JP2014022476A - Dicing sheet - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dicing sheet that is reduced in possibility of occurrence of adhesive remaining phenomenon.SOLUTION: There is provided a dicing sheet 1 including a base material 2 and an adhesive layer 3 laminated on at least one surface of the base material 2. The adhesive layer 3 is formed of an adhesive composition containing: a polymer (a1) having a hydroxyl group; an isocyanate-based crosslinking agent (a2); an energy ray polymerizable compound (B); and a tackifier resin (C). Here, a ratio of NCO/OH as a ratio of the total amount (unit: mol) of an isocyanate group that the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the adhesive composition has to the total amount (unit: mol) of a hydroxyl group that components except the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the adhesive composition have is 4-15.

Description

本発明は、複数の半導体チップが樹脂封止されてなる半導体パッケージをダイシングする際に用いられるダイシングシートに関する。   The present invention relates to a dicing sheet used when dicing a semiconductor package in which a plurality of semiconductor chips are sealed with a resin.

半導体チップが樹脂封止された半導体部品(本明細書において「モールドチップ」という。)は、通常次のようにして作製される。
まず、TABテープのような複数の基台が連接してなる集合体の各基台上に半導体チップを搭載し、これらの半導体チップを一括して樹脂封止して電子部品集合体(本明細書において、「半導体パッケージ」という。)を得る。次に、半導体パッケージの一方の面に、基材と粘着剤層とを備えた粘着シート(本明細書において「ダイシングシート」という。)を貼付することによって半導体パッケージをダイシングシートに対して固定する。このダイシングシートに対して固定された半導体パッケージを切断分離(ダイシング)して個片化し、ダイシングシート上に複数のモールドチップが近接配置された部材を作製する(ダイシング工程)。
A semiconductor component in which a semiconductor chip is resin-sealed (referred to as “mold chip” in this specification) is usually manufactured as follows.
First, a semiconductor chip is mounted on each base of an assembly formed by connecting a plurality of bases such as a TAB tape, and these semiconductor chips are collectively sealed with an electronic component assembly (this specification) (Referred to as “semiconductor package”). Next, the semiconductor package is fixed to the dicing sheet by attaching an adhesive sheet (referred to as a “dicing sheet” in this specification) including a base material and an adhesive layer on one surface of the semiconductor package. . The semiconductor package fixed to the dicing sheet is cut and separated (diced) into individual pieces, and a member in which a plurality of mold chips are arranged close to each other on the dicing sheet is manufactured (dicing step).

通常ダイシングシートの粘着剤層は、特定の刺激により粘着剤層の粘着性が低下するように設計されており、特定の刺激としてはたとえばエネルギー線照射が採用される。このダイシングシートにエネルギー線を照射して粘着剤層の粘着性を低下させる作業は、ダイシング工程のダイシング作業後、後述するピックアップ工程が開始されるまでに行われる。   Usually, the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing sheet is designed so that the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer is reduced by a specific stimulus, and for example, energy ray irradiation is adopted as the specific stimulus. The operation of irradiating the dicing sheet with energy rays to reduce the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer is performed after the dicing operation in the dicing step and before the pickup step described later is started.

ダイシング工程により作製された上記の部材におけるダイシングシートをエキスパンド(主面内方向に伸張)して、ダイシングシート上に配置されたモールドチップの間隔を広げる(エキスパンド工程)。こうしてダイシングシート上で互いに離間した状態とされたモールドチップを、個別にピックアップしてダイシングシートから分離させ(ピックアップ工程)、次の工程に移送する。このピックアップ工程が開始されるまでに上記の粘着剤層の粘着性を低下させるためのエネルギー線照射が行われていることにより、ピックアップを行うことが容易化される。   The dicing sheet in the above member produced by the dicing process is expanded (extends in the main surface direction) to widen the interval between the mold chips arranged on the dicing sheet (expanding process). The mold chips thus separated from each other on the dicing sheet are individually picked up, separated from the dicing sheet (pickup process), and transferred to the next process. Since the energy ray irradiation for reducing the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer is performed before the pickup process is started, the pickup is facilitated.

これらの一連の工程のうち、ダイシング工程およびその後のエキスパンド工程では、半導体パッケージおよびこれがダイシングされてなるモールドチップは、ダイシングシート上に固定された状態を維持することが求められる。この目的を達成する観点からは、ダイシングシートの粘着剤層は、その半導体パッケージおよびモールドチップに対するエネルギー線照射前の粘着性(本明細書において、ことわりのない「粘着性」は、半導体パッケージおよび/またはモールドチップに対するエネルギー線照射前の粘着剤層の粘着性を意味する。)が高いことが好ましい。   Of these series of steps, in the dicing step and the subsequent expanding step, the semiconductor package and the mold chip formed by dicing the semiconductor package are required to maintain a fixed state on the dicing sheet. From the viewpoint of achieving this object, the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing sheet has adhesiveness before irradiation with energy rays to the semiconductor package and the mold chip. Or the adhesiveness of the adhesive layer before energy beam irradiation with respect to a mold chip | tip is preferable.

ここで、ダイシングシートの被着体が半導体パッケージおよびモールドチップである場合には、半導体チップを被着体とする場合に比べて、被着面の凹凸が大きくなる傾向がある。このため、半導体チップを被着体とするダイシングシートを半導体パッケージに対する上記の一連の工程に使用されるダイシングシートとして転用すると、被着体に対する粘着性が不十分となり、ダイシング工程において半導体パッケージを切断中に個片化されたモールドチップがダイシングシートから剥離して飛散したり、エキスパンド工程においてダイシングシートを伸張させたときにモールドチップがからダイシングシートから剥離して飛散したりする不具合が生じる。以下、ダイシング工程やエキスパンド工程において生じるこれらの不具合を「モールドチップ飛散」と総称する。   Here, when the adherend of the dicing sheet is a semiconductor package and a mold chip, the unevenness of the adherend surface tends to be larger than when the semiconductor chip is an adherend. For this reason, if a dicing sheet having a semiconductor chip as an adherend is diverted as a dicing sheet used in the above-described series of processes for a semiconductor package, the adhesiveness to the adherend becomes insufficient, and the semiconductor package is cut in the dicing process. The mold chip separated into pieces peels off from the dicing sheet and scatters, and when the dicing sheet is stretched in the expanding process, the mold chip peels off from the dicing sheet and scatters. Hereinafter, these defects occurring in the dicing process and the expanding process are collectively referred to as “mold chip scattering”.

このモールドチップ飛散が生じる可能性を低減させることを目的として、例えば特許文献1や2に記載されるように、ダイシングシートの粘着剤層に粘着性を付与するための樹脂材料(本明細書において、「粘着付与樹脂」という。)を含有させることが行われている。   For the purpose of reducing the possibility of this mold chip scattering, as described in Patent Documents 1 and 2, for example, a resin material for imparting adhesiveness to the adhesive layer of the dicing sheet (in this specification, And “tackifying resin”).

特許第4861081号公報Japanese Patent No. 4861081 特許第4040706号公報Japanese Patent No. 4040706

粘着付与樹脂を含有させることにより、粘着剤層の粘着性は向上し、モールドチップ飛散は生じにくくなる。しかしながら、粘着剤層が軟質化するため、ピックアップ工程が終了したのちに、ダイシングシートを、これを固定するためのリングフレームからの剥離させる際に、リングフレーム上にダイシングシートの粘着剤層を構成する材料が残留する現象(本明細書において「粘着剤残着現象」ともいう。)が生じることが明らかになった。リングフレームに残着した粘着剤を除去しないまま新たなダイシングシートをリングフレームで固定すると、その固定の均一性が失われ、ダイシング工程の作業安定性が低下する。このため、この残着した粘着剤を除去する必要があり、この除去工程はモールドチップの生産性の低下をもたらす。   By including a tackifying resin, the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer is improved and mold chip scattering is less likely to occur. However, since the pressure-sensitive adhesive layer is softened, the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing sheet is formed on the ring frame when the dicing sheet is peeled off from the ring frame for fixing it after the pickup process is completed. It has been clarified that a phenomenon that the material to remain (also referred to as “adhesive sticking phenomenon” in this specification) occurs. If a new dicing sheet is fixed with the ring frame without removing the adhesive remaining on the ring frame, the fixing uniformity is lost, and the working stability of the dicing process is lowered. For this reason, it is necessary to remove the remaining pressure-sensitive adhesive, and this removal step causes a reduction in mold chip productivity.

そこで、本発明は、粘着剤残着現象が生じる可能性が低減されたダイシングシートを提供すること、およびそのダイシングシートを用いるモールドチップの製造方法の提供を課題とする。   Then, this invention makes it a subject to provide the dicing sheet with which possibility that the adhesive sticking phenomenon will arise was reduced, and the manufacturing method of the mold chip using the dicing sheet.

上記目的を達成するべく本発明者らが検討したところ、上記の粘着剤残着現象は、リングフレームに貼付されたダイシングシートを剥離する際に、ダイシングシートの基材と粘着剤層との間で界面剥離が生じているために発生する場合があることが明らかとなった。この知見に基づきさらに検討した結果、粘着剤層を形成するための粘着剤組成物にイソシアネート系架橋剤を多量に含有させる等の方法により、粘着剤残着現象を生じにくくすることが可能であるとの知見を得た。   As a result of the study by the present inventors to achieve the above object, the adhesive sticking phenomenon described above is caused between the base material of the dicing sheet and the adhesive layer when the dicing sheet attached to the ring frame is peeled off. It was revealed that this may occur because of interfacial peeling. As a result of further examination based on this knowledge, it is possible to make the adhesive sticking phenomenon less likely to occur by a method such as containing a large amount of an isocyanate-based crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer. And gained knowledge.

かかる知見に基づき完成された本発明は、第1に、基材と、前記基材の少なくとも一方の面に積層された粘着剤層とを備えたダイシングシートであって、前記粘着剤層は、水酸基を有する重合体(a1)、イソシアネート系架橋剤(a2)、エネルギー線重合性化合物(B)および粘着付与樹脂(C)を含有する粘着剤組成物から形成されたものであって、前記粘着剤組成物に含有される前記イソシアネート系架橋剤(a2)が有するイソシアネート基の総量(単位:mol)の、前記粘着剤組成物に含有される前記イソシアネート系架橋剤(a2)以外の成分が有する水酸基の総量(単位:mol)に対する比率であるNCO/OH比が4以上15以下であるダイシングシートを提供する(発明1)。   The present invention completed based on such knowledge is, firstly, a dicing sheet comprising a base material and an adhesive layer laminated on at least one surface of the base material, the adhesive layer comprising: A pressure-sensitive adhesive composition comprising a polymer (a1) having a hydroxyl group, an isocyanate-based crosslinking agent (a2), an energy beam polymerizable compound (B) and a tackifier resin (C), wherein the pressure-sensitive adhesive Components other than the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the pressure-sensitive adhesive composition have the total amount (unit: mol) of isocyanate groups contained in the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the agent composition. Provided is a dicing sheet having an NCO / OH ratio of 4 or more and 15 or less relative to the total amount of hydroxyl groups (unit: mol) (Invention 1).

NCO/OH比が上記の範囲にあることにより、基材と粘着剤層との界面部にイソシアネート系架橋剤(a2)が有するイソシアネート基が関与する相互作用が生じる可能性が高まる。この相互作用により粘着剤層の基材に対する密着性が高まる(キーイングが向上する)ため、NCO/OH比が上記の範囲にあることにより、ダイシングシートを使用した際に粘着剤残着現象が生じる可能性が低減される。   When the NCO / OH ratio is in the above range, the possibility that an interaction involving the isocyanate group of the isocyanate-based crosslinking agent (a2) at the interface between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer is increased. This interaction increases the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer to the base material (keying is improved). Therefore, when the NCO / OH ratio is in the above range, a pressure-sensitive adhesive sticking phenomenon occurs when a dicing sheet is used. The possibility is reduced.

上記発明(発明1)において、前記粘着剤組成物に含有される前記イソシアネート系架橋剤(a2)の含有量は、前記水酸基を有する重合体(a1)100質量部に対して、2質量部以上14質量部以下であることが好ましい(発明2)。この場合には、NCO/OH比を上記の範囲(4〜15)に設定することが容易となる。   In the said invention (invention 1), content of the said isocyanate type crosslinking agent (a2) contained in the said adhesive composition is 2 mass parts or more with respect to 100 mass parts of polymers (a1) which have the said hydroxyl group. It is preferably 14 parts by mass or less (Invention 2). In this case, it becomes easy to set the NCO / OH ratio in the above range (4 to 15).

上記発明(発明1,2)において、前記粘着剤組成物に含有される前記イソシアネート系架橋剤(a2)以外の成分全体の水酸基価は、2mgKOH/g以上であることが好ましい(発明3)。この場合には、NCO/OH比を上記の範囲(4〜15)に調整したときに粘着剤残着現象を生じにくくなることがより安定的に実現される。   In the said invention (invention 1 and 2), it is preferable that the hydroxyl value of the whole components other than the said isocyanate type crosslinking agent (a2) contained in the said adhesive composition is 2 mgKOH / g or more (invention 3). In this case, when the NCO / OH ratio is adjusted to the above range (4 to 15), it is more stably realized that the adhesive sticking phenomenon hardly occurs.

上記発明(発明1から3)において、前記粘着剤層の厚さが5μm以上35μm以下であることが好ましい(発明4)。粘着剤層の厚さが上記の範囲にある場合には、粘着剤層の粘着性にばらつきが生じたり、ピックアップ時に粘着剤層内部で凝集破壊が生じたりする可能性がより安定的に低減される。   In the said invention (invention 1 to 3), it is preferable that the thickness of the said adhesive layer is 5 micrometers or more and 35 micrometers or less (invention 4). When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is in the above range, the possibility that the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer varies or the cohesive failure inside the pressure-sensitive adhesive layer during pickup is more stably reduced. The

上記発明(発明1から4)において、前記基材の前記粘着剤層が積層される側の面には、前記粘着剤層が積層される前の状態においてイソシアネート反応性基が存在することが好ましい(発明5)。イソシアネート基に対する反応性を有する基であるイソシアネート反応性基が存在することにより、粘着剤層内のイソシアネート基と基材が有するイソシアネート反応性基とが相互作用、特に化学的な相互作用を生じる可能性がより高まる。その結果、粘着剤層の基材に対するキーイングはより向上しやすくなり、粘着剤残着現象が生じる可能性がより安定的に低減される。   In the said invention (invention 1 to 4), it is preferable that an isocyanate-reactive group exists in the state before the said adhesive layer is laminated | stacked in the surface by which the said adhesive layer of the said base material is laminated | stacked. (Invention 5). The presence of an isocyanate-reactive group, which is a group having reactivity with an isocyanate group, may cause an interaction, particularly a chemical interaction, between the isocyanate group in the adhesive layer and the isocyanate-reactive group of the substrate. Sexuality increases. As a result, the keying of the pressure-sensitive adhesive layer with respect to the base material becomes easier to improve, and the possibility of the pressure-sensitive adhesive sticking phenomenon occurring is more stably reduced.

上記発明(発明5)において、前記イソシアネート反応性基は、カルボキシル基、水酸基、アミノ基およびチオール基からなる群から選ばれる1種または2種以上を含むことが好ましい(発明6)。イソシアネート反応性基が上記の官能基である場合には、当該官能基とイソシアネート基との反応に基づく結合構造が形成されやすくなるため、粘着剤残着現象が生じる可能性をさらに安定的に低減させることができる。   In the said invention (invention 5), it is preferable that the said isocyanate reactive group contains 1 type, or 2 or more types chosen from the group which consists of a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, and a thiol group (invention 6). When the isocyanate-reactive group is the above-mentioned functional group, a bond structure based on the reaction between the functional group and the isocyanate group is likely to be formed. Can be made.

上記発明(発明5,6)において、前記基材の前記粘着剤層が積層される側の面は、前記イソシアネート反応性基を有する重合体を含む樹脂系材料からなるフィルムの面であることが好ましい(発明7)。基材が上記の構成を有する場合には、基材の粘着剤層が積層される側の面にイソシアネート反応性基を安定的に存在させることができるため、粘着剤残着現象が生じる可能性をさらに安定的に低減させることができる。   In the said invention (invention 5 and 6), the surface by which the said adhesive layer of the said base material is laminated | stacked should be the surface of the film which consists of a resin material containing the polymer which has the said isocyanate reactive group. Preferred (Invention 7). When the base material has the above-described configuration, an isocyanate-reactive group can be stably present on the surface of the base material on the side where the pressure-sensitive adhesive layer is laminated. Can be more stably reduced.

上記発明(発明7)において、前記イソシアネート反応性基を有する重合体は、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体およびアイオノマーからなる群から選ばれる1種または2種以上を含むことが好ましい(発明8)。基材が上記の材料を含むことで、破断伸度など基材の機械特性を調整することが容易となる。   In the said invention (invention 7), it is preferable that the polymer which has the said isocyanate reactive group contains 1 type, or 2 or more types chosen from the group which consists of an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer and an ionomer (invention). 8). When a base material contains said material, it becomes easy to adjust the mechanical characteristics of a base material, such as breaking elongation.

上記発明(発明5,6)において、前記基材の前記粘着剤層が積層される側の面は、前記粘着剤層が積層される前に表面処理が施された面であってもよいし(発明9)、前記イソシアネート反応性基を有する材料を含有する層の面であってもよい(発明10)。これらの場合には、イソシアネート反応性基を存在させるために基材を構成する材料に求められる制限が少ないため、基材の設計自由度が高い。   In the said invention (invention 5 and 6), the surface by which the said adhesive layer of the said base material is laminated | stacked may be the surface by which surface treatment was given before the said adhesive layer was laminated | stacked. (Invention 9) The surface of the layer containing the material having an isocyanate-reactive group may be used (Invention 10). In these cases, since there are few restrictions required for the material constituting the base material in order to make the isocyanate-reactive group exist, the degree of freedom in designing the base material is high.

