KR102370315B1 - 태양전지의 광흡수층 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 태양전지의 광흡수층 제조방법을 제공하고, 상기 태양전지의 광흡수층 제조방법은 후면 전극층 상에 금속, 금속 황 및 금속 셀렌 중 적어도 어느 하나를 포함하는 금속 화합물 전구체를 증착하는 단계, 제1 열처리 온도 범위에서 상기 금속 화합물 전구체를 합금화 하는 단계 및 제2 열처리 온도 범위에서 황화 소스의 투입 없이 셀렌화 열처리를 수행하는 단계를 포함한다.
Description
본 발명은 광흡수층 표면을 제어하는 방법으로, 구체적으로는 탄소계열의 지그를 이용하여 황(S)원소의 첨가 없이 아연(Zn) 원소의 휘발을 억제하면서 텍스처(Texture)가 형성된 표면을 가지는 광흡수층을 형성하는 방법에 관한 것이다.
점차 심각해 지근 환경오염 문제와 화석 에너지 고갈로 차세대 청정 에너지 개발에 대한 중요성이 증대되고 있다. 그 중에서도 태양전지는 태양 에너지를 직접 전기 에너지로 전환시키는 장치로서, 공해가 적고, 자원이 무한적이며 반영구적인 수명을 가지고 있어 미래 에너지 문제를 해결할 수 있는 에너지원으로 기대되고 있다.
태양전지는 광흡수층으로 사용되는 물질에 따라서 다양한 종류로 구분되며, 현재 가장 많이 사용되는 것은 실리콘을 이용한 실리콘 태양전지이다. 그러나 최근 실리콘의 공급부족으로 가격이 급등하면서 박막형 태양전지에 대한 관심이 증가하고 있다. 박막형 태양전지는 얇은 두께로 제작되므로 재료의 소모량이 적고, 무게가 가볍기 때문에 활용범위가 넓다. 이러한 박막형 태양전지의 재료로는 비정질 실리콘과 CdTe, CIS계(CuInSe2, CuIn1-xGaxSe2, CuIn1-xGaxS2 등)에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다.
CIS계 중에 CIGS는 구리(Cu)-인듐(In)-갈륨(Ga)-셀레늄(Se)의 4원소로 이루어진 칼코제나이드 계 화합물 반도체로써 태양전지 흡수층으로 많은 연구가 진행되고 있으며, 이 소재는 직접천이 반도체 화합물이기 때문에 태양광 에너지 전환 효율 중에 가장 높은 변환효율(약20.3%)을 기록하고 있기도 하다.
그러나 CIS계에서 사용하는 인듐(In)은 상대적 매장량이 적은 희소원소로 디스플레이 산업에 이용되는 ITO 소재의 수요에 의해 그 가격이 상승 추세에 있어 양산화 하는데 있어 하나의 걸림돌로 작용할 수 있으며, 갈륨(Ga) 또한 고가라는 단점이 있어, In, Ga을 Zn, Sn으로 대체함으로써 새로운 태양전지를 제작하는 연구가 많이 진행되고 있다.
CZTS 태양전지의 Zn과 Sn은 자연적으로 매장량이 매우 풍부한 원소이고, 상대적으로 값싸며, 유해성이 낮기 때문에 친환경적인 흡수층 물질로 평가받고 있다. 또한 CZTSe 나 CZTSSe 제작은 CZT 및 CZTS의 전구체를 셀렌화 열처리 공정을 통하여 제조되고 있다. 셀렌화 열처리 공정을 통한 CZTSe 박막은 높은 흡광계수로 인하여 태양전지로서의 특성이 우수하다는 장점을 가지고 있지만, 낮은 밴드갭 특성으로 인하여 태양전지 개방전압이 낮은 문제점이 있다. 그리고 황화 열처리 공정을 통한 CZTS 박막은 높은 밴드갭 특성을 가지나, 자체의 높은 저항 특성 및 낮은 캐리어 수명으로 인하여 전류특성이 낮은 문제점이 있다.
