KR102286804B1 - 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 및 그 제조방법 - Google Patents

전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 전기수술 핸드피이스에 사용되는 모노폴라(Monopolar)용 핸드피이스의 전도성 전극에 관한 것으로서 특히, 수술시 조직의 탄화와 스모그가 거의 발생하지 않고, 조직이 전극에 들러붙지 않는 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 및 그 제조방법을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.

Description

전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 및 그 제조방법 {Electrode for ecetrosurgical handpiece, and manufacturing method of the same}
본 발명은 전기수술 핸드피이스에 사용되는 모노폴라(Monopolar)용 핸드피이스의 전도성 전극에 관한 것으로서 특히, 수술시 조직의 탄화와 스모그가 거의 발생하지 않고, 조직이 전극에 들러붙지 않는 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 및 그 제조방법을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.
종래에는 철제 외과용 메스를 사용하여 조직을 절개하는 수술을 실시하였고, 현재에도 널리 사용되고 있으나 현대의 높은 공학기술의 발전으로 전기, 레이저, 초음파 등의 에너지를 이용하는 첨단 수술 도구들이 등장하고 있다.
에너지 기반의 수술 기구들의 원리는 에너지를 우리 몸의 조직에 적절하게 주입해서 조직의 변화를 일으키고, 그에 의한 수술효과를 보는 것이다.
이 중에서 가장 널리 사용하는 에너지 기반의 수술기구는 전기수술(Electrosurgery)로서, 고주파(High frequency, radio frequency) 전기 에너지를 사용하여 환자의 조직을 절개, 절제 또는 소작 등을 행하는 수술 방법이다.
인간의 신경계는 1,000Hz까지의 저주파 전기에 매우 민감하게 반응한다. 그렇기 때문에 가정용 전선에 흐르는 교류 전기에 감전되면 쇼크를 입게 된다.
고주파 전기 에너지를 이용한 전기수술은 200kHz 내지 5MHz 정도에 이르는 고주파 전기를 이용한다.
전극을 통해 공급되는 전기 에너지에 의해 세포 내 진동이 발생하고, 이에 따라 세포 내 온도가 상승하게 되며 조직이 가열된다.
세포 내 온도가 약 60℃에 도달하면 세포 사멸이 일어나고, 60~90℃로 가열되면 조직의 건조(탈수)와 단백질 응고가 진행되며, 세포 내 온도가 100℃에 도달하면 세포의 체적 팽창 및 기화가 발생하며, 이러한 과정에서 조직을 절개 또는 소작하게 된다.
이와 같은 전기수술은 조직의 절개 및 응고를 위해 고주파 전기 전류를 이용하는데, 전기수술 장치를 이용한 절개는 고주파 전기 전류에 의한 조직 절개에서 열이 발생하여 현저한 응고 효과가 발생한다.
이러한 전기수술 절개는 필연적으로 전도성 전극과 조직의 불완전 접촉에 의해 공기 절연층이 파괴되면서 고열을 동반하는 아크(Arc)가 발생하고, 이 아크에 의해 조직이 타면서 화상이 발생하며, 조직이 탄화하며 전도성 전극이 오염되는 문제점이 발생한다.
또한, 아크에 의해 조직이 탄화하며 스모그(smog)가 발생하는데, 이 스모그는 집도의와 환자에게 건강상 악영향을 미치는 것으로 알려지고 있다.
도 1에 도시한 바와 같이 모노폴라 전기수술 기구(10)는 집도의가 파지하는 부분인 도 2의 핸드피이스(11)의 앞쪽에 전도성 전극(12)이 체결되고, 접지패드(15)가 환자에 접지되며, 상기 핸드피이스(11)와 접지패드(15)는 고주파를 발생시키는 제어유닛(13)과 각각 케이블로 연결된다.
종래의 전도성 전극(12)을 이용하여 전기 수술시 전도성 전극(12)과 조직의 불완전 접촉에 의해 고온의 아크가 발생하면서, 조직의 탄화와 스모그가 발생하고 조직의 전도성 전극(12) 표면에 들러붙어 오염되면서 전도성 전극(12)을 자주 닦거나 교체하여야 하는 문제점이 있다.
