KR102342829B1 - High purity nitrous oxide refining apparatus for manufacturing semiconductor and OLED and for medical - Google Patents

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Abstract

개시되는 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치가 저순도 아산화질소 공급 부재와, 흡착 부재와, 증류 부재를 포함함에 따라, 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있게 되는 장점이 있다.As the disclosed high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use includes a low-purity nitrous oxide supply member, an adsorption member, and a distillation member, high-purity nitrous oxide can be obtained, and, while obtaining the high-purity nitrous oxide, There is an advantage in that the required cost is reduced, and the equipment for obtaining the high-purity nitrous oxide can be compact.

Description

반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치{High purity nitrous oxide refining apparatus for manufacturing semiconductor and OLED and for medical}High purity nitrous oxide refining apparatus for manufacturing semiconductor and OLED and for medical use

본 발명은 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing semiconductors and OLEDs and for medical use.

아산화질소(N2O)는 독성이 없어서, 반도체, 플렉서블 오엘이디(flexible OLED)의 제조 시 식각 공정 등에 사용되고, 인체에 대해 마취·환각 효과가 있어서, 의료용 마취제로도 사용되는 것이다.Nitrous oxide (N 2 O) is non-toxic, so it is used for etching processes in the manufacture of semiconductors and flexible OLEDs, and has anesthetic and hallucinogenic effects on the human body, so it is also used as a medical anesthetic.

이러한 아산화질소가 산업용 또는 의료용으로 이용되기 위해서는 고순도화시키는 공정이 요구되는데, 그 예로 제시될 수 있는 것이 아래 제시된 특허문헌의 그 것이다.In order for this nitrous oxide to be used for industrial or medical purposes, a process for purifying it is required, and what can be presented as an example is that of the patent literature presented below.

그러나, 종래의 아산화질소의 정제 장치에 의하면, 흡착 성능이 떨어지고, 증류 타워 등에서 증류수를 이용하여 정제시키는 단순 정제 방식이어서, 그러한 아산화질소의 정제에 소요되는 코스트가 높고, 그 정제를 위한 설비가 설치되기 위한 부지를 많이 소요하는 문제가 있었다.However, according to the conventional purification apparatus for nitrous oxide, the adsorption performance is poor, and since it is a simple purification method of purification using distilled water in a distillation tower, etc., the cost required for such purification of nitrous oxide is high, and a facility for the purification is installed There was a problem that required a lot of land to become.

등록특허 제 10-0626713호, 등록일자: 2006.09.14., 발명의 명칭: 아산화질소 정제방법Registered Patent No. 10-0626713, Registration Date: September 14, 2006, Title of Invention: Nitrous Oxide Purification Method

본 발명은 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있는 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.The present invention is capable of obtaining high-purity nitrous oxide, while reducing the cost required for obtaining the high-purity nitrous oxide, and making the equipment for obtaining the high-purity nitrous oxide compact. High-purity nitrous oxide for semiconductor and OLED manufacturing and medical use It is one object to provide a purification apparatus.

