KR102303460B1 - Light emitting device and light emitting device package including the same - Google Patents
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Abstract
실시예의 발광 소자 및 이를 포함하는 발광 소자 패키지는 기판; 기판 상에 서로 이격되어 배치되고, 제1 도전형 반도체층, 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 복수의 발광 셀; 제1 도전형 반도체층 및 제2 도전형 반도체층 상에 각각 배치되는 제1 전극 및 제2 전극; 복수의 발광 셀 중 서로 이웃하는 발광 셀을 연결하는 연결전극; 및 기판 상에 배치되며, 복수의 발광 셀 중 서로 이웃하는 발광 셀 사이의 이격된 공간에 배치된 반사층; 을 포함하여, 발광 셀이 배치되지 않은 영역의 기판 상에서도 빛의 반사에 의한 광 추출이 가능하도록 하여 높은 발광 효율을 나타낼 수 있다.The light emitting device of the embodiment and the light emitting device package including the same include: a substrate; a plurality of light emitting cells spaced apart from each other on a substrate and including a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer; a first electrode and a second electrode respectively disposed on the first conductivity-type semiconductor layer and the second conductivity-type semiconductor layer; a connection electrode connecting neighboring light emitting cells among the plurality of light emitting cells; and a reflective layer disposed on the substrate and spaced apart from each other among the plurality of light emitting cells. Including , high luminous efficiency can be achieved by enabling light extraction by reflection of light even on a substrate in an area where no light emitting cells are disposed.
Description
실시예는 발광 소자 및 이를 포함하는 발광 소자 패키지에 관한 것이다.The embodiment relates to a light emitting device and a light emitting device package including the same.
GaN, AlGaN 등의 Ⅲ-Ⅴ족 화합물 반도체는 넓고 조정이 용이한 밴드 갭 에너지를 가지는 등의 많은 장점으로 인해 광 전자 공학 분야(optoelectronics)와 전자 소자 등에 널리 사용된다.Group III-V compound semiconductors, such as GaN and AlGaN, are widely used in optoelectronics and electronic devices due to their many advantages, such as wide and easily tunable band gap energy.
특히, 반도체의 Ⅲ-Ⅴ족 또는 Ⅱ-Ⅵ족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Light Emitting Diode)나 레이저 다이오드와 같은 발광 소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 색을 구현할 수 있으며, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광선도 구현이 가능하며, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저 소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 가진다.In particular, light emitting devices such as light emitting diodes or laser diodes using group III-V or group II-VI compound semiconductor materials of semiconductors have developed thin film growth technology and device materials such as red, green, blue, and ultraviolet light. Various colors can be realized, and efficient white light can be realized by using fluorescent materials or combining colors. It has the advantage of environmental friendliness.
따라서, 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등에까지 응용이 확대되고 있다.Accordingly, a light emitting diode backlight that replaces a Cold Cathode Fluorescence Lamp (CCFL) constituting a transmission module of an optical communication means, a backlight of a Liquid Crystal Display (LCD) display device, and a white light emission that can replace a fluorescent lamp or incandescent light bulb Applications are expanding to diode lighting devices, automobile headlights and traffic lights.
우수한 친환경성을 가지며, 긴 수명, 저전력 소비특성 등과 같은 장점이 있기 때문에 발광 소자(LED)는 기존의 광원들을 대체하고 있다. 이러한 LED 소자의 핵심 경쟁 요소는 고효율ㆍ고출력칩 및 패키징 기술에 의한 고휘도의 구현이다.Light-emitting devices (LEDs) are replacing existing light sources because they have excellent eco-friendliness, long lifespan, low power consumption characteristics, and the like. A key competitive element of these LED devices is the realization of high luminance by high-efficiency and high-output chips and packaging technology.
고휘도를 구현하기 위해서 광추출 효율을 높이는 것이 중요하며, 광 추출 효율을 개선하기 위하여 플립칩(flip-chip) 구조, 표면 요철 형성(surface texturing), 요철이 형성된 사파이어 기판(PSS: Patterned Sapphire Substrate), 광결정 (photonic crystal) 기술 및 반사 방지막(anti-reflection layer) 구조 등을 이용한 다양한 방법들이 연구되고 있다.In order to realize high brightness, it is important to increase light extraction efficiency, and to improve light extraction efficiency, flip-chip structure, surface texturing, and uneven sapphire substrate (PSS: Patterned Sapphire Substrate) , photonic crystal technology, and various methods using an anti-reflection layer structure are being studied.
실시예는 복수의 발광 셀들 사이에 반사층을 추가하여 광 추출 효율이 개선된 발광 소자 및 이를 포함하는 발광 소자 패키지를 제공한다.The embodiment provides a light emitting device having improved light extraction efficiency by adding a reflective layer between a plurality of light emitting cells, and a light emitting device package including the same.
실시예는 기판; 상기 기판 상에 서로 이격되어 배치되고, 제1 도전형 반도체층, 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 복수의 발광 셀; 상기 제1 도전형 반도체층 및 상기 제2 도전형 반도체층 상에 각각 배치되는 제1 전극 및 제2 전극; 상기 복수의 발광 셀 중 서로 이웃하는 발광 셀을 연결하는 연결전극; 및 상기 기판 상에 배치되며, 상기 복수의 발광 셀 중 서로 이웃하는 발광 셀 사이의 이격된 공간에 배치된 반사층; 을 포함하는 발광 소자를 제공한다.Examples include substrates; a plurality of light emitting cells spaced apart from each other on the substrate and including a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer; first and second electrodes respectively disposed on the first conductivity-type semiconductor layer and the second conductivity-type semiconductor layer; a connection electrode connecting neighboring light emitting cells among the plurality of light emitting cells; and a reflective layer disposed on the substrate and spaced apart from each other among the plurality of light emitting cells adjacent to each other. It provides a light emitting device comprising a.
상기 반사층은 상기 기판의 가장자리 영역에 더 배치될 수 있다.The reflective layer may be further disposed in an edge region of the substrate.
상기 반사층은 상기 기판에 접촉하여 배치될 수 있다.The reflective layer may be disposed in contact with the substrate.
상기 연결전극의 적어도 일부분은 상기 반사층 상에 배치될 수 있다. At least a portion of the connection electrode may be disposed on the reflective layer.
상기 복수의 발광 셀 상에 배치되며, 상기 제1 도전형 반도체층 및 상기 제2 도전형 반도체층 상에 각각 형성된 제1 오픈 영역 및 제2 오픈 영역을 갖는 제1 절연층을 포함할 수 있다.and a first insulating layer disposed on the plurality of light emitting cells and having a first open region and a second open region respectively formed on the first conductivity-type semiconductor layer and the second conductivity-type semiconductor layer.
상기 제1 전극은 상기 제1 오픈 영역에서 상기 제1 도전형 반도체층과 전기적으로 연결되고, 상기 제2 전극은 상기 제2 오픈 영역에서 상기 제2 도전형 반도체층과 전기적으로 연결될 수 있다.The first electrode may be electrically connected to the first conductivity-type semiconductor layer in the first open region, and the second electrode may be electrically connected to the second conductivity-type semiconductor layer in the second open region.
상기 반사층 상에 배치된 제2 절연층을 더 포함하고, 상기 제2 절연층의 제1면은 상기 연결 전극과 마주보고 상기 제1면과 마주보는 제2면은 상기 반사층과 마주보고 배치될 수 있다.It may further include a second insulating layer disposed on the reflective layer, wherein a first surface of the second insulating layer faces the connection electrode and a second surface facing the first surface faces the reflective layer. have.
상기 연결전극은 상기 이웃하는 발광 셀 중 하나의 상기 제1 전극과 상기 이웃하는 발광 셀 중 다른 하나의 제2 전극을 연결하는 것일 수 있다.The connection electrode may connect the first electrode of one of the neighboring light emitting cells and the second electrode of the other of the neighboring light emitting cells.
상기 반사층은 굴절률이 2.0 보다 큰 물질로 형성될 수 있다.The reflective layer may be formed of a material having a refractive index greater than 2.0.
상기 반사층은 TiO2, Ta2O5 및 NiO로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함할 수 있다.The reflective layer may include any one selected from the group consisting of TiO 2 , Ta 2 O 5 and NiO.
상기 반사층은 TiO2를 포함하고, 상기 반사층의 두께는 75nm 내지 105nm 또는 260nm 내지 290nm일 수 있다.The reflective layer may include TiO 2 , and the reflective layer may have a thickness of 75 nm to 105 nm or 260 nm to 290 nm.
상기 반사층은 Ta2O5를 포함하고, 상기 반사층의 두께는 85nm 내지 115nm 또는 270nm 내지 300nm일 수 있다.The reflective layer may include Ta 2 O 5 , and the reflective layer may have a thickness of 85 nm to 115 nm or 270 nm to 300 nm.
