a mold package such as a semiconductor package in which a plurality of chip-like components, such as a semiconductor chip, are resin-sealed. Moreover, this invention relates to the manufacturing method of said dicing sheet, and the manufacturing method of a mold chip using said dicing sheet.
반도체 칩 등의 칩상 부품이 수지 봉지된 부품 (본 명세서에 있어서 「몰드 칩」 이라고 한다) 은, 봉지되는 칩상 부품이 반도체 칩인 경우를 예로 하면, 통상적으로 다음과 같이 하여 제작된다.A component in which a chip-like component such as a semiconductor chip is resin-sealed (referred to as a "mold chip" in this specification) is usually manufactured as follows, taking the case where the chip-like component to be sealed is a semiconductor chip as an example.
먼저, TAB 테이프와 같은 복수의 기대가 연접하여 이루어지는 집합체의 각 기대 상에 반도체 칩을 탑재하고, 이들 반도체 칩을 일괄하여 수지 봉지하여 전자 부품 집합체 (본 명세서에 있어서 「반도체 패키지」 라고 한다) 를 얻는다.First, a semiconductor chip is mounted on each base of an aggregate formed by connecting a plurality of bases such as a TAB tape, and these semiconductor chips are collectively resin-sealed to form an electronic component assembly (referred to as "semiconductor package" in this specification). get
다음으로, 반도체 패키지의 일방의 면에, 기재와 점착제층을 구비한 점착 시트 (본 명세서에 있어서 「다이싱 시트」 라고 한다) 를 첩부하는 것에 의해 반도체 패키지를 다이싱 시트에 대하여 고정시킨다. 이 다이싱 시트에 대하여 고정된 반도체 패키지를 절단 분리 (다이싱) 하여 개편화하여, 다이싱 시트 상에 복수의 몰드 칩이 근접 배치된 부재를 제작한다 (다이싱 공정).Next, the semiconductor package is fixed to the dicing sheet by affixing the adhesive sheet (referred to as a "dicing sheet" in this specification) provided with a base material and an adhesive layer on one surface of a semiconductor package. The semiconductor package fixed to this dicing sheet is cut and separated (diced) into pieces, and a member in which a plurality of mold chips are closely arranged on the dicing sheet is produced (dicing step).
통상적으로 다이싱 시트의 점착제층은, 특정한 자극에 의해 피착면에 대한 점착제층의 점착성이 저하하도록 설계되어 있고, 특정한 자극으로는 예를 들어 에너지선 조사가 채용된다. 그리고, 이하의 공정이 실시되기 전에 다이싱 시트에 에너지선을 조사하여, 피착면에 대한 점착제층의 점착성을 저하시키는 공정이 포함된다.Usually, the adhesive layer of a dicing sheet is designed so that the adhesiveness of the adhesive layer with respect to a to-be-adhered surface may fall by a specific stimulus, and energy-beam irradiation is employ|adopted as a specific stimulus, for example. And before the following process is implemented, the process of irradiating an energy ray to a dicing sheet, and reducing the adhesiveness of the adhesive layer with respect to a to-be-adhered surface is included.
계속해서, 필요에 따라, 이 부재에 있어서의 다이싱 시트를 익스팬드 (주면 내 방향으로 신장) 하여, 다이싱 시트 상에 배치된 몰드 칩의 간격을 확대한다 (익스팬드 공정).Then, as needed, the dicing sheet in this member is expanded (extended in the main surface inward direction), and the space|interval of the mold chip arrange|positioned on the dicing sheet is enlarged (expanding process).
이렇게 하여 다이싱 시트 상에서 서로 이간된 상태가 된 몰드 칩을, 개별적으로 픽업하여 다이싱 시트로부터 분리시키고 (픽업 공정), 다음 공정에 이송한다. 이 때, 몰드 칩의 면에 대한 상기의 점착제층의 점착성을 저하시키는 공정을 포함함으로써, 픽업을 실시하는 것이 용이화된다.In this way, the mold chips in a state separated from each other on the dicing sheet are individually picked up and separated from the dicing sheet (pickup step), and transferred to the next step. At this time, it becomes easy to pick-up by including the process of reducing the adhesiveness of the said adhesive layer with respect to the surface of a mold chip.
이 일련의 공정 중, 다이싱 공정에서는, 반도체 패키지 및 이것이 다이싱되어 이루어지는 몰드 칩은, 다이싱 시트 상에 고정된 상태를 유지하는 것이 요구된다. 이 목적을 달성하는 관점에서는, 다이싱 시트의 점착제층은, 그 반도체 패키지의 면 및 몰드 칩의 면에 대한 에너지선 조사 전의 점착성이 높은 것이 바람직하다.In a dicing process among this series of processes, it is calculated|required that the semiconductor package and the mold chip by which it is diced maintain the state fixed on the dicing sheet. From a viewpoint of achieving this objective, it is preferable that the adhesive layer of a dicing sheet has high adhesiveness before energy-beam irradiation with respect to the surface of the semiconductor package, and the surface of a mold chip.
여기서, 다이싱 시트의 피착체가 반도체 패키지인 경우에는, 피착면은 통상적으로 봉지 수지의 면이 되고, 반도체 웨이퍼를 피착체로 하는 경우에 비하여, 피착면의 요철이 커지는 경향이 있다. 이 때문에, 반도체 웨이퍼를 피착체로 하는 다이싱 시트를 반도체 패키지에 대한 상기 공정에 사용되는 다이싱 시트로서 전용하면, 피착면에 대한 상기의 점착성이 불충분해져, 다이싱 공정에 있어서, 반도체 패키지를 절단 중에, 반도체 패키지가 개편화되어 이루어지는 몰드 칩이 다이싱 시트로부터 박리되어 비산하는 문제가 발생한다. 이하, 다이싱 공정에 있어서 발생하는 이 문제를 「칩 비산」 이라고 한다.Here, in the case where the adherend of the dicing sheet is a semiconductor package, the adherend surface is usually the surface of the encapsulating resin, and the unevenness of the adherend surface tends to be larger than in the case where the semiconductor wafer is the adherend. For this reason, when a dicing sheet having a semiconductor wafer as an adherend is diverted as a dicing sheet used in the above process for a semiconductor package, the above-mentioned adhesiveness to the adherend surface becomes insufficient, and the semiconductor package is cut in the dicing process. During the process, a problem arises in that the mold chip formed by separating the semiconductor package into pieces peels off from the dicing sheet and scatters. Hereinafter, this problem which arises in a dicing process is called "chip scattering".
이 칩 비산의 발생 가능성을 저감시키는 것을 목적으로 하여, 예를 들어 인용 문헌 1 에 기재된 바와 같이, 다이싱 시트의 점착제층에 대하여, 에너지선 조사 전의 상태에 있어서의 피착면에 대한 점착성을 향상시키기 위한 수지 재료 (본 명세서에 있어서, 「점착 부여 수지」 라고 한다) 를 함유시키는 것이 실시되고 있다.For the purpose of reducing the possibility of this chip scattering, for example, as described in Cited Document 1, with respect to the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing sheet, to improve the adhesion to the adherend surface in the state before energy ray irradiation Incorporation of a resin material (referred to as "tackifying resin" in this specification) for
점착 부여 수지로서 일반적인 로진계 재료는, 점착제층의 피착면, 즉, 몰드 패키지의 수지 봉지면에 대한 점착성을 향상시키는 관점에서는 바람직한 재료이다. 그러나, 수지 봉지면이, 레이저 가공 등에 의해 수지 재료가 제거되어 형성된 오목부에 의해 화성된 인자부를 갖는 경우에는, 다음과 같은 문제가 발생하는 경우가 있다. 즉, 다이싱 시트가 구비하는 점착제층에 점착 부여 수지를 함유시킨 것에 의해, 수지 봉지면과 같은 비교적 요철이 큰 면에 대한 점착성을 향상시키는 것은 달성할 수 있지만, 수지 봉지면이 인자부를 갖는 경우에는, 인자부의 오목부 내에 점착제층을 구성하는 재료가 들어가기 쉽다. 이 때문에, 몰드 패키지를 개편화하여 얻어진 몰드 칩을 다이싱 시트로부터 이간시켰을 때에, 인자부의 오목부 내에 점착제층을 구성하는 재료가 잔류하여, 인자의 시인성이 저하하는 경우가 있다. 수지 봉지면은 반도체 웨이퍼나 보호막보다 일반적으로 요철이 크기 때문에, 수지 봉지면에 오목부를 형성함으로써 인자하는 경우에는, 그 요철의 단차는 커지는 경향이 있다. 이 때문에, 상기의 인자의 시인성 저하의 문제가 발생하기 쉽다.A general rosin-based material as the tackifying resin is a preferable material from the viewpoint of improving the adhesion to the adherend surface of the pressure-sensitive adhesive layer, ie, the resin encapsulation surface of the mold package. However, when the resin encapsulation surface has a printed portion formed by a concave portion formed by removing a resin material by laser processing or the like, the following problem may occur. That is, by containing a tackifying resin in the pressure-sensitive adhesive layer included in the dicing sheet, it can be achieved to improve the adhesion to a surface with relatively large irregularities such as a resin sealing surface, but when the resin sealing surface has a printing portion, The material constituting the pressure-sensitive adhesive layer tends to enter the concave portion of the printing portion. For this reason, when the mold chip obtained by separating the mold package into pieces is separated from the dicing sheet, the material which comprises an adhesive layer remains in the recessed part of a printing part, and the visibility of printing may fall. Since the resin encapsulation surface has generally larger irregularities than semiconductor wafers or protective films, when printing is performed by forming recesses in the resin encapsulation surface, the level of the irregularities tends to become large. For this reason, it is easy to generate|occur|produce the problem of the visibility fall of the said printing|printing.
본 발명은, 다이싱 공정에 있어서의 문제 및 상기의 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제를 잘 일으키지 않는 다이싱 시트를 제공하는 것, 및 그 다이싱 시트를 사용하는 몰드 칩의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is to provide a dicing sheet that does not easily cause problems in the dicing process and print visibility in the mold chip, and a method for manufacturing a molded chip using the dicing sheet. intended to provide
상기 목적을 달성하기 위해서 제공되는 본 발명은 다음과 같다.The present invention provided to achieve the above object is as follows.
(1) 기재와, 상기 기재의 적어도 일방의 면에 적층된 점착제층을 구비한 다이싱 시트로서, 상기 점착제층의 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은, 에너지선이 조사되기 전의 상태에 있어서 50 ㎪ 이상 80 ㎪ 이하, 또한 에너지선이 조사된 후의 상태에 있어서 5.0 ㎫ 이상 120 ㎫ 이하이고, 상기 점착제층의 두께는 20 ㎛ 미만이고, 상기 점착제층의 면은, 에너지선이 조사되기 전의 상태에 있어서, JIS Z 0237 : 1991 에 기재된 방법에 있어서, 박리 속도를 1 ㎜/분으로 변경한 조건에 의해 프로브 택을 사용하여 측정한 에너지량이, 0.10 mJ/5 ㎜φ 이상 0.8 mJ/5 ㎜φ 이하인 것을 특징으로 하는 다이싱 시트.(1) A dicing sheet provided with a base material and the adhesive layer laminated|stacked on at least one surface of the said base material, The storage elastic modulus in 23 degreeC of the said adhesive layer is 50 kPa in the state before energy-beam irradiation More than 80 kPa, and more than 5.0 MPa and not more than 120 MPa in the state after the energy ray is irradiated, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 20 µm, and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is in the state before the energy ray is irradiated , JIS Z 0237: In the method described in 1991, the amount of energy measured using a probe tack under the condition that the peeling rate is changed to 1 mm/min, 0.10 mJ/5 mmφ or more and 0.8 mJ/5 mmφ or less Characterized by a dicing sheet.
(2) 사용에 있어서, 상기 점착제층의 상기 기재측과 반대측의 면에는, 몰드 패키지의 수지 봉지면이 첩부되고, 상기 수지 봉지면은 오목부에 의해 형성된 인자부를 갖는, 상기 (1) 에 기재된 다이싱 시트.(2) In use, the dicing according to (1), wherein a resin sealing surface of the mold package is affixed to the surface opposite to the substrate side of the pressure-sensitive adhesive layer, and the resin sealing surface has a printing portion formed by a concave portion. Sheet.
(3) 상기 수지 봉지면의 상기 인자부의 오목부의 평균 깊이가 0.5 ㎛ 이상인, 상기 (2) 에 기재된 다이싱 시트.(3) The dicing sheet according to the above (2), wherein the average depth of the concave portions of the printing portion on the resin-encapsulating surface is 0.5 µm or more.
(4) 상기 점착제층은, 에너지선 중합성기 및 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체 (A), 및 상기 반응성 관능기와 가교 반응이 가능한 이소시아네이트계 가교제 (B) 를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것이고, 상기 아크릴계 중합체 (A) 는, 상기 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체 (A1) 과, 상기 에너지선 중합성기를 갖는 이소시아네이트계 화합물 (A2) 가, 티탄 및 지르코늄의 적어도 일방을 함유하는 유기 금속 촉매 (C) 의 존재하에서 반응함으로써 얻어진 것인, 상기 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 기재된 다이싱 시트.(4) the pressure-sensitive adhesive layer is formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic polymer (A) having an energy ray polymerizable group and a reactive functional group, and an isocyanate-based crosslinking agent capable of crosslinking reaction with the reactive functional group (B), and the acrylic polymer (A) is the acrylic polymer (A1) having a reactive functional group and the isocyanate compound (A2) having an energy ray polymerizable group in the presence of an organometallic catalyst (C) containing at least one of titanium and zirconium The dicing sheet according to any one of (1) to (3), which is obtained by reacting.
(5) 상기 아크릴계 중합체 (A1) 에 있어서의 상기 반응성 관능기를 갖는 구성 단위를 부여하는 단량체 (m1) 의, 상기 아크릴계 중합체 (A1) 을 부여하는 단량체 전체에 대한 질량 비율이, 5 질량% 이상 30 질량% 이하이고, 상기 아크릴계 중합체 (A) 를 형성하기 위한 반응에 있어서, 상기 화합물 (A2) 의 사용량은, 상기 단량체 (m1) 에 대하여 0.4 당량 이상 0.8 당량 이하인, 상기 (4) 에 기재된 다이싱 시트.(5) The mass ratio of the monomer (m1) providing the structural unit having the reactive functional group in the acrylic polymer (A1) to the entire monomer giving the acrylic polymer (A1) is 5 mass% or more 30 The dicing according to (4), wherein the amount of the compound (A2) used in the reaction for forming the acrylic polymer (A) is not less than 0.4 equivalents and not more than 0.8 equivalents based on the monomer (m1). Sheet.
(6) 상기 유기 금속 촉매 (C) 는 지르코늄 함유 킬레이트 화합물을 포함하는, 상기 (4) 또는 (5) 에 기재된 다이싱 시트.(6) The dicing sheet according to (4) or (5), wherein the organometallic catalyst (C) contains a zirconium-containing chelate compound.
(7) 상기 (1) 내지 (6) 의 어느 하나에 기재된 다이싱 시트의 상기 점착제층측의 면을, 상기 몰드 패키지의 상기 수지 봉지면에 첩부하고, 상기 다이싱 시트 상의 상기 몰드 패키지를 절단하여 개편화하여, 복수의 몰드 칩을 얻는, 몰드 칩의 제조 방법.(7) The adhesive layer side surface of the dicing sheet according to any one of (1) to (6) is affixed to the resin sealing surface of the mold package, and the mold package on the dicing sheet is cut into pieces The manufacturing method of the mold chip which converts and obtains a some mold chip.
본 발명에 의하면, 다이싱 공정에 있어서의 문제 및 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제를 잘 일으키지 않는 다이싱 시트가 제공된다. 또한, 이러한 다이싱 시트를 사용함으로써, 인자의 시인성이 우수함과 함께, 품질이 우수하고 비용적으로도 유리한 몰드 칩을 제조할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the dicing sheet which hardly raises the problem in a dicing process and the problem regarding the print visibility in the mold chip mentioned above is provided. In addition, by using such a dicing sheet, it is possible to manufacture a molded chip which is excellent in print visibility and is excellent in quality and advantageous in terms of cost.
이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described.
1. 다이싱 시트1. Dicing sheet
본 발명의 일 실시형태에 관련된 다이싱 시트는, 기재 및 점착제층을 구비한다.The dicing sheet which concerns on one Embodiment of this invention is equipped with a base material and an adhesive layer.