上記発明(発明1から10)において、前記ダイシングシートは、粘着剤層における基材に対向する側と反対側の露出面を測定対象面、半導体パッケージの樹脂封止面を被着面として、JIS Z0237:2009に準拠して180°引き剥がし試験を行ったときに測定される粘着力について、エネルギー線照射前の状態における粘着力のエネルギー線照射後の状態における粘着力に対する比が3以上であることが好ましい(発明11)。粘着力比が上記の範囲であることにより、ダイシング工程やエキスパンド工程においてモールドチップ飛散が生じる可能性を低減させつつ、ピックアップ工程においてピックアップ不良が生じる可能性を低減させることができる。   In the above inventions (Inventions 1 to 10), the dicing sheet is JIS, with the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the side facing the substrate as the measurement target surface and the resin sealing surface of the semiconductor package as the adherend surface. Regarding the adhesive strength measured when the 180 ° peeling test is performed in accordance with Z0237: 2009, the ratio of the adhesive strength in the state before energy beam irradiation to the adhesive strength in the state after energy beam irradiation is 3 or more. (Invention 11) When the adhesive strength ratio is in the above range, the possibility of pickup failure in the pickup process can be reduced while reducing the possibility of mold chip scattering in the dicing process or the expanding process.

上記発明(発明1から11)において、前記ダイシングシートは、粘着剤層における基材に対向する側と反対側の露出面を測定対象面、半導体パッケージの樹脂封止面を被着面として、JIS Z0237:2009に準拠して180°引き剥がし試験を行ったときに測定される粘着力が、エネルギー線照射前の状態において500mN/25mm以上であることが好ましい(発明12)。エネルギー線照射前の粘着力が上記の範囲にある場合には、ダイシング工程中にモールドチップ飛散が生じにくい。   In the above inventions (Inventions 1 to 11), the dicing sheet is JIS with the exposed surface opposite the side facing the substrate in the pressure-sensitive adhesive layer as the measurement target surface and the resin sealing surface of the semiconductor package as the adherend surface. It is preferable that the adhesive force measured when the 180 ° peeling test is performed in accordance with Z0237: 2009 is 500 mN / 25 mm or more in a state before irradiation with energy rays (Invention 12). When the adhesive force before energy beam irradiation is in the above range, mold chip scattering is less likely to occur during the dicing process.

上記発明(発明1から12)において、前記粘着剤層の前記基材と反対側の面を、半導体チップを樹脂封止した半導体パッケージの樹脂封止面に貼付することが好ましい(発明13)。上記発明に係るダイシングシートは表面粗さが大きい面に対しても優れた粘着性を有し、しかも粘着剤残着現象が生じにくいため、半導体パッケージの樹脂封止面に貼付されてダイシング工程などに供されても、不具合が生じにくい。   In the said invention (invention 1-12), it is preferable to stick the surface on the opposite side to the said base material of the said adhesive layer on the resin sealing surface of the semiconductor package which resin-sealed the semiconductor chip (invention 13). The dicing sheet according to the above invention has excellent adhesiveness even on a surface having a large surface roughness, and is less likely to cause an adhesive sticking phenomenon. Even if it is used, it is difficult for problems to occur.

本発明は、第2に、上記発明(1から13)のいずれかに係るダイシングシートの前記粘着剤層側の面を、半導体パッケージの樹脂封止面に貼付し、前記ダイシングシート上の前記半導体パッケージを切断して個片化し、複数のモールドチップを得る、モールドチップの製造方法を提供する(発明14)。   According to the present invention, secondly, the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the dicing sheet according to any one of the above inventions (1 to 13) is attached to a resin sealing surface of a semiconductor package, and the semiconductor on the dicing sheet is provided. A mold chip manufacturing method is provided in which a package is cut into individual pieces to obtain a plurality of mold chips (Invention 14).

前述のように、上記発明(1から13)のいずれに係るダイシングシートは表面粗さが大きい面に対しても優れた粘着性を有しつつ、粘着剤残着現象が生じにくいため、かかるダイシングシートを用いてモールドチップの製造するにあたり、粘着剤残着現象など工程不良が生じにく、モールドチップ飛散に基づく不良品も生じにくい。したがって、製品の品質が低下しにくく、不良品に由来する製造コスト上昇も少ない。   As described above, the dicing sheet according to any one of the above inventions (1 to 13) has excellent adhesiveness even on a surface having a large surface roughness, and the adhesive sticking phenomenon hardly occurs. In manufacturing a mold chip using a sheet, process defects such as an adhesive sticking phenomenon hardly occur, and defective products based on mold chip scattering hardly occur. Therefore, the quality of the product is hardly deteriorated, and the increase in manufacturing cost due to the defective product is also small.

本発明によれば、粘着剤残着現象が生じる可能性が低減され、また、ダイシング工程、エキスパンド工程およびピックアップ工程において、モールドチップが飛散する、モールドチップのピックアップが適切に行われないといった不具合が生じる可能性が低減されたダイシングシートが提供される。また、かかるダイシングシートを用いることで品質に優れコスト的にも有利なモールドチップを製造することができる。   According to the present invention, the possibility that the adhesive sticking phenomenon occurs is reduced, and in the dicing process, the expanding process and the pick-up process, the mold chip is scattered and the mold chip is not properly picked up. A dicing sheet is provided that is less likely to occur. Further, by using such a dicing sheet, it is possible to manufacture a mold chip that is excellent in quality and advantageous in terms of cost.

本発明の一実施形態に係るダイシングシートの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the dicing sheet which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について説明する。
1.ダイシングシート
図1に示されるように、本発明の一実施形態に係るダイシングシート1は、基材2および粘着剤層3を備える。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
1. Dicing Sheet As shown in FIG. 1, a dicing sheet 1 according to an embodiment of the present invention includes a base material 2 and an adhesive layer 3.

(1)基材
本実施形態に係るダイシングシート1が備える基材2は、エキスパンド工程やピックアップ工程において破断しない限り、その構成材料は、特に限定はされず、重合体を主材とする樹脂系材料からなるフィルムが例示される。そのようなフィルムの具体例として、低密度ポリエチレン(LDPE)フィルム、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム、高密度ポリエチレン(HDPE)フィルム等のポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、エチレン−ノルボルネン共重合体フィルム、ノルボルネン樹脂フィルム等のポリオレフィン系フィルム;ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム等のポリ塩化ビニル系フィルム;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム等のポリエステル系フィルム;ポリウレタンフィルム;ポリイミドフィルム;アイオノマー樹脂フィルム;エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム等のエチレン系共重合フィルム;ポリビニルアルコールフィルム、セロファン等の水酸基含有樹脂フィルム;ポリ乳酸;ポリスチレンフィルム;ポリカーボネートフィルム;フッ素樹脂フィルム;ならびにこれらの樹脂の水添加物および変性物を主材とするフィルムなどが挙げられる。上記の基材2を構成するフィルムは1種単独でもよいし、さらにこれらを2種類以上組み合わせた積層フィルムであってもよい。後述する破断伸度などの要請を満たすことが容易となる観点から、基材2は、ポリオレフィン系フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルムおよびアイオノマー樹脂フィルムから選ばれる1種または2種以上を備えることが好ましい。なお、本明細書における「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を意味する。他の類似用語についても同様である。
(1) Base material The base material 2 included in the dicing sheet 1 according to the present embodiment is not particularly limited as long as the base material 2 is not broken in the expanding process or the pick-up process. The film which consists of material is illustrated. Specific examples of such films include polyethylene films such as low density polyethylene (LDPE) film, linear low density polyethylene (LLDPE) film, and high density polyethylene (HDPE) film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethyl. Polyolefin films such as pentene film, ethylene-norbornene copolymer film and norbornene resin film; polyvinyl chloride films such as polyvinyl chloride film and vinyl chloride copolymer film; polyester such as polyethylene terephthalate film and polybutylene terephthalate film Polyurethane film; polyimide film; ionomer resin film; ethylene-vinyl acetate copolymer film, ethylene Ethylene copolymer films such as (meth) acrylic acid copolymer film and ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer film; hydroxyl group-containing resin films such as polyvinyl alcohol film and cellophane; polylactic acid; polystyrene film; polycarbonate film A fluororesin film; and films mainly containing water additives and modified products of these resins. The film constituting the substrate 2 may be a single type, or may be a laminated film in which two or more types are combined. From the viewpoint of easily satisfying requirements such as the elongation at break described later, the substrate 2 is one or two selected from a polyolefin film, an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer film, and an ionomer resin film. It is preferable to provide the above. In addition, “(meth) acrylic acid” in the present specification means both acrylic acid and methacrylic acid. The same applies to other similar terms.

本実施形態に係る基材2は、上記の樹脂系材料を主材とするフィルム内に、顔料、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、フィラー等の各種添加剤が含まれていてもよい。顔料としては、例えば、二酸化チタン、カーボンブラック等が挙げられる。また、フィラーとして、メラミン樹脂のような有機系材料、ヒュームドシリカのような無機系材料およびニッケル粒子のような金属系材料が例示される。こうした添加剤の含有量は特に限定されないが、基材2が所望の機能を発揮し、所望の平滑性や柔軟性を失わない範囲に留めるべきである。   Even if the base material 2 which concerns on this embodiment contains various additives, such as a pigment, a flame retardant, a plasticizer, an antistatic agent, a lubricant, a filler, in the film which uses the said resin material as a main material. Good. Examples of the pigment include titanium dioxide and carbon black. Examples of the filler include organic materials such as melamine resin, inorganic materials such as fumed silica, and metal materials such as nickel particles. The content of such additives is not particularly limited, but should be within a range where the base material 2 exhibits a desired function and does not lose desired smoothness and flexibility.

粘着剤層3を構成する材料(すなわち、エネルギー線重合性化合物(B))を重合させるために照射するエネルギー線として紫外線を用いる場合には、基材2は紫外線に対して透過性を有することが好ましい。なお、エネルギー線として電子線を用いる場合には電子線に対して透過性を有していることが好ましい。   In the case where ultraviolet rays are used as energy rays to be irradiated to polymerize the material constituting the pressure-sensitive adhesive layer 3 (that is, the energy ray polymerizable compound (B)), the substrate 2 must be permeable to the ultraviolet rays. Is preferred. In addition, when using an electron beam as an energy beam, it is preferable to have transparency with respect to an electron beam.

基材2における粘着剤層3が積層される側の面(本明細書において「被粘着処理面」ともいう。)には、粘着剤層3が積層される前の状態において、イソシアネート基に対する反応性を有する官能基(本明細書において「イソシアネート反応性基」ともいう。)が存在することが好ましい。この場合、本実施形態に係るダイシングシート1は、基材2と粘着剤層3との界面部(本明細書において、「界面部」とは、基材と粘着剤層との界面、基材における当該界面の近傍の領域、および粘着剤層における当該界面の近傍の領域を意味する。)に、粘着剤層3内のイソシアネート基と基材2が有するイソシアネート反応性基とが関与する相互作用が生じる可能性が高まり、この相互作用により基材2と粘着剤層3との密着性が高まる(キーイングの向上)。そのような相互作用の例として、イソシアネート基とイソシアネート反応性基とが反応してなる結合構造が形成されるといった化学的な相互作用が挙げられる。このような結合構造が形成されると、基材2と粘着剤層3とは強固に結合される。それゆえ、被粘着処理面にイソシアネート反応性基が存在する場合には、基材2と粘着剤層3との界面での剥離がより生じにくくなり、粘着剤残着現象が生じる可能性がより安定的に低減される。   On the surface of the base material 2 on which the pressure-sensitive adhesive layer 3 is laminated (also referred to as “the surface to be treated” in this specification), the reaction with respect to the isocyanate group is performed before the pressure-sensitive adhesive layer 3 is laminated. It is preferable that a functional group having a property (also referred to as “isocyanate-reactive group” in this specification) exists. In this case, the dicing sheet 1 according to this embodiment includes an interface portion between the base material 2 and the pressure-sensitive adhesive layer 3 (in this specification, “interface portion” refers to the interface between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer, the base material In the vicinity of the interface and the vicinity of the interface in the pressure-sensitive adhesive layer.) Interaction involving the isocyanate group in the pressure-sensitive adhesive layer 3 and the isocyanate-reactive group of the substrate 2 This interaction increases the adhesion between the substrate 2 and the pressure-sensitive adhesive layer 3 (improved keying). An example of such an interaction is a chemical interaction in which a bond structure formed by a reaction between an isocyanate group and an isocyanate-reactive group is formed. When such a bonded structure is formed, the substrate 2 and the pressure-sensitive adhesive layer 3 are firmly bonded. Therefore, when an isocyanate-reactive group is present on the surface to be treated, peeling at the interface between the base material 2 and the pressure-sensitive adhesive layer 3 is less likely to occur, and the possibility that a pressure-sensitive adhesive sticking phenomenon may occur. Reduced stably.

このイソシアネート反応性基はイソシアネート基と結合する反応をなしうる限りその具体的な種類は特に限定されない。カルボキシル基、水酸基、アミノ基およびチオール基が例示される。イソシアネート反応性基は1種類の官能基から構成されていてもよいし、複数種類の官能基から構成されていてもよい。粘着剤層3が積層される前の状態における基材2の被粘着処理面に存在するイソシアネート反応性基の量は特に限定されない。その量が過度に低い場合には、粘着剤残着現象が生じる可能性を低減することが困難となり、その量が過度に高い場合には、基材2の物性や粘着剤層3の物性がダイシングシートとして適切な範囲外となる(例えば基材2の破断伸度が過度に低下することなどが挙げられる。)可能性が高まることが懸念されることを考慮して、適宜設定すればよい。   The specific type of the isocyanate-reactive group is not particularly limited as long as it can react with the isocyanate group. Examples include a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, and a thiol group. The isocyanate-reactive group may be composed of one type of functional group or may be composed of a plurality of types of functional groups. The amount of the isocyanate-reactive group present on the surface to be treated of the substrate 2 before the pressure-sensitive adhesive layer 3 is laminated is not particularly limited. When the amount is excessively low, it is difficult to reduce the possibility of the adhesive sticking phenomenon, and when the amount is excessively high, the physical properties of the base material 2 and the physical properties of the adhesive layer 3 are reduced. The dicing sheet may be appropriately set in consideration of the possibility that the dicing sheet is out of the appropriate range (for example, the elongation at break of the base material 2 is excessively reduced). .

このイソシアネート反応性基を被粘着処理面に存在させる方法は特に限定されない。例えば、基材2自体が主鎖、側鎖、または末端にカルボキシル基や水酸基などのイソシアネート反応性基を有する重合体を含む樹脂系材料からなるフィルムを備え、そのフィルムの面が被粘着処理面をなすことで、カルボキシル基や水酸基などのイソシアネート反応性基が被粘着処理面に存在していてもよい。基材2がかかる構成であることで、表面処理により被粘着処理面にイソシアネート反応性基を存在させる方法と比べて、被粘着処理面にイソシアネート反応性基を安定的に存在させることができ、本実施形態に係るダイシングシート1の粘着剤残着現象の発生を抑制する効果を特に効率的に得ることができる。イソシアネート反応性基を有する重合体を含む樹脂系材料からなるフィルムとしては、アイオノマー樹脂フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、ポリ乳酸フィルム等のカルボキシル基を含有する樹脂を用いたフィルムや水酸基含有樹脂フィルム等が例示される。なお、アイオノマー樹脂フィルムは、カルボキシル基を有する重合体のカルボキシル基を金属架橋してなる樹脂を用いたフィルムであるが、金属イオンとイオン結合しているカルボキシル基は通常一部であるため、カルボキシル基は残存している。これらのフィルムの中でも、上述のとおり基材の破断伸度等を調整しやすいという観点から、基材2は、アイオノマー樹脂フィルムおよびエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルムからなる群から選ばれる1種または2種以上を備えることが好ましい。エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルムを用いる場合には、(メタ)アクリル酸の共重合比は、当該共重合体を形成するために用いられる単量体の全質量中、5質量%以上25質量%以下程度の範囲とすることが好ましい。   The method for causing the isocyanate-reactive group to exist on the surface to be treated is not particularly limited. For example, the substrate 2 itself includes a film made of a resin material containing a polymer having an isocyanate-reactive group such as a carboxyl group or a hydroxyl group at the main chain, side chain, or terminal, and the surface of the film is a surface to be treated. As a result, an isocyanate-reactive group such as a carboxyl group or a hydroxyl group may be present on the surface to be treated. Compared with the method in which the substrate 2 has such a configuration, the isocyanate-reactive group can be stably present on the surface to be treated, compared to the method in which the isocyanate-reactive group is present on the surface to be treated by surface treatment. The effect which suppresses generation | occurrence | production of the adhesive sticking phenomenon of the dicing sheet 1 which concerns on this embodiment can be acquired especially efficiently. As a film made of a resin material containing a polymer having an isocyanate-reactive group, a film using a resin containing a carboxyl group, such as an ionomer resin film, an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer film, or a polylactic acid film And a hydroxyl group-containing resin film. The ionomer resin film is a film using a resin obtained by metal-crosslinking a carboxyl group of a polymer having a carboxyl group. However, since the carboxyl group ion-bonded to a metal ion is usually a part, The group remains. Among these films, the base material 2 is selected from the group consisting of an ionomer resin film and an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer film from the viewpoint that it is easy to adjust the elongation at break of the base material as described above. It is preferable to provide one type or two or more types. When an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer film is used, the copolymerization ratio of (meth) acrylic acid is 5% by mass based on the total mass of monomers used to form the copolymer. It is preferable to be in the range of about 25% by mass or less.

