JP2004134657A - Semiconductor device fabricating process and semiconductor fabricating equipment - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造技術に関し、特に、半導体装置の製造工程におけるチップソート技術に適用して有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
以下に説明する技術は、本発明を研究、完成するに際し、本発明者によって検討されたものであり、その概要は次のとおりである。
【0003】
現在の半導体分野では、ウエハサイズがφ200mm(8インチ)に対応した製造ラインが主流として組まれている。勿論、ウエハサイズの大口径化の要請に従って、φ300mm(12インチ)の製造ラインも組まれてはいるが、しかし、φ300mmにおける良品チップの歩留りが現状では十分ではなく、製造ラインを効率的に稼働させるまでには至っていない。
【0004】
また、φ300mm対応のチップマウンターは、φ200mm対応の現状のチップマウンターに比べて大型で、かなりの設置スペースの確保が要求される。そのため、現状のφ300mmにおける良品歩留り率を考慮すると、チップマウンターをも含めてφ300mmの製造ラインの導入には躊躇するのが現状である。
【0005】
そこで、現行のφ200mmの製造ラインを生かしつつ、φ300mmの稼働を試みる所謂折衷案が採用されている。すなわち、チップの作り込みはφ300mmウエハで行い、作り込んだ良品チップをφ200mm用にソートして、チップマウンターには現行のφ200mm用の装置を使用する案である。
【0006】
φ300mmの歩留り率が十分に確保され、目標とする稼働効率が実現できる予測が立つまでは、かかる折衷方式で生産ラインを構成する方法も確かに頷ける。
【0007】
一方、かかる折衷案とは異なり、実際にφ300mmに対応した生産ラインを構築する場合も見られる。しかし、十分な歩留りで良品チップの作り込みが行えない現状では、φ300mmで作り込んだチップを一旦選別して、良品のみを下流側の工程に流してその稼働効率を向上させる方法が採用されている。
【0008】
このように、φ300mmウエハにチップを作り込む工程を組み込む場合には、良品歩留り率が向上するまでは、現状ではφ300mmウエハに作り込まれたチップのソートが必要な状況である。
【0009】
一方、φ200mmの製造ラインにおいてもチップの選別機能が求められる場合もあり、この場合には、φ300mm専用のチップソータとφ200mm専用のチップソータとが併存設置されるレイアウトが採用されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、φ200mm、φ300mmの両専用チップソータを併存させる上記構成の技術においては、以下の課題があることを本発明者は見出した。
【0011】
ウエハ口径の増大に伴う製造ラインのレイアウトスペースの増大は、製造コストに大きな影響を及ぼすため、その省スペース化が強く求められている。
【0012】
例えば、現行のφ200mm生産ラインを利用して、新たにφ300mmウエハでのチップ作り込みを工程を組み込む場合には、それまでのφ200mm専用チップソータの設置スペースの他に、φ300mm用のチップソータの設置スペースを別に確保しなければならない。
【0013】
しかし、φ300mmに対応する一貫した生産ラインを構築するわけではなく、φ300mmにおける歩留り率の向上を待ってその本格的導入を図ろうとする場合においては、現状のφ200mmの生産ラインを利用しなければならず、φ200mmで一貫したレイアウトを構築した中に、新たにφ300mm専用のチップソータの設置スペースを確保するのは、決して容易なことではない。
【0014】
φ200mmの量産ラインのレイアウトに際しては、搬送効率等を十分に検討した上で、スペース的にも無駄のない最適な装置レイアウトを行っており、大型の構成となるφ300mm用チップソータの配置スペースが容易に確保できる程には当初より空きスペースが確保されてない。レイアウト変更は困難である。
【0015】
これまでもウエハの大口径化は積極的に進められてきたが、かかる大口径化に際しては、装置の大型に伴い設備面積が増大し、量産ラインのレイアウトの生産コストに占める割合が大きくなり、量産ラインのレイアウトにおける省スペース化はより厳しく求められている。
【0016】
かかる状況下、現行のφ200mmの量産ラインにおいても、その省スペース化が徹底的に推進され、上述の如く、空きスペースの確保が難しいのが現状である。
【0017】
一方、φ200mm、φ300mmの各々の専用チップソータを、適宜入れ替えて使用することもその方策としては考えられるが、その都度の大型の装置の入れ替えを行うのは、稼働効率の面からは決して有効な策ではない。
【0018】
一方、両専用のチップソータを一つの装置としてまとめる構成も考えられなくはないが、単に、両機能を併存させる構成であっては、個々独立に併置される場合よりもある程度のスペースの縮小は図られても、省スペース化に十分寄与できる程の効果は得られない。
【0019】
これは、両専用のチップソータを一つにまとめるにおいては、両チップソータの静止時の占用スペースばかりではなく、それぞれの機能発揮時の可動範囲を考慮しなければならず、個々独立に併存させる構成と比べて、格段にその省スペース化を図るという訳にはならないためである。
【0020】
そこで、本発明者は、φ200mm対応でも、φ300mm対応でも、そのソータ機構としては共通機構を有していることに着目して、機構の共用化を図ることにより、同一装置でφ200mm、φ300mmに対応できる省スペース化を積極的に図れる技術開発が必要と考えた。
【0021】
本発明の目的は、同一装置で異なるウエハサイズにソータ機能を適用できるように、ソート機構部を異なるウエハサイズで共用できるようにすることにある。
【0022】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【0023】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
【0024】
すなわち、本発明では、チップソータの機構部が、例えばφ300mm、φ200mm等の異なるウエハサイズに対応できるように共用化が図られているため、φ300mm専用、φ200mm専用の機構部をそれぞれ別々に設ける場合とは異なり、チップソータの全体構成の小型化を図り、その省スペース化を積極的に図ることができる。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明を省略する。
【0026】
(実施の形態1)
図1は、φ200mm、φ300mm両用のチップソータの概略正面図である。図2は、φ200mm、φ300mm両用のチップソータの装置機構部のレイアウト例を模式的に示す平面図である。図3は、図2におけるチップソータをA−A切断線に沿って切断した様子を模式的に示す断面説明図である。
【0027】
チップソータ100の正面側には、図1に示すように、装置機能を制御するためのボタン、スイッチ類が設けられ、併せて、ソータ対象とするウエハの状況をオペレータが監視できるようにウエハモニター110が設けられている。また、ウエハに作り込まれたチップの良否の状況は、マッピングディスプレイ120の画像により確認することができるようになっている。
【0028】
さらに、オペレータは、正面のオペーレーションパネル130に示されるチップソータ100の作動状況に基づき、上記ボタン、スイッチ類の適性な操作を行って、ソータの開始、終了、中断等種々の装置機能の制御を行うことができるようになっている。