상기 반사층은 NiO를 포함하고, 상기 반사층의 두께는 80nm 내지 110nm 또는 265nm 내지 295nm일 수 있다.The reflective layer may include NiO, and the reflective layer may have a thickness of 80 nm to 110 nm or 265 nm to 295 nm.
다른 실시예는 리드 프레임; 상기 리드 프레임 상에 배치된 상술된 실시예 중 어느 하나의 발광 소자; 상기 발광 소자를 둘러싸고 배치되는 몰딩부; 및 상기 몰딩부에 포함되고, 상기 발광 소자에서 방출되는 광에 의하여 여기되는 형광체; 를 포함하는 발광 소자 패키지를 제공한다.Another embodiment is a lead frame; the light emitting device of any one of the above-described embodiments disposed on the lead frame; a molding part disposed to surround the light emitting device; and a phosphor included in the molding part and excited by light emitted from the light emitting device; It provides a light emitting device package comprising a.
상기 발광 소자는 청색광을 발광할 수 있으며, 상기 발광 소자는 440nm 내지 460nm의 발광 중심 파장을 가질 수 있다.The light emitting device may emit blue light, and the light emitting device may have an emission center wavelength of 440 nm to 460 nm.
상기 형광체는 서로 다른 파장 영역의 발광 파장을 갖는 복수의 형광체를 포함하고, 상기 복수의 형광체는 480nm 내지 550nm의 발광 중심 파장을 갖는 제1 형광체 및 600nm 내지 700nm의 발광 중심 파장을 갖는 제2 형광체 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The phosphor includes a plurality of phosphors having emission wavelengths in different wavelength ranges, and the plurality of phosphors includes a first phosphor having a central emission wavelength of 480 nm to 550 nm and a second phosphor having an emission central wavelength of 600 nm to 700 nm. It may include at least one.
실시예에 따른 발광 소자 및 이를 포함하는 발광 소자 패키지는 제한된 파장 영역에서 반사도가 큰 반사층을 복수의 발광 셀 사이의 이격된 공간에 배치함으로써, 발광 셀이 배치되지 않은 영역의 기판 상에서도 빛의 반사에 의한 광 추출이 가능하도록 하여 높은 발광 효율을 나타낼 수 있다.In the light emitting device and the light emitting device package including the same according to the embodiment, by arranging a reflective layer having high reflectivity in a limited wavelength region in a spaced apart space between a plurality of light emitting cells, it is possible to reflect light even on a substrate in an area where the light emitting cells are not disposed. It is possible to extract light by means of a high luminous efficiency can be exhibited.
도 1은 일 실시예의 발광 소자의 단면을 나타낸 도면이고,
도 2는 파장과 광학 두께의 관계를 나타낸 도면이고,
도 3a 내지 도 3b는 일 실시예의 반사층에서의 광 특성을 나타낸 도면이고,
도 4는 파장에 따른 일 실시예의 반사층의 광 특성을 나타낸 도면이고,
도 5는 일 실시예의 발광 소자의 평면도이고,
도 6 내지 도 7은 일 실시예의 발광 소자의 단면도이고,
도 8은 일 실시예의 발광 소자 패키지를 나타낸 도면이고,
도 9는 일 실시예의 발광 소자 패키지에서의 광 추출의 예시를 나타낸 도면이다. 1 is a view showing a cross-section of a light emitting device of an embodiment,
2 is a diagram showing the relationship between wavelength and optical thickness;
3A to 3B are views showing optical characteristics in a reflective layer according to an embodiment;
4 is a view showing the optical characteristics of the reflective layer according to an embodiment according to the wavelength,
5 is a plan view of a light emitting device according to an embodiment;
6 to 7 are cross-sectional views of a light emitting device according to an embodiment,
8 is a view showing a light emitting device package according to an embodiment;
9 is a diagram illustrating an example of light extraction in a light emitting device package according to an embodiment.
이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention that can specifically realize the above objects will be described with reference to the accompanying drawings.
본 발명에 따른 실시예의 설명에 있어서, 각 element의 “상(위) 또는 하(아래)(on or under)”에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두 개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 “상(위) 또는 하(아래)(on or under)”로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiment according to the present invention, in the case where it is described as being formed in "on or under" of each element, above (above) or below (on) or under) includes both elements in which two elements are in direct contact with each other or one or more other elements are disposed between the two elements indirectly. In addition, when expressed as “up (up) or down (on or under)”, the meaning of not only the upward direction but also the downward direction based on one element may be included.
또한, 이하에서 이용되는 “제1” 및 “제2”, “상/상부/위” 및 “하/하부/아래” 등과 같은 관계적 용어들은 그런 실체 또는 요소들 간의 어떠한 물리적 또는 논리적 관계 또는 순서를 반드시 요구하거나 내포하지는 않으면서, 어느 한 실체 또는 요소를 다른 실체 또는 요소와 구별하기 위해서만 이용될 수도 있다.Also, as used hereinafter, relational terms such as “first” and “second”, “upper/upper/above” and “lower/lower/below” refer to any physical or logical relationship or order between such entities or elements. may be used only to distinguish one entity or element from another, without necessarily requiring or implying that
도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.In the drawings, the thickness or size of each layer is exaggerated, omitted, or schematically illustrated for convenience and clarity of description. Also, the size of each component does not fully reflect the actual size.
도 1은 일 실시예의 발광 소자의 단면도를 나타낸 것이다.1 is a cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment.
일 실시예의 발광 소자(200A)는 기판(110), 기판 상에 배치된 복수의 발광 셀(100a, 100b), 복수의 발광 셀의 제1 도전형 반도체층(122)과 제2 도전형 반도체층(126) 상에 각각 배치된 제1 전극(142)과 제2 전극(146), 복수의 발광 셀 중 이웃하는 발광 셀을 연결하는 연결전극(148) 및 복수의 발광 셀 중 이웃하는 발광 셀 사이의 이격된 공간 상에 배치된 반사층(170)을 포함할 수 있다.The
일 실시예의 발광 소자(200A)에 포함된 기판(110)은 반도체 물질 성장에 적합한 물질, 캐리어 웨이퍼 등으로 형성될 수 있다. 또한 기판(110)은 열전도성이 뛰어난 물질로 형성될 수 있으며, 전도성 기판 또는 절연성 기판일 수 있다.The
예를 들어 기판(110)은 사파이어(Al203), GaN, SiC, ZnO, Si, GaP, InP, Ga203, GaAs 중 적어도 하나를 포함하는 물질일 수 있다. 이러한 기판(110)의 상면에는 도 1에 도시된 바와 같이 요철 패턴(P)이 형성될 수 있다. 즉, 기판(110)은 요철 패턴을 갖는 PSS(Patterned Sapphire Substrate)일 수 있다. 이와 같이 기판(110)의 상면이 요철 패턴을 가질 경우 발광 소자의 광 추출 효율이 개선될 수 있다.For example, the
또한, 비록 도 1에 도시되지는 않았지만 버퍼층이 기판(110)과 발광 구조물(120) 사이에 배치되며, Ⅲ-Ⅴ족 원소의 화합물 반도체를 이용하여 형성될 수 있다. 버퍼층은 기판(110)과 발광 구조물(120) 사이의 격자 상수의 차이를 줄여주는 역할을 할 수 있다.In addition, although not shown in FIG. 1 , the buffer layer is disposed between the
도 1에 도시된 발광 소자(200A) 실시예에서 기판(110) 상에 복수의 발광 셀(100a, 100b)이 배치될 수 있다. 발광 소자의 실시예에서 복수의 발광 셀은 직렬 형태로 전기적으로 연결될 수 있으나 실시예는 이에 한정하지 않는다.In the embodiment of the
한편, 도 1의 단면도에서는 설명의 편의를 위하여 두 개의 발광 셀만 도시되어 있으나, 실시예는 이에 한정하지 않으며, 일 실시예의 발광 소자에는 3개 이상의 복수의 발광 셀이 포함될 수 있으며, 실시예에 포함되는 복수의 발광 셀은 기판 상에서 행 및 열 방향으로 이웃하여 배치되거나 또는 다양한 형태로 배열되어 위치할 수 있다.Meanwhile, in the cross-sectional view of FIG. 1, only two light emitting cells are shown for convenience of explanation, but the embodiment is not limited thereto. The plurality of light emitting cells to be used may be disposed adjacent to each other in the row and column directions on the substrate, or may be arranged in various forms.
