KR102284937B1 - Wet etching system for metal mask using rotating jig and vertical loading type web etching device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 마스크 시트의 패턴 셀 하프면과 개구부가 복수의 단계로 구성된 스텝식 에칭파트에 의해 순차 가공되도록 하되, 에칭액의 분사시에는 각도 가변식 분사노즐로 하여금 에칭 영역의 범위를 자유롭게 조정할 수 있도록 하면서 동시에 약액의 압조절이 가능하도록 하는 바, 이는 수직으로 로딩되는 마스크 시트에 대하여 선별식 강약 조절이 가능한 측면(양 사이드) 분사 구조의 에칭액 분사가 이루어지도록 함으로서 종전 수평식 에칭공정(시트 웨이브 현상발생) 대비 패턴 셀의 에칭가공 정밀화가 개선되도록 형성되고, 특히 약액(에칭액)의 분사각도와 압조절이 정밀하고 능동적으로 제어되도록 형성되어 에칭성능과 함께 마스크 제품의 품질이 향상됨은 물론 공정 작업성과 생산성이 크게 개선되는 것을 특징으로 하는 압조절 노즐과 수직 로딩 방식을 이용한 메탈 마스크용 스텝별 웹 에칭방법에 관한 것이다.According to the present invention, the pattern cell half surface and the opening of the mask sheet are sequentially processed by a step-type etching part composed of a plurality of steps, but when the etching solution is sprayed, the angle variable spray nozzle can freely adjust the range of the etching area. At the same time, it is possible to control the pressure of the chemical solution, which is a horizontal etching process (sheet wave phenomenon) by allowing the etchant to be sprayed with a side (both sides) injection structure that can selectively control the intensity of the mask sheet loaded vertically. It is formed to improve the etching processing precision of the pattern cell compared to the generation), and in particular, the injection angle and pressure control of the chemical liquid (etching liquid) are precisely and actively controlled to improve the etching performance and the quality of the mask product as well as the process workability It relates to a step-by-step web etching method for a metal mask using a pressure control nozzle and a vertical loading method, characterized in that productivity is greatly improved.
일반적으로 메탈 마스크(OLED 마스크 시트)에 대한 패턴 셀은 다양한 가공 방법을 통해 제작되는데, 그 중 에칭공정을 이용한 가공방식은 수평식 로딩구조의 챔버 내에서 마스크 시트 면상에 대하여 에칭액을 상하 분사하여 한 번에 패턴 셀 구멍을 가공하게 된다.In general, a pattern cell for a metal mask (OLED mask sheet) is manufactured through various processing methods. Among them, the processing method using an etching process is performed by spraying an etchant up and down on the mask sheet surface in a chamber with a horizontal loading structure. The pattern cell hole is machined at one time.
이러한 에칭공정을 통해 가공된 패턴 셀은 마스크 시트에 부착된 포토 마스크(패턴 셀을 형성하는 부착 필름)에 따라 각각 다른 종류와 형태로 가공되면서 설계된 모양과 스펙을 가지게 된다.The pattern cells processed through this etching process have a designed shape and specifications while being processed into different types and shapes depending on the photomask (attached film forming the pattern cell) attached to the mask sheet.
한편, 통상의 마스크 시트는 기본적으로 시트 자체를 제조하기 위해 압연가공을 통해 제작하게 되는데 이때 여러개의 로울러를 통해 제작되는 태생적 이유로 인해 표면 상 웨이브(불균일한 높낮이 편차)가 발생되어 표면이 일정하지 못한 형태를 갖게 된다.On the other hand, a normal mask sheet is basically manufactured through rolling processing to manufacture the sheet itself. have an inconsistent shape.
이는 시트의 폭이 넓어질수록 좌우측 부분의 압력과 눌림 정도의 차이가 발생하여 더 심한 웨이브 현상을 야기하게 된다.As the width of the sheet increases, the difference between the pressure and the degree of pressing of the left and right parts is generated, which causes more severe wave phenomenon.
그리고, 마스크 시트의 표면 불균형 문제는 중대형 원장일 경우 처짐현상과 함께 상하 에칭액이 압력 노즐로 하여금 분사되는 수평식 에칭공정에서 더욱 심해지게 된다.And, the problem of surface imbalance of the mask sheet becomes more severe in the horizontal etching process in which the upper and lower etchants are sprayed by the pressure nozzles along with the sagging in the case of medium and large ledgers.
즉, 수평식 웹(wet) 에칭 공정에서 고정된 마스크 시트는 표면 상 발생된 웨이브에 의해 불규칙한 높낮이가 형성되거나 중대형의 시트 면적일 경우 처짐현상이 발생되어 에칭액 분사시 분사된 에칭액의 도달 편차 현상(시트 표면 웨이브나 처짐현상에 따라 약액이 먼저 닿거나 나중에 닿는 부분의 식각 편차가 발생)이 발생되어 정밀한 스팩 가공이 어렵게 되는 문제가 발생된다.That is, in the horizontal web (wet) etching process, the fixed mask sheet has irregular heights due to waves generated on the surface, or sagging occurs in the case of a medium or large sheet area, so that the arrival deviation of the etchant sprayed when the etchant is sprayed ( Depending on the wave or deflection of the sheet surface, there is a problem in that precise specification processing is difficult due to the occurrence of etching deviations in the part that the chemical first or later touches).