【0029】
かかる正面構成を有するチップソータ100には、図2に示すように、φ200mmウエハ用のウエハリングカセット210、φ300mmウエハ用のウエハリングカセット310が設けられている。両ウエハリングカセット210、310は、φ200mmウエハ、φ300mmウエハの収納、格納が行えるように所定高さに上下動させられるようになっている。
【0030】
使用するウエハリングカセット210、310は、図に示す場合には、一段構成とした場合を示したが、例えば、複数段に段積み構成としても構わない。
【0031】
両ウエハリングカセット210、310のかかる上下動は、一つのウエハリングカセットリフター410により行われる。すなわち、ウエハリングカセットリフター410を、φ200mm用のウエハリングカセット210と、φ300mm用のウエハリングカセット310とで共用できるように構成して、個々に専用のリフターを設ける場合とは異なり、その省スペース化が図られている。さらには、2個設ける専用のリフター機構を共用化することで1個に減らすことができるため、装置コストの低減化も図っている。
【0032】
ウエハリングカセットリフター410は、モータ420を用いたモータ機構によりウエハリングカセット210、310を搭載したカセットベースを上下動させることができるようになっている。
【0033】
上下動のピッチは、φ200mm用、φ300mm用の双方に対応できるように、ピッチデータは任意に設定できるようになっている。オペレータ側からの設定により、φ200mmでは例えば5.5ピッチに、φ300mmでは例えば10mmピッチで上下動できるようになっている。図3に示す場合には、ウエハリングカセット310にウエハリング330を出し入れする様子を示している。
【0034】
φ300mmウエハ対応用のウエハリングカセット310は、コードポート対応とし、カセットベースをPGV( Personal Guided Vehicle )、AGV( Automated Guided Vehicle )の双方に対応できるように構成しておけば、φ200mmウエハよりも大重量で人手での搬送が容易ではないφ300mmウエハ搬送に対応することができる。
【0035】
併置されたこれらのウエハリングカセット210、310のそれぞれに対応して、図2に示すように、φ200mmウエハ対応のウエハリングセット部220、φ300mmウエハ対応用のウエハリングセット部320がそれぞれ設けられている。
【0036】
両ウエハリングセット部220、320は、双方に共用される一組のXYテーブル部500に搭載され、ウエハリングセット部220、320専用のXYテーブルをそれぞれ設ける構成は採用されていない。
【0037】
XYテーブル部500を共用機構として構成することにより、個々に専用のXYテーブル部を設ける場合とは異なり、その省スペース化を促進することができる。さらには、XYテーブル部500を共用化することで、かかる機構部を1個に減らしているため、その分、装置コストの低減化も図ることができる。
【0038】
XYテーブル部500は、図2に示すように、X軸テーブル510と、Y軸テーブル520とから構成されている。X軸テーブル510、Y軸テーブル520は、φ200mmウエハ、φ300mmウエハの双方に対応させることができるように、可動範囲の大きなφ300mm対応に構成しておけばよい。このようにφ300mmに対応できるように構成しておけば、それより可動範囲の小さいφ200mmにも十分に対応させることができる。
【0039】
X軸テーブル510に沿った移動はX軸駆動ACサーボモータ等に構成した駆動モータ530により、Y軸テーブル520に沿った移動はY軸駆動ACサーボモータ等に構成した駆動モータ540によりそれぞれ行えるようになっている。
【0040】
このようにして共用化されたXYテーブル部500によりX軸、Y軸の2軸方向にウエハリングセット部220、320を移動させることができるが、かかるウエハリングセット部220、320の各々にはθ回転機構が設けられて、セットされたウエハリングの位置調整を、例えば、90°、180°、270°と回転させて微調整することができるようになっている。
【0041】
図2では、ウエハリングセット部320にウエハリング330をセットした状態を模式的に示している。ウエハリング330には、粘着性のウエハテープ上に、ダイシングにより個片化されたチップCが設けられている様子を模式的に示している。
【0042】
なお、図2では、ウエハリングセット部220にもウエハリング230がセットされた状態を示している。ウエハリング230上には、隣接するφ300mmウエハに作り込まれたチップCが、ウエハリング330から移し換えられている様子を示している。
【0043】
一方、ウエハリングセット部220、320の各々に対して、ウエハリングカセット210、310との間に、φ200mm用、あるいはφ300mm用のウエハリング230、330をそれぞれ取り出し、あるいは収納させるために、ウエハエキストラクタ部600が設けられている。
【0044】
ウエハエキストラクタ部600には、モータ610による搬送駆動によりY軸テーブル620に沿ってY軸方向に往復動するチャック630が設けられている。チャック630は、例えば、Y軸方向に沿ってウエハリングカセット310まで移動し、ウエハリングカセット310内のウエハリング330の一端を把持して、ウエハリングセット部320まで戻り、ウエハリング330をウエハリングセット部320の所定位置に載置する動作を行う。
【0045】
また、チップCのソータが終了して所要のチップCが取り除かれたウエハリング330を、ウエハリングセット部320でチャック630に把持させて、ウエハリングカセット310まで搬送して収納させることもできる。
【0046】
かかる構成のウエハエキストラクタ部600は、φ200mm、φ300mmの共用機構に構成され、φ200mm対応のウエハリングセット部220側でも同様のウエハリング搬送を行うことができる。但し、構成としてはφ300mmに対応できるように構成しておき、それよりも可動範囲が小さいφ200mmにも適用できるようになっている。
【0047】
すなわち、X軸テーブル(図示しない)に沿ってφ200mm用のウエハリングセット部220側に移動し、Y軸テーブル620に沿って往復動するチャック630によりウエハリング230をウエハリングカセット210から取り出したり、あるいは収納したりさせることができる。かかるウエハエキストラクタ部600の共用化により、装置コストの低減化が図られる。
【0048】
上記説明では、ウエハエキストラクタ部600の機構を、φ200mm、φ300mmの共用化機構とした場合について説明したが、装置コストの低減化に特段配慮しないで済む場合には、φ200mm専用、φ300mm専用にそれぞれウエハエキストラクタ部600を設けるようにしても構わない。
【0049】
ウエハエキストラクタ部600の構成は、前記説明のウエハリングセット部320、220を搭載するXYテーブル部500の可動範囲内で構成されるため、省スペース化という観点からは、ウエハリングカセットリフター410、XYテーブル部500の共用化程の寄与は期待できない。そのため、省スペース化という観点からの装置構成であれば、ウエハエキストラクタ部600の共用化は、採用してもしなくてもそれ程に省スペース化に大きな影響はない。
【0050】
チップソータ100には、さらに、チップCの移しかえに使用されるチップ移載機構部700が設けられている。チップ移載機構部700は、図2、3に示すように、移送コレット搬送ガイド710と、かかる移送コレット搬送ガイド710に沿って往復動する移送コレット720と、移送コレット720で所定のチップCを確実に吸着するためのチップCの認識用の光学系チップ認識部730とが設けられている。