복수의 발광 셀(100a, 100b) 각각은 발광 구조물(120)을 포함할 수 있다.Each of the plurality of
도 1의 발광 구조물(120)은 제1 도전형 반도체층(122), 제1 도전형 반도체층 상의 활성층(124) 및 활성층 상에 배치되는 제2 도전형 반도체층(126)을 포함할 수 있다.The
제1 도전형 반도체층(122)은 Ⅲ-Ⅴ족 또는 Ⅱ-Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제1 도전형 도펀트가 도핑 될 수 있다. 제1 도전형 반도체층(122)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질, AlGaN, GaN, InAlGaN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The first conductivity
제1 도전형 반도체층(122)이 n형 반도체층인 경우, 제1 도전형 도펀트는 Si, Ge, Sn, Se, Te 등과 같은 n형 도펀트를 포함할 수 있다. 제1 도전형 반도체층(122)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지 않는다.When the first conductivity-
제1 도전형 반도체층(122) 상에는 활성층(124)이 배치될 수 있다.An
활성층(124)은 제1 도전형 반도체층(122)과 제2 도전형 반도체층(126) 사이에 배치되며, 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 단일 양자 우물 구조(Single Quantum Well Structure), 다중 양자 우물(MQW:Multi Quantum Well) 구조, 양자점 구조 또는 양자선 구조 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The
활성층(124)은 Ⅲ-Ⅴ족 원소의 화합물 반도체 재료를 이용하여 우물층과 장벽층, 예를 들면 AlGaN/AlGaN, InGaN/GaN, InGaN/InGaN, AlGaN/GaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어(Pair) 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지는 않는다. 우물층은 장벽층의 에너지 밴드 갭보다 작은 에너지 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.The
제2 도전형 반도체층(126)은 활성층(124)의 표면에 반도체 화합물로 형성될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(126)은 Ⅲ-Ⅴ족, Ⅱ-Ⅵ족족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제2 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(126)은 예컨대, InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질, AlGaN, GaN AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있으며, 예를 들어 제2 도전형 반도체층(126)이 AlxGa(1-x)N으로 이루어질 수 있다.The second conductivity
제2 도전형 반도체층(126)이 p형 반도체층인 경우, 제2 도전형 도펀트는 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등과 같은 p형 도펀트일 수 있다. 제2 도전형 반도체층(126)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.When the second conductivity-
제2 도전형 반도체층(126) 상에는 도전층(130)이 더 배치될 수 있다. A
도전층(130)은 제2 도전형 반도체층(126)의 전기적 특성을 향상시키고, 제2 전극(146)과의 전기적 접촉을 개선할 수 있다. 도전층(130)은 복수의 층 또는 패턴을 가지고 형성될 수 있으며 도전층(130)은 투과성을 갖는 투명 전극층으로 형성될 수 있다.The
도전층(130)은 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), IZTO(Indium Zinc Tin Oxide), IAZO(Indium Aluminum Zinc Oxide), IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), IGTO(Indium Gallium Tin Oxide), AZO(Aluminum Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide), GZO(Gallium Zinc Oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), ZnO(Zinc Oxide), IrOx(Iridium Oxide), RuOx(Ruthenium Oxide), NiO(Nickel Oxide), RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au(Gold) 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으나, 이러한 재료에 한정되지 않는다.The
한편, 일 실시예에서 발광 구조물(120)에 포함되는 제1 도전형 반도체층(122)은 n형 반도체층이고, 제2 도전형 반도체층(126)은 p형 반도체층일 수 있다. 이에 따라 발광 구조물(120)은 n-p 접합, p-n 접합, n-p-n 접합, 및 p-n-p 접합 구조 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.Meanwhile, in an embodiment, the first conductivity-
발광 구조물(120)의 제1 도전형 반도체층(122) 상에는 제1 전극(142), 제2 도전형 반도체층(126) 상에는 제2 전극(146)이 배치될 수 있으며, 이때 제1 전극(142)과 제2 전극(146)은 각각 제1 도전형 반도체층(122)과 제2 도전형 반도체층(126)에 전기적으로 연결될 수 있다.A
제1 전극(142) 및 제2 전극(146)은 전도성 물질, 예를 들어 인듐(In), 코발트(Co), 규소(Si), 게르마늄(Ge), 금(Au), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 루테늄(Ru), 레늄(Re), 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 하프늄(Hf), 탄탈(Ta), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 은(Ag), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 나이오븀(Nb), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu) 및 티타늄 텅스텐 합금(WTi) 중에서 선택된 금속 또는 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으나, 제1 전극(142) 및 제2 전극(146)을 구성하는 물질은 예시된 물질에 한정하지 아니한다.The
또한, 도 1에서 일 실시예의 발광 소자(200A)에는 복수의 발광 셀 중 서로 이웃하는 발광 셀을 연결하는 연결전극(148)을 포함할 수 있다.Also, in FIG. 1 , the
연결전극(148)은 이웃하는 발광 셀 중 하나의 제1 전극(142)과 이웃하는 발광 셀 중 다른 하나의 제2 전극(146)을 연결하는 것일 수 있다.The
예를 들어, 도 1의 일 실시예에서 이웃하는 발광 셀 중 하나의 발광 셀(100a)의 제1 전극(142)과 다른 하나의 발광 셀(100b)의 제2 전극(146)이 연결전극(148)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있다.For example, in the embodiment of FIG. 1 , the
연결전극(148)은 투광성 전도물질과 금속물질이 선택적으로 사용될 수 있다.For the
예를 들어, 연결전극(148)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 또는 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있다.For example, the
연결전극(148)은 후술하는 반사층(170) 또는 절연층(150-1) 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 연결전극(148)의 적어도 일부분은 반사층(170) 상에 배치될 수 있고, 또한 연결전극(148) 중 적어도 일부분은 절연층(150-1) 상에 배치될 수 있다.The
연결전극(148)이 Al(Aluminum) 또는 Ag(Silver) 등이 포함되어 형성되는 경우 연결전극은 발광 소자에서 반사층의 역할을 할 수 있다. When the
한편, 연결전극(148)은 양 측에 각각 연결된 제1 전극(142) 및 제2 전극(146)과 일체(一體)로 형성될 수 있다.Meanwhile, the
즉, 일 실시예의 발광 소자(200A)가 고전압(High voltage)용 발광 소자로 사용되는 경우에 있어서, 연결전극(148)은 복수의 발광 셀을 전기적으로 연결하여 발광 소자(200A)가 작동하도록 할 수 있다. 또한, 연결전극(148)에 반사 기능을 갖는 물질을 포함함으로써 발광 소자에서 방출된 빛을 연결전극(148)에서 반사하여 발광 소자의 상부로 향하도록 함으로써 발광 효율을 개선하는 효과를 가질 수 있다. That is, when the
또한, 일 실시예의 발광 소자(200A)에서 복수의 발광 셀(100a, 100b) 사이의 이격 공간에는 반사층(170)이 배치될 수 있다.In addition, in the
반사층(170)은 기판(110) 상에 배치되며, 반사층의 일 면은 기판(110)에 접촉하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 1에 도시된 실시예에서와 같이 기판(110) 상에 요철 패턴(P)이 형성된 경우, 반사층(170)은 기판 상의 요철부위를 채우고 기판에 접촉하여 배치될 수 있다.The
또한, 도 1의 도시를 참조하면, 반사층(170)은 기판(110)의 가장자리 영역에도 배치될 수 있다. 즉, 반사층(170)은 복수의 발광 셀에서 이웃하는 발광 셀 사이의 이격 공간뿐 아니라, 발광 셀이 배치되지 않고 노출된 기판 상의 다른 영역에도 배치될 수 있다.Also, referring to FIG. 1 , the
반사층(170)은 고 굴절률을 갖는 물질을 포함하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 반사층(170)은 굴절률(Refractive Index)이 2.0 보다 큰 물질을 포함하여 형성될 수 있다.The
구체적으로, 반사층(170)은 TiO2(Titanium Dioxide), Ta2O5(Tantalum pentoxide) 및 NiO(Nickel oxide)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하여 형성될 수 있다.Specifically, the
반사층에 포함된 물질의 굴절률은 450nm 파장에서 각각 TiO2가 2.45, Ta2O5가 2.15, NiO가 2.3 일 수 있다. The refractive index of the material included in the reflective layer may be 2.45 for TiO 2 , 2.15 for Ta 2 O 5 , and 2.3 for NiO at a wavelength of 450 nm, respectively.
이러한 고굴절률 물질의 경우 파장에 대한 광학 두께(Optical thickness)의 변화량이 크게 나타나며, 따라서 고굴절률 물질을 포함하여 형성된 반사층의 경우 빛의 파장 영역에 따라 투과도 또는 반사도의 변화 폭이 상대적으로 굴절률이 작은 물질을 포함한 경우에 비하여 크게 나타날 수 있다.In the case of such a high refractive index material, the amount of change in optical thickness with respect to wavelength is large. Therefore, in the case of a reflective layer formed including a high refractive index material, the width of change in transmittance or reflectance depending on the wavelength region of light is relatively small. It may appear larger than the case where the material is included.
도 2는 빛의 파장과 광학 두께의 관계를 나타낸 도면이다.2 is a diagram illustrating a relationship between a wavelength of light and an optical thickness.
