KR102461654B1 - High purity nitrous oxide refining apparatus for manufacturing semiconductor and OLED and for medical - Google Patents

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Abstract

개시되는 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치가 저순도 아산화질소 공급 부재와, 흡착 부재와, 저순도 아산화질소 공급 배관과, 증류 부재를 포함함에 따라, 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있게 되는 장점이 있다.As the disclosed high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use includes a low-purity nitrous oxide supply member, an adsorption member, a low-purity nitrous oxide supply pipe, and a distillation member, high-purity nitrous oxide can be obtained while , there is an advantage that the cost required for obtaining the high-purity nitrous oxide is reduced, and the equipment for obtaining the high-purity nitrous oxide can be compact.

Description

반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치{High purity nitrous oxide refining apparatus for manufacturing semiconductor and OLED and for medical}High purity nitrous oxide refining apparatus for manufacturing semiconductor and OLED and for medical use

본 발명은 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing semiconductors and OLEDs and for medical use.

아산화질소(N2O)는 독성이 없어서, 반도체, 플렉서블 오엘이디(flexible OLED)의 제조 시 식각 공정 등에 사용되고, 인체에 대해 마취·환각 효과가 있어서, 의료용 마취제로도 사용되는 것이다.Nitrous oxide (N 2 O) is non-toxic, so it is used for etching processes in the manufacture of semiconductors and flexible OLEDs, and has anesthetic and hallucinogenic effects on the human body, so it is also used as a medical anesthetic.

이러한 아산화질소가 산업용 또는 의료용으로 이용되기 위해서는 고순도화시키는 공정이 요구되는데, 그 예로 제시될 수 있는 것이 아래 제시된 특허문헌의 그 것이다.In order for this nitrous oxide to be used for industrial or medical purposes, a process for purifying it is required, and what can be presented as an example is that of the patent literature presented below.

그러나, 종래의 아산화질소의 정제 장치에 의하면, 흡착 성능이 떨어지고, 증류 타워 등에서 증류수를 이용하여 정제시키는 단순 정제 방식이어서, 그러한 아산화질소의 정제에 소요되는 코스트가 높고, 그 정제를 위한 설비가 설치되기 위한 부지를 많이 소요하는 문제가 있었다.However, according to the conventional purification apparatus for nitrous oxide, the adsorption performance is poor, and since it is a simple purification method of purification using distilled water in a distillation tower, etc., the cost required for such purification of nitrous oxide is high, and facilities for the purification are installed There was a problem that required a lot of land to become.

또한, 종래의 아산화질소의 정제 장치에 의하면, 탱크 교체 등의 이유로, 저순도 아산화질소 공급 부재로부터의 저순도 아산화질소의 공급이 중단되는 경우, 흡착 부재 쪽으로의 상기 저순도 아산화질소의 공급이 중단되어, 상기 아산화질소의 정제 장치 전체의 작동이 중단되어야 하는 문제가 있었다.Further, according to the conventional nitrous oxide purification apparatus, when the supply of low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supply member is stopped due to tank replacement or the like, the supply of the low-purity nitrous oxide to the adsorption member is stopped. As a result, there was a problem that the operation of the entire nitrous oxide purification device had to be stopped.

등록특허 제 10-0626713호, 등록일자: 2006.09.14., 발명의 명칭: 아산화질소 정제방법Registered Patent No. 10-0626713, Registration Date: September 14, 2006, Title of Invention: Nitrous Oxide Purification Method

본 발명은 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있는 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.The present invention is capable of obtaining high purity nitrous oxide, while reducing the cost required for obtaining the high purity nitrous oxide, and making the equipment for obtaining the high purity nitrous oxide compact. High purity nitrous oxide for semiconductor and OLED manufacturing and medical use It is one object to provide a purification apparatus.

본 발명의 다른 목적은 탱크 교체 등의 이유로, 저순도 아산화질소 공급 부재로부터의 저순도 아산화질소의 공급이 중단되는 경우에도, 흡착 부재로의 상기 저순도 아산화질소의 공급이 지속될 수 있도록 하는 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is a semiconductor that enables the supply of low-purity nitrous oxide to an adsorption member to be continued even when the supply of low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supply member is stopped due to tank replacement, etc.; It is to provide a high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing and medical use of OLED.