그리고 양산화 공정에서 사용하는 셀렌화 열처리 공정은 일반적으로 H2Se 가스를 사용하지만 H2Se는 매우 독성 가스이며 고가인 문제점이 있다. 반면 순수 Se 금속을 이용한 셀렌화 공정은 저가이며, 과량 사용시 단락 전류의 증가 등의 장점이 있으나, 아연(Zn)이 휘발되는 것을 막기 위해 H2S 가스와 같은 황(S) 원소를 첨가하여 셀렌화 열처리 공정을 수행한다. 따라서 순수 Se 금속을 이용하여 저가이면서도 단순하게 셀렌화 공정이 가능한 새로운 기술 개발이 필요한 시점이다.
본 발명의 실시예는 순수 셀렌 금속을 이용하여 셀렌화 공정을 수행하되, 추가적인 황화수소(H2S)가스와 같은 유독 물질 첨가 없이 열처리하는 공정만으로 표면의 텍스처(texture)를 형성할 있는 태양전지의 광흡수층 제조방법을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 실시예는 순수 셀렌 금속을 이용하여 셀렌화 공정을 수행하되, 그라파이트(Graphite) 재질의 지그(Jig)와 홀더(Holder)를 이용하여 셀렌화 공정에 소실되는 열을 차단하고, 아연(Zn)의 휘발을 막는 태양전지의 광흡수층 제조방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예에 따라 태양전지의 광흡수층 제조방법을 제공하고, 상기 태양전지의 광흡수층 제조방법은 후면 전극층 상에 금속, 금속 황 및 금속 셀렌 중 적어도 어느 하나를 포함하는 금속 화합물 전구체를 증착하는 단계; 제1 열처리 온도 범위에서 상기 금속 화합물 전구체를 합금화 하는 단계; 및 제2 열처리 온도 범위에서 황화 소스의 투입 없이 셀렌화 열처리를 수행하는 단계를 포함한다.
상기 셀렌화 열처리는 열처리 지그 시스템을 이용하는 것을 특징으로 한다.
상기 열처리 지그 시스템은 탄소계열의 재질로 이루어진 것을 특징으로 한다.
상기 탄소계열은 그라파이트, 그래핀으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 한다.
상기 셀렌화 열처리를 수행하는 단계는 텍스쳐(Texture)를 형성하는 것을 특징으로 한다.
상기 금속 화합물은 Cu, Zn 또는 Sn의 순수 금속 물질로 이루어진 군, CuSn, CuZn의 금속 합금 물질, CuS, ZnS 또는 SnS의 금속 황화 물질, CuSe, ZnSe, 또는 SnSe의 금속 셀렌 화합물 및 CuSSe, ZnSSe 또는 SnSSe 의 금속 황화 셀렌 화합물로 이루어진 군 중에서 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 한다.
상기 금속 셀렌은 셀렌 파우더인 것을 특징으로 한다.
상기 셀렌 파우더는 상기 열처리 지그 시스템의 162.24cm3 당 0.05 내지 0.5 g의 중량을 사용하는 것을 특징으로 한다.
상기 제1 열처리 온도 범위는 270 ℃ 내지 330인 것을 특징으로 한다.
상기 제2 열처리 온도 범위는 420 ℃ 내지 440인 것을 특징으로 한다.
상기 셀렌화 열처리는 500 내지 1000 Torr의 압력에서 수행하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 실시예에 따라 상기 태양전지의 광흡수층 제조방법으로 제조된 광흡수층을 포함하는 박막 태양전지를 제공한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 종래 기술에서 추가되던 황화수소(H2S) 첨가 없이 순수 셀렌 금속을 이용한 열처리만으로 셀렌화가 가능하여, 제조공정이 단순하면서도 제조비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 황화수소(H2S) 첨가 없이 순수 셀렌 금속을 열처리하여 셀렌화하는 공정 수행만으로 전구체 상의 Zn 휘발 없이 표면의 텍스쳐(texture)를 형성할 있는 효과가 있다,
또한, 본 발명의 실시예는 그라파이트(Graphite) 재질의 지그(Jig)와 홀더(Holder)를 이용하여 셀렌화 공정에 소실되는 열을 차단하고, 아연(Zn)의 휘발을 막아 제조공정이 단순하면서도 종래 기술의 제조방법에 준하는 제조 효율을 가지는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 제조과정의 순서도를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 전구체 형성 순서 모식도를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 열처리 과정에 열처리 온도에 대한 그래드를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 실시예에서 전구체 열처리를 위한 Jig 시스템의 계략도를 도시한 것이다.