도 2의 그래프를 참조하면, 빛의 파장이 길어질수록 광학 두께는 작아지는 경향을 나타내는 것을 알 수 있다.Referring to the graph of FIG. 2 , it can be seen that the optical thickness tends to decrease as the wavelength of light increases.
즉, 동일한 광특성, 예를 들어 동일한 반사도를 나타내기 위하여서는 공급되는 빛의 파장에 따라 광학 두께가 달라져야 함을 알 수 있다.That is, it can be seen that in order to exhibit the same optical characteristics, for example, the same reflectivity, the optical thickness should be changed according to the wavelength of the supplied light.
한편, 광학 두께(Optical thickness)와 물리적인 두께(Physical thickness)의 관계는 아래의 식으로 표현될 수 있다.On the other hand, the relationship between the optical thickness and the physical thickness can be expressed by the following equation.
여기서, Toptical은 광학 두께이고, n은 사용된 물질의 굴절률 값이며, d는 물리적인 두께이고, λ는 공급되는 빛의 파장에 해당한다.Here, T optical is the optical thickness, n is the refractive index value of the material used, d is the physical thickness, and λ corresponds to the wavelength of the supplied light.
즉, 수학식 1의 관계를 참조하면, 동일한 두께(d)를 갖는 반사층에 있어서, 굴절률(n)이 높을수록 광학 두께의 변화도 커질 수 있다. 또한, 굴절률이 높을수록 파장(λ) 변화에 따른 광학 두께의 변화도 커질 수 있다. That is, referring to the relationship of
한편, 반사층의 반사도(Reflectance, %) 등은 광학 두께(Toptical)에 따라 변화가 생기므로, 결과적으로 굴절률(n)이 높을수록 빛의 파장(λ) 영역에 따른 광학 두께 변화가 커지며 이에 따라 반사도 등의 반사층의 광 특성의 변화폭이 크게 나타날 수 있다.On the other hand, since the reflectance (%) of the reflective layer changes depending on the optical thickness (T optical ), as a result, the higher the refractive index (n), the greater the change in the optical thickness according to the wavelength (λ) region of the light. The range of change in optical properties of the reflective layer, such as reflectivity, may be large.
도 3a 내지 도 3b는 일 실시예의 발광 소자에 포함되는 반사층의 광 특성을 나타낸 도면이다.3A to 3B are diagrams illustrating optical characteristics of a reflective layer included in a light emitting device according to an exemplary embodiment.
도 3a는 반사층의 광학 두께(Optical Thickness)에 따른 투과도(Transmittance, %)를 나타낸 그래프이고, 도 3b는 반사층의 광학 두께에 따른 반사도(Reflectance, %)의 관계를 나타낸 그래프이다.Figure 3a is a graph showing the transmittance (Transmittance, %) according to the optical thickness (Optical Thickness) of the reflective layer, Figure 3b is a graph showing the relationship between the reflectance (Reflectance, %) according to the optical thickness of the reflective layer.
예를 들어, 도 3a 내지 도 3b의 광학 특성에 대한 그래프는 ITO 층에 TiO2로 이루어진 반사층이 배치되는 경우의 광 특성을 나타낸 것으로서, 이때, ITO 층의 굴절률 값은 2.0이고, 반사층에 공급되는 빛의 파장은 450nm 일 수 있다.For example, the graph for the optical properties of FIGS. 3A to 3B shows the optical properties when the reflective layer made of TiO 2 is disposed on the ITO layer, and at this time, the refractive index value of the ITO layer is 2.0, and the reflective layer is supplied The wavelength of light may be 450 nm.
도 3a 내지 도 3b를 참조하면, ITO층 상에 TiO2 층이 형성된 경우 광학 두께에 따라 반사층의 투과도 및 반사도는 주기성을 가지고 반복되는 것을 알 수 있다.Referring to Figures 3a to 3b, on the ITO layer TiO 2 When the layer is formed, it can be seen that the transmittance and reflectivity of the reflective layer are repeated with periodicity depending on the optical thickness.
즉, 동일한 광학 두께에서 투과도는 최대이고 이와 대응하여 반사도는 최저값을 가질 수 있으며, 투과도와 반사도는 사인파(sine wave)의 형태로 주기성을 가지고 광학 두께의 변화에 대응하여 변화될 수 있다.That is, the transmittance is maximum at the same optical thickness and the reflectivity may have a corresponding minimum value, and the transmittance and reflectivity may be changed in response to a change in the optical thickness with periodicity in the form of a sine wave.
예를 들어, 도 3a 내지 도 3b의 그래프를 참조하면, 광학 두께가 0.4 내지 0.6 의 범위에서 투과도가 90% 이상의 높은 값을 나타내며, 이와 대응하여 광학 두께가 0.4 내지 0.6일 때의 반사층에서의 반사도는 5% 이하로 나타나는 것을 알 수 있다. 또한, 투과도 또는 반사도 값이 사인파 형태의 주기성을 가지므로, 예를 들어 반사층의 광학 두께가 0.9 내지 1.1일 때에도 투과도가 최대이면서 반사도가 5%이하의 광 특성을 나타낼 수 있다. For example, referring to the graphs of FIGS. 3A to 3B , the transmittance shows a high value of 90% or more in the range of the optical thickness of 0.4 to 0.6, and correspondingly, the reflectance in the reflective layer when the optical thickness is 0.4 to 0.6 It can be seen that is less than 5%. In addition, since the transmittance or reflectance value has a sinusoidal periodicity, for example, even when the optical thickness of the reflective layer is 0.9 to 1.1, the transmittance is maximum and the reflectance is 5% or less.
따라서, 450nm 파장의 빛을 가장 잘 투과하기 위해서는 반사층의 광학 두께가 0.4 내지 0.6 또는 0.9 내지 1.1가 되어야 한다.Therefore, in order to best transmit light of a wavelength of 450 nm, the optical thickness of the reflective layer should be 0.4 to 0.6 or 0.9 to 1.1.
상술한 도 3a의 예시에서 450nm에서 투과도가 최대가 되는 0.4 내지 0.6 또는 0.9 내지 1.1의 광학두께에 대응한 반사층의 물리적인 두께를 위의 수학식 1을 이용하여 구하면, 반사층의 두께(d)는 75nm 내지 105nm 또는 260nm 내지 290nm 일 수 있다.When the physical thickness of the reflective layer corresponding to the optical thickness of 0.4 to 0.6 or 0.9 to 1.1 at which the transmittance is maximum at 450 nm in the example of FIG. 3A is obtained using
한편, 450nm에서 투과도가 최대가 되는 두께의 반사층에 대하여 480nm 내지 700nm 파장의 빛이 공급되는 경우 동일한 물리적인 두께인 경우에도 광학 두께가 달라질 수 있어, 450nm 파장의 빛에 대하여는 투과도가 최대이면서 480nm 내지 700nm 파장의 빛에 대하여는 450nm 파장의 빛과 비교하여 상대적으로 높은 반사도를 가질 수 있다.On the other hand, when light having a wavelength of 480 nm to 700 nm is supplied to the reflective layer having a maximum transmittance at 450 nm, the optical thickness may be different even if the light has the same physical thickness. The light having a wavelength of 700 nm may have a relatively high reflectivity compared to light having a wavelength of 450 nm.
예를 들어, 일 실시예의 발광 소자에서 기판(110)과 연결전극(148)의 사이에 반사층(170)을 배치함으로써, 450nm 파장 부근의 청색광에 대하여는 투과도가 높으며, 상대적으로 파장이 긴 480nm 내지 700nm의 녹색광 또는 적색광에 대하여는 청색광에 비하여 높은 반사도를 가짐으로써 녹색광 또는 적색광의 빛을 선택적으로 반사하도록 할 수 있다.For example, by disposing the
따라서, 일 실시예의 발광 소자에 있어서 반사층(170)에 고굴절률 물질을 포함하도록 함으로써 특정 두께에서 빛의 파장 영역 별로 다른 반사도를 가질 수 있어 반사층으로 입사되는 빛에 대하여 파장에 따라 반사도를 달리함으로써 선택적 반사층의 기능을 할 수 있다.Therefore, in the light emitting device of one embodiment, by including the high refractive index material in the
즉, 도 1에 도시된 발광 소자에서 반사층(170)은 입사되는 빛의 파장에 따라 다른 반사도를 나타내는 선택적 반사층일 수 있다.That is, in the light emitting device shown in FIG. 1 , the
반사층(170)의 두께는 반사층을 이루는 물질에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 반사층(170)의 두께는 반사층을 형성하는 물질의 굴절률 값에 상응하여 달라질 수 있다.The thickness of the
구체적으로, 반사층을 형성하는 물질의 굴절률 값이 커질수록 동일한 광 특성을 갖도록 하는 반사층의 두께는 작아지는 경향을 가질 수 있다.Specifically, as the refractive index value of the material forming the reflective layer increases, the thickness of the reflective layer having the same optical characteristics may tend to decrease.