あるいは、例えば、基材2はポリオレフィン系フィルムのように基材自体としてはイソシアネート反応性基を有さない材料のフィルムを備える場合であって、粘着剤層3が積層される前にあらかじめコロナ処理等の表面処理が被粘着処理面に施されることにより、当該被粘着処理面にカルボキシル基、水酸基などのイソシアネート反応性基が存在するようにされていてもよい。また、被粘着処理面は、上記のイソシアネート反応性基を有する重合体を含む樹脂系材料からなるフィルム以外のイソシアネート反応性基を有する材料から形成されていてもよい。具体的には、プライマー層が上記のフィルムの粘着剤層3側の面に設けられ、被粘着処理面はこのプライマー層の面であり、このプライマー層に基づきイソシアネート反応性基が被粘着処理面に存在するようにされていてもよい。なお、基材2の被粘着処理面と反対側の面には各種の塗膜が設けられていてもよい。   Alternatively, for example, the base material 2 is a case where a film of a material having no isocyanate-reactive group is provided as the base material itself, such as a polyolefin-based film, and the corona treatment is performed in advance before the pressure-sensitive adhesive layer 3 is laminated. By subjecting the adherend treated surface to a surface treatment such as the above, an isocyanate-reactive group such as a carboxyl group or a hydroxyl group may be present on the adherend treated surface. Moreover, the to-be-adhered process surface may be formed from the material which has isocyanate reactive groups other than the film which consists of resin-type material containing the polymer which has said isocyanate reactive group. Specifically, the primer layer is provided on the surface of the above-mentioned film on the pressure-sensitive adhesive layer 3 side, the surface to be treated is the surface of this primer layer, and the isocyanate-reactive group is based on the surface of this primer layer. It may be made to exist. In addition, the various coating films may be provided in the surface on the opposite side to the to-be-adhered process surface of the base material 2. FIG.

本実施形態に係る基材2の厚さはダイシングシート1が前述の各工程において適切に機能できる限り、限定されない。好ましくは20〜450μm、より好ましくは25〜200μm、特に好ましくは50〜150μmの範囲にある。   The thickness of the base material 2 according to the present embodiment is not limited as long as the dicing sheet 1 can function properly in each of the aforementioned steps. Preferably it is 20-450 micrometers, More preferably, it is 25-200 micrometers, Most preferably, it exists in the range of 50-150 micrometers.

本実施形態における基材2の破断伸度は、23℃、相対湿度50%のときに測定した値として100%以上であることが好ましく、特に200%以上1000%以下であることが好ましい。上記の破断伸度が100%以上である基材2は、エキスパンド工程の際に破断しにくく、半導体パッケージを切断して形成したモールドチップを離間し易いものとなる。なお、破断伸度はJIS K7161:1994(ISO 527−1:1993)に準拠した引張り試験における、試験片破壊時の試験片の長さの元の長さに対する伸び率である。   The elongation at break of the substrate 2 in the present embodiment is preferably 100% or more, particularly preferably 200% or more and 1000% or less, as a value measured at 23 ° C. and a relative humidity of 50%. The base material 2 having a breaking elongation of 100% or more is not easily broken during the expanding process, and the mold chip formed by cutting the semiconductor package is easily separated. The elongation at break is the rate of elongation relative to the original length of the test piece at the time of breaking the test piece in a tensile test based on JIS K7161: 1994 (ISO 527-1: 1993).

また、本実施形態における基材2のJIS K7162:1994(ISO 527−2:1993)に準拠した試験により測定される破断応力は10MPa以上であることが好ましく、15MPa以上50MPa以下であることがより好ましく、20MPa以上40MPa以下であることがさらに好ましい。破断応力が10MPa未満であると、ダイシングシート1に半導体パッケージを貼着した後、リングフレームに固定した際、基材2が柔らかいために弛みが発生し、搬送エラーの原因となることがある。   Moreover, it is preferable that the breaking stress measured by the test based on JISK7162: 1994 (ISO527-2: 1993) of the base material 2 in this embodiment is 10 MPa or more, and more preferably 15 MPa or more and 50 MPa or less. Preferably, it is 20 MPa or more and 40 MPa or less. When the breaking stress is less than 10 MPa, when the semiconductor package is bonded to the dicing sheet 1 and then fixed to the ring frame, the base material 2 is soft and may be loosened, which may cause a conveyance error.

(2)粘着剤層
本実施形態に係るダイシングシート1は、基材2の一方の面に積層された粘着剤層3を備える。この粘着剤層3は、次に説明する成分を含有する粘着剤組成物から形成されたものである。
(2) Pressure-sensitive adhesive layer The dicing sheet 1 according to the present embodiment includes a pressure-sensitive adhesive layer 3 laminated on one surface of the substrate 2. This pressure-sensitive adhesive layer 3 is formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing the components described below.

(2−1)粘着剤組成物
粘着剤組成物は、水酸基を有する重合体(a1)、イソシアネート系架橋剤(a2)、エネルギー線重合性化合物(B)および粘着付与樹脂(C)を含有し、必要に応じその他の成分を含有してもよい。
(2-1) Pressure-sensitive adhesive composition The pressure-sensitive adhesive composition contains a polymer (a1) having a hydroxyl group, an isocyanate-based crosslinking agent (a2), an energy beam polymerizable compound (B), and a tackifier resin (C). If necessary, other components may be contained.

(2−1−1)水酸基を有する重合体(a1)
水酸基を有する重合体(a1)は、その少なくとも一部が、後述するイソシアネート系架橋剤(a2)の一部と反応し、重合体の架橋物(A)を形成する。したがって、粘着剤層3は重合体の架橋物(A)を含有する。
水酸基を有する重合体(a1)の重量平均分子量(Mw)は、1万〜200万であることが好ましく、10万〜150万であることがより好ましい。また、水酸基を有する重合体(a1)のガラス転移温度Tgは、好ましくは−70〜30℃、さらに好ましくは−60〜20℃の範囲にある。水酸基を有する重合体(a1)としては、1種類のモノマーが重合してなる単独重合体および複数種類のモノマーが重合してなる共重合体のいずれでもよい。いずれの場合でも、水酸基を有する重合体(a1)を形成するためのモノマーの種類は特に限定されない。重合体の物理的特性や化学的特性を制御しやすい観点から、水酸基を有する重合体(a1)は共重合体であることが好ましい。
(2-1-1) Polymer having hydroxyl group (a1)
At least a part of the polymer (a1) having a hydroxyl group reacts with a part of the isocyanate-based crosslinking agent (a2) described later to form a crosslinked product (A) of the polymer. Therefore, the pressure-sensitive adhesive layer 3 contains a crosslinked polymer (A).
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer (a1) having a hydroxyl group is preferably 10,000 to 2,000,000, and more preferably 100,000 to 1,500,000. The glass transition temperature Tg of the polymer (a1) having a hydroxyl group is preferably in the range of −70 to 30 ° C., more preferably in the range of −60 to 20 ° C. The polymer (a1) having a hydroxyl group may be either a homopolymer obtained by polymerizing one kind of monomer or a copolymer obtained by polymerizing plural kinds of monomers. In any case, the type of monomer for forming the polymer (a1) having a hydroxyl group is not particularly limited. From the viewpoint of easily controlling the physical characteristics and chemical characteristics of the polymer, the polymer (a1) having a hydroxyl group is preferably a copolymer.

水酸基を有する重合体(a1)の一例としてアクリル系重合体であって水酸基を有するものが挙げられる。そのような水酸基を有するアクリル系重合体を形成するための原料となりうるモノマー(本明細書において「原料モノマー」ともいう。)として、水酸基を有するアクリル系モノマー(本明細書において「ヒドロキシアクリル系モノマー」という。)、水酸基を有する非アクリル系モノマー、水酸基を有しないアクリル系モノマーおよび水酸基を有しない非アクリル系モノマーが挙げられる。水酸基を有するアクリル系重合体は、上記の原料モノマーのうち、当該重合体がアクリル系重合体となるように、ヒドロキシアクリル系モノマーおよび水酸基を有しないアクリル系モノマーの少なくとも一種に由来する構成単位を含むとともに、当該重合体が水酸基を有するように、ヒドロキシアクリル系モノマーおよび水酸基を有する非アクリル系モノマーの少なくとも一種に由来する構成単位を含む。   An example of the polymer (a1) having a hydroxyl group is an acrylic polymer having a hydroxyl group. As a monomer (also referred to as “raw material monomer” in the present specification) that can be a raw material for forming such an acrylic polymer having a hydroxyl group, an acrylic monomer having a hydroxyl group (hereinafter referred to as “hydroxyacrylic monomer” in this specification). And non-acrylic monomers having a hydroxyl group, acrylic monomers having no hydroxyl group, and non-acrylic monomers having no hydroxyl group. The acrylic polymer having a hydroxyl group is a structural unit derived from at least one of a hydroxyacrylic monomer and an acrylic monomer having no hydroxyl group so that the polymer becomes an acrylic polymer among the above raw material monomers. And a structural unit derived from at least one of a hydroxyacrylic monomer and a nonacrylic monomer having a hydroxyl group so that the polymer has a hydroxyl group.

ヒドロキシアクリル系モノマーの具体的例として、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどの水酸基を有する(メタ)アクリレートなどが挙げられる。また、水酸基を有する非アクリル系モノマーの具体例として、N−メチロールアクリルアミドなどが挙げられる。取り扱い性を高める観点や粘着剤層3の物性の調整を容易とする観点から、水酸基を有するアクリル系重合体は、ヒドロキシアクリル系モノマーに由来する構成単位を含むものが好ましい。   Specific examples of the hydroxyacrylic monomer include (meth) acrylate having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate. Specific examples of the non-acrylic monomer having a hydroxyl group include N-methylolacrylamide. From the viewpoint of enhancing the handleability and easy adjustment of the physical properties of the pressure-sensitive adhesive layer 3, the acrylic polymer having a hydroxyl group preferably includes a structural unit derived from a hydroxyacrylic monomer.

上記の原料モノマーのうち、水酸基を有しないアクリル系モノマーの具体的例として、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、(メタ)アクリル酸エステル、その誘導体(アクリロニトリルなど)が具体例として挙げられる。(メタ)アクリル酸エステルについてさらに具体例を示せば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の鎖状骨格を有する(メタ)アクリレート;シクロアルキル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イミドアクリレート等の環状骨格を有する(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート、N−メチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の水酸基以外の反応性官能基を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。なお、水酸基を有しないアクリル系モノマーがアルキル(メタ)アクリレートである場合には、そのアルキル基の炭素数は1から18の範囲であることが好ましい。また、水酸基を有しない非アクリル系モノマーとしては、エチレン、ノルボルネン等のオレフィン、酢酸ビニル、スチレンなどが例示される。   Among the above raw material monomers, specific examples of acrylic monomers having no hydroxyl group include (meth) acrylic acid, itaconic acid, (meth) acrylic acid esters, and derivatives thereof (acrylonitrile, etc.). Specific examples of (meth) acrylic acid esters include chain skeletons such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. (Meth) acrylates having the following: cycloalkyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) ) (Meth) acrylates having a cyclic skeleton such as acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and imide acrylate; water such as glycidyl (meth) acrylate and N-methylaminoethyl (meth) acrylate And (meth) acrylates having a reactive functional group other than groups. When the acrylic monomer having no hydroxyl group is an alkyl (meth) acrylate, the alkyl group preferably has 1 to 18 carbon atoms. Examples of the non-acrylic monomer having no hydroxyl group include olefins such as ethylene and norbornene, vinyl acetate, and styrene.

水酸基を有するアクリル系重合体を形成するための原料モノマーの構成比率は特に限定されない。アクリル系重合体としての性質が得られることを安定的に実現する観点から、アクリル系モノマーの質量の合計、すなわち、ヒドロキシアクリル系モノマーの質量および水酸基を有しないアクリル系モノマー質量の合計の、水酸基を有するアクリル系重合体を形成するための原料モノマーの全質量に対する割合は、30〜100質量%であることが好ましく、50〜99質量%であることがより好ましい。   The constituent ratio of the raw material monomer for forming the acrylic polymer having a hydroxyl group is not particularly limited. From the viewpoint of stably realizing the properties as an acrylic polymer, the total mass of acrylic monomers, that is, the total of the mass of hydroxyacrylic monomers and the total mass of acrylic monomers having no hydroxyl groups is a hydroxyl group. The ratio of the raw material monomer for forming the acrylic polymer having a ratio to the total mass of the raw material monomer is preferably 30 to 100% by mass, and more preferably 50 to 99% by mass.

(2−1−2)イソシアネート系架橋剤(a2)
イソシアネート系架橋剤(a2)の具体的な種類は特に限定されず、一例としてポリイソシアネート化合物が例示される。ポリイソシアネート化合物は1分子当たりイソシアネート基を2個以上有する化合物であって、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどの芳香族ポリイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン−4,4'−ジイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネートなどの脂環式イソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートなどの非環式脂肪族イソシアネートが挙げられる。
(2-1-2) Isocyanate-based crosslinking agent (a2)
The specific kind of isocyanate type crosslinking agent (a2) is not specifically limited, A polyisocyanate compound is illustrated as an example. The polyisocyanate compound is a compound having two or more isocyanate groups per molecule, for example, aromatic polyisocyanate such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate; dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, bicycloheptane Alicyclic isocyanate compounds such as triisocyanate, cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, and hydrogenated xylylene diisocyanate; acyclic aliphatic isocyanates such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate Can be mentioned.

また、これらの化合物の、ビウレット体、イソシアヌレート体や、これらの化合物と、エチレングリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の非芳香族性低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体などの変性体も架橋剤として用いることができる。イソシアネート系架橋剤(a2)を構成する上記のポリイソシアネート化合物は一種類であってもよいし、複数種類であってもよい。   Also, biuret bodies, isocyanurate bodies of these compounds, adduct bodies that are reaction products of these compounds with non-aromatic low-molecular active hydrogen-containing compounds such as ethylene glycol, trimethylolpropane, castor oil, etc. The modified product can also be used as a crosslinking agent. The polyisocyanate compound constituting the isocyanate-based crosslinking agent (a2) may be one type or a plurality of types.

粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)が有するイソシアネート基の総量(単位:mol)の、上記の粘着剤組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)以外の成分が有する水酸基の総量(単位:mol)に対する比率(本明細書において「NCO/OH比」という。)は4以上15以下である。なお、上記のイソシアネート基の総量は、イソシアネート系架橋剤(a2)に含有されるポリイソシアネート化合物が有するイソシアネート基の質量比率(単位:質量%)であるNCO含有率と上記の粘着剤組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)の質量とから求めることができる。また、上記の水酸基の総量は、JIS K1557−1:2007(ISO 14900:2001)に準拠した中和滴定法を実施することによって求めた、上記の粘着剤組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)以外の成分全体の水酸基価(単位:mgKOH/g、本明細書において「架橋性水酸基価」ともいう。)から求めることができる。   Isocyanate-based crosslinking contained in the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition of the total amount (unit: mol) of isocyanate groups contained in the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 The ratio (referred to as “NCO / OH ratio” in this specification) with respect to the total amount (unit: mol) of hydroxyl groups of the components other than the agent (a2) is 4 or more and 15 or less. In addition, the total amount of the above-mentioned isocyanate groups is based on the NCO content, which is a mass ratio (unit: mass%) of the isocyanate groups contained in the polyisocyanate compound contained in the isocyanate-based crosslinking agent (a2), and the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition. It can obtain | require from the mass of the isocyanate type crosslinking agent (a2) contained. In addition, the total amount of the hydroxyl group is determined by carrying out a neutralization titration method based on JIS K1557-1: 2007 (ISO 14900: 2001), and is an isocyanate-based crosslinking agent contained in the pressure-sensitive adhesive composition. It can be determined from the hydroxyl value of all components other than (a2) (unit: mg KOH / g, also referred to as “crosslinkable hydroxyl value” in the present specification).

NCO/OH比が4以上であれば、基材2と粘着剤層3との界面部に前述の相互作用が生じる可能性が高まり、キーイングが向上し、粘着剤残着現象が生じる可能性は低減される。粘着剤残着現象が生じる可能性をより安定的に低減させる観点から、NCO/OH比は5以上とすることが好ましい。一方、NCO/OH比が15を超えると、粘着剤層3の粘着性が低下してモールドチップ飛散が生じる可能性が高まる。このモールドチップ飛散が生じる可能性をより安定的に低減させる観点から、NCO/OH比を12以下とすることが好ましい。   If the NCO / OH ratio is 4 or more, the possibility of the above-mentioned interaction occurring at the interface between the base material 2 and the pressure-sensitive adhesive layer 3 is increased, and the keying is improved, and the possibility of the pressure-sensitive adhesive sticking phenomenon occurring. Reduced. From the viewpoint of more stably reducing the possibility of the adhesive sticking phenomenon, the NCO / OH ratio is preferably 5 or more. On the other hand, when the NCO / OH ratio exceeds 15, the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 is lowered, and the possibility of mold chip scattering is increased. From the viewpoint of more stably reducing the possibility of this mold chip scattering, the NCO / OH ratio is preferably 12 or less.

粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)の含有量は特に限定されない。かかる含有量を、水酸基を有する重合体(a1)100質量部に対して2質量部以上14質量部以下とすれば、NCO/OH比を上記の範囲(4〜15)に設定することが容易となり、粘着剤残着現象およびモールドチップ飛散の双方についてより安定的に生じにくくすることができる。上記の含有量を4質量部以上12質量部以下とすることがより好ましく、6質量部以上10質量部以下とすることがさらに好ましい。なお、本明細書において、各成分の含有量を示す「質量部」は固形分としての量を意味する。   Content of the isocyanate type crosslinking agent (a2) contained in the adhesive composition for forming the adhesive layer 3 is not specifically limited. When the content is 2 parts by mass or more and 14 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymer (a1) having a hydroxyl group, the NCO / OH ratio can be easily set in the above range (4 to 15). Thus, both the adhesive sticking phenomenon and the mold chip scattering can be prevented more stably. The content is more preferably 4 parts by mass or more and 12 parts by mass or less, and further preferably 6 parts by mass or more and 10 parts by mass or less. In the present specification, “part by mass” indicating the content of each component means an amount as a solid content.

