JP2009246302A - Die sorting tape - Google Patents

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Michio Kanai
道生 金井
Masatomo Nakamura
優智 中村
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Lintec Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a die sorting tape in which a stable pickup force for picking up a chip from an adhesive layer can be maintained even if air is mixed into the adhesive surfaces of the adhesive layer and each chip while making the chip reduce pickup error and enabling the chip to be stored and transported without being detached. <P>SOLUTION: The die sorting tape includes a substrate film, an adhesive layer formed on the film and a peeling film temporarily attached to the surface of the adhesive layer. The adhesive layer has a storage modulus of 1×10<SP>4</SP>to 1×10<SP>8</SP>Pa at 23°C, and its probe tack value of 50 to 3,920 mN, and the peeling film has a surface roughness (Ra) of 10 μm or less on the adhesive layer side. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、基材フィルムと、その上に形成された粘着剤層と、該粘着剤層の表面に仮着された剥離フィルムとからなるダイソートテープに関する。   The present invention relates to a die sort tape comprising a base film, a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon, and a release film temporarily attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer.

半導体装置の製造工程の一つに、所要の前処理を経て回路が形成された半導体ウエハを複数個のチップに切断分離するダイシング工程がある。この工程では、リングフレームと呼ばれる円形または方形の枠に、半導体ウエハ固定用のダイシングシートを貼着し、このダイシングシートに半導体ウエハを貼付し、回路毎にダイシングし、半導体チップとする。その後、ボンディングマシンによるエキスパンド工程に続いて、たとえばエポキシ樹脂等のダイボンド用接着剤をチップ用基板のパッド部に塗布して半導体チップをチップ用基板に接着するダイボンディング工程が行われる。さらに、ワイヤボンディング工程や検査工程などを経て、最終的にモールディング工程で樹脂封止を行い、半導体装置が製造される。   One of the manufacturing processes of a semiconductor device is a dicing process of cutting and separating a semiconductor wafer on which a circuit is formed through a required pretreatment into a plurality of chips. In this step, a dicing sheet for fixing a semiconductor wafer is attached to a circular or square frame called a ring frame, the semiconductor wafer is attached to the dicing sheet, and dicing is performed for each circuit to obtain a semiconductor chip. Then, following the expanding process by the bonding machine, a die bonding process is performed in which a die bonding adhesive such as an epoxy resin is applied to the pad portion of the chip substrate to bond the semiconductor chip to the chip substrate. Furthermore, after a wire bonding process and an inspection process, resin sealing is finally performed in a molding process to manufacture a semiconductor device.

一方、個片化された半導体チップをダイボンドせずに、収容・搬送することもある。なお、このような場合はアウトラインにてダイボンディング工程が行われる。   On the other hand, an individual semiconductor chip may be accommodated and transported without die bonding. In such a case, the die bonding process is performed in outline.

このような半導体チップの収容・搬送には、熱可塑性樹脂シートにポケット状凹部をエンボス加工により形成した、リール状のエンボスキャリアテープやチップトレイ等が用いられている。この凹部に半導体チップを収容後、カバーシートで被覆して、半導体チップを電子装置に組み込むまで保管・搬送する。このようなエンボスキャリアテープを用いることによりダイシング工程後、良品のみを選り分けて出荷することができ、更に1枚の半導体ウエハから複数の工場への出荷も可能となる。   For accommodating and transporting such semiconductor chips, a reel-like embossed carrier tape, a chip tray, or the like, in which pocket-shaped recesses are formed on a thermoplastic resin sheet by embossing, is used. After the semiconductor chip is accommodated in the recess, it is covered with a cover sheet and stored and transported until the semiconductor chip is incorporated into the electronic device. By using such an embossed carrier tape, only non-defective products can be selected and shipped after the dicing process, and further, a single semiconductor wafer can be shipped to a plurality of factories.

しかしながら、半導体装置では埃・汚れ等が不具合を起こす原因となるため、半導体チップが搬送された場所で、これを使用する前に水洗浄することもある。エンボスキャリアテープを用いたときは、再度ダイシングテープ等に固定し洗浄する必要があるため、大変非効率的である。   However, since dust, dirt, and the like cause trouble in the semiconductor device, the semiconductor chip may be washed with water before using it in the place where the semiconductor chip is transported. When an embossed carrier tape is used, it is necessary to fix it to a dicing tape or the like and wash it again, which is very inefficient.

これに対して、熱剥離テープや汎用ダイシングテープ等の粘着テープを用いて半導体チップをマウントし、半導体チップを収容・搬送するという手法も用いられている(特許文献1)。この場合は、粘着テープの粘着剤層に半導体チップが貼付され、保管・搬送される。   On the other hand, the technique of mounting a semiconductor chip using adhesive tapes, such as a heat peeling tape and a general-purpose dicing tape, and accommodating and conveying the semiconductor chip is also used (Patent Document 1). In this case, the semiconductor chip is affixed to the adhesive layer of the adhesive tape, and is stored and transported.

しかしながら、特許文献1の粘着テープでは、半導体チップ等の電子部品を粘着テープにマウントする際に、粘着剤層とチップとの接着面にエアが混入する恐れがある。特に、粘着剤層面が平滑な場合、エアが混入する。エアの混入具合によって、粘着剤層と各チップとの接着面積が、チップ毎に異なることとなり、チップを粘着剤層からピックアップする際のピックアップ力のばらつきを生じさせ、ピックアップ不良の原因となっていた。一方、粘着剤層面が粗い場合、大きなエアの混入は防止できるが、粘着剤層とチップとの接着面積が小さくなる。その結果、チップを粘着テープに保持することが困難になり、保管・搬送中に半導体チップが脱落する危険があった。
特開2000−95291号公報
However, in the pressure-sensitive adhesive tape of Patent Document 1, when an electronic component such as a semiconductor chip is mounted on the pressure-sensitive adhesive tape, air may be mixed into the adhesive surface between the pressure-sensitive adhesive layer and the chip. In particular, when the pressure-sensitive adhesive layer surface is smooth, air is mixed. Depending on the air mixing condition, the adhesive area between the adhesive layer and each chip will be different for each chip, causing variations in pick-up force when picking up the chip from the adhesive layer, and causing a pickup failure. It was. On the other hand, when the pressure-sensitive adhesive layer surface is rough, large air can be prevented from being mixed in, but the adhesive area between the pressure-sensitive adhesive layer and the chip is reduced. As a result, it becomes difficult to hold the chip on the adhesive tape, and there is a risk that the semiconductor chip may fall off during storage and transportation.
JP 2000-95291 A

本発明は上記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものである。すなわち、本発明は、粘着剤層と各チップとの接着面にエアが混入したとしても、該チップを該粘着剤層からピックアップする際のピックアップ力を安定させ、ピックアップミスを少なくすることができ、チップを保管、搬送する際には該チップが脱落することのないダイソートテープを提供することを目的としている。   The present invention seeks to solve the problems associated with the prior art as described above. That is, the present invention can stabilize the pick-up force when picking up the chip from the pressure-sensitive adhesive layer and reduce pickup mistakes even if air is mixed into the adhesive surface between the pressure-sensitive adhesive layer and each chip. An object of the present invention is to provide a die sort tape in which the chips are not dropped when the chips are stored and transported.

このような課題の解決を目的とした本発明の要旨は以下の通りである。
(1)基材フィルムと、その上に形成された粘着剤層と、前記粘着剤層の表面に仮着された剥離フィルムとからなり、
前記粘着剤層の23℃における貯蔵弾性率が1×10〜1×10Paであり、
そのプローブタック値が50〜3920mNであり、
前記剥離フィルムの粘着剤層側表面の表面粗さ(Ra)が10μm以下であるダイソートテープ。
(2)前記粘着剤層が、エネルギー線硬化性樹脂の硬化物からなる(1)に記載のダイソートテープであって、
前記粘着剤層のエネルギー線照射後の23℃における貯蔵弾性率が1×10〜1×10Paであり、
そのプローブタック値が50〜3920mNであるダイソートテープ。
The gist of the present invention aimed at solving such problems is as follows.
(1) It consists of a base film, an adhesive layer formed thereon, and a release film temporarily attached to the surface of the adhesive layer,
The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at 23 ° C. is 1 × 10 4 to 1 × 10 8 Pa,
The probe tack value is 50-3920 mN,
The die sort tape whose surface roughness (Ra) of the adhesive layer side surface of the said peeling film is 10 micrometers or less.
(2) The die sort tape according to (1), wherein the pressure-sensitive adhesive layer is made of a cured product of an energy ray curable resin,
The storage elastic modulus at 23 ° C. after the energy ray irradiation of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 × 10 4 to 1 × 10 8 Pa,
The die sort tape whose probe tack value is 50-3920 mN.

本発明によれば、ダイソートテープにおける粘着剤層の貯蔵弾性率、プローブタック値及び剥離フィルムの粘着剤層側表面の表面粗さを最適化することによって粘着剤層表面の形状を制御し、チップを貼付する際の粘着剤層とチップとの接着面積が略一定になる。その結果、チップを粘着剤層からピックアップする際のピックアップ力が安定し、ピックアップミスを少なくすることができ、また、チップを保管、搬送する際には該チップが脱落することのないダイソートテープが提供される。   According to the present invention, the storage elastic modulus of the adhesive layer in the die sort tape, the probe tack value and the surface roughness of the adhesive layer side surface of the release film are controlled to control the shape of the adhesive layer surface, The adhesive area between the pressure-sensitive adhesive layer and the chip when the chip is attached becomes substantially constant. As a result, the pick-up force when picking up the chip from the adhesive layer is stabilized, pick-up mistakes can be reduced, and the die sort tape does not drop off when storing and transporting the chip. Is provided.

以下、本発明についてさらに具体的に説明する。
本発明に係るダイソートテープは、図1に示すように、基材フィルム10と、その上に形成された粘着剤層20と、該粘着剤層の表面に仮着された剥離フィルム30からなることを特徴とする。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically.
As shown in FIG. 1, the die sort tape according to the present invention comprises a base film 10, an adhesive layer 20 formed thereon, and a release film 30 temporarily attached to the surface of the adhesive layer. It is characterized by that.

基材フィルム10としては特に制限はなく、各種粘着シートの基材フィルムとして慣用されているものの中から任意のものを適宜選択して用いることができる。例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン酢ビフィルム、アイオノマー樹脂フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、フッ素樹脂フィルム等のプラスチックシートが用いられる。   There is no restriction | limiting in particular as the base film 10, Any can be suitably selected from what is conventionally used as a base film of various adhesive sheets. For example, polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyurethane film, ethylene vinyl acetate film, ionomer resin film Plastic sheets such as ethylene / (meth) acrylic acid copolymer film, ethylene / (meth) acrylic acid ester copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, and fluororesin film are used.