문헌 1. 대한민국특허청 등록특허공보 제10-2020179호, "전기수술 핸드피이스용 전도성 전극" 문헌 2. 대한민국특허청 등록특허공보 제10-1566766호, "의료용 핸드피스" 문헌 3. 대한민국특허청 공개특허공보 제10-2016-0087288호, "정밀 블레이드 전기 외과 수술 기구" 문헌 4. 대한민국특허청 등록특허공보 제10-0818730호, "수술용 블레이드가 구비된 수술용 핸드피스" 문헌 5. 대한민국특허청 공개특허공보 제10-2017-0135823호, "테이퍼 형성된 정밀 블레이드 전기수술 기구"
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 전도성 전극이 높은 절연성과 비점착성(non-sticky)을 갖도록 구성함으로써 전기 수술시 조직의 탄화와 스모그가 발생하지 않고, 조직이 전극 표면에 들러붙지 않으므로 오염이 발생하지 않는 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 및 그 제조방법을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.
본 발명에 의한 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 제조방법은 알루미늄을 소재로 일측에 플러그(102)가 구비되면서 판 형태로 블레이드(101)를 성형하는 블레이드 성형단계(S100); 상기 블레이드(101)를 아노다이징 처리하여 표면에 30㎛ ~ 80㎛ 두께의 아노다이징 코팅층(104)을 형성하는 아노다이징 코팅단계(S200); 블레이드(101)의 테두리 부분에 형성된 아노다이징 코팅층(104)을 제거하여 인선부(103)를 형성하는 1차 인선부 가공단계(S300); 및 아노다이징 코팅단계를 거친 블레이드(101) 표면에 10㎛ ~ 40㎛ 두께의 세라믹 코팅층(105)을 형성하는 세라믹 코팅단계(S400);를 포함하여 구성된다.
이때, 상기 세라믹 코팅단계(S400)를 거쳐 블레이드(101)의 인선부에 형성된 세라믹 코팅층(105)을 제거하는 2차 인선부 가공단계(S500);를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 아노다이징 코팅단계(S200)에서 형성된 아노다이징 코팅층(104) 두께는 40㎛이고, 상기 세라믹 코팅단계(S400)에서 형성된 세라믹 코팅층(105) 두께는 30㎛인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 1차 인선부 가공단계(S300)는 블레이드(101) 테두리에 형성된 아노다이징 코팅층(104) 일부를 제거함으로써, 블레이드(101) 테두리에 일부에만 인선부(103)를 형성하는 것을 특징으로 한다.
그리고 본 발명에 의한 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극은 상기의 제조방법을 통해 제조된다.
상기와 같이 구성된 본 발명에 의한 전도성 전극은 블레이드 표면에 형성된 아노다이징 코팅층에 의해 전기 수술시 조직의 탄화와 스모그가 발생하지 않고, 블레이드 표면에 형성된 세라믹 코팅층에 의해 조직이 블레이드 표면에 들러붙지 않으므로 수술시 집도의가 전극을 수시로 닦지 않아도 되므로 수술에 집중할 수 있다.
도 1은 전기 수술기구의 구성을 도시한 도면.
도 2는 전기 수술기구의 핸드 피이스를 도시한 사시도.
도 3은 본 발명에 의한 전도성 전극을 도시한 도면.
도 4는 본 발명에 의한 전도성 전극의 단면과 그 주요 부분을 확대 도시한 단면도.
도 5는 본 발명에 의한 전도성 전극 제조방법을 도시한 공정도.
도 6은 본 발명에 의한 전도성 전극 제조방법에 의해 각 공정별로 전도성 전극이 가공되는 과정을 도시한 도면.
도 7은 블레이드의 단부에만 인선부가 형성된 전도성 전극을 도시한 도면.
도 8은 블레이드의 상, 하 부분에만 인선부가 형성된 전도성 전극을 도시한 도면.
이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예 및 첨부하는 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명하되, 도면의 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭함을 전제하여 설명하기로 한다.
발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에서 어느 하나의 구성요소가 다른 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 당해 구성요소만으로 이루어지는 것으로 한정되어 해석되지 아니하며, 다른 구성요소들을 더 포함할 수 있는 것으로 이해되어야 한다.