(1) 기재(1) description
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트의 기재는, 픽업 공정 등에 있어서 파단하지 않는 한, 그 구성 재료는, 특별히 한정은 되지 않고, 통상적으로는 수지계의 재료를 주재로 하는 필름으로 구성된다. 그 필름의 구체예로서, 저밀도 폴리에틸렌 (LDPE) 필름, 직사슬 저밀도 폴리에틸렌 (LLDPE) 필름, 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE) 필름 등의 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 에틸렌-노르보르넨 공중합체 필름, 노르보르넨 수지 필름 등의 폴리올레핀계 필름 ; 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름 등의 폴리염화비닐계 필름 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름 등의 폴리에스테르계 필름 ; 폴리우레탄 필름 ; 폴리이미드 필름 ; 아이오노머 수지 필름 ; 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름, 에틸렌-(메트)아크릴산 공중합체 필름, 에틸렌-(메트)아크릴산에스테르 공중합체 필름 등의 에틸렌계 공중합 필름 ; 폴리스티렌 필름, 폴리카보네이트 필름 ; 불소 수지 필름 ; 그리고 이들 수지의 수 첨가물 및 변성물을 주재로 하는 필름 등을 들 수 있다. 또한 이들의 가교 필름, 공중합체 필름도 사용된다. 상기의 기재는 1 종 단독이어도 되고, 또한 이들을 2 종류 이상 조합한 적층 필름이어도 된다. 또한, 본 명세서에 있어서의 「(메트)아크릴산」 은, 아크릴산 및 메타크릴산의 양방을 의미한다. 다른 유사 용어에 대해서도 동일하다.As long as the base material of the dicing sheet which concerns on this embodiment does not fracture|rupture in a pick-up process etc., limitation in particular is not carried out, The material is not specifically limited, Usually, it is comprised from the film which mainly has a resin material. Specific examples of the film include polyethylene films such as low-density polyethylene (LDPE) films, linear low-density polyethylene (LLDPE) films, and high-density polyethylene (HDPE) films, polypropylene films, polybutene films, polybutadiene films, and polymethylpentene films. , polyolefin-based films such as an ethylene-norbornene copolymer film and a norbornene resin film; Polyvinyl chloride-type films, such as a polyvinyl chloride film and a vinyl chloride copolymer film; Polyester-type films, such as a polyethylene terephthalate film and a polybutylene terephthalate film; polyurethane film; polyimide film; ionomer resin film; ethylene-based copolymer films such as an ethylene-vinyl acetate copolymer film, an ethylene-(meth)acrylic acid copolymer film, and an ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer film; polystyrene film, polycarbonate film; fluororesin film; And the film etc. which mainly have water additives and modified substances of these resins are mentioned. Moreover, these crosslinked films and copolymer films are also used. Single 1 type may be sufficient as said base material, and the laminated|multilayer film which combined these 2 or more types may be sufficient as it. In addition, "(meth)acrylic acid" in this specification means both acrylic acid and methacrylic acid. The same is true for other similar terms.
기재는, 상기의 수지계 재료를 주재로 하는 필름 내에, 착색제, 난연제, 가소제, 대전 방지제, 활제, 필러 등의 각종 첨가제가 포함되어 있어도 된다. 착색제로는, 예를 들어, 이산화티탄, 카본 블랙 등의 안료나, 다양한 염료 등을 들 수 있다. 또한, 필러로서, 멜라민 수지와 같은 유기계 재료, 퓸드 실리카와 같은 무기계 재료 및 니켈 입자와 같은 금속계 재료가 예시된다. 이러한 첨가제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 기재가 원하는 기능을 발휘하고, 원하는 평활성이나 유연성을 잃지 않는 범위로 제한해야 한다.The base material may contain various additives, such as a colorant, a flame retardant, a plasticizer, an antistatic agent, a lubricant, and a filler, in the film which has the said resin material as a main component. As a coloring agent, pigments, such as titanium dioxide and carbon black, various dyes, etc. are mentioned, for example. Further, as the filler, an organic material such as a melamine resin, an inorganic material such as fumed silica, and a metallic material such as nickel particles are exemplified. The content of these additives is not particularly limited, but should be limited to a range in which the substrate exhibits a desired function and does not lose desired smoothness or flexibility.
점착제층을 경화시키기 위해서 조사하는 에너지선으로서 자외선을 사용하는 경우에는, 기재는 자외선에 대하여 투과성을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 에너지선으로서 전자선을 사용하는 경우에는 기재는 전자선의 투과성을 가지고 있는 것이 바람직하다.When using an ultraviolet-ray as an energy ray irradiated in order to harden an adhesive layer, it is preferable that a base material has transparency with respect to an ultraviolet-ray. Moreover, when using an electron beam as an energy beam, it is preferable that the base material has the permeability|transmittance of an electron beam.
기재의 두께는 다이싱 시트가 전술한 각 공정에 있어서 적절히 기능할 수 있는 한, 한정되지 않는다. 바람직하게는 20 ∼ 450 ㎛, 보다 바람직하게는 25 ∼ 200 ㎛, 특히 바람직하게는 50 ∼ 150 ㎛ 의 범위에 있다.The thickness of the base material is not limited as long as the dicing sheet can properly function in each of the steps described above. Preferably it is in the range of 20-450 micrometers, More preferably, it is 25-200 micrometers, Especially preferably, it exists in the range of 50-150 micrometers.
본 실시형태에 있어서의 기재의 파단 신도는, 23 ℃, 상대 습도 50 % 일 때에 측정한 값으로서 100 % 이상인 것이 바람직하고, 특히 200 % 이상 1000 % 이하인 것이 바람직하다. 상기의 파단 신도가 100 % 이상인 기재는, 익스팬드 공정이 실시된 경우에도 잘 파단되지 않고, 몰드 패키지를 절단하여 형성한 몰드 칩을 이간하기 쉬운 것이 된다. 또한, 파단 신도는 JIS K 7161 : 1994 에 준거한 인장 시험에 있어서의, 시험편 파괴시의 시험편의 길이의 원래 길이에 대한 신장률이다.The elongation at break of the substrate in the present embodiment is preferably 100% or more, and particularly preferably 200% or more and 1000% or less, as a value measured at 23°C and 50% relative humidity. The substrate having the above elongation at break of 100% or more does not break easily even when the expand step is performed, and the mold chip formed by cutting the mold package is easily separated. In addition, elongation at break is the elongation rate with respect to the original length of the length of the test piece at the time of the breakage of the test piece in the tensile test based on JISK7161:1994.
또한, 본 실시형태에 있어서의 기재의 JIS K 7161 : 1994 에 준거한 시험에 의해 측정되는 25 % 변형시 인장 응력은 5 N/10 ㎜ 이상 15 N/10 ㎜ 이하인 것이 바람직하고, 최대 인장 응력은 15 ㎫ 이상 50 ㎫ 이하인 것이 바람직하다. 25 % 변형시 인장 응력이 5 N/10 ㎜ 미만이거나, 최대 인장 응력이 15 ㎫ 미만이면, 다이싱 시트에 몰드 패키지를 첩착한 후, 링 프레임에 고정시켰을 때, 기재가 유연하기 때문에 느슨함이 발생하여, 반송 에러의 원인이 되는 경우가 있다. 한편, 25 % 변형시 인장 응력이 15 N/10 ㎜ 를 초과하거나, 최대 인장 응력이 50 ㎫ 를 초과하면, 익스팬드 공정이 실시된 경우에 다이싱 시트에 가해지는 하중이 커지기 때문에, 링 프레임으로부터 다이싱 시트 자체가 박리되는 등의 문제가 발생할 우려가 있다. 본 발명에 있어서의 파단 신도, 25 % 변형시 인장 응력, 최대 인장 응력은 기재의 장척 방향에 대하여 측정한 값을 가리킨다.In addition, the tensile stress at 25% strain measured by a test based on JIS K 7161: 1994 of the substrate in this embodiment is preferably 5 N/10 mm or more and 15 N/10 mm or less, and the maximum tensile stress is It is preferable that they are 15 Mpa or more and 50 Mpa or less. If the tensile stress at 25% strain is less than 5 N/10 mm or the maximum tensile stress is less than 15 MPa, after attaching the mold package to the dicing sheet and fixing it to the ring frame, the base material is flexible, so there is no looseness. Occurs, and may cause a conveyance error. On the other hand, if the tensile stress at the time of 25% strain exceeds 15 N/10 mm or the maximum tensile stress exceeds 50 MPa, the load applied to the dicing sheet increases when the expand process is performed, so that the There exists a possibility that the problem, such as peeling of the dicing sheet itself, may arise. Elongation at break, tensile stress at 25% strain, and maximum tensile stress in the present invention refer to values measured in the elongate direction of the substrate.
(2) 점착제층(2) adhesive layer
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층은, 다음에 설명하는 바와 같이, 두께가 20 ㎛ 미만이고, 저장 탄성률 등 소정의 특성을 구비한다. 당해 점착제층은, 바람직한 일 형태에 있어서, 에너지선 중합성기 및 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체 (A), 및 반응성 관능기와 가교 반응이 가능한 이소시아네이트계 가교제 (B) 를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것이다.The pressure-sensitive adhesive layer included in the dicing sheet according to the present embodiment has a thickness of less than 20 µm and has predetermined characteristics such as a storage elastic modulus, as will be explained next. In a preferred embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer is formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic polymer (A) having an energy ray polymerizable group and a reactive functional group, and an isocyanate-based crosslinking agent (B) capable of crosslinking reaction with a reactive functional group.
(2-1) 두께(2-1) thickness
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층의 두께는 20 ㎛ 미만이다. 점착제층의 두께가 20 ㎛ 미만임으로써, 점착제 잔여물이 잘 발생하지 않게 되어, 다이싱 공정에 있어서 문제가 발생할 가능성이 저감된다. 또한, 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제를 잘 일으키지 않는다. 특히, 다이싱 공정을 실시하여 몰드 패키지를 개편화하여 몰드 칩으로 한 후, 에너지선의 조사가 실시될 때까지의 기간이 긴 (예를 들어 30 일간) 경우에는, 점착제층의 두께가 20 ㎛ 이상이면, 몰드 칩의 면에 대한 점착제층의 점착성이 과도하게 높아져, 에너지선을 조사해도 상기의 점착성이 적절히 저감되지 않아, 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제가 발생하기 쉬워지는 경우가 있다. 본 실시형태에 관련된 다이싱 시트는, 점착제층의 두께가 20 ㎛ 미만이기 때문에, 이와 같은 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제를 잘 일으키지 않는다. 본 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층의 두께는, 17 ㎛ 이하로 하는 것이 바람직하고, 13 ㎛ 이하로 하는 것이 보다 바람직하고, 10 ㎛ 이하로 하는 것이 특히 바람직하다. 점착제층이 피착면에 대하여 적절한 점착성을 갖는 것을 안정적으로 실현하는 관점에서, 점착제층의 두께는 2 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 4 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하고, 5 ㎛ 이상으로 하는 것이 특히 바람직하다. 따라서, 점착제층의 가장 바람직한 두께는, 5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하이다.The thickness of the adhesive layer with which the dicing sheet which concerns on this embodiment is equipped is less than 20 micrometers. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 20 µm, the pressure-sensitive adhesive residue is less likely to be generated, and the possibility of occurrence of a problem in the dicing process is reduced. Moreover, the problem regarding the print visibility in the above-mentioned mold chip does not arise easily. In particular, when the period from the time the dicing process is performed to separate the mold package into pieces to form a mold chip and the time until irradiation with energy rays is long (for example, 30 days), the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 20 µm or more On the other hand, the adhesion of the pressure-sensitive adhesive layer to the surface of the mold chip becomes excessively high, and even if irradiated with energy rays, the above-mentioned adhesion is not reduced appropriately, and the problem regarding the print visibility in the above-described mold chip tends to occur. there is. Since the thickness of the adhesive layer is less than 20 micrometers in the dicing sheet which concerns on this embodiment, it is hard to raise|generate the problem regarding the print visibility in such a mold chip mentioned above. It is preferable to set it as 17 micrometers or less, as for the thickness of the adhesive layer with which the dicing sheet which concerns on this embodiment is equipped, it is more preferable to set it as 13 micrometers or less, It is especially preferable to set it as 10 micrometers or less. From the viewpoint of stably realizing the pressure-sensitive adhesive layer having an appropriate adhesiveness to the adherend surface, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 2 µm or more, more preferably 4 µm or more, and particularly preferably 5 µm or more. Therefore, the most preferable thickness of an adhesive layer is 5 micrometers or more and 10 micrometers or less.
(2-2) 저장 탄성률(2-2) storage modulus
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층에 대하여 에너지선을 조사하기 전의 당해 점착제층의 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 (본 명세서에 있어서 「조사 전 탄성률」 이라고도 한다) 은, 50 ㎪ 이상 80 ㎪ 이하이다.The storage elastic modulus at 23 degreeC of the said adhesive layer before irradiating an energy ray with respect to the adhesive layer with which the dicing sheet which concerns on this embodiment is equipped (it is also called "elastic modulus before irradiation" in this specification) is 50 kPa or more 80 kPa or less.
조사 전 탄성률이 상기의 범위에 있음으로써, 점착제층의 피착면인 몰드 패키지의 봉지 수지의 면의 오목부 내에, 에너지선 조사 전의 점착제층을 구성하는 재료가 잘 들어가지 않게 되어, 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제가 잘 발생하지 않게 된다. 또한, 조사 전 탄성률이 상기의 범위에 있음으로써, 점착제층의 피착면에 대한 점착성이 적절해져, 칩 비산이 잘 발생하지 않게 된다. 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제 및 칩 비산이 발생할 가능성을 보다 안정적으로 저감시키는 관점에서, 조사 전 탄성률은, 50 ㎪ 이상 75 ㎪ 이하인 것이 바람직하고, 50 ㎪ 이상 70 ㎪ 이하인 것이 보다 바람직하다.When the modulus of elasticity before irradiation is in the above range, the material constituting the pressure-sensitive adhesive layer before energy ray irradiation does not easily enter the concave portion of the surface of the encapsulating resin of the mold package, which is the adhered surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The problem regarding the visibility of the print in the . Moreover, when the elastic modulus before irradiation exists in the said range, the adhesiveness with respect to the to-be-adhered surface of an adhesive layer becomes appropriate, and chip scattering becomes difficult to generate|occur|produce. From the viewpoint of more stably reducing the problem of print visibility in the above-described molded chip and the possibility of chip scattering, the elastic modulus before irradiation is preferably 50 kPa or more and 75 kPa or less, more preferably 50 kPa or more and 70 kPa or less desirable.
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층에 대하여 에너지선을 조사한 후의 당해 점착제층의 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 (본 명세서에 있어서 「조사 후 탄성률」 이라고도 한다) 은, 5.0 ㎫ 이상 120 ㎫ 이하이다.The storage elastic modulus (also referred to as "elastic modulus after irradiation" in this specification) at 23 degreeC of the said adhesive layer after irradiating an energy ray with respect to the adhesive layer with which the dicing sheet which concerns on this embodiment is equipped is 5.0 MPa or more, 120 MPa or less.
조사 후 탄성률이 5.0 ㎫ 이상임으로써, 점착제층의 피착면인 몰드 패키지의 봉지 수지의 면의 오목부 내, 특히 인자부를 구성하는 오목부 내에, 에너지선 조사 후의 점착제층을 구성하는 재료가 잘 잔류하지 않게 되어, 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제가 잘 발생하지 않게 된다. 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제가 잘 발생하지 않게 되는 것을 안정적으로 실현하는 관점에서, 조사 후 탄성률은, 10 ㎫ 이상인 것이 바람직하고, 15 ㎫ 이상인 것이 보다 바람직하고, 20 ㎫ 이상인 것이 특히 바람직하다.When the modulus of elasticity after irradiation is 5.0 MPa or more, the material constituting the pressure-sensitive adhesive layer after energy ray irradiation does not easily remain in the concave portion of the surface of the encapsulating resin of the mold package, which is the adhered surface of the pressure-sensitive adhesive layer, in the concave portion constituting the printing portion. As a result, the problem of print visibility in the mold chip described above is less likely to occur. From the viewpoint of stably realizing that the problem regarding print visibility in the above-described mold chip is less likely to occur, the elastic modulus after irradiation is preferably 10 MPa or more, more preferably 15 MPa or more, and 20 MPa or more Especially preferred.