본 발명의 일 측면에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치는 저순도 아산화질소를 공급하는 저순도 아산화질소 공급 부재; 상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 공급된 상기 저순도 아산화질소 내의 불순물을 흡착하여 제거하는 흡착 부재; 및 상기 흡착 부재를 경유한 상기 저순도 아산화질소를 증류시켜 고순도 아산화질소를 형성하는 증류 부재;를 포함하고,
상기 흡착 부재는 외부에 대하여 밀폐된 형태로 형성되는 흡착 케이스와, 상기 흡착 케이스의 내부에 배치되어, 상기 흡착 케이스의 내부를 따라 유동되는 상기 저순도 아산화질소 내의 불순물을 흡착시키는 흡착제와, 상기 흡착 케이스에 장착되고, 상기 흡착 케이스가 미리 설정된 요구 자세를 유지하는지 여부를 감지할 수 있는 임의 편향 센싱 부재를 포함하고,
상기 임의 편향 센싱 부재는 상기 임의 편향 센싱 부재의 외곽을 형성하는 감지 본체부와, 상기 흡착 케이스의 상기 미리 설정된 요구 자세 유지 여부를 감지할 수 있는 감지부와, 상기 감지 본체부의 내부에 배치되고, 상기 감지부와의 접촉을 감지하는 접촉 감지 센서부를 포함하고,
상기 감지 본체부는 원형으로 형성되면서 그 내부에 일정 공간이 형성된 본체측 케이스와, 상기 본체측 케이스의 내부 양측부에서 각각 돌출된 형태로 형성된 경사형 연장체를 포함하고,
상기 경사형 연장체는 그 상측이 경사지게 형성되고, 한 쌍의 상기 경사형 연장체는 상기 본체측 케이스의 중심을 지나는 가상의 수직 연장선을 기준으로 서로 대칭되도록 배치되고,
상기 감지부는 상기 본체측 케이스의 중심부에 회전 가능하게 연결되는 감지 회전축과, 상기 감지 회전축으로부터 일정 길이로 연장되고, 한 쌍으로 구성되며, 상기 본체측 케이스의 중심을 지나는 가상의 수직 연장선을 기준으로 서로 대칭되도록 배치되는 감지 연장체와, 상기 감지 회전축의 하부에서 하방인 중력 방향으로 일정 길이 연장되도록 형성되어, 외력이나 외부 충격 미인가의 경우 한 쌍의 상기 감지 연장체가 상기 본체측 케이스의 중심을 지나는 가상의 수직 연장선을 기준으로 서로 대칭되는 형태를 유지하도록 상기 감지 연장체에 하중을 부여하는 무게추를 포함하고,
상기 감지 연장체는 한 쌍의 상기 경사형 연장체 중 일측에 형성된 것에서 상공으로 일정 높이 이격된 위치에 형성된 제 1 날개와, 한 쌍의 상기 경사형 연장체 중 타측에 형성된 것에서 상공으로 일정 높이 이격된 위치에 형성된 제 2 날개를 포함하고,
상기 접촉 감지 센서부는 한 쌍의 상기 경사형 연장체 중 하나의 상측 경사면에 형성되는 제 1 접촉 센서와, 한 쌍의 상기 경사형 연장체 중 다른 하나의 상측 경사면에 형성되는 제 2 접촉 센서를 포함하고,
상기 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치가 작동되는 과정에서, 상기 흡착 케이스가 상기 미리 설정된 요구 자세를 벗어나 기울어지게 되면, 상기 감지 연장체에 상기 제 1 접촉 센서 또는 상기 제 2 접촉 센서가 접촉되고, 그에 따라 상기 흡착 케이스가 기울어진 것이 감지될 수 있게 되는 것을 특징으로 한다.
A high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an aspect of the present invention includes a low-purity nitrous oxide supply member for supplying low-purity nitrous oxide; an adsorption member for adsorbing and removing impurities in the low-purity nitrous oxide supplied from the low-purity nitrous oxide supply member; and a distillation member for distilling the low-purity nitrous oxide passing through the adsorption member to form high-purity nitrous oxide;
The adsorption member includes an adsorption case formed in a sealed form from the outside, an adsorbent disposed inside the adsorption case to adsorb impurities in the low-purity nitrous oxide flowing along the inside of the adsorption case, and the adsorption It is mounted on the case and includes an arbitrary bias sensing member capable of detecting whether the adsorption case maintains a preset required posture,
The arbitrary deflection sensing member includes a sensing body forming an outer periphery of the arbitrary deflection sensing member, a sensing unit capable of detecting whether the adsorption case maintains the preset required posture, and is disposed inside the sensing body, and a touch detection sensor unit for detecting contact with the detection unit;
The sensing body part includes a main body-side case having a predetermined space therein while being formed in a circular shape, and an inclined extension body formed in a shape protruding from both inner sides of the main body-side case,
The inclined extension body is formed with an upper side inclined, and the pair of inclined extension bodies are arranged to be symmetrical with each other based on an imaginary vertical extension line passing through the center of the main body side case,
The sensing unit includes a sensing rotation shaft rotatably connected to the center of the main body-side case, extending from the sensing rotation shaft by a predetermined length, and configured as a pair, based on an imaginary vertical extension line passing through the center of the body-side case A sensing extension disposed to be symmetrical to each other, and formed to extend a certain length in a downward direction of gravity from a lower portion of the sensing rotation shaft, a pair of sensing extensions passing through the center of the main body-side case when no external force or external impact is applied and a weight for applying a load to the sensing extension to maintain a shape symmetrical to each other based on a vertical extension line of
The sensing extension includes a first wing formed at a position spaced a predetermined height upward from one formed on one side of the pair of inclined extensions, and a position spaced apart from one formed on the other side of the pair of inclined extensions by a predetermined height. comprising a second wing formed;
The touch detection sensor unit includes a first contact sensor formed on an upper inclined surface of one of the pair of inclined extensions, and a second contact sensor formed on an upper inclined surface of the other of the pair of inclined extensions,
When the adsorption case is inclined out of the preset required posture while the semiconductor and OLED manufacturing and medical high-purity nitrous oxide purification apparatus are operating, the first contact sensor or the second contact sensor is attached to the sensing extension. It is characterized in that it can be detected that the adsorption case is tilted according to the contact.