게다가, 수평식 웹(wet) 에칭 공정에서는 일방향 전진 이송되는 마스크시트가 수평으로 이송됨으로서 마스크 시트에 대한 텐션 조정(인장)이 어려워 웨이브가 계속 남는 문제가 발생된다.In addition, in the horizontal web (wet) etching process, as the mask sheet, which is transferred forward in one direction, is horizontally transferred, it is difficult to adjust (tension) the tension on the mask sheet, so that a wave remains.
다시 말해, 종래의 수평식 웹(wet) 에칭공정으로는 패턴 셀(특히 중대형 원장)에 대한 정밀 스팩 구현(가공)이 어려운 실정이다.In other words, in the conventional horizontal web (wet) etching process, it is difficult to implement (process) a precise specification for a pattern cell (especially a medium or large ledger).
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 기술적 요지는 마스크 시트의 패턴 셀 하프면과 개구부가 복수의 단계로 구성된 스텝식 에칭파트에 의해 순차 가공되도록 하되, 에칭액의 분사시에는 각도 가변식 분사노즐로 하여금 에칭 영역의 범위를 자유롭게 조정할 수 있도록 하면서 동시에 약액의 압조절이 가능하도록 하는 바, 이는 수직으로 로딩되는 마스크 시트에 대하여 선별식 강약 조절이 가능한 측면(양 사이드) 분사 구조의 에칭액 분사가 이루어지도록 함으로서 종전 수평식 에칭공정(시트 웨이브 현상발생) 대비 패턴 셀의 에칭가공 정밀화가 개선되도록 형성되고, 특히 약액(에칭액)의 분사각도와 압조절이 정밀하고 능동적으로 제어되도록 형성되어 에칭성능과 함께 마스크 제품의 품질이 향상됨은 물론 공정 작업성과 생산성이 크게 개선되는 것을 제공함에 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above problems, and its technical gist is that the pattern cell half surface and the opening of the mask sheet are sequentially processed by a step-type etching part composed of a plurality of steps, but when the etching solution is sprayed, an angle variable type It allows the spray nozzle to freely adjust the range of the etching area and at the same time to control the pressure of the chemical solution, which is a side (both sides) injection structure that allows selective control of the strength and weakness of the vertically loaded mask sheet. It is formed so that the etching processing precision of the pattern cell is improved compared to the previous horizontal etching process (the occurrence of sheet wave phenomenon). The purpose is to provide not only improved quality of mask products, but also greatly improved process workability and productivity.
이러한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 마스크 시트(10)를 수직으로 세워 장착할 수 있도록 입상 회전지그 모듈(100)이 구비되도록 하되, 상기 입상 회전지그 모듈(100)은 로테이팅 지그 파트(110)와 워킹 지그 파트(120)로 구성되어 마스크 시트(10)의 외곽부 테두리 부분을 각각 인장 및 고정(클램핑)한 뒤 수직으로 세운 상태에서 일방향 로딩과 자전(회전)을 수행할 수 있도록 형성되고, 상기 입상 회전지그 모듈(100)을 통해 수직으로 세워져 로딩되는 마스크 시트(10)는 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치(200)의 1차 에칭챔버(210-1), 2차 에칭챔버(210-2), 3차 에칭챔버(210-3)를 순차적으로 지나면서 각 단계마다 각각 에칭될 수 있도록 하되, 상기 1차 에칭챔버(210-1)에는 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 일단부에 형성되어 수직으로 로딩되는 마스크 시트(10:레지스트막이 형성되어 있는 포토마스크)를 기준으로 양측면 중 어느 일면 전체에 대해 설정된 압력으로 에칭액을 분사하면서 하프면을 가에칭하도록 하는 1차 프리(Pre)에칭단계(S100)와; 상기 2차 에칭챔버(210-2)에는 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 타단부에 형성되어 수직으로 로딩되는 마스크 시트(10)를 기준으로 양측면 중 1차 프리 에칭단계에서와 반대되는 타측면 전체에 대해 설정된 압력으로 에칭액을 분사하면서 개구부를 가에칭하도록 하는 2차 프리(Pre) 에칭 단계(S200)와; 상기 3차 에칭챔버(210-3)에는 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 양단부에 형성되어 수직으로 로딩되는 마스크 시트(10)를 기준으로 양측면 전체에 대해 설정된 압력으로 에칭액을 분사하면서 하프면과 개구부를 동시에 본에칭하도록 하는 3차 포스트 에칭 단계(S300)가; 구성되어 이루어진다.In order to achieve this object, the present invention is such that a standing rotating
이에, 상기 3차 포스트 에칭 단계(S300)에서 마스크 시트(10)를 기준으로 양단부에 마주하는 각도 가변식 분사노즐(221)은 서로 다른 압력으로 에칭액이 각각 분사되도록 형성된다.Accordingly, in the third post-etching step ( S300 ), the angle-
또한, 상기 3차 포스트 에칭 단계(S300)에서 에칭액의 분사시에는 서로 마주한 상대측 각도 가변식 분사노즐(221) 간 분사각이 각각 서로 회피되도록 형성된다.In addition, when the etchant is sprayed in the third post-etching step ( S300 ), the injection angles between the opposing angle