基材フィルムは、これらのプラスチックシートの積層フィルムであってもよいし、架橋されたフィルムであってもよい。また、無色であっても有色であってもよい。さらに、後述する粘着剤層を形成する際にエネルギー線を照射する場合は、使用するエネルギー線に対し透過性を有していれば、基材フィルムは透明であっても不透明であってもよい。   The base film may be a laminated film of these plastic sheets or a crosslinked film. Further, it may be colorless or colored. Furthermore, when irradiating energy rays when forming the pressure-sensitive adhesive layer described later, the substrate film may be transparent or opaque as long as it has transparency to the energy rays to be used. .

基材フィルムの厚さは、使用目的や状況に応じて適宜定めればよいが、通常50〜300μm、好ましくは60〜200μmの範囲である。   Although the thickness of a base film should just be suitably determined according to a use purpose or a condition, it is 50-300 micrometers normally, Preferably it is the range of 60-200 micrometers.

また、この基材フィルムの表面には、その上に設けられる粘着剤層との接着性を向上させる目的で、所望により、サンドブラストや溶剤処理などによる凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン・紫外線照射処理、火炎処理、クロム酸処理、熱風処理などの酸化処理などを施すことができる。また、プライマー処理を施すこともできる。   In addition, on the surface of the base film, for the purpose of improving the adhesiveness with the pressure-sensitive adhesive layer provided thereon, if desired, uneven processing such as sandblasting or solvent treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, Oxidation treatment such as ozone / ultraviolet irradiation treatment, flame treatment, chromic acid treatment, and hot air treatment can be performed. Moreover, primer treatment can also be performed.

粘着剤層20は、チップを貼付する際の貯蔵弾性率(23℃)が、1×10〜1×10Pa、好ましくは1.9×10〜7×10Pa、さらに好ましくは7×10〜1×10Paである。 The adhesive layer 20 has a storage elastic modulus (23 ° C.) at the time of attaching a chip of 1 × 10 4 to 1 × 10 8 Pa, preferably 1.9 × 10 4 to 7 × 10 7 Pa, more preferably It is 7 * 10 < 4 > -1 * 10 < 7 > Pa.

粘着剤層の23℃における貯蔵弾性率が上記範囲より高い場合には、チップの密着性が悪く、チップを安定して保持できないという不具合を生じる。また、チップを貼付できたとしても搬送、保管中にチップが脱落するという不具合を生じる。一方、貯蔵弾性率が上記範囲より低い場合には、チップの保持は容易であるが、粘着剤層が特定の表面粗さを有する形状を維持できず、チップと粘着剤層の接着面積が不均一となりピックアップ力が安定しない。   When the storage elastic modulus at 23 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer is higher than the above range, there is a problem in that the chip adhesion is poor and the chip cannot be stably held. Further, even if the chip can be attached, there is a problem that the chip falls off during transportation and storage. On the other hand, when the storage elastic modulus is lower than the above range, it is easy to hold the chip, but the pressure-sensitive adhesive layer cannot maintain a shape having a specific surface roughness, and the bonding area between the chip and the pressure-sensitive adhesive layer is not good. It becomes uniform and the pickup power is not stable.

また、粘着剤層のプローブタック値は50〜3920mN、好ましくは70〜3900mN、さらに好ましくは90〜3830mNの範囲である。   The probe tack value of the pressure-sensitive adhesive layer is in the range of 50 to 3920 mN, preferably 70 to 3900 mN, and more preferably 90 to 3830 mN.

プローブタック値が上記範囲より大きいと、粘着剤層とチップとの接着面に不均一な状態でエアが混入し、粘着剤層とチップとの接着面積が不均一となりピックアップ力が安定しない。プローブタック値が上記範囲より小さいと、貼付したチップとの密着性が悪く、チップを安定して保持できないという不具合を生じる。また、チップを貼付できたとしても搬送、保管中にチップが脱落するという不具合を生じる。   When the probe tack value is larger than the above range, air is mixed in a non-uniform state on the adhesive surface between the pressure-sensitive adhesive layer and the chip, the bonding area between the pressure-sensitive adhesive layer and the chip becomes non-uniform, and the pickup force is not stable. If the probe tack value is smaller than the above range, there is a problem that the adhesion with the attached chip is poor and the chip cannot be stably held. Further, even if the chip can be attached, there is a problem that the chip falls off during transportation and storage.

粘着剤層の厚さは、1〜50μm、好ましくは2〜30μmである。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 to 50 μm, preferably 2 to 30 μm.

このような粘着剤層を構成する樹脂材料は、上記特性を有する限り特に限定はされないが、一例として、粘着剤として汎用されているアクリル酸エステル共重合体が挙げられる。アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量は、100,000以上であり、好ましくは100,000〜1,500,000であり、特に好ましくは150,000〜1,000,000である。アクリル酸エステル共重合体は、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステルモノマーあるいはその誘導体等から導かれる構成単位からなる。(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、アルキル基の炭素数が1〜18である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが用いられる。(メタ)アクリル酸エステルモノマーの誘導体としては、ジメチルアクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド等のジアルキル(メタ)アクリルアミドがあげられる。これらの中でも、特に好ましくはメチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、ジメチルアクリルアミド等である。これらのモノマーの他に、酢酸ビニル、スチレン、ビニルアセテート等が共重合されていてもよい。   The resin material constituting the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as the resin material has the above-described properties, but examples thereof include acrylate ester copolymers that are widely used as pressure-sensitive adhesives. The weight average molecular weight of the acrylic ester copolymer is 100,000 or more, preferably 100,000 to 1,500,000, and particularly preferably 150,000 to 1,000,000. The acrylic ester copolymer is composed of structural units derived from (meth) acrylic acid, (meth) acrylic ester monomers or derivatives thereof. As the (meth) acrylic acid ester monomer, a (meth) acrylic acid alkyl ester having 1 to 18 carbon atoms in the alkyl group is used. Examples of derivatives of (meth) acrylic acid ester monomers include dialkyl (meth) acrylamides such as dimethylacrylamide, dimethylmethacrylamide, diethylacrylamide, and diethylmethacrylamide. Among these, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-hydroxy are particularly preferable. Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, dimethylacrylamide, and the like. In addition to these monomers, vinyl acetate, styrene, vinyl acetate and the like may be copolymerized.

アクリル酸エステル共重合体は、粘着剤として汎用される重合体である。本発明の粘着剤層として使用する場合には、架橋剤で部分架橋し、前述した貯蔵弾性値及びプローブタック値を有するように調整する。架橋剤としては、有機多価イソシアナート化合物、有機多価エポキシ化合物、有機多価イミン化合物等があげられる。   The acrylic ester copolymer is a polymer that is widely used as an adhesive. When used as the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention, it is partially cross-linked with a cross-linking agent and adjusted to have the aforementioned storage elastic value and probe tack value. Examples of the crosslinking agent include organic polyvalent isocyanate compounds, organic polyvalent epoxy compounds, and organic polyvalent imine compounds.

一般に架橋剤の使用量が多くなると、アクリル酸エステル共重合体のべとつき感は低下し、貯蔵弾性率は上昇し、プローブタック値は小さくなる。   In general, when the amount of the crosslinking agent used is increased, the tackiness of the acrylate copolymer is decreased, the storage elastic modulus is increased, and the probe tack value is decreased.

また、アクリル酸エステル共重合体にエネルギー線重合性化合物と必要に応じ光重合開始剤とを配合したエネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて、粘着剤層を形成してもよい。   Moreover, you may form an adhesive layer using the energy-beam curable resin composition which mix | blended the energy-beam polymeric compound and the photoinitiator as needed with the acrylic ester copolymer.

エネルギー線重合性化合物としては、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系などエネルギー線重合性のオリゴマーや、エネルギー線重合性のモノマーが用いられる。エネルギー線重合性のモノマーとしては、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシ(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、アダマンタン(メタ)アクリレートなどの脂環式化合物、フェニルヒドロキシプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェノールエチレンオキシド変性アクリレートなどの芳香族化合物、もしくはテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、モルホリンアクリレート、N−ビニルピロリドンまたはN−ビニルカプロラクタムなどの複素環式化合物が挙げられる。また必要に応じて、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレートなどの3官能型;ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートなどの4官能型;プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートなどの5官能型;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの6官能型などの多官能(メタ)アクリレートを用いてもよい。このようなエネルギー線重合性化合物は単独で、あるいは複数を組合せて用いても良い。   As the energy ray polymerizable compound, energy ray polymerizable oligomers such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate and polyether acrylate, and energy ray polymerizable monomers are used. Examples of the energy ray polymerizable monomer include isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxy (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, adamantane (meth) ) An alicyclic compound such as acrylate, an aromatic compound such as phenylhydroxypropyl acrylate, benzyl acrylate, phenol ethylene oxide modified acrylate, or tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, morpholine acrylate, N-vinyl pyrrolidone or N-vinyl caprolactam Heterocyclic compounds are mentioned. If necessary, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane Trifunctional type such as tri (meth) acrylate and tris (acryloxyethyl) isocyanurate; tetrafunctional type such as diglycerin tetra (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate; propionic acid-modified dipentaerythritol penta (meth) ) Pentafunctional type such as acrylate; hexafunctional type such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate What polyfunctional (meth) acrylate may be used. Such energy beam polymerizable compounds may be used alone or in combination.

これらの中でも特に、ウレタンアクリレート系オリゴマーが好ましく用いられる。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアナート化合物たとえば2,4−トリレンジイソシアナート、2,6−トリレンジイソシアナート、1,3−キシリレンジイソシアナート、1,4−キシリレンジイソシアナート、ジフェニルメタン4,4−ジイソシアナートなどを反応させて得られる末端イソシアナートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレートたとえば2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレートなどを反応させて得られる。このようなウレタンアクリレート系オリゴマーは、分子内にエネルギー線重合性の二重結合を有し、エネルギー線照射により重合硬化する。ウレタンアクリレート系オリゴマーとしては、重量平均分子量が100〜50000のものが好ましく、1000〜30000のものが特に好ましい。   Among these, urethane acrylate oligomers are preferably used. The urethane acrylate oligomer includes a polyol compound such as a polyester type or a polyether type and a polyvalent isocyanate compound such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate. 1, 4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, and the like, a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting with an acrylate or methacrylate having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxy Ethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, polyethylene glycol acrylate, polyethylene glycol methacrylate, etc. Obtained by. Such a urethane acrylate oligomer has an energy ray polymerizable double bond in the molecule and is polymerized and cured by irradiation with energy rays. As the urethane acrylate oligomer, those having a weight average molecular weight of 100 to 50000 are preferable, and those having 1000 to 30000 are particularly preferable.

また、上記の粘着剤であるアクリル酸エステル共重合体とエネルギー線重合性化合物との混合物に代えて、側鎖に、エネルギー線重合性基が結合されてなるエネルギー線重合性粘着性重合体を使用することもできる。   Further, instead of a mixture of the acrylic acid ester copolymer and the energy beam polymerizable compound, which is the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, an energy beam polymerizable adhesive polymer in which an energy beam polymerizable group is bonded to the side chain is provided. It can also be used.