예를 들어, 상술한 바와 같이 450nm의 빛에 대하여 최대 투과도를 가지고 480nm 내지 700nm 의 파장 영역의 빛에 대하여는 상대적으로 높은 반사도를 갖는 반사층(170)이 TiO2(굴절률: 2.45)층으로 이루어진 경우 반사층의 두께는 75nm 내지 105nm 또는 260nm 내지 290nm 일 수 있다. 또한, 반사층(170)이 NiO(굴절률: 2.3)층으로 형성된 경우의 반사층 두께는 80nm 내지 110nm 또는 265nm 내지 295nm이고, 반사층이 Ta2O5(굴절률: 2.15)층으로 형성된 경우의 반사층 두께는 85nm 내지 115nm 또는 270nm 내지 300nm일 수 있다.For example, as described above, the
한편, 도 1의 실시예에서 기판(110) 상에 형성된 반사층(170)의 두께는 기판의 요철 패턴(P) 높이의 수 배 내지 수십 배가 될 수 있다. 기판의 상부면에 형성된 요철 패턴(P)의 최고점으로부터의 반사층(170)의 두께를 t1이라고 하고, 요철 패턴(P)의 최저점으로부터의 반사층의 두께를 t2를 라고 할 때, 반사층(170)의 두께는 t1 및 t2 두께의 평균값일 수 있다.Meanwhile, in the embodiment of FIG. 1 , the thickness of the
예를 들어, 반사층(170)의 두께를 d라고 할 때, d=(t1+t2)/2 일 수 있다. 이때, 반사층의 두께(d)는 반사층의 물리적 두께에 해당한다.For example, when the thickness of the
도 4는 기판과 기판 상에 반사층을 포함한 경우에 있어서의 빛의 파장(Wavelength, nm)에 따른 반사도(Reflectance, %)를 비교하여 나타낸 것이다.FIG. 4 shows a comparison of reflectance (Reflectance, %) according to a wavelength (Wavelength, nm) of light in a case in which a reflective layer is included on the substrate and the substrate.
도 4에서 비교예는 사파이어 기판에서의 반사도 값이며, 실시예는 사파이어 기판 상에 고굴절률의 반사층이 도포된 경우에 있어서의 반사도 값을 나타낸 것일 수 있다. 이때, 반사층은 TiO2층 일 수 있다.In FIG. 4 , a comparative example may be a reflectance value in a sapphire substrate, and an example may be a reflectance value in a case in which a reflective layer having a high refractive index is applied on the sapphire substrate. In this case, the reflective layer may be a TiO 2 layer.
도 4를 참조하면, 비교예에서는 400nm 내지 800nm의 파장 영역 전체에서 6% 내외의 균일한 반사도를 나타내며, 이와 비교하여 실시예에서는 450nm 부근의 파장 영역에서는 10% 이하의 상대적으로 낮은 반사도를 나타내지만 480nm 이상의 장파장으로 갈수록 반사층에서의 반사도가 증가하며, 특히 600nm 내지 700nm의 장파장에서는 20% 이상의 반사도를 나타내는 것을 알 수 있다.4, in the comparative example, a uniform reflectivity of about 6% in the entire wavelength region of 400 nm to 800 nm is exhibited, and in comparison with this, in the embodiment, a relatively low reflectivity of 10% or less is shown in the wavelength region near 450 nm, but It can be seen that the reflectivity in the reflective layer increases toward a long wavelength of 480 nm or more, and in particular, it can be seen that a reflectivity of 20% or more is exhibited at a long wavelength of 600 nm to 700 nm.
따라서, 도 1에 도시된 실시예에서와 같이 기판 상에 반사층을 더 포함하고, 반사층을 고굴절률 물질을 포함하여 형성함으로써 장파장의 빛에 대하여 상대적으로 반사도가 높은 선택적 반사를 할 수 있는 효과를 가질 수 있다. Accordingly, as in the embodiment shown in FIG. 1, a reflective layer is further included on the substrate, and by forming the reflective layer including a high refractive index material, it has the effect of selectively reflecting relatively high reflectivity to long-wavelength light. can
다시 도 1을 참조하면, 발광 소자(200A)의 일 실시예는 복수의 발광 셀 상에 배치되는 제1 절연층(150-1)을 포함할 수 있다.Referring back to FIG. 1 , an embodiment of the
제1 절연층(150-1)은 발광 구조물(120)의 상부면 뿐 아니라 측면을 둘러싸고 배치될 수 있다.The first insulating layer 150 - 1 may be disposed to surround the side surface as well as the upper surface of the
일 실시예의 발광 소자에서 제1 절연층(150-1)은 복수의 발광 셀 상에 배치되되, 제1 도전형 반도체층(122) 상에 형성된 제1 오픈 영역과 제2 도전형 반도체층(126) 상에 형성된 제2 오픈 영역을 포함할 수 있다.In the light emitting device according to an embodiment, the first insulating layer 150 - 1 is disposed on the plurality of light emitting cells, the first open region formed on the first conductivity
한편, 제1 절연층(150-1)의 제1 오픈 영역에서는 제1 전극(142)이 배치될 수 있고, 제2 오픈 영역에서는 제2 전극(146)이 배치될 수 있다. 즉, 제1 절연층의 제1 오픈 영역에서 제1 도전형 반도체층(122)과 제1 전극(142)이 전기적으로 연결되고, 제2 오픈 영역에서 제2 도전형 반도체층(126)과 제2 전극(146)이 전기적으로 연결될 수 있다.Meanwhile, the
제1 절연층(150-1)은 SiO2, Si3N4, 폴리이미드(Polyimide) 등의 재료로 형성될 수 있다.The first insulating layer 150 - 1 may be formed of a material such as SiO 2 , Si 3 N 4 , or polyimide.
또한, 제1 절연층(150-1)은 발광 구조물(120)에서 방출되는 광의 효율을 높이기 위하여 반사율이 높은 재료로 형성될 수 있으며, 예를 들어 DBR 구조를 가질 수 있다. In addition, the first insulating layer 150 - 1 may be formed of a material having a high reflectance in order to increase the efficiency of light emitted from the
제1 절연층(150-1)은 복수의 발광 셀 상에 배치되어 연결전극(148)과 발광 셀이 직접 접촉하는 것을 방지함으로써 연결전극(148)에 의한 전기 단락을 방지할 수 있다.The first insulating layer 150 - 1 is disposed on the plurality of light emitting cells to prevent direct contact between the connecting
또한, 제1 절연층(150-1)은 하나의 발광 셀 안에서의 제1 전극(142)과 제2 전극(146) 사이에서 노출된 발광 구조물(120) 상에 배치되어 노출된 발광 구조물(120)을 보호하고 제1 전극(142)과 제2 전극(146)에 의한 전기적 단락을 방지할 수 있다.In addition, the first insulating layer 150 - 1 is disposed on the
도 5는 일 실시예의 발광 소자에 대한 평면도일 수 있다.5 may be a plan view of a light emitting device according to an embodiment.
도 5에 도시된 일 실시예에서 발광 소자는 복수의 발광 셀(100a 내지 100f)을 포함할 수 있으며, 복수의 발광 셀(100a 내지 100f) 중 이웃하는 발광 셀들이 연결전극(148)에 의하여 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 구체적으로 복수의 발광 셀(100a 내지 100f)은 전기적으로 직렬로 연결될 수 있다.In the embodiment shown in FIG. 5 , the light emitting device may include a plurality of light emitting
예를 들어, 도 5에서 복수의 발광 셀 중 어느 하나인 제1 발광 셀(100a)의 제1 전극(142)과 이웃하는 제2 발광 셀(100b)의 제2 전극(146)이 연결전극(148)으로 서로 연결될 수 있으며, 또한 제1 발광 셀(100a)과 이웃하는 제3 발광 셀(100c)의 경우 제1 발광 셀(100a)의 제2 전극(146)과 제3 발광 셀(100c)의 제1 전극(142)이 연결전극(148)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있다. For example, in FIG. 5 , the
한편, 도 5를 참조하면 복수의 발광 셀(100a 내지 100f) 사이의 이격된 공간 및 기판의 가장자리 영역에는 반사층(170)이 배치될 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 5 , a
즉, 복수의 발광 셀이 배치되지 않는 기판 상의 영역에 반사층(170)을 배치함으로써 발광 셀에서 방출되는 빛이 기판으로 다시 흡수되지 않고 반사층(170)에서 반사되어 발광 소자의 외부로 추출될 수 있도록 하여 일 실시예의 발광 소자에 있어서의 광 효율을 개선하는 효과를 가질 수 있다.That is, by disposing the
이하 도 6 내지 도 7의 발광 소자 실시예에 대한 설명에서는 도 1의 발광 소자 실시예에 대한 설명과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 차이점을 위주로 설명한다. Hereinafter, in the description of the light emitting device embodiment of FIGS. 6 to 7 , the content overlapping with the description of the light emitting device embodiment of FIG. 1 will not be described again, and differences will be mainly described.