도 5a는 본 발명의 실시예에 따라 제조된 광흡수층의 표면을 모식화한 것이다.
도 5b는 본 발명의 실시예에 따라 제조된 광흡수층의 SEM 단면도를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 전구체 형성 순서 모식도를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 열처리 과정에 열처리 온도에 대한 그래드를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 실시예에서 전구체 열처리를 위한 Jig 시스템의 계략도를 도시한 것이다.
도 5a는 본 발명의 실시예에 따라 제조된 광흡수층의 표면을 모식화한 것이다.
도 5b는 본 발명의 실시예에 따라 제조된 광흡수층의 SEM 단면도를 도시한 것이다.
이하 첨부 도면들 및 첨부 도면들에 기재된 내용들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
본 명세서에서 사용되는 "실시예", "예", "측면", "예시" 등은 기술된 임의의 양상(aspect) 또는 설계가 다른 양상 또는 설계들보다 양호하다 거나, 이점이 있는 것으로 해석되어야 하는 것은 아니다.
또한, '또는' 이라는 용어는 배타적 논리합 'exclusive or'이기보다는 포함적인 논리합 'inclusive or'를 의미한다. 즉, 달리 언급되지 않는 한 또는 문맥으로부터 명확하지 않는 한, 'x가 a 또는 b를 이용한다'라는 표현은 포함적인 자연 순열들(natural inclusive permutations) 중 어느 하나를 의미한다.
또한, 본 명세서 및 청구항들에서 사용되는 단수 표현("a" 또는 "an")은, 달리 언급하지 않는 한 또는 단수 형태에 관한 것이라고 문맥으로부터 명확하지 않는 한, 일반적으로 "하나 이상"을 의미하는 것으로 해석되어야 한다.
또한, 막, 층, 영역, 구성 요청 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 층, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.
이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예에 따른 태양전지 광흡수층 제조 방법을 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 태양전지 광흡수층 제조방법의 공정도이며, 상기 태양전지 광흡수층 제조방법의 공정은 후면 전극 상에 적층 전구체 증착하는 공정단계(S01), 전구체를 합금화하는 공정단계(S02) 및 셀렌화 열처리하는 공정 단계(S03)를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 태양전지 광흡수층 제조방법의 단계 S100은 태양전지 후면 전극층 상에 금속, 금속 황 및 금속 셀렌 중 적어도 어느 하나를 포함하는 금속 화합물 전구체를 증착한다.
상기 후면 전극층은 기판 상에 형성되는 것으로, 상기 기판은 고온에서 사용 가능한 기판이라면 모두 사용 가능하며, 이에 제한되지는 않지만, 소다 라임(Soda-Lime) 유리, 웨이퍼(wafer) 또는 석영(quartz) 기판을 사용할 수 있다.
실시예에 따라서는, 단계 S110은 상기 기판을 세척하여 준비하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 세척은 아세톤, 메탄올, 2차 증류수로 이루어진 군에서 선택하여 세척할 수 있고, 바람직하게는 세척시 초음파를 함께 이용하여 세척하여 상기 기판을 준비한다.
또한, 상기 단계 S110은 스퍼터링 방법, 증발 방식 또는 용액 공정 방식을 사용하여 수행될 수 있다.
실시예에 따라서는 단계 S110은 상기 후면 전극은 몰리브덴 전극을 사용할 수 있고, 몰리브덴 전극 상에 금속, 금속 황 또는 금속 셀렌을 포함하는 금속 화합물 전구체를 증착 할 수 있다.
상기 금속 화합물은 Cu, Zn 또는 Sn의 순수 금속 물질로 이루어진 군, CuSn, CuZn의 금속 합금 물질, CuS, ZnS 또는 SnS의 금속 황화 물질, CuSe, ZnSe, 또는 SnSe의 금속 셀렌 화합물 및 CuSSe, ZnSSe 또는 SnSSe 의 금속 황화 셀렌 화합물로 이루어진 군 중에서 하나 이상의 금속화합물을 사용하여 적층 구조 형태로 증착할 수 있다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 상기 전극층을 형성한 모식도를 도시한 것이다.