조사 후 탄성률이 120 ㎫ 이하임으로써, 점착제층의 피착면인 몰드 패키지의 봉지 수지의 면의 오목부 내, 특히 인자부를 구성하는 오목부 내에 들어간 점착제층을 구성하는 재료가, 픽업 공정에 있어서, 상기의 오목부로부터 적절히 이간하기 쉬워진다. 이 때문에, 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제가 잘 발생하지 않는다. 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제가 잘 발생하지 않게 되는 것을 안정적으로 실현하는 관점에서, 조사 후 탄성률은, 100 ㎫ 이하인 것이 바람직하고, 80 ㎫ 이하인 것이 보다 바람직하고, 60 ㎫ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 50 ㎫ 이하인 것이 특히 바람직하다.When the modulus of elasticity after irradiation is 120 MPa or less, the material constituting the pressure-sensitive adhesive layer that has entered the concave portion of the surface of the encapsulating resin of the mold package, which is the adherend surface of the pressure-sensitive adhesive layer, in the concave portion constituting the printing portion, in the pick-up process, It becomes easy to space|separate suitably from said recessed part. For this reason, the problem regarding the print visibility in the above-mentioned mold chip does not generate|occur|produce easily. From the viewpoint of stably realizing that the problem regarding print visibility in the above-described mold chip is less likely to occur, the elastic modulus after irradiation is preferably 100 MPa or less, more preferably 80 MPa or less, and 60 MPa or less It is more preferable, and it is especially preferable that it is 50 MPa or less.
(2-3) 택값(2-3) Tack Value
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트의 점착제층의 면은, 에너지선이 조사되기 전의 상태에 있어서, JIS Z 0237 : 1991 에 기재된 방법에 있어서 박리 속도를 1 ㎜/분으로 변경한 조건에 의해 프로브 택을 사용하여 측정한 에너지량 (본 명세서에 있어서 「택값」 이라고도 한다) 이, 0.10 mJ/5 ㎜φ 이상 0.8 mJ/5 ㎜φ 이하이다. 이 택값은, 측정 개시부터 프로브가 박리할 때까지 측정된 피크의 적산치로서 구해진다. 택값이 상기의 범위임으로써, 칩 비산의 발생을 억제할 수 있다. 칩 비산이 발생할 가능성을 보다 안정적으로 저감시키는 관점에서, 택값은, 0.13 mJ/5 ㎜φ 이상 0.75 mJ/5 ㎜φ 이하인 것이 바람직하고, 0.15 mJ/5 ㎜φ 이상 0.7 mJ/5 ㎜φ 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.18 mJ/5 ㎜φ 이상 0.65 mJ/5 ㎜φ 이하인 것이 특히 바람직하다.The surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing sheet according to the present embodiment is in a state before energy ray irradiation, and in the method described in JIS Z 0237: 1991, the peeling rate is changed to 1 mm/min. The amount of energy (also referred to as "tack value" in this specification) measured using This tack value is calculated|required as an integrated value of the peak measured from the start of a measurement until a probe peels. By the tack value being in the above range, it is possible to suppress the occurrence of chip scattering. From the viewpoint of more stably reducing the possibility of chip scattering, the tack value is preferably 0.13 mJ/5 mmφ or more and 0.75 mJ/5 mmφ or less, and 0.15 mJ/5 mmφ or more and 0.7 mJ/5 mmφ or less. It is more preferable, and it is especially preferable that they are 0.18 mJ/5 mmphi or more and 0.65 mJ/5 mmphi or less.
(2-4) 아크릴계 중합체 (A) (2-4) Acrylic polymer (A)
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층을 형성하기 위한 점착제 조성물은, 바람직한 일 형태에 있어서, 에너지선 중합성기 및 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체 (A) 를 함유한다. 아크릴계 중합체 (A) 는, 에너지선 중합성기 및 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 화합물에 기초하는 구성 단위를 그 골격을 구성하는 단위로서 포함하는 아크릴계 중합체이다. 아크릴계 중합체 (A) 는, 1 종류의 단량체가 중합하여 이루어지는 단독 중합체여도 되고, 복수 종류의 단량체가 중합하여 이루어지는 공중합체여도 된다. 중합체의 물리적 특성이나 화학적 특성을 제어하기 쉬운 관점에서, 아크릴계 중합체 (A) 는 공중합체인 것이 바람직하다.In a preferable aspect, the adhesive composition for forming the adhesive layer with which the dicing sheet which concerns on this embodiment is equipped contains the acrylic polymer (A) which has an energy-beam polymeric group and a reactive functional group. The acrylic polymer (A) is an acrylic polymer comprising, as a unit constituting the skeleton, a structural unit based on an acrylic compound having an energy ray polymerizable group and a reactive functional group. The acrylic polymer (A) may be a homopolymer obtained by polymerization of one type of monomer, or may be a copolymer formed by polymerization of a plurality of types of monomers. It is preferable that the acrylic polymer (A) is a copolymer from a viewpoint of being easy to control the physical property and chemical property of a polymer.
아크릴계 중합체 (A) 의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 1 만 ∼ 200 만인 것이 바람직하다. 이러한 아크릴계 중합체 (A) 는, 점착제 주제의 일반적인 기능인 점착제층의 응집성을 유지하는 효과를 발생시키는 것이고, 이와 같은 효과는 분자량이 높을수록, 더욱 발휘된다. 한편으로, 아크릴계 중합체 (A) 의 분자량이 과도하게 큰 경우에는, 점착제층을 제조하는 데에 있어서 박층화하는 것이 곤란해지는 경우가 있다. 따라서, 아크릴계 중합체 (A) 의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 10 만 ∼ 150 만인 것이 보다 바람직하다. 또한, 아크릴계 중합체 (A) 의 유리 전이 온도 Tg 는, 바람직하게는 -70 ∼ 30 ℃, 더욱 바람직하게는 -60 ∼ 20 ℃ 의 범위에 있다. 또한, 본 명세서에 있어서의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 값이다.It is preferable that the polystyrene conversion weight average molecular weights (Mw) of an acrylic polymer (A) are 10,000-2 million. Such an acrylic polymer (A) produces the effect of maintaining the cohesiveness of the adhesive layer which is a general function of an adhesive main body, and such an effect is exhibited further, so that molecular weight is high. On the other hand, when the molecular weight of an acrylic polymer (A) is too large, in manufacturing an adhesive layer, it may become difficult to thin-layer. Therefore, as for the polystyrene conversion weight average molecular weight (Mw) of an acrylic polymer (A), it is more preferable that it is 100,000-1,500,000. Moreover, the glass transition temperature Tg of an acrylic polymer (A) becomes like this. Preferably it is -70-30 degreeC, More preferably, it exists in the range of -60-20 degreeC. In addition, the polystyrene conversion weight average molecular weight in this specification is the value of polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC) method.
아크릴계 중합체 (A) 가 갖는 반응성 관능기는, 후술하는 이소시아네이트계 가교제 (B) 와 가교 반응이 가능한 관능기이고, 수산기, 카르복실기, 아미노기 등이 예시된다. 이들 중에서도, 이소시아네이트계 가교제 (B) 에 관련된 이소시아네이트기와의 반응성이 높은 수산기가, 아크릴계 중합체 (A) 가 갖는 반응성 관능기로서 바람직하다.The reactive functional group of the acrylic polymer (A) is a functional group capable of crosslinking reaction with an isocyanate-based crosslinking agent (B) described later, and examples thereof include a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group. Among these, a hydroxyl group with high reactivity with the isocyanate group which concerns on an isocyanate type crosslinking agent (B) is preferable as a reactive functional group which the acrylic polymer (A) has.
아크릴계 중합체 (A) 가 갖는 에너지선 중합성기의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로서, 비닐기, (메트)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 관능기 등을 들 수 있다. 중합 반응성이 우수한 관점에서, 에너지선 중합성기는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 관능기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 에너지선이 조사되었을 때의 반응성의 높이의 관점에서 (메트)아크릴로일기가 보다 바람직하다.The kind of energy-beam polymerizable group which an acrylic polymer (A) has is not specifically limited. As the specific example, the functional group etc. which have ethylenically unsaturated bonds, such as a vinyl group and a (meth)acryloyl group, are mentioned. From the viewpoint of excellent polymerization reactivity, the energy-beam polymerizable group is preferably a functional group having an ethylenically unsaturated bond, and among them, a (meth)acryloyl group is more preferable from the viewpoint of high reactivity when irradiated with energy rays.
에너지선 중합성기를 반응시키기 위한 에너지선으로는, 전리 방사선, 즉, X 선, 자외선, 전자선 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 비교적 조사 설비의 도입이 용이한 자외선이 바람직하다.An ionizing radiation, ie, an X-ray, an ultraviolet-ray, an electron beam, etc. are mentioned as an energy beam for making an energy-beam polymeric group react. Among these, the ultraviolet-ray with comparatively easy introduction|transduction of irradiation equipment is preferable.
전리 방사선으로서 자외선을 사용하는 경우에는, 취급의 용이함으로부터 파장 200 ∼ 380 ㎚ 정도의 자외선을 포함하는 근자외선을 이용하면 된다. 자외선량으로는, 아크릴계 중합체 (A) 가 갖는 에너지선 중합성기의 종류나 점착제층의 두께에 따라 적절히 설정하면 되고, 통상적으로 50 ∼ 500 mJ/㎠ 정도이고, 100 ∼ 450 mJ/㎠ 가 바람직하고, 150 ∼ 400 mJ/㎠ 가 보다 바람직하다. 또한, 자외선 조도는, 통상적으로 50 ∼ 500 ㎽/㎠ 정도이고, 100 ∼ 450 ㎽/㎠ 가 바람직하고, 150 ∼ 400 ㎽/㎠ 가 보다 바람직하다. 자외선원으로는 특별히 제한은 없고, 예를 들어 고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프 등이 사용된다.When using an ultraviolet-ray as an ionizing radiation, what is necessary is just to use the near-ultraviolet-ray containing ultraviolet-ray with a wavelength of about 200-380 nm from handling easiness. The amount of ultraviolet light may be appropriately set according to the type of energy-beam polymerizable group of the acrylic polymer (A) or the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, and is usually about 50 to 500 mJ/cm 2 , preferably 100 to 450 mJ/cm 2 , 150 to 400 mJ/cm 2 are more preferable. Moreover, ultraviolet illuminance is about 50-500 mW/cm<2> normally, 100-450 mW/cm<2> is preferable, and 150-400 mW/cm<2> is more preferable. There is no restriction|limiting in particular as an ultraviolet source, For example, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are used.
전리 방사선으로서 전자선을 사용하는 경우에는, 그 가속 전압에 대해서는, 아크릴계 중합체 (A) 가 갖는 에너지선 중합성기의 종류나 점착제층의 두께에 따라 적절히 설정하면 되고, 통상적으로 가속 전압 10 ∼ 1000 ㎸ 정도인 것이 바람직하다. 또한, 조사선량은, 아크릴계 중합체 (A) 가 갖는 에너지선 중합성기의 반응이 적절히 진행되는 범위로 설정하면 되고, 통상적으로 10 ∼ 1000 krad 의 범위로 선정된다. 전자선원으로는, 특별히 제한은 없고, 예를 들어 코크로프트 월턴형, 반데그라프형, 공진 변압기형, 절연 코어 변압기형, 혹은 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기를 사용할 수 있다.When using an electron beam as an ionizing radiation, about the acceleration voltage, what is necessary is just to set suitably according to the kind of energy-beam polymeric group which an acrylic polymer (A) has, and the thickness of an adhesive layer, and about 10-1000 kV of acceleration voltages normally. It is preferable to be In addition, what is necessary is just to set the irradiation dose in the range which reaction of the energy-beam polymeric group which the acrylic polymer (A) has suitably advances, and is normally selected in the range of 10-1000 krad. There is no restriction|limiting in particular as an electron beam source, For example, various electron beam accelerators, such as a Cockcroft Walton type, a Van der Graf type, a resonance transformer type, an insulated core transformer type, or a linear type, a dynamtron type, a high frequency type, can be used. .
아크릴계 중합체 (A) 는, 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체 (A1) 과, 에너지선 중합성기를 갖는 이소시아네이트계 화합물 (A2) 가, 티탄 및 지르코늄의 적어도 일방을 함유하는 유기 금속 촉매 (C) 의 존재하 반응함으로써 얻어진 것이다. 이와 같은 유기 금속 촉매 (C) 의 존재하에서 반응함으로써, 얻어진 아크릴계 중합체 (A) 를 함유하는 점착제 조성물은, 적절한 조사 전 탄성률 및 적절한 택값을 갖는 점착제층을 형성하는 것이 가능해진다.The acrylic polymer (A) is an acrylic polymer (A1) having a reactive functional group and an isocyanate compound (A2) having an energy ray polymerizable group in the presence of an organometallic catalyst (C) containing at least one of titanium and zirconium obtained by reacting. By reacting in the presence of such an organometallic catalyst (C), the adhesive composition containing the obtained acrylic polymer (A) becomes possible to form the adhesive layer which has an appropriate elastic modulus before irradiation and an appropriate tack value.
(2-4-1) 아크릴계 중합체 (A1)(2-4-1) Acrylic polymer (A1)
아크릴계 중합체 (A1) 은, 전술한 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체이다. 아크릴계 중합체 (A1) 에 있어서의 반응성 관능기를 갖는 구성 단위를 부여하는 단량체 (m1) 의, 아크릴계 중합체 (A1) 을 부여하는 단량체 전체에 대한 질량 비율은, 5 질량% 이상 30 질량% 이하인 것이 바람직하다. 상기의 질량 비율에 관한 규정을 만족함으로써, 아크릴계 중합체 (A1) 로부터 얻어진 아크릴계 중합체 (A) 를 함유하는 점착제 조성물은, 적절한 조사 전 탄성률 및 적절한 택값을 갖는 점착제층을 형성하는 것이 가능해진다. 상기의 질량 비율은, 7 질량% 이상 25 질량% 이하인 것이 바람직하고, 10 질량% 이상 20 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 12 질량% 이상 17 질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.The acrylic polymer (A1) is an acrylic polymer having the above-mentioned reactive functional group. It is preferable that the mass ratio of the monomer (m1) providing a structural unit having a reactive functional group in the acrylic polymer (A1) to the entire monomer giving the acrylic polymer (A1) is 5 mass% or more and 30 mass% or less. . By satisfying the regulation regarding the above mass ratio, the pressure-sensitive adhesive composition containing the acrylic polymer (A) obtained from the acrylic polymer (A1) can form a pressure-sensitive adhesive layer having an appropriate elastic modulus before irradiation and an appropriate tack value. It is preferable that said mass ratio is 7 mass % or more and 25 mass % or less, It is more preferable that they are 10 mass % or more and 20 mass % or less, It is especially preferable that they are 12 mass % or more and 17 mass % or less.
아크릴계 중합체 (A1) 이 반응성 관능기로서 수산기를 갖는 경우를 구체예로 하여, 아크릴계 중합체 (A1) 을 형성하기 위한 단량체에 대하여 설명한다.Taking the case where the acrylic polymer (A1) has a hydroxyl group as a reactive functional group as a specific example, the monomer for forming an acrylic polymer (A1) is demonstrated.
상기와 같은 수산기를 갖는 아크릴계 중합체 (A1) 을 형성하기 위한 원료가 될 수 있는 단량체 (본 명세서에 있어서 「원료 단량체」 라고도 한다) 로서, 수산기를 갖는 아크릴계 단량체 (본 명세서에 있어서 「하이드록시아크릴계 단량체」 라고 한다), 수산기를 갖는 비아크릴계 단량체, 수산기를 가지지 않는 아크릴계 단량체 및 수산기를 가지지 않는 비아크릴계 단량체를 들 수 있다. 수산기를 갖는 아크릴계 중합체 (A1) 은, 상기의 원료 단량체 중, 당해 중합체가 아크릴계의 중합체가 되도록, 하이드록시아크릴계 단량체 및 수산기를 가지지 않는 아크릴계 단량체의 적어도 1 종에서 유래하는 구성 단위를 포함함과 함께, 당해 중합체 (A1) 이 수산기를 갖도록, 하이드록시아크릴계 단량체 및 수산기를 갖는 비아크릴계 단량체의 적어도 1 종에서 유래하는 구성 단위를 포함한다.As a monomer (also referred to as "raw material monomer" in this specification) that can be a raw material for forming the acrylic polymer (A1) having a hydroxyl group as described above, an acrylic monomer having a hydroxyl group (in this specification, "hydroxyacrylic monomer") '), a non-acrylic monomer having a hydroxyl group, an acrylic monomer not having a hydroxyl group, and a non-acrylic monomer having no hydroxyl group. The acrylic polymer (A1) having a hydroxyl group includes, among the above raw material monomers, a structural unit derived from at least one of a hydroxyacrylic monomer and an acrylic monomer not having a hydroxyl group so that the polymer becomes an acrylic polymer. , a structural unit derived from at least one of a hydroxyacrylic monomer and a non-acrylic monomer having a hydroxyl group so that the polymer (A1) has a hydroxyl group.