이와 같이, 본 발명은 마스크 시트의 패턴 셀 하프면과 개구부가 복수의 단계로 구성된 스텝식 에칭파트에 의해 순차 가공되도록 하되, 에칭액의 분사시에는 각도 가변식 분사노즐로 하여금 에칭 영역의 범위를 자유롭게 조정할 수 있도록 하면서 동시에 약액의 압조절이 가능하도록 하는 바, 이는 수직으로 로딩되는 마스크 시트에 대하여 선별식 강약 조절이 가능한 측면(양 사이드) 분사 구조의 에칭액 분사가 이루어지도록 함으로서 종전 수평식 에칭공정(시트 웨이브 현상발생) 대비 패턴 셀의 에칭가공 정밀화가 개선되도록 형성되고, 특히 약액(에칭액)의 분사각도와 압조절이 정밀하고 능동적으로 제어되도록 형성되어 에칭성능과 함께 마스크 제품의 품질이 향상됨은 물론 공정 작업성과 생산성이 크게 개선되는 효과가 있다.As described above, in the present invention, the pattern cell half surface and the opening of the mask sheet are sequentially processed by a step-type etching part composed of a plurality of steps, but when the etching solution is sprayed, the range of the etching area can be freely changed by the angle-variable spray nozzle. It is possible to adjust the pressure of the chemical while simultaneously allowing the adjustment of the chemical pressure, which is a horizontal etching process ( It is formed to improve the etching processing precision of the pattern cell compared to the sheet wave phenomenon), and in particular, the injection angle and pressure control of the chemical (etching liquid) are precisely and actively controlled to improve the quality of the mask product as well as the etching performance. It has the effect of greatly improving process workability and productivity.
도 1 내지 도 3은 본 발명에 따른 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치의 전체 설비를 나타낸 일 예시도,
도 4는 본 발명에 따른 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치의 1차 에칭챔버를 나타낸 예시도,
도 5는 본 발명에 따른 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치의 2,3차 에칭챔버를 나타낸 예시도,
도 6은 도 10은 본 발명에 따른 1~3차 에칭챔버 내 약액 분사장치를 나타낸 예시도,
도 11 내지 도 18은 본 발명에 따른 입상 회전지그 모듈을 나타낸 일측면도, 타측면도 및 요부 상세도이다.1 to 3 are an exemplary view showing the entire equipment of the vertical loading type web (wet) etching apparatus according to the present invention,
Figure 4 is an exemplary view showing the first etching chamber of the vertical loading type web (wet) etching apparatus according to the present invention;
5 is an exemplary view showing the second and third etching chambers of the vertical loading type web (wet) etching apparatus according to the present invention;
6 is an exemplary view showing a chemical spraying device in the first to third etching chambers according to the present invention;
11 to 18 are one side view showing the standing rotating jig module according to the present invention, the other side view and main part detailed views.
다음은 첨부된 도면을 참조하며 본 발명을 보다 상세히 설명하겠다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
먼저, 도 1 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명은 1차 프리(Pre)에칭단계(S100)와 2차 프리(Pre) 에칭 단계(S200) 및 3차 포스트 에칭 단계(S300)로 크게 이루어진다.First, as shown in Figures 1 to 10, the present invention is largely divided into a first pre-etching step (S100), a second pre-etching step (S200), and a third post-etching step (S300). is done
이에, 먼저 마스크 시트(10)를 수직으로 세워 장착할 수 있도록 입상 회전지그 모듈(100)이 구비되도록 형성된다.Accordingly, first, the standing rotating
이때, 상기 입상 회전지그 모듈(100)은 로테이팅 지그 파트(110)와 워킹 지그 파트(120)로 구성되어 마스크 시트(10)의 외곽부 테두리 부분을 각각 인장 및 고정(클램핑)한 뒤 수직으로 세운 상태에서 일방향 로딩과 자전(회전)을 수행할 수 있도록 형성된다.At this time, the standing rotating
그리고, 상기 입상 회전지그 모듈(100)을 통해 수직으로 세워져 로딩되는 마스크 시트(10)는 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치(200)의 1차 에칭챔버(210-1), 2차 에칭챔버(210-2), 3차 에칭챔버(210-3)를 순차적으로 지나면서 각 단계마다 각각 에칭될 수 있도록 형성된다.In addition, the
참고로, 위에서 언급한 입상 회전지그 모듈(100)과 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치(200)는 이하 장비 설명에서 후술하도록 한다.For reference, the above-mentioned standing
한편, 상기 1차 프리(Pre)에칭단계(S100)는 상기 1차 에칭챔버(210-1)에는 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 일단부에 형성되어 수직으로 로딩되는 마스크 시트(10:레지스트막이 형성되어 있는 포토마스크)를 기준으로 양측면 중 어느 일면 전체에 대해 설정된 압력으로 에칭액을 분사하면서 하프면을 가에칭하도록 형성된다.On the other hand, in the first pre-etching step (S100), a bundle-type chemical