본 발명의 일 측면에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치는 저순도 아산화질소를 공급하는 저순도 아산화질소 공급 부재; 상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 공급된 상기 저순도 아산화질소 내의 불순물을 흡착하여 제거하는 흡착 부재; 상기 저순도 아산화질소 공급 부재와 상기 흡착 부재를 연결하여, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 상기 저순도 아산화질소를 상기 흡착 부재로 연속적으로 공급하는 저순도 아산화질소 공급 배관; 상기 흡착 부재를 경유한 상기 저순도 아산화질소를 증류시켜 고순도 아산화질소를 형성하는 증류 부재; 및 상기 저순도 아산화질소 공급 배관 상에 설치되어, 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 유동되는 상기 저순도 아산화질소 중의 일부가 수용되어 있다가, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 상기 저순도 아산화질소의 공급이 중단 시에 상기 저순도 아산화질소를 상기 흡착 부재로 공급해주는 저순도 아산화질소 버퍼 탱크;를 포함하고,
상기 저순도 아산화질소 버퍼 탱크는 상기 저순도 아산화질소 공급 배관 상에 설치되고, 그 내부가 빈 형태로 형성되는 탱크 외부 케이싱 부재와, 상기 탱크 외부 케이싱 부재의 내부에 배치되고, 그 상단 및 그 하단이 상기 저순도 아산화질소 공급 배관과 연결되는 형태로 상기 저순도 아산화질소 공급 배관 상에 설치되고, 탄성을 가진 물질로 이루어지고, 그 내부가 빈 형태로 형성되는 탱크 내부 탄성 수용 부재와, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재와 상기 저순도 아산화질소 공급 배관이 연결된 부분 중 상기 저순도 아산화질소가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부로 유입되는 쪽의 내면에 설치되어, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용된 상기 저순도 아산화질소가 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 상기 저순도 아산화질소 공급 부재 쪽으로 역류되는 것을 차단하는 역류 방지 부재와, 상기 탱크 외부 케이싱 부재의 내면과 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 외면을 연결하고, 탄성을 가져서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재가 수축된 형태가 되도록 밀어주는 내외부 연결 탄성 부재와, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 중심에 배치되는 내측 연장 탄성 집결 부재와, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내면의 서로 이격된 복수 지점에서 각각 연장되고, 상기 내측 연장 탄성 집결 부재에 연결되고, 탄성을 가져서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재가 수축된 형태가 되도록 상기 내측 연장 탄성 집결 부재 쪽으로 당겨주는 내측 연장 탄성 부재를 포함하고,
상기 내외부 연결 탄성 부재는 상기 탱크 외부 케이싱 부재와 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재 사이에 복수 개가 서로 이격되도록 배치되고, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 상기 저순도 아산화질소가 공급되는 동안, 상기 역류 방지 부재가 개방되어, 상기 저순도 아산화질소 중의 일부가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용되면서 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재가 팽창된 형태가 되면서 그 복원력을 축적하게 됨과 함께, 상기 내외부 연결 탄성 부재는 상기 탱크 외부 케이싱 부재와 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재 사이에서 수축된 형태가 되면서 그 복원력을 축적하고, 상기 내측 연장 탄성 부재는 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에서 늘어난 형태가 되면서 그 복원력을 축적하게 되고, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터의 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통한 상기 저순도 아산화질소의 공급이 차단되면, 상기 역류 방지 부재가 닫혀서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부로부터의 상기 저순도 아산화질소 공급 부재 쪽으로의 상기 저순도 아산화질소의 역류가 차단됨과 함께, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 복원력에 의해 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소가 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 상기 흡착 부재로 공급되고, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 복원력에 의해 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소가 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 상기 흡착 부재로 공급되는 동안, 상기 내외부 연결 탄성 부재의 복원력에 의해 상기 내외부 연결 탄성 부재가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 외부에서 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재를 밀어줌과 함께, 상기 내측 연장 탄성 부재의 복원력에 의해 상기 내측 연장 탄성 부재가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에서 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재를 당겨주게 됨에 따라, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소의 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통한 상기 흡착 부재로의 공급이 가속될 수 있는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use, comprising: a low-purity nitrous oxide supply member for supplying low-purity nitrous oxide; an adsorption member for adsorbing and removing impurities in the low-purity nitrous oxide supplied from the low-purity nitrous oxide supply member; a low-purity nitrous oxide supply pipe connecting the low-purity nitrous oxide supply member and the adsorption member to continuously supply the low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supply member to the adsorption member; a distillation member for distilling the low-purity nitrous oxide passing through the adsorption member to form high-purity nitrous oxide; and a portion of the low-purity nitrous oxide installed on the low-purity nitrous oxide supply pipe and flowing through the low-purity nitrous oxide supply pipe is accommodated, and then the low-purity nitrous oxide is supplied from the low-purity nitrous oxide supply member. Including; and a low-purity nitrous oxide buffer tank for supplying the low-purity nitrous oxide to the adsorption member when the supply of
The low-purity nitrous oxide buffer tank is installed on the low-purity nitrous oxide supply pipe, the tank outer casing member is formed in an empty shape, and is disposed inside the tank outer casing member, the upper end and the lower end thereof an elastic accommodating member installed on the low-purity nitrous oxide supply pipe in a form connected to the low-purity nitrous oxide supply pipe, made of a material having elasticity, and formed in an empty shape inside the tank; Among the parts where the internal elastic accommodating member and the low-purity nitrous oxide supply pipe are connected, the low-purity nitrous oxide is installed on the inner surface of the side where the low-purity nitrous oxide flows into the inside of the tank internal elastic accommodating member, and accommodated inside the tank internal elastic accommodating member a backflow prevention member that blocks the low-purity nitrous oxide from flowing back toward the low-purity nitrous oxide supply member through the low-purity nitrous oxide supply pipe; An inner and outer connecting elastic member that is connected and has elasticity to push the elastic receiving member inside the tank to be in a contracted form, an inner extension elastic gathering member disposed at the center of the elastic receiving member inside the tank, and the elastic receiving member inside the tank The inner side extending at a plurality of points spaced apart from each other on the inner surface of the member, connected to the inner extension elastic gathering member, having elasticity, and pulling toward the inner extension elastic gathering member so that the elastic receiving member inside the tank is in a contracted form an extended elastic member;
A plurality of the inner and outer connecting elastic members are disposed to be spaced apart from each other between the tank outer casing member and the tank inner elastic receiving member, and the low purity nitrous oxide is supplied from the low purity nitrous oxide supply member through the low purity nitrous oxide supply pipe. is being supplied, the backflow prevention member is opened, and a portion of the low-purity nitrous oxide is accommodated in the tank internal elastic accommodating member, and the tank internal elastic accommodating member becomes in an expanded form and the restoring force is accumulated Together, the inner and outer connecting elastic members accumulate restoring force while being contracted between the tank outer casing member and the tank inner elastic accommodating member, and the inner extension elastic member is stretched inside the tank inner elastic accommodating member When the supply of low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supply member through the low-purity nitrous oxide supply pipe is cut off, the backflow prevention member is closed, so that the tank is elastically accommodated The back flow of the low-purity nitrous oxide from the inside of the member toward the low-purity nitrous oxide supply member is blocked, and the low that was accommodated inside the tank internal elastic accommodating member by the restoring force of the tank internal elastic accommodating member. Purity nitrous oxide is supplied to the adsorption member through the low-purity nitrous oxide supply pipe, and the low-purity nitrous oxide accommodated in the tank internal elastic accommodating member by the restoring force of the tank internal elastic accommodating member is reduced to the low While the pure nitrous oxide is supplied to the adsorption member through the supply pipe, the inner and outer connecting elastic member pushes the tank inner elastic receiving member from the outside of the tank inner elastic receiving member by the restoring force of the inner and outer connecting elastic member , as the inner extension elastic member pulls the tank inner elastic receiving member from the inside of the tank inner elastic receiving member by the restoring force of the inner extending elastic member, the inside of the tank It is characterized in that the supply of the low-purity nitrous oxide accommodated in the elastic accommodating member to the adsorption member through the low-purity nitrous oxide supply pipe can be accelerated.