도 6은 일 실시예의 발광 소자에 대한 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment.
도 6에서 일 실시예의 발광 소자(200B)는 기판(110), 복수의 발광 셀, 복수의 발광 셀 중 이웃하는 발광 셀을 연결하는 연결전극(148) 및 복수의 발광 셀 사이의 이격된 공간 및 기판의 가장자리에서 기판 상에 배치되는 반사층(170)을 포함할 수 있다.In FIG. 6 , the
또한, 도 6에 도시된 발광 소자(200B)의 실시예에서는 복수의 발광 셀 상에 배치되는 제1 절연층(150-1)을 포함하고, 복수의 발광 셀 사이의 이격 공간에 배치된 반사층(170) 상에 배치된 제2 절연층(150-2)을 더 포함할 수 있다.In addition, in the embodiment of the
즉, 도 6의 실시예에서 제2 절연층(150-2)의 제1면은 연결전극(148)과 마주보고 배치되며, 제1면과 마주보는 제2면은 반사층(170)과 마주보고 배치될 수 있다.That is, in the embodiment of FIG. 6 , the first surface of the second insulating layer 150 - 2 faces the
따라서, 반사 물질이 포함되거나 또는 DBR 구조를 갖는 제2 절연층(150-2)이 반사층(170) 상에 추가로 형성됨으로써, 반사층(170)의 표면에서 반사되어 발광 소자의 상부로 향하는 빛이 제2 절연층에서 흡수되지 않고 외부로 추출될 수 있어 발광 소자 외부로 출사되는 광의 비율을 높여 광 효율을 개선하는 효과를 가질 수 있다.Accordingly, the second insulating layer 150 - 2 including a reflective material or having a DBR structure is additionally formed on the
도 7은 발광 소자의 또 다른 실시예에 대한 단면도이다.7 is a cross-sectional view of another embodiment of a light emitting device.
도 7에 도시된 일 실시예의 발광 소자(200C)는 기판(110), 기판 상에 서로 이격되어 배치된 복수의 발광 셀, 이웃하는 발광 셀을 전기적으로 연결하는 연결전극(148) 및 복수의 발광 셀이 배치되지 않은 기판 상의 영역에 배치되는 반사층(170)을 포함할 수 있다.The
또한, 도 7의 실시예에서 이웃하는 발광 셀 사이의 이격된 공간의 기판 상에 배치된 반사층(170)의 경우 제1면은 기판과 접촉하고 제1면과 마주보는 제2면은 연결전극과 접촉하여 배치될 수 있다.In addition, in the embodiment of FIG. 7 , in the case of the
즉, 도 1 또는 도 6에 도시된 일 실시예의 발광 소자(200A, 200B)와 비교하여 도 7의 실시예의 발광 소자(200C)는 절연층을 포함하지 않을 수 있다.That is, compared to the
도 7의 실시예에서 반사층(170)은 절연 물질로 이루어질 수 있으며, 연결전극(148)과 발광 구조물(120)사이의 공간 또는 연결전극(148)과 기판(110) 사이의 공간에 반사층(170)이 형성되어 절연층을 추가로 배치하지 않고 발광 구조물(120)을 보호하고 전기적 단락을 방지할 수 있다.In the embodiment of FIG. 7 , the
도 1 및 도 6 내지 도 7에서 상술한 실시예의 발광 소자(100A, 100B, 100C)의 경우 발광 셀이 배치되지 않은 기판(110) 상의 영역에 반사층(170)을 배치하고, 반사층(170)이 고굴절률 물질을 포함하여 형성되도록 함으로써 반사층(170)에 입사되는 빛의 파장에 따라 반사도를 달리할 수 있어 파장 영역에 따라 선택적으로 빛을 반사하는 효과를 가질 수 있다.In the case of the light emitting devices 100A, 100B, and 100C of the embodiments described above in FIGS. 1 and 6 to 7 , the
도 8은 상술한 일 실시예의 발광 소자(100A, 100B, 100C)를 포함하는 발광 소자 패키지의 일 실시예를 나타낸 도면이다.8 is a diagram illustrating an embodiment of a light emitting device package including the light emitting devices 100A, 100B, and 100C of the above-described embodiment.
일 실시예의 발광 소자 패키지(300)는 리드 프레임(242, 246), 리드 프레임 상에 배치된 상술한 일 실시예의 발광 소자(200), 발광 소자를 둘러싸고 배치되는 몰딩부(260)를 포함하여 형성될 수 있다.The light emitting
또한, 몰딩부(260)는 발광 소자(200)에서 방출되는 광에 의하여 여기되는 형광체(270)를 포함할 수 있다.In addition, the
도 8에 도시된 일 실시예에 따른 발광 소자 패키지(300)는 캐비티를 갖는 패키지 몸체(230)를 더 포함할 수 있으며, 패키지 몸체(230)에는 발광 소자(200)와의 전기적 연결을 위한 리드 프레임(242, 246)이 고정되어 배치될 수 있다. 또한, 캐비티 내에는 발광 소자(200)가 리드 프레임 상에 고정되어 포함될 수 있다.The light emitting
패키지 몸체(230)는 실리콘 재질, 합성수지 재질 또는 금속 재질을 포함하여 형성될 수 있으며, 열전도성이 우수한 세라믹 물질로 이루어질 수 있다.The
패키지 몸체(230)의 상부는 개방되어 있고, 측면과 바닥면으로 이루어진 캐비티를 가질 수 있다. 캐비티는 컵 형상, 오목한 용기 형상 등으로 형성될 수 있으며, 캐비티의 측면은 바닥면에 대하여 수직이거나 경사지게 형성될 수 있으며, 그 크기 및 형태가 다양할 수 있다. 캐비티를 위에서 바라본 형상은 원형, 다각형, 타원형 등일 수 있으며, 모서리가 곡선인 형상일 수도 있으나, 이에 한정하지 않는다.The upper portion of the
발광 소자(200)는 패키지 몸체(230)의 캐비티 내에 배치될 수 있으며, 패키지 몸체(230) 상에 배치되거나 제1 리드 프레임(242) 또는 제2 리드 프레임(246) 상에 배치될 수 있다. The
제1 리드 프레임(242)과 제2 리드 프레임(246)은 구리 등의 도전성 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어 금(Au)을 도금하여 배치할 수 있다. The
제1 리드 프레임(242) 및 제2 리드 프레임(246)은 서로 전기적으로 분리되며, 발광 소자(200)에 전류를 공급할 수 있다. 또한, 제1 리드 프레임(242) 및 제2 리드 프레임(246)은 발광 소자(200)에서 발생된 광을 반사시켜 광 효율을 증가시킬 수 있으며, 발광 소자(200)에서 발생된 열을 외부로 배출시킬 수도 있다.The
발광 소자(200)는 와이어(248)를 통하여 제1 또는 제2 리드 프레임(242. 246)과 전기적으로 연결될 수 있다. 와이어(248)는 도전성 물질로 이루어질 수 있다. The
도 8의 발광 소자 패키지(300) 실시예에서 발광 소자(200) 등을 둘러싸고 몰딩부(260)가 배치될 수 있다. In the embodiment of the light emitting
도 8에 도시된 실시예에서 몰딩부(260)의 상부면은 캐비티 측면의 상부면과 동일선상에서 형성되는 것으로 도시되어 있으나, 실시예는 이에 한정하지 않으며 몰딩부(260)는 캐비티 측면의 상부면보다 높게 형성되거나 또는 캐비티 측면 높이보다 낮게 형성될 수도 있다.In the embodiment shown in FIG. 8 , the upper surface of the
또한, 패키지 몸체의 캐비티 측벽보다 몰딩부(260)가 높게 형성되어 돔(dome) 타입으로 이루어질 수 있으며, 발광 소자 패키지(200)의 광 출사각을 조절하기 위하여 다른 형상으로 배치될 수도 있다. 몰딩부(260)는 발광소자(200)를 포위하여 보호하며 발광 소자(200)로부터 방출되는 빛의 진로를 변경하는 렌즈로 작용할 수 있다.In addition, the
몰딩부(260)는 수지층을 포함하여 이루어질 수 있으며, 수지층은 실리콘계 수지, 에폭시계 수지, 아크릴계 수지 중 어느 하나를 포함하는 혼합물 또는 그 화합물의 그룹으로부터 선택된 수지를 포함할 수 있다.The
몰딩부(260)에는 형광체(270)를 포함할 수 있다.The
형광체(270)는 발광 소자(200)에서 방출된 빛에 의하여 여기 되어 파장 변환된 광을 방출할 수 있다.The
실시예의 발광 소자 패키지(300)에서 발광 소자(200)는 형광체(270)를 여기 시키는 청색광을 방출할 수 있다. 한편, 발광 소자(200)에서 방출되는 빛의 발광 중심 파장은 440nm 내지 460nm일 수 있다.In the light emitting
몰딩부(260)에 포함되는 형광체(270)는 서로 다른 파장 영역의 발광 파장을 갖는 복수의 형광체를 포함할 수 있다.The
복수의 형광체(270)는 480nm 내지 550nm의 발광 중심 파장을 갖는 제1 형광체(270a) 및 600nm 내지 700nm의 발광 중심 파장을 갖는 제2 형광체(270b) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The plurality of
제1 형광체(270a)는 황색 또는 녹색 광을 방출하는 형광체일 수 있다.The
예를 들어, 황색 형광체는 X2SiO4:Eu2 +(여기서, X는 Ca, Sr, Ba 중 적어도 하나이다), Sr3SiO5:Eu2 + 또는 Y3Al5O12:Ce3 +가 포함될 수 있고, 녹색 형광체는 Ba3Si6O12N2:Eu2+, β-SiAlON:Eu2 +, Ca-??-SiAlON:Yb, CaSi2O2N2:Eu2 + 또는 Lu3Al5O12:Ce3+ 를 포함할 수 있다.For example, the yellow phosphor is X 2 SiO 4: Eu 2 + ( wherein, X is Ca, Sr, one Ba of at least), Sr 3 SiO 5: Eu 2 + , or Y 3 Al 5 O1 2: Ce 3 + a may be included, the green phosphor is Ba 3 Si 6 O 12 N 2 :
제2 형광체(270b)는 적색 광을 방출하는 형광체일 수 있다.The