이에, 상기 2차 프리(Pre) 에칭 단계(S200)는 상기 2차 에칭챔버(210-2)에는 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 타단부에 형성되어 수직으로 로딩되는 마스크 시트(10)를 기준으로 양측면 중 1차 프리 에칭단계에서와 반대되는 타측면 전체에 대해 설정된 압력으로 에칭액을 분사하면서 개구부를 가에칭하도록 형성된다.Accordingly, in the secondary pre-etching step (S200), a bundle-type chemical
또한, 상기 3차 포스트 에칭 단계(S300)는 상기 3차 에칭챔버(210-3)에는 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 양단부에 형성되어 수직으로 로딩되는 마스크 시트(10)를 기준으로 양측면 전체에 대해 설정된 압력으로 에칭액을 분사하면서 하프면과 개구부를 동시에 본에칭하도록 형성된다.In addition, in the third post-etching step (S300), in the third etching chamber 210-3, bundle-type chemical
이에, 상기 3차 포스트 에칭 단계(S300)에서 마스크 시트(10)를 기준으로 양단부에 마주하는 각도 가변식 분사노즐(221)은 서로 다른 압력으로 에칭액이 각각 분사되도록 형성된다.Accordingly, in the third post-etching step ( S300 ), the angle-
이때, 상기 3차 포스트 에칭 단계(S300)에서 에칭액의 분사시에는 서로 마주한 상대측 각도 가변식 분사노즐(221) 간 분사각이 각각 서로 회피되도록 형성된다.At this time, when the etchant is sprayed in the third post-etching step ( S300 ), the injection angles between the opposing angle
이러한 본 발명은 종전 수평식 에칭공정 중 이송로울러에 의한 마스크시트의 구름식 회전(전진) 이송 과정이 원천 생략되어 그 과정에서 발생되는 마스크시트 표면상 웨이브 현상(마스크시트 소재 자체에 대한 압연 공정에서 태생적으로 발생된 것과 별개의 문제임)으로 인한 스팩 가공성 저하 등의 부수적인 문제점들을 근본적으로 해결할 수 있게 된다.In the present invention, the rolling-type rotation (forward) transfer process of the mask sheet by the transfer roller during the conventional horizontal etching process is omitted, and a wave phenomenon on the surface of the mask sheet (in the rolling process of the mask sheet material itself) generated in the process is omitted. It is possible to fundamentally solve ancillary problems such as deterioration of specification machinability due to a problem that is separate from the one that occurred at birth).
이에, 본 발명의 분사노즐(221)은 서로 마주한 분사노즐의 분사압력이 서로 상이하게 조절할 수 있도록 하는 것으로, 수직으로 진행되는 마스크 시트가 이송 회전시 교번되는 분사압력에 의해 에칭 스팩이 보다 정밀하게 확보되도록 형성된다.Accordingly, the
다시 말해 본 발명에 의한 분사압력 조정시에는 일측 사이드 분사노즐은 더 강하게 설정하고, 타측 사이드 분사노즐은 약하게 설정하여 다양한 모양의 패턴 및 요철 모양(하프 가공_단차 성형)으로의 가공이 원활하게 진행될 수 있도록 형성된다.In other words, when adjusting the injection pressure according to the present invention, one side injection nozzle is set to be stronger and the other side injection nozzle is set to be weak, so that processing into various patterns and concavo-convex shapes (half processing _ step molding) is smoothly performed. formed to be able to
또한, 본 발명은 약액 처리장치에서 분사압이 각각 조절되는 다수의 분사노즐에 의해 에칭액의 분사각과 분사분포도 또는 분사면적을 용이하게 가변할 수 있도록 하면서 동시에 정밀한 제어가 가능하도록 하는 바, 이는 패턴 셀에 대한 에칭 가공시 에칭액의 유동적인 제어가 가능하고 특히 정밀한 조정이 가능하여 고사양, 고품질의 스팩을 현저히 보장할 수 있도록 형성된다.In addition, the present invention makes it possible to easily change the injection angle and the injection distribution or the injection area of the etching solution by a plurality of injection nozzles whose injection pressure is respectively controlled in the chemical processing apparatus, while at the same time enabling precise control, which is a pattern It is formed to remarkably guarantee high-spec and high-quality specifications by enabling fluid control of the etching solution and particularly precise adjustment during etching processing for cells.
예를 들면, 분사노즐은 길이방향으로 길게 절개된 슬릿 형태로서 최소 30°에서 최대 120°각도로 약액이 분사되도록 하되, 상기 슬릿 형태를 십자 형태로 절개하면 분사각이 크로스 된 십자형태로 분사되도록 함으로서 분사분포가 균일하면서도 넓게 확대되도록 형성된다.For example, the injection nozzle is in the form of a slit long cut in the longitudinal direction so that the chemical is sprayed at an angle of at least 30° to a maximum of 120°. It is formed so that the spray distribution is uniformly and widely expanded.