粘着性重合体の主骨格は特に限定はされず、粘着剤として汎用されているアクリル系共重合体であってもよく、またエステル型、エーテル型の何れであっても良いが、合成および粘着物性の制御が容易であることから、アクリル系共重合体を主骨格とすることが特に好ましい。   The main skeleton of the adhesive polymer is not particularly limited, and may be an acrylic copolymer that is widely used as an adhesive, and may be either an ester type or an ether type. From the viewpoint of easy control of physical properties, it is particularly preferable to use an acrylic copolymer as a main skeleton.

粘着性重合体の側鎖に結合するエネルギー線重合性基は、たとえばエネルギー線重合性の炭素−炭素二重結合を含む基であり、具体的には(メタ)アクリロイル基等を例示することができる。エネルギー線重合性基は、アルキレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基を介して粘着性重合体に結合していてもよい。   The energy beam polymerizable group bonded to the side chain of the adhesive polymer is, for example, a group containing an energy beam polymerizable carbon-carbon double bond, and specifically, a (meth) acryloyl group may be exemplified. it can. The energy beam polymerizable group may be bonded to the adhesive polymer via an alkylene group, an alkyleneoxy group, or a polyalkyleneoxy group.

このような重合性基の具体例は、以下に説明するエネルギー線重合性粘着性重合体の製法からさらに明らかになる。   Specific examples of such a polymerizable group will be further clarified from the process for producing an energy beam polymerizable adhesive polymer described below.

重合性基が結合されたエネルギー線重合性粘着性重合体の重量平均分子量は、好ましくは100,000以上であり、好ましくは100,000〜1,500,000であり、特に好ましくは150,000〜1,000,000である。またエネルギー線重合性粘着性重合体のガラス転移温度は、通常−70〜30℃程度である。   The weight average molecular weight of the energy beam polymerizable adhesive polymer to which the polymerizable group is bonded is preferably 100,000 or more, preferably 100,000 to 1,500,000, particularly preferably 150,000. ~ 1,000,000. The glass transition temperature of the energy beam polymerizable adhesive polymer is usually about −70 to 30 ° C.

エネルギー線重合性粘着性重合体は、官能基を含有する粘着性重合体と、該官能基と反応する置換基を有する重合性基含有化合物とを反応させて得られる。   The energy beam polymerizable adhesive polymer is obtained by reacting an adhesive polymer containing a functional group with a polymerizable group-containing compound having a substituent that reacts with the functional group.

エネルギー線重合性粘着性重合体の主骨格の構造は特に限定はされないが、粘着剤として汎用されている各種のアクリル系共重合体が好ましい。   The structure of the main skeleton of the energy beam polymerizable adhesive polymer is not particularly limited, but various acrylic copolymers widely used as an adhesive are preferable.

以下、エネルギー線重合性粘着性重合体の製法について、特にアクリル系共重合体を主骨格とする例について詳述するが、エネルギー線重合性粘着性重合体は下記製法により得られるものに限定はされない。   Hereinafter, the production method of the energy beam polymerizable adhesive polymer will be described in detail with respect to an example having an acrylic copolymer as the main skeleton, but the energy beam polymerizable adhesive polymer is limited to those obtained by the following production method. Not.

重合性基が結合されたエネルギー線重合性アクリル系粘着性重合体は、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体(a1)と、該官能基に反応する置換基を有する重合性基含有化合物(a2)とを反応させることによって得られる。   The energy ray-polymerizable acrylic adhesive polymer to which a polymerizable group is bonded contains an acrylic copolymer (a1) having a functional group-containing monomer unit and a polymerizable group having a substituent that reacts with the functional group. It can be obtained by reacting with compound (a2).

アクリル系共重合体(a1)を形成する官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基を分子内に有するモノマーであり、好ましくはヒドロキシル基含有不飽和化合物、カルボキシル基含有不飽和化合物が用いられる。   The functional group-containing monomer that forms the acrylic copolymer (a1) is a monomer having a polymerizable double bond and a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a substituted amino group, or an epoxy group in the molecule. Preferably, a hydroxyl group-containing unsaturated compound or a carboxyl group-containing unsaturated compound is used.

このような官能基含有モノマーのさらに具体的な例としては、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート等のヒドロキシル基含有アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等のカルボキシル基含有化合物があげられる。上記の官能基含有モノマーは、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いてもよい。   More specific examples of such functional group-containing monomers include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl Examples thereof include hydroxyl group-containing acrylates such as methacrylate, and carboxyl group-containing compounds such as acrylic acid, methacrylic acid, and itaconic acid. The above functional group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系共重合体(a1)は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、(メタ)アクリル酸エステルモノマーあるいはその誘導体から導かれる構成単位とからなる。(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、アルキル基の炭素数が1〜18である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが用いられる。(メタ)アクリル酸エステルモノマーの誘導体としては、ジメチルアクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド等のジアルキル(メタ)アクリルアミドがあげられる。これらの中でも、特に好ましくはアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、メタクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、2-エチルヘキシルアクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、ジメチルアクリルアミド等である。   The acrylic copolymer (a1) is composed of a structural unit derived from the functional group-containing monomer and a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester monomer or a derivative thereof. As the (meth) acrylic acid ester monomer, a (meth) acrylic acid alkyl ester having 1 to 18 carbon atoms in the alkyl group is used. Examples of derivatives of (meth) acrylic acid ester monomers include dialkyl (meth) acrylamides such as dimethylacrylamide, dimethylmethacrylamide, diethylacrylamide, and diethylmethacrylamide. Among these, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, dimethyl are particularly preferable. Such as acrylamide.

アクリル系共重合体(a1)は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を通常3〜100重量%、好ましくは5〜40重量%、特に好ましくは10〜30重量%の割合で含有し、(メタ)アクリル酸エステルモノマーあるいはその誘導体から導かれる構成単位を通常0〜97重量%、好ましくは60〜95重量%、特に好ましくは70〜90重量%の割合で含有してなる。   The acrylic copolymer (a1) contains a structural unit derived from the functional group-containing monomer in an amount of usually 3 to 100% by weight, preferably 5 to 40% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight, A structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester monomer or a derivative thereof is usually contained in a proportion of 0 to 97% by weight, preferably 60 to 95% by weight, particularly preferably 70 to 90% by weight.

アクリル系共重合体(a1)は、上記のような官能基含有モノマーと、(メタ)アクリル酸エステルモノマーあるいはその誘導体とを常法にて共重合することにより得られるが、これらモノマーの他にも、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、スチレン、ビニルアセテート等が共重合されていてもよい。   The acrylic copolymer (a1) can be obtained by copolymerizing a functional group-containing monomer as described above with a (meth) acrylic acid ester monomer or a derivative thereof in a conventional manner. In addition, vinyl formate, vinyl acetate, styrene, vinyl acetate and the like may be copolymerized.

アクリル系共重合体(a1)の製造方法については、特に限定されるものではなく、例えば溶剤、連鎖移動剤、重合開始剤等の存在下で溶液重合する方法や、乳化剤、連鎖移動剤、重合開始剤、分散剤等の存在下の水系でエマルション重合する方法にて製造される。   The method for producing the acrylic copolymer (a1) is not particularly limited. For example, a solution polymerization method in the presence of a solvent, a chain transfer agent, a polymerization initiator, an emulsifier, a chain transfer agent, a polymerization It is produced by a method of emulsion polymerization in an aqueous system in the presence of an initiator, a dispersant and the like.

上記官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体(a1)を、該官能基に反応する置換基を有する重合性基含有化合物(a2)と反応させることにより、重合性基が結合されたエネルギー線重合性アクリル系粘着性重合体が得られる。   Energy in which a polymerizable group is bonded by reacting the acrylic copolymer (a1) having the functional group-containing monomer unit with a polymerizable group-containing compound (a2) having a substituent that reacts with the functional group. A linear polymerizable acrylic adhesive polymer is obtained.

重合性基含有化合物(a2)には、アクリル系共重合体(a1)中の官能基と反応しうる置換基が含まれている。この置換基は、前記官能基の種類により様々である。たとえば、官能基がヒドロキシル基またはカルボキシル基の場合、置換基としてはイソシアナート基、エポキシ基等が好ましく、官能基がカルボキシル基の場合、置換基としてはイソシアナート基、エポキシ基等が好ましく、官能基がアミノ基または置換アミノ基の場合、置換基としてはイソシアナート基等が好ましく、官能基がエポキシ基の場合、置換基としてはカルボキシル基が好ましい。このような置換基は、重合性基含有化合物(a2)1分子毎に一つずつ含まれている。   The polymerizable group-containing compound (a2) contains a substituent capable of reacting with a functional group in the acrylic copolymer (a1). This substituent varies depending on the type of the functional group. For example, when the functional group is a hydroxyl group or a carboxyl group, the substituent is preferably an isocyanate group or an epoxy group. When the functional group is a carboxyl group, the substituent is preferably an isocyanate group or an epoxy group. When the group is an amino group or a substituted amino group, the substituent is preferably an isocyanate group, and when the functional group is an epoxy group, the substituent is preferably a carboxyl group. One such substituent is included for each molecule of the polymerizable group-containing compound (a2).

また重合性基含有化合物(a2)には、エネルギー線重合性炭素−炭素二重結合が、1分子毎に1〜5個、好ましくは1〜2個含まれている。このような重合性基含有化合物(a2)の具体例としては、メタクリロイルオキシエチルイソシアナート、メタ−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアナート、メタクリロイルイソシアナート、アリルイソシアナート、グリシジル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸等が挙げられる。また、ジイソシアナート化合物またはポリイソシアナート化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物;ジイソシアナート化合物またはポリイソシアナート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物などがあげられる。   The polymerizable group-containing compound (a2) contains 1 to 5, preferably 1 to 2, energy beam polymerizable carbon-carbon double bonds per molecule. Specific examples of such polymerizable group-containing compound (a2) include methacryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, methacryloyl isocyanate, allyl isocyanate, glycidyl (meth) acrylate. ; (Meth) acrylic acid etc. are mentioned. In addition, an acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction of a diisocyanate compound or polyisocyanate compound and hydroxyethyl (meth) acrylate; a diisocyanate compound or polyisocyanate compound, a polyol compound, and hydroxyethyl (meta ) An acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction with acrylate.

重合性基含有化合物(a2)は、上記アクリル系共重合体(a1)の官能基含有モノマー100当量当たり、通常20〜100当量、好ましくは40〜95当量、特に好ましくは60〜90当量の割合で用いられる。   The polymerizable group-containing compound (a2) is usually 20 to 100 equivalents, preferably 40 to 95 equivalents, particularly preferably 60 to 90 equivalents per 100 equivalents of the functional group-containing monomer of the acrylic copolymer (a1). Used in

アクリル系共重合体(a1)と重合性基含有化合物(a2)との反応は、通常は、室温程度の温度で、常圧にて、24時間程度行なわれる。この反応は、例えば酢酸エチル等の溶液中で、ジブチル錫ラウレート等の触媒を用いて行なうことが好ましい。   The reaction between the acrylic copolymer (a1) and the polymerizable group-containing compound (a2) is usually performed at a temperature of about room temperature and normal pressure for about 24 hours. This reaction is preferably performed using a catalyst such as dibutyltin laurate in a solution such as ethyl acetate.