예를 들어, 적색 형광체는 Y2Si5N8:Eu2 +(여기서, Y는 Ca, Sr, Ba 중 적어도 하나이다), CaAlSiN3:Eu2 +, SrCaSi5N8:Eu2 + 또는 K2MF6:Mn4 +(여기서, M은 Si, Ge, Ti 중 적어도 하나이다) 등이 포함될 수 있다.For example, the
한편, 일 실시예의 발광소자 패키지에 포함되는 형광체의 종류는 개시된 종류에 한정하지 않으며, 녹색 또는 황색 파장 영역의 광을 방출하는 형광체 물질 또는 적색 파장 영역의 광을 방출하는 다른 종류의 형광체 물질이 실시예에 포함될 수 있다.On the other hand, the type of the phosphor included in the light emitting device package of an embodiment is not limited to the disclosed type, and a phosphor material emitting light in a green or yellow wavelength region or another type of phosphor material emitting light in a red wavelength region is implemented. Examples may be included.
도 9는 도 8의 발광 소자 패키지의 실시예에서 A 부분을 보다 상세히 나타낸 도면이다.9 is a view showing in more detail a portion A in the embodiment of the light emitting device package of FIG. 8 .
도 9는 상술한 일 실시예의 발광 소자를 포함하는 발광 소자 패키지의 경우에 있어서 발광 소자에서 방출된 빛의 진행 경로를 간략히 나타낸 것이다.9 is a schematic diagram illustrating a path of light emitted from the light emitting device in the case of the light emitting device package including the light emitting device of the above-described embodiment.
실선 화살표(R1)는 발광 구조물(120)에서 방출된 빛이 진행하는 경로를 나타낸 것으로, 발광 구조물(120)에서 방출된 빛은 발광 셀의 상부로 향하거나 또는 발광 셀 하부의 기판(110)으로 향할 수 있다.A solid arrow R1 indicates a path along which light emitted from the
발광 셀의 상부로 향한 빛은 형광체(270)로 공급되어 형광체를 여기 시킬 수 있다. 또한, 기판(110) 방향으로 향한 빛은 기판 표면에 형성된 요철 패턴에서 반사되어 다시 발광 셀의 상부로 향하도록 빛의 진행 방향이 변환될 수 있다.Light directed upwards of the light emitting cell may be supplied to the
한편, 발광 셀의 상부로 방출된 빛은 발광 소자를 둘러싸고 배치된 몰딩부에 포함된 형광체를 여기 시켜, 형광체가 녹색광 또는 적색광의 빛을 발광하도록 할 수 있다.Meanwhile, the light emitted to the upper portion of the light emitting cell may excite the phosphor included in the molding part disposed to surround the light emitting device, so that the phosphor emits green light or red light.
점선 화살표(R2)로 표시된 형광체에서 방출된 빛 중 일부는 발광 소자의 하부 방향으로 향할 수 있으며, 이때 실시예의 발광 소자에 포함된 반사층(170)에서는 형광체에서 방출된 녹색광 또는 적색광을 반사하여 발광 소자의 상부로 향하도록 할 수 있다.Some of the light emitted from the phosphor indicated by the dotted arrow R2 may be directed downward of the light emitting device, and in this case, the
이때, 반사층(170)은 청색 파장 영역의 광은 투과하고 녹색 또는 적색 파장 영역의 광은 반사하는 선택적 반사층일 수 있다.In this case, the
따라서, 발광 셀의 발광 구조물(120)에서 방출된 청색광은 발광 셀 상부 방향에서 발광 소자 패키지의 외부로 방출되며, 기판(110) 방향으로 향한 청색광의 경우 반사층(170)에서 청색광을 투과하므로 반사층으로 입사된 경우에도 기판 표면의 요철에서 반사되거나 반사층을 통과하여 다시 발광 소자 패키지의 외부로 방출될 수 있다.Accordingly, the blue light emitted from the
이와 비교하여, 발광 소자에서 공급된 청색광에 의하여 여기 되어 형광체에서 방출된 녹색 또는 적색 광은 발광 소자의 상부 방향으로 발광 소자 패키지 외부로 방출되거나, 또는 발광 소자 방향으로 향한 녹색 또는 적색광은 반사층(170)에서 반사되어 발광 소자의 상부 방향으로 향하도록 방향이 전환되어 출사될 수 있다.In comparison, the green or red light emitted from the phosphor excited by the blue light supplied from the light emitting device is emitted to the outside of the light emitting device package in the upper direction of the light emitting device, or the green or red light directed toward the light emitting device is emitted from the reflective layer 170 ) may be reflected from the light emitting device, and the direction may be changed to be emitted toward the upper direction of the light emitting device.
즉, 일 실시예의 발광 소자 패키지의 경우 복수의 발광 셀 사이의 이격된 공간에 반사층(170)을 배치하고, 반사층(170)을 빛의 파장에 따라 반사율의 변화 폭이 큰 고굴절률 물질로 형성함으로써 발광 셀에서 생성된 청색광은 쉽게 반사층을 투과하여 외부로 출사되도록 하고, 녹색 또는 적색 광은 반사층(170)에서 반사하여 다시 발광 셀의 내부로 입사되지 못하도록 하여 개선된 발광 효율과 향상된 휘도를 나타낼 수 있다. That is, in the case of the light emitting device package of one embodiment, the
일 실시예에 따른 발광 소자 패키지는 복수 개가 기판 상에 어레이될 수 있고, 발광 소자 패키지의 광 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등이 배치될 수 있다. 이러한 발광 소자 패키지, 기판, 광학 부재는 백라이트 유닛으로 기능할 수 있다.A plurality of light emitting device packages according to an embodiment may be arranged on a substrate, and optical members such as a light guide plate, a prism sheet, and a diffusion sheet may be disposed on a light path of the light emitting device package. Such a light emitting device package, a substrate, and an optical member may function as a backlight unit.
또한, 일 실시예에 따른 발광 소자 패키지를 포함하는 표시 장치, 지시 장치, 조명 장치가 구현될 수 있다.In addition, a display device, an indicator device, and a lighting device including the light emitting device package according to an embodiment may be implemented.
여기서, 표시 장치는 바텀 커버와, 바텀 커버 상에 배치되는 반사판과, 광을 방출하는 발광 모듈과, 반사판의 전방에 배치되며 발광 모듈에서 발산되는 빛을 전방으로 안내하는 도광판과, 도광판의 전방에 배치되는 프리즘 시트들을 포함하는 광학 시트와, 광학 시트 전방에 배치되는 디스플레이 패널과, 디스플레이 패널과 연결되고 디스플레이 패널에 화상 신호를 공급하는 화상 신호 출력 회로와, 디스플레이 패널의 전방에 배치되는 컬러 필터를 포함할 수 있다. 여기서 바텀 커버, 반사판, 발광 모듈, 도광판, 및 광학 시트는 백라이트 유닛(Backlight Unit)을 이룰 수 있다.Here, the display device includes a bottom cover, a reflecting plate disposed on the bottom cover, a light emitting module emitting light, a light guide plate disposed in front of the reflecting plate and guiding light emitted from the light emitting module in front of the light guide plate An optical sheet comprising prism sheets disposed thereon, a display panel disposed in front of the optical sheet, an image signal output circuit connected to the display panel and supplying an image signal to the display panel, and a color filter disposed in front of the display panel. may include Here, the bottom cover, the reflector, the light emitting module, the light guide plate, and the optical sheet may form a backlight unit.