다음은 상술한 입상 회전지그 모듈(100)과 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치(200)를 보다 자세히 설명하겠다.Next, the above-described standing
먼저, 상기 입상 회전지그 모듈(100)은 수직 로딩식 웹 에칭장치에 투입되어 단계별 에칭 코스를 경유하면서 이동시키는 캐리어에 해당하는 것으로, 로테이팅 지그 파트(110)와 워킹 지그 파트(120)로 구성되어 마스크시트(10)의 4면 테두리 부분을 각각 인장 및 고정(클램핑)한 뒤 일방향 로딩과 자전 회전을 수행할 수 있도록 형성된다.First, the standing rotating
즉, 이러한 입상 회전지그 모듈(100)은 워킹 지그 파트(120)에 고정한 마스크 시트(10)가 로테이팅 지그 파트(110)로 하여금 회전을 수행하면서 동시에 에칭공정시 전진 로딩되도록 하는 이송수단으로서의 역할을 하게 된다.That is, the standing rotating
이에, 상기 로테이팅 지그 파트(110)는 원형으로 된 지그링(111)의 바깥측 원주면에 기어치차(112)가 형성되어 일측 서브모터(113)와 결합된 구동스프로켓(114) 회전시 설정된 주기 또는 설정된 시간동안 연동 회전하도록 형성된다.Accordingly, the rotating
즉, 상기 서브모터는 제어부에 의해 분당 회전 속도가 정해지는 것으로, 에칭장치의 에칭파트에 따라 회전을 달리할 수도 있고 가변시킬 수도 있도록 형성된다.That is, the sub-motor is configured such that the rotation speed per minute is determined by the control unit, and the rotation can be changed or changed according to the etching part of the etching apparatus.
그리고, 상기 서브모터 구동축에는 구동스프로켓이 구비되어 지그링의 기어치차와 대응되면서 지그링을 원주방향으로 회전(자전)시키도록 형성된다.In addition, a drive sprocket is provided on the sub-motor drive shaft to rotate (rotate) the jig ring in the circumferential direction while corresponding to the gear tooth of the jig ring.
이때, 상기 지그링(111)의 측면 테두리에는 슬라이딩홈(115)이 형성되어 이송컨베이어에 의해 이송되는 드라이브 세트(116)의 가이드롤러(116-1)와 함께 지그링(111)의 원주방향 회전을 도모하도록 형성된다.At this time, a sliding
즉, 상기 지그링의 정면 또는 배면에는 원주방향을 따라 내측으로 파인 슬라이딩홈이 형성되고, 이에 가이드롤러(일종의 베어링)가 삽입되어 지그링의 원활한 자전이 이루어지도록 조장하게 된다.That is, a sliding groove recessed inward along the circumferential direction is formed on the front or rear surface of the jig ring, and a guide roller (a kind of bearing) is inserted therein to promote smooth rotation of the jig ring.
이에, 상기 드라이브 세트(116)의 가이드롤러(116-1)는 슬라이딩홈(115)과 대응되는 호형패널(116-2)의 조립공(116-3)에 장착되어 자전하도록 하되, 상기 호형패널(116-2)은 이송대차 프레임(116-4)의 상면에 형성된 지지아암(116-5)에 체결 조립되도록 형성된다.Accordingly, the guide roller 116-1 of the drive set 116 is mounted in the assembly hole 116-3 of the arc-shaped panel 116-2 corresponding to the sliding
즉, 상기 가이드롤러는 별도의 힌지축에 의해 조립공에 끼움 고정되는 것으로, 특히 호형패널은 슬라이딩홈과 직경 또는 반경이 대응되면서 슬라이딩홈의 내부에 호형패널의 외형이 일부 수납되어 지그링의 안정적인 지지와 함께 가이드롤러와 같이 원주방향 회전시 가이드 역할(이탈방지)을 도모하게 된다.That is, the guide roller is fitted and fixed in the assembly hole by a separate hinge shaft. In particular, the arc-shaped panel has a diameter or radius corresponding to the sliding groove, and the outer shape of the arc-shaped panel is partially accommodated in the sliding groove, thereby stably supporting the jig ring. Together with the guide roller, it serves as a guide (prevention of separation) when rotating in the circumferential direction.
이때, 상기 지지아암(116-5)은 길이방향에 슬릿(116-6)이 형성되어 이로 하여금 호형패널위 높이 조절가능하도록 형성된다.At this time, the support arm 116-5 has a slit 116-6 formed in the longitudinal direction so that the height can be adjusted on the arc-shaped panel.