본 명세서에서 사용되는 "상부", "하부", "저부", "전방", "후방", "아래" 등의 용어는 단지 설명을 용이하게 하기 위한 것으로 도면에 도시되어 있는 바와 같은 구성요소의 배향을 지칭한다.
전기수술 기구의 핸드피이스(11)에 사용되는 전도성 전극(100)은 전극으로 공급되는 고주파 전기에너지를 이용하여 조직을 절개, 절제 또는 소작한다.
본 발명의 전도성 전극(100)은 모노폴라(Monopolar) 전기수술 기구의 핸드피이스(11)에 사용되는 것으로서, 도 2와 같이 핸드피이스(11)의 앞쪽에 전도성 전극(100)이 체결된다.
전도성 전극은 도 3에 도시한 바와 같이, 판 형태로 블레이드(101)가 형성되고, 상기 블레이드(101)의 테두리 부분에 인선부(103)가 형성되며, 상기 블레이드(101)의 후방으로 플러그(102)가 형성된다.
상기 블레이드(101) 및 인선부(103)는 조직의 절개 또는 절제를 행하는 부분이고, 플러그(102)는 핸드피이스(11)에 삽입되어 블레이드(101)로 전기 에너지를 공급하는 도선(Electric wire) 역할을 한다.
도 4는 본 발명에 의한 전도성 전극(100)의 블레이드(101) 구성을 도시한 단면도이다.
본 발명에 의한 전도성 전극(100)의 블레이드(101)는 인선부(103)를 제외한 표면에 아노다이징 코팅층(104)과 세라믹 코팅층(105)이 형성된다.
본 발명에 의한 전도성 전극(100)은 전도성이 우수하고, 가공성이 우수한 알루미늄을 소재로 성형된다.
그리고 도 4와 같이 블레이드의 표면에 아노다이징 코팅층(104)을 형성한다.
아노다이징(Ano-dizing) 코팅층(104)을 형성함으로써, 블레이드(101) 표면 강성을 높이면서 전기적 절연 역할을 하도록 한다.
이때, 도 4와 같이 인선부(103)에는 아노다이징 코팅층(104)이 형성되지 않도록 하는데, 상기 인선부(103)는 전기 에너지를 방출하는 부분으로서 인선부(103)까지 아노다이징 코팅층(104)이 형성되면 전기 에너지가 방출되지 않으므로 수술이 불가능하다.
아노다이징 코팅층(104)을 인선부(103)를 제외한 블레이드 외면에 형성함으써 전기 에너지가 인선부(103)에서만 방출되므로 전류 밀도가 높아져서 절개 및 절제가 원활하게 이루어지고, 블레이드(101) 측면에서는 전기 에너지가 방출되지 않으므로 아크 발생으로 인한 조직의 탄화 및 스모그가 발행하지 않는다.
그리고 상기 아노다이징 코팅층(104)에 세라믹 코팅층(105)을 형성한다.
세라믹 코팅층(105)은 비점착층(Non-sticky layer)으로서 수술시 조직이 블레이드(101) 표면에 들러붙어 블레이드(101)가 오염되는 것을 방지하는 역할을 한다.
종래의 전도성 전극은 전기 수술시 조직의 일부가 블레이드(101) 표면에 들러붙어 탄화되며 오염되기 때문에 집도의가 수술 과정 중에서 자주 블레이드(101)를 닦아 내야만 하고, 블레이드(101)에 들러붙어 탄화된 부분은 잘 닦이지도 않기 때문에 주기적으로 전도성 전극을 교체하여야만 한다.
본 발명의 전도성 전극(100)은 블레이드(101)의 표면에 세라믹 코팅층(105)을 형성함으로써, 수술 과정에서 조직이 블레이드에 들러붙지 않으므로 수술과정 중에서 블레이드(101)를 자주 닦지 않아도 되고, 수술이 끝날 때까지 전극을 교체할 필요가 없다.
상기와 같이 구성된 본 발명에 의한 전도성 전극 제조방법에 대해 상세하게 설명한다.
본 발명에 의한 전도성 전극 제조방법은 도 5에 도시한 바와 같이 블레이드 성형단계(S100), 아노다이징 코팅단계(S200), 1차 인선부 가공단계(S300). 세라믹 코팅단계(S400). 2차 인선부 가공단계(S500)로 구성된다.