하이드록시아크릴계 단량체의 구체예로서, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, N-메틸올아크릴아미드 등의 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 수산기를 갖는 비아크릴계 단량체의 구체예로서, 하이드록시아세트산비닐 등을 들 수 있다. 취급성을 높이는 관점이나 점착제층의 물성의 조정을 용이하게 하는 관점에서, 수산기를 갖는 아크릴계 중합체는, 하이드록시아크릴계 단량체에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 이들 수산기를 갖는 단량체는, 아크릴계 중합체 (A) 에 있어서의 에너지선 중합성기의 존재량을 제어하는 것이 용이해지는 점에서, 수산기를 단 1 개 갖는 단량체가 바람직하다.As a specific example of a hydroxyacrylic monomer, (meth)acrylate etc. which have hydroxyl groups, such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, N-methylolacrylamide, etc. are mentioned can Moreover, hydroxyvinyl acetate etc. are mentioned as a specific example of the non-acrylic monomer which has a hydroxyl group. It is preferable that the acrylic polymer which has a hydroxyl group contains the structural unit derived from a hydroxyacrylic monomer from a viewpoint of improving handleability, or a viewpoint of facilitating adjustment of the physical property of an adhesive layer. As for the monomer which has these hydroxyl groups, the monomer which has only one hydroxyl group is preferable at the point which becomes easy to control the abundance of the energy-beam polymeric group in an acrylic polymer (A).
상기의 원료 단량체 중, 수산기를 가지지 않는 아크릴계 단량체의 구체예로서, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산에스테르, 그 유도체 (아크릴로니트릴 등) 를 구체예로서 들 수 있다. (메트)아크릴산에스테르에 대하여 추가로 구체예를 나타내면, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등의 사슬형 골격을 갖는 (메트)아크릴레이트 ; 시클로알킬(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 이미드아크릴레이트 등의 고리형 골격을 갖는 (메트)아크릴레이트 ; 글리시딜(메트)아크릴레이트, N-메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등의 수산기 이외의 반응성 관능기를 갖는 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 또한, 수산기를 가지지 않는 아크릴계 단량체가 알킬(메트)아크릴레이트인 경우에는, 그 알킬기의 탄소수는 1 내지 18 의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 수산기를 가지지 않는 비아크릴계 단량체로는, 에틸렌, 노르보르넨 등의 올레핀, 아세트산비닐, 스티렌 등이 예시된다.Specific examples of the acrylic monomer having no hydroxyl group among the raw material monomers include (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid ester, and derivatives thereof (acrylonitrile, etc.). If specific examples are further shown with respect to (meth)acrylic acid ester, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylic (meth)acrylates having a chain skeleton such as a rate; Cycloalkyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl ( (meth)acrylates having cyclic skeletons such as meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, and imide acrylate; (meth)acrylate which has reactive functional groups other than hydroxyl groups, such as glycidyl (meth)acrylate and N-methylaminoethyl (meth)acrylate, is mentioned. Moreover, when the acrylic monomer which does not have a hydroxyl group is an alkyl (meth)acrylate, it is preferable that carbon number of the alkyl group is the range of 1-18. Moreover, as a non-acrylic monomer which does not have a hydroxyl group, olefins, such as ethylene and norbornene, vinyl acetate, styrene, etc. are illustrated.
(2-4-2) 이소시아네이트계 화합물 (A2)(2-4-2) Isocyanate-based compound (A2)
이소시아네이트계 화합물 (A2) 는, 에너지선 중합성기를 가짐과 함께, 아크릴계 중합체 (A1) 이 갖는 반응성 관능기와의 반응에 있어서 이소시아네이트기를 가질 수 있는 화합물이다. 이러한 이소시아네이트계 화합물로서, 이소시아네이트기를 갖는 화합물, 블록 이소시아네이트기를 갖는 화합물, 이소시아네이트기를 갖는 화합물의 뷰렛체나 이소시아누레이트체, 이소시아네이트기를 갖는 화합물과, 에틸렌글리콜, 트리메틸올프로판, 피마자유 등의 비방향족성 저분자 활성 수소 함유 화합물의 반응물인 어덕트체 등의 변성체 등이 예시된다.An isocyanate-type compound (A2) is a compound which can have an isocyanate group in reaction with the reactive functional group which an acryl-type polymer (A1) has while having an energy-beam polymeric group. As such an isocyanate-based compound, a compound having an isocyanate group, a compound having a blocked isocyanate group, a biuret or isocyanurate compound of a compound having an isocyanate group, a compound having an isocyanate group, and non-aromatic compounds such as ethylene glycol, trimethylolpropane, and castor oil Modified substances, such as an adduct body which are reaction products of a low molecular active hydrogen containing compound, etc. are illustrated.
이소시아네이트계 화합물 (A2) 의 구체예로서, (메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트를 들 수 있다. 이 외에, 적어도 1 개의 수산기가 잔류한 (메트)아크릴레이트와, 폴리이소시아네이트 화합물의 반응 생성물도 이소시아네이트계 화합물 (A2) 의 구체예로서 들 수 있다. 이들 중에서도, 아크릴계 중합체 (A) 에 있어서의 에너지선 중합성기의 존재량을 제어하는 것이 용이해지는 점에서, 에너지선 중합성기를 단 1 개 갖는 이소시아네이트 화합물이 바람직하고, (메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 보다 바람직하다.As a specific example of an isocyanate type compound (A2), (meth)acryloyloxyethyl isocyanate is mentioned. In addition, the reaction product of the (meth)acrylate in which at least 1 hydroxyl group remained, and a polyisocyanate compound is also mentioned as a specific example of an isocyanate type compound (A2). Among these, the isocyanate compound which has only one energy-beam polymeric group is preferable at the point which becomes easy to control the abundance of the energy-beam polymeric group in an acryl-type polymer (A), (meth)acryloyloxyethyl Isocyanate is more preferable.
아크릴계 중합체 (A) 를 형성하기 위한 반응에 있어서, 화합물 (A2) 의 사용량은, 아크릴계 중합체 (A) 에 관련된 단량체 (m1) 에 대하여 0.4 당량 이상 0.8 당량 이하인 것이 바람직하다. 상기의 화합물 (A2) 의 사용량에 관한 규정을 만족함으로써, 아크릴계 중합체 (A1) 및 화합물 (A2) 로부터 얻어진 아크릴계 중합체 (A) 를 함유하는 점착제 조성물은, 이에 의해 얻어지는 점착제층이, 에너지선 조사 후에 과도하게 경화하거나, 에너지선 조사에 의해 피착면에 대한 점착성을 저하시키는 것이 불충분해지는 것을 회피할 수 있다. 그 결과, 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제가 잘 발생하지 않게 된다. 상기의 단량체 (m1) 에 대한 화합물 (A2) 의 사용량은, 0.4 당량 이상 0.75 당량 이하인 것이 바람직하고, 0.45 당량 이상 0.7 당량 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.5 당량 이상 0.7 당량 이하인 것이 특히 바람직하다.The reaction for forming the acrylic polymer (A) WHEREIN: It is preferable that the usage-amount of the compound (A2) is 0.4 equivalent or more and 0.8 equivalent or less with respect to the monomer (m1) related to the acrylic polymer (A). By satisfying the regulations regarding the usage-amount of said compound (A2), the adhesive composition containing the acrylic polymer (A) obtained from an acrylic polymer (A1) and a compound (A2), the adhesive layer obtained by this is after energy-beam irradiation It can be avoided that it becomes insufficient to harden excessively or to reduce the adhesion to the adherend surface by irradiation with energy rays. As a result, the problem regarding the print visibility in the above-mentioned mold chip hardly arises. The amount of the compound (A2) used relative to the monomer (m1) is preferably 0.4 equivalents or more and 0.75 equivalents or less, more preferably 0.45 equivalents or more and 0.7 equivalents or less, and particularly preferably 0.5 equivalents or more and 0.7 equivalents or less.
(2-5) 이소시아네이트계 가교제 (B)(2-5) Isocyanate-based crosslinking agent (B)
본 명세서에 있어서 「이소시아네이트계 가교제」 란, 폴리이소시아네이트 화합물로서, 가교성을 갖는 것의 총칭을 의미한다. 그 구체예로서, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트 ; 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 메틸시클로헥실렌디이소시아네이트, 수첨 (水添) 자일릴렌디이소시아네이트 등의 지환식 이소시아네이트 화합물 ; 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트 등의 비고리형 지방족 이소시아네이트 및 그 뷰렛체나 이소시아누레이트체, 이소시아네이트기를 갖는 화합물과, 에틸렌글리콜, 트리메틸올프로판, 피마자유 등의 비방향족성 저분자 활성 수소 함유 화합물의 반응물인 어덕트체 등의 변성체 등을 들 수 있다. 점착제 조성물에 있어서 이소시아네이트계 가교제 (B) 로서 기능하는 화합물은, 1 종류여도 되고, 복수 종류여도 된다.In this specification, an "isocyanate-type crosslinking agent" is a polyisocyanate compound and means the generic name of what has crosslinkability. As the specific example, Aromatic polyisocyanate, such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate; Alicyclics such as dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, bicycloheptane triisocyanate, cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, and hydrogenated xylylene diisocyanate isocyanate compound; Acyclic aliphatic isocyanates, such as hexamethylene diisocyanate, trimethyl hexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate, its biuret form, isocyanurate form, compound having an isocyanate group, and non-aromatic compounds such as ethylene glycol, trimethylolpropane and castor oil and modified substances such as adduct substances which are reactants of low-molecular active hydrogen-containing compounds. The number of compounds which function as an isocyanate type crosslinking agent (B) in an adhesive composition may be one, or multiple types may be sufficient as them.
점착제 조성물에 있어서의 이소시아네이트계 가교제 (B) 의 함유량은 한정되지 않는다. 이소시아네이트계 가교제 (B) 의 종류에 따라 적절히 설정된다. 한정되지 않는 예시로서, 점착제 조성물 전체에 대하여, 0.01 질량% 이상 10 질량% 이하가 바람직하고, 0.05 질량% 이상 7 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.1 질량% 이상 3 질량% 이하가 특히 바람직하다.Content of the isocyanate type crosslinking agent (B) in an adhesive composition is not limited. It sets suitably according to the kind of isocyanate type crosslinking agent (B). As an example which is not limited, 0.01 mass % or more and 10 mass % or less are preferable with respect to the whole adhesive composition, 0.05 mass % or more and 7 mass % or less are more preferable, 0.1 mass % or more and 3 mass % or less are especially preferable.
(2-6) 유기 금속 촉매 (C)(2-6) organometallic catalyst (C)
유기 금속 촉매 (C) 는, 티탄 및 지르코늄의 적어도 일방을 함유한다. 구체적으로는, 티탄 및 지르코늄의 적어도 일방을 함유하는 유기 금속 화합물로 이루어진다. 이러한 유기 금속 화합물로서, 이들 금속 원소의 알콕시드, 킬레이트, 아실레이트 등이 예시되고, 구체예로서, 티탄알콕시드, 티탄킬레이트, 지르코늄알콕시드, 지르코늄킬레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 유기 금속 화합물이 함유하는 금속 원소가 지르코늄을 포함하는 것이 바람직하고, 이러한 금속 원소가 지르코늄인 것이 바람직하다. 또한, 유기 금속 화합물은 킬레이트 화합물인 것이 바람직하다. 따라서, 유기 금속 촉매 (C) 는, 지르코늄 함유 킬레이트 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 지르코늄 함유 킬레이트 화합물로 이루어지는 것이 보다 바람직하다.The organometallic catalyst (C) contains at least one of titanium and zirconium. Specifically, it consists of an organometallic compound containing at least one of titanium and zirconium. Alkoxides, chelates, acylates, etc. of these metal elements are illustrated as such an organometallic compound, As a specific example, a titanium alkoxide, a titanium chelate, a zirconium alkoxide, a zirconium chelate, etc. are mentioned. Among these, it is preferable that the metal element which an organometallic compound contains contains zirconium, and it is preferable that this metal element is zirconium. Moreover, it is preferable that an organometallic compound is a chelate compound. Therefore, it is preferable that an organometallic catalyst (C) contains a zirconium containing chelate compound, and it is more preferable that it consists of a zirconium containing chelate compound.
유기 금속 촉매 (C) 는 주석 함유 유기 금속 화합물을 함유하지 않는 것이 바람직하다. 이유는 명확하지 않지만, 점착제 조성물이 유기 금속 촉매 (C) 가 주석 함유 유기 금속 화합물을 함유하지 않는 경우에는, 적절한 조사 전 탄성률 및 적절한 택값을 갖는 점착제층을 형성하기 쉬워진다.The organometallic catalyst (C) preferably does not contain a tin-containing organometallic compound. Although the reason is not clear, when an organometallic catalyst (C) does not contain a tin-containing organometallic compound in an adhesive composition, it becomes easy to form the adhesive layer which has an appropriate pre-irradiation modulus and an appropriate tack value.
아크릴계 중합체 (A) 를 얻기 위한 반응에 있어서 사용되는 유기 금속 촉매 (C) 의 사용량은 한정되지 않는다. 당해 사용량은, 아크릴계 중합체 (A1) 의 고형분 100 질량부에 대하여, 0.01 질량부 이상 0.5 질량부 이하가 바람직하고, 0.01 질량부 이상 0.3 질량부 이하가 보다 바람직하고, 0.01 질량부 이상 0.25 질량부 이하가 특히 바람직하다.The usage-amount of the organometallic catalyst (C) used in reaction for obtaining an acrylic polymer (A) is not limited. The amount used is preferably 0.01 parts by mass or more and 0.5 parts by mass or less, more preferably 0.01 parts by mass or more and 0.3 parts by mass or less, and 0.01 parts by mass or more and 0.25 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the solid content of the acrylic polymer (A1). is particularly preferred.
(2-7) 그 밖의 성분(2-7) other ingredients
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층을 형성하기 위한 점착제 조성물은, 상기의 성분에 더하여, 광 중합 개시제 (D), 점착 부여 수지, 염료나 안료 등의 착색 재료, 난연제, 필러, 대전 방지제 등의 각종 첨가제를 함유해도 된다.The adhesive composition for forming the adhesive layer with which the dicing sheet which concerns on this embodiment is equipped with is in addition to said component, a photoinitiator (D), a tackifying resin, coloring materials, such as dye and a pigment, a flame retardant, a filler, You may contain various additives, such as an antistatic agent.
여기서, 광 중합 개시제 (D) 에 대하여 약간 상세하게 설명한다. 광 중합 개시제 (D) 로는, 벤조인 화합물, 아세토페논 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, 티타노센 화합물, 티오크산톤 화합물, 퍼옥사이드 화합물 등의 광 개시제, 아민이나 퀴논 등의 광 증감제 등을 들 수 있고, 구체적으로는, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤질디페닐설파이드, 테트라메틸티우람모노설파이드, 아조비스이소부틸로니트릴, 디벤질, 디아세틸, β-클로르안트라퀴논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 예시할 수 있다. 에너지선으로서 자외선을 사용하는 경우에는, 광 중합 개시제 (D) 를 배합함으로써 조사 시간, 조사량을 적게 할 수 있다.Here, the photoinitiator (D) is demonstrated in detail a little. As a photoinitiator (D), photoinitiators, such as a benzoin compound, an acetophenone compound, an acylphosphine oxide compound, a titanocene compound, a thioxanthone compound, a peroxide compound, Photosensitizers, such as an amine and a quinone, etc. are mentioned Specifically, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl diphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisiso butylonitrile, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like can be exemplified. When using an ultraviolet-ray as an energy beam, irradiation time and irradiation amount can be decreased by mix|blending a photoinitiator (D).