본 발명의 일 측면에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치에 의하면, 상기 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치가 저순도 아산화질소 공급 부재와, 흡착 부재와, 저순도 아산화질소 공급 배관과, 증류 부재를 포함함에 따라, 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있게 되는 효과가 있다.According to the apparatus for purifying high-purity nitrous oxide for semiconductor and LED manufacturing and medical use according to an aspect of the present invention, the apparatus for purifying high-purity nitrous oxide for semiconductor and OLED manufacturing and medical use includes a low-purity nitrous oxide supply member, an adsorption member, and a low-purity nitrous oxide purification device. By including a nitrous oxide supply pipe and a distillation member, high-purity nitrous oxide can be obtained, while the cost required for obtaining the high-purity nitrous oxide is reduced, and the equipment for obtaining the high-purity nitrous oxide can be made compact has the effect of being

또한, 본 발명의 다른 측면에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치에 의하면, 저순도 아산화질소 버퍼 탱크가 구비됨에 따라, 탱크 교체 등의 이유로, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터의 상기 저순도 아산화질소의 공급이 중단되는 경우에도, 상기 흡착 부재로의 상기 저순도 아산화질소의 공급이 지속될 수 있게 되고, 그에 따라 상기 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치의 작동 중지없이 연속적인 운전이 가능해질 수 있게 되는 효과가 있다.In addition, according to the high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to another aspect of the present invention, as a low-purity nitrous oxide buffer tank is provided, for reasons such as tank replacement, the low-purity nitrous oxide supply member Even when the supply of the low-purity nitrous oxide is stopped, the supply of the low-purity nitrous oxide to the adsorption member can be continued, and accordingly, the high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing and medical use of the semiconductor and OLED is not stopped. There is an effect that continuous operation becomes possible.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치의 구성을 보이는 개념도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 흡착 부재의 일부를 확대한 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 저순도 아산화질소 버퍼 탱크에 저순도 아산화질소가 주입되어 팽창된 모습을 보이는 단면도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 저순도 아산화질소 버퍼 탱크에서 저순도 아산화질소가 토출되어 수축된 모습을 보이는 단면도.
도 5은 도 4에 도시된 A부분에 대한 확대도.1 is a conceptual diagram showing the configuration of a high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention.
2 is an enlarged cross-sectional view of a portion of an adsorption member constituting a high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing semiconductors and OLEDs and for medical use according to an embodiment of the present invention;
3 is a cross-sectional view showing a state in which low-purity nitrous oxide is injected and expanded into a low-purity nitrous oxide buffer tank constituting a high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view showing a state in which low-purity nitrous oxide is discharged and contracted from a low-purity nitrous oxide buffer tank constituting a high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention.
5 is an enlarged view of part A shown in FIG.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치의 구성을 보이는 개념도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 흡착 부재의 일부를 확대한 단면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 저순도 아산화질소 버퍼 탱크에 저순도 아산화질소가 주입되어 팽창된 모습을 보이는 단면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치를 구성하는 저순도 아산화질소 버퍼 탱크에서 저순도 아산화질소가 토출되어 수축된 모습을 보이는 단면도이고, 도 5은 도 4에 도시된 A부분에 대한 확대도이다.1 is a conceptual diagram showing the configuration of a high-purity nitrous oxide purification apparatus for manufacturing semiconductor and OLED and for medical use according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is an enlarged cross-sectional view of a part of the adsorption member constituting the nitrogen purification device, and FIG. 3 is a low-purity nitrous oxide buffer tank constituting the high-purity nitrous oxide purification device for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention. It is a cross-sectional view showing a state in which pure nitrous oxide is injected and expanded, and FIG. 4 is a low-purity nitrous oxide buffer tank constituting a high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an embodiment of the present invention. It is a cross-sectional view showing a state that nitrogen is discharged and contracted, and FIG. 5 is an enlarged view of part A shown in FIG. 4 .

도 1 내지 도 5를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치(100)는 저순도 아산화질소 공급 부재(110)와, 흡착 부재(120)와, 증류 부재(130)와, 저순도 아산화질소 공급 배관(101)과, 저순도 아산화질소 버퍼 탱크(150)를 포함한다.1 to 5 together, the high-purity nitrous oxide purification apparatus 100 for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to the present embodiment includes a low-purity nitrous oxide supply member 110, an adsorption member 120, and distillation. It includes a member 130 , a low-purity nitrous oxide supply pipe 101 , and a low-purity nitrous oxide buffer tank 150 .

상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)는 저순도 아산화질소를 공급하는 것으로, 탱크 형태 등으로 상기 저순도 아산화질소를 공급해주는 형태로 제시될 수 있다.The low-purity nitrous oxide supply member 110 supplies low-purity nitrous oxide, and may be presented in a form of supplying the low-purity nitrous oxide in the form of a tank or the like.

상기 흡착 부재(120)는 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)로부터 공급된 상기 저순도 아산화질소 내의 불순물을 흡착하여 제거하는 것으로, 흡착 케이스(121)와, 흡착제(125)를 포함한다.The adsorption member 120 adsorbs and removes impurities in the low-purity nitrous oxide supplied from the low-purity nitrous oxide supply member 110 , and includes an adsorption case 121 and an adsorbent 125 .

상기 흡착 케이스(121)는 외부에 대하여 밀폐된 형태로 형성되는 것으로, 가늘고 긴 실린더 형태로 형성되는 것이다.The adsorption case 121 is formed in a sealed form with respect to the outside, and is formed in the form of a long and thin cylinder.

상기 흡착제(125)는 상기 흡착 케이스(121)의 내부를 채우도록 배치되어, 상기 흡착 케이스(121)의 내부를 따라 유동되는 상기 저순도 아산화질소 내의 이산화탄소, 이산화질소, 수증기, 유기탄화수소 등의 불순물을 흡착시키는 것이다.The adsorbent 125 is disposed to fill the inside of the adsorption case 121, and impurities such as carbon dioxide, nitrogen dioxide, water vapor, organic hydrocarbons in the low-purity nitrous oxide flowing along the inside of the adsorption case 121 are removed. to adsorb.

상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)은 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)와 상기 흡착 부재(120)를 연결하여, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)로부터 상기 저순도 아산화질소를 상기 흡착 부재(120)로 연속적으로 공급하는 것이다.The low-purity nitrous oxide supply pipe 101 connects the low-purity nitrous oxide supply member 110 and the adsorption member 120 to collect the low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supply member 110 . It is to be continuously supplied to the adsorption member (120).