架橋性水酸基価は2mgKOH/g以上であることが好ましく、3mgKOH/g以上であることがより好ましく、4mgKOH/g以上であることが特に好ましい。架橋性水酸基価がこの範囲にあることにより、NCO/OH比を上記の範囲に調整することによって粘着剤残着現象を生じにくくすることがより容易となる。架橋性水酸基価が過度に低い場合には、NCO/OH比が上記の範囲にあっても、粘着剤組成物内のNCO基の量が過少となることが懸念される。この場合には、その粘着剤組成物から形成された粘着剤層3を備えたダイシングシート1における基材2と粘着剤層3との界面部に前述の相互作用が十分には生じず、粘着剤残着現象を生じにくくすることが困難となる。架橋性水酸基価の上限は特に限定されないが、過度に高い場合には、相対的に後述するエネルギー線重合性化合物(B)の含有量が低下することがあり、このとき、ピックアップ工程において適切にモールドチップをピックアップできなくなる不具合が発生しやすくなる。   The crosslinkable hydroxyl value is preferably 2 mgKOH / g or more, more preferably 3 mgKOH / g or more, and particularly preferably 4 mgKOH / g or more. When the crosslinkable hydroxyl value is in this range, it becomes easier to prevent the adhesive sticking phenomenon from occurring by adjusting the NCO / OH ratio to the above range. When the crosslinkable hydroxyl value is excessively low, there is a concern that the amount of NCO groups in the pressure-sensitive adhesive composition becomes too small even if the NCO / OH ratio is in the above range. In this case, the above-mentioned interaction does not sufficiently occur at the interface portion between the base material 2 and the pressure-sensitive adhesive layer 3 in the dicing sheet 1 provided with the pressure-sensitive adhesive layer 3 formed from the pressure-sensitive adhesive composition. It becomes difficult to make the agent residual phenomenon difficult to occur. The upper limit of the crosslinkable hydroxyl value is not particularly limited, but if it is excessively high, the content of the energy beam polymerizable compound (B) described later may be relatively lowered. A problem that the mold chip cannot be picked up easily occurs.

(2−1−3)エネルギー線重合性化合物(B)
本実施形態に係るダイシングシート1が備える粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物が含有するエネルギー線重合性化合物(B)は、エネルギー線重合性基を有し、紫外線、電子線等のエネルギー線の照射を受けて重合反応することができる限り、具体的な構成は特に限定されない。エネルギー線重合性化合物(B)が重合することによって粘着剤層3の貯蔵弾性率は上昇し、その結果、粘着剤層3のモールドチップに対する粘着性が低下してピックアップ工程の作業性が向上する。
(2-1-3) Energy beam polymerizable compound (B)
The energy ray-polymerizable compound (B) contained in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 provided in the dicing sheet 1 according to the present embodiment has an energy ray-polymerizable group, and includes ultraviolet rays, electron beams, and the like. The specific configuration is not particularly limited as long as the polymerization reaction can be performed by irradiation of the energy beam. When the energy ray polymerizable compound (B) is polymerized, the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer 3 is increased, and as a result, the pressure-sensitive adhesive property of the pressure-sensitive adhesive layer 3 to the mold chip is lowered and the workability of the pickup process is improved. .

エネルギー線重合性化合物(B)が有するエネルギー線重合性基の種類は特に限定されない。その具体例として、ビニル基、(メタ)アクリロイル基等のエチレン性不飽和結合を有する官能基などが挙げられる。これらの中でもエネルギー線が照射されたときの反応性の高さの観点から(メタ)アクリロイル基がより好ましい。   The kind of energy beam polymerizable group which the energy beam polymerizable compound (B) has is not particularly limited. Specific examples thereof include a functional group having an ethylenically unsaturated bond such as a vinyl group or a (meth) acryloyl group. Among these, a (meth) acryloyl group is more preferable from the viewpoint of high reactivity when irradiated with energy rays.

エネルギー線重合性化合物(B)は、エネルギー線重合性基を有する単官能モノマーおよび多官能のモノマーならびにこれらのモノマーのオリゴマーからなる群から選ばれる一種または二種以上からなる低分子量化合物(本明細書において、「低分子量化合物」と略記する。)(B1)と、主鎖または側鎖にエネルギー線重合性基を有する重合体からなるエネルギー線重合性ポリマー(B2)とに大別することができる。   The energy ray polymerizable compound (B) is a low molecular weight compound comprising one or more selected from the group consisting of monofunctional monomers and polyfunctional monomers having an energy ray polymerizable group and oligomers of these monomers (this specification) In the book, it is abbreviated as “low molecular weight compound.”) (B1) and energy beam polymerizable polymer (B2) composed of a polymer having an energy beam polymerizable group in the main chain or side chain. it can.

i)低分子量化合物(B1)
エネルギー線重合性化合物(B)が低分子量化合物(B1)を含有する場合には、低分子量化合物(B1)が後述する粘着付与樹脂(C)と同様に、粘着剤層3の可塑化を促進するため、粘着剤層3の粘着性を向上させることが容易となる。低分子量化合物(B1)の分子量は重量平均分子量(Mw)として100以上30,000以下であることが好ましい。その分子量が過度に小さい場合には、製造過程において揮発することが懸念され、このとき粘着剤層3の組成の安定性が低下する。製造過程において揮発する可能性を低減させることと粘着剤層3を可塑化する機能を高めることとをより安定的に両立させる観点から、低分子量化合物(B1)の分子量は、重量平均分子量(Mw)として200以上20,000以下とすることが好ましく、300以上10,000以下程度とすることがより好ましい。
i) Low molecular weight compound (B1)
When the energy beam polymerizable compound (B) contains the low molecular weight compound (B1), the low molecular weight compound (B1) promotes plasticization of the pressure-sensitive adhesive layer 3 in the same manner as the tackifier resin (C) described later. Therefore, it becomes easy to improve the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer 3. The molecular weight of the low molecular weight compound (B1) is preferably 100 or more and 30,000 or less as a weight average molecular weight (Mw). When the molecular weight is excessively small, there is a concern about volatilization in the manufacturing process, and at this time, the stability of the composition of the pressure-sensitive adhesive layer 3 is lowered. The molecular weight of the low molecular weight compound (B1) is determined from the weight average molecular weight (Mw) from the viewpoint of more stably reducing the possibility of volatilization during the production process and enhancing the function of plasticizing the pressure-sensitive adhesive layer 3. ) Is preferably 200 or more and 20,000 or less, and more preferably 300 or more and 10,000 or less.

低分子量化合物(B1)の具体的な組成は特に限定されない。具体例として、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートなどの鎖状骨格を有するアルキル(メタ)アクリレート;ジシクロペンタジエンジメトキシジ(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレートなどの環状骨格を有するアルキル(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、オリゴエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、イタコン酸オリゴマー等のアクリレート系化合物などが挙げられる。これらの中でも、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物に含有される前述の水酸基を有する重合体(a1)がアクリル系重合体である場合には、この重合体への相溶性の高さの観点からアクリレート系化合物が好ましい。   The specific composition of the low molecular weight compound (B1) is not particularly limited. Specific examples include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, Alkyl (meth) acrylates having a chain skeleton such as 1,4-butylene glycol di (meth) acrylate and 1,6-hexanediol di (meth) acrylate; dicyclopentadiene dimethoxydi (meth) acrylate, isobornyl (meth) Alkyl (meth) acrylates having a cyclic skeleton such as acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, oligoester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate Oligomer, an epoxy-modified (meth) acrylates, polyether (meth) acrylate, and acrylate compounds such as itaconic acid oligomer. Among these, when the polymer (a1) having the above-mentioned hydroxyl group contained in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 is an acrylic polymer, the compatibility with this polymer is high. From the viewpoint of height, an acrylate compound is preferred.

本実施形態に係る粘着剤層3における低分子量化合物(B1)の含有量は特に限定されない。かかる含有量が過度に少ない場合には、粘着剤層3内のエネルギー線重合性基の量が過度に少なくなるため、エネルギー線を照射しても粘着剤層3のモールドチップに対する粘着性が適切に低下せず、ピックアップ工程において不具合が生じる可能性が高まることが懸念される。一方、その含有量が過度に多い場合には、低分子量化合物(B1)の種類によっては、他の成分との相溶性が低下することが懸念される。したがって、前述の3工程のいずれにおいても不具合が生じる可能性を低減させる観点から、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物における低分子量化合物(B1)の含有量は、水酸基を有する重合体(a1)100質量部に対して50質量部以上150質量部以下とすることが好ましく、75質量部以上125質量部以下とすることがより好ましい。   Content of the low molecular weight compound (B1) in the adhesive layer 3 which concerns on this embodiment is not specifically limited. When the content is excessively small, the amount of the energy beam polymerizable group in the pressure-sensitive adhesive layer 3 is excessively small. There is a concern that the possibility of problems occurring in the pickup process is increased. On the other hand, when the content is excessively large, depending on the type of the low molecular weight compound (B1), there is a concern that compatibility with other components may be reduced. Therefore, the content of the low molecular weight compound (B1) in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 is selected from the viewpoint of reducing the possibility of occurrence of problems in any of the three steps described above. It is preferable to set it as 50 to 150 mass parts with respect to 100 mass parts of unification | combination (a1), and it is more preferable to set it as 75 to 125 mass parts.

ii)エネルギー線重合性ポリマー(B2)
エネルギー線重合性ポリマー(B2)はエネルギー線重合性基を有する重合体である。エネルギー線重合性ポリマー(B2)の具体的な構造は限定されないが、エネルギー線重合型ポリマー(B2)は水酸基を有する重合体(a1)の性質を有することができる。この場合、エネルギー線重合性ポリマー(B2)が水酸基などイソシアネート基と反応しうる官能基を有し、イソシアネート系架橋剤(a2)と反応して重合体の架橋物(A)を形成する。このようにエネルギー線重合性ポリマー(B2)が水酸基を有する重合体(a1)としての性質を有する場合には、粘着剤層3の製造工程が簡素化される、粘着剤層3内に存在するエネルギー線重合性基の量を制御しやすいなどの利点を有する。また、この場合は、別途水酸基を有する重合体(a1)を含有していなくてもよい。なお、このようにエネルギー線重合性ポリマー(B2)が水酸基を有する重合体(a1)としての性質を有する場合には、「水酸基を有する重合体(a1)100質量部」とは、水酸基を有する重合体(a1)および水酸基を有する重合体(a1)としての性質を有するエネルギー線重合性ポリマー(B2)の総含有量100質量部を意味する。
ii) Energy beam polymerizable polymer (B2)
The energy beam polymerizable polymer (B2) is a polymer having an energy beam polymerizable group. Although the specific structure of energy beam polymerizable polymer (B2) is not limited, energy beam polymerization type polymer (B2) can have the property of the polymer (a1) which has a hydroxyl group. In this case, the energy beam polymerizable polymer (B2) has a functional group capable of reacting with an isocyanate group such as a hydroxyl group, and reacts with the isocyanate-based crosslinking agent (a2) to form a crosslinked product (A) of the polymer. Thus, when the energy beam polymerizable polymer (B2) has properties as a polymer (a1) having a hydroxyl group, the production process of the pressure-sensitive adhesive layer 3 is simplified, and exists in the pressure-sensitive adhesive layer 3. There are advantages such as easy control of the amount of the energy beam polymerizable group. In this case, the polymer (a1) having a hydroxyl group may not be contained separately. In addition, when the energy beam polymerizable polymer (B2) has properties as a polymer (a1) having a hydroxyl group, “100 parts by mass of the polymer having a hydroxyl group (a1)” has a hydroxyl group. It means 100 parts by mass of the total content of the energy beam polymerizable polymer (B2) having properties as the polymer (a1) and the polymer (a1) having a hydroxyl group.

エネルギー線重合性ポリマー(B2)の分子量は、重量平均分子量(Mw)として30,000程度よりも大きい。かかるエネルギー線重合性ポリマー(B2)は、水酸基を有する重合体(a1)同様に粘着剤主剤の一般的な機能である粘着剤層3の凝集性を維持する効果を生じさせるものであり、このような効果は分子量が高いほど、より発揮される。一方で、エネルギー線重合性ポリマー(B2)の分子量が過度に大きい場合には、粘着剤層3を製造するにあたり薄層化することが困難となるなどの問題が生じる可能性が高まる。したがって、エネルギー線重合性ポリマー(B2)の重量平均分子量(Mw)は、10万超200万以下程度であることが好ましく、20万以上150万以下程度であることがより好ましい。   The molecular weight of the energy beam polymerizable polymer (B2) is greater than about 30,000 as the weight average molecular weight (Mw). Such an energy ray polymerizable polymer (B2) produces an effect of maintaining the cohesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 which is a general function of the pressure-sensitive adhesive main component, similarly to the polymer (a1) having a hydroxyl group. Such an effect is more exhibited as the molecular weight is higher. On the other hand, when the molecular weight of the energy beam polymerizable polymer (B2) is excessively large, there is a high possibility that problems such as difficulty in thinning the pressure-sensitive adhesive layer 3 will occur. Accordingly, the weight average molecular weight (Mw) of the energy beam polymerizable polymer (B2) is preferably about 100,000 to 2,000,000, more preferably about 200,000 to 1,500,000.

エネルギー線重合性ポリマー(B2)が(メタ)アクリレートに基づく構成単位を骨格に有するものである場合には、例えば次のような方法で調製することができる。水酸基、カルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基を含有する(メタ)アクリレートに基づく構成単位およびアルキル(メタ)アクリレートに基づく構成単位を有するアクリル系重合体と、上記の官能基と反応しうる置換基およびエネルギー線重合性基を1分子毎に1〜5個を有する化合物とを反応させることにより、上記のアクリル系重合体にエネルギー線重合性基を付加させることができる。   When the energy beam polymerizable polymer (B2) has a structural unit based on (meth) acrylate in the skeleton, it can be prepared, for example, by the following method. An acrylic polymer having a structural unit based on (meth) acrylate and a structural unit based on alkyl (meth) acrylate containing a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a substituted amino group, and an epoxy group, and the above-mentioned functional group An energy ray polymerizable group can be added to the acrylic polymer by reacting with a compound having 1 to 5 substituents capable of reacting with a group and energy ray polymerizable groups per molecule. .

エネルギー線重合性化合物(B)を重合させるためのエネルギー線としては、電離放射線、すなわち、X線、紫外線、電子線などが挙げられる。これらのうちでも、比較的照射設備の導入の容易な紫外線が好ましい。   Examples of the energy beam for polymerizing the energy beam polymerizable compound (B) include ionizing radiation, that is, X-rays, ultraviolet rays, and electron beams. Among these, ultraviolet rays that are relatively easy to introduce irradiation equipment are preferable.

電離放射線として紫外線を用いる場合には、取り扱いのしやすさから波長200〜380nm程度の紫外線を含む近紫外線を用いればよい。紫外線量としては、エネルギー線重合性化合物(B)の種類や粘着剤層3の厚さに応じて適宜選択すればよく、通常50〜500mJ/cm程度であり、100〜450mJ/cmが好ましく、200〜400mJ/cmがより好ましい。また、紫外線照度は、通常50〜500mW/cm程度であり、100〜450mW/cmが好ましく、200〜400mW/cmがより好ましい。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、発光ダイオードなどが用いられる。 When ultraviolet rays are used as the ionizing radiation, near ultraviolet rays including ultraviolet rays having a wavelength of about 200 to 380 nm may be used for ease of handling. What is necessary is just to select suitably according to the kind of energy-beam polymeric compound (B) and the thickness of the adhesive layer 3, and it is about 50-500 mJ / cm < 2 > normally, and the amount of ultraviolet rays is 100-450 mJ / cm < 2 >. 200 to 400 mJ / cm 2 is more preferable. Moreover, ultraviolet illuminance is about 50-500 mW / cm < 2 > normally, 100-450 mW / cm < 2 > is preferable and 200-400 mW / cm < 2 > is more preferable. There is no restriction | limiting in particular as an ultraviolet-ray source, For example, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a light emitting diode etc. are used.

電離放射線として電子線を用いる場合には、その加速電圧については、エネルギー線重合性化合物(B)の種類や粘着剤層3の厚さに応じて適宜選定すればよく、通常加速電圧10〜1000kV程度であることが好ましい。また、照射線量は、エネルギー線重合性化合物(B)が適切に硬化する範囲に設定すればよく、通常10〜1000kradの範囲で選定される。電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器を用いることができる。   When an electron beam is used as the ionizing radiation, the acceleration voltage may be appropriately selected according to the type of the energy beam polymerizable compound (B) and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 3, and usually an acceleration voltage of 10 to 1000 kV. It is preferable that it is a grade. Moreover, what is necessary is just to set an irradiation dose to the range which an energy-beam polymeric compound (B) hardens | cures appropriately, and is normally selected in the range of 10-1000 krad. The electron beam source is not particularly limited, and for example, various electron beam accelerators such as a Cockloft Walton type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type are used. be able to.

(2−1−4)粘着付与樹脂(C)
本実施形態に係る粘着剤層3に含有される粘着付与樹脂(C)の具体的な種類は限定されない。粘着付与樹脂(C)として、ロジンおよびその誘導体(具体例として重合化ロジン、エステル化ロジン、重合ロジンエステル、不均化ロジン、およびこれらの水素添加樹脂が挙げられる。)等のロジン系粘着付与樹脂;αピネン樹脂、βピネン樹脂、テルペンフェノール樹脂、テルペンとスチレンとの共重合体等のテルペン系粘着付与樹脂;C系石油樹脂、C系石油樹脂、C/C系石油樹脂およびこれらの水素添加樹脂等の石油系樹脂;クマロン樹脂;アルキルフェノール樹脂;キシレン樹脂などが例示される。分子量が数百から数千のオリゴマーからなる粘着付与樹脂(C)を含有することにより、通常、粘着剤層3の粘弾性測定により求められる損失正接が極大値を示す温度は高まる一方、この温度よりも高い温度における貯蔵弾性率は低下して、粘着剤層3の粘着性が増加する。かかる粘着性増加の効果をより効率的に得、ダイシング工程やエキスパンド工程におけるモールドチップ飛散の発生を抑制する観点から、上記の粘着付与樹脂の中でも、ロジン系粘着付与樹脂およびテルペン系粘着付与樹脂から選ばれる1種単独または両者の混合物が粘着付与樹脂(C)を構成する材料として好ましい。
(2-1-4) Tackifying resin (C)
The specific kind of tackifying resin (C) contained in the pressure-sensitive adhesive layer 3 according to this embodiment is not limited. Examples of the tackifier resin (C) include rosin-based tackifiers such as rosin and derivatives thereof (specific examples include polymerized rosin, esterified rosin, polymerized rosin ester, disproportionated rosin, and hydrogenated resins thereof). resin; alpha pinene resins, beta-pinene resins, terpene phenol resins, terpene-based tackifying resins and copolymers of terpene and styrene; C 5 petroleum resins, C 9 petroleum resins, C 5 / C 9 petroleum resins And petroleum resins such as hydrogenated resins; coumarone resins; alkylphenol resins; xylene resins. By containing a tackifier resin (C) comprising an oligomer having a molecular weight of several hundred to several thousand, the temperature at which the loss tangent determined by the viscoelasticity measurement of the pressure-sensitive adhesive layer 3 usually shows a maximum value is increased. The storage elastic modulus at a higher temperature is lowered, and the tackiness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 is increased. From the viewpoint of obtaining the effect of increasing the tackiness more efficiently and suppressing the occurrence of mold chip scattering in the dicing process and the expanding process, among the above tackifying resins, from rosin-based tackifying resins and terpene-based tackifying resins. One kind selected or a mixture of both is preferable as a material constituting the tackifier resin (C).