도 2를 참조하면, 기판(210)상에 후면 전극으로 몰리브덴 전극(220)을 형성하고, 그 위에 아연 금속 전구체층(230), 그 위에 주석 금속 전구체층(240), 그 위에 구리 금속 전구체층(250)을 형성하여 금속 화합물 전구체를 준비한다.
다시 도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 태양전지 광흡수층 제조방법의 단계 S120는 제1 열처리 온도 범위에서 상기 금속 화합물 전구체를 합금화 한다.
본 발명의 실시예에 따른 태양전지 광흡수층 제조방법의 단계 S130은 제2 열처리 온도 범위에서 황화 소스의 투입 없이 셀렌화 열처리를 한다.
태양전지 광흡수층 제조방법의 단계 S130은 열처리 장비 챔버 내에서 셀렌화 공정을 수행하는 단계이다. 셀렌화 공정을 수행하기 전 전구체를 포한한 지그를 챔버 내에 안착 한다. 추가 적으로 챔버 내의 불순물을 제거하기 위하여 내부 3 X 10-2 Torr펌핑(pumping) 단계를 수행한후 불활성 가스를 공급하여 챔버 압력을 유지한다. 셀렌화 열처리 공정이 수행되는 동안에는 어떠한 가스도 공급되지 않은 상태에서 진행한다. 상기와 같이 셀렌화 공정이 끝나면, 셀렌의 기화 가스와 잔유물인 셀렌 금속을 제거하기 위하여 2번째 단계에서 공정압력을 300 Torr 이하로 설정하여 퍼지(purge) 단계를 수행한다.
이때 불황성 가스인 아르곤을 주입하여 셀렌의 기화 가스와 잔유물인 셀렌 금속을 보다 쉽게 제거한다.
본 발명의 실시예에 따른 태양전지 광흡수층 제조방법의 단계 S120 및 본 발명의 실시예에 따른 태양전지 광흡수층 제조방법의 단계 S130은 열처리 지그(Jig) 시스템에서 열처리를 수행한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 열처리 공정을 설명하기 위하여 도시한 것이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 열처리 공정은 제1 열처리 온도 범위 및 제2 열처리 온도범위에서 2단계로 수행한다.
상기 제2 열처리 온도 범위는 합금화 된 금속 화합물 전구체의 셀렌화 열처리 단계로서, 상기 합금화된 전구체의 셀렌화 열처리 단계는 온도 B 지점이 끝날 때까지 진행되며, 430±10의 온도 범위에서 5~30분 동안동안 수행한다.
상기 제1 열처리와 제2 열처리는 상기 금속화합물 전구체와 셀렌 금속을 열처리 지그(Jig) 시스템 내에 안착 한 후 수행한다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 열처리 공정을 수행하기 위한 열처리 지그 시스템의 구성을 도시한 것이다.
도 4를 참조하면, 열처리 지그 시스템(400)은 셀렌(Se) 금속(410)이 안착되어 있는 열처리 지그(420), 열처리 지그(420) 위에 안착되는 전구체(430), 전구체(430)와 기판(450) 사이에 기화 공간(460)을 만들어 주는 열처리 홀더(440)를 포함한다.
셀렌 금속(410)은 셀렌 샷(Se Shot) 또는 셀렌 파우더(Se Powder)일 수 있으며, 바람직하게는 셀렌 파우더일 수 있다.
상기 셀렌 파우더는 열처리 지그(420) 내의 부피 162.24cm3 당 0.05g~0.5 g으로 사용하고, 바람직하게는 0.3g을 사용할 수 있다.
열처리 지그(420) 및 열처리 홀더(440)는 탄소계열 재질의 그라파이트(Graphite) 또는 그래핀(Graphene) 재질 일 수 있고, 바람직하게는 그라파이트 재질일 수 있다. 바람직하게는 두께 1t(=1mm)의 석영판 일수 있으나 이에 제한되지 않고, 고온에서 사용 가능한 기판이라면 모두 사용 가능하다.
기판(450)은 소다 라임(Soda-Lime) 유리, 웨이퍼(wafer) 또는 석영(quartz) 기판을 사용할 수 있다.