【0051】
光学系チップ認識部730における光学系機構部では、例えば撮像カメラなどの光学系の倍率をプログラマブルなズーム式に構成しておき、大小のチップサイズに対応して的確な認識ができるようにしておけばよい。
【0052】
移送コレット720は、移送コレット搬送駆動用ACサーボモータ等に構成された駆動用モータ740により、駆動するように構成されている。移送コレット720をピック・アンド・プレイス機構部として、所望のチップCをφ300mmウエハから吸着し、φ200mm用のウエハリング230上に設置して移し替が行える。
【0053】
なお、上記移送コレット720によりチップCを吸着する際には、吸着し易いように、例えば、図3に示すように、ウエハリングセット部320内に、突上げユニット321が設けられている。図示はしないが、ウエハリングセット部220内にも同様の突上げユニットを設けておけばよい。
【0054】
突上げユニット321の突上げ針(図示省略)は、突上げ高さ、突上げ時間等の突上げタイミングが制御できるように構成されている。かかる突上げタイミングの調整と、チップCの吸着を行う移送コレット720の上下動動作(Z動作)のスピード調整とにより、両者の動きを動機させて、薄膜チップ等に損傷を与えることなく吸着が行えるようにしておけばよい。
【0055】
かかる構成のチップソータ100を用いることにより、φ300mmのウエハに作り込んだチップCから、良品のチップCのみをφ200mm用のウエハリング230へ移し替が行える。移し替たチップは良品のみであるため、かかる良品のチップCを用いることにより、既存のφ200mm用の生産ラインを利用しての効率的な半導体装置の製造が確保できる。
【0056】
また、移し替に際しては、同一のXYテーブル部500にφ200mm用、φ300mm用のウエハリングセット部220、320が隣接配置で搭載されているため、かかる構成を採用しない場合に比べて移し替の距離を短くして、ピック・アンド・プレイス時間の短縮を図ることができる。
【0057】
さらに、チップ移載機構部700と、XYテーブル部500とのそれぞれの動きを、チップ移載距離が縮まるように相対作動するように制御すれば、より移載スピードの高速化が図れ、ピック・アンド・プレイス時間の一層の短縮が図れる。
【0058】
図2に示すチップソータ100では、φ300mmからφ200mmへの移し替用のソータ機能を設けた場合について説明したが、かかる構成の上記共用機構化を採用することにより、チップトレイへの移載機構も図れる。
【0059】
図4に示す場合には、図2に示す構成に加えて、トレイへの移送機構を付加した構成である。すなわち、図4に示す構成では、チップトレイ機構部800が設けられ、例えばφ300mmウエハに作り込まれたチップCの内、良品チップCのみチップトレイ810に移し替ができるようになっている。
【0060】
チップトレイ810は、図4に示すように、Y軸テーブル820に搭載されている。すなわち、チップトレイ810は、チップトレイ駆動用ACサーボモータ等の駆動用モータ830により位置調整が行えるチップトレイセット部840上に複数設けられるようになっている。
【0061】
このようにしてチップトレイ810上に良品チップのみを移載して、この状態で、例えば上記のようにφ200mm用の製造ラインに投入すればよい。あるいは、チップトレイ810に良品のみを取り置きしているため、φ300mm用の製造ラインに投入しても構わない。
【0062】
φ300mmウエハの良品率が十分であれば、このようにチップトレイ810への移載工程を経なくても構わないが、当面歩留り率が十分に向上して安定するまでは、チップソータ100を用いたこのようなチップトレイ810への良品ソートが有効である。
【0063】
チップトレイ810へのφ300mmウエハからのソートは、良品チップばかりでなく、不良チップ、ダミー用のミラーチップなども、良品用とは別のチップトレイ810を用意しておくことにより行える。そのため、φ300mm用のウエハリングテープ上には、ミラーチップをも含めてチップCを残さないようにすることができ、その後のウエハリングテープから手作業でミラーチップ等を外す作業を省いて、かかる部分の省力化と効率化を図ることができる。
【0064】
さらに、図5に示すように、ウエハリング修正部900の共用化を図るようにしてもよい。なお、ウエハリング修正部900は、図2、3では、図が分かり難くなるためその図示を省略している。
【0065】
かかるウエハリング修正部900は、図6(a)に示すように、例えば、ウエハリングカセット310から取り出された、あるいは収納しようとするウエハリング330の姿勢がずれている場合に、ウエハリング330の両側面の直線部分331を、姿勢矯正把持部910で両側から平行に挟み込むことにより、図6(b)に示すように、その姿勢を矯正することができる。姿勢矯正把持部910の挟持間隔を調整可能に構成しておくことで、φ200mm、φ300mm用の両用に設定することができる。
【0066】
以上のように、本実施の形態1では、ウエハリングカセットリフター410、XYテーブル部500の共用機構化を図ることにより、φ200mm用、φ300mm用のウエハリングカセット210、310、およびウエハリングセット部220、320等を隣接配置して、チップソータ100の省スペース化を図った。
【0067】
かかる本実施の形態1で説明したチップソータ100の省スペース化は、レイアウト観点からは、ウエハリングカセットリフター410、XYテーブル部500の共用化を図ることにより、φ200mm用、φ300mm用のウエハリングカセット210、310、およびウエハリングセット部220、320等の平面レイアウトの省スペース化を図った構成と言える。
【0068】
(実施の形態2)
本実施の形態では、上記実施の形態1の平面レイアウトにおける省スペース化とは異なり、φ200mm用、φ300mm用のウエハリングカセット210、310、およびウエハリングセット部220、320等を立体的に構成して、立体レイアウトにおける省スペース化を図った場合について説明する。
【0069】
図7には、上記実施の形態1とは異なる立体レイアウトを採用した場合の平面配置を模式的に示す平面図である。図8は、図7のA−A線に沿った断面で、立体レイアウトの様子を模式的に示す断面説明図である。図9は、図7のB−B線に沿った断面で、立体レイアウトの様子を模式的に示す断面説明図である。
【0070】
本実施の形態のチップソータ100では、図8に示すように、ウエハリングカセット210、310が上下に重ねて設けられており、前記実施の形態1とは異なり、両ウエハリングカセット210、310が平面的に隣接配置される構成ではない。すなわち、両ウエハリングカセット210、310は、共用化されたウエハリングカセットリフター410に、上下に搭載された構成となっている。
【0071】
図8に示すように、下側に設置されたウエハリングカセット310に対応して、ウエハリングセット部320が設けられている。ウエハリングセット部320は、内部に突上げユニット321を有して、前記実施の形態1と同様に構成されている。
【0072】
但し、ウエハリングセット部320を搭載して、2軸方向に移動させるXYテーブル部550は、φ300mm専用に設けられている。前記実施の形態1とは異なり、XYテーブル部550の共用化は行なわれていない。XYテーブル部550は、X軸テーブル551と、Y軸テーブル552とから構成され、それぞれ駆動モータ553、554により駆動できるようになっている。
【0073】
一方、ウエハリングカセット210に対応したウエハリングセット部220は、図8に示すように、φ300mm用に設定したウエハリングセット部320の上方に相対するように、すなわち逆さに設けられている。
【0074】