한편, 상기 워킹 지그 파트(120)는 상기 지그링(111)의 내경측 공간부에 사각틀 구조의 픽업케이스(121)가 구비되도록 하되, 상기 픽업케이스(121)는 측단부 양측에 각각 고정용 그리퍼(122)가 형성되어 지그링(111)의 고정브라켓(117)과 체결되도록 형성된다.On the other hand, the working
이때, 상기 픽업케이스(121)는 사각틀 4면 각 선상마다 다수개의 클램프(123)가 형성되어 마스크시트(10)를 고정하도록 형성된다.At this time, the
또한, 상기 고정용 그리퍼(122)는 판상의 일측 고정단(122-1)이 픽업케이스(121) 선상에 접합되도록 하되, 면상 중앙에는 개구홈(122-2)이 형성되어 후크핀(122-3)의 걸림쇠(122-4)가 삽입 장착되도록 형성된다.In addition, the fixing
이때, 상기 후크핀(122-3)의 후단부에는 핀헤드(122-5)가 형성되어 고정브라켓(117)과 연결된 장착구(117-1)를 기준으로 내입된 스프링(117-2)에 의해 핀헤드(122-5) 측 방향으로의 장력이 발생되도록 형성된다.At this time, a pin head 122-5 is formed at the rear end of the hook pin 122-3, and is attached to the spring 117-2 inserted based on the mounting hole 117-1 connected to the fixing
이에, 상기 핀헤드는 일종의 너트로서 몸체에 관통나사가 형성되고 상기 후크핀은 핀헤드 측 선상에 숫나사산이 형성되어 상호 조임시 장착구 내부면을 기준으로 스프링의 장력이 강해지거나 느슨해질 수 있도록 형성된다.Accordingly, the pinhead is a kind of nut, and a through screw is formed in the body, and the hook pin has a male thread formed on the pinhead side line. do.
즉, 이러한 고정용 그리퍼(122)는 일측단(개구홈의 반대편)이 픽업케이스에 일체로 결합된 것으로, 상기 개구홈(122-2)을 이용해 걸림쇠(122-4)에 걸어 놓는 것만으로 장착이 완료된다.That is, the fixing
그리고, 픽업케이스(사각틀이 지그링을 기준으로 정 중앙점에 위치하는 것)의 정위치 세팅이나 정열은 핀헤드(122-5)의 나사 조임에 의해 후크핀(122-3)과의 간격조절이 가변되어 그 사이에 형성된 스프링(117-2)의 장력 조정이 가능하도록 형성된다.And, the exact position setting or alignment of the pickup case (the square frame is located at the central point with respect to the jig ring) is adjusted by tightening the screw of the pin head 122-5 to adjust the gap with the hook pin 122-3. This variable is formed so that the tension of the spring 117-2 formed therebetween can be adjusted.
이에, 상기 고정브라켓은 지그링의 내경에 대하여 짝수로 된 다수가 등간격 배열되도록 형성되어 워킹 지그 파트의 설치시 회전이 멈춘 위치에서 조립이 용이하도록 형성된다.Accordingly, the fixing bracket is formed so that a plurality of even numbers are arranged at equal intervals with respect to the inner diameter of the jig ring to facilitate assembly at a position where the rotation stops when the working jig part is installed.
한편, 상기 클램프(123)는 핑거로드(123-1) 일측에 고정핀(123-2)이 형성되어 마스크시트(10)에 기 성형된 장착공(11)에 삽입된 후 거치와 인장을 도모하도록 형성된다.On the other hand, the
이때, 상기 고정핀(123-2)과 대향되는 핑거로드(123-1)의 타측에는 걸림턱(123-3)을 갖는 푸쉬버튼(123-4)이 형성되어 픽업케이스(121)의 장착홈(121-1)에 내입된 탄성스프링(121-2)을 기준으로 푸쉬버튼(123-4) 측 바깥방향으로 장력이 발생되도록 형성된다.At this time, a push button 123-4 having a locking jaw 123-3 is formed on the other side of the finger rod 123-1 opposite to the fixing pin 123-2, so that the mounting groove of the
이에, 상기 고정핀은 나사산이 형성되어 고정너트에 의해 체결되도록 형성된다.Accordingly, the fixing pin is formed such that a screw thread is formed and fastened by a fixing nut.
또한, 상기 푸쉬버튼(123-4)은 핑거로드에 대하여 암수 체결조립되도록 하면서 탄성스프링에 대한 가압(간격 조절)시 장력을 조절할 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the push button 123-4 be able to adjust the tension when pressing (adjusting the spacing) to the elastic spring while allowing the male and female fastening assembly with respect to the finger rod.