この結果、アクリル系共重合体(a1)中の側鎖に存在する官能基と、重合性基含有化合物(a2)中の置換基とが反応し、重合性基含有基がアクリル系共重合体(a1)中の側鎖に導入され、エネルギー線重合性アクリル系粘着性重合体が得られる。   As a result, the functional group present in the side chain in the acrylic copolymer (a1) reacts with the substituent in the polymerizable group-containing compound (a2), and the polymerizable group-containing group becomes the acrylic copolymer. Introduced into the side chain in (a1), an energy ray polymerizable acrylic adhesive polymer is obtained.

光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、チタノセン化合物、チオキサントン化合物、パーオキサイド化合物等の光開始剤、アミンやキノン等の光増感剤などが挙げられ、具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどが例示できる。エネルギー線として紫外線を用いる場合に、光重合開始剤を配合することにより照射時間、照射量を少なくすることができる。   Examples of the photopolymerization initiator include photoinitiators such as benzoin compounds, acetophenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanocene compounds, thioxanthone compounds and peroxide compounds, and photosensitizers such as amines and quinones. 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyldiphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone Examples include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. When ultraviolet rays are used as energy rays, the irradiation time and irradiation amount can be reduced by adding a photopolymerization initiator.

上記のようのエネルギー線重合性化合物および必要に応じ光重合開始剤をアクリル酸エステル共重合体に配合し、あるいはエネルギー線重合性粘着性重合体に必要に応じ光重合開始剤を配合し、エネルギー線照射を行うと、エネルギー線重合性化合物あるいはエネルギー線重合性粘着性重合体が硬化し、粘着剤特有のべとつき感が失われ、貯蔵弾性率が上昇し、プローブタック値が小さくなる。   An energy ray polymerizable compound as described above and a photopolymerization initiator as necessary are blended with an acrylate copolymer, or a photopolymerization initiator is blended with an energy ray polymerizable adhesive polymer as necessary, and energy When the irradiation is performed, the energy beam polymerizable compound or the energy beam polymerizable adhesive polymer is cured, the sticky feeling peculiar to the adhesive is lost, the storage elastic modulus is increased, and the probe tack value is decreased.

このように、粘着剤層の貯蔵弾性率及びプローブタック値は、粘着剤層を構成する樹脂材料の架橋度や、エネルギー線重合性化合物あるいはエネルギー線重合性粘着性重合体の配合量を適宜に選択することで調整することができる。   As described above, the storage elastic modulus and probe tack value of the pressure-sensitive adhesive layer are determined appropriately depending on the degree of crosslinking of the resin material constituting the pressure-sensitive adhesive layer and the amount of energy beam polymerizable compound or energy beam polymerizable pressure-sensitive adhesive polymer. It can be adjusted by selecting.

また、粘着剤層のプローブタック値は、粘着剤層の厚みによっても調整することができる。粘着剤層の厚みは、後述する剥離フィルム上に塗布する粘着剤の量によって調整する。粘着剤層が厚くなると、プローブタック値は小さくなる。   The probe tack value of the pressure-sensitive adhesive layer can also be adjusted by the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer. The thickness of an adhesive layer is adjusted with the quantity of the adhesive apply | coated on the peeling film mentioned later. As the pressure-sensitive adhesive layer becomes thicker, the probe tack value becomes smaller.

粘着剤層がエネルギー線硬化性を有しない樹脂組成物から形成される場合には、前記のように所定の貯蔵弾性率及びプローブタック値を有するように架橋度を調整して粘着剤層が得られる。   When the pressure-sensitive adhesive layer is formed from a resin composition having no energy ray curability, the pressure-sensitive adhesive layer is obtained by adjusting the degree of crosslinking so as to have a predetermined storage elastic modulus and probe tack value as described above. It is done.

粘着剤層をエネルギー線硬化性樹脂組成物から形成する場合にも上記と同様にして粘着剤層が得られる。この際、エネルギー線硬化前の粘着剤層が、上記の貯蔵弾性率及びプローブタック値を有する場合には、得られる粘着剤層をそのまま使用すればよい。   Even when the pressure-sensitive adhesive layer is formed from the energy ray-curable resin composition, the pressure-sensitive adhesive layer is obtained in the same manner as described above. At this time, when the pressure-sensitive adhesive layer before energy ray curing has the above storage elastic modulus and probe tack value, the obtained pressure-sensitive adhesive layer may be used as it is.

エネルギー線硬化前の粘着剤層が、上記の貯蔵弾性率及びプローブタック値を有しない場合には、エネルギー線硬化性の粘着剤層に、チップを貼付する前にエネルギー線を照射して、貯蔵弾性率及びプローブタック値を上述の範囲にする。   If the pressure-sensitive adhesive layer before energy ray curing does not have the above storage elastic modulus and probe tack value, store the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer by irradiating it with energy rays before attaching the chip. The elastic modulus and probe tack value are set to the above ranges.

剥離フィルム30は、粘着剤層上に仮着され、その粘着剤層側の表面粗さ(Ra)が10μm以下、好ましくは8μm以下、さらに好ましくは0.001〜5μmである。   The release film 30 is temporarily attached onto the pressure-sensitive adhesive layer, and the surface roughness (Ra) on the pressure-sensitive adhesive layer side is 10 μm or less, preferably 8 μm or less, and more preferably 0.001 to 5 μm.

剥離フィルムの表面粗さが上記範囲より大きい場合には、粘着剤層表面が粗くなり、チップの密着性が悪く、チップを安定して保持できないという不具合を生じる。また、チップを貼付できたとしても搬送、保管中にチップが脱落するという不具合を生じる。   When the surface roughness of the release film is larger than the above range, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer becomes rough, the chip adhesion is poor, and there is a problem that the chip cannot be stably held. Further, even if the chip can be attached, there is a problem that the chip falls off during transportation and storage.

剥離フィルムの厚さは、10〜300μm、好ましくは25〜200μmである。   The thickness of the release film is 10 to 300 μm, preferably 25 to 200 μm.

このような剥離フィルムは、特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン等の樹脂からなるフィルムまたはそれらの発泡フィルムや、グラシン紙、コート紙、ラミネート紙等の紙に、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル基含有カルバメート等の剥離剤で剥離処理したものを使用することができる。   Such a release film is not particularly limited, for example, a film made of a resin such as polyethylene terephthalate, polypropylene, or polyethylene, or a foamed film thereof, or paper such as glassine paper, coated paper, laminated paper, or the like , Fluorine-based and long-chain alkyl group-containing carbamates and other release agents can be used.

剥離フィルムの表面粗さを制御する手段としては、剥離フィルムとなる樹脂中に無機または有機のフィラーを練り込み、フィルムを製膜する。そのフィラーの形状、粒径または含有量によりフィルムの表面粗さを制御する。フィラーとしてはシリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、酸化チタン、カーボンブラック、及びこれらの有機修飾されたものが挙げられる。これらのフィラーを樹脂に混合し、フィルム表面へコーティングしてもよい。フィルム製膜時に、金属ロールをフィルムに押し当ててフィルム表面にロールの形状を転写させる。そのロールの表面(エンボス、マット)状態で表面粗さを制御する。フィルム表面へ粒子を吹き付ける事でフィルム表面に凹凸を形成する。その吹き付ける粒子の粒径、吹き付け圧力、吹き付け時間により表面粗さを制御する。   As a means for controlling the surface roughness of the release film, an inorganic or organic filler is kneaded into the resin to be the release film to form a film. The surface roughness of the film is controlled by the shape, particle size or content of the filler. Examples of the filler include silica, alumina, calcium carbonate, titanium oxide, carbon black, and organically modified materials thereof. These fillers may be mixed with the resin and coated on the film surface. At the time of film formation, a metal roll is pressed against the film to transfer the shape of the roll onto the film surface. The surface roughness is controlled by the surface (embossed, matte) state of the roll. Unevenness is formed on the film surface by spraying particles on the film surface. The surface roughness is controlled by the particle size of the particles to be sprayed, the spraying pressure, and the spraying time.

剥離フィルムは、上述した粘着剤層形成時に、粘着剤層に貼り合わせることが好ましく、さらに好ましくは、溶剤に希釈した粘着剤を剥離フィルムに塗布し、乾燥させることで粘着剤層を形成する方法である。   The release film is preferably bonded to the pressure-sensitive adhesive layer at the time of forming the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer, and more preferably, a method of forming the pressure-sensitive adhesive layer by applying a pressure-sensitive adhesive diluted in a solvent to the release film and drying it. It is.

一般に、剥離フィルム上に粘着剤を塗布すると、剥離フィルム表面の凹凸に粘着剤が埋め込まれ、粘着剤が乾燥すると、剥離フィルム表面の凹凸がほぼ忠実に転写された粘着剤層を得ることができる。したがって、表面粗さの大きな剥離フィルムを用いると、表面粗さ(Ra)の大きな粘着剤層が形成される。また、表面粗さの小さな剥離フィルムを用いると、表面粗さ(Ra)の小さな粘着剤層が形成される。   Generally, when a pressure-sensitive adhesive is applied onto a release film, the pressure-sensitive adhesive is embedded in the unevenness on the surface of the release film, and when the pressure-sensitive adhesive is dried, a pressure-sensitive adhesive layer in which the unevenness on the surface of the release film is transferred almost faithfully can be obtained. . Therefore, when a release film having a large surface roughness is used, a pressure-sensitive adhesive layer having a large surface roughness (Ra) is formed. Moreover, when a release film having a small surface roughness is used, an adhesive layer having a small surface roughness (Ra) is formed.

このようにして得られた粘着剤層を基材フィルムに転写することで、本発明のダイソートテープが得られる。   By transferring the pressure-sensitive adhesive layer thus obtained to the base film, the die sort tape of the present invention is obtained.

チップを粘着剤層からピックアップする際に、ピックアップミスを少なくし、また、チップを保管、搬送、水洗浄する際には該チップが脱落することのないダイソートテープを得るためには、粘着剤層の貯蔵弾性率とプローブタック値、剥離フィルムの表面粗さのコントロールが重要である。   In order to obtain a die sort tape that reduces pick-up mistakes when picking up a chip from the adhesive layer and that does not drop off when the chip is stored, transported and washed with water. It is important to control the storage elastic modulus of the layer, the probe tack value, and the surface roughness of the release film.