본 발명의 일 측면에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치에 의하면, 상기 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치가 저순도 아산화질소 공급 부재와, 흡착 부재와, 증류 부재를 포함함에 따라, 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있게 되는 효과가 있다.According to the apparatus for purifying high-purity nitrous oxide for semiconductor and LED manufacturing and medical use according to an aspect of the present invention, the apparatus for purifying high-purity nitrous oxide for semiconductor and LED manufacturing and medical use includes a low-purity nitrous oxide supply member, an adsorption member, and a distillation member By including, while it is possible to obtain high-purity nitrous oxide, the cost required for obtaining the high-purity nitrous oxide is reduced, and there is an effect that the equipment for obtaining the high-purity nitrous oxide can be compact.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치의 구성을 보이는 개념도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 흡착 부재의 일부를 확대한 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 임의 편향 센싱 부재의 구성을 보이는 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 임의 편향 센싱 부재의 일부를 확대한 도면.
1 is a conceptual diagram showing the configuration of a high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention.
2 is an enlarged cross-sectional view of a portion of an adsorption member constituting a high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing semiconductors and OLEDs and for medical use according to an embodiment of the present invention;
3 is a view showing the configuration of an arbitrary deflection sensing member constituting a high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention.
4 is an enlarged view of a portion of an arbitrary deflection sensing member constituting a high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing semiconductors and OLEDs and for medical use according to an embodiment of the present invention;

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치의 구성을 보이는 개념도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 흡착 부재의 일부를 확대한 단면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 임의 편향 센싱 부재의 구성을 보이는 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 임의 편향 센싱 부재의 일부를 확대한 도면이다.1 is a conceptual diagram showing the configuration of a high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing semiconductor and OLED and for medical use according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is an enlarged cross-sectional view of a part of the adsorption member constituting the nitrogen purification device, and FIG. 3 is an optional bias sensing member constituting the high-purity nitrous oxide purification device for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention 4 is an enlarged view of a portion of an arbitrary deflection sensing member constituting a high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing semiconductors and OLEDs and for medical use according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치(100)는 저순도 아산화질소 공급 부재(110)와, 흡착 부재(120)와, 증류 부재(130)를 포함한다.1 to 4 together, the high-purity nitrous oxide purification apparatus 100 for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to this embodiment includes a low-purity nitrous oxide supply member 110, an adsorption member 120, and distillation. member 130 .

상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)는 저순도 아산화질소를 공급하는 것으로, 탱크 형태 등으로 상기 저순도 아산화질소를 공급해주는 형태로 제시될 수 있다.The low-purity nitrous oxide supply member 110 supplies low-purity nitrous oxide, and may be presented in a form of supplying the low-purity nitrous oxide in the form of a tank or the like.

상기 흡착 부재(120)는 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)로부터 공급된 상기 저순도 아산화질소 내의 불순물을 흡착하여 제거하는 것으로, 흡착 케이스(121)와, 흡착제(125)를 포함한다.The adsorption member 120 adsorbs and removes impurities in the low-purity nitrous oxide supplied from the low-purity nitrous oxide supply member 110 , and includes an adsorption case 121 and an adsorbent 125 .

상기 흡착 케이스(121)는 외부에 대하여 밀폐된 형태로 형성되는 것으로, 가늘고 긴 실린더 형태로 형성되는 것이다.The adsorption case 121 is formed in a sealed form with respect to the outside, and is formed in the form of a long and thin cylinder.

상기 흡착제(125)는 상기 흡착 케이스(121)의 내부를 채우도록 배치되어, 상기 흡착 케이스(121)의 내부를 따라 유동되는 상기 저순도 아산화질소 내의 이산화탄소, 이산화질소, 수증기, 유기탄화수소 등의 불순물을 흡착시키는 것이다.The adsorbent 125 is disposed to fill the inside of the adsorption case 121, and impurities such as carbon dioxide, nitrogen dioxide, water vapor, organic hydrocarbons in the low-purity nitrous oxide flowing along the inside of the adsorption case 121 are removed. to adsorb.

상기 증류 부재(130)는 증류 방식으로 상기 흡착 부재(120)를 경유한 상기 저순도 아산화질소를 증류시켜 고순도 아산화질소를 형성하는 것이다.The distillation member 130 forms high-purity nitrous oxide by distilling the low-purity nitrous oxide passing through the adsorption member 120 in a distillation method.

상기 증류 부재(130)에서의 증류 공정은 상기 흡착 부재(120)를 경유한 상기 저순도 아산화질소에 포함된 질소, 산소, 미량의 일산화탄소 등을 증기압(비점) 차이를 이용하여 저온에서 증류로 제거함으로써, 상기 고순도 아산화질소를 회수하는 것이다.In the distillation process in the distillation member 130, nitrogen, oxygen, trace amounts of carbon monoxide, etc. included in the low-purity nitrous oxide passed through the adsorption member 120 are removed by distillation at a low temperature using a difference in vapor pressure (boiling point). By doing so, the high-purity nitrous oxide is recovered.

도면 번호 140은 상기 증류 부재(130)에서 수득된 상기 고순도 아산화질소를 저장하는 저장 부재이다.Reference numeral 140 denotes a storage member for storing the high-purity nitrous oxide obtained in the distillation member 130 .

상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110), 상기 흡착 부재(120), 상기 증류 부재(130) 및 상기 저장 부재(140)는 배관으로 순차적으로 연결된 형태로 설치된다.The low-purity nitrous oxide supply member 110 , the adsorption member 120 , the distillation member 130 , and the storage member 140 are installed in a sequentially connected form through a pipe.