한편, 본 발명의 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치(200)는 1차 에칭챔버(210-1), 2차 에칭챔버(210-2), 3차 에칭챔버(210-3)로 구성된 챔버 어셈블리(210)와 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 약액 공급장치(220)를 이루도록 형성된다.On the other hand, the vertical loading type web (wet)
이러한 수직 로딩식 웹 에칭장치는 단계별 에칭 구간이 설정된 챔버 또는 함체형으로 된 단계식 워크존 프레임으로서, 길이방향 전진 구간 중 하단측에는 이송 로울러 또는 이송 컨베이어가 구비되어 후술되는 로테이팅 지그 파트(110)의 이송대차 프레임(116-4)이 대응되면서 일방향 전진 이송되도록 형성된다.This vertical loading type web etching apparatus is a step-type work zone frame in a chamber or enclosure type in which a step-by-step etching section is set, and a transfer roller or a transfer conveyor is provided at the lower end of the longitudinal advance section, and the
이때, 상기 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치(200)의 챔버 어셈블리(210)는 마스크시트(10)의 수직 이송 및 수직 에칭이 가능하도록 평면 기준 폭이 좁고 측면 기준 높이와 전후 길이가 긴 직사각면의 함체가 구비되도록 형성된다.At this time, the
이에, 상기 함체의 전후방 각 단부에는 입구게이트(211)와 출구게이트(212)가 형성되고, 상기 함체의 내부 상하측 단부에는 각각 이송레일(213)과 이송컨베이어(214)가 형성되어 별도의 지그셔틀을 통해 고정된 마스크 시트(10)가 세로로 세워진 상태에서 전진 이송될 수 있도록 형성된다.Accordingly, an
또한, 상기 함체의 진행방향 라인 선상에는1차 에칭챔버(210-1), 2차 에칭챔버(210-2), 3차 에칭챔버(210-3)가 각각 구획 분할되면서 각 부분별로 에칭을 수행하도록 형성된다.In addition, the first etching chamber 210-1, the second etching chamber 210-2, and the third etching chamber 210-3 are divided into sections on the line in the moving direction of the housing, and etching is performed for each part. formed to do
이에, 상기 1,2차 에칭챔버(210-1,210-2)에서 마스크시트(10)를 장착한 입상 회전지그 모듈의 이송속도는 400mmm/min 이고, 상기 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 물을 포함한 염화제2철, 염산, 귀액 중 어느 하나의 단일액을 사용하거나 복수의 약액을 선택적 혼합하여 사용할 수 있도록 형성된다.Accordingly, in the first and second etching chambers 210-1 and 210-2, the transport speed of the standing rotating jig module equipped with the
또한, 상기 3차 에칭챔버(210-3)에서 마스크시트(10)를 장착한 입상 회전지그 모듈은 전진 이송이 일시 정지된 상태에서 약액 공급장치로 하여금 본 에칭 처리가 이루어지도록 형성된다.In addition, the standing rotating jig module mounted with the
이때, 상기 3차 에칭챔버에서 에칭 처리시에는 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 염산 단일액을 사용하도록 형성된다.At this time, during the etching process in the tertiary etching chamber, the injection distance between the
그리고, 상기 1차,2차 에칭챔버에서 마스크시트를 장착한 입상 회전지그 모듈은 이송속도 동안 마스크시트가 1회전하도록 형성된다.In the first and second etching chambers, the standing rotating jig module mounted with the mask sheet is formed so that the mask sheet rotates once during the transfer speed.
이에, 상기 3차 에칭챔버에서 마스크시트를 장착한 입상 회전지그 모듈은 이송이 정지된 상태에서 분당 1~2회전 자전하도록 하되, 분사되는 약액은 염산 단일 에칭액을 사용하도록 형성(사용용도: Spec 정밀화 및 최종 맞춤용/ sheet 표면 거친 부분 개선 및 하프 에칭 구간 표면 얼룩 방지용)된다.Accordingly, the standing rotating jig module equipped with a mask sheet in the third etching chamber rotates 1 to 2 revolutions per minute in a state in which the transfer is stopped, but the chemical liquid to be sprayed is formed to use a single etchant with hydrochloric acid (purpose of use: Spec refinement) and for final alignment/ improvement of roughness of the sheet surface and prevention of surface stains in the half-etched section).
한편, 상기 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치(200)의 약액 공급장치(220)는 각 에칭챔버 마다 내부 폭방향 양단부에 다수개의 분사노즐(221)을 갖는 다발형 분사관(222)이 형성되어 중앙 진입선을 기준으로 진행하는 마스크시트(10)에 대하여 에칭액의 공급과 분사가 선택적으로 이루어지도록 형성된다.On the other hand, the chemical
이에, 상기 다발형 분사관(222)은 각 에칭챔버 내에서 상하 높이 방향으로 다수 연결된 가지관 형태로서 서로 등간격 배열되도록 형성된다.Accordingly, the bundle-
이때, 상기 다발형 분사관은 메인공급관(223)으로부터 목적한 약액을 공급받도록 형성되고, 상기 분사노즐(221)은 서로 마주보는 측 분사노즐과 서로 엇각으로 배치되도록 형성된다.In this case, the bundle-type injection pipe is formed to receive the desired chemical solution from the
이는 패턴 셀의 가공 관통후 분사되는 약액이 서로에게 분사되지 않도록 하기 위함이다.This is to prevent the chemical liquids injected after the processing of the pattern cell from being sprayed to each other.