상기 증류 부재(130)는 증류 방식으로 상기 흡착 부재(120)를 경유한 상기 저순도 아산화질소를 증류시켜 고순도 아산화질소를 형성하는 것이다.The distillation member 130 distills the low-purity nitrous oxide passing through the adsorption member 120 in a distillation method to form high-purity nitrous oxide.

상기 증류 부재(130)에서의 증류 공정은 상기 흡착 부재(120)를 경유한 상기 저순도 아산화질소에 포함된 질소, 산소, 미량의 일산화탄소 등을 증기압(비점) 차이를 이용하여 저온에서 증류로 제거함으로써, 상기 고순도 아산화질소를 회수하는 것이다.In the distillation process in the distillation member 130, nitrogen, oxygen, trace amounts of carbon monoxide, etc. included in the low-purity nitrous oxide passed through the adsorption member 120 are removed by distillation at a low temperature using a difference in vapor pressure (boiling point). By doing so, the high-purity nitrous oxide is recovered.

도면 번호 140은 상기 증류 부재(130)에서 수득된 상기 고순도 아산화질소를 저장하는 저장 부재이다.Reference numeral 140 denotes a storage member for storing the high-purity nitrous oxide obtained in the distillation member 130 .

상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)와 상기 흡착 부재(120)는 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)에 의해 연결되고, 상기 흡착 부재(120), 상기 증류 부재(130) 및 상기 저장 부재(140)는 별도 배관으로 순차적으로 연결된 형태로 설치된다.The low-purity nitrous oxide supply member 110 and the adsorption member 120 are connected by the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 , and the adsorption member 120 , the distillation member 130 and the storage member 140 is installed in a sequentially connected form through a separate pipe.

상기 저순도 아산화질소 버퍼 탱크(150)는 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101) 상에 설치되어, 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통해 유동되는 상기 저순도 아산화질소 중의 일부가 수용되어 있다가, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)로부터 상기 저순도 아산화질소의 공급이 중단 시에 상기 저순도 아산화질소를 상기 흡착 부재(120)로 공급해주는 것이다.The low-purity nitrous oxide buffer tank 150 is installed on the low-purity nitrous oxide supply pipe 101, and a portion of the low-purity nitrous oxide flowing through the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 is accommodated. Then, when the supply of the low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supply member 110 is stopped, the low-purity nitrous oxide is supplied to the adsorption member 120 .

상세히, 상기 저순도 아산화질소 버퍼 탱크(150)는 탱크 외부 케이싱 부재(151)와, 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)와, 역류 방지 부재(160)와, 내외부 연결 탄성 부재(154)와, 내측 연장 탄성 집결 부재(155)와, 내측 연장 탄성 부재(156)를 포함한다.In detail, the low-purity nitrous oxide buffer tank 150 includes a tank outer casing member 151 , a tank inner elastic accommodating member 152 , a backflow prevention member 160 , an inner and outer connection elastic member 154 , and an inner side It includes an extended elastic gathering member 155 and an inner extending elastic member 156 .

상기 탱크 외부 케이싱 부재(151)는 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101) 상에 설치되고, 그 내부가 빈 형태로 형성되는 것이다.The tank outer casing member 151 is installed on the low-purity nitrous oxide supply pipe 101, and the inside thereof is formed in an empty shape.

본 실시예에서는, 상기 탱크 외부 케이싱 부재(151)는 구 형태로 형성되고, 금속 재질로 이루어져서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)를 외부의 충격으로부터 보호하고, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부에서 상기 저순도 아산화질소가 임의로 누출되는 경우, 그 누출된 상기 저순도 아산화질소의 외부 공간으로의 확산을 방지시켜준다.In this embodiment, the tank outer casing member 151 is formed in a spherical shape and made of a metal material to protect the tank inner elastic accommodating member 152 from external impact, and the tank inner elastic accommodating member 152 ), when the low-purity nitrous oxide is arbitrarily leaked from the inside, it prevents diffusion of the leaked low-purity nitrous oxide into the external space.

상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)는 상기 탱크 외부 케이싱 부재(151)의 내부에 배치되고, 그 상단 및 그 하단이 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)과 연결되는 형태로 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101) 상에 설치되고, 고무 등 탄성을 가진 물질로 이루어지고, 그 내부가 빈 형태로 형성되는 것이다.The tank inner elastic accommodating member 152 is disposed inside the tank outer casing member 151 , and has an upper end and a lower end thereof connected to the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 , and the low-purity nitrous oxide It is installed on the supply pipe 101, is made of a material having elasticity, such as rubber, and the inside is formed in a hollow shape.

상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)의 일부가 절개되고, 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)의 절개된 양단이 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 상단 및 하단에 각각 연통된 형태로 연결됨으로써, 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통해 유동되는 상기 저순도 아산화질소가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부를 경유하는 동안, 상기 저순도 아산화질소 중의 일부가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)에 수용되면서, 상기 저순도 아산화질소의 압력에 의해 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)가 탄성 변형되면서 부풀어오르게 된다.A portion of the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 is cut, and both cut ends of the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 are in communication with the upper and lower ends of the elastic accommodating member 152 inside the tank, respectively. By being connected, while the low-purity nitrous oxide flowing through the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 passes through the inside of the elastic accommodating member 152 inside the tank, a portion of the low-purity nitrous oxide flows into the tank. While being accommodated in the elastic accommodating member 152, the elastic accommodating member 152 inside the tank is elastically deformed and inflated by the pressure of the low-purity nitrous oxide.

상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)도 상기 저순도 아산화질소가 주입되어 팽창되면, 상기 탱크 외부 케이싱 부재(151)와 그 중심을 같이하는 구 형태로 형성되며, 상기 내측 연장 탄성 집결 부재(155)는 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 중심에 위치된다.The tank inner elastic accommodating member 152 is also formed in a spherical shape concentric with the tank outer casing member 151 when the low-purity nitrous oxide is injected and expanded, and the inner extension elastic gathering member 155 . is located at the center of the elastic receiving member 152 inside the tank.