한편, 본 실시예에서는, 상기 흡착 부재(120)가 임의 편향 센싱 부재(150)를 더 포함한다.Meanwhile, in the present embodiment, the adsorption member 120 further includes an arbitrary deflection sensing member 150 .

상기 임의 편향 센싱 부재(150)는 상기 흡착 케이스(121)에 장착되고, 상기 흡착 케이스(121)가 임의로 편향되지 아니하고 미리 설정된 요구 자세(상기 흡착 케이스(121)가 기울어지지 않은 상태의 자세)를 유지하는지 여부를 감지할 수 있는 것으로, 감지 본체부(160)와, 감지부(170)와, 접촉 감지 센서부(176)를 포함한다.The arbitrary deflection sensing member 150 is mounted on the adsorption case 121, and the adsorption case 121 is not arbitrarily deflected and a preset required posture (a posture in which the adsorption case 121 is not inclined) is determined. It can detect whether or not to hold, and includes a sensing body 160 , a sensing unit 170 , and a touch sensing sensor unit 176 .

상기 감지 본체부(160)는 상기 임의 편향 센싱 부재(150)의 외곽을 형성하는 것으로, 본체측 케이스(161)와, 경사형 연장체(165)를 포함한다.The sensing body 160 forms the outer periphery of the arbitrary deflection sensing member 150 , and includes a body-side case 161 and an inclined extension body 165 .

상기 본체측 케이스(161)는 원형으로 형성되면서 그 내부에 일정 공간이 형성된 것이다.The main body side case 161 is formed in a circular shape and a predetermined space is formed therein.

상기 경사형 연장체(165)는 상기 본체측 케이스(161)의 내부 양측부에서 각각 돌출된 형태로 형성된 것이다.The inclined extension body 165 is formed to protrude from both inner side portions of the main body side case 161, respectively.

상기 경사형 연장체(165)는 그 상측이 경사지게 형성되고, 한 쌍의 상기 경사형 연장체(165)는 상기 본체측 케이스(161)의 중심을 지나는 가상의 수직 연장선을 기준으로 서로 대칭되도록 배치된다.An upper side of the inclined extension body 165 is formed to be inclined, and a pair of the inclined extension body 165 is arranged to be symmetrical to each other based on an imaginary vertical extension line passing through the center of the main body side case 161 .

상기 감지부(170)는 상기 흡착 케이스(121)의 상기 미리 설정된 요구 자세 유지 여부를 감지할 수 있는 것으로, 감지 연장체(171)와, 감지 회전축(174)과, 무게추(175)를 포함한다.The sensing unit 170 is capable of detecting whether the predetermined required posture of the adsorption case 121 is maintained, and includes a sensing extension 171 , a sensing rotation shaft 174 , and a weight 175 . .

상기 감지 회전축(174)은 상기 본체측 케이스(161)의 중심부에 회전 가능하게 연결되는 것이다.The sensing rotation shaft 174 is rotatably connected to the center of the main body-side case 161 .

상기 감지 연장체(171)는 상기 감지 회전축(174)으로부터 일정 길이로 연장되고, 한 쌍으로 구성되며, 한 쌍의 상기 감지 연장체(171)는 상기 본체측 케이스(161)의 중심을 지나는 가상의 수직 연장선을 기준으로 서로 대칭되도록 배치된다.The sensing extension 171 extends to a predetermined length from the sensing rotation shaft 174 and is configured as a pair, and the sensing extension 171 is a virtual vertical passing through the center of the main body-side case 161 . They are arranged to be symmetrical to each other based on the extension line.

상세히, 상기 감지 연장체(171)는 한 쌍의 상기 경사형 연장체(165) 중 일측에 형성된 것에서 상공으로 일정 높이 이격된 위치에 형성된 제 1 날개(172)와, 한 쌍의 상기 경사형 연장체(165) 중 타측에 형성된 것에서 상공으로 일정 높이 이격된 위치에 형성된 제 2 날개(173)를 포함한다.In detail, the sensing extension 171 includes a first wing 172 formed at a predetermined height spaced apart from the one formed on one side of the pair of inclined extension bodies 165 , and a pair of the inclined extension bodies 165 . ) includes a second wing 173 formed at a position spaced apart from the one formed on the other side by a certain height in the air.

상기 무게추(175)는 상기 감지 회전축(174)의 하부에서 하방인 중력 방향으로 일정 길이 연장되도록 형성되어, 외력이나 외부 충격 미인가의 경우 한 쌍의 상기 감지 연장체(171)가 상기 본체측 케이스(161)의 중심을 지나는 가상의 수직 연장선을 기준으로 서로 대칭되는 형태를 유지하도록 상기 감지 연장체(171)에 하중을 부여하는 것이다.The weight 175 is formed to extend a certain length in the downward direction of gravity from the lower portion of the sensing rotation shaft 174, and in the case of no external force or external shock applied, a pair of the sensing extensions 171 are connected to the body side case ( A load is applied to the sensing extension 171 to maintain a shape symmetrical to each other based on an imaginary vertical extension line passing through the center of the 161).