粘着付与樹脂(C)の含有量は、粘着剤層3に求められる粘着性、貯蔵弾性率などに応じて適宜設定される。基本的な傾向として、粘着付与樹脂(C)の含有量が過度に少ない場合には粘着性を高めることが困難となり、逆に含有量が過度に多い場合には粘着剤層3を構成する他の成分との相溶性が低下し、粘着性にばらつきが生じたり、エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(本明細書において「照射前貯蔵弾性率」ともいう。)G’が過度に低くなったりする。粘着性のばらつきを抑え、照射前貯蔵弾性率G’を適切な範囲にすることを容易にする観点から、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物における粘着付与樹脂(C)の含有量は、水酸基を有する重合体(a1)100質量部に対して15質量部以上200質量部以下であることが好ましく、30質量部以上150質量部以下であることがより好ましく、50質量部以上100質量部以下であることが特に好ましい。 Content of tackifying resin (C) is suitably set according to the adhesiveness calculated | required by the adhesive layer 3, a storage elastic modulus, etc. As a basic tendency, when the content of the tackifying resin (C) is excessively small, it is difficult to increase the tackiness, and conversely, when the content is excessively large, the adhesive layer 3 is constituted. The compatibility with the other components decreases, the adhesiveness varies, and the storage elastic modulus before energy ray irradiation (also referred to as “storage elastic modulus before irradiation” in this specification) G ′ p becomes excessively low. Or The tackifier resin (C) in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 from the viewpoint of suppressing variation in the pressure-sensitive adhesive property and facilitating making the pre-irradiation storage elastic modulus G ′ p within an appropriate range. The content is preferably 15 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or more and 150 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the polymer (a1) having a hydroxyl group, and 50 parts by mass. The amount is particularly preferably 100 parts by mass or less.

粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物がエネルギー線重合性基を有する低分子量化合物(B1)を含有する場合には、当該化合物が粘着付与樹脂(C)と同様の機能(粘着剤層3の可塑化)を発揮する場合があるため、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物におけるエネルギー線重合性基を有する低分子量化合物(B1)の含有量と粘着付与樹脂(C)の含有量との総和を、水酸基を有する重合体(a1)100質量部に対して100質量部以上とすることが好ましく、120質量部以上300質量部以下とすることがより好ましく、150質量部以上250質量部以下とすることがさらに好ましい。   When the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 contains a low molecular weight compound (B1) having an energy ray polymerizable group, the compound has the same function as the tackifier resin (C) (pressure-sensitive adhesive). In some cases, the content of the low molecular weight compound (B1) having an energy ray polymerizable group in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 and the tackifier resin (C ) Content is preferably 100 parts by mass or more, more preferably 120 parts by mass or more and 300 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing polymer (a1). More preferably, it is at least 250 parts by mass.

(2−1−5)その他の成分
本実施形態に係るダイシングシート1が備える粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物は、上記の成分に加えて、架橋促進剤、光重合開始剤、染料や顔料などの着色材料、難燃剤、フィラー等の各種添加剤を含有してもよい。
(2-1-5) Other components The pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 included in the dicing sheet 1 according to the present embodiment includes a crosslinking accelerator and a photopolymerization initiator in addition to the above components. Further, coloring materials such as dyes and pigments, various additives such as flame retardants and fillers may be contained.

粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物から粘着剤層3を形成するにあたり、イソシアネート系架橋剤(a2)のイソシアネート基と水酸基などイソシアネート基に対する反応性を有する官能基との反応が行われることから、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物は有機スズ化合物などの有機金属化合物系の架橋促進剤を含有することが好ましい。   In forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 from the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3, the isocyanate group of the isocyanate-based crosslinking agent (a2) reacts with a functional group having reactivity with respect to the isocyanate group such as a hydroxyl group. Therefore, the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 preferably contains an organic metal compound-based crosslinking accelerator such as an organic tin compound.

光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、チタノセン化合物、チオキサントン化合物、パーオキサイド化合物等の光開始剤、アミンやキノン等の光増感剤などが挙げられ、具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどが例示できる。エネルギー線として紫外線を用いる場合には、光重合開始剤を配合することにより照射時間、照射量を少なくすることができる。   Examples of photopolymerization initiators include photoinitiators such as benzoin compounds, acetophenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanocene compounds, thioxanthone compounds, and peroxide compounds, and photosensitizers such as amines and quinones. 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyldiphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone Examples include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. When ultraviolet rays are used as energy rays, the irradiation time and irradiation amount can be reduced by blending a photopolymerization initiator.

(2−2)粘着剤層の物性等
上記の粘着剤組成物から形成された粘着剤層3は、上記の粘着剤組成物に含有される水酸基を有する重合体(a1)とイソシアネート系架橋剤(a2)とが架橋反応を生じるため、前述のように重合体の架橋物(A)を含有する。
また、基材2と粘着剤層3との界面部では、粘着剤層3が有するイソシアネート基(このイソシアネート基は、上記の粘着剤組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)に基づく。)が関与する相互作用が生じやすく、この相互作用に基づき、上記の粘着剤組成物から形成された粘着剤層3は基材2との間で層間剥離が生じにくくなる。
さらに、粘着剤層3は、上記の粘着剤組成物に含有される粘着付与樹脂(C)などに基づきエネルギー線照射前の粘着性が高く、エネルギー線重合性化合物(B)に基づきエネルギー線照射後の粘着性が低い。
以下、粘着剤層3の物性や形状の特徴について詳説する。なお、粘着剤組成物から粘着剤層3を形成する方法については後述する。
(2-2) Physical properties of pressure-sensitive adhesive layer The pressure-sensitive adhesive layer 3 formed from the pressure-sensitive adhesive composition comprises a polymer (a1) having a hydroxyl group contained in the pressure-sensitive adhesive composition and an isocyanate crosslinking agent. Since (a2) causes a crosslinking reaction, it contains the crosslinked polymer (A) as described above.
Moreover, in the interface part of the base material 2 and the adhesive layer 3, the isocyanate group which this adhesive layer 3 has (this isocyanate group is based on the isocyanate type crosslinking agent (a2) contained in said adhesive composition. ) Is likely to occur, and based on this interaction, the pressure-sensitive adhesive layer 3 formed from the above-described pressure-sensitive adhesive composition is less likely to delaminate between the substrate 2.
Further, the pressure-sensitive adhesive layer 3 has high tackiness before energy beam irradiation based on the tackifier resin (C) contained in the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition, and energy beam irradiation based on the energy beam polymerizable compound (B). Later stickiness is low.
Hereinafter, the physical properties and shape characteristics of the pressure-sensitive adhesive layer 3 will be described in detail. A method for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 from the pressure-sensitive adhesive composition will be described later.

(2−2−1)照射前貯蔵弾性率
本実施形態に係るダイシングシート1が備える粘着剤層3は、照射前貯蔵弾性率G’が0.01MPa以上であることが好ましい。照射前貯蔵弾性率G’がこの範囲を満たすことによって、粘着剤層3が過度に軟質となってダイシング工程中にモールドチップが飛散はしないもののずれが生じてしまうなどの問題が生じる可能性を安定的に低減させることができる。上記の問題が生じる可能性をより安定的に低減させる観点から、照射前貯蔵弾性率G’は0.03MPa以上であることが好ましい。照射前貯蔵弾性率G’の上限は特に限定されないが、照射前貯蔵弾性率G’が過度に高い場合には、粘着性、特にエネルギー線照射前の粘着性が低くなり、結果的に次に説明する粘着力比の要請を満たすことが困難となる。粘着力比を下記の範囲に制御することを安定的に実現する観点から、照射前貯蔵弾性率G’は0.12MPa以下とすることが好ましく、0.09MPa以下とすることがより好ましい。なお、上記の照射前貯蔵弾性率は、例えば、公知の粘弾性測定装置(ティー・エイ・インスツルメント社製、ARES)を用いて測定することができる。また、その測定にあたっては、実施例において後述するように、粘着剤層3を構成する材料からなる厚さ1mm程度の層状体を被測定物とすることが、測定結果のばらつきを少なくする観点から好ましい。
(2-2-1) Storage modulus before irradiation The pressure-sensitive adhesive layer 3 included in the dicing sheet 1 according to the present embodiment preferably has a storage modulus G ′ p before irradiation of 0.01 MPa or more. When the pre-irradiation storage elastic modulus G ′ p satisfies this range, the pressure-sensitive adhesive layer 3 becomes excessively soft, and the mold chip may not be scattered during the dicing process, but may cause a problem such as deviation. Can be stably reduced. From the viewpoint of more stably reducing the possibility of the above problem, the storage elastic modulus G ′ p before irradiation is preferably 0.03 MPa or more. Before irradiation storage modulus G 'maximum p is not particularly limited, before the storage modulus G irradiation' when the excessively high p is sticky, become especially sticky before energy ray irradiation is low, resulting in It becomes difficult to satisfy the demand for the adhesive force ratio described below. From the viewpoint of stably realizing the adhesive force ratio within the following range, the storage elastic modulus G ′ p before irradiation is preferably 0.12 MPa or less, and more preferably 0.09 MPa or less. The pre-irradiation storage elastic modulus can be measured using, for example, a known viscoelasticity measuring device (ARES, manufactured by TA Instruments Inc.). In the measurement, as will be described later in the examples, a layered body having a thickness of about 1 mm made of the material constituting the pressure-sensitive adhesive layer 3 is used as a measurement object from the viewpoint of reducing variation in measurement results. preferable.

(2−2−2)粘着力比
本明細書において、粘着力比とは、本実施形態に係るダイシングシート1が備える粘着剤層3における基材2に対向する側と反対側の露出面を測定対象面、半導体パッケージの樹脂封止面を被着面として、JIS Z0237:2009(ISO 29862−29864:2007)に準拠して、180°引き剥がし試験を行ったときに測定されるダイシングシート1の粘着力について、エネルギー線照射前の状態における粘着力(以下、「照射前粘着力」ともいう。)の、エネルギー線照射後の状態における粘着力(以下、「照射後粘着力」ともいう。)に対する比(前/後)を意味する。本実施形態に係るダイシングシート1の粘着力比は3以上であることが好ましい。粘着力比がかかる範囲であることにより、ダイシング工程やエキスパンド工程においてモールドチップ飛散が生じる可能性を低減させつつ、ピックアップ工程においてピックアップ不良が生じる可能性を低減させることが実現される。粘着力比が3未満の場合には、照射前粘着力を高く維持することが困難となるためにモールドチップ飛散が発生しやすくなったり、照射後粘着力を低く維持することが困難となるためにピックアップ不良が発生しやすくなったりする。粘着力比の上限は特に設定されない。粘着剤層3のエネルギー線照射による重合の際に生じる体積収縮の程度は、粘着力比と正の相関関係にあるため、粘着力比が過度に高い場合には、モールドチップが粘着剤層3のこの重合時に移動する不具合が発生することが懸念される。したがって、通常は、粘着力比は20以下とすることが好ましく、13以下とすることがより好ましく、10以下とすることが特に好ましい。
(2-2-2) Adhesive strength ratio In this specification, the adhesive strength ratio refers to the exposed surface opposite to the side facing the substrate 2 in the adhesive layer 3 provided in the dicing sheet 1 according to the present embodiment. Dicing sheet 1 measured when a 180 ° peel test is performed in accordance with JIS Z0237: 2009 (ISO 29862-29864: 2007) with the measurement target surface and the resin sealing surface of the semiconductor package as the adherend surface The adhesive strength before irradiation with energy rays (hereinafter also referred to as “pre-irradiation adhesive strength”) and the adhesive strength after irradiation with energy rays (hereinafter referred to as “post-irradiation adhesive strength”). ) Ratio (before / after). It is preferable that the adhesive strength ratio of the dicing sheet 1 according to the present embodiment is 3 or more. When the adhesive force ratio is within such a range, it is possible to reduce the possibility of pick-up failure in the pick-up process while reducing the possibility of mold chip scattering in the dicing process or the expanding process. When the adhesive strength ratio is less than 3, it becomes difficult to keep the adhesive strength before irradiation high, so that it becomes difficult for mold chip scattering to occur or the adhesive strength after irradiation becomes difficult to maintain low. It is easy for pick-up defects to occur. The upper limit of the adhesive force ratio is not particularly set. Since the degree of volume shrinkage that occurs during the polymerization of the pressure-sensitive adhesive layer 3 by irradiation with energy rays is positively correlated with the pressure-sensitive adhesive ratio, when the pressure-sensitive adhesive ratio is excessively high, the mold chip becomes the pressure-sensitive adhesive layer 3. There is a concern that a problem of migrating during this polymerization occurs. Therefore, usually, the adhesive strength ratio is preferably 20 or less, more preferably 13 or less, and particularly preferably 10 or less.

照射前粘着力および照射後粘着力のそれぞれの好適範囲は、ダイシング工程、エキスパンド工程およびピックアップ工程の具体的条件や、被着体である半導体パッケージの被着面である樹脂封止面の材質や表面状態(凹凸の程度など)に応じて適宜設定される。ダイシング工程中にモールドチップ飛散を生じにくくする観点から、通常は、照射前粘着力は500mN/25mm以上であることが好ましく、1000mN/25mm以上であることがより好ましい。また、照射後粘着力は100mN/25mm以上500mN/25mm以下であることが好ましく、200mN/25mm以上400mN/25mm以下であることがより好ましい。   The preferable ranges of the adhesive strength before irradiation and the adhesive strength after irradiation are the specific conditions of the dicing process, the expanding process and the picking process, the material of the resin sealing surface which is the adherend surface of the semiconductor package as the adherend, It is appropriately set according to the surface state (such as the degree of unevenness). From the viewpoint of making mold chip scattering difficult to occur during the dicing step, usually, the adhesive strength before irradiation is preferably 500 mN / 25 mm or more, and more preferably 1000 mN / 25 mm or more. The post-irradiation adhesive strength is preferably 100 mN / 25 mm or more and 500 mN / 25 mm or less, and more preferably 200 mN / 25 mm or more and 400 mN / 25 mm or less.

(2−2−3)厚さ
本実施形態に係るダイシングシート1が備える粘着剤層3の厚さは特に限定されない。過度に薄い場合には粘着性にばらつきが発生しやすくなり、過度に厚い場合には粘着性が過度に高まって粘着力比を前述の範囲に制御することが困難となったり、ピックアップ時に粘着剤層3内部で凝集破壊が生じる可能性が高まったりすることが懸念される。こうした問題が生じる可能性を安定的に低減させる観点から、粘着剤層3の厚さは、2μm以上50μm以下とすることが好ましく、5μm以上35μm以下とすることがより好ましく、5μm以上20μm以下とすることが特に好ましい。
(2-2-3) Thickness The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 included in the dicing sheet 1 according to the present embodiment is not particularly limited. If it is excessively thin, the adhesiveness tends to vary, and if it is excessively thick, the adhesiveness is excessively increased, making it difficult to control the adhesive force ratio within the above-mentioned range. There is a concern that the possibility of cohesive failure occurring inside the layer 3 is increased. From the viewpoint of stably reducing the possibility of such problems, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 3 is preferably 2 μm or more and 50 μm or less, more preferably 5 μm or more and 35 μm or less, and 5 μm or more and 20 μm or less. It is particularly preferable to do this.

(3)剥離シート
本実施形態に係るダイシングシート1は、粘着剤層3を被着体である半導体パッケージに貼付するまでの間において粘着剤層3を保護する目的で、粘着剤層3の被粘着処理面に対向する側と反対側の面に、剥離シートの剥離面が貼合されていてもよい。剥離シートの構成は任意であり、プラスチックフィルムに剥離剤を塗布したものが例示される。プラスチックフィルムの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、およびポリプロピレンやポリエチレンなどのポリオレフィンフィルムが挙げられる。剥離剤としては、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系などを用いることができるが、これらの中で、安価で安定した性能が得られるシリコーン系が好ましい。上記の剥離シートのプラスチックフィルムに代えて、グラシン紙、コート紙、上質紙などの紙基材または紙基材にポリエチレンなどの熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙を用いてもよい。該剥離シートの厚さについては特に制限はないが、通常20μm以上250μm以下程度である。
(3) Release sheet The dicing sheet 1 according to this embodiment is a cover for the pressure-sensitive adhesive layer 3 for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive layer 3 until the pressure-sensitive adhesive layer 3 is attached to a semiconductor package as an adherend. The release surface of the release sheet may be bonded to the surface opposite to the side facing the adhesive treatment surface. The configuration of the release sheet is arbitrary, and examples include a plastic film coated with a release agent. Specific examples of the plastic film include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and polyolefin films such as polypropylene and polyethylene. As the release agent, silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based, and the like can be used, and among these, a silicone-based material that is inexpensive and provides stable performance is preferable. Instead of the plastic film of the release sheet, a paper base such as glassine paper, coated paper, and high-quality paper, or a laminated paper obtained by laminating a thermoplastic resin such as polyethylene on a paper base may be used. Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of this peeling sheet, Usually, they are about 20 micrometers or more and 250 micrometers or less.