ウエハリングセット部220は、図8に示すように、上段ベース221上に設けられたXYテーブル部560に搭載されている。かかるXYテーブル部560は、φ300mm用のXYテーブル部550とは独立に、φ200mm専用に設けられている。
【0075】
XYテーブル部560は、X軸テーブル561、Y軸テーブル562から構成され、各々駆動モータ563、564によりウエハリングセット部220を2軸方向に移動できるようになっている。
【0076】
このように本実施の形態のチップソータ100では、φ200mm用のウエハリングセット部220と、φ300mm用のウエハリングセット部320とは、上下方向に相対して設けられ、両ウエハリングセット部220、320を平面レイアウトする場合よりも平面スペースに関しての省スペース化を強く推進している。
【0077】
両ウエハリングセット部320、220には、各々に対応して、ウエハエキストラクタ部650、660が独立に設けられて、ウエハリング330、230を、ウエハリングカセット310とウエハリングセット部320間、ウエハリングカセット210とウエハリングセット部220間で搬送できるようになっている。
【0078】
すなわち、ウエハエキストラクタ部650には、モータ651による搬送駆動によりY軸テーブル652に沿ってY軸方向に往復動するチャック653が設けられている。かかるチャック653は、例えば、Y軸方向に沿ってウエハリングカセット310まで移動し、ウエハリングカセット310内のウエハリング330の一端を把持して、ウエハリングセット部320まで戻ってウエハリング330をウエハリングセット部320の所定位置に載置する動作を行う。
【0079】
同様に、ウエハエキストラクタ部660にも、モータ661による搬送駆動によりY軸テーブル662に沿ってY軸方向に往復動するチャック663が設けられて、上記と同様の動作を行なう。
【0080】
一方、かかる構成のウエハリングセット部320に隣接して、図7の平面図、図9の断面図にそれぞれ模式的に示すように、チップトレイ機構部800が設けられている。なお、図7では、見易いように、図8におけるφ200mm用のウエハリングカセット210、ウエハリングセット部220等の構成は図示を省略して、φ300mm用の構成を上からみた様子を示している。
【0081】
因みに、図8は、図7の平面図の切断線A−Aに沿って模式的に示した断面図であり、図9は、図7の平面図の切断線B−Bに沿って模式的に示した断面図である。
【0082】
チップトレイ機構部800は、図7、9に示すように、前記説明の構成と同様に、Y軸テーブル820に搭載され、チップトレイ駆動用ACサーボモータ等の駆動用モータ830により位置調整が行えるチップトレイセット部840を有し、例えばφ300mmウエハに作り込まれたチップCの内、良品チップCのみ、チップトレイセット部840上のチップトレイ810に移し替ができるようになっている。
【0083】
また、チップ移載機構部700が、φ300mmウエハに作り込まれたチップCを、φ200mm用のウエハリング上に、あるいは、チップトレイ810上に移載できるように設けられている。
【0084】
チップ移載機構部700では、図7、9に示すように、移送コレット搬送ガイド710が、ウエハリングセット部320、チップトレイ810上に亙って設けられている。
【0085】
かかる移送コレット搬送ガイド710には、これに沿って往復動する移送コレット720と、移送コレット720で吸着する所定のチップCの認識を行なう光学系チップ認識部730とが設けられている。移送コレット720は、移送コレット搬送駆動用ACサーボモータ等に構成された駆動用モータ740により、駆動する。
【0086】
また、本実施の形態の構成では、移送コレット720は、ピック・アンド・プレイス機構部として、フリップ機構が設けられて、吸着側を上下反転することができるようになっている。
【0087】
すなわち、図8、9に示すように、フリップ機構により移送コレット720は、制御指示に従って、チップCを吸着した側を下方から上方へ、あるいは上方から下方へ向きを反転することができる。かかる反転を行なうことにより、上下に立体的にレイアウトされたウエハリングセット部220、320間でチップCの移し替が行える。
【0088】
下方のφ300mm用のウエハリング330から良品のチップCを移送コレット720で吸着し、その後フリップ機構により上下に反転して、吸着したチップCを、上方のφ200mm用のウエハリング230上のウエハテープ上に押しつけるようにして載置させればよい。
【0089】
このように上下でチップCの移し替できる本実施の形態2の構成であれば、前記実施の形態1の平面構成の場合に比べて、よりピック・アンド・プレイス距離を短くすることができ、より一層の高速化を図ることができる。
【0090】
(実施の形態3)
本実施の形態では、前記実施の形態1、2で説明した本発明に係るチップソータ100を用いて、半導体装置を製造する方法について説明する。
【0091】
使用するチップソータ100は、ウエハリングセット部220、320等が平面レイアウトされた実施の形態1の構成でも、あるいは、ウエハリングセット部220、320が上下に立体レイアウトされた実施の形態2の構成でも、いずれの構成でも構わない。
【0092】
図10のフロー図に示すように、ステップS110で、φ300mmウエハにチップを作り込む。作り込まれたチップは、フロー図には示さないが、検査により良品と、不良品とが分かるように識別表示が付される。
【0093】
識別表示により良品の区別が可能となった状態で、ウエハがウエハリング330上に設けたウエハテープ上に設けられ、ステップS120に示すように、ダイシング工程でチップを個片化する。
【0094】
個片化した状態のチップを載せたウエハリング330は、その複数枚がウエハカセットに収納され、チップソータ100までPGVあるいはAGV等により搬送されて、チップソータ100のウエハリングカセットリフター410のベースに装着される。
【0095】
ウエハリングカセットリフター410を適宜ピッチで移動させながら、収納されたウエハリング330を、ウエハエキストラクタ機構により引き出して、ウエハリングセット部320にセットする。
【0096】
すなわち、チップソータ100の開始動作では、ウエハリング330をウエハエキストラクタ部600でウエハリングカセット310から引き出して、ウエハリングセット部320上にセットし、セットされた状態でθ回転機構によりアライメント調整させる。かかるアライメント調整中に、ウエハリング230をウエハリングカセット210から引き出し、ウエハリングセット部220上にセットする。
【0097】
なお、かかる開始動作を除いては、連続動作中には、各々のウエハリング330、230の収納、引き出しに併せて、ウエハリングカセットリフター410は適宜上下動を行う。
【0098】
このようにしてセットした状態で、チップ移載機構部700を構成する光学系チップ認識部730により、ピックアップ対象とするチップの認識を行う。
【0099】
かかる認識に際しては、例えば、ウエハモニター110、マッピングディスプレイ120等の情報に基づき、オペレータにより適宜の制御を行えばよい。かかる光学系認識に基づき、ステップS130によりチップCのソータを行う。なお、上記マッピングデータを使用することなく、例えば、上下左右のいずれか一方から順にピックアップするようにしても一向に構わない。
【0100】
かかるソータ工程で、良品チップをφ200mm用のウエハリング230側に、あるいはチップトレイ810に移載する。尚、φ200用のウエハリング230等への移載に際しては、移載範囲内での移載位置を自動計算で求めて、制御指令に基づき移載できるようにしておけばよい。
【0101】