상기 접촉 감지 센서부(176)는 상기 감지 본체부(160)의 내부에 배치되고, 상기 감지부(170)와의 접촉을 감지하는 것이다.The touch sensing sensor unit 176 is disposed inside the sensing body 160 and detects contact with the sensing unit 170 .

상세히, 상기 접촉 감지 센서부(176)는 한 쌍의 상기 경사형 연장체(165) 중 하나의 상측 경사면에 형성되는 제 1 접촉 센서(177)와, 한 쌍의 상기 경사형 연장체(165) 중 다른 하나의 상측 경사면에 형성되는 제 2 접촉 센서(178)를 포함한다.In detail, the touch detection sensor unit 176 includes a first contact sensor 177 formed on an upper inclined surface of one of the pair of inclined extensions 165 and the other of the pair of inclined extensions 165 . and a second contact sensor 178 formed on one upper inclined surface.

상기와 같이 형성됨으로써, 상기 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치(100)가 작동되는 과정에서, 상기 흡착 케이스(121)가 상기 미리 설정된 요구 자세를 벗어나 기울어지게 되면, 상기 감지 연장체(171)에 상기 제 1 접촉 센서(177) 또는 상기 제 2 접촉 센서(178)가 접촉되고, 그에 따라 상기 흡착 케이스(121)가 기울어진 것이 감지될 수 있게 된다.By forming as described above, in the process of operating the high-purity nitrous oxide purification apparatus 100 for semiconductor and OLED manufacturing and medical use, when the adsorption case 121 is inclined out of the preset required posture, the sensing extension ( 171) is in contact with the first contact sensor 177 or the second contact sensor 178, and accordingly, it can be detected that the adsorption case 121 is tilted.

본 실시예에서는 상기 흡착 케이스(121)가 일 방향으로 기울어지게 되면, 상기 감지 본체부(160)도 일 방향으로 기울어지게 되면서 상기 제 1 날개(172)와 상기 제 1 접촉 센서(177)가 접촉되고, 상기 흡착 케이스(121)가 타 방향으로 기울어지게 되면 상기 감지 본체부(160)도 타 방향으로 기울어지게 되면서 상기 제 2 날개(173)와 상기 제 2 접촉 센서(178)가 접촉됨으로써, 상기 흡착 케이스(121)의 임의 편향 시 상기 흡착 케이스(121)의 기울어진 방향도 함께 알 수 있게 된다.In this embodiment, when the adsorption case 121 is inclined in one direction, the sensing body 160 is also inclined in one direction so that the first wing 172 and the first contact sensor 177 come into contact with each other. When the adsorption case 121 is inclined in the other direction, the sensing body 160 is also inclined in the other direction and the second wing 173 and the second contact sensor 178 come into contact with each other, so that the In the case of arbitrary deflection of the adsorption case 121, the inclined direction of the adsorption case 121 is also known.

상기 임의 편향 센싱 부재(150)에 의해 상기 흡착 케이스(121)가 상기 미리 설정된 요구 자세를 벗어난 것이 감지되면, 알람 등을 통해 작업자에게 직접 알려주거나, 제어부(미도시)에서 상기 작업자에게 감지 결과를 알려 줄 수도 있다.When it is detected that the adsorption case 121 deviates from the preset required posture by the arbitrary deflection sensing member 150, an alarm or the like is directly notified to the operator, or the control unit (not shown) informs the operator of the detection result. You can also let me know.

본 실시예에서는, 상기 각 경사형 연장체(165)에서 각각 상방으로 돌출 곡면체(151)가 돌출되는데, 상기 각 돌출 곡면체(151)는 상기 제 1 날개(172) 및 상기 제 2 날개(173)의 각 말단부와 대면되도록 일정 곡률로 만곡된 형태로 이루어지고, 상기 각 돌출 곡면체(151)에서 상기 제 1 날개(172) 및 상기 제 2 날개(173)의 각 말단부와 대면되는 내면에는 서로 이격되도록 배치된 복수 개의 영구 자석(152)이 설치되고, 상기 제 1 날개(172) 및 상기 제 2 날개(173)의 각 말단부에는 각각 홀 센서(hall sensor)(153)가 설치된다.In this embodiment, each of the protruding curved bodies 151 protrude upward from each of the inclined extension bodies 165 , and each of the protruding curved bodies 151 is formed by the first wing 172 and the second wing 173 . It is formed in a curved form with a certain curvature so as to face each distal end, and on the inner surface facing each distal end of the first wing 172 and the second wing 173 in each of the protruding curved bodies 151, they are arranged to be spaced apart from each other. A plurality of permanent magnets 152 are installed, and a hall sensor 153 is installed at each distal end of the first wing 172 and the second wing 173 .