2.ダイシングシートの製造方法
ダイシングシート1は、一例として、基材2の被粘着処理面に、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物を含む塗工用組成物を塗布し、得られた塗膜を乾燥することによって製造することができる。
塗工用組成物の組成は、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物を含む限り特に限定されない。一例を挙げれば、塗工用組成物は、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物を含有し、塗布工程のハンドリング性や塗膜のレべリング性を向上させる観点からさらに溶媒を含有する。塗工用組成物が溶媒を含む場合における溶媒の種類は特に限定されないが、粘着剤層3を形成するための粘着剤組成物がイソシアネート系架橋剤(a2)を含有することから、水酸基、アミノ基などイソシアネート基に対する反応性が高い基を有さない有機物質からなることが好ましい。
上記の塗工用組成物を、基材2の被粘着処理面上に、ロッドコーター、ダイコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、スリットコーター、ナイフコーター等により塗布し、得られた被粘着処理面上の塗膜を乾燥させることにより、粘着剤層3を形成することができる。塗工用組成物は、塗布を行うことが可能であればその性状は特に限定されず、粘着剤層3を形成するための成分を溶質として含有する場合もあれば、分散質として含有する場合もある。また、上記の乾燥条件(温度、時間など)を調整することにより、または別途架橋のための加熱処理を設けることにより、粘着剤層3内のイソシアネート系架橋剤(a2)と水酸基を有する重合体(a1)および基材2の被粘着処理面に存在するイソシアネート反応性基との反応を進ませることができる。この反応を十分に進行させるために、上記の方法などによって基材2に粘着剤層3を積層させた後、得られたダイシングシート1を、例えば23℃、相対湿度50%の環境下に数日間静置するといった養生を行ってもよい。
2. Dicing Sheet Manufacturing Method As an example, the dicing sheet 1 was obtained by applying a coating composition containing a pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 on the surface to be treated of the substrate 2. It can manufacture by drying a coating film.
The composition of the coating composition is not particularly limited as long as it includes the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3. For example, the coating composition contains a pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3, and further contains a solvent from the viewpoint of improving the handling property of the coating process and the leveling property of the coating film. contains. Although the kind of solvent in the case where the composition for coating contains a solvent is not specifically limited, since the adhesive composition for forming the adhesive layer 3 contains an isocyanate type crosslinking agent (a2), a hydroxyl group, amino It is preferable that it consists of an organic substance which does not have a group with high reactivity with respect to isocyanate groups, such as group.
On the adherend treated surface obtained by applying the above coating composition on the adherend treated surface of the substrate 2 with a rod coater, die coater, curtain coater, spray coater, slit coater, knife coater or the like. The pressure-sensitive adhesive layer 3 can be formed by drying the coating film. The properties of the coating composition are not particularly limited as long as it can be applied. The composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 may be contained as a solute, or may be contained as a dispersoid. There is also. Moreover, the polymer which has the isocyanate type crosslinking agent (a2) in the adhesive layer 3 and a hydroxyl group by adjusting said drying conditions (temperature, time, etc.) or providing the heat processing for bridge | crosslinking separately. The reaction with (a1) and the isocyanate-reactive group present on the adherend treated surface of the substrate 2 can proceed. In order to make this reaction sufficiently proceed, after the pressure-sensitive adhesive layer 3 is laminated on the base material 2 by the above-described method or the like, the obtained dicing sheet 1 is placed in an environment of 23 ° C. and 50% relative humidity, for example. Curing may be performed such as standing for days.

あるいは、上記の剥離シートの剥離面上に塗工用組成物を塗布して塗膜を形成し、これを乾燥させて粘着剤層3と剥離シートとからなる積層体を形成し、この積層体の粘着剤層3における剥離シートに対向する側と反対側の面を基材2の被粘着処理面に貼付して、ダイシングシート1と剥離シートとの積層体を得てもよい。この積層体における剥離シートは工程材料として剥離してもよいし、半導体パッケージに貼付するまでの間粘着剤層3を保護していてもよい。   Alternatively, the coating composition is applied onto the release surface of the release sheet to form a coating film, which is dried to form a laminate composed of the pressure-sensitive adhesive layer 3 and the release sheet. A surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3 opposite to the side facing the release sheet may be attached to the surface to be treated of the substrate 2 to obtain a laminate of the dicing sheet 1 and the release sheet. The release sheet in this laminate may be peeled off as a process material, or may protect the pressure-sensitive adhesive layer 3 until being attached to the semiconductor package.

3.モールドチップの製造方法
続いて、本実施形態に係るダイシングシート1を用いて、半導体パッケージからモールドチップを製造する方法について説明する。
本実施形態に係るダイシングシート1は、使用にあたり、粘着剤層3側の面(かかる面に剥離シートが貼付されている場合には、剥離シートを剥離することによりこれを表出させる。)を半導体パッケージの樹脂封止面に貼付する。ダイシングシート1の外周部は、通常その部分に設けられた粘着剤層3により、リングフレームと呼ばれる搬送や装置への固定のための環状の冶具に貼付される。粘着剤層3が粘着付与樹脂(C)などを含有するため、ダイシングシート1の照射前粘着力は高められている。それゆえ、ダイシングシート1に貼付された半導体パッケージをダイシング工程に供しても、半導体パッケージが個片化されてなるモールドチップが加工中に飛散する可能性は低減されている。なお、半導体パッケージは上述のとおり基台の集合体の各基台上に半導体チップを搭載し、これらの半導体チップを一括して樹脂封止した電子部品集合体であるが、通常基板面と樹脂封止面を有し、その厚さは200〜2000μm程度である。樹脂封止面は表面の算術平均粗さRaが0.5〜10μm程度と粗く、また、封止装置の型からの取り出しを容易とするため、封止材料が離型成分を含有していることがあるために、ダイシングシートの粘着剤層を樹脂封止面に貼付しても、十分な固定性能が発揮されない傾向がある。また、ダイシング工程により形成されるモールドチップのサイズは通常10mm×10mm以下であり、近年は5mm×5mm以下、さらには1mm×1mm程度とされる場合もあるが、本実施形態に係るダイシングシート1は、好ましい一態様では照射前粘着力が十分に高いため、そのようなファインピッチのダイシングにも十分に対応することができる。
3. Next, a method of manufacturing a mold chip from a semiconductor package using the dicing sheet 1 according to the present embodiment will be described.
In use, the dicing sheet 1 according to the present embodiment has a surface on the side of the pressure-sensitive adhesive layer 3 (when a release sheet is affixed to the surface, the release sheet is peeled off to reveal it). Affixed to the resin sealing surface of the semiconductor package. The outer peripheral portion of the dicing sheet 1 is usually attached to an annular jig called a ring frame for conveyance and fixation to the apparatus by an adhesive layer 3 provided in the portion. Since the pressure-sensitive adhesive layer 3 contains a tackifier resin (C) or the like, the adhesive strength before irradiation of the dicing sheet 1 is enhanced. Therefore, even if the semiconductor package affixed to the dicing sheet 1 is subjected to a dicing process, the possibility that mold chips formed by dividing the semiconductor package into pieces will be reduced during processing. The semiconductor package is an electronic component assembly in which semiconductor chips are mounted on each base of the base assembly as described above, and these semiconductor chips are collectively sealed with resin. It has a sealing surface, and its thickness is about 200 to 2000 μm. The resin sealing surface has a rough arithmetic average roughness Ra of about 0.5 to 10 μm, and the sealing material contains a mold release component to facilitate removal from the mold of the sealing device. For this reason, even if the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing sheet is attached to the resin sealing surface, sufficient fixing performance tends not to be exhibited. In addition, the size of the mold chip formed by the dicing process is usually 10 mm × 10 mm or less, and in recent years it may be 5 mm × 5 mm or less, and further about 1 mm × 1 mm, but the dicing sheet 1 according to the present embodiment. In a preferred embodiment, since the adhesive strength before irradiation is sufficiently high, it can sufficiently cope with such fine pitch dicing.

ダイシング工程終了後、ダイシングシート1上に近接配置された複数のモールドチップをピックアップしやすいように、通常は、ダイシングシート1を主面内方向に伸張するエキスパンド工程が行われる。伸張の程度は、隣接するモールドチップが有すべき間隔、基材2の引張強度などを考慮して適宜設定すればよい。   After the dicing process is completed, an expanding process for extending the dicing sheet 1 in the main surface direction is usually performed so that a plurality of mold chips arranged close to each other on the dicing sheet 1 can be easily picked up. The degree of extension may be set as appropriate in consideration of the distance between adjacent mold chips and the tensile strength of the base material 2.

エキスパンド工程の実施により隣接配置されたモールドチップ同士が適切に離間したら、吸引コレット等の汎用手段により、粘着剤層3上のモールドチップのピックアップを行う。このピックアップ工程の実施までに、本実施形態に係るダイシングシート1の基材2側からエネルギー線照射を行えば、ダイシングシート1が備える粘着剤層3は、これに含有されるエネルギー線重合性化合物(B)の重合反応が進行して、照射後粘着力が減少する。好ましい一態様によれば、照射後粘着力は照射前粘着力の1/3以下となり、このときピックアップ工程においてピックアップできないといった不具合が生じる可能性は低減される。このエネルギー線照射の実施時期は、ダイシング工程におけるダイシング作業の終了後、ピックアップ工程の開始前であれば特に限定されない。エキスパンド工程においてモールドチップ飛散が生じる可能性を低減する観点からはエキスパンド工程後に実施することが好ましいが、エネルギー線照射による粘着剤層3が硬化することに伴って当該層は若干収縮するため、この収縮に基づく位置ずれが問題となる場合などは、エキスパンド工程の実施前にエネルギー線照射を実施してもよい。   When the adjacently disposed mold chips are appropriately separated by performing the expanding process, the mold chips on the pressure-sensitive adhesive layer 3 are picked up by a general-purpose means such as a suction collet. If the energy beam irradiation is performed from the substrate 2 side of the dicing sheet 1 according to the present embodiment before the implementation of this pickup process, the pressure-sensitive adhesive layer 3 included in the dicing sheet 1 becomes the energy beam polymerizable compound contained therein. The polymerization reaction of (B) proceeds and the adhesive strength after irradiation decreases. According to a preferred embodiment, the post-irradiation adhesive strength is 1/3 or less of the pre-irradiation adhesive strength, and the possibility of inconvenience of being unable to pick up in the pickup process is reduced. The implementation time of this energy beam irradiation will not be specifically limited if it is after the completion of the dicing operation in the dicing process and before the start of the pickup process. From the viewpoint of reducing the possibility of mold chip scattering in the expanding process, it is preferable to carry out after the expanding process. However, since the pressure-sensitive adhesive layer 3 is cured by energy ray irradiation, the layer shrinks slightly. When misalignment due to shrinkage becomes a problem, energy beam irradiation may be performed before the expanding step.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further more concretely, the scope of the present invention is not limited to these Examples etc.

〔実施例1〕
(1)塗工用組成物の調製
次の組成を有する塗工用組成物を調製した。
i)水酸基を有する重合体(a1)として、100質量部のブチルアクリレートと2質量部のアクリル酸と0.5質量部の2−ヒドロキシエチルアクリレートとを共重合して得た共重合体(重量平均分子量60万、固形分濃度40質量%)を固形分として100質量部、
ii)エネルギー線重合性化合物(B)として、6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(大日精化工業社製14−29B、重量平均分子量2000、固形分濃度80質量%)からなるアクリレート系化合物を固形分として100質量部、
iii)粘着付与樹脂(C)として、テルペンフェノール系粘着付与樹脂(ヤスハラケミカル社製ポリスターU115、固形分濃度100質量%)を固形分として62.5質量部、
iv)イソシアネート系架橋剤(a2)として、ポリイソシアネート化合物(トリレンジイソシアネ−トのトリメチロールプロパン付加物、日本ポリウレタン社製コロネートL、1分子中のイソシアネート基数3個、固形分濃度75質量%、後述するNCO含有率26質量%)を固形分として9.4質量部、および
v)光重合開始剤として、イルガキュア184(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、固形分濃度100質量%)を固形分として7.5質量部。
[Example 1]
(1) Preparation of coating composition A coating composition having the following composition was prepared.
i) As a polymer (a1) having a hydroxyl group, a copolymer obtained by copolymerizing 100 parts by mass of butyl acrylate, 2 parts by mass of acrylic acid and 0.5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (weight) 100 parts by mass with an average molecular weight of 600,000 and a solid content concentration of 40% by mass)
ii) As the energy ray polymerizable compound (B), an acrylate compound comprising a hexafunctional urethane acrylate oligomer (14-29B manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., weight average molecular weight 2000, solid content concentration 80% by mass) as a solid content is 100. Parts by mass,
iii) 62.5 parts by mass of terpene phenol-based tackifier resin (Polystar U115 manufactured by Yashara Chemical Co., Ltd., solid content concentration: 100% by mass) as the solid content as the tackifier resin (C),
iv) Polyisocyanate compound (trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, Nippon Polyurethane Coronate L, 3 isocyanate groups in one molecule, solid content concentration of 75% by mass as isocyanate-based crosslinking agent (a2) 9.4 parts by mass with an NCO content of 26% by mass described below as a solid content, and v) Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., solid content concentration of 100% by mass) as a photopolymerization initiator. As 7.5 parts by mass.

(2)ダイシングシートの作製
厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート製基材フィルムの一方の主面上に厚さ0.1μmのシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる剥離シート(リンテック社製SP−PET382120、幅長1000mm)を用意した。この剥離シートの剥離面上に、前述の塗工用組成物を、ロッドコーターにて、最終的に得られる粘着剤層の厚さが10μmとなるように塗布した。得られた塗膜を剥離シートごと80℃のオーブン内に1分間静置することにより塗膜を乾燥するとともに水酸基を有する重合体(a1)とイソシアネート系架橋剤(a2)との反応を進行させて、剥離シートと粘着剤層(厚さ10μm)とからなる積層体を得た。
厚さ140μmのエチレン−メタクリル酸共重合体(EMAA)フィルム(メタクリル酸の共重合比は、用いた単量体の全質量を基準として9質量%であり、破断伸度は26MPa、破断応力は525%であった。)からなる基材の一方の面を被粘着処理面として、その面に、上記の積層体の粘着剤層側の面を貼付して、図1に示されるような基材と粘着剤層とからなるダイシングシートを、粘着剤層側の面に剥離シートがさらに積層された状態で得た。
(2) Production of a dicing sheet A release sheet (SP-PET382120 manufactured by Lintec Corporation) in which a silicone release agent layer having a thickness of 0.1 μm is formed on one main surface of a base film made of polyethylene terephthalate having a thickness of 38 μm. , Width length 1000 mm). On the release surface of this release sheet, the aforementioned coating composition was applied with a rod coater so that the finally obtained pressure-sensitive adhesive layer had a thickness of 10 μm. The obtained coating film is allowed to stand in an oven at 80 ° C. for 1 minute together with the release sheet to dry the coating film and advance the reaction between the polymer (a1) having a hydroxyl group and the isocyanate crosslinking agent (a2). Thus, a laminate composed of a release sheet and an adhesive layer (thickness: 10 μm) was obtained.
140-μm thick ethylene-methacrylic acid copolymer (EMAA) film (the copolymerization ratio of methacrylic acid is 9% by mass based on the total mass of the monomers used, the breaking elongation is 26 MPa, and the breaking stress is 1 side of the base material made of the above-mentioned base material was treated as an adhesion-treated surface, and the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the laminate was affixed to that surface, and the base as shown in FIG. A dicing sheet comprising a material and a pressure-sensitive adhesive layer was obtained in a state where a release sheet was further laminated on the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side.

〔実施例2〕
実施例1において、塗工用組成物に含有される粘着付与樹脂(C)の含有量を固形分として25質量部に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
[Example 2]
In Example 1, the dicing sheet was obtained by performing the same operation as in Example 1 except that the content of the tackifier resin (C) contained in the coating composition was changed to 25 parts by mass as the solid content. It was.

〔実施例3〕
実施例1において、塗工用組成物に含有される粘着付与樹脂(C)の種類を石油系樹脂(三井化学社製FTR6100、固形分濃度100質量%)に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
Example 3
In Example 1, except that the type of tackifier resin (C) contained in the coating composition was changed to petroleum resin (FTR 6100 manufactured by Mitsui Chemicals, solid content concentration 100% by mass), and Example 1 The same operation was performed to obtain a dicing sheet.

〔実施例4〕
実施例1において、塗工用組成物に含有される粘着付与樹脂(C)の種類をロジンエステル系粘着付与樹脂(荒川化学工業社製KE−311、固形分濃度100質量%)に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
Example 4
In Example 1, except that the type of tackifier resin (C) contained in the coating composition was changed to a rosin ester-based tackifier resin (KE-311 manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., solid content concentration: 100% by mass). Performed the same operation as Example 1, and obtained the dicing sheet.

〔実施例5〕
実施例1において、塗工用組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)の含有量を固形分として13.2質量部に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
Example 5
In Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the content of the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the coating composition was changed to 13.2 parts by mass as a solid content, and dicing was performed. A sheet was obtained.

〔実施例6〕
実施例1において、塗工用組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)の含有量を固形分として6.6質量部に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
Example 6
In Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the content of the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the coating composition was changed to 6.6 parts by mass as a solid content, and dicing was performed. A sheet was obtained.

〔実施例7〕
実施例1において、基材を厚さ140μmのポリエチレンフィルム(破断伸度:28MPa、破断応力:580%)に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
Example 7
A dicing sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base material was changed to a polyethylene film having a thickness of 140 μm (breaking elongation: 28 MPa, breaking stress: 580%).

〔実施例8〕
実施例1において、基材を厚さ140μmの、中心金属がZnイオンであるアイオノマーフィルム(破断伸度:24MPa、破断応力:530%)に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
Example 8
The same operation as in Example 1 was performed except that the base material was changed to an ionomer film (breaking elongation: 24 MPa, breaking stress: 530%) having a thickness of 140 μm and a central metal of Zn ion in Example 1. A dicing sheet was obtained.

〔比較例1〕
実施例1において、塗工用組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)の含有量を固形分として1質量部に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
[Comparative Example 1]
In Example 1, except that the content of the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the coating composition was changed to 1 part by mass as a solid content, the same operation as in Example 1 was performed, and a dicing sheet was obtained. Obtained.

〔比較例2〕
実施例1において、塗工用組成物にエネルギー線重合性化合物(B)を含有させなかった以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
[Comparative Example 2]
In Example 1, a dicing sheet was obtained by performing the same operation as in Example 1 except that the energy ray polymerizable compound (B) was not contained in the coating composition.