상기 역류 방지 부재(160)는 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)와 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)이 연결된 부분 중 상기 저순도 아산화질소가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부로 유입되는 쪽의 내면에 설치되어, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부에 수용된 상기 저순도 아산화질소가 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통해 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110) 쪽으로 역류되는 것을 차단하는 것이다.The backflow prevention member 160 is a portion in which the tank inner elastic accommodating member 152 and the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 are connected, wherein the low-purity nitrous oxide flows into the tank inner elastic accommodating member 152 . Installed on the inner surface of the inflow side, the low-purity nitrous oxide accommodated inside the elastic accommodating member 152 in the tank passes through the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 to the low-purity nitrous oxide supply member 110 to block backflow.

본 실시예에서는, 상기 역류 방지 부재(160)는 역류 방지 걸림체(162)와, 역류 방지 구체(161)와, 역류 방지 탄성체(163)를 포함한다.In the present embodiment, the backflow preventing member 160 includes a backflow preventing hook 162 , a backflow preventing sphere 161 , and a backflow preventing elastic body 163 .

상기 역류 방지 걸림체(162)는 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152) 중 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)과 연결되는 부분에서 돌출 형성되는 것으로, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152) 중 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)과 연결되는 부분에서 서로 마주보도록 한 쌍으로 소정 길이 돌출된다.The backflow prevention catcher 162 is formed to protrude from a portion of the tank inner elastic accommodating member 152 that is connected to the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 , and among the tank inner elastic accommodating member 152 , the In a portion connected to the low-purity nitrous oxide supply pipe 101, a pair of protruding lengths is provided to face each other.

상기 역류 방지 구체(161)는 상기 역류 방지 걸림체(162)에 걸릴 수 있는 구체(sphere) 형태로 형성됨으로써, 상기 역류 방지 걸림체(162)와 이격되면, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)와 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)이 서로 개방되도록 하고, 상기 역류 방지 걸림체(162)에 걸리면, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)와 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)이 서로 닫히도록 하는 것이다.The backflow prevention sphere 161 is formed in the form of a sphere that can be caught by the backflow prevention hooking body 162, so that when it is spaced apart from the backflow prevention hooking body 162, the elastic accommodating member 152 inside the tank and the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 are opened to each other, and when the backflow prevention catcher 162 is caught, the tank internal elastic accommodating member 152 and the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 are connected to each other. to make it closed.

상기 역류 방지 탄성체(163)는 상기 역류 방지 걸림체(162)와 상기 역류 방지 구체(161)를 서로 연결하고, 고무 등 탄성을 가진 물질로 이루어지는 것이다.The backflow prevention elastic body 163 connects the backflow prevention catcher 162 and the backflow prevention sphere 161 to each other, and is made of a material having elasticity, such as rubber.

상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통해 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부로 상기 저순도 아산화질소가 공급되는 동안에는, 상기 저순도 아산화질소의 유동 압력에 의해, 상기 역류 방지 구체(161)가 상기 역류 방지 걸림체(162)로부터 이격되고, 그에 따라 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)와 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)이 서로 개방되어, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부로 상기 저순도 아산화질소가 공급될 수 있게 된다.While the low-purity nitrous oxide is supplied to the inside of the tank inner elastic receiving member 152 through the low-purity nitrous oxide supply pipe 101, by the flow pressure of the low-purity nitrous oxide, the backflow prevention sphere ( 161) is spaced apart from the backflow prevention catcher 162, and accordingly, the tank internal elastic accommodating member 152 and the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 are opened to each other, and the tank internal elastic accommodating member 152 ), the low-purity nitrous oxide can be supplied to the inside.

이 때, 상기 역류 방지 탄성체(163)는 신장되면서 복원력을 축적한 상태가 된다.At this time, the backflow prevention elastic body 163 is in a state in which the restoring force is accumulated while being stretched.

반면, 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통한 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부로의 상기 저순도 아산화질소의 공급이 중단되면, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부 압력 및 상기 역류 방지 탄성체(163)의 복원력에 의해 상기 역류 방지 구체(161)가 상기 역류 방지 걸림체(162)에 접근되어 걸리게 되고, 그에 따라 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)와 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)이 서로 닫히게 되어, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)로부터의 상기 저순도 아산화질소의 역류가 방지될 수 있게 된다.On the other hand, when the supply of the low-purity nitrous oxide to the inside of the tank internal elastic accommodating member 152 through the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 is stopped, the internal pressure of the tank internal elastic accommodating member 152 is stopped. and the backflow prevention sphere 161 approaches and catches the backflow prevention catcher 162 by the restoring force of the backflow prevention elastic body 163, and accordingly, the tank inner elastic receiving member 152 and the low-purity suboxidation The nitrogen supply pipe 101 is closed to each other, so that the reverse flow of the low-purity nitrous oxide from the elastic accommodating member 152 inside the tank can be prevented.

상기 내외부 연결 탄성 부재(154)는 상기 탱크 외부 케이싱 부재(151)의 내면과 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 외면을 연결하고, 탄성을 가져서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)가 수축된 형태가 되도록 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)를 밀어주는 것으로서, 압축 스프링이 그 예로 제시될 수 있다.The inner and outer connecting elastic member 154 connects the inner surface of the tank outer casing member 151 and the outer surface of the tank inner elastic receiving member 152, and has elasticity, so that the tank inner elastic receiving member 152 is contracted As for pushing the elastic receiving member 152 inside the tank so that it becomes a fixed shape, a compression spring may be presented as an example.

상기 내외부 연결 탄성 부재(154)의 양단은 상기 탱크 외부 케이싱 부재(151)의 내면과 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 외면에 각각 고정된다.Both ends of the inner and outer connecting elastic member 154 are respectively fixed to the inner surface of the tank outer casing member 151 and the outer surface of the tank inner elastic receiving member 152 .