상기와 같이 구성되면, 상기 흡착 케이스(121)가 상기 미리 설정된 요구 자세를 유지하는 동안에는, 상기 각 홀 센서(153)는 복수 개의 상기 각 영구 자석(152) 중 각 중앙부의 것을 각각 감지하는 상태를 유지한다.When configured as described above, while the adsorption case 121 maintains the preset required posture, each Hall sensor 153 detects a state of each central part of the plurality of each permanent magnet 152 . keep

그러다가, 상기 흡착 케이스(121)가 상기 미리 설정된 요구 자세를 벗어나서 기울어지게 되면, 상기 각 홀 센서(153)는 복수 개의 상기 각 영구 자석(152) 중 각 중앙부의 것이 아닌 다른 것을 각각 감지하게 되고, 그에 따라 상기 접촉 감지 센서부(176)와 상기 감지 연장체(171)의 접촉 전의 미세한 기울어짐도 상기 각 홀 센서(153)에 의해 감지될 수 있게 된다.Then, when the adsorption case 121 is inclined out of the preset required posture, each Hall sensor 153 detects a plurality of each of the permanent magnets 152 other than the central portion, respectively, Accordingly, even a slight inclination before contact between the touch sensing sensor unit 176 and the sensing extension body 171 can be detected by each Hall sensor 153 .

상기 각 홀 센서(153)에 의해 감지된 정보는 상기 제어부를 통해 작업자에게 전달 가능하다.Information sensed by each Hall sensor 153 may be transmitted to an operator through the control unit.

본 실시예에서는, 상기 제 1 날개(172) 및 상기 제 2 날개(173)의 각 말단부의 각 저면에서는, 누름 돌기(154)가 각각 돌출되고, 상기 각 누름 돌기(154) 중 하나가 상기 제 1 접촉 센서(177)와 상기 제 2 접촉 센서(178) 중 하나와 접촉되면서 상기 흡착 케이스(121)의 기울어짐이 감지될 수 있게 된다.In this embodiment, on each bottom surface of each distal end of the first wing 172 and the second wing 173, a pressing protrusion 154 protrudes, and one of each of the pressing protrusions 154 is the first The inclination of the adsorption case 121 can be detected while making contact with one of the first contact sensor 177 and the second contact sensor 178 .

또한, 상기 각 경사형 연장체(165)에서 상기 제 1 접촉 센서(177) 및 상기 제 2 접촉 센서(178)의 각 하부 공간에 해당되는 부분에는, 일정 깊이로 함몰된 연장체 함몰 홀(155)이 각각 형성되고, 상기 각 연장체 함몰 홀(155)의 각 저면에는 저면 접촉 감지 센서(156)가 각각 설치된다. 그러면, 상기 흡착 케이스(121)에 임의의 외부 충격이 발생되는 경우, 상기 제 1 날개(172)와 상기 제 2 날개(173) 중 어느 하나의 상기 누름 돌기(154)가 상기 제 1 접촉 센서(177)와 상기 제 2 접촉 센서(178) 중 대면되는 것을 눌러 가압하게 되어, 상기 제 1 접촉 센서(177)와 상기 제 2 접촉 센서(178) 중 상기 누름 돌기(154)에 의해 가압된 것이 탄성 변형되면서 상기 연장체 함몰 홀(155)의 저면을 향해 하강되고, 그에 따라 상기 제 1 접촉 센서(177)와 상기 제 2 접촉 센서(178) 중 상기 누름 돌기(154)에 의해 가압된 것이 상기 저면 접촉 감지 센서(156)에 접촉되어, 상기 흡착 케이스(121)에 임의의 충격이 가해졌음이 감지될 수 있게 된다.In addition, in the portion corresponding to each lower space of the first contact sensor 177 and the second contact sensor 178 in each of the inclined extension bodies 165 , there is an extension recessed hole 155 recessed to a predetermined depth. are respectively formed, and a bottom contact detection sensor 156 is installed on each bottom surface of each of the elongated body recessed holes 155 , respectively. Then, when any external shock is generated in the adsorption case 121, the pressing protrusion 154 of any one of the first wing 172 and the second wing 173 is the first contact sensor ( 177) and the second contact sensor 178 are pressed and pressed, and the first contact sensor 177 and the second contact sensor 178 that is pressed by the pressing protrusion 154 is elastic. As it deforms, it descends toward the bottom of the recessed hole 155 of the elongated body, and accordingly, of the first contact sensor 177 and the second contact sensor 178, the one pressed by the pressing protrusion 154 is in contact with the bottom. In contact with the detection sensor 156, it is possible to detect that an arbitrary impact is applied to the adsorption case 121.

이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치(100)의 작동에 대하여 간단히 설명한다.Hereinafter, the operation of the high-purity nitrous oxide purification apparatus 100 for manufacturing and medical use for semiconductor and OLED according to the present embodiment will be briefly described with reference to the drawings.