기화공간(460)은 전구체(430)와 기판(450) 사이의 거리를 의미하며, 기화공간(460)은 1 mm 초과 5mm 미만일수 있고, 바람직하게는 3mm 간격의 기화공간(460)을 가질 수 있다.
기화공간(460)은 1mm 이하의 공간을 가지는 지그로 테스트 시 전구체의 셀렌화가 완벽하게 이루어 지지 않으며, 5mm 이상 가질시 Mo 후면 전극의 셀렌화가 극대화되어 소자의 저항이 증가된다. 따라서 기화공간(460)은 상기 제시된 범위를 넘어가면 태양전지 특성이 저하된다.
본 발의 실시예에 따른 태양전지 광흡수층 제조방법에 의하면 열처리에 의한 상기 후면 전극층에 존재하는 아연(Zn) 원소가 소실되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 첨가되는 황(S) 원소 없이 열처리하여 태양전지 광흡수층 표면을 셀렌화하고, 태양전지 광흡수층 표면을 효과적으로 텍스쳐링(Texturing)할 수 있다.
일반적으로 텍스쳐링을 위해 추가적인 열처리를 수행하는 일반 공정에 비해 본 발명은 추가 적인 열처리 단계 없이 셀렌화를 위한 열처리 단계만으로도 텍스쳐 모양 형성이 가능다.
도 5a는 텍스쳐 형성에 따른 흡수광의 효과적인 흡수과정을 도시한 모식도인 것이다.
도 5a를 참조하면 텍스쳐(Texture)의 존재는 입사광이 반사되는 반사광을 다시금 흡수할 수 있어 흡수층의 반사율을 감소시키고, 흡수층 내에서 빛의 공과 길이가 향상되며, 내부 반사를 이용한 빛의 양이 증가되어 흡수층 내의 빛의 흡수량이 증가될 수 있다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 예시하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되는 것으로 해석되지는 않는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명할 것이다.
<실시예>
본 발명의 화합물 박막 태양전지의 제조
유리 기판을 아세톤, 메탄올 및 2차 증류수를 이용하여 순차적으로 세척하였다. 상기 유리 기판을 세척 후, 스퍼터링 방법으로 몰리브덴 후면 전극을 증착시킨다.
이후 DC 스퍼터 증착법으로 상기 몰리브덴이 증착된 후면 전극 상에 25의 기판 온도에서 후면전극으로 사용되는 몰리브덴(Mo)을 증착 후 아연(Zn), 주석(Sn), 구리(Cu), 순서로 증착되도록 금속 전구체층을 형성하였다.
상기 금속 전구체층은 몰리브덴 후면 전극 상에 Zn, 그 위로 Sn, 그 위로 Cu의 순서로 적층되도록 증착시켰다.
이후 열처리 장비를 이용하여 열처리 수행하되, 셀렌 열처리 공정은 상기와 같이 제작한 열처리 지그(Jig) 시스템에 안착한다.
지그 하단에 셀렌화를 위한 셀렌 금속이나 파우더 소스를 안착시키고, 이때 셀렌 금속이나 파우더 소스 상부에 증착된 전구체를 위치하도록 하여 진행한다.
상기 열처리 지그는 가로 세로 110mm의 정사각형의 바탕면에 높이는 15mm의 사방 측면을 가지며, 측면의 4곳 두께는 3mm로 모두 동일하고, 바탕면은 1mm의 두께를 가진다.
상기 셀렌 금속이나 파우더는 기화용 트레이 상에 약 0.35g이 안착되도록 하였고, 삽입되는 구조물의 부피는 약 162.24 cm3 이다.
셀렌 금속과 증착된 전구체를 열처리 장비 내에 안착 후 열처리 공정을 수행하였는데, 총 2단계의 온도 단계를 통하여 셀렌-황화 열처리 공정을 수행하였다.
첫번째 셀렌화 열처리 공정(제1 열처리 온도 범위)에서 도 3의 A 지점의 온도 설정은 전구체의 합금을 위한 단계로서 30030온도에서 실행하였고, B 지점의 단계는 전구체의 셀렌화 열처리를 단계를 위한 것으로 전구체의 셀렌화 단계는 온도 B 지점이 끝날 때까지 진행하였다. B 지점의 온도 설정은 48010℃? 조건에서 실행하였다. 이때 상기 전구체 합금을 위한 단계 및 상기 셀렌화를 수행하는 단계의 압력은 700 Torr로 설정하였다.