먼저, 도 6의 (a)와 같이 알루미늄을 가공하여 판 형태의 블레이드(101)와 블레이드(101)의 일측에 플러그(102)를 성형하는 블레이드 성형단계(S100)를 실시한다.
상기 블레이드 성형단계(S100)를 통해 판 형태로 성형된 블레이드(101)를 연질 아노다이징(Ano-dizing) 처리하여 도 6의 (b)와 같이 아노다이징 코팅층(104)을 형성한다.
아노다이징 코팅층(104)은 표면 알루미늄의 표면 강성을 높이고, 전기 절연을 위해 블레이드(101)를 양극으로 걸쳐 희석-산의 액으로 전해하여 양극에서 발생하는 산소에 의해 블레이드(101)와 강한 밀착력을 가진 산화피막(산화 알루미늄, Al2O3)이다.
본 발명은 전도성 전극(100)의 블레이드(101)에 아노다이징 코팅층(104)을 30㎛ ~ 80㎛ 두께로 형성한다.
아노다이징 코팅층(104)의 두께가 30㎛ 미만이면 절연이 제대로 이루어지지 않아 조직의 탄화가 발생할 수 있고, 아노다이징 코팅층(104)의 두께가 80㎛을 초과하면 제조나 유통 과정에서 크랙이 발생하여 그 틈으로 방전이 발생할 수 있으므로 아노다이징 코팅층(104)의 두께는 30㎛ ~ 80㎛으로 형성하는 것이 바람직하다.
상기 아노다이징 코팅단계(S200)를 형성한 전도성 전극(100)의 블레이드(101)에 인선부를 형성하는 1차 인선부 가공단계(S300)를 실시한다.
1차 인선부 가공단계(S300)는 도 6의 (c)와 같이 판 형태인 블레이드(101)의 테두리 부분을 그라인딩 등의 가공을 통해 인선부(103)를 형성하는 단계이다.
아노다이징 코팅층(104)은 전기 절연성을 갖기 때문에 전기 에너지가 방출되지 않는데, 도 6의 (c)와 같이 블레이드(101)의 테두리 부분을 가공하여 아노다이징 코팅층(104)을 제거함으로써 아노다이징 코팅층이 제거된 인선부(103)를 통해 전기 에너지가 방출되면서 절개 또는 절제 등의 수술이 가능한 인선부(103)를 형성한다.
블레이드(101)의 테두리 부분을 가공하여 인선부(103)를 형성한 후에는 가공 부분을 깨끗이 세척한 후, 블레이드(101)의 표면에 세라믹을 코팅하는 세라믹 코팅단계(S400)를 실시한다.
세라믹 코팅단계(S400)에서는 30 ~ 50℃의 환경에서 블레이드(101)의 표면에 세라믹, 희석제 및 안료가 혼합된 세라믹 액을 분사하여 건조하는 과정을 수차례 반복하여 10㎛ ~ 40㎛ 두께의 세라믹 코팅층(105)을 형성한다.
상기 세라믹 코팅층(105)은 비점착성(Non-sticky)을 발현함으로써, 수술시 조직이 블레이드(101)의 표면에 잘 들러붙지 않도록 하고, 들러붙은 조직도 쉽게 닦아 제거할 수 있도록 한다.
세라믹 코팅층(105)의 두께가 10㎛ 미만이면 비점착성과 내구성이 저하되고, 세라믹 코팅층(105)의 두께가 40㎛을 초과할 경우에는 인선부에서 방전이 제대로 이루어지지 않아 조직의 절개가 원활하게 이루어지지 않을 수 있으므로 세라믹 코팅층(105)의 두께는 10㎛ ~ 40㎛이 되도록 구성하는 것이 바람직하다.
상술한 아노다이징 코팅단계(S200)를 통해 형성된 30㎛ ~ 80㎛ 두께의 아노다이징 코팅층(104) 표면에 10㎛ ~ 40㎛ 두께의 세라믹 코팅층(105)을 형성하는데, 바람직하게는 아노다이징 코팅층(104)을 40㎛ 두께로 형성하고, 세라믹 코팅층(105)을 30㎛ 두께로 형성하는 것이 최상의 절연성과 비점착 성능을 발현한다.