ステップS200では、良品チップをφ200mm用のウエハリング230側に移載する。移載した以降は、φ200mm用の製造ラインに沿って、ステップS210でダイボンディングし、ステップS220でリードボンディングを行い、ステップS230で樹脂封止して、ステップS400に示すように半導体装置の製造を行う。
【0102】
一方、ステップS140で良品チップをチップトレイ810に移すことにより、以降の工程に投入するチップの良品率を100%とすることができる。そのため、ステップS140以降は、φ200mm、φ300mm用のいずれの製造ラインでも、効率的に半導体装置の製造が行える。
【0103】
φ200mm用の製造ラインに沿って、ステップS210でダイボンディングし、ステップS220でリードボンディングを行い、ステップS230で樹脂封止して、ステップS400に示すように半導体装置の製造が行える。同様に、φ300mmの製造ラインでも、ステップS310でダイボンディングし、ステップS320でリードボンディングを行い、ステップS330で樹脂封止して、ステップS400に示すように半導体装置の製造を行うことができる。
【0104】
例えば、φ300mmに見られるように、歩留まりが良好でなくそのままの状態では、ダイボンディング工程以降の製造ラインに投入しても十分な稼働効率が期待できない場合でも、図10に示すように、ソータ工程を介在させて、良品チップのみソートし、以降の製造ラインに良品率100%のチップを投入することで、十分な稼働効率を確保することができる。併せて、UPH( Unit Per Hour
)も向上させることができる。
【0105】
なお、φ300mmウエハからのチップトレイ810への移載に際しては、例えば、良品チップだけでなく、全てのチップを移し替るようにしてもよい。チップのIDナンバー毎の振分けを行うようにしてもよい。
【0106】
現状のφ300mmでのチップの作り込み状況では、十分な歩留まりが確保されていないため、上記構成を採用することにより、φ300mmで作り込まれたチップを既存のφ200mmの製造ラインを利用して効率よく製造することができる。
【0107】
また、φ300mmの製造ラインを組んだ場合でも、チップソータを用いることにより一旦良品のチップのみをソートして、ダイボンディング以降の工程での良好な稼働効率による製造が確保できる。
【0108】
しかし、φ200mmの製造ラインでも、あるいはφ300mmの製造ラインでも、省スペースが徹底的に図られているため、上記ソータ工程に必要なチップソータの設置スペースは、これまでの構成のチップソータでは設置スペースをかなり要求するためその設置スペースの確保が困難であったが、上記実施の形態に例示した本発明に係るチップソータを用いれば、これまでの構成のチップソータとは異なり格段に省スペース化が図られているため、既存の製造ラインにおいて設置スペースを容易に確保することができる。
【0109】
因みに、φ200mm用、φ300mm用のチップソータを隣接併置した構成の平均設置スペースと比較して、上記説明の共用化を図った構成のチップソータの設置スペースは、約50%も設置スペースを削減することができた。
【0110】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0111】
例えば、前記実施の形態2では、下方にφ300mm用のウエハリングセット部320を、これに対面して上方にφ200mm用のウエハリングセット部220を設ける構成を示したが、かかる構成を逆にして、上方にφ300mm用の構成を、下方にφ200mm用の構成を採用するようにしても一向に構わない。
【0112】
例えば、上記説明では、チップソータについて説明したが、ウエハの外観検査機能を併有させるようにしてもよい。かかる構成を採用することにより、良品チップのうちバンプの形状異常、欠けなどがあるチップをさらにソータすることにより、より良品率を高めて、最終製品における歩留りをより向上させることができる。
【0113】
また、W−CSP( Wafer Level Chip Size Package )の工程内、あるいは出荷時の良品選別用としての使用も考えることができる。
【0114】
【発明の効果】
本願によって開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下の通りである。
【0115】
ソート機能を共用化させることにより、省スペース化を図りながら、同一装置で口径の異なるウエハに対応したチップ等のソートを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る一実施の形態のチップソータの一例を模式的に示す正面図である。
【図2】本発明に係る一実施の形態でのチップソータの平面レイアウトを模式的に示す平面図である。
【図3】図2に示すチップソータの構成を模式的に示す要部断面図である。
【図4】本発明に係る一実施の形態でのチップソータの変形例の平面レイアウトを模式的に示す平面図である。
【図5】図2に示すチップソータの平面構成で、共用化したウエハリング修正部を模式的に明示した平面図である。
【図6】(a)はウエハリングの位置修正前の状態を模式的に示す平面図であり、(b)は修正後の状態を示す平面図である。
【図7】本発明に係る一実施の形態のチップソータの変形例を模式的に示す平面図である。
【図8】図7の切断線A−Aでのチップソータの構成を模式的に示す要部断面図である。
【図9】図7の切断線B−Bでのチップソータの構成を模式的に示す要部断面図である。
【図10】ソータ工程を含む半導体装置の製造手順を示すフロー図である。
【符号の説明】
100 チップソータ
110 ウエハモニター
120 マッピングディスプレイ
130 オペーレーションパネル
210 ウエハリングカセット
220 ウエハリングセット部
221 上段ベース
230 ウエハリング
310 ウエハリングカセット
320 ウエハリングセット部
321 突上げユニット
330 ウエハリング
331 直線部分
410 ウエハリングカセットリフター
420 モータ
500 XYテーブル部
510 X軸テーブル
520 Y軸テーブル
530 駆動モータ
540 駆動モータ
550 XYテーブル部
551 X軸テーブル
552 Y軸テーブル
553 駆動モータ
554 駆動モータ
560 XYテーブル部
561 X軸テーブル
562 Y軸テーブル
563 駆動モータ
564 駆動モータ
600 ウエハエキストラクタ部
610 モータ
620 Y軸テーブル
630 チャック
650 ウエハエキストラクタ部
651 モータ
652 Y軸テーブル
653 チャック
660 ウエハエキストラクタ部
661 モータ
662 Y軸テーブル
663 チャック
700 チップ移載機構部
710 移送コレット搬送ガイド
720 移送コレット
730 光学系チップ認識部
740 駆動用モータ
800 チップトレイ機構部
810 チップトレイ
820 Y軸テーブル
830 駆動用モータ
840 チップトレイセット部
900 ウエハリング修正部
910 姿勢矯正把持部
C チップ
S110 ステップ
S120 ステップ
S130 ステップ
S140 ステップ
S200 ステップ
S210 ステップ
S220 ステップ
S230 ステップ
S310 ステップ
S320 ステップ
S330 ステップ
S400 ステップ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor device manufacturing technique, and more particularly to a technique effective when applied to a chip sorting technique in a semiconductor device manufacturing process.