〔比較例3〕
実施例1において、塗工用組成物に含有されるイソシアネート系架橋剤(a2)の含有量を固形分として27.2質量部に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ダイシングシートを得た。
[Comparative Example 3]
In Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the content of the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the coating composition was changed to 27.2 parts by mass as a solid content, and dicing was performed. A sheet was obtained.

実施例および比較例に係る塗工用組成物の組成を表1に示す。   Table 1 shows the compositions of the coating compositions according to Examples and Comparative Examples.

Figure 2014022476
Figure 2014022476

〔試験例1〕<NCO/OH比の測定>
(1)架橋性水酸基価
実施例1から9および比較例1から2に係る塗工用組成物のそれぞれの組成から、イソシアネート系架橋剤(a2)を含有させないこととして得られる組成を有する試験液、具体的には、水酸基を有する重合体(a1)、エネルギー線重合性化合物(B)、粘着付与樹脂(C)、光重合開始剤、および溶媒からなる架橋性水酸基価測定用試験液を用意した。なお、比較例2に係る試験液ではエネルギー線重合性化合物(B)を含有させなかった。
この架橋性水酸基価測定用試験液を被測定液として、JIS K1557−1:2007に準拠して中和滴定法を実施し、各試験液の架橋性水酸基価(単位:mgKOH/g)を測定した。測定結果を表2に示す。
[Test Example 1] <Measurement of NCO / OH ratio>
(1) Crosslinkable hydroxyl value Test liquid having a composition obtained by not containing the isocyanate-based crosslinking agent (a2) from the respective compositions of the coating compositions according to Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 and 2 Specifically, a test solution for measuring a crosslinkable hydroxyl value comprising a polymer (a1) having a hydroxyl group, an energy beam polymerizable compound (B), a tackifier resin (C), a photopolymerization initiator, and a solvent is prepared. did. In the test liquid according to Comparative Example 2, the energy beam polymerizable compound (B) was not contained.
Using this crosslinkable hydroxyl value measurement test solution as a solution to be measured, the neutralization titration method is carried out according to JIS K1557-1: 2007, and the crosslinkable hydroxyl value (unit: mgKOH / g) of each test solution is measured. did. The measurement results are shown in Table 2.

(2)NCO含有率
イソシアネート系架橋剤(a2)を5〜10gサンプリングしてその固形分の質量を測定した(単位:mg)のち、これをトルエン20mlに溶解し、得られた溶液に2規定のn−ジブチルアミンのトルエン溶液20ml加え、室温で15分間放置してイソシアネート系架橋剤(a2)に含まれているポリイソシアネート化合物とn−ジブチルアミンとの反応を行った。
反応終了後、自動滴定装置(京都電子社製APB−410)を用いて、得られた反応混合物の全量を1規定塩酸で逆滴定し、反応混合物中の未反応n−ジブチルアミンの中和に要する1規定塩酸の体積(試料滴定量、単位:ml)を求めた。
一方、イソシアネート系架橋剤(a2)を含有させない以外は上記と同様の操作を行い、同様に未反応n−ジブチルアミンの中和に要する1規定塩酸の体積(ブランク滴定量、単位:ml)を求めた。
以上のようにして求めた試料滴定量およびブランク滴定量より、以下の式に従ってNCO含有率を求めた。下記式から明らかなように、NCO含有率とは、イソシアネート系架橋剤(a2)に含有されるポリイソシアネート化合物が有するイソシアネート基の質量比率(単位:質量%)である。
NCO含有率=(ブランク滴定量−試料滴定量)×42/試料質量×100
(2) NCO content rate 5-10 g of the isocyanate-based crosslinking agent (a2) was sampled and the mass of the solid content was measured (unit: mg). This was dissolved in 20 ml of toluene, and 2N was obtained in the resulting solution. 20 ml of a toluene solution of n-dibutylamine was added and allowed to stand at room temperature for 15 minutes to react the polyisocyanate compound contained in the isocyanate crosslinking agent (a2) with n-dibutylamine.
After completion of the reaction, using an automatic titrator (APB-410 manufactured by Kyoto Electronics Co., Ltd.), the total amount of the obtained reaction mixture was back titrated with 1N hydrochloric acid to neutralize unreacted n-dibutylamine in the reaction mixture. The volume of 1N hydrochloric acid required (sample titration, unit: ml) was determined.
On the other hand, the same operation as described above was performed except that the isocyanate-based crosslinking agent (a2) was not included, and the volume of 1N hydrochloric acid required for neutralization of unreacted n-dibutylamine was similarly determined (blank titer, unit: ml). Asked.
From the sample titration and blank titration determined as described above, the NCO content was determined according to the following formula. As is clear from the following formula, the NCO content is the mass ratio (unit: mass%) of isocyanate groups contained in the polyisocyanate compound contained in the isocyanate-based crosslinking agent (a2).
NCO content = (blank titration−sample titration) × 42 / sample mass × 100

(3)NCO/OH比
実施例および比較例のそれぞれに対応する架橋性水酸基測定用試験液の100gあたりの架橋性水酸基のモル数MOH(単位:mol)を下記式により求めた。
OH=架橋性水酸基価/1000/KOH式量(56.1)×100
一方、実施例および比較例に係る塗工用組成物のそれぞれについて、塗工用組成物中の架橋性水酸基を与えうる成分の質量の総和が100gであるとした場合における塗工用組成物中のイソシアネート系架橋剤の質量W(単位:g)を求め、その質量Wのイソシアネート架橋剤が有するイソシアネート基のモル数MNCO(単位:mol))を下記式により算出した。
NCO=NCO含有率/100/イソシアネート基構成原子の原子量総和(42)×W
上記式により求めたモル数MOHおよびMNCOから、下記式によって、実施例および比較例に係る塗工用組成物のそれぞれについてのNCO/OH比を求めた。
NCO/OH比=MNCO/MOH
架橋性水酸基価およびNCO/OH比を表2に示す。
(3) NCO / OH ratio The number of moles M OH (unit: mol) of the crosslinkable hydroxyl group per 100 g of the test solution for crosslinkable hydroxyl group measurement corresponding to each of the examples and comparative examples was determined by the following formula.
M OH = crosslinkable hydroxyl value / 1000 / KOH formula amount (56.1) × 100
On the other hand, for each of the coating compositions according to Examples and Comparative Examples, in the coating composition when the total mass of components capable of providing a crosslinkable hydroxyl group in the coating composition is 100 g The mass W (unit: g) of the isocyanate-based crosslinking agent was determined, and the number of moles of isocyanate groups M NCO (unit: mol) of the isocyanate crosslinking agent of the mass W was calculated by the following formula.
M NCO = NCO content / 100 / total atomic weight of isocyanate group constituent atoms (42) × W
From the number of moles M OH and M NCO determined by the above formula, the NCO / OH ratio for each of the coating compositions according to Examples and Comparative Examples was determined by the following formula.
NCO / OH ratio = M NCO / M OH
Table 2 shows the crosslinkable hydroxyl value and the NCO / OH ratio.

〔試験例2〕<キーイング試験>
実施例1から9および比較例1から2により製造したダイシングシートに、23℃、相対湿度50%の環境下に7日間静置することによる養生を行った後、切断して、各辺200mmの正方形のキーイング試験用シートを得た。このキーイング試験用シートの粘着剤層側の主面の中央部に5mm間隔で縦横双方に21ライン(マス目の数が400)の碁盤目切れ込みを入れた。各ラインの切れ込みは、粘着剤層を完全に切断するものの基材への切り込み深さは浅くなるようにした。こうして得られたキーイング試験用シートの粘着剤層側の主面にセロハン粘着テープ(ニチバン社製セロテープ(登録商標)No.405)の5列を、テープが互いに重なり部分を有するように貼付して、上記の碁盤目切れ込み全体を貼付したセロハン粘着テープによって覆った。この状態で、23℃、相対湿度50%の環境下に20分間放置した。その後、一方の手でキーイング試験用シートを押えながらもう一方でセロハン粘着テープの一方の端を持ち、セロハン粘着テープをキーイング試験用シートの主面の法線方向に沿った方向に一気に引き剥がした。
セロハン粘着テープ剥離後のキーイング試験用シートの碁盤目切れ込み部分を目視で観察し、部分的にも剥離が生じていないマスの数を付着マス数として計測し、下記式により非剥離率(単位:%)を求めた。非剥離率が80%以上の場合に合格と判定した。結果を表2に示す。
非剥離率=付着マス数/400×100
[Test Example 2] <Keying test>
The dicing sheets produced according to Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 and 2 were cured by standing for 7 days in an environment of 23 ° C. and a relative humidity of 50%. A square keying test sheet was obtained. A grid cut of 21 lines (number of squares: 400) was made in both the vertical and horizontal directions at 5 mm intervals in the center of the main surface of the keying test sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side. The cut of each line was made so that the depth of cut into the base material was shallow although the pressure-sensitive adhesive layer was completely cut. 5 rows of cellophane adhesive tapes (Cello Tape (registered trademark) No. 405 manufactured by Nichiban Co., Ltd.) were pasted on the main surface of the keying test sheet thus obtained on the adhesive layer side so that the tapes overlap each other. The cell board was covered with a cellophane adhesive tape to which the entire grid cuts were attached. In this state, it was left for 20 minutes in an environment of 23 ° C. and 50% relative humidity. After that, while holding the keying test sheet with one hand, hold the other end of the cellophane adhesive tape on the other side, and peel the cellophane adhesive tape all at once along the normal direction of the main surface of the keying test sheet. .
Observe the grid notch portion of the keying test sheet after peeling the cellophane adhesive tape, and measure the number of squares that have not been partially peeled off as the number of attached masses. The non-peeling rate (unit: %). When the non-peeling rate was 80% or more, it was determined to be acceptable. The results are shown in Table 2.
Non-peeling rate = number of adhered mass / 400 × 100

〔試験例3〕<粘着力比の測定>
上記の実施例および比較例により製造したダイシングシートに、23℃、相対湿度50%の環境下に7日間静置することによる養生を行った後、それぞれを切断して長さ200mm幅25mmの粘着力測定用シートを得た。半導体パッケージ用樹脂(京セラケミカル社製KE−G1250)を用いて、厚さが600μm、一方の主面の算術平均粗さRaが2μmのシート状の部材を製造した。上記の粘着力測定用シートのそれぞれについて、その粘着剤層側の面をこのシート状部材の上記の一方の主面に貼付して、シート状部材と粘着力測定用シートとからなる積層体を得た。得られた積層体を23℃、相対湿度50%の雰囲気下に20分間放置した。放置後の積層体について、万能型引張試験機(株式会社オリエンテック製、TENSILON/UTM−4−100)を用いて、JIS Z0237:2009に準拠して、180°引き剥がし試験(粘着力測定用シートを引き剥がされる側の部材とした。)を行い、照射前粘着力を測定した(単位:mN/25mm)。
[Test Example 3] <Measurement of adhesive strength ratio>
The dicing sheets produced according to the above-mentioned examples and comparative examples were cured by standing for 7 days in an environment of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and then each was cut and adhesive having a length of 200 mm and a width of 25 mm A force measurement sheet was obtained. Using a resin for semiconductor packages (KE-G1250 manufactured by Kyocera Chemical Co., Ltd.), a sheet-like member having a thickness of 600 μm and an arithmetic average roughness Ra of one main surface of 2 μm was manufactured. For each of the above-mentioned adhesive force measurement sheets, a laminate comprising the sheet-like member and the adhesive force measurement sheet is obtained by sticking the surface on the adhesive layer side to the one main surface of the sheet-like member. Obtained. The obtained laminate was left in an atmosphere of 23 ° C. and 50% relative humidity for 20 minutes. About the laminate after standing, using a universal tensile tester (Orientec Co., Ltd., TENSILON / UTM-4-100), in accordance with JIS Z0237: 2009, 180 ° peeling test (for measuring adhesive force) And the adhesive strength before irradiation was measured (unit: mN / 25 mm).

上記のシート状部材と粘着力測定用シートとからなる積層体をもう一組作製し、23℃、相対湿度50%の雰囲気下に20分間放置した。その後、紫外線照射装置(リンテック社製、RAD−2000m/12)を用い、窒素雰囲気下にてダイシングシート側から紫外線照射(照度230mW/cm、光量190mJ/cm)して、上記の積層体における粘着剤層に含有されるエネルギー線重合性化合物(B)を重合させた。この紫外線照射後の積層体について、上記の照射前粘着力を測定するための引き剥がし試験と同一の条件での引き剥がし試験を行い、照射後粘着力を測定した(単位:mN/25mm)。
こうして得られた照射前粘着力および照射後粘着力から、粘着力比を求めた。得られた照射前粘着力および粘着力比を表2に示す。
Another set of laminates composed of the sheet-like member and the adhesive force measurement sheet was prepared and left for 20 minutes in an atmosphere of 23 ° C. and 50% relative humidity. Thereafter, using a UV irradiation device (RAD-2000m / 12, manufactured by Lintec Co., Ltd.), UV irradiation (illuminance 230 mW / cm 2 , light amount 190 mJ / cm 2 ) was performed from the dicing sheet side in a nitrogen atmosphere, and the laminate described above The energy beam polymerizable compound (B) contained in the pressure-sensitive adhesive layer was polymerized. About the laminated body after this ultraviolet irradiation, the peeling test on the same conditions as the peeling test for measuring said adhesive force before irradiation was performed, and the adhesive force after irradiation was measured (unit: mN / 25mm).
From the thus obtained pre-irradiation adhesive strength and post-irradiation adhesive strength, the adhesive strength ratio was determined. The obtained pre-irradiation adhesive strength and adhesive strength ratio are shown in Table 2.

〔試験例4〕<ダイシング工程におけるチップ飛散率の測定>
半導体基板の代わりとしてガラスエポキシ板(ガラス繊維にエポキシ樹脂を含浸させ、硬化させたもの)を用い、この上に、半導体パッケージ用樹脂(京セラケミカル製:KE−G1250)を下記条件にてトランスファー成型して、サイズ:50mm×50mm、厚さ:600μmの封止樹脂を形成し、半導体パッケージを模した部材(以下、「試験部材」という。)を得た。
<トランスファー成型条件>
封止装置:アピックヤマダ社製、MPC−06M Trial Press
注入樹脂温度:180℃
樹脂注入圧:6.9MPa
樹脂注入時間:120秒
得られた試験部材の封止樹脂側の面の算術平均粗さRaは2μmであった。
[Test Example 4] <Measurement of chip scattering rate in dicing process>
A glass epoxy plate (glass fiber impregnated with epoxy resin and cured) is used instead of a semiconductor substrate, and a semiconductor package resin (manufactured by Kyocera Chemical: KE-G1250) is transfer molded under the following conditions. Then, a sealing resin having a size of 50 mm × 50 mm and a thickness of 600 μm was formed to obtain a member simulating a semiconductor package (hereinafter referred to as “test member”).
<Transfer molding conditions>
Sealing device: made by Apic Yamada, MPC-06M Trial Press
Injection resin temperature: 180 ° C
Resin injection pressure: 6.9 MPa
Resin injection time: 120 seconds The arithmetic average roughness Ra of the surface of the obtained test member on the sealing resin side was 2 μm.

試験部材の封止樹脂側の面に、実施例および比較例にて作製したダイシングシートに、23℃、相対湿度50%の環境下に7日間静置することによる養生を行った後、それぞれをテープマウンター(リンテック社製:Adwill RAD2500)を用いて貼付し、得られた試験部材とダイシングシートとの積層体における試験部材側の面の周縁部(ダイシングシートの粘着剤層側の面が露出している部分)に、ダイシング用リングフレーム(ディスコ社製:2−6−1)を付着させた。次いで、試験部材を下記の条件でダイシングして、5mm角のモールドチップを模したチップ状部材(個数:100)を得た。
<ダイシング条件>
・ダイシング装置 :DISCO社製 DFD−651
・ブレード :DISCO社製 ZBT−5074(Z111OLS3)
・刃の厚さ :0.17mm
・刃先出し量 :3.3mm
・ブレード回転数 :30000rpm
・切削速度 :100mm/分
・基材切り込み深さ:50μm
・切削水量 :1.0L/分
・切削水温度 :20℃
ダイシング工程により得られた、ダイシングシートの粘着剤層側の面にチップ状部材が付着してなる部材を目視で観察して、ダイシング工程中にダイシングシートから飛散したチップ状部材の個数を数え、その個数をダイシング工程における分割数100で除して、チップ飛散率(単位:%)を求めた。結果を表1に示す。
ダイシングピッチを5mmから1mmに変更するとともに切削速度を50mm/分に変更した以外は試験例3と同一の条件で試験部材をダイシングして、1mm角のデバイスチップを模したチップ状部材(個数:2500)を得た。この場合におけるチップ飛散率(単位:%)も求めた。その結果を表2に示す。
After performing curing by leaving the test member on the surface of the sealing resin side in a dicing sheet prepared in Examples and Comparative Examples for 7 days in an environment of 23 ° C. and 50% relative humidity, respectively. Attached using a tape mounter (manufactured by Lintec Corporation: Adwill RAD2500), the periphery of the test member side surface in the laminate of the obtained test member and dicing sheet (the surface on the adhesive layer side of the dicing sheet is exposed) The dicing ring frame (manufactured by Disco Corporation: 2-6-1) was adhered to the portion). Next, the test member was diced under the following conditions to obtain a chip-like member (number: 100) simulating a 5 mm square mold chip.
<Dicing conditions>
・ Dicing machine: DFD-651 made by DISCO
・ Blade: ZBT-5074 (Z111OLS3) manufactured by DISCO
・ Blade thickness: 0.17 mm
-Blade tip length: 3.3 mm
・ Blade rotation speed: 30000 rpm
・ Cutting speed: 100 mm / min ・ Base material cutting depth: 50 μm
・ Cutting water volume: 1.0 L / min ・ Cutting water temperature: 20 ° C.
The member obtained by the dicing process, the chip-like member attached to the surface of the dicing sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side is visually observed, and the number of chip-like members scattered from the dicing sheet during the dicing process is counted. The number was divided by the number of divisions 100 in the dicing step to obtain the chip scattering rate (unit:%). The results are shown in Table 1.
A chip-like member imitating a 1 mm square device chip by dicing the test member under the same conditions as in Test Example 3 except that the dicing pitch was changed from 5 mm to 1 mm and the cutting speed was changed to 50 mm / min. 2500). The chip scattering rate (unit:%) in this case was also obtained. The results are shown in Table 2.