상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소가 상기 흡착 부재(120)를 경유하면서 상기 흡착제(125)에 의해 불순물이 흡착되어 제거되고, 그러한 상태의 상기 저순도 아산화질소가 상기 증류 부재(130)를 경유하면서 증류 방식에 의해 상기 고순도 아산화질소로 정제되어, 상기 저장 부재에 저장된다.As the low-purity nitrous oxide contained in the low-purity nitrous oxide supply member 110 passes through the adsorption member 120 , impurities are adsorbed and removed by the adsorbent 125 , and the low-purity nitrous oxide in such a state is removed. Nitrogen is purified into the high-purity nitrous oxide by a distillation method while passing through the distillation member 130 , and is stored in the storage member.

상기와 같이, 상기 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치(100)가 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)와, 상기 흡착 부재(120)와, 상기 증류 부재(130)를 포함함에 따라, 상기 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있게 된다.As described above, the high-purity nitrous oxide purification apparatus 100 for semiconductor and OLED manufacturing and medical use includes the low-purity nitrous oxide supply member 110, the adsorption member 120, and the distillation member 130. Accordingly, while it is possible to obtain the high-purity nitrous oxide, the cost required for obtaining the high-purity nitrous oxide is reduced, and the equipment for obtaining the high-purity nitrous oxide can be made compact.

상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.In the above, the present invention has been shown and described with respect to specific embodiments, but those skilled in the art can variously modify the present invention within the scope without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. and may be changed. However, it is intended to clearly state that all such modifications and variations are included within the scope of the present invention.

본 발명의 일 측면에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치에 의하면, 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.According to the high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an aspect of the present invention, while it is possible to obtain high-purity nitrous oxide, the cost required for obtaining the high-purity nitrous oxide is reduced, and the high-purity nitrous oxide is Since the equipment for harvesting can be made compact, it can be said that the industrial applicability thereof is high.

100 : 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치
110 : 저순도 아산화질소 공급 부재
120 : 흡착 부재
130 : 증류 부재
100: High-purity nitrous oxide purification device for semiconductor and OLED manufacturing and medical use
110: low-purity nitrous oxide supply member
120: adsorption member
130: no distillation

Claims (3)