(2-8) 점착제 조성물의 제조 방법(2-8) Method for producing pressure-sensitive adhesive composition
본 발명의 일 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층이, 에너지선 중합성기 및 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체 (A), 및 반응성 관능기와 가교 반응이 가능한 이소시아네이트계 가교제 (B) 를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것인 경우에 있어서, 그 점착제 조성물의 제조 방법은 한정되지 않는다. 다음에 설명하는 방법에 의해 제조하는 것이 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive layer provided in the dicing sheet according to the embodiment of the present invention contains an acrylic polymer (A) having an energy ray polymerizable group and a reactive functional group, and an isocyanate-based crosslinking agent (B) capable of crosslinking reaction with a reactive functional group. When it is formed from an adhesive composition, the manufacturing method of the adhesive composition is not limited. It is preferable to manufacture by the method demonstrated below.
먼저, 제 1 공정으로서, 아크릴계 중합체 (A1) 과 이소시아네이트계 화합물 (A2) 를, 유기 금속 촉매 (C) 의 존재하 반응시켜, 아크릴계 중합체 (A) 및 유기 금속 촉매 (C) 에 기초하는 성분을 포함하는 생성물을 얻는다. 상기의 반응에 있어서 적절한 용매를 사용해도 된다. 제 1 공정에 관련된 반응의 반응 조건은, 반응 원료인 아크릴계 중합체 (A1), 이소시아네이트계 화합물 (A2) 및 유기 금속 촉매 (C) 의 종류 및 함유량에 따라 적절히 설정된다. 이러한 반응에 의해 아크릴계 중합체 (A) 및 유기 금속 촉매 (C) 에 기초하는 성분을 포함하는 생성물을 얻을 수 있다. 유기 금속 촉매 (C) 에 기초하는 성분은, 촉매 활성을 유지하고 있는 것이 바람직하다. 촉매 활성을 유지하고 있음으로써, 점착제 조성물로부터 점착제층을 형성할 때에 발생하는 아크릴계 중합체 (A) 와 이소시아네이트계 가교제 (B) 의 반응의 촉매로서, 유기 금속 촉매 (C) 에 기초하는 성분을 기능시킬 수 있다.First, as a first step, the acrylic polymer (A1) and the isocyanate-based compound (A2) are reacted in the presence of an organometallic catalyst (C) to obtain a component based on the acrylic polymer (A) and the organometallic catalyst (C) to obtain a product comprising In the above reaction, an appropriate solvent may be used. The reaction conditions of the reaction related to the first step are appropriately set according to the kind and content of the acrylic polymer (A1), the isocyanate-based compound (A2), and the organometallic catalyst (C), which are the reaction raw materials. By this reaction, a product containing the components based on the acrylic polymer (A) and the organometallic catalyst (C) can be obtained. It is preferable that the component based on an organometallic catalyst (C) maintains catalytic activity. By maintaining the catalytic activity, as a catalyst for the reaction of the acrylic polymer (A) and the isocyanate-based crosslinking agent (B) generated when the pressure-sensitive adhesive layer is formed from the pressure-sensitive adhesive composition, the component based on the organometallic catalyst (C) can function can
제 1 공정 다음에 실시되는 제 2 공정에서는, 제 1 공정의 생성물, 이소시아네이트계 가교제 (B), 및 필요에 따라 광 중합 개시제 (D) 등을 포함하는 혼합체를 점착제 조성물로서 얻는다. 제 1 공정의 생성물은, 아크릴계 중합체 (A) 를 포함하는 한, 용매 제거 등의 프로세스를 거친 것이어도 된다. 혼합 방법은 한정되지 않고, 혼합체의 균일성이 높아지도록 적절히 설정하면 된다.At the 2nd process implemented after a 1st process, the mixture containing the product of a 1st process, an isocyanate type crosslinking agent (B), and a photoinitiator (D) etc. as needed is obtained as an adhesive composition. As long as the product of the 1st process contains the acrylic polymer (A), what passed through processes, such as solvent removal, may be sufficient. The mixing method is not limited, What is necessary is just to set suitably so that the uniformity of a mixture may become high.
(3) 박리 시트(3) release sheet
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트는, 그 점착제층을 피착체인 몰드 패키지 (반도체 패키지를 구체예로서 들 수 있다) 에 첩부할 때까지의 사이에 있어서 점착제층을 보호할 목적으로, 점착제층의 기재에 대향하는 측과 반대측의 면에, 박리 시트의 박리면이 첩합되어 있어도 된다. 박리 시트의 구성은 임의이고, 플라스틱 필름에 박리제를 도포한 것이 예시된다. 플라스틱 필름의 구체예로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 및 폴리프로필렌이나 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀 필름을 들 수 있다. 박리제로는, 실리콘계, 불소계, 장사슬 알킬계 등을 사용할 수 있지만, 이들 중에서, 저렴하고 안정적인 성능이 얻어지는 실리콘계가 바람직하다. 상기의 박리 시트의 플라스틱 필름 대신에, 글라신지, 코트지, 상질지 등의 종이 기재 또는 종이 기재에 폴리에틸렌 등의 열 가소성 수지를 라미네이트한 라미네이트지를 사용해도 된다. 그 박리 시트의 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 통상적으로 20 ㎛ 이상 250 ㎛ 이하 정도이다.The dicing sheet which concerns on this embodiment is a base material of an adhesive layer for the purpose of protecting an adhesive layer until affixing the adhesive layer on the mold package (a semiconductor package is mentioned as a specific example) which is to-be-adhered. The peeling surface of a peeling sheet may be pasted together by the surface on the opposite side to the side opposite to. The structure of a release sheet is arbitrary, and what apply|coated the release agent to the plastic film is illustrated. Specific examples of the plastic film include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and polyolefin films such as polypropylene and polyethylene. As the releasing agent, silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based and the like can be used, and among these, silicone-based silicones that are inexpensive and provide stable performance are preferable. Instead of the plastic film of the release sheet described above, a paper substrate such as glassine paper, coated paper, or fine paper, or laminated paper obtained by laminating a thermoplastic resin such as polyethylene on a paper substrate may be used. Although there is no restriction|limiting in particular about the thickness of this release sheet, Usually, it is about 20 micrometers or more and 250 micrometers or less.
2. 다이싱 시트의 제조 방법2. Manufacturing method of dicing sheet
본 발명의 일 실시형태에 관련된 다이싱 시트의 제조 방법은 한정되지 않는다. 본 발명의 일 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층이, 에너지선 중합성기 및 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체 (A), 및 반응성 관능기와 가교 반응이 가능한 이소시아네이트계 가교제 (B) 를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것인 경우에는, 전술한 점착제 조성물로부터 형성되는 점착제층을 기재의 하나의 면에 적층할 수 있으면, 상세한 방법은 특별히 한정되지 않는다. 일례를 들면, 전술한 점착제 조성물, 및 원하는 바에 따라 추가로 용매를 함유하는 도공액을 조제하고, 기재의 하나의 면 상에, 다이 코터, 커튼 코터, 스프레이 코터, 슬릿 코터, 나이프 코터 등에 의해 그 도공액을 도포하고, 당해 하나의 면 상의 도막을 건조시킴으로써, 점착제층을 형성할 수 있다. 도공액은, 도포를 실시하는 것이 가능하면 그 성상은 특별히 한정되지 않고, 점착제층을 형성하기 위한 성분을 용질로서 함유하는 경우도 있고, 분산질로서 함유하는 경우도 있다.The manufacturing method of the dicing sheet which concerns on one Embodiment of this invention is not limited. The pressure-sensitive adhesive layer provided in the dicing sheet according to the embodiment of the present invention contains an acrylic polymer (A) having an energy ray polymerizable group and a reactive functional group, and an isocyanate-based crosslinking agent (B) capable of crosslinking reaction with a reactive functional group. In the case of being formed from the pressure-sensitive adhesive composition, the detailed method is not particularly limited as long as the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition described above can be laminated on one side of the substrate. For example, the above-described pressure-sensitive adhesive composition and, if desired, a coating solution containing a solvent is prepared, and on one side of the substrate, it is applied by a die coater, a curtain coater, a spray coater, a slit coater, a knife coater, etc. An adhesive layer can be formed by apply|coating a coating liquid and drying the coating film on the said one surface. The properties of the coating liquid are not particularly limited as long as it can be applied, and the component for forming the pressure-sensitive adhesive layer may be contained as a solute or may be contained as a dispersoid.
상기의 건조 조건 (온도, 시간 등) 을 조정함으로써, 또는 별도 가교를 위한 가열 처리를 형성함으로써, 도막 내의 아크릴계 중합체 (A) 와 이소시아네이트계 가교제 (B) 의 가교 반응을 진행시켜, 점착제층 내에 원하는 존재 밀도로 가교 구조를 형성시키면 된다. 이 가교 반응을 충분히 진행시키기 위해서, 상기의 방법 등에 의해 기재에 점착제층을 적층시킨 후, 얻어진 다이싱 시트를, 예를 들어 23 ℃, 상대 습도 50 % 의 환경에 수일간 정치 (靜置) 한다는 양생이 통상적으로 실시된다.By adjusting the above drying conditions (temperature, time, etc.) or by separately forming a heat treatment for crosslinking, the crosslinking reaction between the acrylic polymer (A) and the isocyanate crosslinking agent (B) in the coating film is advanced, and the desired What is necessary is just to form a crosslinked structure with an existence density. In order to fully advance this crosslinking reaction, after laminating|stacking an adhesive layer on a base material by the said method etc., the obtained dicing sheet is left still for several days in the environment of 23 degreeC, 50% of relative humidity, for example. Curing is routinely practiced.
혹은, 상기의 박리 시트의 박리면 상에 도공액을 도포하여 도막을 형성하고, 이것을 건조시켜 점착제층과 박리 시트로 이루어지는 적층체를 형성하고, 이 적층체의 점착제층에 있어서의 박리 시트에 대향하는 측과 반대측의 면을, 기재의 하나의 면에 첩부하여, 다이싱 시트와 박리 시트의 적층체를 얻어도 된다. 이 적층체에 있어서의 박리 시트는 공정 재료로서 박리해도 되고, 몰드 패키지에 첩부할 때까지 박리하지 않고, 점착제층을 보호하고 있어도 된다.Alternatively, a coating solution is applied on the release surface of the release sheet to form a coating film, and this is dried to form a laminate comprising a pressure-sensitive adhesive layer and a release sheet, which faces the release sheet in the pressure-sensitive adhesive layer of the laminate. The surface on the opposite side to the side to be used may be affixed to one surface of a base material, and the laminated body of a dicing sheet and a peeling sheet may be obtained. The release sheet in this laminate may peel as a process material, and may protect the adhesive layer, without peeling until it sticks to a mold package.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 제조 방법은, 다음 공정의 어느 것을 구비한다 : As described above, the manufacturing method according to one embodiment of the present invention includes any of the following steps:
아크릴계 중합체 (A) 및 이소시아네이트계 가교제 (B) 를 함유하는 점착제 조성물을, 기재의 일방의 면에 도포하고, 얻어진 도막으로부터 점착제층을 형성하고, 상기 다이싱 시트를 얻는 공정 ; 및Process of apply|coating the adhesive composition containing an acrylic polymer (A) and an isocyanate type crosslinking agent (B) to one surface of a base material, forming an adhesive layer from the coating film obtained, and obtaining the said dicing sheet; and
점착제 조성물을 박리 시트의 박리면에 도포하고, 얻어진 도막으로부터 점착제층을 형성하고, 박리 시트 상의 점착제층에 있어서의 박리 시트에 대향하는 측과 반대측의 면을 기재의 일방의 면에 첩부하여, 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 첩부된 상태로 얻는 공정.A pressure-sensitive adhesive composition is applied to the release surface of a release sheet, an pressure-sensitive adhesive layer is formed from the obtained coating film, and the side opposite to the side opposite to the release sheet in the pressure-sensitive adhesive layer on the release sheet is affixed to one surface of the base material, and a die The process of obtaining a single sheet in the state by which the peeling sheet was affixed on the surface by the side of an adhesive layer.
여기서, 전술한 바와 같이, 아크릴계 중합체 (A) 는, 아크릴계 중합체 (A1) 과 이소시아네이트계 화합물 (A2) 가 유기 금속 촉매 (C) 의 존재하 반응함으로써 얻어진 것이고, 아크릴계 중합체 (A1) 에 있어서의 단량체 (m1) 의 아크릴계 중합체 (A1) 을 부여하는 단량체 전체에 대한 질량 비율은 5 질량% 이상 30 질량% 이하인 것이 바람직하고, 아크릴계 중합체 (A) 를 형성하기 위한 반응에 있어서, 화합물 (A2) 의 사용량은, 단량체 (m1) 에 대하여 0.4 당량 이상 0.9 당량 이하인 것이 바람직하다.Here, as described above, the acrylic polymer (A) is obtained by reacting the acrylic polymer (A1) and the isocyanate-based compound (A2) in the presence of an organometallic catalyst (C), and the monomer in the acrylic polymer (A1) It is preferable that the mass ratio of (m1) to the whole monomer giving the acrylic polymer (A1) is 5 mass% or more and 30 mass% or less, and in the reaction for forming the acrylic polymer (A), the amount of compound (A2) used It is preferable that silver is 0.4 equivalent or more and 0.9 equivalent or less with respect to monomer (m1).
3. 몰드 칩의 제조 방법3. Manufacturing method of mold chip
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트를 사용하여 몰드 패키지로부터 몰드 칩을 제조하는 방법을, 몰드 패키지가 반도체 패키지로 이루어지는 경우를 구체예로 하여 이하에 설명한다.The method of manufacturing a mold chip from a mold package using the dicing sheet which concerns on this embodiment is demonstrated below taking the case where the mold package consists of a semiconductor package as a specific example.
반도체 패키지는 상기 서술한 바와 같이 기대의 집합체의 각 기대 상에 반도체 칩을 탑재하고, 이들 반도체 칩을 일괄하여 수지 봉지한 전자 부품 집합체인데, 통상적으로 기판면과 수지 봉지면을 갖고, 그 두께는 200 ∼ 2000 ㎛ 정도이다. 수지 봉지면은 그 표면의 산술 평균 거칠기 Ra (JIS B 0601 : 2001 (ISO 4287 : 1997)) 가 0.5 ㎛ 정도로 거칠고, 또한, 봉지 장치의 형으로부터의 취출을 용이하게 하기 위해서, 봉지 재료가 이형 성분을 함유하고 있는 경우가 있다. 이 때문에, 수지 봉지면에 점착 시트를 첩부한 경우, 충분한 고정 성능이 발휘되지 않는 경향이 있다.A semiconductor package is an electronic component assembly in which a semiconductor chip is mounted on each base of an assembly of a base as described above, and these semiconductor chips are collectively sealed with resin. Usually, it has a substrate surface and a resin encapsulation surface, and the thickness is 200 It is about 2000 micrometers. The resin encapsulation surface has an arithmetic mean roughness Ra (JIS B 0601: 2001 (ISO 4287: 1997)) of about 0.5 µm, and in order to facilitate removal from the mold of the encapsulation device, the sealing material contains a mold release component. may contain. For this reason, when an adhesive sheet is affixed on the resin sealing surface, there exists a tendency for sufficient fixing performance not to be exhibited.
이 반도체 패키지 (몰드 패키지) 의 수지 봉지면은, 레이저 가공 등에 의해 수지 재료가 제거되어 형성된 오목부에 의해 화성된 인자부를 갖는다. 반도체 패키지는, 인자부 이외의 수지 봉지 표면과 인자부의 평면 사이에서 높낮이차를 갖고, 본 명세서에 있어서 이 높낮이차를 인자부의 오목부의 (평균) 깊이라고 한다. 인자부에 의한 인자의 시인성을 향상시키는 관점에서, 인자부의 오목부의 평균 깊이는, 0.5 ㎛ 이상이 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 인자부의 오목부의 평균 깊이는, 다음과 같이 하여 구한 것으로 한다. 레이저 현미경으로 반도체 패키지의 인자부 이외의 수지 봉지 표면과 인자부를 구성하는 오목부의 평면을 관측하고, 그 높낮이차를 측정한다. 또한, 인자부와 인자부 이외의 경계선을 포함하는 영역에서의 5 점을 측정점으로 하고, 측정점에 있어서의 높낮이차의 평균치를 인자부의 오목부의 평균 깊이로 한다.The resin encapsulation surface of this semiconductor package (mold package) has a printing portion formed by a concave portion formed by removing a resin material by laser processing or the like. A semiconductor package has a height difference between the surface of the resin encapsulation other than the printing part and the plane of the printing part, and this height difference is called the (average) depth of the recessed part of the printing part in this specification. From a viewpoint of improving the visibility of printing by a printing part, 0.5 micrometer or more is preferable and, as for the average depth of the recessed part of a printing part, 0.5 micrometer or more and 10 micrometers or less are more preferable. In this specification, the average depth of the recessed part of a printing part shall be calculated|required as follows. With a laser microscope, the surface of the resin encapsulation other than the printing part of the semiconductor package and the plane of the concave part constituting the printing part are observed, and the height difference is measured. In addition, 5 points in the area|region including the boundary line other than the printing part and the printing part are made into a measurement point, and let the average value of the height difference in a measurement point be the average depth of the recessed part of a printing part.