셀렌화 공정이 끝난 후 0.35g의 셀렌의 기화 가스와 잔유물인 셀렌 금속을 제거하기 위하여 2번째 단계에서 공정압력을 3X10-2Torr 이하로 설정하여 퍼지(purge) 단계를 진행하였다. 이때 불활성 가스인 아르곤을 주입하여 보다 쉽게 제거할 수 있도록 하였다.
<특성평가>
실시예에 따라 제조된 태양전지 광흡수층의 표면과 단면을 SEM(Scanning Electron Microscope)으로 촬영하여 결과를 확인하였다. 확인 결과는 도 5b에 도시하였다.
상기 도 5b를 참조하면 본 발명의 실시예에서는 텍스쳐를 생성하기 위한 추가적인 열처리 없이도 셀렌화 열처리 만으로 표면에 텍스쳐가 형성되었음을 확인할 수 있다.
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위 뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
100: 열처리 지그(Jig) 시스템
110: 셀렌(Se) 파우더 120: 열처리 지그(Jig)
130: 전구체층 140: 열처리 홀더(Holder)
150: 기판 160: 기화 공간
110: 셀렌(Se) 파우더 120: 열처리 지그(Jig)
130: 전구체층 140: 열처리 홀더(Holder)
150: 기판 160: 기화 공간
Claims (12)
- 후면 전극층 상에 금속, 금속 황 및 금속 셀렌 중 적어도 어느 하나를 포함하는 금속 화합물 전구체를 증착하는 단계;
제1 열처리 온도 범위에서 상기 금속 화합물 전구체를 합금화 하는 단계; 및
제2 열처리 온도 범위에서 황화 소스의 투입 없이 순수 셀렌 금속을 이용하여 셀렌화 열처리를 수행하는 단계를 포함하고,
상기 셀렌화 열처리를 수행하는 단계는 광흡수층의 표면에 텍스쳐(Texture)를 형성하며, 상기 셀렌화 열처리를 수행하는 단계는 상기 후면 전극층에 존재하는 아연(Zn) 원소의 소실을 방지하는 것을 특징으로하는 태양전지의 광흡수층 제조방법.
- 제1항에 있어서,
상기 셀렌화 열처리는 열처리 지그 시스템을 이용하는 것을 특징으로 하는 태양전지의 광흡수층 제조방법.
- 제2항에 있어서,
상기 열처리 지그 시스템은 탄소계열의 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 태양전지 광흡수층 제조방법.
- 제3항에 있어서
상기 탄소계열은 그라파이트 및 그래핀으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 태양전지 광흡수층 제조방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 금속 화합물은 Cu, Zn 또는 Sn의 순수 금속 물질로 이루어진 군, CuSn, CuZn의 금속 합금 물질, CuS, ZnS 또는 SnS의 금속 황화 물질, CuSe, ZnSe, 또는 SnSe의 금속 셀렌 화합물 및 CuSSe, ZnSSe 또는 SnSSe 의 금속 황화 셀렌 화합물로 이루어진 군 중에서 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 태양전지의 광흡수층 제조방법.
- 제2항에 있어서,
상기 금속 셀렌은 셀렌 파우더인 것을 특징으로 하는 태양전지 광흡수층 제조방법.
- 제7항에 있어서,
상기 셀렌 파우더는 상기 열처리 지그 시스템의 162.24cm3 당 0.05 내지 0.5 g의 중량을 사용하는 것을 특징으로 하는 태양전지 광흡수층 제조방법.
- 제1항에 있어서,
상기 제1 열처리 온도 범위는 270 ℃ 내지 330인 것을 특징으로 하는 태양전지 광흡수층 제조방법.
- 제1항에 있어서,
상기 제2 열처리 온도 범위는 420 ℃ 내지 440인 것을 특징으로 하는 태양전지 광흡수층 제조방법.
- 제1항에 있어서,
상기 셀렌화 열처리는 500 내지 1000 Torr의 압력에서 수행하는 것을 특징으로 하는 태양전지 광흡수층 제조방법.
- 제1항 내지 제4항 및 제6항 내지 제11항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 광흡수층을 포함하는 박막 태양전지.
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