粘着剤層の貯蔵弾性率とプローブタック値、剥離フィルムの表面粗さを上記範囲とすることで、粘着剤層とチップとの接着面へのエアの混入が低減され、チップを粘着剤層からピックアップする際のピックアップ力が安定するため、ピックアップミスを少なくすることができ、また、チップを保管、搬送する際に該チップの脱落を防止することができる。また、本発明のダイソートテープでは、エアが混入したとしても、エアは粘着剤層とチップとの接着面へ均一に混入するため、チップのピックアップ力が略一定になり、ピックアップミスを少なくすることができる。   By setting the storage elastic modulus and probe tack value of the pressure-sensitive adhesive layer and the surface roughness of the release film within the above ranges, air mixing into the adhesive surface between the pressure-sensitive adhesive layer and the chip is reduced, and the chip is removed from the pressure-sensitive adhesive layer. Since the pick-up force at the time of pick-up is stabilized, pick-up mistakes can be reduced, and the chip can be prevented from falling off when the chip is stored and transported. Further, in the die sort tape of the present invention, even if air is mixed, since the air is uniformly mixed into the adhesive surface between the adhesive layer and the chip, the chip pick-up force becomes substantially constant and pickup errors are reduced. be able to.

上記範囲よりも、粘着剤層の貯蔵弾性率が高い場合、プローブタック値が小さい場合、剥離フィルムの表面粗さが大きい場合、貯蔵弾性率が高く、剥離フィルムの表面粗さが大きい場合、貯蔵弾性率が高く、プローブタック値が小さく、剥離フィルムの表面粗さが大きい場合、プローブタック値が小さく、剥離フィルムの表面粗さが大きい場合、もしくは貯蔵弾性率が高く、プローブタック値が小さい場合には、チップの粘着剤層への密着性が悪く、チップを保持できないという不具合を生じる。また、仮に一時的に保持できたとしても搬送、保管中にチップが脱落するという不具合を生じる。   When the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is higher than the above range, when the probe tack value is small, when the surface roughness of the release film is large, when the storage elastic modulus is high and the surface roughness of the release film is large, storage When the elastic modulus is high, the probe tack value is small, and the surface roughness of the release film is large, when the probe tack value is small and the surface roughness of the release film is large, or when the storage elastic modulus is high and the probe tack value is small However, the adhesiveness of the chip to the pressure-sensitive adhesive layer is poor and the chip cannot be held. Even if it can be temporarily held, there is a problem that the chip falls off during transportation and storage.

上記範囲よりも、粘着剤層のプローブタック値が大きい場合、もしくはプローブタック値が大きく、剥離フィルムの表面粗さが大きい場合には、粘着剤層とチップとの接着面に不均一な状態でエアが混入し、粘着剤層とチップとの接着面積が不均一となりピックアップ力が安定しない。   When the probe tack value of the pressure-sensitive adhesive layer is larger than the above range, or when the probe tack value is large and the surface roughness of the release film is large, the adhesive surface between the pressure-sensitive adhesive layer and the chip is not uniform. Air is mixed in and the adhesive area between the pressure-sensitive adhesive layer and the chip becomes non-uniform, and the pickup force is not stable.

上記範囲よりも、粘着剤層の貯蔵弾性率が低い場合には、粘着剤層が特定の表面粗さを有する形状を維持できず、粘着剤層とチップとの接着面積が不均一となりピックアップ力が安定しない。   When the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is lower than the above range, the pressure-sensitive adhesive layer cannot maintain a shape having a specific surface roughness, and the adhesive area between the pressure-sensitive adhesive layer and the chip becomes non-uniform so that the pick-up force Is not stable.

(実施例)
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例および比較例における評価方法及び試験方法を以下に示す。
(Example)
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.
Evaluation methods and test methods in Examples and Comparative Examples are shown below.

[チップ保持]
実施例及び比較例のダイソートテープを23℃において、リングフレームに固定し、ダイソートテープの粘着剤層に裏面を研磨したチップ(シリコンチップ、#2000研磨、10×10mm)の研磨面を貼付(圧着加重4.9N、圧着時間2秒)した。チップを貼付後、10秒後にリングフレームごとダイソートテープを逆さにした。チップが保持できたものを「A」、チップが保持できなかったものを「B」とした。
[Chip holding]
The die sort tapes of Examples and Comparative Examples were fixed to a ring frame at 23 ° C., and the polished surface of a chip (silicon chip, # 2000 polished, 10 × 10 mm) whose back surface was polished was attached to the adhesive layer of the die sort tape. (Pressure bonding weight 4.9N, pressure bonding time 2 seconds). Ten seconds after attaching the chip, the die sort tape was inverted with the ring frame. The chip that could be held by the chip was “A”, and the chip that could not be held was “B”.

[エア混入]
実施例及び比較例のダイソートテープを23℃において、リングフレームに固定し、ダイソートテープの粘着剤層に裏面を研磨したチップ(シリコンチップ、#2000研磨、10×10mm)の研磨面を貼付(圧着加重4.9N、圧着時間2秒)した。チップを貼付後、23℃で2時間保管し、チップとダイソートテープの接着面に混入したエア混入度合いを目視にて確認した。エア混入が確認できなかったものを「A」、均一な状態でエア混入が確認されたものを「B」、不均一な状態でエア混入が確認されたものを「C」とした。
[Air mixing]
The die sort tapes of Examples and Comparative Examples were fixed to a ring frame at 23 ° C., and the polished surface of a chip (silicon chip, # 2000 polished, 10 × 10 mm) whose back surface was polished was attached to the adhesive layer of the die sort tape. (Pressure bonding weight 4.9N, pressure bonding time 2 seconds). After sticking the chip, it was stored at 23 ° C. for 2 hours, and the degree of air contamination mixed on the bonded surface of the chip and the die sort tape was visually confirmed. The case where air contamination was not confirmed was designated as “A”, the case where air contamination was confirmed in a uniform state was designated as “B”, and the case where air contamination was confirmed in a non-uniform state was designated as “C”.

[ピックアップ力とそのばらつき(平均、最大、最小、標準偏差)]
実施例及び比較例のダイソートテープを23℃において、リングフレームに固定し、ダイソートテープの粘着剤層に裏面を研磨したチップ(シリコンチップ、#2000研磨、10×10mm)の研磨面を貼付(圧着加重4.9N、圧着時間2秒)した。チップを貼付後、23℃で6時間保管し、ピックアップ力を測定した。粘着剤層が紫外線硬化型の場合は、チップを貼付後、23℃で3時間保管後に紫外線照射を行い、その後23℃で3時間保管しピックアップ力を測定した。ピックアップ力は、下記の条件で、ダイソートテープ側よりニードルで突き上げた時のニードルに掛かる荷重の最大値を測定した。
試験数:10チップ
突き上げニードル数:4本(8mmの正方形の角に配置)
突き上げニードル形状:直径0.7mm、先端のテーパー角度20度、先端の曲率半径0.03mm
突き上げ速度:0.3m/min
突き上げ量:2mm(ニードルがテープに接触してから)
[Pickup force and its variation (average, maximum, minimum, standard deviation)]
The die sort tapes of Examples and Comparative Examples were fixed to a ring frame at 23 ° C., and the polished surface of a chip (silicon chip, # 2000 polished, 10 × 10 mm) whose back surface was polished was attached to the adhesive layer of the die sort tape. (Pressure bonding weight 4.9N, pressure bonding time 2 seconds). After attaching the chip, the chip was stored at 23 ° C. for 6 hours, and the pick-up force was measured. In the case where the pressure-sensitive adhesive layer was an ultraviolet curable type, the chip was attached, and ultraviolet irradiation was performed after storage at 23 ° C. for 3 hours. For the pickup force, the maximum value of the load applied to the needle when pushed up from the die sort tape side with the needle was measured under the following conditions.
Number of tests: 10 tips Number of push-up needles: 4 (arranged at the corner of an 8mm square)
Push-up needle shape: 0.7mm diameter, tip taper angle 20 degrees, tip radius of curvature 0.03mm
Pushing speed: 0.3m / min
Push-up amount: 2mm (after the needle contacts the tape)

[貯蔵弾性率測定(G’)]
(紫外線照射しない場合の貯蔵弾性率)
実施例および比較例に記載した粘着剤層について、シリコーン剥離処理を行った2枚のポリエチレンテレフタレートフィルム(剥離フィルム)で挟まれた粘着剤層を得た。片方の剥離フィルムを剥がし、粘着剤層が重なるように積層を繰り返し、厚みが3mmの粘着剤を得た。直径8mmの円柱形に型抜きして弾性率測定用の試料を作製した。両側の剥離フィルムを剥がし、この試料の捻り剪断法による周波数1Hz、温度23℃における貯蔵弾性率G’を、粘弾性測定装置(REOMETRIC社製DYNAMIC ANALYZER RDA-II)を用いて測定した。
(紫外線照射した場合の貯蔵弾性率)
実施例および比較例に記載した粘着剤層について、粘着剤層を厚さ300μm程度まで積層し、その後紫外線照射装置(リンテック(株)製、Adwill RAD2000m/8)を用いて紫外線照射(照度220mW/cm2、光量320mJ/cm2)した。積層した粘着剤層を幅4mm、長さ(チャック間距離)30mmのサイズの試料とし、この試料の周波数11Hz、温度23℃における貯蔵弾性率E’を、動的粘弾性測定装置(オリエンテック社製RHEOVIBRON DDV-II-EP)を用いて測定した。
なお、紫外線照射した場合と紫外線照射しない場合との測定方法の違いによる差を無くすため、E’=3G’の式(「フェリー高分子の粘弾性」参照)を用いて測定値E’をG’に換算した。
[Storage elastic modulus measurement (G ')]
(Storage modulus without UV irradiation)
About the adhesive layer described in the Example and the comparative example, the adhesive layer pinched | interposed by the two polyethylene terephthalate films (peeling film) which performed the silicone peeling process was obtained. One release film was peeled off, and lamination was repeated so that the pressure-sensitive adhesive layers overlapped to obtain a pressure-sensitive adhesive having a thickness of 3 mm. A sample for elastic modulus measurement was produced by punching into a cylindrical shape with a diameter of 8 mm. The release films on both sides were peeled off, and the storage elastic modulus G ′ at a frequency of 1 Hz and a temperature of 23 ° C. was measured using a viscoelasticity measuring apparatus (DYNAMIC ANALYZER RDA-II manufactured by REOMETRIC).
(Storage elastic modulus when irradiated with ultraviolet rays)
For the pressure-sensitive adhesive layers described in the Examples and Comparative Examples, the pressure-sensitive adhesive layer was laminated to a thickness of about 300 μm, and then irradiated with ultraviolet rays (Adil RAD2000m / 8, manufactured by Lintec Co., Ltd.) (illuminance 220 mW / cm 2 and light intensity of 320 mJ / cm 2 ). The laminated adhesive layer was used as a sample having a width of 4 mm and a length (distance between chucks) of 30 mm, and the storage elastic modulus E ′ at a frequency of 11 Hz and a temperature of 23 ° C. was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (Orientec). Measurement was performed using RHEOVIBRON DDV-II-EP).
In order to eliminate the difference due to the difference in measurement method between the case of ultraviolet irradiation and the case of no ultraviolet irradiation, the measured value E ′ is expressed as G using the equation E ′ = 3G ′ (see “Viscoelasticity of Ferry Polymer”). Converted to '.