본 실시형태에 관련된 다이싱 시트는, 사용에 있어서, 점착제층측의 면 (즉, 점착제층의 기재측과 반대측의 면) 을 반도체 패키지 (몰드 패키지) 의 수지 봉지면에 첩부한다.In the use of the dicing sheet which concerns on this embodiment, in use, the surface (namely, the surface on the opposite side to the base material side of an adhesive layer) is affixed to the resin sealing surface of a semiconductor package (mold package).
또한, 다이싱 시트의 점착제층측의 면에 박리 시트가 첩부되어 있는 경우에는, 그 박리 시트를 박리하여 점착제층측의 면을 표출시키고, 반도체 패키지의 수지 봉지면에 그 면을 첩부하면 된다. 다이싱 시트의 외주부는, 통상적으로 그 부분에 형성된 점착제층에 의해, 링 프레임이라고 불리는 반송이나 장치에 대한 고정을 위한 환상의 지그에 첩부된다. 점착제층은, 택값 등이 적절하기 때문에, 다이싱 시트에 첩부된 반도체 패키지를 다이싱 공정에 제공해도, 반도체 패키지가 개편화되어 이루어지는 몰드 칩이 가공 중에 비산할 가능성은 저감되어 있다.In addition, when the release sheet is affixed to the adhesive layer side surface of a dicing sheet, the peeling sheet is peeled to expose the adhesive layer side surface, and what is necessary is just to stick the surface to the resin sealing surface of a semiconductor package. The outer peripheral part of a dicing sheet is affixed to the annular jig for conveyance called a ring frame and fixing to an apparatus with the adhesive layer normally formed in the part. Since the adhesive layer has an appropriate tack value, etc., even if it provides a dicing process with the semiconductor package affixed to a dicing sheet, the possibility that the mold chip formed by fragmentation of a semiconductor package scatters during processing is reduced.
다이싱 공정에 의해 형성되는 몰드 칩의 사이즈는 통상적으로 5 ㎜ × 5 ㎜ 이하이고, 최근에는 1 ㎜ × 1 ㎜ 정도가 되는 경우도 있는데, 본 실시형태에 관련된 다이싱 시트의 점착제층은 택값이 적절하기 때문에, 그러한 파인 피치의 다이싱에도 충분히 대응할 수 있다.The size of the mold chip formed by the dicing process is usually 5 mm × 5 mm or less, and recently it may be about 1 mm × 1 mm. Since it is suitable, it can fully cope with dicing of such a fine pitch.
이상의 다이싱 공정을 실시하는 것에 의해 반도체 패키지로부터 복수의 몰드 칩을 얻을 수 있다. 다이싱 공정 종료 후, 다이싱 시트 상에 근접 배치된 복수의 몰드 칩을 픽업하기 쉽도록, 통상적으로는, 다이싱 시트를 주면 내 방향으로 신장하는 익스팬드 공정이 실시되는 경우도 있다. 이 신장의 정도는, 인접하는 몰드 칩이 가져야 하는 간격, 기재의 인장 강도 등을 고려하여 적절히 설정하면 된다.A plurality of mold chips can be obtained from a semiconductor package by performing the above dicing process. After completion of the dicing process, an expand process of extending the dicing sheet in the main main inward direction may be usually performed in order to facilitate picking up a plurality of mold chips arranged adjacently on the dicing sheet. The extent of this elongation may be appropriately set in consideration of the spacing that adjacent mold chips should have, the tensile strength of the substrate, and the like.
필요에 따라 실시된 익스팬드 공정을 실시한 후, 흡인 콜릿 등의 범용 수단에 의해, 점착제층 상의 몰드 칩의 픽업을 실시한다. 픽업된 몰드 칩은, 반송 공정 등 다음 공정으로 제공된다.After performing the expand process implemented as needed, general-purpose means, such as a suction collet, pick up the mold chip on an adhesive layer. The picked-up mold chip is provided in the next process, such as a conveyance process.
다이싱 공정의 종료 후, 픽업 공정 개시까지, 본 실시형태에 관련된 다이싱 시트의 기재측으로부터 에너지선 조사를 실시하면, 다이싱 시트가 구비하는 점착제층 내부에 있어서, 이것에 함유되는 에너지선 중합성기의 반응이 진행되어, 몰드 칩의 면에 대한 점착제층의 점착성을 저하시킬 수 있다. 게다가, 본 실시형태에 관련된 다이싱 시트가 구비하는 점착제층은, 적절한 점착제 조성물로부터 형성되어 있기 때문에, 피착체인 반도체 패키지의 수지 봉지면의 오목부 내, 특히 인자부를 구성하는 오목부 내에, 점착제층을 구성하는 재료가 잘 잔류하지 않는다. 이 때문에, 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제가 특히 잘 발생하지 않는다.When energy-beam irradiation is performed from the base material side of the dicing sheet which concerns on this embodiment until the start of a pick-up process after completion|finish of a dicing process, the inside of the adhesive layer with which a dicing sheet is equipped WHEREIN: Energy-beam polymerization contained in this Reaction of the genitals may advance, and the adhesiveness of the adhesive layer with respect to the surface of a mold chip may be reduced. In addition, since the pressure-sensitive adhesive layer included in the dicing sheet according to the present embodiment is formed from an appropriate pressure-sensitive adhesive composition, the pressure-sensitive adhesive layer is formed in the concave portion of the resin encapsulation surface of the semiconductor package as an adherend, particularly in the concave portion constituting the printing portion. The constituent materials do not remain well. For this reason, the problem regarding the print visibility in the mold chip mentioned above does not generate|occur|produce especially easily.
상기와 같이, 본 실시형태에 관련된 몰드 칩의 제조 방법은 칩 비산이 잘 발생하지 않고, 그 후 공정에 있어서도, 문제가 잘 발생하지 않는다. 이 때문에, 반도체 패키지 등의 몰드 패키지를 복수의 몰드 칩으로 분할하는 다이싱 공정 및 픽업 공정을 거쳐 다음 공정에 이를 때까지의 일련의 공정에서, 수율이 잘 저하하지 않는다. 그러므로, 본 실시형태에 관련된 다이싱 시트를 사용하는 본 실시형태에 관련된 제조 방법에 의해 얻어진 몰드 칩은, 비용적으로 유리한 것이 되기 쉽다. 또한, 칩 비산은, 이들 문제에 직접적으로 관련하는 몰드 칩 이외에, 칩의 충돌 등에 의해, 동(同) 로트에서 제조된 몰드 칩이 결손 등의 문제를 발생시키는 경우가 있다. 따라서, 본 실시형태에 관련된 몰드 칩의 제조 방법에 의해 제조된 몰드 칩은, 그러한 문제를 가질 가능성이 저감되어, 품질이 우수하다.As mentioned above, in the manufacturing method of the mold chip which concerns on this embodiment, chip scattering does not generate|occur|produce easily, and also in a subsequent process, a problem does not generate|occur|produce easily. For this reason, in a series of processes from a dicing process of dividing a mold package, such as a semiconductor package, into a plurality of mold chips, and a pick-up process to the next process, the yield does not fall easily. Therefore, the mold chip obtained by the manufacturing method which concerns on this embodiment using the dicing sheet which concerns on this embodiment is easy to become cost-effective. In addition, chip scattering may cause problems, such as a defect, of the mold chip manufactured by the same lot by chip|tip collision etc. other than the mold chip directly related to these problems. Therefore, the mold chip manufactured by the manufacturing method of the mold chip which concerns on this embodiment is reduced in possibility of having such a problem, and is excellent in quality.
이상 설명한 실시형태는, 본 발명의 이해를 용이하게 하기 위해서 기재된 것으로서, 본 발명을 한정하기 위해서 기재된 것은 아니다. 따라서, 상기 실시형태에 개시된 각 요소는, 본 발명의 기술적 범위에 속하는 모든 설계 변경이나 균등물도 포함하는 취지이다.The embodiments described above are described in order to facilitate understanding of the present invention, and are not described in order to limit the present invention. Accordingly, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents falling within the technical scope of the present invention.
실시예Example
이하, 실시예 등에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예 등에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of Examples and the like, but the scope of the present invention is not limited to these Examples and the like.
〔실시예 1〕[Example 1]
(1) 도공액의 조제(1) Preparation of coating solution
다음의 조성을 갖는 도공액을 조제하였다.A coating solution having the following composition was prepared.
75 질량부의 2-에틸헥실아크릴레이트와 10 질량부의 메틸메타크릴레이트와 15 질량부의 2-하이드록시에틸아크릴레이트 (HEA) 를 공중합하여, 공중합체 (폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량 70 만) 를, 아크릴계 중합체 (A1) 로서 얻었다.75 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 10 parts by mass of methyl methacrylate, and 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) were copolymerized to obtain a copolymer (weight average molecular weight in terms of polystyrene of 700,000), an acrylic polymer. It was obtained as (A1).
화합물 (A2) 로서의 메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 (MOI) 와, 상기의 아크릴계 중합체 (A1) 을, 유기 금속 촉매 (C) 로서의 지르코늄킬레이트 촉매 (마츠모토 파인 케미컬사 제조 「ZC-700」) 의 존재하, 반응시켰다. 화합물 (A2) 의 사용량은, 아크릴계 중합체 (A1) 에 있어서의 반응성 관능기인 수산기를 갖는 구성 단위를 부여하는 단량체 (m1) 로서 위치가 부여되는 HEA 에 대하여 0.6 당량이었다. 유기 금속 촉매 (C) 의 첨가량은, 아크릴계 중합체 (A1) 의 고형분 100 질량부에 대하여 0.1 질량부였다. 상기의 반응에 의해, 아크릴계 중합체 (A) 및 유기 금속 촉매 (C) 에 기초하는 성분을 포함하는 생성물을 얻었다.Methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) as the compound (A2) and the acrylic polymer (A1) as the organometallic catalyst (C) in the presence of a zirconium chelate catalyst (“ZC-700” manufactured by Matsumoto Fine Chemicals) ha, reacted. The usage-amount of compound (A2) was 0.6 equivalent with respect to HEA which is given a position as a monomer (m1) which provides the structural unit which has a hydroxyl group which is a reactive functional group in an acrylic polymer (A1). The addition amount of the organometallic catalyst (C) was 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the acrylic polymer (A1). By said reaction, the product containing the component based on an acrylic polymer (A) and an organometallic catalyst (C) was obtained.
상기의 생성물과, 생성물 중의 아크릴계 중합체 (A) 100 질량부에 대하여, 0.3 질량부의 이소시아네이트계 가교제 (B) (토요켐사 제조 「BHS-8515」) 및 3.0 질량부의 광 중합 개시제 (D) (BASF 사 제조 「이르가큐어 (등록상표) 184」) 를 배합 (모두 고형분 환산에 의한 배합비) 하여, 점착제 조성물을 얻었다.With respect to the above product and 100 parts by mass of the acrylic polymer (A) in the product, 0.3 parts by mass of the isocyanate-based crosslinking agent (B) ("BHS-8515" manufactured by Toyochem Co., Ltd.) and 3.0 parts by mass of the photopolymerization initiator (D) (BASF Corporation) Manufacture "Irgacure (trademark) 184") was mix|blended (all are compounding ratio by solid content conversion), and the adhesive composition was obtained.
(2) 다이싱 시트의 제작(2) Production of dicing sheet
두께 38 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트제 기재 필름의 일방의 면 상에 실리콘계의 박리제층이 형성되어 이루어지는 박리면을 구비하는 박리 시트 (린텍사 제조 「SP-PET381031」) 를 준비하였다. 이 박리 시트의 박리면 상에, 전술한 도공액을 나이프 코터로 도포하였다. 얻어진 도막을 박리 시트째로 100 ℃ 의 환경하에서 1 분간 경과시킴으로써 도막을 건조시킴과 함께 가교 반응을 진행시켜, 박리 시트와 점착제층 (두께 10 ㎛) 으로 이루어지는 적층체를 얻었다.A release sheet ("SP-PET381031" manufactured by Lintec Co., Ltd.) having a release surface in which a silicone release agent layer is formed on one surface of a 38 µm-thick polyethylene terephthalate base film was prepared. On the peeling surface of this release sheet, the above-mentioned coating liquid was apply|coated with the knife coater. The coating film was dried and crosslinking reaction was advanced by making the obtained coating film pass for 1 minute in 100 degreeC environment with the peeling sheet whole, and the laminated body which consists of a peeling sheet and an adhesive layer (10 micrometers in thickness) was obtained.
두께 140 ㎛ 의 에틸렌-메타크릴산 공중합체 (EMAA) 필름으로 이루어지는 기재의 일방의 면 (코로나 처리 완료, 표면 장력 : 54 mN/m) 에, 상기의 적층체의 점착제층측의 면을 첩부하여, 기재와 점착제층으로 이루어지는 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 추가로 적층된 상태로 얻었다.On one side of a substrate made of an ethylene-methacrylic acid copolymer (EMAA) film having a thickness of 140 μm (corona treatment completed, surface tension: 54 mN/m), the adhesive layer side of the laminate is affixed, The dicing sheet which consists of a base material and an adhesive layer was obtained in the state by which the peeling sheet was further laminated|stacked on the surface on the side of the adhesive layer.
〔실시예 2〕[Example 2]
아크릴계 중합체 (A) 를 얻기 위해서 사용한 유기 금속 촉매 (C) 를, 지르코늄킬레이트 촉매 대신에, 티탄킬레이트 촉매 (마츠모토 파인 케미컬사 제조 「TC-750」) 로 하고, 그 사용량을, 아크릴계 중합체 (A1) 의 고형분 100 질량부에 대하여 0.03 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 적층된 상태로 얻었다.Instead of the zirconium chelate catalyst, the organometallic catalyst (C) used in order to obtain the acrylic polymer (A) is used as a titanium chelate catalyst ("TC-750" manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.), and the amount used is the acrylic polymer (A1) Except having set it as 0.03 mass part with respect to 100 mass parts of solid content of , it carried out similarly to Example 1, and obtained the dicing sheet in the state by which the release sheet was laminated|stacked on the surface on the side of the adhesive layer.
〔비교예 1〕[Comparative Example 1]
아크릴계 중합체 (A) 를 얻기 위해서 사용한 유기 금속 촉매 (C) 를, 지르코늄킬레이트 촉매 대신에, 주석 촉매 (토요켐사 제조 「BXX-3778」) 로 하고, 그 사용량을, 아크릴계 중합체 (A1) 의 고형분 100 질량부에 대하여 0.03 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 적층된 상태로 얻었다.The organometallic catalyst (C) used in order to obtain the acrylic polymer (A) was replaced with a zirconium chelate catalyst as a tin catalyst ("BXX-3778" manufactured by Toyochem Co., Ltd.), and the amount used was 100 solid content of the acrylic polymer (A1) Except having set it as 0.03 mass part with respect to mass part, it carried out similarly to Example 1, and obtained the dicing sheet in the state by which the peeling sheet was laminated|stacked on the surface by the side of an adhesive layer.
〔실시예 3〕[Example 3]
아크릴계 중합체 (A) 를 얻기 위해서 사용한 화합물 (A2) 로서의 MOI 의 사용량을, HEA 에 대하여 0.7 당량으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 적층된 상태로 얻었다.In the same manner as in Example 1, except that the amount of MOI as the compound (A2) used to obtain the acrylic polymer (A) was 0.7 equivalent to HEA, the dicing sheet was applied to the pressure-sensitive adhesive layer side, and the release sheet was applied to the side. obtained in a laminated state.