[0002]
[Prior art]
The technology described below has been studied by the inventor when researching and completing the present invention, and the outline thereof is as follows.
[0003]
In the current semiconductor field, a manufacturing line corresponding to a wafer size of 200 mm (8 inches) is mainly used. Of course, a production line of φ300 mm (12 inches) has been set up in response to the demand for a larger wafer size, but the yield of good chips at φ300 mm is not sufficient at present, and the production line operates efficiently. It has not yet been reached.
[0004]
A chip mounter compatible with φ300 mm is larger than a current chip mounter compatible with φ200 mm, and requires a considerable installation space. Therefore, considering the yield rate of non-defective products at the current φ300 mm, he is hesitant to introduce a production line of φ300 mm including the chip mounter.
[0005]
Therefore, a so-called compromise plan that attempts to operate at φ300 mm while utilizing the current production line of φ200 mm has been adopted. In other words, the chip is manufactured on a φ300 mm wafer, the manufactured good chips are sorted for φ200 mm, and a current φ200 mm apparatus is used as a chip mounter.
[0006]
Until a yield of φ300 mm is sufficiently ensured and a target operating efficiency is predicted to be realized, a method of configuring a production line using such an eclectic method can certainly be nod.
[0007]
On the other hand, unlike such a compromise, there are cases where a production line corresponding to φ300 mm is actually constructed. However, under the current situation where a good chip cannot be manufactured with a sufficient yield, a method of once selecting chips manufactured with a diameter of 300 mm and flowing only good products to a downstream process to improve the operation efficiency has been adopted. I have.
[0008]
As described above, when a process of forming chips on a φ300 mm wafer is incorporated, it is necessary to sort chips formed on a φ300 mm wafer at present until the yield rate of conforming products is improved.
[0009]
On the other hand, a chip sorting function may be required even in a production line of φ200 mm, and in this case, a layout in which a chip sorter dedicated to φ300 mm and a chip sorter dedicated to φ200 mm coexist is installed.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, the present inventor has found that the following problems are involved in the technique having the above-described configuration in which both the φ200 mm and φ300 mm dedicated chip sorters coexist.
[0011]
Since an increase in the layout space of the manufacturing line accompanying an increase in the wafer diameter has a large effect on the manufacturing cost, there is a strong demand for space saving.
[0012]
For example, when using a current φ200 mm production line and incorporating a process for making chips on a new φ300 mm wafer, in addition to the installation space for the φ200 mm dedicated chip sorter, the installation of a φ300 mm chip sorter Space must be reserved separately.
[0013]
However, it does not mean that a consistent production line corresponding to φ300 mm is to be constructed, and in the case where a full-scale introduction is to be made after waiting for an increase in the yield rate at φ300 mm, the current φ200 mm production line must be used. However, it is not easy to secure a space for installing a new chip sorter dedicated to φ300 mm while constructing a consistent layout with φ200 mm.
[0014]
When laying out a φ200mm mass production line, we have carefully considered the transfer efficiency, etc., and have performed an optimal equipment layout that does not waste space, making it easy to arrange a large-sized φ300mm chip sorter. There has not been enough free space since the beginning. Changing the layout is difficult.
[0015]
Until now, wafer diameters have been aggressively promoted.However, when such diameters are increased, the equipment area increases with the size of the equipment, and the proportion of the mass production line layout to the production cost increases. Space saving in the layout of mass production lines is being strictly required.
[0016]
Under such circumstances, even in the current mass production line of φ200 mm, space saving has been thoroughly promoted, and as described above, it is presently difficult to secure an empty space.
[0017]
On the other hand, it is conceivable to replace the dedicated chip sorters of φ200 mm and φ300 mm with each other as appropriate, but replacing large-sized devices each time is always effective from the viewpoint of operation efficiency. Not a solution.
[0018]
On the other hand, it is not surprising that a configuration in which both dedicated chip sorters are combined as one device is conceivable.However, in a configuration in which both functions coexist, a certain degree of space reduction can be achieved as compared with a case where they are independently installed. Even if it is achieved, an effect that can sufficiently contribute to space saving cannot be obtained.
[0019]
This means that when combining the two dedicated chip sorters into one, not only the occupied space when both chip sorters are at rest, but also the movable range when each function is exhibited must be taken into consideration, and they must coexist independently. This is because this does not mean that the space can be significantly reduced as compared with the configuration.
[0020]
Therefore, the present inventor focuses on having a common mechanism as a sorter mechanism for both φ200 mm and φ300 mm, and by sharing the mechanism, it is possible to support φ200 mm and φ300 mm with the same device. We thought it was necessary to develop technology that could actively save space.
[0021]
An object of the present invention is to enable a sort mechanism to be shared by different wafer sizes so that the sorter function can be applied to different wafer sizes in the same apparatus.
[0022]
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
[0023]
[Means for Solving the Problems]
The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.