이에, 상기 분사노즐(221)은 서로 마주한 분사노즐의 분사압력이 서로 상이하게 조절할 수 있도록 하는 것으로, 마스크 시트의 일방향 수직 로딩 진행과 회전시 교번되는 분사압력에 의해 에칭 스팩이 보다 정밀하게 확보되도록 형성된다.Accordingly, the
즉, 상기 분사압력은 일측 사이드 분사노즐은 더 강하게 설정하고, 타측 사이드 분사노즐은 약하게 설정하여 다양한 모양의 패턴 및 요철 모양(하프 가공_단차 성형)으로의 가공이 원활하도록 형성된다.That is, the injection pressure is set to be stronger for one side injection nozzle and weaker for the other side injection nozzle, so that various patterns and concavo-convex shapes (half processing_step difference molding) are smoothly processed.
본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.The present invention is not limited to the specific preferred embodiments described above, and without departing from the gist of the present invention as claimed in the claims, anyone with ordinary skill in the art to which the invention pertains can implement various modifications. Of course, such modifications are intended to be within the scope of the claims.
10 ... 마스크 시트 11 ... 개구부
12 ... 하프면 100 ... 입상 회전지그 모듈
110 ... 로테이팅 지그 파트 120 ... 워킹 지그 파트
200 ... 수직 로딩식 웹 에칭장치
S100 ... 1차 프리 에칭단계 S200 ... 2차 프리 에칭단계
S300 ... 3차 포스트 에칭단계10 ...
12 ...
110 ... Rotating
200 ... vertical loading web etching device
S100 ... 1st pre-etching step S200 ... 2nd pre-etching step
S300 ... 3rd post-etching step
Claims (3)
상기 1차 에칭챔버(210-1)에는 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 일단부에 형성되어 수직으로 로딩되는 마스크 시트(10)를 기준으로 양측면 중 어느 일면 전체에 대해 설정된 압력으로 에칭액을 분사하면서 하프면을 가에칭하도록 하는 1차 프리(Pre)에칭단계(S100)와;
상기 2차 에칭챔버(210-2)에는 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 타단부에 형성되어 수직으로 로딩되는 마스크 시트(10)를 기준으로 양측면 중 1차 프리 에칭단계에서와 반대되는 타측면 전체에 대해 설정된 압력으로 에칭액을 분사하면서 개구부를 가에칭하도록 하는 2차 프리(Pre) 에칭 단계(S200)와;
상기 3차 에칭챔버(210-3)에는 각도 가변식 분사노즐(221)을 갖는 다발형 약액 분사관(222)이 양단부에 형성되어 수직으로 로딩되는 마스크 시트(10)를 기준으로 양측면 전체에 대해 설정된 압력으로 에칭액을 분사하면서 하프면과 개구부를 동시에 본에칭하도록 하는 3차 포스트 에칭 단계(S300)가;
구성되어 이루어진 것을 특징으로 하는 압조절 노즐과 수직 로딩 방식을 이용한 메탈 마스크용 스텝별 에칭방법.A standing rotating jig module 100 is provided so that the mask sheet 10 can be mounted vertically, but the mask sheet 10 that is vertically erected and loaded through the standing rotating jig module 100 is a vertical loading type Ÿ ‡ (wet) to be etched in each step while sequentially passing through the first etching chamber 210-1, the second etching chamber 210-2, and the third etching chamber 210-3 of the etching apparatus 200 In the step-by-step Ÿ‡ etching method for metal masks using a pressure control nozzle and a vertical loading method to
In the primary etching chamber 210-1, a bundle-type chemical liquid injection tube 222 having a variable angle injection nozzle 221 is formed at one end and is vertically loaded on either side of the mask sheet 10 based on any of the two sides. a first pre-etching step (S100) of temporarily etching the half surface while spraying the etching solution at a pressure set on the entire surface;
In the secondary etching chamber 210-2, a bundle-type chemical liquid injection tube 222 having an angle-variable injection nozzle 221 is formed at the other end of one of both sides based on the mask sheet 10 loaded vertically. a secondary pre-etching step (S200) of temporarily etching the opening while spraying an etching solution at a pressure set on the entire other side opposite to that in the primary pre-etching step (S200);
In the tertiary etching chamber 210-3, bundle-type chemical liquid injection tubes 222 having a variable angle injection nozzle 221 are formed at both ends, and based on the mask sheet 10 loaded vertically, A third post-etching step (S300) of simultaneously performing main etching of the half surface and the opening while spraying the etching solution at a set pressure;
A step-by-step Ÿ‡ etching method for a metal mask using a pressure control nozzle and a vertical loading method, characterized in that it is composed of
The pressure control nozzle and vertical direction according to claim 1, wherein when the etching solution is sprayed in the third post-etching step (S300), the injection angles between the opposite angle-variable injection nozzles 221 facing each other are respectively avoided from each other. Step-by-step Ÿ‡ etching method for metal mask using loading method.
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---|---|---|---|---|
JPH05175637A (en) * | 1991-12-26 | 1993-07-13 | Toshiba Corp | Etching device |
KR20140093618A (en) | 2013-01-17 | 2014-07-28 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | Composition for etching mask and method of forming pattern |
KR20190000947A (en) * | 2017-06-23 | 2019-01-04 | 대덕전자 주식회사 | Apparatus for manufacturing a circuit board |
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