〔비교예 2〕[Comparative Example 2]
아크릴계 중합체 (A) 를 얻기 위해서 사용한 화합물 (A2) 로서의 MOI 의 사용량을, HEA 에 대하여 0.9 당량으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 적층된 상태로 얻었다.In the same manner as in Example 1, except that the amount of MOI as the compound (A2) used to obtain the acrylic polymer (A) was 0.9 equivalent to HEA, the dicing sheet was applied to the pressure-sensitive adhesive layer side, and the release sheet was applied to the side. obtained in a laminated state.
〔비교예 3〕[Comparative Example 3]
아크릴계 중합체 (A) 를 얻기 위해서 사용한 화합물 (A2) 로서의 MOI 의 사용량을, HEA 에 대하여 0.3 당량으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 적층된 상태로 얻었다.In the same manner as in Example 1, except that the amount of MOI as the compound (A2) used to obtain the acrylic polymer (A) was 0.3 equivalent to HEA, the dicing sheet was applied to the pressure-sensitive adhesive layer side, and the release sheet was applied to the side. obtained in a laminated state.
〔비교예 4〕[Comparative Example 4]
점착제층의 두께를 30 ㎛ 로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 적층된 상태로 얻었다.Except having made the thickness of an adhesive layer into 30 micrometers, it carried out similarly to Example 1, and obtained the dicing sheet in the state by which the peeling sheet was laminated|stacked on the surface by the side by the adhesive layer.
〔비교예 5〕[Comparative Example 5]
85 질량부의 2-에틸헥실아크릴레이트와 15 질량부의 2-하이드록시에틸아크릴레이트를 공중합하여 공중합체 (폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량 70 만) 를 얻었다. 아크릴계 중합체 (A1) 대신에 이 공중합체를 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 적층된 상태로 얻었다.85 mass parts of 2-ethylhexyl acrylate and 15 mass parts of 2-hydroxyethyl acrylate were copolymerized, and the copolymer (polystyrene conversion weight average molecular weight 700,000) was obtained. Except having used this copolymer instead of the acrylic polymer (A1), it carried out similarly to Example 1, and obtained the dicing sheet in the state by which the peeling sheet was laminated|stacked on the surface on the side of the adhesive layer.
〔비교예 6〕[Comparative Example 6]
점착제 조성물을, 다음에 설명하는 방법에 의해 조제한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 다이싱 시트를, 점착제층측의 면에 박리 시트가 적층된 상태로 얻었다.Except having prepared the adhesive composition by the method demonstrated next, it carried out similarly to Example 1, and obtained the dicing sheet in the state by which the peeling sheet was laminated|stacked on the surface by the side by the adhesive layer.
공중합체 100 질량부에 대하여, 가교제를 10 질량부, 에너지선 경화성 화합물을 40 질량부 (배합량은 모두 고형분량) 첨가하여, 유기 용매의 용액으로서의 점착제 도공용 조성물을 얻었다.With respect to 100 parts by mass of the copolymer, 10 parts by mass of a crosslinking agent and 40 parts by mass of an energy ray-curable compound (both blending amounts are solid content) were added to obtain a composition for adhesive coating as a solution of an organic solvent.
상기의 공중합체, 가교제 및 에너지선 경화성 화합물의 상세한 것은 다음과 같았다.The details of the copolymer, the crosslinking agent and the energy ray-curable compound were as follows.
공중합체 : 2-에틸헥실아크릴레이트/메틸아크릴레이트/아크릴산 = 50/40/10 의 조성비, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량 : 80 만Copolymer: 2-ethylhexyl acrylate/methyl acrylate/acrylic acid = 50/40/10 composition ratio, polystyrene conversion weight average molecular weight: 800,000
가교제 : 트리메틸올프로판톨릴렌디이소시아네이트 (TDI-TMP), 토요켐사 제조 「BHS 8515」Cross-linking agent: trimethylol propane tolylene diisocyanate (TDI-TMP), manufactured by Toyochem "BHS 8515"
에너지선 경화성 화합물 : 10 관능 우레탄아크릴레이트, 분자량 : 1700, 닛폰 합성 화학 공업사 제조 「UV-1700B」Energy ray-curable compound: 10-functional urethane acrylate, molecular weight: 1700, "UV-1700B" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
〔시험예 1〕<칩 비산의 평가>[Test Example 1] <Evaluation of chip scattering>
반도체 패키지용 수지 (스미토모 베이크라이트사 제조 「G700」) 를 사용하여, 50 ㎜ × 50 ㎜, 두께 600 ㎛ 이고, 봉지 수지면의 산술 평균 거칠기 Ra 가 1 ㎛ 인 모의 반도체 패키지를 제작하였다. 상기의 실시예 및 비교예에 의해 제조한 다이싱 시트의 점착제층측의 면을, 테이프 마운터 (린텍사 제조 「Adwill RAD2500」) 를 사용하여, 상기 서술한 제작한 모의 반도체 패키지의 봉지 수지면에 첩부하였다. 이렇게 하여 얻어진 다이싱 시트와 모의 반도체 패키지의 적층체를 다이싱용 링 프레임 (디스코사 제조 「2-6-1」) 에 장착하고, 다이싱 장치 (디스코사 제조 「DFD-651」) 를 사용하여, 모의 반도체 패키지측으로부터 절단하는 다이싱 공정을 실시하여, 1 ㎜ × 1 ㎜ 의 크기의 몰드 칩으로 분할하였다. 또한, 다이싱 조건은 하기와 같았다.Using resin for semiconductor packages ("G700" manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), 50 mm x 50 mm and 600 micrometers in thickness, and the arithmetic mean roughness Ra of the sealing resin surface produced the simulation semiconductor package which is 1 micrometer. The surface on the side of the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing sheet produced in the Examples and Comparative Examples was affixed to the sealing resin surface of the simulated semiconductor package prepared above using a tape mounter (“Adwill RAD2500” manufactured by Lintec). . The thus-obtained laminate of the dicing sheet and the simulated semiconductor package was mounted on a ring frame for dicing ("2-6-1" manufactured by Disco Corporation), and a dicing apparatus ("DFD-651" manufactured by Disco Corporation) was used to mount the , a dicing step of cutting from the side of the simulated semiconductor package was performed, and the result was divided into mold chips having a size of 1 mm × 1 mm. In addition, dicing conditions were as follows.
다이싱 블레이드 : 디스코사 제조 「ZBT-5074 (Z1110LS3)」Dicing blade: Disco company "ZBT-5074 (Z1110LS3)"
블레이드 두께 : 0.17 ㎜Blade thickness: 0.17 mm
날 꺼냄량 : 3.3 ㎜Blade removal amount: 3.3 mm
블레이드 회전수 : 30000 rpmBlade rotation speed: 30000 rpm
절단 속도 : 100 ㎜/분Cutting speed: 100 mm/min
기재로의 절입 깊이 : 50 ㎛Depth of cut into substrate: 50 μm
절삭수량 : 1.0 ℓ/minCutting amount: 1.0 ℓ/min
절삭수 온도 : 20 ℃Cutting water temperature: 20℃
다이싱 공정에 의해 얻어진, 다이싱 시트의 점착제층측의 면에 몰드 칩이 부착하여 이루어지는 부재를 육안으로 관찰하여, 다이싱 공정 중에 다이싱 시트로부터 탈락해 있는 몰드 칩의 개수를 세어, 그 개수를 다이싱 공정에 있어서의 분할수로 나누어, 칩 비산률 (단위 : %) 을 구하였다. 칩 비산률이 10 % 미만인 경우를 양호라고 판단하고, 10 % 이상인 경우를 불량이라고 판단하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다. 표 1 중, 「A」 는 양호라고 판단된 것을 의미하고, 「B」 는 불량이라고 판단된 것을 의미한다.By visually observing the member obtained by the dicing process, the mold chip adhering to the pressure-sensitive adhesive layer side surface of the dicing sheet, counting the number of mold chips falling off from the dicing sheet during the dicing process, and counting the number It divided by the division number in a dicing process, and the chip|tip scattering rate (unit: %) was calculated|required. The case where the chip scattering rate was less than 10% was judged to be good, and the case where it was 10% or more was judged to be defective. A result is shown in Table 1. In Table 1, "A" means what was judged as good, and "B" means what was judged as bad.
〔시험예 2〕<몰드 칩에 있어서의 인자 시인성의 평가>[Test Example 2] <Evaluation of print visibility in molded chips>
반도체 패키지용 수지 (스미토모 베이크라이트사 제조 「G700」) 를 사용하여, 50 ㎜ × 50 ㎜, 두께 600 ㎛ 이고, 봉지 수지면의 산술 평균 거칠기 Ra 가 1 ㎛ 인 모의 반도체 패키지를 제작하였다. 모의 반도체 패키지의 수지 봉지면에, 다음의 조건으로 인자 가공을 실시하여, 인자부를 형성하였다.Using resin for semiconductor packages ("G700" manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), 50 mm x 50 mm and 600 micrometers in thickness, and the arithmetic mean roughness Ra of the sealing resin surface produced the simulation semiconductor package which is 1 micrometer. The resin encapsulation surface of the simulation semiconductor package was subjected to printing under the following conditions to form a printing portion.
레이저 인자 장치 : Panasonic 사 제조 「LP-V10U-W20」Laser printing device: "LP-V10U-W20" manufactured by Panasonic
인자용 레이저 : FAYb LaserLaser for printing : FAYb Laser
레이저 파장 : 1064 ㎚Laser Wavelength: 1064 nm
스캔 스피드 : 400 ㎜/초Scan speed: 400 mm/sec
인자 펄스 주기 : 1000 ㎲Print pulse period: 1000 ㎲
인자부의 오목부의 평균 깊이는 2 ㎛ 였다. 인자부의 오목부의 평균 깊이는 다음과 같이 하여 구하였다. 레이저 현미경 (KEYENCE 사 제조 「VK-9700」) 으로 반도체 패키지의 인자부 이외의 수지 봉지 표면과 인자부를 구성하는 오목부의 평면을 관측하고, 그 높낮이차를 측정하였다. 또한, 인자부와 인자부 이외의 경계선을 포함하는 영역에서의 5 점을 측정점으로 하여, 측정점에 있어서의 높낮이차의 평균치를 인자부의 오목부의 평균 깊이로 하였다.The average depth of the concave portions of the printing portion was 2 μm. The average depth of the concave portion of the printing portion was obtained as follows. With a laser microscope ("VK-9700" manufactured by KEYENCE), the surface of the resin encapsulation other than the printing portion of the semiconductor package and the plane of the concave portions constituting the printing portion were observed, and the height difference was measured. In addition, 5 points in the area|region including the boundary line other than the printing part and the printing part were made into measurement points, and the average value of the height difference in the measurement points was made into the average depth of the recessed part of the printing part.
상기의 실시예 및 비교예에 의해 제조한 다이싱 시트의 점착제층측의 면을, 테이프 마운터 (린텍사 제조 「Adwill RAD2500」) 를 사용하여, 상기 서술한 제작한 모의 반도체 패키지의 봉지 수지면에 첩부하였다. 이렇게 하여 얻어진 다이싱 시트와 모의 반도체 패키지의 적층체를 다이싱용 링 프레임 (디스코사 제조 「2-6-1」) 에 장착하고, 다이싱 장치 (디스코사 제조 「DFD-651」) 를 사용하여, 모의 반도체 패키지측으로부터 절단하는 다이싱 공정을 실시하여, 10 ㎜ × 10 ㎜ 의 크기의 몰드 칩으로 분할하였다. 또한, 다이싱 조건은 하기와 같았다.The surface on the side of the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing sheet produced in the Examples and Comparative Examples was affixed to the sealing resin surface of the simulated semiconductor package prepared above using a tape mounter (“Adwill RAD2500” manufactured by Lintec). . The thus-obtained laminate of the dicing sheet and the simulated semiconductor package was mounted on a ring frame for dicing ("2-6-1" manufactured by Disco Corporation), and a dicing apparatus ("DFD-651" manufactured by Disco Corporation) was used to mount the , a dicing step of cutting from the side of the simulated semiconductor package was performed, and divided into mold chips having a size of 10 mm × 10 mm. In addition, dicing conditions were as follows.
다이싱 블레이드 : 디스코사 제조 「ZBT-5074 (Z1110LS3)」Dicing blade: Disco company "ZBT-5074 (Z1110LS3)"
블레이드 두께 : 0.17 ㎜Blade thickness: 0.17 mm
날 꺼냄량 : 3.3 ㎜Blade removal amount: 3.3 mm
블레이드 회전수 : 30000 rpmBlade rotation speed: 30000 rpm
절단 속도 : 100 ㎜/분Cutting speed: 100 mm/min
기재로의 절입 깊이 : 50 ㎛Depth of cut into substrate: 50 μm
절삭수량 : 1.0 ℓ/minCutting amount: 1.0 ℓ/min
절삭수 온도 : 20 ℃Cutting water temperature: 20℃
상기의 다이싱 공정의 완료 후, 다이싱 시트에 몰드 칩 군이 배치된 상태로 30 일간 정치하였다. 30 일간의 정치 후, 자외선 조사 장치 (린텍사 제조 RAD-2000m/12) 를 이용하여, 다이싱 공정 후의 다이싱 시트의 기재측으로부터, 질소 분위기하에서 자외선 조사 (조도 230 ㎽/㎠, 광량 190 mJ/㎠) 를 실시하였다.After completion of the above dicing process, the mold chip group was placed on the dicing sheet and left still for 30 days. After standing for 30 days, using an ultraviolet irradiation device (RAD-2000m/12 manufactured by Lintec Corporation), ultraviolet irradiation (illuminance 230 mW/cm 2 , light quantity 190 mJ) from the base side of the dicing sheet after the dicing step in a nitrogen atmosphere /cm2) was carried out.
자외선 조사 후, 다이싱 시트의 점착제층측의 면에 몰드 칩이 부착하여 이루어지는 부재에 있어서의 다이싱 시트를, 익스팬드 장치 (제이씨엠사 제조 「ME-300B 타입」) 를 사용하여, 속도 1 ㎜/초로 당해 시트의 주면 내 방향으로 20 ㎜ 신장시키는 익스팬드 공정을 실시하였다.After UV irradiation, the dicing sheet in the member formed by attaching the mold chip to the pressure-sensitive adhesive layer side surface of the dicing sheet was expanded using an expander (“ME-300B type” manufactured by JCM Corporation) at a speed of 1 mm/ An expand step of extending the sheet by 20 mm in the inward direction of the main surface of the sheet was performed.
계속해서, 다이싱 시트 상에 위치하는 100 개의 몰드 칩을 픽업 시험하였다. 즉, 다이싱 시트에 있어서의 픽업 대상으로 하는 몰드 칩에 접하는 부분을, 기재측으로부터 니들로 1.5 ㎜ 밀어 올리고, 돌출된 몰드 칩의 다이싱 시트에 대향하는 측과 반대측의 면에 진공 콜릿을 부착시켜, 진공 콜릿에 부착한 몰드 칩을 들어 올렸다.Then, 100 mold chips placed on the dicing sheet were picked up and tested. That is, the part of the dicing sheet in contact with the mold chip to be picked up is pushed up by 1.5 mm from the base material side with a needle, and a vacuum collet is attached to the surface of the protruding mold chip opposite to the side opposite to the dicing sheet. and lifted the mold chip attached to the vacuum collet.
픽업된 몰드 칩의 수지 봉지면의 인자부를 포함하는 영역을 관찰하고, 필요에 따라 현미 FT-IR (퍼킨 엘머사 제조 「Spectrum One」) 에 의해 인자부의 오목부를 측정하여, 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성을 다음의 기준으로 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The area including the printing part of the resin encapsulation surface of the picked-up mold chip is observed, the recessed part of the printing part is measured by microscopic FT-IR ("Spectrum One" manufactured by Perkin Elmer) if necessary, and printing visibility in the mold chip. was evaluated according to the following criteria. A result is shown in Table 1.
A : 인자의 시인성이 저하되었다고 확인되는 몰드 칩은 없었다.A: There was no mold chip confirmed that the visibility of printing had fallen.