[表面粗さ(算術平均粗さ Ra)]
JIS B0601−2001に基づき、表面粗さ計((株)ミツトヨ製、SV-3000S4)により剥離フィルム表面の算術平均粗さRaを測定した。測定長さを18mm、走査速度を1.0mm/s、データサンプリングピッチを1.0μmとした。
[Surface roughness (arithmetic mean roughness Ra)]
Based on JIS B0601-2001, the arithmetic average roughness Ra of the peeled film surface was measured with a surface roughness meter (SV-3000S4, manufactured by Mitutoyo Corporation). The measurement length was 18 mm, the scanning speed was 1.0 mm / s, and the data sampling pitch was 1.0 μm.

[プローブタック値]
粘着剤層のプローブタック値は、JIS Z0237参考5のプローブタック試験方法に基づいて測定した。具体的には、試験片(幅=約25mm、長さ=約25mm)をプローブタック試験装置に取付け、実施例および比較例に記載した粘着剤層にプローブを一定荷重をかけながら一定時間接触させた後、プローブを粘着剤層から垂直方向に引き剥がすのに要する力を求め、これをプローブタック値とした。プローブとしては、ステンレスSUS304製の円柱プローブ(直径=5mm)を用い、接触速さ及び引き剥がし速さを毎秒10mmとし、接触荷重を0.98N/cm2とし、接触時間を1秒とした。
[Probe tack value]
The probe tack value of the adhesive layer was measured based on the probe tack test method of JIS Z0237 Reference 5. Specifically, a test piece (width = about 25 mm, length = about 25 mm) is attached to the probe tack test apparatus, and the probe is brought into contact with the adhesive layer described in the examples and comparative examples for a certain period of time while applying a certain load. After that, the force required to peel the probe from the adhesive layer in the vertical direction was determined, and this was used as the probe tack value. As the probe, a cylindrical probe (diameter = 5 mm) made of stainless steel SUS304 was used, the contact speed and the peeling speed were 10 mm per second, the contact load was 0.98 N / cm 2 , and the contact time was 1 second.

(実施例1)
アクリル系共重合体(ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルアクリレート=85/15(質量比)、重量平均分子量=約84万)に、メタクリロイルオキシエチルアクリレートを80%当量(アクリル系共重合体100質量部に対し16質量部)反応させたエネルギー線重合性アクリル系粘着性重合体100質量部に、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)0.45質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
表面粗さが0.007μmの剥離フィルムに、上記粘着剤組成物を塗布した後に、乾燥(オーブンにて100℃、1分間)させ、厚み10μmの粘着剤層を作製した。次いで基材フィルムとして、片面にコロナ処理を施したエチレン−メタクリル酸共重合フィルム(厚さ80μm)を用い、このコロナ処理面に粘着剤層を転写し、ダイソートテープを得た。このダイソートテープについて、チップ保持及びピックアップ力評価を行った。また、これとは別の該ダイソートテープについて、貯蔵弾性率測定、表面粗さ測定、プローブタック試験を行った。結果を表1に示す。
Example 1
Acrylic copolymer (butyl acrylate / hydroxyethyl acrylate = 85/15 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 840,000) and 80% equivalent of methacryloyloxyethyl acrylate (based on 100 parts by mass of acrylic copolymer) 16 parts by mass) 100 parts by mass of the reacted energy ray polymerizable acrylic adhesive polymer, 3.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184), and an isocyanate compound (manufactured by Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd.) , BHS-8515) 0.45 parts by mass (all blending ratios in terms of solid content) were used to obtain an adhesive composition.
The pressure-sensitive adhesive composition was applied to a release film having a surface roughness of 0.007 μm, and then dried (100 ° C. for 1 minute in an oven) to prepare a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 10 μm. Next, an ethylene-methacrylic acid copolymer film (thickness 80 μm) subjected to corona treatment on one side was used as a base film, and the pressure-sensitive adhesive layer was transferred to the corona-treated surface to obtain a die sort tape. This die sort tape was evaluated for chip holding and pickup power. In addition, a storage modulus measurement, a surface roughness measurement, and a probe tack test were performed on the die sort tape different from this. The results are shown in Table 1.

(実施例2)
表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表1に示す。
(Example 2)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. The results are shown in Table 1.

(実施例3)
表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表1に示す。
(Example 3)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. The results are shown in Table 1.

(実施例4)
表面粗さが1.482μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表1に示す。
Example 4
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that a release film having a surface roughness of 1.482 μm was used. The results are shown in Table 1.

(実施例5)
表面粗さが4.985μmの剥離フィルムを用い、粘着剤組成物の厚みを15μmとした以外は実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表1に示す。
(Example 5)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that a release film having a surface roughness of 4.985 μm was used and the thickness of the pressure-sensitive adhesive composition was changed to 15 μm. The results are shown in Table 1.

(実施例6)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例1のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表1に示す。
(Example 6)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using, Example 1 of the die sort UV from the substrate film side of the tape (illuminance 120 mW / cm 2 in the main wavelength 365 nm, light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 1.

(実施例7)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例2のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表1に示す。
(Example 7)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 2, light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 1.

(実施例8)
粘着剤組成物として、下記のエネルギー線硬化性樹脂組成物を用い、表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は、実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表2に示す。
アクリル系共重合体(ブチルアクリレート/アクリル酸=91/9(質量比)、重量平均分子量=約50万)100質量部に対し、エネルギー線重合性化合物として5〜9官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量=約1500)118質量部を配合した混合物100質量部に、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)7.6質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
(Example 8)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the following energy ray-curable resin composition was used as the adhesive composition and a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. It was. The results are shown in Table 2.
For 100 parts by mass of acrylic copolymer (butyl acrylate / acrylic acid = 91/9 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 500,000), 5-9 functional urethane acrylate (weight average molecular weight) as an energy ray polymerizable compound = Approximately 1500) 100 parts by mass of a mixture containing 118 parts by mass, 3.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184), and an isocyanate compound (manufactured by Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd., BHS-8515) 7.6 Mass parts were blended (all blending ratios in terms of solid content) to obtain an adhesive composition.

(実施例9)
表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例8と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表2に示す。
Example 9
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 8 except that a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. The results are shown in Table 2.

(実施例10)
表面粗さが1.482μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例8と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表2に示す。
(Example 10)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 8 except that a release film having a surface roughness of 1.482 μm was used. The results are shown in Table 2.

(実施例11)
表面粗さが4.985μmの剥離フィルムを用い、粘着剤組成物の厚みを15μmとした以外は実施例8と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表2に示す。
Example 11
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 8 except that a release film having a surface roughness of 4.985 μm was used and the thickness of the pressure-sensitive adhesive composition was changed to 15 μm. The results are shown in Table 2.

(実施例12)
粘着剤組成物として、下記のエネルギー線硬化性樹脂組成物を用い、表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は、実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表3に示す。
アクリル系共重合体(ブチルアクリレート/アクリル酸=91/9(質量比)、重量平均分子量=約50万)100質量部に対し、エネルギー線重合性化合物として3〜4官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量=約4000)124質量部を配合した混合物100質量部に、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)4.9質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
Example 12
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the following energy ray-curable resin composition was used as the adhesive composition and a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. It was. The results are shown in Table 3.
For 100 parts by mass of acrylic copolymer (butyl acrylate / acrylic acid = 91/9 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 500,000), 3-4 functional urethane acrylate (weight average molecular weight) as an energy ray polymerizable compound = Approximately 4000) 100 parts by weight of a mixture containing 124 parts by weight, 3.5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184), and isocyanate compound (manufactured by Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd., BHS-8515) 4.9 Mass parts were blended (all blending ratios in terms of solid content) to obtain an adhesive composition.

(実施例13)
表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例12と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表3に示す。
(Example 13)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 12 except that a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. The results are shown in Table 3.

(実施例14)
表面粗さが1.482μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例12と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表3に示す。
(Example 14)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 12 except that a release film having a surface roughness of 1.482 μm was used. The results are shown in Table 3.

(実施例15)
表面粗さが4.985μmの剥離フィルムを用い、粘着剤組成物の厚みを15μmとした以外は実施例12と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表3に示す。
(Example 15)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 12 except that a release film having a surface roughness of 4.985 μm was used and the thickness of the pressure-sensitive adhesive composition was changed to 15 μm. The results are shown in Table 3.

(実施例16)
表面粗さが0.007μmの剥離フィルムを用い、紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射した以外は実施例12と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表3に示す。
(Example 16)
Using a release film with a surface roughness of 0.007μm, using an ultraviolet irradiation device (RAD-2000m / 8, manufactured by Lintec Corporation), ultraviolet rays from the substrate film surface (illuminance 120mW / cm 2 at a main wavelength of 365nm, light intensity) A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 12 except that 220 mJ / cm 2 ) was irradiated. The results are shown in Table 3.

(実施例17)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例12のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射し、評価を行った。結果を表3に示す。
(Example 17)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 12, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) And evaluated. The results are shown in Table 3.

(実施例18)
粘着剤組成物として、下記のエネルギー線硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表4に示す。
アクリル系共重合体(アクリル酸2−エチルヘキシル/ビニルアセテート/ヒドロキシエチルアクリレート=40/40/20(質量比)、重量平均分子量=約50万)に、メタクリロイルオキシエチルアクリレートを80%当量(アクリル系共重合体100質量部に対し21.3質量部)反応させたエネルギー線重合性アクリル系粘着性重合体100質量部に、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)1.07質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
(Example 18)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the following energy ray-curable resin composition was used as the pressure-sensitive adhesive composition. The results are shown in Table 4.
Acrylic copolymer (2-ethylhexyl acrylate / vinyl acetate / hydroxyethyl acrylate = 40/40/20 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 500,000) and 80% equivalent of methacryloyloxyethyl acrylate (acrylic) 21.3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copolymer) 100 parts by mass of the energy ray-polymerizable acrylic adhesive polymer, 3.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Ibusacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and isocyan 1.07 parts by mass of a narate compound (BHS-8515, manufactured by Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd.) was blended (all blending ratios in terms of solid content) to obtain an adhesive composition.

(実施例19)
表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例18と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表4に示す。
Example 19
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 18 except that a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. The results are shown in Table 4.

(実施例20)
表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例18と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表4に示す。
(Example 20)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 18 except that a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. The results are shown in Table 4.

(実施例21)
粘着剤組成物として、下記のエネルギー線硬化性樹脂組成物を用い、表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は、実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表5に示す。
アクリル系共重合体(ブチルアクリレート/メチルアクリレート/ヒドロキシエチルアクリレート/アクリルアミド=68.5/30/0.5/1(質量比)、重量平均分子量=約50万)100質量部に対し、エネルギー線重合性化合物として5〜9官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量=約1500)121質量部を配合した混合物100質量部に、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)3.7質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
(Example 21)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the following energy ray-curable resin composition was used as the adhesive composition and a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. It was. The results are shown in Table 5.
As an energy ray-polymerizable compound for 100 parts by mass of an acrylic copolymer (butyl acrylate / methyl acrylate / hydroxyethyl acrylate / acrylamide = 68.5 / 30 / 0.5 / 1 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 500,000) To 100 parts by mass of a mixture containing 121 parts by mass of 5 to 9 functional urethane acrylate (weight average molecular weight = about 1500), 3.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Ibusacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and an isocyanate compound (Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd., BHS-8515) 3.7 parts by mass was blended (all blending ratios in terms of solid content) to obtain an adhesive composition.