[0024]
That is, in the present invention, since the mechanism of the chip sorter is shared so as to be compatible with different wafer sizes such as, for example, φ300 mm and φ200 mm, the case where separate mechanisms for φ300 mm and φ200 mm are separately provided. Unlike this, the overall configuration of the chip sorter can be reduced in size, and its space can be actively reduced.
[0025]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments, members having the same functions are denoted by the same reference numerals, and repeated description thereof will be omitted.
[0026]
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic front view of a chip sorter for both φ200 mm and φ300 mm. FIG. 2 is a plan view schematically showing a layout example of a device mechanism of a chip sorter for both φ200 mm and φ300 mm. FIG. 3 is an explanatory cross-sectional view schematically showing a state in which the chip sorter in FIG. 2 is cut along the AA cutting line.
[0027]
As shown in FIG. 1, buttons and switches for controlling device functions are provided on the front side of the
[0028]
Further, the operator performs an appropriate operation of the buttons and switches based on the operation state of the
[0029]
As shown in FIG. 2, the
[0030]
Although the
[0031]
Such vertical movement of both wafering
[0032]
The wafer
[0033]
The pitch data can be set arbitrarily so that the pitch of the vertical movement can correspond to both φ200 mm and φ300 mm. According to the setting from the operator side, it is possible to move up and down at a pitch of, for example, 5.5 mm at φ200 mm and at a pitch of, for example, 10 mm at φ300 mm. FIG. 3 shows a state in which the
[0034]
The
[0035]
As shown in FIG. 2, a wafer ring set
[0036]
The two wafering sets 220 and 320 are mounted on a set of XY tables 500 shared by both, and a configuration in which XY tables dedicated to the wafering sets 220 and 320 are not provided is not adopted.
[0037]
By configuring the
[0038]
The
[0039]
Movement along the X-axis table 510 can be performed by a
[0040]
The wafer ring set
[0041]
FIG. 2 schematically shows a state where
[0042]
FIG. 2 shows a state in which
[0043]
On the other hand, in order to take out or store the wafer rings 230 and 330 for φ200 mm or φ300 mm between the wafer ring set
[0044]
The
[0045]
In addition, the
[0046]
The
[0047]
That is, the
[0048]
In the above description, the case where the mechanism of the
[0049]
Since the configuration of the
[0050]
The
[0051]
In the optical system mechanism section of the optical system
[0052]
The
[0053]
When the chip C is sucked by the
[0054]
The push-up needle (not shown) of the push-up
[0055]
By using the
[0056]
In the transfer, since the wafer ring set
[0057]
Furthermore, if the movement of each of the
[0058]
In the
[0059]
In the case shown in FIG. 4, in addition to the configuration shown in FIG. 2, a transfer mechanism to a tray is added. That is, in the configuration shown in FIG. 4, the
[0060]
The
[0061]
In this manner, only the good chips are transferred onto the
[0062]
If the non-defective product rate of the φ300 mm wafer is sufficient, the process of transferring the wafer to the
[0063]
Sorting from the φ300 mm wafer to the
[0064]
Further, as shown in FIG. 5, the
[0065]
As shown in FIG. 6A, for example, as shown in FIG. 6A, when the attitude of the
[0066]
As described above, in the first embodiment, the wafer
[0067]
In order to save the space of the
[0068]
(Embodiment 2)
In the present embodiment, unlike the space saving in the planar layout of the first embodiment, the
[0069]
FIG. 7 is a plan view schematically showing a plane arrangement when a three-dimensional layout different from that of the first embodiment is employed. FIG. 8 is a cross-sectional explanatory view schematically showing a three-dimensional layout, taken along a line AA in FIG. 7. FIG. 9 is a cross-sectional explanatory view schematically showing a three-dimensional layout in a cross section taken along line BB of FIG.
[0070]
In the
[0071]
As shown in FIG. 8, a wafer ring set
[0072]
However, the
[0073]
On the other hand, as shown in FIG. 8, the wafer ring set
[0074]
As shown in FIG. 8, the wafer ring set
[0075]
The
[0076]
As described above, in
[0077]
[0078]
That is, the
[0079]
Similarly, the
[0080]
On the other hand, a chip
[0081]
Incidentally, FIG. 8 is a cross-sectional view schematically shown along a cutting line AA of the plan view of FIG. 7, and FIG. 9 is a schematic view along a cutting line BB of the plan view of FIG. It is sectional drawing shown in FIG.
[0082]
As shown in FIGS. 7 and 9, the
[0083]
Further, a
[0084]
In the
[0085]
The transfer
[0086]
In the configuration of the present embodiment, the
[0087]
That is, as shown in FIGS. 8 and 9, the
[0088]
Non-defective chips C are sucked by the
[0089]
As described above, according to the configuration of the second embodiment in which the chips C can be transferred up and down, the pick-and-place distance can be further reduced as compared with the planar configuration of the first embodiment, Further higher speed can be achieved.
[0090]
(Embodiment 3)
In this embodiment, a method for manufacturing a semiconductor device using the
[0091]
The
[0092]
As shown in the flowchart of FIG. 10, in step S110, chips are formed on a φ300 mm wafer. The fabricated chips are not shown in the flow chart, but are identified so that good and defective products can be identified by inspection.
[0093]
A wafer is provided on the wafer tape provided on the
[0094]
A plurality of wafer rings 330 on which individualized chips are placed are housed in a wafer cassette, transported to the
[0095]
While moving the wafer
[0096]
That is, in the start operation of the
[0097]
Except for the start operation, during the continuous operation, the wafer
[0098]
In this state, the chip to be picked up is recognized by the optical
[0099]
For such recognition, an operator may perform appropriate control based on information on the
[0100]
In this sorter process, non-defective chips are transferred to the
[0101]
In step S200, non-defective chips are transferred to the
[0102]
On the other hand, by transferring non-defective chips to the
[0103]
Along the production line for φ200 mm, die bonding is performed in step S210, lead bonding is performed in step S220, resin sealing is performed in step S230, and the semiconductor device can be manufactured as shown in step S400. Similarly, in a manufacturing line of φ300 mm, die bonding is performed in step S310, lead bonding is performed in step S320, resin sealing is performed in step S330, and the semiconductor device can be manufactured as shown in step S400.
[0104]
For example, as shown in FIG. 10, when the yield is not good and as it is, sufficient operation efficiency cannot be expected even if it is put into a production line after the die bonding step, as shown in FIG. By interpolating only the non-defective chips and inserting chips having a non-defective rate of 100% into the subsequent production line, sufficient operation efficiency can be ensured. At the same time, UPH (Unit Per Hour)
) Can also be improved.