B : 인자의 시인성이 조금 저하되었다고 확인되는 몰드 칩이 존재했지만, 대부분의 몰드 칩에 대해서는 시인성의 저하는 확인되지 않았다. 시인성이 조금 저하되었다고 확인되는 몰드 칩에 대해서는, 현미 FT-IR 을 사용하여 인자부의 오목부를 측정했지만, 점착제층을 구성하는 재료로 동정되는 물질의 부착은 확인되지 않았다.B: Although the mold chip confirmed that the visibility of printing fell slightly existed, the fall of visibility was not confirmed about most mold chips. About the mold chip confirmed that visibility fell slightly, although the recessed part of the printing part was measured using microscopic FT-IR, adhesion of the substance identified as the material which comprises an adhesive layer was not confirmed.
C : 인자의 시인성이 조금 저하되었다고 확인되는 몰드 칩이 상당수 존재하였다. 시인성이 조금 저하되었다고 확인되는 몰드 칩에 대해서는, 현미 FT-IR 을 사용하여 인자부의 오목부를 측정했지만, 점착제층을 구성하는 재료로 동정되는 물질의 부착은 확인되지 않았다.C: There were many mold chips confirmed that the visibility of printing was slightly lowered. About the mold chip confirmed that visibility fell slightly, although the recessed part of the printing part was measured using microscopic FT-IR, adhesion of the substance identified as the material which comprises an adhesive layer was not confirmed.
D : 인자의 시인성이 분명하게 저하되었다고 확인되는 몰드 칩이 존재하였다. 시인성이 분명하게 저하되었다고 확인되는 몰드 칩에 대해서는, 현미 FT-IR 을 사용하여 인자부의 오목부를 측정한 결과, 점착제층을 구성하는 재료로 동정되는 물질의 부착이 확인되었다.D: There was a mold chip confirmed that the visibility of printing was clearly lowered. As for the mold chip confirmed to have clearly deteriorated in visibility, as a result of measuring the recessed part of the printing part using microscopic FT-IR, adhesion of the substance identified as the material which comprises an adhesive layer was confirmed.
〔시험예 3〕<택값의 측정>[Test Example 3] <Measurement of tack value>
실시예 및 비교예에 있어서 제조한 다이싱 시트가 구비하는 점착제층에 있어서의 에너지선이 조사되기 전의 상태의 면에 대하여, 직경 5 ㎜ (5 ㎜φ) 의 프로브를 사용하여, 프로브 택 시험기 (레스카사 제조 「RPT-100」) 에 의해 측정하였다. 측정 방법은, JIS Z 0237 : 1991 에 기재된 방법에 있어서, 박리 속도를 1 ㎜/분으로 변경하는 한편, 하중은 100 gf/㎠, 접촉 시간은 1 초간으로, 상기의 JIS 규정의 기재된 바와 같이 하였다. 측정한 에너지량 (피크 적산치) 을 구하고, 택값 (단위 : mJ/5 ㎜φ) 으로 하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.A probe tack tester ( It was measured by "RPT-100" manufactured by Lesca Co., Ltd.). The measuring method was the method described in JIS Z 0237: 1991, while the peeling rate was changed to 1 mm/min, the load was 100 gf/cm 2 , and the contact time was 1 second, as described in the above JIS regulations. . The measured energy amount (peak integration value) was calculated|required, and it was set as the tack value (unit: mJ/5 mmphi). A result is shown in Table 1.
〔시험예 4〕<점착제층의 두께의 측정>[Test Example 4] <Measurement of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer>
실시예 및 비교예에 있어서 사용한 점착제 조성물을, 두께 38 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트제 필름의 일방의 면 상에, 실시예 및 비교예와 동일 조건으로 도포·건조시켜, 필름과 점착제층으로 이루어지는 적층체를 얻었다. 이 적층체의 두께를, 정압 두께 측정기 (테크로크사 제조 「PG-02J」) 를 사용하여 측정하고, 얻어진 측정치로부터 필름의 두께를 빼서, 점착제층의 두께 (단위 : ㎛) 를 구하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The pressure-sensitive adhesive composition used in Examples and Comparative Examples is coated and dried under the same conditions as in Examples and Comparative Examples on one side of a 38 µm-thick polyethylene terephthalate film, and a laminate comprising a film and an pressure-sensitive adhesive layer got The thickness of this laminate was measured using a static pressure thickness meter ("PG-02J" manufactured by Techcrok Corporation), and the thickness of the film was subtracted from the obtained measured value to determine the thickness (unit: µm) of the pressure-sensitive adhesive layer. A result is shown in Table 1.
〔시험예 5〕<조사 전 탄성률 및 조사 후 탄성률의 측정>[Test Example 5] <Measurement of elastic modulus before and after irradiation>
실시예 및 비교예에 있어서 사용한 점착제 조성물을, 두께 38 ㎛ 의 박리 필름 (린텍사 제조 「SP-PET381031」) 의 박리면 상에 건조 후의 두께가 40 ㎛ 가 되도록 도포하고, 얻어진 도막 및 박리 필름으로 이루어지는 적층체를 100 ℃ 에서 1 분간 유지함으로써, 도막의 건조를 실시하였다. 이 순서에 의해 얻어지는 박리 필름 상의 점착제층을 복수 준비하여, 두께 800 ㎛ 가 될 때까지 첩합한 적층체를 제작하고, 직경 10 ㎜ 의 원형으로 타발하여 측정을 위한 시료로 하였다. 점탄성 측정 장치 (TA 인스트루먼트사 제조 「ARES」) 에 의해, 시료에 주파수 1 ㎐ 의 변형을 가하여, -50 ∼ 150 ℃ 의 저장 탄성률을 측정하여, 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률의 값을 조사 전 탄성률 (단위 : ㎪) 로서 얻었다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The pressure-sensitive adhesive composition used in Examples and Comparative Examples was applied on the release surface of a release film having a thickness of 38 µm (“SP-PET381031” manufactured by Lintec Co., Ltd.) so that the thickness after drying was 40 µm, and the obtained coating film and release film The coating film was dried by holding the laminated body formed at 100 degreeC for 1 minute. A plurality of the pressure-sensitive adhesive layers on the release film obtained by this procedure were prepared, the laminated body bonded together until it became 800 micrometers in thickness was produced, it punched out in a circular shape of diameter 10mm, and it was set as the sample for a measurement. With a viscoelasticity measuring apparatus ("ARES" manufactured by TA Instruments), a strain of 1 Hz is applied to the sample, the storage elastic modulus of -50 to 150°C is measured, and the value of the storage elastic modulus at 23°C is the elastic modulus before irradiation. (unit: kPa) was obtained. A result is shown in Table 1.
상기와 동일하게 하여, 실시예 및 비교예에 있어서 사용한 점착제 조성물로부터 형성된 점착제층이 박리 필름 상에 적층된 부재를 얻었다. 당해 부재에 대하여, 자외선 조사 장치 (린텍사 제조 RAD-2000m/12) 를 이용하여, 상기 부재의 박리 필름측으로부터, 질소 분위기하에서 자외선 조사 (조도 230 ㎽/㎠, 광량 190 mJ/㎠) 를 실시하였다. 자외선 조사 후의 부재에 대하여, 상기의 조사 전 탄성률의 측정의 경우와 동일한 작업을 실시하여, 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률의 값을 조사 후 탄성률 (단위 : ㎫) 로서 얻었다. 결과를 표 1 에 나타낸다.It carried out similarly to the above, and the member by which the adhesive layer formed from the adhesive composition used in the Example and the comparative example was laminated|stacked on the peeling film was obtained. The member was irradiated with ultraviolet rays (illuminance 230 mW/cm 2 , light quantity 190 mJ/cm 2 ) in a nitrogen atmosphere from the release film side of the member using an ultraviolet irradiation device (RAD-2000m/12 manufactured by Lintec Corporation). did About the member after ultraviolet irradiation, the same operation|work as the case of the measurement of the said elastic modulus before irradiation was performed, and the value of the storage elastic modulus in 23 degreeC was obtained as the elasticity modulus (unit: MPa) after irradiation. A result is shown in Table 1.
표 1 로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 조건을 만족하는 실시예의 다이싱 시트는, 다이싱 공정에 있어서 문제가 잘 발생하지 않고, 전술한 몰드 칩에 있어서의 인자 시인성에 관한 문제도 잘 발생하지 않는다고 할 수 있는 것이었다.As can be seen from Table 1, in the dicing sheet of Examples satisfying the conditions of the present invention, a problem does not easily occur in the dicing process, and the problem regarding print visibility in the above-mentioned mold chip also occurs easily. It could be said not to do it.
본 발명에 관련된 다이싱 시트는, 피착면인 수지 봉지면에 인자부를 갖는 몰드 패키지의 다이싱 시트로서 바람직하게 사용된다.The dicing sheet which concerns on this invention is used suitably as a dicing sheet of a mold package which has a printing part on the resin-encapsulation surface which is a to-be-adhered surface.
Claims (7)
상기 점착제층의 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은, 에너지선이 조사되기 전의 상태에 있어서 50 ㎪ 이상 80 ㎪ 이하, 또한 에너지선이 조사된 후의 상태에 있어서 5.0 ㎫ 이상 120 ㎫ 이하이고,
상기 점착제층의 두께는 20 ㎛ 미만이고,
상기 점착제층의 면은, 에너지선이 조사되기 전의 상태에 있어서, JIS Z 0237 : 1991 에 기재된 방법에 있어서, 박리 속도를 1 ㎜/분으로 변경한 조건에 의해 프로브 택을 사용하여 측정한 에너지량이, 0.10 mJ/5 ㎜φ 이상 0.8 mJ/5 ㎜φ 이하인 것을 특징으로 하는 다이싱 시트.A dicing sheet comprising a substrate and an adhesive layer laminated on at least one surface of the substrate, the dicing sheet comprising:
The storage elastic modulus at 23 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer is 50 kPa or more and 80 kPa or less in the state before energy ray irradiation, and 5.0 MPa or more and 120 MPa or less in the state after energy ray irradiation,
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 20 ㎛,
The surface of the pressure-sensitive adhesive layer is in a state before energy ray irradiation, in the method described in JIS Z 0237: 1991, the amount of energy measured using a probe tack under the condition that the peeling rate is changed to 1 mm / min. , 0.10 mJ/5 mm phi or more and 0.8 mJ/5 mm phi or less, The dicing sheet characterized by the above-mentioned.
사용에 있어서, 상기 점착제층의 상기 기재측과 반대측의 면에는, 몰드 패키지의 수지 봉지면이 첩부되고,
상기 수지 봉지면은 오목부에 의해 형성된 인자부를 갖는, 다이싱 시트.The method of claim 1,
In use, the resin encapsulation surface of the mold package is affixed to the surface opposite to the base material side of the pressure-sensitive adhesive layer,
The dicing sheet, wherein the resin encapsulation surface has a printing portion formed by the concave portion.
상기 수지 봉지면의 상기 인자부의 오목부의 평균 깊이가 0.5 ㎛ 이상인, 다이싱 시트.3. The method of claim 2,
The dicing sheet, wherein an average depth of the concave portions of the printing portion on the resin encapsulation surface is 0.5 µm or more.
상기 점착제층은, 에너지선 중합성기 및 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체 (A), 및 상기 반응성 관능기와 가교 반응이 가능한 이소시아네이트계 가교제 (B) 를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것이고,
상기 아크릴계 중합체 (A) 는, 상기 반응성 관능기를 갖는 아크릴계 중합체 (A1) 과, 상기 에너지선 중합성기를 갖는 이소시아네이트계 화합물 (A2) 가, 티탄 및 지르코늄의 적어도 일방을 함유하는 유기 금속 촉매 (C) 의 존재하에서 반응함으로써 얻어진 것인, 다이싱 시트.The method of claim 1,
The pressure-sensitive adhesive layer is formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic polymer (A) having an energy ray polymerizable group and a reactive functional group, and an isocyanate-based crosslinking agent (B) capable of crosslinking reaction with the reactive functional group,
The acrylic polymer (A) is an organometallic catalyst (C) in which the acrylic polymer (A1) having the reactive functional group and the isocyanate compound (A2) having the energy ray polymerizable group contain at least one of titanium and zirconium A dicing sheet obtained by reacting in the presence of
상기 아크릴계 중합체 (A1) 에 있어서의 상기 반응성 관능기를 갖는 구성 단위를 부여하는 단량체 (m1) 의, 상기 아크릴계 중합체 (A1) 을 부여하는 단량체 전체에 대한 질량 비율이, 5 질량% 이상 30 질량% 이하이고,
상기 아크릴계 중합체 (A) 를 형성하기 위한 반응에 있어서, 상기 화합물 (A2) 의 사용량은, 상기 단량체 (m1) 에 대하여 0.4 당량 이상 0.8 당량 이하인, 다이싱 시트.5. The method of claim 4,
The mass ratio of the monomer (m1) providing the structural unit having the reactive functional group in the acrylic polymer (A1) with respect to the whole monomer giving the acrylic polymer (A1) is 5 mass% or more and 30 mass% or less ego,
In the reaction for forming the acrylic polymer (A), the amount of the compound (A2) to be used is not less than 0.4 equivalents and not more than 0.8 equivalents based on the monomer (m1).
상기 유기 금속 촉매 (C) 는 지르코늄 함유 킬레이트 화합물을 포함하는, 다이싱 시트.5. The method of claim 4,
The said organometallic catalyst (C) contains a zirconium containing chelate compound, The dicing sheet.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2015-065364 | 2015-03-26 | ||
JP2015065364 | 2015-03-26 | ||
PCT/JP2015/079515 WO2016151913A1 (en) | 2015-03-26 | 2015-10-20 | Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170131338A KR20170131338A (en) | 2017-11-29 |
KR102394516B1 true KR102394516B1 (en) | 2022-05-04 |
Family
ID=56978788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177008503A KR102394516B1 (en) | 2015-03-26 | 2015-10-20 | Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6561115B2 (en) |
KR (1) | KR102394516B1 (en) |
CN (1) | CN107078038B (en) |
SG (1) | SG11201707934QA (en) |
TW (1) | TWI702271B (en) |
WO (1) | WO2016151913A1 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018105613A1 (en) * | 2016-12-07 | 2018-06-14 | 古河電気工業株式会社 | Tape for semiconductor processing |
CN110509624A (en) * | 2017-12-28 | 2019-11-29 | 日东电工株式会社 | The manufacturing method of laminated body |
JP7328807B2 (en) * | 2019-06-26 | 2023-08-17 | 日東電工株式会社 | Dicing tape and dicing die bond film |
JP2021118330A (en) * | 2020-01-29 | 2021-08-10 | 日東電工株式会社 | Masking material |
JP2021119592A (en) * | 2020-01-30 | 2021-08-12 | リンテック株式会社 | Sheet for processing work piece and production method of processed work piece |
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JP2014022476A (en) | 2012-07-13 | 2014-02-03 | Lintec Corp | Dicing sheet |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005229040A (en) | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Pressure-sensitive adhesive sheet for fixing semiconductor base |
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JP5975621B2 (en) * | 2011-11-02 | 2016-08-23 | リンテック株式会社 | Dicing sheet and semiconductor chip manufacturing method |
CN104303271B (en) * | 2012-05-25 | 2017-02-22 | 琳得科株式会社 | Dicing sheet |
JP5633543B2 (en) * | 2012-07-27 | 2014-12-03 | 株式会社豊田自動織機 | Vehicle door structure |
TWI621682B (en) * | 2013-03-11 | 2018-04-21 | Lintec Corp | Method for manufacturing adhesive sheet and processed related equipment parts |
-
2015
- 2015-10-20 CN CN201580060026.8A patent/CN107078038B/en active Active
- 2015-10-20 WO PCT/JP2015/079515 patent/WO2016151913A1/en active Application Filing
- 2015-10-20 SG SG11201707934QA patent/SG11201707934QA/en unknown
- 2015-10-20 KR KR1020177008503A patent/KR102394516B1/en active IP Right Grant
- 2015-10-20 JP JP2017507318A patent/JP6561115B2/en active Active
-
2016
- 2016-03-23 TW TW105108933A patent/TWI702271B/en active
Patent Citations (2)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6561115B2 (en) | 2019-08-14 |
CN107078038A (en) | 2017-08-18 |
CN107078038B (en) | 2020-04-17 |
KR20170131338A (en) | 2017-11-29 |
SG11201707934QA (en) | 2017-10-30 |
JPWO2016151913A1 (en) | 2018-01-18 |
TWI702271B (en) | 2020-08-21 |
WO2016151913A1 (en) | 2016-09-29 |
TW201704393A (en) | 2017-02-01 |
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A201 | Request for examination | ||
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