(実施例22)
表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例21と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表5に示す。
(Example 22)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 21 except that a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. The results are shown in Table 5.

(実施例23)
粘着剤組成物として、下記のエネルギー線硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表6に示す。
アクリル系共重合体(ブチルアクリレート/メチルメタクリレート/ヒドロキシエチルアクリレート=52/20/28(質量比)、重量平均分子量=約50万)に、メタクリロイルオキシエチルアクリレートを90%当量(アクリル系共重合体100質量部に対し33.7質量部)反応させたエネルギー線重合性アクリル系粘着性重合体100質量部に、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)0.11質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
(Example 23)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the following energy ray-curable resin composition was used as the pressure-sensitive adhesive composition. The results are shown in Table 6.
Acrylic copolymer (butyl acrylate / methyl methacrylate / hydroxyethyl acrylate = 52/20/28 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 500,000) and 90% equivalent of methacryloyloxyethyl acrylate (acrylic copolymer) (33.7 parts by mass with respect to 100 parts by mass) 100 parts by mass of the energy ray-polymerizable acrylic adhesive polymer reacted with 3.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and an isocyanate compound ( 0.11 parts by mass (BHS-8515, manufactured by Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd.) was blended (all blending ratios in terms of solid content) to obtain an adhesive composition.

(実施例24)
表面粗さが0.279μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例23と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表6に示す。
(Example 24)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 23 except that a release film having a surface roughness of 0.279 μm was used. The results are shown in Table 6.

(実施例25)
表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例23と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表6に示す。
(Example 25)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 23 except that a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. The results are shown in Table 6.

(実施例26)
粘着剤組成物として、下記のエネルギー線硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表7に示す。
アクリル系共重合体(ブチルアクリレート/メチルメタクリレート/アクリル酸/ヒドロキシエチルアクリレート=84/8/3/5(質量比)、重量平均分子量=約50万)100質量部に対し、エネルギー線重合性化合物として2官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量=約8000)125質量部を配合した混合物100質量部に、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア(商標登録)184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)2.1質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
(Example 26)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the following energy ray-curable resin composition was used as the pressure-sensitive adhesive composition. The results are shown in Table 7.
Energy ray polymerizable compound for 100 parts by mass of acrylic copolymer (butyl acrylate / methyl methacrylate / acrylic acid / hydroxyethyl acrylate = 84/8/3/5 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 500,000) To 100 parts by mass of a mixture containing 125 parts by mass of a bifunctional urethane acrylate (weight average molecular weight = approximately 8000), 3.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure (registered trademark) 184), and isocyanate 2.1 parts by mass of a compound (BHS-8515, manufactured by Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd.) was blended (all blending ratios in terms of solid content) to obtain an adhesive composition.

(実施例27)
表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例26と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表7に示す。
(Example 27)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 26 except that a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. The results are shown in Table 7.

(実施例28)
表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例26と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表7に示す。
(Example 28)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 26 except that a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. The results are shown in Table 7.

(実施例29)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例26のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表7に示す。
(Example 29)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 26, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 7.

(実施例30)
表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は、実施例29と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表7に示す。
(Example 30)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 29 except that a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. The results are shown in Table 7.

(実施例31)
粘着剤組成物として、下記のエネルギー線硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例1と同様の方法でソートテープを得、評価を行った。結果を表8に示す。
アクリル系共重合体(アクリル酸2-エチルヘキシル/ビニルアセテート/アクリル酸/ヒドロキシエチルメタクリレート=19.6/78.4/1/1(質量比)、重量平均分子量=約50万)100質量部に対し、エネルギー線重合性化合物として2官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量=約3000)を35質量部、および6官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量=約3000)35質量部を配合した混合物100質量部に、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)3.5質量部、およびロジン含有ジオール4.2質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)1.9質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
(Example 31)
A sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the following energy ray-curable resin composition was used as the pressure-sensitive adhesive composition. The results are shown in Table 8.
Energy ray for 100 parts by mass of acrylic copolymer (2-ethylhexyl acrylate / vinyl acetate / acrylic acid / hydroxyethyl methacrylate = 19.6 / 78.4 / 1/1 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 500,000) A photopolymerization initiator is added to 100 parts by mass of a mixture of 35 parts by mass of bifunctional urethane acrylate (weight average molecular weight = about 3000) and 35 parts by mass of hexafunctional urethane acrylate (weight average molecular weight = about 3000) as a polymerizable compound. (Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184) 3.5 parts by weight, rosin-containing diol 4.2 parts by weight, and isocyanate compound (Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd., BHS-8515) 1.9 parts by weight (all blended in solid content) And an adhesive composition was obtained.

(実施例32)
表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は、実施例31と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表8に示す。
(Example 32)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 31 except that a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. The results are shown in Table 8.

(実施例33)
表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は、実施例31と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表8に示す。
(Example 33)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 31 except that a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. The results are shown in Table 8.

(実施例34)
表面粗さが4.985μmの剥離フィルムを用い、粘着剤組成物の厚みを15μmとした以外は実施例31と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表8に示す。
(Example 34)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 31 except that a release film having a surface roughness of 4.985 μm was used and the thickness of the pressure-sensitive adhesive composition was changed to 15 μm. The results are shown in Table 8.

(実施例35)
粘着剤組成物として、下記のエネルギー線硬化性樹脂組成物を用い、表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は、実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表9に示す。
アクリル系共重合体(ブチルアクリレート/アクリル酸=91/9(質量比)、重量平均分子量=約50万)100質量部に対し、エネルギー線重合性化合物として3〜4官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量=約4000)124質量部を配合した混合物100質量部に、ジオクチルフタレート10質量部、および光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)4.9質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
(Example 35)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the following energy ray-curable resin composition was used as the pressure-sensitive adhesive composition, and a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. It was. The results are shown in Table 9.
For 100 parts by mass of acrylic copolymer (butyl acrylate / acrylic acid = 91/9 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 500,000), 3-4 functional urethane acrylate (weight average molecular weight) as an energy ray polymerizable compound = Approximately 4000) 100 parts by weight of a mixture containing 124 parts by weight, 10 parts by weight of dioctyl phthalate, 3.5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184), and an isocyanate compound (Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd.) 4.9 parts by mass (manufactured by BHS-8515) were blended (all blending ratios in terms of solid content) to obtain an adhesive composition.

(実施例36)
表面粗さが1.482μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例35と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表9に示す。
(Example 36)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 35 except that a release film having a surface roughness of 1.482 μm was used. The results are shown in Table 9.

(実施例37)
表面粗さが4.985μmの剥離フィルムを用い、粘着剤組成物の厚みを15μmとした以外は実施例35と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表9に示す。
(Example 37)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 35 except that a release film having a surface roughness of 4.985 μm was used and the thickness of the pressure-sensitive adhesive composition was changed to 15 μm. The results are shown in Table 9.

(実施例38)
粘着剤組成物として、下記のエネルギー線硬化性樹脂組成物を用い、表面粗さが0.8μmの剥離フィルムを用いた以外は、実施例1と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表10に示す。
アクリル系共重合体(ブチルアクリレート/アクリル酸=91/9(質量比)、重量平均分子量=約50万)100質量部に対し、エネルギー線重合性化合物として3〜4官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量=約4000)124質量部を配合した混合物100質量部に、ジオクチルフタレート20質量部、および光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)3.5質量部、およびイソシアナート化合物(東洋キンキ製造社製、BHS-8515)4.9質量部を配合(全て固形分換算による配合比)し、粘着剤組成物とした。
(Example 38)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the following energy ray-curable resin composition was used as the pressure-sensitive adhesive composition, and a release film having a surface roughness of 0.8 μm was used. It was. The results are shown in Table 10.
For 100 parts by mass of acrylic copolymer (butyl acrylate / acrylic acid = 91/9 (mass ratio), weight average molecular weight = approximately 500,000), 3-4 functional urethane acrylate (weight average molecular weight) as an energy ray polymerizable compound = Approximately 4000) 100 parts by weight of a mixture containing 124 parts by weight, 20 parts by weight of dioctyl phthalate, 3.5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184), and an isocyanate compound (Toyo Kinki Manufacturing Co., Ltd.) 4.9 parts by mass (manufactured by BHS-8515) were blended (all blending ratios in terms of solid content) to obtain an adhesive composition.

(実施例39)
表面粗さが1.482μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例38と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表10に示す。
(Example 39)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 38 except that a release film having a surface roughness of 1.482 μm was used. The results are shown in Table 10.

(実施例40)
表面粗さが4.985μmの剥離フィルムを用い、粘着剤組成物の厚みを15μmとした以外は実施例38と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表10に示す。
(Example 40)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 38 except that a release film having a surface roughness of 4.985 μm was used and the thickness of the pressure-sensitive adhesive composition was changed to 15 μm. The results are shown in Table 10.

(比較例1)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例3のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using, die sort UV from the substrate film side of the tape (main illuminance 120 mW / cm 2 at a wavelength 365nm of Example 3, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 1.

(比較例2)
表面粗さが0.007μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例8と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表2に示す。
(Comparative Example 2)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 8 except that a release film having a surface roughness of 0.007 μm was used. The results are shown in Table 2.

(比較例3)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、比較例2のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表2に示す。
(Comparative Example 3)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Comparative Example 2, light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 2.

(比較例4)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例8のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表2に示す。
(Comparative Example 4)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000 m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 8, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 2.

(比較例5)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例9のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表2に示す。
(Comparative Example 5)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm Example 9, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 2.

(比較例6)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例10のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表2に示す。
(Comparative Example 6)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 10, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 2.

(比較例7)
表面粗さが0.007μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例12と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表3に示す。
(Comparative Example 7)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 12 except that a release film having a surface roughness of 0.007 μm was used. The results are shown in Table 3.

(比較例8)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例13のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表3に示す。
(Comparative Example 8)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 13, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 3.

(比較例9)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例18のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表4に示す。
(Comparative Example 9)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 18, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 4.

(比較例10)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例19のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表4に示す。
(Comparative Example 10)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 19, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 4.

(比較例11)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例20のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表4に示す。
(Comparative Example 11)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 20, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 4.

(比較例12)
表面粗さが0.007μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例21と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表5に示す。
(Comparative Example 12)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 21 except that a release film having a surface roughness of 0.007 μm was used. The results are shown in Table 5.

(比較例13)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、比較例12のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表5に示す。
(Comparative Example 13)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Comparative Example 12, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 5.

(比較例14)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例21のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表5に示す。
(Comparative Example 14)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 21, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 5.

(比較例15)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例22のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表5に示す。
(Comparative Example 15)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 22, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 5.

(比較例16)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例23のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表6に示す。
(Comparative Example 16)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 23, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 6.

(比較例17)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例24のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表6に示す。
(Comparative Example 17)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 24, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 6.

(比較例18)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例25のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表6に示す。
(Comparative Example 18)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 25, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 6.