그리고 블레이드(101)의 인선부(103)에 코팅된 세라믹 코팅층을 제거하는 2차 인선부 가공단계(S500)를 실시한다.
상기 2차 인선부 가공단계(S500)는 수술 부위 등의 조건에 따라 2차 인선부 가공단계(S500)를 실시하지 않을 수도 있다.
그리고 상기 1차 인선부 가공단계(S300)에서는 수술 부위 등의 조건에 따라 블레이드(101)의 테두리 부분을 선택적으로 가공할 수도 있다.
도 7과 같이 1차 인선부 가공단계(S300)에서 블레이드(101)의 단부 테두리만 그라인딩 등으로 인선부 가공함으로써, 블레이드(101)의 단부에만 인선부(103)가 형성되도록 할 수 있고, 도 8과 같이 1차 인선부 가공단계(S300)에서 블레이드(101)의 상, 하부 테두리만 인선부 가공함으로써, 블레이드(101)의 상, 하부에만 인선부(103)가 형성되도록 할 수도 있다.
상기와 같이 구성된 본 발명에 의한 전도성 전극(100)은 블레이드(101) 표면에 형성된 아노다이징 코팅층(104)에 의해 전기 수술시 조직의 탄화와 스모그가 발생하지 않고, 블레이드 표면에 형성된 세라믹 코팅층에 의해 조직이 블레이드 표면에 들러붙지 않는다..
이상 상술한 실시예를 통해 본 발명의 기술적 사상을 살펴보았다.
본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기재사항으로부터 상기 살펴본 실시예를 다양하게 변형하거나 변경할 수 있음은 자명하다.
또한, 비록 명시적으로 도시되거나 설명되지 아니하였다 하여도 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기재사항으로부터 본 발명에 의한 기술적 사상을 포함하는 다양한 형태의 변형을 할 수 있음은 자명하며, 이는 여전히 본 발명의 권리범위에 속한다.
첨부하는 도면을 참조하여 설명된 상기의 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 목적으로 기술된 것이며 본 발명의 권리범위는 이러한 실시예에 국한되지 아니한다.
10 : 전기 수술기구
11 : 핸드피이스
100 : 전도성 전극
101 : 블레이드
101a : 제1 블레이드
101b : 제2 블레이드
102 : 플러그
103 : 인선부
104 : 아노다이징 코팅층
105 : 세라믹 코팅층
S100 : 블레이드 성형단계
S200 : 아노다이징 코팅단계
S300 : 1차 인선부 가공단계
S400 : 세라믹 코팅단계
S500 : 2차 인선부 가공단계

Claims (5)

  1. 알루미늄을 소재로 일측에 플러그(102)가 구비되면서 판 형태로 블레이드(101)를 형성하는 블레이드 성형단계(S100);
    상기 블레이드(101)를 아노다이징 처리하여 표면에 30㎛ ~ 80㎛ 두께의 아노다이징 코팅층(104)을 형성하는 아노다이징 코팅단계(S200);
    판 형태의 블레이드(101)의 테두리 부분에 형성된 아노다이징 코팅층(104) 일부를 제거하여 블레이드(101) 테두리에 부분적인 인선부(103)를 형성하는 1차 인선부 가공단계(S300); 및
    아노다이징 코팅단계를 거친 블레이드(101) 표면에 10㎛ ~ 40㎛ 두께의 세라믹 코팅층(105)을 형성하는 세라믹 코팅단계(S400);를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 세라믹 코팅단계(S400)를 거쳐 블레이드(101)의 인선부에 형성된 세라믹 코팅층(105)을 제거하는 2차 인선부 가공단계(S500);를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 아노다이징 코팅단계(S200)에서 형성된 아노다이징 코팅층(104) 두께는 40㎛이고, 상기 세라믹 코팅단계(S400)에서 형성된 세라믹 코팅층(105) 두께는 30㎛인 것을 특징으로 하는 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 1차 인선부 가공단계(S300)는 블레이드(101) 테두리에 형성된 아노다이징 코팅층(104) 일부를 제거함으로써, 블레이드(101) 테두리에 일부에만 인선부(103)를 형성하는 것을 특징으로 하는 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극 제조방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 전기수술 핸드피이스용 전도성 전극.
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