상기 내외부 연결 탄성 부재(154)는 상기 탱크 외부 케이싱 부재(151)와 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152) 사이에 복수 개가 서로 이격되도록 배치되어, 복수 지점에서 함께 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)를 밀어서 가압해줄 수 있다.A plurality of the inner and outer connecting elastic members 154 are arranged to be spaced apart from each other between the tank outer casing member 151 and the tank inner elastic receiving member 152, and the tank inner elastic receiving member 152 together at a plurality of points. You can pressurize the

상기 내측 연장 탄성 집결 부재(155)는 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 중심에 배치되는 것으로, 복수 개의 상기 내측 연장 탄성 부재(156)가 집결되어 연결되는 것으로, 소정 직경의 구 형태로 형성될 수 있다.The inner extension elastic collecting member 155 is disposed at the center of the tank inner elastic receiving member 152 , and a plurality of inner extension elastic members 156 are gathered and connected to each other, and is formed in a spherical shape of a predetermined diameter. can be

상기 내측 연장 탄성 부재(156)는 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내면의 서로 이격된 복수 지점에서 각각 연장되고, 상기 내측 연장 탄성 집결 부재(155)에 연결되고, 탄성을 가져서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)가 수축된 형태가 되도록 상기 내측 연장 탄성 집결 부재(155) 쪽으로 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)를 당겨주는 것으로, 고무줄 등이 그 예로 제시될 수 있다.The inner extension elastic member 156 extends at a plurality of points spaced apart from each other on the inner surface of the tank inner elastic receiving member 152, is connected to the inner extension elastic gathering member 155, and has elasticity, so that the tank inner elastic receiving member 152 has elasticity. The elastic accommodating member 152 inside the tank is pulled toward the inner extension elastic gathering member 155 so that the inner elastic accommodating member 152 has a contracted shape, and a rubber band or the like may be given as an example.

상기와 같이 구성되면, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)로부터 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통해 상기 저순도 아산화질소가 공급되는 동안에는, 상기 저순도 아산화질소의 유동 압력에 의해 상기 역류 방지 부재(160)가 개방되어, 상기 저순도 아산화질소 중의 일부가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부에 수용되면서 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)가 팽창된 형태가 되면서 그 복원력을 축적하게 됨과 함께, 상기 내외부 연결 탄성 부재(154)는 상기 탱크 외부 케이싱 부재(151)와 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152) 사이에서 수축된 형태가 되면서 그 복원력을 축적하고, 상기 내측 연장 탄성 부재(156)는 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부에서 늘어난 형태가 되면서 그 복원력을 축적하게 된다.When configured as described above, while the low-purity nitrous oxide is supplied from the low-purity nitrous oxide supply member 110 through the low-purity nitrous oxide supply pipe 101, the flow pressure of the low-purity nitrous oxide causes the When the backflow prevention member 160 is opened, a portion of the low-purity nitrous oxide is accommodated in the elastic accommodating member 152 inside the tank, and the elastic accommodating member 152 inside the tank becomes in an expanded form to increase its restoring force. As the accumulation occurs, the inner and outer connecting elastic members 154 become contracted between the tank outer casing member 151 and the tank inner elastic receiving member 152 to accumulate the restoring force, and the inner extension elastic members Reference numeral 156 is extended in the inside of the tank inner elastic receiving member 152, and the restoring force is accumulated.

그러다가, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)의 교체 등의 이유로, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)로부터의 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통한 상기 저순도 아산화질소의 공급이 차단되면, 상기 역류 방지 부재(160)가 닫혀서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부로부터의 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110) 쪽으로의 상기 저순도 아산화질소의 역류가 차단됨과 함께, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 복원력에 의해 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소가 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통해 상기 흡착 부재(120)로 공급된다.Then, for reasons such as replacement of the low-purity nitrous oxide supply member 110, the supply of the low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supply member 110 through the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 is When blocked, the backflow prevention member 160 is closed, so that the backflow of the low-purity nitrous oxide from the inside of the tank internal elastic receiving member 152 toward the low-purity nitrous oxide supply member 110 is blocked, The low-purity nitrous oxide accommodated in the inside of the tank internal elastic accommodating member 152 by the restoring force of the tank internal elastic accommodating member 152 is transferred to the adsorption member ( 120) is supplied.

이 때, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 복원력에 의해 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소가 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통해 상기 흡착 부재(120)로 공급되는 동안, 상기 내외부 연결 탄성 부재(154)의 복원력에 의해 상기 내외부 연결 탄성 부재(154)가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 외부에서 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)를 밀어줌과 함께, 상기 내측 연장 탄성 부재(156)의 복원력에 의해 상기 내측 연장 탄성 부재(156)가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부에서 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)를 당겨주게 됨에 따라, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재(152)의 내부에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소의 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)을 통한 상기 흡착 부재(120)로의 공급이 가속될 수 있게 된다.At this time, the low-purity nitrous oxide accommodated in the inside of the tank internal elastic accommodating member 152 by the restoring force of the tank internal elastic accommodating member 152 passes through the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 . While being supplied to the adsorption member 120, the inner and outer connecting elastic member 154 by the restoring force of the inner and outer connecting elastic member 154 is moved from the outside of the tank inner elastic receiving member 152 to the tank inner elastic receiving member ( 152), the inner extension elastic member 156 is moved inside the tank inner elastic receiving member 152 by the restoring force of the inner extending elastic member 156, and the tank inner elastic receiving member 152 is is pulled, the supply of the low-purity nitrous oxide accommodated inside the elastic accommodating member 152 inside the tank to the adsorption member 120 through the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 is accelerated. be able to

이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치(100)의 작동에 대하여 간단히 설명한다.Hereinafter, the operation of the high-purity nitrous oxide purification apparatus 100 for manufacturing semiconductors and OLEDs and for medical use according to the present embodiment will be briefly described with reference to the drawings.

상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소가 상기 흡착 부재(120)를 경유하면서 상기 흡착제(125)에 의해 불순물이 흡착되어 제거되고, 그러한 상태의 상기 저순도 아산화질소가 상기 증류 부재(130)를 경유하면서 증류 방식에 의해 상기 고순도 아산화질소로 정제되어, 상기 저장 부재에 저장된다.As the low-purity nitrous oxide contained in the low-purity nitrous oxide supply member 110 passes through the adsorption member 120 , impurities are adsorbed and removed by the adsorbent 125 , and the low-purity nitrous oxide in such a state is removed. Nitrogen is purified into the high-purity nitrous oxide by a distillation method while passing through the distillation member 130 , and is stored in the storage member.