(比較例19)
紫外線照射装置(リンテック(株)製、RAD-2000m/8)を用いて、実施例28のダイソートテープの基材フィルム面から紫外線(主波長365nmにおいて照度120mW/cm2、光量220mJ/cm2)を照射しダイソートテープを得、評価を行った。結果を表7に示す。
(Comparative Example 19)
UV irradiation device (Lintec Co., RAD-2000m / 8) using the illuminance 120 mW / cm 2 in the die sort UV from the substrate film side of the tape (main wavelength 365nm of Example 28, the light quantity 220 mJ / cm 2 ) To obtain a die sort tape for evaluation. The results are shown in Table 7.

(比較例20)
表面粗さが0.007μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例35と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表9に示す。
(Comparative Example 20)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 35 except that a release film having a surface roughness of 0.007 μm was used. The results are shown in Table 9.

(比較例21)
表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は比較例20と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表9に示す。
(Comparative Example 21)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Comparative Example 20 except that a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. The results are shown in Table 9.

(比較例22)
表面粗さが0.007μmの剥離フィルムを用いた以外は実施例38と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表10に示す。
(Comparative Example 22)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Example 38 except that a release film having a surface roughness of 0.007 μm was used. The results are shown in Table 10.

(比較例23)
表面粗さが0.024μmの剥離フィルムを用いた以外は比較例22と同様の方法でダイソートテープを得、評価を行った。結果を表10に示す。
(Comparative Example 23)
A die sort tape was obtained and evaluated in the same manner as in Comparative Example 22 except that a release film having a surface roughness of 0.024 μm was used. The results are shown in Table 10.

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本発明のダイソートテープを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the die sort tape of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10…基材フィルム
20…粘着剤層
30…剥離フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Base film 20 ... Adhesive layer 30 ... Release film

Claims (2)

基材フィルムと、その上に形成された粘着剤層と、前記粘着剤層の表面に仮着された剥離フィルムとからなり、
前記粘着剤層の23℃における貯蔵弾性率が1×10〜1×10Paであり、
そのプローブタック値が50〜3920mNであり、
前記剥離フィルムの粘着剤層側表面の表面粗さ(Ra)が10μm以下であるダイソートテープ。
It consists of a base film, an adhesive layer formed thereon, and a release film temporarily attached to the surface of the adhesive layer,
The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at 23 ° C. is 1 × 10 4 to 1 × 10 8 Pa,
The probe tack value is 50-3920 mN,
The die sort tape whose surface roughness (Ra) of the adhesive layer side surface of the said peeling film is 10 micrometers or less.
前記粘着剤層が、エネルギー線硬化性樹脂の硬化物からなる請求項1に記載のダイソートテープであって、
前記粘着剤層のエネルギー線照射後の23℃における貯蔵弾性率が1×10〜1×10Paであり、
そのプローブタック値が50〜3920mNであるダイソートテープ。
2. The die sort tape according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is made of a cured product of an energy ray curable resin.
The storage elastic modulus at 23 ° C. after the energy ray irradiation of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 × 10 4 to 1 × 10 8 Pa,
The die sort tape whose probe tack value is 50-3920 mN.
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Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012133418A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 住友ベークライト株式会社 Adhesive tape for processing semiconductor wafer etc.
JP2012207163A (en) * 2011-03-30 2012-10-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for processing semiconductor wafer and the like
JP2013142148A (en) * 2012-01-12 2013-07-22 Nitto Denko Corp Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet having ultraviolet light curing-type acrylic pressure-sensitive adhesive layer
JP2013170197A (en) * 2012-02-20 2013-09-02 Nitto Denko Corp Tacky adhesive tape
JP2014198411A (en) * 2013-03-29 2014-10-23 リンテック株式会社 Adhesive sheet
JP2015021081A (en) * 2013-07-19 2015-02-02 日東電工株式会社 Thermal peeling type adhesive tape and cutting-off method of electronic component
JP2016020079A (en) * 2014-07-15 2016-02-04 株式会社スミロン Laminate, surface-protective article, and production of laminate
WO2016113998A1 (en) * 2015-01-14 2016-07-21 リンテック株式会社 Resin film-forming sheet, resin film-forming composite sheet, and silicon wafer regeneration method
JP2016187046A (en) * 2012-02-03 2016-10-27 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. Substrate holder and method of manufacturing substrate holder
JP2017190447A (en) * 2016-04-12 2017-10-19 日東電工株式会社 Pressure sensitive adhesive sheet having release liner
WO2017212736A1 (en) * 2016-06-06 2017-12-14 Dic株式会社 Adhesive sheet and article
JP2018008419A (en) * 2016-07-13 2018-01-18 Dic株式会社 Manufacturing method of article
JPWO2016151912A1 (en) * 2015-03-26 2018-01-18 リンテック株式会社 Dicing sheet, dicing sheet manufacturing method, and mold chip manufacturing method
JPWO2016151913A1 (en) * 2015-03-26 2018-01-18 リンテック株式会社 Dicing sheet, dicing sheet manufacturing method, and mold chip manufacturing method
US10297470B2 (en) 2013-10-28 2019-05-21 Nitto Denko Corporation Resin sheet for sealing electronic device and method for manufacturing electronic-device package
JP2019163363A (en) * 2018-03-19 2019-09-26 リンテック株式会社 Adhesive sheet for component fixing, method for producing the same and component fixing method

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002155249A (en) * 2000-11-22 2002-05-28 Mitsui Chemicals Inc Adhesive tape for processing wafer and method for producing the same and method for using the same
JP2003197715A (en) * 2001-12-28 2003-07-11 M Tec Kk Equipment for pasting semiconductor chip to reel tape
JP2003324112A (en) * 2002-04-30 2003-11-14 Lintec Corp Method for manufacturing semiconductor device
JP2004134657A (en) * 2002-10-11 2004-04-30 Renesas Technology Corp Semiconductor device fabricating process and semiconductor fabricating equipment
JP2007297591A (en) * 2006-04-06 2007-11-15 Lintec Corp Adhesive sheet

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002155249A (en) * 2000-11-22 2002-05-28 Mitsui Chemicals Inc Adhesive tape for processing wafer and method for producing the same and method for using the same
JP2003197715A (en) * 2001-12-28 2003-07-11 M Tec Kk Equipment for pasting semiconductor chip to reel tape
JP2003324112A (en) * 2002-04-30 2003-11-14 Lintec Corp Method for manufacturing semiconductor device
JP2004134657A (en) * 2002-10-11 2004-04-30 Renesas Technology Corp Semiconductor device fabricating process and semiconductor fabricating equipment
JP2007297591A (en) * 2006-04-06 2007-11-15 Lintec Corp Adhesive sheet

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012133418A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 住友ベークライト株式会社 Adhesive tape for processing semiconductor wafer etc.
JP2012207163A (en) * 2011-03-30 2012-10-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for processing semiconductor wafer and the like
TWI671799B (en) * 2011-03-30 2019-09-11 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Adhesive tape for processing semiconductor wafer or the like
CN103443229A (en) * 2011-03-30 2013-12-11 住友电木株式会社 Adhesive tape for processing semiconductor wafer and the like
JP2013142148A (en) * 2012-01-12 2013-07-22 Nitto Denko Corp Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet having ultraviolet light curing-type acrylic pressure-sensitive adhesive layer
US10898955B2 (en) 2012-02-03 2021-01-26 Asme Netherlands B.V. Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder
US11960213B2 (en) 2012-02-03 2024-04-16 Asml Netherlands B.V. Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder
US11628498B2 (en) 2012-02-03 2023-04-18 Asml Netherlands B.V. Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder
US10245641B2 (en) 2012-02-03 2019-04-02 Asml Netherlands B.V. Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder
JP2016187046A (en) * 2012-02-03 2016-10-27 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. Substrate holder and method of manufacturing substrate holder
US9737934B2 (en) 2012-02-03 2017-08-22 Asml Netherlands B.V. Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder
US10875096B2 (en) 2012-02-03 2020-12-29 Asml Netherlands B.V. Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder
US11754929B2 (en) 2012-02-03 2023-09-12 Asml Netherlands B.V. Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder
US11376663B2 (en) 2012-02-03 2022-07-05 Asml Netherlands B.V. Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder
US11235388B2 (en) 2012-02-03 2022-02-01 Asml Netherlands B.V. Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder
JP2013170197A (en) * 2012-02-20 2013-09-02 Nitto Denko Corp Tacky adhesive tape
JP2014198411A (en) * 2013-03-29 2014-10-23 リンテック株式会社 Adhesive sheet
JP2015021081A (en) * 2013-07-19 2015-02-02 日東電工株式会社 Thermal peeling type adhesive tape and cutting-off method of electronic component
US10297470B2 (en) 2013-10-28 2019-05-21 Nitto Denko Corporation Resin sheet for sealing electronic device and method for manufacturing electronic-device package
JP2016020079A (en) * 2014-07-15 2016-02-04 株式会社スミロン Laminate, surface-protective article, and production of laminate
JPWO2016113998A1 (en) * 2015-01-14 2017-10-19 リンテック株式会社 Resin film forming sheet, resin film forming composite sheet, and silicon wafer recycling method
KR20170103749A (en) * 2015-01-14 2017-09-13 린텍 가부시키가이샤 Resin film-forming sheet, resin film-forming composite sheet, and silicon wafer regeneration method
WO2016113998A1 (en) * 2015-01-14 2016-07-21 リンテック株式会社 Resin film-forming sheet, resin film-forming composite sheet, and silicon wafer regeneration method
KR102343970B1 (en) 2015-01-14 2021-12-27 린텍 가부시키가이샤 Resin film-forming sheet, resin film-forming composite sheet, and silicon wafer regeneration method
JPWO2016151913A1 (en) * 2015-03-26 2018-01-18 リンテック株式会社 Dicing sheet, dicing sheet manufacturing method, and mold chip manufacturing method
JPWO2016151912A1 (en) * 2015-03-26 2018-01-18 リンテック株式会社 Dicing sheet, dicing sheet manufacturing method, and mold chip manufacturing method
JP2017190447A (en) * 2016-04-12 2017-10-19 日東電工株式会社 Pressure sensitive adhesive sheet having release liner
CN109312196A (en) * 2016-06-06 2019-02-05 Dic株式会社 Adhesive sheet and article
US20190144723A1 (en) * 2016-06-06 2019-05-16 Dic Corporation Adhesive sheet and article
WO2017212736A1 (en) * 2016-06-06 2017-12-14 Dic株式会社 Adhesive sheet and article
JP6256670B1 (en) * 2016-06-06 2018-01-10 Dic株式会社 Adhesive sheet and article
JP2018008419A (en) * 2016-07-13 2018-01-18 Dic株式会社 Manufacturing method of article
JP7066464B2 (en) 2018-03-19 2022-05-13 リンテック株式会社 Adhesive sheet for fixing parts, its manufacturing method and fixing method of parts
JP2019163363A (en) * 2018-03-19 2019-09-26 リンテック株式会社 Adhesive sheet for component fixing, method for producing the same and component fixing method

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