〔試験例5〕<ピックアップ試験>
試験例3と同様の条件にて試験部材の作製およびダイシング工程を行うことにより、実施例および比較例にて作製したそれぞれのダイシングシートの粘着剤層側の面に1mm×1mmの大きさのチップ状部材が付着した部材を得た。
[Test Example 5] <Pickup test>
By producing the test member and dicing process under the same conditions as in Test Example 3, a chip having a size of 1 mm × 1 mm on the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of each dicing sheet produced in Examples and Comparative Examples A member with a sticky member was obtained.

このダイシングシートの粘着剤層側の面にチップ状部材が付着してなる部材におけるダイシングシートを、エキスパンド装置(ジェイシーエム社製ME−300Bタイプ)を用いて、速度300mm/分で当該シートの主面内方向に20mm伸張させるエキスパンド工程を実施した。
エキスパンド工程後の上記の部材に対して、紫外線照射装置(リンテック社製RAD−2000m/12)を用い、窒素雰囲気下にてダイシングシート側から紫外線照射(照度230mW/cm、光量190mJ/cm)を行って、ダイシングシートが備える粘着剤層に含有されるエネルギー線重合性化合物(B)を重合させた。
A dicing sheet in a member in which a chip-like member is attached to the surface of the dicing sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side is measured at a speed of 300 mm / min using an expanding device (ME-300B type manufactured by JCM Co., Ltd.). An expanding step of extending 20 mm in the in-plane direction was performed.
Using the ultraviolet irradiation device (RAD-2000m / 12 manufactured by Lintec Co., Ltd.) for the above-mentioned member after the expanding process, ultraviolet irradiation (illuminance 230 mW / cm 2 , light amount 190 mJ / cm 2 ) from the dicing sheet side in a nitrogen atmosphere. ) To polymerize the energy ray polymerizable compound (B) contained in the pressure-sensitive adhesive layer included in the dicing sheet.

続いて、ダイシングシートの主面の中心近傍上に位置する100個のチップ状部材についてピックアップ試験を行った。すなわち、装置としてデジタル・プッシュプルゲージ(アイコーエンジニアリング社製 MODEL−RE)にニードル(5号)をセットしたものを用い、ダイシングシートにおけるピックアップ対象とするチップ状部材に接する部分を、基材側からニードルで1.5mm突き上げ、突出したチップ状部材のダイシングシートに対向する側と反対側の面に真空コレットを付着させ、真空コレットに付着したチップ状部材を持ち上げた。このとき、真空コレットによりピックアップできたチップ状部材の個数を測定し、その個数を試験個数(100)で除してピックアップ率(単位:%)を求め、ピックアップ率が80%以上である場合に良好(表1中「A」)と判定し、80%未満の場合に不良(表1中「F」)と判定した。その結果を表2に示す。   Subsequently, a pick-up test was performed on 100 chip-like members located near the center of the main surface of the dicing sheet. That is, a device in which a needle (No. 5) is set on a digital push-pull gauge (MODEL-RE manufactured by Aiko Engineering Co., Ltd.) is used as an apparatus, and a portion in contact with a chip-like member to be picked up in a dicing sheet is The tip was pushed 1.5 mm with a needle, a vacuum collet was attached to the surface of the protruding tip-like member opposite to the side facing the dicing sheet, and the tip-like member attached to the vacuum collet was lifted. At this time, the number of chip-shaped members picked up by the vacuum collet is measured, and the number is divided by the test number (100) to obtain the pickup rate (unit:%). When the pickup rate is 80% or more It was determined to be good (“A” in Table 1), and when less than 80%, it was determined to be defective (“F” in Table 1). The results are shown in Table 2.

Figure 2014022476
Figure 2014022476

表1から分かるように、本発明の条件を満たす実施例のダイシングシートは、ダイシング工程、エキスパンド工程およびピックアップ工程のいずれにおいても不具合が発生しにくいといえるものであった。   As can be seen from Table 1, the dicing sheet of the example satisfying the conditions of the present invention can be said to be less likely to cause defects in any of the dicing process, the expanding process, and the pickup process.

本発明に係るダイシングシートは、被着面である樹脂封止面の凹凸が大きい半導体パッケージのダイシングシートとして好適に用いられる。   The dicing sheet according to the present invention is suitably used as a dicing sheet for a semiconductor package in which the unevenness of the resin sealing surface that is the adherend surface is large.

1…ダイシングシート
2…基材
3…粘着剤層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Dicing sheet 2 ... Base material 3 ... Adhesive layer

Claims (14)

基材と、前記基材の少なくとも一方の面に積層された粘着剤層とを備えたダイシングシートであって、
前記粘着剤層は、水酸基を有する重合体(a1)、イソシアネート系架橋剤(a2)、エネルギー線重合性化合物(B)および粘着付与樹脂(C)を含有する粘着剤組成物から形成されたものであって、
前記粘着剤組成物に含有される前記イソシアネート系架橋剤(a2)が有するイソシアネート基の総量(単位:mol)の、前記粘着剤組成物に含有される前記イソシアネート系架橋剤(a2)以外の成分が有する水酸基の総量(単位:mol)に対する比率であるNCO/OH比が4以上15以下であるダイシングシート。
A dicing sheet comprising a base material and an adhesive layer laminated on at least one surface of the base material,
The pressure-sensitive adhesive layer is formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing a hydroxyl group-containing polymer (a1), an isocyanate-based crosslinking agent (a2), an energy beam polymerizable compound (B), and a tackifier resin (C). Because
Components other than the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the pressure-sensitive adhesive composition in the total amount (unit: mol) of isocyanate groups contained in the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the pressure-sensitive adhesive composition A dicing sheet having an NCO / OH ratio of 4 or more and 15 or less relative to the total amount (unit: mol) of hydroxyl groups possessed by.
前記粘着剤組成物に含有される前記イソシアネート系架橋剤(a2)の含有量は、前記水酸基を有する重合体(a1)100質量部に対して、2質量部以上14質量部以下である請求項1に記載のダイシングシート。   The content of the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the pressure-sensitive adhesive composition is 2 parts by mass or more and 14 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymer (a1) having a hydroxyl group. The dicing sheet according to 1. 前記粘着剤組成物に含有される前記イソシアネート系架橋剤(a2)以外の成分全体の水酸基価は、2mgKOH/g以上である請求項1または2に記載のダイシングシート。   The dicing sheet according to claim 1 or 2, wherein the hydroxyl value of all components other than the isocyanate-based crosslinking agent (a2) contained in the pressure-sensitive adhesive composition is 2 mgKOH / g or more. 前記粘着剤層の厚さが5μm以上35μm以下である請求項1から3のいずれか一項に記載のダイシングシート。   The dicing sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 5 µm to 35 µm. 前記基材の前記粘着剤層が積層される側の面には、前記粘着剤層が積層される前の状態においてイソシアネート反応性基が存在する請求項1から4のいずれか一項に記載のダイシングシート。   5. The isocyanate-reactive group according to claim 1, wherein an isocyanate-reactive group is present on the surface of the substrate on which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated before the pressure-sensitive adhesive layer is laminated. Dicing sheet. 前記イソシアネート反応性基は、カルボキシル基、水酸基、アミノ基およびチオール基からなる群から選ばれる1種または2種以上を含む請求項5に記載のダイシングシート。   The dicing sheet according to claim 5, wherein the isocyanate-reactive group includes one or more selected from the group consisting of a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, and a thiol group. 前記基材の前記粘着剤層が積層される側の面は、前記イソシアネート反応性基を有する重合体を含む樹脂系材料からなるフィルムの面である請求項5または6に記載のダイシングシート。   The dicing sheet according to claim 5 or 6, wherein the surface of the substrate on which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated is a surface of a film made of a resin material containing a polymer having the isocyanate-reactive group. 前記イソシアネート反応性基を有する重合体は、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体およびアイオノマーからなる群から選ばれる1種または2種以上を含む請求項7に記載のダイシングシート。   The dicing sheet according to claim 7, wherein the polymer having an isocyanate-reactive group includes one or more selected from the group consisting of an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer and an ionomer. 前記基材の前記粘着剤層が積層される側の面は、前記粘着剤層が積層される前に表面処理が施された面である請求項5または6に記載のダイシングシート。   The dicing sheet according to claim 5 or 6, wherein the surface of the substrate on which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated is a surface that has been subjected to surface treatment before the pressure-sensitive adhesive layer is laminated. 前記基材の前記粘着剤層が積層される側の面は、前記イソシアネート反応性基を有する材料を含有する層の面である請求項5または6に記載のダイシングシート。   The dicing sheet according to claim 5 or 6, wherein a surface of the substrate on which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated is a surface of a layer containing a material having the isocyanate-reactive group. 前記ダイシングシートは、粘着剤層における基材に対向する側と反対側の露出面を測定対象面、半導体パッケージの樹脂封止面を被着面として、JIS Z0237:2009に準拠して180°引き剥がし試験を行ったときに測定される粘着力について、エネルギー線照射前の状態における粘着力のエネルギー線照射後の状態における粘着力に対する比が3以上である請求項1から10のいずれか一項に記載のダイシングシート。   The dicing sheet is pulled 180 ° in accordance with JIS Z0237: 2009, with the exposed surface of the adhesive layer opposite to the side facing the substrate as the measurement target surface and the resin sealing surface of the semiconductor package as the adherend surface. 11. The ratio of the adhesive strength in the state before energy beam irradiation to the adhesive strength in the state after energy beam irradiation is 3 or more with respect to the adhesive strength measured when the peeling test is performed. The dicing sheet described in 1. 前記ダイシングシートは、粘着剤層における基材に対向する側と反対側の露出面を測定対象面、半導体パッケージの樹脂封止面を被着面として、JIS Z0237:2009に準拠して180°引き剥がし試験を行ったときに測定される粘着力が、エネルギー線照射前の状態において500mN/25mm以上である請求項1から11のいずれか一項に記載のダイシングシート。   The dicing sheet is pulled 180 ° in accordance with JIS Z0237: 2009, with the exposed surface of the adhesive layer opposite to the side facing the substrate as the measurement target surface and the resin sealing surface of the semiconductor package as the adherend surface. The dicing sheet according to any one of claims 1 to 11, wherein an adhesive force measured when the peeling test is performed is 500 mN / 25 mm or more in a state before irradiation with energy rays. 前記粘着剤層の前記基材と反対側の面を、半導体チップを樹脂封止した半導体パッケージの樹脂封止面に貼付する請求項1から12のいずれか一項に記載のダイシングシート。   The dicing sheet according to any one of claims 1 to 12, wherein a surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the base material is attached to a resin sealing surface of a semiconductor package in which a semiconductor chip is resin-sealed. 請求項1から13のいずれか一項に記載されるダイシングシートの前記粘着剤層側の面を、半導体パッケージの樹脂封止面に貼付し、前記ダイシングシート上の前記半導体パッケージを切断して個片化し、複数のモールドチップを得る、モールドチップの製造方法。   The surface on the pressure-sensitive adhesive layer side of the dicing sheet according to any one of claims 1 to 13 is affixed to a resin sealing surface of a semiconductor package, and the semiconductor package on the dicing sheet is cut and separated. A method for producing a mold chip, which is singulated to obtain a plurality of mold chips.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015186803A1 (en) * 2014-06-05 2015-12-10 電気化学工業株式会社 Adhesive agent composition, and temporary member-fixation method using same
JP2016089021A (en) * 2014-11-04 2016-05-23 リンテック株式会社 Conductive adhesive composition and conductive adhesive sheet
WO2016151912A1 (en) * 2015-03-26 2016-09-29 リンテック株式会社 Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip
WO2016151913A1 (en) * 2015-03-26 2016-09-29 リンテック株式会社 Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip
JPWO2015146714A1 (en) * 2014-03-28 2017-04-13 リンテック株式会社 Protective film forming film and method of manufacturing semiconductor chip with protective film
JP2017179028A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 リンテック株式会社 Adhesive sheet for glass dicing and manufacturing method therefor
JP2017179027A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 リンテック株式会社 Adhesive sheet for glass dicing and manufacturing method therefor
JP2017179029A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 リンテック株式会社 Adhesive sheet for glass dicing and manufacturing method therefor
KR20170140221A (en) * 2015-04-30 2017-12-20 린텍 가부시키가이샤 Adhesive tape for work processing

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04335078A (en) * 1991-05-10 1992-11-24 Furukawa Electric Co Ltd:The Radiation-curable self-adhesive tape
JPH0729860A (en) * 1993-07-15 1995-01-31 Furukawa Electric Co Ltd:The Adhesive tape for dicing of semiconductor wafer
JPH09165558A (en) * 1995-12-15 1997-06-24 Hitachi Chem Co Ltd Tacky film for protecting semiconductor wafer and surface protection using the same
JP2006036834A (en) * 2004-07-23 2006-02-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for processing semiconductor wafer
JP2011181899A (en) * 2010-02-02 2011-09-15 Lintec Corp Dicing sheet
JP2011210887A (en) * 2010-03-29 2011-10-20 Furukawa Electric Co Ltd:The Adhesive tape for processing radiation curing wafer
JP2011219549A (en) * 2010-04-06 2011-11-04 Asahi Glass Co Ltd Adhesive laminate
JP2012015341A (en) * 2010-06-30 2012-01-19 Dainippon Printing Co Ltd Separator-less type dicing tape

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04335078A (en) * 1991-05-10 1992-11-24 Furukawa Electric Co Ltd:The Radiation-curable self-adhesive tape
JPH0729860A (en) * 1993-07-15 1995-01-31 Furukawa Electric Co Ltd:The Adhesive tape for dicing of semiconductor wafer
JPH09165558A (en) * 1995-12-15 1997-06-24 Hitachi Chem Co Ltd Tacky film for protecting semiconductor wafer and surface protection using the same
JP2006036834A (en) * 2004-07-23 2006-02-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for processing semiconductor wafer
JP2011181899A (en) * 2010-02-02 2011-09-15 Lintec Corp Dicing sheet
JP2011210887A (en) * 2010-03-29 2011-10-20 Furukawa Electric Co Ltd:The Adhesive tape for processing radiation curing wafer
JP2011219549A (en) * 2010-04-06 2011-11-04 Asahi Glass Co Ltd Adhesive laminate
JP2012015341A (en) * 2010-06-30 2012-01-19 Dainippon Printing Co Ltd Separator-less type dicing tape

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2015146714A1 (en) * 2014-03-28 2017-04-13 リンテック株式会社 Protective film forming film and method of manufacturing semiconductor chip with protective film
US10190017B2 (en) 2014-03-28 2019-01-29 Lintec Corporation Protective film-forming film and method of manufacturing semiconductor chip with protective film
JPWO2015186803A1 (en) * 2014-06-05 2017-04-20 デンカ株式会社 Adhesive composition and method for temporarily fixing member using the same
KR20170015352A (en) * 2014-06-05 2017-02-08 덴카 주식회사 Adhesive agent composition, and temporary member-fixation method using same
KR102410049B1 (en) 2014-06-05 2022-06-16 덴카 주식회사 Adhesive agent composition, and temporary member-fixation method using same
WO2015186803A1 (en) * 2014-06-05 2015-12-10 電気化学工業株式会社 Adhesive agent composition, and temporary member-fixation method using same
JP2016089021A (en) * 2014-11-04 2016-05-23 リンテック株式会社 Conductive adhesive composition and conductive adhesive sheet
JPWO2016151913A1 (en) * 2015-03-26 2018-01-18 リンテック株式会社 Dicing sheet, dicing sheet manufacturing method, and mold chip manufacturing method
CN107408500B (en) * 2015-03-26 2020-08-14 琳得科株式会社 Dicing sheet, method for manufacturing dicing sheet, and method for manufacturing die chip
WO2016151913A1 (en) * 2015-03-26 2016-09-29 リンテック株式会社 Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip
KR102429606B1 (en) 2015-03-26 2022-08-04 린텍 가부시키가이샤 Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip
CN107408500A (en) * 2015-03-26 2017-11-28 琳得科株式会社 The manufacture method of cutting sheet, the manufacture method of cutting sheet and die chip
KR20170130345A (en) * 2015-03-26 2017-11-28 린텍 가부시키가이샤 Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip
KR20170131338A (en) * 2015-03-26 2017-11-29 린텍 가부시키가이샤 Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip
CN107078038A (en) * 2015-03-26 2017-08-18 琳得科株式会社 The manufacture method of cutting sheet, the manufacture method of cutting sheet and die chip
JPWO2016151912A1 (en) * 2015-03-26 2018-01-18 リンテック株式会社 Dicing sheet, dicing sheet manufacturing method, and mold chip manufacturing method
KR102394516B1 (en) 2015-03-26 2022-05-04 린텍 가부시키가이샤 Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip
TWI702269B (en) * 2015-03-26 2020-08-21 日商琳得科股份有限公司 Cutting chip, cutting chip manufacturing method, and mold chip manufacturing method
WO2016151912A1 (en) * 2015-03-26 2016-09-29 リンテック株式会社 Dicing sheet, method for producing dicing sheet, and method for producing molded chip
CN107078038B (en) * 2015-03-26 2020-04-17 琳得科株式会社 Dicing sheet, method for manufacturing dicing sheet, and method for manufacturing die chip
CN108307635A (en) * 2015-04-30 2018-07-20 琳得科株式会社 Work pieces process adhesive tape
KR20170140221A (en) * 2015-04-30 2017-12-20 린텍 가부시키가이샤 Adhesive tape for work processing
TWI778939B (en) * 2015-04-30 2022-10-01 日商琳得科股份有限公司 Adhesive tape for workpiece processing
KR102528633B1 (en) * 2015-04-30 2023-05-03 린텍 가부시키가이샤 Adhesive tape for workpiece processing
JP2017179028A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 リンテック株式会社 Adhesive sheet for glass dicing and manufacturing method therefor
JP2017179027A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 リンテック株式会社 Adhesive sheet for glass dicing and manufacturing method therefor
JP2017179029A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 リンテック株式会社 Adhesive sheet for glass dicing and manufacturing method therefor

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