상기와 같이, 상기 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치(100)가 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)와, 상기 흡착 부재(120)와, 상기 저순도 아산화질소 공급 배관(101)과, 상기 증류 부재(130)를 포함함에 따라, 상기 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있게 된다.As described above, the high-purity nitrous oxide purification apparatus 100 for semiconductor and OLED manufacturing and medical use includes the low-purity nitrous oxide supply member 110 , the adsorption member 120 , and the low-purity nitrous oxide supply pipe 101 . ) and, by including the distillation member 130, the high-purity nitrous oxide can be obtained, and the cost required for obtaining the high-purity nitrous oxide is reduced, and the equipment for obtaining the high-purity nitrous oxide becomes compact be able to

또한, 상기 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치(100)가 상기 저순도 아산화질소 버퍼 탱크(150)를 포함함에 따라, 탱크 교체 등의 이유로, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재(110)로부터의 상기 저순도 아산화질소의 공급이 중단되는 경우에도, 상기 흡착 부재(120)로의 상기 저순도 아산화질소의 공급이 지속될 수 있게 되고, 그에 따라 상기 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치(100)의 작동 중지없이 연속적인 운전이 가능해질 수 있게 된다.In addition, as the high-purity nitrous oxide purification apparatus 100 for semiconductor and OLED manufacturing and medical use includes the low-purity nitrous oxide buffer tank 150, for reasons such as tank replacement, the low-purity nitrous oxide supply member 110 Even when the supply of low-purity nitrous oxide from It becomes possible to enable continuous operation without stopping the operation of ( 100 ).

상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.In the above, the present invention has been shown and described with respect to specific embodiments, but those of ordinary skill in the art can variously modify the present invention within the scope without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. and can be changed. However, it is intended to clearly state that all such modifications and variations are included within the scope of the present invention.

본 발명의 일 측면에 따른 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치에 의하면, 고순도 아산화질소를 수득할 수 있으면서도, 상기 고순도 아산화질소의 수득에 소요되는 비용이 절감되고, 상기 고순도 아산화질소의 수득을 위한 설비가 컴팩트해질 수 있고, 탱크 교체 등의 이유로, 저순도 아산화질소 공급 부재로부터의 저순도 아산화질소의 공급이 중단되는 경우에도, 흡착 부재로의 상기 저순도 아산화질소의 공급이 지속될 수 있도록 할 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.According to the high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use according to an aspect of the present invention, while it is possible to obtain high-purity nitrous oxide, the cost required for obtaining the high-purity nitrous oxide is reduced, and the high-purity nitrous oxide is The equipment for obtaining can be made compact, and even when the supply of low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supply member is stopped for reasons such as tank replacement, the supply of the low-purity nitrous oxide to the adsorption member can be continued. Therefore, it can be said that the industrial applicability is high.

100 : 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치
110 : 저순도 아산화질소 공급 부재
120 : 흡착 부재
130 : 증류 부재100: High-purity nitrous oxide purification device for semiconductor and OLED manufacturing and medical use
110: low-purity nitrous oxide supply member
120: adsorption member
130: no distillation

Claims (3)