[0105]
When transferring from a φ300 mm wafer to the
[0106]
In the current situation where chips are manufactured at φ300 mm, a sufficient yield is not secured. Therefore, by adopting the above configuration, chips manufactured at φ300 mm can be efficiently used by using an existing φ200 mm production line. Can be manufactured.
[0107]
Further, even when a production line having a diameter of 300 mm is formed, by using a chip sorter, only non-defective chips are sorted once, and production with good operation efficiency in the steps after die bonding can be ensured.
[0108]
However, even in a production line of φ200 mm or a production line of φ300 mm, the space required for the above-mentioned sorter process is limited by the space required for the above-mentioned sorter. However, if the chip sorter according to the present invention exemplified in the above-described embodiment is used, the space saving is remarkably different from the chip sorter having the conventional configuration. Therefore, installation space can be easily secured in the existing production line.
[0109]
By the way, compared to the average installation space of the configuration in which the chip sorters for φ200 mm and φ300 mm are juxtaposed and side by side, the installation space of the chip sorter configured to share the above description reduces the installation space by about 50%. I was able to.
[0110]
As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say.
[0111]
For example, in the second embodiment, the configuration in which the wafer ring set
[0112]
For example, in the above description, a chip sorter has been described, but a wafer appearance inspection function may be provided. By adopting such a configuration, by sorting the chips having defective bump shapes or chips among the non-defective chips, it is possible to further increase the non-defective rate and further improve the yield in the final product.
[0113]
In addition, it can be considered to be used in a process of W-CSP (Wafer Level Chip Size Package) or for selecting non-defective products at the time of shipment.
[0114]
【The invention's effect】
The effects obtained by typical aspects of the invention disclosed in the present application will be briefly described as follows.
[0115]
By sharing the sort function, chips and the like corresponding to wafers having different diameters can be sorted by the same apparatus while saving space.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view schematically showing an example of a chip sorter according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view schematically showing a planar layout of a chip sorter according to one embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a principal part schematically showing a configuration of the chip sorter shown in FIG. 2;
FIG. 4 is a plan view schematically showing a planar layout of a modified example of the chip sorter in one embodiment according to the present invention.
FIG. 5 is a plan view schematically showing a shared wafering correction unit in the planar configuration of the chip sorter shown in FIG. 2;
FIG. 6A is a plan view schematically showing a state before a wafer ring position is corrected, and FIG. 6B is a plan view showing a state after the correction.
FIG. 7 is a plan view schematically showing a modification of the chip sorter according to one embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view of a principal part schematically showing a configuration of the chip sorter along a cutting line AA in FIG. 7;
9 is a cross-sectional view of a principal part schematically showing a configuration of the chip sorter along a cutting line BB in FIG. 7;
FIG. 10 is a flowchart showing a semiconductor device manufacturing procedure including a sorter process.
[Explanation of symbols]
100 chip sorter
110 Wafer Monitor
120 mapping display
130 operation panel
210 Wafering cassette
220 Wafering set part
221 Upper Base
230 Wafering
310 Wafering cassette
320 Wafering set section
321 Push-up unit
330 Wafering
331 straight section
410 Wafering cassette lifter
420 motor
500 XY table section
510 X-axis table
520 Y-axis table
530 drive motor
540 drive motor
550 XY table section
551 X-axis table
552 Y-axis table
553 drive motor
554 drive motor
560 XY table section
561 X-axis table
562 Y axis table
563 drive motor
564 drive motor
600 Wafer extractor
610 motor
620 Y-axis table
630 chuck
650 Wafer extractor
651 motor
652 Y-axis table
653 chuck
660 Wafer extractor unit
661 motor
662 Y axis table
663 chuck
700 Chip transfer mechanism
710 Transfer Collet Transport Guide
720 transfer collet
730 Optical system chip recognition unit
740 drive motor
800 Chip tray mechanism
810 Chip tray
820 Y-axis table
830 drive motor
840 Chip tray setting section
900 Wafering correction unit
910 Posture correction gripper
C chip
S110 Step
S120 Step
S130 Step
S140 Step
S200 Step
S210 Step
S220 step
S230 step
S310 step
S320 step
S330 step
S400 Step
Claims (5)
前記ソータは、その機構部に、異なるサイズのウエハに適用される共用機構部を有していることを特徴とする半導体装置の製造方法。A method for manufacturing a semiconductor device having a step of sorting using a sorter,
The method for manufacturing a semiconductor device, wherein the sorter has a shared mechanism applied to wafers of different sizes in its mechanism.
前記2軸テーブル部、前記ウエハカセットリフタ部、前記ウエハエキストラクタ部、前記ウエハリング修正部のいずれかの機構部を、異なる口径のウエハ用の共用機構としたことを特徴とする半導体装置の製造方法。A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of performing sorting using a sorter having a two-axis table section, a wafer cassette lifter section, a wafer extractor section, and a wafer ring correction section,
A semiconductor device manufacturing method, wherein any one of the two-axis table unit, the wafer cassette lifter unit, the wafer extractor unit, and the wafer ring correction unit is a common mechanism for wafers having different diameters. Method.
前記チップソータは、φ200mm用とφ300mm用との共用機構部を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。A method for manufacturing a semiconductor device having a chip sorting step from a φ300 mm wafer using a chip sorter,
The method for manufacturing a semiconductor device, wherein the chip sorter has a common mechanism for φ200 mm and φ300 mm.
前記チップソート工程では、φ300mmウエハに作り込まれた良品チップを、XYテーブル部と、ウエハカセットリフタ部のいずれかをφ300mmおよびφ200mm用の共用機構部としたチップソータによりソートする工程であることを特徴とする半導体装置の製造方法。A method for manufacturing a semiconductor device having a chip sorting step,
The chip sorting step is a step of sorting non-defective chips fabricated on a φ300 mm wafer by a chip sorter in which one of an XY table section and a wafer cassette lifter section is a shared mechanism section for φ300 mm and φ200 mm. A method for manufacturing a semiconductor device.
前記2軸テーブル部、前記ウエハカセットリフタ部、前記ウエハエキストラクタ部、前記ウエハリング修正部のいずれかの機構部を、異なるウエハサイズに適用する共用機構部としたことを特徴とする半導体製造装置。A semiconductor manufacturing apparatus having a chip sorter function having a two-axis table section, a wafer cassette lifter section, a wafer extractor section, and a wafer ring correction section as mechanism sections,
A semiconductor manufacturing apparatus, wherein any one of the two-axis table unit, the wafer cassette lifter unit, the wafer extractor unit, and the wafer ring correction unit is a shared mechanism unit adapted to different wafer sizes. .
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