저순도 아산화질소를 공급하는 저순도 아산화질소 공급 부재;
상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 공급된 상기 저순도 아산화질소 내의 불순물을 흡착하여 제거하는 흡착 부재; 및
상기 흡착 부재를 경유한 상기 저순도 아산화질소를 증류시켜 고순도 아산화질소를 형성하는 증류 부재;를 포함하고,
상기 흡착 부재는
외부에 대하여 밀폐된 형태로 형성되는 흡착 케이스와,
상기 흡착 케이스의 내부에 배치되어, 상기 흡착 케이스의 내부를 따라 유동되는 상기 저순도 아산화질소 내의 불순물을 흡착시키는 흡착제와,
상기 흡착 케이스에 장착되고, 상기 흡착 케이스가 미리 설정된 요구 자세를 유지하는지 여부를 감지할 수 있는 임의 편향 센싱 부재를 포함하고,
상기 임의 편향 센싱 부재는
상기 임의 편향 센싱 부재의 외곽을 형성하는 감지 본체부와,
상기 흡착 케이스의 상기 미리 설정된 요구 자세 유지 여부를 감지할 수 있는 감지부와,
상기 감지 본체부의 내부에 배치되고, 상기 감지부와의 접촉을 감지하는 접촉 감지 센서부를 포함하고,
상기 감지 본체부는
원형으로 형성되면서 그 내부에 일정 공간이 형성된 본체측 케이스와,
상기 본체측 케이스의 내부 양측부에서 각각 돌출된 형태로 형성된 경사형 연장체를 포함하고,
상기 경사형 연장체는 그 상측이 경사지게 형성되고, 한 쌍의 상기 경사형 연장체는 상기 본체측 케이스의 중심을 지나는 가상의 수직 연장선을 기준으로 서로 대칭되도록 배치되고,
상기 감지부는
상기 본체측 케이스의 중심부에 회전 가능하게 연결되는 감지 회전축과,
상기 감지 회전축으로부터 일정 길이로 연장되고, 한 쌍으로 구성되며, 상기 본체측 케이스의 중심을 지나는 가상의 수직 연장선을 기준으로 서로 대칭되도록 배치되는 감지 연장체와,
상기 감지 회전축의 하부에서 하방인 중력 방향으로 일정 길이 연장되도록 형성되어, 외력이나 외부 충격 미인가의 경우 한 쌍의 상기 감지 연장체가 상기 본체측 케이스의 중심을 지나는 가상의 수직 연장선을 기준으로 서로 대칭되는 형태를 유지하도록 상기 감지 연장체에 하중을 부여하는 무게추를 포함하고,
상기 감지 연장체는
한 쌍의 상기 경사형 연장체 중 일측에 형성된 것에서 상공으로 일정 높이 이격된 위치에 형성된 제 1 날개와,
한 쌍의 상기 경사형 연장체 중 타측에 형성된 것에서 상공으로 일정 높이 이격된 위치에 형성된 제 2 날개를 포함하고,
상기 접촉 감지 센서부는
한 쌍의 상기 경사형 연장체 중 하나의 상측 경사면에 형성되는 제 1 접촉 센서와,
한 쌍의 상기 경사형 연장체 중 다른 하나의 상측 경사면에 형성되는 제 2 접촉 센서를 포함하고,
반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치가 작동되는 과정에서, 상기 흡착 케이스가 상기 미리 설정된 요구 자세를 벗어나 기울어지게 되면, 상기 감지 연장체에 상기 제 1 접촉 센서 또는 상기 제 2 접촉 센서가 접촉되고, 그에 따라 상기 흡착 케이스가 기울어진 것이 감지될 수 있게 되는 것을 특징으로 하는 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치.
a low-purity nitrous oxide supply member for supplying low-purity nitrous oxide;
an adsorption member for adsorbing and removing impurities in the low-purity nitrous oxide supplied from the low-purity nitrous oxide supply member; and
Includes; a distillation member for distilling the low-purity nitrous oxide passing through the adsorption member to form high-purity nitrous oxide;
The adsorption member is
an adsorption case formed in a sealed form with respect to the outside;
an adsorbent disposed inside the adsorption case to adsorb impurities in the low-purity nitrous oxide flowing along the inside of the adsorption case;
It is mounted on the adsorption case, comprising an arbitrary bias sensing member capable of detecting whether the adsorption case maintains a preset required posture,
The arbitrary deflection sensing member is
a sensing body forming an outer periphery of the arbitrary deflection sensing member;
a sensing unit capable of detecting whether the predetermined required posture of the adsorption case is maintained;
It is disposed inside the sensing body, and includes a touch sensing sensor for detecting a contact with the sensing unit,
The sensing body part
The body side case is formed in a circular shape and a certain space is formed therein;
It includes an inclined extension body formed in a shape protruding from both inner sides of the main body side case,
The inclined extension body is formed with an upper side inclined, and the pair of inclined extension bodies are arranged to be symmetrical with each other based on an imaginary vertical extension line passing through the center of the main body side case,
The sensing unit
a sensing rotation shaft rotatably connected to the center of the main body side case;
a sensing extension extending by a certain length from the sensing rotation axis, consisting of a pair, and arranged to be symmetrical with each other based on an imaginary vertical extension line passing through the center of the main body side case;
It is formed to extend a certain length in the downward direction of gravity from the lower part of the sensing rotation shaft, and when no external force or external impact is applied, the pair of sensing extensions are symmetrical to each other based on an imaginary vertical extension line passing through the center of the main body side case and a weight for applying a load to the sensing extension to maintain its shape;
The sensing extension is
A first wing formed at a position spaced a predetermined height upward from one formed on one side of the pair of inclined extensions;
and a second wing formed at a position spaced apart by a predetermined height from the one formed on the other side of the pair of inclined extensions,
The touch detection sensor unit
a first contact sensor formed on an upper inclined surface of one of the pair of inclined extensions;
A second contact sensor formed on the upper inclined surface of the other one of the pair of inclined extensions,
When the absorption case is tilted out of the preset required posture while the high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing semiconductors and OLEDs and medical use is operated, the first contact sensor or the second contact sensor is in contact with the sensing extension High-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use, characterized in that the inclination of the adsorption case can be detected accordingly.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101807841B1 (en) * 2017-03-03 2017-12-11 추광호 Medical grade and ultra high purity nitrous oxide synthesis and purification and efficient system control method
KR101955015B1 (en) * 2017-09-05 2019-03-07 한국화학연구원 method and APPARATUS for recovering nitrous oxide
KR102109158B1 (en) 2020-03-17 2020-05-11 전홍규 Air filter for manufacturing device of semiconductor and display panel, and air filter manufacturing apparatus for manufacturing the air filter for manufacturing device of semiconductor and display panel

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7070746B1 (en) 1999-05-26 2006-07-04 Solutia Inc. Process for nitrous oxide purification
JP6510257B2 (en) * 2015-02-10 2019-05-08 昭和電工株式会社 Purification method of nitrous oxide
KR101769523B1 (en) * 2015-08-19 2017-08-21 (주)미래클 Crop harvesting device equipped with leveling device
KR101858190B1 (en) * 2016-07-20 2018-05-16 한국화학연구원 Process for the recovery and purification of nitrous oxide from industrial emission gas mixtures

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101807841B1 (en) * 2017-03-03 2017-12-11 추광호 Medical grade and ultra high purity nitrous oxide synthesis and purification and efficient system control method
KR101955015B1 (en) * 2017-09-05 2019-03-07 한국화학연구원 method and APPARATUS for recovering nitrous oxide
KR102109158B1 (en) 2020-03-17 2020-05-11 전홍규 Air filter for manufacturing device of semiconductor and display panel, and air filter manufacturing apparatus for manufacturing the air filter for manufacturing device of semiconductor and display panel

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