저순도 아산화질소를 공급하는 저순도 아산화질소 공급 부재;
상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 공급된 상기 저순도 아산화질소 내의 불순물을 흡착하여 제거하는 흡착 부재;
상기 저순도 아산화질소 공급 부재와 상기 흡착 부재를 연결하여, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 상기 저순도 아산화질소를 상기 흡착 부재로 연속적으로 공급하는 저순도 아산화질소 공급 배관;
상기 흡착 부재를 경유한 상기 저순도 아산화질소를 증류시켜 고순도 아산화질소를 형성하는 증류 부재; 및
상기 저순도 아산화질소 공급 배관 상에 설치되어, 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 유동되는 상기 저순도 아산화질소 중의 일부가 수용되어 있다가, 상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 상기 저순도 아산화질소의 공급이 중단 시에 상기 저순도 아산화질소를 상기 흡착 부재로 공급해주는 저순도 아산화질소 버퍼 탱크;를 포함하고,
상기 저순도 아산화질소 버퍼 탱크는
상기 저순도 아산화질소 공급 배관 상에 설치되고, 그 내부가 빈 형태로 형성되는 탱크 외부 케이싱 부재와,
상기 탱크 외부 케이싱 부재의 내부에 배치되고, 그 상단 및 그 하단이 상기 저순도 아산화질소 공급 배관과 연결되는 형태로 상기 저순도 아산화질소 공급 배관 상에 설치되고, 탄성을 가진 물질로 이루어지고, 그 내부가 빈 형태로 형성되는 탱크 내부 탄성 수용 부재와,
상기 탱크 내부 탄성 수용 부재와 상기 저순도 아산화질소 공급 배관이 연결된 부분 중 상기 저순도 아산화질소가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부로 유입되는 쪽의 내면에 설치되어, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용된 상기 저순도 아산화질소가 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 상기 저순도 아산화질소 공급 부재 쪽으로 역류되는 것을 차단하는 역류 방지 부재와,
상기 탱크 외부 케이싱 부재의 내면과 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 외면을 연결하고, 탄성을 가져서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재가 수축된 형태가 되도록 밀어주는 내외부 연결 탄성 부재와,
상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 중심에 배치되는 내측 연장 탄성 집결 부재와,
상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내면의 서로 이격된 복수 지점에서 각각 연장되고, 상기 내측 연장 탄성 집결 부재에 연결되고, 탄성을 가져서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재가 수축된 형태가 되도록 상기 내측 연장 탄성 집결 부재 쪽으로 당겨주는 내측 연장 탄성 부재를 포함하고,
상기 내외부 연결 탄성 부재는 상기 탱크 외부 케이싱 부재와 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재 사이에 복수 개가 서로 이격되도록 배치되고,
상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 상기 저순도 아산화질소가 공급되는 동안, 상기 역류 방지 부재가 개방되어, 상기 저순도 아산화질소 중의 일부가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용되면서 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재가 팽창된 형태가 되면서 그 복원력을 축적하게 됨과 함께, 상기 내외부 연결 탄성 부재는 상기 탱크 외부 케이싱 부재와 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재 사이에서 수축된 형태가 되면서 그 복원력을 축적하고, 상기 내측 연장 탄성 부재는 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에서 늘어난 형태가 되면서 그 복원력을 축적하게 되고,
상기 저순도 아산화질소 공급 부재로부터의 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통한 상기 저순도 아산화질소의 공급이 차단되면, 상기 역류 방지 부재가 닫혀서, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부로부터의 상기 저순도 아산화질소 공급 부재 쪽으로의 상기 저순도 아산화질소의 역류가 차단됨과 함께, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 복원력에 의해 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소가 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 상기 흡착 부재로 공급되고,
상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 복원력에 의해 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소가 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통해 상기 흡착 부재로 공급되는 동안, 상기 내외부 연결 탄성 부재의 복원력에 의해 상기 내외부 연결 탄성 부재가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 외부에서 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재를 밀어줌과 함께, 상기 내측 연장 탄성 부재의 복원력에 의해 상기 내측 연장 탄성 부재가 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에서 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재를 당겨주게 됨에 따라, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재의 내부에 수용되어 있던 상기 저순도 아산화질소의 상기 저순도 아산화질소 공급 배관을 통한 상기 흡착 부재로의 공급이 가속될 수 있는 것을 특징으로 하는 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치.a low-purity nitrous oxide supply member for supplying low-purity nitrous oxide;
an adsorption member for adsorbing and removing impurities in the low-purity nitrous oxide supplied from the low-purity nitrous oxide supply member;
a low-purity nitrous oxide supply pipe connecting the low-purity nitrous oxide supply member and the adsorption member to continuously supply the low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supply member to the adsorption member;
a distillation member for distilling the low-purity nitrous oxide passing through the adsorption member to form high-purity nitrous oxide; and
Installed on the low-purity nitrous oxide supply pipe, a part of the low-purity nitrous oxide flowing through the low-purity nitrous oxide supply pipe is accommodated, and the low-purity nitrous oxide is supplied from the low-purity nitrous oxide supply member. A low-purity nitrous oxide buffer tank for supplying the low-purity nitrous oxide to the adsorption member when the supply is stopped;
The low-purity nitrous oxide buffer tank is
and a tank outer casing member installed on the low-purity nitrous oxide supply pipe and having an empty shape therein;
It is disposed inside the tank outer casing member, and is installed on the low-purity nitrous oxide supply pipe in such a way that its upper end and its lower end are connected to the low-purity nitrous oxide supply pipe, and is made of a material having elasticity, and the An elastic accommodating member inside the tank which is formed in an empty shape;
Among the parts where the elastic accommodating member in the tank and the low-purity nitrous oxide supply pipe are connected, the low-purity nitrous oxide is installed on the inner surface of the side where the low-purity nitrous oxide flows into the inside of the tank internal elastic accommodating member, the inside of the elastic accommodating member in the tank a backflow prevention member that blocks the low-purity nitrous oxide contained in the low-purity nitrous oxide from flowing back toward the low-purity nitrous oxide supplying member through the low-purity nitrous oxide supply pipe;
an inner and outer connecting elastic member connecting the inner surface of the tank outer casing member and the outer surface of the tank inner elastic receiving member and having elasticity to push the tank inner elastic receiving member into a contracted form;
an inner extension elastic gathering member disposed at the center of the tank inner elastic receiving member;
The inner extension elastically gathering member extends at a plurality of points spaced apart from each other on the inner surface of the tank inner elastic accommodating member, is connected to the inner extension elastically gathering member, and has elasticity so that the tank inner elastic receiving member has a contracted shape. Including an inner extension elastic member for pulling toward the member,
A plurality of the inner and outer connecting elastic members are disposed to be spaced apart from each other between the tank outer casing member and the tank inner elastic receiving member,
While the low-purity nitrous oxide is supplied from the low-purity nitrous oxide supply member through the low-purity nitrous oxide supply pipe, the backflow prevention member is opened, so that a portion of the low-purity nitrous oxide is transferred to the elastic receiving member inside the tank. While being accommodated therein, the elastic accommodating member inside the tank becomes in an expanded form and its restoring force is accumulated, and the inner/outer connecting elastic member is contracted between the tank outer casing member and the tank inner elastic accommodating member. The restoring force is accumulated, and the inner extension elastic member accumulates the restoring force while being stretched inside the elastic receiving member inside the tank,
When the supply of the low-purity nitrous oxide from the low-purity nitrous oxide supplying member through the low-purity nitrous oxide supply pipe is cut off, the backflow prevention member is closed, and the low-purity nitrous oxide from the inside of the elastic accommodating member inside the tank is closed. While the reverse flow of the low-purity nitrous oxide toward the nitrogen supply member is blocked, the low-purity nitrous oxide accommodated in the elastic accommodating member inside the tank is converted into the low-purity nitrous oxide by the restoring force of the elastic accommodating member inside the tank. It is supplied to the adsorption member through a supply pipe,
While the low-purity nitrous oxide accommodated in the inside of the tank internal elastic accommodating member is supplied to the adsorption member through the low-purity nitrous oxide supply pipe by the restoring force of the tank internal elastic accommodating member, the inner and outer connecting elastic members The inner and outer connecting elastic members push the tank inner elastic receiving member from the outside of the tank inner elastic receiving member by the restoring force of As the elastic accommodating member inside the tank is pulled from the inside of the accommodating member, the low-purity nitrous oxide accommodated in the elastic accommodating member inside the tank is supplied to the adsorption member through the low-purity nitrous oxide supply pipe. High-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use, characterized in that it can be accelerated. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 역류 방지 부재는
상기 탱크 내부 탄성 수용 부재 중 상기 저순도 아산화질소 공급 배관과 연결되는 부분에서 돌출 형성되는 역류 방지 걸림체와,
상기 역류 방지 걸림체와 이격되면, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재와 상기 저순도 아산화질소 공급 배관이 서로 개방되도록 하고, 상기 역류 방지 걸림체에 걸리면, 상기 탱크 내부 탄성 수용 부재와 상기 저순도 아산화질소 공급 배관이 서로 닫히도록 하는 역류 방지 구체와,
상기 역류 방지 걸림체와 상기 역류 방지 구체를 서로 연결하고, 탄성을 가진 물질로 이루어지는 역류 방지 탄성체를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체와 오엘이디 제조용 및 의료용 고순도 아산화질소 정제 장치.The method of claim 1,
The backflow prevention member is
a backflow prevention catcher protruding from a portion of the elastic accommodating member in the tank connected to the low-purity nitrous oxide supply pipe;
When the backflow prevention catcher is spaced apart, the elastic accommodating member and the low-purity nitrous oxide supply pipe inside the tank are opened to each other, and when the backflow prevention catcher is caught, the tank inner elastic accommodating member and the low-purity nitrous oxide supply Backflow prevention spheres that close the pipes to each other;
A high-purity nitrous oxide purification apparatus for semiconductor and OLED manufacturing and medical use, wherein the backflow prevention catcher and the backflow prevention sphere are connected to each other, and a backflow prevention elastic body made of a material having elasticity is included.
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