또한, 조명 장치는 기판과 실시 예에 따른 발광 소자 패키지를 포함하는 광원 모듈, 광원 모듈의 열을 발산시키는 방열체, 및 외부로부터 제공받은 전기적 신호를 처리 또는 변환하여 광원 모듈로 제공하는 전원 제공부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 조명 장치는, 램프, 헤드 램프, 또는 가로등을 포함할 수 있다.In addition, the lighting device includes a light source module including a substrate and a light emitting device package according to an embodiment, a heat sink for dissipating heat of the light source module, and a power supply unit that processes or converts an electrical signal provided from the outside and provides it to the light source module may include For example, the lighting device may include a lamp, a head lamp, or a street lamp.
헤드 램프는 기판 상에 배치되는 발광 소자 패키지들을 포함하는 발광 모듈, 발광 모듈로부터 조사되는 빛을 일정 방향, 예컨대, 전방으로 반사시키는 리플렉터(reflector), 리플렉터에 의하여 반사되는 빛을 전방으로 굴절시키는 렌즈, 및 리플렉터에 의하여 반사되어 렌즈로 향하는 빛의 일부분을 차단 또는 반사하여 설계자가 원하는 배광 패턴을 이루도록 하는 쉐이드(shade)를 포함할 수 있다.The head lamp includes a light emitting module including light emitting device packages disposed on a substrate, a reflector that reflects light emitted from the light emitting module in a predetermined direction, for example, forward, and a lens that refracts light reflected by the reflector forward. , and a shade that blocks or reflects a portion of light reflected by the reflector and directed to the lens to form a light distribution pattern desired by the designer.
또한, 일 실시예의 발광 소자 패키지를 포함하는 표시 장치 또는 조명 장치의 경우 선택적 반사 효과를 나타내는 반사층을 갖는 발광 소자를 포함함으로써, 발광 소자에서 생성된 청색광의 투과도를 높이고, 형광체에서 방출되는 녹색광 및 적색광에 대해서는 반사율을 높여 휘도 및 광 효율을 개선할 수 있다.In addition, in the case of a display device or a lighting device including a light emitting device package according to an embodiment, a light emitting device having a reflective layer exhibiting a selective reflection effect is included, thereby increasing the transmittance of blue light generated from the light emitting device, and green light and red light emitted from the phosphor. For the luminance and light efficiency can be improved by increasing the reflectance.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiment has been described above, it is only an example and does not limit the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains are not exemplified above in a range that does not depart from the essential characteristics of the present embodiment. It will be appreciated that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be implemented by modification. And differences related to such modifications and applications should be construed as being included in the scope of the present invention defined in the appended claims.
100a, 100b : 발광 셀 110 : 기판
120 : 발광 구조물 142 : 제1 전극
146 : 제2 전극 148 : 연결전극
170 : 반사층 200, 200A, 200B, 200C : 발광 소자
270 : 형광체 300 : 발광 소자 패키지100a, 100b: light emitting cell 110: substrate
120: light emitting structure 142: first electrode
146: second electrode 148: connection electrode
170:
270: phosphor 300: light emitting device package
Claims (17)
상기 기판 상에 서로 이격되어 배치되고, 제1 도전형 반도체층, 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 복수의 발광 셀;
상기 제1 도전형 반도체층 및 상기 제2 도전형 반도체층 상에 각각 배치되는 제1 전극 및 제2 전극;
상기 복수의 발광 셀 중 서로 이웃하는 발광 셀을 연결하는 연결전극; 및
상기 기판 상에 배치되며, 상기 복수의 발광 셀 중 서로 이웃하는 발광 셀 사이의 이격된 공간에 배치된 반사층; 을 포함하고,
상기 연결전극은 상기 이웃하는 발광 셀 중 하나의 상기 제1 전극과 상기 이웃하는 발광 셀 중 다른 하나의 제2 전극을 연결하고,
상기 반사층은 TiO2, Ta2O5 및 NiO로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하고,
상기 반사층은 TiO2를 포함하며 75nm 내지 105nm 또는 260nm 내지 290nm의 두께를 갖거나,
상기 반사층은 Ta2O5를 포함하며 85nm 내지 115nm 또는 270nm 내지 300nm의 두께를 갖거나,
상기 반사층은 NiO를 포함하며 80nm 내지 110nm 또는 265nm 내지 295nm의 두께를 갖는 발광 소자.Board;
a plurality of light emitting cells spaced apart from each other on the substrate and including a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer;
first and second electrodes respectively disposed on the first conductivity-type semiconductor layer and the second conductivity-type semiconductor layer;
a connection electrode connecting neighboring light emitting cells among the plurality of light emitting cells; and
a reflective layer disposed on the substrate and disposed in a spaced space between adjacent light emitting cells among the plurality of light emitting cells; including,
The connection electrode connects the first electrode of one of the neighboring light emitting cells and the second electrode of the other of the neighboring light emitting cells,
The reflective layer includes any one selected from the group consisting of TiO 2 , Ta 2 O 5 and NiO,
The reflective layer contains TiO 2 and has a thickness of 75 nm to 105 nm or 260 nm to 290 nm,
The reflective layer includes Ta 2 O 5 and has a thickness of 85 nm to 115 nm or 270 nm to 300 nm,
The reflective layer includes NiO and has a thickness of 80 nm to 110 nm or 265 nm to 295 nm.
상기 반사층은 상기 기판에 접촉하여 배치되고,
상기 연결전극의 적어도 일부분은 상기 반사층 상에 배치된 발광 소자.According to claim 1, wherein the reflective layer is further disposed on the edge region of the substrate,
The reflective layer is disposed in contact with the substrate,
At least a portion of the connection electrode is a light emitting device disposed on the reflective layer.
상기 복수의 발광 셀 상에 배치되며, 상기 제1 도전형 반도체층 및 상기 제2 도전형 반도체층 상에 각각 형성된 제1 오픈 영역 및 제2 오픈 영역을 갖는 제1 절연층; 및
상기 반사층 상에 배치된 제2 절연층을 더 포함하고,
상기 제1 전극은 상기 제1 오픈 영역에서 상기 제1 도전형 반도체층과 전기적으로 연결되고, 상기 제2 전극은 상기 제2 오픈 영역에서 상기 제2 도전형 반도체층과 전기적으로 연결되고,
상기 제2 절연층의 제1면은 상기 연결 전극과 마주보고 상기 제1면과 마주보는 제2면은 상기 반사층과 마주보고 배치되는 발광 소자.According to claim 1, wherein the light emitting device
a first insulating layer disposed on the plurality of light emitting cells and having a first open region and a second open region respectively formed on the first conductivity-type semiconductor layer and the second conductivity-type semiconductor layer; and
Further comprising a second insulating layer disposed on the reflective layer,
The first electrode is electrically connected to the first conductivity-type semiconductor layer in the first open region, and the second electrode is electrically connected to the second conductivity-type semiconductor layer in the second open region,
A light emitting device in which a first surface of the second insulating layer faces the connection electrode and a second surface that faces the first surface faces the reflective layer.
상기 리드 프레임 상에 배치된 제1 항, 제2 항 및 제5 항 중 어느 한 항에 기재된 발광 소자;
상기 발광 소자를 둘러싸고 배치되는 몰딩부; 및
상기 몰딩부에 포함되고, 상기 발광 소자에서 방출되는 광에 의하여 여기되는 형광체; 를 포함하고,
상기 발광 소자는 440nm 내지 460nm의 발광 중심 파장을 갖고,
상기 형광체는 서로 다른 파장 영역의 발광 파장을 갖는 복수의 형광체를 포함하고,
상기 복수의 형광체는 480nm 내지 550nm의 발광 중심 파장을 갖는 제1 형광체 및 600nm 내지 700nm의 발광 중심 파장을 갖는 제2 형광체 중 적어도 하나를 포함하는 발광 소자 패키지.lead frame;
A light emitting device according to any one of claims 1, 2 and 5 disposed on the lead frame;
a molding part disposed to surround the light emitting device; and
a phosphor included in the molding part and excited by light emitted from the light emitting device; including,
The light emitting device has a light emission center wavelength of 440 nm to 460 nm,
The phosphor includes a plurality of phosphors having emission wavelengths in different wavelength ranges,
The plurality of phosphors includes at least one of a first phosphor having a central emission wavelength of 480 nm to 550 nm and a second phosphor having a central emission wavelength of 600 nm to 700 nm.
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